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JP2013008025A - Laminate for antireflection and manufacturing method thereof, and curable composition - Google Patents

Laminate for antireflection and manufacturing method thereof, and curable composition Download PDF

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JP2013008025A
JP2013008025A JP2012119220A JP2012119220A JP2013008025A JP 2013008025 A JP2013008025 A JP 2013008025A JP 2012119220 A JP2012119220 A JP 2012119220A JP 2012119220 A JP2012119220 A JP 2012119220A JP 2013008025 A JP2013008025 A JP 2013008025A
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Japan
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particles
cellulose resin
mass
component
cured film
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Pending
Application number
JP2012119220A
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Japanese (ja)
Inventor
Kensuke Miyao
健介 宮尾
Takahiro Kawai
高弘 川合
Eiichiro Urushibara
英一郎 漆原
Taro Kanamori
太郎 金森
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JSR Corp
Original Assignee
JSR Corp
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Publication date
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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)

Abstract

【課題】反射防止性および耐擦傷性に優れた硬化膜を一度の塗布工程で形成することができる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射防止用積層体ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る反射防止用積層体は、セルロース樹脂基材と、セルロース樹脂を溶解する重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる硬化性組成物の硬化膜と、を備え、前記セルロース樹脂基材と前記硬化膜とは接して積層され、前記(B)粒子および前記(C)粒子は前記硬化膜中において前記セルロース樹脂基材とは反対側に偏在していることを特徴とする。
【選択図】図1
An object of the present invention is to provide a curable composition capable of forming a cured film having excellent antireflection properties and scratch resistance in a single coating step, an antireflection laminate having the cured film, and a method for producing the same.
An antireflection laminate according to the present invention comprises a cellulose resin substrate, a polymerizable compound (A) containing 5% by mass or more and 75% by mass or less of a polymerizable component (A1) for dissolving the cellulose resin, hollow A cured film of a curable composition comprising silica particles (B) and solid particles (C) having a refractive index of 1.50 or less and a number average particle diameter measured by a transmission electron microscope of 100 nm or more. The cellulose resin base material and the cured film are laminated in contact with each other, and the (B) particles and the (C) particles are unevenly distributed on the opposite side of the cellulose resin base material in the cured film. It is characterized by.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、反射防止用積層体およびその製造方法、ならびに硬化性組成物に関する。   The present invention relates to an antireflection laminate, a method for producing the same, and a curable composition.

近年、テレビ、パーソナルコンピュータ等の表示装置として、液晶表示装置が使用されている。かかる液晶表示装置において、外光の映りを防止して画質を向上させるために、低屈折率層を含有する反射防止膜を使用することが提案されている。   In recent years, liquid crystal display devices have been used as display devices for televisions, personal computers, and the like. In such a liquid crystal display device, it has been proposed to use an antireflection film containing a low refractive index layer in order to prevent reflection of external light and improve image quality.

従来の液晶表示装置に使用される反射防止膜は、低屈折率層とハードコート層を多層塗工することで反射防止性および耐擦傷性を備えていた。このような多層構造を有する反射防止膜は、低屈折率層において反射率を低減させることができるが、多層構造とするために生産性やコストに劣るという問題があった。さらに、低屈折率層とハードコート層とを積層させることにより製造された反射防止膜は、低屈折率層とハードコート層との界面で剥離が起こりやすいという問題を抱えていた。   An antireflection film used in a conventional liquid crystal display device has antireflection properties and scratch resistance by applying a multilayer coating of a low refractive index layer and a hard coat layer. The antireflection film having such a multilayer structure can reduce the reflectance in the low refractive index layer, but has a problem that the productivity and cost are inferior because of the multilayer structure. Furthermore, the antireflection film produced by laminating the low refractive index layer and the hard coat layer has a problem that peeling easily occurs at the interface between the low refractive index layer and the hard coat layer.

このような問題を解決するために、フッ素シランでシリカ粒子を修飾し、表面エネルギーによりその液体中でシリカ粒子を偏在化させてから硬化膜を形成するという反射防止膜の製造方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In order to solve such problems, a method for producing an antireflection film is proposed in which silica particles are modified with fluorine silane, and the silica particles are unevenly distributed in the liquid by surface energy, and then a cured film is formed. (For example, refer to Patent Document 1).

特開2001−316604号公報JP 2001-316604 A

しかしながら、従来の方法では、シリカ粒子の偏在性が不安定で十分な反射防止性が得られないばかりでなく、硬化膜表面の耐擦傷性に優れないという問題があった。   However, the conventional method has a problem that the uneven distribution of silica particles is unstable and sufficient antireflection properties cannot be obtained, and the scratch resistance of the cured film surface is not excellent.

そこで、本発明に係る幾つかの態様は、上記課題を解決することで、反射防止性および耐擦傷性に優れた硬化膜を一度の塗布工程で形成することができる硬化性組成物、あるいは該硬化膜を有する反射防止用積層体ならびにその製造方法を提供するものである。   Therefore, some embodiments according to the present invention provide a curable composition that can form a cured film having excellent antireflection properties and scratch resistance in a single coating step by solving the above-described problems, or An antireflection laminate having a cured film and a method for producing the same are provided.

本発明は上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の態様または適用例として実現することができる。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following aspects or application examples.

[適用例1]
本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、
セルロース樹脂基材と、
セルロース樹脂を溶解する重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる硬化性組成物の硬化膜と、を備え、
前記セルロース樹脂基材と前記硬化膜とは接して積層され、前記(B)粒子および前記(C)粒子は前記硬化膜中において前記セルロース樹脂基材とは反対側に偏在していることを特徴とする。ここで、セルロース樹脂を溶解する成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを、6gの該成分中に25℃で2時間
浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1%以上である成分をいう。
[Application Example 1]
One aspect of the antireflection laminate according to the present invention is:
A cellulose resin substrate;
A polymerizable compound (A) containing 5% by mass to 75% by mass of a polymerizable component (A1) for dissolving the cellulose resin, hollow silica particles (B), a refractive index of 1.50 or less, and a transmission electron microscope A cured film of a curable composition comprising solid particles (C) having a measured number average particle diameter of 100 nm or more, and
The cellulose resin substrate and the cured film are laminated in contact with each other, and the (B) particles and the (C) particles are unevenly distributed on the opposite side of the cellulose resin substrate in the cured film. And Here, the component that dissolves the cellulose resin is a cellulose resin film having a thickness of 18 μm cut into a size of 18 cm × 1 cm, soaked in 6 g of the component at 25 ° C. for 2 hours, and the taken-out film at 80 ° C. The component whose mass reduction | decrease rate of the film when dried with a vacuum dryer for 24 hours is 1% or more is said.

[適用例2]
本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、
セルロース樹脂基材と、
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ−ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる硬化性組成物の硬化膜と、を備え、
前記セルロース樹脂基材と前記硬化膜とが接して積層され、前記(B)粒子および前記(C)粒子は前記硬化膜中において前記セルロース樹脂基材とは反対側に偏在していることを特徴とする。
[Application Example 2]
One aspect of the antireflection laminate according to the present invention is:
A cellulose resin substrate;
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, γ-butyrolactone acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 4- A polymerizable compound (A) containing 5% by mass or more and 75% by mass or less of a polymerizable component (A1) which is at least one selected from hydroxybutyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, glycerin monomethacrylate, ethylene glycol diacrylate and diethylene glycol diacrylate ), Hollow silica particles (B) and a refractive index of 1.50 or less and a number average particle diameter measured by a transmission electron microscope of 100 nm or more. And a cured film of the curable composition containing the solid particles (C) in that,
The cellulose resin substrate and the cured film are laminated in contact with each other, and the particles (B) and (C) are unevenly distributed on the opposite side of the cellulose resin substrate in the cured film. And

ここで「粒子が硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側に偏在している」とは、前記硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側における粒子の密度が、硬化膜中のセルロース樹脂基材側における粒子の密度よりも高いことをいう。硬化膜中のセルロース樹脂基材側とセルロース樹脂基材とは反対側とにおける粒子の密度の相対的大小は、例えば反射防止用積層体の断面を電子顕微鏡で観察することにより決定することができる。セルロース樹脂基材側とその反対側との粒子の密度の差は大きいほど好ましい。硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側に(B)粒子や(C)粒子が高密度に存在しており、硬化膜中のセルロース樹脂基材側には(B)粒子や(C)粒子が実質的に存在していないことが特に好ましい。   Here, “the particles are unevenly distributed on the side opposite to the cellulose resin substrate in the cured film” means that the density of the particles on the side opposite to the cellulose resin substrate in the cured film is the cellulose in the cured film. It means that it is higher than the density of the particles on the resin substrate side. The relative size of the density of the particles on the cellulose resin substrate side and the opposite side of the cellulose resin substrate in the cured film can be determined, for example, by observing the cross section of the antireflection laminate with an electron microscope. . The larger the density difference between the cellulose resin substrate side and the opposite side, the better. The (B) particles and (C) particles are present at high density on the side opposite to the cellulose resin substrate in the cured film, and the (B) particles and (C) are present on the cellulose resin substrate side in the cured film. It is particularly preferred that the particles are substantially absent.

[適用例3]
適用例1または適用例2の反射防止用積層体において、
前記硬化膜が前記セルロース樹脂基材を形成するセルロース樹脂を含有することができる。
[Application Example 3]
In the antireflection laminate of Application Example 1 or Application Example 2,
The said cured film can contain the cellulose resin which forms the said cellulose resin base material.

[適用例4]
適用例1ないし適用例3のいずれか一例の反射防止用積層体において、
前記(C)粒子は中実シリカ粒子および中実フッ化マグネシウム粒子から選択される少なくとも1種であることができる。
[Application Example 4]
In the antireflection laminate of any one of Application Examples 1 to 3,
The (C) particles may be at least one selected from solid silica particles and solid magnesium fluoride particles.

[適用例5]
適用例1ないし適用例4のいずれか一例の反射防止用積層体において、
前記(B)粒子および(C)粒子の配合割合は質量基準で(B)粒子:(C)粒子=80:20〜99.9:0.1の範囲であることができる。
[Application Example 5]
In the antireflection laminate of any one of Application Examples 1 to 4,
The blending ratio of the (B) particles and the (C) particles can be in the range of (B) particles: (C) particles = 80: 20 to 99.9: 0.1 on a mass basis.

[適用例6]
本発明に係る反射防止用積層体の製造方法の一態様は、
セルロース樹脂を溶解する重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してな
る硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を含むことを特徴とする。ここで、セルロース樹脂を溶解する成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを、6gの該成分中に25℃で2時間浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1%以上である成分をいう。
[Application Example 6]
One aspect of the method for producing an antireflection laminate according to the present invention is as follows.
A polymerizable compound (A) containing 5% by mass to 75% by mass of a polymerizable component (A1) for dissolving the cellulose resin, hollow silica particles (B), a refractive index of 1.50 or less, and a transmission electron microscope It includes a step of applying a curable composition containing solid particles (C) having a measured number average particle diameter of 100 nm or more to a cellulose resin substrate and then curing the composition. Here, the component that dissolves the cellulose resin is a cellulose resin film having a thickness of 18 μm cut into a size of 18 cm × 1 cm, soaked in 6 g of the component at 25 ° C. for 2 hours, and the taken-out film at 80 ° C. The component whose mass reduction | decrease rate of the film when dried with a vacuum dryer for 24 hours is 1% or more is said.

[適用例7]
本発明に係る反射防止用積層体の一態様は、
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ−ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を含むことを特徴とする。
[Application Example 7]
One aspect of the antireflection laminate according to the present invention is:
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, γ-butyrolactone acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 4- A polymerizable compound (A) containing 5% by mass or more and 75% by mass or less of a polymerizable component (A1) which is at least one selected from hydroxybutyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, glycerin monomethacrylate, ethylene glycol diacrylate and diethylene glycol diacrylate ), Hollow silica particles (B) and a refractive index of 1.50 or less and a number average particle diameter measured by a transmission electron microscope of 100 nm or more. After a curable composition comprising the solid particles (C) was applied to a cellulose resin substrate in that, characterized in that it comprises a step of curing.

[適用例8]
適用例6または適用例7の反射防止用積層体の製造方法において、
前記(C)粒子は中実シリカ粒子および中実フッ化マグネシウム粒子から選択される少なくとも1種であることができる。
[Application Example 8]
In the production method of the antireflection laminate of Application Example 6 or Application Example 7,
The (C) particles may be at least one selected from solid silica particles and solid magnesium fluoride particles.

[適用例9]
適用例6ないし適用例8のいずれか一例の反射防止用積層体の製造方法において、
前記(B)粒子および(C)粒子の配合割合は質量基準で(B)粒子:(C)粒子=80:20〜99.9:0.1の範囲であることができる。
[Application Example 9]
In the method for manufacturing an antireflection laminate according to any one of Application Example 6 to Application Example 8,
The blending ratio of the (B) particles and the (C) particles can be in the range of (B) particles: (C) particles = 80: 20 to 99.9: 0.1 on a mass basis.

[適用例10]
本発明に係る硬化性組成物の一態様は、
反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物であって、
セルロース樹脂を溶解する重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなることを特徴とする。ここで、セルロース樹脂を溶解する成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを、6gの該成分中に25℃で2時間浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1%以上である成分をいう。
[Application Example 10]
One aspect of the curable composition according to the present invention is:
A curable composition used for producing an antireflection laminate,
A polymerizable compound (A) containing 5% by mass to 75% by mass of a polymerizable component (A1) for dissolving the cellulose resin, hollow silica particles (B), a refractive index of 1.50 or less, and a transmission electron microscope It is characterized by containing solid particles (C) having a measured number average particle diameter of 100 nm or more. Here, the component that dissolves the cellulose resin is a cellulose resin film having a thickness of 18 μm cut into a size of 18 cm × 1 cm, soaked in 6 g of the component at 25 ° C. for 2 hours, and the taken-out film at 80 ° C. The component whose mass reduction | decrease rate of the film when dried with a vacuum dryer for 24 hours is 1% or more is said.

