JP2013040070A - ガラス微粒子堆積体の製造方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 121
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title abstract description 48
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 111
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 23
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 20
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 43
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 5
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004323 axial length Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B2207/00—Glass deposition burners
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- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
【課題】良好なガラス特性が得られるガラス微粒子堆積体を高い再現性で製造することが可能なガラス微粒子堆積体の製造方法を提供する。
【解決手段】バーナ15から原料ガスを含む酸水素火炎Fをターゲット14に吹き付け、酸水素火炎Fによる加水分解反応で生成されるガラス微粒子をターゲット14に堆積させてガラス微粒子堆積体17を製造する製造方法であって、バーナ15から噴出される火炎Fの輝度分布及びガラス微粒子の堆積箇所の温度分布を測定し、これらの測定輝度分布及び測定温度分布が、良好なガラス微粒子堆積体17を製造したときと同じとなるように、バーナ15へ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整する。
【選択図】図1
【解決手段】バーナ15から原料ガスを含む酸水素火炎Fをターゲット14に吹き付け、酸水素火炎Fによる加水分解反応で生成されるガラス微粒子をターゲット14に堆積させてガラス微粒子堆積体17を製造する製造方法であって、バーナ15から噴出される火炎Fの輝度分布及びガラス微粒子の堆積箇所の温度分布を測定し、これらの測定輝度分布及び測定温度分布が、良好なガラス微粒子堆積体17を製造したときと同じとなるように、バーナ15へ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整する。
【選択図】図1
Description
本発明は、バーナで生成したガラス微粒子を堆積させてガラス微粒子堆積体を形成するガラス微粒子堆積体の製造方法に関する。
例えば、光ファイバ用の母材となるガラス微粒子堆積体は、ガラス微粒子合成用バーナからの火炎中にガラス原料を導入し、火炎中でガラス原料を火炎加水分解又は酸化反応させることによりガラス微粒子を生成させ、このガラス微粒子をターゲット(出発材)に吹きつけて堆積させることにより製造される。
このようにガラス微粒子堆積体を製造する際に、火炎中のガラス原料流の輝度分布を測定し、輝度の高い部分が噴出方向中心軸よりも上方に位置するようにバーナを位置決めし、堆積速度や堆積効率を向上させることが知られている(例えば、特許文献1参照)。
また、火炎からの発光をCCDカメラでモニターし、観察される輝度及び/又は輝度から求められる温度に基づいてガラス微粒子合成用バーナの操作条件を調整することによって製造条件の適正化を行うことも知られている(例えば、特許文献2参照)。
さらに、バーナがガラス微粒子を堆積する範囲内の堆積面の温度差が70℃以下となるように、往復移動の速度、またはバーナに供給されるガラス原料ガス、もしくは燃焼性ガスの流量を調整して一つの堆積体となるようにガラス微粒子堆積体を製造することも知られている(例えば、特許文献3参照)。
また、火炎からの発光をCCDカメラでモニターし、観察される輝度及び/又は輝度から求められる温度に基づいてガラス微粒子合成用バーナの操作条件を調整することによって製造条件の適正化を行うことも知られている(例えば、特許文献2参照)。
