JP2012119470A - Wiring board - Google Patents
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Abstract
【課題】 軽量で、割れが生じにくく、CAFの発生及びビア形成工程におけるスミア発生を抑制し、更に低フィラー充填率で低線膨張である配線基板を提供することを課題とする。
【解決手段】 熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光(活性エネルギー線)硬化性樹脂などの樹脂中に、例えば、植物由来原料から得られるセルロースを含有する物質から精製を経て不純物を除去した後、解繊することにより得られる、数平均繊維径4〜1000nmのセルロース繊維が分散してなる、配線基板。
【選択図】 なしPROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board that is lightweight, hardly cracks, suppresses generation of CAF and smear in a via formation process, and further has a low filler filling rate and low linear expansion.
[MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] After removing impurities in a resin such as a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a light (active energy ray) curable resin from a substance containing cellulose obtained from a plant-derived raw material through purification, for example. A wiring substrate obtained by dispersing cellulose fibers having a number average fiber diameter of 4 to 1000 nm obtained by defibrating.
[Selection figure] None
Description
本発明は、電子部品として用いられるプリント配線板などの配線基板に関する。 The present invention relates to a wiring board such as a printed wiring board used as an electronic component.
プリント配線板などの配線基板は様々な用途に使用されており、種々の高い特性が求められている。配線基板の材料には絶縁性、高伝熱、低線膨張、難燃性が求められ、柔軟性の無いリジッド基板材料としては、例えば紙フェノールやガラスエポキシ基板が、フレキシブル基板材料としては、例えばポリイミドやポリエステルのフィルムが挙げられる。近年の電子機器の小型化、軽量化に伴い、部品の実装密度及び配線密度の緻密化が進んでいるが、これら配線基板材料は以下に述べるような課題を有しており、より一層の緻密化が困難であった。 Wiring boards such as printed wiring boards are used in various applications, and various high characteristics are required. Insulating properties, high heat transfer, low linear expansion, and flame retardancy are required for the wiring board material. Examples of rigid board materials having no flexibility include paper phenol and glass epoxy boards, and examples of flexible board materials include: Examples include polyimide and polyester films. As electronic devices have become smaller and lighter in recent years, the mounting density of components and the density of wiring have been increased. However, these wiring board materials have the following problems and are becoming more dense. It was difficult to convert.
例えば、ガラスエポキシ基板(FR−4)は、ガラス繊維からなるガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸・熱硬化させたもので、表面実装用・多層基板に多用されている。しかし、FR−4は、非特許文献1に示すように、銅電極とガラス繊維との接触に起因する短絡現象(Conductive Anodic Filaments; CAF)が課題となっている。また、ガラス繊維は本来的に硬く脆い性質を有するため、FR−4は基板の割れが問題となっている。このような割れは、前述のCAFの原因とも指摘されている。また、FR−4は、薄膜化すると曲げ剛性が低下するため、回路加工工程での寸法変化やそりが大きくなりがちであった。そのため、寸法精度が低下し易く、加熱工程時に生じるたわみが大きく、部品の実装精度が低下し易いという問題点もあった。 For example, a glass epoxy substrate (FR-4) is a glass cloth made of glass fiber impregnated with epoxy resin and thermally cured, and is often used for surface mounting and multilayer substrates. However, as shown in Non-Patent Document 1, FR-4 has a problem of short circuit phenomenon (Conductive Anodic Filaments; CAF) due to contact between the copper electrode and the glass fiber. Further, since glass fiber has inherently hard and brittle properties, FR-4 has a problem of cracking the substrate. Such a crack is pointed out as a cause of the above-mentioned CAF. In addition, since the bending rigidity of FR-4 decreases when the film is thinned, the dimensional change and warpage in the circuit processing process tend to be large. For this reason, there is a problem that the dimensional accuracy is liable to be lowered, the deflection generated during the heating process is large, and the mounting accuracy of the components is liable to be lowered.