[適用例11]
本発明に係る硬化性組成物の一態様は、
反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物であって、
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ−ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シ
リカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなることを特徴とする。
[Application Example 11]
One aspect of the curable composition according to the present invention is:
A curable composition used for producing an antireflection laminate,
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, γ-butyrolactone acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 4- A polymerizable compound (A) containing 5% by mass or more and 75% by mass or less of a polymerizable component (A1) which is at least one selected from hydroxybutyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, glycerin monomethacrylate, ethylene glycol diacrylate and diethylene glycol diacrylate ), Hollow silica particles (B) and a refractive index of 1.50 or less and a number average particle diameter measured by a transmission electron microscope of 100 nm or more. Characterized by containing a solid particle (C) within that.

[適用例12]
適用例10または適用例11の硬化性組成物において、
前記(C)粒子は中実シリカ粒子および中実フッ化マグネシウム粒子から選択される少なくとも1種であることができる。
[Application Example 12]
In the curable composition of Application Example 10 or Application Example 11,
The (C) particles may be at least one selected from solid silica particles and solid magnesium fluoride particles.

[適用例13]
適用例10ないし適用例12のいずれか一例の硬化性組成物において、
前記(B)粒子および(C)粒子の配合割合は質量基準で(B)粒子:(C)粒子=80:20〜99.9:0.1の範囲であることができる。
[Application Example 13]
In the curable composition of any one of Application Example 10 to Application Example 12,
The blending ratio of the (B) particles and the (C) particles can be in the range of (B) particles: (C) particles = 80: 20 to 99.9: 0.1 on a mass basis.

本発明に係る反射防止用積層体によれば、前記硬化膜中の、セルロース樹脂基材と接触する面とは反対の面側に(B)粒子および(C)粒子が高密度に存在する層(以下「低屈折率層」ともいう。)を有し、セルロース樹脂基材と接触する面側に(B)粒子および(C)粒子が実質的に存在しない層(以下「ハードコート層」ともいう。)を有しているため、反射防止性および耐擦傷性の双方を兼ね備えることができる。また、(C)粒子がセルロース樹脂基材と接触する面とは反対の面側に高密度に存在することにより、支柱効果が発揮され耐擦傷性が格段に向上する。さらに、(C)粒子の粒径と、形成される低屈折率層の膜厚とを適切に選択することにより、積層体の最表面に凹凸を形成することもできる。この結果、低屈折率層による反射防止効果と、最表面の凹凸による防眩効果と、両方を奏する反射防止用積層体を得ることができる。   According to the antireflection laminate of the present invention, a layer in which (B) particles and (C) particles are present at high density on the surface of the cured film opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate. (Hereinafter also referred to as “low refractive index layer”), and the layer that is substantially free of (B) particles and (C) particles on the surface side in contact with the cellulose resin substrate (hereinafter also referred to as “hard coat layer”). Therefore, both antireflection properties and scratch resistance can be provided. Further, (C) the particles are present at a high density on the surface opposite to the surface in contact with the cellulose resin substrate, whereby the strut effect is exhibited and the scratch resistance is remarkably improved. Furthermore, unevenness | corrugation can also be formed in the outermost surface of a laminated body by selecting suitably the particle size of (C) particle | grains, and the film thickness of the low refractive index layer formed. As a result, it is possible to obtain an antireflection laminate that exhibits both the antireflection effect of the low refractive index layer and the antiglare effect of the unevenness on the outermost surface.

本発明に係る反射防止用積層体の製造方法によれば、基材となるセルロース樹脂に前記硬化性組成物を一度塗布して硬化させることで、セルロース樹脂と接触する面とは反対の面側に(B)粒子および(C)粒子が高密度に存在する層を形成し、セルロース樹脂と接触する面側に(B)粒子および(C)粒子が実質的に存在しない層を形成することができる。これにより、反射防止性および耐擦傷性の双方を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。   According to the method for producing an antireflection laminate according to the present invention, the surface side opposite to the surface in contact with the cellulose resin is obtained by once applying and curing the curable composition on the cellulose resin as the base material. (B) particles and (C) particles are formed in a layer having a high density, and (B) particles and (C) particles are substantially not formed on the side in contact with the cellulose resin. it can. Thereby, it is possible to produce an antireflection laminate having both antireflection properties and scratch resistance.

本実施の形態に係る反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。It is sectional drawing which showed typically the laminated body for reflection which concerns on this Embodiment. 実施例4に係る反射防止用積層体の硬化膜表面を撮影したSEM写真である。4 is a SEM photograph obtained by photographing the cured film surface of the antireflection laminate according to Example 4;

以下、本発明に係る好適な実施形態について詳細に説明する。なお、本発明は、下記の実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を変更しない範囲において実施される各種の変型例も含む。   Hereinafter, preferred embodiments according to the present invention will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, Various modifications implemented in the range which does not change the summary of this invention are also included.

1.硬化性組成物
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物と、(B)中空シリカ粒子と、(C)屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子と、を含有する。以下、本実施の形態に係る硬化性組成物の各成分について詳細に説明する。なお、本明細書において(A)ないし(E)の各材料を、それぞれ(A)成分ないし(E)成分と省略して記載することもある。
1. Curable composition The curable composition according to the present embodiment includes (A) a polymerizable compound, (B) hollow silica particles, (C) a refractive index of 1.50 or less, and a transmission electron microscope. Solid particles having a measured number average particle diameter of 100 nm or more. Hereinafter, each component of the curable composition which concerns on this Embodiment is demonstrated in detail. In the present specification, the materials (A) to (E) may be abbreviated as the components (A) to (E), respectively.

1.1.(A)重合性化合物
本実施の形態で用いられる(A)重合性化合物は、重合性を有する化合物であれば特に限定されないが、エチレン性不飽和基を有する化合物が好ましい。(A)重合性化合物は、基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物(以下「(A1)成分」ともいう。)と、(A1)成分以外の重合性化合物(以下「(A2)成分」ともいう。)と、に分類することができる。
1.1. (A) Polymerizable compound The polymerizable compound (A) used in the present embodiment is not particularly limited as long as it is a polymerizable compound, but a compound having an ethylenically unsaturated group is preferred. The polymerizable compound (A) is a polymerizable compound that dissolves the cellulose resin of the substrate (hereinafter also referred to as “(A1) component”), and a polymerizable compound other than the (A1) component (hereinafter referred to as “(A2) component”). It can also be classified as follows.

1.1.1.(A1)成分
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A1)基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物を含有する。本発明において「基材のセルロース樹脂を溶解する」とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmの基材のセルロース樹脂フィルムの質量をa(g)とし、このフィルムを室温環境下で6gの重合性化合物に2時間浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥した後のフィルムの質量をa(g)としたときに、((a−a)/a)×100で表されるフィルムの質量減少率が1%以上であることをいう。
1.1.1. (A1) Component The curable composition concerning this Embodiment contains the polymeric compound which melt | dissolves the cellulose resin of (A1) base material. In the present invention, “dissolving the cellulose resin of the base material” means that the mass of the cellulose resin film of the base material having a thickness of 80 μm cut into a size of 18 cm × 1 cm is a 0 (g), and this film is a room temperature environment. When the mass of the film after dipping in 6 g of the polymerizable compound for 2 hours and drying the taken-out film with a vacuum dryer at 80 ° C. for 24 hours is defined as a 1 (g), ((a 0 -a 1 ) / A 0 ) The mass reduction rate of the film represented by × 100 is 1% or more.

本実施の形態に係る硬化性組成物が(A1)成分を含有していることにより、成膜する際に後述する(B)成分や(C)粒子の偏在化を引き起こして、高硬度、反射防止性および耐擦傷性を兼ね備えた反射防止用積層体を得ることができる。   When the curable composition according to the present embodiment contains the component (A1), it causes the uneven distribution of the component (B) and (C) particles, which will be described later, when forming a film, resulting in high hardness and reflection. It is possible to obtain an antireflection laminate having both the prevention property and the scratch resistance.

(B)粒子および(C)粒子の偏在化が発現する機構は明らかではないが、本実施形態においては例えば次のように考えられる。本実施の形態に係る硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布した場合、(A1)成分がセルロース樹脂を溶解するため、セルロース樹脂が塗布された硬化性組成物中に溶出する。ここで(B)粒子および(C)粒子は溶出したセルロース樹脂との親和性に劣るため、硬化性組成物中でよりセルロース樹脂の濃度が低い側、すなわち基材と反対側の界面に偏在すると推測される。   The mechanism by which (B) particles and (C) particles are unevenly distributed is not clear, but in the present embodiment, for example, it is considered as follows. When the curable composition concerning this Embodiment is apply | coated on a cellulose resin base material, since (A1) component melt | dissolves a cellulose resin, it elutes in the curable composition with which the cellulose resin was apply | coated. Here, since the (B) particles and the (C) particles are inferior in affinity with the eluted cellulose resin, if the cellulose resin concentration in the curable composition is lower, that is, unevenly distributed on the interface opposite to the substrate. Guessed.

これに対して、基材のセルロース樹脂を溶解しない樹脂のみを含有する硬化性組成物では、セルロース樹脂が硬化性組成物中に溶出しないため、上記のような(B)粒子および(C)粒子の偏在は起きない。その結果、反射防止用積層体に十分な反射防止性や耐擦傷性を付与することができない。   On the other hand, in the curable composition containing only the resin that does not dissolve the cellulose resin of the base material, the cellulose resin does not elute into the curable composition, so the particles (B) and (C) as described above Does not occur. As a result, sufficient antireflection properties and scratch resistance cannot be imparted to the antireflection laminate.

(A1)基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物としては、以下に例示するような、エチレン性不飽和基等の重合性基を1個有する化合物(以下「単官能化合物」という。)やエチレン性不飽和基等の重合性基を2個以上有する化合物(以下「多官能化合物」という。)が挙げられる。(A1)成分である単官能化合物としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド等の質量減少率が10%以上である重合性化合物;γ−ブチロラクトンアクリレート、N−ビニルカプロラクタム等の質量減少率が5%以上10%未満である重合性化合物;ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の質量減少率が2%以上5%未満である重合性化合物等が挙げられる。その他、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート等が挙げられる。(A1)成分である多官能化合物としては、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート等が挙げられる。これらの成分は、1種単独で用いてもよいし2種以上を混合して用いてもよい。   (A1) As the polymerizable compound that dissolves the cellulose resin of the substrate, a compound having one polymerizable group such as an ethylenically unsaturated group (hereinafter referred to as “monofunctional compound”) or the like as exemplified below. Examples thereof include compounds having two or more polymerizable groups such as ethylenically unsaturated groups (hereinafter referred to as “polyfunctional compounds”). Examples of the monofunctional compound as the component (A1) include polymerizable compounds having a mass reduction rate of 10% or more, such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, and the like. A polymerizable compound such as γ-butyrolactone acrylate and N-vinylcaprolactam having a mass reduction rate of 5% or more and less than 10%; a polymerizability such as hydroxypropyl (meth) acrylate having a mass reduction rate of 2% or more and less than 5%; Compounds and the like. Other examples include glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, glycerin monomethacrylate, and the like. Examples of the polyfunctional compound (A1) include ethylene glycol diacrylate and diethylene glycol diacrylate. These components may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

1.1.2.(A2)成分
(A2)成分である(A1)成分以外の重合性化合物は、硬化性組成物の成膜性ならびに硬化膜の硬度および耐擦傷性を高める目的で用いられる。(A2)成分としては、上記(A1)成分以外の単官能化合物や多官能化合物が挙げられる。これらのうち、架橋構造
を形成することにより硬度および耐擦傷性に優れる硬化膜を形成することができる点で多官能化合物が好ましい。(A2)成分である多官能化合物としては、例えば多官能の(メタ)アクリルエステル化合物、多官能のビニル化合物、多官能のエポキシ化合物、多官能のアルコキシメチルアミン化合物が好ましく、多官能の(メタ)アクリルエステル化合物、多官能のビニル化合物がより好ましい。多官能の(メタ)アクリルエステル化合物としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、フッ化アダマンチルジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート等が挙げられる。多官能のビニル化合物としては、ジビニルベンゼン等が挙げられる。多官能のエポキシ化合物としては、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル等が挙げられる。多官能のアルコキシメチルアミン化合物としては、ヘキサメトキシメチル化メラミン、ヘキサブトキシメチル化メラミン、テトラメトキシメチル化グリコールウリル、テトラブトキシメチル化グリコールウリル等が挙げられる。
1.1.2. (A2) Component The polymerizable compound other than the component (A1) which is the component (A2) is used for the purpose of improving the film-forming property of the curable composition and the hardness and scratch resistance of the cured film. Examples of the component (A2) include monofunctional compounds and polyfunctional compounds other than the component (A1). Among these, a polyfunctional compound is preferable in that a cured film having excellent hardness and scratch resistance can be formed by forming a crosslinked structure. As the polyfunctional compound as the component (A2), for example, a polyfunctional (meth) acrylic ester compound, a polyfunctional vinyl compound, a polyfunctional epoxy compound, or a polyfunctional alkoxymethylamine compound is preferable. ) An acrylic ester compound and a polyfunctional vinyl compound are more preferable. Multifunctional (meth) acrylic ester compounds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, neopentyl glycol Examples include diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, fluorinated adamantyl diacrylate, and 1,4-butanediol diacrylate. Examples of the polyfunctional vinyl compound include divinylbenzene. Polyfunctional epoxy compounds include 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, glycerin triglyceride. A glycidyl ether etc. are mentioned. Examples of the polyfunctional alkoxymethylamine compound include hexamethoxymethylated melamine, hexabutoxymethylated melamine, tetramethoxymethylated glycoluril, tetrabutoxymethylated glycoluril and the like.

