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JP2013043912A - High damping composition and manufacturing method for the same - Google Patents

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JP2013043912A
JP2013043912A JP2011181441A JP2011181441A JP2013043912A JP 2013043912 A JP2013043912 A JP 2013043912A JP 2011181441 A JP2011181441 A JP 2011181441A JP 2011181441 A JP2011181441 A JP 2011181441A JP 2013043912 A JP2013043912 A JP 2013043912A
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JP
Japan
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mass
less
moisture content
process silica
composition
Prior art date
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Pending
Application number
JP2011181441A
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Japanese (ja)
Inventor
Tatehiko Hyodo
建彦 兵頭
Yuichiro Matsutani
雄一朗 松谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Rubber Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Rubber Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Sumitomo Rubber Industries Ltd filed Critical Sumitomo Rubber Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high damping composition that is excellent in productivity, processability when a high damping member is formed, and the like and besides forms a high damping member exhibiting more excellent damping performance than the present members.SOLUTION: The high damping composition comprises at least a base polymer and, incorporated therewith, wet process silica having its moisture percentage adjusted to 6 mass% or lower. The moisture percentage is preferably 3 mass% or lower. Preferably, the wet process silica has its moisture percentage adjusted by low-humidity storage treatment or high-temperature storage treatment.

Description

本発明は、振動エネルギーの伝達を緩和したり吸収したりする高減衰部材のもとになる高減衰組成物と、その製造方法に関するものである。   The present invention relates to a highly damped composition that is a source of a highly damped member that relaxes or absorbs transmission of vibration energy, and a method for manufacturing the same.

例えばビルや橋梁等の建築物、産業機械、航空機、自動車、鉄道車両、コンピュータやその周辺機器類、家庭用電気機器類、さらには自動車用タイヤ等の幅広い分野において、振動エネルギーの伝達を緩和したり吸収したりする、すなわち免震、制震、制振、防振等をするために、ゴム等をベースポリマとして含む高減衰部材が用いられる。
前記高減衰部材は、振動が加えられた際のヒステリシスロスを大きくして減衰性能を高める、すなわち前記振動のエネルギーを効率よく速やかに減衰できるようにするために、前記ベースポリマを含み、損失正接tanδのピークが高減衰部材の使用温度域に入るように調整した高減衰組成物によって形成するのが一般的である。
For example, in a wide range of fields such as buildings and bridges, industrial machinery, aircraft, automobiles, railway vehicles, computers and peripheral equipment, household electrical equipment, and automobile tires, vibration energy transmission is alleviated. In order to absorb or absorb, that is, to perform seismic isolation, vibration control, vibration control, vibration isolation, etc., a high damping member containing rubber or the like as a base polymer is used.
The high damping member includes the base polymer in order to increase the hysteresis loss when vibration is applied to improve damping performance, i.e., to efficiently and quickly attenuate the energy of the vibration. In general, it is formed by a high attenuation composition adjusted so that the peak of tan δ falls within the operating temperature range of the high attenuation member.

前記高減衰組成物を所定の立体形状に形成するとともに、ベースポリマがゴムである場合は加硫させることで高減衰部材が形成される。
前記高減衰組成物としては、例えばベースポリマに減衰性付与剤としてのシリカとシラン化合物(シリル化剤)とを加え、混練してシリカとシラン化合物とを反応させて調製したもの等が知られている(特許文献1〜3等参照)。
The high attenuation composition is formed into a predetermined three-dimensional shape, and when the base polymer is rubber, a high attenuation member is formed by vulcanization.
Examples of the high attenuation composition include those prepared by adding silica and a silane compound (silylating agent) as an attenuation imparting agent to a base polymer, kneading and reacting the silica and the silane compound. (See Patent Documents 1-3).

またシリカとしては、高温の燃焼工程を必要とする乾式法シリカに比べて、かかる燃焼工程を必要としないためより少ないエネルギーでコスト安価に製造できる湿式法シリカが広く好適に用いられている。
しかし前記従来の高減衰組成物では、高減衰部材の減衰性能を十分に高めることはできない。
Further, as silica, wet method silica that can be manufactured at low cost with less energy is widely used because it does not require such a combustion step as compared with dry method silica that requires a high temperature combustion step.
However, the conventional high damping composition cannot sufficiently enhance the damping performance of the high damping member.

高減衰部材の減衰性能を現状よりもさらに高めるためには、充てん剤や粘着性付与剤等の配合割合をさらに増加させること等が考えられる。ところが、多量の充てん剤や粘着性付与剤を配合した高減衰組成物は加工性が低下して、所望の立体形状を有する高減衰部材を製造するために前記高減衰組成物を混練したり、前記立体形状に成形加工したりするのが容易でないという問題がある。   In order to further improve the damping performance of the high damping member, it is conceivable to further increase the blending ratio of a filler, a tackifier, and the like. However, the high attenuation composition containing a large amount of filler and tackifier is deteriorated in workability, and the high attenuation composition is kneaded to produce a high attenuation member having a desired three-dimensional shape, There is a problem that it is not easy to form and process the three-dimensional shape.

特に工場レベルで高減衰部材を量産する場合、前記加工性の低さは高減衰部材の生産性を大きく低下させ、生産に要するエネルギーを増大させ、さらには生産コストを高騰させる原因となるため望ましくない。
特許文献4では、極性側鎖を有しないベースポリマに、充てん剤としてのシリカと、2以上の極性基を有する減衰性付与剤等とを配合することが検討されている。かかる構成によれば、シリカを併用することで良好な減衰性能を維持しながら、ベースポリマとして極性基を有しないものを用いることで、室温付近での特性の温度依存性を小さくすることができる。
Particularly when mass-producing high-attenuation members at the factory level, the low workability is desirable because it greatly reduces the productivity of high-attenuation members, increases the energy required for production, and further increases production costs. Absent.
In Patent Document 4, it is studied to mix silica as a filler and an attenuating agent having two or more polar groups into a base polymer having no polar side chain. According to such a configuration, it is possible to reduce the temperature dependence of characteristics near room temperature by using a base polymer that does not have a polar group while maintaining good attenuation performance by using silica together. .

しかし、前記2以上の極性基を有する減衰性付与剤としては特殊でかつ高価な材料を用いる必要がある上、現状よりも減衰性能をさらに向上するために前記減衰性付与剤の配合割合を増加させた場合には、高減衰組成物の粘着性が増すため前記加工性が低下するという問題がある。   However, it is necessary to use a special and expensive material as the attenuating agent having two or more polar groups, and the blending ratio of the attenuating agent is increased in order to further improve the attenuating performance as compared with the current situation. In such a case, there is a problem that the workability is lowered because the adhesiveness of the highly attenuating composition is increased.

特開平7−41603号公報JP 7-41603 A 特開2009−30016号公報JP 2009-30016 A 特開平6−32945号公報JP-A-6-32945 特開2009−138053号公報JP 2009-138053 A

本発明の目的は、生産性や高減衰部材を形成する際の加工性等に優れる上、現状よりも減衰性能に優れた高減衰部材を形成しうる高減衰組成物と、その製造方法とを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a high attenuation composition capable of forming a high attenuation member that is superior in productivity and workability when forming a high attenuation member, and more excellent in attenuation performance than the current state, and a method for producing the same. It is to provide.