また、リジッド基板の中でも、更に実装密度が高く薄型化が要求されるビルドアップ基板には、エポキシ樹脂やポリイミドに、線膨張係数を下げるためにシリカを充填させたフィルムが採用されている。しかし、シリカのような無機物は層間ビア形成工程(レーザー加工)に焼け残り(スミア)が残留することが問題となっている。また、シリカのような球形のフィラーを採用する場合、フィルムの線膨張係数は充填率に対して線形にしか低下しないため、要求される低線膨張性を実現するためにフィラーを高充填にする必要があった。 In addition, among rigid substrates, a build-up substrate that has a higher mounting density and is required to be thinner employs a film obtained by filling an epoxy resin or polyimide with silica in order to reduce the coefficient of linear expansion. However, an inorganic material such as silica has a problem that unburned residue (smear) remains in the interlayer via formation process (laser processing). In addition, when a spherical filler such as silica is used, the linear expansion coefficient of the film only decreases linearly with respect to the filling rate, so that the filler is highly filled to achieve the required low linear expansion. There was a need.
本発明は、軽量で、割れが生じにくく、CAFの発生及びビア形成工程におけるスミア発生を抑制し、更に低フィラー充填率で低線膨張である配線基板を提供することを課題とする。 It is an object of the present invention to provide a wiring board that is light in weight, hardly cracks, suppresses the generation of CAF and smear in a via formation step, and further has a low filler filling rate and low linear expansion.
本発明者らが鋭意検討した結果、微細なセルロース繊維を樹脂中に分散した複合体を配線基板として用いることにより、上記課題が解決できることが分かり、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、樹脂中に、数平均繊維径4〜1000nmのセルロース繊維が分散してなる、配線基板に存する。
As a result of intensive studies by the present inventors, it has been found that the above problem can be solved by using a composite in which fine cellulose fibers are dispersed in a resin as a wiring board, and the present invention has been achieved.
That is, the present invention resides in a wiring board in which cellulose fibers having a number average fiber diameter of 4 to 1000 nm are dispersed in a resin.
本発明によれば、軽量で、割れが生じにくく、CAFの発生及びビア形成工程におけるスミア発生を抑制し、低フィラー充填率で低線膨張である配線基板を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a wiring board that is light in weight, hardly cracks, suppresses generation of CAF and smear in a via formation process, and has a low filler filling rate and low linear expansion.
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例(代表例)であり、これらの内容に特定はされない。
本発明の配線基板は、樹脂中に、平均繊維径4〜1000nmのセルロース繊維が均一に分散している基板であることを特徴とする。
尚、本発明における配線基板とは、リジッド基板(片面基板、両面基板、多層基板、ビルドアップ基板)、フレキシブル基板などとして用いられる基板であって、例えば、携帯電話、デジタルカメラ、中央演算処理装置(CPU)などの電子機器に用いることができる。
The description of the constituent requirements described below is an example (representative example) of the embodiment of the present invention, and the contents are not specified.
The wiring board of the present invention is a board in which cellulose fibers having an average fiber diameter of 4 to 1000 nm are uniformly dispersed in a resin.
The wiring board in the present invention is a board used as a rigid board (single-sided board, double-sided board, multilayer board, build-up board), flexible board, etc., for example, a mobile phone, a digital camera, a central processing unit. It can be used for electronic devices such as (CPU).
(1)樹脂
本発明の配線基板に含有される樹脂は、特に限定されるものではないが、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光(活性エネルギー線)硬化性樹脂などが挙げられる。
(熱可塑性樹脂)
熱可塑性樹脂としては、例えば、スチレン系樹脂、アクリル系樹脂、芳香族ポリカーボネート系樹脂、脂肪族ポリカーボネート系樹脂、芳香族ポリエステル系樹脂、脂肪族ポリエステル系樹脂、脂肪族ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリフェニレンエーテル系樹脂、熱可塑性ポリイミド系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリスルホン系樹脂、非晶性フッ素系樹脂等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(1) Resin The resin contained in the wiring board of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and a light (active energy ray) curable resin.
(Thermoplastic resin)
Examples of the thermoplastic resin include styrene resin, acrylic resin, aromatic polycarbonate resin, aliphatic polycarbonate resin, aromatic polyester resin, aliphatic polyester resin, aliphatic polyolefin resin, and cyclic olefin resin. And polyamide resins, polyphenylene ether resins, thermoplastic polyimide resins, polyacetal resins, polysulfone resins, and amorphous fluorine resins. These thermoplastic resins may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
(硬化性樹脂)
熱硬化性樹脂、光(活性エネルギー線)硬化性樹脂とは、熱または光により硬化する樹脂のことを意味する。前駆体は、通常、常温では液状、半固体状または固形状であって、常温下または加熱下で流動性を示す物質を意味する。これらは、硬化剤、触媒、熱または光の作用によって重合反応や架橋反応を起こして分子量を増大させながら、網目状の三次元構造を形成してなる不溶不融の樹脂となり得る。
(Curable resin)
The thermosetting resin and the light (active energy ray) curable resin mean a resin that is cured by heat or light. The precursor usually means a substance that is liquid, semi-solid or solid at room temperature and exhibits fluidity at room temperature or under heating. These can be insoluble and infusible resins formed by forming a network-like three-dimensional structure while increasing the molecular weight by causing a polymerization reaction or a crosslinking reaction by the action of a curing agent, a catalyst, heat or light.