また、(A2)成分は、本願発明の効果を損なわない程度に単官能の(メタ)アクリルエステル化合物(例えばイソボルニルアクリレート、ブチルアクリレート等)、単官能のビニル化合物、単官能のエポキシ化合物等を含んでもよい。   The component (A2) is a monofunctional (meth) acrylic ester compound (for example, isobornyl acrylate, butyl acrylate, etc.), a monofunctional vinyl compound, a monofunctional epoxy compound, etc. to such an extent that the effects of the present invention are not impaired. May be included.

(A2)成分中に含まれる多官能化合物の割合は、(A2)成分の全量を100質量%としたときに、50〜100質量%であることが好ましく、80〜100質量%であることがより好ましく、100質量%であることが特に好ましい。   The ratio of the polyfunctional compound contained in the component (A2) is preferably 50 to 100% by mass and 80 to 100% by mass when the total amount of the component (A2) is 100% by mass. More preferred is 100% by mass.

本実施の形態に係る硬化性組成物中において、(A)成分の含有量は、(E)溶媒を除く成分の合計を100質量%としたときに、80〜99質量%が好ましく、90〜98質量%がさらに好ましい。(A)成分の含有量が上記範囲にあることにより、高硬度、反射防止性および耐擦傷性を兼ね備えた硬化膜を形成することができる。   In the curable composition which concerns on this Embodiment, 80-99 mass% is preferable when content of (A) component makes the sum total of the component except (E) solvent 100 mass%, 90- 98 mass% is more preferable. When the content of the component (A) is in the above range, a cured film having high hardness, antireflection properties and scratch resistance can be formed.

(A)重合性化合物に占める(A1)成分の含有量は、5質量%以上75質量%以下であり、好ましくは10質量%以上50質量%以下であり、より好ましくは10質量%以上40質量%以下である。なお、本明細書において「(A)成分」とは、(A1)成分と(A2)成分とを合計したものをいう。(A1)成分が上記範囲で配合されることで、高硬度および高い耐擦傷性を有する硬化膜を得ることができるだけでなく、硬化膜中のセルロース樹脂基材と反対側に(B)粒子や(C)粒子を偏在させることが容易となる。   The content of the component (A1) in the polymerizable compound (A) is 5% by mass to 75% by mass, preferably 10% by mass to 50% by mass, and more preferably 10% by mass to 40% by mass. % Or less. In the present specification, “component (A)” refers to the sum of component (A1) and component (A2). By blending the component (A1) in the above range, not only can a cured film having high hardness and high scratch resistance be obtained, but also (B) particles on the opposite side of the cellulose resin substrate in the cured film (C) It becomes easy to make particles unevenly distributed.

1.2.(B)中空シリカ粒子
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(B)中空シリカ粒子を含有する。ここで「中空粒子」とは、外部への開口部を有しない空洞をその内部に1つ以上有する粒子をいう。(B)中空シリカ粒子は、その内部に空洞を有するため、中実シリカ粒子と比べてより低屈折率化することができる。かかる(B)粒子が偏在することにより、硬化膜に反射防止膜としての機能を付与することができる。また、該(B)粒子が偏在することで、硬化膜の硬度を向上させたり、カールを小さくさせたりする効果も期待される。
1.2. (B) Hollow silica particle The curable composition which concerns on this Embodiment contains (B) hollow silica particle. Here, the “hollow particle” means a particle having one or more cavities having no opening to the outside. (B) Since the hollow silica particle has a cavity inside, it can have a lower refractive index than the solid silica particle. When the particles (B) are unevenly distributed, a function as an antireflection film can be imparted to the cured film. In addition, the uneven distribution of the (B) particles is expected to improve the hardness of the cured film and reduce the curl.

(B)粒子の屈折率は、好ましくは1.40以下であり、より好ましくは1.35以下、特に好ましくは1.30以下である。(B)粒子の屈折率を1.40以下とすることにより、反射防止性に優れた硬化膜を得ることができる。また、(B)粒子の屈折率は、空気の屈折率である1.00を下限として低いほど好ましいが、中空シリカ粒子は屈折率が
低くなるにつれ粒子の強度が低下するため、硬化膜の硬度や耐擦傷性も低下する。そのため、(B)粒子の屈折率の下限は1.20とすることが好ましい。
(B) The refractive index of particle | grains becomes like this. Preferably it is 1.40 or less, More preferably, it is 1.35 or less, Most preferably, it is 1.30 or less. (B) By making the refractive index of particle | grains 1.40 or less, the cured film excellent in antireflection property can be obtained. Further, the lower the refractive index of the particle (B), the lower the refractive index of air being 1.00, the more preferable, but since the strength of the hollow silica particles decreases as the refractive index decreases, the hardness of the cured film And scratch resistance also decreases. Therefore, the lower limit of the refractive index of the (B) particles is preferably 1.20.

本明細書中における「屈折率」とは、25℃におけるNa−D線(波長589nm)の屈折率をいう。本明細書中における「粒子の屈折率」は、同一マトリックス中に、固形分中の粒子含量を、1質量%、10質量%、20質量%とした組成物を成膜し、JIS K7105(ISO489に相当)に従い、25℃におけるNa−D線での屈折率を測定し、検量線法で計算した粒子含量100質量%の値をいう。   The “refractive index” in this specification refers to the refractive index of Na-D line (wavelength 589 nm) at 25 ° C. In the present specification, the “refractive index of particles” refers to JIS K7105 (ISO489), in which a composition in which the content of particles in a solid content is 1% by mass, 10% by mass, and 20% by mass is formed in the same matrix. The refractive index at Na-D line at 25 ° C. is measured in accordance with the calibration curve method, and the particle content is 100% by mass.

透過型電子顕微鏡により測定した(B)粒子の数平均粒子径は、好ましくは1〜100nmであり、より好ましくは5〜60nmである。粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であってもよい。なお、(B)粒子の数平均粒子径とは、1000個の(B)粒子を透過型電子顕微鏡により測定ないし算出して得られた数平均直径のことをいう。(B)粒子の数平均粒子径を上記範囲内とすることで、硬化膜の透明性と耐擦傷性とを両立させることが可能となる。   The number average particle diameter of the (B) particles measured with a transmission electron microscope is preferably 1 to 100 nm, and more preferably 5 to 60 nm. The shape of the particles is not limited to a spherical shape, and may be an irregular shape. In addition, the number average particle diameter of (B) particles means the number average diameter obtained by measuring or calculating 1000 (B) particles with a transmission electron microscope. (B) By making the number average particle diameter of the particles within the above range, it becomes possible to achieve both transparency and scratch resistance of the cured film.

(B)粒子は、公知の方法で製造したものを使用することができる。また、(B)粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社製の「JX1008SIV」(透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、屈折率1.29、固形分20質量%、イソプロピルアルコール溶媒)、「JX1009SIV」(透過型電子顕微鏡で求めた数平均粒子径50nm、屈折率1.29、固形分20質量%、メチルイソブチルケトン溶媒)等が挙げられる。   (B) What was manufactured by the well-known method can be used for particle | grains. In addition, as a commercially available product of (B) particles, for example, “JX1008SIV” (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) (number average particle diameter 50 nm, refractive index 1.29, solid content 20% by mass obtained with a transmission electron microscope, Isopropyl alcohol solvent), “JX1009SIV” (number average particle diameter 50 nm, refractive index 1.29, solid content 20 mass%, methyl isobutyl ketone solvent determined with a transmission electron microscope) and the like.

1.3.(C)中実粒子
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(C)屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子を含有する。かかる(C)粒子が硬化膜の表面に存在することにより、上述した(B)粒子と共に低屈折率層を形成し、硬化膜に反射防止膜としての機能を付与することができる。また、(C)粒子が硬化膜の表面に偏在化することで、硬化膜の表面の耐擦傷性を向上させる効果も期待される。ここで、「中実粒子」とは、空洞や空孔を有しない粒子を意味し、例えば最終的に除去されるコアやポロジェンを使用せずに製造された粒子を例示することができる。
1.3. (C) Solid particles The curable composition according to the present embodiment has (C) a solid particle having a refractive index of 1.50 or less and a number average particle diameter measured by a transmission electron microscope of 100 nm or more. Containing. When the (C) particles are present on the surface of the cured film, a low refractive index layer can be formed together with the particles (B) described above, and the function as an antireflection film can be imparted to the cured film. In addition, (C) particles are unevenly distributed on the surface of the cured film, so that an effect of improving the scratch resistance of the surface of the cured film is also expected. Here, the “solid particles” mean particles having no cavities or pores, and examples thereof include particles produced without using a core or porogen that is finally removed.

(C)粒子の屈折率は1.50以下であり、好ましくは1.45以下である。屈折率を1.50以下とした理由は、屈折率が1.50を超える粒子を添加すると、反射防止性に優れた硬化膜を得ることが困難となるからである。   (C) The refractive index of the particles is 1.50 or less, preferably 1.45 or less. The reason why the refractive index is set to 1.50 or less is that when particles having a refractive index exceeding 1.50 are added, it becomes difficult to obtain a cured film having excellent antireflection properties.

透過型電子顕微鏡により測定した(C)粒子の数平均粒子径は100nm以上であり、好ましくは300nm以上であり、特に好ましくは300nm以上500nm以下である。なお、(C)粒子の数平均粒子径とは、1000個の(C)粒子を透過型電子顕微鏡により測定ないし算出して得られた数平均直径のことをいう。(C)粒子の数平均粒子径が上記範囲内であると、硬化膜中のセルロース樹脂基材と反対側に形成された、(B)粒子および(C)粒子を有する低屈折率層において、(C)粒子が支柱効果を発揮することで格段に耐擦傷性が向上する。なお、粒子の形状は、球状に限定されず不定形の形状であってもよい。   The number average particle diameter of the (C) particles measured with a transmission electron microscope is 100 nm or more, preferably 300 nm or more, particularly preferably 300 nm or more and 500 nm or less. In addition, the number average particle diameter of (C) particles refers to the number average diameter obtained by measuring or calculating 1000 (C) particles with a transmission electron microscope. (C) In the low refractive index layer having (B) particles and (C) particles formed on the side opposite to the cellulose resin substrate in the cured film, when the number average particle diameter of the particles is within the above range, (C) The scratch resistance is remarkably improved because the particles exhibit the support effect. The shape of the particles is not limited to a spherical shape, and may be an irregular shape.

(C)粒子としては、上述した条件を満たすものであれば特に限定されないが、具体的には中実シリカ粒子、中実無機フッ化物粒子等が挙げられる。中実シリカ粒子としては、公知のものを使用することができ、例えば株式会社アドマテックス製 商品名「SC1050−KJA」、「SC2050−KD」等の市販品を使用することができる。また、中実無機フッ化物粒子としては、フッ化アルミニウム粒子(屈折率1.38)、フッ化カル
シウム粒子(屈折率1.23〜1.45)、フッ化リチウム粒子(屈折率1.30)、フッ化マグネシウム粒子(屈折率1.38〜1.40)等が挙げられ、これらの中でも、フッ化マグネシウム粒子が入手容易であり好ましい。フッ化マグネシウム粒子の市販品としては、日産化学工業株式会社製 商品名「MFS−10P」等が挙げられる。
(C) Although it will not specifically limit as long as the particle | grains satisfy | fill the conditions mentioned above, Specifically, a solid silica particle, a solid inorganic fluoride particle, etc. are mentioned. As a solid silica particle, a well-known thing can be used, for example, commercial items, such as brand name "SC1050-KJA" and "SC2050-KD" by Admatechs Co., Ltd., can be used. Solid inorganic fluoride particles include aluminum fluoride particles (refractive index 1.38), calcium fluoride particles (refractive index 1.23-1.45), lithium fluoride particles (refractive index 1.30). And magnesium fluoride particles (refractive index: 1.38 to 1.40). Among these, magnesium fluoride particles are preferable because they are easily available. As a commercial item of a magnesium fluoride particle, Nissan Chemical Industries Ltd. brand name "MFS-10P" etc. are mentioned.

