JP2013061372A - フィルム・パターンド・リターダーの製造方法、並びにフィルム・パターンド・リターダー、及びそれを有する偏光板及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高精細な配向パターンを有し、且つ寸法変化によるパターンの位置ズレが抑制されたフィルム・パターンド・リターダーの製造方法の提供。
【解決手段】フィルムと、その上にパターンド・リターダー層とを少なくとも有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法であって、１）フィルムを、Ｔｇ−１００＜Ｔ₁＜Ｔｇ（但しＴｇはフィルムのガラス転移点である）を満足するＴ₁で加熱する工程、２）上記フィルムの表面上に、液晶を主成分として含有する組成物を塗布して塗膜を形成する工程、及び３）前記塗膜を加熱して液晶を配向させる工程、をこの順で含むことを特徴とするフィルム・パターンド・リターダーの製造方法である。
【選択図】なし

Description

本発明は、高精細なパターンを有し、かつ製造が容易で実用性に優れたフィルム・パターンド・リターダーの製造方法、並びにそれによって製造されたフィルム・パターンド・リターダー、及びそれを有する偏光板及び立体画像表示装置等の画像表示装置に関する。

立体画像表示装置に利用されるパターンド・リターダーの需要が増加している。特に、取り扱い性、可撓性、軽量性等に優れる、フィルム支持体上に、パターンド・リターダー層を有する、フィルム・パターンド・リターダー（以下、「ＦＰＲ」という場合がある）に対する期待は高い。

ところで、パターンド・リターダーの作製には、画素等のパターンに対応した高精彩且つ微細なパターン形成技術が必要である。従来、液晶セル内にパターン位相差層を有する、いわゆるインセルタイプの液晶セルの構成が提案され（例えば、特許文献１）、インセルタイプの液晶セルのパターン位相差層の形成には、種々のパターン技術が利用されている。

特開２００６−３９３２７号公報

しかし、従来のいわゆるインセルタイプの液晶セルの作製では、液晶セル用の剛直なガラス基板を支持体とし、その上に、パターン位相差層を形成している。ＦＰＲでは、可撓性のフィルム上に、微細な位相差層のパターンを形成する必要があり、製造工程中にフィルムが寸法変化し、パターンの位置ズレ等が発生するという問題がある。位置ズレのあるＦＰＲを立体画像表示装置に利用すると、クロストーク発生の原因になる。

本発明は上記問題点を解決することを課題とする。
具体的には、本発明の第一の課題は、高精細な配向パターンを有し、寸法変化によるパターンの位置ズレが抑制されたフィルム・パターンド・リターダーの製造方法を提供することである。
本発明の第二の課題は、寸法変化によるパターンの位置ズレが抑制されたフィルム・パターンド・リターダー及びそれを有する偏光板、並びに低コストで視認性の高い立体画像表示装置を提供することである。

前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
［１］ フィルムと、その上にパターンド・リターダー層とを少なくとも有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法であって、下記１）〜３）
１）フィルムを、Ｔｇ−１００＜Ｔ₁＜Ｔｇ（但しＴｇはフィルムのガラス転移点である）を満足するＴ₁で加熱する工程
２）上記フィルムの表面上に、液晶を主成分として含有する組成物を塗布して塗膜を形成する工程、及び
３）前記塗膜を加熱して液晶を配向させる工程、
をこの順で含むことを特徴とするフィルム・パターンド・リターダーの製造方法。
［２］１）工程が、フィルムの膜面温度Ｔ_1sを、Ｔｇ−１２０℃≦Ｔ_1S℃≦Ｔｇ−２０℃にする工程である［１］の方法。
［３］ １）工程が、セルロースアシレートフィルムを加熱し、該フィルムの膜面温度を８０℃〜１５０℃にする工程である［１］又は［２］の方法。
［４］ １）工程の後に、マスク露光する工程を含む［１］〜［３］のいずれかの方法。
［５］マスク露光に用いられるマスクのトータルピッチＰ₁と、パターンド・リターダーのトータルピッチＰ₂との差ΔＰ（＝Ｐ₁−Ｐ₂）の割合ΔＰ／Ｐ₁が、０．１％未満である［４］の方法。
［６］ マスク露光する工程が、互いに異なる方向に液晶の長軸を配向させる配向能をそれぞれ有する第１及び第２配向制御領域が交互に配置されたパターン配向膜を形成する工程である［４］又は［５］の方法。
［７］ ３）工程の後に、液晶の配向を固定する工程をさらに含む［１］〜［６］のいずれかの方法。
［８］ 互いに面内遅相軸方向が異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターンド・リターダー層を有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法である、［１］〜［７］のいずれかの方法。
［９］ ［１］〜［８］のいずれかの方法により製造されたフィルム・パターンド・リターダー。
［１０］ ［９］のフィルム・パターンド・リターダーと、偏光子とを有する偏光板。
［１１］ ［９］のフィルム・パターンド・リターダー、又は［１０］のパターンド偏光板を有する画像表示装置。

本発明によれば、高精細な配向パターンを有し、且つ寸法変化によるパターンの位置ズレが抑制されたフィルム・パターンド・リターダーの製造方法を提供することができる。
また、本発明によれば、寸法変化によるパターンの位置ズレが抑制されたフィルム・パターンド・リターダー及びそれを有する偏光板、並びに低コストで視認性の高い立体画像表示装置を提供することができる。

本発明の方法により製造可能なフィルム・パターンド・リターダーの一例の断面模式図である。 本発明の方法により製造可能なフィルム・パターンド・リターダーの一例の上面図である。 本発明に利用可能な配向膜の上面模式図である。 本発明の方法によって製造されるパターンド・リターダー層と直線偏光膜との関係の一例を示す概略図である。 本発明の方法によって製造されるフィルム・パターンド・リターダーの４例の断面模式図を、液晶表示パネル部との組み合わせとして示した模式図である。 実施例で形成したパターンド・リターダー層の一例の上面模式図である。 実施例で利用したゴム状フレキソ版の一部の断面模式図である。 実施例で利用したフレキソ印刷装置の一部の断面模式図である。 実施例で利用したマスクとワイヤーグリッド偏光子との方向を示すために用いた上面模式図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

１．フィルム・パターンド・リターダーの製造方法
本発明は、ＦＰＲの製造方法に関し、具体的には、フィルムと、その上にパターンド・リターダー層とを少なくとも有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法であって、下記１）〜３）
１）フィルムを、Ｔｇ−１００＜Ｔ₁＜Ｔｇ（但しＴｇはフィルムのガラス転移点である）を満足するＴ₁で加熱する工程、
２）上記フィルムの表面上に、液晶を主成分として含有する組成物を塗布して塗膜を形成する工程、及び
３）前記塗膜を加熱して液晶を配向させる工程、
をこの順で含むことを特徴とするＦＰＲの製造方法に関する。

本発明の方法は、パターンド・リターダーを形成する前に、１）工程を実施する、即ち、支持体として用いるフィルムを加熱処理する、ことを一つの特徴とする。この加熱処理により、フィルム中の主成分高分子が配向緩和して平衡状態へ安定化し、フィルムの熱及び／又は湿度等に依存する寸法変化を軽減することができ、それによりその上に形成されるパターン光学異方性層のパターンの位置ズレを軽減することができる。
なお、本明細書では、「高分子」の用語は、樹脂及び重合体（単独重合体及び共重合体の双方を含む）のいずれも含む意味で用いられる。

例えば、パターンド・リターダーの形成のために、配向膜等にマスク露光やマスクラビング等を行う場合には、使用するマスクは、パターンド・リターダーを搭載する画像表示装置の画素等に対応する様に、開口部及び非開口部の幅（本明細書では「マスクのピッチ」という）が精密に調整されている。しかし、精密にピッチが調整されたマスクを用いて、マスク露光等を行っても、支持体であるフィルムが製造工程中に供与される熱や環境湿度等によって寸法変化してしまうと、パターンの位置ズレが生じる。本発明の方法では、上記加熱処理を行うことにより、支持体フィルムの熱等による寸法変化が抑制されているので、パターンの位置ズレを軽減することができる。

具体的には、本発明の製造方法によれば、１）工程、即ち支持体フィルムの加熱処理工程、の後に、パターン形成のために、マスク露光又はマスクラビングを行う態様において、当該工程に用いられるマスクのトータルピッチＰ₁と、パターンド・リターダー層のトータルピッチＰ₂との差ΔＰ（＝Ｐ₁−Ｐ₂）の割合ΔＰ／Ｐ₁を、０．１％未満（好ましくは０．０９％以下、より好ましくは０．８％以下）まで低下させることができる。上記加熱処理を行わない支持体フィルムを用いると、ΔＰ／Ｐ₁は０．１％を超えてしまい、立体画象表示装置に用いる場合には、クロストーク現象が観察される場合がある。

なお、マスクのトータルピッチＰ₁とは、露光等の処理がされるマスクの被処理領域に存在する複数の開口部及び非開口部のトータルの幅をいうものとする。例えば、被処理領域にピッチＰのストライプ状のｎ個の開口部及びｎ個の非開口部が交互に存在する態様では、トータルピッチは、２×ｎ×Ｐになる。パターンド・リターダー層のトータルピッチＰ₂も同様であり、マスクの被処理領域に対応する位置に形成されたパターンド・リターダー層のトータルの幅をいうものとする。

以下、本発明の方法の各工程について詳細に説明する。

１）工程
１）工程では、支持体となるフィルムを、Ｔｇ−１００＜Ｔ₁＜Ｔｇ（但しＴｇはフィルムのガラス転移点である）を満足するＴ₁で加熱する。本工程により、該フィルム中の残存歪み等を解消し非平衡状態から平衡状態へ安定化し、主成分高分子を少なくとも部分的に配向緩和させることができる。加熱処理により、高分子の主鎖の少なくとも一部が配向緩和してもよいし、側鎖の少なくとも一部が配向緩和してもよく、また双方の少なくとも一部が配向緩和してもよい。特に、加熱処理により、非晶質部分で発生する歪み等を解消するために、高分子の側鎖の少なくとも一部が配向緩和するのが好ましい。
なお、フィルム中の主成分高分子の配向緩和の有無は、Ｘ線やラマン解析を追跡すること等によって確認することができる。

１）工程では、フィルムを、Ｔｇ−１００℃＜Ｔ₁＜Ｔｇ℃（但しＴｇはフィルムのガラス転移点である）を満足するＴ₁で加熱する。この範囲で加熱することにより、安定的にフィルム中の主成分高分子の配向緩和を促進することができる。加熱温度Ｔ₁は、好ましくはＴｇ−８０℃＜Ｔ₁＜Ｔｇ−１０℃である。なお、上記分析方法では、主成分高分子の配向緩和の有無を確認できない場合であっても、この範囲内の温度で加熱処理することにより、本発明の効果が得られる。なお、フィルムのガラス転移点は、ＤＳＣ測定により知ることができる。

上記温度Ｔ₁で加熱処理することにより、フィルムの膜面温度Ｔ_1sを、Ｔｇ−１２０℃≦Ｔ_1S℃≦Ｔｇ−２０℃とするのが好ましく、Ｔｇ−１００℃≦Ｔ_1S℃≦Ｔｇ−３０℃とするのがより好ましい。例えば、セルロースアシレートを主成分とするセルロースアシレートのＴｇは一般的には１６０〜２００℃程度であるので、支持体用フィルムとしてセルロースアシレートフィルムを用いる態様では、１）工程は、セルロースアシレートフィルムを加熱し、該フィルムの膜面温度を８０℃〜１５０℃（より好ましくは１００〜１３０℃）にする工程である。

１）工程の加熱処理を実施する時間ｔについては特に制限はないが、一般的には、１分≦ｔ≦６０分が好ましく、特に好ましくは２分≦ｔ≦１０分である。

１）工程の実施は、フィルム上に他の層を形成するために利用されてもよい。具体的には、１）工程の加熱処理の実施により、フィルム上に形成した塗膜を乾燥して、機能層を形成してもよい。機能層の一例は、２）工程でフィルム上に塗布される液晶の配向を制御可能な配向膜である。勿論、配向膜を、１）工程の実施とは別に、１）工程の前、又は１）工程の後であって且つ２）工程の前に、フィルム上に形成してもよい。

例えば、１）工程を実施する前に、上記配向膜用材料を含有する塗布液をフィルム表面に塗布し、塗膜を形成した後、１）工程の加熱処理により、塗膜中の溶媒を乾燥・除去して、配向膜を形成することができる。

また、１）工程は、フィルムに対する表面処理と同時に実施されてもよい。フィルムには、その上に形成されるパターンド・リターダー層との密着性を良化するための表面処理が施される場合がある。採用する表面処理が加熱工程を含む場合は、該加熱工程と同時に１）工程を実施してもよい。１）工程は、例えば、アルカリ鹸化処理後の乾燥工程、後述する反射防止層等の表面フィルム加工工程等であり、これらの工程と同時に実施してもよい。

本発明の方法では、パターンド・リターダーのパターンを構築するパターン形成工程が必要である。パターン形成工程の一例は、マスク露光又はマスクラビング等の開口部と非開口部とを有するマスクを用いた処理である。マスクを用いた処理は、配向膜に対して実施されるのが好ましい。例えば、１）工程と同時に、１）工程の前に、又は１）工程の後であって２）工程の前に、フィルム表面上に配向膜を形成した後、２）工程の前に、配向膜に対して、マスク露光、マスクラビング等のマスクを用いた処理を実施し、パターン配向膜を形成するのが好ましい。パターン配向膜の一例は、互いに異なる（例えば直交する）方向に液晶分子の長軸（遅相軸という場合もある）を配向させる配向制御能をそれぞれ有する第１及び第２配向制御領域が交互に配置されたパターン配向膜である。

