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JP2012141690A - Input device - Google Patents

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JP2012141690A
JP2012141690A JP2010292701A JP2010292701A JP2012141690A JP 2012141690 A JP2012141690 A JP 2012141690A JP 2010292701 A JP2010292701 A JP 2010292701A JP 2010292701 A JP2010292701 A JP 2010292701A JP 2012141690 A JP2012141690 A JP 2012141690A
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JP
Japan
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transparent
connection
electrode layer
base material
touch sensor
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Withdrawn
Application number
JP2010292701A
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Japanese (ja)
Inventor
Toru Sawada
融 澤田
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Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an input device combining a capacitance type touch sensor and a resistance film type touch sensor capable of easily performing a connection process with an external circuit board and improving connection reliability thereof.SOLUTION: An input device of the present invention is formed by laminating a capacitance type touch sensor 4 and a resistance film type touch sensor 6. A first transparent base material 10 and a second transparent base material 20 constituting the capacitance type touch sensor 4 are provided with a first connection electrode 12 and a second connection electrode 22 for outputting input position information on the capacitance type touch sensor 4, and a third connection electrode 32 and a fourth connection electrode 42 for outputting input position information on the resistance film type touch sensor 6 are pulled out to the first transparent base material 10 or the second transparent base material 20 via a through hole 63 so that the first connection electrode 12, the second connection electrode 22, the third connection electrode 32, and the fourth connection electrode 42 are provided in parallel in planar view.

Description

本発明は、入力装置に関し、特に抵抗膜式タッチセンサと静電容量式タッチセンサとが積層された、2方式併用の入力装置に関する。   The present invention relates to an input device, and more particularly, to an input device using two systems in which a resistive touch sensor and a capacitive touch sensor are stacked.

現在、携帯用の電子機器などの表示部として、表示画像のメニュー項目やオブジェクトを直接、指などで操作して座標入力を行うための透光型入力装置が用いられている。このような入力装置の動作方式として、種々の方式が挙げられるが、抵抗値の変化により入力位置情報を検知する抵抗膜式タッチセンサや、静電容量の変化により入力位置情報を検知する静電容量式タッチセンサが多く用いられている。   Currently, as a display unit of a portable electronic device or the like, a translucent input device for inputting coordinates by directly operating a menu item or object of a display image with a finger or the like is used. There are various methods for operating such an input device. For example, a resistive touch sensor that detects input position information by a change in resistance value or an electrostatic sensor that detects input position information by a change in capacitance. Many capacitive touch sensors are used.

抵抗膜式タッチセンサは、1対の透明基材が間隔を設けて対向配置されており、1対の透明基材の対向する面にはそれぞれ透明電極膜が形成されている。抵抗膜式タッチセンサの入力面を押圧操作することにより透明電極膜どうしが接触し抵抗値が変化する。この抵抗値変化により入力位置情報を検知することができる。入力操作は指、ペン形状の入力器具など、特に限定されず様々なものが使用可能であるが、多点入力を行うことが難しい。   In the resistive film type touch sensor, a pair of transparent base materials are arranged to face each other with a gap therebetween, and transparent electrode films are formed on opposing surfaces of the pair of transparent base materials, respectively. By pressing the input surface of the resistive touch sensor, the transparent electrode films are brought into contact with each other and the resistance value is changed. The input position information can be detected by this resistance value change. The input operation is not particularly limited, such as a finger or a pen-shaped input device, and various types can be used, but it is difficult to perform multipoint input.

また、静電容量式タッチセンサは、1対の透明電極膜が絶縁性の透明基材を介して対向配置されており、1対の透明電極膜間で静電容量を形成している。静電容量式タッチセンサの入力面に指などを近接させることにより静電容量値が変化し、入力位置情報を検知することができる。このため、スムーズな入力操作を行うことができ、また、多点入力も可能である。しかし、手袋などをはめた場合や絶縁性の入力器具を用いた場合には、入力面に近接させても静電容量は変化しないため、入力操作を行うことができない。   In the capacitive touch sensor, a pair of transparent electrode films are arranged to face each other via an insulating transparent substrate, and a capacitance is formed between the pair of transparent electrode films. By bringing a finger or the like close to the input surface of the capacitive touch sensor, the capacitance value changes, and the input position information can be detected. Therefore, a smooth input operation can be performed and multipoint input is also possible. However, when wearing gloves or using an insulating input device, the capacitance does not change even if the input device is brought close to the input surface, so that an input operation cannot be performed.

上記のような様々な入力操作に対応可能な入力装置として、抵抗膜式タッチセンサと静電容量式タッチセンサとを積層して構成された2方式併用の入力装置が開発されている。例えば、特許文献1には、抵抗膜式タッチセンサの上に静電容量式タッチセンサを積層した2方式併用入力装置が開示されている。これによれば、導電性を有しない入力器具によっても入力可能であり、指による多点入力も可能となる。また、特許文献2にはパーソナルコンピュータなどに搭載される入力装置として、感圧式検出部の上に静電容量式検出部を積層した構成の発明が開示されている。   As an input device that can handle various input operations as described above, a two-type input device has been developed which is configured by stacking a resistive touch sensor and a capacitive touch sensor. For example, Patent Document 1 discloses a two-type combination input device in which a capacitive touch sensor is stacked on a resistive touch sensor. According to this, it is possible to input even with an input device having no conductivity, and multipoint input with a finger is also possible. Patent Document 2 discloses an invention in which a capacitance type detection unit is stacked on a pressure sensitive detection unit as an input device mounted on a personal computer or the like.

特開2009−9249号公報JP 2009-9249 A 特開2009−199318号公報JP 2009-199318 A

図13には、抵抗膜式タッチセンサ106の上部に静電容量式タッチセンサ104を積層した従来の2方式併用の入力装置101について、模式断面図を示す。図13に示すように、従来の2方式併用の入力装置101では、各透明基材の非入力領域に、入力位置情報を引き出すための第1接続電極112、第2接続電極122、第3接続電極132、及び第4接続電極142がそれぞれ設けられている。そして、複数のFPC(Flexible Printed Circuit)151、152と各接続電極とが接続されている。   FIG. 13 is a schematic cross-sectional view of the conventional two-type input device 101 in which the capacitive touch sensor 104 is stacked on the resistive film type touch sensor 106. As shown in FIG. 13, in the conventional input device 101 using the two methods, the first connection electrode 112, the second connection electrode 122, and the third connection for extracting input position information to the non-input area of each transparent base material. An electrode 132 and a fourth connection electrode 142 are provided. A plurality of FPCs (Flexible Printed Circuits) 151 and 152 are connected to the connection electrodes.

このような構成の場合、抵抗膜式タッチセンサ106の接続工程と、静電容量式タッチセンサ104の接続工程とを、それぞれ別の工程でおこなう必要があり、接続工程が煩雑となっていた。さらに、抵抗膜式タッチセンサ106と接続されるFPC152、及び静電容量式タッチセンサ104と接続されるFPC151の2つのFPCが必要となるため、製造コストが増大するという問題があった。   In such a configuration, the connection process of the resistive touch sensor 106 and the connection process of the capacitive touch sensor 104 need to be performed in separate processes, which makes the connection process complicated. Further, since two FPCs, that is, the FPC 152 connected to the resistive touch sensor 106 and the FPC 151 connected to the capacitive touch sensor 104 are required, there is a problem that the manufacturing cost increases.

また、2つの片面接続部を有するFPC151、及び両面接続部を有するFPC152が各基材間で接続されており、合計4つの基材と接合されているため、入力装置101の製造工程や使用時において、各4つの基材の熱膨張、熱収縮による応力などが接続部に作用し、接続信頼性が確保できないという課題があった。また、各層間で接続する構成では、接続部に加わる応力を緩和することが困難であった。   In addition, since the FPC 151 having two single-side connection portions and the FPC 152 having double-side connection portions are connected between the base materials and bonded to a total of four base materials, the manufacturing process and use of the input device 101 However, there is a problem that the connection reliability cannot be ensured because the stress due to thermal expansion and contraction of each of the four base materials acts on the connection portion. Moreover, in the structure which connects between each layer, it was difficult to relieve | moderate the stress added to a connection part.

本発明は、上記課題を解決し、FPC等の外部回路基板との接続工程を容易に行うことができるとともに、接続信頼性を向上させることが可能な、静電容量式タッチセンサと抵抗膜式タッチセンサとを併用した入力装置を提供することを目的とする。   The present invention solves the above-described problems, and can easily perform a connection process with an external circuit board such as an FPC, and can improve connection reliability, and a capacitive touch sensor and a resistive film type. An object of the present invention is to provide an input device that is used in combination with a touch sensor.

本発明の入力装置は、静電容量の変化により入力位置を検知する静電容量式タッチセンサと、抵抗値の変化により入力位置を検知する抵抗膜式タッチセンサと、が積層され、前記静電容量式タッチセンサは、一方の面に第1透明電極層が形成された第1透明基材と、一方の面に第2透明電極層が形成された第2透明基材とを有し、前記第1透明基材の一方の面と、前記第2透明基材の他方の面とが対向して積層され、前記抵抗膜式タッチセンサは、一方の面に第3透明電極層が形成された第3透明基材と、一方の面に第4透明電極層が形成された第4透明基材とを有し、前記第3透明電極層と前記第4透明電極層とが空間を設けて対向して積層され、前記第3透明基材及び前記第4透明基材の少なくとも一方には、前記第3透明電極層及び第4透明電極層を外部に引き出すためのスルーホールが形成されており、前記第1透明基材の一方の面及び前記第2透明基材の一方の面にはそれぞれ、外部の回路基板と接続するための第1接続領域及び第2接続領域が、平面視で並設されており、前記第1接続領域には、前記第1透明電極層と電気的に接続された第1接続電極が設けられ、前記第2接続領域には、前記第2透明電極層と電気的に接続された第2接続電極が設けられ、前記スルーホールを介して前記第3透明電極層と電気的に接続された第3接続電極及び、前記スルーホールを介して前記第4透明電極層と電気的に接続された第4接続電極が、前記第1接続領域または前記第2接続領域に設けられ、前記第1接続電極、前記第2接続電極、前記第3接続電極及び前記第4接続電極が平面視で並設されていることを特徴とする。   An input device according to the present invention includes a capacitive touch sensor that detects an input position based on a change in electrostatic capacitance, and a resistive film type touch sensor that detects an input position based on a change in resistance value. The capacitive touch sensor includes a first transparent base material having a first transparent electrode layer formed on one surface thereof, and a second transparent base material having a second transparent electrode layer formed on one surface thereof, One surface of the first transparent substrate and the other surface of the second transparent substrate are laminated facing each other, and the resistive touch sensor has a third transparent electrode layer formed on one surface. A third transparent substrate, and a fourth transparent substrate having a fourth transparent electrode layer formed on one surface thereof, wherein the third transparent electrode layer and the fourth transparent electrode layer are opposed to each other with a space provided. And at least one of the third transparent base and the fourth transparent base is provided with the third transparent electrode layer and the second transparent base. A through hole is formed for drawing out the transparent electrode layer to the outside, and one surface of the first transparent substrate and one surface of the second transparent substrate are connected to an external circuit board, respectively. The first connection region and the second connection region are arranged side by side in a plan view, and the first connection region is provided with a first connection electrode electrically connected to the first transparent electrode layer, A second connection electrode electrically connected to the second transparent electrode layer is provided in the second connection region, and a third electrically connected to the third transparent electrode layer through the through hole. A connection electrode and a fourth connection electrode electrically connected to the fourth transparent electrode layer through the through hole is provided in the first connection region or the second connection region, and the first connection electrode, The second connection electrode, the third connection electrode, and the fourth connection electrode There, characterized in that it is juxtaposed in a plan view.