さらに積層体の最表面に凹凸を形成して防眩性能を付与したい場合には、(C)粒子として通常防眩フィルムに用いられるような粒子を用いることもできる。例えばスチレン系重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリカーボネート系重合体、アクリル系(共)重合体、エチレン系(共)重合体、エポキシ系(共)重合体、メラミン樹脂、シリコーン樹脂等のポリマー粒子や、シリカ、アルミナ、ジルコニウム、チタン、亜鉛、マグネシウム、タルク等の無機粒子が挙げられる。これら粒子の添加量や粒径は要求される表面粗さや防眩性能によって適宜選択されるが、通常、動的散乱法により求められる平均粒子径が100nm〜5μmのものが用いられる。好ましくは100nm〜3μmである。粒子径分布は狭いものが好ましい。添加量はモノマー成分100質量部に対して通常3〜40質量部であり、好ましくは5〜30質量部であり、特に好ましくは10〜25質量部である。   Further, when it is desired to provide the antiglare performance by forming irregularities on the outermost surface of the laminate, it is also possible to use particles that are normally used in antiglare films as (C) particles. For example, polymers such as styrene polymers, acrylonitrile-styrene copolymers, polycarbonate polymers, acrylic (co) polymers, ethylene (co) polymers, epoxy (co) polymers, melamine resins, silicone resins, etc. Examples thereof include inorganic particles such as particles, silica, alumina, zirconium, titanium, zinc, magnesium, and talc. The addition amount and particle size of these particles are appropriately selected depending on the required surface roughness and antiglare performance, but usually those having an average particle size of 100 nm to 5 μm determined by the dynamic scattering method are used. Preferably it is 100 nm-3 micrometers. A narrow particle size distribution is preferred. The addition amount is usually 3 to 40 parts by mass, preferably 5 to 30 parts by mass, and particularly preferably 10 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the monomer component.

また、同様に本発明に係る反射防止積層体に防眩性能を付与したい場合において、配合量や他成分との屈折率差を勘案し、積層体全体として反射防止機能及び防眩機能を損なわない範囲であれば、(C)粒子とは別に屈折率が1.50を超える粒子をさらに配合することもできる。さらに配合される粒子の屈折率は1.60以下であることが好ましく、1.55以下であることがより好ましい。好ましい材質、粒子径及び配合量については、先に述べた防眩性能を付与する際に用いられる(C)粒子に準ずる。   Similarly, when it is desired to impart antiglare performance to the antireflection laminate according to the present invention, the antireflection function and the antiglare function as a whole of the laminate are not impaired in consideration of the blending amount and the refractive index difference with other components. If it is within the range, particles having a refractive index exceeding 1.50 can be further blended separately from the particles (C). Furthermore, the refractive index of the particles to be blended is preferably 1.60 or less, and more preferably 1.55 or less. The preferable material, particle diameter, and blending amount are the same as those of the particles (C) used when imparting the antiglare performance described above.

本実施の形態に用いられる(B)粒子および(C)粒子は、その一方または両方が、表面改質剤で表面を変性されたものであってもよい。表面改質剤としては、重合性不飽和基および加水分解性シリル基を有する化合物(以下「重合性表面改質剤」ともいう。)を例示することができる。重合性表面改質剤の重合性不飽和基としては、ビニル基、(メタ)アクリロイル基、エポキシ基等が挙げられる。   One or both of (B) particles and (C) particles used in the present embodiment may be those whose surfaces have been modified with a surface modifier. Examples of the surface modifier include compounds having a polymerizable unsaturated group and a hydrolyzable silyl group (hereinafter also referred to as “polymerizable surface modifier”). Examples of the polymerizable unsaturated group of the polymerizable surface modifier include a vinyl group, a (meth) acryloyl group, and an epoxy group.

本実施の形態に用いられる重合性表面改質剤は、メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の市販品を使用することもできるし、例えば国際公開公報WO97/12942号公報に記載された化合物を用いることもできる。   As the polymerizable surface modifier used in the present embodiment, a commercially available product such as methacryloyloxypropyltrimethoxysilane can be used, for example, a compound described in International Publication No. WO97 / 12942 is used. You can also.

但し、本明細書において、重合性化合物とは(A)重合性化合物を指すものとし、重合性表面改質剤で改質する等により重合性基を有する(B)粒子および(C)粒子は、重合性化合物には含まれないものとする。   However, in this specification, the polymerizable compound refers to the polymerizable compound (A), and the particles (B) and (C) having a polymerizable group by modification with a polymerizable surface modifier, etc. It is not included in the polymerizable compound.

表面改質剤として、フッ素を含有する加水分解性シリル基を有する化合物(以下「含フッ素表面改質剤」ともいう。)を使用することもできる。なお、加水分解性シリル基とは、水と反応してシラノール基(Si−OH)を生成するものであって、例えば、ケイ素に1以上のメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基等のアルコキシル基、アリールオキシ基、アセトキシ基、アミノ基、ハロゲン原子が結合したものをいう。含フッ素表面改質剤を使用することで、(B)粒子や(C)粒子を効率よく偏在させることが可能となる。本実施の形態に用いられる含フッ素表面改質剤としては、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等の市販品を使用することができる。   As the surface modifier, a compound having a hydrolyzable silyl group containing fluorine (hereinafter also referred to as “fluorine-containing surface modifier”) may be used. The hydrolyzable silyl group is a group that reacts with water to produce a silanol group (Si—OH). For example, one or more methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups on silicon. A group, an alkoxyl group such as an n-butoxy group, an aryloxy group, an acetoxy group, an amino group, or a halogen atom is bonded. By using the fluorine-containing surface modifier, the (B) particles and (C) particles can be unevenly distributed efficiently. Commercially available products such as tridecafluorooctyltrimethoxysilane can be used as the fluorine-containing surface modifier used in the present embodiment.

また、アルキル基を有する表面改質剤や、シリコーン鎖を有する表面改質剤も、含フッ素表面改質剤と同様に使用することができる。   Moreover, the surface modifier which has an alkyl group, and the surface modifier which has a silicone chain can also be used similarly to a fluorine-containing surface modifier.

上記の各種表面改質剤は1種を用いても、複数種を組み合わせて用いてもよい。   The above various surface modifiers may be used alone or in combination of two or more.

本実施の形態に用いられる(B)粒子や(C)粒子を変性粒子とするためには、(B)粒子や(C)粒子と表面改質剤とを混合し、加水分解させることにより両者を結合させればよい。得られた変性粒子中の有機重合体成分、すなわち加水分解性シランの加水分解物および縮合物の割合は、通常、乾燥粉体を空気中で完全に燃焼させた場合の重量減少%の恒量値として、例えば空気中で室温から通常800℃までの熱重量分析により求めることができる。   In order to make (B) particles and (C) particles used in the present embodiment into modified particles, both (B) particles and (C) particles and a surface modifier are mixed and hydrolyzed. Can be combined. The ratio of the organic polymer component, that is, the hydrolyzate and condensate of hydrolyzable silane, in the obtained modified particles is usually a constant value of weight loss% when the dry powder is completely burned in air. For example, it can be determined by thermogravimetric analysis from room temperature to usually 800 ° C.

変性粒子への表面改質剤の結合量は、変性後の(B)粒子または(C)粒子を100質量%として、好ましくは0.01〜40質量%であり、より好ましくは0.1〜30質量%、特に好ましくは1〜20質量%である。(B)粒子や(C)粒子に反応させる表面改質剤の量を上記範囲とすることで、組成物中における(B)粒子や(C)粒子の分散性を向上させることができるだけでなく、得られる硬化膜の透明性や耐擦傷性を高める効果も期待できる。   The binding amount of the surface modifier to the modified particles is preferably 0.01 to 40% by mass, more preferably 0.1 to 40% by mass, with the modified (B) particles or (C) particles being 100% by mass. 30% by mass, particularly preferably 1 to 20% by mass. By making the amount of the surface modifying agent reacted with the (B) particles and (C) particles within the above range, not only can the dispersibility of the (B) particles and (C) particles in the composition be improved. Further, the effect of enhancing the transparency and scratch resistance of the obtained cured film can be expected.

本実施の形態に係る硬化性組成物中において、(B)粒子および(C)粒子の含有量の合計は、形成する硬化膜の膜厚に応じて適宜調整できるが、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、0.1〜10質量%とすることが好ましい。具体的には、(B)粒子および(C)粒子が低屈折率層の主成分となるため、(B)成分および(C)成分が偏在して形成された層の厚さが、50〜200nmの範囲となるように配合すればよい。具体的な配合量は、例えば、硬化膜の膜厚が10μmの場合、溶剤を除く成分の合計を100質量%としたときに、好ましくは0.4〜1.2質量%、より好ましくは0.5〜1質量%の範囲内である。硬化膜の膜厚が7μmの場合、好ましくは0.6〜1.8質量%、より好ましくは0.7〜1.5質量%であり、硬化膜の膜厚が3μmの場合、好ましくは1.2〜4質量%、より好ましくは1.5〜3質量%の範囲内である。(B)粒子および(C)粒子の含有量の合計が上記範囲未満であると、反射防止性を発現する(B)粒子および(C)粒子が高密度に存在する層(低屈折率層)を形成できない場合がある。一方、(B)粒子および(C)粒子の含有量の合計が上記範囲を超えると、反射防止性を発現する(B)粒子および(C)粒子が高密度に存在する層(低屈折率層)の厚さが大きくなりすぎて、反射率低減効果が発現しない場合がある。   In the curable composition according to the present embodiment, the total content of (B) particles and (C) particles can be adjusted as appropriate according to the thickness of the cured film to be formed, but the total of components excluding the solvent When the content is 100% by mass, the content is preferably 0.1 to 10% by mass. Specifically, since the (B) particles and the (C) particles are the main components of the low refractive index layer, the thickness of the layer formed by uneven distribution of the (B) component and the (C) component is 50 to What is necessary is just to mix | blend so that it may become the range of 200 nm. The specific blending amount is, for example, preferably 0.4 to 1.2% by mass, more preferably 0 when the total thickness of the components excluding the solvent is 100% by mass when the thickness of the cured film is 10 μm. Within the range of 5 to 1% by mass. When the film thickness of the cured film is 7 μm, it is preferably 0.6 to 1.8% by mass, more preferably 0.7 to 1.5% by mass, and when the film thickness of the cured film is 3 μm, preferably 1 .2-4% by mass, more preferably 1.5-3% by mass. A layer (low refractive index layer) in which (B) particles and (C) particles exhibit high antireflection properties when the total content of (B) particles and (C) particles is less than the above range (low refractive index layer) May not be formed. On the other hand, when the total content of (B) particles and (C) particles exceeds the above range, a layer (low refractive index layer) in which (B) particles and (C) particles exhibiting antireflection properties exist at high density ) Becomes too large, and the reflectance reduction effect may not be exhibited.

(B)粒子および(C)粒子の配合割合は、(B)粒子:(C)粒子=80:20〜99.9:0.1(質量比)が好ましい。(B)粒子および(C)粒子の合計に対する(C)粒子の割合が20%以上では、低屈折率層の膜厚を制御できずに十分な反射防止性能が得られない可能性があり、(C)粒子の割合が0.1%未満では耐擦傷性が向上しない可能性がある。上記の理由から、(B)粒子:(C)粒子=85:15〜99.8:0.2がより好ましく、90:10〜99.7:0.3が特に好ましい。   The blending ratio of the (B) particles and (C) particles is preferably (B) particles: (C) particles = 80: 20 to 99.9: 0.1 (mass ratio). When the ratio of (C) particles to the total of (B) particles and (C) particles is 20% or more, the film thickness of the low refractive index layer cannot be controlled and sufficient antireflection performance may not be obtained. (C) If the proportion of particles is less than 0.1%, scratch resistance may not be improved. For the above reasons, (B) particles: (C) particles = 85: 15 to 99.8: 0.2 are more preferable, and 90:10 to 99.7: 0.3 are particularly preferable.

1.4.(D)重合開始剤
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(D)重合開始剤を含有してもよい。このような(D)重合開始剤としては、例えば(A)成分として(メタ)アクリルエステル化合物および/またはビニル化合物を含有する場合は、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物(熱重合開始剤)および放射線(光)照射により活性ラジカル種を発生させる化合物(放射線(光)ラジカル重合開始剤)等の汎用品を挙げることができる。また、(A)成分としてエポキシ化合物および/またはアルコキシメチルアミン化合物を含有する場合は、酸性化合物および放射線(光)照射により酸を発生させる化合物(放射線(光)酸発生剤)等の汎用品を挙げることができる。これらの中でも、放射線(光)重合開始剤が好ましい。
1.4. (D) Polymerization initiator The curable composition according to the present embodiment may contain (D) a polymerization initiator. As such (D) polymerization initiator, for example, when it contains (meth) acrylic ester compound and / or vinyl compound as component (A), a compound that thermally generates active radical species (thermal polymerization initiator) And general-purpose products such as compounds (radiation (light) radical polymerization initiators) that generate active radical species upon irradiation with radiation (light). In addition, when an epoxy compound and / or an alkoxymethylamine compound is contained as the component (A), general-purpose products such as an acidic compound and a compound (radiation (light) acid generator) that generates an acid by radiation (light) irradiation are used. Can be mentioned. Among these, a radiation (photo) polymerization initiator is preferable.

放射線(光)ラジカル重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始させられるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1,4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、オリゴ(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−(4−(1−メチルビニル)フェニル)プロパノン)等が挙げられる。   The radiation (photo) radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it can be decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization. For example, acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxy Benzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1-one 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2- Morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,4- (2-hydroxyethoxy) phenyl- (2-hydroxy-2-propyl) ketone 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone) and the like.

放射線(光)ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、BASFジャパン株式会社製のイルガキュア 184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI1850、CG24−61、ダロキュア
1116、1173、ルシリン TPO、8893;UCB社製のユベクリル P36;ランベルティ社製のエザキュアーKIP150、KIP65LT、KIP100F、KT37、KT55、KTO46、KIP75/B等が挙げられる。
Commercially available products of radiation (photo) radical polymerization initiators include, for example, Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 1850, CG24-61, Darocur, manufactured by BASF Japan Ltd. 1116, 1173, Lucirin TPO, 8893; Ubekril P36 manufactured by UCB; Ezacure KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75 / B manufactured by Lamberti.

