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JP2012237600A - Gas chromatograph - Google Patents

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Publication number
JP2012237600A
JP2012237600A JP2011105543A JP2011105543A JP2012237600A JP 2012237600 A JP2012237600 A JP 2012237600A JP 2011105543 A JP2011105543 A JP 2011105543A JP 2011105543 A JP2011105543 A JP 2011105543A JP 2012237600 A JP2012237600 A JP 2012237600A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
carrier gas
sample
flow path
sample introduction
Prior art date
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Pending
Application number
JP2011105543A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masanao Furukawa
雅直 古川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2011105543A priority Critical patent/JP2012237600A/en
Priority to CN201110361750.8A priority patent/CN102778524B/en
Publication of JP2012237600A publication Critical patent/JP2012237600A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

【課題】 高価な差圧センサを用いず、キャリアガスの流量を制御するとともに、試料導入部内の圧力を制御することができるガスクロマトグラフ装置の提供。
【解決手段】 試料導入部20とキャリアガス供給流路10とカラム3とスプリット流路40と制御部50とを備えるガスクロマトグラフ装置1であって、キャリアガス供給流路10中に配置された流路抵抗11と、流路抵抗11の上流側に設けられた開度調節可能な制御弁14と、流路抵抗11の上流側の圧力を検出する第一圧力検出部12と、流路抵抗11の下流側の圧力を検出する第二圧力検出部13と、スプリット流路40中に設けられた開度調節可能な排出弁41とを備え、制御部50は、第一圧力検出部12及び第二圧力検出部13からの信号に基づいて演算を行い、演算結果により制御弁14の開度及び排出弁41の開度を制御する。
【選択図】図1
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gas chromatograph apparatus capable of controlling the flow rate of a carrier gas and controlling the pressure in a sample introduction part without using an expensive differential pressure sensor.
A gas chromatograph apparatus 1 including a sample introduction unit 20, a carrier gas supply channel 10, a column 3, a split channel 40, and a control unit 50, wherein a flow disposed in the carrier gas supply channel 10 is provided. A path resistance 11; a control valve 14 provided on the upstream side of the flow path resistance 11; the first pressure detection unit 12 for detecting the pressure on the upstream side of the flow path resistance 11; A second pressure detector 13 for detecting the pressure on the downstream side, and a discharge valve 41 with an adjustable opening provided in the split flow path 40, and the controller 50 includes the first pressure detector 12 and the first pressure detector 12. An operation is performed based on a signal from the two-pressure detection unit 13, and the opening degree of the control valve 14 and the opening degree of the discharge valve 41 are controlled based on the calculation result.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、ガスクロマトグラフ装置に関し、特に制御弁の開度を調節することによりキャリアガスの流量を任意の設定値に制御するととともに、排出弁の開度を調節することにより試料導入部内の圧力を任意の設定値に制御するガスクロマトグラフ装置に関する。   The present invention relates to a gas chromatograph device, and in particular, controls the flow rate of a carrier gas to an arbitrary set value by adjusting the opening of a control valve, and adjusts the pressure in a sample introduction unit by adjusting the opening of a discharge valve. The present invention relates to a gas chromatograph apparatus that controls an arbitrary set value.

ガスクロマトグラフ装置では、試料気化室内に液体試料を注入し、気化した試料をキャリアガスに乗せてカラムに導入している。このとき、試料導入部に供給されるキャリアガスの流量は、分析の定量、定性を正確にするために精密に制御される必要がある。そのため、差圧センサと圧力センサとを用いてキャリアガス供給流路中のキャリアガスの流量を測定しながら、キャリアガス供給流路中の制御プロポーショナルバルブ(制御弁)の開度を調節することにより制御している(例えば、特許文献1参照)。   In the gas chromatograph apparatus, a liquid sample is injected into a sample vaporizing chamber, and the vaporized sample is placed on a carrier gas and introduced into a column. At this time, the flow rate of the carrier gas supplied to the sample introduction part needs to be precisely controlled in order to make the quantitative and qualitative analysis accurate. Therefore, by adjusting the opening of the control proportional valve (control valve) in the carrier gas supply channel while measuring the flow rate of the carrier gas in the carrier gas supply channel using the differential pressure sensor and the pressure sensor. (See, for example, Patent Document 1).