これによれば、第1接続電極、第2接続電極、第3接続電極、及び第4接続電極が、静電容量式タッチセンサの透明基材に集約され、平面視で並設される。したがって、各接続電極と外部回路基板の接続部とを、同一の工程で平面的に接続することができるため、接続工程を容易に行うことができる。また、各接続電極を2つの透明基材上に集約して平面視で並設することにより、従来の4つの透明基材上に各接続電極を形成した場合よりも、入力装置と外部回路基板との接続部に作用する応力の影響を低減することが可能となり、接続信頼性を向上させることができる。   According to this, the 1st connection electrode, the 2nd connection electrode, the 3rd connection electrode, and the 4th connection electrode are collected on the transparent base material of an electrostatic capacity type touch sensor, and are arranged in parallel by plane view. Therefore, since each connection electrode and the connection part of the external circuit board can be connected in a planar manner in the same process, the connection process can be easily performed. Also, the input device and the external circuit board are gathered on the two transparent base materials and arranged side by side in a plan view, so that the connection electrodes are formed on the four transparent base materials. It is possible to reduce the influence of the stress acting on the connecting portion, and the connection reliability can be improved.

本発明の入力装置は、前記抵抗膜式タッチセンサが、前記静電容量式タッチセンサの入力面側に積層されていることが好ましい。これによれば、抵抗膜式タッチセンサの入力抵抗が小さく抑えられ、快適な入力操作が可能となり、また、静電容量式タッチセンサによる多点入力も対応可能な2方式併用の入力装置を提供することができる。   In the input device according to the aspect of the invention, it is preferable that the resistive touch sensor is stacked on the input surface side of the capacitive touch sensor. According to this, the input resistance of the resistive touch sensor can be kept small, a comfortable input operation can be performed, and a multi-point input device using a capacitive touch sensor can be provided. can do.

本発明の入力装置は、前記第4透明基材、前記第1透明基材及び前記第2透明基材を貫通するスルーホールが設けられていることが好適である。これによれば、第1接続領域または第2接続領域に形成された第3接続電極と、抵抗膜式タッチセンサを構成する第3透明電極層とをスルーホールを介して電気的に接続することができる。また、第1接続領域または第2接続領域に形成された第4接続電極と、抵抗膜式タッチセンサを構成する第4透明電極層とをスルーホールを介して電気的に接続することができる。さらに、入力装置表面に貫通してスルーホールが設けられるため、各透明基材を積層した後に導電性ペーストをスルーホールに充填することができ、容易に層間の接続信頼性を確保することが可能となる。   In the input device of the present invention, it is preferable that a through hole penetrating the fourth transparent base material, the first transparent base material, and the second transparent base material is provided. According to this, the third connection electrode formed in the first connection region or the second connection region and the third transparent electrode layer constituting the resistive touch sensor are electrically connected through the through hole. Can do. Moreover, the 4th connection electrode formed in the 1st connection area | region or the 2nd connection area | region and the 4th transparent electrode layer which comprises a resistive film type touch sensor can be electrically connected through a through hole. Furthermore, through holes are provided through the surface of the input device, so that the conductive paste can be filled into the through holes after laminating each transparent base material, and the connection reliability between the layers can be easily secured. It becomes.

本発明の入力装置によれば、前記第3透明基材の他方の面が入力面を構成しており、前記第4透明基材と前記第1透明基材とが同一の共通基材から構成され、前記第4透明電極層が前記共通基材の一方の面に形成されるとともに、前記第1透明電極層が前記共通基材の他方の面に形成されており、前記共通基材には、前記第3透明電極層及び前記第4透明電極層と、前記第3接続電極及び前記第4接続電極とをそれぞれ接続するためのスルーホールが形成されていることが好ましい。これによれば、透明基材及び透明基材間を接着するための粘着層の厚みをそれぞれ1層分省く事ができるため入力装置の薄型化が可能となる。   According to the input device of the present invention, the other surface of the third transparent substrate constitutes an input surface, and the fourth transparent substrate and the first transparent substrate are composed of the same common substrate. The fourth transparent electrode layer is formed on one surface of the common base material, and the first transparent electrode layer is formed on the other surface of the common base material. It is preferable that through holes for connecting the third transparent electrode layer and the fourth transparent electrode layer to the third connection electrode and the fourth connection electrode are formed. According to this, since the thickness of the adhesive layer for bonding between the transparent base material and the transparent base material can be omitted, the input device can be made thin.

本発明の入力装置は、前記共通基材及び前記第2透明基材を貫通するスルーホールが設けられていることが好ましい。これによれば、第1接続領域または第2接続領域に形成された第3接続電極と、抵抗膜式タッチセンサを構成する第3透明電極層とをスルーホールを介して電気的に接続することができる。また、第1接続領域または第2接続領域に形成された第4接続電極と、抵抗膜式タッチセンサを構成する第4透明電極層とをスルーホールを介して電気的に接続することができる。さらに、各透明基材を積層した後に、導電性ペーストをスルーホールに充填することができ、容易に層間の接続信頼性を確保することが可能となる。   In the input device of the present invention, it is preferable that a through hole penetrating the common base material and the second transparent base material is provided. According to this, the third connection electrode formed in the first connection region or the second connection region and the third transparent electrode layer constituting the resistive touch sensor are electrically connected through the through hole. Can do. Moreover, the 4th connection electrode formed in the 1st connection area | region or the 2nd connection area | region and the 4th transparent electrode layer which comprises a resistive film type touch sensor can be electrically connected through a through hole. Furthermore, after laminating each transparent base material, the conductive paste can be filled in the through holes, and the connection reliability between the layers can be easily secured.

本発明の入力装置は、前記静電容量式タッチセンサが前記抵抗膜式タッチセンサの入力面側に積層されていることが好適である。これによれば、静電容量式タッチセンサの入力感度が良好であるとともに、手袋などをはめた場合や例えば樹脂などで形成された絶縁性の入力器具を用いた場合にも抵抗膜式タッチセンサでの入力が可能な2方式併用の入力装置を提供することができる。   In the input device of the present invention, it is preferable that the capacitive touch sensor is stacked on the input surface side of the resistive touch sensor. According to this, the input sensitivity of the capacitive touch sensor is good, and even when a glove is worn or an insulating input device formed of, for example, a resin is used, a resistive touch sensor Thus, it is possible to provide an input device using a combination of the two methods that can be input at the same time.

本発明の入力装置は、前記第3透明基材及び前記第4透明基材を貫通するスルーホールが設けられていることが好ましい。これによれば、第1接続領域または第2接続領域に形成された第3接続電極と、抵抗膜式タッチセンサを構成する第3透明電極層とをスルーホールを介して電気的に接続することができる。また、第1接続領域または第2接続領域に形成された第4接続電極と、抵抗膜式タッチセンサを構成する第4透明電極層とをスルーホールを介して電気的に接続することができる。さらに、各透明基材を積層した後に、導電性ペーストをスルーホールに充填することができるため、容易に層間の接続信頼性を確保することが可能となる。   In the input device of the present invention, it is preferable that a through hole penetrating the third transparent substrate and the fourth transparent substrate is provided. According to this, the third connection electrode formed in the first connection region or the second connection region and the third transparent electrode layer constituting the resistive touch sensor are electrically connected through the through hole. Can do. Moreover, the 4th connection electrode formed in the 1st connection area | region or the 2nd connection area | region and the 4th transparent electrode layer which comprises a resistive film type touch sensor can be electrically connected through a through hole. Furthermore, since the conductive paste can be filled into the through-holes after laminating the transparent substrates, it is possible to easily ensure the connection reliability between the layers.

本発明の入力装置は、前記第1透明基材の他方の面が入力面を構成しており、前記第2透明基材と前記第3透明基材とが同一の共通基材から構成され、前記第2透明電極層が前記共通基材の一方の面に形成されるとともに、前記第3透明電極層が前記共通基材の他方の面に形成されており、前記共通基材には、前記第3透明電極層及び前記第4透明電極層と、前記第3接続電極及び前記第4接続電極とをそれぞれ接続するためのスルーホールが形成されていることが好適である。これによれば、透明基材及び透明基材間を接着するための粘着層の厚みをそれぞれ1層分省く事ができるため入力装置の薄型化が可能となる。   In the input device of the present invention, the other surface of the first transparent base material constitutes an input surface, and the second transparent base material and the third transparent base material are composed of the same common base material, The second transparent electrode layer is formed on one surface of the common base material, and the third transparent electrode layer is formed on the other surface of the common base material. It is preferable that through-holes for connecting the third transparent electrode layer and the fourth transparent electrode layer to the third connection electrode and the fourth connection electrode are formed. According to this, since the thickness of the adhesive layer for bonding between the transparent base material and the transparent base material can be omitted, the input device can be made thin.