さらに、バーナがガラス微粒子を堆積する範囲内の堆積面の温度差が70℃以下となるように、往復移動の速度、またはバーナに供給されるガラス原料ガス、もしくは燃焼性ガスの流量を調整して一つの堆積体となるようにガラス微粒子堆積体を製造することも知られている(例えば、特許文献3参照)。
ところで、ガラス微粒子堆積体を製造する際には、そのガラス微粒子の堆積状態等を正確に把握して製造条件を修正する必要があるが、ガラス微粒子の堆積時の製造条件を同じに設定しても、バーナの交換や原料供給系を構成する流量調整装置の交換等を行うと、ガスの実流量やガスが流れる方向などが微妙に変わり、実際には同じ製造条件とはならずにずれが生じ、良好なガラス微粒子堆積体製造時と同じガラス微粒子堆積体を製造することが難しい。バーナの交換などが無くても、堆積時の気圧や配管内、反応容器内の圧力の変化によっても、微妙に実際の製造条件にはずれが生じる。そして、このずれにより、製造したガラス母材の特性が変化したか否かは、ガラス微粒子堆積体を焼結した後にプリフォームアナライザーなどの測定器で屈折率等のガラス特性を測定するまで確認することが困難である。したがって、同じ良好なガラス母材が作れるように製造条件を調整するために、時間と費用が掛かってしまう。
特許文献1,2のように火炎の輝度を測定すれば、原料の流れなどの火炎の状態は分かるものの、ガラス微粒子がどのように堆積されているかを把握することが困難である。一方、特許文献3のように、堆積温度を測定すれば、ターゲットへのガラス微粒子の堆積具合(嵩密度分布)は分かるものの、バーナから出ている火炎の状態(原料の分布など)が分からず、その後にガラス微粒子がどのように堆積するかの推定が困難である。したがって、火炎の輝度または堆積温度の何れかを測定しただけでは、良好なガラス特性が得られるガラス微粒子堆積体を高い再現性で製造することは困難であった。
本発明の目的は、良好なガラス特性が得られるガラス微粒子堆積体を高い再現性で製造することが可能なガラス微粒子堆積体の製造方法を提供することにある。
上記課題を解決することのできる本発明のガラス微粒子堆積体の製造方法は、バーナから原料ガスを含む酸水素火炎をターゲットに吹き付け、酸水素火炎による加水分解反応で生成されるガラス微粒子を前記ターゲットに堆積させてガラス微粒子堆積体を製造するガラス微粒子堆積体の製造方法であって、
前記バーナから噴出される酸水素火炎の輝度分布及び前記ガラス微粒子の堆積箇所の温度分布を測定し、これらの測定輝度分布及び測定温度分布が、良好なガラス微粒子堆積体を製造したときと同じとなるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することを特徴とする。
前記バーナから噴出される酸水素火炎の輝度分布及び前記ガラス微粒子の堆積箇所の温度分布を測定し、これらの測定輝度分布及び測定温度分布が、良好なガラス微粒子堆積体を製造したときと同じとなるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することを特徴とする。
本発明のガラス微粒子堆積体の製造方法において、良好なガラス微粒子堆積体を製造したときの酸水素火炎の輝度分布及びガラス微粒子の堆積箇所の温度分布を目標輝度分布及び目標温度分布として予め求めておき、
前記測定輝度分布及び測定温度分布を前記目標輝度分布及び目標温度分布と比較し、これらの差が最小となるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することが好ましい。
前記測定輝度分布及び測定温度分布を前記目標輝度分布及び目標温度分布と比較し、これらの差が最小となるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することが好ましい。
本発明のガラス微粒子堆積体の製造方法において、
前記目標輝度分布及び測定輝度分布を、次式
(ただし、X:輝度分布測定箇所の母材径方向の位置、A,B,C,N:定数)
で近似し、これらの目標輝度分布と測定輝度分布との差が最小となるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することが好ましい。
前記目標輝度分布及び測定輝度分布を、次式
で近似し、これらの目標輝度分布と測定輝度分布との差が最小となるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することが好ましい。