本発明は、少なくともベースポリマを含む高減衰組成物であって、水分率が6質量%以下に調整された湿式法シリカが配合されていることを特徴とするものである。
本発明では、少なくともベースポリマを含む高減衰組成物に、水分率が6質量%以下に調整された湿式法シリカを選択して配合することにより、前記水分率が調整されていない湿式法シリカを配合する場合に比べて、同等の配合量でより高い減衰性能を得ることができるとともに、同等の減衰性能を得るための湿式法シリカの配合量を少なくすることができる。
The present invention is a highly attenuating composition containing at least a base polymer, and is characterized in that a wet process silica having a moisture content adjusted to 6% by mass or less is blended.
In the present invention, the wet process silica whose water content is not adjusted is selected by blending the wet process silica whose water content is adjusted to 6% by mass or less into the high attenuation composition containing at least the base polymer. Compared with the case where it mix | blends, while being able to obtain a higher attenuation | damping performance with an equivalent compounding quantity, the compounding quantity of the wet process silica for obtaining an equivalent attenuation | damping performance can be decreased.

したがって本発明によれば、生産性や高減衰部材を形成する際の加工性等に優れる上、現状よりも減衰性能に優れた高減衰部材を形成することができる。
なお前記効果をより一層向上することを考慮すると、湿式法シリカは、水分率が、前記範囲内でも3質量%以下に調整されているのが好ましい。
また湿式法シリカとしては、水分率の調整に要する工数や手間を省くとともに、前記水分率が常に一定した状態で安定的に供給することを考慮すると、温度15℃以下、相対湿度15%以下の環境下で3日間以上保管する低湿度保管処理、または温度85℃以上の環境下で3日間以上保管する高温保管処理によって水分率が前記範囲内に調整されたものを用いるのが好ましい。
Therefore, according to the present invention, it is possible to form a high-damping member that is excellent in productivity and workability when forming a high-damping member, and more excellent in damping performance than the current state.
In consideration of further improving the effect, it is preferable that the wet silica is adjusted to 3% by mass or less even in the above range.
In addition, the wet-process silica saves man-hours and labor required for adjusting the moisture content, and considering that the moisture content is constantly supplied in a constant state, the temperature is 15 ° C. or less and the relative humidity is 15% or less. It is preferable to use a product whose moisture content is adjusted within the above range by a low humidity storage treatment for 3 days or more in an environment or a high temperature storage treatment for 3 days or more in an environment at a temperature of 85 ° C. or more.

前記本発明の高減衰組成物を形成材料として用いて、高減衰部材としての建築物の制震用ダンパを形成した場合には、当該制震用ダンパが減衰性能に優れるため、1つの建築物中に組み込む前記制震用ダンパの数量を減らすことができる。
本発明は、少なくともベースポリマに湿式法シリカを配合する工程を含む高減衰組成物の製造方法であって、前記配合前の湿式法シリカを、温度15℃以下、相対湿度15%以下の環境下で3日間以上保管する低湿度保管処理、または温度85℃以上の環境下で3日間以上保管する高温保管処理することで、その水分率をあらかじめ6質量%以下に調整しておく工程を含むことを特徴とするものである。
When a high-damping composition according to the present invention is used as a forming material to form a damping damper for a building as a high-damping member, the damping damper is excellent in damping performance. It is possible to reduce the number of the vibration dampers incorporated therein.
The present invention is a method for producing a highly attenuated composition comprising a step of blending at least a base polymer with a wet process silica, wherein the wet process silica prior to the blending is in an environment at a temperature of 15 ° C. or less and a relative humidity of 15% or less. Including a process of adjusting the moisture content to 6% by mass or less in advance by performing low humidity storage processing for 3 days or more, or high temperature storage processing for 3 days or more in an environment at a temperature of 85 ° C. or higher. It is characterized by.

本発明では、前記低湿度保管処理、または高温保管処理の工程を経て湿式法シリカの水分率を6質量%以下に調整した状態で、ベースポリマその他と配合することで、前記本発明の高減衰組成物を、より少ない工数で安定して製造することができる。
なお湿式法シリカの水分率を、本発明では、加熱乾燥式水分計を用いて測定した、質量基準の水分率(質量%)でもって表すこととする。
In the present invention, the high attenuation of the present invention is obtained by blending with the base polymer and the like in a state where the moisture content of the wet process silica is adjusted to 6% by mass or less through the low humidity storage process or the high temperature storage process. The composition can be stably produced with fewer man-hours.
In the present invention, the moisture content of the wet process silica is expressed by a moisture content (mass%) based on mass measured using a heat drying moisture meter.

本発明によれば、生産性や高減衰部材を形成する際の加工性等に優れる上、現状よりも減衰性能に優れた高減衰部材を形成しうる高減衰組成物と、その製造方法とを提供することができる。   According to the present invention, a high attenuation composition capable of forming a high attenuation member that is superior in productivity and workability when forming a high attenuation member, and more excellent in attenuation performance than the current state, and a method for producing the same. Can be provided.

本発明の実施例、比較例の高減衰組成物からなる高減衰部材の減衰性能を評価するために作製する、前記高減衰部材のモデルとしての試験体を分解して示す分解斜視図である。It is a disassembled perspective view which decomposes | disassembles and shows the test body as a model of the said high attenuation member produced in order to evaluate the attenuation performance of the high attenuation member which consists of the high attenuation composition of the Example of this invention, and a comparative example. 同図(a)(b)は、前記試験体を変位させて変位量と荷重との関係を求めるための試験機の概略を説明する図である。FIGS. 4A and 4B are diagrams for explaining the outline of a testing machine for displacing the test body and obtaining the relationship between the displacement and the load. 前記試験機を用いて試験体を変位させて求められる、変位量と荷重との関係を示すヒステリシスループの一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the hysteresis loop which shows the relationship between the displacement amount and a load calculated | required by displacing a test body using the said testing machine.

〈高減衰組成物〉
本発明は、少なくともベースポリマを含む高減衰組成物であって、水分率が6質量%以下に調整された湿式法シリカが配合されていることを特徴とするものである。
(ベースポリマ)
ベースポリマとしては、湿式法シリカを配合することで高い減衰性能を発揮しうる種々のベースポリマがいずれも使用可能であり、中でもゴムが好ましい。
<High damping composition>
The present invention is a highly attenuating composition containing at least a base polymer, and is characterized in that a wet process silica having a moisture content adjusted to 6% by mass or less is blended.
(Base polymer)
As the base polymer, any of various base polymers that can exhibit high damping performance by blending wet process silica can be used, and rubber is particularly preferable.

前記ゴムとしては、例えば天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、ノルボルネンゴム、エチレンプロピレンゴム、エチレンプロピレンジエンゴム、ブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム、クロロプレンゴム、アクリロニトリルブタジエンゴム、エピクロロヒドリンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、多硫化ゴム等の1種または2種以上が挙げられる。   Examples of the rubber include natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, styrene butadiene rubber, norbornene rubber, ethylene propylene rubber, ethylene propylene diene rubber, butyl rubber, halogenated butyl rubber, chloroprene rubber, acrylonitrile butadiene rubber, epichlorohydrin rubber, chloro One type or two or more types such as sulfonated polyethylene and polysulfide rubber may be mentioned.

