JP2013029779A - Image holding body for image forming apparatus, process cartridge, and image forming apparatus - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
Description
本発明は、画像形成装置用像保持体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。 The present invention relates to an image carrier for an image forming apparatus, a process cartridge, and an image forming apparatus.
有機光導電性化合物を主成分とする感光層を有する感光体は、従来用いられてきた無機光導電体(セレン、酸化亜鉛、硫化カドミウム又はシリコン等)を主成分として含有する感光体に比較して、製造が比較的容易であること、安価であること、取扱いが容易であること、熱安定性が優れていること等多くの利点を有し、盛んに研究がなされている。 A photoreceptor having a photosensitive layer containing an organic photoconductive compound as a main component is compared with a photoreceptor containing an inorganic photoconductor (such as selenium, zinc oxide, cadmium sulfide or silicon), which has been conventionally used, as a main component. Therefore, it has been actively researched with many advantages such as being relatively easy to manufacture, inexpensive, easy to handle, and excellent thermal stability.
特に、光導電体の電荷発生機能と電荷輸送機能とをそれぞれ別個の機能層に分担させ、前者の発生機能を有する材料を電荷発生層に、後者の輸送機能を有する材料を電荷輸送層にそれぞれ含有させる、積層タイプの機能分離型感光層を有する感光体がすでに実用化されている。 In particular, the charge generation function and the charge transport function of the photoconductor are assigned to separate functional layers, the former material having the generation function is used as the charge generation layer, and the latter material having the transport function is used as the charge transport layer. A photoreceptor having a laminated type function separation type photosensitive layer to be contained has already been put into practical use.
中でも、光導電性化合物として、その高い電荷移動度からテトラアリールベンジジン化合物が盛んに研究されている(例えば、特許文献1、特許文献2、特許文献3、特許文献4、及び特許文献5参照)。 Among these, tetraarylbenzidine compounds have been actively studied as photoconductive compounds because of their high charge mobility (see, for example, Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3, Patent Document 4, and Patent Document 5). .
本発明の課題は、特許文献1に記載の発明に比べて、繰り返し使用による残留電位の変動が低い画像形成装置用像保持体を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an image carrier for an image forming apparatus in which a change in residual potential due to repeated use is low as compared with the invention described in Patent Document 1.
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項1に係る発明は、
支持体と、該支持体上に下記一般式(I)で示される化合物を含有する感光層と、を有する画像形成装置用像保持体である。
The above problem is solved by the following means. That is,
The invention according to claim 1
An image carrier for an image forming apparatus, comprising: a support; and a photosensitive layer containing a compound represented by the following general formula (I) on the support.
一般式(I)中、R1は、各々独立に、置換又は未置換の直鎖又は分岐の炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、Arは、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の1価の芳香族複素環基を表し、nは各々独立に0以上7以下を表す。 In general formula (I), each R 1 independently represents a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, substituted or unsubstituted Monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 unsubstituted aromatic rings, substituted or unsubstituted monovalent condensed aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, or substituted or unsubstituted Represents a monovalent aromatic heterocyclic group, and each n independently represents 0 or more and 7 or less.
請求項2に係る発明は、
支持体と、該支持体上に下記一般式(II−1)で示される化合物を含有する感光層と、を有する画像形成装置用像保持体である。
The invention according to claim 2
An image carrier for an image forming apparatus, comprising: a support; and a photosensitive layer containing a compound represented by the following general formula (II-1) on the support.
一般式(II−1)中、Y1は、各々独立に、置換又は未置換の2価の炭化水素基を表し、A1は下記一般式(II−2)で示される基を表し、R2は、各々独立に、水素原子、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数1以上6以下の1価の直鎖状炭化水素基、又は置換若しくは未置換の炭素数2以上10以下の1価の分枝状炭化水素基を表す。mは各々独立に1以上5以下の整数を表し、pは5以上5,000以下の整数を表す。 In General Formula (II-1), each Y 1 independently represents a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group, A 1 represents a group represented by the following General Formula (II-2), R 2 is independently a hydrogen atom, a monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 or more and 10 or less substituted or unsubstituted aromatic rings, or a monovalent condensation having 2 or more and 10 or less substituted or unsubstituted aromatic rings. Aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted monovalent linear hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or substituted or unsubstituted monovalent branched hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms Represents. Each m independently represents an integer of 1 to 5, and p represents an integer of 5 to 5,000.
一般式(II−2)中、Arは置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の1価の芳香族複素環基を表し、nは各々独立に0以上7以下を表す。 In general formula (II-2), Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, and a substituted or unsubstituted aromatic ring number. It represents a monovalent condensed aromatic hydrocarbon group of 2 or more and 10 or less, or a substituted or unsubstituted monovalent aromatic heterocyclic group, and n independently represents 0 or more and 7 or less.
請求項3に係る発明は、
請求項1又は請求項2に記載の画像形成装置用像保持体と、前記画像形成装置用像保持体を帯電させる帯電手段、帯電された前記画像形成装置用像保持体を露光して静電潜像を形成させる露光手段、前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段、及び前記画像形成装置用像保持体を清掃する清掃手段から選ばれる少なくとも1つと、を少なくとも有するプロセスカートリッジである。
The invention according to claim 3
An image holding body for an image forming apparatus according to claim 1 or 2, a charging unit for charging the image holding body for an image forming apparatus, and exposing the charged image holding body for an image forming apparatus to electrostatic An exposure unit that forms a latent image, a developing unit that develops the electrostatic latent image to form a toner image, a transfer unit that transfers the toner image to a transfer target, and the image carrier for the image forming apparatus are cleaned. A process cartridge having at least one selected from cleaning means.
請求項4に係る発明は、
請求項1又は請求項2に記載の画像形成装置用像保持体と、前記画像形成装置用像保持体を帯電させる帯電手段と、帯電された前記画像形成装置用像保持体を露光して静電潜像を形成させる露光手段と、前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備える画像形成装置である。
The invention according to claim 4
An image holding member for an image forming apparatus according to claim 1, a charging means for charging the image holding member for an image forming apparatus, and the charged image holding member for an image forming apparatus are exposed and statically exposed. An image forming apparatus comprising: an exposure unit that forms an electrostatic latent image; a developing unit that develops the electrostatic latent image to form a toner image; and a transfer unit that transfers the toner image to a transfer target.
請求項1に係る発明によれば、特許文献1に記載の発明に比べて、繰り返し使用による残留電位の変動が低い画像形成装置用像保持体が提供される。
請求項2に係る発明によれば、特許文献1に記載の発明に比べて、繰り返し使用による残留電位の変動が低い画像形成装置用像保持体が提供される。
請求項3に係る発明によれば、特許文献1に記載の発明に比べて、画像形成装置で使用した際に、繰り返し使用による細線再現性に優れるプロセスカートリッジが提供される。
請求項4に係る発明によれば、特許文献1に記載の発明に比べて、繰り返し使用による細線再現性に優れる画像形成装置が提供される。
According to the first aspect of the present invention, there is provided an image carrier for an image forming apparatus in which the variation of the residual potential due to repeated use is lower than that of the invention described in Patent Document 1.
According to the second aspect of the present invention, there is provided an image carrier for an image forming apparatus in which the variation of the residual potential due to repeated use is lower than that of the invention described in Patent Document 1.
According to the third aspect of the present invention, there is provided a process cartridge that is excellent in fine line reproducibility by repeated use when used in an image forming apparatus as compared with the invention described in Patent Document 1.
According to the invention of claim 4, an image forming apparatus is provided that is superior in thin line reproducibility by repeated use as compared with the invention described in Patent Document 1.
以下、本発明の好ましい実施形態について説明する。
本実施形態では、下記一般式(I)で示される化合物及び下記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方を、電荷輸送材料として用いることにより、画像形成装置用像保持体が提供される。すなわち、支持体(例えば導電性支持体)上に感光層が形成された画像形成装置用像保持体であって、当該感光層は下記一般式(I)で示される化合物及び下記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方を含有する。
なお、本実施形態における導電性支持体とは、JIS K 7194「導電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験方法」に基づき測定した、表面の体積抵抗率が107Ω・cm未満である支持体を指す。すなわち導電性支持体は、上記方法に基づき測定した体積抵抗率が107Ω・cm未満である導電性材料で形成された支持体ものであってもよく、基材表面に前記導電性材料で形成された導電層を有する支持体であってもよい。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described.
In this embodiment, an image carrier for an image forming apparatus is provided by using at least one of a compound represented by the following general formula (I) and a compound represented by the following general formula (II-1) as a charge transport material. Is done. That is, an image carrier for an image forming apparatus in which a photosensitive layer is formed on a support (for example, a conductive support), the photosensitive layer comprising a compound represented by the following general formula (I) and the following general formula (II): -1) at least one of the compounds shown.
The conductive support in the present embodiment has a surface volume resistivity of less than 10 7 Ω · cm, measured based on JIS K 7194 “Resistivity Test Method by Conductive Plastic 4-Probe Method”. Refers to the support. That is, the conductive support may be a support formed of a conductive material having a volume resistivity measured based on the above method of less than 10 7 Ω · cm. The support body which has the formed conductive layer may be sufficient.
該画像形成装置用像保持体における感光層は、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一層に含む単層型感光層、又は電荷発生材料を含む層と電荷輸送材料を含む層とが隣接するように別個に設けられている機能分離型感光層のいずれでもよく、電荷輸送材料として下記一般式(I)で示される化合物及び下記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方を含有させるものである。 The photosensitive layer in the image carrier for the image forming apparatus is a single layer type photosensitive layer containing the charge generating material and the charge transporting material in the same layer, or a layer containing the charge generating material and a layer containing the charge transporting material are adjacent to each other. Any of the function-separated photosensitive layers provided separately, and contains at least one of a compound represented by the following general formula (I) and a compound represented by the following general formula (II-1) as a charge transport material. It is something to be made.
また、電荷発生材料としては、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン又はヒドロキシガリウムフタロシアニン等の公知の電荷発生材料を用いうる。なお、該画像形成装置用像保持体は、最表面上(導電性支持体から最も離れた位置)に保護層を備えたものであってもよく、この場合における保護層は、電荷輸送性を有する架橋性シリコーン樹脂を含んでなることが好ましい。 As the charge generation material, a known charge generation material such as oxytitanium phthalocyanine, chlorogallium phthalocyanine, or hydroxygallium phthalocyanine can be used. The image carrier for an image forming apparatus may be provided with a protective layer on the outermost surface (position farthest from the conductive support). In this case, the protective layer has a charge transport property. It preferably comprises a crosslinkable silicone resin.
(画像形成装置用像保持体)
本実施形態に係る画像形成装置用像保持体は、支持体上に、下記一般式(I)で示される化合物及び下記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方を含有する感光層が形成された画像形成装置用像保持体である。
(Image carrier for image forming apparatus)
The image carrier for an image forming apparatus according to the exemplary embodiment includes, on a support, a photosensitive layer containing at least one of a compound represented by the following general formula (I) and a compound represented by the following general formula (II-1). Is an image holding body for an image forming apparatus.
<一般式(I)で示される化合物>
以下、下記一般式(I)で示される化合物について、詳細に説明する。
<Compound represented by formula (I)>
Hereinafter, the compound represented by the following general formula (I) will be described in detail.
一般式(I)中、R1は、各々独立に、置換又は未置換の直鎖又は分岐の炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、Arは、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の1価の芳香族複素環基を表し、nは各々独立に0以上7以下を表す。 In general formula (I), each R 1 independently represents a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, substituted or unsubstituted Monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 unsubstituted aromatic rings, substituted or unsubstituted monovalent condensed aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, or substituted or unsubstituted Represents a monovalent aromatic heterocyclic group, and each n independently represents 0 or more and 7 or less.
一般式(I)中のR1について説明する。
上記の通り、一般式(I)中のR1は、各々独立に、置換又は未置換の直鎖又は分岐の炭素数1以上8以下のアルキル基を表す。
R1で表されるアルキル基は、各々独立に、炭素数1以上6以下であることが好ましく、炭素数1以上4以下であることがより好ましい。
R1で表されるアルキル基は、直鎖状又は分岐状であり、結晶性維持および溶解性の観点からは、好ましくは直鎖状アルキル基である。
R 1 in the general formula (I) will be described.
As described above, R 1 in general formula (I) each independently represents a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
The alkyl groups represented by R 1 each independently preferably have 1 to 6 carbon atoms, and more preferably 1 to 4 carbon atoms.
The alkyl group represented by R 1 is linear or branched, and is preferably a linear alkyl group from the viewpoint of maintaining crystallinity and solubility.
一般式(I)中において、R1で表されるアルキル基が置換基を有する場合、該置換基としては、アリール基又は複素環基が挙げられる。
前記置換基としてのアリール基は、炭素数6以上20以下のものが好ましく、例えば、フェニル基、トルイル基、又はナフチル基等が挙げられる。
前記置換基としての複素環基とは、炭素と水素以外の元素を含む環(すなわち複素環)を有する基を表す。複素環は、その環骨格を構成する原子数(Nr)が、5又は6であることが好ましい。環骨格を構成する炭素原子以外の原子(異種原子)の種類及び数は特に限定されないが、例えば、硫黄原子、窒素原子、酸素原子、セレン原子、珪素、リン原子等が好ましく用いられ、前記環骨格中には2種類以上の異種原子が含まれてもよく、また2個以上の異種原子が含まれてもよい。
In the general formula (I), when the alkyl group represented by R 1 has a substituent, examples of the substituent include an aryl group and a heterocyclic group.
The aryl group as the substituent preferably has 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include a phenyl group, a toluyl group, and a naphthyl group.
The heterocyclic group as the substituent represents a group having a ring containing an element other than carbon and hydrogen (that is, a heterocyclic ring). The number of atoms (Nr) constituting the ring skeleton of the heterocyclic ring is preferably 5 or 6. The type and number of atoms (heterogeneous atoms) other than carbon atoms constituting the ring skeleton are not particularly limited, and for example, a sulfur atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a selenium atom, a silicon, a phosphorus atom, and the like are preferably used. The skeleton may contain two or more kinds of heteroatoms, and may contain two or more kinds of heteroatoms.
5員の複素環としては、例えば、チオフェン、ピロール、フラン、イミダゾール、オキサゾール、セレノフェン、チアゾール、チアジアゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、シロール、又は前記化合物の3位及び4位の炭素を窒素で置き換えた複素環が好ましく用いられる。5員の複素環を有する芳香族複素環としては、他に、ベンゾチオフェン、ベンズイミダゾール、インドールなどを含む。
6員の複素環としては、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピペラジンが好ましく用いられる。
Examples of the 5-membered heterocyclic ring include thiophene, pyrrole, furan, imidazole, oxazole, selenophene, thiazole, thiadiazole, pyrazole, isoxazole, isothiazole, silole, or the 3rd and 4th carbons of the above compound with nitrogen. A substituted heterocycle is preferably used. Other examples of the aromatic heterocycle having a 5-membered heterocycle include benzothiophene, benzimidazole, and indole.
As the 6-membered heterocyclic ring, pyridine, pyrimidine, pyrazine, and piperazine are preferably used.
なお、前記置換基としての複素環基は、該複素環に芳香環が置換しているものを包含し、また、芳香環に複素環が置換しているものも含まれる。 The heterocyclic group as the substituent includes those in which the heterocyclic ring is substituted with an aromatic ring, and those in which the aromatic ring is substituted with a heterocyclic ring.
一般式(I)におけるR1で表されるアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基,プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、を挙げられ、メチル基、エチル基,プロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、又はn−オクチル基であることが好ましく、メチル基、ブチル基がより好ましく、メチル基又はブチル基であることが製造容易性、結晶性維持の観点から更に好ましく、入手の容易性の観点からはメチル基が更に好ましい。 Specific examples of the alkyl group represented by R 1 in the general formula (I) include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, an n-hexyl group, and an n-octyl group. A methyl group, an ethyl group, a propyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, an n-hexyl group, or an n-octyl group, preferably a methyl group or a butyl group, Group or butyl group is more preferable from the viewpoint of ease of production and maintaining crystallinity, and methyl group is more preferable from the viewpoint of availability.
なお、R1は、置換若しくは未置換の直鎖若しくは分岐の炭素数1以上8以下のアルキル基であり、この範囲内ではアルキル基の種類の違いによるイオン化ポテンシャルや電荷輸送性に与える影響は少ない。
また、一般式(I)中に複数存在するR1は、同一でも異なっていてもよいが、製造上の観点から同一であることが好ましい。
R 1 is a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Within this range, there is little influence on the ionization potential and charge transportability due to the difference in the type of the alkyl group. .
Further, a plurality of R 1 present in the general formula (I) may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of production.
一般式(I)中のArについて説明する。
一般式(I)中、Arは、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の1価の芳香族複素環基を表す。
Ar in the general formula (I) will be described.
In general formula (I), Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, and a substituted or unsubstituted aromatic ring number of 2. It represents a monovalent condensed aromatic hydrocarbon group of 10 or less or a substituted or unsubstituted monovalent aromatic heterocyclic group.
ここで「多核芳香族炭化水素基」及び「縮合芳香族炭化水素基」は、炭素と水素から構成される芳香環及び後述する複素環からなる群より選ばれる2以上の環が存在する基であり、具体的には以下の通りである。 Here, the “polynuclear aromatic hydrocarbon group” and the “condensed aromatic hydrocarbon group” are groups in which two or more rings selected from the group consisting of an aromatic ring composed of carbon and hydrogen and a heterocyclic ring described later are present. Yes, specifically:
「多核芳香族炭化水素基」とは、炭素と水素から構成される芳香環及び後述する複素環からなる群より選ばれる2以上の環が存在し、環同士が炭素−炭素結合によって結合している炭化水素基を表す。具体的には、芳香環を構成する炭素同士が直接炭素−炭素結合によって結合している炭化水素基や、芳香環同士が炭素数1以上18以下の炭素鎖(アルキル鎖又はアルキレン鎖)によって連結されている炭化水素基等が挙げられる。
多核芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、ビフェニル、ターフェニル、スチルベン、トリフェニルエチレン等が挙げられる。そして、「多核芳香族炭化水素基」は、多核芳香族炭化水素基からなる置換基であり、例えばビフェニルからなる置換基、すなわちビフェニレン基等が挙げられる。
なお、上記多核芳香族炭化水素基を構成する環は、後述する縮合芳香族炭化水素基であってもよく、芳香族複素環であってもよい。多核芳香族炭化水素基を構成する縮合芳香族炭化水素基及び芳香族複素環の具体例としては、例えば後述する具体例の化合物と同様のものが挙げられる。
The “polynuclear aromatic hydrocarbon group” means that there are two or more rings selected from the group consisting of an aromatic ring composed of carbon and hydrogen and a heterocyclic ring described later, and the rings are bonded by a carbon-carbon bond. Represents a hydrocarbon group. Specifically, a hydrocarbon group in which carbons constituting an aromatic ring are directly bonded by a carbon-carbon bond, or aromatic rings are connected by a carbon chain having 1 to 18 carbon atoms (an alkyl chain or an alkylene chain). The hydrocarbon group etc. which are made are mentioned.
Specific examples of the polynuclear aromatic hydrocarbon group include biphenyl, terphenyl, stilbene, and triphenylethylene. The “polynuclear aromatic hydrocarbon group” is a substituent composed of a polynuclear aromatic hydrocarbon group, and examples thereof include a substituent composed of biphenyl, that is, a biphenylene group.
The ring constituting the polynuclear aromatic hydrocarbon group may be a condensed aromatic hydrocarbon group described later or an aromatic heterocycle. Specific examples of the condensed aromatic hydrocarbon group and the aromatic heterocyclic ring constituting the polynuclear aromatic hydrocarbon group include the same compounds as the specific examples described later.
また、「縮合芳香族炭化水素基」とは、炭素と水素から構成される芳香環及び後述する複素環からなる群より選ばれる2以上の環が存在し、これらの環同士が隣接して結合する1対の炭素原子を共有している炭化水素基を表す。具体的には、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、フルオレン等が挙げられる。そして、「縮合芳香族炭化水素基」は、縮合芳香族炭化水素基からなる置換基であり、例えばナフタレンからなる置換基、すなわちナフチル基等が挙げられる。 In addition, the “condensed aromatic hydrocarbon group” includes two or more rings selected from the group consisting of an aromatic ring composed of carbon and hydrogen and a heterocyclic ring described later, and these rings are adjacently bonded. Represents a hydrocarbon group sharing a pair of carbon atoms. Specific examples include naphthalene, anthracene, phenanthrene, pyrene, perylene, and fluorene. The “condensed aromatic hydrocarbon group” is a substituent composed of a condensed aromatic hydrocarbon group, and examples thereof include a substituent composed of naphthalene, that is, a naphthyl group.
また、「芳香族複素環」は、炭素と水素以外の元素も含む芳香環を表す。そして、芳香族複素環基は、芳香族複素環からなる置換基である。
芳香族複素環の環骨格を構成する原子数(Nr)としては、例えば、Nr=5、又はNr=6等が挙げられる。また、環骨格を構成する炭素原子以外の原子(異種原子)の種類及び数は限定されない。異種原子の種類としては、例えば、硫黄原子、窒素原子、酸素原子、セレン原子、珪素原子、りん原子等が挙げられる。また芳香族複素間は、環骨格中に2個以上の異種原子が含まれていてもよく、2種以上の異種原子が含まれていてもよい
The “aromatic heterocycle” represents an aromatic ring containing an element other than carbon and hydrogen. The aromatic heterocyclic group is a substituent composed of an aromatic heterocyclic ring.
Examples of the number of atoms (Nr) constituting the ring skeleton of the aromatic heterocyclic ring include Nr = 5 or Nr = 6. Further, the type and number of atoms (heterogeneous atoms) other than carbon atoms constituting the ring skeleton are not limited. Examples of the hetero atom include a sulfur atom, a nitrogen atom, an oxygen atom, a selenium atom, a silicon atom, and a phosphorus atom. In addition, the aromatic heterocycle may contain two or more heteroatoms in the ring skeleton, and may contain two or more heteroatoms.
特に、Nr=5の環骨格構造(すなわち5員環構造)を有する複素環としては、例えば、チオフェン、チオフィン、ピロール、フラン、イミダゾール、オキサゾール、セレノフェン、チアゾール、チアジアゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、イソチアゾール、シロール、又はこれらの3位及び4位の炭素をさらに窒素で置換した複素環等が挙げられる。また5員環構造を有する複素環としては、上記のほかに、ベンゾチオフェン、ベンズイミダゾール、インドール等も挙げられる。
またNr=6の環骨格構造(すなわち6員環構造)を有する複素環としては、例えば、ピリジン、ピリミジン、ピラジン、ピペラジン等が挙げられる。
In particular, as a heterocyclic ring having a ring skeleton structure of Nr = 5 (that is, a 5-membered ring structure), for example, thiophene, thiofin, pyrrole, furan, imidazole, oxazole, selenophene, thiazole, thiadiazole, pyrazole, isoxazole, isothiazole , Silole, or a heterocyclic ring obtained by further substituting the 3- and 4-position carbons with nitrogen. Examples of the heterocyclic ring having a 5-membered ring structure include benzothiophene, benzimidazole, indole and the like in addition to the above.
Examples of the heterocyclic ring having a ring skeleton structure of Nr = 6 (that is, a 6-membered ring structure) include pyridine, pyrimidine, pyrazine, piperazine and the like.