図2は、従来のガスクロマトグラフ装置の一例を示す概略構成図である。ガスクロマトグラフ装置101は、試料が注入され試料を気化する試料導入室20と、キャリアガス供給流路110と、カラム3と、検出器4と、スプリット流路40と、パージ流路30と、制御部150とを備える。   FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating an example of a conventional gas chromatograph apparatus. The gas chromatograph apparatus 101 includes a sample introduction chamber 20 for injecting a sample and vaporizing the sample, a carrier gas supply channel 110, a column 3, a detector 4, a split channel 40, a purge channel 30, and a control. Unit 150.

試料気化室20の頭部開口には、シリコンゴム製のセプタム(図示せず)が嵌挿されており、試料気化室20の内部は、キャリアガスを導入するためのキャリアガス供給流路110の出口端と、シリコンゴム製のセプタム(図示せず)が発生する不所望の成分を外部へ排出するためのパージ流路30の入口端と、キャリアガスとともに余分な気化試料を外部へ排出するためのスプリット流路40の入口端と、カラム3の入口端と接続されている。このような試料気化室20において、分析する際には分析者は、液体試料が収容されたマイクロシリンジ5の針をセプタムに突き刺すことにより、試料気化室20の内部に液体試料を滴下することができるようになっている。そして、セプタムは弾力性を有するので、針が挿入されたときに開いた孔は、針が抜去されると即座に閉塞する。   A silicon rubber septum (not shown) is fitted into the head opening of the sample vaporizing chamber 20, and the inside of the sample vaporizing chamber 20 has a carrier gas supply channel 110 for introducing a carrier gas. An outlet end, an inlet end of a purge flow path 30 for discharging an undesired component generated by a silicone rubber septum (not shown), and an excess vaporized sample together with a carrier gas to the outside The split channel 40 is connected to the inlet end of the column 3 and the inlet end of the column 3. In such a sample vaporization chamber 20, when analyzing, an analyst may drop the liquid sample into the sample vaporization chamber 20 by inserting the needle of the microsyringe 5 containing the liquid sample into the septum. It can be done. Since the septum has elasticity, the hole opened when the needle is inserted is immediately closed when the needle is removed.

キャリアガス供給流路110には、上流側から順に、キャリアガスが封入されたボンベ2と、キャリアガスに適度な圧力降下を生ぜしめる層流管(流路抵抗)11と、キャリアガスの流量を調節するための開度調節可能な制御プロポーショナルバルブ114とが配置されている。そして、層流管(流路抵抗)11の上流側の圧力と下流側の圧力との差圧ΔPを検出する差圧センサ113と、層流管(流路抵抗)11の上流側の圧力Pを検出する圧力センサ112とが設けられている。 In the carrier gas supply channel 110, in order from the upstream side, the cylinder 2 in which the carrier gas is sealed, the laminar flow tube (channel resistance) 11 that causes an appropriate pressure drop in the carrier gas, and the flow rate of the carrier gas are set. A control proportional valve 114 capable of adjusting the opening for adjustment is disposed. Then, a differential pressure sensor 113 that detects a differential pressure ΔP between the pressure upstream of the laminar flow tube (channel resistance) 11 and the pressure downstream thereof, and the pressure P upstream of the laminar flow tube (channel resistance) 11 1 is provided.

ここで、キャリアガス供給流路110を流通するキャリアガスの流量Fは下記のナビエストークス式(1)で計算できる。
F=(P −P )/R ・・・(1)
は、流路抵抗の上流側の圧力、
は、流路抵抗の下流側の圧力、
Rは、流路抵抗である。
Here, the flow rate F of the carrier gas flowing through the carrier gas supply channel 110 can be calculated by the following Naviestokes equation (1).
F = (P 1 2 −P 2 2 ) / R (1)
P 1 is the pressure upstream of the channel resistance,
P 2 is the pressure downstream of the channel resistance,
R is the channel resistance.