特に、減衰性能の温度依存性を小さくして広い温度範囲で安定した減衰性能を示す高減衰部材を提供することを考慮すると、前記の中でも天然ゴム、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、およびスチレンブタジエンゴムからなる群より選ばれた少なくとも1種のジエン系ゴムが好ましい。
ゴムは2種以上を併用してもよいが、高減衰組成物の組成を簡略化して前記高減衰組成物、ならびに高減衰部材の生産性を向上し、さらには生産コストを低減することを考慮すると、いずれか1種を単独で用いるのが好ましい。
In particular, considering that the temperature dependence of the damping performance is reduced to provide a high damping member that exhibits stable damping performance over a wide temperature range, among these, natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, and styrene butadiene rubber are used. At least one diene rubber selected from the group consisting of
Two or more types of rubber may be used in combination, but it is considered to improve the productivity of the high damping composition and the high damping member by simplifying the composition of the high damping composition and further reduce the production cost. Then, it is preferable to use any one of them alone.

(湿式法シリカ)
高減衰組成物に配合する湿式法シリカの水分率が6質量%以下に限定されるのは、水分率が前記範囲を超える湿式法シリカを配合する場合に比べて、同等の配合量でより高い減衰性能を得ることができるとともに、同等の減衰性能を得るための湿式法シリカの配合量を少なくすることができるためである。
(Wet process silica)
The reason why the moisture content of the wet process silica to be blended in the high attenuation composition is limited to 6% by mass or less is that the moisture content is higher at the same blending amount than when the wet process silica exceeding the above range is blended. This is because the damping performance can be obtained and the blending amount of the wet process silica for obtaining the equivalent damping performance can be reduced.

前記湿式法シリカの水分率は、前記効果をより一層向上することを考慮すると、前記範囲内でも3質量%以下に調整されているのが好ましい。
なお水分率の下限については特に限定されず、前記効果を考慮すると、水分率は小さいほど好ましい。
ただし、湿式法シリカの水分率は0.1質量%以上であるのが好ましい。湿式法シリカの水分率を前記範囲未満に調整してもそれ以上の効果が得られないだけでなく、当該水分率を、例えば次に説明する低湿度保管処理や高温保管処理等によって調整する際に、これらの処理に長時間を要して、高減衰部材の生産性が低下し、生産コストが上昇するおそれがある。
In consideration of further improving the effect, the moisture content of the wet process silica is preferably adjusted to 3% by mass or less even within the above range.
In addition, it does not specifically limit about the minimum of a moisture content, When the said effect is considered, a moisture content is so preferable that it is small.
However, the moisture content of the wet process silica is preferably 0.1% by mass or more. When adjusting the moisture content of the wet process silica to less than the above range, not only the effect is not obtained, but also when adjusting the moisture content by, for example, a low humidity storage process or a high temperature storage process described below. In addition, these treatments require a long time, and the productivity of the high damping member may be reduced, resulting in an increase in production cost.

湿式法シリカの具体例としては、例えば東ソー・シリカ(株)製のNipsil(登録商標)KQ、VN3、AQ、ER等の1種または2種以上が挙げられる。
いずれの湿式法シリカも、周知のように高い吸湿性を有するため、発明者の検討によると従来は、製造後の吸湿等によって水分率が6%を超える状態で市場に提供され、そのままの状態で高減衰組成物に配合されるのが一般的であった。
Specific examples of the wet process silica include one or more of Nipsil (registered trademark) KQ, VN3, AQ, ER and the like manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd.
Since all wet-process silicas have high hygroscopicity as is well known, according to the inventors' investigation, conventionally, the moisture content after production has been provided to the market in a state where the moisture content exceeds 6%, and remains as it is. In general, it was blended into a highly attenuated composition.

例えば結晶水による含水率が7質量%前後である湿式法シリカは、製造後の吸湿等によってトータルの水分率が8質量%を超えているのが普通であり、従来はそのままの状態で高減衰組成物の製造原料として使用していた。
それでもベースポリマとの混練時の加熱や、あるいはベースポリマとしてのゴムの架橋時の加熱によって水分が除去されるため問題ないと考えられてきたが、今般、発明者が検討したところ、ベースポリマその他と配合して高減衰組成物の調製に使用する原料としての湿式法シリカの水分率を、あらかじめ6質量%以下に調整することにより、前述したように、同等の配合量でより高い減衰性能を得ることができるとともに、同等の減衰性能を得るための湿式法シリカの配合量を少なくできることが明らかとなったのである。
For example, wet-process silica with a water content of about 7% by mass due to crystallization water usually has a total moisture content exceeding 8% by moisture absorption after production. It was used as a raw material for producing the composition.
Still, it has been thought that there is no problem because the water is removed by heating at the time of kneading with the base polymer, or by heating at the time of crosslinking the rubber as the base polymer. By adjusting the moisture content of wet-process silica as a raw material used for the preparation of a highly attenuated composition in advance to 6% by mass or less in advance, as described above, higher attenuation performance can be achieved with an equivalent compound amount. It has become clear that the amount of the wet process silica for obtaining the same damping performance can be reduced.

湿式法シリカの水分率を6質量%以下に調整するためには、例えば前記水分率が管理されていない通常の湿式法シリカを、
(i) 温度15℃以下、相対湿度15%以下の環境下で3日間以上保管する低湿度保管処理、または
(ii) 温度85℃以上の環境下で3日間以上保管する高温保管処理
するのが好ましい。これらの処理をすることで、水分率の調整に要する工数や手間を省きながら、前記水分率が常に一定範囲に調整された湿式法シリカを安定的に供給することができる。
In order to adjust the moisture content of the wet process silica to 6% by mass or less, for example, a normal wet process silica in which the moisture content is not controlled,
(i) Low-humidity storage treatment for storage for 3 days or more in an environment where the temperature is 15 ° C or lower and the relative humidity is 15% or lower, or
(ii) It is preferable to carry out a high temperature storage treatment for storing for 3 days or more in an environment at a temperature of 85 ° C. or higher. By performing these treatments, it is possible to stably supply wet-process silica in which the moisture content is always adjusted within a certain range while omitting the man-hours and labor required for adjusting the moisture content.

前記(i)の低湿度保管処理の温度が15℃以下、相対湿度が15%以下であるのが好ましいのは、いずれか一方でも前記範囲を超える場合には、湿式法シリカの水分率を6質量%以下に調整するために長時間を要し、高減衰部材の生産性が低下し、生産コストが上昇するおそれがあるためである。
なお温度は、前記範囲内でも5℃以上であるのが好ましい。温度が前記範囲未満では、温度が低すぎて却って湿式法シリカの水分率を効率的に減少できなくなり、処理に長時間を要して、高減衰部材の生産性が低下し、生産コストが上昇するおそれがある。
It is preferable that the temperature of the low-humidity storage treatment (i) is 15 ° C. or less and the relative humidity is 15% or less. This is because it takes a long time to adjust the mass% or less, the productivity of the high damping member is lowered, and the production cost may be increased.
In addition, it is preferable that temperature is 5 degreeC or more also in the said range. If the temperature is lower than the above range, the temperature is too low to reduce the moisture content of the wet process silica efficiently, and it takes a long time for the treatment, resulting in a decrease in productivity of the high attenuation member and an increase in production cost. There is a risk.