上記フェニル基、多核芳香族炭化水素基、縮合芳香族炭化水素基、又は芳香族複素環基を置換する置換基としては、例えば、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、アリール基、アラルキル基、置換アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられ、その中でも特に、例えば水素原子、アルキル基、又はアルコキシ基等が挙げられる。
前記アルキル基としては、例えば炭素数1以上10以下のものが挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基等が挙げられる。
前記アルコキシ基としては、例えば炭素数1以上10以下のものが挙げられ、具体的には、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基等が挙げられる。
前記アリール基としては、例えば炭素数6以上20以下のものが挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、トルイル基等が挙げられる。
前記アラルキル基としては、例えば炭素数7以上20以下のものが挙げられ、具体的には、例えば、ベンジル基、フェネチル基等が挙げられる。
置換アミノ基の置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、アラルキル基が挙げられ、アルキル基、アリール基、及びアラルキル基の具体例は前述の通りである。また置換アミノ基の具体例としては、例えば、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。
Examples of the substituent for substituting the phenyl group, polynuclear aromatic hydrocarbon group, condensed aromatic hydrocarbon group, or aromatic heterocyclic group include a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a phenoxy group, an aryl group, and an aralkyl. A group, a substituted amino group, a halogen atom, and the like. Among them, for example, a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and the like can be given.
As said alkyl group, a C1-C10 thing is mentioned, for example, Specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group etc. are mentioned, for example.
Examples of the alkoxy group include those having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, and an isopropoxy group.
As said aryl group, a C6-C20 thing is mentioned, for example, Specifically, a phenyl group, a toluyl group, etc. are mentioned, for example.
Examples of the aralkyl group include those having 7 to 20 carbon atoms, and specific examples include a benzyl group and a phenethyl group.
Examples of the substituent of the substituted amino group include an alkyl group, an aryl group, and an aralkyl group, and specific examples of the alkyl group, the aryl group, and the aralkyl group are as described above. Specific examples of the substituted amino group include a diphenylamino group.
上記一般式(I)中のArとしては、上記の中でも、移動度及びハンドリングしやすさの観点から、置換若しくは未置換のフェニル基又は置換若しくは未置換の多核芳香族炭化水素基が好ましく、置換若しくは未置換のフェニル基又は縮合芳香族炭化水素基及び芳香族複素環を含まない置換若しくは未置換の多核芳香族炭化水素基がより好ましく、置換若しくは未置換のフェニル基又は芳香環を構成する炭素同士が直接炭素−炭素結合によって結合した置換若しくは未置換の多核芳香族炭化水素基、がさらに好ましい。
また上記一般式(I)中のArにおける芳香環数としては、樹脂との相溶性及び合成しやすさの観点から、1以上6以下が好ましく、1以上3以下がより好ましく、1又は2がさらに好ましい。すなわち、上記一般式(I)中のArとしては、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換のビフェニル基、又は置換若しくは未置換のターフェニル基がより好ましく、未置換のフェニル基、未置換のビフェニル基、又は未置換のターフェニル基がさらに好ましい。
Among the above, Ar in the general formula (I) is preferably a substituted or unsubstituted phenyl group or a substituted or unsubstituted polynuclear aromatic hydrocarbon group from the viewpoint of mobility and ease of handling. Or a substituted or unsubstituted polynuclear aromatic hydrocarbon group not containing an unsubstituted phenyl group or a condensed aromatic hydrocarbon group and an aromatic heterocycle, and a carbon constituting the substituted or unsubstituted phenyl group or aromatic ring. A substituted or unsubstituted polynuclear aromatic hydrocarbon group in which they are directly bonded by a carbon-carbon bond is more preferable.
The number of aromatic rings in Ar in the general formula (I) is preferably 1 or more and 6 or less, more preferably 1 or more and 3 or less, and more preferably 1 or 2 from the viewpoint of compatibility with the resin and ease of synthesis. Further preferred. That is, as Ar in the general formula (I), a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted biphenyl group, or a substituted or unsubstituted terphenyl group is more preferable. A substituted biphenyl group or an unsubstituted terphenyl group is more preferred.
一般式(I)中のnについて説明する。
一般式(I)中のnは、各々独立に0以上7以下である。一般式(I)における2つのnは、同一であってもよく、異なっていてもよいが、製造上の観点から同一であることが好ましい。一般式(I)中のnは、電荷輸送性の観点からは小さいほうが好ましいが、nが小さすぎるとカルボニル基の双極子モーメントの影響により電荷移動度が下がるため、1以上3以下が好ましく、1が最も好ましい。
N in the general formula (I) will be described.
N in general formula (I) is 0 or more and 7 or less each independently. The two n's in general formula (I) may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of production. N in the general formula (I) is preferably small from the viewpoint of charge transport properties, but if n is too small, the charge mobility is lowered due to the influence of the dipole moment of the carbonyl group, and is preferably 1 or more and 3 or less. 1 is most preferred.
前記一般式(I)で示される化合物は、ジベンゾチオフェンジオキサイド骨格を有するため、電荷輸送性が良好であるとともに、樹脂との相溶性も良好であると考えられる。 Since the compound represented by the general formula (I) has a dibenzothiophene dioxide skeleton, it is considered that the compound has good charge transportability and good compatibility with the resin.
以下に、一般式(I)で示されるジベンゾチオフェンジオキサイド化合物の具体例化合物1から30(下記表における具体例化合物番号1から具体例化合物番号30の化合物)を下記に示すが、これらに限定されるものではない。
なお、具体例化合物1から30におけるR1、Ar、及びnは、上記一般式(I)におけるR1、Ar、及びnを意味する。
Hereinafter, specific compounds 1 to 30 of the dibenzothiophene dioxide compound represented by the general formula (I) (compounds of specific compound number 1 to specific compound number 30 in the following table) are shown below, but are not limited thereto. Is not to be done.
Note that R 1 , Ar, and n in the specific examples 1 to 30 mean R 1 , Ar, and n in the general formula (I).
<一般式(I)で示される化合物の製造方法>
以下、一般式(I)で示される化合物の製造方法について具体的に説明する。
本実施形態においては、例えば、下記一般式(III)で示されるハロゲン化合物と下記一般式(IV)で示されるアセトアミド化合物を銅触媒でカップリング反応を行うか、又は下記一般式(V)で示されるアセトアミド化合物と下記一般式(VI)で示されるハロゲン化合物を銅触媒でカップリング反応を行うことにより、下記一般式(VII)で示されるジアリールアミンが得られる。
<Method for producing compound represented by formula (I)>
Hereafter, the manufacturing method of the compound shown by general formula (I) is demonstrated concretely.
In the present embodiment, for example, a coupling reaction of a halogen compound represented by the following general formula (III) and an acetamide compound represented by the following general formula (IV) with a copper catalyst is performed, or the following general formula (V): A diarylamine represented by the following general formula (VII) is obtained by performing a coupling reaction of the acetamide compound represented by the formula and the halogen compound represented by the following general formula (VI) with a copper catalyst.
次いで下記一般式(VII)で示されるジアリールアミンと下記一般式(VIII)で示されるジハロゲン化合物とを銅触媒でカップリング反応を行うことにより、一般式(I)で示されるジベンゾチオフェンオキサイド化合物が得られる。 Next, a diarylamine represented by the following general formula (VII) and a dihalogen compound represented by the following general formula (VIII) are subjected to a coupling reaction with a copper catalyst, whereby the dibenzothiophene oxide compound represented by the general formula (I) is obtained. can get.
一般式(III)中、R1は一般式(I)中のR1と同様であり、Gは塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を示す。また、一般式(IV)中、Arは一般式(I)中のArと同様であり、Acはアセチル基を示す。 In the general formula (III), R 1 is the same as R 1 in the general formula (I), G represents a chlorine atom, a bromine atom, or iodine atom. In general formula (IV), Ar is the same as Ar in general formula (I), and Ac represents an acetyl group.
一般式(V)及び(VI)中、R1、Ac、Ar、及びGは前述と同様である。 In the general formulas (V) and (VI), R 1 , Ac, Ar, and G are the same as described above.
一般式(VII)中、Ar及びR1は前述と同様である。 In general formula (VII), Ar and R 1 are the same as described above.
一般式(VIII)中、Gは前述と同様である。 In general formula (VIII), G is the same as described above.
上記カップッリング反応は、一般式(IV)又は(V)で示されるアセトアミド化合物1当量に対して、一般式(III)又は(VI)で示されるハロゲン化合物を、例えば1.0当量以上1.5当量以下、好ましくは1.0当量以上1.2当量以下で用いられる。
上記カップリング反応に用いられる上記銅触媒としては、例えば、銅紛、酸化第一銅、硫酸銅等が挙げられる。また上記銅触媒は、一般式(IV)又は(V)で示されるアセトアミド化合物1質量部に対して、例えば0.001質量部以上3重量部以下、好ましくは0.01質量部以上2質量部以下で用いられる。
In the above coupling reaction, for example, 1.0 equivalent or more of the halogen compound represented by the general formula (III) or (VI) is added to 1 equivalent of the acetamide compound represented by the general formula (IV) or (V). It is used in an equivalent amount or less, preferably 1.0 equivalent or more and 1.2 equivalent or less.
Examples of the copper catalyst used in the coupling reaction include copper powder, cuprous oxide, copper sulfate, and the like. Moreover, the said copper catalyst is 0.001 mass part or more and 3 mass parts or less with respect to 1 mass part of acetamide compounds shown by general formula (IV) or (V), Preferably it is 0.01 mass part or more and 2 mass parts Used in the following.
上記カップリング反応においては塩基が用いられるが、用いる塩基の具体例としては、例えば、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。また上記塩基は、一般式(IV)又は(V)で示されるアセトアミド化合物1当量に対して、例えば0.5当量以上3当量以下、好ましくは0.7当量以上2当量以下で用いられる。 In the coupling reaction, a base is used. Specific examples of the base to be used include potassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like. The base is used in an amount of, for example, 0.5 equivalents or more and 3 equivalents or less, preferably 0.7 equivalents or more and 2 equivalents or less, with respect to 1 equivalent of the acetamide compound represented by the general formula (IV) or (V).
上記カップリング反応においては、溶媒を用いてもよいし、溶媒を用いなくても良い。溶媒を用いる場合、用いられる溶媒としては、例えば、n−トリデカン、テトラリン、p−シメン、テルピノレン等の高沸点の非水溶性炭化水素系溶剤や、o−ジクロロベンゼン、クロロベンゼン等の高沸点のハロゲン系溶剤等が挙げられる。上記溶媒は、一般式(IV)又は(V)で示されるアセトアミド化合物1質量部に対して、例えば0.1質量部以上3質量部以下、好ましくは0.2質量部以上2質量部以下の範囲で使用される。 In the coupling reaction, a solvent may be used or a solvent may not be used. When a solvent is used, examples of the solvent used include high-boiling water-insoluble hydrocarbon solvents such as n-tridecane, tetralin, p-cymene and terpinolene, and high-boiling halogens such as o-dichlorobenzene and chlorobenzene. System solvents and the like. The solvent is, for example, from 0.1 parts by weight to 3 parts by weight, and preferably from 0.2 parts by weight to 2 parts by weight with respect to 1 part by weight of the acetamide compound represented by the general formula (IV) or (V). Used in range.
また、上記反応は、窒素又はアルゴン等の不活性ガス雰囲気下において、例えば100℃以上300℃以下、好ましくは150以上270℃以下、さらに好ましくは180℃以上230℃以下の温度範囲で、効率よく攪拌しながら行い、さらに反応中に生成する水を除去しながら反応させることが好ましい。 In addition, the above reaction is efficiently performed in a temperature range of, for example, 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, preferably 150 or higher and 270 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or higher and 230 ° C. or lower, in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon. It is preferable to carry out the reaction while stirring and further to remove water generated during the reaction.
反応終了後には、必要に応じて冷却した後、例えばメタノール、エタノール、n−オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、又はグリセリン等の溶剤、及び水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の塩基を用いて、加水分解を行う。
上記加水分解における溶剤の使用量は、一般式(IV)又は(V)で示されるアセトアミド化合物1質量部に対して、例えば0.5質量部以上10質量部以下、好ましくは1質量部以上5質量部以下が挙げられる。また上記加水分解における塩基の使用量は、一般式(IV)又は(V)で示されるアセトアミド化合物1質量部に対して、例えば0.2質量部以上5質量部以下、好ましくは0.3質量部以上3質量部以下が挙げられる。
After completion of the reaction, the reaction mixture is cooled as necessary, and then added with a solvent such as methanol, ethanol, n-octanol, ethylene glycol, propylene glycol, or glycerin, and a base such as sodium hydroxide or potassium hydroxide. Disassemble.
The amount of the solvent used in the hydrolysis is, for example, 0.5 parts by mass or more and 10 parts by mass or less, preferably 1 part by mass or more and 5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the acetamide compound represented by the general formula (IV) or (V). The mass part or less is mentioned. Moreover, the usage-amount of the base in the said hydrolysis is 0.2 mass part or more and 5 mass parts or less with respect to 1 mass part of acetamide compounds shown by general formula (IV) or (V), Preferably it is 0.3 mass. Part or more and 3 parts by weight or less.
また、上記加水分解反応は、例えば、前記カップリング反応を行った後、その反応溶液中に直接上記溶剤及び上記塩基を加え、窒素又はアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で、50℃以上かつ用いる溶剤の沸点以下の温度範囲において、攪拌しながら行う。
また、この場合、カップリング反応でカルボン酸塩が生成して固化するため、反応温度を上げるためには、例えば、溶剤として沸点が150℃以上ものを用いる。
In addition, the hydrolysis reaction is performed, for example, after the coupling reaction is performed, the solvent and the base are directly added to the reaction solution, and used at 50 ° C. or higher in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon. It is carried out with stirring in a temperature range below the boiling point of the solvent.
In this case, since a carboxylate is generated and solidified by a coupling reaction, for example, a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher is used as a solvent in order to increase the reaction temperature.
加水分解反応の終了後、反応生成物を水に注入し、さらに塩酸等で中和することにより一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物を遊離させる。この加水分解反応の後処理において、水に注入した後、さらに塩酸等で中和することにより一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物を遊離させるためには、例えば、水溶性のエチレングリコール、プロピレングリコール、又はグリセリン等を添加することが特に好ましい。 After completion of the hydrolysis reaction, the reaction product is poured into water and further neutralized with hydrochloric acid or the like to liberate the diarylamine compound represented by the general formula (VII). In the post-treatment of this hydrolysis reaction, in order to liberate the diarylamine compound represented by the general formula (VII) by pouring into water and then neutralizing with hydrochloric acid or the like, for example, water-soluble ethylene glycol, It is particularly preferable to add propylene glycol or glycerin.
一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物を遊離させた後、次いで、洗浄し、必要に応じて、溶剤に溶解させた後、シリカゲル、アルミナ、活性白土、活性炭、又はカラム等で精製を行なうか、又は溶液中にこれら吸着剤を添加して不要分を吸着させる等の処理を行う。さらにアセトン、エタノール、酢酸エチル、トルエン等の溶剤から再結晶して精製を行うか、又はメチルエステル若しくはエチルエステル等のアルキルエステル等にエステル化した後、同様の再結晶の操作を行ってもよい。 After the diarylamine compound represented by the general formula (VII) is liberated, it is then washed and, if necessary, dissolved in a solvent, followed by purification with silica gel, alumina, activated clay, activated carbon, column or the like. Alternatively, a treatment such as adding these adsorbents to the solution to adsorb unnecessary components is performed. Further, the recrystallization may be performed by recrystallization from a solvent such as acetone, ethanol, ethyl acetate, and toluene, or the same recrystallization operation may be performed after esterification to an alkyl ester such as methyl ester or ethyl ester. .
次いで、上記で得られた一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物と一般式(VIII)で示されるジハロゲン化合物とを銅触媒によってカップリング反応を行い、必要に応じてメチルエステル若しくはエチルエステル等のアルキルエステルにエステル化することで、一般式(I)で示される化合物が得られる。 Next, the diarylamine compound represented by the general formula (VII) obtained above and the dihalogen compound represented by the general formula (VIII) are subjected to a coupling reaction with a copper catalyst, and a methyl ester or an ethyl ester, if necessary. The compound represented by the general formula (I) is obtained by esterification into an alkyl ester of
前記一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物と一般式(VIII)で示されるジハロゲン化合物とのカップリング反応においては、一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物1当量に対して、例えば1.5当量以上5当量以下、好ましくは1.7当量以上4当量以下で、一般式(VIII)で示されるジハロゲン化合物が用いられる。 In the coupling reaction of the diarylamine compound represented by the general formula (VII) and the dihalogen compound represented by the general formula (VIII), for example, 1 equivalent per 1 equivalent of the diarylamine compound represented by the general formula (VII) A dihalogen compound represented by the general formula (VIII) is used in an amount of 0.5 to 5 equivalents, preferably 1.7 to 4 equivalents.
上記カップリング反応に用いられる上記銅触媒としては、例えば、銅紛、酸化第一銅、硫酸銅等が挙げられる。また上記銅触媒は、一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物1質量部に対して、例えば0.001質量部以上3重量部以下、好ましくは0.01質量部以上2質量部以下で用いられる。 Examples of the copper catalyst used in the coupling reaction include copper powder, cuprous oxide, copper sulfate, and the like. The copper catalyst is used in an amount of 0.001 to 3 parts by weight, preferably 0.01 to 2 parts by weight, based on 1 part by weight of the diarylamine compound represented by the general formula (VII). It is done.
上記カップリング反応においても塩基が用いられるが、用いる塩基の具体例としては、例えば、リン酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。また上記塩基は、一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物1当量に対して、例えば1当量以上6当量以下、好ましくは1.4当量以上4当量以下で用いられる。 In the coupling reaction, a base is used, and specific examples of the base to be used include potassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like. The base is used in an amount of, for example, 1 equivalent to 6 equivalents, preferably 1.4 equivalents to 4 equivalents, relative to 1 equivalent of the diarylamine compound represented by the general formula (VII).
上記カップリング反応においては、必要に応じて溶媒を用いるが、用いられる溶媒としては、例えば、n−トリデカン、テトラリン、p−シメン、テルピノレン等の高沸点の非水溶性炭化水素系溶剤や、o−ジクロロベンゼン、クロロベンゼン等の高沸点のハロゲン系溶剤等が挙げられる。上記溶媒は、一般式(VII)で示されるジアリールアミン化合物1質量部に対して、例えば0.1質量部以上3質量部以下、好ましくは0.2質量部以上2質量部以下の範囲で使用される。 In the coupling reaction, a solvent is used as necessary. Examples of the solvent used include high-boiling water-insoluble hydrocarbon solvents such as n-tridecane, tetralin, p-cymene, and terpinolene, and o -High-boiling halogen solvents such as dichlorobenzene and chlorobenzene. The solvent is used in a range of, for example, 0.1 parts by mass to 3 parts by mass, preferably 0.2 parts by mass to 2 parts by mass with respect to 1 part by mass of the diarylamine compound represented by the general formula (VII). Is done.
また、上記反応は、窒素又はアルゴン等の不活性ガス雰囲気下において、例えば100℃以上300℃以下、好ましくは150以上270℃以下、さらに好ましくは180℃以上250℃以下の温度範囲で、効率よく攪拌しながら行い、さらに反応中に生成する水を除去しながら反応させることが好ましい。 In addition, the above reaction is efficiently performed in a temperature range of, for example, 100 ° C. or more and 300 ° C. or less, preferably 150 or more and 270 ° C. or less, more preferably 180 ° C. or more and 250 ° C. or less in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon. It is preferable to carry out the reaction while stirring and further to remove water generated during the reaction.
反応終了後には、例えば、反応生成物をトルエン、アイソパー、又はn−トリデカン等の溶剤に溶解させ、必要に応じて、水洗またはろ過により、不要物を除去し、さらに、シリカゲル、アルミナ、活性白土、又は活性炭等で、カラム精製を行うか、又は溶液中にこれらの吸着剤を添加し、不要分を吸着させる等の処理を行う。さらに、例えば、エタノール、酢酸エチル、トルエン等の溶剤から、再結晶させて精製を行ってもよい。 After completion of the reaction, for example, the reaction product is dissolved in a solvent such as toluene, isopar, or n-tridecane, and unnecessary substances are removed by washing with water or filtration as necessary. Further, silica gel, alumina, activated clay is further removed. Alternatively, column purification is performed with activated carbon or the like, or these adsorbents are added to the solution, and unnecessary portions are adsorbed. Furthermore, for example, purification may be performed by recrystallization from a solvent such as ethanol, ethyl acetate, or toluene.
また、一般式(I)で示される化合物は、パラジウム触媒を用いたアミノ化反応において合成してもよい。すなわち、一般式(I)で示される化合物の合成法としては、例えば、一般式(VII)で示されるジアリ−ルアミン化合物と一般式(VIII)で示されるジハロゲン化合物とを、三級ホスフィン類、パラジウム化合物、及び塩基の存在下で反応させて合成する方法も挙げられる。 Further, the compound represented by the general formula (I) may be synthesized in an amination reaction using a palladium catalyst. That is, as a synthesis method of the compound represented by the general formula (I), for example, a diarylamine compound represented by the general formula (VII) and a dihalogen compound represented by the general formula (VIII) are converted into tertiary phosphines, A method of synthesis by reacting in the presence of a palladium compound and a base is also included.
上記パラジウム触媒を用いたアミノ化反応における一般式(VII)で示されるジアリ−ルアミンの使用量としては、一般式(VIII)で示されるジハロゲン化合物1質量部に対して、例えばモル比で0.5質量部以上4.0質量部以下の範囲が挙げられ、より好ましくは0.8質量部以上2.0質量部以下の範囲である。 The amount of the diarylamine represented by the general formula (VII) in the amination reaction using the palladium catalyst is, for example, 0.1 mol in terms of molar ratio with respect to 1 part by mass of the dihalogen compound represented by the general formula (VIII). The range is 5 parts by mass or more and 4.0 parts by mass or less, and more preferably 0.8 part by mass or more and 2.0 parts by mass or less.
上記三級ホスフィン類としては、特に限定されるものではなく、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ(ターシャリ−ブチル)ホスフィン、トリ(p−トリルホスフィン)、トリ(m−トリルホスフィン)、トリイソブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリイソプロピルホスフィン等の三級アルキルホスフィン類が挙げられ、好ましくはトリ(ターシャリ−ブチル)ホスフィンである。
上記三級ホスフィンの使用量は特に限定されるものではないが、パラジウム化合物に対して、例えば0.5倍モル以上10倍モル以下が挙げられ、より好ましくはパラジウム化合物に対して2.0倍モル以上8.0倍モル以下の範囲である。
The tertiary phosphines are not particularly limited, and examples thereof include triphenylphosphine, tri (tertiary-butyl) phosphine, tri (p-tolylphosphine), tri (m-tolylphosphine), triisobutylphosphine, Tertiary alkyl phosphines such as tricyclohexylphosphine and triisopropylphosphine can be mentioned, and tri (tertiary-butyl) phosphine is preferable.
Although the usage-amount of the said tertiary phosphine is not specifically limited, For example, 0.5 times mole or more and 10 times mole or less are mentioned with respect to a palladium compound, More preferably, it is 2.0 times with respect to a palladium compound. It is the range of more than mol and less than 8.0 times mol.