また、流路抵抗は下記式(2)で表される。
R=((256×L)/(60π×d4))×((T×μ)/(T0/P0)) ・・・(2)
Lは、層流管の長さ、
dは、層流管の内径、
Tは、流体温度(=層流管の温度)、
μは、温度Tでの流体の粘性係数、
T0は、標準温度(通常298K)、
P0は、標準圧力(通常101.35kPa)である。
Further, the channel resistance is represented by the following formula (2).
R = ((256 × L) / (60π × d4)) × ((T × μ T ) / (T0 / P0)) (2)
L is the length of the laminar flow tube,
d is the inner diameter of the laminar flow tube,
T is the fluid temperature (= temperature of the laminar flow tube),
μ T is the viscosity coefficient of the fluid at temperature T,
T0 is the standard temperature (usually 298K),
P0 is a standard pressure (usually 101.35 kPa).

また、分析する際に、試料気化室20内に液体試料を注入すると、注入された試料は気化することによって急激に体積が膨張することになる。そのため、試料気化室20内の圧力Pは急激に上昇する。よって、パージ流路30には、パージ流路30の圧力Pを検出する圧力センサ131が設けられるとともに、スプリット流路40には、開閉可能な排出弁141が配置されている。これにより、試料気化室20内の圧力Pが急激に上昇したときには、排出弁141を開放することにより、試料気化室20内の一定割合のキャリアガスや試料をスプリット流路40を介して外部へ逃がしている。 Further, when a liquid sample is injected into the sample vaporizing chamber 20 during analysis, the volume of the injected sample is rapidly expanded due to vaporization. Therefore, the pressure P 3 of the sample vaporizing chamber 20 is rapidly increased. Therefore, the purge flow path 30 is provided with a pressure sensor 131 for detecting the pressure P 3 of the purge flow path 30, and the split flow path 40 is provided with an openable / closable discharge valve 141. Thus, when the pressure P 3 of the sample vaporizing chamber 20 abruptly increases, by opening the discharge valve 141, the carrier gas and sample a percentage of the sample vaporizing chamber 20 through the split flow channel 40 outside To escape.

制御部150は、パーソナルコンピュータにより具現化され、CPU151とメモリ54とを備え、さらにキーボードやマウス等を有する入力装置52と、設定内容(所望する流量FSETや所望するカラム線速度や所望する試料気化室圧力P3SET等)の表示や分析結果の表示等を行う表示装置53とが連結されている。CPU151によって、入力装置52で入力された設定内容と差圧センサ113からの信号ΔPと圧力センサ112からの信号Pとに基づいて、制御プロポーショナルバルブ114の動作と、圧力センサ131からの信号Pに基づいて、排出弁141の動作とが統括的に制御されるようになっている。なお、メモリ54には、式(1)が記憶されている。 The control unit 150 is embodied by a personal computer, includes a CPU 151 and a memory 54, and further includes an input device 52 having a keyboard, a mouse, and the like, and setting contents (desired flow rate F SET , desired column linear velocity, desired sample, etc. A display device 53 for displaying the vaporization chamber pressure P3SET and the like and the analysis result is connected. The operation of the control proportional valve 114 and the signal P from the pressure sensor 131 are determined by the CPU 151 on the basis of the setting content input by the input device 52, the signal ΔP from the differential pressure sensor 113 and the signal P 1 from the pressure sensor 112. 3 , the operation of the discharge valve 141 is comprehensively controlled. The memory 54 stores the formula (1).