また相対湿度は、前記範囲内でも5%以上であるのが好ましい。相対湿度を前記範囲未満としてもそれ以上、湿式法シリカの水分率を効率的に減少する効果が期待できない上、前記低湿度の状態を維持するためのエネルギー量が増加するため、高減衰部材の生産性が低下し、生産コストが上昇するおそれがある。
さらに(i)の低湿度保管処理の時間は、前記範囲内でも5日間以下であるのが好ましい。処理時間が前記範囲を超えてもそれ以上、湿式法シリカの水分率を効率的に減少する効果が期待できない上、処理に長時間を要して、高減衰部材の生産性が低下し、生産コストが上昇するおそれがある。
Moreover, it is preferable that relative humidity is 5% or more also in the said range. Even if the relative humidity is less than the above range, the effect of efficiently reducing the moisture content of the wet process silica can not be expected, and the amount of energy for maintaining the low humidity state increases. Productivity may decrease and production costs may increase.
Furthermore, the time of the low humidity storage treatment (i) is preferably 5 days or less even within the above range. Even if the treatment time exceeds the above range, the effect of efficiently reducing the moisture content of the wet process silica can not be expected, and it takes a long time for the treatment, resulting in a decrease in the productivity of the high attenuation member. Cost may increase.

また(ii)の高温保管処理の温度が85℃以上であるのが好ましいのは、温度が前記範囲未満では、湿式法シリカの水分率を6質量%以下に調整するために長時間を要し、高減衰部材の生産性が低下し、生産コストが上昇するおそれがあるためである。
なお温度は、前記範囲内でも95℃以下であるのが好ましい。温度が前記範囲を超える場合は、前記温度を維持するためのエネルギー量が増加するため、高減衰部材の生産性が低下し、生産コストが上昇するおそれがある。
The temperature of the high-temperature storage treatment (ii) is preferably 85 ° C. or higher. When the temperature is lower than the above range, it takes a long time to adjust the moisture content of the wet process silica to 6% by mass or less. This is because the productivity of the high damping member is lowered and the production cost may be increased.
In addition, it is preferable that temperature is 95 degrees C or less also in the said range. When the temperature exceeds the above range, the amount of energy for maintaining the temperature increases, so that the productivity of the high attenuation member may decrease and the production cost may increase.

また(ii)の高温保管処理の時間は、前記範囲内でも5日間以下であるのが好ましい。処理時間が前記範囲を超えてもそれ以上、湿式法シリカの水分率を効率的に減少する効果が期待できない上、処理に長時間を要して、高減衰部材の生産性が低下し、生産コストが上昇するおそれがある。
特に(ii)の高温保管処理が好ましい。(i)の低湿度保管処理と比較すると、(ii)の高温保管処理の方が、ほぼ同時間の処理で、水分率を効率よく、より大きく低減することができる。
Further, the high temperature storage treatment time (ii) is preferably 5 days or less even within the above range. Even if the treatment time exceeds the above range, the effect of efficiently reducing the moisture content of the wet process silica can not be expected, and it takes a long time for the treatment, resulting in a decrease in the productivity of the high attenuation member. Cost may increase.
In particular, the high temperature storage treatment (ii) is preferable. Compared with the low-humidity storage process (i), the high-temperature storage process (ii) can reduce the moisture content more efficiently and largely by the process at almost the same time.

湿式法シリカの配合割合は、ベースポリマ100質量部あたり80質量部以上、特に120質量部以上であるのが好ましく、180質量部以下、特に150質量部以下であるのが好ましい。
配合割合が前記範囲未満では、湿式法シリカを配合することによる、高減衰部材の減衰性能を向上する効果が十分に得られないおそれがある。一方、配合割合が前記範囲を超える場合には高減衰組成物の加工性が低下して、高減衰部材を製造するために前記高減衰組成物を混練したり任意の形状に成形加工したりするのが容易でなくなるおそれがある。
The blending ratio of the wet process silica is preferably 80 parts by mass or more, particularly 120 parts by mass or more, more preferably 180 parts by mass or less, and particularly preferably 150 parts by mass or less, per 100 parts by mass of the base polymer.
If the blending ratio is less than the above range, the effect of improving the damping performance of the high damping member by blending the wet process silica may not be sufficiently obtained. On the other hand, when the blending ratio exceeds the above range, the workability of the high attenuation composition is lowered, and the high attenuation composition is kneaded or molded into an arbitrary shape to produce a high attenuation member. May not be easy.

(その他の成分)
本発明の高減衰組成物には、さらに湿式法シリカ以外の他の充てん剤や、あるいはベースポリマがゴムであるとき当該ゴムを架橋させるための架橋成分等を、適宜の割合で配合してもよい。
前記他の充てん剤としては、例えば炭酸カルシウムやカーボンブラック等が挙げられる。
(Other ingredients)
The high attenuation composition of the present invention may further contain a filler other than the wet process silica, or a crosslinking component for crosslinking the rubber when the base polymer is rubber, in an appropriate ratio. Good.
Examples of the other fillers include calcium carbonate and carbon black.

このうち炭酸カルシウムとしては、その製造方法等によって分類される合成炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム等のうち、充てん剤として機能しうる粉末状の炭酸カルシウムがいずれも使用可能である。また炭酸カルシウムとしては、ベースポリマ等に対する親和性、分散性等を向上するために表面処理を施したものを用いてもよい。
またカーボンブラックとしては、その製造方法等によって分類される種々のカーボンブラックのうち、充てん剤として機能しうる種々のカーボンブラックがいずれも使用可能である。
Among these, as the calcium carbonate, any of powdered calcium carbonate that can function as a filler among synthetic calcium carbonate, heavy calcium carbonate, and the like classified according to the production method thereof can be used. In addition, as calcium carbonate, a surface-treated one may be used in order to improve the affinity to the base polymer and the dispersibility.
As the carbon black, any of various carbon blacks that can function as a filler among various carbon blacks classified according to the production method thereof can be used.

カーボンブラックの配合割合は特に限定されないが、ベースポリマ100質量部あたり1質量部以上であるのが好ましく、10質量部以下、特に5質量部以下であるのが好ましい。
架橋成分としては、ベースポリマを架橋しうる種々の架橋成分が使用可能である。例えばベースポリマがジエン系ゴムである場合は、硫黄加硫系の架橋成分を用いるのが好ましい。前記硫黄加硫系の架橋成分としては、加硫剤、加硫促進剤、および加硫促進助剤を組み合わせたものが挙げられる。特に高減衰部材のゴム弾性が上昇して減衰性能が低下する問題を生じにくい加硫剤、加硫促進剤、加硫促進助剤を組み合わせるのが好ましい。
The blending ratio of carbon black is not particularly limited, but is preferably 1 part by mass or more per 100 parts by mass of the base polymer, preferably 10 parts by mass or less, and particularly preferably 5 parts by mass or less.
As the crosslinking component, various crosslinking components capable of crosslinking the base polymer can be used. For example, when the base polymer is a diene rubber, it is preferable to use a sulfur vulcanized crosslinking component. Examples of the sulfur-vulcanized crosslinking component include a combination of a vulcanizing agent, a vulcanization accelerator, and a vulcanization acceleration aid. In particular, it is preferable to combine a vulcanizing agent, a vulcanization accelerator, and a vulcanization acceleration aid that hardly cause the problem that the rubber elasticity of the high damping member increases and the damping performance decreases.

加硫剤としては、例えば硫黄や含硫黄有機化合物等が挙げられる。特に硫黄が好ましい。
加硫促進剤としては、例えばスルフェンアミド系加硫促進剤、チウラム系加硫促進剤等が挙げられる。加硫促進剤は、種類によって加硫促進のメカニズムが異なるため2種以上を併用するのが好ましい。
Examples of the vulcanizing agent include sulfur and sulfur-containing organic compounds. In particular, sulfur is preferable.
Examples of the vulcanization accelerator include a sulfenamide vulcanization accelerator and a thiuram vulcanization accelerator. It is preferable to use two or more vulcanization accelerators in combination because the vulcanization acceleration mechanism varies depending on the type.