本発明のガラス微粒子堆積体の製造方法において、前記目標温度分布と前記測定温度分布とを、ピーク温度を中心とした代表点で比較し、両者の誤差が最小となるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することが好ましい。
本発明のガラス微粒子堆積体の製造方法によれば、酸水素火炎の輝度分布とガラス微粒子の堆積箇所の温度分布の両方を測定し、これらの測定データに基づいて、原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方を制御することで、良好なガラス微粒子堆積体を製造したときの実流量などの実際の製造条件を、安定して再現することができる。これにより、良好なガラス微粒子堆積体を高い再現性で製造することができ、歩留まりを高めて製造費を低減させることができる。
以下、本発明に係るガラス微粒子堆積体の製造方法の実施の形態の例を、図面を参照して説明する。
図1に示すように、本実施形態に係るガラス微粒子堆積体の製造方法で用いられる製造装置11は、反応容器12を備えている。この反応容器12には、その上部に支持装置13が設けられており、この支持装置13には、ターゲット14が支持されている。このターゲット14は、支持装置13で軸回りに回転されながらガラス微粒子堆積体の成長に伴って上昇される。
図1に示すように、本実施形態に係るガラス微粒子堆積体の製造方法で用いられる製造装置11は、反応容器12を備えている。この反応容器12には、その上部に支持装置13が設けられており、この支持装置13には、ターゲット14が支持されている。このターゲット14は、支持装置13で軸回りに回転されながらガラス微粒子堆積体の成長に伴って上昇される。
反応容器12内には、その下部に、斜め上方へ向けて配置されたバーナ15が設けられている。このバーナ15には、ガス供給装置16から酸水素火炎を生じさせる水素及び酸素である酸水素ガスが供給されて、バーナ15は、その先端部の吹き出し口15aから、酸水素火炎Fを噴出する。また、このバーナ15には、ガス供給装置16からガラス原料となる四塩化ケイ素(SiCl4)の原料ガスが供給される。これにより、バーナ15の酸水素火炎Fによる加水分解反応でガラス微粒子が生成され、このガラス微粒子がターゲット14に吹き付けられる。すると、軸回りに回転されながら上昇するターゲット14には、その下端側からガラス微粒子が堆積し、ガラス微粒子堆積体17が製造される。なお、ガラス微粒子堆積体17を光ファイバのコアとする場合、ガラス原料には、ドーパント(屈折率調整剤)として四塩化ゲルマニウム(GeCl4)等が含まれてもよい。
製造されたガラス微粒子堆積体17は、その後、脱水及び焼結によって透明ガラス化される。そして例えば、その周囲にクラッドが形成されて光ファイバ用母材とされる。そのような光ファイバ用母材を線引きすることにより、グレーデッドインデックス(GI)型のマルチモード光ファイバや、シングルモード(SM)光ファイバが製造される。
この製造装置11には、輝度測定装置21が設けられている。この輝度測定装置21は、例えばCCDカメラをセンサとして備え、バーナ15の火炎F及びその周辺の可視光を撮影し、輝度測定信号として出力する。また、製造装置11には、温度測定装置31が設けられている。この温度測定装置31は、例えばサーモトレーサをセンサとして備え、ガラス微粒子の堆積箇所及びその周辺の赤外線を捉え、温度測定信号として出力する。これらの輝度測定装置21及び温度測定装置31は、制御装置41に接続されている。
制御装置41は、輝度測定装置21からの輝度測定信号に対して画像処理を行うことにより、バーナ15から噴出する火炎Fの輝度分布を求める。また、制御装置41は、温度測定装置31からの温度測定信号に対してデータ処理を行うことにより、ガラス微粒子の堆積箇所における温度分布を求める。この制御装置41は、支持装置13及びガス供給装置16にも接続されており、これらの支持装置13及びガス供給装置16を制御する。また、制御装置41には、記憶部42が設けられており、この記憶部42に対してデータの読み書きを行う。
ところで、ガラス母材とした際に安定して良好なガラス特性(屈折率分布特性)となるガラス微粒子堆積体17を製造するためには、良好なガラス母材となるガラス微粒子堆積体を製造していた時と同じように原料ガスが火炎中に分布し、ガラス微粒子堆積体の長手方向、径方向の嵩密度も良好な母材製造時と同じような分布になることが必要となる。