上記パラジウム化合物としては、特に限定されるものではなく、例えば、酢酸パラジウム(II)、塩化パラジウム(II)、臭化パラジウム(II)、パラジウムトリフルオロアセテ−ト(II)等の2価パラジウム化合物類、トリス(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)、(ジベンジリデンアセトン)二パラジウム(0)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)、パラジウム−カ−ボン等の0価パラジウム化合物類が挙げられ、特に好ましくは酢酸パラジウム、トリスジベンジリデンアセトン二パラジウム(0)である。
上記パラジウム化合物の使用量は、特に限定されるものではないが、一般式(VIII)で示されるジハロゲン化合物に対してパラジウム換算で、例えば0.001モル%以上10モル%以下が挙げられ、より好ましくは、パラジウム換算で0.01モル%以上5.0モル%以下である。
The palladium compound is not particularly limited. For example, a divalent palladium compound such as palladium acetate (II), palladium chloride (II), palladium bromide (II), palladium trifluoroacetate (II), etc. , Zero-valent palladium compounds such as tris (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), (dibenzylideneacetone) dipalladium (0), tetrakis (triphenylphosphine) palladium (0), palladium-carbon and the like. Particularly preferred are palladium acetate and trisdibenzylideneacetone dipalladium (0).
Although the usage-amount of the said palladium compound is not specifically limited, For example, 0.001 mol% or more and 10 mol% or less are mentioned in conversion of palladium with respect to the dihalogen compound shown by general formula (VIII). Preferably, it is 0.01 mol% or more and 5.0 mol% or less in terms of palladium.
上記塩基としては、特に限定されるものではなく、例えば、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、タ−シャリ−ブトキシカリウム、タ−シャリ−ブトキシナトリウム、ナトリウム金属、カリウム金属、水素化カリウム等が挙げられ、好ましくは炭酸ルビジウム、タ−シャリ−ブトキシナトリウムである。
上記塩基の使用量は、一般式(VIII)で示されるジハロゲン化合物に対して、例えばモル比で0.5以上4.0以下の範囲であり、より好ましくは1.0以上2.5以下の範囲である。
The base is not particularly limited, and examples thereof include potassium carbonate, rubidium carbonate, cesium carbonate, sodium carbonate, potassium hydrogen carbonate, sodium hydrogen carbonate, tertiary-butoxy potassium, tertiary-butoxy sodium, sodium. A metal, potassium metal, potassium hydride etc. are mentioned, Preferably it is a rubidium carbonate and a tertiary-butoxy sodium.
The amount of the base used is, for example, in the range of 0.5 or more and 4.0 or less, more preferably 1.0 or more and 2.5 or less with respect to the dihalogen compound represented by the general formula (VIII). It is a range.
前記アミノ化反応は、例えば不活性溶媒下で実施される。使用される溶媒としては、本反応を著しく阻害しない溶媒であればよく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエ−テル溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。これらのうち、より好ましくは、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素溶媒である。 The amination reaction is performed, for example, in an inert solvent. The solvent used may be any solvent that does not significantly inhibit this reaction, for example, an aromatic hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, xylene and mesitylene, an ether solvent such as diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane, Acetonitrile, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide and the like can be mentioned. Of these, more preferred are aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene.
また前記アミノ化反応は、例えば常圧下(大気圧下)、窒素又はアルゴン等の不活性ガス雰囲気下において実施されるが、加圧条件下において実施してもよい。反応温度としては、例えば20℃以上300℃以下の範囲が挙げられるが、より好ましくは50℃以上180℃以下の範囲である。反応時間は、反応条件により異なるが、例えば数分(具体的には5分)以上20時間以下の範囲から選択すればよい。 The amination reaction is performed, for example, under normal pressure (atmospheric pressure) or an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon, but may be performed under pressurized conditions. As reaction temperature, the range of 20 to 300 degreeC is mentioned, for example, More preferably, it is the range of 50 to 180 degreeC. Although reaction time changes with reaction conditions, what is necessary is just to select from the range of several minutes (specifically 5 minutes) or more and 20 hours or less, for example.
前記アミノ化反応の反応後は、例えば、反応溶液を水中に投入後、攪拌し、反応生成物が結晶の場合は吸引ろ過でろ取することにより粗生成物が得られる。反応生成物が油状物であれば、酢酸エチル又はトルエン等の溶剤で抽出することにより粗生成物が得られる。このようにして得られた組成生物を、例えば、シリカゲル、アルミナ、活性白土、若しくは活性炭等でカラム精製するか、又は溶液中にこれらの吸着剤を添加し、不要分を吸着させる等の処理を行い、さらに、反応生成物が結晶の場合には、例えば、ヘキサン、メタノール、アセトン、エタノール、酢酸エチル、又はトルエン等の溶剤から再結晶させて精製する。
但し、本実施形態における合成法としてはこれらに限定されるものではない。
After the amination reaction, for example, the reaction solution is poured into water and stirred. If the reaction product is a crystal, the crude product is obtained by filtration through suction filtration. If the reaction product is an oily product, a crude product can be obtained by extraction with a solvent such as ethyl acetate or toluene. The composition organism thus obtained is subjected to treatment such as column purification with, for example, silica gel, alumina, activated clay, activated carbon, or the like, or these adsorbents are added to the solution to adsorb unnecessary components. Further, when the reaction product is a crystal, it is purified by recrystallization from a solvent such as hexane, methanol, acetone, ethanol, ethyl acetate, or toluene.
However, the synthesis method in the present embodiment is not limited to these.
<一般式(II−3)で示される構造単位を含む化合物(ポリエステル)>
以下、下記一般式(II−3)で示される構造単位を含む化合物について詳細に説明する。
なお本実施形態では、下記一般式(II−3)で示される構造単位を含む化合物として、下記一般式(II−1)で示されるポリエステルを用いる。
<Compound containing a structural unit represented by the general formula (II-3) (polyester)>
Hereinafter, the compound containing the structural unit represented by the following general formula (II-3) will be described in detail.
In this embodiment, a polyester represented by the following general formula (II-1) is used as a compound containing a structural unit represented by the following general formula (II-3).
一般式(II−3)中、Y1は、各々独立に、置換若しくは未置換の2価の炭化水素基を表し、mは1以上5以下の整数を表し、A1は下記一般式(II−2)で示される基を表す。 In General Formula (II-3), Y 1 each independently represents a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group, m represents an integer of 1 to 5, and A 1 represents General Formula (II) below. -2) is represented.
一般式(II−2)中、Arは置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の1価の芳香族複素環基を表し、nは各々独立に0以上7以下を表す。 In general formula (II-2), Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, and a substituted or unsubstituted aromatic ring number. It represents a monovalent condensed aromatic hydrocarbon group of 2 or more and 10 or less, or a substituted or unsubstituted monovalent aromatic heterocyclic group, and n independently represents 0 or more and 7 or less.
前記一般式(II−3)で示される構造単位を含むポリエステルは、一般式(I)で示されるベンゾビスチアゾール化合物を由来とする構造単位A1を含む。また前記一般式(II−3)で示される構造単位を含むポリエステルはポリマーであることから、低分子化合物であるN,N’−ジフェニル−N,N’−ジ(m−トリル)ベンジジン等の電荷輸送材料よりも高い耐熱性を有する。
よって、前記一般式(II−3)で示される構造単位を含むポリエステルは、画像形成装置用の像保持体に用いるのに好適である。
更に、一般式(II−3)で示される構造単位を含むポリマーをエステル構造とすることで、一般式(I)で示される化合物を由来とする構造単位A1が導入されたポリマーを合成・製造し易い。
The polyester containing the structural unit represented by the general formula (II-3) includes the structural unit A 1 derived from the benzobisthiazole compound represented by the general formula (I). Further, since the polyester containing the structural unit represented by the general formula (II-3) is a polymer, such as N, N′-diphenyl-N, N′-di (m-tolyl) benzidine which is a low molecular compound. Higher heat resistance than charge transport materials.
Therefore, the polyester containing the structural unit represented by the general formula (II-3) is suitable for use in an image carrier for an image forming apparatus.
Furthermore, a polymer including the structural unit A 1 derived from the compound represented by the general formula (I) is synthesized by converting the polymer including the structural unit represented by the general formula (II-3) into an ester structure. Easy to manufacture.
以下、一般式(II−3)について詳細に説明する。
一般式(II−3)中、Y1は、各々独立に、置換若しくは未置換の2価の炭化水素基を表す。
Y1で表される2価の炭化水素基は、2価のアルコール残基であり、アルキレン基、(ポリ)エチレンオキシ基、(ポリ)プロピレンオキシ基、アリーレン基、2価の複素環基又はこれらの組み合わせであることが好ましい。
Hereinafter, Formula (II-3) will be described in detail.
In General Formula (II-3), Y 1 each independently represents a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group.
The divalent hydrocarbon group represented by Y 1 is a divalent alcohol residue, and is an alkylene group, (poly) ethyleneoxy group, (poly) propyleneoxy group, arylene group, divalent heterocyclic group or A combination of these is preferred.
Y1で表される2価の炭化水素基は、樹脂との相溶性及び電荷輸送性の観点から、炭素数の少ない連結基が好ましい。具体的には炭素数1以上18以下の範囲が好ましく、炭素数1以上6以下の範囲がより好ましい。
またY1で表される2価の炭化水素基は、電荷輸送性の観点から双極子モーメントの小さな連結基が好ましい。具体的には、炭素原子及び水素原子以外の原子(例えば、酸素原子、窒素原子、又は硫黄原子等)を含まない連結基が好ましい。
すなわち、Y1で表される2価の炭化水素基としては、炭素数1以上10以下のアルキレン基、又は炭素数6以上18以下のアリーレン基が好ましく、炭素数1以上6以下のアルキレン基がより好ましい。
またY1で表される2価の炭化水素基は、樹脂との相溶性の観点から、立体的なかさ高さが小さい基がより好ましい。立体的なかさ高さが小さい2価の炭化水素基としては、例えば環構造を有さない基が挙げられ、具体的には、例えば、炭素数1以上10以下のアルキレン基が挙げられ、炭素数1以上5以下のアルキレン基がさらに好ましい。また樹脂との相溶性に加えて、分子量の大きな高分子化合物を合成しやすい観点から、炭素数2のアルキレン基が最も好ましい。
The divalent hydrocarbon group represented by Y 1 is preferably a linking group having a small number of carbon atoms from the viewpoint of compatibility with the resin and charge transportability. Specifically, a range of 1 to 18 carbon atoms is preferable, and a range of 1 to 6 carbon atoms is more preferable.
The divalent hydrocarbon group represented by Y 1 is preferably a linking group having a small dipole moment from the viewpoint of charge transportability. Specifically, a linking group containing no atoms other than carbon atoms and hydrogen atoms (for example, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom, etc.) is preferable.
That is, the divalent hydrocarbon group represented by Y 1 is preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms or an arylene group having 6 to 18 carbon atoms, and an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms. More preferred.
Further, the divalent hydrocarbon group represented by Y 1 is more preferably a group having a small steric bulk from the viewpoint of compatibility with the resin. Examples of the divalent hydrocarbon group having a small steric bulk height include groups having no ring structure, and specific examples include alkylene groups having 1 to 10 carbon atoms. 1 or more and 5 or less alkylene group is still more preferable. In addition to the compatibility with the resin, an alkylene group having 2 carbon atoms is most preferable from the viewpoint of easy synthesis of a polymer compound having a large molecular weight.
一般式(II−3)におけるY1は、具体的には下記の式(1)から(8)から選択される基が挙げられる。 Specific examples of Y 1 in the general formula (II-3) include groups selected from the following formulas (1) to (8).
式(1)及び(2)中、d及びeは、各々独立に、1以上10以下の整数を示す。
式(5)及び(6)中、R4及びR5は、各々独立に、炭素数1以上4以下のアルキル基、炭素数1以上4以下のアルコキシル基、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換のアラルキル基、又はハロゲン原子を表す。
式(5)及び(6)中、f及びgはそれぞれ0、1、又は2の整数を示し、h及びiはそれぞれ0又は1を示し、Vは下記式(9)から(29)から選択される基を表す。
In formulas (1) and (2), d and e each independently represent an integer of 1 or more and 10 or less.
In formulas (5) and (6), R 4 and R 5 are each independently an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, substituted Alternatively, it represents an unsubstituted aralkyl group or a halogen atom.
In formulas (5) and (6), f and g each represent an integer of 0, 1, or 2, h and i each represent 0 or 1, and V is selected from the following formulas (9) to (29) Represents a group.
式(9)中、bは1以上10以下の整数を表し、好ましくは1以上6以下の整数を表し、より好ましくは1以上4以下の整数を表す。
式(15)中、R6は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はシアノ基を表す。
式(26)及び(29)中、R7は、各々独立に、水素原子、炭素数1以上10以下のアルキル基、炭素数1以上10以下のアルコキシル基、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換のアラルキル基、又はハロゲン原子を表す。
式(15)、(16)、及び(25)から(29)中、cは各々独立に、0以上10以下の整数を表し、好ましくは0以上6以下の整数を表し、より好ましくは1以上3以下の整数を表す。
In formula (9), b represents an integer of 1 to 10, preferably an integer of 1 to 6, more preferably an integer of 1 to 4.
In formula (15), each R 6 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or a cyano group.
In formulas (26) and (29), R 7 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted group Alternatively, it represents an unsubstituted aralkyl group or a halogen atom.
In formulas (15), (16), and (25) to (29), each c independently represents an integer of 0 or more and 10 or less, preferably 0 or more and 6 or less, more preferably 1 or more. Represents an integer of 3 or less.
一般式(II−3)で示される構造単位を含む化合物に複数存在するY1は、同一でも異なっていてもよいが、製造上の観点から同一であることが好ましい。 A plurality of Y 1 present in the compound containing the structural unit represented by formula (II-3) may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of production.
一般式(II−3)中、mは、1以上5以下の整数を表す。溶解性と高分子量化の両立の観点からは、mは1以上3以下の整数であることが好ましく、高分子量化の観点からは1以上2以下の整数であることがより好ましい。また、画像形成装置用像保持体の電気特性を良好にする観点から、上記一般式(II−3)中、mは1が最も好ましい。 In general formula (II-3), m represents an integer of 1 or more and 5 or less. M is preferably an integer of 1 or more and 3 or less, and more preferably an integer of 1 or more and 2 or less from the viewpoint of achieving high molecular weight. Further, from the viewpoint of improving the electrical characteristics of the image carrier for an image forming apparatus, m is most preferably 1 in the general formula (II-3).
一般式(II−3)中、A1は下記一般式(II−2)で示される基を表す。 In General Formula (II-3), A 1 represents a group represented by the following General Formula (II-2).
一般式(II−2)中、Arは置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の1価の芳香族複素環基を表し、nは各々独立に0以上7以下を表す。 In general formula (II-2), Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, and a substituted or unsubstituted aromatic ring number. It represents a monovalent condensed aromatic hydrocarbon group of 2 or more and 10 or less, or a substituted or unsubstituted monovalent aromatic heterocyclic group, and n independently represents 0 or more and 7 or less.
一般式(II−2)におけるAr及びnは、それぞれ一般式(I)におけるAr及びnと同義であり、好ましい範囲も同様である。
一般式(II−3)で示される構造単位を含む化合物に複数存在するA1は、すべて同一であっても、2種類以上が含まれていてもよい。
Ar and n in the general formula (II-2) have the same meanings as Ar and n in the general formula (I), respectively, and preferred ranges thereof are also the same.
A plurality of A 1 present in the compound containing the structural unit represented by the general formula (II-3) may all be the same or two or more types may be included.
前記一般式(II−3)で示される構造単位を含むポリエステルとしては、例えば、下記一般式(II−1)で示されるポリエステル及び下記一般式(II−4)で示されるポリエステル等が挙げられる。いずれも一般式(I)に由来する構造単位A1(すなわち、上記一般式(II−2)で示される基)を含むため、電荷輸送性が良好であるとともに、樹脂との相溶性も良好であり、画像形成装置用像保持体に適する。 Examples of the polyester including the structural unit represented by the general formula (II-3) include a polyester represented by the following general formula (II-1) and a polyester represented by the following general formula (II-4). . Since both of them contain the structural unit A 1 derived from the general formula (I) (that is, the group represented by the general formula (II-2)), the charge transportability is good and the compatibility with the resin is also good. And suitable for an image carrier for an image forming apparatus.
なお、下記一般式(II−1)で示されるポリエステルは、カルボン酸残基としてA1を有し、下記一般式(II−4)で示されるポリエステルでは、A1とZ1とをカルボン酸残基として有する。よって、下記一般式(II−1)で示されるポリエステルは合成の簡便さの観点で優れており、下記一般式(II−4)で示されるポリエステルは、組み合わせるカルボン酸残基Z1によって更に画像形成装置用像保持体に適したものとなり得る。 The polyester represented by the following general formula (II-1) has A 1 as a carboxylic acid residue, and in the polyester represented by the following general formula (II-4), A 1 and Z 1 are carboxylic acid. As a residue. Thus, polyester represented by the following general formula (II-1) is excellent in terms of ease of synthesis, polyester represented by the following Formula (II-4), further images by carboxylic acid residues Z 1 combined It can be suitable for an image carrier for a forming apparatus.
一般式(II−1)中、Y1は、各々独立に、置換又は未置換の2価の炭化水素基を表し、A1は上記一般式(II−2)で示される基を表し、R2は、各々独立に、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数1以上6以下の1価の直鎖状炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数2以上10以下の1価の分枝状炭化水素基、又は水素原子を表す。mは各々独立に1以上5以下の整数を表し、pは5以上5,000以下の整数を表す。
すなわち一般式(II−1)中、Y1、A1、及びmは、上記一般式(II−3)中のY1、A1、及びmとそれぞれ同義である。
In General Formula (II-1), each Y 1 independently represents a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group, A 1 represents a group represented by General Formula (II-2), and R 1 2 is independently a monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having a substituted or unsubstituted aromatic ring number of 2 to 10, and a monovalent condensed aromatic carbon group having a substituted or unsubstituted aromatic ring number of 2 to 10. A hydrogen group, a substituted or unsubstituted monovalent linear hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, a substituted or unsubstituted monovalent branched hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms, or a hydrogen atom Represents. Each m independently represents an integer of 1 to 5, and p represents an integer of 5 to 5,000.
That in the general formula (II-1), Y 1 , A 1, and m, Y 1, A 1 in the general formula (II-3), and m and are each synonymous.
一般式(II−4)中、Y1、A1、m、及びpは、一般式(II−1)におけるY1、A1、m、及びpとそれぞれ同義である。R8は、各々独立に、−O−(Y1−O)m−Hまたは−O−(Y1−O)m−CO−Z1−CO−OR2で示される基を表す。ここでR2は、一般式(II−1)におけるR2と同義であり、mは、一般式(II−1)におけるmと同義である。Z1は2価の炭化水素基(すなわちカルボン酸残基)を表す。 In the general formula (II-4), Y 1 , A 1, m, and p, Y 1, A 1, m , and p respectively have the same meanings in the general formula (II-1). Each R 8 independently represents a group represented by —O— (Y 1 —O) m —H or —O— (Y 1 —O) m —CO—Z 1 —CO—OR 2 . Here, R 2 has the same meaning as R 2 in General Formula (II-1), and m has the same meaning as m in General Formula (II-1). Z 1 represents a divalent hydrocarbon group (that is, a carboxylic acid residue).
一般式(II−1)及び(II−4)中、pは5以上5,000以下の整数を表す。塗膜組成物(塗布液)として用いる際の一般的な溶媒に対しての溶解性を考慮すると、pは5以上2000以下の整数であることが好ましく、合成の容易さの観点からは5以上600以下の整数であることがより好適であり、分子分散性Mw/Mnの観点からは5以上500以下の整数であることが更に好適である。
なお、pが5以上5,000以下の範囲であれば、pの数によってイオン化ポテンシャルは殆ど影響を受けず、大きくとも0.1eV程度の変動と推測される。
In general formulas (II-1) and (II-4), p represents an integer of 5 or more and 5,000 or less. In consideration of solubility in a general solvent when used as a coating composition (coating solution), p is preferably an integer of 5 or more and 2000 or less, and 5 or more from the viewpoint of ease of synthesis. It is more preferably an integer of 600 or less, and further preferably an integer of 5 or more and 500 or less from the viewpoint of molecular dispersibility Mw / Mn.
If p is in the range of 5 or more and 5,000 or less, the ionization potential is hardly affected by the number of p, and it is estimated that the fluctuation is about 0.1 eV at most.
一般式(II−1)中、R2は、各々独立に、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数1以上6以下の1価の直鎖状炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数2以上10以下の1価の分枝状炭化水素基、又は水素原子を表す。一般式(II−4)中のR8で表される基に含まれるR2も、一般式(II−1)中のR2と同様である。 In general formula (II-1), each R 2 is independently a substituted or unsubstituted monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, or a substituted or unsubstituted aromatic ring having 2 or more. 10 or less monovalent condensed aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted monovalent linear hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms A branched hydrocarbon group or a hydrogen atom is represented. R 2 contained in the group represented by R 8 in Formula (II-4) is also the same as R 2 in Formula (II-1).
上記のなかでも、R2としては、水素原子又はフェニル基であることが好適であり、低コスト化、製造容易性の観点から水素原子であることがより好適である。 Among the above, R 2 is preferably a hydrogen atom or a phenyl group, and more preferably a hydrogen atom from the viewpoint of cost reduction and ease of production.
一般式(II−1)及び(II−4)における2つのR2は、同一でも異なっていてもよいが、製造上の観点から同一であることが好ましい。一般式(II−4)における2つのR8も、同一でも異なっていてもよいが、製造上の観点から同一であることが好ましい。 Two R 2 in the general formulas (II-1) and (II-4) may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of production. Two R 8 in the general formula (II-4) may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of production.
一般式(II−4)におけるZ1は、2価のカルボン酸残基を表す。
具体的には、一般式(II−3)におけるY1で挙げた2価の連結基と同様であり、好適な範囲も同様である。一般式(II−4)における複数のZ1は、同一でも異なっていてもよいが、製造上の観点から同一であることが好ましい。
Z 1 in the general formula (II-4) represents a divalent carboxylic acid residue.
Specifically, it is the same as the divalent linking group exemplified for Y 1 in formula (II-3), and the preferred range is also the same. The plurality of Z 1 in the general formula (II-4) may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of production.
一般式(II−1)及び一般式(II−4)における複数のA1は、同一でも異なっていてもよいが、製造上の観点から同一であることが好ましい。
また一般式(II−1)及び一般式(II−4)における複数のmは、同一でも異なっていてもよいが、製造上の観点から同一であることが好ましい。
A plurality of A 1 in general formula (II-1) and general formula (II-4) may be the same or different, but are preferably the same from the viewpoint of production.
Moreover, although several m in general formula (II-1) and general formula (II-4) may be the same or different, it is preferable that it is the same from a viewpoint on manufacture.
一般式(II−1)又は一般式(II−4)など、一般式(I)で示される化合物を由来とする構造単位を含むポリエステルは、重量平均分子量Mwが、5000以上300000以下の範囲にあるものが好ましく、一般に塗布液として用いる際の溶媒に対しての溶解性を考慮すると、重量平均分子量は、10000以上200000以下であることが好ましく、30000以上150000以下であることが更に好ましい。
尚、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(キャリア:テトラヒドロフラン)により測定されるポリスチレン換算の平均分子量である。
The polyester containing the structural unit derived from the compound represented by the general formula (I) such as the general formula (II-1) or the general formula (II-4) has a weight average molecular weight Mw in the range of 5000 to 300,000. Some are preferable, and generally considering the solubility in a solvent when used as a coating solution, the weight average molecular weight is preferably 10,000 or more and 200,000 or less, and more preferably 30,000 or more and 150,000 or less.
The weight average molecular weight is an average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (carrier: tetrahydrofuran).