このうちスルフェンアミド系加硫促進剤としては、例えば大内新興化学工業(株)製のノクセラー(登録商標)NS〔N−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド〕等が挙げられる。またチウラム系加硫促進剤としては、例えば大内新興化学工業(株)製のノクセラーTBT〔テトラブチルチウラムジスルフィド〕等が挙げられる。
加硫促進助剤としては例えば亜鉛華、ステアリン酸等が挙げられる。通常は両者を加硫促進助剤として併用するのが好ましい。
Among them, examples of the sulfenamide-based vulcanization accelerator include Noxeller (registered trademark) NS [N-tert-butyl-2-benzothiazolylsulfenamide] manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Industry Co., Ltd. . Examples of the thiuram vulcanization accelerator include Noxeller TBT [tetrabutyl thiuram disulfide] manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.
Examples of the vulcanization acceleration aid include zinc white and stearic acid. Usually, it is preferable to use both as a vulcanization acceleration aid.

前記加硫剤、加硫促進剤、加硫促進助剤の配合割合は、高減衰部材の用途等によって異なる減衰性能やゴム硬さ等の特性に応じて適宜調整すればよい。
本発明の高減衰組成物には、さらに必要に応じてシラン化合物、軟化剤、粘着性付与剤、老化防止剤等の各種添加剤を、適宜の割合で配合してもよい。
このうちシラン化合物としては、式(a):
The blending ratio of the vulcanizing agent, vulcanization accelerator, and vulcanization accelerating agent may be appropriately adjusted according to characteristics such as damping performance and rubber hardness that differ depending on the use of the high damping member.
In the high attenuation composition of the present invention, various additives such as a silane compound, a softening agent, a tackifier, and an anti-aging agent may be further blended at an appropriate ratio as necessary.
Among these, as the silane compound, the formula (a):

Figure 2013043912
Figure 2013043912

〔式中、R、R、R、およびRのうちの少なくとも1つはアルコキシ基を示す。ただしR、R、R、およびRが同時にアルコキシ基であることはなく、他はアルキル基またはアリール基を示す。〕
で表され、シランカップリング剤やシリル化剤等の、湿式法シリカの分散剤として機能しうる種々のシラン化合物が挙げられる。
[Wherein, at least one of R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 represents an alkoxy group. However, R 1 , R 2 , R 3 , and R 4 are not simultaneously an alkoxy group, and the other represents an alkyl group or an aryl group. ]
And various silane compounds that can function as a dispersant for wet-process silica, such as silane coupling agents and silylating agents.

特にヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン等のアルコキシシランが好ましい。
前記シラン化合物としては、例えば信越化学工業(株)製のKBE−103(フェニルトリエトキシシラン)等が挙げられる。
シラン化合物の配合割合は特に限定されないが、湿式法シリカ100質量部あたり5質量部以上であるのが好ましく、25質量部以下であるのが好ましい。
In particular, alkoxysilanes such as hexyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, and diphenyldimethoxysilane are preferred.
Examples of the silane compound include KBE-103 (phenyltriethoxysilane) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Although the blending ratio of the silane compound is not particularly limited, it is preferably 5 parts by mass or more and preferably 25 parts by mass or less per 100 parts by mass of the wet process silica.

軟化剤としては、クマロンインデン樹脂、液状ゴム等の1種または2種以上が挙げられる。
このうちクマロンインデン樹脂としては、主にクマロンとインデンの重合物からなり、平均分子量1000以下程度の比較的低分子量であって、軟化剤として機能しうる種々のクマロンインデン樹脂が挙げられる。
Examples of the softening agent include one or more of coumarone indene resin and liquid rubber.
Among these, the coumarone indene resin includes various coumarone indene resins which are mainly composed of a polymer of coumarone and indene, have a relatively low molecular weight of about 1000 or less in average molecular weight, and can function as a softening agent.

前記クマロンインデン樹脂としては、例えば日塗化学(株)製のニットレジン(登録商標)クマロンG−90〔平均分子量:770、軟化点:90℃、酸価:1.0KOHmg/g以下、水酸基価:25KOHmg/g、臭素価9g/100g〕、G−100N〔平均分子量:730、軟化点:100℃、酸価:1.0KOHmg/g以下、水酸基価:25KOHmg/g、臭素価11g/100g〕、V−120〔平均分子量:960、軟化点:120℃、酸価:1.0KOHmg/g以下、水酸基価:30KOHmg/g、臭素価6g/100g〕、V−120S〔平均分子量:950、軟化点:120℃、酸価:1.0KOHmg/g以下、水酸基価:30KOHmg/g、臭素価7g/100g〕等の1種または2種以上が挙げられる。   As the coumarone indene resin, for example, Knit Resin (registered trademark) Coumarone G-90 manufactured by Nikko Chemical Co., Ltd. [average molecular weight: 770, softening point: 90 ° C., acid value: 1.0 KOH mg / g or less, hydroxyl group] Value: 25 KOH mg / g, bromine value 9 g / 100 g], G-100N [average molecular weight: 730, softening point: 100 ° C., acid value: 1.0 KOH mg / g or less, hydroxyl value: 25 KOH mg / g, bromine value 11 g / 100 g V-120 [average molecular weight: 960, softening point: 120 ° C., acid value: 1.0 KOH mg / g or less, hydroxyl value: 30 KOH mg / g, bromine value 6 g / 100 g], V-120S [average molecular weight: 950, Softening point: 120 ° C., acid value: 1.0 KOH mg / g or less, hydroxyl value: 30 KOH mg / g, bromine value 7 g / 100 g] and the like.

クマロンインデン樹脂の配合割合は特に限定されないが、ベースポリマ100質量部あたり5質量部以上であるのが好ましく、50質量部以下であるのが好ましい。
また液状ゴムとしては、室温(3〜35℃)で液状を呈する種々のゴムが挙げられる。前記液状ゴムとしては、例えば液状ポリイソプレンゴム、液状ニトリルゴム(液状NBR)、液状スチレンブタジエンゴム(液状SBR)等の1種または2種以上が挙げられる。
The blending ratio of the coumarone indene resin is not particularly limited, but it is preferably 5 parts by mass or more and preferably 50 parts by mass or less per 100 parts by mass of the base polymer.
Examples of the liquid rubber include various rubbers that are liquid at room temperature (3-35 ° C.). Examples of the liquid rubber include one or more of liquid polyisoprene rubber, liquid nitrile rubber (liquid NBR), liquid styrene butadiene rubber (liquid SBR), and the like.

このうち液状ポリイソプレンゴムが好ましい。前記液状ポリイソプレンゴムとしては、例えば(株)クラレ製のクラプレン(登録商標)LIR−50等が挙げられる。
液状ポリイソプレンゴムの配合割合は特に限定されないが、ベースポリマ100質量部あたり5質量部以上であるのが好ましく、80質量部以下であるのが好ましい。
粘着性付与剤としては、例えば石油樹脂等が挙げられる。また石油樹脂としては、例えば丸善石油化学(株)製のマルカレッツ(登録商標)M890A〔ジシクロペンタジエン系石油樹脂、軟化点:105℃〕等が好ましい。
Of these, liquid polyisoprene rubber is preferred. Examples of the liquid polyisoprene rubber include Claprene (registered trademark) LIR-50 manufactured by Kuraray Co., Ltd.
The blending ratio of the liquid polyisoprene rubber is not particularly limited, but is preferably 5 parts by mass or more and preferably 80 parts by mass or less per 100 parts by mass of the base polymer.
Examples of the tackifier include petroleum resins. As the petroleum resin, for example, Marcaretz (registered trademark) M890A [dicyclopentadiene-based petroleum resin, softening point: 105 ° C.] manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd. is preferable.

