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JP2012186279A - Laminated print circuit board incorporating electronic component and manufacturing method of the same - Google Patents

Laminated print circuit board incorporating electronic component and manufacturing method of the same Download PDF

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JP2012186279A
JP2012186279A JP2011047722A JP2011047722A JP2012186279A JP 2012186279 A JP2012186279 A JP 2012186279A JP 2011047722 A JP2011047722 A JP 2011047722A JP 2011047722 A JP2011047722 A JP 2011047722A JP 2012186279 A JP2012186279 A JP 2012186279A
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Japan
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wiring board
insulating layer
electronic component
conductive portion
interlayer conductive
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JP2011047722A
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Japanese (ja)
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Takeshi Ishizuka
健 石塚
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Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable an electronic component 12a to be mounted in multiple layers.SOLUTION: A laminated print circuit board 3a includes: a first wiring board 11a; a second wiring board 11c laminated on the first wiring board 11a; an electronic component 12a placed between the first wiring board 11a and the second wiring board 11c; and a spacer 11b disposed around the electronic component 12a. A single-sided board which is the type similar to the first wiring board 11a and the second wiring board 11c and has a wiring circuit 23b formed only on its one surface, is used as the spacer 11b.

Description

本発明は、電子部品を内蔵した積層プリント配線板及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a laminated printed wiring board incorporating electronic components and a method for manufacturing the same.

電子機器の小型化、高機能化に伴って、機器に組み込まれる電子部品も小型化が進み、電子部品を実装するプリント配線板においても、高密度化、多層化が必要不可欠なものとなってきている。また、電子機器が扱う信号の周波数が高くなり、高密度化に加えて、高速伝送特性の向上が求められている。   As electronic devices become smaller and more functional, electronic components built into the devices are also becoming smaller, and printed circuit boards on which electronic components are mounted are becoming increasingly indispensable and multi-layered. ing. In addition, the frequency of signals handled by electronic devices is increased, and in addition to higher density, improvement in high-speed transmission characteristics is required.

これらの要求に応えるための技術として、EWLP(Embedded Wafer Level Package)というパッケージング技術がある(例えば、特許文献1参照)。EWLPとは、WLCSP(Wafer Level Chip Size Package)などの半導体構成体をプリント配線板に内蔵する技術である。EWLPによれば、半導体素子の実装密度を大幅に向上させることができ、半導体素子間の配線長が短縮され、高速伝送特性を向上させることができる。しかし、EWLPは、レジストマスクの作製及びめっき処理などの繰り返しによるビルドアップ工法を用いているため、製造工程の数が多く、製造時間が長くなり、製造コストが高くなる。更に、多層化の際に加熱プレス処理を要するために一部の絶縁樹脂層に複数回の熱履歴が加わり、樹脂が劣化しやすいという問題があった。   As a technique for meeting these requirements, there is a packaging technique called EWLP (Embedded Wafer Level Package) (see, for example, Patent Document 1). EWLP is a technique for incorporating a semiconductor structure such as a WLCSP (Wafer Level Chip Size Package) in a printed wiring board. According to EWLP, the mounting density of the semiconductor elements can be greatly improved, the wiring length between the semiconductor elements can be shortened, and the high-speed transmission characteristics can be improved. However, since EWLP uses a build-up method by repetitive processes such as resist mask fabrication and plating, the number of manufacturing steps is large, manufacturing time is long, and manufacturing cost is high. Furthermore, since a heat press process is required for multilayering, there is a problem that a plurality of thermal histories are applied to some insulating resin layers, and the resin is likely to deteriorate.

一方、WLCSPを複数のプリント配線板の層間に埋め込み、一括して加熱圧着処理を施すことにより半導体素子を内蔵した積層配線板を製造する技術が知られている(例えば、特許文献2参照)。特許文献2の一括積層工法を採用することにより、EWLPに比べて製造工程の数を削減することが可能であり、絶縁樹脂層に対して加熱プレス処理を1回だけしか加えないので、樹脂の劣化を抑制することができる。   On the other hand, a technique for manufacturing a laminated wiring board with a built-in semiconductor element by embedding WLCSP between layers of a plurality of printed wiring boards and collectively performing a thermocompression treatment (see, for example, Patent Document 2). By adopting the batch lamination method of Patent Document 2, it is possible to reduce the number of manufacturing steps as compared with EWLP, and the heat press treatment is applied only once to the insulating resin layer. Deterioration can be suppressed.

特開2004−95836号公報JP 2004-95836 A 特開2009−146940号公報JP 2009-146940 A

しかし、特許文献2に開示された積層配線板は、導体回路が外側に露出するように対向して配置された2つの片面の配線板と、この2つの配線板間に配された半導体素子と、この半導体素子の周囲に配されたスペーサとを有する。スペーサの両面には、配線回路が形成され、配線回路は貫通配線により導通されている。   However, the multilayer wiring board disclosed in Patent Document 2 includes two single-sided wiring boards that are arranged to face each other so that the conductor circuit is exposed to the outside, and a semiconductor element disposed between the two wiring boards. And a spacer disposed around the semiconductor element. A wiring circuit is formed on both surfaces of the spacer, and the wiring circuit is electrically connected by a through wiring.

このため、特許文献2に開示された複数の積層配線板を更に積層して、複数の半導体素子を複数の配線層に内蔵させることができない。なぜなら、複数の積層配線板を更に積層するには、積層配線板の露出した一方の導体回路と、異なる積層配線板の導体回路とを接合して積層することになるが、導体回路どうしを接合することができないからである。このように、複数の層に半導体素子を内蔵させることが困難であるという課題があった。   For this reason, it is impossible to further stack a plurality of laminated wiring boards disclosed in Patent Document 2 and incorporate a plurality of semiconductor elements in a plurality of wiring layers. This is because, in order to further stack a plurality of multilayer wiring boards, one conductor circuit exposed on the multilayer wiring board and a conductor circuit on a different multilayer wiring board are joined and laminated, but the conductor circuits are joined together. Because you can't. As described above, there is a problem that it is difficult to incorporate semiconductor elements in a plurality of layers.

本発明は上記課題に鑑み、複数の層に電子部品を内蔵させることを可能とした積層プリント配線板及びその製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a laminated printed wiring board capable of incorporating electronic components in a plurality of layers and a method for manufacturing the same.

上記目的を達成するため、本発明の第1の態様は、電子部品を内蔵した積層プリント配線板であって、第1絶縁層と、第1絶縁層の一面に形成された第1導体回路と、第1絶縁層を貫通して形成され、その一端が第1導体回路に接触し、その他端が第1絶縁層の一面に対向する他面から露出する第1層間導通部とを有する第1配線板と、第2絶縁層と、第2絶縁層の一面に形成された第2導体回路と、第2絶縁層を貫通して形成され、その一端が第2導体回路に接触し、その他端が第2絶縁層の一面に対向する他面から露出する第2層間導通部とを有する第2配線板と、第1配線板と第2配線板の間に配置され、且つ第1層間導通部の他端に接続された電極を有する電子部品と、電子部品の周囲に配置された第3絶縁層と、第3絶縁層の一面に形成され、第1層間導通部に接触する配線回路と、第3絶縁層を貫通して形成され、その一端が配線回路に接触し、その他端が第2導体回路に接触する第3層間導通部とを有するスペーサとを備えることを要旨とする。   To achieve the above object, according to a first aspect of the present invention, there is provided a laminated printed wiring board incorporating electronic components, the first insulating layer, and a first conductor circuit formed on one surface of the first insulating layer. The first insulating layer is formed through the first insulating layer, one end of which contacts the first conductor circuit, and the other end of the first insulating layer is exposed from the other surface facing the first insulating layer. A wiring board, a second insulating layer, a second conductor circuit formed on one surface of the second insulating layer, and formed through the second insulating layer, one end of which contacts the second conductor circuit, and the other end Is disposed between the first wiring board and the second wiring board, the second wiring board having a second interlayer conductive portion exposed from the other surface facing the one surface of the second insulating layer, and the other of the first interlayer conductive portion An electronic component having an electrode connected to the end; a third insulating layer disposed around the electronic component; and one surface of the third insulating layer A wiring circuit formed and in contact with the first interlayer conductive portion; and a third interlayer conductive portion formed through the third insulating layer and having one end in contact with the wiring circuit and the other end in contact with the second conductor circuit. It is a summary to provide the spacer which has.

本発明の第1の態様において、第2配線板は、第2絶縁層の他面に形成され、第2層間導通部の他端に接触する第3導体回路を更に備えていてもよい。第3導体回路をバンプなどの突起電極を接触させることにより、電子部品を内蔵した積層プリント配線板を、更に大きな配線基板の上に実装することができる。   In the first aspect of the present invention, the second wiring board may further include a third conductor circuit formed on the other surface of the second insulating layer and in contact with the other end of the second interlayer conductive portion. By bringing the third conductor circuit into contact with bumps or other protruding electrodes, the laminated printed wiring board with the built-in electronic components can be mounted on a larger wiring board.

本発明の第1の態様において、第1配線板と第2配線板の間には、電子部品及びスペーサの組み合わせが、異なる層において複数配置されていてもよい。片方の面のみに配線回路が形成されたスペーサを用いることにより、複数の電子部品を高密度に内蔵することができる。   In the first aspect of the present invention, a plurality of combinations of electronic components and spacers may be arranged in different layers between the first wiring board and the second wiring board. By using a spacer in which a wiring circuit is formed only on one surface, a plurality of electronic components can be embedded at high density.