マスクとしては、開口部及び非開口部のピッチ等が、搭載される画像表示装置の画素に応じて精密に調整されたものが用いられる。本発明では、１）工程の実施により、フィルムがその後の工程中に寸法変化することが抑制されている。従って、マスクを用いた処理によって形成されたパターンは、その後の工程においても維持される。

パターン配向膜形成のためのマスク露光の条件については、特に制限はない。パターン配向膜形成の機構に応じて、好ましい露光条件も変動するであろう。後述する光酸発生剤の分解を利用して、パターン配向膜を形成する態様では、マスク紫外線露光により、光酸発生剤を分解して、酸性化合物を発生させる。光酸発生剤の分解とともに酸性化合物の生成及び拡散が起こるため、フォトマスク下での照射には、紫外線を用いるのが好ましく、非偏光紫外線を用いるのがより好ましい。照射波長としては２００〜２５０ｎｍにピークを有することが好ましく、ＵＶ−Ｃ光源を用いることが好ましく、その露光量は、５〜１０００ｍＪ／ｃｍ²程度であることが好ましく、５〜１００ｍＪ／ｃｍ²程度であることがさらに好ましく、５〜５０ｍＪ／ｃｍ²程度であることが特に好ましい。露光量が少なすぎるとパターンが形成できない。一方、露光量が多すぎると酸性化合物の拡散によりパターン解像度が低下する。パターン解像度を向上させるためには、室温で露光することが好ましい。
なお、光照射の条件は、配向膜組成物の組成等に応じて適宜設定することができ、上記条件に限定されるものではない。

なお、パターン配向膜は、光配向膜であってもよく、その態様では、マスク露光には、直線偏光紫外線が利用される。

また、パターン配向膜は、マスクを用いたマスクラビング処理の実施によって形成されてもよい。

使用されるマスクの一例は、ストライプ状の開口部と非開口部とが交互に配置されたマスクである。開口部及び非開口部の幅（ピッチ）は、搭載される画像表示装置の画素の構成等に応じて決定される。一般的には、各ストライプの幅は、１００〜１０００μｍである。

２）工程
２）工程では、上記フィルムの表面上に、液晶を主成分として含有する組成物を塗布して塗膜を形成する。２）工程は、好ましくは、配向膜（より好ましくはパターン配向膜）が形成された後に実施するのが好ましい。

液晶を含有する前記組成物は、塗布液として調製されているのが好ましい。塗布液の調製に用いられる溶媒について特に制限はなく、液晶が可溶な有機溶媒の１種又は２種以上の混合溶媒を用いることができる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

塗布方法についても特に制限はく、カーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。

３）工程
３）工程では、前記塗膜を加熱して液晶を配向させる。この時の加熱温度Ｔ₃は、使用される液晶の液晶相転移温度及び等方相転移温度等に応じて決定される。一般的には、５０〜１５０℃であり、７０〜１４０℃であるのが好ましく、８０〜１３０℃であるのがより好ましい。なお、１）工程の加熱処理温度Ｔ₁との関係で、Ｔ₃はＴ₃≦Ｔ₁を満足しているのが好ましい。３）工程における加熱温度Ｔ₃に限らず、パターンド・リターダー層が形成されるまでのいずれの工程においてもＴ₁を超える温度での加熱工程が実施されないのが好ましい。例えば、１）工程の後に、フィルムの表面処理、配向膜の形成等を行う際に加熱処理してもよいが、１）工程の加熱温度Ｔ₁℃未満で行うのが好ましい。２）工程でも加熱処理を行ってもよいが、その際も加熱温度は、Ｔ₁℃未満とする。

３）工程では、液晶を配向させて、例えば、面内遅相軸及び位相差の少なくとも一方が互いに異なる複数の位相差領域からなるパターンを形成する。一例は、互いに面内遅相軸方向が異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターンド・リターダー層である。該パターンド・リターダー層は、互いに異なる（例えば直交する）方向に液晶の長軸を配向させる配向制御能をそれぞれ有する第１及び第２配向制御領域が交互に配置されたパターン配向膜上で液晶を配向させることで形成することができる。例えば、液晶の遅相軸をパターンラビング配向膜のラビング方向に対して直交及び平行にしてそれぞれ配向させる。これにより、第１及び第２位相差領域の面内遅相軸の方向が決定され、互いに直交した面内遅相軸を有する第１及び第２位相差領域が形成される。さらに、液晶の配向状態によって、第１及び第２位相差領域の光学特性（Ｒｅ及びＲｔｈ）が決定される。パターンド・リターダー層は、λ/４板、即ち直線偏光を円偏光に変換する機能を有する光学異方性層であるのが好ましい。λ/４板としての機能を有する液晶の配向状態は種々ある。一例は、棒状液晶化合物の遅相軸（分子長軸）を層面に水平配向させた配向状態である。及び他の例は、ディスコティック液晶の円盤面を層面に対して垂直配向させた配向状態である。より好ましくは、ディスコティック液晶の垂直配向状態である。

勿論、液晶又はそれとともに利用される添加剤等の作用により、マスク露光等のマスクを用いた処理を、液晶を含有する膜に対して行うことで、パターンド・リターダー層の形成が可能な場合もある。又は、第１及び第２位相差領域等、複数の位相差領域を形成するために、液晶及び／又は添加剤が互いに異なる、又はその含有割合が互いに異なる、複数の液晶組成物を利用して、パターンド・リターダー層の形成を行ってもよい。いずれの態様でも、１）工程を実施していることにより、その後の工程におけるフィルムの寸法変化が抑制されているので、設計通りのパターン形成が可能である。

３）工程の後に、液晶の配向を固定することが好ましい。パターンド・リターダー層の光学特性の変動を抑制するためには、固定は、化学結合の形成を伴う態様が好ましく、重合反応や架橋反応によって実施されるのが好ましい。従って、３）工程に用いられる組成物は、重合性もしくは架橋性を有する硬化性組成物であるのが好ましい。液晶が重合性基もしくは架橋性基を有するのも好ましい。

液晶の配向の固定は、前記硬化性組成物の重合反応を実施することによるのが好ましい。利用される重合反応は、光重合反応であっても熱重合反応であってもよい。光重合反応が、制御が容易である点で好ましい。即ち、前記硬化性組成物は、光重合反応を可能とする光重合開始剤を含有しているのが好ましい。

液晶の配向固定のために実施される光照射には、例えば、紫外線が利用される。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ²〜１０Ｊ／ｃｍ²であることが好ましく、２５〜８００ｍＪ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照度は１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ²であることが好ましく、２０〜５００ｍＷ／ｃｍ²であることがより好ましく、４０〜３５０ｍＷ／ｃｍ²であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００〜４１０ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素などの不活性ガス雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。光源としては、低圧水銀ランプ（殺菌ランプ、蛍光ケミカルランプ、ブラックライト）、高圧放電ランプ（高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ）あるいはショートアーク放電ランプ（超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、水銀キセノンランプ）が好ましく用いられる。

パタード・リターダー層の形成方法として、以下の態様が挙げられる。
第１の態様は、液晶の配向制御に影響を与える複数の作用を利用し、その後、外部刺激（熱処理等）によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。例えば、配向膜による配向制御能と、液晶組成物中に添加される配向制御剤の配向制御能との複合作用により、液晶を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激（熱処理等）により、いずれかの作用（例えば配向制御剤による作用）を消失させて、他の配向制御作用（配向膜による作用）を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。例えば、後述する所定のピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基が、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。後述する所定のピリジニウム誘導体等は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、液晶、特にディスコティック液晶との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。しかし、その効果は、ある温度を超えて加熱すると、水素結合が切断され、前記ピリジニウム化合物等の配向膜表面における偏在性及び密度が低下し、その作用を消失する。その結果、ラビング配向膜そのものの規制力により液晶が配向し、液晶は平行配向状態になる。この方法の詳細については、特願２０１０−１４１３４６号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
本態様では、マスク露光は、配向状態を固定するために、液晶を含有する膜に対して実施される。

第２の態様は、パターン配向膜を利用する態様である。この態様では、互いに異なる配向制御能を有するパターン配向膜を形成し、その上に、液晶組成物を配置し、液晶を配向させる。液晶は、パターン配向膜のそれぞれの配向制御能によって配向規制され、互いに異なる配向状態を達成する。それぞれの配向状態を固定することで、配向膜のパターンに応じて第１及び第２の位相差領域のパターンが形成される。パターン配向膜は、印刷法、ラビング配向膜に対するマスクラビング、光配向膜に対するマスク露光等を利用して形成することができる。また、配向膜を一様に形成し、配向制御能に影響を与える添加剤（例えば、上記オニウム塩等）を別途所定のパターンで印刷することによって、パターン配向膜を形成することもできる。大掛かりな設備が不要である点や製造容易な点で、印刷法を利用する方法が好ましい。この方法の詳細については、特願２０１０−１７３０７７号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
本態様では、例えばマスクを用いたマスク露光等の処理は、配向膜に対して実施される。

また、第１及び第２の態様を併用してもよい。一例は、配向膜中に光酸発生剤を添加する例である。この例では、配向膜中に光酸発生剤を添加し、パターン露光により、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成する。光未照射部分では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶、及び所望により添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶を、その遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶は、その遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。前記配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ．， ２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。前記光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。この方法の詳細については、特願２０１０−２８９３６０号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
本態様では、配向膜に対してマスク露光が実施される。

上記パターン形成方法の態様は例示であって、上記態様に限定されるものではない。

パターンド・リターダー層を形成した後に又は形成する前に、他の機能層を積層するための工程を実施してもよい。他の機能層の例には、偏光膜、ハードコート層、光反射防止層が含まれる。これらの層を、フィルム上に形成した積層フィルムを作製し、上記方法により製造されるフィルム・パターンド・リターダーと貼合してもよい。また、パターンド・リターダー層を形成した後に、又は形成する前に、支持体として利用されるフィルムの裏面（パターンド・リターダー層を形成する面と反対側の面）に、上記機能層を、貼合もしくは塗布等により形成してもよい。また、パターンド・リターダー層を形成した後に、パターンド・リターダー層の表面に直接、貼合もしくは塗布等により形成してもよい。

次に、本発明の方法に利用可能な種々の材料等について説明する。

支持体用フィルム：
支持体用フィルムは、主成分として高分子（樹脂及び重合体の双方を含む意味である）を含有するものであれば、特に制限はない。光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるポリマーが好ましい。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。

また、前記透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。

また、前記透明支持体を形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を好ましく用いることができる。
以下に、前記透明支持体の例として、主にセルロースアシレートについて詳細を説明するが、その技術的事項は、他の高分子フィルムについても同様に適用できることは明らかである。

セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載されているが、本発明は、該記載に制限されるものではない。

セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明のセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することができる。

セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることがのぞましい。更には置換度が２．７５〜３．００であることがのぞましく、２．８５〜３．００であることがよりのぞましい。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でも芳香族基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがより好ましい。

上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性が低下できる。
より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、更にのぞましくは２．６５〜３．００である。また、セルロースの水酸基に置換するアシル置換基がアセチル基のみからなる場合には、フィルムの光学異方性が低下できることに加え、更に添加剤との相溶性、使用する有機溶剤への溶解性の観点で置換度が２．８０〜２．９９であることが好ましく、２．８５〜２．９５であることがより好ましい。

セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であるのが好ましく、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることが更に好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明のセルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、更に好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％の含水率が知られている。セルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートの合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

セルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

支持体として用いるフィルムの作製には、セルロースアシレートとともに、種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、微粒子、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、光学特性調整剤など）を使用することができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程（セルロースアシレート溶液の作製工程）における何れでもよいが、ドープ作製工程の最後に添加剤を添加し調製する工程を行ってもよい。
これらの添加剤の添加量を調整することにより、０≦Ｒｅ（５５０）≦１０を満たすセルロースアシレートフィルムを作製することができ、当該フィルムを支持体として用いることで、支持体の光学特性の影響をほとんど受けずに、本発明の光学フィルム中に含まれる全ての前記第１及び第２の位相差領域のＲｅを、１１０ｎｍ≦Ｒｅ（５５０）≦１６５ｎｍの範囲にすることができる。Ｒｅ値は、１２０≦Ｒｅ（５５０）≦１４５であることが好ましく、１３０≦Ｒｅ（５５０）≦１４５であることが特に好ましい。

また、後述する光学異方性層との関係では、前記透明支持体のＲｔｈと光学異方性層（λ／４板）のＲｔｈの合計が｜Ｒｔｈ｜≦２０ｎｍを満たすために、透明支持体は、−１５０ｎｍ≦Ｒｔｈ（６３０）≦１００ｎｍを満たすことが好ましい。

前記セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物を、少なくとも一種含有することものぞましい態様である。
セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物について説明する。フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を利用することで、光学的異方性を低下させることができる。光学的異方性を低下させる化合物はセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。

低位相差のセルロースアシレートフィルムを作製するためには、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制して光学的異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物が好ましい。ｌｏｇＰ値が７を超える化合物は、セルロースアシレートとの相溶性に乏しく、フィルムの白濁や粉吹きを生じやすい。また、ｌｏｇＰ値が０よりも小さな化合物は親水性が高いために、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させる場合がある。ｌｏｇＰ値として更に好ましい範囲は、１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７）．）、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２９，１６３（１９８９）．）、Ｂｒｏｔｏ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．− Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．，１９，７１（１９８４）．）などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７）．）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断することが好ましい。なお本明細書に記載のｌｏｇＰの値は、Ｃｒｉｐｐｅｎ'ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．Ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．，２７，２１（１９８７）．）により求めたものである。