前記石油樹脂の配合割合は特に限定されないが、ベースポリマ100質量部あたり3質量部以上であるのが好ましく、50質量部以下であるのが好ましい。
老化防止剤としては、例えばベンズイミダゾール系、キノン系、ポリフェノール系、アミン系等の各種老化防止剤の1種または2種以上が挙げられる。特にベンズイミダゾール系老化防止剤とキノン系老化防止剤を併用するのが好ましい。
The blending ratio of the petroleum resin is not particularly limited, but it is preferably 3 parts by mass or more and 100 parts by mass or less per 100 parts by mass of the base polymer.
As an anti-aging agent, 1 type, or 2 or more types of various anti-aging agents, such as a benzimidazole type, a quinone type, a polyphenol type, and an amine type, are mentioned, for example. In particular, it is preferable to use a benzimidazole antioxidant and a quinone antioxidant together.

このうちベンズイミダゾール系老化防止剤としては、例えば大内新興化学工業(株)製のノクラック(登録商標)MB〔2−メルカプトベンズイミダゾール〕等が挙げられる。またキノン系老化防止剤としては、例えば丸石化学品(株)製のアンチゲンFR〔芳香族ケトン−アミン縮合物〕等が挙げられる。
両老化防止剤の配合割合は特に限定されないが、ベンズイミダゾール系老化防止剤は、ベースポリマ100質量部あたり0.5質量部以上であるのが好ましく、5質量部以下であるのが好ましい。またキノン系老化防止剤は、ベースポリマ100質量部あたり0.5質量部以上であるのが好ましく、5質量部以下であるのが好ましい。
Among them, examples of the benzimidazole-based anti-aging agent include NOCRACK (registered trademark) MB [2-mercaptobenzimidazole] manufactured by Ouchi Shinko Chemical Industry Co., Ltd. Examples of the quinone anti-aging agent include Antigen FR [aromatic ketone-amine condensate] manufactured by Cobblestone Chemical Co., Ltd.
The blending ratio of both anti-aging agents is not particularly limited, but the benzimidazole anti-aging agent is preferably 0.5 parts by mass or more and preferably 5 parts by mass or less per 100 parts by mass of the base polymer. The quinone anti-aging agent is preferably 0.5 parts by mass or more and preferably 5 parts by mass or less per 100 parts by mass of the base polymer.

〈高減衰組成物の製造方法〉
前記本発明の高減衰組成物は、前記の各成分を任意の割合で配合し、任意の混練機等を用いて混練することで製造される。
前記配合に先立って、本発明の製造方法では、配合前の湿式法シリカを、前記(i)の低湿度保管処理、または(ii)の高温保管処理することで、その水分率をあらかじめ6質量%以下に調整しておく工程を実施する。
<Method for producing highly attenuated composition>
The highly attenuating composition of the present invention is produced by blending the above-described components at an arbitrary ratio and kneading using an arbitrary kneader or the like.
Prior to the blending, in the production method of the present invention, the wet silica before blending is subjected to the low humidity storage treatment of (i) or the high temperature storage treatment of (ii), so that the moisture content is 6 mass in advance. The process of adjusting to% or less is performed.

これにより本発明の高減衰組成物を、より少ない工数で安定して製造することができる。
なお前記工程終了後の湿式法シリカは、前記保管処理の環境から通常環境に移行させると直ちに吸湿を開始して水分率が増加する傾向がある。そのため前記工程の終了後できるだけ速やかに他の成分と配合するのが好ましい。
Thereby, the highly attenuating composition of the present invention can be stably produced with fewer man-hours.
It should be noted that the wet-process silica after the completion of the process has a tendency to immediately start moisture absorption and increase the moisture content when the storage process environment is shifted from the storage environment to the normal environment. Therefore, it is preferable to mix with other components as soon as possible after completion of the step.

〈高減衰部材〉
前記本発明の高減衰組成物を所望の立体形状に成形加工するとともに、ベースポリマがゴムである場合は当該ゴムを架橋させることで、所定の減衰性能を有する高減衰部材が製造される。
本発明の高減衰組成物を用いて製造できる高減衰部材としては、例えばビル等の建築物の基礎に組み込まれる免震用ダンパ、建築物の構造中に組み込まれる制震(制振)用ダンパ、吊橋や斜張橋等のケーブルの制振部材、産業機械や航空機、自動車、鉄道車両等の防振部材、コンピュータやその周辺機器類、あるいは家庭用電気機器類等の防振部材、さらには自動車用タイヤのトレッド等が挙げられる。
<High damping member>
The high attenuation composition of the present invention is molded into a desired three-dimensional shape, and when the base polymer is rubber, the rubber is crosslinked to produce a high attenuation member having a predetermined attenuation performance.
The high damping member that can be manufactured using the high damping composition of the present invention includes, for example, a seismic isolation damper that is incorporated in the foundation of a building such as a building, and a damping damper that is incorporated in the structure of the building. Damping members for cables such as suspension bridges and cable-stayed bridges, anti-vibration members for industrial machines, aircraft, automobiles, railway vehicles, etc., anti-vibration members for computers and their peripheral devices, household electric appliances, etc. Examples include treads for automobile tires.

本発明によれば、前記ベースポリマ、湿式法シリカその他、各種成分の種類とその組み合わせおよび配合割合を調整することにより、前記それぞれの用途に適した優れた減衰性能を有する高減衰部材を得ることができる。
特に本発明の高減衰組成物を用いて建築物の構造中に組み込まれる制震用ダンパを形成した場合には、当該制震用ダンパが減衰性能に優れるため、1つの建築物中に組み込む前記制震用ダンパの数量を減らすことができる。
According to the present invention, a high damping member having excellent damping performance suitable for each application can be obtained by adjusting the base polymer, wet process silica and other various component types and their combinations and blending ratios. Can do.
In particular, when a damping damper to be incorporated into a structure of a building is formed using the high damping composition of the present invention, the damping damper is excellent in damping performance, so that it is incorporated into one building. The quantity of damping dampers can be reduced.

〈実施例1〉
(湿式法シリカの水分率の調整)
湿式法シリカとしては、東ソー・シリカ(株)製のNipSil(ニップシール)KQ〔含水率(カタログ値):7.0質量%〕を用いた。前記湿式法シリカの水分率を、加熱乾燥式水分計〔(株)エー・アンド・デイ製のMX−50〕を用いて測定したところ、処理前の時点で8.4質量%であった。
<Example 1>
(Adjustment of moisture content of wet silica)
As the wet method silica, NipSil (nip seal) KQ [moisture content (catalog value): 7.0% by mass] manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd. was used. When the moisture content of the wet process silica was measured using a heat drying moisture meter [MX-50 manufactured by A & D Co., Ltd.], it was 8.4% by mass before the treatment.