ガラス微粒子堆積体17を製造するにあたって、バーナ15の火炎Fの輝度分布を測定すれば、原料ガスの投入位置を監視し、原料ガスの分布(火炎の中で原料ガスがどのように分布しているか)を調整することができる。しかし、輝度分布だけの情報では、ガラス微粒子堆積体17の嵩密度の分布がどうなっているかを把握することができない。嵩密度は、次工程である脱水工程におけるゲルマニウム等のドーパントの拡散具合を支配するものであるが、安定して良好な母材を製造するには、長手方向、径方向の嵩密度分布を一定にすることが必要である。
一方、ガラス微粒子堆積体17におけるガラス微粒子の堆積箇所での温度分布を測定すれば、その温度分布に基づいて、嵩密度分布がどのようになるかを予測することができる。つまり、温度分布が同じになるように制御すれば、嵩密度分布も同じにすることはできる。しかし、温度分布だけの情報では、原料ガスの分布をどのように調整すれば良いかが分からない。原料ガスの分布が同じにできなければ、特に径方向のドーパント濃度が良好なガラス微粒子堆積体製造時とずれるため、同じ屈折率分布のガラス母材を安定して製造することはできない。
このことから、本実施形態では、バーナ15の火炎Fの輝度分布及びガラス微粒子の堆積箇所の温度分布の両方を測定し、これらの測定輝度分布及び測定温度分布の情報から、短時間にかつ正確にフィードバックして製造条件を修正し、ガラス母材とした際に良好なガラス特性となるガラス微粒子堆積体17を安定的に製造する。
次に、測定輝度分布及び測定温度分布の情報に基づいてガラス微粒子堆積体17を製造する本実施形態の製造方法について説明する。
支持装置13にターゲット14を支持させ、ガス供給装置16からバーナ15へ原料ガス及び酸水素ガスを供給する。
そして、支持装置13によって軸回りに回転されるターゲット14に対して、斜め下方側から酸水素火炎Fを噴出させ、この火炎Fによる加水分解反応でガラス微粒子を生成させる。
これにより、ターゲット14にガラス微粒子を吹き付けて堆積させるとともに、ターゲット14を徐々に上昇させ、ターゲット14の軸方向下方にガラス微粒子堆積体17を成長させていく。
支持装置13にターゲット14を支持させ、ガス供給装置16からバーナ15へ原料ガス及び酸水素ガスを供給する。
そして、支持装置13によって軸回りに回転されるターゲット14に対して、斜め下方側から酸水素火炎Fを噴出させ、この火炎Fによる加水分解反応でガラス微粒子を生成させる。
これにより、ターゲット14にガラス微粒子を吹き付けて堆積させるとともに、ターゲット14を徐々に上昇させ、ターゲット14の軸方向下方にガラス微粒子堆積体17を成長させていく。
このとき、制御装置41は、輝度測定装置21からの輝度測定信号に基づいて、バーナ15から噴出する火炎Fの輝度分布を求めて測定輝度分布とし、輝度のピーク位置や裾ダレの形状などの輝度の分布形状を記録する。
具体的には、図2(a)に示すように、輝度測定装置21からの輝度測定信号によって得られた火炎Fの可視光の画像に画像処理を施し、バーナ15の上端から所定寸法だけ上方の水平軸をX軸とし、図2(b)に示すように、X軸上の位置における測定輝度分布を割り出す。
具体的には、図2(a)に示すように、輝度測定装置21からの輝度測定信号によって得られた火炎Fの可視光の画像に画像処理を施し、バーナ15の上端から所定寸法だけ上方の水平軸をX軸とし、図2(b)に示すように、X軸上の位置における測定輝度分布を割り出す。
また、制御装置41は、温度測定装置31からの温度測定信号に基づいて、ガラス微粒子の堆積箇所における温度分布を求めて測定温度分布とし、可視化した画像ファイル、ガラス微粒子堆積体17の中心などの特定位置や特定方向の温度分布をグラフ化して記録する。
具体的には、図3(a)に示すように、ガラス微粒子の堆積箇所の赤外光を可視化し、この赤外光にデータ処理を行うことにより、図3(b)に示すように、鉛直方向におけるガラス微粒子の堆積箇所の測定温度分布を割り出す。
具体的には、図3(a)に示すように、ガラス微粒子の堆積箇所の赤外光を可視化し、この赤外光にデータ処理を行うことにより、図3(b)に示すように、鉛直方向におけるガラス微粒子の堆積箇所の測定温度分布を割り出す。