光学的異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。また光学的異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
光学的異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、更に好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学的異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学的異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートに対し０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
光学的異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学的異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ作製工程の最後に行ってもよい。

光学的異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％である。当該化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。

セルロースアシレートフィルムの光学的異方性を低下させる化合物の具体例としては、例えば、特開２００６−１９９８５５号公報の［００３５］〜［００５８］記載の化合物が挙げられるが、これらの化合物に限定されるものではない。

前記フィルムには、紫外線（ＵＶ）吸収剤を添加するのが望ましい。
ＵＶ吸収剤は、中でも、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜及び｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜の双方を低下させる化合物が好ましく、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％使用するのがよい。

また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるために、液晶表示装置に用いられる光学部材の透過率が優れたものが要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜及び｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を低下させる化合物をセルロースアシレートフィルムに添加する場合、分光透過率が優れていることが要求される。本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることがのぞましい。

ＵＶ吸収剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。

ＵＶ吸収剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

セルロースアシレートフィルムのＵＶ吸収剤の具体例としては、例えば、特開２００６−１９９８５５号公報の［００５９］〜［０１３５］に記載の化合物が挙げられる。

前記セルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上が更に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下が更に好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ調製し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、更にメインのセルロースアシレート溶液（ドープ液）と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。これらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤微粒子の添加量は１ｍ³あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

前記セルロースアシレートフィルムには、光学的に異方性を低下する化合物、ＵＶ吸収剤の他に、用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。更にまた、赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れの時期でも良いが、ドープ作製工程の最後に添加剤を添加するのがよい。更にまた、各添加剤の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

また、可塑剤については、後述の実施例の中には、可塑剤を添加したものとしていないものがあるが、光学的に異方性を低下する化合物などが可塑剤としての効果を及ぼす化合物の場合には、可塑剤を添加する必要がないのは言うまでもない。

前記セルロースアシレートフィルムは、セルロースアシレート溶液を用いた溶液製膜法により製造するのが好ましい。セルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよく、更には冷却溶解法あるいは高温溶解方法、更にはこれらの組み合わせで実施される。セルロースアシレート溶液の調製、更には溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

前記セルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることがのぞましい。より好ましくは８８％以上であり、更に好ましくは９０％以上であることがのぞましい。本発明においてはセルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出した。

前記セルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来のセルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、セルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍが更に好ましい。

パターンド・リターダー層（パターン光学異方性層）：
本発明において、パターンド・リターダー層（パターン光学異方性層）の主原料として使用可能な液晶としては、棒状液晶及びディスコティック液晶を挙げることができ、ディスコティック液晶が好ましく、重合性基を有するディスコティック液晶がより好ましい。
棒状液晶としては、例えば、Ｍａｋｒｏｍｏｌ． Ｃｈｅｍ．， １９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、同１１−５１３０１９号及び特願２００１−６４６２７号などの各公報及び明細書に記載の化合物の中から選んで用いることができる。

前記低分子棒状液晶化合物としては、下記一般式（Ｘ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｘ）
Ｑ¹−Ｌ¹−Ｃｙ¹−Ｌ²−（Ｃｙ²−Ｌ³）_n−Ｃｙ³−Ｌ⁴−Ｑ²
式中、Ｑ¹及びＱ²はそれぞれ独立に重合性基を表し、Ｌ¹及びＬ⁴はそれぞれ独立に二価の連結基を表し、Ｌ²及びＬ³はそれぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し、Ｃｙ¹、Ｃｙ²及びＣｙ³はそれぞれ独立に二価の環状基を表し、ｎは０、１又は２である。

式中、Ｑ¹及びＱ²はそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。

本発明の光学異方性層の主原料として使用可能なディスコティック液晶としては、前記のとおり重合性基を有する化合物が好ましい。
前記ディスコティック液晶としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｉ）： Ｄ（−Ｌ−Ｈ−Ｑ）_n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｈは二価の芳香族環又は複素環であり、Ｑは重合性基を含む基であり、ｎは３〜１２の整数を表す。

円盤状コア（Ｄ）は、ベンゼン環、ナフタレン環、トリフェニレン環、アントラキノン環、トルキセン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環が好ましく、ベンゼン環、トリフェニレン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環が特に好ましい。

Ｌは、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基が好ましく、＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−Ｃ≡Ｃ−のいずれか一方を少なくとも一つ以上含む二価の連結基であることが特に好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＤに結合する位置を表す。

Ｈは、芳香族環としては、ベンゼン環及びナフタレン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。複素環としては、ピリジン環及びピリミジン環が好ましく、ピリジン環が特に好ましい。Ｈは、芳香族環が特に好ましい。

Ｑが有する重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。中でも、(メタ)アクリレート基、エポキシ基が好ましい。
Ｑは、Ｈと重合性基とを連結する連結基を含んでいてもよく、連結基の例には、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、炭素原子数１〜２０のアルキレン基（但し、１つの炭素原子又は隣接しない２以上の炭素原子は酸素原子に置き換わっていてもよい）、及びこれらの組み合わせが含まれる。

前記一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶は、下記一般式（II）又は（III）
で表されるディスコティック液晶であることが特に好ましい。

式中、Ｌ、Ｈ、Ｑは、前記一般式（Ｉ）におけるＬ、Ｈ、Ｑとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。

式中、Ｙ¹、Ｙ²、及びＹ³は、後述する一般式（IV）におけるＹ¹¹、Ｙ¹²、及びＹ¹³と同義であり、その好ましい範囲も同一である。また、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³、Ｒ¹、Ｒ²、及びＲ³も、後述する一般式（IV）におけるＬ¹、Ｌ²、Ｌ³、Ｈ¹、Ｈ²、Ｈ³、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³と同義であり、その好ましい範囲も同一である。

後述するように、一般式（Ｉ）、（II）、又は（III）で表されるように、分子内に複
数個の芳香環を有しているディスコティック液晶は、配向制御剤として用いられるピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物等のオニウム塩との間に分子間π−π相互作用が起こるため、垂直配向を実現できる。特に、例えば、一般式（II）において、Ｌが、＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−Ｃ≡Ｃ−のいずれか一方を少なくとも一つ以上含む二価の連結基である場合、及び、一般式（III）において、複数個の芳香環及び複素環が単結合で連結さ
れる場合は、該連結基により結合の自由回転が強く束縛されることにより分子の直線性が保持されるため、液晶性が向上すると共に、より強い分子間π−π相互作用が起こり安定な垂直配向が実現できる。

前記ディスコティック液晶としては、下記一般式（IV）で表される化合物が好ましい。

式中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²及びＹ¹³は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表す。

Ｙ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³がメチンの場合、メチンの水素原子は置換基で置き換わってもよい。メチンが有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子およびシアノ基を好ましい例として挙げることができる。これらの置換基の中では、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がさらに好ましく、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２アシルオキシ基、ハロゲン原子およびシアノ基がより好ましい。
Ｙ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³は、化合物の合成の容易さおよびコストの点において、いずれもメチンであることがより好ましく、メチンは無置換であることがさらに好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²及びＬ³は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表す。
Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³が二価の連結基の場合、それぞれ独立に、−Ｏ−，−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、二価の環状基およびこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³における二価の環状基とは、少なくとも１種類の環状構造を有する二価の連結基（以下、環状基と呼ぶことがある）である。環状基は５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環としては、ベンゼン環およびナフタレン環が好ましい例として挙げられる。脂肪族環としては、シクロヘキサン環が好ましい例として挙げられる。複素環としては、ピリジン環およびピリミジン環が好ましい例として挙げられる。環状基は、芳香族環および複素環がより好ましい。なお、本発明における２価の環状基は、環状構造のみ（但し、置換基を含む）からなる２価の連結基であることがより好ましい（以下、同じ）。

Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³で表される二価の環状基のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基およびナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。

Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³で表される二価の環状基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（好ましくは、フッ素原子、塩素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数が２〜１６アルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル基で置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。

Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³としては、単結合、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−二価の環状基−、＊−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−、＊−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−、＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−、＊−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−、＊−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−、＊−二価の環状基−ＣＨ＝ＣＨ−および＊−二価の環状基−Ｃ≡Ｃ−が好ましい。特に、単結合、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−二価の環状基−および＊−Ｃ≡Ｃ−二価の環状基−が好ましく、単結合が最も好ましい。ここで、＊は一般式（IV）中のＹ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³を含む６員環側に結合する位置を表す。

一般式（Ｉ）中、Ｈ¹、Ｈ²及びＨ³は、それぞれ独立に一般式（IV−Ａ）又は（IV−Ｂ）の基を表す。

一般式（IV−Ａ）中、ＹＡ¹及びＹＡ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（IV）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（IV）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す。

一般式（IV−Ｂ）中、ＹＢ¹及びＹＢ²は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；
ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；
＊は上記一般式（IV）におけるＬ¹〜Ｌ³側と結合する位置を表し；
＊＊は上記一般式（IV）におけるＲ¹〜Ｒ³側と結合する位置を表す。

一般式（IV）中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ独立に下記一般式（IV−Ｒ）を表す。

一般式（IV−Ｒ）
＊−（−Ｌ²¹−Ｑ²）_n1−Ｌ²²−Ｌ²³−Ｑ¹
一般式（IV−Ｒ）中、＊は、一般式（IV）におけるＨ¹〜Ｈ³側と結合する位置を表す。
Ｌ²¹は単結合又は二価の連結基を表す。Ｌ²¹が二価の連結基の場合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＮＲ⁷−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ⁷は炭素原子数１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１〜４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。

Ｌ²¹は単結合、＊＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−および＊＊＊−Ｃ≡Ｃ−（ここで、＊＊＊は一般式（ＤＩ−Ｒ）中の＊側を表す）のいずれかが好ましく、単結合がより好ましい。

Ｑ²は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す。このような環状基としては、５員環、６員環、または７員環を有する環状基が好ましく、５員環または６員環を有する環状基がより好ましく、６員環を有する環状基がさらに好ましい。上記環状基に含まれる環状構造は、縮合環であっても良い。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。また、環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環が好ましい例として挙げられる。脂肪族環としては、シクロヘキサン環が好ましい例として挙げられる。複素環としては、ピリジン環およびピリミジン環が好ましい例として挙げられる。

上記Ｑ²のうち、ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，４−ジイル基、ナフタレン−１，５−ジイル基、ナフタレン−１，６−ジイル基、ナフタレン−２，５−ジイル基、ナフタレン−２，６−ジイルナフタレン−２，７−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。これらの中でも、特に、１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基および１，４−シクロへキシレン基が好ましい。

Ｑ²は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。

ｎ１は、０〜４の整数を表す。ｎ１としては、１〜３の整数が好ましく、１もしくは２がさらに好ましい。

Ｌ²²は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ₂−、＊＊−ＣＨ₂−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−または＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表し、＊＊はＱ²側と結合する位置を表す。
Ｌ²²は、好ましくは、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ₂−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊＊−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−ＣＨ₂−である。Ｌ²²が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。これらの置換基に置換されることにより、本発明の液晶性化合物から液晶性組成物を調製する際に、使用する溶媒に対する溶解性を向上させることができる。

Ｌ²³は、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。Ｌ²³は、炭素原子を１〜２０個含有することが好ましく、炭素原子を２〜１４個を含有することがより好ましい。さらに、Ｌ²³は、−ＣＨ₂−を１〜１６個含有することが好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個含有することがさらに好ましい。

Ｑ¹は重合性基または水素原子を表す。本発明の液晶性化合物を光学補償フィルムのような位相差の大きさが熱により変化しないものが好ましい光学フィルム等に用いる場合には、Ｑ¹は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

さらに、重合性基は付加重合反応が可能な官能基であることが特に好ましい。そのような重合性基としては、重合性エチレン性不飽和基または開環重合性基が好ましい。

重合性エチレン性不飽和基の例としては、下記の式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）が挙げられる。

式（Ｍ−３）、（Ｍ−４）中、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、水素原子またはメチル基が好ましい。
上記式（Ｍ−１）〜（Ｍ−６）の中、（Ｍ−１）または（Ｍ−２）が好ましく、（Ｍ−１）がより好ましい。

開環重合性基は、環状エーテル基が好ましく、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。

前記式（IV）の化合物の中でも、下記一般式（IV'）で表される化合物がより好ましい。

一般式（ＤIV）中、Ｙ¹¹、Ｙ¹²およびＹ¹³は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表し、メチンが好ましく、メチンは無置換であるのが好ましい。

Ｒ¹¹、Ｒ¹²およびＲ¹³は、それぞれ独立に下記一般式（IV'−Ａ）、下記一般式（IV'−Ｂ）または下記一般式（IV'−Ｃ）を表す。固有複屈折の波長分散性を小さくしようとする場合、一般式（IV'−Ａ）または一般式（IV'−Ｃ）が好ましく、一般式（IV'−Ａ）がより好ましい。Ｒ¹¹、Ｒ¹²およびＲ¹³は、Ｒ¹¹＝Ｒ¹²＝Ｒ¹³であることが好ましい。