このようなガスクロマトグラフ装置101によれば、分析者は、分析する前に入力装置52を用いて所望する流量FSET等をCPU151に入力する。CPU151は、分析する際に常時、圧力センサ112からの信号Pを式(1)に代入することより、所望する流量FSETに対応する差圧△PSETを求め、差圧センサ113からの信号ΔPが差圧△PSETとなるように、制御プロポーショナルバルブ114の開度を調節する制御信号を制御プロポーショナルバルブ114に送る。これにより、CPU151によって流量Fが調整されたキャリアガスが、カラム3に導入され、その後検出器4に到達する。このとき、液体試料が試料気化室20内に注入されれば、気化した試料がキャリアガスに乗せられてカラム3に導入される。 According to such a gas chromatograph apparatus 101, an analyst inputs a desired flow rate F SET or the like to the CPU 151 using the input device 52 before analysis. The CPU 151 always obtains the differential pressure ΔP SET corresponding to the desired flow rate F SET by substituting the signal P 1 from the pressure sensor 112 into the equation (1) when analyzing, and obtains the differential pressure ΔP SET from the differential pressure sensor 113. A control signal for adjusting the opening of the control proportional valve 114 is sent to the control proportional valve 114 so that the signal ΔP becomes the differential pressure ΔP SET . As a result, the carrier gas whose flow rate F is adjusted by the CPU 151 is introduced into the column 3 and then reaches the detector 4. At this time, if a liquid sample is injected into the sample vaporization chamber 20, the vaporized sample is placed on the carrier gas and introduced into the column 3.

特開平10−300737号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-300737

しかしながら、上述したようなガスクロマトグラフ装置101では、層流管(流路抵抗)11の上流側の圧力と下流側の圧力との差圧ΔPを検出する差圧センサ113と、層流管(流路抵抗)11の上流側の圧力Pを検出する圧力センサ112と、試料気化室20内の圧力Pを検出する圧力センサ131とが設けられており、3個のセンサを設ける上に1個のセンサは差圧センサであるので、非常にコストがかかっていた。
そこで、本発明は、高価な差圧センサを用いず、キャリアガスの流量を制御するとともに、試料導入部内の圧力を制御することができるガスクロマトグラフ装置を提供することを目的とするものである。
However, in the gas chromatograph apparatus 101 as described above, the differential pressure sensor 113 that detects the differential pressure ΔP between the upstream pressure and the downstream pressure of the laminar flow tube (flow path resistance) 11, and the laminar flow tube (flow) A pressure sensor 112 for detecting the pressure P 1 upstream of the path resistance) 11 and a pressure sensor 131 for detecting the pressure P 3 in the sample vaporizing chamber 20 are provided. Since each sensor is a differential pressure sensor, it is very expensive.
Therefore, an object of the present invention is to provide a gas chromatograph apparatus that can control the flow rate of the carrier gas and the pressure in the sample introduction part without using an expensive differential pressure sensor.

上記課題を解決するためになされた本発明のガスクロマトグラフ装置は、試料が注入され当該試料を気化する試料導入部と、前記試料導入部に接続されたキャリアガス供給流路と、前記試料導入部に接続されたカラムと、前記試料導入部に接続されたスプリット流路と、前記キャリアガス供給流路から試料導入部を経てカラムを流通するキャリアガスの流量を制御するとともに、前記試料導入部内の圧力を制御する制御部とを備えるガスクロマトグラフ装置であって、前記キャリアガス供給流路中に配置された流路抵抗と、前記流路抵抗の上流側に設けられた開度調節可能な制御弁と、前記流路抵抗の上流側の圧力を検出する第一圧力検出部と、前記流路抵抗の下流側の圧力を検出する第二圧力検出部と、前記スプリット流路中に設けられた開度調節可能な排出弁とを備え、前記制御部は、前記第一圧力検出部及び前記第二圧力検出部からの信号に基づいて演算を行い、演算結果により前記制御弁の開度及び前記排出弁の開度を制御するようにしている。   In order to solve the above problems, the gas chromatograph of the present invention includes a sample introduction part for injecting a sample and vaporizing the sample, a carrier gas supply channel connected to the sample introduction part, and the sample introduction part A column connected to the sample introduction unit, a split channel connected to the sample introduction unit, a flow rate of the carrier gas flowing through the column from the carrier gas supply channel through the sample introduction unit, and the inside of the sample introduction unit A gas chromatograph apparatus comprising a control unit for controlling pressure, wherein the flow resistance is arranged in the carrier gas supply flow path, and the control valve capable of adjusting the opening provided on the upstream side of the flow resistance. A first pressure detection unit that detects a pressure upstream of the flow path resistance, a second pressure detection unit that detects a pressure downstream of the flow path resistance, and the split flow path A discharge valve capable of adjusting the degree, and the control unit performs a calculation based on signals from the first pressure detection unit and the second pressure detection unit, and based on a calculation result, the opening degree of the control valve and the discharge The valve opening is controlled.