本発明の第1の態様に係わる複数の積層プリント配線板を積層した積層プリント配線板であって、一方の積層プリント配線板が有する第2層間導通部の他端が、他方の積層プリント配線板が有する第1導体回路に接触するように、複数の積層プリント配線板を積層してもよい。   A laminated printed wiring board obtained by laminating a plurality of laminated printed wiring boards according to the first aspect of the present invention, wherein the other laminated printed wiring board has the other end of the second interlayer conductive portion of one laminated printed wiring board. A plurality of laminated printed wiring boards may be laminated so as to be in contact with the first conductor circuit of the.

本発明の第2の態様は、第1の態様に係わる電子部品を内蔵した積層プリント配線板の製造方法であって、第1層間導通部に電子部品が有する電極が接触するように、第1配線板に電子部品を接続する第1の工程と、第1層間導通部に配線回路が接触し、第3層間導通部に第2導体回路が接触するように、第1配線板、スペーサ及び第2配線板の位置を合わせて接合する第2の工程とを備えることを要旨とする。   According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a laminated printed wiring board including the electronic component according to the first aspect, wherein the first interlayer conductive portion is in contact with an electrode of the electronic component. A first step of connecting an electronic component to the wiring board; and a first wiring board, a spacer, and a first wiring board so that the wiring circuit is in contact with the first interlayer conduction portion and the second conductor circuit is in contact with the third interlayer conduction portion. And a second step of joining the two wiring boards in alignment with each other.

本発明の第3の態様は、第1の態様に係わる電子部品を内蔵した積層プリント配線板の製造方法であって、第2配線板に電子部品の電極が形成された一面に対向する他面を接続する第1の工程と、第1層間導通部に電極及び前記配線回路が接触し、第3層間導通部に第2導体回路が接触するように、第1配線板、スペーサ及び第2配線板の位置を合わせて接合する第2の工程とを備えることを要旨とする。   According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for manufacturing a laminated printed wiring board incorporating the electronic component according to the first aspect, wherein the second surface is opposite to the one surface on which the electrodes of the electronic component are formed. A first wiring board, a spacer, and a second wiring so that the electrode and the wiring circuit are in contact with the first interlayer conductive portion, and the second conductor circuit is in contact with the third interlayer conductive portion. And a second step of joining together by aligning the positions of the plates.

以上説明したように、本発明の電子部品を内蔵した積層プリント配線板及びその製造方法によれば、積層プリント配線板のいずれか一方の面に第2層間導通部が露出するので、導体回路どうしを接合すること無く、複数の積層プリント配線板を更に積層することができる。したがって、複数の層に電子部品を内蔵させることが可能となる。   As described above, according to the multilayer printed wiring board incorporating the electronic component of the present invention and the method for manufacturing the same, the second interlayer conductive portion is exposed on either surface of the multilayer printed wiring board. A plurality of laminated printed wiring boards can be further laminated without bonding. Therefore, it is possible to incorporate electronic components in a plurality of layers.

本発明の第1の実施の形態に関わる電子部品12aを内蔵した積層プリント配線板3aの全体構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the whole structure of the multilayer printed wiring board 3a incorporating the electronic component 12a in connection with the 1st Embodiment of this invention. 第1の実施の形態に関わる積層プリント配線板3aによる効果を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the effect by the laminated printed wiring board 3a in connection with 1st Embodiment. 図3(a)は、電子部品12aがフリップチップボンディングされた状態の第1配線板を示す断面図であり、図3(b)は、スペーサを示す断面図であり、図3(c)は、第2配線板を示す断面図である。3A is a cross-sectional view showing the first wiring board in a state where the electronic component 12a is flip-chip bonded, FIG. 3B is a cross-sectional view showing the spacer, and FIG. FIG. 3 is a cross-sectional view showing a second wiring board. 図4(a)は、第1配線板を示す断面図であり、図4(b)は、スペーサを示す断面図であり、図4(c)は、電子部品がフェースアップボンディングされた状態の第2配線板を示す断面図である。4A is a cross-sectional view showing the first wiring board, FIG. 4B is a cross-sectional view showing the spacer, and FIG. 4C is a state in which the electronic component is face-up bonded. It is sectional drawing which shows a 2nd wiring board. 第2の実施の形態に関わる電子部品を内蔵した積層プリント配線板の全体構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the whole structure of the laminated printed wiring board which incorporated the electronic component concerning 2nd Embodiment. 比較例に係わる電子部品を内蔵した積層プリント配線板の全体構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the whole structure of the lamination printed wiring board which incorporated the electronic component concerning a comparative example. 図6の積層プリント配線板における問題点を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the problem in the laminated printed wiring board of FIG.

以下図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。図面の記載において同一部分には同一符号を付している。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same parts are denoted by the same reference numerals.

(第1の実施の形態)
先ず、図1を参照して、本発明の第1の実施の形態に関わる積層プリント配線板3aの全体構成を説明する。
(First embodiment)
First, the overall configuration of the laminated printed wiring board 3a according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

本発明の第1の実施の形態に関わる積層プリント配線板3aは、第1配線板11aと、第1配線板11aに積層された第2配線板11cと、第1配線板11aと第2配線板11cの間に配置された電子部品12aと、電子部品12aの周囲に配置されたスペーサ11bとを備える。   The laminated printed wiring board 3a according to the first embodiment of the present invention includes a first wiring board 11a, a second wiring board 11c laminated on the first wiring board 11a, a first wiring board 11a, and a second wiring. The electronic component 12a arrange | positioned between the board | substrates 11c, and the spacer 11b arrange | positioned around the electronic component 12a are provided.

第1配線板11aは、第1絶縁層21aと、第1絶縁層21aの一面に形成された第1導体回路23aと、第1絶縁層21aの一面に対応する他面に形成された接着層22aと、第1絶縁層21a及び接着層22aを貫通して形成された第1層間導通部24aとを有する。第1層間導通部24aの一端は第1導体回路23aに接触している。   The first wiring board 11a includes a first insulating layer 21a, a first conductor circuit 23a formed on one surface of the first insulating layer 21a, and an adhesive layer formed on the other surface corresponding to one surface of the first insulating layer 21a. 22a and a first interlayer conductive portion 24a formed through the first insulating layer 21a and the adhesive layer 22a. One end of the first interlayer conductive portion 24a is in contact with the first conductor circuit 23a.

第2配線板11cは、第2絶縁層21cと、第2絶縁層21cの一面に形成された第2導体回路23cと、第2絶縁層21cの一面に対向する他面に形成された第3導体回路23cと、第2絶縁層21cを貫通して形成された第2層間導通部24cとを有する。第2層間導通部24cの一端は第2導体回路23cに接触し、第2層間導通部24cの他端は第3導体回路23cに接触している。 The second wiring board 11c includes a second insulating layer 21c, a second conductor circuits 23c 1 formed on one surface of the second insulating layer 21c, a formed on the other surface facing the one surface of the second insulating layer 21c a third conductor circuit 23c 2, and a second interlayer conductive portion 24c which is formed through the second insulating layer 21c. One end of the second interlayer conductive portion 24c is in contact with the second conductor circuits 23c 1, the other end of the second interlayer conductive portion 24c is in contact with the third conductive circuit 23c 2.

電子部品12aは、第1配線板11aと第2配線板11cの間に配置されている。電子部品12aは、第1層間導通部24aの他端に接続された電極26を有する。ここで、「電子部品」12aとは、抵抗やコンデンサ等の受動部品、及びICやダイオード或いはトランジスタ等の能動部品の両方を含む概念である。例えば、電子部品12aとして、半導体素子が形成された半導体(ベア)チップ、或いは半導体チップと同様な大きさでパッケージが施されたWLCSPなどを用いることができる。さらに、電子部品12aとして、KGD(Known Good Die)が可能なWLCSPを用いることが品質向上の観点から望ましい。   The electronic component 12a is disposed between the first wiring board 11a and the second wiring board 11c. The electronic component 12a has an electrode 26 connected to the other end of the first interlayer conductive portion 24a. Here, the “electronic component” 12a is a concept including both passive components such as resistors and capacitors, and active components such as ICs, diodes, and transistors. For example, as the electronic component 12a, a semiconductor (bare) chip on which a semiconductor element is formed, or a WLCSP packaged in the same size as the semiconductor chip can be used. Furthermore, it is desirable from the viewpoint of quality improvement to use WLCSP capable of KGD (Known Good Die) as the electronic component 12a.

スペーサ11bは、電子部品12aの周囲に配置された第3絶縁層21bと、第3絶縁層21bの一面に形成された配線回路23bと、第3絶縁層21bの一面に対応する他面に形成された接着層22bと、第3絶縁層21b及び接着層22bを貫通して形成された第3層間導通部24bとを有する。配線回路23bは、第1層間導通部24aの他端に接触している。第3層間導通部24bの一端は配線回路23bに接触し、第3層間導通部24bの他端は第2導体回路23cに接触している。 The spacer 11b is formed on the other surface corresponding to one surface of the third insulating layer 21b, the third insulating layer 21b disposed around the electronic component 12a, the wiring circuit 23b formed on one surface of the third insulating layer 21b. And the third insulating layer 21b and the third interlayer conductive portion 24b formed through the adhesive layer 22b. The wiring circuit 23b is in contact with the other end of the first interlayer conductive portion 24a. One end of the third interlayer conductive portion 24b is in contact with the wiring circuit 23b, the other end of the third interlayer conductive portion 24b is in contact with the second conductor circuits 23c 1.

第1絶縁層21aは、接着層22aによって電子部品12a及び第3絶縁層21bに接着している。第2絶縁層21cは、接着層22bによって第3絶縁層21bに接着し、素子接着材25aによって電子部品12aに接着している。   The first insulating layer 21a is bonded to the electronic component 12a and the third insulating layer 21b by the adhesive layer 22a. The second insulating layer 21c is bonded to the third insulating layer 21b by the adhesive layer 22b, and is bonded to the electronic component 12a by the element adhesive 25a.