以下に、一般式(II−1)で示されるポリエステルの具体例ポリマー1から30(すなわち、具体例ポリエステル1から30)を示すが、本実施形態はこれらの具体例に限定されるものではない。
尚、具体例ポリマーにおけるモノマーの欄(「A1の構造番号」の欄)の番号は、前記一般式(I)で示される化合物の具体例化合物番号に対応している。以下、各番号を付した具体例(化合物)、例えば15の番号を付したA1の構造は、具体例化合物15に由来する構造を意味する。
また、具体例ポリマーにおけるY1、m、p、及びR2は、それぞれ一般式(II−1)におけるY1、m、p、及びR2を表す。
Hereinafter, specific polymers 1 to 30 of the polyester represented by the general formula (II-1) (namely, specific polyesters 1 to 30) are shown, but this embodiment is not limited to these specific examples. .
The numbers in the column of monomer in the specific example the polymer (column of "structure number of A 1 ') corresponds to the specific examples the compounds No. of the compound represented by the general formula (I). Hereinafter, specific examples (compounds) assigned with respective numbers, for example, the structure of A 1 assigned with the number 15 means a structure derived from the specific example compound 15.
Further, Y 1, m, p, and R 2 in the specific example polymer, Y 1, m, p, respectively, in formula (II-1), and represents the R 2.
<一般式(II−1)で示される化合物の製造方法>
上記一般式(II−3)で示される構造単位を含むポリエステルの合成方法は、所望する構造に応じて公知の方法を組み合わせて利用される。その合成方法は特に限定されるものではないが、本実施形態の画像形成装置用像保持体に用いられるジベンゾチオフェンオキサイド含有ポリエステルの合成方法の一例を以下に説明する。
<Method for producing compound represented by formula (II-1)>
The method for synthesizing the polyester containing the structural unit represented by the general formula (II-3) is used by combining known methods according to the desired structure. Although the synthesis method is not particularly limited, an example of a synthesis method of dibenzothiophene oxide-containing polyester used for the image carrier for an image forming apparatus of the present embodiment will be described below.
前記一般式(II−1)で示されるポリエステルは、下記一般式(I−3)で示されるモノマーを、例えば、第4版実験化学講座第28巻(丸善,1992)等に記載された公知の方法で重合することで得られる。 The polyester represented by the general formula (II-1) is a known monomer described in the following general formula (I-3), for example, in the 4th edition Experimental Chemistry Course Vol. 28 (Maruzen, 1992). It is obtained by polymerizing by the method.
前記一般式(I−3)において、A1は前記一般式(I)で示される化合物から選択された少なくとも1種に由来する部分構造を表し、前記一般式(II−1)中のA1と同義である。A2は水酸基、ハロゲン原子、又は−O−R9を表し、R9はアルキル基、置換若しくは未置換のアリール基、又はアラルキル基を表す。
すなわち、前記一般式(II−1)で示されるポリエステルは、次のようにして合成される。
In the general formula (I-3), A 1 represents a partial structure derived from at least one selected from the compounds represented by the general formula (I), and A 1 in the general formula (II-1) It is synonymous with. A 2 represents a hydroxyl group, a halogen atom, or —O—R 9 , and R 9 represents an alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, or an aralkyl group.
That is, the polyester represented by the general formula (II-1) is synthesized as follows.
1)A2が水酸基の場合
前記一般式(I−3)で示される化合物に、HO−(Y1−O)m−Hで示される2価アルコール類を例えば当量混合し、酸触媒を用いて重合する。なお、Y1は2価のアルコール残基を表し、一般式(II−1)中のY1と同義である。mは1以上5以下の整数を表し、一般式(II−1)中のmと同義である。
1) In the case where A 2 is a hydroxyl group For example, an equivalent amount of a dihydric alcohol represented by HO— (Y 1 —O) m —H is mixed with the compound represented by the general formula (I-3), and an acid catalyst is used. To polymerize. Incidentally, Y 1 represents a divalent alcohol residue, the same meaning as Y 1 in the general formula (II-1). m represents an integer of 1 to 5, and has the same meaning as m in formula (II-1).
前記酸触媒としては、硫酸、トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等、通常のエステル化反応に用いるものが使用され、モノマー(すなわち一般式(I−3)で示される化合物であり、以下同様である)1質量部に対して、1/10,000質量部以上1/10質量以下部、好ましくは1/1,000質量以上1/50質量部以下の範囲で用いられる。
重合中に生成する水を除去するために、水と共沸する溶剤を用いることが好ましい。水と共沸する溶剤としては、例えば、トルエン、クロロベンゼン、1−クロロナフタレン等が挙げられ、モノマー1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、好ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いられる。
反応温度は条件に応じて設定されるが、重合中に生成する水を除去するために、溶剤の沸点で反応させることが好ましい。
As the acid catalyst, those used for ordinary esterification reaction such as sulfuric acid, toluenesulfonic acid, trifluoroacetic acid and the like are used, and are monomers (that is, compounds represented by the general formula (I-3), and so on. ) 1 / 10,000 parts by mass to 1/10 parts by mass, preferably 1 / 1,000 to 1/50 parts by mass with respect to 1 part by mass.
In order to remove water generated during the polymerization, it is preferable to use a solvent azeotropic with water. Examples of the solvent azeotropic with water include toluene, chlorobenzene, 1-chloronaphthalene, and the like, and 1 part by weight or more and 100 parts by weight or less, preferably 2 parts by weight or more and 50 parts by weight or less with respect to 1 part by weight of the monomer. Used in the following ranges.
Although reaction temperature is set according to conditions, in order to remove the water produced | generated during superposition | polymerization, it is preferable to make it react at the boiling point of a solvent.
反応終了後、溶剤を用いなかった場合には溶解する溶剤に溶解させる。溶剤を用いた場合には、反応溶液をそのまま、メタノール、エタノール等のアルコール類や、アセトン等のポリマーが溶解しにくい貧溶剤中に滴下し、ポリエステルを析出させ、ポリエステルを分離した後、水や有機溶剤で洗浄し、乾燥させる。
更に、必要であれば有機溶剤に溶解させ、貧溶剤中に滴下し、ポリエステルを析出させる再沈殿処理を繰り返してもよい。再沈殿処理の際には、メカニカルスターラー等で、効率よく撹拌しながら行うことが好ましい。再沈殿処理の際にポリエステルを溶解させる溶剤は、ポリエステル1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、好ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いられる。また、貧溶剤はポリエステル1質量部に対して、1質量部以上1,000質量部以下、好ましくは10質量部以上500質量部以下の範囲で用いられる。
When the solvent is not used after completion of the reaction, it is dissolved in a solvent to be dissolved. When a solvent is used, the reaction solution is dropped as it is in a poor solvent in which alcohols such as methanol and ethanol and polymers such as acetone are difficult to dissolve, to precipitate the polyester, and after separating the polyester, Wash with organic solvent and dry.
Further, if necessary, the reprecipitation treatment in which the polyester is precipitated by dissolving in an organic solvent and dropping in a poor solvent may be repeated. The reprecipitation treatment is preferably carried out with efficient stirring with a mechanical stirrer or the like. The solvent for dissolving the polyester in the reprecipitation treatment is used in the range of 1 part by mass to 100 parts by mass, preferably 2 parts by mass to 50 parts by mass with respect to 1 part by mass of the polyester. The poor solvent is used in an amount of 1 to 1,000 parts by weight, preferably 10 to 500 parts by weight, based on 1 part by weight of the polyester.
2)A2がハロゲンの場合
前記一般式(I−3)で示される化合物に、HO−(Y1−O)m−Hで示される2価アルコール類を例えば当量混合し、ピリジンやトリエチルアミン等の有機塩基性触媒を用いて重合する。なお、Y1は2価のアルコール残基を表し、一般式(II−1)中のY1と同義である。mは1以上5以下の整数を表し、一般式(II−1)中のmと同義である。
2) In the case where A 2 is halogen, for example, an equivalent amount of a dihydric alcohol represented by HO— (Y 1 —O) m —H is mixed with the compound represented by the general formula (I-3), and pyridine, triethylamine, etc. Polymerization is performed using an organic basic catalyst. Incidentally, Y 1 represents a divalent alcohol residue, the same meaning as Y 1 in the general formula (II-1). m represents an integer of 1 to 5, and has the same meaning as m in formula (II-1).
前記有機塩基性触媒は、モノマー(すなわち一般式(I−3)で示される化合物)1当量に対して、1当量以上10当量以下、好ましくは2当量以上5当量以下の範囲で用いられる。
溶剤としては、塩化メチレン、テトラヒドロフラン(THF)、トルエン、クロロベンゼン、1−クロロナフタレン等が挙げられ、モノマー1質量部に対して、1質量部以上100質量部以下、好ましくは2質量部以上50質量部以下の範囲で用いられる。
反応温度は条件に応じて設定される。重合後、前述のように再沈殿処理し、精製する。
The organic basic catalyst is used in the range of 1 equivalent to 10 equivalents, preferably 2 equivalents to 5 equivalents, relative to 1 equivalent of the monomer (that is, the compound represented by the general formula (I-3)).
Examples of the solvent include methylene chloride, tetrahydrofuran (THF), toluene, chlorobenzene, 1-chloronaphthalene, and the like, and 1 part by mass or more and 100 parts by mass or less, preferably 2 parts by mass or more and 50 parts by mass or more with respect to 1 part by mass of the monomer. It is used in the range of parts or less.
The reaction temperature is set according to the conditions. After the polymerization, reprecipitation treatment is performed as described above, and purification is performed.
また、ビスフェノール等の酸性度の高い2価アルコール類を用いる場合には、界面重合法を用いてもよい。すなわち、2価アルコール類を水に加え、当量の塩基を加えて溶解させた後、激しく撹拌しながら2価アルコール類と当量のモノマー溶液を加えることによって重合する。この際、水は2価アルコール類1質量部に対して、1質量部以上1,000質量部以下、好ましくは2質量部以上500質量部以下の範囲で用いられる。モノマーを溶解させる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、ジクロロエタン、トリクロロエタン、トルエン、クロロベンゼン、1−クロロナフタレン等が挙げられる。
反応温度は条件に応じて設定され、反応を促進するために、アンモニウム塩、スルホニウム塩等の相間移動触媒を用いてもよい。相間移動触媒は、モノマー1質量部に対して、0.1質量部以上10質量部以下、好ましくは0.2質量部以上5質量部以下の範囲で用いられる。
Moreover, when using dihydric alcohols with high acidity, such as bisphenol, an interfacial polymerization method may be used. That is, after adding a dihydric alcohol to water and adding and dissolving an equivalent base, polymerization is carried out by adding a monomer solution equivalent to the dihydric alcohol while stirring vigorously. Under the present circumstances, water is used in 1 mass part or more and 1,000 mass parts or less with respect to 1 mass part of dihydric alcohol, Preferably it is 2 mass parts or more and 500 mass parts or less. Examples of the solvent for dissolving the monomer include methylene chloride, dichloroethane, trichloroethane, toluene, chlorobenzene, 1-chloronaphthalene and the like.
The reaction temperature is set according to the conditions, and a phase transfer catalyst such as an ammonium salt or a sulfonium salt may be used to promote the reaction. The phase transfer catalyst is used in the range of 0.1 to 10 parts by mass, preferably 0.2 to 5 parts by mass with respect to 1 part by mass of the monomer.
3)A2が−O−R9の場合
前記一般式(I−3)で示される化合物に、HO−(Y1−O)m−Hで示される2価アルコール類を過剰に加え、硫酸、リン酸等の無機酸、チタンアルコキシド、カルシウム若しくはコバルト等の酢酸塩又は炭酸塩、亜鉛や鉛の酸化物等を触媒として用いて加熱し、エステル交換により合成される。なお、Y1は2価のアルコール残基を表し、一般式(II−1)中のY1と同義である。mは1以上5以下の整数を表し、一般式(II−1)中のmと同義である。
3) When A 2 is —O—R 9 To the compound represented by the general formula (I-3), an excess of a dihydric alcohol represented by HO— (Y 1 —O) m —H is added, and sulfuric acid is added. It is synthesized by transesterification by heating using inorganic acid such as phosphoric acid, titanium alkoxide, acetate or carbonate such as calcium or cobalt, oxide of zinc or lead as a catalyst. Incidentally, Y 1 represents a divalent alcohol residue, the same meaning as Y 1 in the general formula (II-1). m represents an integer of 1 to 5, and has the same meaning as m in formula (II-1).
前記2価アルコール類はモノマー(一般式(I−3)で示される化合物)1当量に対して、2当量以上100当量以下、好ましくは3当量以上50当量以下の範囲で用いられる。
前記触媒はモノマー1質量部に対して、1/10,000質量部以上1質量部以下、好ましくは1/1,000質量部以上1/2質量部以下の範囲で用いられる。
The dihydric alcohol is used in the range of 2 equivalents to 100 equivalents, preferably 3 equivalents to 50 equivalents, relative to 1 equivalent of the monomer (compound represented by formula (I-3)).
The catalyst is used in a range of 1 / 10,000 parts by weight to 1 part by weight, preferably 1 / 1,000 parts by weight to 1/2 parts by weight with respect to 1 part by weight of the monomer.
反応は、反応温度200℃以上300℃以下で行い、−O−R9から−O−(Y1−O)m−Hへのエステル交換終了後は、HO−(Y1−O)m−Hの脱離による重合を促進するため、減圧下で反応させることが好ましい。また、HO−(Y1−O)m−Hと共沸する1−クロロナフタレン等の高沸点溶剤を用いて、常圧下(大気圧下)でHO−(Y1−O)m−Hを共沸で除きながら反応させてもよい。 The reaction is carried out at a reaction temperature of 200 ° C. or higher and 300 ° C. or lower. After completion of the transesterification from —O—R 9 to —O— (Y 1 —O) m —H, HO— (Y 1 —O) m — In order to promote polymerization due to elimination of H, the reaction is preferably performed under reduced pressure. Also, HO- (Y 1 -O) using a high-boiling solvent 1-chloronaphthalene azeotropic and m -H, under normal pressure (atmospheric pressure) HO- the (Y 1 -O) m -H You may make it react, removing azeotropically.
また、次のようにしてポリエステルを合成してもよい。
上記それぞれの場合において、2価アルコール類を過剰に加えて反応させることによって下記一般式(I−4)で示される化合物を生成した後、この化合物を前記一般式(I−3)で示したモノマーの代わりとして用いて、2価カルボン酸又は2価カルボン酸ハロゲン化物等と反応させることで、一般式(II−1)で示されるポリエステルが得られる。
Moreover, you may synthesize | combine polyester as follows.
In each of the above cases, a compound represented by the following general formula (I-4) was produced by adding an excess of a dihydric alcohol and reacting, and then the compound was represented by the above general formula (I-3). The polyester represented by the general formula (II-1) is obtained by reacting with a divalent carboxylic acid or a divalent carboxylic acid halide, etc., in place of the monomer.
一般式(I−4)中、A1は前記一般式(I)で示される化合物から選択された少なくとも1種に由来する部分構造を表し、前記一般式(II−1)におけるA1と同義である。Y1は2価のアルコール残基を表し、前記一般式(II−1)におけるY1と同義である。mは1以上5以下の整数を表し、前記一般式(II−1)におけるmと同義である。 In General Formula (I-4), A 1 represents a partial structure derived from at least one selected from the compounds represented by General Formula (I), and has the same meaning as A 1 in General Formula (II-1). It is. Y 1 represents a divalent alcohol residue, the same meaning as Y 1 in the general formula (II-1). m represents an integer of 1 to 5, and has the same meaning as m in the general formula (II-1).
また、前記ポリエステルの末端に分子を導入することを行ってもよい。その場合、次の方法が挙げられる。すなわち、A2が水酸基の場合、末端導入化合物のモノカルボン酸を共重合させるか、ポリマーの重合反応後の電子輸送性化合物にモノカルボン酸を仕込んで反応させ導入する。 In addition, a molecule may be introduced into the terminal of the polyester. In that case, the following method is mentioned. That is, when A 2 is a hydroxyl group, the terminal-introducing compound monocarboxylic acid is copolymerized, or the electron-transporting compound after the polymerization reaction of the polymer is charged and reacted for introduction.
また、A2がハロゲンの場合、末端導入化合物のモノ酸塩化物を共重合させるか、ポリマーの重合反応後、末端導入化合物のモノ酸塩化物を仕込んで反応させ導入する。A2が−O−R9の場合には、末端導入化合物のモノエステルを共重合させるか、ポリマーの重合反応後、末端導入化合物のモノエステルを仕込んで反応させ導入する。 Further, when A 2 is a halogen, or copolymerizing mono-acid chloride end-introducing compound, after the polymerization reaction of the polymer, it is introduced by reacting charged with mono-acid chloride terminal introducing compound. When A 2 is —O—R 9 , the terminal introduction compound monoester is copolymerized, or after the polymerization reaction of the polymer, the terminal introduction compound monoester is charged and reacted.
本実施形態の画像形成装置用像保持体では、前記の通り、前記一般式(I)で示される化合物及び前記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方が、感光層に含まれる。そして、前記一般式(I)で示される化合物及び前記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方が高い電荷輸送性を有することにより、電荷発生層からの電荷注入性(特に正電荷の注入性)が良好となると考えられる。その結果、例えばチャージアップ現象等が起こりにくく、繰返し使用による残留電位の変動が低くなり、優れた環境維持性を発揮すると考えられる。
また本実施形態の画像形成装置用像保持体では、前記一般式(I)で示される化合物及び前記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方が樹脂との相溶性に優れるため、感光層の膜厚むらが少なくなる。その結果、像保持体の繰り返し使用による残留電位の変動が低くなると考えられる。
さらに本実施形態の画像形成装置及びプロセスカートリッジでは、本実施形態の画像形成装置用像保持体を用いるものであるために、長期にわたって良好な画質が得られ、環境負荷の低減や大幅なコストダウンにもなる。
In the image carrier for an image forming apparatus of this embodiment, as described above, at least one of the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II-1) is included in the photosensitive layer. . In addition, since at least one of the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II-1) has a high charge transport property, the charge injection property from the charge generation layer (especially positive charge) It is considered that the injectability of the liquid is improved. As a result, for example, the charge-up phenomenon is unlikely to occur, the residual potential fluctuation due to repeated use is reduced, and it is considered that excellent environmental maintainability is exhibited.
In the image carrier for an image forming apparatus of the present embodiment, since at least one of the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II-1) is excellent in compatibility with the resin, The film thickness unevenness of the photosensitive layer is reduced. As a result, it is considered that the fluctuation of the residual potential due to repeated use of the image carrier is reduced.
Furthermore, since the image forming apparatus and the process cartridge according to the present embodiment use the image carrier for the image forming apparatus according to the present embodiment, good image quality can be obtained over a long period of time, and the environmental load is reduced and the cost is greatly reduced. It also becomes.
<画像形成装置用像保持体の構成>
以下、本実施形態の画像形成装置用像保持体の構成について説明する。
本実施形態の画像形成装置用像保持体は、支持体上に感光層を有する画像形成装置用像保持体であって、該感光層に上記した一般式(I)で示される化合物及び一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方を含有することを特徴とする。
図1から図3は、それぞれ本実施形態の画像形成装置用像保持体の第1から第3実施形態を示す模式断面図である。
いずれも画像形成装置用像保持体1を導電性支持体2及び感光層3の積層方向に沿って切断したものである。
<Configuration of image carrier for image forming apparatus>
Hereinafter, the configuration of the image carrier for the image forming apparatus of the present embodiment will be described.
The image carrier for an image forming apparatus according to the exemplary embodiment is an image carrier for an image forming apparatus having a photosensitive layer on a support, and the compound represented by the above general formula (I) and the general formula are provided in the photosensitive layer. It contains at least one of the compounds represented by (II-1).
1 to 3 are schematic cross-sectional views showing first to third embodiments of the image carrier for an image forming apparatus according to this embodiment, respectively.
In either case, the image carrier 1 for an image forming apparatus is cut along the stacking direction of the conductive support 2 and the photosensitive layer 3.
図1及び図2に示す、第1及び第2実施形態に係る画像形成装置用像保持体1は、電荷発生物質と電荷輸送物質とが異なる層に含有される機能分離型感光層を備えるものである。すなわち、感光層3中において、電荷発生物質を含有する層(電荷発生層5)と電荷輸送物質を含有する層(電荷輸送層6)とが別個に形成され、それらが隣接するように積層されている。 The image carrier 1 for an image forming apparatus according to the first and second embodiments shown in FIGS. 1 and 2 includes a function-separated type photosensitive layer in which a charge generation material and a charge transport material are contained in different layers. It is. That is, in the photosensitive layer 3, a layer containing a charge generation material (charge generation layer 5) and a layer containing a charge transport material (charge transport layer 6) are formed separately and laminated so that they are adjacent to each other. ing.
一方、図3に示す、第3実施形態に係る画像形成装置用像保持体1は、電荷発生物質と電荷輸送物質とが同一の層に含有される単層型感光層を備えるものである。すなわち、感光層3中において、電荷発生物質と電荷輸送物質と含有する電荷発生・輸送層8が一層形成されている。 On the other hand, the image carrier 1 for an image forming apparatus according to the third embodiment shown in FIG. 3 includes a single-layer type photosensitive layer in which the charge generation material and the charge transport material are contained in the same layer. That is, a charge generation / transport layer 8 containing a charge generation material and a charge transport material is formed in the photosensitive layer 3.
より詳しくは、第1実施形態に係る画像形成装置用像保持体1においては、導電性支持体2上に下引き層4、電荷発生層5、及び電荷輸送層6がこの順で積層されて感光層3が構成されており、第2実施形態に係る画像形成装置用像保持体1においては、導電性支持体2上に下引き層4、電荷発生層5、電荷輸送層6、及び保護層7がこの順で積層されて感光層3が構成されている。また、第3実施形態に係る画像形成装置用像保持体1においては、導電性支持体2上に下引き層4及び電荷発生・輸送層8がこの順で積層されて感光層3が構成されている。 More specifically, in the image carrier 1 for an image forming apparatus according to the first embodiment, the undercoat layer 4, the charge generation layer 5, and the charge transport layer 6 are laminated in this order on the conductive support 2. In the image carrier 1 for an image forming apparatus according to the second embodiment, a photosensitive layer 3 is configured. On the conductive support 2, an undercoat layer 4, a charge generation layer 5, a charge transport layer 6, and a protective layer are formed. The layer 7 is laminated in this order to constitute the photosensitive layer 3. In the image carrier 1 for an image forming apparatus according to the third embodiment, the undercoat layer 4 and the charge generation / transport layer 8 are laminated in this order on the conductive support 2 to form the photosensitive layer 3. ing.
なお、図示を省略するが、第2実施形態の変形態様として、第2実施形態における電荷発生層5と電荷輸送層6との積層順を逆にした態様や、第3実施形態の変形態様として、第3実施形態の電荷発生・輸送層8上に、第2実施形態において用いられる保護層7を形成させた態様も挙げられる。 In addition, although illustration is abbreviate | omitted, as a deformation | transformation aspect of 2nd Embodiment, the aspect which reversed the lamination | stacking order of the charge generation layer 5 and the charge transport layer 6 in 2nd Embodiment, or a deformation | transformation aspect of 3rd Embodiment Another example is a mode in which the protective layer 7 used in the second embodiment is formed on the charge generation / transport layer 8 of the third embodiment.
導電性支持体2としては、アルミニウムがドラム状、シート状、又はプレート状等の形状のものとして使用されるが、これらに限定されるものではない。導電性支持体2には陽極酸化処理や、ベーマイト処理、又はホーニング処理等を行ってもよい。 As the conductive support 2, aluminum is used in a drum shape, a sheet shape, a plate shape, or the like, but is not limited thereto. The conductive support 2 may be subjected to anodic oxidation treatment, boehmite treatment, honing treatment or the like.