一般式（IV'−Ａ）中、Ａ¹¹、Ａ¹²、Ａ¹³、Ａ¹⁴、Ａ¹⁵およびＡ¹⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。
Ａ¹¹およびＡ¹²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ¹³、Ａ¹⁴、Ａ¹⁵およびＡ¹⁶は、それらのうち、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。さらに、メチンは無置換であることが好ましい。
Ａ¹¹、Ａ¹²、Ａ¹³、Ａ¹⁴、Ａ¹⁵またはＡ¹⁶がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ¹は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（IV'−Ｂ）中、Ａ²¹、Ａ²²、Ａ²³、Ａ²⁴、Ａ²⁵およびＡ²⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。
Ａ²¹およびＡ²²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ²³、Ａ²⁴、Ａ²⁵およびＡ²⁶は、それらのうち、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ²¹、Ａ²²、Ａ²³、Ａ²⁴、Ａ²⁵またはＡ²⁶がメチンの場合の置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ²は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（IV'−Ｃ）中、Ａ³¹、Ａ³²、Ａ³³、Ａ³⁴、Ａ³⁵およびＡ³⁶は、それぞれ独立にメチンまたは窒素原子を表す。
Ａ³¹およびＡ³²は、少なくとも一方が窒素原子であることが好ましく、両方が窒素原子であることがより好ましい。
Ａ³³、Ａ³⁴、Ａ³⁵およびＡ³⁶は、少なくとも３つがメチンであることが好ましく、すべてメチンであることがより好ましい。
Ａ³¹、Ａ³²、Ａ³³、Ａ³⁴、Ａ³⁵またはＡ³⁶がメチンの場合、メチンは置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜１６のアルキル基、炭素原子数２〜１６のアルケニル基、炭素原子数２〜１６のアルキニル基、炭素原子数１〜１６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜１６のアルコキシ基、炭素原子数２〜１６のアシル基、炭素原子数１〜１６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜１６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜１６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜１６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数２〜１６のアシルアミノ基が含まれる。これらの中でも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基が好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のアルキル基、炭素原子数１〜４のハロゲンで置換されたアルキル基がより好ましく、ハロゲン原子、炭素原子数が１〜３のアルキル基、トリフルオロメチル基がさらに好ましい。
Ｘ³は、酸素原子、硫黄原子、メチレンまたはイミノを表し、酸素原子が好ましい。

一般式（IV'−Ａ）中のＬ¹¹、一般式（IV'−Ｂ）中のＬ²¹、一般式（IV'−Ｃ）中のＬ³¹はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＳＯ₂−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を表す。好ましくは、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−であり、より好ましくは、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−である。特に、小さい固有複屈折の波長分散性が期待できる、一般式（ＤＩ−Ａ）中のＬ¹¹は、−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−が特に好ましく、この中でも−ＣＯ−Ｏ−が、より高温でディスコティックネマチック相を発現できるため、好ましい。上述の基が水素原子を含む基であるときは、該水素原子は置換基で置き換わってもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましい。

一般式（IV'−Ａ）中のＬ¹²、一般式（IV'−Ｂ）中のＬ²²、一般式（IV'−Ｃ）中のＬ³²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ₂−、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す。ここで、−ＮＨ−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−の水素原子は、置換基で置換されていてもよい。このような置換基として、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、水酸基、カルボキシル基、炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のハロゲンで置換されたアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基、炭素原子数２〜６のアシル基、炭素原子数１〜６のアルキルチオ基、炭素原子数２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数２〜６のアルキルで置換されたカルバモイル基および炭素原子数２〜６のアシルアミノ基が好ましい例として挙げられ、ハロゲン原子、水酸基、炭素原子数１〜６のアルキル基がより好ましく、特にハロゲン原子、メチル基、エチル基が好ましい。

Ｌ¹²、Ｌ²²、Ｌ³²はそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ₂−、−ＣＨ＝ＣＨ−および−Ｃ≡Ｃ−ならびにこれらの組み合わせからなる群より選ばれることが好ましい。

Ｌ¹²、Ｌ²²、Ｌ³²はそれぞれ独立して、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数２〜１４であることがより好ましい。炭素数２〜１４が好ましく、−ＣＨ₂−を１〜１６個有することがより好ましく、−ＣＨ₂−を２〜１２個有することがさらに好ましい。

Ｌ¹²、Ｌ²²、Ｌ³²を構成する炭素数は、液晶の相転移温度と化合物の溶媒への溶解性に影響を及ぼす。一般的に炭素数は多くなるほど、ディスコティックネマチック相（Ｎ_D相）から等方性液体への転移温度が低下する傾向にある。また、溶媒への溶解性は、一般的に炭素数は多くなるほど向上する傾向にある。

一般式（IV'−Ａ）中のＱ¹¹、一般式（IV'−Ｂ）中のＱ²¹、一般式（IV'−Ｃ）中のＱ³¹はそれぞれ独立して重合性基または水素原子を表す。また、Ｑ¹¹、Ｑ²¹、Ｑ³¹は重合性基であることが好ましい。重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。すなわち、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例については、上記と同様であり、好ましい例も上記と同様である。

前記一般式（IV）で表される化合物の具体例には、特開２００６-７６９９２号公報の［００５２］の［化１３］〜［化４３］に記載の例示化合物、並びに特開２００７−２２２０号公報の［００４０］の［化１３］〜［００６３］の［化３６］に記載の例示化合物が含まれる。但し、これらの化合物に限定されるものではない。

上記化合物は、種々の方法により合成することができ、例えば、特開２００７−２２２０号公報の［００６４］〜［００７０］に記載の方法により合成することができる。

前記ディスコティック液晶化合物は、液晶相として、カラムナー相およびディスコティックネマチック相（Ｎ_D相）を示すことが好ましく、これらの液晶相の中では、良好なモ
ノドメイン性を示すディスコティックネマチック相（Ｎ_D相）が好ましい。

前記ディスコティック液晶化合物の中でも、液晶相を２０℃〜３００℃の範囲で発現させるものが好ましい。より好ましくは４０℃〜２８０℃であり、さらに好ましくは６０℃〜２５０℃である。ここで２０℃〜３００℃で液晶相を発現するとは、液晶温度範囲が２０℃をまたぐ場合（例えば、１０℃〜２２℃）や、３００℃をまたぐ場合（例えば、２９８℃〜３１０℃）も含む。４０℃〜２８０℃と６０℃〜２５０℃に関しても同様である。

前記一般式（IV）で表されるディスコティック液晶は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、後述する、ピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる。特に、一般式（IV'）で表されるディスコティック液晶は、複数個の芳香環が単結合で連結されているため、分子の回転自由度が束縛された直線性の高い分子構造を有しているため、ピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物との間により強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させ垂直配向状態が実現できる。

棒状液晶化合物を利用する場合は、棒状液晶を水平配向させるのが好ましい。尚、本明細書において「水平配向」とは、棒状液晶の子長軸と層面が平行であることをいう。厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は０〜５度が好ましく、０〜３度がより好ましく、０〜２度がさらに好ましく、０〜１度が最も好ましい。
なお、前記組成物中には、液晶の水平配向を促進する添加剤を添加してもよく、該添加剤の例には、特開２００９−２２３００１号公報の［００５５］〜［００６３］に記載の化合物が含まれる。

ディスコティック液晶を利用する場合は、ディスコティック液晶を垂直配向させるのが好ましい。尚、本明細書において「垂直配向」とは、ディスコティック液晶の円盤面と層面が垂直であることをいう。厳密に垂直であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が７０度以上の配向を意味するものとする。傾斜角は８５〜９０度が好ましく、８７〜９０度がより好ましく、８８〜９０度がさらに好ましく、８９〜９０度が最も好ましい。
なお、前記組成物中には、液晶の垂直配向を促進する添加剤を添加していることが好ましく、該添加剤の例は、前記の通りである。

なお、液晶性化合物を配向させた光学異方性層において、光学異方性層の一方の面におけるチルト角（液晶性化合物における物理的な対象軸が光学異方性層の界面となす角度をチルト角とする）θ１及び他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１及びθ２は、以下の手法で算出する。本手法は本発明の実際の配向状態を正確に表現していないが、光学フィルムのもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層は液晶性化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（液晶性化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定及び計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ及びＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメータＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０及びＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、及び多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出する。
ここで、ｎｏ及びｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定数することができる。

［オニウム塩化合物（配向膜側配向制御剤）］
本発明では、前述のように、重合性基を有する液晶化合物、特に、重合性基を有するディスコティック液晶の垂直配向を実現するために、オニウム塩を添加することが好ましい。オニウム塩は配向膜界面に偏在し、液晶分子の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる作用をする。

オニウム塩としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）
Ｚ−（Ｙ−Ｌ−）_nＣｙ⁺・Ｘ‐
式中、Ｃｙは５又は６員環のオニウム基であり、Ｌ、Ｙ、Ｚ、Ｘは、後述する一般式（II）におけるＬ²³、Ｌ²⁴、Ｙ²²、Ｙ²³、Ｚ²¹、Ｘに同義であり、その好ましい範囲も同一であり、ｎは２以上の整数を表す。

５又は６員環のオニウム基（Ｃｙ）は、ピラゾリウム環、イミダゾリウム環、トリアゾリウム環、テトラゾリウム環、ピリジニウム環、ピラジニウム環、ピリミジニウム環、トリアジニウム環が好ましく、イミダゾリウム環、ピリジニウム環が特に好ましい。

５又は６員環のオニウム基（Ｃｙ）は、配向膜材料と親和性のある基を有するのが好ましい。オニウム塩化合物は、酸発生剤が分解していない部分（未露光部分）では配向膜材料との親和性が高く配向膜界面に偏在している。一方、酸発生剤が分解し酸性化合物が発生している部分（露光部分）では、オニウム塩のアニオンがイオン交換し親和性が低下し配向膜界面における偏在性が低下している。水素結合は、液晶を配向させる実際の温度範囲内（室温〜１５０℃程度）において、結合状態にも、その結合が消失した状態にもなり得るので、水素結合による親和性を利用するのが好ましい。但し、この例に限定されるものではない。
例えば、配向膜材料としてポリビニルアルコールを利用する態様では、ポリビニルアルコールの水酸基と水素結合を形成するために、水素結合性基を有しているのが好ましい。水素結合の理論的な解釈としては、例えば、Ｈ．Ｕｎｅｙａｍａ ａｎｄ Ｋ．Ｍｏｒｏｋｕｍａ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、第９９巻、第１３１６〜１３３２頁、１９７７年に報告がある。具体的な水素結合の様式としては、例えば、Ｊ．Ｎ．イスラエスアチヴィリ著、近藤保、大島広行訳、分子間力と表面力、マグロウヒル社、１９９１年の第９８頁、図１７に記載の様式が挙げられる。具体的な水素結合の例としては、例えば、Ｇ．Ｒ．Ｄｅｓｉｒａｊｕ、Ａｎｇｅｗａｎｔｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｅｄｉｔｉｏｎ Ｅｎｇｌｉｓｈ、第３４巻、第２３１１頁、１９９５年に記載のものが挙げられる。

水素結合性基を有する５又は６員環のオニウム基は、オニウム基の親水性の効果に加え、ポリビニルアルコールと水素結合することによって、配向膜界面の表面偏在性を高めるとともに、ポリビニルアルコール主鎖に対する直交配向性を付与する機能を促進する。好ましい水素結合性基としては、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、酸アミド基、ウレイド基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルホ基、含窒素複素環基（例えば、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、１，３，５−トリアジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、キノリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、コハクイミド基、フタルイミド基、マレイミド基、ウラシル基、チオウラシル基、バルビツール酸基、ヒダントイン基、マレイン酸ヒドラジド基、イサチン基、ウラミル基などが挙げられる）を挙げることができる。更に好ましい水素結合性基としては、アミノ基、ピリジル基を挙げることができる。
例えば、イミダゾリウム環の窒素原子ように、５又は６員環のオニウム環に、水素結合性基を有する原子を含有していることも好ましい。

ｎは、２〜５の整数が好ましく、３又は４であるのがより好ましく、３であるのが特に好ましい。複数のＬ及びＹは、互いに同一であっても異なっていてもよい。ｎが３以上である場合、一般式（１）で表されるオニウム塩は、３つ以上の５又は６員環を有しているため、前記ディスコティック液晶と強い分子間π−π相互作用が働くため、該ディスコティック液晶の垂直配向、特に、ポリビニルアルコール配向膜上では、ポリビニルアルコール主鎖に対する直交垂直配向を実現することができる。

前記一般式（１）で表されるオニウム塩は、下記一般式（２ａ）で表されるピリジニウム化合物又は下記一般式（２ｂ）で表されるイミダゾリウム化合物であることが特に好ましい。
一般式（２ａ）及び（２ｂ）で表される化合物は、主に、前記一般式（Ｉ）〜(IV)で表されるディスコティック液晶の配向膜界面における配向を制御することを目的として添加され、ディスコティック液晶の分子の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる作用がある。

式中、Ｌ²³及びＬ²⁴はそれぞれ二価の連結基を表す。
Ｌ²³は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、ＡＬは、炭素原子数が１〜１０のアルキレン基である。Ｌ²³は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、単結合または−Ｏ−がさらに好ましく、−Ｏ−が最も好ましい。

Ｌ²⁴は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ＝Ｎ−であるのが好ましく、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。ｍが２以上のとき、複数のＬ²⁴が交互に、−Ｏ−ＣＯ−及び−ＣＯ−Ｏ−であるのがさらに好ましい。