熱ラジカル重合開始剤としては、加熱により分解してラジカルを発生して重合を開始するものであれば特に制限はなく、例えば、過酸化物、アゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチル−パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等が挙げられる。   The thermal radical polymerization initiator is not particularly limited as long as it is decomposed by heating to generate radicals to initiate polymerization, and examples thereof include peroxides and azo compounds. Specific examples include: Examples include benzoyl peroxide, t-butyl-peroxybenzoate, and azobisisobutyronitrile.

放射線(光)酸発生剤としては、トリアリールスルホニウム塩類、ジアリールヨードニウム塩類などの化合物を使用することができる。放射線(光)酸発生剤の市販品としては、サンアプロ社製のCPI−100P、101A等が挙げられる。   As the radiation (photo) acid generator, compounds such as triarylsulfonium salts and diaryliodonium salts can be used. Examples of commercially available radiation (light) acid generators include CPI-100P and 101A manufactured by San Apro.

本実施の形態に係る硬化性組成物中において、必要に応じて用いられる(D)重合開始剤の含有量は、溶媒を除く成分の合計を100質量%としたときに、好ましくは0.01〜15質量%、より好ましくは0.1〜8質量%の範囲内である。上記の範囲で配合することで、より硬度および耐擦傷性の高い硬化物が得られる。なお、(D)重合開始剤は複数種の化合物を併用することもできる。   In the curable composition according to the present embodiment, the content of the (D) polymerization initiator used as necessary is preferably 0.01 when the total of the components excluding the solvent is 100% by mass. It is in the range of ˜15% by mass, more preferably 0.1˜8% by mass. By blending in the above range, a cured product having higher hardness and scratch resistance can be obtained. In addition, (D) a polymerization initiator can also use multiple types of compounds together.

1.5.(E)溶媒
本実施の形態に係る硬化性組成物は、セルロース樹脂基材に塗布したときの塗膜(以下「硬化性組成物層」という。)の厚さや硬化性組成物の粘度を調節するために、(E)溶媒で希釈して用いることができる。例えば、本実施の形態に係る硬化性組成物を反射防止膜や被覆材として用いる場合の25℃における粘度は、通常0.1〜50,000mPa・秒であり、好ましくは、0.5〜10,000mPa・秒である。
1.5. (E) Solvent The curable composition according to the present embodiment adjusts the thickness of the coating film (hereinafter referred to as “curable composition layer”) and the viscosity of the curable composition when applied to the cellulose resin substrate. In order to do so, it can be diluted with (E) solvent. For example, when the curable composition according to the present embodiment is used as an antireflection film or a coating material, the viscosity at 25 ° C. is usually 0.1 to 50,000 mPa · sec, preferably 0.5 to 10 1,000 mPa · s.

(E)溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類等が挙げられる。
(E) Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, Esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dimethylformamide, dimethylacetamide, N -Amides such as methylpyrrolidone.

本実施の形態に係る硬化性組成物において、必要に応じて用いられる(E)溶媒の含有量は、(E)溶媒を除く成分の合計を100質量部としたときに、50〜10,000質量部の範囲内であることが好ましい。(E)溶媒の含有量は、塗布膜厚、硬化性組成物の粘度等を考慮して適宜決定することができる。   In the curable composition which concerns on this Embodiment, content of (E) solvent used as needed is 50-10,000 when the sum total of the component except (E) solvent is 100 mass parts. It is preferably within the range of parts by mass. (E) Content of a solvent can be suitably determined in consideration of a coating film thickness, a viscosity of a curable composition, and the like.

なお、本実施の形態に係る硬化性組成物において必要に応じて用いられる(E)溶媒の一部または全部として、セルロース樹脂を溶解する溶媒を選択してもよい。ここでセルロース樹脂を溶解する溶媒とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを、6gの該成分中に25℃で2時間浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1%以上である成分であって、上記(A1)成分に含まれないものをいう。具体的には、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール等が例示される。(E)溶媒の一部又は全部をセルロース樹脂を溶解する溶媒とすることで、セルロース樹脂をより効率よく溶出させ、硬化膜と基材との密着性をさらに高めたり、(B)粒子や(C)粒子の偏在性をさらに高めたりすることができる。(E)溶媒のうちどの程度の割合をセルロース樹脂を溶解する溶媒とするかは、(E)溶媒の使用量や(A1)成分の種類、使用量に応じて適宜定めることができる。   In addition, you may select the solvent which melt | dissolves a cellulose resin as a part or all of (E) solvent used as needed in the curable composition which concerns on this Embodiment. Here, the solvent for dissolving the cellulose resin means that an 80 μm-thick cellulose resin film cut into a size of 18 cm × 1 cm is immersed in 6 g of the component at 25 ° C. for 2 hours, and the taken-out film is 24 ° C. at 24 ° C. A component whose mass reduction rate of the film is 1% or more when dried in a vacuum drier for a period of time and is not included in the component (A1). Specific examples include cyclohexanone, acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone, diacetone alcohol, and the like. (E) By using a part or all of the solvent as a solvent that dissolves the cellulose resin, the cellulose resin can be eluted more efficiently, and the adhesion between the cured film and the substrate can be further increased. C) The uneven distribution of particles can be further increased. (E) The proportion of the solvent used for dissolving the cellulose resin can be appropriately determined according to the amount of (E) solvent used, the type of component (A1), and the amount used.

1.6.その他の添加剤
本実施の形態に係る硬化性組成物は、必要に応じて、粒子分散剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、老化防止剤、熱重合禁止剤、着色剤、レベリング剤、界面活性剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、無機系充填材、有機系充填材、フィラー、濡れ性改良剤、塗面改良剤等を含有することができる。これらのうち、粒子分散剤として、フッ素原子を含有する化合物、シロキサン鎖を有する化合物を使用することで、(B)粒子および(C)粒子の偏在を促進し、塗膜の屈折率を低下させることができる。
1.6. Other Additives The curable composition according to the present embodiment includes, as necessary, a particle dispersant, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a silane coupling agent, an antiaging agent, and a thermal polymerization inhibitor. , Colorants, leveling agents, surfactants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, inorganic fillers, organic fillers, fillers, wettability improvers, coating surface improvers, and the like. Among these, by using a compound containing a fluorine atom or a compound having a siloxane chain as a particle dispersant, the uneven distribution of (B) particles and (C) particles is promoted and the refractive index of the coating film is lowered. be able to.

1.7.硬化性組成物の製造方法
本実施の形態に係る硬化性組成物は、(A)重合性化合物、(B)中空シリカ粒子、(C)中実粒子、必要に応じて(D)重合開始剤、(E)溶媒、その他の添加剤をそれぞれ添加して、室温または加熱条件下で混合することにより調製することができる。具体的には、ミキサー、ニーダー、ボールミル、三本ロール等の混合機を用いて調製することができる。但し、加熱条件下で混合する場合には、熱重合開始剤の分解温度以下で行うことが好ましい。
1.7. Manufacturing method of curable composition The curable composition which concerns on this Embodiment is (A) polymeric compound, (B) hollow silica particle, (C) solid particle, and (D) polymerization initiator as needed. , (E) A solvent and other additives can be added and mixed at room temperature or under heating conditions. Specifically, it can prepare using mixers, such as a mixer, a kneader, a ball mill, and a three roll. However, when mixing under heating conditions, it is preferable to carry out at or below the decomposition temperature of the thermal polymerization initiator.

2.反射防止用積層体およびその製造方法
2.1.反射防止用積層体の製造方法
本実施の形態に係る反射防止用積層体の製造方法は、(a)(A)重合性化合物と、(B)中空シリカ粒子と、(C)屈折率が1.50以下であり、かつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子と、を含有し、前記(A)重合性化合物に占める前記(A1)基材のセルロース樹脂を溶解する重合性化合物の含有量が5質量%以上75質量%以下である硬化性組成物を準備する工程(以下「工程(a)」ともいう。)と、(b)前記硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、乾燥させて硬化させる工程(以下「工程(b)」ともいう。)と、を含む。
2. 2. Antireflection laminate and production method thereof 2.1. Manufacturing method of antireflection laminate The manufacturing method of the antireflection laminate according to the present embodiment includes (a) (A) a polymerizable compound, (B) hollow silica particles, and (C) a refractive index of 1. And (A1) the cellulose resin of the base material that occupies the polymerizable compound (A1) and has a number average particle diameter of 100 nm or more as measured with a transmission electron microscope. A step of preparing a curable composition having a polymerizable compound content of dissolving 5% by mass to 75% by mass (hereinafter also referred to as “step (a)”), and (b) the curable composition. Is applied to the cellulose resin substrate and then dried and cured (hereinafter also referred to as “step (b)”).

かかる反射防止用積層体の製造方法によれば、基材となるセルロース樹脂に前記硬化性組成物を一度塗布して硬化させることで、セルロース樹脂基材とは反対側に(B)粒子および(C)粒子が偏在している硬化膜を形成することができる。これにより、反射防止性および耐擦傷性を兼ね備えた反射防止用積層体を製造することができる。以下、工程ごとに説明する。   According to such a method for producing an antireflection laminate, the curable composition is once applied to a cellulose resin as a base material and cured, whereby (B) particles and ( C) A cured film in which particles are unevenly distributed can be formed. Thereby, an antireflection laminate having both antireflection properties and scratch resistance can be produced. Hereinafter, it demonstrates for every process.

2.1.1.工程(a)
工程(a)は、前述した硬化性組成物を準備する工程である。かかる硬化性組成物の構成や製造方法等は前述したとおりであるため、詳細な説明は省略する。
2.1.1. Step (a)
Step (a) is a step of preparing the curable composition described above. Since the structure and manufacturing method of the curable composition are as described above, detailed description thereof is omitted.

2.1.2.工程(b)
工程(b)は、工程(a)で準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、乾燥させて硬化させる工程である。
2.1.2. Step (b)
Step (b) is a step in which the curable composition prepared in step (a) is applied to a cellulose resin substrate and then dried and cured.

工程(a)で準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布する方法は特に限定されず、例えばバーコート塗工、エアナイフ塗工、グラビア塗工、グラビアリバース塗工、リバースロール塗工、リップ塗工、ダイ塗工、ディップ塗工、オフセット印刷、フレキソ印刷、スクリーン印刷等の公知の方法を用いることができる。   The method for applying the curable composition prepared in step (a) to the cellulose resin substrate is not particularly limited. For example, bar coating, air knife coating, gravure coating, gravure reverse coating, reverse roll coating. Well-known methods such as lip coating, die coating, dip coating, offset printing, flexographic printing, and screen printing can be used.

前記の方法で塗布した後、溶剤等の揮発成分を乾燥させる。具体的には、前記硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布し、0〜200℃、好ましくは20〜150℃、より好ましくは20〜120℃で揮発成分を乾燥させる。200℃を超える温度では、セルロース樹脂基材が変形したり、硬化性組成物層の硬化に寄与するバインダー成分が揮発することにより強度が低下することがある。乾燥の方法は、熱風式、ドラム式、赤外線式、誘導加熱式等が挙げられ、基材の大きさ、厚さにより適宜決定される。熱風式で加熱する場合、風速が速すぎると(B)粒子および(C)粒子の偏在性や塗膜の面観が損なわれることがあるため、熱風の風速は20m/秒以下であることが好ましく、5m/秒であることがより好ましい。   After coating by the above method, volatile components such as a solvent are dried. Specifically, the said curable composition is apply | coated on a cellulose resin base material, and a volatile component is dried at 0-200 degreeC, Preferably it is 20-150 degreeC, More preferably, it is 20-120 degreeC. If the temperature exceeds 200 ° C., the cellulose resin substrate may be deformed, or the binder component that contributes to the curing of the curable composition layer may volatilize to lower the strength. Examples of the drying method include a hot air type, a drum type, an infrared type, an induction heating type, and the like, and are appropriately determined depending on the size and thickness of the substrate. When heating with the hot air method, if the wind speed is too fast, the uneven distribution of the particles (B) and (C) and the appearance of the coating film may be impaired, so the wind speed of the hot air may be 20 m / sec or less. Preferably, it is 5 m / sec.

工程(a)で準備された硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布すると、該硬化性組成物中に含まれる(A1)成分とセルロース樹脂基材中に含まれるセルロース樹脂とが相互作用して、硬化性組成物層中にセルロース樹脂が混入するか、またはセルロース樹脂に(A1)成分が浸透する場合がある。硬化性組成物層中にセルロース樹脂が混入しているか否かは、例えば、得られた硬化膜をラマン分光測定装置で測定し、前記セルロース樹脂が有する特定の官能基のピークを観測することにより判別することができる。   When the curable composition prepared in step (a) is applied on a cellulose resin substrate, the component (A1) contained in the curable composition interacts with the cellulose resin contained in the cellulose resin substrate. And a cellulose resin may mix in a curable composition layer, or (A1) component may osmose | permeate a cellulose resin. Whether or not the cellulose resin is mixed in the curable composition layer is determined by, for example, measuring the obtained cured film with a Raman spectrometer and observing a peak of a specific functional group of the cellulose resin. Can be determined.