(熱硬化性樹脂)
本発明における熱硬化性樹脂は特に限定されないが、例えば、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、オキセタン樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、珪素樹脂、ポリウレタン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂等の樹脂が挙げられる。
(Thermosetting resin)
Although the thermosetting resin in the present invention is not particularly limited, for example, epoxy resin, acrylic resin, oxetane resin, phenol resin, urea resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, silicon resin, polyurethane resin, diallyl phthalate resin, thermosetting Resin such as conductive polyimide resin.
(光硬化性樹脂)
本発明における光硬化性樹脂は特に限定されないが、例えば、上述の熱硬化性樹脂の説明において例示した、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、オキセタン樹脂等の樹脂またはその前駆体が挙げられる。
特に、エポキシ樹脂またはアクリル樹脂が好ましく、特にエポキシ樹脂が好ましい。
エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールアセトフェノン型エポキシ樹脂、ビスフェノールフルオレノン型エポキシ樹脂などのビスフェノール型エポキシ樹脂や、カテコール、レゾルシン、ハイドロキノンなどの単環2価フェノールのジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂や、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシジヒドロアントラセン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂や、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂等の種々のエポキシ樹脂が挙げられる。
(Photo-curing resin)
Although the photocurable resin in this invention is not specifically limited, For example, resin, such as an epoxy resin, an acrylic resin, an oxetane resin, or its precursor illustrated in the description of the above-mentioned thermosetting resin is mentioned.
In particular, an epoxy resin or an acrylic resin is preferable, and an epoxy resin is particularly preferable.
Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, bisphenol acetophenone type epoxy resin, bisphenol fluorenone type epoxy resin, and the like. Type epoxy resin, diglycidyl ether type epoxy resin of monocyclic dihydric phenol such as catechol, resorcin, hydroquinone, dihydroxy naphthalene type epoxy resin, dihydroxy dihydroanthracene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin , Glycidyl ether type epoxy resins such as bisphenol A novolac type epoxy resin, glycidyl ester Le epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resins, linear aliphatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, various epoxy resins such as heterocyclic epoxy resins.
これらのエポキシ樹脂は、アルキル基、アリール基、エーテル基、エステル基などの悪影響のない置換基で置換されていてもよい。
これらのエポキシ樹脂の中で特に好ましいものは、取り扱いのし易い、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、結晶性樹脂であり融点以上で低粘度となる4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール型エポキシ樹脂、多官能であり硬化時に高架橋密度となり耐熱性の高い硬化物が得られるフェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂などが挙げられる。
These epoxy resins may be substituted with a substituent having no adverse effect such as an alkyl group, an aryl group, an ether group or an ester group.
Among these epoxy resins, particularly preferable ones are bisphenol A type epoxy resins, bisphenol F type epoxy resins, crystalline resins which are easy to handle, and 4,4′-biphenol type epoxy resins which have a low viscosity above the melting point. , 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin which is multifunctional and has a high cross-linking density upon curing to obtain a cured product having high heat resistance, cresol novolak Type epoxy resin, bisphenol A novolac type epoxy resin and the like.
また、エポキシ樹脂は、重量平均分子量の低いモノマータイプ(例えば、Mw=200)のものから、分子量の高い高分子タイプ(例えば、Mw=90,000)のものまで使用できる。重量平均分子量が、100,000以上になると樹脂の取り扱いが困難になり、好ましくない。樹脂の取り扱い性の観点から、エポキシ樹脂の重量平均分子量は200〜80,000が好ましく、300〜60,000がより好ましい。 The epoxy resin can be used from a monomer type having a low weight average molecular weight (for example, Mw = 200) to a polymer type having a high molecular weight (for example, Mw = 90,000). When the weight average molecular weight is 100,000 or more, it becomes difficult to handle the resin, which is not preferable. From the viewpoint of the handleability of the resin, the weight average molecular weight of the epoxy resin is preferably 200 to 80,000, more preferably 300 to 60,000.