前記湿式法シリカを、次に説明する高減衰組成物の調製に先立ち、温度10℃、相対湿度10%以下の環境下で3日間保管する低湿度保管処理したのち再び水分率を測定したところ5.5質量%であった。
(高減衰組成物の調製)
ベースポリマとしての天然ゴム〔SMR(Standard Malaysian Rubber)−CV60〕100質量部に、前記低湿度保管処理終了直後の湿式法シリカ135質量部と、下記表1に示す各成分とを配合し、密閉式混練機を用いて混練して高減衰組成物を調製した。
Prior to the preparation of the highly attenuated composition described below, the wet process silica was subjected to low humidity storage treatment for 3 days in an environment at a temperature of 10 ° C. and a relative humidity of 10% or less. It was 5% by mass.
(Preparation of highly attenuated composition)
100 parts by mass of natural rubber [SMR (Standard Malaysian Rubber) -CV60] as a base polymer is blended with 135 parts by mass of wet-process silica immediately after the low-humidity storage treatment and each component shown in Table 1 below, and sealed A highly attenuated composition was prepared by kneading using a kneader.

Figure 2013043912
Figure 2013043912

表中の各成分は下記のとおり。
カーボンブラック:FEF、東海カーボン(株)製のシーストSO
シラン化合物:フェニルトリエトキシシラン、信越化学工業(株)製のKBE−103
液状ポリイソプレンゴム:軟化剤、(株)クラレ製のLIR50
ジシクロペンタジエン系石油樹脂:軟化点105℃、丸善石油化学(株)製のマルカレッツ(登録商標)M890A
クマロン樹脂:軟化点90℃、日塗化学(株)製のエスクロン(登録商標)G-90
ベンズイミダゾール系老化防止剤:2−メルカプトベンズイミダゾール、大内新興化学工業(株)製のノクラックMB
キノン系老化防止剤:丸石化学品(株)製のアンチゲンFR
酸化亜鉛2種:三井金属鉱業(株)製
ステアリン酸:日油(株)製の「つばき」
5%オイル処理粉末硫黄:加硫剤、鶴見化学工業(株)製
スルフェンアミド系加硫促進剤:N−tert−ブチル−2−ベンゾチアゾリルスルフェンアミド、大内新興化学工業(株)製のノクセラー(登録商標)NS
チウラム系加硫促進剤:大内新興化学工業(株)製のノクセラーTBT−N
〈実施例2〉
(湿式法シリカの水分率の調整)
湿式法シリカとしては、東ソー・シリカ(株)製のNipSil(ニップシール)KQを用いた。前記湿式法シリカの水分率は、先に説明したように処理前の時点で8.4質量%であった。
Each component in the table is as follows.
Carbon Black: FEF, Sea Toe SO manufactured by Tokai Carbon Co., Ltd.
Silane compound: Phenyltriethoxysilane, KBE-103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Liquid polyisoprene rubber: softener, LIR50 manufactured by Kuraray Co., Ltd.
Dicyclopentadiene-based petroleum resin: softening point 105 ° C., Marukaretsu (registered trademark) M890A manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.
Coumarone resin: softening point 90 ° C., Nikko Chemical Co., Ltd. Escron (registered trademark) G-90
Benzimidazole anti-aging agent: 2-mercaptobenzimidazole, NOCRACK MB manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.
Quinone anti-aging agent: Antigen FR manufactured by Maruishi Chemical Co., Ltd.
Two types of zinc oxide: manufactured by Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. Stearic acid: "Tsubaki" manufactured by NOF Corporation
5% oil-treated powder sulfur: vulcanizing agent, manufactured by Tsurumi Chemical Industry Co., Ltd. Sulfenamide vulcanization accelerator: N-tert-butyl-2-benzothiazolylsulfenamide, Ouchi Shinsei Chemical Industry Co., Ltd. Noxeller (registered trademark) NS
Thiuram-based vulcanization accelerator: Noxeller TBT-N manufactured by Ouchi Shinsei Chemical Co., Ltd.
<Example 2>
(Adjustment of moisture content of wet silica)
As the wet method silica, NipSil (nip seal) KQ manufactured by Tosoh Silica Co., Ltd. was used. The moisture content of the wet process silica was 8.4% by mass before the treatment as described above.

前記湿式法シリカを、高減衰組成物の調製に先立ち、温度90℃の環境下で3日間保管する高温保管処理したのち再び水分率を測定したところ2.2質量%であった。
(高減衰組成物の調製)
前記高温保管処理終了直後の湿式法シリカを同量(135質量部)配合したこと以外は実施例1と同様にして高減衰組成物を調製した。
Prior to the preparation of the high-damping composition, the wet process silica was subjected to high-temperature storage treatment for 3 days in an environment at a temperature of 90 ° C., and the moisture content was measured again to be 2.2% by mass.
(Preparation of highly attenuated composition)
A highly attenuating composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the same amount (135 parts by mass) of the wet process silica immediately after completion of the high-temperature storage treatment was blended.

〈比較例1〉
低湿度保管処理も高温保管処理もしていない、水分率が8.4質量%の湿式法シリカを、そのままの状態で同量(135質量部)配合したこと以外は実施例1と同様にして高減衰組成物を調製した。
〈減衰特性試験〉
(試験体の作製)
実施例1、2、比較例1で調製した高減衰組成物をシート状に押出成形したのち打ち抜いて、図1に示すように円板1(厚み5mm×直径25mm)を作製し、前記円板1の表裏両面に、それぞれ加硫接着剤を介して厚み6mm×縦44mm×横44mmの矩形平板状の鋼板2を重ねて積層方向に加圧しながら150℃に加熱して円板1を形成する高減衰組成物を加硫させるとともに、前記円板1を2枚の鋼板2と加硫接着させて、高減衰部材のモデルとしての減衰特性評価用の試験体3を作製した。
<Comparative example 1>
High in the same manner as in Example 1 except that the same amount (135 parts by mass) of wet-process silica having a moisture content of 8.4% by mass without being subjected to low-humidity storage treatment or high-temperature storage treatment was blended. A damping composition was prepared.
<Attenuation characteristic test>
(Preparation of test specimen)
The high attenuation compositions prepared in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 were extruded into a sheet and then punched to produce a disk 1 (thickness 5 mm × diameter 25 mm) as shown in FIG. A rectangular plate-like steel plate 2 having a thickness of 6 mm × length 44 mm × width 44 mm is overlapped on both front and back surfaces of 1 and heated to 150 ° C. while pressing in the laminating direction to form a disk 1. While vulcanizing the high-damping composition, the disk 1 was vulcanized and bonded to the two steel plates 2 to produce a specimen 3 for evaluating damping characteristics as a model of a high-damping member.

(変位試験)
図2(a)に示すように前記試験体3を2個用意し、前記2個の試験体3を、一方の鋼板2を介して1枚の中央固定治具4にボルトで固定するとともに、それぞれの試験体3の他方の鋼板2に、1枚ずつの左右固定治具5をボルトで固定した。そして中央固定治具4を、図示しない試験機の上側の固定アーム6に、ジョイント7を介してボルトで固定し、かつ2枚の左右固定治具5を、前記試験機の下側の可動盤8に、ジョイント9を介してボルトで固定した。
(Displacement test)
As shown in FIG. 2 (a), two test bodies 3 are prepared, and the two test bodies 3 are fixed to one central fixing jig 4 with bolts via one steel plate 2. One left and right fixing jig 5 was fixed to the other steel plate 2 of each test body 3 with bolts. The center fixing jig 4 is fixed to the upper fixing arm 6 of the testing machine (not shown) with a bolt via a joint 7, and the two left and right fixing jigs 5 are connected to the lower movable platen of the testing machine. 8 was fixed with bolts through a joint 9.