このように、第1絶縁層21aの片面にのみ第1導体回路23aが形成されている。第2絶縁層21cの両面に第2導体回路23c及び第3導体回路23cが形成されている。そして、第3絶縁層21bの片面にのみ配線回路23bが形成されている。また、第1導体回路23aが形成される第1絶縁層21aの一面の方向、第2導体回路23cが形成される第2絶縁層21cの一面の方向、及び配線回路23bが形成される第3絶縁層21bの一面の方向は、等しい。よって、導体回路23a、23cと配線回路23bとは、互いに直接に接触することなく、第1層間導通部24a、第3層間導通部24bを介して接続させることができる。 Thus, the first conductor circuit 23a is formed only on one surface of the first insulating layer 21a. The second conductor circuits 23c 1 and the third conductor circuit 23c 2 are formed on both surfaces of the second insulating layer 21c. A wiring circuit 23b is formed only on one side of the third insulating layer 21b. The first side of the direction of the first insulating layer 21a of the first conductor circuit 23a is formed, a surface direction of the second insulating layer 21c in which the second conductor circuit 23c 1 is formed, and the wiring circuit 23b is formed The direction of one surface of the three insulating layers 21b is equal. Thus, the conductor circuits 23a, is 23c 1 and the wiring circuit 23b, can be connected via the without first interlayer conductive portion 24a, the third interlayer conductive portion 24b in direct contact with each other.

第1の実施の形態では、第2配線板11cが、第2絶縁層21cの他面に形成された第3導体回路23cを備える両面基板である場合について説明する。これにより、第3導体回路23cをバンプなどの突起電極と接触させることにより、電子部品12aを内蔵した積層プリント配線板3aを、更に大きな配線基板の上に実装することができる。 In the first embodiment, the second wiring board 11c is, the case is a double-sided substrate provided with a third conductor circuit 23c 2 formed on the other surface of the second insulating layer 21c. Thus, the third conductor circuit 23c 2 by contacting the bump electrode such as bump, a laminated printed wiring board 3a with a built-in electronic component 12a, can be further mounted on the large wiring substrate.

しかし、本発明はこれに限定されず、第2配線板11cは第3導体回路23cを備えていない片面基板であってもよい。この場合、積層プリント配線板3aのいずれか一方の面に第2層間導通部24cが露出する。よって、図2に示すように、導体回路どうしを接合すること無く、複数の積層プリント配線板3a、3bを更に積層することができる。したがって、複数の層に複数の電子部品12a、12bを内蔵させることが可能となる。 However, the present invention is not limited thereto, the second wiring board 11c may be a single-sided board which is not provided with a third conductor circuit 23c 2. In this case, the second interlayer conductive portion 24c is exposed on any one surface of the multilayer printed wiring board 3a. Therefore, as shown in FIG. 2, a plurality of laminated printed wiring boards 3a and 3b can be further laminated without joining the conductor circuits. Therefore, it is possible to incorporate a plurality of electronic components 12a and 12b in a plurality of layers.

第1絶縁層21a、第2絶縁層21c、第3絶縁層21bの材料としては、プリント配線板などの製造分野において公知の各種絶縁材料の中から、製造する積層プリント配線板3aの目的や用途に応じて適宜選択して使用することができる。例えば、フレキシブル積層プリント配線板を製造する場合には、薄いポリイミドシートなどの可撓性樹脂シートに銅箔を貼り合わせた構造を有する片面銅張積層板(片面CCL)などを用いることができる。   As the materials of the first insulating layer 21a, the second insulating layer 21c, and the third insulating layer 21b, the purpose and use of the laminated printed wiring board 3a to be manufactured from various insulating materials known in the manufacturing field of printed wiring boards and the like. It can be appropriately selected and used depending on the situation. For example, when manufacturing a flexible laminated printed wiring board, a single-sided copper-clad laminate (single-sided CCL) having a structure in which a copper foil is bonded to a flexible resin sheet such as a thin polyimide sheet can be used.

接着層22a、22bの材料としては、プリント配線板の製造分野において公知の各種接着剤を用いることができる。例えば、ポリイミド系接着剤、エポキシ系接着剤などが挙げられる。また、素子接着材25aとしては、DAF(Die Attached Film)のノリの部分を使用することができる。DAFが裏面に貼り付けられたウェハを個片化して、個片化された電子部品12aをDAFから剥がし取る際に、電子部品12aの裏面にDAFのノリの部分が付着する。このノリの部分が図1の素子接着材25aに相当する。   As a material for the adhesive layers 22a and 22b, various kinds of adhesives known in the field of manufacturing printed wiring boards can be used. For example, a polyimide-type adhesive, an epoxy-type adhesive, etc. are mentioned. Further, as the element adhesive 25a, a groove portion of DAF (Die Attached Film) can be used. When the wafer on which the DAF is attached to the back surface is separated into pieces and the separated electronic component 12a is peeled off from the DAF, a groove portion of the DAF adheres to the back surface of the electronic component 12a. This groove corresponds to the element adhesive 25a shown in FIG.

第1層間導通部24a、第3層間導通部24b、第2層間導通部24cは、ニッケル、銀、銅から選択される少なくとも1種類の低電気抵抗の金属粒子と、錫、ビスマス、インジウム、鉛から選択される少なくとも1種類の低融点金属粒子を含む導電性ペーストを加熱して硬化させたものである。   The first interlayer conductive portion 24a, the third interlayer conductive portion 24b, and the second interlayer conductive portion 24c are at least one kind of low electrical resistance metal particles selected from nickel, silver, and copper, and tin, bismuth, indium, lead The conductive paste containing at least one kind of low melting point metal particles selected from is heated and cured.

第1導体回路23a、第2導体回路23c、第3導体回路23c及び配線回路23bは、同じ金属成分を含有する。また、第1導体回路23a、第2導体回路23c、第3導体回路23c及び配線回路23bに含有される金属成分は、銅、金、銀、錫から選択される少なくとも1種類の低電気抵抗金属である。第1導体回路23aと第1層間導通部24aの界面、第1層間導通部24aと配線回路23bの界面、配線回路23bと第3層間導通部24bの界面、第3層間導通部24bと第2導体回路23cの界面、第2導体回路23cと第2層間導通部24cの界面、第2層間導通部24cと第3導体回路23cの界面には、それぞれ、導体回路23a、23c、23c、配線回路23b中の低電気抵抗金属と導電性ペースト中の低融点金属との合金からなる合金層(図示せず)が形成されていてもよい。第1導体回路23a、第2導体回路23c、第3導体回路23c及び配線回路23bは、異なる金属成分を含有していてもよい。 The first conductor circuit 23a, the second conductor circuit 23c 1 , the third conductor circuit 23c 2 and the wiring circuit 23b contain the same metal component. The metal component contained in the first conductor circuit 23a, the second conductor circuit 23c 1 , the third conductor circuit 23c 2 and the wiring circuit 23b is at least one kind of low electricity selected from copper, gold, silver and tin. It is a resistance metal. The interface between the first conductor circuit 23a and the first interlayer conductive portion 24a, the interface between the first interlayer conductive portion 24a and the wiring circuit 23b, the interface between the wiring circuit 23b and the third interlayer conductive portion 24b, the third interlayer conductive portion 24b and the second interface of the conductor circuit 23c 1, the interface of the second conductor circuit 23c 1 and the second interlayer conductive portion 24c, a second interlayer conductive portion 24c on the surface of the third conductive circuit 23c 2, respectively, the conductor circuits 23a, 23c 1, 23c 2 , an alloy layer (not shown) made of an alloy of the low electrical resistance metal in the wiring circuit 23b and the low melting point metal in the conductive paste may be formed. The first conductor circuit 23a, the second conductor circuit 23c 1 , the third conductor circuit 23c 2 and the wiring circuit 23b may contain different metal components.

第1導体回路23aと第1絶縁層21aの間、第2導体回路23cと第2絶縁層21cの間、第3導体回路23cと第2絶縁層21cの間、及び配線回路23bと第3絶縁層21bの間に、それぞれ、シード層が配置されていてもよい。ここで、シード層の材料には、ニッケル、クロム、チタン、タングステン、チタンとタングステンの合金から選択される少なくとも1種類の金属が含まれる。シード層は、第1絶縁層21a、第2絶縁層21c、及び第3絶縁層21bの一面及びその他面の表面粗さを吸収する。これにより、第1導体回路23a、第2導体回路23c、第3導体回路23c及び配線回路23bの平坦性が向上し、電気的特性が良くなる。また、複数の配線板11a〜11cを積層した際、更には複数の積層プリント配線板3aを積層した際の平坦性も向上する。また、第1導体回路23aと第1絶縁層21aの間、第2導体回路23cと第2絶縁層21cの間、第3導体回路23cと第2絶縁層21cの間、及び配線回路23bと第3絶縁層21bの間の密着強度を高めることができる。 During the first conductor circuit 23a and the first insulating layer 21a, between the second conductor circuits 23c 1 and the second insulating layer 21c, and the third conductive circuit 23c 2 between the second insulating layer 21c, and a wiring circuit 23b first A seed layer may be disposed between each of the three insulating layers 21b. Here, the material of the seed layer includes at least one metal selected from nickel, chromium, titanium, tungsten, and an alloy of titanium and tungsten. The seed layer absorbs the surface roughness of one surface and the other surface of the first insulating layer 21a, the second insulating layer 21c, and the third insulating layer 21b. Thus, the first conductor circuit 23a, a second conductor circuit 23c 1, flatness is improved in the third conductor circuit 23c 2 and the wiring circuit 23b, the electrical characteristics are improved. Further, when the plurality of wiring boards 11a to 11c are laminated, the flatness when the plurality of laminated printed wiring boards 3a are laminated is also improved. Further, between the first conductor circuit 23a and the first insulating layer 21a, between the second conductor circuits 23c 1 and the second insulating layer 21c, between the third conductor circuit 23c 2 and the second insulating layer 21c, and the wiring circuit 23b And the third insulating layer 21b can be increased in adhesion strength.