本発明のガスクロマトグラフ装置によれば、流路抵抗は制御弁の下流側に設けられている。従来のガスクロマトグラフ装置と配置を入れ替えてあるが、制御弁と流路抵抗とは直列に接続され同一のキャリアガスが流れるので、式(1)が成立することになる。また、流路抵抗の上流側の圧力を検出する第一圧力検出部と、流路抵抗の下流側の圧力を検出する第二圧力検出部とが設けられている。これにより、制御部は、分析する際に常時、第二圧力検出部からの信号Pを式(1)に代入することより、所望する流量FSETに対応する圧力P1SETを求めることができる。その結果、第一圧力検出部からの信号Pが圧力P1SETとなるように、制御弁の開度を調節することで、キャリアガスの流量を任意の設定値FSETに制御することができる。 According to the gas chromatograph apparatus of the present invention, the flow path resistance is provided on the downstream side of the control valve. Although the arrangement is interchanged with that of the conventional gas chromatograph apparatus, the control valve and the flow path resistance are connected in series and the same carrier gas flows, so that the formula (1) is established. In addition, a first pressure detection unit that detects a pressure upstream of the channel resistance and a second pressure detection unit that detects a pressure downstream of the channel resistance are provided. Thus, the control unit can always obtain the pressure P 1SET corresponding to the desired flow rate F SET by substituting the signal P 2 from the second pressure detection unit into the equation (1) when analyzing. . As a result, the flow rate of the carrier gas can be controlled to an arbitrary set value F SET by adjusting the opening of the control valve so that the signal P 1 from the first pressure detection unit becomes the pressure P 1 SET. .

また、流路抵抗の下流側は試料導入部に直結されている。つまり、流路抵抗と試料導入部との間に圧力降下が生じる要素はないので、流路抵抗の下流側の圧力Pは、試料導入部内の圧力に等しくなる。よって、制御部は、分析する際に常時、第二圧力検出部からの信号Pを取得することにより、排出弁の開度を調節することで、試料導入部内の圧力を任意の設定値P2SETに制御することができる。 Further, the downstream side of the channel resistance is directly connected to the sample introduction part. That is, since there is no element that causes a pressure drop between the flow path resistance and the sample introduction part, the pressure P 2 on the downstream side of the flow path resistance becomes equal to the pressure in the sample introduction part. Therefore, the control unit is always in analyzing, by obtaining a signal P 2 from the second pressure detecting unit, by adjusting the degree of opening of the discharge valve, the pressure in the sample inlet of any set value P 2SET can be controlled.

以上のように、本発明のガスクロマトグラフ装置によれば、高価な差圧センサを用いず、キャリアガスの流量Fを制御するとともに、試料導入部内の圧力Pを制御することができる。   As described above, according to the gas chromatograph apparatus of the present invention, the flow rate F of the carrier gas can be controlled and the pressure P in the sample introduction part can be controlled without using an expensive differential pressure sensor.

本発明に係るガスクロマトグラフ装置の一例を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows an example of the gas chromatograph apparatus which concerns on this invention. 従来のガスクロマトグラフ装置の一例を示す概略構成図。The schematic block diagram which shows an example of the conventional gas chromatograph apparatus.

以下、本発明の実施形態について図面を用いて説明する。なお、本発明は、以下に説明するような実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の態様が含まれることはいうまでもない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the present invention is not limited to the embodiments described below, and it goes without saying that various aspects are included without departing from the spirit of the present invention.