本発明の入力装置は、前記共通基材及び前記第4透明基材を貫通するスルーホールが設けられていることが好適である。これによれば、第1接続領域または第2接続領域に形成された第3接続電極と、抵抗膜式タッチセンサを構成する第3透明電極層とをスルーホールを介して電気的に接続することができる。また、第1接続領域または第2接続領域に形成された第4接続電極と、抵抗膜式タッチセンサを構成する第4透明電極層とをスルーホールを介して電気的に接続することができる。さらに、各透明基材を積層した後に、導電性ペーストをスルーホールに充填することができるため、容易に層間の接続信頼性を確保することが可能となる。   In the input device of the present invention, it is preferable that a through hole penetrating the common base material and the fourth transparent base material is provided. According to this, the third connection electrode formed in the first connection region or the second connection region and the third transparent electrode layer constituting the resistive touch sensor are electrically connected through the through hole. Can do. Moreover, the 4th connection electrode formed in the 1st connection area | region or the 2nd connection area | region and the 4th transparent electrode layer which comprises a resistive film type touch sensor can be electrically connected through a through hole. Furthermore, since the conductive paste can be filled into the through-holes after laminating the transparent substrates, it is possible to easily ensure the connection reliability between the layers.

本発明の入力装置によれば、第1接続電極、第2接続電極、第3接続電極、及び第4接続電極が、静電容量式タッチセンサの透明基材に集約され、平面視で並設される。したがって、各接続電極と外部回路基板の接続部とを、同一の工程で平面的に接続することができるため、接続工程を容易に行うことができる。また、各接続電極を2つの透明基材上に集約して平面視で並設することにより、従来の4つの透明基材上に各接続電極を形成した場合よりも、入力装置と外部回路基板との接続部に作用する応力の影響を低減することが可能となり、接続信頼性を向上させることができる。   According to the input device of the present invention, the first connection electrode, the second connection electrode, the third connection electrode, and the fourth connection electrode are concentrated on the transparent base material of the capacitive touch sensor and arranged in parallel in a plan view. Is done. Therefore, since each connection electrode and the connection part of the external circuit board can be connected in a planar manner in the same process, the connection process can be easily performed. Also, the input device and the external circuit board are gathered on the two transparent base materials and arranged side by side in a plan view, so that the connection electrodes are formed on the four transparent base materials. It is possible to reduce the influence of the stress acting on the connecting portion, and the connection reliability can be improved.

本発明の第1の実施形態における入力装置の斜視図である。1 is a perspective view of an input device according to a first embodiment of the present invention. 本発明の第1の実施形態における入力装置の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the input device in the 1st Embodiment of this invention. 図1のIII−III線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the III-III line | wire of FIG. 図1のIV−IV線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the IV-IV line | wire of FIG. 第1の実施形態における、(a)第1透明基材の部分拡大平面図、(b)第2透明基材の部分拡大平面図、(c)第1透明基材と第2透明基材とを積層した場合の部分拡大平面図である。In the first embodiment, (a) a partially enlarged plan view of a first transparent substrate, (b) a partially enlarged plan view of a second transparent substrate, (c) a first transparent substrate and a second transparent substrate, FIG. 第1の実施形態における変形例を示す、図1のIII−III線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the III-III line of FIG. 1, which shows the modification in 1st Embodiment. 第1の実施形態における変形例を示す、図1のIV−IV線で切断した入力装置の入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device of the input device cut | disconnected by the IV-IV line | wire of FIG. 1 which shows the modification in 1st Embodiment. 本発明の第2の実施形態における入力装置の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the input device in the 2nd Embodiment of this invention. 図8のIX−IX線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the IX-IX line of FIG. 図8のX−X線で切断した入力装置の断面図であるIt is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the XX line of FIG. 第2の実施形態における変形例を示す、図8のIX−IX線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the IX-IX line of FIG. 8, which shows the modification in 2nd Embodiment. 第2の実施形態における変形例を示す、図8のX−X線で切断した入力装置の断面図である。It is sectional drawing of the input device cut | disconnected by the XX line of FIG. 8, which shows the modification in 2nd Embodiment. 従来例の入力装置における、接続部付近の模式断面図である。It is a schematic cross section of the vicinity of the connecting portion in the conventional input device.

<第1の実施形態>
図1は、本発明の第1の実施形態における入力装置1の斜視図である。図2は、本実施形態の入力装置1の分解斜視図である。図3は、図1のIII−III線で切断した入力装置1の断面図であり、図4は、図1のIV−IV線で切断した入力装置1の断面図である。なお、図面を見やすくするため、各構成要素の寸法の比率などは適宜異ならせて示してある。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a perspective view of an input device 1 according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2 is an exploded perspective view of the input device 1 of the present embodiment. 3 is a cross-sectional view of the input device 1 cut along the line III-III in FIG. 1, and FIG. 4 is a cross-sectional view of the input device 1 cut along the line IV-IV in FIG. In addition, in order to make the drawing easy to see, the ratio of dimensions of each component is appropriately changed.

図1に示すように、本実施形態の入力装置1は、静電容量式タッチセンサ4の入力面側に抵抗膜式タッチセンサ6が積層された2方式併用の入力装置1である。静電容量式タッチセンサ4は第1透明基材10と第2透明基材20とが積層されており、抵抗膜式タッチセンサ6は第3透明基材30と第4透明基材40とが対向配置されて構成されている。また、抵抗膜式タッチセンサ6の入力面側には加飾フィルム61が積層されている。   As shown in FIG. 1, the input device 1 according to the present embodiment is a dual-type input device 1 in which a resistive touch sensor 6 is laminated on the input surface side of a capacitive touch sensor 4. The capacitive touch sensor 4 includes a first transparent base material 10 and a second transparent base material 20, and the resistive touch sensor 6 includes a third transparent base material 30 and a fourth transparent base material 40. It is configured to face each other. A decorative film 61 is laminated on the input surface side of the resistive touch sensor 6.

本実施形態の入力装置1は、例えばFPC(Flexible Printed Circuit)64等の外部回路基板と接続され、静電容量式タッチセンサ4及び抵抗膜式タッチセンサ6からの入力位置情報が電気信号として出力される。本実施形態の入力装置1には、入力位置情報を出力するための第1接続電極12、第2接続電極22、第3接続電極32、第4接続電極42が形成されている。各接続電極は、FPC64の一方の面に形成されたFPC接続端子65と対向して接続される。   The input device 1 of this embodiment is connected to an external circuit board such as an FPC (Flexible Printed Circuit) 64, for example, and input position information from the capacitive touch sensor 4 and the resistive touch sensor 6 is output as an electrical signal. Is done. In the input device 1 of this embodiment, a first connection electrode 12, a second connection electrode 22, a third connection electrode 32, and a fourth connection electrode 42 for outputting input position information are formed. Each connection electrode is connected to face the FPC connection terminal 65 formed on one surface of the FPC 64.

図2の入力装置1の分解斜視図に示すように、静電容量式タッチセンサ4は第1透明基材10と第2透明基材20とを有し構成されている。第1透明基材10の一方の面の入力領域には、X1−X2方向に延出しY1−Y2方向に所定の間隔を設けて形成された複数の透明電極層からなる第1透明電極層11が積層されている。また、第2透明基材20の一方の面の入力領域には、Y1−Y2方向に延出しX1−X2方向に所定の間隔を設けて形成された複数の透明電極層からなる第2透明電極層21が積層されている。   As shown in the exploded perspective view of the input device 1 in FIG. 2, the capacitive touch sensor 4 includes a first transparent substrate 10 and a second transparent substrate 20. A first transparent electrode layer 11 composed of a plurality of transparent electrode layers formed in the input region on one surface of the first transparent substrate 10 and extending in the X1-X2 direction with a predetermined interval in the Y1-Y2 direction. Are stacked. A second transparent electrode comprising a plurality of transparent electrode layers formed in the input region on one surface of the second transparent substrate 20 extending in the Y1-Y2 direction and having a predetermined interval in the X1-X2 direction. Layer 21 is laminated.

また、第1透明基材10及び第2透明基材20の入力領域を囲む非入力領域には、それぞれ入力位置情報を取り出すための第1配線パターン14及び第2配線パターン24が形成されている。   In addition, a first wiring pattern 14 and a second wiring pattern 24 for extracting input position information are formed in non-input areas surrounding the input areas of the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20, respectively. .

図3及び図4に示すように、第1透明基材10と第2透明基材20とは、粘着層66を介して積層され、第1透明電極層11と第2透明電極層21との間で静電容量を有する。入力装置1の入力操作時において、指や導電性を有する入力器具などを入力面の任意の箇所に近接させると、第1透明電極層11と第2透明電極層21との間の静電容量の値が変化する。この容量変化に基づいて入力位置情報を算出することが可能である。   As shown in FIGS. 3 and 4, the first transparent base material 10 and the second transparent base material 20 are laminated via the adhesive layer 66, and the first transparent electrode layer 11 and the second transparent electrode layer 21 are formed. Have capacitance between. When the finger or a conductive input instrument is brought close to any part of the input surface during the input operation of the input device 1, the capacitance between the first transparent electrode layer 11 and the second transparent electrode layer 21. The value of changes. It is possible to calculate the input position information based on this capacity change.

第1透明基材10及び第2透明基材20にはそれぞれ、PET(ポリエチレンテレフタレート)などの透明なフィルム状樹脂材料を用いることが可能である。その厚みはそれぞれ25μm〜200μm程度、例えば厚み125μmに形成することができる。   A transparent film-like resin material such as PET (polyethylene terephthalate) can be used for each of the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20. The thickness can be about 25 μm to 200 μm, for example, a thickness of 125 μm.