図1及び図2には図示しないが、第1導体回路23aと第1層間導通部24aの界面、配線回路23bと第3層間導通部24bの界面、第2導体回路23cと第2層間導通部24cの界面、及び第2層間導通部24cと第3導体回路23cの界面は、それぞれ凹凸形状を有していてもよい。具体的には、第1層間導通部24a、第3層間導通部24b及び第2層間導通部24cをビアホールに埋め込む前にビアホールの底面に表出した第1導体回路23a、配線回路23b及び第2導体回路23cに対して、レーザなどを照射してダメージを加える、等の粗化処理により形成される微細な凹凸形状である。例えば、ビアホールの底面の算術平均粗さRaを0.1〜0.8μm、好ましくは0.1〜0.5μmとすればよい。 Although not shown in FIGS. 1 and 2, the interface of the first conductor circuit 23a and the first interlayer conductive portion 24a, the interface of the printed circuit 23b and the third interlayer conductive portion 24b, second conductive circuits 23c 1 and the second interlayer conductive interface parts 24c, and a second interlayer conductive portion 24c interface of the third conductor circuit 23c 2 may each have an irregular shape. Specifically, the first conductor circuit 23a, the wiring circuit 23b, and the second conductor exposed on the bottom surface of the via hole before the first interlayer conductive portion 24a, the third interlayer conductive portion 24b, and the second interlayer conductive portion 24c are embedded in the via hole. The conductor circuit 23c 1 has a fine uneven shape formed by a roughening process such as irradiating a laser or the like to damage the conductor circuit 23c1. For example, the arithmetic average roughness Ra of the bottom surface of the via hole may be 0.1 to 0.8 μm, preferably 0.1 to 0.5 μm.

図1に示す積層プリント配線板3aは、第1導体回路23a、配線回路23b、第2導体回路23c及び第3導体回路23cの形状を任意に設定したり、層間導通部24a、24b、24cを任意の位置に配置したりすることができる。よって、図1に示す積層プリント配線板3aの構成は一例であって、第1導体回路23a、配線回路23b、第2導体回路23c及び第3導体回路23cの形状や位置、及び層間導通部24a、24b、24cの位置を変更することができる。 Laminated printed wiring board 3a shown in Figure 1, the first conductor circuit 23a, the wiring circuit 23b, or the second conductor circuits 23c 1 and the third conductor circuit 23c 2 shapes arbitrarily set, interlayer conductive portions 24a, 24b, 24c can be arranged at an arbitrary position. Therefore, the structure of the multilayer printed wiring board 3a shown in FIG. 1 is an example, the first conductor circuit 23a, the wiring circuit 23b, the second conductor circuits 23c 1 and the shape and position of the third conductor circuit 23c 2, and interlayer conduction The positions of the parts 24a, 24b, and 24c can be changed.

図3(a)〜図3(c)を参照して、フリップチップボンディングを用いて、図1に示す電子部品12aを内蔵した積層プリント配線板3aを製造する方法の一例を説明する。図3(a)は、電子部品12aがフリップチップボンディングされた状態の第1配線板11aを示す断面図であり、図3(b)は、スペーサ11bを示す断面図であり、図3(c)は、第2配線板11cを示す断面図である。   With reference to FIG. 3A to FIG. 3C, an example of a method of manufacturing the laminated printed wiring board 3a incorporating the electronic component 12a shown in FIG. 1 using flip chip bonding will be described. 3A is a cross-sectional view showing the first wiring board 11a in a state where the electronic component 12a is flip-chip bonded, and FIG. 3B is a cross-sectional view showing the spacer 11b, and FIG. ) Is a cross-sectional view showing the second wiring board 11c.

先ず、電子部品12aがフリップチップボンディングされる前の図3(a)に示す第1配線板11a、図3(b)に示すスペーサ11b、及び図3(c)に示す第2配線板11cをそれぞれ製造する。   First, before the electronic component 12a is flip-chip bonded, the first wiring board 11a shown in FIG. 3A, the spacer 11b shown in FIG. 3B, and the second wiring board 11c shown in FIG. Manufacture each.

具体的には、先ず、可撓性を有する第1絶縁層21aの一面に、シード層及び第1導体回路23aの回路パターンを形成する。具体的には、例えばポリイミドフィルム等の可撓性の樹脂シートからなる第1絶縁層21aの一面に粗化処理を施した後、第1の主表面の全面に、例えばニッケルからなるシード層を無電解めっき或いはスパッタにより形成する。そして、第1導体回路23aを形成しない領域にレジストパターンを形成する。電解めっきにより、レジストパターンが形成されていないシード層の上に第1導体回路23aを形成する。その後、レジストパターン及びレジストパターンの下にあるシード層を選択的に除去する。これにより、図3(a)の第1導体回路23aの回路パターンが形成される。回路パターンの形成方法としては、これ以外にも、サブトラクティブ工法を用いた様々な製造方法を用いることができる。   Specifically, first, a circuit pattern of the seed layer and the first conductor circuit 23a is formed on one surface of the flexible first insulating layer 21a. Specifically, for example, a surface of the first insulating layer 21a made of a flexible resin sheet such as a polyimide film is roughened, and then a seed layer made of nickel, for example, is formed on the entire surface of the first main surface. It is formed by electroless plating or sputtering. Then, a resist pattern is formed in a region where the first conductor circuit 23a is not formed. The first conductor circuit 23a is formed on the seed layer where the resist pattern is not formed by electrolytic plating. Thereafter, the resist pattern and the seed layer under the resist pattern are selectively removed. Thereby, the circuit pattern of the first conductor circuit 23a of FIG. As a method for forming a circuit pattern, various manufacturing methods using a subtractive method can be used.

成膜の厚さばらつきの抑制、及び微細な回路パターン形成を考慮すると、第1導体回路23aの膜厚は3〜20μmの範囲が望ましい。また、第1絶縁層21aとして、厚さが12〜50μmのポリイミド樹脂、或いは液晶ポリマーなどのプラスチックフィルムを使用する。   Considering the suppression of film thickness variation and the formation of fine circuit patterns, the thickness of the first conductor circuit 23a is preferably in the range of 3 to 20 μm. Further, as the first insulating layer 21a, a polyimide film having a thickness of 12 to 50 μm or a plastic film such as a liquid crystal polymer is used.

次に、第1絶縁層21aの一面に対向する他面に、熱硬化性樹脂フィルムを加熱圧着により貼り付け、接着層22aを形成する。接着層22aの上に、熱硬化性樹脂フィルムを加熱圧着により貼り付け、樹脂フィルムを形成する。加熱圧着には、ラミネート装置、例えば真空ラミネータが用いられ、減圧雰囲気中において、熱硬化性樹脂フィルムの硬化温度以下の温度で押圧して貼り合わされる。   Next, a thermosetting resin film is attached to the other surface opposite to one surface of the first insulating layer 21a by thermocompression bonding to form the adhesive layer 22a. A thermosetting resin film is attached on the adhesive layer 22a by thermocompression bonding to form a resin film. For thermocompression bonding, a laminating apparatus, for example, a vacuum laminator is used, and in a reduced-pressure atmosphere, pressing and bonding are performed at a temperature lower than the curing temperature of the thermosetting resin film.

接着層22aの素材としては、エポキシ系の熱硬化性樹脂やアクリル系樹脂などの接着材、或いは熱可塑性ポリイミドに代表される熱可塑性接着材を使用することもできる。また、接着層22aは、フィルム状素材に代えて例えばワニス状の樹脂接着剤を第1絶縁層21aの他面に塗布して形成することもできる。   As the material of the adhesive layer 22a, an adhesive such as an epoxy-based thermosetting resin or an acrylic resin, or a thermoplastic adhesive represented by thermoplastic polyimide can be used. The adhesive layer 22a can be formed by applying, for example, a varnish-like resin adhesive on the other surface of the first insulating layer 21a instead of the film-like material.

樹脂フィルムは、ポリイミド系のフィルム、PET(ポリエチレンテレフタレート)やPEN(ポリエチレンナフタレート)などのプラスチックフィルムを使用してもよく、接着層22aの表面にUV照射によって接着や剥離が可能なフィルムを被着形成してもよい。   The resin film may be a polyimide film, a plastic film such as PET (polyethylene terephthalate) or PEN (polyethylene naphthalate), and the surface of the adhesive layer 22a is covered with a film that can be bonded or peeled off by UV irradiation. You may form.

第1絶縁層21aの他面からビアホールを形成して、ビアホールの底面にシード層を表出させる。具体的には、第1絶縁層21a、接着層22a、及び樹脂フィルムを貫通するビアホールを形成する。ビアホールは、第1絶縁層21aの他面側から、第1導体回路23aが形成された位置に形成される。よって、ビアホールの底面には、シード層が表出する。   A via hole is formed from the other surface of the first insulating layer 21a, and a seed layer is exposed on the bottom surface of the via hole. Specifically, a via hole penetrating the first insulating layer 21a, the adhesive layer 22a, and the resin film is formed. The via hole is formed from the other surface side of the first insulating layer 21a at a position where the first conductor circuit 23a is formed. Therefore, the seed layer is exposed on the bottom surface of the via hole.