図1は、本発明に係るガスクロマトグラフ装置の一例を示す概略構成図である。なお、上述した従来のガスクロマトグラフ装置101と同様のものについては、同じ符号を付している。
ガスクロマトグラフ装置1は、試料が注入され試料を気化する試料導入室20と、キャリアガス供給流路10と、カラム3と、検出器4と、スプリット流路40と、パージ流路30と、制御部50とを備える。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of a gas chromatograph apparatus according to the present invention. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about the thing similar to the conventional gas chromatograph apparatus 101 mentioned above.
The gas chromatograph apparatus 1 includes a sample introduction chamber 20 for injecting a sample and vaporizing the sample, a carrier gas supply channel 10, a column 3, a detector 4, a split channel 40, a purge channel 30, and a control. Part 50.

キャリアガス供給流路10には、上流側から順に、キャリアガスが封入されたボンベ2と、キャリアガスの流量を調節するための開度調節可能な制御プロポーショナルバルブ(制御弁)14と、キャリアガスに適度な圧力降下を生ぜしめる層流管(流路抵抗)11とが配置されている。そして、層流管(流路抵抗)11の上流側の圧力Pを検出する第一圧力センサ12と、層流管(流路抵抗)11の下流側の圧力Pを検出する第二圧力センサ13とが設けられている。 The carrier gas supply flow path 10 includes, in order from the upstream side, a cylinder 2 filled with a carrier gas, a control proportional valve (control valve) 14 with an adjustable opening for adjusting the flow rate of the carrier gas, and a carrier gas. And a laminar flow tube (flow path resistance) 11 that generates an appropriate pressure drop. The first pressure sensor 12 detects the pressure P 1 upstream of the laminar flow tube (channel resistance) 11 and the second pressure detects the pressure P 2 downstream of the laminar flow tube (channel resistance) 11. A sensor 13 is provided.

スプリット流路40には、開度調節可能な排出プロポーショナルバルブ(排出弁)41が配置されている。これにより、試料気化室20内の圧力Pが急激に上昇したときには、排出プロポーショナルバルブ41の開度を調整することで、試料気化室20内の一定割合のキャリアガスや試料をスプリット流路40を介して外部へ逃がすことができるようになっている。
なお、ガスクロマトグラフ装置1のパージ流路30には、パージ流路30の圧力Pを検出する圧力センサが設けられていない。
The split flow path 40 is provided with a discharge proportional valve (discharge valve) 41 whose opening degree can be adjusted. Thus, when the pressure P 2 in the sample vaporization chamber 20 is rapidly increased, by adjusting the degree of opening of the exhaust proportional valve 41, a split flow channel 40 a percentage carrier gas and the sample of the sample vaporizing chamber 20 It is possible to escape to the outside through.
Incidentally, the purge flow path 30 of the gas chromatograph apparatus 1 is not provided with a pressure sensor for detecting the pressure P 3 of the purge flow path 30.

制御部50は、パーソナルコンピュータにより具現化され、CPU51とメモリ54とを備え、さらにキーボードやマウス等を有する入力装置52と、設定内容(所望する流量FSETや所望するカラム線速度や所望する試料気化室圧力P2SET等)の表示や分析結果の表示等を行う表示装置53とが連結されている。CPU51によって、入力装置52で入力された設定内容と第一圧力センサ12からの信号Pと第二圧力センサ13からの信号Pとに基づいて、制御プロポーショナルバルブ14の動作と排出プロポーショナルバルブ41の動作とが統括的に制御されるようになっている。なお、メモリ54には、式(1)が記憶されている。 The control unit 50 is embodied by a personal computer, includes a CPU 51 and a memory 54, and further includes an input device 52 having a keyboard, a mouse, and the like, and setting contents (desired flow rate F SET , desired column linear velocity, desired sample, etc. A display device 53 for displaying the vaporization chamber pressure P2SET and the like and displaying the analysis result is connected. The CPU 51, based on the signal P 1 from setting a first pressure sensor 12 that is input by the input device 52 and the signal P 2 from the second pressure sensor 13, the operation and the discharge proportional valve 41 control the proportional valve 14 Are controlled in an integrated manner. The memory 54 stores the formula (1).