次にこの状態で、可動盤8を図中に白抜きの矢印で示すように固定アーム6の方向に押し上げるように変位させて、試験体3のうち円板1を、図2(b)に示すように前記試験体3の積層方向と直交方向に歪み変形させた状態とし、次いでこの状態から、可動盤8を図中に白抜きの矢印で示すように固定アーム6の方向と反対方向に引き下げるように変位させて、前記図2(a)に示す状態に戻す操作を1サイクルとして、前記試験体3のうち円板1を繰り返し歪み変形、すなわち振動させた際の、前記試験体3の積層方向と直交方向への円板1の変位量(mm)と荷重(N)との関係を示すヒステリシスループH(図3参照)を求めた。   Next, in this state, the movable platen 8 is displaced so as to be pushed up in the direction of the fixed arm 6 as indicated by the white arrow in the figure, and the disk 1 of the test body 3 is moved to the position shown in FIG. As shown in the figure, the test body 3 is strained and deformed in a direction orthogonal to the stacking direction, and from this state, the movable platen 8 is moved in a direction opposite to the direction of the fixed arm 6 as indicated by a white arrow in the figure. The operation of the test body 3 when the disk 1 of the test body 3 is repeatedly distorted or deformed, that is, vibrated, with the operation of displacing it down and returning to the state shown in FIG. A hysteresis loop H (see FIG. 3) indicating the relationship between the displacement (mm) of the disk 1 in the direction perpendicular to the stacking direction and the load (N) was obtained.

測定は、前記操作を3サイクル行って3回目の値を求めた。また最大変位量は、円板1を挟む2枚の鋼板2の、前記積層方向と直交方向のずれ量が、前記円板1の厚みの100%となるように設定した。
次いで、前記測定により求めた図3に示すヒステリシスループHのうち
・ その最大変位点と最小変位点とを結ぶ、図中に太線の実線で示す直線Lと、グラフの横軸と、前記直線LとヒステリシスループHとの交点から前記グラフの横軸におろした垂線Lとで囲まれた、同図中に網線を付して示した領域の表面積で表される弾性歪みエネルギーWと、
・ 同図中に斜線を付して示した、ヒステリシスループHの全表面積で表される吸収エネルギー量ΔWと、
から、式(1):
For the measurement, the above operation was performed for 3 cycles to obtain the third value. The maximum amount of displacement was set so that the amount of deviation of the two steel plates 2 sandwiching the disc 1 in the direction perpendicular to the stacking direction was 100% of the thickness of the disc 1.
Then, connecting the inner and the maximum displacement point and the minimum displacement point of the hysteresis loop H shown in FIG. 3 obtained by the measurement, a straight line L 1 shown by a thick solid line in the figure, the horizontal axis of the graph, the straight line The elastic strain energy W expressed by the surface area of the region indicated by the halftone line in the figure surrounded by the perpendicular line L 2 drawn from the intersection of L 1 and the hysteresis loop H to the horizontal axis of the graph. When,
The amount of absorbed energy ΔW represented by the total surface area of the hysteresis loop H, indicated by hatching in FIG.
From equation (1):

Figure 2013043912
Figure 2013043912

により等価減衰定数Heqを求めた。等価減衰定数Heqが大きいほど、試験体3は減衰性能に優れていると判定できる。
そこで、比較例1における等価減衰定数Heqを1.00としたときの、各実施例、比較例の等価減衰定数Heqの相対値を求め、前記相対値が1.10以上のものを、減衰性能の向上効果きわめて良好(◎)、1.05以上のものを良好(○)、1.00以上のものを従来レベル(−)、1.00未満のものを不良(×)と評価した。
Thus, an equivalent damping constant Heq was obtained. It can be determined that the greater the equivalent damping constant Heq is, the better the specimen 3 is in damping performance.
Therefore, when the equivalent attenuation constant Heq in Comparative Example 1 is set to 1.00, the relative value of the equivalent attenuation constant Heq in each Example and Comparative Example is obtained, and the relative value is 1.10 or more. The improvement effect was evaluated as very good (◎), 1.05 or higher as good (◯), 1.00 or higher as conventional level (-), and less than 1.00 as poor (x).

以上の結果を表2に示す。   The results are shown in Table 2.

Figure 2013043912
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表2の実施例1、2の結果より、湿式法シリカとして水分率が6質量%以下に調整されたものを配合することで、現状よりも高減衰部材の減衰性能を向上できることが判った。また実施例1、2の結果より、湿式法シリカの水分率を3質量%以下に調整することで、高減衰部材の減衰性能をさらに向上できることも判った。   From the results of Examples 1 and 2 in Table 2, it was found that the damping performance of the high damping member can be improved as compared with the current situation by blending the wet process silica whose water content is adjusted to 6% by mass or less. From the results of Examples 1 and 2, it was also found that the damping performance of the high damping member can be further improved by adjusting the moisture content of the wet process silica to 3% by mass or less.

1 円板
2 鋼板
3 試験体
4 中央固定治具
5 左右固定治具
6 固定アーム
7 ジョイント
8 可動盤
9 ジョイント
H ヒステリシスループ
直線
垂線
W エネルギー
ΔW 吸収エネルギー量
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Disc 2 Steel plate 3 Specimen 4 Center fixed jig 5 Left and right fixed jig 6 Fixed arm 7 Joint 8 Movable platen 9 Joint H Hysteresis loop L 1 Straight line L 2 perpendicular W Energy ΔW Absorbed energy amount

Claims (5)

少なくともベースポリマを含む高減衰組成物であって、水分率が6質量%以下に調整された湿式法シリカが配合されていることを特徴とする高減衰組成物。   A highly attenuating composition comprising at least a base polymer, wherein a wet process silica having a moisture content adjusted to 6% by mass or less is blended. 前記湿式法シリカの水分率は3質量%以下である請求項1に記載の高減衰組成物。   The high attenuation composition according to claim 1, wherein a moisture content of the wet process silica is 3% by mass or less. 前記湿式法シリカは、温度15℃以下、相対湿度15%以下の環境下で3日間以上保管する低湿度保管処理、または温度85℃以上の環境下で3日間以上保管する高温保管処理することによって水分率が前記範囲内に調整されている請求項1または2に記載の高減衰組成物。   The wet-process silica is subjected to a low-humidity storage treatment in which the temperature is 15 ° C. or less and a relative humidity is 15% or less for 3 days or more, or a high-temperature storage treatment in which the temperature is 85 ° C. or more for 3 days or more. The highly attenuating composition according to claim 1 or 2, wherein the moisture content is adjusted within the range. 建築物の制震用ダンパの形成材料として用いる請求項1ないし3のいずれか1項に記載の高減衰組成物。   The high-damping composition according to any one of claims 1 to 3, which is used as a material for forming a damper for vibration control of a building. 少なくともベースポリマに湿式法シリカを配合する工程を含む高減衰組成物の製造方法であって、前記配合前の湿式法シリカを、温度15℃以下、相対湿度15%以下の環境下で3日間以上保管する低湿度保管処理、または温度85℃以上の環境下で3日間以上保管する高温保管処理することで、その水分率をあらかじめ6質量%以下に調整しておく工程を含むことを特徴とする高減衰組成物の製造方法。   A method for producing a highly attenuated composition comprising a step of blending at least a base process polymer with a wet process silica, wherein the preprocessed wet process silica is used for 3 days or more in an environment of a temperature of 15 ° C. or less and a relative humidity of 15% or less. It includes a step of adjusting the moisture content to 6% by mass or less in advance by performing low-humidity storage processing for storage or high-temperature storage processing for storage for 3 days or more in an environment at a temperature of 85 ° C. or higher. Method for producing a highly attenuated composition.
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