具体的には、第1絶縁層21a、接着層22a、及び樹脂フィルムを他面側から貫通するようにUV−YAGレーザで穿孔することによって、直径100μmのビアホールを形成する。その後、穴開け加工時に発生したスミアを除去するために、四フッ化炭素(CF)及び酸素(O)の混合ガスによるプラズマデスミア処理を施す。 Specifically, a via hole having a diameter of 100 μm is formed by perforating the first insulating layer 21a, the adhesive layer 22a, and the resin film with a UV-YAG laser so as to penetrate from the other surface side. Thereafter, in order to remove smear generated during drilling, plasma desmear treatment with a mixed gas of carbon tetrafluoride (CF 4 ) and oxygen (O 2 ) is performed.

ビアホールは、炭酸ガスレーザやエキシマレーザなどによるレーザ加工、或いはドリル加工や化学的エッチングによって形成することもできる。   The via hole can also be formed by laser processing using a carbon dioxide laser or excimer laser, drill processing, or chemical etching.

また、プラズマデスミア処理は、使用ガスの種類として、CF及びO混合ガスに限定されず、アルゴン(Ar)などの他の不活性ガスを使用することもできるし、ドライ処理に代えて、薬液によるウェットデスミア処理を適用してもよい。 In addition, the plasma desmear process is not limited to the mixed gas of CF 4 and O 2 as the type of gas used, and other inert gas such as argon (Ar) can be used. You may apply the wet desmear process by a chemical | medical solution.

ビアホールの底面に表出したシード層を選択的に除去して、ビアホールの底面に第1導体回路23aを表出させる。具体的には、硝酸などの薬液によるウェットエッチングによってシード層を除去する。   The seed layer exposed on the bottom surface of the via hole is selectively removed to expose the first conductor circuit 23a on the bottom surface of the via hole. Specifically, the seed layer is removed by wet etching using a chemical solution such as nitric acid.

底面に第1導体回路23aが表出したビアホールの中に導電性ペーストを充填する。具体的には、ビアホールに、スクリーン印刷法により導電性ペーストをそれぞれの空間を埋め尽くすまで充填する。導電性ペーストは、ニッケル、銀、銅から選択される少なくとも1種類の低電気抵抗の金属粒子と、錫、ビスマス、インジウム、鉛から選択される少なくとも1種類の低融点金属粒子とを含み、エポキシ樹脂を主成分とするバインダ成分を混合したペーストで構成される。導電性ペーストは、接着層22aの硬化温度程度の低温で、金属粒子がその粒子同士で拡散接合したり、第1導体回路23aと拡散接合したりして合金化し易い金属組成を用いる。例えば、鉛フリーはんだ、異方性導電ペースト(ACF)、銀ペースト、それらのペーストの混合材料や微量の異種金属を混合したペースト材料などが挙げられる。導電性ペーストの充填方法としては、印刷工法、スピン塗布工法、スプレー塗布工法、ディスペンス工法、ラミネート工法、及びそれらを併用した工法などを用いることができる。   A conductive paste is filled into the via hole where the first conductor circuit 23a is exposed on the bottom surface. Specifically, the via holes are filled with the conductive paste by screen printing until each space is filled. The conductive paste includes at least one low electrical resistance metal particle selected from nickel, silver, and copper, and at least one low melting point metal particle selected from tin, bismuth, indium, and lead, and an epoxy It is composed of a paste in which a binder component mainly composed of a resin is mixed. The conductive paste uses a metal composition that is easy to be alloyed at a low temperature, such as the curing temperature of the adhesive layer 22a, by metal particles being diffusion bonded between the particles or by diffusion bonding with the first conductor circuit 23a. Examples thereof include lead-free solder, anisotropic conductive paste (ACF), silver paste, a mixed material of those pastes, and a paste material mixed with a trace amount of different metals. As a method for filling the conductive paste, a printing method, a spin coating method, a spray coating method, a dispensing method, a laminating method, and a method using them in combination can be used.

その後、樹脂フィルムを剥離する。その結果、印刷充填した導電性ペーストの先端(下面)の部分は、剥離した樹脂フィルムの厚さ寸法分の高さをもって接着層22aの下面側に突出した状態で露出される。このように、樹脂フィルムは、その厚さを適宜選定することによって、後に第1層間導通部24aとなる導電性ペーストの突出高さを調整する。以上の工程を経て、第1配線板11aが形成される。   Thereafter, the resin film is peeled off. As a result, the front end (lower surface) portion of the printed conductive paste is exposed with a height corresponding to the thickness dimension of the peeled resin film protruding to the lower surface side of the adhesive layer 22a. Thus, the resin film adjusts the protrusion height of the conductive paste that will later become the first interlayer conductive portion 24a by appropriately selecting the thickness thereof. Through the above steps, the first wiring board 11a is formed.

前述したように、図3(b)のスペーサ11bの製造工程は、第1配線板11aと同一工程であるため、その説明は省略する。また、図3(c)の第2配線板11cの製造工程も、第1配線板11aとほぼ同一の工程であるため、説明を省略する。   As described above, the manufacturing process of the spacer 11b in FIG. 3B is the same process as that of the first wiring board 11a, and thus the description thereof is omitted. Also, the manufacturing process of the second wiring board 11c in FIG. 3C is almost the same process as the first wiring board 11a, and thus the description thereof is omitted.

次に、図3(a)に示すように、電極26が形成された一面に対向する他面に素子接着材25aが接着された電子部品12aを用意する。そして、第1配線板11aが備える第1層間導通部24aに電子部品12aが有する電極26が接触するように、フリップチップボンディング法を用いて第1配線板11aに電子部品12aを接続する。   Next, as shown in FIG. 3A, an electronic component 12a is prepared in which an element adhesive 25a is bonded to the other surface opposite to the one surface on which the electrode 26 is formed. And the electronic component 12a is connected to the 1st wiring board 11a using a flip chip bonding method so that the electrode 26 which the electronic component 12a contacts the 1st interlayer conduction | electrical_connection part 24a with which the 1st wiring board 11a is equipped.

次に、電子部品12aがフリップチップボンディングされた第1配線板11a、スペーサ11b、及び第2配線板11cを重ね合わせる。具体的には、図3(a)〜図3(c)に示すように、第1層間導通部24aが配線回路23bに接触し、第3層間導通部24bが第2導体回路23cに接触するように、第1配線板11a、スペーサ11b、及び第2配線板11cを位置合わせした状態で重ね合わせる。そして、この状態で、接着層22a、22b、及び導電性ペーストの硬化温度より低温で加熱して、第1配線板11a、スペーサ11b、及び第2配線板11cの仮留めを行う。 Next, the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c on which the electronic component 12a is flip-chip bonded are overlaid. Specifically, as shown in FIG. 3 (a) ~ FIG 3 (c), the first interlayer conductive portion 24a is in contact with the printed circuit 23b, a third interlayer conductive portion 24b is brought into contact with the second conductor circuits 23c 1 As described above, the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c are overlapped in an aligned state. In this state, the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c are temporarily fixed by heating at a temperature lower than the curing temperature of the adhesive layers 22a and 22b and the conductive paste.

仮留めで積層された第1配線板11a、スペーサ11b、及び第2配線板11cを、真空キュアプレス装置を用いて、加熱温度150℃〜200℃で、1kPa以下の減圧雰囲気中で一括して加熱圧着する。この方法を一括積層法という。加熱圧着の際に、接着層22aが熱硬化されて、第1絶縁層21aと第3絶縁層21bが接合され、接着層22bが熱硬化されて、第3絶縁層21bと第2絶縁層21cが接合される。素子接着材25aによって電子部品12aの他面が第2絶縁層21cに接着される。また、導電性ペーストも熱硬化されて焼結体、すなわち第1層間導通部24a、第2層間導通部24c、及び第3層間導通部24bが形成される。このようにして、第1配線板11a、スペーサ11b及び第2配線板11cが接合される。   The first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c that are laminated by temporary fastening are collectively used in a reduced pressure atmosphere of 1 kPa or less at a heating temperature of 150 ° C. to 200 ° C. using a vacuum curing press device. Heat-press. This method is called a batch lamination method. At the time of thermocompression bonding, the adhesive layer 22a is thermally cured, the first insulating layer 21a and the third insulating layer 21b are joined, the adhesive layer 22b is thermally cured, and the third insulating layer 21b and the second insulating layer 21c. Are joined. The other surface of the electronic component 12a is bonded to the second insulating layer 21c by the element adhesive 25a. The conductive paste is also thermally cured to form a sintered body, that is, the first interlayer conductive portion 24a, the second interlayer conductive portion 24c, and the third interlayer conductive portion 24b. In this way, the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c are joined.

また、これと同時に、第1導体回路23aと第1層間導通部24aの界面、第1層間導通部24aと配線回路23bの界面、配線回路23bと第3層間導通部24bの界面、第3層間導通部24bと第2導体回路23cの界面、第2導体回路23cと第2層間導通部24cの界面、及び第2層間導通部24cと第3導体回路23cの界面に、前記した合金層が形成される。このようにして、図1に示した積層プリント配線板3aが完成する。 At the same time, the interface between the first conductor circuit 23a and the first interlayer conductive portion 24a, the interface between the first interlayer conductive portion 24a and the wiring circuit 23b, the interface between the wiring circuit 23b and the third interlayer conductive portion 24b, and the third interlayer interface conductive portion 24b and the second conductor circuits 23c 1, the interface of the second conductor circuit 23c 1 and the second interlayer conductive portion 24c, and the second interlayer conductive portion 24c and the third interface of the conductor circuit 23c 2, wherein the alloy A layer is formed. In this way, the laminated printed wiring board 3a shown in FIG. 1 is completed.