また、第1透明電極層11及び第2透明電極層21は、いずれも可視光領域で透光性を有するITO(Indium Tin Oxide)、SnO、ZnO等の透明導電膜により形成される。第1透明電極層11及び第2透明電極層21は、スパッタ法や蒸着法等の薄膜法により形成され、その厚みはいずれも0.01μm〜0.05μm、例えば0.02μm程度で形成される。また、スパッタ法や蒸着法以外の方法では、あらかじめ透明導電膜が形成されたフィルムを用意し、透明導電膜のみを透明基材に転写する方法や、導電性ポリマーやAgナノワイヤ等を塗布する方法により形成することも可能である。 The first transparent electrode layer 11 and the second transparent electrode layer 21 are each formed of a transparent conductive film such as ITO (Indium Tin Oxide), SnO 2 , or ZnO that has translucency in the visible light region. The first transparent electrode layer 11 and the second transparent electrode layer 21 are formed by a thin film method such as a sputtering method or a vapor deposition method, and the thicknesses thereof are both 0.01 μm to 0.05 μm, for example, about 0.02 μm. . In addition to the sputtering method and the vapor deposition method, a method in which a film on which a transparent conductive film is formed in advance is prepared and only the transparent conductive film is transferred to a transparent substrate, or a method in which a conductive polymer or Ag nanowire is applied is used. It is also possible to form by.

また、図3及び図4に示すように、抵抗膜式タッチセンサ6は第3透明基材30及び第4透明基材40とを有し構成され、静電容量式タッチセンサ4の入力面側に配置される。第3透明基材30の一方の面の入力領域には第3透明電極層31が形成されており、また、第4透明基材40の一方の面の入力領域には第4透明電極層41が形成されている。図3に示すように、第3透明基材30と第4透明基材40とは非入力領域に配置された粘着層68を介して接着されており、第3透明電極層31と第4透明電極層41とが間隔を設けて対向するように積層される。   As shown in FIGS. 3 and 4, the resistive touch sensor 6 includes a third transparent substrate 30 and a fourth transparent substrate 40, and the input surface side of the capacitive touch sensor 4. Placed in. A third transparent electrode layer 31 is formed in the input region on one surface of the third transparent substrate 30, and the fourth transparent electrode layer 41 is formed in the input region on one surface of the fourth transparent substrate 40. Is formed. As shown in FIG. 3, the third transparent substrate 30 and the fourth transparent substrate 40 are bonded via an adhesive layer 68 disposed in the non-input area, and the third transparent electrode layer 31 and the fourth transparent substrate are bonded. The electrode layers 41 are stacked so as to face each other with a gap.

第3透明基材30の非入力領域には、入力領域を囲むように第3配線パターン34が形成されており、第3透明電極層31のX1−X2方向に電圧を印加することができる。同様に、第4透明基材40の非入力領域には、入力領域を囲むように第4配線パターン44が形成されており、第4透明電極層41のY1−Y2方向に電圧を印加することができる。   A third wiring pattern 34 is formed in the non-input region of the third transparent substrate 30 so as to surround the input region, and a voltage can be applied in the X1-X2 direction of the third transparent electrode layer 31. Similarly, a fourth wiring pattern 44 is formed in the non-input area of the fourth transparent substrate 40 so as to surround the input area, and a voltage is applied in the Y1-Y2 direction of the fourth transparent electrode layer 41. Can do.

抵抗膜式タッチセンサ6の入力操作において、入力面の任意の箇所を押圧操作すると、可撓性を有する第3透明基材30が撓み、第3透明電極層31と第4透明電極層41とが接触する。この接触によって、第3透明電極層31において印加された電圧にはX1−X2方向に電位勾配が生じ、X座標を検知することができる。また。第4透明電極層41において印加された電圧にはY1−Y2方向に電位勾配が生じ、これによりY座標を検知することができる。   In the input operation of the resistive touch sensor 6, when an arbitrary portion of the input surface is pressed, the flexible third transparent substrate 30 is bent, and the third transparent electrode layer 31, the fourth transparent electrode layer 41, Touch. By this contact, a potential gradient is generated in the X1-X2 direction in the voltage applied in the third transparent electrode layer 31, and the X coordinate can be detected. Also. The voltage applied in the fourth transparent electrode layer 41 has a potential gradient in the Y1-Y2 direction, whereby the Y coordinate can be detected.

第3透明基材30には、入力操作に応じて変形可能なPET(ポリエチレンテレフタレート)などの透明なフィルム状樹脂材料を用いることが可能であり、その厚みは100μm〜200μm程度、例えば厚み188μm程度で形成される。また、第4透明基材40は透明な樹脂で形成されており、例えばPC(ポリカーボネート)、PET(ポリエチレンテレフタレート)、PES(ポリエーテルスルフォン)、PMMA(メタクリル酸メチル樹脂)、ノルボルネン樹脂等の樹脂を用いることができる。その厚みは、押圧操作による第3透明基材30の変形を支持可能な程度であれば良く、0.5mm〜1.5mm、例えば1.0mm程度の厚さに形成される。   The third transparent substrate 30 can be made of a transparent film-like resin material such as PET (polyethylene terephthalate) that can be deformed according to an input operation, and has a thickness of about 100 μm to 200 μm, for example, a thickness of about 188 μm. Formed with. The fourth transparent substrate 40 is made of a transparent resin, for example, a resin such as PC (polycarbonate), PET (polyethylene terephthalate), PES (polyether sulfone), PMMA (methyl methacrylate resin), or norbornene resin. Can be used. The thickness should just be the extent which can support the deformation | transformation of the 3rd transparent base material 30 by pressing operation, and is formed in thickness of 0.5 mm-1.5 mm, for example, about 1.0 mm.

また、第3透明電極層31と第4透明電極層41とは、第1透明電極層11及び第2透明電極層21と同様に、可視光領域で透光性を有するITO(Indium Tin Oxide)、SnO、ZnO等を用い、スパッタ法や蒸着法等の薄膜法で形成される。その厚みはいずれも0.01μm〜0.05μm、例えば0.02μm程度で形成される。また、薄膜法以外の方法では、上述の転写法や塗布法によっても形成することができる。 Moreover, the 3rd transparent electrode layer 31 and the 4th transparent electrode layer 41 are ITO (Indium Tin Oxide) which has translucency in visible region similarly to the 1st transparent electrode layer 11 and the 2nd transparent electrode layer 21. , SnO 2 , ZnO or the like, and formed by a thin film method such as a sputtering method or a vapor deposition method. The thickness of each layer is 0.01 μm to 0.05 μm, for example, about 0.02 μm. In addition to the thin film method, it can be formed by the above-described transfer method or coating method.

図1から図4に示すように、抵抗膜式タッチセンサ6の入力面側には、加飾層62が印刷された加飾フィルム61が積層されている。加飾層62は、入力領域を囲む非入力領域に着色されて形成されており、各透明基材の配線パターンなどが操作者に直接視認されないよう遮蔽する効果を有する。また、加飾層62に着色以外の模様、マーク、文字等が描かれる場合もあり、搭載される電子機器のデザインの一部を構成することも可能である。また、加飾フィルム61には、押圧操作により変形可能なPET等のフィルム状の透明樹脂材料を用い、その厚みは例えば125μm程度のものを用いることができる。   As shown in FIGS. 1 to 4, a decorative film 61 on which a decorative layer 62 is printed is laminated on the input surface side of the resistive touch sensor 6. The decorative layer 62 is formed by coloring a non-input area surrounding the input area, and has an effect of shielding the wiring pattern of each transparent substrate from being directly recognized by the operator. In addition, a pattern, a mark, a character, or the like other than coloring may be drawn on the decorative layer 62, and a part of the design of the electronic device to be mounted can be configured. The decorative film 61 may be a film-like transparent resin material such as PET that can be deformed by a pressing operation, and may have a thickness of, for example, about 125 μm.

また、静電容量式タッチセンサ4と抵抗膜式タッチセンサ6、及び抵抗膜式タッチセンサ6と加飾フィルム61は、それぞれ粘着層67及び粘着層69を介して積層されている。各層間を接着する粘着層には、透光性を有するアクリル樹脂系粘着テープを用いることができ、その厚みは10μmから100μm程度である。また、静電容量式タッチセンサ4及び抵抗膜式タッチセンサ6の各透明基材間を接着する粘着層66、68にも、同様に透光性のアクリル樹脂系粘着テープを用いることができる。   Moreover, the capacitive touch sensor 4 and the resistive film type touch sensor 6, and the resistive film type touch sensor 6 and the decorative film 61 are laminated via an adhesive layer 67 and an adhesive layer 69, respectively. For the pressure-sensitive adhesive layer that bonds the layers, a translucent acrylic resin-based pressure-sensitive adhesive tape can be used, and the thickness thereof is about 10 μm to 100 μm. Similarly, a translucent acrylic resin adhesive tape can be used for the adhesive layers 66 and 68 for bonding the transparent substrates of the capacitive touch sensor 4 and the resistive touch sensor 6 together.

静電容量式タッチセンサ4は、指などを近接させることで入力可能であるため、スムーズに入力動作を行うことが可能であり、また、多点入力可能であるという利点を有する。しかし、静電容量変化により入力位置情報を検知する方式であるため、例えば手袋をはめた状態や、樹脂などの絶縁物で形成された入力器具などでは入力操作を行うことができないという課題がある。また、抵抗膜式タッチセンサ6は、透明電極膜どうしの接触によって入力位置情報を検知できることから、入力操作に用いる器具の材質は特に限定されず、指や絶縁性のペン形状の入力器具等を用いることができる。しかしながら、多点入力を行うことが困難である。   Since the capacitive touch sensor 4 can be input by bringing a finger or the like in close proximity, the input operation can be performed smoothly and multipoint input is possible. However, since the input position information is detected based on a change in capacitance, there is a problem that the input operation cannot be performed, for example, with a gloved state or an input device formed of an insulator such as resin. . In addition, since the resistive film type touch sensor 6 can detect the input position information by contact between the transparent electrode films, the material of the instrument used for the input operation is not particularly limited, and a finger or an insulating pen-shaped input instrument or the like can be used. Can be used. However, it is difficult to perform multipoint input.

本実施形態における入力装置1は、静電容量式タッチセンサ4と抵抗膜式タッチセンサ6とを有し構成されるため、入力する器具に制限されず、絶縁性の入力器具による入力操作も可能であり、また、指による多点入力も可能となる。このように入力方式の異なるタッチセンサを積層することにより、より複雑な操作に対応することが可能である。また、本実施形態において、抵抗膜式タッチセンサ6が入力面側に配置されているため、抵抗膜式タッチセンサ6の入力抵抗が小さく抑えられるため、指またはペン形状の入力器具による押圧操作をスムーズに行うことができる。   Since the input device 1 according to the present embodiment includes the capacitive touch sensor 4 and the resistive touch sensor 6, the input device 1 is not limited to an input device, and an input operation using an insulating input device is also possible. In addition, multipoint input with a finger is also possible. Thus, by stacking touch sensors with different input methods, it is possible to cope with more complicated operations. In the present embodiment, since the resistive touch sensor 6 is arranged on the input surface side, the input resistance of the resistive touch sensor 6 can be kept small, so that a pressing operation with a finger or a pen-shaped input device is performed. It can be done smoothly.