このようなガスクロマトグラフ装置1によれば、分析者は、分析する前に入力装置52を用いて所望する流量FSET等をCPU51に入力する。CPU51は、分析する際に常時、第二圧力センサ13からの信号Pを式(1)に代入することより、所望する流量FSETに対応する圧力P1SETを求め、第一圧力センサ12からの信号Pが圧力P1SETとなるように、制御プロポーショナルバルブ14の開度を調節する制御信号を制御プロポーショナルバルブ14に送る。これにより、CPU51によって流量Fが調整されたキャリアガスが、カラム3に導入され、その後検出器4に到達する。このとき、液体試料が試料気化室20内に注入されれば、気化した試料がキャリアガスに乗せられてカラム3に導入される。 According to such a gas chromatograph apparatus 1, the analyst inputs a desired flow rate F SET or the like to the CPU 51 using the input device 52 before analysis. The CPU 51 always obtains the pressure P 1SET corresponding to the desired flow rate F SET by substituting the signal P 2 from the second pressure sensor 13 into the equation (1) when analyzing, and from the first pressure sensor 12. The control signal for adjusting the opening degree of the control proportional valve 14 is sent to the control proportional valve 14 so that the signal P 1 becomes the pressure P 1SET . As a result, the carrier gas whose flow rate F is adjusted by the CPU 51 is introduced into the column 3 and then reaches the detector 4. At this time, if a liquid sample is injected into the sample vaporization chamber 20, the vaporized sample is placed on the carrier gas and introduced into the column 3.

また、CPU51は、分析する際に常時、第二圧力センサ13からの信号Pを取得することにより、第二圧力センサ13からの信号Pが圧力P2SETとなるように、排出プロポーショナルバルブ41の開度を調節する制御信号を排出プロポーショナルバルブ41に送る。これにより、試料気化室20内の圧力Pが急激に上昇したときには、試料気化室20内の一定割合のキャリアガスや試料をスプリット流路40を介して外部へ逃がすことができたり、試料気化室20内の圧力Pが低いときには、試料気化室20内のキャリアガスや試料をスプリット流路40を介して外部へ逃がす量を少なくしたりすることができる。 Further, CPU 51 is always in analyzing, by obtaining a signal P 2 from the second pressure sensor 13, so that the signal P 2 from the second pressure sensor 13 is a pressure P 2SET, exhaust proportional valve 41 A control signal for adjusting the degree of opening is sent to the discharge proportional valve 41. Thus, when the pressure P 2 in the sample vaporization chamber 20 abruptly increases, or can be released to the outside through the split flow channel 40 a carrier gas and sample a percentage of the sample vaporizing chamber 20, a sample vaporizing when the pressure P 2 in the chamber 20 is low, the carrier gas and sample in the sample vaporizing chamber 20 or can reduce the amount released to the outside through the split flow channel 40.

以上のように、本発明のガスクロマトグラフ装置1によれば、高価な差圧センサを用いず、キャリアガスの流量Fを制御するとともに、試料導入室20内の圧力Pを制御することができる。   As described above, according to the gas chromatograph apparatus 1 of the present invention, the flow rate F of the carrier gas can be controlled and the pressure P in the sample introduction chamber 20 can be controlled without using an expensive differential pressure sensor.

本発明は、ガスクロマトグラフ装置に利用することができる。   The present invention can be used for a gas chromatograph apparatus.