なお、図3のフリップチップボンディングを用いた場合、第1配線板11a、スペーサ11b及び第2配線板11cを接合する前に、予め、電子部品12aの電極26と第1層間導通部24aとを位置合わせて接続した。しかし、これ以外の製造方法を用いて構わない。例えば、第1配線板11a、スペーサ11b及び第2配線板11cを接合すると同時に、電子部品12aの電極26と第1層間導通部24aとを位置合わせて接続してもよい。   In addition, when the flip chip bonding of FIG. 3 is used, before joining the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c, the electrode 26 of the electronic component 12a and the first interlayer conductive portion 24a are previously connected. Aligned and connected. However, other manufacturing methods may be used. For example, the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c may be joined, and at the same time, the electrode 26 of the electronic component 12a and the first interlayer conductive portion 24a may be aligned and connected.

次に、図4(a)〜図4(c)を参照して、フェースアップボンディングを用いて、図1に示す電子部品12aを内蔵した積層プリント配線板3aを製造する方法の一例を説明する。図4(a)は、第1配線板11aを示す断面図であり、図4(b)は、スペーサ11bを示す断面図であり、図4(c)は、電子部品12aがフェースアップボンディングされた状態の第2配線板11cを示す断面図である。フェースアップボンディングを用いた場合と、フリップチップボンディングを用いた場合とでは、積層プリント配線板3aの最終的な構造に違いはない。   Next, with reference to FIGS. 4A to 4C, an example of a method for manufacturing the laminated printed wiring board 3a incorporating the electronic component 12a shown in FIG. 1 using face-up bonding will be described. . 4A is a cross-sectional view showing the first wiring board 11a, FIG. 4B is a cross-sectional view showing the spacer 11b, and FIG. 4C is a view in which the electronic component 12a is face-up bonded. It is sectional drawing which shows the 2nd wiring board 11c of the state which was in contact. There is no difference in the final structure of the laminated printed wiring board 3a between the case where face-up bonding is used and the case where flip-chip bonding is used.

先ず、図4(a)〜図4(c)に示すように、第1配線板11a、スペーサ11b、電子部品12aがフェースアップボンディングされる前の第2配線板11cをそれぞれ製造する方法は、上記したフリップチップボンディングを用いた場合と同じであり、説明を省略する。   First, as shown in FIGS. 4A to 4C, a method of manufacturing the second wiring board 11c before the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the electronic component 12a are face-up bonded, respectively, This is the same as when flip-chip bonding is used, and the description is omitted.

次に、図4(c)に示すように、電極26が形成された一面に対向する他面に素子接着材25aが接着された電子部品12aを用意する。そして、第2配線板11cが備える第2絶縁層21cの一面に素子接着材25aを介して電子部品12aの他面を接着させる。   Next, as shown in FIG. 4C, an electronic component 12a is prepared in which an element adhesive 25a is bonded to the other surface opposite to the one surface on which the electrode 26 is formed. Then, the other surface of the electronic component 12a is bonded to one surface of the second insulating layer 21c included in the second wiring board 11c via the element adhesive 25a.

次に、第1配線板11a、スペーサ11b、及び電子部品12aが接着された第2配線板11cを重ね合わせる。具体的には、図4(a)〜図4(c)に示すように、第1層間導通部24aに電子部品12aが有する電極26が接触し、第1層間導通部24aが配線回路23bに接触し、第3層間導通部24bが第2導体回路23cに接触するように、第1配線板11a、スペーサ11b、及び第2配線板11cを位置合わせした状態で重ね合わせる。そして、この状態で、接着層22a、22b及び導電性ペーストの硬化温度より低温で加熱して、第1配線板11a、スペーサ11b、及び第2配線板11cの仮留めを行う。 Next, the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c to which the electronic component 12a is bonded are overlapped. Specifically, as shown in FIGS. 4A to 4C, the electrode 26 of the electronic component 12a is in contact with the first interlayer conductive portion 24a, and the first interlayer conductive portion 24a is connected to the wiring circuit 23b. contact, the third interlayer conductive portion 24b is in contact with the second conductor circuits 23c 1, the first wiring board 11a, spacers 11b, and superposed in a second state in which the wiring board 11c are aligned. In this state, the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c are temporarily fixed by heating at a temperature lower than the curing temperature of the adhesive layers 22a and 22b and the conductive paste.

仮留めで積層された第1配線板11a、スペーサ11b、及び第2配線板11cを、上記した一括積層法により一括して加熱圧着する。このようにして、第1配線板11a、スペーサ11b及び第2配線板11cが接合される。   The first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c laminated by temporary fastening are collectively heat-pressed by the above-described collective laminating method. In this way, the first wiring board 11a, the spacer 11b, and the second wiring board 11c are joined.

以上説明したように、本発明の第1の実施の形態によれば、以下の作用効果が得られる。   As described above, according to the first embodiment of the present invention, the following operational effects can be obtained.

スペーサ11bが有する第3層間導通部24bの他端は、第2配線板11cの第2導体回路23cに接触している。つまり、スペーサ11bは、片方の面のみに配線回路23bが形成された片面の配線板である。よって、積層プリント配線板3aの一方の面に第3層間導通部24bが露出するので、導体回路どうしを接合すること無く、複数の積層プリント配線板3aを更に積層することができる。したがって、複数の層に電子部品12aを内蔵させることが可能となる。なお、図1の例では、積層プリント配線板3aの一方の面に第2層間導通部24cは露出せずに、第3導体回路23cに接続されているが、第3導体回路23cは、後述するように、バンプなどを介して他基板へ実装する際において有用となり、積層プリント配線板3aどうしを積層する際には不要となる部材である。 The other end of the third interlayer conductive portion 24b having spacer 11b is is in contact with the second conductor circuits 23c 1 of the second wiring board 11c. That is, the spacer 11b is a single-sided wiring board in which the wiring circuit 23b is formed only on one side. Therefore, since the third interlayer conductive portion 24b is exposed on one surface of the laminated printed wiring board 3a, a plurality of laminated printed wiring boards 3a can be further laminated without joining the conductor circuits. Therefore, the electronic component 12a can be built in a plurality of layers. In the example of FIG. 1, without exposing the second interlayer conductive portion 24c on one surface of the laminated printed wiring board 3a, it is connected to the third conductive circuit 23c 2, third conductor circuit 23c 2 is As will be described later, this is a member that is useful when mounted on another substrate via bumps or the like, and is unnecessary when the laminated printed wiring boards 3a are laminated.

第2配線板11cは、第2絶縁層21cの他面に形成され、第2層間導通部24cの他端に接触する第3導体回路23cを更に備える。第3導体回路23cにバンプなどの突起電極を形成することにより、電子部品12aを内蔵した積層プリント配線板3aを、更に大きな配線基板の上に実装することができる。 The second wiring board 11c further comprises formed on the other surface of the second insulating layer 21c, the third conductor circuit 23c 2 in contact with the other end of the second interlayer conductive portion 24c. By forming the protruding electrodes such as bumps third conductor circuit 23c 2, a laminated printed wiring board 3a with a built-in electronic component 12a, can be further mounted on the large wiring substrate.

図1に示した複数の積層プリント配線板3aを積層することができる。一方の積層プリント配線板が有する第2層間導通部24cの他端が、他方の積層プリント配線板が有する第1導体回路23aに接触するように、複数の積層プリント配線板を積層すればよい。但し、この場合、第3導体回路23cは、不要である。 A plurality of laminated printed wiring boards 3a shown in FIG. 1 can be laminated. What is necessary is just to laminate | stack a some multilayer printed wiring board so that the other end of the 2nd interlayer conduction | electrical_connection part 24c which one laminated printed wiring board has contacts the 1st conductor circuit 23a which the other laminated printed wiring board has. However, in this case, the third conductor circuit 23c 2 is unnecessary.

また、本発明の第1の実施の形態によれば、EWLPと同様にして、半導体素子の実装密度を大幅に向上させることができ、半導体素子間の配線長が短縮され、高速伝送特性を向上させることができる。更に、前述したEWLPが抱える問題点を解消することができる。すなわち、レジストマスクの作製及びめっき処理などの繰り返しによるビルドアップ工法を用いず、一括積層法を用いる。よって、製造工程の数を減らし、製造時間を短くし、製造コストを低く抑えることができる。更に、多層化の際の加熱プレス処理は一回で済むため、絶縁樹脂層の劣化を抑制することができる。   Further, according to the first embodiment of the present invention, as with EWLP, the mounting density of the semiconductor elements can be greatly improved, the wiring length between the semiconductor elements is shortened, and the high-speed transmission characteristics are improved. Can be made. Furthermore, the above-described problems of EWLP can be solved. That is, the batch stacking method is used without using the build-up method by repeating the production of the resist mask and the plating process. Therefore, the number of manufacturing steps can be reduced, the manufacturing time can be shortened, and the manufacturing cost can be kept low. Furthermore, since the heat press process at the time of multilayering may be performed only once, deterioration of the insulating resin layer can be suppressed.

図3(a)に示したように、第1配線板11aが備える第1層間導通部24aに電子部品12aが有する電極26が接触するように、フリップチップボンディング法を用いて第1配線板11aに電子部品12aを接続する。これにより、電子部品12aの電極26と第1層間導通部24aを接合する際の位置精度が高いため、電子部品12aと第1層間導通部24aの接続信頼性を高めることができる。   As shown in FIG. 3A, the first wiring board 11a is formed using a flip chip bonding method so that the electrode 26 of the electronic component 12a contacts the first interlayer conductive portion 24a provided in the first wiring board 11a. The electronic component 12a is connected to. Thereby, since the positional accuracy at the time of joining the electrode 26 of the electronic component 12a and the 1st interlayer conduction | electrical_connection part 24a is high, the connection reliability of the electronic component 12a and the 1st interlayer conduction | electrical_connection part 24a can be improved.