Ｒ²²は水素原子、無置換アミノ基、又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基である。
Ｒ²²が、ジアルキル置換アミノ基である場合、２つのアルキル基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環または６員環が好ましい。Ｒ²³は水素原子、無置換アミノ基、または炭素原子数が２〜１２のジアルキル置換アミノ基であるのがさらに好ましく、水素原子、無置換アミノ基、または炭素原子数が２〜８のジアルキル置換アミノ基であるのがよりさらに好ましい。Ｒ²³が無置換アミノ基及び置換アミノ基である場合、ピリジニウム環の４位が置換されていることが好ましい。

Ｘはアニオンである。
Ｘは、一価のアニオンであることが好ましい。アニオンの例には、ハライドイオン（フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン）およびスルホン酸イオン（例、メタンスルホネートイオン、ｐ−トルエンスルホネートイオン、ベンゼンスルホネートイオン）が含まれる。

Ｙ²²及びＹ²³はそれぞれ、５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基である。
前記５又は６員環が置換基を有していてもよい。好ましくは、Ｙ²²及びＹ²³のうち少なくとも１つは、置換基を有する５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基である。Ｙ²²およびＹ²³は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい６員環を部分構造として有する２価の連結基であるのが好ましい。６員環は、脂肪族環、芳香族環（ベンゼン環）および複素環を含む。６員脂肪族環の例は、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環およびシクロヘキサジエン環を含む。６員複素環の例は、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環を含む。６員環に、他の６員環または５員環が縮合していてもよい。
置換基の例は、ハロゲン原子、シアノ、炭素原子数が１〜１２のアルキル基および炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基を含む。アルキル基およびアルコキシ基は、炭素原子数が２〜１２のアシル基または炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。置換基は、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基であるのが好ましい。置換基は２以上であってもよく、例えば、Ｙ²²及びＹ²³がフェニレン基である場合は、１〜４の炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基で置換されていてもよい。

なお、ｍは１又は２であり、２であるのが好ましい。ｍが２のとき、複数のＹ²³及びＬ²⁴は、互いに同一であっても異なっていてもよい。

Ｚ²¹は、ハロゲン置換フェニル、ニトロ置換フェニル、シアノ置換フェニル、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基および炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる一価の基である。
ｍが２の場合、Ｚ²¹は、シアノ、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素原子数４〜１０のアルコキシ基であるのがさらに好ましい。
ｍが１の場合、Ｚ²¹は、炭素原子数が７〜１２のアルキル基、炭素原子数が７〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルキル基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルキル基または炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルコキシ基であることが好ましい。

アシル基は−ＣＯ−Ｒ、アシルオキシ基は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒは脂肪族基（アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基）または芳香族基（アリール基、置換アリール基）である。Ｒは、脂肪族基であることが好ましく、アルキル基またはアルケニル基であることがさらに好ましい。

ｐは、１〜１０の整数である。ｐは、１または２であることが特に好ましい。Ｃ_pＨ_2pは、分岐構造を有していてもよい鎖状アルキレン基を意味する。Ｃ_pＨ_2pは、直鎖状アルキレン基（−（ＣＨ₂）_p−）であることが好ましい。

式（２ｂ）中、Ｒ³⁰は、水素原子又は炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基である。

前記式(２ａ)又は（２ｂ）で表される化合物の中でも、下記式(２ａ')又は（２ｂ'）で表される化合物が好ましい。

式（２ａ'）及び（２ｂ'）中、式(２)と同一の符号は同一の意義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ²⁵はＬ²⁴と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ²⁴及びＬ²⁵は、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、Ｌ²⁴が−Ｏ−ＣＯ−で、且つＬ²⁵が−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましい。

Ｒ²³、Ｒ²⁴及びＲ²⁵はそれぞれ、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基である。ｎ₂₃は０〜４、ｎ₂₄は１〜４、及びｎ₂₅は０〜４を表す。ｎ₂₃及びｎ₂₅が０で、ｎ₂₄が１〜４（より好ましくは１〜３）であるのが好ましい。
Ｒ³⁰は、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基であるのが好ましい。

一般式（１）で表される化合物の具体例としては、特開２００６−１１３５００号公報明細書中［００５８］〜［００６１］に記載の化合物が挙げられる。

以下に、一般式（１）で表される化合物の具体例を示す。但し、下記式中、アニオン（Ｘ^-）は省略した。

式(２ａ)及び（２ｂ）の化合物は、一般的な方法で製造することができる。例えば、式（２ａ）のピリジニウム誘導体は、一般にピリジン環をアルキル化（メンシュトキン反応）して得られる。
オニウム塩は、その添加量が、液晶化合物に対して５質量％を超えることはなく、０．１〜２質量％程度であるのが好ましい。

前記一般式（２ａ）及び（２ｂ）で表されるオニウム塩は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基に、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基（一般式（２ａ）及び（２ａ'）において、Ｒ²²が無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基）が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。前記ピリジニウム誘導体は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、前述した、液晶、特にディスコティック液晶との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、一般式（２ａ'）で表されるように、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。

上記オニウム塩は、ポリビニルアルコール等からなる配向膜の界面に偏在する性質を有する。上記オニウム塩が、配向膜界面に偏在する状態では、液晶（特にディスコティック液晶）は、その遅相軸をラビング方向に対して直交する方向にして垂直配向（以下、直交垂直配向という）する傾向がある。一方、上記オニウム塩が配向膜界面に偏在しない状態では、液晶（特にディスコティック液晶）は、本来のラビング配向膜の配向制御能に従って配向し、即ち、その遅相軸をラビング方向に対して平行にして垂直配向（以下、平行垂直配向という）する傾向がある。上記オニウム塩の配向膜界面偏在性をＯＮ−ＯＦＦできれば、液晶がそれぞれ直交垂直配向した領域と、水平垂直配向した領域とをパターン状に形成することができる。上記オニウム塩の配向膜界面偏在性のＯＮ−ＯＦＦは、配向膜中に含有される光酸発生剤が発生する酸性化合物や、加熱等の外部刺激によって制御することができる。

［フルオロ脂肪族基含有共重合体（空気界面配向制御剤）］
フルオロ脂肪族基含有共重合体は、液晶の空気界面における配向を制御することを目的として添加され、液晶の分子の空気界面近傍におけるチルト角を増加させる作用がある。さらに、ムラ、ハジキなどの塗布性も改善される。
本発明に使用可能なフルオロ脂肪族基含有共重合体としては、特開２００４−３３３８５２号、同２００４−３３３８６１号、同２００５−１３４８８４号、同２００５−１７９６３６号、及び同２００５−１８１９７７号などの各公報及び明細書に記載の化合物の中から選んで用いることができる。特に好ましくは、特開２００５−１７９６３６号、及び同２００５−１８１９７７号の各公報及び明細書に記載の、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）₂｝｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを側鎖に含むポリマーである。
フルオロ脂肪族基含有共重合体は、その添加量が、液晶化合物に対して２質量％を超えることはなく、０．１〜１質量％程度であるのが好ましい。

フルオロ脂肪族基含有共重合体は、フルオロ脂肪族基の疎水性効果により空気界面への偏在性を高めると共に、空気界面側に低表面エネルギーの場を提供し、液晶、特にディスコティック液晶のチルト角を増加させることができる。さらに、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）₂｝｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを側鎖に含む共重合成分を有すると、これらのアニオンと液晶のπ電子との電荷反発により液晶化合物の垂直配向を実現することができる。

［重合開始剤］
前記の重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、所望の液晶相を示す配向状態とした後、重合反応を進行させて、該配向状態を固定する（上記方法の５）工程）。固定化は、液晶化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。紫外線照射による、光重合反応により固定化するのが好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。

［増感剤］
また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。液晶化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。

［その他の添加剤］
前記組成物は、重合性液晶化合物とは別に、非液晶性の重合性モノマーを含有していてもよい。重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が２以上の多官能モノマー、例えば、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレートを用いると、耐久性が改善されるので好ましい。前記非液晶性の重合性モノマーは、非液晶性成分であるので、その添加量が、液晶化合物に対して４０質量％を超えることはなく、０〜２０質量％程度であるのが好ましい。

パタンード・レターダー層の厚みについては特に制限されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。

配向膜：
本発明の方法では、パターンド・リターダー層の形成に配向膜を利用するのが好ましい。利用可能な配向膜の例には、ラビング配向膜及び光配向膜が含まれる。「ラビング配向膜」とは、ラビングによって、液晶分子の配向規制能を有するように処理された膜を意味する。ラビング配向膜には、液晶分子を配向規制する配向軸があり、当該配向軸に従って、液晶分子は配向する。本発明では、液晶分子は、配向膜への紫外線照射部分でラビング方向に対して液晶の遅相軸が平行になるように配向し、未照射部分で液晶分子の遅相軸がラビング方向に対して直交配向するパターンラビング配向膜を利用するのが好ましい。当該パターンラビング配向膜は、光酸発生剤を利用することで、形成することができる。また、マスクラビングによりパターンラビング配向膜を形成してもよい。

ラビング配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールは、種々の鹸化度のものが存在する。本発明では、鹸化度８５〜９９程度のものを用いるのが好ましい。市販品を用いてもよく、例えば、「ＰＶＡ１０３」、「ＰＶＡ２０３」（クラレ社製）等は、上記鹸化度のＰＶＡである。ラビング配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落番号［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。ラビング配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがさらに好ましい。

ラビング処理は、一般にはポリマーを主成分とする膜の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。
ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ） Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。

ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
ラビング密度と配向膜のプレチルト角との間には、ラビング密度を高くするとプレチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとプレチルト角は大きくなる関係がある。
長尺状の偏光膜であって、吸収軸が長手方向の偏光膜と貼り合わせるには、長尺のポリマーフィルムからなる支持体上に配向膜を形成し、長手方向に対して４５°の方向に連続的にラビング処理して、ラビング配向膜を形成するのが好ましい。

光酸発生剤：
本発明に利用するパターンラビング配向膜の一例は、少なくとも一種の光酸発生剤を含有する。光酸発生剤とは、紫外線等の光照射により分解し酸性化合物を発生する化合物である。前記光酸発生剤が、光照射により分解して酸性化合物を発生すると、配向膜の配向制御能に変化が生じる。ここでいう配向制御能の変化は、配向膜単独の配向制御能の変化として特定されるものであっても、配向膜とその上に配置される光学異方性層形成用組成物中に含まれる添加剤等とによって達成される配向制御能の変化として特定されるものであってもよいし、またこれらの組み合わせとして特定されるものであってもよい。
後述する円盤状（ディスコティック）液晶は、オニウム塩を添加することで、直交垂直配向状態になる場合がある。分解により発生した酸と、該オニウム塩とが、アニオン交換すると、該オニウム塩の配向膜界面における偏在性が低下し、直交垂直配向効果を低下させ、平行垂直配向状態を形成させてもよい。また、例えば、配向膜がポリビニルアルコール系配向膜である場合には、そのエステル部分が発生した酸により分解し、その結果、前記オニウム塩の配向膜界面偏在性を変化させてもよい。

前記配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ．， ２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。
前記光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩の好ましい例としては、下記の一般式で表される塩をそれぞれ挙げることができる。

式中、Ｒはそれぞれ水素原子、炭素原子数１〜６の直鎖アルキル基もしくは分岐アルキル基、炭素原子数１〜６の直鎖アルコキシ基もしくは分岐アルコキシ基、炭素原子数６〜１２のアリール基、又はハロゲン原子である。Ｙは、炭素原子数１〜６の直鎖アルキル基もしくは分岐アルキル基、炭素原子数１〜６の直鎖アルコキシ基もしくは分岐アルコキシ基である。Ｘ―は、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩の対アニオンを表し、分解により生じる酸性化合物のアニオンになる。好ましくはＰＦ₆ ^-、ＢＦ₄ ^-、又はＣ_nＦ_2n+1ＳＯ₃ ^-（但し、ｎは１〜１２の整数）である。例えば、Ｘ―がＢＦ₄ ^-である光酸発生剤からは、分解により酸ＨＢＦ₄が発生し、Ｘ―がＰＦ₆ ^-である光酸発生剤からは、ＨＰＦ₆が発生し、Ｘ―がＣ_nＦ_2n+1ＳＯ₃ ^-である光酸発生剤からは、Ｃ_nＦ_2n+1ＳＯ₃Ｈが発生する。

以下に、本発明に利用可能な光酸発生剤の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。また、以下の具体例では、アニオンが特定された塩を例示するが、当該アニオンを他のアニオンに置き換えた具体例も、使用可能な光酸発生剤の具体例として例示される。

前記配向膜の形成に利用される組成物は、塗布液として調製するのが好ましい。塗布の調製に用いられる溶媒は、水を含有しているのが好ましく、より好ましくは水を２０質量％以上、さらに好ましくは５０〜８０質量％含む。含水溶媒により調製した塗布液を使用することで、支持体上に塗布する際、溶媒による支持体の溶出を抑制または制御することができる。

前記配向膜組成物中の各成分の含有量は、安定な配向膜を形成できるように適宜設定することができる。例えば、主成分である配向膜用ポリマー材料の含有量は、組成物（溶媒を含む）の合計量に対して２．０〜１０．０質量％、好ましくは２．０〜５．０質量％とすることができる。光酸発生剤の添加量は、前述のオニウム塩の対アニオンとイオン交換し得る範囲で適宜設定することができ、例えば、配向膜用ポリマー材料に対して０．１〜１０．０質量％、好ましくは０．５〜５．０質量％とすることができる。また、組成物における溶媒量は、例えば、組成物の合計量に対して８０〜９８質量％、好ましくは９０〜９７質量％とすることができる。