1: ガスクロマトグラフ装置
3: カラム
10: キャリアガス供給流路
11: 層流管(流路抵抗)
12: 第一圧力センサ(第一圧力検出部)
13: 第二圧力センサ(第二圧力検出部)
14: 制御プロポーショナルバルブ(制御弁)
20: 試料導入室
40: スプリット流路
41: 排出プロポーショナルバルブ(排出弁)
50: 制御部
1: Gas chromatograph device 3: Column 10: Carrier gas supply channel 11: Laminar flow tube (channel resistance)
12: First pressure sensor (first pressure detector)
13: Second pressure sensor (second pressure detector)
14: Control proportional valve (control valve)
20: Sample introduction chamber 40: Split flow path 41: Discharge proportional valve (discharge valve)
50: Control unit

Claims (1)

試料が注入され当該試料を気化する試料導入部と、
前記試料導入部に接続されたキャリアガス供給流路と、
前記試料導入部に接続されたカラムと、
前記試料導入部に接続されたスプリット流路と、
前記キャリアガス供給流路から試料導入部を経てカラムを流通するキャリアガスの流量を制御するとともに、前記試料導入部内の圧力を制御する制御部とを備えるガスクロマトグラフ装置であって、
前記キャリアガス供給流路中に配置された流路抵抗と、
前記流路抵抗の上流側に設けられた開度調節可能な制御弁と、
前記流路抵抗の上流側の圧力を検出する第一圧力検出部と、
前記流路抵抗の下流側の圧力を検出する第二圧力検出部と、
前記スプリット流路中に設けられた開度調節可能な排出弁とを備え、
前記制御部は、前記第一圧力検出部及び前記第二圧力検出部からの信号に基づいて演算を行い、演算結果により前記制御弁の開度及び前記排出弁の開度を制御することを特徴とするガスクロマトグラフ装置。
A sample introduction part for injecting a sample and vaporizing the sample;
A carrier gas supply channel connected to the sample introduction unit;
A column connected to the sample introduction part;
A split channel connected to the sample introduction part;
A gas chromatograph apparatus comprising a control unit for controlling the flow rate of the carrier gas flowing through the column from the carrier gas supply channel through the sample introduction unit, and for controlling the pressure in the sample introduction unit,
A channel resistance disposed in the carrier gas supply channel;
A control valve having an adjustable opening provided on the upstream side of the flow path resistance;
A first pressure detector that detects a pressure upstream of the flow path resistance;
A second pressure detector for detecting the pressure downstream of the flow path resistance;
A discharge valve with adjustable opening, provided in the split flow path,
The control unit performs a calculation based on signals from the first pressure detection unit and the second pressure detection unit, and controls the opening of the control valve and the opening of the discharge valve according to a calculation result. Gas chromatograph device.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016057148A (en) * 2014-09-09 2016-04-21 株式会社島津製作所 Gas chromatograph and flow controller used for the same

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5975117B2 (en) * 2013-01-28 2016-08-23 株式会社島津製作所 Gas pressure controller
US20140230910A1 (en) * 2013-02-20 2014-08-21 Agilent Technologies, Inc. Split-channel gas flow control
JP2015206774A (en) * 2014-04-23 2015-11-19 株式会社島津製作所 Flow rate adjustment device and gas chromatograph equipped therewith
WO2018003046A1 (en) * 2016-06-30 2018-01-04 株式会社島津製作所 Flow controller

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1137983A (en) * 1997-07-17 1999-02-12 Shimadzu Corp Gas chromatograph analyzer
JP2000019165A (en) * 1998-06-30 2000-01-21 Shimadzu Corp Gas chromatograph
JP2001208737A (en) * 2000-01-28 2001-08-03 Shimadzu Corp Gas chromatograph
JP2004354126A (en) * 2003-05-28 2004-12-16 Shimadzu Corp Gas chromatograph

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3371628B2 (en) * 1995-06-28 2003-01-27 株式会社島津製作所 Gas chromatograph

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1137983A (en) * 1997-07-17 1999-02-12 Shimadzu Corp Gas chromatograph analyzer
JP2000019165A (en) * 1998-06-30 2000-01-21 Shimadzu Corp Gas chromatograph
JP2001208737A (en) * 2000-01-28 2001-08-03 Shimadzu Corp Gas chromatograph
JP2004354126A (en) * 2003-05-28 2004-12-16 Shimadzu Corp Gas chromatograph

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016057148A (en) * 2014-09-09 2016-04-21 株式会社島津製作所 Gas chromatograph and flow controller used for the same

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