硬化性組成物の硬化条件についても特に限定されるものではない。具体的には、前記硬化性組成物をセルロース樹脂基材上に塗布し、好ましくは0〜200℃で揮発成分を乾燥させた後、放射線および/または熱で硬化処理を行うことにより反射防止用積層体を形成することができる。熱で硬化させる場合の好ましい条件は、20〜150℃であり、10秒〜24時間の範囲で行われる。放射線で硬化させる場合、紫外線または電子線を用いることが好ましい。紫外線の照射光量は、好ましくは0.01〜10J/cmであり、より好ましくは0.1〜2J/cmである。また、電子線の照射条件は、加圧電圧が10〜300kV、電子密度が0.02〜0.30mA/cm、電子線照射量が1〜10Mradである。 The curing conditions for the curable composition are not particularly limited. Specifically, the curable composition is applied on a cellulose resin substrate, preferably after drying volatile components at 0 to 200 ° C., and then subjected to curing treatment with radiation and / or heat for antireflection. A laminate can be formed. A preferable condition for curing with heat is 20 to 150 ° C., and is performed in a range of 10 seconds to 24 hours. When curing with radiation, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams. Irradiation light amount of the ultraviolet rays is preferably 0.01 to 10 J / cm 2, more preferably 0.1~2J / cm 2. Moreover, the irradiation conditions of an electron beam are a pressurization voltage of 10-300 kV, an electron density of 0.02-0.30 mA / cm < 2 >, and an electron beam irradiation amount of 1-10 Mrad.

2.2.反射防止用積層体
図1は、本実施の形態に係る反射防止用積層体を模式的に示した断面図である。なお、図1に示される粒子22には、(B)粒子および(C)粒子の双方が含まれる。図1に示
すように、本実施の形態に係る反射防止用積層体100は、基材となるセルロース樹脂基材10の上に上述した硬化性組成物を硬化させた硬化膜20が形成されており、硬化膜20中のセルロース樹脂基材とは反対側における粒子22の密度は硬化膜20中のセルロース樹脂基材側における粒子22の密度よりも高い。すなわち、硬化膜20中のセルロース樹脂基材と反対側には粒子22が相対的に高い密度で存在する領域26(「低屈折率層26」ともいう。)が形成されており、硬化膜20中のセルロース樹脂基材側には粒子22が実質的に存在しない領域24(「ハードコート層24」ともいう。)が形成されている。領域24と領域26の境界は、必ずしも明確である必要はないが、硬化膜20中の粒子22の大部分が領域26に集まり領域24は実質的に粒子22を含まないことによって境界が明確であることが好ましい。粒子22が領域26に偏在することにより、領域26の屈折率は領域24の屈折率より低くなる。これにより、反射防止性に優れた反射防止用積層体を得ることができる。また、領域24が(A1)成分または(A2)成分として多官能化合物を含有する場合には架橋構造を有する硬化膜が形成されるため硬度および耐擦傷性に優れる反射防止用積層体を得ることができる。
2.2. 1 is a cross-sectional view schematically showing the antireflection laminate according to the present embodiment. 1 includes both (B) particles and (C) particles. As shown in FIG. 1, in the antireflection laminate 100 according to the present embodiment, a cured film 20 obtained by curing the above-described curable composition is formed on a cellulose resin substrate 10 that is a substrate. The density of the particles 22 on the side opposite to the cellulose resin substrate in the cured film 20 is higher than the density of the particles 22 on the cellulose resin substrate side in the cured film 20. That is, a region 26 (also referred to as “low refractive index layer 26”) in which the particles 22 exist at a relatively high density is formed on the opposite side of the cured film 20 from the cellulose resin substrate. A region 24 (also referred to as “hard coat layer 24”) in which the particles 22 are not substantially present is formed on the cellulose resin substrate side. The boundary between the region 24 and the region 26 is not necessarily clear, but the boundary is clear because most of the particles 22 in the cured film 20 gather in the region 26 and the region 24 does not substantially contain the particle 22. Preferably there is. Due to the uneven distribution of the particles 22 in the region 26, the refractive index of the region 26 becomes lower than the refractive index of the region 24. Thereby, the laminated body for antireflection excellent in antireflection property can be obtained. Further, when the region 24 contains a polyfunctional compound as the component (A1) or the component (A2), a cured film having a crosslinked structure is formed, so that an antireflection laminate having excellent hardness and scratch resistance is obtained. Can do.

反射防止用積層体100は、反射防止性能に影響を及ぼさない範囲で、領域26のセルロース樹脂基材10と反対側に接して膜厚30nm以下の他の層を有していても構わない。なお、本発明において硬化膜とは、硬化膜20の硬化性組成物を塗布および硬化して得られる膜をいい、塗布および硬化の過程において成分の加減があっても構わない。   The antireflection laminate 100 may have another layer with a film thickness of 30 nm or less in contact with the side opposite to the cellulose resin substrate 10 in the region 26 as long as the antireflection performance is not affected. In addition, in this invention, a cured film means the film | membrane obtained by apply | coating and hardening the curable composition of the cured film 20, and there may be adjustment of a component in the process of application | coating and hardening.

粒子22が偏在する原因は必ずしも明らかではないが、(A1)成分がセルロース樹脂を溶解して、セルロース樹脂が硬化性組成物層中へ溶出するため、セルロース樹脂との親和性が低い粒子22が硬化性組成物層中のセルロース樹脂濃度が低い側(すなわち、硬化性組成物層中のセルロース樹脂基材と反対側)に偏在するようになると推定される。このような状態で硬化性組成物を硬化させることにより、硬化膜中のセルロース樹脂基材と反対側に粒子22が偏在した硬化膜20を形成することができる。   The reason why the particles 22 are unevenly distributed is not necessarily clear, but since the component (A1) dissolves the cellulose resin and the cellulose resin is eluted into the curable composition layer, the particles 22 having low affinity with the cellulose resin are present. It is presumed that the cellulose resin concentration in the curable composition layer is unevenly distributed on the low side (that is, the side opposite to the cellulose resin substrate in the curable composition layer). By curing the curable composition in such a state, the cured film 20 in which the particles 22 are unevenly distributed on the side opposite to the cellulose resin substrate in the cured film can be formed.

一方、基材のセルロース樹脂を溶解しない重合性化合物のみを含有する硬化性組成物では、セルロース樹脂との相互作用がないため、硬化膜の表面に(B)粒子や(C)粒子を偏在させることができず、硬化膜の反射防止機能が損なわれてしまう。   On the other hand, in the curable composition containing only the polymerizable compound that does not dissolve the cellulose resin of the base material, since there is no interaction with the cellulose resin, (B) particles and (C) particles are unevenly distributed on the surface of the cured film. Cannot be performed, and the antireflection function of the cured film is impaired.

以下、本実施の形態に係る反射防止用積層体の各層について説明する。   Hereinafter, each layer of the antireflection laminate according to the present embodiment will be described.

2.2.1.セルロース樹脂基材
本実施の形態に係る反射防止用積層体に用いられる基材は、セルロース樹脂基材である。基材としてセルロース樹脂を用いることにより、上述した硬化性組成物中に含まれる(A1)成分がセルロース樹脂を溶解または膨潤させることにより、粒子22が相対的に高い密度で存在する低屈折率層26を形成することができるものと考えられる。一方、セルロース樹脂以外の樹脂を基材として使用した場合には、上述したような作用効果を奏しない。本実施の形態において、セルロース樹脂基材とは、基材自体がセルロース樹脂で形成されていてもよいし、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネート等の基材表面にセルロース樹脂層を有する基材であってもよい。ここで、基材として使用可能なセルロース樹脂としては、トリアセチルセルロース(TAC)、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート等が挙げられる。
2.2.1. Cellulose resin substrate The substrate used in the antireflection laminate according to the present embodiment is a cellulose resin substrate. By using a cellulose resin as a substrate, the component (A1) contained in the curable composition described above dissolves or swells the cellulose resin, whereby the low refractive index layer in which the particles 22 are present at a relatively high density. 26 can be formed. On the other hand, when a resin other than the cellulose resin is used as the base material, the above-described effects are not achieved. In the present embodiment, the cellulose resin base material may be a base material itself formed of a cellulose resin, or a base material having a cellulose resin layer on the surface of a base material such as polyethylene terephthalate or polycarbonate. . Here, examples of the cellulose resin that can be used as the substrate include triacetyl cellulose (TAC), diacetyl cellulose, and cellulose acetate butyrate.

また、基材をセルロース樹脂とする反射防止用積層体は、カメラのレンズ部、テレビ(CRT)の画面表示部、あるいは液晶表示装置における偏光子の保護フィルム等の広範なハードコートおよび/または反射防止膜の利用分野において、優れた耐擦傷性および反射防止効果を得ることができる。   In addition, the antireflection laminate having a base material made of cellulose resin is used in a wide range of hard coats and / or reflections such as a protective film for a polarizer in a camera lens unit, a television (CRT) screen display unit, or a liquid crystal display device In the field of use of the anti-reflection film, excellent scratch resistance and antireflection effect can be obtained.

2.2.2.ハードコート層
ハードコート層24は、前述した硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜20のセルロース樹脂基材10側に形成される、粒子22が実質的に存在しない領域から構成される。
2.2.2. Hard Coat Layer The hard coat layer 24 is composed of a region that is formed on the cellulose resin substrate 10 side of the cured film 20 obtained by curing the above-described curable composition and in which the particles 22 are not substantially present.

ハードコート層24の厚さは、特に限定されないが、好ましくは1〜50μm、より好ましくは1〜10μmである。ハードコート層24の厚さが1μm未満であると、硬度が不足する場合があり、一方、50μmを超えると、均質な膜を形成することが困難となったり、積層体のカールが大きくなり扱いづらくなる場合がある。ハードコート層の形成の際に、上述のとおり(A1)成分がセルロース樹脂を溶解するため、得られるハードコート層24は(A)成分の他にセルロース樹脂を含有する層となる。   Although the thickness of the hard-coat layer 24 is not specifically limited, Preferably it is 1-50 micrometers, More preferably, it is 1-10 micrometers. If the thickness of the hard coat layer 24 is less than 1 μm, the hardness may be insufficient. On the other hand, if the thickness exceeds 50 μm, it is difficult to form a homogeneous film or the curling of the laminate is increased. It may be difficult. When the hard coat layer is formed, the component (A1) dissolves the cellulose resin as described above. Therefore, the obtained hard coat layer 24 is a layer containing the cellulose resin in addition to the component (A).

2.2.3.低屈折率層
低屈折率層26は、上述した硬化性組成物を硬化して得られる硬化膜20のセルロース樹脂基材10と反対側に形成される、粒子22が相対的に高い密度で存在する領域から構成される。
2.2.3. Low Refractive Index Layer The low refractive index layer 26 is formed on the opposite side of the cellulose resin substrate 10 of the cured film 20 obtained by curing the curable composition described above, and the particles 22 are present at a relatively high density. It consists of areas to be.

低屈折率層26の厚さは、特に限定されないが、好ましくは50〜200nm、より好ましくは60〜150nm、特に好ましくは80〜120nmである。低屈折率層26の厚さを上記範囲内とすることで可視領域の波長において十分な反射防止効果を得ることができる。   The thickness of the low refractive index layer 26 is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 nm, more preferably 60 to 150 nm, and particularly preferably 80 to 120 nm. By setting the thickness of the low refractive index layer 26 within the above range, a sufficient antireflection effect can be obtained at wavelengths in the visible region.

本実施の形態に係る反射防止用積層体100におけるハードコート層24と低屈性率層26との屈折率差は、0.05以上の値とすることが好ましい。この理由は、ハードコート層24と低屈折率層26との屈折率差が0.05未満の値であると、これらの反射防止膜での相乗効果が得られず、却って反射防止効果が低下する場合があるからである。   The refractive index difference between the hard coat layer 24 and the low-refractive index layer 26 in the antireflection laminate 100 according to the present embodiment is preferably set to a value of 0.05 or more. This is because if the difference in refractive index between the hard coat layer 24 and the low refractive index layer 26 is less than 0.05, a synergistic effect in these antireflection films cannot be obtained, and the antireflection effect is lowered. Because there is a case to do.

3.実施例
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。実施例、比較例中の「部」および「%」は、特に断らない限り質量基準である。
3. EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. “Part” and “%” in Examples and Comparative Examples are based on mass unless otherwise specified.

3.1.表面変性中実シリカ粒子の製造例
3.1.1.粒子表面変性剤の製造
乾燥空気中、メルカプトプロピルトリメトキシシラン221質量部、ジブチル錫ジラウレート1質量部からなる溶液に対し、イソホロンジイソシアネート222質量部を撹拌しながら50℃で1時間かけて滴下後、70℃で3時間加熱攪拌した。これに新中村化学株式会社製のNKエステルA−TMM−3LM−N(ペンタエリスリトールトリアクリレート60質量%とペンタエリスリトールテトラアクリレート40質量%とからなる。このうち反応に関与するのは、水酸基を有するペンタエリスリトールトリアクリレートのみである。)549質量部を30℃で1時間かけて滴下後、60℃で10時間加熱攪拌することで重合性不飽和基を含む粒子変性剤(Cb−1)を得た。以上により、粒子変性剤(Cb−1)が773質量部得られたほか、反応に関与しなかったペンタエリスリトールテトラアクリレート220質量部が混在している。
3.1. Example of production of surface-modified solid silica particles 3.1.1. Production of Particle Surface Modifier After adding dropwise over 22 hours at 50 ° C. with stirring 222 parts by mass of isophorone diisocyanate to a solution consisting of 221 parts by mass of mercaptopropyltrimethoxysilane and 1 part by mass of dibutyltin dilaurate in dry air. The mixture was heated and stirred at 70 ° C. for 3 hours. NK ester A-TMM-3LM-N manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. (consisting of 60% by mass of pentaerythritol triacrylate and 40% by mass of pentaerythritol tetraacrylate. Of these, it is a hydroxyl group that is involved in the reaction. It is only pentaerythritol triacrylate.) After adding 549 parts by mass at 30 ° C. over 1 hour, the mixture is heated and stirred at 60 ° C. for 10 hours to obtain a particle modifier (Cb-1) containing a polymerizable unsaturated group. It was. As a result, 773 parts by mass of the particle modifier (Cb-1) was obtained, and 220 parts by mass of pentaerythritol tetraacrylate that was not involved in the reaction was mixed.