導電性支持体2と感光層3で挟まれる領域又は導電性支持体2と電荷発生・輸送層8で挟まれる領域には、図1から図3に示すように下引き層4が設けられる。下引き層4としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、又はジルコニウムカップリング剤等の有機ジルコニウム化合物;チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、又はチタネートカップリング剤等の有機チタン化合物;アルミニウムキレート化合物、又はアルミニウムカップリング剤等の有機アルミニウム化合物のほか;アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、又はアルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物、等の有機金属化合物が用いられる。特に有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、又は有機アルミニウム化合物は好ましく使用される。 As shown in FIGS. 1 to 3, an undercoat layer 4 is provided in a region sandwiched between the conductive support 2 and the photosensitive layer 3 or a region sandwiched between the conductive support 2 and the charge generation / transport layer 8. As the undercoat layer 4, an organic zirconium compound such as a zirconium chelate compound, a zirconium alkoxide compound, or a zirconium coupling agent; an organic titanium compound such as a titanium chelate compound, a titanium alkoxide compound, or a titanate coupling agent; an aluminum chelate compound, or In addition to organoaluminum compounds such as aluminum coupling agents; antimony alkoxide compounds, germanium alkoxide compounds, indium alkoxide compounds, indium chelate compounds, manganese alkoxide compounds, manganese chelate compounds, tin alkoxide compounds, tin chelate compounds, aluminum silicon alkoxide compounds, aluminum Titanium alkoxide compound or aluminum zirconium alkoxide compound Organometallic compounds such is used. In particular, an organic zirconium compound, an organic titanyl compound, or an organic aluminum compound is preferably used.
また、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス2メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−2−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、又はβ−3,4−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤を更に含有させて使用する。 Also, vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris-2-methoxyethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyl Triethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-2-aminoethylaminopropyltrimethoxysilane, γ-mercapropropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, or β-3,4-epoxycyclohexyl A silane coupling agent such as trimethoxysilane is further contained.
更に、ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、又はポリアクリル酸等の公知の結着樹脂を更に含有させ得る。これらの混合割合は、必要に応じて設定される。
また、下引き層4中には電子輸送性顔料を混合又は分散して使用し得る。
Furthermore, polyvinyl alcohol, polyvinyl methyl ether, poly-N-vinylimidazole, polyethylene oxide, ethyl cellulose, methyl cellulose, ethylene-acrylic acid copolymer, polyamide, polyimide, casein, gelatin, polyethylene, polyester, phenol resin, vinyl chloride- A known binder resin such as vinyl acetate copolymer, epoxy resin, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl pyridine, polyurethane, polyglutamic acid, or polyacrylic acid may be further contained. These mixing ratios are set as necessary.
Further, an electron transporting pigment can be mixed or dispersed in the undercoat layer 4.
電子輸送性顔料としては、特開昭47−30330号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、又はキナクリドン顔料等の有機顔料が挙げられる。また、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、又はハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料やフタロシアニン顔料等の有機顔料、酸化亜鉛、又は酸化チタン等の無機顔料が挙げられる。これらの顔料の中では、ペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、酸化亜鉛、又は酸化チタンが好ましい。 Examples of the electron transporting pigment include organic pigments such as perylene pigments, bisbenzimidazole perylene pigments, polycyclic quinone pigments, indigo pigments, and quinacridone pigments described in JP-A-47-30330. Further, organic pigments such as bisazo pigments and phthalocyanine pigments having electron-withdrawing substituents such as cyano group, nitro group, nitroso group, or halogen atom, and inorganic pigments such as zinc oxide or titanium oxide. Among these pigments, a perylene pigment, a bisbenzimidazole perylene pigment, a polycyclic quinone pigment, zinc oxide, or titanium oxide is preferable.
またこれらの顔料の表面は、上記カップリング剤や、バインダ等で表面処理してもよい。電子輸送性顔料の含有量は、下引き層4全量中95重量%以下、好ましくは90重量%以下で使用される。 In addition, the surface of these pigments may be surface-treated with the above coupling agent or binder. The content of the electron transporting pigment is 95% by weight or less, preferably 90% by weight or less, based on the total amount of the undercoat layer 4.
下引き層4中に電子輸送性顔料を混合又は分散する方法は、ボールミル、ロールミル、サンドミル、又はアトライター、超音波等を用いる常法が適用される。混合及び分散は有機溶剤中で行われるが、有機溶剤としては、有機金属化合物や樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合又は分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば如何なるものでも使用される。 As a method of mixing or dispersing the electron transporting pigment in the undercoat layer 4, a conventional method using a ball mill, a roll mill, a sand mill, an attritor, an ultrasonic wave, or the like is applied. Mixing and dispersion are carried out in an organic solvent, and the organic solvent can be used as long as it dissolves an organometallic compound or resin and does not cause gelation or aggregation when an electron transporting pigment is mixed or dispersed. Anything is used.
下引き層4の厚みは、0.1μm以上30μm以下が好ましく、より好ましくは0.2μm以上25μm以下が適当である。
また、下引き層4を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、又はカーテンコーティング法等の通常の方法を用いる。
The thickness of the undercoat layer 4 is preferably 0.1 μm or more and 30 μm or less, and more preferably 0.2 μm or more and 25 μm or less.
The coating method used when the undercoat layer 4 is provided is a normal coating method such as blade coating method, Mayer bar coating method, spray coating method, dip coating method, bead coating method, air knife coating method, or curtain coating method. Use the method.
前記成分を含有する下引き層形成用組成物を塗布して形成された塗膜を乾燥させて下引き層4を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜され得る温度で行われる。特に、酸性溶液処理、ベーマイト処理を行った基材は、基材の欠陥隠蔽力が不十分となり易いため、下引き層4を形成することが好ましい。 The undercoat layer 4 is obtained by drying the coating film formed by applying the composition for forming the undercoat layer containing the above components, and the drying is usually performed at a temperature at which the solvent can be evaporated to form a film. . In particular, it is preferable to form the undercoat layer 4 because the substrate subjected to the acidic solution treatment and the boehmite treatment tends to have insufficient defect concealing power.
電荷発生層5に含有される電荷発生材料は、ビスアゾ、又はトリスアゾ等のアゾ顔料;ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料;ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、又はフタロシアニン顔料等既知のものを使用し得るが、とくに金属及び無金属フタロシアニン顔料が好ましい。その中でも、特開平5−263007号公報及び、特開平5−279591号公報に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平5−98181号公報に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平5−140472号公報及び、特開平5−140473号公報に開示されたジクロロスズフタロシアニン、又は特開平4−189873号公報及び、特開平5−43813号公報に開示されたチタニルフタロシアニンが特に好ましい。 The charge generation material contained in the charge generation layer 5 is an azo pigment such as bisazo or trisazo; a fused aromatic pigment such as dibromoanthanthrone; a perylene pigment, a pyrrolopyrrole pigment, or a phthalocyanine pigment. Although metal and metal-free phthalocyanine pigments are particularly preferred. Among these, hydroxygallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-263007 and JP-A-5-279951, chlorogallium phthalocyanine disclosed in JP-A-5-98181, JP-A-5-140472 and Dichlorotin phthalocyanine disclosed in JP-A-5-140473 or titanyl phthalocyanine disclosed in JP-A-4-189873 and JP-A-5-43813 is particularly preferable.
電荷発生層5は、電荷発生材料と結着樹脂とを混合して形成するが、このような結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、又はポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択し得る。好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体等)、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、又はポリビニルピロリドン樹脂等の絶縁性樹脂が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの結着樹脂は単独あるいは2種以上混合して用いる。
なお本実施形態における絶縁性樹脂とは、JIS K 7194「導電性プラスチックの4探針法による抵抗率試験方法」に基づき測定した体積抵抗率が1012Ω・cm以上であるような絶縁性樹脂を指す。
The charge generation layer 5 is formed by mixing a charge generation material and a binder resin. Such a binder resin is selected from a wide range of insulating resins, and also includes poly-N-vinylcarbazole and polyvinyl. It may be selected from organic photoconductive polymers such as anthracene, polyvinylpyrene, or polysilane. Preferred binder resins include polyvinyl butyral resin, polyarylate resin (polycondensate of bisphenol A and phthalic acid, etc.), polycarbonate resin, polyester resin, phenoxy resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyamide resin, acrylic resin. Insulating resin such as, but not limited to, polyacrylamide resin, polyvinyl pyridine resin, cellulose resin, urethane resin, epoxy resin, casein, polyvinyl alcohol resin, or polyvinyl pyrrolidone resin. These binder resins are used alone or in combination of two or more.
The insulating resin in the present embodiment is an insulating resin whose volume resistivity measured based on JIS K 7194 “Resistivity testing method of conductive plastic by four-probe method” is 10 12 Ω · cm or more. Point to.
電荷発生材料と結着樹脂の配合比(重量比)は10:1から1:10の範囲が好ましく、より好ましくは8:3から3:8である。
またこれらを分散させる方法としてはボールミル分散法、アトライター分散法、又はサンドミル分散法等の通常の方法を用いるが、この際、分散によって電荷発生材料の結晶型が変化しない条件が必要とされる。ちなみに本実施形態で用いた前記の分散法のいずれについても分散前と結晶型が変化していないことが確認されている。
The blending ratio (weight ratio) of the charge generation material and the binder resin is preferably in the range of 10: 1 to 1:10, more preferably 8: 3 to 3: 8.
In addition, as a method for dispersing them, a normal method such as a ball mill dispersion method, an attritor dispersion method, or a sand mill dispersion method is used. At this time, the condition that the crystal form of the charge generation material is not changed by the dispersion is required. . Incidentally, it has been confirmed that the crystal form does not change before dispersion for any of the dispersion methods used in this embodiment.
更にこの分散の際、電荷発生材料の粒子を0.5μm以下、好ましくは0.3μm以下、更に好ましくは0.15μm以下の粒子サイズにすることが有効である。 Further, at the time of dispersion, it is effective to make the particles of the charge generating material 0.5 μm or less, preferably 0.3 μm or less, more preferably 0.15 μm or less.
電荷発生層5の厚みは0.1μm以上5μm以下が好ましく、より好ましくは0.2μm以上2.0μm以下である。また、電荷発生層5を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、又はカーテンコーティング法等の通常の方法を用いる。 The thickness of the charge generation layer 5 is preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less, more preferably 0.2 μm or more and 2.0 μm or less. In addition, as a coating method used when the charge generation layer 5 is provided, the blade coating method, the Meyer bar coating method, the spray coating method, the dip coating method, the bead coating method, the air knife coating method, the curtain coating method, etc. Use the method.
電荷輸送層6としては、前記一般式(I)で示される化合物及び前記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方を含有する他は、公知の技術によって形成されたものを使用し得る。
電荷輸送層6は、前記一般式(I)で示される化合物及び前記一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方を含有すれば、その他の電荷輸送材料、結着樹脂等を含有して形成されてもよい。なお、前記一般式(I)で示される化合物を用いて前記一般式(II−1)で示される化合物を用いない場合は、前記一般式(I)で示される化合物を結着樹脂等に分散させて用いることが望ましい。また前記一般式(II−1)で示される化合物を用いる場合は、その他の樹脂を用いなくても電荷輸送層6が形成されるが、低コストの観点から、その他の樹脂と混合して用いることが望ましい。
その他の電荷輸送材料としては、例えば、p−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物;テトラシアノキノジメタン系化合物、2,4,7−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物や、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物といった他の電荷輸送材料が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
As the charge transport layer 6, a layer formed by a known technique is used except that it contains at least one of the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II-1). obtain.
If the charge transport layer 6 contains at least one of the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II-1), the charge transport layer 6 contains other charge transport materials, binder resins, and the like. May be formed. When the compound represented by the general formula (I) is used and the compound represented by the general formula (II-1) is not used, the compound represented by the general formula (I) is dispersed in a binder resin or the like. It is desirable to use them. When the compound represented by the general formula (II-1) is used, the charge transport layer 6 can be formed without using other resins, but from a low cost viewpoint, it is used by mixing with other resins. It is desirable.
Other charge transport materials include, for example, quinone compounds such as p-benzoquinone, chloranil, bromanyl, anthraquinone; tetracyanoquinodimethane compounds, fluorenone compounds such as 2,4,7-trinitrofluorenone, and xanthone compounds. , Benzophenone compounds, cyanovinyl compounds, ethylene compounds, etc., triarylamine compounds, benzidine compounds, arylalkane compounds, aryl-substituted ethylene compounds, stilbene compounds, anthracene compounds, hydrazones Other charge transport materials such as a hole transporting compound such as a series compound may be mentioned, but are not limited thereto.
電荷輸送層6全量中、前記一般式(I)で示される化合物及び前記一般式(II−1)で示される化合物の含有量は、5質量%以上70質量%以下が好ましく、より好ましくは10質量%以上60質量%以下であり、更に好ましくは20質量%以上50質量%以下である。
また前記一般式(I)で示される化合物及び前記一般式(II−1)で示される化合物以外の化合物を電荷輸送材料として併用する場合は、電荷輸送材料全量中、前記一般式(I)で示される化合物及び前記一般式(II−1)で示される化合物の含有量は、1質量%以上であるのが好ましく、5質量%以上であるのがより好ましい。
In the total amount of the charge transport layer 6, the content of the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II-1) is preferably 5% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 10%. It is 20 mass% or more, More preferably, it is 20 mass% or more and 50 mass% or less.
When a compound other than the compound represented by the general formula (I) and the compound represented by the general formula (II-1) is used as a charge transport material, the total amount of the charge transport material is represented by the general formula (I). The content of the compound shown and the compound shown by the general formula (II-1) is preferably 1% by mass or more, and more preferably 5% by mass or more.
電荷輸送層6に結着樹脂を用いる場合、結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂や、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリシラン、又は特開平8−176293号公報や特開平8−208820号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等高分子電荷輸送材が挙げられる。これらの結着樹脂は単独あるいは2種以上混合して用いる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比(重量比)は10:1から1:10が好ましく、より好ましくは8:3から3:8である。 When a binder resin is used for the charge transport layer 6, examples of the binder resin include polycarbonate resin, polyester resin, methacrylic resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl acetate resin, styrene. -Butadiene copolymer, vinylidene chloride-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate-maleic anhydride copolymer, silicone resin, silicone-alkyd resin, phenol-formaldehyde resin, styrene -Alkyd resins, poly-N-vinylcarbazole, polysilane, or polymer charge transport materials such as polyester polymer charge transport materials disclosed in JP-A-8-176293 and JP-A-8-208820. It is done. These binder resins are used alone or in combination of two or more. The blending ratio (weight ratio) between the charge transport material and the binder resin is preferably 10: 1 to 1:10, more preferably 8: 3 to 3: 8.
電荷輸送層6の厚みは5μm以上50μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以上30μm以下である。
塗布方法としては、ブレードコーティング法、ワイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、又はカーテンコーティング法等の通常の方法を用いる。
The thickness of the charge transport layer 6 is preferably 5 μm or more and 50 μm or less, more preferably 10 μm or more and 30 μm or less.
As a coating method, a normal method such as a blade coating method, a wire bar coating method, a spray coating method, a dip coating method, a bead coating method, an air knife coating method, or a curtain coating method is used.
また、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加してもよい。
また、少なくとも1種の電子受容性物質を含有してもよい。
Moreover, you may add additives, such as antioxidant, a light stabilizer, and a heat stabilizer, in a photosensitive layer.
Moreover, you may contain an at least 1 sort (s) of electron-accepting substance.
本実施形態の画像形成装置用像保持体は、保護層7(表面層)を備えるようにしてもよいが、保護層7を高強度保護層(高強度表面層)とすることが好ましい。この高強度保護層としては、バインダー樹脂中に導電性粒子を分散したもの、通常の電荷輸送層材料にフッ素樹脂、アクリル樹脂等の潤滑性粒子を分散したもの、シリコーンや、アクリル等のハードコート剤等が使用される。高強度保護層は、電荷輸送性を有し、架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含むものが好ましい。 The image carrier for an image forming apparatus according to this embodiment may include a protective layer 7 (surface layer), but the protective layer 7 is preferably a high-strength protective layer (high-strength surface layer). As this high-strength protective layer, conductive particles are dispersed in a binder resin, lubricating particles such as fluorine resin and acrylic resin are dispersed in a normal charge transport layer material, hard coat such as silicone and acrylic An agent or the like is used. The high-strength protective layer preferably has a charge transporting property and contains a siloxane resin having a crosslinked structure.
保護層7は、他のカップリング剤、フッ素化合物を混合して用いてもよい。この化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。
保護層7の形成に用いる塗布液の調整は、無溶媒で行うか、必要に応じて溶媒を用いてもよい。
The protective layer 7 may be used by mixing other coupling agents and fluorine compounds. As this compound, various silane coupling agents and commercially available silicone hard coat agents are used.
Adjustment of the coating liquid used for forming the protective layer 7 may be performed without a solvent, or a solvent may be used as necessary.
反応温度及び時間は原料の種類によっても異なるが、通常、0℃以上100℃以下、好ましくは10℃以上70℃以下、特に好ましくは、15℃以上50℃以下の温度で行う。反応時間に特に制限はないが、反応時間は10分から100時間の範囲で行うことが好ましい。 Although the reaction temperature and time vary depending on the type of raw material, it is usually 0 to 100 ° C., preferably 10 to 70 ° C., particularly preferably 15 to 50 ° C. The reaction time is not particularly limited, but the reaction time is preferably in the range of 10 minutes to 100 hours.
硬化触媒としては、塩酸、酢酸、リン酸、又は硫酸等のプロトン酸、アンモニア、又はトリエチルアミン等の塩基、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクトエート、又はオクエ酸第一錫等の有機錫化合物、テトラ−n−ブチルチタネート、又はテトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、アルミニウムトリブトキシド、又はアルミニウムトリアセチルアセトナート等の有機アルミニウム化合物、有機カルボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、又はジルコニウム塩等が挙げられるが、金属化合物が好ましく、更に、金属のアセチルアセトナート、あるいは、アセチルアセテートが好ましく、特にアルミニウムトリアセチルアセトナートが好ましい。 Examples of the curing catalyst include a protic acid such as hydrochloric acid, acetic acid, phosphoric acid, or sulfuric acid, a base such as ammonia or triethylamine, an organic tin compound such as dibutyltin diacetate, dibutyltin dioctoate, or stannous oxalate, tetra- Organotitanium compounds such as n-butyl titanate or tetraisopropyl titanate, organoaluminum compounds such as aluminum tributoxide or aluminum triacetylacetonate, iron salts, manganese salts, cobalt salts, zinc salts or zirconium salts of organic carboxylic acids However, metal compounds are preferred, metal acetylacetonate or acetylacetate is preferred, and aluminum triacetylacetonate is particularly preferred.
硬化触媒の使用量は必要に応じ設定されるが、加水分解性ケイ素置換基を含有する材料の合計量に対して0.1重量%以上20重量%以下が好ましく、0.3重量%以上10重量%以下がより好ましい。
硬化温度は、必要に応じ設定されるが、所望の強度を得るためには60℃以上、より好ましくは80℃以上に設定される。硬化時間は、必要に応じ設定されるが、10分から5時間が好ましい。
また、硬化反応を行ったのち、高湿度状態に保つことも有効である。更に、用途によっては、ヘキサメチルジシラザンや、又はトリメチルクロロシラン等を用いて表面処理を行い、疎水化する。
The amount of the curing catalyst used is set as necessary, but is preferably 0.1% by weight or more and 20% by weight or less, and preferably 0.3% by weight or more and 10% by weight or less with respect to the total amount of materials containing hydrolyzable silicon substituents. More preferably, it is less than wt%.
The curing temperature is set as required, but is set to 60 ° C. or higher, more preferably 80 ° C. or higher in order to obtain a desired strength. The curing time is set as required, but is preferably 10 minutes to 5 hours.
It is also effective to maintain a high humidity state after the curing reaction. Further, depending on the application, surface treatment is performed using hexamethyldisilazane, trimethylchlorosilane, or the like to make it hydrophobic.
画像形成装置用像保持体の保護層7には、酸化防止剤を添加することが好ましい。
また画像形成装置用像保持体の保護層7には、アルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
更に、保護層7に各種粒子を添加してもよい。それらは、単独で用いてもよいが、併用してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子、フッ素系粒子、半導電性金属酸化物粒子等が挙げられる。
また、保護層7にシリコーンオイル等のオイルを添加し得る。
It is preferable to add an antioxidant to the protective layer 7 of the image carrier for the image forming apparatus.
Further, a resin that dissolves in alcohol may be added to the protective layer 7 of the image carrier for the image forming apparatus.
Furthermore, various particles may be added to the protective layer 7. They may be used alone or in combination. Examples of the particles include silicon-containing particles, fluorine-based particles, and semiconductive metal oxide particles.
Further, an oil such as silicone oil can be added to the protective layer 7.
なお単層型感光層の場合、当該単層型感光層は、上記電荷発生物質、上記電荷輸送物質(本実施形態の一般式(I)で示される化合物、及び一般式(II−1)で示される化合物の少なくとも一方を含む。)及び結着樹脂を含有して形成され得る。なお、電荷輸送物質は高分子電荷輸送物質を含有してもよい。上記結着樹脂としては、上記電荷発生層5及び電荷輸送層6に用いられる結着樹脂として列挙されたものが用いられる。単層型感光層中の電荷発生物質の含有量は、10重量%以上85重量%以下、好ましくは20重量%以上50重量%以下である。また、単層型感光層中の電荷輸送物質の含有量は5重量以上50重量%以下とすることが好ましい。
塗布に用いる溶剤や塗布方法は、前述のものが用いられる。単層型感光層の膜厚は5μm以上50μm以下が好ましく、10μm以上40μm以下がより好ましい。
In the case of a single-layer type photosensitive layer, the single-layer type photosensitive layer includes the charge generation material, the charge transport material (the compound represented by the general formula (I) of the present embodiment, and the general formula (II-1)). And at least one of the compounds shown) and a binder resin. The charge transport material may contain a polymer charge transport material. As the binder resin, those listed as binder resins used for the charge generation layer 5 and the charge transport layer 6 are used. The content of the charge generating material in the single-layer type photosensitive layer is from 10% by weight to 85% by weight, preferably from 20% by weight to 50% by weight. The content of the charge transport material in the single-layer type photosensitive layer is preferably 5% by weight or more and 50% by weight or less.
The above-mentioned thing is used for the solvent and coating method used for application | coating. The film thickness of the single layer type photosensitive layer is preferably 5 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 40 μm or less.
(画像形成装置)
本実施形態の画像形成装置は、既述の本実施形態の画像形成装置用像保持体と、前記画像形成装置用像保持体を帯電させる帯電装置と、帯電した前記画像形成装置用像保持体を露光して静電潜像を形成させる露光装置と、前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被転写体に転写する転写装置と、を備えることを特徴とする。
図4は、本実施形態の画像形成装置の好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
図4に示す画像形成装置200は、本実施形態の画像形成装置用像保持体207と、画像形成装置用像保持体207を接触帯電方式により帯電させる帯電装置208と、帯電装置208に接続された電源209と、帯電装置208により帯電される画像形成装置用像保持体207を露光して静電潜像を形成する露光装置210と、露光装置210により形成された静電潜像をトナーにより現像してトナー像を形成する現像装置211と、現像装置211により形成されたトナー像を被転写体500に転写する転写装置212と、クリーニング装置213と、除電器214と、定着装置215とを備える。
(Image forming device)
The image forming apparatus according to the present embodiment includes the above-described image carrier for the image forming apparatus according to the present embodiment, a charging device that charges the image carrier for the image forming apparatus, and the charged image carrier for the image forming apparatus. An exposure device that forms an electrostatic latent image by exposing the toner, a developing device that develops the electrostatic latent image to form a toner image, and a transfer device that transfers the toner image to a transfer target. It is characterized by.
FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a basic configuration of a preferred embodiment of the image forming apparatus of the present embodiment.
An image forming apparatus 200 shown in FIG. 4 is connected to the image holding apparatus for image forming apparatus 207 of the present embodiment, a charging apparatus 208 for charging the image holding apparatus for image forming apparatus 207 by a contact charging method, and the charging apparatus 208. The image forming apparatus image carrier 207 charged by the power source 209 and the charging apparatus 208 is exposed to form an electrostatic latent image, and the electrostatic latent image formed by the exposure apparatus 210 is made of toner. A developing device 211 that develops a toner image, a transfer device 212 that transfers the toner image formed by the developing device 211 to the transfer target 500, a cleaning device 213, a static eliminator 214, and a fixing device 215. Prepare.
図4に示した帯電装置208は、画像形成装置用像保持体207の表面に接触型帯電部材(例えば、帯電ロール)を接触させて像保持体に電圧を印加し、像保持体表面を帯電させるものである。
接触型帯電部材としては、芯材の外周面に弾性層、抵抗層、保護層等を設けたローラ状のものが好適に用いられる。なお、接触型帯電部材の形状は、上記したローラ状の他、ブラシ状、ブレード状、又はピン電極状等何れでもよく、画像形成装置の仕様や形態に合わせて選択される。
The charging device 208 shown in FIG. 4 applies a voltage to the image carrier by bringing a contact charging member (for example, a charging roll) into contact with the surface of the image carrier 207 for the image forming apparatus, and charges the surface of the image carrier. It is something to be made.
As the contact-type charging member, a roller-shaped member in which an elastic layer, a resistance layer, a protective layer and the like are provided on the outer peripheral surface of the core material is preferably used. The shape of the contact-type charging member may be any of the above-described roller shape, brush shape, blade shape, pin electrode shape, and the like, and is selected according to the specifications and form of the image forming apparatus.
ローラ状の接触型帯電部材における芯材の材質としては、導電性を有するもの、例えば、鉄、銅、真鍮、ステンレス、アルミニウム、又はニッケル等が用いられる。また、導電性粒子等を分散した樹脂成形品等が用いられる。弾性層の材質としては、導電性あるいは半導電性を有するもの、例えば、ゴム材に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散したものが使用される。抵抗層及び保護層の材質としては結着樹脂に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散し、その抵抗を制御したものである。
これらの接触型帯電部材を用いて像保持体を帯電させる際には、接触型帯電部材に電圧が印加されるが、かかる印加電圧は直流電圧、直流電圧に交流電圧を重畳したもののいずれでもよい。
なお、図4における接触型帯電部材の代わりに、コロトロン、又はスコロトロン等の非接触方式のコロナ帯電装置も用いられる。これらは画像形成装置の仕様や形態に合わせて選択される。
As the core material of the roller-shaped contact-type charging member, a conductive material such as iron, copper, brass, stainless steel, aluminum, or nickel is used. In addition, a resin molded product in which conductive particles are dispersed is used. As the material of the elastic layer, a conductive or semiconductive material, for example, a rubber material in which conductive particles or semiconductive particles are dispersed is used. As the material of the resistance layer and the protective layer, conductive particles or semiconductive particles are dispersed in a binder resin, and the resistance is controlled.
When charging the image carrier using these contact-type charging members, a voltage is applied to the contact-type charging member. The applied voltage may be either a DC voltage or a DC voltage superimposed with an AC voltage. .
Instead of the contact-type charging member in FIG. 4, a non-contact type corona charging device such as corotron or scorotron is also used. These are selected according to the specifications and form of the image forming apparatus.
露光装置210としては、画像形成装置用像保持体表面に、半導体レーザー、LED(light emitting diode)、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光する光学系装置等が用いられる。 As the exposure apparatus 210, an optical system apparatus or the like that exposes a light source such as a semiconductor laser, an LED (light emitting diode), a liquid crystal shutter, or the like on the surface of the image carrier for the image forming apparatus in a desired image manner.
現像装置211としては、一成分系、二成分系等の正規または反転現像剤を用いた従来より公知の現像装置等が用いられる。現像装置211に使用されるトナーの形状は特に限定されないが、球形トナーが好ましい。 As the developing device 211, a conventionally known developing device using a regular or reversal developer such as a one-component system or a two-component system is used. The shape of the toner used in the developing device 211 is not particularly limited, but a spherical toner is preferable.
転写装置212としては、ローラ状の接触帯電部材の他、ベルト、フィルム、又はゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、あるいはコロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等、が挙げられる。 Examples of the transfer device 212 include a roller-type contact charging member, a contact-type transfer charger using a belt, a film, a rubber blade, or the like, or a scorotron transfer charger or a corotron transfer charger using corona discharge. Can be mentioned.
クリーニング装置213は、転写工程後の画像形成装置用像保持体の表面に付着する残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された画像形成装置用像保持体は上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。クリーニング装置としては、クリーニングブレードの他、ブラシクリーニング、又はロールクリーニング等が用いられるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが好ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、又はシリコーンゴム等が挙げられる。 The cleaning device 213 is for removing residual toner adhering to the surface of the image holding member for the image forming apparatus after the transfer process, and the image holding member for the image forming device thus cleaned has the above-mentioned image formation. Used repeatedly in the process. As the cleaning device, a cleaning blade, brush cleaning, roll cleaning, or the like is used. Of these, it is preferable to use a cleaning blade. Examples of the material for the cleaning blade include urethane rubber, neoprene rubber, and silicone rubber.
上記実施形態は1つの画像形成ユニットを有するものであるが、他の実施形態に係る画像形成装置は、この画像形成ユニットを複数有するタンデム型画像形成装置である。
例えば、画像形成ユニットが4つである場合、4つの画像形成ユニットの各現像装置においては、例えばイエロー、マゼンタ、シアン、ブランクの4色の色成分トナーを使用する。また、タンデム型画像形成装置は、4つの画像形成ユニットに共通し記録材料を搬送するベルトと、このベルトを搬送する搬送装置と、各現像装置にトナー像を供給するトナー供給装置と、カラートナー像を記録材料に定着させる定着装置とを備えていることが好ましい。
Although the above embodiment has one image forming unit, an image forming apparatus according to another embodiment is a tandem type image forming apparatus having a plurality of image forming units.
For example, when there are four image forming units, each developing device of the four image forming units uses, for example, four color component toners of yellow, magenta, cyan, and blank. The tandem image forming apparatus includes a belt that is common to the four image forming units and conveys a recording material, a conveyance device that conveys the belt, a toner supply device that supplies a toner image to each developing device, and a color toner. A fixing device for fixing the image to the recording material is preferably provided.
また、本実施形態の画像形成装置は像保持体を200000サイクル以上、更に、250000サイクル、あるいは、300000サイクル以上も使用する場合には、トナーのみを単独に補給する機構を有するものが好ましい。 Further, the image forming apparatus of the present embodiment preferably has a mechanism for supplying only the toner alone when the image carrier is used for 200000 cycles or more, further 250,000 cycles, or 300000 cycles or more.
(プロセスカートリッジ)
本実施形態のプロセスカートリッジは、既述の本実施形態の画像形成装置用像保持体を少なくとも有し、かつ、前記画像形成装置用像保持体を帯電させる帯電装置、帯電した前記画像形成装置用像保持体を露光して静電潜像を形成させる露光装置、前記静電潜像を現像してトナー像を形成する現像装置、前記トナー像を被転写体に転写する転写装置、および前記画像形成装置用像保持体をクリーニングするクリーニング装置から選ばれる少なくとも1つと、を備えることを特徴する。
(Process cartridge)
The process cartridge according to the present embodiment includes at least the image carrier for an image forming apparatus according to the above-described embodiment, and a charging device that charges the image carrier for the image forming apparatus. An exposure device that exposes an image carrier to form an electrostatic latent image, a developing device that develops the electrostatic latent image to form a toner image, a transfer device that transfers the toner image to a transfer target, and the image And at least one selected from a cleaning device for cleaning the image carrier for the forming apparatus.
図5は、本実施形態の画像形成装置用像保持体を備えるプロセスカートリッジの好適な一実施形態の基本構成を概略的に示す断面図である。
プロセスカートリッジ300は、画像形成装置用像保持体207とともに、帯電装置208、現像装置211、クリーニング装置(クリーニング手段)213、露光のための開口部218、及び、除電露光のための開口部217を取り付けレール216を用いて組み合わせ、そして一体化したものである。
そして、このプロセスカートリッジ300は、現像装置211により形成されたトナー像を被転写体500に転写する転写装置212と、定着装置215と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成するものである。
以上、本実施形態を説明したが、本実施形態は、その要旨の範囲内で様々な変形や変更がされ得る。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a basic configuration of a preferred embodiment of a process cartridge including an image carrier for an image forming apparatus according to this embodiment.
The process cartridge 300 includes an image holder 207 for an image forming apparatus, a charging device 208, a developing device 211, a cleaning device (cleaning means) 213, an opening 218 for exposure, and an opening 217 for discharge exposure. They are combined and integrated using mounting rails 216.
The process cartridge 300 is used for an image forming apparatus main body including a transfer device 212 that transfers a toner image formed by the developing device 211 to the transfer target 500, a fixing device 215, and other components not shown. The image forming apparatus is configured together with the image forming apparatus main body.
Although the present embodiment has been described above, the present embodiment can be variously modified and changed within the scope of the gist.
以下、実施例によって本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
また本実施例において、目的物の同定には、1H−NMRスペクトル(溶媒:CDCl3、VARIAN株式会社製、UNITY−300、300MHz)、及びIRスペクトル(KBr法にてフーリェ変換赤外分光光度計(株式会社 堀場製作所、FT−730、分解能4cm−1)を用いた。
さらに本実施例において、ポリマーの分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(東ソー社製、HLC−8120GPC)によって測定した。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.
In this example, for identification of the target product, 1 H-NMR spectrum (solvent: CDCl 3 , Varian Inc., UNITY-300, 300 MHz), and IR spectrum (Fourier transform infrared spectrophotometry by KBr method). A meter (Horiba, Ltd., FT-730, resolution 4 cm −1 ) was used.
Furthermore, in this example, the molecular weight of the polymer was measured by gel permeation chromatography (GPC) (manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8120GPC).
(一般式(I)又は(II−1)で示される化合物の合成)
[合成例1−具定例化合物6の合成]
アセトアニリド(25.0g)、4−ヨードフェニルプロピオン酸メチル(64.4g)、炭酸カリウム(38.3g)、硫酸銅5水和物(2.3g)、n−トリデカン(50ml)を500mlの三口フラスコに入れ、窒素気流下、230℃で20時間加熱攪拌した。反応終了後、水酸化カリウム(15.6g)をエチレングリコール(300ml)に溶解したものを加え、窒素気流下で3.5時間加熱還流した後、室温(25℃)まで冷却し、反応液を1Lの蒸留水に注ぎ、塩酸で中和し、結晶を析出させた。結晶を吸引ろ過によりろ取し、水洗した後、1Lのフラスコに移した。これに、トルエン(500ml)を加え、加熱還流し、共沸により水を除去した後、濃硫酸(1.5ml)のメタノール(300ml)溶液を加え、窒素気流下で5時間加熱還流した。反応後、トルエンで抽出し、有機相を純水で洗浄した。次いで、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を減圧下留去し、ヘキサンから再結晶することにより下記DAA−1を36.5g得た。
(Synthesis of the compound represented by the general formula (I) or (II-1))
[Synthesis Example 1-Synthesis of Specific Example Compound 6]
500 ml of acetanilide (25.0 g), methyl 4-iodophenylpropionate (64.4 g), potassium carbonate (38.3 g), copper sulfate pentahydrate (2.3 g), n-tridecane (50 ml) The flask was placed in a flask and heated and stirred at 230 ° C. for 20 hours under a nitrogen stream. After completion of the reaction, potassium hydroxide (15.6 g) dissolved in ethylene glycol (300 ml) was added, heated under reflux for 3.5 hours under a nitrogen stream, and then cooled to room temperature (25 ° C.). The mixture was poured into 1 L of distilled water and neutralized with hydrochloric acid to precipitate crystals. The crystals were collected by suction filtration, washed with water, and transferred to a 1 L flask. Toluene (500 ml) was added thereto, heated to reflux, water was removed by azeotropy, then a solution of concentrated sulfuric acid (1.5 ml) in methanol (300 ml) was added, and the mixture was heated to reflux for 5 hours under a nitrogen stream. After the reaction, extraction with toluene was performed, and the organic phase was washed with pure water. Subsequently, after drying with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and recrystallization from hexane gave 36.5 g of DAA-1 below.
次に、500ml三口フラスコ中、ジベンゾチオフェン(18.4g)と酢酸(200ml)との混合物に、30%過酸化水素水(34.0g)を20分かけて滴下し、90℃で9時間磁気攪拌した。反応終了後,氷浴(600ml)に投入し、クロロホルム(800ml)で抽出した。有機層を水(200ml)、飽和硫酸鉄水溶液(80ml)、10%炭酸ナトリウム(100ml)、水(200ml)、飽和食塩水(200ml)で順次洗浄し、塩化カルシウムで乾燥した。有機溶媒を留去して、無色の結晶物を得た。これを再結晶(クロロホルム150ml、エタノール200ml)して、ジベンゾチオフェンジオキサイドジオキサイドを18.2g得た。 Next, in a 500 ml three-necked flask, 30% aqueous hydrogen peroxide (34.0 g) was added dropwise over 20 minutes to a mixture of dibenzothiophene (18.4 g) and acetic acid (200 ml), and magnetized at 90 ° C. for 9 hours. Stir. After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into an ice bath (600 ml) and extracted with chloroform (800 ml). The organic layer was washed successively with water (200 ml), saturated aqueous iron sulfate solution (80 ml), 10% sodium carbonate (100 ml), water (200 ml) and saturated brine (200 ml), and dried over calcium chloride. The organic solvent was distilled off to obtain colorless crystals. This was recrystallized (chloroform 150 ml, ethanol 200 ml) to obtain 18.2 g of dibenzothiophene dioxide.
500ml三口フラスコ中、ジベンゾチオフェンジオキサイドジオキサイド(18g)を硫酸(250ml)に溶解し、N−ブロモこはく酸イミド(29.6g)を加えた。25℃で18時間攪拌後、反応溶液を氷水(800ml)にゆっくりと投入し、析出した沈殿物を吸引ろ過し、水(200ml)、10%NaOH水溶液(100ml)、水(200ml)で洗浄し、塩化カルシウムで乾燥した。クロロホルム(700ml)で再結晶して、3,7−ジブロモジベンゾチオフェンジオキサイドを20.1g得た。 In a 500 ml three-necked flask, dibenzothiophene dioxide dioxide (18 g) was dissolved in sulfuric acid (250 ml), and N-bromosuccinimide (29.6 g) was added. After stirring at 25 ° C. for 18 hours, the reaction solution was slowly poured into ice water (800 ml), the deposited precipitate was suction filtered, and washed with water (200 ml), 10% NaOH aqueous solution (100 ml), and water (200 ml). And dried with calcium chloride. Recrystallization from chloroform (700 ml) gave 20.1 g of 3,7-dibromodibenzothiophene dioxide.
窒素雰囲気下、200ml三口フラスコに、DAA−1(8.0g)、3,7−ジブロモジベンゾチオフェンジオキサイド(5.2g)、酢酸パラジウム(II)(150mg)、炭酸ルビジウム(19.6g)を入れ、キシレン50mlに溶解させた。トリ−ターシャリ−ブチルホスフィン(420mg)をすばやく加え、窒素雰囲気下9時間加熱還流磁気撹拌した。TLC(ヘキサン/酢エチ=3/1)にて、DAA−1のスポットが消失しているのを確認後、室温(25℃)まで冷却した。セライト吸引ろ過により無機物を除去した後、希塩酸100ml、水200ml×3、飽和食塩水200ml×1の順に中性になるまで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)により精製を行い、次いで70℃で真空乾燥を18時間行い、具体例化合物6(4.8g)を得た。 Under a nitrogen atmosphere, in a 200 ml three-necked flask, DAA-1 (8.0 g), 3,7-dibromodibenzothiophene dioxide (5.2 g), palladium (II) acetate (150 mg), rubidium carbonate (19.6 g). And dissolved in 50 ml of xylene. Tri-tert-butylphosphine (420 mg) was quickly added, and the mixture was heated and refluxed magnetically stirred for 9 hours under a nitrogen atmosphere. After confirming the disappearance of the DAA-1 spot by TLC (hexane / ethyl acetate = 3/1), it was cooled to room temperature (25 ° C.). After removing inorganic substances by Celite suction filtration, washing was carried out in the order of dilute hydrochloric acid 100 ml, water 200 ml × 3, saturated saline 200 ml × 1 in this order. After drying over anhydrous sodium sulfate, purification was performed by silica gel column chromatography (hexane / toluene = 3/1), followed by vacuum drying at 70 ° C. for 18 hours to obtain Specific Example Compound 6 (4.8 g).
1H−NMRスペクトル測定及びIRスペクトル測定によって、得られた化合物が具体例化合物6であることを確認した。 It was confirmed that the obtained compound was the specific example compound 6 by 1 H-NMR spectrum measurement and IR spectrum measurement.
[合成例2−具体例ポリマー10の合成]
合成例1において得られた具体例化合物6を1.0g用い、エチレングリコール10ml及びテトラブトキシチタン0.02gとともに50mlの三口ナスフラスコに入れ、窒素雰囲気下、200℃で5時間加熱攪拌した。
原料である上記具体例化合物6が反応して消失したのをTLCにより確認した後、50Paに減圧してエチレングリコールを留去しながら210℃に加熱し、6時間反応を続けた。
[Synthesis Example 2-Synthesis of Specific Example Polymer 10]
Using 1.0 g of the specific example compound 6 obtained in Synthesis Example 1, 10 ml of ethylene glycol and 0.02 g of tetrabutoxytitanium were placed in a 50 ml three-necked eggplant flask, and the mixture was heated and stirred at 200 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
After confirming by TLC that the specific example compound 6 as a raw material had reacted and disappeared, the pressure was reduced to 50 Pa and the mixture was heated to 210 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for 6 hours.
その後、室温(25℃)まで冷却し、テトラヒドロフラン50mlに溶解し、不溶物を0.5μlのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルターにてろ過し、ろ液を減圧下留去した後、モノクロロベンゼン300mlに溶解させ、1N−HCl300ml、水500ml×3の順に洗浄した。モノクロロベンゼン溶液を30mlまで減圧下留去して、酢酸エチル/メタノール=1/3:800ml中に滴下し、ポリマーを再沈殿させた。
得られたポリマーをろ過し、メタノールで洗浄した後、60℃で16時間真空乾燥させ、0.5gの重合体〔具体例ポリマー10〕を得た。
Thereafter, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.), dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran, insoluble matter was filtered through a 0.5 μl polytetrafluoroethylene (PTFE) filter, the filtrate was distilled off under reduced pressure, and then 300 ml of monochlorobenzene. It was dissolved in 1N-HCl 300 ml and water 500 ml × 3 in this order. The monochlorobenzene solution was distilled off under reduced pressure to 30 ml and dropped into ethyl acetate / methanol = 1/3: 800 ml to reprecipitate the polymer.
The obtained polymer was filtered, washed with methanol, and then vacuum dried at 60 ° C. for 16 hours to obtain 0.5 g of a polymer [specific example polymer 10].
この重合体の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(東ソー社製、HLC−8120GPC)にて測定したところ、重量平均分子量Mw=5.6×104(スチレン換算)、Mw/Mn=2.3であり、原料である低分子化合物の分子量から求めた重合度pは78であった。 When the molecular weight of this polymer was measured by gel permeation chromatography (GPC) (manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8120GPC), the weight average molecular weight Mw = 5.6 × 10 4 (in terms of styrene), Mw / Mn = 2. The polymerization degree p determined from the molecular weight of the low-molecular compound as a raw material was 78.
[合成例3−具定例化合物7の合成]
4−メチルアセトアニリド(21.0g)、4−ヨードフェニルプロピオン酸メチル(64.4g)、炭酸カリウム(38.3g)、硫酸銅5水和物(2.3g)、n−トリデカン(50ml)を500mlの三口フラスコに入れ、窒素気流下、230℃で15時間加熱攪拌した。反応終了後、水酸化カリウム(15.6g)をエチレングリコール(300ml)に溶解したものを加え、窒素気流下で3.5時間加熱還流した後、室温(25℃)まで冷却し、反応液を1Lの蒸留水に注ぎ、塩酸で中和し、結晶を析出させた。結晶を吸引ろ過によりろ取し、水洗した後、1Lのフラスコに移した。これに、トルエン(500ml)を加え、加熱還流し、共沸により水を除去した後、濃硫酸(1.5ml)のメタノール(300ml)溶液を加え、窒素気流下で5時間加熱還流した。反応後、トルエンで抽出し、有機相を純水で洗浄した。次いで、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を減圧下留去し、ヘキサンから再結晶することにより下記DAA−2を34.1g得た。
[Synthesis Example 3-Synthesis of Specific Example Compound 7]
4-methylacetanilide (21.0 g), methyl 4-iodophenylpropionate (64.4 g), potassium carbonate (38.3 g), copper sulfate pentahydrate (2.3 g), n-tridecane (50 ml). The mixture was placed in a 500 ml three-necked flask and heated and stirred at 230 ° C. for 15 hours under a nitrogen stream. After completion of the reaction, potassium hydroxide (15.6 g) dissolved in ethylene glycol (300 ml) was added, heated under reflux for 3.5 hours under a nitrogen stream, and then cooled to room temperature (25 ° C.). The mixture was poured into 1 L of distilled water and neutralized with hydrochloric acid to precipitate crystals. The crystals were collected by suction filtration, washed with water, and transferred to a 1 L flask. Toluene (500 ml) was added thereto, heated to reflux, water was removed by azeotropy, then a solution of concentrated sulfuric acid (1.5 ml) in methanol (300 ml) was added, and the mixture was heated to reflux for 5 hours under a nitrogen stream. After the reaction, extraction with toluene was performed, and the organic phase was washed with pure water. Next, after drying over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and recrystallization from hexane gave 34.1 g of DAA-2 below.