また、本発明には光配向膜を利用してもよい。光配向膜の形成に利用される光配向材料としては、多数の文献等に記載がある。本発明では、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミド及び／又はアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルが好ましい例として挙げられる。特に好ましくは、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、又はエステルである。

２．フィルム・パターンド・リターダー及びその用途
本発明の方法により製造されるフィルム・パターンド・リターダーの一態様は、図１に断面模式図として示す通り、フィルム１６、配向膜１４、及び光学異方性層１２を有する。光学異方性層１２は、図２に上面図を示す様に、第１及び第２の位相差領域１２ａ及び１２ｂが、均等且つ対称に配置されたパターンド・リターダー層である。第１及び第２の位相差領域１２ａ及び１２ｂは、互いに直交する面内遅相軸ａ及びｂをそれぞれ有する。円偏光を利用する態様では、第１及び第２の光学フィルム１０のＲｅはλ／４であるのが好ましく、具体的には、１１０〜１６５ｎｍであるのが好ましい。Ｒｅは、１２０〜１４５ｎｍであることが特に好ましい。フィルム１６が、位相差フィルムである場合は、フィルム１６のＲｅも含めて、フィルム・パターンド・リターダー全体としてＲｅが前記範囲であるのが好ましい。一例では、フィルム１６は低Ｒｅのフィルムからなり、具体的には、フィルム１６のＲｅ（５５０）が０〜１０ｎｍである。一方、Ｒｔｈは全体として小さいほど、クロストークを軽減する観点では好ましく、具体的には、全体として、Ｒｔｈの絶対値は、２０ｎｍ以下であるのが好ましい。

配向膜１４は、パターン配向膜であってもよい。配向膜１４の一態様は、ポリビニルアルコールもしくは変性ポリビニルアルコール等の主成分ポリマーとともに、光酸発生剤を少なくとも含有し、その表面が一方向に配向処理され、且つ該光酸発生剤の分解の程度が互いに異なる第１及び第２配向制御領域を含み、前記第１及び第２配向制御領域が、面内において交互に配置されているパターン配向膜である。光酸発生剤の分解の程度は、光酸発生剤が分解することによって生じる酸性化合物の、各配向制御領域中における含有量を定量することで知ることができる。第１及び第２の位相差領域１２ａ及び１２ｂを有するパターン光学異方性層に利用される配向膜の一態様は、第１及び第２の位相差領域１２ａ及び１２ｂにそれぞれ対応する第１及び第２の配向制御領域を有するパターン配向膜であって、第１及び第２の配向制御領域における光酸発生剤の分解の程度が互いに異なる、即ち、第１及び第２の配向制御領域にそれぞれ含まれる光酸発生剤が分解することによって発生した酸性化合物の割合が互いに異なるパターン配向膜である。本態様のパターン配向膜では、第１及び第２の配向制御領域にそれぞれ含まれる光酸発生剤が分解することによって生成した酸性化合物もしくはそれを構成するイオンの濃度によって、配向制御能に差が設けられている。本態様のパターン配向膜の一例は、第１及び第２配向制御領域のいずれか一方は、光酸発生剤を未分解のまま含有し、他方は光酸発生剤の分解が進行し、それによって発生した酸性化合物を含有する配向膜である。

配向膜１４は配向制御能が互いに異なる第１及び第２の配向制御領域を有することが好ましいが、配向規制力発現のための配向処理は複数の方向に行う必要はない。即ち、互いに異なる方向にラビング処理するマスクラビング等の煩雑な配向処理は行わなくてもよい。一方向に配向処理してあるのが好ましい。例えば、第１及び第２の位相差領域１２ａ及び１２ｂを有するパターン光学異方性層に利用される配向膜の一態様は、図３に示す通り、第１の位相差領域１２ａの面内遅相軸ａ又は第２の位相差領域１２ｂの面内遅相軸ｂと一致したＣ１又はＣ２方向にラビング処理された配向膜である。

図１及び図２に示すフィルム・パターンド・リターダーを直線偏光膜と組み合わせる際は、図４に示す通り、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの面内遅相軸ａ及びｂをそれぞれ、直線偏光膜１８の透過軸Ｐと±４５°にして配置する。この構成により右眼用及び左眼用の円偏光画像を分離することができる。また、λ／２板をさらに積層することで、視野角をより拡大してもよい。

本発明の方法によって製造されるフィルム・パターンド・リターダーは、図１に示す層構成に限定されるものではない。例えば、パターンド・リターダー層のさらに外側に、反射防止層を有していると、画像表示装置のさらに外側に配置される際に、表示特性を改善できるので好ましい。反射防止層は、基材フィルムに支持された状態で、フィルム・パターンド・リターダーと貼合されてもよい。基材フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、パターンド・リターダー層の支持体用フィルムと同様のフィルムを用いることができる。

前記反射防止層については、特に制限はない。光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層、又は中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層等が好適に用いられる。これは、特に立体画像を表示する場合に、外光反射によるフリッカが発生してしまうのを効果的に防ぐことができるからである。上記反射防止層は、さらにハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を有していてもよい。上記反射防止層を構成する各層の詳細については、特開２００７−２５４６９９号公報の［０１８２］〜［０２２０］に記載があり、本発明に利用可能な反射防止層についても好ましい特性、好ましい材料等について、同様である。

図５に、本発明の方法によって製造されるフィルム・パターンド・リターダーであって、反射防止層を有するいくつかの例の断面模式図を、液晶表示パネル部との組み合わせとして示す。但し、これらの限定されるものではない。なお、図５中、表示パネル部として液晶パネルの構成を示したが、液晶パネルに限定されるものではなく、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル等、種々の表示パネルの構成を利用することができる。

本発明の方法により製造されるフィルム・パターンド・リターダーは、画像表示装置及び立体画像表示システムに利用することができる。前記画像表示装置の一例は、
第１及び第２の偏光膜；
第１及び第２の偏光膜の間に配置される、少なくとも一方に電極を有し対向配置された一対の基板と、該一対の基板間の液晶層とを含む液晶セル；及び
第１偏光膜の外側に前記フィルム・パターンド・リターダー；を少なくとも有する画像表示装置であって、
前記第１偏光膜の吸収軸方向と、パターンド・リターダー層の第１及び第２位相差領域の面内遅相軸がそれぞれ±４５°の角度をなすことを特徴とする画像表示装置である。
また、前記立体画像表示システムの一例は、前記画像表示装置と、前記フィルム・パターンド・リターダーの外側に配置される第３の偏光板とを少なくとも備え、第３の偏光板を通じて立体画像を視認させる立体画像表示システムである。

前記画像表示装置は、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）等、いずれの表示モードの態様であってもよい。

第３の偏光板：
前記立体画像表示システムでは、特に３Ｄ映像とよばれる立体画像を視認者に認識させるため、眼鏡形状の偏光板（第３の偏光板）を通して画像を認識する。
［偏光眼鏡］
前記映像表示システムは、右眼鏡と左眼鏡の遅相軸が直交する偏光眼鏡を含み、前記光学フィルムの前記第１及び第２の位相差領域のいずれか一方から出射された右眼用画像光が右眼鏡を透過し、且つ左眼鏡で遮光され；前記第１及び第２の位相差領域の他方から出射された左眼用画像光が左眼鏡を透過し、且つ右眼鏡で遮光されるように構成されていることが好ましい。
前記偏光眼鏡は、位相差機能層と直線偏光子を含むことで偏光眼鏡を形成している。なお、直線偏光子と同等の機能を有するその他の部材を用いてもよい。

偏光眼鏡を含め、前記映像表示システムの具体的な構成について説明する。まず、前記フィルム・パターンド・リターダーは、映像表示パネルの交互に繰り返されている複数の第一ライン上と複数の第二ライン上（例えば、ラインが水平方向であれば水平方向の奇数ライン上と偶数ライン上であり、ラインが垂直方向であれば垂直方向の奇数ライン上と偶数ライン上でもよい）に偏光変換機能が異なる前記第１の位相差領域と前記第２の位相差領域が設けられている。円偏光を表示に利用する場合には、上述の前記第１の位相差領域と前記第２の位相差領域の位相差は、ともにλ／４であることが好ましく、前記第１の位相差領域と前記第２の位相差領域は遅相軸が直交していることがより好ましい。

円偏光を利用する場合、前記第１の位相差領域と前記第２の位相差領域の位相差値をともにλ／４とし、映像表示パネルの奇数ラインに右眼用画像を表示し、奇数ライン位相差領域の遅相軸が４５度方向であるならば、偏光眼鏡の右眼鏡と左眼鏡にともにλ／４板を配置することが好ましく、偏光眼鏡の右眼鏡のλ／４板の遅相軸は具体的には略４５度に固定すればよい。また、上記の状況であれば、同様に、映像表示パネルの偶数ラインに左眼用画像を表示し、偶数ライン位相差領域の遅相軸が１３５度方向であるならば、偏光眼鏡の左眼鏡の遅相軸は具体的には略１３５度に固定すればよい。
更に、一度前記フィルム・パターンド・リターダーにおいて円偏光として画像光を出射し、偏光眼鏡により偏光状態を元に戻す観点からは、上記の例の場合の右眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平方向４５度に近いほど好ましい。また、左眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平１３５度（又は−４５度）に近いほど好ましい。

また、例えば前記映像表示パネルが液晶表示パネルである場合、液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向が通常、水平方向であり、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸が該フロント側偏光板の吸収軸方向に直交する方向であることが好ましく、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸は鉛直方向であることがより好ましい。
また、前記液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向と、前記フィルム・パターンド・リターダーの奇数ライン位相差領域と偶数ライン位相差領域の各遅相軸は、偏光変換の効率上、４５度をなすことが好ましい。
なお、このような偏光眼鏡と、前記フィルム・パターンド・リターダー及び液晶表示装置の好ましい配置については、例えば特開２００４−１７０６９３号公報に開示がある。

偏光眼鏡の例としては、特開２００４−１７０６９３号公報に記載のものや、市販品として、Ｚａｌｍａｎ製、ＺＭ−Ｍ２２０Ｗの付属品を挙げることができる。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

（実施例１）
＜透明支持体Ａの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
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セルロースアシレート溶液Ａの組成
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置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
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別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂを調製した。
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添加剤溶液Ｂの組成
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下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤） ４０質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０質量部
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＜＜セルロースアセテート透明支持体の作製＞＞
セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアセテート保護フィルム（透明支持体Ａ）を作製した。透明支持体Ａは紫外線吸収剤を含有しておらず、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１２．３ｎｍであった。

＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアセテート透明支持体Ａを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ²で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ²塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Ａを作製した。透明支持体ＡのＴｇは約１８０℃であった。

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アルカリ溶液の組成（質量部）
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
上記作製した支持体の、鹸化処理を施した面に、下記の組成のラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１４５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度が１２５℃（＝Ｔ_1S））で６０分間乾燥し、配向膜を形成した。次に、透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク（ストライプ数１０５０本：トータルピッチ２９９．２５ｍｍ）をラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度２．５ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第１位相差領域用配向層を形成した。その後に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。
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配向膜形成用塗布液の組成
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配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−２） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
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＜パターン化された光学異方性層Ａの作製＞
下記の光学異方性層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布量４ｍｌ／ｍ²で塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層Ａを形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は０．９μｍであった。

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光学異方性層用塗布液の組成
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ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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形成されたパターン光学異方性層Ａの第１位相差領域及び第２位相差領域をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖ）により分析したところ、第１位相差領域と第２位相差領域とでは、対応する配向層中における光酸発生剤Ｓ−２の存在比が８対９２であり、第１位相差領域ではＳ−２がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１位相差領域の空気界面に、II−１のカチオン及び光酸発生剤Ｓ−２から発生した酸ＨＢＦ₄のアニオンＢＦ₄ ^-が存在していることが確認された。第２位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、II−１のカチオン及びＢｒ^-が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II−１のカチオンは９３対７、ＢＦ₄ ^-は９０対１０であった。このことから、第２位相差領域中、配向膜界面配向剤(II−１)は配向膜界面に偏在しているが、第１位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第１位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ₄とII−１がアニオン交換することによってII−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。

パターン化された光学異方性層Ａを、第１位相差領域又は第２位相差領域のいずれか一方の遅相軸が、直交位に組合された２枚の偏光板のいずれか一方の偏光軸と平行になるように、偏光板の間に入れ、さらに、位相差５３０ｎｍの鋭敏色板を、その遅相軸が偏光板の偏光軸と４５°の角度をなすように、光学異方性層の上においた。次に、光学異方性層を＋４５°回転させた状態を観察した。この観察結果から明らかなように、＋４５°回転させた場合、第１位相差領域の遅相軸と鋭敏色板の遅相軸が平行になっているため、位相差は５３０ｎｍよりも大きくなり、その色は青色（白黒図面では濃淡の濃い部分）に変化している。一方、第２位相差領域の遅相軸は鋭敏色板の遅相軸と直交しているため、位相差は５３０ｎｍよりも小さくなり、その色は白色（白黒図面では濃淡の淡い部分）に変化する。
即ち、図６に示す通り、面内遅相軸がストライプパターンの長手方向に対してそれぞれ±４５°である第１及び第２位相差領域が交互に配置されている光学異方性層Ａが形成されたことが確認された。第１及び第２位相差領域のピッチは、図６に示す通り、理想的には、マスクの透過部及び遮光部のピッチと等しい２８５μｍである。

（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を計算した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．１９ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、６０μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０２％であり、小さかった。
また、下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることも理解できる。