3.1.2.表面変性中実シリカ粒子の製造
前記「粒子表面変性剤の製造」で得られた粒子変性剤(Cb−1)8.4部、中実シリカ粒子(日産化学工業株式会社製、商品名:IPA−ST−ZL)のイソプロパノール(IPA)ゾル(シリカ濃度30%)90.2部(固形分27.1部)、0.1N硫酸0.03部及び蒸留水0.1部の混合液を、60℃、4時間攪拌後、オルト蟻酸メチルエステル1.3部を添加し、さらに1時間同一温度で加熱攪拌することで、表面変性中実シリカ
粒子(C−1)の白濁分散液を得た。この粒子分散液をアルミ皿に2g秤量後、175℃のホットプレ−ト上で1時間乾燥、秤量して固形分含量を求めたところ、36質量%であった。透過型電子顕微鏡を用いて測定した数平均粒子径は100nmであった。
3.1.2. Production of surface-modified solid silica particles 8.4 parts of the particle modifier (Cb-1) obtained in the above-mentioned "Production of particle surface modifier", solid silica particles (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., trade name: IPA) -ST-ZL) isopropanol (IPA) sol (silica concentration 30%) 90.2 parts (solid content 27.1 parts), 0.1N sulfuric acid 0.03 parts and distilled water 0.1 parts, After stirring at 60 ° C. for 4 hours, 1.3 parts of orthoformate methyl ester was added, and further heated and stirred at the same temperature for 1 hour to obtain a cloudy dispersion of surface-modified solid silica particles (C-1). . 2 g of this particle dispersion was weighed in an aluminum dish, dried on a hot plate at 175 ° C. for 1 hour and weighed to determine the solid content, which was 36% by mass. The number average particle diameter measured using a transmission electron microscope was 100 nm.

3.2.硬化性組成物の製造例
紫外線を遮蔽した容器中において、中空シリカ粒子(商品名「JX−1009SIV」、屈折率1.29、メチルイソブチルケトンゾル、日揮触媒化成株式会社製)4.5質量部(固形分として0.9質量部)、上記製造例で製造した表面変性中実シリカ粒子(C−1)0.3質量部(固形分として0.1質量部)、2−ヒドロキシエチルアクリレート(商品名「ライトエステルHOA」、共栄社化学株式会社製)26質量部、ペンタエリスリトールトリアクリレート(商品名「PET−30」、日本化薬株式会社製)70質量部、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン(商品名「イルガキュア(登録商標)907」、BASFジャパン株式会社製)3質量部、サイラプレーンFM0725(チッソ株式会社製)0.1質量部、さらにメチルイソブチルケトンを適量加えて室温で2時間撹拌することにより均一な硬化性組成物を得た。この溶液をアルミ皿に2g秤量後、175℃のホットプレート上で30分間乾燥させ、秤量した後固形分含量を求めたところ、50質量%であった。
3.2. Production Example of Curable Composition In a container shielded from ultraviolet rays, hollow silica particles (trade name “JX-1009SIV”, refractive index 1.29, methyl isobutyl ketone sol, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.) 4.5 parts by mass (0.9 parts by mass as a solid content), 0.3 parts by mass (0.1 parts by mass as a solid content) of surface-modified solid silica particles (C-1) produced in the above production example, 2-hydroxyethyl acrylate ( Product name "Light Ester HOA", manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 26 parts by mass, pentaerythritol triacrylate (trade name "PET-30", manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 70 parts by mass, 2-methyl-1 [4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one (trade name “Irgacure (registered trademark) 907”, manufactured by BASF Japan Ltd.), 3 parts by mass, Silap Lane FM0725 (manufactured by Chisso Corporation) 0.1 parts by mass, and further, an appropriate amount of methyl isobutyl ketone was added and stirred at room temperature for 2 hours to obtain a uniform curable composition. 2 g of this solution was weighed in an aluminum dish, dried on a hot plate at 175 ° C. for 30 minutes, weighed, and the solid content was determined to be 50% by mass.

3.3.実施例1(反射防止用積層体の作製)
前記「3.2.硬化性組成物の製造」で得られた硬化性組成物をトリアセチルセルロースフィルム上にバーコーターを用いて全体の硬化膜厚が約7μmとなるように塗布し、80℃で2分間乾燥後、窒素フロー下で高圧水銀灯(300mJ/cm)を用いて硬化させて反射防止用積層体を得た。
3.3. Example 1 (Preparation of antireflection laminate)
The curable composition obtained in the above “3.2. Production of curable composition” was applied onto a triacetyl cellulose film using a bar coater so that the entire cured film thickness was about 7 μm, and 80 ° C. And dried for 2 minutes, and then cured using a high-pressure mercury lamp (300 mJ / cm 2 ) under a nitrogen flow to obtain an antireflection laminate.

3.4.実施例2〜8、比較例1〜10
表2〜表4に示す成分を表2〜表4に示す組成で配合した硬化性組成物を使用したこと以外は、実施例1と同様にして反射防止用積層体を得た。なお、表2〜表4において、(C)粒子として使用した各成分は以下のとおりである。
・PIS−ZLST(上記「3.1.表面変性中実シリカ粒子の製造例」で製造されたINT−12A変性中実シリカ粒子、数平均粒子径100nm)
・SC1050−KJA(商品名、株式会社アドマテックス製、数平均粒子径300nm)
・SC2050−KD(商品名、株式会社アドマテックス製、数平均粒子径500nm)
3.4. Examples 2-8, Comparative Examples 1-10
An antireflection laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that a curable composition containing the components shown in Tables 2 to 4 in the compositions shown in Tables 2 to 4 was used. In addition, in Table 2-Table 4, each component used as (C) particle | grains is as follows.
PIS-ZLST (INT-12A modified solid silica particles produced in “3.1. Example of production of surface-modified solid silica particles” above, number average particle diameter 100 nm)
SC1050-KJA (trade name, manufactured by Admatechs Co., Ltd., number average particle size 300 nm)
SC2050-KD (trade name, manufactured by Admatechs Co., Ltd., number average particle diameter 500 nm)

3.5.評価試験
3.5.1.(A)重合性化合物のトリアセチルセルロースに対する溶解性
まず、表2〜表4に記載されている(A)重合性化合物のトリアセチルセルロースに対する溶解性について評価した。18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(商品名「TDY−80UL」、富士フイルム株式会社製)の質量をa(g)とし、このフィルムを25℃で6gの重合性化合物に2時間浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥した後のフィルムの質量をa(g)としたときに、((a−a)/a)×100で表されるフィルムの質量減少率を測定した。この質量減少率が1%以上である場合には、重合性化合物がトリアセチルセルロースを溶解するものと判断し、1%未満である場合には、重合性化合物がトリアセチルセルロースを溶解しないものと判断した。その結果を表1に示す。
3.5. Evaluation test 3.5.1. (A) Solubility of polymerizable compound in triacetyl cellulose First, the solubility of (A) polymerizable compound described in Tables 2 to 4 in triacetyl cellulose was evaluated. The mass of an 80 μm-thick triacetyl cellulose film (trade name “TDY-80UL”, manufactured by FUJIFILM Corporation) cut to a size of 18 cm × 1 cm is a 0 (g), and this film is 6 g at 25 ° C. When the mass of the film after dipping in a polymerizable compound for 2 hours and drying the taken-out film in a vacuum dryer at 80 ° C. for 24 hours is a 1 (g), ((a 0 −a 1 ) / a 0 ) The mass reduction rate of the film represented by x100 was measured. When the mass reduction rate is 1% or more, it is determined that the polymerizable compound dissolves triacetyl cellulose. When the mass reduction rate is less than 1%, the polymerizable compound does not dissolve triacetyl cellulose. It was judged. The results are shown in Table 1.

次に、実施例および比較例で得られた反射防止用積層体の下記項目について評価した。その結果を表2〜表4に併せて示す。なお、以下特に断りのない限り、数値は質量部を表す。   Next, the following items of the antireflection laminates obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated. The result is combined with Table 2-Table 4, and is shown. In addition, unless otherwise indicated below, a numerical value represents a mass part.

3.5.2.反射率
得られた反射防止用積層体のセルロース樹脂基材面を黒色スプレーで塗装し、分光反射率測定装置(大型試料室積分球付属装置150−09090を組み込んだ自記分光光度計U−3410、日立製作所株式会社製)により波長340〜700nmの範囲における反射率を基材側から測定して評価した。具体的には、アルミの蒸着膜における反射率を基準(100%)として、各波長における反射防止用積層体(反射防止膜)の反射率を測定し、そのうち波長550nmにおける光の反射率を表2〜表4に併せて示した。反射率は、3%未満であれば低反射性を有すると判断することができる。
3.5.2. Reflectivity The cellulose resin substrate surface of the obtained antireflection laminate was coated with a black spray, and a spectral reflectance measurement device (a self-recording spectrophotometer U-3410 incorporating a large sample chamber integrating sphere attachment device 150-09090, The reflectance in the wavelength range of 340 to 700 nm was measured from the substrate side and evaluated. Specifically, the reflectance of the antireflection laminate (antireflection film) at each wavelength is measured using the reflectance of the aluminum deposited film as a reference (100%), and the reflectance of light at a wavelength of 550 nm is expressed. 2 to Table 4 together. If the reflectance is less than 3%, it can be determined that the reflectance is low.

3.5.3.鉛筆硬度
得られた反射防止用積層体をガラス基板上に固定させて、「JIS K5600−5−4」(ISO/DIS 15184)に準拠して評価した。その結果を表2〜表4に併せて示す。
3.5.3. Pencil Hardness The obtained antireflection laminate was fixed on a glass substrate and evaluated according to “JIS K5600-5-4” (ISO / DIS 15184). The result is combined with Table 2-Table 4, and is shown.

3.5.4.耐擦傷性(スチールウール耐性テスト)
得られた反射防止用積層体をスチールウール(ボンスターNo.0000、日本スチールウール株式会社製)を学振型摩擦堅牢度試験機(AB−301、テスター産業株式会社製)に取り付け、硬化膜の表面を荷重200gの条件で10回繰り返し擦過し、当該硬化膜の表面における傷の発生の有無を以下の基準により目視で確認した。評価基準は、以下のとおりである。また、荷重300gまたは400gの条件に変更して得られた反射防止用積層体の耐擦傷性を評価した。その結果を表2〜表4に併せて示す。
A :硬化膜に傷が発生しない。
B :硬化膜の剥離や傷の発生がほとんど認められないか、あるいは硬化膜にわずかな
細い傷が認められる。
C :硬化膜全面に筋状の傷が認められる。
D :硬化膜の一部に剥離が生じる。
E :硬化膜の全面に剥離が生じる。
3.5.4. Scratch resistance (steel wool resistance test)
The obtained anti-reflection laminate was attached with steel wool (Bonster No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) to a Gakushin type friction fastness tester (AB-301, manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.). The surface was repeatedly rubbed 10 times under a load of 200 g, and the presence or absence of scratches on the surface of the cured film was visually confirmed according to the following criteria. The evaluation criteria are as follows. Moreover, the scratch resistance of the antireflection laminate obtained by changing the load to 300 g or 400 g was evaluated. The result is combined with Table 2-Table 4, and is shown.
A: The cured film is not damaged.
B: Hardened film peeling or scratches are hardly observed, or slight thin scratches are observed on the cured film.
C: A streak is recognized on the entire surface of the cured film.
D: Peeling occurs in part of the cured film.
E: Peeling occurs on the entire surface of the cured film.

3.5.5.粒子の偏在性の確認
実施例4に係る反射防止用積層体の断面を透過型電子顕微鏡(TEM)で観察したところ、複数の粒子が硬化膜の表面、すなわちセルロース樹脂基材とは反対側の面に偏在し、セルロース樹脂基材側にはほとんど存在しないことが確認できた。さらに、硬化膜の表面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察したときの写真を図2に示す。図2の写真に示されるように、実施例4に係る反射防止用積層体の硬化膜表面において、(B)粒子が偏在することにより形成された微細な凹凸、さらに表面に突出する(C)粒子が確認された。
3.5.5. Confirmation of uneven distribution of particles When the cross section of the antireflection laminate according to Example 4 was observed with a transmission electron microscope (TEM), the plurality of particles were on the surface of the cured film, that is, on the side opposite to the cellulose resin substrate. It was confirmed that it was unevenly distributed on the surface and hardly existed on the cellulose resin substrate side. Furthermore, the photograph when the surface of a cured film is observed with a scanning electron microscope (SEM) is shown in FIG. As shown in the photograph of FIG. 2, on the surface of the cured film of the antireflection laminate according to Example 4, (B) fine irregularities formed by the uneven distribution of particles, and further protruding to the surface (C) Particles were confirmed.