アクリル樹脂としては、例えば、 (メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリルアミド等の重合体及び共重合体などが挙げられる。なかでも、(メタ)アクリル酸(メタ)アクリル酸エステルの重合体及び共重合体などが好ましく挙げられる。
アクリル樹脂の重量平均分子量は特に制限されないが、取り扱い性の観点から、300〜3,000,000が好ましく、400〜2,500,000がより好ましい。
Examples of the acrylic resin include polymers and copolymers such as (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylic acid ester, and (meth) acrylamide. Especially, the polymer of a (meth) acrylic acid (meth) acrylic acid ester, a copolymer, etc. are mentioned preferably.
The weight average molecular weight of the acrylic resin is not particularly limited, but is preferably 300 to 3,000,000 and more preferably 400 to 2,500,000 from the viewpoint of handleability.
本発明の配線基板は、上記樹脂および/または該樹脂の前駆体、並びに、平均繊維径が4〜1000nmのセルロース繊維を含有する組成物を硬化させて形成されることが好ましい。
この場合、該樹脂の前駆体とは、該樹脂を構成するモノマーやオリゴマーを意味する。例えば、エポキシ樹脂前駆体としては、2価フェノール類が挙げられ、水酸基が芳香族環に結合したものであればどのようなものでもよい。例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールB、ビスフェノールAD、4−4’−ビフェニル、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノール等のビスフェノール類、ビフェノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
The wiring board of the present invention is preferably formed by curing the resin and / or a precursor of the resin and a composition containing cellulose fibers having an average fiber diameter of 4 to 1000 nm.
In this case, the precursor of the resin means a monomer or oligomer constituting the resin. For example, the epoxy resin precursor includes dihydric phenols, and any epoxy group may be used as long as a hydroxyl group is bonded to an aromatic ring. For example, bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol B, bisphenol AD, 4-4′-biphenyl, 3,3 ′, 5,5′-tetramethyl-4,4′-biphenol, biphenol, catechol, resorcin , Hydroquinone, dihydroxynaphthalene and the like.
また、エポキシ樹脂前駆体として、これらの2価フェノール類が、アルキル基、アリール基、エーテル基、エステル基などの非妨害性置換基で置換されたものも挙げられる。これらの2価フェノール類の中で好ましいものは、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4’−ビフェノール、3,3’,5,5’−テトラメチル−4,4’−ビフェノールである。これらの2価フェノール類は、複数種を合わせて使用することもできる。 Examples of the epoxy resin precursor include those in which these dihydric phenols are substituted with non-interfering substituents such as an alkyl group, an aryl group, an ether group, and an ester group. Among these dihydric phenols, preferred are bisphenol A, bisphenol F, 4,4'-biphenol, 3,3 ', 5,5'-tetramethyl-4,4'-biphenol. These dihydric phenols can be used in combination.
また、2価フェノール以外のものとしては多官能フェノール樹脂が挙げられ、フェノールノボラック型樹脂、ビスフェノール型ノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂、Xylok型フェノール樹脂、テルペン変性フェノール樹脂、メラミン変性フェノールノボラック樹脂、トリアジン構造含有ノボラック樹脂などが挙げられる。
アクリル樹脂前駆体としては、例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリルアミド等などが挙げられる。なかでも、(メタ)アクリル酸(メタ)アクリル酸エステルなどが好ましく挙げられる。
In addition to dihydric phenols, polyfunctional phenol resins may be mentioned, such as phenol novolac resins, bisphenol novolac resins, dicyclopentadiene phenol resins, Xylok phenol resins, terpene modified phenol resins, melamine modified phenol novolac resins. And a triazine structure-containing novolac resin.
Examples of the acrylic resin precursor include (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylic acid ester, (meth) acrylamide, and the like. Especially, (meth) acrylic acid (meth) acrylic acid ester etc. are mentioned preferably.
尚、配線基板中の樹脂の含有量は、通常1重量%以上、好ましくは20重量%以上、さらに好ましくは30重量%以上、通常99.5重量%以下、好ましくは95重量%以下、さらに好ましくは98重量%以下である。 The content of the resin in the wiring board is usually 1% by weight or more, preferably 20% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, usually 99.5% by weight or less, preferably 95% by weight or less, more preferably. Is 98 wt% or less.