＜表面フィルムＡの作製＞
＜＜反射防止膜の作製＞＞
［ハードコート層用塗布液Ａの調製］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液Ａとした。
メチルエチルケトン９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。

［中屈折率層用塗布液Ａの調製］
ＺｒＯ₂微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Ａを調製した。

［中屈折率層用塗布液Ｂの調製］
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１４質量部、メチルエチルケトン６６．５質量部、メチルイソブチルケトン９．５質量部及びシクロヘキサノン１９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Ｂを調製した。

屈折率１．３６、膜厚９０μｍとなるように、中屈折率用塗布液Ａと中屈折率用塗布液Ｂとを適量混合し、中屈折率塗布液を調製した。

［高屈折率層用塗布液の調製］
ＺｒＯ₂微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、光重合開始剤含有、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）１４．４質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．７５質量部、メチルエチルケトン６２．０質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して高屈折率層用塗布液Ｃを調製した。

［低屈折率層用塗布液の調製］
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）

内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ²）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ²）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。

［中空シリカ粒子分散液Ａの調製］
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シエル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。

［低屈折率層用塗布液Ａの調製］
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度５質量％の低屈折率層用塗布液Ａを作製した。下記各成分の質量％は、塗布液の全固形分に対する、各成分の固形分の比率である。

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・Ｐ−１：パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量％
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製） ７質量％
・ＭＦ１：国際公開第２００３／０２２９０６号パンフレットの実施例記載の下
記含フッ素不飽和化合物（重量平均分子量１６００） ５質量％
・Ｍ−１：日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ２０質量％
・分散液Ａ：前記中空シリカ粒子分散液Ａ（アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度１８．２％） ５０質量％
・Ｉｒｇ１２７：光重合開始剤イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ（株）製） ３質量％
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ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２ｎｍ／４０ｎｍ）を表面フィルム用支持体Ａとして使用し、表面フィルム用支持体Ａ上に、前記組成のハードコート層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布した。なお、ＴＤ８０ＵＬは、紫外線吸収剤を含んでいる。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布した。中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ²、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。このようにして、表面フィルムＡを作製した。

＜光学フィルムＡの作製＞
上記作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層Ａの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡを作製した。

＜偏光板Ａの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２ｎｍ／４０ｎｍ）を偏光板Ａ用保護フィルムＡとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬと、同様のアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０ｎｍ／１２５ｎｍ）を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、ＴＤ８０ＵＬとＶＡ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ａを作製した。このとき位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が垂直になるようにした。

＜光学フィルムＡ付偏光板Ａの作製＞
上記作製した光学フィルムＡの透明支持体Ａ面と偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡ付偏光板Ａを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置Ａの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＡ付偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。このような手順で、図５（ａ）の構成の立体表示装置Ａを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは、図４と同様である。

（実施例２）
＜パターン化された光学異方性層ＡＡの作製＞
ラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した後、６０℃の温風で６０秒、さらに１４５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）１２５℃）で１０分間乾燥し、配向膜を形成した以外は実施例１と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ＡＡの作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を計算した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．０８５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、１６５μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０５５％であり、小さかった。
また、下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることも理解できる。

＜表面フィルムＡＡの作製＞
実施例１と同様の方法にて光学フィルムＡＡを作製した。

＜光学フィルムＡＡの作製＞
上記作製した表面フィルムＡＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層ＡＡの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡＡを作製した。

＜偏光板ＡＡの作製＞
実施例１と同様の方法にて偏光板ＡＡを作製した

＜光学フィルムＡＡ付偏光板ＡＡの作製＞
上記作製した光学フィルムＡＡの透明支持体Ａ面と偏光板ＡＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡＡ付偏光板ＡＡを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置ＡＡの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＡＡ付偏光板ＡＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ａ）の構成の立体表示装置ＡＡを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは、図４と同様である。

（実施例３）
＜パターン化された光学異方性層ＡＡＡの作製＞
ラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した後、６０℃の温風で６０秒、さらに１４５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）１２５℃）で１分間乾燥し、配向膜を形成した以外は実施例１と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ＡＡＡの作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を計算した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．０１ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、２４０μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０８％であり、小さかった。
また、下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることも理解できる。

＜表面フィルムＡＡＡの作製＞
実施例１と同様の方法にて光学フィルムＡＡＡを作製した。

＜光学フィルムＡＡＡの作製＞
上記作製した表面フィルムＡＡＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層ＡＡＡの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡＡＡを作製した。

＜偏光板ＡＡＡの作製＞
実施例１と同様の方法にて偏光板ＡＡＡを作製した

＜光学フィルムＡＡＡ付偏光板ＡＡＡの作製＞
上記作製した光学フィルムＡＡＡの透明支持体Ａ面と偏光板ＡＡＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡＡＡ付偏光板ＡＡＡを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置ＡＡＡの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＡＡＡ付偏光板ＡＡＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ａ）の構成の立体表示装置ＡＡＡを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは、図４と同様である。

（実施例４）
＜透明支持体Ｂ＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製）を用意し、透明支持体Ｂとして使用した。ＴＤ８０ＵＬの膜厚は８０μｍであり、紫外線吸収剤を含有しており、面内レターデーションＲｅ（５５０）は２ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。また、透明支持体ＢのＴｇは約１８０℃であった。

＜パターン化された光学異方性層Ｂの作製＞
透明支持体Ａを上記透明支持体Ｂに変更し、ラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した後、６０℃の温風で６０秒、さらに１４５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）１２５℃）で２分間乾燥し、配向膜を形成した以外は実施例１と同様の操作にてパターン化された光学異方性層Ｂの作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

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配向層用組成
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配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｉ−３３） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
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形成されたパターン光学異方性層Ｂの第１位相差領域及び第２位相差領域をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖ）により分析したところ、第１位相差領域と第２位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｉ−３３の存在比が１０対９０であり、第１位相差領域ではＩ−３３がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１位相差領域の空気界面に、配向膜界面配向剤（II−１）のカチオン及び光酸発生剤Ｉ−３３から発生した酸ＨＢＦ₄のアニオンＢＦ₄ ^-が存在していることが確認された。第２位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、II−１のカチオン及びＢｒ^-が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II−１のカチオンは９３対７、ＢＦ₄ ^-は９０対１０であった。このことから、第２位相差領域中、配向膜界面配向剤(II−１)は配向膜界面に偏在しているが、第１位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第１位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ₄とII−１がアニオン交換することによってII−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を計算した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．２３５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、１５μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．００５％であり、顕著に小さかった。
また、下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることも理解できる。

＜光学フィルムＢの作製＞
パターン化された光学異方性層ＢのＴＤ８０ＵＬの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＢを作製した。

＜光学フィルムＢ付偏光板Ｂの作製＞
上記作製した光学フィルムＢのパターン化された光学異方性層Ｂ面と実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＢ付偏光板Ｂを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｂの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置Ｂの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＢ付偏光板ＢのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｂ）の構成の立体表示装置Ｂを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。

（実施例５）
＜透明支持体Ｃの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
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セルロースアセテート溶液の組成
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酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３３６質量部
メタノール（第２溶媒） ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
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別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤（Ａ）１６質量部、メチレンクロライド９２質量部及びメタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、６．０質量部であった。

得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％の透明支持体Ｃを作製した。

得られた透明支持体Ｃの厚さは８０μｍであった。また、面内レターデーション（Ｒｅ）は８ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は７８ｎｍであった。透明支持体ＣのＴｇは約１８０℃であった。

＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
作製した透明支持体Ｃを鹸化処理を施した後に、１４５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）１２５℃）で１０分間加熱処理した。次に鹸化処理を施した面に、クラレ社製ポリビニルアルコール「ＰＶＡ１０３」の４％水溶液を、１２番バーで塗布を行い、８０℃で５分間乾燥させた。その後に、４００ｒｐｍで一方向に１往復ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。

＜パターン化された光学異方性層Ｃの作製＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液として用いる。該塗布液を塗布、膜面温度８０℃で１分間乾燥して液晶相状態とし均一配向させた後、室温まで冷却した。次に、ストライプマスクのストライプが上記ラビング方向に対して４５°になるように保持して、透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク（ストライプ数１０５０本：トータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍ）を光学異方性層用塗布液を塗布した上に配置し、空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を５秒間照射して、その配向状態を固定化することにより第１位相差領域を形成した。続いて、膜面温度１４０℃まで昇温し、一旦等方相にした後、１００℃まで降温し、その温度で１分間加熱して均一配向させた。室温まで冷却した後、２０ｍＷ／ｃｍ²で２０秒間全面照射して、その配向状態を固定化することにより第２位相差領域を形成した。第１位相差領域と第２位相差領域の遅相軸は直交しており、膜厚は、０．９μｍであった。

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光学異方性層用組成物
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ディスコティック液晶Ｅ−２ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） １．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−２） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を計算した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．２０５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、４５μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０１５％であり、小さかった。
また、下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、一方向にラビング処理したＰＶＡ系ラビング配向膜上で配向させ、加熱温度を変化させて露光することによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることも理解できる。

＜偏光板Ｃの作製＞
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。実施例１と同様の方法にてアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０ｎｍ／１２５ｎｍ）及びパターン化された光学異方性層Ｃの透明支持体Ｃで、偏光膜を挟んで接着剤で貼り合せ、ＶＡ用位相差フィルムとパターン化された光学異方性層Ｃの透明支持体Ｃが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ｃを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｃの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜表面フィルムＡ付偏光板Ｃの作製＞
実施例１で作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面と上記偏光板Ｃのパターン化された光学異方性層Ｃ面を接着剤で貼り合せ、表面フィルムＡ付偏光板Ｃを作製した。

＜立体表示装置Ｃの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した表面フィルムＡ付偏光板ＣのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｃ）の構成の立体表示装置Ｃを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

（実施例５−１）
＜パターン化された光学異方性層Ｃ−１の作製＞
実施例５で作製した透明支持体Ｃを鹸化処理を施した後に、１２５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）１０５℃）で２分間加熱処理した以外は実施例５と同様の操作にてパターン化された光学異方性層Ｃ−１の作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。
配向膜側及び空気界面のチルト角は垂直であり、遅相軸方向は８０℃加熱処理が−４５°、１４０℃処理が＋４５°であり、Ｒｅは１３０ｎｍであり、Ｒｔｈは−６５ｎｍであった。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁計算した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．１７５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、７５μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０２５％であり、小さかった。

（実施例５−２）
＜パターン化された光学異方性層Ｃ−２の作製＞
実施例５で作製した透明支持体Ｃを鹸化処理を施した後に、１００℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）８０℃）で６０分間加熱処理した以外は実施例５と同様の操作にてパターン化された光学異方性層Ｃ−１の作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。
配向膜側及び空気界面のチルト角は垂直であり、遅相軸方向は８０℃加熱処理が−４５°、１４０℃処理が＋４５°であり、Ｒｅは１３０ｎｍであり、Ｒｔｈは−６５ｎｍであった。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁計算した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．１７５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、７５μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０２５％であり、小さかった。

（実施例５−３）
＜パターン化された光学異方性層Ｃ−２の作製＞
実施例５で作製した透明支持体Ｃを鹸化処理を施した後に、１５５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）１４０℃）で２分間加熱処理した以外は実施例５と同様の操作にてパターン化された光学異方性層Ｃ−１の作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。
配向膜側及び空気界面のチルト角は垂直であり、遅相軸方向は８０℃加熱処理が−４５°、１４０℃処理が＋４５°であり、Ｒｅは１３０ｎｍであり、Ｒｔｈは−６５ｎｍであった。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁計算した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．１７５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、７５μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０２５％であり、小さかった。

（実施例６）
＜パターン化された光学異方性層ＣＣの作製＞
実施例５で作製した透明支持体Ｃを鹸化処理を施した後に、１４５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）１２５℃）で２分間加熱処理した以外は実施例５と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ＣＣの作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．１７５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、７５μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０２５％であり、小さかった。
また、下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、一方向にラビング処理したＰＶＡ系ラビング配向膜上で配向させ、加熱温度を変化させて露光することによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることも理解できる。

＜偏光板ＣＣの作製＞
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。実施例１と同様の方法にてアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０ｎｍ／１２５ｎｍ）及びパターン化された光学異方性層ＣＣの透明支持体Ｃで、偏光膜を挟んで接着剤で貼り合せ、ＶＡ用位相差フィルムとパターン化された光学異方性層ＣＣの透明支持体Ｃが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板ＣＣを作製した。このときパターン化された光学異方性層ＣＣの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜表面フィルムＡ付偏光板ＣＣの作製＞
実施例１で作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面と上記偏光板ＣＣのパターン化された光学異方性層ＣＣ面を接着剤で貼り合せ、表面フィルムＡ付偏光板ＣＣを作製した。

＜立体表示装置ＣＣの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した表面フィルムＡ付偏光板ＣＣのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｃ）の構成の立体表示装置ＣＣを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

（実施例７）
＜パターン化された光学異方性層ＣＣＣの作製＞
光学異方性層塗布液を下記組成に変更した以外、実施例５と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ＣＣＣを作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．８μｍであった。
────────────────────────────────────
光学異方性層用組成
────────────────────────────────────
ディスコティック液晶Ｅ−３ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） １．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．３質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９．９質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
────────────────────────────────────

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．２０５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、４５μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０１５％であり、小さかった。
また、下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、一方向にラビング処理したＰＶＡ系ラビング配向膜上で配向させ、加熱温度を変化させて露光することによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることも理解できる。