図4(c)に示したように、第1配線板11aに電子部品12aを接続する前に、第2配線板11cが備える第2絶縁層21cの一面に素子接着材25aを介して電子部品12aの他面を接着させる。これにより、電子部品12aを実装する際に、第2絶縁層21cと素子接着材25aを早く接合することができるため、熱プロセスや時間経過による素子接着材25aの接着力低下を防ぐことができる。   As shown in FIG. 4C, before connecting the electronic component 12a to the first wiring board 11a, the electronic component is placed on one surface of the second insulating layer 21c provided in the second wiring board 11c via the element adhesive 25a. The other surface of 12a is adhered. Accordingly, when the electronic component 12a is mounted, the second insulating layer 21c and the element adhesive 25a can be bonded quickly, so that it is possible to prevent a decrease in the adhesive strength of the element adhesive 25a due to a thermal process or the passage of time. .

(第2の実施の形態)
第1の実施の形態では、1つの電子部品12aが内蔵された積層プリント配線板3aを示し、積層プリント配線板3aを複数積層することにより、複数の電子部品が複数の層に内蔵された積層プリント配線板を提供することができることを示した。本発明は、積層プリント配線板3aを複数積層する以外の方法でも、複数の電子部品を複数の層に内蔵させることができる。
(Second Embodiment)
In the first embodiment, a laminated printed wiring board 3a in which one electronic component 12a is incorporated is shown, and a plurality of laminated printed wiring boards 3a are laminated so that a plurality of electronic components are incorporated in a plurality of layers. It was shown that a printed wiring board can be provided. In the present invention, a plurality of electronic components can be incorporated in a plurality of layers even by a method other than the method of laminating a plurality of laminated printed wiring boards 3a.

そこで、第2の実施の形態では、第1配線板と第2配線板の間で、電子部品及びスペーサの組み合わせが、異なる層において複数配置されている積層プリント配線板について説明する。図5を参照して、第2の実施の形態に関わる電子部品を内蔵した積層プリント配線板の全体構成を説明する。   Therefore, in the second embodiment, a multilayer printed wiring board in which a plurality of combinations of electronic components and spacers are arranged in different layers between the first wiring board and the second wiring board will be described. With reference to FIG. 5, the overall configuration of the multilayer printed wiring board incorporating the electronic components according to the second embodiment will be described.

図5に示すように、第2の実施の形態に関わる積層プリント配線板の最表面側に、第1配線板31aが配置され、最裏面側に第2配線板31eが配置されている。第1配線板31aと第2配線板31eの間には、電子部品32a及びその周囲に配置された絶縁層41bを有するスペーサ31bが配置されている。更に、第1配線板31aと第2配線板31eの間で、電子部品32aと異なる層において、電子部品32b及びその周囲に配置された絶縁層41dを有するスペーサ31dが配置されている。   As shown in FIG. 5, the first wiring board 31a is disposed on the outermost surface side of the multilayer printed wiring board according to the second embodiment, and the second wiring board 31e is disposed on the outermost surface side. Between the 1st wiring board 31a and the 2nd wiring board 31e, the spacer 31b which has the electronic component 32a and the insulating layer 41b arrange | positioned around it is arrange | positioned. Furthermore, between the first wiring board 31a and the second wiring board 31e, a spacer 31d having an electronic component 32b and an insulating layer 41d disposed around the electronic component 32b is arranged in a layer different from the electronic component 32a.

更に、電子部品32aと電子部品32bの間に、第3配線板31cが配置されている。   Further, a third wiring board 31c is disposed between the electronic component 32a and the electronic component 32b.

第1配線板31aは、第1絶縁層41aと、第1導体回路43aと、第1層間導通部44aと、接着層42aとを有する。第2配線板31eは、第2絶縁層41eと、第2導体回路43e及び第3導体回路43eと、第2層間導通部44eとを有する。スペーサ31bは、絶縁層41bと、配線回路43bと、層間導通部44bと、接着層42bとを有する。スペーサ31dは、絶縁層41dと、配線回路43dと、層間導通部44dと、接着層42dとを有する。第3配線板31cは、絶縁層41cと、導体回路43cと、層間導通部44cと、接着層42cとを有する。電子部品32aは、素子接着材45aにより絶縁層41cに接着されている。電子部品32bは、素子接着材45bにより第2絶縁層41eに接着されている。 The first wiring board 31a includes a first insulating layer 41a, a first conductor circuit 43a, a first interlayer conductive portion 44a, and an adhesive layer 42a. The second wiring board 31e has a second insulating layer 41e, and the second conductor circuits 43e 1 and the third conductor circuit 43e 2, a second interlayer conductive portion 44e. The spacer 31b includes an insulating layer 41b, a wiring circuit 43b, an interlayer conductive portion 44b, and an adhesive layer 42b. The spacer 31d includes an insulating layer 41d, a wiring circuit 43d, an interlayer conductive portion 44d, and an adhesive layer 42d. The third wiring board 31c includes an insulating layer 41c, a conductor circuit 43c, an interlayer conductive portion 44c, and an adhesive layer 42c. The electronic component 32a is bonded to the insulating layer 41c with an element adhesive 45a. The electronic component 32b is bonded to the second insulating layer 41e with an element adhesive 45b.

以上説明したように、第1配線板31aと第2配線板31eの間に、電子部品32a、32b及びスペーサ31b、31dの組み合わせが、異なる層において複数(ここでは2つ)配置されている。このように、片方の面のみに配線回路43b、43dが形成されたスペーサ31b、31dを用いることにより、複数の電子部品32a、32bを高密度に内蔵することができる。   As described above, a plurality (two in this case) of combinations of the electronic components 32a and 32b and the spacers 31b and 31d are arranged between the first wiring board 31a and the second wiring board 31e in different layers. As described above, by using the spacers 31b and 31d in which the wiring circuits 43b and 43d are formed only on one surface, a plurality of electronic components 32a and 32b can be embedded at high density.

(比較例)
図6に示すように、比較例に関わる積層プリント配線板53aは、第1配線板61aと、第1配線板61aに積層された第2配線板61cと、第1配線板61aと第2配線板61cの間に配置された電子部品62aと、電子部品62aの周囲に配置されたスペーサ61bとを備える。
(Comparative example)
As shown in FIG. 6, the laminated printed wiring board 53a according to the comparative example includes a first wiring board 61a, a second wiring board 61c laminated on the first wiring board 61a, a first wiring board 61a, and a second wiring. An electronic component 62a disposed between the plates 61c and a spacer 61b disposed around the electronic component 62a are provided.

第1配線板61aは、第1絶縁層71aと、第1絶縁層71aの一面に形成された第1導体回路73aと、第1絶縁層71aの一面に対応する他面に形成された接着層72aと、第1絶縁層71a及び接着層72aを貫通して形成された第1層間導通部74aとを有する。第1層間導通部74aの一端は第1導体回路73aに接触している。   The first wiring board 61a includes a first insulating layer 71a, a first conductor circuit 73a formed on one surface of the first insulating layer 71a, and an adhesive layer formed on the other surface corresponding to one surface of the first insulating layer 71a. 72a and a first interlayer conductive portion 74a formed through the first insulating layer 71a and the adhesive layer 72a. One end of the first interlayer conductive portion 74a is in contact with the first conductor circuit 73a.

第2配線板61cは、第2絶縁層71cと、第2絶縁層71cの一面に形成された第2導体回路73cと、第2絶縁層71cの一面に対応する他面に形成された接着層72cと、第2絶縁層71c及び接着層72cを貫通して形成された第2層間導通部74cとを有する。第2層間導通部74cの一端は第2導体回路73cに接触している。   The second wiring board 61c includes a second insulating layer 71c, a second conductor circuit 73c formed on one surface of the second insulating layer 71c, and an adhesive layer formed on the other surface corresponding to one surface of the second insulating layer 71c. 72c and a second interlayer conductive portion 74c formed through the second insulating layer 71c and the adhesive layer 72c. One end of the second interlayer conductive portion 74c is in contact with the second conductor circuit 73c.

電子部品62aは、第1層間導通部74aの他端に接続された電極76を有する。スペーサ61bは、電子部品62aの周囲に配置された第3絶縁層71bと、第3絶縁層71bの一面及び一面に対向する他面に形成された配線回路73b、73bと、第3絶縁層71bと電子部品62aとの間に形成された接着層72bとを有する。配線回路73bは、第1層間導通部74aに接触している。配線回路73bは、第2層間導通部74cに接触している。 The electronic component 62a has an electrode 76 connected to the other end of the first interlayer conductive portion 74a. The spacer 61b includes a third insulating layer 71b disposed around the electronic component 62a, wiring circuits 73b 1 and 73b 2 formed on one surface of the third insulating layer 71b and the other surface facing the one surface, and a third insulating layer. An adhesive layer 72b formed between the layer 71b and the electronic component 62a; Wiring circuit 73b 1 is in contact with the first interlayer conductive portions 74a. Wiring circuit 73b 2 is in contact with the second interlayer conductive portion 74c.