窒素雰囲気下、200ml三口フラスコに、DAA−2(8.0g)、3,7−ジブロモジベンゾチオフェンジオキサイド(5.2g)、酢酸パラジウム(II)(150mg)、炭酸ルビジウム(19.6g)を入れ、キシレン50mlに溶解させた。トリ−ターシャリ−ブチルホスフィン(420mg)をすばやく加え、窒素雰囲気下9時間加熱還流磁気撹拌した。TLC(ヘキサン/酢エチ=3/1)にて、DAA−2のスポットが消失しているのを確認後、室温(25℃)まで冷却した。セライト吸引ろ過により無機物を除去した後、希塩酸100ml、水200ml×3、飽和食塩水200ml×1の順に中性になるまで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)により精製を行い、次いで70℃で真空乾燥を18時間行い、具体例化合物7(5.1g)を得た。 Under a nitrogen atmosphere, in a 200 ml three-necked flask, DAA-2 (8.0 g), 3,7-dibromodibenzothiophene dioxide (5.2 g), palladium (II) acetate (150 mg), rubidium carbonate (19.6 g). And dissolved in 50 ml of xylene. Tri-tert-butylphosphine (420 mg) was quickly added, and the mixture was heated and refluxed magnetically stirred for 9 hours under a nitrogen atmosphere. After confirming the disappearance of the DAA-2 spot by TLC (hexane / ethyl acetate = 3/1), it was cooled to room temperature (25 ° C.). After removing inorganic substances by Celite suction filtration, washing was carried out in the order of dilute hydrochloric acid 100 ml, water 200 ml × 3, saturated saline 200 ml × 1 in this order. After drying over anhydrous sodium sulfate, purification was performed by silica gel column chromatography (hexane / toluene = 3/1), followed by vacuum drying at 70 ° C. for 18 hours to obtain Specific Example Compound 7 (5.1 g).
1H−NMRスペクトル測定及びIRスペクトル測定によって、得られた化合物が具体例化合物7であることを確認した。 It was confirmed by 1 H-NMR spectrum measurement and IR spectrum measurement that the obtained compound was the specific example compound 7.
[合成例4−具体例ポリマー12の合成]
合成例3において得られた具体例化合物7を1.0g用い、エチレングリコール10ml及びテトラブトキシチタン0.02gとともに50mlの三口ナスフラスコに入れ、窒素雰囲気下、200℃で5時間加熱攪拌した。
原料である上記具体例化合物7が反応して消失したのをTLCにより確認した後、50Paに減圧してエチレングリコールを留去しながら210℃に加熱し、6時間反応を続けた。
[Synthesis Example 4-Synthesis of Specific Example Polymer 12]
Using 1.0 g of the specific example compound 7 obtained in Synthesis Example 3, 10 ml of ethylene glycol and 0.02 g of tetrabutoxytitanium were placed in a 50 ml three-necked eggplant flask, and the mixture was heated and stirred at 200 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
After confirming by TLC that the specific compound 7 as a raw material had reacted and disappeared, the pressure was reduced to 50 Pa and the mixture was heated to 210 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for 6 hours.
その後、室温(25℃)まで冷却し、テトラヒドロフラン50mlに溶解し、不溶物を0.5μlのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルターにてろ過し、ろ液を減圧下留去した後、モノクロロベンゼン300mlに溶解させ、1N−HCl300ml、水500ml×3の順に洗浄した。モノクロロベンゼン溶液を30mlまで減圧下留去して、酢酸エチル/メタノール=1/3:800ml中に滴下し、ポリマーを再沈殿させた。
得られたポリマーをろ過し、メタノールで洗浄した後、60℃で18時間真空乾燥させ、0.5gの重合体〔具体例ポリマー12〕を得た。
Thereafter, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.), dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran, insoluble matter was filtered through a 0.5 μl polytetrafluoroethylene (PTFE) filter, the filtrate was distilled off under reduced pressure, and then 300 ml of monochlorobenzene. It was dissolved in 1N-HCl 300 ml and water 500 ml × 3 in this order. The monochlorobenzene solution was distilled off under reduced pressure to 30 ml and dropped into ethyl acetate / methanol = 1/3: 800 ml to reprecipitate the polymer.
The obtained polymer was filtered, washed with methanol, and then vacuum dried at 60 ° C. for 18 hours to obtain 0.5 g of a polymer [specific example polymer 12].
この重合体の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(東ソー社製、HLC−8120GPC)にて測定したところ、重量平均分子量Mw=5.4×104(スチレン換算)、Mw/Mn=2.2であり、原料である低分子化合物の分子量から求めた重合度pは72であった。 When the molecular weight of this polymer was measured by gel permeation chromatography (GPC) (manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8120GPC), the weight average molecular weight Mw = 5.4 × 10 4 (in terms of styrene), Mw / Mn = 2. And the degree of polymerization p determined from the molecular weight of the low molecular weight compound as the raw material was 72.
[合成例5−具定例化合物17の合成]
1−アセトアミドナフタレン(25.0g)、4−ヨードフェニルプロピオン酸メチル(64.4g)、炭酸カリウム(38.3g)、硫酸銅5水和物(2.3g)、n−トリデカン(50ml)を500mlの三口フラスコに入れ、窒素気流下、230℃で18時間加熱攪拌した。反応終了後、水酸化カリウム(15.6g)をエチレングリコール(300ml)に溶解したものを加え、窒素気流下で3.5時間加熱還流した後、室温(25℃)まで冷却し、反応液を1Lの蒸留水に注ぎ、塩酸で中和し、結晶を析出させた。結晶を吸引ろ過によりろ取し、十分に水洗した後、1Lのフラスコに移した。これに、トルエン(500ml)を加え、加熱還流し、共沸により水を除去した後、濃硫酸(1.5ml)のメタノール(300ml)溶液を加え、窒素気流下で5時間加熱還流した。反応後、トルエンで抽出し、有機層を純水で十分に洗浄した。次いで、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を減圧下留去し、ヘキサンから再結晶することによりDAA−3を36.5g得た。
[Synthesis Example 5-Synthesis of Specific Example Compound 17]
1-acetamidonaphthalene (25.0 g), methyl 4-iodophenylpropionate (64.4 g), potassium carbonate (38.3 g), copper sulfate pentahydrate (2.3 g), n-tridecane (50 ml) The mixture was placed in a 500 ml three-necked flask and heated and stirred at 230 ° C. for 18 hours under a nitrogen stream. After completion of the reaction, potassium hydroxide (15.6 g) dissolved in ethylene glycol (300 ml) was added, heated under reflux for 3.5 hours under a nitrogen stream, and then cooled to room temperature (25 ° C.). The mixture was poured into 1 L of distilled water and neutralized with hydrochloric acid to precipitate crystals. The crystals were collected by suction filtration, washed thoroughly with water, and transferred to a 1 L flask. Toluene (500 ml) was added thereto, heated to reflux, water was removed by azeotropy, concentrated methanol (1.5 ml) in methanol (300 ml) was added, and the mixture was heated to reflux for 5 hours under a nitrogen stream. After the reaction, extraction with toluene was performed, and the organic layer was sufficiently washed with pure water. Subsequently, after drying with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 36.5 g of DAA-3 was obtained by recrystallization from hexane.
窒素雰囲気下、200ml三口フラスコに、DAA−3(9.2g)、3,7−ジブロモジベンゾチオフェンジオキサイド(5.2g)、酢酸パラジウム(II)(150mg)、炭酸ルビジウム(19.6g)を入れ、キシレン50mlに溶解させた。トリ−ターシャリ−ブチルホスフィン(420mg)をすばやく加え、窒素雰囲気下9時間加熱還流磁気撹拌した。TLC(ヘキサン/酢エチ=3/1)にて、DAA−3のスポットが消失しているのを確認後、室温(25℃)まで冷却した。セライト吸引ろ過により無機物を除去した後、希塩酸100ml、水200ml×3、飽和食塩水200ml×1の順に中性になるまで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)により精製を行い、次いで70℃で真空乾燥を19時間行い、具体例化合物17(5.6g)を得た。 Under a nitrogen atmosphere, in a 200 ml three-necked flask, DAA-3 (9.2 g), 3,7-dibromodibenzothiophene dioxide (5.2 g), palladium (II) acetate (150 mg), rubidium carbonate (19.6 g). And dissolved in 50 ml of xylene. Tri-tert-butylphosphine (420 mg) was quickly added, and the mixture was heated and refluxed magnetically stirred for 9 hours under a nitrogen atmosphere. After confirming the disappearance of the DAA-3 spot by TLC (hexane / ethyl acetate = 3/1), it was cooled to room temperature (25 ° C.). After removing inorganic substances by Celite suction filtration, washing was carried out in the order of dilute hydrochloric acid 100 ml, water 200 ml × 3, saturated saline 200 ml × 1 in this order. After drying over anhydrous sodium sulfate, purification was performed by silica gel column chromatography (hexane / toluene = 3/1), followed by vacuum drying at 70 ° C. for 19 hours to obtain Specific Example Compound 17 (5.6 g).
1H−NMRスペクトル測定及びIRスペクトル測定によって、得られた化合物が具体例化合物17であることを確認した。 It was confirmed by 1 H-NMR spectrum measurement and IR spectrum measurement that the obtained compound was the specific example compound 17.
[合成例6−具体例ポリマー20の合成]
合成例5において得られた具体例化合物17を1.0g用い、エチレングリコール10ml及びテトラブトキシチタン0.02gとともに50mlの三口ナスフラスコに入れ、窒素雰囲気下、200℃で5時間加熱攪拌した。
原料である上記具体例化合物17が反応して消失したのをTLCにより確認した後、50Paに減圧してエチレングリコールを留去しながら210℃に加熱し、6時間反応を続けた。
[Synthesis Example 6-Synthesis of Specific Example Polymer 20]
Using 1.0 g of the specific example compound 17 obtained in Synthesis Example 5, 10 ml of ethylene glycol and 0.02 g of tetrabutoxytitanium were placed in a 50 ml three-necked eggplant flask and stirred with heating at 200 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
After confirming by TLC that the specific compound 17 as a raw material reacted and disappeared, the pressure was reduced to 50 Pa and the mixture was heated to 210 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for 6 hours.
その後、室温(25℃)まで冷却し、テトラヒドロフラン50mlに溶解し、不溶物を0.5μlのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルターにてろ過し、ろ液を減圧下留去した後、モノクロロベンゼン300mlに溶解させ、1N−HCl300ml、水500ml×3の順に洗浄した。モノクロロベンゼン溶液を30mlまで減圧下留去して、酢酸エチル/メタノール=1/3:800ml中に滴下し、ポリマーを再沈殿させた。
得られたポリマーをろ過し、メタノールで洗浄した後、60℃で16時間真空乾燥させ、0.7gの重合体〔具体例ポリマー20〕を得た。
Thereafter, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.), dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran, insoluble matter was filtered through a 0.5 μl polytetrafluoroethylene (PTFE) filter, the filtrate was distilled off under reduced pressure, and then 300 ml of monochlorobenzene. It was dissolved in 1N-HCl 300 ml and water 500 ml × 3 in this order. The monochlorobenzene solution was distilled off under reduced pressure to 30 ml and dropped into ethyl acetate / methanol = 1/3: 800 ml to reprecipitate the polymer.
The obtained polymer was filtered, washed with methanol, and then vacuum-dried at 60 ° C. for 16 hours to obtain 0.7 g of a polymer [specific example polymer 20].
この重合体の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(東ソー社製、HLC−8120GPC)にて測定したところ、重量平均分子量Mw=5.7×104(スチレン換算)、Mw/Mn=2.2であり、原料である低分子化合物の分子量から求めた重合度pは69であった。 When the molecular weight of this polymer was measured by gel permeation chromatography (GPC) (manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8120GPC), the weight average molecular weight Mw = 5.7 × 10 4 (in terms of styrene), Mw / Mn = 2. The polymerization degree p determined from the molecular weight of the low molecular weight compound as the raw material was 69.
[合成例7−具定例化合物19の合成]
4−(2−チエニル)アセトアニリド(30.0g)、4−ヨードフェニルプロピオン酸メチル(28.5g)、炭酸カリウム(13.6g)、硫酸銅5水和物(2.0g)、1,2−ジクロロベンゼン(50ml)を500mlの三口フラスコに入れ、窒素気流下、230℃で20時間加熱攪拌した。反応終了後、水酸化カリウム(15.6g)をエチレングリコール(300ml)に溶解したものを加え、窒素気流下で3.5時間加熱還流した後、室温(25℃)まで冷却し、反応液を1Lの蒸留水に注ぎ、塩酸で中和し、結晶を析出させた。結晶を吸引ろ過によりろ取し、水洗した後、1Lのフラスコに移した。これに、トルエン(500ml)を加え、加熱還流し、共沸により水を除去した後、濃硫酸(1.5ml)のメタノール(300ml)溶液を加え、窒素気流下で5時間加熱還流した。反応後、トルエンで抽出し、有機相を純水で洗浄した。次いで、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を減圧下留去し、ヘキサンから再結晶することによりDAA−4を17.9g得た。
Synthesis Example 7 Synthesis of Specific Compound 19
4- (2-thienyl) acetanilide (30.0 g), methyl 4-iodophenylpropionate (28.5 g), potassium carbonate (13.6 g), copper sulfate pentahydrate (2.0 g), 1,2 -Dichlorobenzene (50 ml) was placed in a 500 ml three-necked flask and heated and stirred at 230 ° C for 20 hours under a nitrogen stream. After completion of the reaction, potassium hydroxide (15.6 g) dissolved in ethylene glycol (300 ml) was added, heated under reflux for 3.5 hours under a nitrogen stream, and then cooled to room temperature (25 ° C.). The mixture was poured into 1 L of distilled water and neutralized with hydrochloric acid to precipitate crystals. The crystals were collected by suction filtration, washed with water, and transferred to a 1 L flask. Toluene (500 ml) was added thereto, heated to reflux, water was removed by azeotropy, then a solution of concentrated sulfuric acid (1.5 ml) in methanol (300 ml) was added, and the mixture was heated to reflux for 5 hours under a nitrogen stream. After the reaction, extraction with toluene was performed, and the organic phase was washed with pure water. Next, after drying over anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and recrystallization from hexane gave 17.9 g of DAA-4.
窒素雰囲気下、200ml三口フラスコに、DAA−4(10.1g)、3,7−ジブロモジベンゾチオフェンジオキサイド(5.2g)、酢酸パラジウム(II)(150mg)、炭酸ルビジウム(19.6g)を入れ、キシレン50mlに溶解させた。トリ−ターシャリ−ブチルホスフィン(420mg)をすばやく加え、窒素雰囲気下9時間加熱還流磁気撹拌した。TLC(ヘキサン/酢エチ=3/1)にて、DAA−4のスポットが消失しているのを確認後、室温(25℃)まで冷却した。セライト吸引ろ過により無機物を除去した後、希塩酸100ml、水200ml×3、飽和食塩水200ml×1の順に中性になるまで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)により精製を行い、次いで70℃で真空乾燥を17時間行い、具体例化合物19(6.2g)を得た。 Under a nitrogen atmosphere, in a 200 ml three-necked flask, DAA-4 (10.1 g), 3,7-dibromodibenzothiophene dioxide (5.2 g), palladium (II) acetate (150 mg), rubidium carbonate (19.6 g). And dissolved in 50 ml of xylene. Tri-tert-butylphosphine (420 mg) was quickly added, and the mixture was heated and refluxed magnetically stirred for 9 hours under a nitrogen atmosphere. After confirming disappearance of the DAA-4 spot by TLC (hexane / ethyl acetate = 3/1), it was cooled to room temperature (25 ° C.). After removing inorganic substances by Celite suction filtration, washing was carried out in the order of dilute hydrochloric acid 100 ml, water 200 ml × 3, saturated saline 200 ml × 1 in this order. After drying over anhydrous sodium sulfate, purification was performed by silica gel column chromatography (hexane / toluene = 3/1), followed by vacuum drying at 70 ° C. for 17 hours to obtain Specific Example Compound 19 (6.2 g).
1H−NMRスペクトル測定及びIRスペクトル測定によって、得られた化合物が具体例化合物19であることを確認した。 1 H-NMR spectrum measurement and IR spectrum measurement confirmed that the obtained compound was the specific example compound 19.
[合成例8−具体例ポリマー22の合成]
合成例7において得られた具体例化合物19を1.0g用い、エチレングリコール10ml及びテトラブトキシチタン0.02gとともに50mlの三口ナスフラスコに入れ、窒素雰囲気下、200℃で5時間加熱攪拌した。
原料である上記具体例化合物19が反応して消失したのをTLCにより確認した後、50Paに減圧してエチレングリコールを留去しながら210℃に加熱し、6時間反応を続けた。
[Synthesis Example 8-Synthesis of Specific Example Polymer 22]
Using 1.0 g of the specific example compound 19 obtained in Synthesis Example 7, 10 ml of ethylene glycol and 0.02 g of tetrabutoxytitanium were placed in a 50 ml three-necked eggplant flask, and the mixture was heated and stirred at 200 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
After confirming by TLC that the specific compound 19 as a raw material had reacted and disappeared, the pressure was reduced to 50 Pa and the mixture was heated to 210 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for 6 hours.
その後、室温(25℃)まで冷却し、テトラヒドロフラン50mlに溶解し、不溶物を0.5μlのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルターにてろ過し、ろ液を減圧下留去した後、モノクロロベンゼン300mlに溶解させ、1N−HCl300ml、水500ml×3の順に洗浄した。モノクロロベンゼン溶液を30mlまで減圧下留去して、酢酸エチル/メタノール=1/3:800ml中に滴下し、ポリマーを再沈殿させた。
得られたポリマーをろ過し、メタノールで洗浄した後、60℃で16時間真空乾燥させ、0.6gの重合体〔具体例ポリマー22〕を得た。
Thereafter, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.), dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran, insoluble matter was filtered through a 0.5 μl polytetrafluoroethylene (PTFE) filter, the filtrate was distilled off under reduced pressure, and then 300 ml of monochlorobenzene. It was dissolved in 1N-HCl 300 ml and water 500 ml × 3 in this order. The monochlorobenzene solution was distilled off under reduced pressure to 30 ml and dropped into ethyl acetate / methanol = 1/3: 800 ml to reprecipitate the polymer.
The obtained polymer was filtered, washed with methanol, and then vacuum dried at 60 ° C. for 16 hours to obtain 0.6 g of a polymer [specific example polymer 22].
この重合体の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(東ソー社製、HLC−8120GPC)にて測定したところ、重量平均分子量Mw=4.1×104(スチレン換算)、Mw/Mn=2.4であり、原料である低分子化合物の分子量から求めた重合度pは55であった。 When the molecular weight of this polymer was measured by gel permeation chromatography (GPC) (HLC-8120GPC, manufactured by Tosoh Corporation), the weight average molecular weight Mw = 4.1 × 10 4 (in terms of styrene), Mw / Mn = 2. The degree of polymerization p determined from the molecular weight of the low molecular weight compound as the raw material was 55.
[合成例9−具定例化合物23の合成]
窒素雰囲気下、2−ヨード−9,9−ジメチルフルオレン(31.8g)、4−アセトアミノフェニルプロピオン酸メチル20.0g、炭酸カリウム18.8g、硫酸銅5水和物1.2g、トリデカン15mlを300mlの三口フラスコに入れ、窒素気流下、200℃で13時間加熱攪拌した。この反応後、エチレングリコール150mlおよび水酸化カリウム7.6gを加え、窒素気流下で5時間加熱還流した後、室温(25℃)まで冷却し、これを150mlの蒸留水に注ぎ、塩酸で中和して、結晶を析出させた。これをろ過し、十分に水洗した後、500mlのフラスコに移した。これに、トルエン500mlを加えて、加熱還流し、水を共沸により除去した後、メタノール100ml、濃硫酸1.0mlを加えて、窒素気流下で5時間加熱還流した。反応後、トルエンで抽出し、その有機層を蒸留水で十分に洗浄した。次いで、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を減圧留去し、ヘキサンから再結晶することによりDAA−5を25g得た。
[Synthesis Example 9-Synthesis of Specific Example Compound 23]
Under nitrogen atmosphere, 2-iodo-9,9-dimethylfluorene (31.8 g), methyl 4-acetaminophenylpropionate 20.0 g, potassium carbonate 18.8 g, copper sulfate pentahydrate 1.2 g, tridecane 15 ml Was placed in a 300 ml three-necked flask and stirred with heating at 200 ° C. for 13 hours under a nitrogen stream. After this reaction, 150 ml of ethylene glycol and 7.6 g of potassium hydroxide were added, heated under reflux for 5 hours under a nitrogen stream, cooled to room temperature (25 ° C.), poured into 150 ml of distilled water, and neutralized with hydrochloric acid. Then, crystals were precipitated. This was filtered, washed thoroughly with water, and then transferred to a 500 ml flask. To this, 500 ml of toluene was added and heated to reflux, water was removed azeotropically, 100 ml of methanol and 1.0 ml of concentrated sulfuric acid were added, and the mixture was heated to reflux for 5 hours under a nitrogen stream. After the reaction, extraction with toluene was performed, and the organic layer was sufficiently washed with distilled water. Subsequently, after drying with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 25 g of DAA-5 was obtained by recrystallization from hexane.
窒素雰囲気下、200ml三口フラスコに、DAA−5(11.2g)、3,7−ジブロモジベンゾチオフェンジオキサイド(5.2g)、酢酸パラジウム(II)(150mg)、炭酸ルビジウム(19.6g)を入れ、キシレン50mlに溶解させた。トリ−ターシャリ−ブチルホスフィン(420mg)をすばやく加え、窒素雰囲気下9時間加熱還流磁気撹拌した。TLC(ヘキサン/酢エチ=3/1)にて、DAA−5のスポットが消失しているのを確認後、室温(25℃)まで冷却した。セライト吸引ろ過により無機物を除去した後、希塩酸100ml、水200ml×3、飽和食塩水200ml×1の順に中性になるまで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)により精製を行い、次いで70℃で真空乾燥を15時間行い、具体例化合物23(6.0g)を得た。 Under a nitrogen atmosphere, in a 200 ml three-necked flask, DAA-5 (11.2 g), 3,7-dibromodibenzothiophene dioxide (5.2 g), palladium (II) acetate (150 mg), rubidium carbonate (19.6 g). And dissolved in 50 ml of xylene. Tri-tert-butylphosphine (420 mg) was quickly added, and the mixture was heated and refluxed magnetically stirred for 9 hours under a nitrogen atmosphere. After confirming the disappearance of the DAA-5 spot by TLC (hexane / ethyl acetate = 3/1), it was cooled to room temperature (25 ° C.). After removing inorganic substances by Celite suction filtration, washing was carried out in the order of dilute hydrochloric acid 100 ml, water 200 ml × 3, saturated saline 200 ml × 1 in this order. After drying over anhydrous sodium sulfate, purification was performed by silica gel column chromatography (hexane / toluene = 3/1), followed by vacuum drying at 70 ° C. for 15 hours to obtain the specific compound 23 (6.0 g).
1H−NMRスペクトル測定及びIRスペクトル測定によって、得られた化合物が具体例化合物23であることを確認した。 1 H-NMR spectrum measurement and IR spectrum measurement confirmed that the obtained compound was the specific example compound 23.
[合成例10−具体例ポリマー23の合成]
合成例9において得られた具体例化合物23を1.0g用い、エチレングリコール10ml及びテトラブトキシチタン0.02gとともに50mlの三口ナスフラスコに入れ、窒素雰囲気下、200℃で5時間加熱攪拌した。
原料である上記具体例化合物23が反応して消失したのをTLCにより確認した後、50Paに減圧してエチレングリコールを留去しながら210℃に加熱し、6時間反応を続けた。
Synthesis Example 10 Synthesis of Specific Example Polymer 23
Using 1.0 g of the specific example compound 23 obtained in Synthesis Example 9, 10 ml of ethylene glycol and 0.02 g of tetrabutoxytitanium were placed in a 50 ml three-necked eggplant flask and stirred with heating at 200 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
After confirming by TLC that the specific compound 23 as a raw material had reacted and disappeared, the pressure was reduced to 50 Pa and the mixture was heated to 210 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for 6 hours.