次に、本実施形態の入力装置1において入力位置情報を出力するための構成についてより詳細に説明する。   Next, the configuration for outputting the input position information in the input device 1 of the present embodiment will be described in more detail.

図2に示すように、静電容量式タッチセンサ4を構成する第1透明基材10において、非入力領域のY1方向には外部回路基板と接続するための第1接続電極12が形成されている。第1配線パターン14は、第1透明基材10の非入力領域に形成されており、第1接続電極12と第1透明電極層11とを電気的に接続する。また、第2透明基材20には、非入力領域のY1方向に第2接続電極22が形成されており、第2配線パターン24は第2透明電極層21のY1側の端部と第2接続電極22とを接続する。   As shown in FIG. 2, in the first transparent base material 10 constituting the capacitive touch sensor 4, a first connection electrode 12 for connecting to an external circuit board is formed in the Y1 direction of the non-input area. Yes. The first wiring pattern 14 is formed in a non-input region of the first transparent substrate 10 and electrically connects the first connection electrode 12 and the first transparent electrode layer 11. The second transparent base material 20 is provided with a second connection electrode 22 in the Y1 direction of the non-input area, and the second wiring pattern 24 is connected to the second transparent electrode layer 21 on the Y1 side and the second end. The connection electrode 22 is connected.

また、図2及び図4に示すように、第1透明基材10、第2透明基材20、及び第4透明基材40には、抵抗膜式タッチセンサ6からの入力位置情報を出力するためのスルーホール63が貫通して形成されている。スルーホール63には、銀または銅などの金属材料を含む導電性ペーストが充填されており、これにより層間を電気的に接続することができる。スルーホール63の直径は0.1mm〜2.0mm程度で形成することが好ましい。0.1mmより小さいと、積層ズレなどが発生した場合、各層間の接続信頼性を確保することが困難になる可能性がある。直径が2mmより大きい場合は、導電性ペーストの体積収縮によりスルーホール63内部でクラックや空孔が生じてしまい、導通が得られなくなる可能性がある。また、直径を大きくすると使用する導電性ペーストの量が増大するため、製造コストの面で好ましくない。   Also, as shown in FIGS. 2 and 4, input position information from the resistive film type touch sensor 6 is output to the first transparent base material 10, the second transparent base material 20, and the fourth transparent base material 40. For this purpose, a through hole 63 is formed to penetrate therethrough. The through hole 63 is filled with a conductive paste containing a metal material such as silver or copper, whereby the layers can be electrically connected. The diameter of the through hole 63 is preferably about 0.1 mm to 2.0 mm. If the thickness is smaller than 0.1 mm, it may be difficult to ensure the connection reliability between the layers when a stacking deviation occurs. When the diameter is larger than 2 mm, there is a possibility that a crack or a hole is generated inside the through hole 63 due to the volume shrinkage of the conductive paste, and conduction cannot be obtained. Moreover, since the quantity of the electrically conductive paste to use will increase when a diameter is enlarged, it is unpreferable in terms of manufacturing cost.

導電性ペーストは、スクリーン印刷等の印刷法やディスペンサによりスルーホール63に充填することができる。また、図4に示すようにスルーホール63を入力装置1の表面まで貫通させている場合は、各透明基材を積層した後に、ディスペンサにより導電性ペーストを充填することが実際的であり、こうすれば容易に層間を接続することが可能となる。   The conductive paste can be filled into the through hole 63 by a printing method such as screen printing or a dispenser. Moreover, as shown in FIG. 4, when the through hole 63 is penetrated to the surface of the input device 1, it is practical to fill the conductive paste with a dispenser after laminating each transparent base material. This makes it easy to connect the layers.

図2に示すように、抵抗膜式タッチセンサ6を構成する第3透明基材30及び第4透明基材40の対向する面の非入力領域には、それぞれ第3配線パターン34及び第4配線パターン44が形成されている。第3配線パターン34は第3透明電極層31をX1−X2方向に挟むようにY1−Y2方向に延出して形成されており、第3透明電極層31とスルーホール63とを接続している。また、第4配線パターン44は、第4透明電極層41をY1−Y2方向に挟むようにX1−X2方向に延出して形成されており、第4透明電極層41とスルーホール63とを接続する。図2及び図4に示すように、第2透明基材20の一方の面(第2透明電極層21が形成された面)には、スルーホール63を介して第3透明電極層31と電気的に接続された第3接続電極32及び、スルーホール63を介して第4透明電極層41と電気的に接続された第4接続電極42が形成される。このようにして抵抗膜式タッチセンサ6の入力位置情報は、スルーホール63を介して第2透明基材20の一方の面に引き出される。   As shown in FIG. 2, the third wiring pattern 34 and the fourth wiring are formed in the non-input areas on the opposing surfaces of the third transparent substrate 30 and the fourth transparent substrate 40 constituting the resistive film type touch sensor 6, respectively. A pattern 44 is formed. The third wiring pattern 34 is formed to extend in the Y1-Y2 direction so as to sandwich the third transparent electrode layer 31 in the X1-X2 direction, and connects the third transparent electrode layer 31 and the through hole 63. . The fourth wiring pattern 44 is formed to extend in the X1-X2 direction so as to sandwich the fourth transparent electrode layer 41 in the Y1-Y2 direction, and connects the fourth transparent electrode layer 41 and the through hole 63. To do. As shown in FIGS. 2 and 4, the third transparent electrode layer 31 and the third transparent electrode layer 31 are electrically connected to one surface (the surface on which the second transparent electrode layer 21 is formed) of the second transparent substrate 20 through a through hole 63. The third connection electrode 32 and the fourth connection electrode 42 electrically connected to the fourth transparent electrode layer 41 through the through hole 63 are formed. In this way, the input position information of the resistive touch sensor 6 is drawn out to one surface of the second transparent substrate 20 through the through hole 63.

各透明基材に形成された第1配線パターン14、第2配線パターン24、第3配線パターン34、及び第4配線パターン44は、銀、銅などを含み構成された導電性ペーストを用い、スクリーン印刷法やインクジェット印刷法などの印刷法により形成することが可能である。あるいは、スパッタ法や蒸着法などの薄膜法で形成しても良い。   The first wiring pattern 14, the second wiring pattern 24, the third wiring pattern 34, and the fourth wiring pattern 44 formed on each transparent base material use a conductive paste including silver, copper, etc., and screen It can be formed by a printing method such as a printing method or an inkjet printing method. Or you may form by thin film methods, such as a sputtering method and a vapor deposition method.

図5(a)及び図5(b)には、それぞれ第1透明基材10及び第2透明基材20におけるY1方向の非入力領域付近の部分拡大平面図を示す。図5(c)には、第1透明基材10と第2透明基材20とを積層した時の、部分拡大平面図を示す。なお、図5(a)〜図5(c)はいずれも、第1透明電極層11及び第2透明電極層21が形成された面から見た時の部分拡大平面図である。   FIGS. 5A and 5B are partial enlarged plan views of the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20 near the non-input area in the Y1 direction, respectively. In FIG.5 (c), the partial enlarged plan view when the 1st transparent base material 10 and the 2nd transparent base material 20 are laminated | stacked is shown. 5A to 5C are partially enlarged plan views when viewed from the surface on which the first transparent electrode layer 11 and the second transparent electrode layer 21 are formed.

図5(a)に示すように、第1透明基材10のY1方向の非入力領域にはFPC64と接続するための第1接続領域13が設けられている。第1接続領域13には、第1透明電極層11と電気的に接続された第1接続電極12が形成されており、FPC接続端子65と電気的に接続される。また、図5(b)に示すように、第2透明基材20のY1方向の非入力領域には、FPC64と接続するための第2接続領域23が設けられている。第2接続領域23には、第2透明電極層21と電気的に接続された第2接続電極22が形成されている。また、第2接続領域23にはスルーホール63を介して第3透明電極層31と電気的に接続された第3接続電極32及び、スルーホール63を介して第4透明電極層41と電気的に接続された第4接続電極42が形成されている。   As shown to Fig.5 (a), the 1st connection area | region 13 for connecting with FPC64 is provided in the non-input area | region of the 1st transparent base material 10 at the Y1 direction. A first connection electrode 12 that is electrically connected to the first transparent electrode layer 11 is formed in the first connection region 13 and is electrically connected to the FPC connection terminal 65. Further, as shown in FIG. 5B, a second connection region 23 for connecting to the FPC 64 is provided in the non-input region in the Y1 direction of the second transparent base material 20. A second connection electrode 22 that is electrically connected to the second transparent electrode layer 21 is formed in the second connection region 23. The second connection region 23 is electrically connected to the third connection electrode 32 electrically connected to the third transparent electrode layer 31 through the through hole 63 and electrically connected to the fourth transparent electrode layer 41 through the through hole 63. The 4th connection electrode 42 connected to is formed.

図5(c)に示すように、第1透明基材10の第1接続領域13と第2透明基材20の第2接続領域23とは平面視で並設するように形成されている。また、第2透明基材20の、第1接続領域13と重なる部分には切り欠きが設けられており、第1接続領域13は第2接続領域23と並設して入力装置1の一方の面に露出される。   As shown in FIG. 5C, the first connection region 13 of the first transparent base material 10 and the second connection region 23 of the second transparent base material 20 are formed side by side in a plan view. In addition, a cutout is provided in a portion of the second transparent base material 20 that overlaps the first connection region 13, and the first connection region 13 is provided side by side with the second connection region 23, so that one of the input devices 1 Exposed to the surface.