このように、スペーサ61bは、第3絶縁層71bの両面に配線回路73b、73bが形成されている。このため、図7に示すように、複数の積層プリント配線板53a、53bを更に積層して、複数の電子部品62a、62bを複数の配線層に内蔵させることができない。なぜなら、複数の積層プリント配線板53a、53bを更に積層するには、一方の積層プリント配線板53aの露出した一方の導体回路と、異なる積層プリント配線板53bの導体回路とを接合することができないからである。このように、比較例に係わる積層プリント配線板53aでは、複数の層に半導体素子を内蔵させることが困難である。 Thus, the spacer 61b, the wiring circuit 73b 1 on both surfaces of the third insulating layer 71b, 73b 2 are formed. For this reason, as shown in FIG. 7, it is not possible to further stack a plurality of laminated printed wiring boards 53a and 53b and incorporate a plurality of electronic components 62a and 62b in a plurality of wiring layers. This is because, in order to further laminate a plurality of laminated printed wiring boards 53a and 53b, one exposed conductive circuit of one laminated printed wiring board 53a cannot be joined to a conductive circuit of a different laminated printed wiring board 53b. Because. Thus, in the multilayer printed wiring board 53a according to the comparative example, it is difficult to incorporate semiconductor elements in a plurality of layers.

上記のように、本発明は、2つの実施形態及び比較例によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。   As described above, the present invention has been described by two embodiments and comparative examples. However, it should not be understood that the description and drawings constituting a part of this disclosure limit the present invention. From this disclosure, various alternative embodiments, examples and operational techniques will be apparent to those skilled in the art.

3a…積層プリント配線板
11a、31a…第1配線板
11b、31b、31d…スペーサ
11c、31e…第2配線板
12a、32a、32b…電子部品
21a、41a…第1絶縁層
21b…第3絶縁層
21c、41e…第2絶縁層
23a、43a…第1導体回路
23b、43b、43d…配線回路
23c1、43e1…第2導体回路
23c2、43e2…第3導体回路
24a、44a…第1層間導通部
24b…第3層間導通部
24c、44e…第2層間導通部
3a: Laminated printed wiring board 11a, 31a ... 1st wiring board 11b, 31b, 31d ... Spacer 11c, 31e ... 2nd wiring board 12a, 32a, 32b ... Electronic component 21a, 41a ... 1st insulating layer 21b ... 3rd insulation Layer 21c, 41e ... 2nd insulating layer 23a, 43a ... 1st conductor circuit 23b, 43b, 43d ... Wiring circuit 23c1, 43e1 ... 2nd conductor circuit 23c2, 43e2 ... 3rd conductor circuit 24a, 44a ... 1st interlayer conduction | electrical_connection part 24b ... third interlayer conductive portion 24c, 44e ... second interlayer conductive portion

Claims (6)

第1絶縁層と、前記第1絶縁層の一面に形成された第1導体回路と、前記第1絶縁層を貫通して形成され、その一端が第1導体回路に接触し、その他端が第1絶縁層の一面に対向する他面から露出する第1層間導通部とを有する第1配線板と、
第2絶縁層と、前記第2絶縁層の一面に形成された第2導体回路と、前記第2絶縁層を貫通して形成され、その一端が第2導体回路に接触し、その他端が第2絶縁層の一面に対向する他面から露出する第2層間導通部とを有する第2配線板と、
前記第1配線板と前記第2配線板の間に配置され、且つ前記第1層間導通部の他端に接続された電極を有する電子部品と、
前記電子部品の周囲に配置された第3絶縁層と、第3絶縁層の一面に形成され、第1層間導通部に接触する配線回路と、前記第3絶縁層を貫通して形成され、その一端が前記配線回路に接触し、その他端が前記第2導体回路に接触する第3層間導通部とを有するスペーサと、
を備えることを特徴とする電子部品を内蔵した積層プリント配線板。
A first insulating layer; a first conductor circuit formed on one surface of the first insulating layer; and formed through the first insulating layer, one end of which contacts the first conductor circuit, and the other end of the first insulating layer A first wiring board having a first interlayer conductive portion exposed from the other surface facing one surface of the one insulating layer;
A second insulating layer, a second conductor circuit formed on one surface of the second insulating layer, and formed through the second insulating layer, one end of which contacts the second conductor circuit, and the other end of the second insulating layer A second wiring board having a second interlayer conductive portion exposed from the other surface facing one surface of the two insulating layers;
An electronic component having an electrode disposed between the first wiring board and the second wiring board and connected to the other end of the first interlayer conductive portion;
A third insulating layer disposed around the electronic component; a wiring circuit formed on one surface of the third insulating layer and in contact with the first interlayer conductive portion; and formed through the third insulating layer; A spacer having a third interlayer conductive portion having one end in contact with the wiring circuit and the other end in contact with the second conductor circuit;
A laminated printed wiring board having an electronic component built therein.
前記第2配線板は、前記第2絶縁層の他面に形成され、第2層間導通部の他端に接触する第3導体回路を更に備えることを特徴とする請求項1に記載の電子部品を内蔵した積層プリント配線板。   2. The electronic component according to claim 1, wherein the second wiring board further includes a third conductor circuit formed on the other surface of the second insulating layer and in contact with the other end of the second interlayer conductive portion. Laminated printed wiring board with built-in. 前記第1配線板と前記第2配線板の間には、前記電子部品及び前記スペーサの組み合わせが、異なる層において複数配置されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の電子部品を内蔵した積層プリント配線板。   The electronic component according to claim 1 or 2, wherein a plurality of combinations of the electronic component and the spacer are arranged in different layers between the first wiring board and the second wiring board. Laminated printed wiring board. 請求項1に記載の複数の積層プリント配線板を積層した積層プリント配線板であって、
一方の積層プリント配線板が有する第2層間導通部の他端が、他方の積層プリント配線板が有する第1導体回路に接触するように、複数の積層プリント配線板を積層したことを特徴とする電子部品を内蔵した積層プリント配線板。
A laminated printed wiring board obtained by laminating a plurality of laminated printed wiring boards according to claim 1,
A plurality of laminated printed wiring boards are laminated so that the other end of the second interlayer conductive portion of one laminated printed wiring board is in contact with the first conductor circuit of the other laminated printed wiring board. Laminated printed wiring board with built-in electronic components.
請求項1に記載の電子部品を内蔵した積層プリント配線板の製造方法であって、
前記第1層間導通部に前記電子部品が有する前記電極が接触するように、前記第1配線板に前記電子部品を接続する第1の工程と、
前記第1層間導通部に前記配線回路が接触し、前記第3層間導通部に前記第2導体回路が接触するように、前記第1配線板、前記スペーサ及び前記第2配線板の位置を合わせて接合する第2の工程と、
を備える電子部品を内蔵した積層プリント配線板の製造方法。
A method for producing a laminated printed wiring board incorporating the electronic component according to claim 1,
A first step of connecting the electronic component to the first wiring board so that the electrode of the electronic component is in contact with the first interlayer conductive portion;
The first wiring board, the spacer, and the second wiring board are aligned so that the wiring circuit is in contact with the first interlayer conductive portion and the second conductor circuit is in contact with the third interlayer conductive portion. A second step of joining together,
A method for manufacturing a laminated printed wiring board incorporating an electronic component comprising:
請求項1に記載の電子部品を内蔵した積層プリント配線板の製造方法であって、
前記第2配線板に前記電子部品の電極が形成された一面に対向する他面を接続する第1の工程と、
前記第1層間導通部に前記電極及び前記配線回路が接触し、前記第3層間導通部に前記第2導体回路が接触するように、前記第1配線板、前記スペーサ及び前記第2配線板の位置を合わせて接合する第2の工程と、
を備える電子部品を内蔵した積層プリント配線板の製造方法。
A method for producing a laminated printed wiring board incorporating the electronic component according to claim 1,
A first step of connecting the other surface opposite to the one surface on which the electrode of the electronic component is formed on the second wiring board;
The first wiring board, the spacer, and the second wiring board are arranged such that the electrode and the wiring circuit are in contact with the first interlayer conductive portion, and the second conductor circuit is in contact with the third interlayer conductive portion. A second step of aligning and joining;
A method for manufacturing a laminated printed wiring board incorporating an electronic component comprising:
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12324098B2 (en) 2021-02-15 2025-06-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. Connection structure and connection structure manufacturing method

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020192442A1 (en) * 2001-06-13 2002-12-19 Koji Kondo Printed wiring board with embedded electric device and method for manufacturing printed wiring board with embedded electric device
JP2003086949A (en) * 2001-06-13 2003-03-20 Denso Corp Method for manufacturing printed substrate and printed substrate formed thereby
JP2004153084A (en) * 2002-10-31 2004-05-27 Denso Corp Multilayer circuit board and manufacture thereof
JP2007324550A (en) * 2006-06-05 2007-12-13 Denso Corp Multilayer substrate
JP2008091377A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Toppan Printing Co Ltd Printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2010034390A (en) * 2008-07-30 2010-02-12 Fujikura Ltd Multilayer printed wiring board

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20020192442A1 (en) * 2001-06-13 2002-12-19 Koji Kondo Printed wiring board with embedded electric device and method for manufacturing printed wiring board with embedded electric device
JP2003086949A (en) * 2001-06-13 2003-03-20 Denso Corp Method for manufacturing printed substrate and printed substrate formed thereby
JP2004153084A (en) * 2002-10-31 2004-05-27 Denso Corp Multilayer circuit board and manufacture thereof
JP2007324550A (en) * 2006-06-05 2007-12-13 Denso Corp Multilayer substrate
US20080017409A1 (en) * 2006-06-05 2008-01-24 Denso Corporation Multilayer board
JP2008091377A (en) * 2006-09-29 2008-04-17 Toppan Printing Co Ltd Printed wiring board and manufacturing method thereof
JP2010034390A (en) * 2008-07-30 2010-02-12 Fujikura Ltd Multilayer printed wiring board

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US12324098B2 (en) 2021-02-15 2025-06-03 Murata Manufacturing Co., Ltd. Connection structure and connection structure manufacturing method

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