＜偏光板ＣＣＣの作製＞
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。実施例１と同様の方法にてアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０ｎｍ／１２５ｎｍ）及びパターン化された光学異方性層ＣＣＣの透明支持体Ｃで、偏光膜を挟んで接着剤で貼り合せ、ＶＡ用位相差フィルムとパターン化された光学異方性層ＣＣの透明支持体Ｃが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板ＣＣＣを作製した。このときパターン化された光学異方性層ＣＣＣの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜表面フィルムＡ付偏光板ＣＣＣの作製＞
実施例１で作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面と上記偏光板ＣＣＣのパターン化された光学異方性層ＣＣＣ面を接着剤で貼り合せ、表面フィルムＡ付偏光板ＣＣＣを作製した。

＜立体表示装置ＣＣＣの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した表面フィルムＡ付偏光板ＣＣＣのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｃ）の構成の立体表示装置ＣＣＣを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

（実施例８）
＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
（１）平行配向膜（第一の配向膜）の作製
実施例４で作製した透明支持体Ｂを鹸化処理を施した後に１４５℃（＝Ｔ₁）の温風（膜面温度（＝Ｔ_1S）１２５℃）で１０分間加熱処理した。この鹸化処理を施した面に、クラレ社製ポリビニルアルコール「ＰＶＡ１０３」の４％水／メタノール溶液（ＰＶＡ１０３（４．０ｇ）を水７２ｇ及びメタノール２４ｇに溶解させた、粘度４．３５ｃｐ、表面張力４４．８ｄｙｎｅ）を、１２番バーで塗布を行い、８０℃で５分間乾燥させた。

（２）パターニング直交配向膜（第二の配向膜）の作製
和光純薬製ポリアクリル酸（Ｍｗ２５０００）２．０ｇをトリエチルアミン２．５２ｇ／水１．１２ｇ／プロパノール５．０９ｇ／３−メトキシ−１−ブタノール５．０９ｇに溶解させ、塗布液を調製した。

次に、フレキソ版として、図７に示す形状の凹凸を有する合成ゴム状フレキソ版を作製した。

図８に記載のフレキソ印刷装置として、フレキシプルーフ１００（ＲＫ Ｐｒｉｎｔ Ｃｏａｔ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ． ＵＫ）を使用した。アニロックスローラはセル４００線／ｃｍ（容積３ｃｍ³／ｍ²）を使用した。上記フレキソ版をフレキシプルーフ１００の圧胴に感圧テープをつけて貼り合わせた。印圧ローラに前記平行配向膜を貼り付けた後、前記パターニング直交配向膜用塗布液をドクターブレードに入れ、印刷速度３０ｍ／ｍｉｎで直交配向膜を平行配向膜の上にパターン印刷した。

（３）ラビング配向層の作製
８０℃で５分間乾燥させた後に、パターンのストライプラインに対して４５°方向に、１０００ｒｐｍで１往復ラビング処理を行い、ラビング配向層を作製した。

＜パターン化された光学異方性層Ｄの作製＞
実施例５で作製した光学異方性用塗布液を塗布、膜面温度１１０℃で１分間乾燥して液晶相状態とした後、８０℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン化された光学異方性層Ｄの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を表１に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．２２ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、３０μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０１％であり、小さかった。
また、下記表に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、一方向にラビング処理したＰＶＡ系ラビング配向膜（第一の配向膜）／ポリアクリル酸系ラビング配向膜（第二の配向膜）上で配向させて露光することによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。

＜光学フィルムＤの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｄの透明支持体Ｂの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＤを作製した。

＜光学フィルムＤ付偏光板Ｄの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２ｎｍ／４０ｎｍ）を偏光板Ｄ用保護フィルムＤとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜をえた。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬを、鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の片面に貼り合せ、さらにもう片面には、光学フィルムＤのパターン化された光学異方性層Ｄ面を接着剤を介して貼り合せた。このようにして、ＴＤ８０ＵＬと光学フィルムＤが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ｄを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置Ｄの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＤ付偏光板ＤのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｄ）の構成の立体表示装置Ｄを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

（実施例９）
＜光配向膜付透明支持体Ａの作製＞
実施例１で作製した透明支持体Ａの鹸化処理を施した面に、下記構造の光配向材料Ｅ−１ １％水溶液を塗布し、膜面温度（＝Ｔ_1S）１２５℃で６０分間乾燥した。得られた塗布膜に、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を図９（ａ）に示すように、方向１にセットして、さらにマスクＡ（透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク（ストライプ数１０５０本：トータルピッチ（Ｐ₁）２９９．２５ｍｍ））を通して、露光を行った。その後、図９（ｂ）に示すように、ワイヤーグリッド偏光子を方向２にセットして、さらにマスクＢ（透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。露光マスク面と光配向膜の間の距離を２００μｍに設定した。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ²、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ²とした。

＜パターン化された光学異方性層Ｅの作製＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。光配向膜付透明支持体Ａ上に該塗布液を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、７５℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン化された光学異方性層Ｅの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、１．３μｍであった。

────────────────────────────────────────
光学異方性層用組成
────────────────────────────────────────
棒状液晶（ＬＣ２４２、ＢＡＳＦ（株）製） １００質量部
水平配向剤Ａ ０．３質量部
光重合開始剤 ３．３質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．１質量部
メチルエチルケトン ３００質量部
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（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面の棒状液晶のチルト角、空気界面の棒状液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、水平とは、チルト角０°〜２０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９９．１９ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、ほとんど変化はなかったが、６０μｍだけ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．０２％であり、小さかった。
また、下記表に示す結果から、棒状液晶を光配向膜上で配向させて露光することによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第１の位相差領域と第２の位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。

＜光学フィルムＥの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｅの透明支持体Ａの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＥを作製した。

＜光学フィルムＥ付偏光板Ｅの作製＞
上記作製した光学フィルムＥのパターン化された光学異方性層Ｅ面と実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＥ付偏光板Ｅを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｅの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置Ｅの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１の視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＥ付偏光板ＥのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｂ）の構成の立体表示装置Ｅを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

（比較例１）
＜パターン化された光学異方性層ａの作製＞
ラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した後、７０℃の温風（膜面温度６０℃）で６０秒乾燥し、配向膜を形成した以外は実施例１と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ａの作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９８．９５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、３００μｍ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．１％であった。

＜表面フィルムａの作製＞
実施例１と同様の方法にて光学フィルムａを作製した。

＜光学フィルムａの作製＞
上記作製した表面フィルムａのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層ａの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムａを作製した。

＜偏光板ａの作製＞
実施例１と同様の方法にて偏光板ａを作製した

＜光学フィルムａ付偏光板ａの作製＞
上記作製した光学フィルａの透明支持体Ａ面と偏光板ａのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムａ付偏光板ａを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置ａの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムａ付偏光板ａのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ａ）の構成の立体表示装置ａを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは、図４と同様である。

（比較例２）
＜パターン化された光学異方性層ｂの作製＞
ラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した後、７０℃の温風（膜面温度６０℃）で６０秒乾燥し、配向膜を形成した以外は実施例４と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ｂの作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９８．９５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、３００μｍ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．１％であった。

＜光学フィルムｂの作製＞
パターン化された光学異方性層ｂのＴＤ８０ＵＬの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムｂを作製した。

＜光学フィルムｂ付偏光板ｂの作製＞
上記作製した光学フィルムｂのパターン化された光学異方性層ｂ面と実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムｂ付偏光板ｂを作製した。このときパターン化された光学異方性層ｂの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置ｂの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムｂ付偏光板ｂのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板AのVA用位相差フィルムとLCセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｂ）の構成の立体表示装置ｂを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

（比較例３）
＜パターン化された光学異方性層ｃの作製＞
実施例５で作製した透明支持体Ｃを鹸化処理を施した後に、７０℃の温風（膜面温度６０℃）で１０分間乾燥した以外は実施例５と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ｃの作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９８．９５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、３００μｍ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．１％であった。

＜偏光板ｃの作製＞
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。実施例１と同様の方法にてアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０ｎｍ／１２５ｎｍ）及びパターン化された光学異方性層ｃの透明支持体Ｃで、偏光膜を挟んで接着剤で貼り合せ、ＶＡ用位相差フィルムとパターン化された光学異方性層ｃの透明支持体Ｃが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板ｃを作製した。このときパターン化された光学異方性層ｃの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜表面フィルムＡ付偏光板ｃの作製＞
実施例１で作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面と上記偏光板ｃのパターン化された光学異方性層ｃ面を接着剤で貼り合せ、表面フィルムＡ付偏光板ｃを作製した。

＜立体表示装置ｃの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した表面フィルムＡ付偏光板ｃのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｃ）の構成の立体表示装置ｃを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

（比較例４）
＜パターン化された光学異方性層ｄの作製＞
（１）平行配向膜（第一の配向膜）の作製
実施例４で作製した透明支持体Ｂを鹸化処理を施した後に７０℃の温風（膜面温度６０℃）で１０分間加熱処理した以外は実施例８と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ｄの作製を行った。なお、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９８．９５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、３００μｍ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．１％であった。

＜光学フィルムｄの作製＞
パターン化された光学異方性層ｄの透明支持体Ｂの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムｄを作製した。

＜光学フィルムｄ付偏光板ｄの作製＞
実施例８と同様の方法にて光学フィルムｄ付偏光板ｄを作製した。

＜立体表示装置ｄの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムｄ付偏光板ｄのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｄ）の構成の立体表示装置ｄを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

（比較例５）
＜パターン化された光学異方性層ｅの作製＞
実施例１で作製した透明支持体Ａの鹸化処理を施した面に、実施例９の光配向材料Ｅ−１ １％水溶液を塗布し、膜面温度６０℃で６０分間乾燥した以外は実施例９と同様の操作にてパターン化された光学異方性層ｅの作製を行った。なお、光学異方性層の膜厚は、１．３μｍであった。

（光学異方性層の評価）
実施例１と同様に、作製した光学異方性層のストライプ１０５０本分の距離（トータルピッチＰ₂）を、ミツトヨ社製Quick Vision Proを用いて測定した。
次いで、作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を下記表に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。

光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂、及びストライプマスクのトータルピッチＰ₁をそれぞれ測定し、その差Ｐ₂−Ｐ₁を、下記表に示した。光学異方性層のストライプ１０５０本分のトータルピッチＰ₂は２９８．９５ｍｍであり、一方、ストライプマスクのトータルピッチＰ₁は２９９．２５ｍｍであり、３００μｍ短くなっていた。その変化の割合ΔＰ／Ｐ₁は０．１％であった。

＜光学フィルムｅの作製＞
パターン化された光学異方性層ｅの透明支持体Ａの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムｅを作製した。

＜光学フィルムｅ付偏光板ｅの作製＞
上記作製した光学フィルムｅのパターン化された光学異方性層ｅ面と実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムｅ付偏光板ｅを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｅの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。

＜立体表示装置ｅの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎＳ２２３１の視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムｅ付偏光板ｅのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合わせた。図５（ｂ）の構成の立体表示装置ｅを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図４と同様であった。

＜立体表示装置の評価＞
視差を有する右眼／左眼用画像が交互に並んだ立体画像を表示した各立体表示装置を、極角０度から３Ｄメガネを通して観察し、クロストークの度合いを７段階でそれぞれ評価した。続いて、方位角０度および１８０度の極角４５度から観察し、同様に評価した。続いて、方位角９０度および２７０度の極角５度から観察し、同様に評価した。評価は７（クロストーク無し）〜１（クロストーク大）の７段階で実施した。結果を下記表２に示す。

１２ 光学異方性層（パターンド・リターダー層）
１４ 配向膜
１６ フィルム
１８ 直線偏光膜

Claims (8)

1. フィルムと、その上にパターンド・リターダー層とを少なくとも有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法であって、下記１）〜３）
   １）フィルムを、Ｔｇ−１００＜Ｔ₁＜Ｔｇ（但しＴｇはフィルムのガラス転移点である）を満足するＴ₁で加熱する工程
   ２）上記フィルムの表面上に、液晶を主成分として含有する組成物を塗布して塗膜を形成する工程、及び
   ３）前記塗膜を加熱して液晶を配向させる工程、
   をこの順で含むことを特徴とするフィルム・パターンド・リターダーの製造方法。
2. １）工程が、フィルムの膜面温度Ｔ_1sを、Ｔｇ−１２０℃≦Ｔ_1S℃≦Ｔｇ−２０℃にするする工程である請求項１に記載の方法。
3. １）工程が、セルロースアシレートフィルムを加熱し、該フィルムの膜面温度を８０℃〜１５０℃にする工程である請求項１又は２に記載の方法。
4. １）工程の後に、マスク露光する工程を含む請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
5. マスク露光に用いられるマスクのトータルピッチＰ₁と、パターンド・リターダーのトータルピッチＰ₂との差ΔＰ（＝Ｐ₁−Ｐ₂）の割合ΔＰ／Ｐ₁が、０．１％未満である請求項４に記載の方法。
6. マスク露光する工程が、互いに異なる方向に液晶の長軸を配向させる配向能をそれぞれ有する第１及び第２配向制御領域が交互に配置されたパターン配向膜を形成する工程である請求項４又は５に記載の方法。
7. ３）工程の後に、液晶の配向を固定する工程をさらに含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
8. 互いに面内遅相軸方向が異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターンド・リターダー層を有するフィルム・パターンド・リターダーの製造方法である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。

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