そして、これらの測定輝度分布及び測定温度分布が、ガラス特性が良好なガラス母材となる良好ガラス微粒子堆積体を製造していた時の輝度分布及び温度分布である目標輝度分布及び目標温度分布に対して一致するように、または、誤差が最小となるように、原料ガス及び酸水素ガスの何れか一方の流量を調整する。なお、この調整は、酸水素ガスにおける一方のガス(例えば水素)の流量だけを調整しても良く、また、原料ガス及び酸水素ガスの両方の流量を調整しても良い。また、バーナ15の位置や向きを調整して目標に一致させる(近づける)ことも可能である。
(測定輝度分布を目標輝度分布へ一致させるための調整方法)
まず、下記数式で、測定した輝度分布をフィッティングさせる。その一例を、図4に示す。
まず、下記数式で、測定した輝度分布をフィッティングさせる。その一例を、図4に示す。
(1)定数A,Cの算出
良好ガラス微粒子堆積体を製造していた時の輝度分布を上式で近似し、定数A,Cを、目標定数として記憶部42に記憶させておき、測定輝度分布に基づいて上式から導き出した定数A,Cである測定定数とを比較する。
良好ガラス微粒子堆積体を製造していた時の輝度分布を上式で近似し、定数A,Cを、目標定数として記憶部42に記憶させておき、測定輝度分布に基づいて上式から導き出した定数A,Cである測定定数とを比較する。
目標定数と測定定数とにずれがあると、測定輝度分布と目標輝度分布にもずれが生じる。
したがって、制御装置41は、測定輝度分布を目標輝度分布に一致させる(近づける)ために、記憶部42に記憶させた目標定数を引き出し、測定定数が目標定数となるように各種条件の調整を行う。
したがって、制御装置41は、測定輝度分布を目標輝度分布に一致させる(近づける)ために、記憶部42に記憶させた目標定数を引き出し、測定定数が目標定数となるように各種条件の調整を行う。
測定輝度分布を目標輝度分布に一致させるための条件の調整の仕方としては、例えば、図5及び図6に示すように、調整可能な水素などの各種のガス流量条件に対する定数A,Cの変化の相関関係のデータを予め求めてデータベース化して記憶部42に記憶させておき、この記憶部42から相関関係のデータを引き出し、このデータに基づいて条件を調整する。
(2)定数B,Nの設定
水平方向のX軸におけるデータ点数である定数Nは、測定機器等の能力や設定に依存するもので、300〜1200程度の範囲で設定され、例えば、N=640程度に設定される。
水平方向のX軸におけるデータ点数である定数Nは、測定機器等の能力や設定に依存するもので、300〜1200程度の範囲で設定され、例えば、N=640程度に設定される。
補正係数である定数Bは、X軸の測定位置ずれや輝度分布の形状の違いによる輝度のピークの位置のずれを補正する係数であり、定数Nに依存して変化する。
定点測定を前提とし、輝度のピークの位置が測定範囲のほぼ中央になるように測定すれば、全データ点数の半分を超えてピークがずれることは無いので、この定数Bは、0〜600程度となる。
定点測定を前提とし、輝度のピークの位置が測定範囲のほぼ中央になるように測定すれば、全データ点数の半分を超えてピークがずれることは無いので、この定数Bは、0〜600程度となる。
(測定温度分布を目標温度分布へ一致させるための調整方法)
ガラス特性が良好なガラス母材となる良好ガラス微粒子堆積体を製造していた時に測定した目標温度分布のデータを記憶部42に記憶しておき、この目標温度分布と、例えばピーク温度を中心として代表点(例えば10点程度)の測定温度分布とを比較する。そして、例えば最小二乗法などで各点における誤差が最小となるように、ガラス微粒子堆積体17の製造時における原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整する。なお、温度と範囲を設定し、目標温度分布と同じ範囲に入るように、原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整しても良い。
ガラス特性が良好なガラス母材となる良好ガラス微粒子堆積体を製造していた時に測定した目標温度分布のデータを記憶部42に記憶しておき、この目標温度分布と、例えばピーク温度を中心として代表点(例えば10点程度)の測定温度分布とを比較する。そして、例えば最小二乗法などで各点における誤差が最小となるように、ガラス微粒子堆積体17の製造時における原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整する。なお、温度と範囲を設定し、目標温度分布と同じ範囲に入るように、原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整しても良い。
目標温度分布の温度と範囲は、例えば、次のようになる。