このような構成とすることにより、第1接続電極12、第2接続電極22、第3接続電極32、及び第4接続電極42は、入力装置1の一方の面の非入力領域において平面視で並設される。これにより、FPC64の一方の面と対向させて平面的に接続することができるため、接続工程を容易に行うことができる。また、各接続電極は2つの透明基材上に集約することができ、FPC64の一方の面と接続されることから、従来の4つの透明基材上に各接続電極を形成した場合よりも、入力装置1の各基材の熱膨張、熱収縮が生じた場合でも、各接続電極に作用する応力を緩和することが容易であり、接続信頼性を確保することができる。   By adopting such a configuration, the first connection electrode 12, the second connection electrode 22, the third connection electrode 32, and the fourth connection electrode 42 are viewed in a plan view in the non-input region on one surface of the input device 1. It is installed side by side. Thereby, since it can oppose with one side of FPC64 and it can connect in a plane, a connection process can be performed easily. Moreover, since each connection electrode can be aggregated on two transparent base materials and is connected to one surface of the FPC 64, compared to the case where each connection electrode is formed on four conventional transparent base materials, Even when thermal expansion and thermal contraction of each base material of the input device 1 occur, it is easy to relieve stress acting on each connection electrode, and connection reliability can be ensured.

さらに、静電容量式タッチセンサ4の接続工程、及び抵抗膜式タッチセンサ6の接続工程を、同一のFPC64を用い同一の接続工程で行うことができるため製造コストが抑制される。また、従来の入力装置は各接続電極との接続に複数のFPCが必要であったが、本実施形態の入力装置1は、1つのFPC64によって各接続電極との接続が可能となるため、製造コストを低減することが可能となる。   Furthermore, since the connection process of the capacitive touch sensor 4 and the connection process of the resistive touch sensor 6 can be performed in the same connection process using the same FPC 64, the manufacturing cost is suppressed. In addition, the conventional input device requires a plurality of FPCs for connection to each connection electrode. However, the input device 1 according to the present embodiment can be connected to each connection electrode by one FPC 64. Costs can be reduced.

また、入力装置1の一方の面とFPC64の一方の面とが接続されるため、FPC64の厚み及びFPC64と各接続領域間の接着剤の厚みの影響により入力装置1の入力面側に凹凸やうねりが現れることを抑制できる。したがって、平坦な入力面を有する入力装置1を提供することが可能である。   Further, since one surface of the input device 1 and one surface of the FPC 64 are connected, the input device 1 has an uneven surface on the input surface side due to the influence of the thickness of the FPC 64 and the thickness of the adhesive between the FPC 64 and each connection region. Swelling can be suppressed. Therefore, it is possible to provide the input device 1 having a flat input surface.

なお、各接続電極とFPC接続端子65との接着には、異方性導電接着剤を用いることができる。異方性導電接着剤は、エポキシ樹脂などの導電性を有しないバインダー材に、金属メッキされた樹脂ビーズなどの導電粒子を均一に分散させたものである。各接続電極とFPC接続端子65との間に異方性導電接着剤を挟んだ状態で、熱及び圧力を加えて硬化させると、厚み方向においては導電粒子が対向する電極に接触し、電極間を導通状態としつつ、平面方向においては絶縁状態を維持することができるものである。   An anisotropic conductive adhesive can be used for bonding each connection electrode to the FPC connection terminal 65. The anisotropic conductive adhesive is obtained by uniformly dispersing conductive particles such as metal-plated resin beads in a binder material having no conductivity such as an epoxy resin. When the anisotropic conductive adhesive is sandwiched between the connection electrodes and the FPC connection terminal 65 and cured by applying heat and pressure, the conductive particles come into contact with the opposing electrodes in the thickness direction. Can be maintained in an insulating state in the planar direction.

本実施形態の入力装置1において、第2透明基材20の第2接続領域23に第3接続電極32及び第4接続電極42を形成して、抵抗膜式タッチセンサ6からの出力を取り出している。しかし、この態様に限らず、抵抗膜式タッチセンサ6から引き出された第3接続電極32及び第4接続電極42を第1透明基材10の第1接続領域13に設けることも可能である。この場合、第1接続領域13の面積を増やすとともに、第2透明基材20の第1接続領域13と平面的に重なる部分の切り欠きの面積も大きくする。これにより、第1接続領域13は第2接続領域23と並設して入力装置1の一方の面に露出されて、第1接続電極12、第2接続電極22、第3接続電極32及び第4接続電極42が平面視で並設される。また、スルーホール63は第1透明基材10と第4透明基材40に貫通させて層間を接続すればよい。   In the input device 1 of the present embodiment, the third connection electrode 32 and the fourth connection electrode 42 are formed in the second connection region 23 of the second transparent base material 20, and the output from the resistive film type touch sensor 6 is extracted. Yes. However, the present invention is not limited to this aspect, and it is possible to provide the third connection electrode 32 and the fourth connection electrode 42 drawn out from the resistive touch sensor 6 in the first connection region 13 of the first transparent substrate 10. In this case, while increasing the area of the 1st connection area | region 13, the area of the notch of the part which planarly overlaps with the 1st connection area | region 13 of the 2nd transparent base material 20 is also enlarged. As a result, the first connection region 13 is juxtaposed with the second connection region 23 and exposed on one surface of the input device 1, and the first connection electrode 12, the second connection electrode 22, the third connection electrode 32, and the first connection region 13 are exposed. Four connection electrodes 42 are juxtaposed in plan view. Further, the through hole 63 may penetrate the first transparent base material 10 and the fourth transparent base material 40 to connect the layers.

図6は第1の実施形態の変形例を示す、図1のIII−III線と対応する箇所で切断した入力装置1の断面図である。図6に示すように、共通基材50の一方の面には抵抗膜式タッチセンサ6を構成する第4透明電極層41が積層されており、他方の面には静電容量式タッチセンサ4を構成する第1透明電極層11が積層されている。すなわち、本変形例の入力装置1では、図1から図4で示した第1透明基材10と第4透明基材40とを1層の共通基材50で共用することができる。共通基材50には、第4透明基材40と同様に例えばPC、PET、PES、PMMA等の透明な樹脂基板を用い、その厚みは0.5mmから1.5mm、例えば1.0mm程度で形成される。   FIG. 6 is a cross-sectional view of the input device 1 taken along a line corresponding to the line III-III in FIG. 1, showing a modification of the first embodiment. As shown in FIG. 6, the fourth transparent electrode layer 41 constituting the resistive film type touch sensor 6 is laminated on one surface of the common base material 50, and the capacitive touch sensor 4 is formed on the other surface. The 1st transparent electrode layer 11 which comprises is laminated | stacked. That is, in the input device 1 of this modification, the first transparent base material 10 and the fourth transparent base material 40 shown in FIGS. 1 to 4 can be shared by a single layer of the common base material 50. For the common base material 50, a transparent resin substrate such as PC, PET, PES, PMMA or the like is used similarly to the fourth transparent base material 40, and the thickness is about 0.5 mm to 1.5 mm, for example, about 1.0 mm. It is formed.

また、図7は第1の実施形態の変形例を示す、図1のIV−IV線と対応する箇所で切断した入力装置1の断面図である。本変形例において、共通基材50の他方の面に第1接続領域13(図示しない)が形成されており、第1透明電極層11と電気的に接続された第1接続電極12が形成されている。また、図7に示すように、共通基材50及び第2の透明基材20にスルーホール63が貫通して形成されており、抵抗膜式タッチセンサ6からの入力位置情報は、スルーホール63を介して第2透明基材20の一方の面に形成された第3接続電極32及び第4接続電極42に引き出される。これにより、第1接続電極12、第2接続電極22、第3接続電極32、及び第4接続電極42は、入力装置1の一方の面において平面視で並設される。   FIG. 7 is a cross-sectional view of the input device 1 taken along the line IV-IV in FIG. 1, showing a modification of the first embodiment. In this modification, the first connection region 13 (not shown) is formed on the other surface of the common base material 50, and the first connection electrode 12 electrically connected to the first transparent electrode layer 11 is formed. ing. Further, as shown in FIG. 7, a through hole 63 is formed through the common base material 50 and the second transparent base material 20, and the input position information from the resistive film type touch sensor 6 is the through hole 63. Through the third connection electrode 32 and the fourth connection electrode 42 formed on one surface of the second transparent substrate 20. As a result, the first connection electrode 12, the second connection electrode 22, the third connection electrode 32, and the fourth connection electrode 42 are arranged side by side in a plan view on one surface of the input device 1.

本変形例においても、FPC64の一方の面と対向させて各接続電極と平面的に接続することができるため、接続工程を容易に行うことができる。また、各接続電極を2つの透明基材上に集約することができ、入力装置1の各基材の熱膨張、熱収縮が生じた場合でも、各接続電極に作用する応力を従来よりも緩和することが容易であり、接続信頼性を確保することができる。また、図1から図4で示した入力装置1から1枚の透明基材と1層分の粘着層を省く事ができるため、低コスト化及び薄型化を実現できる。   Also in this modification, since it can be connected to each connection electrode in a plan view so as to face one surface of the FPC 64, the connection process can be easily performed. Moreover, each connection electrode can be collected on two transparent base materials, and even when thermal expansion and thermal contraction of each base material of the input device 1 occur, the stress acting on each connection electrode is alleviated compared to the conventional case. It is easy to do, and connection reliability can be ensured. Moreover, since one transparent base material and one adhesion layer can be omitted from the input device 1 shown in FIGS. 1 to 4, cost reduction and thickness reduction can be realized.

なお、本変形例において、第3接続電極32及び第4接続電極42を共通基材50の第1接続領域13に設けることも可能である。この場合、共通基材50にスルーホール63を形成すれば、抵抗膜式タッチセンサ6からの入力位置情報を取り出すことができる。   In the present modification, the third connection electrode 32 and the fourth connection electrode 42 can be provided in the first connection region 13 of the common base material 50. In this case, if the through hole 63 is formed in the common base material 50, the input position information from the resistive film type touch sensor 6 can be taken out.

<第2の実施形態>
図8は、第2の実施形態における入力装置2の分解斜視図である。図9は、図8のIX−IX線で切断した入力装置2の断面図であり、図10は、図8のX−X線で切断した入力装置2の断面図である。
<Second Embodiment>
FIG. 8 is an exploded perspective view of the input device 2 according to the second embodiment. 9 is a cross-sectional view of the input device 2 cut along line IX-IX in FIG. 8, and FIG. 10 is a cross-sectional view of the input device 2 cut along line XX in FIG.