3.6.評価結果
表2の結果から、実施例1〜8においては、反射率が3%未満となり優れた反射防止性
を有していることが判明した。反射防止用積層体の性能発現機構から考えて、このような低い反射率は中空粒子である粒子(B)が硬化膜の表面、すなわちセルロース基材とは反対側の面に偏在し、低屈折率層を形成していることを裏付けている。また、耐スチールウール性の結果から耐擦傷性にも優れていることが判明した。このことは中実粒子である粒子(C)が硬化膜の表面に偏在し、支柱効果を発揮していることを裏付けている。
3.6. Evaluation Results From the results in Table 2, in Examples 1 to 8, it was found that the reflectance was less than 3% and excellent antireflection properties were obtained. In view of the performance manifestation mechanism of the antireflection laminate, the low reflectivity is such that the particles (B), which are hollow particles, are unevenly distributed on the surface of the cured film, that is, on the surface opposite to the cellulose substrate, resulting in low refraction. This supports the formation of the rate layer. Moreover, it turned out that it is excellent also in abrasion resistance from the result of steel wool resistance. This confirms that the solid particles (C) are unevenly distributed on the surface of the cured film and exhibit the strut effect.

これに対し、表3の結果から、(A1)成分を含有しない比較例1〜3においては、耐擦傷性には優れているが、反射率が3%を超えてしまい反射防止性が劣ることが判明した。また、表4の結果から、(C)粒子を含有しない比較例4〜10においては、反射率が3%未満となり反射防止性には優れているが、(C)粒子による低屈折率層の支柱効果が発揮されず耐擦傷性が劣ることが判明した。   On the other hand, from the results of Table 3, in Comparative Examples 1 to 3 not containing the component (A1), the scratch resistance is excellent, but the reflectance exceeds 3% and the antireflection property is inferior. There was found. Further, from the results of Table 4, in Comparative Examples 4 to 10 not containing (C) particles, the reflectivity was less than 3% and excellent in antireflection properties, but the low refractive index layer of (C) particles was excellent. It was found that the strut effect was not exhibited and the scratch resistance was poor.

さらに、実施例1〜8および比較例1の硬化膜において、断面をスライスしてハードコート層のラマン分光測定(日本電子株式会社製、形式「JRS−SYSTEM2000」を使用)を行った。その結果、実施例1〜8のハードコート層からは、トリアセチルセルロースのカルボニル基に由来する1740cm−1のピークが検出されたが、比較例1のハードコート層からはトリアセチルセルロースに由来するピークは検出されなかった。すなわち、実施例1〜8のハードコート層中には、基材のトリアセチルセルロースが混入していることが示された。 Furthermore, in the cured film of Examples 1-8 and the comparative example 1, the cross section was sliced and the Raman spectroscopic measurement (The JEOL Co., Ltd. make, type | form "JRS-SYSTEM2000" was used) of the hard-coat layer was performed. As a result, a peak at 1740 cm −1 derived from the carbonyl group of triacetylcellulose was detected from the hard coat layers of Examples 1 to 8, but derived from triacetyl cellulose from the hard coat layer of Comparative Example 1. No peak was detected. That is, it was shown that the triacetyl cellulose of the base material was mixed in the hard coat layers of Examples 1 to 8.

なお、実施例1〜8、比較例4〜10の全てにおいて、硬化膜中のセルロース樹脂基材とは反対側における(B)粒子および(C)粒子の密度が硬化膜中のセルロース樹脂基材側における(B)粒子および(C)粒子の密度より高く、硬化膜中のセルロース樹脂基材側には(B)粒子および(C)粒子が実質的に存在しなかった。これに対して、比較例1〜3では、(B)粒子および(C)粒子の密度は硬化膜中でほぼ均一であった。   In all of Examples 1 to 8 and Comparative Examples 4 to 10, the density of (B) particles and (C) particles on the side opposite to the cellulose resin substrate in the cured film is the cellulose resin substrate in the cured film. It was higher than the density of the (B) particles and (C) particles on the side, and the (B) particles and (C) particles were substantially absent on the cellulose resin substrate side in the cured film. On the other hand, in Comparative Examples 1-3, the density of (B) particles and (C) particles was almost uniform in the cured film.

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法および結果が同一の構成、あるいは目的および効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成または同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the present invention includes substantially the same configuration (for example, a configuration having the same function, method, and result, or a configuration having the same purpose and effect) as the configuration described in the embodiment. In addition, the invention includes a configuration in which a non-essential part of the configuration described in the embodiment is replaced. In addition, the present invention includes a configuration that achieves the same effect as the configuration described in the embodiment or a configuration that can achieve the same object. In addition, the invention includes a configuration in which a known technique is added to the configuration described in the embodiment.

10…セルロース樹脂基材、20…硬化膜、22…粒子、24…粒子が実質的に存在しない領域(ハードコート層)、26…粒子が相対的に高い密度で存在する領域(低屈折率層)、100…反射防止用積層体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Cellulose resin base material, 20 ... Cured film, 22 ... Particle, 24 ... Area | region where particle | grains do not exist substantially (hard-coat layer), 26 ... Area | region where particle | grain exists by relatively high density (low refractive index layer) ), 100 ... Laminated body for antireflection

Claims (13)

セルロース樹脂基材と、
セルロース樹脂を溶解する重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる硬化性組成物の硬化膜と、を備え、
前記セルロース樹脂基材と前記硬化膜とは接して積層され、前記(B)粒子および前記(C)粒子は前記硬化膜中において前記セルロース樹脂基材とは反対側に偏在している、反射防止用積層体(ここでセルロース樹脂を溶解する成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを、6gの該成分中に25℃で2時間浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1%以上である成分をいう。)。
A cellulose resin substrate;
A polymerizable compound (A) containing 5% by mass to 75% by mass of a polymerizable component (A1) for dissolving the cellulose resin, hollow silica particles (B), a refractive index of 1.50 or less, and a transmission electron microscope A cured film of a curable composition comprising solid particles (C) having a measured number average particle diameter of 100 nm or more, and
The cellulose resin substrate and the cured film are laminated in contact with each other, and the (B) particles and the (C) particles are unevenly distributed on the opposite side of the cellulose resin substrate in the cured film. Laminate for use (Herein, the component that dissolves the cellulose resin means that an 80 μm-thick cellulose resin film cut into a size of 18 cm × 1 cm is immersed in 6 g of the component for 2 hours at 25 ° C. A component whose mass reduction rate of the film is 1% or more when dried in a vacuum dryer at 80 ° C. for 24 hours.
セルロース樹脂基材と、
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ−ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる硬化性組成物の硬化膜と、を備え、
前記セルロース樹脂基材と前記硬化膜とが接して積層され、前記(B)粒子および前記(C)粒子は前記硬化膜中において前記セルロース樹脂基材とは反対側に偏在している、反射防止用積層体。
A cellulose resin substrate;
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, γ-butyrolactone acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 4- A polymerizable compound (A) containing 5% by mass or more and 75% by mass or less of a polymerizable component (A1) which is at least one selected from hydroxybutyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, glycerin monomethacrylate, ethylene glycol diacrylate and diethylene glycol diacrylate ), Hollow silica particles (B) and a refractive index of 1.50 or less and a number average particle diameter measured by a transmission electron microscope of 100 nm or more. And a cured film of the curable composition containing the solid particles (C) in that,
The cellulose resin base material and the cured film are laminated in contact with each other, and the (B) particles and the (C) particles are unevenly distributed on the opposite side of the cellulose resin base material in the cured film. Laminated body.
請求項1または請求項2において、
前記硬化膜が前記セルロース樹脂基材を形成するセルロース樹脂を含有する、反射防止用積層体。
In claim 1 or claim 2,
The laminated body for antireflection in which the said cured film contains the cellulose resin which forms the said cellulose resin base material.
請求項1ないし請求項3のいずれか一項において
前記(C)粒子は、中実シリカ粒子および中実フッ化マグネシウム粒子から選択される少なくとも1種である、反射防止用積層体。
4. The antireflection laminate according to claim 1, wherein the (C) particles are at least one selected from solid silica particles and solid magnesium fluoride particles. 5.
請求項1ないし請求項4のいずれか一項において、
前記(B)粒子および(C)粒子の配合割合は質量基準で(B)粒子:(C)粒子=80:20〜99.9:0.1の範囲である、反射防止用積層体。
In any one of Claims 1 thru | or 4,
The blending ratio of the (B) particles and the (C) particles is an antireflection laminate in which (B) particles: (C) particles = 80: 20 to 99.9: 0.1 on a mass basis.
セルロース樹脂を溶解する重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を含む、反射防止用積層体の製造方法(ここでセルロース樹脂を溶解する成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを、6gの該成分中に25℃で2時間浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1%以上である成分をいう。)。   A polymerizable compound (A) containing 5% by mass to 75% by mass of a polymerizable component (A1) for dissolving the cellulose resin, hollow silica particles (B), a refractive index of 1.50 or less, and a transmission electron microscope A method for producing an antireflection laminate comprising a step of applying a curable composition containing solid particles (C) having a measured number average particle diameter of 100 nm or more to a cellulose resin substrate and then curing the composition. (Herein, the component that dissolves the cellulose resin is a cellulose resin film having a thickness of 18 μm cut to a size of 18 cm × 1 cm, immersed in 6 g of the component at 25 ° C. for 2 hours, and the taken-out film at 80 ° C.) This refers to a component having a film mass reduction rate of 1% or more when dried in a vacuum dryer for 24 hours. 2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ−ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる硬化性組成物をセルロース樹脂基材に塗布した後、硬化させる工程を含む、反射防止用積層体の製造方法。   2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, γ-butyrolactone acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 4- A polymerizable compound (A) containing 5% by mass or more and 75% by mass or less of a polymerizable component (A1) which is at least one selected from hydroxybutyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, glycerin monomethacrylate, ethylene glycol diacrylate and diethylene glycol diacrylate ), Hollow silica particles (B) and a refractive index of 1.50 or less and a number average particle diameter measured by a transmission electron microscope of 100 nm or more. Real After the particles a curable composition comprising the (C) was applied to a cellulose resin substrate, comprising the step of curing, the manufacturing method of the antireflection stack in that. 請求項6または請求項7において、
前記(C)粒子は中実シリカ粒子および中実フッ化マグネシウム粒子から選択される少なくとも1種である、反射防止用積層体の製造方法。
In claim 6 or claim 7,
The method for producing an antireflection laminate, wherein the particle (C) is at least one selected from solid silica particles and solid magnesium fluoride particles.
請求項6ないし請求項8のいずれか一項において、
前記(B)粒子および(C)粒子の配合割合は質量基準で(B)粒子:(C)粒子=80:20〜99.9:0.1の範囲である、反射防止用積層体の製造方法。
In any one of Claims 6 thru | or 8,
Production of the antireflection laminate in which the blending ratio of the (B) particles and (C) particles is in the range of (B) particles: (C) particles = 80: 20 to 99.9: 0.1 on a mass basis. Method.
セルロース樹脂を溶解する重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる、反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物(ここでセルロース樹脂を溶解する成分とは、18cm×1cmの大きさに切った厚さ80μmのセルロース樹脂フィルムを、6gの該成分中に25℃で2時間浸し、取り出したフィルムを80℃で24時間真空乾燥機で乾燥したときのフィルムの質量減少率が1%以上である成分をいう。)。   A polymerizable compound (A) containing 5% by mass to 75% by mass of a polymerizable component (A1) for dissolving the cellulose resin, hollow silica particles (B), a refractive index of 1.50 or less, and a transmission electron microscope A curable composition used for producing an antireflection laminate comprising solid particles (C) having a measured number average particle diameter of 100 nm or more (here, a component for dissolving a cellulose resin) A film obtained by immersing a cellulose resin film having a thickness of 80 μm cut into a size of 18 cm × 1 cm in 6 g of the component at 25 ° C. for 2 hours, and drying the taken-out film at 80 ° C. for 24 hours in a vacuum dryer The mass reduction rate of 1% or more. 2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルフォリン、γ−ブチロラクトンアクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルカプロラクタム、グリシジルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、ジエチレングリコールモノアクリレート、グリセリンモノメタクリレート、エチレングリコールジアクリレートおよびジエチレングリコールジアクリレートから選択される少なくとも1種である重合性成分(A1)を5質量%以上75質量%以下含む重合性化合物(A)、中空シリカ粒子(B)及び屈折率が1.50以下でありかつ透過型電子顕微鏡により測定した数平均粒子径が100nm以上である中実粒子(C)を含有してなる、反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物。   2-hydroxyethyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, γ-butyrolactone acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactam, glycidyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 4- A polymerizable compound (A) containing 5% by mass or more and 75% by mass or less of a polymerizable component (A1) which is at least one selected from hydroxybutyl acrylate, diethylene glycol monoacrylate, glycerin monomethacrylate, ethylene glycol diacrylate and diethylene glycol diacrylate ), Hollow silica particles (B) and a refractive index of 1.50 or less and a number average particle diameter measured by a transmission electron microscope of 100 nm or more. Comprising the solid particles (C) in that, the curable composition used to manufacture the antireflection stack. 請求項10または請求項11において、
前記(C)粒子は中実シリカ粒子および中実フッ化マグネシウム粒子から選択される少なくとも1種である、硬化性組成物。
In claim 10 or claim 11,
The (C) particles are at least one selected from solid silica particles and solid magnesium fluoride particles.
請求項10ないし請求項12のいずれか一項において、
前記(B)粒子および(C)粒子の配合割合は質量基準で(B)粒子:(C)粒子=80:20〜99.9:0.1の範囲である、反射防止用積層体を製造するために用いられる硬化性組成物。
In any one of claims 10 to 12,
The blend ratio of the (B) particles and (C) particles is (B) particles: (C) particles = 80: 20 to 99.9: 0.1 on a mass basis to produce an antireflection laminate. A curable composition used to make.
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