最高温度:630℃〜660℃
400℃以上の領域(軸方向の長さ):40mm〜70mm
500℃以上の領域:20mm〜25mm
600℃以上の領域:3mm〜8mm
最高温度:630℃〜660℃
400℃以上の領域(軸方向の長さ):40mm〜70mm
500℃以上の領域:20mm〜25mm
600℃以上の領域:3mm〜8mm
以上説明したように、上記実施形態に係るガラス微粒子堆積体の製造方法によれば、バーナ15からの火炎Fの輝度分布とガラス微粒子の堆積箇所の温度分布の両方を測定する。そして、これらの測定データに基づいて、原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を制御することで、良好なガラス微粒子堆積体17を製造したときの製造条件を安定して再現することができる。これにより、良好なガラス微粒子堆積体17を高い再現性で製造することができ、歩留まりを高めて製造費を低減させることができる。
14:ターゲット、15:バーナ、17:ガラス微粒子堆積体、A:輝度のピークの中心からのズレ、B:補正係数、C:輝度のピークの鋭さ、N:X軸方向のデータ点数、X:水平方向の軸
Claims (4)
- バーナから原料ガスを含む酸水素火炎をターゲットに吹き付け、酸水素火炎による加水分解反応で生成されるガラス微粒子を前記ターゲットに堆積させてガラス微粒子堆積体を製造するガラス微粒子堆積体の製造方法であって、
前記バーナから噴出される酸水素火炎の輝度分布及び前記ガラス微粒子の堆積箇所の温度分布を測定し、これらの測定輝度分布及び測定温度分布が、良好なガラス微粒子堆積体を製造したときと同じとなるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。 - 請求項1に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法であって、
良好なガラス微粒子堆積体を製造したときの酸水素火炎の輝度分布及びガラス微粒子の堆積箇所の温度分布を目標輝度分布及び目標温度分布として予め求めておき、
前記測定輝度分布及び測定温度分布を前記目標輝度分布及び目標温度分布と比較し、これらの差が最小となるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。 - 請求項2または3に記載のガラス微粒子堆積体の製造方法であって、
前記目標温度分布と前記測定温度分布とを、ピーク温度を中心とした代表点で比較し、両者の誤差が最小となるように、前記バーナへ供給する原料ガス及び酸水素ガスの少なくとも何れか一方の流量を調整することを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2013040070A true JP2013040070A (ja) | 2013-02-28 |
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---|---|---|---|---|
WO2015072309A1 (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | 住友電気工業株式会社 | 光干渉断層撮像用光プローブ及びその製造方法 |
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2011
- 2011-08-15 JP JP2011177456A patent/JP2013040070A/ja not_active Withdrawn
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WO2015072309A1 (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-21 | 住友電気工業株式会社 | 光干渉断層撮像用光プローブ及びその製造方法 |
US9645322B2 (en) | 2013-11-18 | 2017-05-09 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical probe for optical coherence tomography and manufacturing method therefor |
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