図8〜図10に示すように、第2の実施形態の入力装置2は、抵抗膜式タッチセンサ6の入力面側に静電容量式タッチセンサ4が積層されている。また、静電容量式タッチセンサ4の入力面側には、加飾層62が形成された加飾フィルム61が積層されている。静電容量式タッチセンサ4及び抵抗膜式タッチセンサ6を構成する各透明基材、各透明電極層、及び各配線パターンについて、第1の実施形態の入力装置1と同様の内容は、繰り返しになるため詳細な説明は省略する。   As shown in FIGS. 8 to 10, in the input device 2 of the second embodiment, the capacitive touch sensor 4 is stacked on the input surface side of the resistive touch sensor 6. In addition, a decorative film 61 in which a decorative layer 62 is formed is laminated on the input surface side of the capacitive touch sensor 4. The same contents as those of the input device 1 of the first embodiment are repeated for each transparent substrate, each transparent electrode layer, and each wiring pattern constituting the capacitive touch sensor 4 and the resistive touch sensor 6. Therefore, detailed description is omitted.

本実施形態の入力装置2においても、静電容量式タッチセンサ4と抵抗膜式タッチセンサ6とが併用されていることから、入力器具に制限されることなく多様な入力操作に対応することができる。本実施形態において、静電容量式タッチパネル4が入力面側に配置されていることから静電容量式タッチセンサ4の感度が良好であり、指や導電性の入力器具によるスムーズな入力操作が可能となる。   Also in the input device 2 of the present embodiment, since the capacitive touch sensor 4 and the resistive touch sensor 6 are used in combination, it is possible to cope with various input operations without being limited to input devices. it can. In this embodiment, since the capacitive touch panel 4 is arranged on the input surface side, the sensitivity of the capacitive touch sensor 4 is good, and a smooth input operation with a finger or a conductive input device is possible. It becomes.

次に、本実施形態の入力装置2における、入力位置情報を取り出すための構成を説明する。本実施形態においても、図5(a)及び図5(b)と同様に、第1透明基材10及び第2透明基材20のY1側非入力領域に、それぞれ第1接続領域13及び第2接続領域23が設けられている。第1接続領域13には第1透明電極層11と電気的に接続された第1接続電極12が形成され、第2接続領域23には第2透明電極層21と電気的に接続された第2接続電極22が形成されている。   Next, a configuration for extracting input position information in the input device 2 of the present embodiment will be described. Also in the present embodiment, as in FIGS. 5A and 5B, the first connection region 13 and the first connection region 13 are respectively formed in the Y1 side non-input region of the first transparent substrate 10 and the second transparent substrate 20. Two connection regions 23 are provided. A first connection electrode 12 electrically connected to the first transparent electrode layer 11 is formed in the first connection region 13, and a second connection region 23 is electrically connected to the second transparent electrode layer 21. Two connection electrodes 22 are formed.

第1接続領域13と第2接続領域23とは平面視で並設するように設けられており、第2透明基材20の、第1接続領域13と対向する箇所には切り欠きが形成されている。また、第3透明基材30及び第4透明基材40の、第1接続領域13及び第2接続領域23と対向する箇所にも切り欠きが形成されている。これにより、第1接続領域13と第2接続領域23は、入力装置2の一方の面に並設されて露出される。   The first connection region 13 and the second connection region 23 are provided so as to be juxtaposed in a plan view, and a cutout is formed at a location of the second transparent substrate 20 facing the first connection region 13. ing. Moreover, the notch is formed also in the location which opposes the 1st connection area | region 13 and the 2nd connection area | region 23 of the 3rd transparent base material 30 and the 4th transparent base material 40. FIG. As a result, the first connection region 13 and the second connection region 23 are juxtaposed on one surface of the input device 2 and exposed.

また、図8及び図10に示すように、抵抗膜式タッチセンサ6を構成する第3透明基材30及び第4透明基材40のY1側非入力領域には、スルーホール63が貫通して設けられている。第3透明電極層31及び第4透明電極層41で検知された入力位置情報は、スルーホール63を介して第2透明基材20の一方の面に引き出される。第2透明基材20の第2接続領域23には、第3接続電極32及び第4接続電極42が並設されており、第3透明電極層31と第3接続電極32とがスルーホール63を介して電気的に接続され、また、第4透明電極層41と第4接続電極42とがスルーホール63を介して電気的に接続される。   Further, as shown in FIGS. 8 and 10, a through hole 63 penetrates the Y1 side non-input area of the third transparent base material 30 and the fourth transparent base material 40 constituting the resistive film type touch sensor 6. Is provided. The input position information detected by the third transparent electrode layer 31 and the fourth transparent electrode layer 41 is drawn out to one surface of the second transparent substrate 20 through the through hole 63. In the second connection region 23 of the second transparent base material 20, the third connection electrode 32 and the fourth connection electrode 42 are arranged in parallel, and the third transparent electrode layer 31 and the third connection electrode 32 are connected to the through hole 63. In addition, the fourth transparent electrode layer 41 and the fourth connection electrode 42 are electrically connected through the through hole 63.

このような構成とすることにより、第1接続電極12、第2接続電極22、第3接続電極32、及び第4接続電極42は、入力装置2の非入力領域において平面視で並設される。これにより、FPC64の一方の面と各接続電極を対向させて平面的に接続することができるため、接続工程が容易になる。また、入力装置2に応力が加えられた場合や、各基材の熱膨張、熱収縮が生した場合でも、応力を緩和することが可能となるため、接続信頼性を確保することができる。   With this configuration, the first connection electrode 12, the second connection electrode 22, the third connection electrode 32, and the fourth connection electrode 42 are juxtaposed in a plan view in the non-input region of the input device 2. . Accordingly, since one surface of the FPC 64 and each connection electrode can be opposed to each other and connected in a plane, the connection process is facilitated. In addition, even when stress is applied to the input device 2 or when thermal expansion or thermal contraction of each base material occurs, the stress can be relaxed, so that connection reliability can be ensured.

なお本実施形態において、スルーホール63を第3透明基材30に形成すれば、抵抗膜式タッチセンサ6の入力位置情報を第2透明基材20の一方の面に引き出すことが可能である。しかし、図10に示すように、第3透明基材30及び第4透明基材40を貫通してスルーホール63を設けることがより好ましい。こうすれば各透明基材を積層した後にスルーホール63の内部に導電性ペーストを充填することができるため、層間を電気的に接続する工程が容易になり、層間接続信頼性を向上させることができる。   In the present embodiment, if the through hole 63 is formed in the third transparent base material 30, it is possible to draw the input position information of the resistive film type touch sensor 6 to one surface of the second transparent base material 20. However, as shown in FIG. 10, it is more preferable to provide the through hole 63 through the third transparent substrate 30 and the fourth transparent substrate 40. In this way, since the conductive paste can be filled in the through holes 63 after laminating the transparent substrates, the process of electrically connecting the layers becomes easy and the interlayer connection reliability can be improved. it can.

なお、本実施形態の入力装置2において、第1透明基材10の第1接続領域13に第3接続電極32及び第4接続電極42を形成することも可能である。この場合、スルーホール63を第2透明基材20及び第3透明基材30に形成すれば、抵抗膜式タッチセンサ6の入力位置情報を第1透明基材10に取り出すことができる。   In the input device 2 of the present embodiment, the third connection electrode 32 and the fourth connection electrode 42 can be formed in the first connection region 13 of the first transparent substrate 10. In this case, if the through hole 63 is formed in the second transparent base material 20 and the third transparent base material 30, input position information of the resistive film type touch sensor 6 can be taken out to the first transparent base material 10.

図11及び図12には第2の実施形態の変形例を示す。図11は、図8のIX−IX線と対応する箇所で切断した入力装置2の断面図である。図8に示すように、共通基材51の一方の面には静電容量式タッチセンサ4を構成する第2透明電極層21が積層されており、他方の面には抵抗膜式タッチセンサ6を構成する第3透明電極層31が積層されている。すなわち、本変形例の入力装置2は図8から図10で示した第2透明基材20と第3透明基材30とを1層の共通基材51で共用することができる。本変形例の共通基材51は、抵抗膜式タッチセンサ6の入力面側に配置されており、押圧動作に応じて柔軟に変形可能なフィルム状の材料を用いる。共通基材51には、例えばPETなどの透明な樹脂材料を用いることができる。また、その厚みは100μm〜200μm、例えば188μm程度に形成される。   11 and 12 show a modification of the second embodiment. FIG. 11 is a cross-sectional view of the input device 2 cut at a position corresponding to the line IX-IX in FIG. As shown in FIG. 8, the second transparent electrode layer 21 constituting the capacitive touch sensor 4 is laminated on one surface of the common base 51, and the resistive touch sensor 6 is disposed on the other surface. A third transparent electrode layer 31 is stacked. That is, the input device 2 of this modification can share the second transparent base material 20 and the third transparent base material 30 shown in FIGS. 8 to 10 with a single common base material 51. The common base material 51 of this modification is disposed on the input surface side of the resistive touch sensor 6 and uses a film-like material that can be flexibly deformed in accordance with the pressing operation. For the common base material 51, for example, a transparent resin material such as PET can be used. Further, the thickness is formed to be 100 μm to 200 μm, for example, about 188 μm.

本変形例では図8から図10で示した入力装置2から、1層分の透明基材と、1層分の粘着層とを省くことができるため、低コスト化及び薄型化を図ることができる。また、抵抗膜式タッチセンサ6の入力面側に積層される透明基材及び粘着層の合計厚さを減らすことができるため、押圧操作時における入力抵抗を低減することが可能となる。   In this modification, since the transparent base material for one layer and the adhesive layer for one layer can be omitted from the input device 2 shown in FIGS. 8 to 10, the cost and thickness can be reduced. it can. Further, since the total thickness of the transparent base material and the adhesive layer laminated on the input surface side of the resistive film type touch sensor 6 can be reduced, the input resistance during the pressing operation can be reduced.