その後、室温(25℃)まで冷却し、テトラヒドロフラン50mlに溶解し、不溶物を0.5μlのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルターにてろ過し、ろ液を減圧下留去した後、モノクロロベンゼン300mlに溶解させ、1N−HCl300ml、水500ml×3の順に洗浄した。モノクロロベンゼン溶液を30mlまで減圧下留去して、酢酸エチル/メタノール=1/3:800ml中に滴下し、ポリマーを再沈殿させた。
得られたポリマーをろ過し、メタノールで洗浄した後、60℃で16時間真空乾燥させ、0.7gの重合体〔具体例ポリマー23〕を得た。
Thereafter, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.), dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran, insoluble matter was filtered through a 0.5 μl polytetrafluoroethylene (PTFE) filter, the filtrate was distilled off under reduced pressure, and then 300 ml of monochlorobenzene. It was dissolved in 1N-HCl 300 ml and water 500 ml × 3 in this order. The monochlorobenzene solution was distilled off under reduced pressure to 30 ml and dropped into ethyl acetate / methanol = 1/3: 800 ml to reprecipitate the polymer.
The polymer obtained was filtered, washed with methanol, and then vacuum dried at 60 ° C. for 16 hours to obtain 0.7 g of a polymer [specific example polymer 23].
この重合体の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(東ソー社製、HLC−8120GPC)にて測定したところ、重量平均分子量Mw=6.6×104(スチレン換算)、Mw/Mn=2.3であり、原料である低分子化合物の分子量から求めた重合度pは69であった。 When the molecular weight of this polymer was measured by gel permeation chromatography (GPC) (manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8120GPC), the weight average molecular weight Mw = 6.6 × 10 4 (in terms of styrene), Mw / Mn = 2. The polymerization degree p determined from the molecular weight of the low-molecular compound as the raw material was 69.
[合成例11−具定例化合物15の合成]
窒素雰囲気下、3−ブロモビフェニル(23g)、4−アセトアミノフェニルプロピオン酸メチル20g、炭酸カリウム18.8g、硫酸銅5水和物1.1g、トリデカン20mlを300mlの三口フラスコに入れ、窒素気流下、200℃で24時間加熱攪拌した。この反応後、エチレングリコール150mlおよび水酸化カリウム6.5gを加え、窒素気流下で3時間加熱還流した後、室温(25℃)まで冷却し、これを150mlの蒸留水に注ぎ、塩酸で中和して、結晶を析出させた。これをろ過し、十分に水洗した後、500mlのフラスコに移した。これに、トルエン500mlを加えて、加熱還流し、水を共沸により除去した後、メタノール100ml、濃硫酸1.0mlを加えて、窒素気流下で5時間加熱還流した。反応後、トルエンで抽出し、その有機層を蒸留水で十分に洗浄した。次いで、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶剤を減圧留去し、ヘキサンから再結晶することによりDAA−6を25g得た。
Synthesis Example 11 Synthesis of Specific Example Compound 15
Under a nitrogen atmosphere, 3-bromobiphenyl (23 g), methyl 4-acetaminophenylpropionate 20 g, potassium carbonate 18.8 g, copper sulfate pentahydrate 1.1 g, and tridecane 20 ml were placed in a 300 ml three-necked flask and a nitrogen stream Under stirring at 200 ° C. for 24 hours. After this reaction, 150 ml of ethylene glycol and 6.5 g of potassium hydroxide were added, heated under reflux for 3 hours under a nitrogen stream, cooled to room temperature (25 ° C.), poured into 150 ml of distilled water, and neutralized with hydrochloric acid. Then, crystals were precipitated. This was filtered, washed thoroughly with water, and then transferred to a 500 ml flask. To this, 500 ml of toluene was added and heated to reflux, water was removed azeotropically, 100 ml of methanol and 1.0 ml of concentrated sulfuric acid were added, and the mixture was heated to reflux for 5 hours under a nitrogen stream. After the reaction, extraction with toluene was performed, and the organic layer was sufficiently washed with distilled water. Subsequently, after drying with anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 25 g of DAA-6 was obtained by recrystallization from hexane.
窒素雰囲気下、200ml三口フラスコに、DAA−6(9.9g)、3,7−ジブロモジベンゾチオフェンジオキサイド(5.2g)、酢酸パラジウム(II)(150mg)、炭酸ルビジウム(19.6g)を入れ、キシレン50mlに溶解させた。トリ−ターシャリ−ブチルホスフィン(420mg)をすばやく加え、窒素雰囲気下9時間加熱還流磁気撹拌した。TLC(ヘキサン/酢エチ=3/1)にて、DAA−6のスポットが消失しているのを確認後、室温(25℃)まで冷却した。セライト吸引ろ過により無機物を除去した後、希塩酸100ml、水200ml×3、飽和食塩水200ml×1の順に中性になるまで洗浄した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン/トルエン=3/1)により精製を行い、次いで70℃で真空乾燥を15時間行い、具体例化合物15(5.2g)を得た。 Under a nitrogen atmosphere, in a 200 ml three-necked flask, DAA-6 (9.9 g), 3,7-dibromodibenzothiophene dioxide (5.2 g), palladium (II) acetate (150 mg), rubidium carbonate (19.6 g). And dissolved in 50 ml of xylene. Tri-tert-butylphosphine (420 mg) was quickly added, and the mixture was heated and refluxed magnetically stirred for 9 hours under a nitrogen atmosphere. After confirming disappearance of the DAA-6 spot by TLC (hexane / ethyl acetate = 3/1), the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.). After removing inorganic substances by Celite suction filtration, washing was carried out in the order of dilute hydrochloric acid 100 ml, water 200 ml × 3, saturated saline 200 ml × 1 in this order. After drying over anhydrous sodium sulfate, purification was performed by silica gel column chromatography (hexane / toluene = 3/1), followed by vacuum drying at 70 ° C. for 15 hours to obtain Specific Example Compound 15 (5.2 g).
1H−NMRスペクトル測定及びIRスペクトル測定によって、得られた化合物が具体例化合物15であることを確認した。 1 H-NMR spectrum measurement and IR spectrum measurement confirmed that the obtained compound was the specific example compound 15.
[合成例12−具体例ポリマー18の合成]
合成例11において得られた具体例化合物15を1.0g用い、エチレングリコール10ml及びテトラブトキシチタン0.02gとともに50mlの三口ナスフラスコに入れ、窒素雰囲気下、200℃で5時間加熱攪拌した。
原料である上記具体例化合物15が反応して消失したのをTLCにより確認した後、50Paに減圧してエチレングリコールを留去しながら210℃に加熱し、6時間反応を続けた。
Synthesis Example 12 Synthesis of Specific Example Polymer 18
Using 1.0 g of the specific example compound 15 obtained in Synthesis Example 11, 10 ml of ethylene glycol and 0.02 g of tetrabutoxytitanium were placed in a 50 ml three-necked eggplant flask, and the mixture was heated and stirred at 200 ° C. for 5 hours in a nitrogen atmosphere.
After confirming by TLC that the above-mentioned specific compound 15 as a raw material reacted and disappeared, the pressure was reduced to 50 Pa and the mixture was heated to 210 ° C. while distilling off ethylene glycol, and the reaction was continued for 6 hours.
その後、室温(25℃)まで冷却し、テトラヒドロフラン50mlに溶解し、不溶物を0.5μlのポリテトラフルオロエチレン(PTFE)フィルターにてろ過し、ろ液を減圧下留去した後、モノクロロベンゼン300mlに溶解させ、1N−HCl300ml、水500ml×3の順に洗浄した。モノクロロベンゼン溶液を30mlまで減圧下留去して、酢酸エチル/メタノール=1/3:800ml中に滴下し、ポリマーを再沈殿させた。
得られたポリマーをろ過し、メタノールで洗浄した後、60℃で16時間真空乾燥させ、0.6gの重合体〔具体例ポリマー18〕を得た。
Thereafter, the mixture was cooled to room temperature (25 ° C.), dissolved in 50 ml of tetrahydrofuran, insoluble matter was filtered through a 0.5 μl polytetrafluoroethylene (PTFE) filter, the filtrate was distilled off under reduced pressure, and then 300 ml of monochlorobenzene. It was dissolved in 1N-HCl 300 ml and water 500 ml × 3 in this order. The monochlorobenzene solution was distilled off under reduced pressure to 30 ml and dropped into ethyl acetate / methanol = 1/3: 800 ml to reprecipitate the polymer.
The obtained polymer was filtered, washed with methanol, and then vacuum dried at 60 ° C. for 16 hours to obtain 0.6 g of a polymer [specific example polymer 18].
この重合体の分子量をゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)(東ソー社製、HLC−8120GPC)にて測定したところ、重量平均分子量Mw=5.1×104(スチレン換算)、Mw/Mn=2.4であり、原料である低分子化合物の分子量から求めた重合度pは67であった。 When the molecular weight of this polymer was measured by gel permeation chromatography (GPC) (manufactured by Tosoh Corporation, HLC-8120GPC), the weight average molecular weight Mw = 5.1 × 10 4 (in terms of styrene), Mw / Mn = 2. And the degree of polymerization p determined from the molecular weight of the low molecular weight compound as the raw material was 67.
(画像形成装置用像保持体の作製)
[実施例1]
アルミニウム基板上に、ジルコニウム化合物(オルガチックスZC540、マツモト製薬社製)10質量部及びシラン化合物(A1110、日本ユニカー社製)1質量部とi−プロパノール40質量部及びブタノール20質量部からなる溶液を浸漬コーティング法にて塗布し、150℃において10分間加熱乾燥し、膜厚0.6μmの下引き層を形成した。この上に、X線回折スペクトルにおけるブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.4°、16.6°、25.5°及び28.3°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニン結晶の1質量部を、ポリビニルブチラール樹脂(エスレックBM−S、積水化学社製)1質量部及び酢酸n−ブチル100質量部と混合し、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで1時間処理して分散した後、得られた塗布液を上記下引き層の上に浸漬コーティング法で塗布し、100℃において10分間加熱乾燥し、電荷発生層を形成した。
次に、上記により得られた具定例化合物6を2質量部と、以下に構造を示すビスフェノール(Z)高分子化合物(粘度平均分子量:40,000)3質量部と、をクロロベンゼン35質量部に加熱溶解後,室温(25℃)に戻した。この塗布液を前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で塗布し、130℃、60分の加熱を行って膜厚20μmの電荷輸送層を形成した。
(Preparation of image carrier for image forming apparatus)
[Example 1]
A solution comprising 10 parts by mass of a zirconium compound (Orgatechs ZC540, manufactured by Matsumoto Pharmaceutical Co., Ltd.), 1 part by mass of a silane compound (A1110, manufactured by Nihon Unicar), 40 parts by mass of i-propanol and 20 parts by mass of butanol on an aluminum substrate. The film was applied by a dip coating method and dried by heating at 150 ° C. for 10 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 0.6 μm. On top of this, chlorogallium phthalocyanine crystals with strong diffraction peaks at Bragg angles (2θ ± 0.2 °) of 7.4 °, 16.6 °, 25.5 ° and 28.3 ° in the X-ray diffraction spectrum. 1 part by mass is mixed with 1 part by mass of polyvinyl butyral resin (S-REC BM-S, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) and 100 parts by mass of n-butyl acetate, and after being treated with a glass shaker for 1 hour and dispersed, it is obtained. The obtained coating solution was applied onto the undercoat layer by a dip coating method and dried by heating at 100 ° C. for 10 minutes to form a charge generation layer.
Next, 2 parts by mass of the specific compound 6 obtained as described above and 3 parts by mass of a bisphenol (Z) polymer compound (viscosity average molecular weight: 40,000) having the following structure are added to 35 parts by mass of chlorobenzene. After heating and dissolving, the temperature was returned to room temperature (25 ° C.). This coating solution was applied onto the charge generation layer by dip coating, and heated at 130 ° C. for 60 minutes to form a charge transport layer having a thickness of 20 μm.
[実施例2から実施例12]
実施例1で用いた具定例化合物6に代えて、具体例ポリマー10、具体例化合物7、具体例ポリマー12、具体例化合物17、具体例ポリマー20、具体例化合物19、具体例ポリマー22、具体例化合物23、具体例ポリマー23、具体例化合物15、及び具体例ポリマー18をそれぞれ用いた他は、実施例1と同様にして画像形成装置用像保持体を作製した。
[Example 2 to Example 12]
Instead of the specific example compound 6 used in Example 1, a specific example polymer 10, a specific example compound 7, a specific example polymer 12, a specific example compound 17, a specific example polymer 20, a specific example compound 19, a specific example polymer 22, a specific example An image carrier for an image forming apparatus was produced in the same manner as in Example 1 except that Example Compound 23, Specific Example Polymer 23, Specific Example Compound 15 and Specific Example Polymer 18 were used.
[実施例13]
実施例1で用いたクロロガリウムフタロシアニン結晶に代えて、X線回折スペクトルにおけるブラッグ角度(2θ±0.2°)の7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°及び28.3°に強い回折ピークを持つヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶を用いた他は、実施例1と同様にして、画像形成装置用像保持体を作製した。
[Example 13]
Instead of the chlorogallium phthalocyanine crystal used in Example 1, 7.5 °, 9.9 °, 12.5 °, 16.3 ° of the Bragg angle (2θ ± 0.2 °) in the X-ray diffraction spectrum, An image carrier for an image forming apparatus was produced in the same manner as in Example 1 except that hydroxygallium phthalocyanine crystals having strong diffraction peaks at 18.6 °, 25.1 °, and 28.3 ° were used.
[比較例1]
実施例1で用いた具定例化合物6に代えて、下記構造の化合物(X)を用いた他は、実施例1に記載の方法により画像形成装置用像保持体を作製した。
[Comparative Example 1]
An image carrier for an image forming apparatus was produced by the method described in Example 1 except that the compound (X) having the following structure was used in place of the specific example compound 6 used in Example 1.
[比較例2]
実施例1で用いた具定例化合物6に代えて、下記構造の化合物(XI)(p=52)を用いた他は、実施例1に記載の方法により画像形成装置用像保持体を作製した。
[Comparative Example 2]
An image carrier for an image forming apparatus was produced by the method described in Example 1 except that the compound (XI) (p = 52) having the following structure was used instead of the specific example compound 6 used in Example 1. .
[比較例3]
実施例1で用いた具定例化合物6に代えて、下記構造の化合物(XII)を用いた他は、実施例1に記載の方法により画像形成装置用像保持体を作製した。
[Comparative Example 3]
An image carrier for an image forming apparatus was produced by the method described in Example 1, except that the compound (XII) having the following structure was used in place of the specific example compound 6 used in Example 1.
[比較例4]
実施例1で用いた具定例化合物6に代えて、下記構造の化合物(XIII)(p=55)を用いた他は、実施例1に記載の方法により画像形成装置用像保持体を作製した。
[Comparative Example 4]
An image carrier for an image forming apparatus was produced by the method described in Example 1 except that the compound (XIII) (p = 55) having the following structure was used instead of the specific compound 6 used in Example 1. .
(評価)
上記実施例及び比較例で得られた、それぞれの画像形成装置用像保持体を用い、電子写真特性について評価するため、静電複写紙試験装置(エレクトロスタティックアナライザーEPA−8100、川口電気社製)を用いて、20℃、40%RHの環境下、−6KVのコロナ放電を行い、帯電させた後、タングステンランプの光を、モノクロメーターを用いて800nmの単色光にし、感光体表面上で1μW/cm2になるように調整して、照射した。
そして、帯電直後における感光体表面の表面電位V0(V)、感光体表面の光照射により表面電位が1/2×VO(V)となる半減露光量E1/2(erg/cm2)を測定した(初期特性)。その後、10ルックスの白色光を1秒間照射し、感光体表面に残留した残留電位VRP(V)を測定した(初期特性)。
更に上記の帯電、露光(800nmの単色光、露光量は半減露光量)、及び白色光の照射(10ルックス)を1000回繰り返した後のV0、E1/2、及びVRPを測定、またその変動量ΔV0、ΔE1/2、ΔVRPを評価した(安定性、耐久性)。
(Evaluation)
In order to evaluate the electrophotographic characteristics using the image carriers for the image forming apparatuses obtained in the above examples and comparative examples, an electrostatic copying paper test apparatus (electrostatic analyzer EPA-8100, manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd.) Was used, and was charged with a corona discharge of -6 KV in an environment of 20 ° C. and 40% RH. Then, the tungsten lamp was changed to a monochromatic light of 800 nm using a monochromator, and 1 μW on the surface of the photoreceptor. Irradiation was carried out after adjusting to / cm 2 .
Then, the surface potential V 0 (V) on the surface of the photoreceptor immediately after charging, and the half-exposure amount E1 / 2 (erg / cm 2 ) at which the surface potential becomes 1/2 × V O (V) by light irradiation on the surface of the photoreceptor. Was measured (initial characteristics). Thereafter, 10 lux of white light was irradiated for 1 second, and the residual potential VRP (V) remaining on the surface of the photoreceptor was measured (initial characteristics).
Furthermore, V 0 , E1 / 2, and VRP after repeating the above charging, exposure (monochromatic light at 800 nm, exposure amount is half exposure amount), and irradiation with white light (10 lux) 1000 times, and Fluctuations ΔV 0 , ΔE1 / 2 and ΔVRP were evaluated (stability and durability).
つぎに上記実施例および比較例で得られた画像形成装置用像保持体を用い、画像形成装置を作製した。画像形成装置用像保持体以外の要素は、富士ゼロックス製プリンターDocucenter C6550Iに搭載されたものを用いた。
各画像形成装置について、28℃、75%RHの環境下で1万枚分の画像形成テスト(画像濃度10%、シアン100%)を実施した。なお、本テスト条件においては、各カートリッジのプロセスは通常通り行われるが、シアン以外のカートリッジのトナーは使用(供給)されない。テスト後、トナーのクリーニング性(クリーニング不良による帯電器の汚れや画質劣化)、画質(プロセスブラック1dotライン斜め45度細線再現性)を評価した。クリーニング性及び画質の評価方法及び評価基準は以下の通りであり、得られた結果を表1に示す。
Next, an image forming apparatus was produced using the image carrier for the image forming apparatus obtained in the above examples and comparative examples. As elements other than the image carrier for the image forming apparatus, those mounted on a printer Documenter C6550I manufactured by Fuji Xerox were used.
Each image forming apparatus was subjected to an image forming test for 10,000 sheets (image density 10%, cyan 100%) in an environment of 28 ° C. and 75% RH. In this test condition, the process of each cartridge is performed as usual, but toners of cartridges other than cyan are not used (supplied). After the test, toner cleaning properties (charger contamination and image quality deterioration due to poor cleaning) and image quality (process black 1 dot line oblique 45 degree fine line reproducibility) were evaluated. The cleaning method and image quality evaluation methods and evaluation criteria are as follows, and Table 1 shows the obtained results.
クリーニング性は目視にて評価し、以下の評価基準に基づいて評価した。
○:良好
△:部分的(全体の10%程度以下)にスジ状の画質欠陥あり
×:広範にスジ状の画質欠陥あり
The cleaning property was evaluated visually and evaluated based on the following evaluation criteria.
○: Good △: Partially (about 10% or less of the whole) streak-like image quality defect ×: Widely streak-like image quality defect
画質は拡大鏡を用いて判断し、以下の評価基準に基づいて評価した。
A:良好
B:部分的に欠陥有り(実用上は問題なし)
C:欠陥有り(細線が再現されていない)
The image quality was judged using a magnifying glass and evaluated based on the following evaluation criteria.
A: Good B: Partially defective (no problem in practical use)
C: Defect (thin lines are not reproduced)
上記の結果から、本実施例で得られた画像形成装置用像保持体は、比較例に比べて繰り返し使用による残留電位変動が低いことがわかる。また該画像形成装置用像保持体を有する画像形成装置で得られた画像は、画質も良好であることがわかる。 From the above results, it can be seen that the image carrier for the image forming apparatus obtained in this example has a lower residual potential variation due to repeated use than in the comparative example. It can also be seen that the image obtained by the image forming apparatus having the image carrier for the image forming apparatus has good image quality.
1 画像形成装置用像保持体
2 導電性支持体
3 感光層
4 下引き層
5 電荷発生層
6 電荷輸送層
7 保護層
8 電荷発生・輸送層
200 画像形成装置
207 画像形成装置用像保持体
208 帯電装置
209 電源
210 露光装置
211 現像装置
212 転写装置
213 クリーニング装置
214 除電器
215 定着装置
216 取り付けレール
217 除電露光のための開口部
218 露光のための開口部
300 プロセスカートリッジ
500 被転写体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Image carrier for image forming apparatuses 2 Conductive support 3 Photosensitive layer 4 Subbing layer 5 Charge generation layer 6 Charge transport layer 7 Protective layer 8 Charge generation / transport layer 200 Image forming apparatus 207 Image carrier for image forming apparatus 208 Charging device 209 Power source 210 Exposure device 211 Development device 212 Transfer device 213 Cleaning device 214 Static eliminator 215 Fixing device 216 Mounting rail 217 Opening portion 218 for static elimination exposure Opening portion 300 for exposure Process cartridge 500 Transfer object
Claims (4)
〔一般式(I)中、R1は、各々独立に、置換又は未置換の直鎖又は分岐の炭素数1以上8以下のアルキル基を表し、Arは、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の1価の芳香族複素環基を表し、nは各々独立に0以上7以下を表す。〕 An image carrier for an image forming apparatus, comprising: a support; and a photosensitive layer containing a compound represented by the following general formula (I) on the support.
[In General Formula (I), each R 1 independently represents a substituted or unsubstituted linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, Or a monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 unsubstituted aromatic rings, a monovalent condensed aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 substituted or unsubstituted aromatic rings, or substituted or unsubstituted Of the monovalent aromatic heterocyclic group, and n independently represents 0 or more and 7 or less. ]
〔一般式(II−1)中、Y1は、各々独立に、置換又は未置換の2価の炭化水素基を表し、A1は下記一般式(II−2)で示される基を表し、R2は、各々独立に、水素原子、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の炭素数1以上6以下の1価の直鎖状炭化水素基、又は置換若しくは未置換の炭素数2以上10以下の1価の分枝状炭化水素基を表す。mは各々独立に1以上5以下の整数を表し、pは5以上5,000以下の整数を表す。〕
〔一般式(II−2)中、Arは、置換若しくは未置換のフェニル基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の多核芳香族炭化水素基、置換若しくは未置換の芳香環数2以上10以下の1価の縮合芳香族炭化水素基、又は置換若しくは未置換の1価の芳香族複素環基を表し、nは各々独立に0以上7以下を表す。〕 An image carrier for an image forming apparatus, comprising: a support; and a photosensitive layer containing a compound represented by the following general formula (II-1) on the support.
[In General Formula (II-1), each Y 1 independently represents a substituted or unsubstituted divalent hydrocarbon group, A 1 represents a group represented by the following General Formula (II-2), R 2 each independently represents a hydrogen atom, a monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 substituted or unsubstituted aromatic rings, or a monovalent polyvalent aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 substituted or unsubstituted aromatic rings. Condensed aromatic hydrocarbon group, substituted or unsubstituted monovalent linear hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms, or substituted or unsubstituted monovalent branched hydrocarbon group having 2 to 10 carbon atoms Represents a group. Each m independently represents an integer of 1 to 5, and p represents an integer of 5 to 5,000. ]
[In the general formula (II-2), Ar represents a substituted or unsubstituted phenyl group, a substituted or unsubstituted monovalent polynuclear aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 aromatic rings, a substituted or unsubstituted aromatic group. It represents a monovalent condensed aromatic hydrocarbon group having 2 to 10 rings, or a substituted or unsubstituted monovalent aromatic heterocyclic group, and n independently represents 0 or more and 7 or less. ]
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