図12は、第2の実施形態の変形例を示す、図8のX−X線と対応する箇所で切断した入力装置2の断面図である。本変形例における入力装置2において、共通基材51及び第4透明基材40にスルーホール63が貫通して設けられている。また、共通基材51の一方の面の非入力領域には、第3接続電極32及び第4接続電極42が設けられている。抵抗膜式タッチセンサ6の第3透明電極層31はスルーホール63を介して第3接続電極32と電気的に接続され、第4透明電極層41はスルーホール63を介して第4接続電極42と電気的に接続される。これにより、抵抗膜式タッチセンサ6の入力位置情報は共通基材51の一方の面(第2透明基材20が積層された面)に引き出される。   FIG. 12 is a cross-sectional view of the input device 2 taken along a line corresponding to the line XX in FIG. 8, showing a modification of the second embodiment. In the input device 2 in the present modification, a through hole 63 is provided through the common base material 51 and the fourth transparent base material 40. Further, the third connection electrode 32 and the fourth connection electrode 42 are provided in the non-input region on one surface of the common base material 51. The third transparent electrode layer 31 of the resistive touch sensor 6 is electrically connected to the third connection electrode 32 through the through hole 63, and the fourth transparent electrode layer 41 is connected to the fourth connection electrode 42 through the through hole 63. And electrically connected. Thereby, the input position information of the resistive film type touch sensor 6 is drawn to one surface of the common base material 51 (the surface on which the second transparent base material 20 is laminated).

本変形例において、第1透明基材10の非入力領域に第1接続領域13が形成されており、第1透明電極層11と接続された第1接続電極12が形成されている。また、第2透明基材20の非入力領域には第2接続領域23が形成されており、第2透明電極層21と接続された第2接続電極22、スルーホール63を介して第3透明電極層31と接続された第3接続電極32、及びスルーホール63を介して第4透明電極層41と接続された第4接続電極42が形成されている。   In the present modification, the first connection region 13 is formed in the non-input region of the first transparent substrate 10, and the first connection electrode 12 connected to the first transparent electrode layer 11 is formed. Further, a second connection region 23 is formed in the non-input region of the second transparent base material 20, and the third transparent electrode 22 is connected to the second transparent electrode layer 21 through the through hole 63. A third connection electrode 32 connected to the electrode layer 31 and a fourth connection electrode 42 connected to the fourth transparent electrode layer 41 through the through hole 63 are formed.

本変形例においても、第1接続電極12、第2接続電極22、第3接続電極32、及び第4接続電極42は、入力装置2の非入力領域において平面視で並設される。これにより、FPC64の一方の面と各接続電極を対向させて平面的に接続することができるため、接続工程が容易になり、また、応力を緩和することが可能となるため接続信頼性が向上する。   Also in this modification, the first connection electrode 12, the second connection electrode 22, the third connection electrode 32, and the fourth connection electrode 42 are juxtaposed in a plan view in the non-input region of the input device 2. As a result, since one surface of the FPC 64 and each connection electrode can be opposed to each other and connected in a plane, the connection process is facilitated, and stress can be relieved, thereby improving connection reliability. To do.

1、2 入力装置
4 静電容量式タッチセンサ
6 抵抗膜式タッチセンサ
10 第1透明基材
11 第1透明電極層
12 第1接続電極
13 第1接続領域
20 第2透明基材
21 第2透明電極層
22 第2接続電極
23 第2接続領域
30 第3透明基材
31 第3透明電極層
32 第3接続電極
34 第3配線パターン
40 第4透明基材
41 第4透明電極層
42 第4接続電極
50、51 共通基材
63 スルーホール
64 FPC
65 FPC接続端子
66、67、68、69 粘着層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Input device 4 Capacitance type touch sensor 6 Resistive film type touch sensor 10 1st transparent base material 11 1st transparent electrode layer 12 1st connection electrode 13 1st connection area 20 2nd transparent base material 21 2nd transparent Electrode layer 22 Second connection electrode 23 Second connection region 30 Third transparent substrate 31 Third transparent electrode layer 32 Third connection electrode 34 Third wiring pattern 40 Fourth transparent substrate 41 Fourth transparent electrode layer 42 Fourth connection Electrode 50, 51 Common base material 63 Through hole 64 FPC
65 FPC connection terminal 66, 67, 68, 69 Adhesive layer

Claims (9)

静電容量の変化により入力位置を検知する静電容量式タッチセンサと、
抵抗値の変化により入力位置を検知する抵抗膜式タッチセンサと、が積層され、
前記静電容量式タッチセンサは、一方の面に第1透明電極層が形成された第1透明基材と、一方の面に第2透明電極層が形成された第2透明基材とを有し、前記第1透明基材の一方の面と、前記第2透明基材の他方の面とが対向して積層され、
前記抵抗膜式タッチセンサは、一方の面に第3透明電極層が形成された第3透明基材と、一方の面に第4透明電極層が形成された第4透明基材とを有し、前記第3透明電極層と前記第4透明電極層とが空間を設けて対向して積層され、
前記第3透明基材及び前記第4透明基材の少なくとも一方には、前記第3透明電極層及び第4透明電極層を外部に引き出すためのスルーホールが形成されており、
前記第1透明基材の一方の面及び前記第2透明基材の一方の面にはそれぞれ、外部の回路基板と接続するための第1接続領域及び第2接続領域が、平面視で並設されており、
前記第1接続領域には、前記第1透明電極層と電気的に接続された第1接続電極が設けられ、
前記第2接続領域には、前記第2透明電極層と電気的に接続された第2接続電極が設けられ、
前記スルーホールを介して前記第3透明電極層と電気的に接続された第3接続電極及び、前記スルーホールを介して前記第4透明電極層と電気的に接続された第4接続電極が、前記第1接続領域または前記第2接続領域に設けられ、
前記第1接続電極、前記第2接続電極、前記第3接続電極及び前記第4接続電極が平面視で並設されていることを特徴とする入力装置。
A capacitive touch sensor that detects an input position by a change in capacitance;
A resistive film type touch sensor that detects an input position by a change in resistance value is laminated,
The capacitive touch sensor has a first transparent substrate having a first transparent electrode layer formed on one surface and a second transparent substrate having a second transparent electrode layer formed on one surface. And one surface of the first transparent substrate and the other surface of the second transparent substrate are laminated facing each other,
The resistive film type touch sensor includes a third transparent substrate having a third transparent electrode layer formed on one surface and a fourth transparent substrate having a fourth transparent electrode layer formed on one surface. The third transparent electrode layer and the fourth transparent electrode layer are laminated to face each other with a space,
At least one of the third transparent substrate and the fourth transparent substrate is formed with a through hole for drawing out the third transparent electrode layer and the fourth transparent electrode layer to the outside.
A first connection region and a second connection region for connecting to an external circuit board are arranged side by side in plan view on one surface of the first transparent substrate and one surface of the second transparent substrate, respectively. Has been
The first connection region is provided with a first connection electrode electrically connected to the first transparent electrode layer,
In the second connection region, a second connection electrode electrically connected to the second transparent electrode layer is provided,
A third connection electrode electrically connected to the third transparent electrode layer via the through hole, and a fourth connection electrode electrically connected to the fourth transparent electrode layer via the through hole, Provided in the first connection region or the second connection region;
The input device, wherein the first connection electrode, the second connection electrode, the third connection electrode, and the fourth connection electrode are juxtaposed in a plan view.
前記抵抗膜式タッチセンサが、前記静電容量式タッチセンサの入力面側に積層されていることを特徴とする、請求項1に記載の入力装置。   The input device according to claim 1, wherein the resistive touch sensor is stacked on an input surface side of the capacitive touch sensor. 前記第4透明基材、前記第1透明基材及び前記第2透明基材を貫通するスルーホールが設けられていることを特徴とする請求項2に記載の入力装置。   The input device according to claim 2, wherein a through-hole penetrating the fourth transparent base material, the first transparent base material, and the second transparent base material is provided. 前記第3透明基材の他方の面が入力面を構成しており、前記第4透明基材と前記第1透明基材とが同一の共通基材から構成され、前記第4透明電極層が前記共通基材の一方の面に形成されるとともに、前記第1透明電極層が前記共通基材の他方の面に形成されており、前記共通基材には、前記第3透明電極層及び前記第4透明電極層と、前記第3接続電極及び前記第4接続電極とをそれぞれ接続するためのスルーホールが形成されていることを特徴とする請求項2に記載の入力装置。   The other surface of the third transparent substrate constitutes an input surface, the fourth transparent substrate and the first transparent substrate are composed of the same common substrate, and the fourth transparent electrode layer is The first transparent electrode layer is formed on one surface of the common base material, and the first transparent electrode layer is formed on the other surface of the common base material. The input device according to claim 2, wherein a through hole for connecting the fourth transparent electrode layer, the third connection electrode, and the fourth connection electrode is formed. 前記共通基材及び前記第2透明基材を貫通するスルーホールが設けられていることを特徴とする請求項4に記載の入力装置。   The input device according to claim 4, wherein a through-hole penetrating the common base material and the second transparent base material is provided. 前記静電容量式タッチセンサが、前記抵抗膜式タッチセンサの入力面側に積層されていることを特徴とする、請求項1に記載の入力装置。   The input device according to claim 1, wherein the capacitive touch sensor is laminated on an input surface side of the resistive touch sensor. 前記第3透明基材及び前記第4透明基材を貫通するスルーホールが設けられていることを特徴とする請求項6に記載の入力装置。   The input device according to claim 6, wherein a through-hole penetrating the third transparent substrate and the fourth transparent substrate is provided. 前記第1透明基材の他方の面が入力面を構成しており、前記第2透明基材と前記第3透明基材とが同一の共通基材から構成され、前記第2透明電極層が前記共通基材の一方の面に形成されるとともに、前記第3透明電極層が前記共通基材の他方の面に形成されており、前記共通基材には、前記第3透明電極層及び前記第4透明電極層と、前記第3接続電極及び前記第4接続電極とをそれぞれ接続するためのスルーホールが形成されていることを特徴とする請求項6に記載の入力装置。   The other surface of the first transparent substrate constitutes an input surface, the second transparent substrate and the third transparent substrate are composed of the same common substrate, and the second transparent electrode layer is The third transparent electrode layer is formed on one surface of the common base material, and the third transparent electrode layer is formed on the other surface of the common base material. The input device according to claim 6, wherein through-holes for connecting the fourth transparent electrode layer, the third connection electrode, and the fourth connection electrode are formed. 前記共通基材及び前記第4透明基材を貫通するスルーホールが設けられていることを特徴とする請求項8に記載の入力装置。
The input device according to claim 8, wherein a through hole penetrating the common base material and the fourth transparent base material is provided.
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