(2)平均繊維径4〜1000nmのセルロース繊維
本発明に用いられるセルロース繊維の数平均繊維径は、通常1000nm以下、200nm以下が好ましく、100nm以下がより好ましく、80nm以下が特に好ましい。尚、この数平均繊維径の下限は通常4nm以上である。
なお、上記数平均繊維径は、SEMやTEM等で観察して、写真の対角線に線を引き、その近傍にある繊維をランダムに12点抽出し、最も太い繊維と最も細い繊維を除去した10点を測定して、平均した値である。
平均繊維径4〜1000nmのセルロース繊維は、特に限定されるものではないが、セルロースを含有する物質(セルロース含有物)から精製を経て不純物を除去した後、解繊することにより得られるものであることが好ましい。特に、植物由来原料から得られるセルロースを含有する物質(セルロース含有物)を原料として用いることが好ましい。
(2) Cellulose fiber having an average fiber diameter of 4 to 1000 nm The number average fiber diameter of the cellulose fiber used in the present invention is usually preferably 1000 nm or less, 200 nm or less, more preferably 100 nm or less, and particularly preferably 80 nm or less. The lower limit of the number average fiber diameter is usually 4 nm or more.
The number average fiber diameter was observed with SEM, TEM, etc., a line was drawn on the diagonal line of the photograph, and 12 fibers in the vicinity were randomly extracted to remove the thickest and thinnest fibers. It is the value obtained by measuring points and averaging.
Cellulose fibers having an average fiber diameter of 4 to 1000 nm are not particularly limited, but are obtained by defibrating after removing impurities from a cellulose-containing substance (cellulose-containing material) through purification. It is preferable. In particular, it is preferable to use as a raw material a substance (cellulose-containing material) containing cellulose obtained from plant-derived raw materials.
また、使用されるセルロース繊維の平均アスペクト比は5以上が好ましく、10以上がより好ましい。一般に樹脂中のフィラーは、その形状が高アスペクト比であるほうが低充填率でフィラー間の相互作用が働き、効果が発現するためである。
また、使用されるセルロース繊維は、化学修飾によって誘導化されたもの(化学修飾されたセルロース繊維)であってもよい。化学修飾とは、セルロース中の水酸基が化学修飾剤と反応して化学修飾されたものである。
The average aspect ratio of the cellulose fiber used is preferably 5 or more, and more preferably 10 or more. This is because, generally, the filler in the resin has a high aspect ratio, and the interaction between the fillers works at a low filling rate, thereby producing an effect.
Further, the cellulose fiber used may be one derived by chemical modification (chemically modified cellulose fiber). The chemical modification is a chemical modification in which a hydroxyl group in cellulose reacts with a chemical modifier.
化学修飾によってセルロースの水酸基に導入する置換基(水酸基中の水素原子と置換して導入される基)は特に制限されず、例えば、アセチル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、プロピオニル基、プロピオロイル基、ブチリル基、2−ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、フロイル基、シンナモイル基等のアシル基、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアノイル基等のイソシアネート基、メチル基、エチル基、プロピル基、2−プロピル基、ブチル基、2−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、ミリスチル基、パルミチル基、ステアリル基等のアルキル基、オキシラン基、オキセタン基、チイラン基、チエタン基等が挙げられる。これらの中では特にアセチル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基等の炭素数2〜12のアシル基が好ましい。 Substituents introduced into the hydroxyl group of cellulose by chemical modification (groups introduced by substituting hydrogen atoms in the hydroxyl group) are not particularly limited. For example, acetyl group, acryloyl group, methacryloyl group, propionyl group, propioroyl group, butyryl Group, 2-butyryl group, pentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, octanoyl group, nonanoyl group, decanoyl group, undecanoyl group, dodecanoyl group, myristoyl group, palmitoyl group, stearoyl group, pivaloyl group, benzoyl group, naphthoyl group, nicotinoyl Group, acyl group such as isonicotinoyl group, furoyl group, cinnamoyl group, isocyanate group such as 2-methacryloyloxyethylisocyanoyl group, methyl group, ethyl group, propyl group, 2-propyl group, butyl group, 2-butyl group, ter -Alkyl groups such as butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, myristyl group, palmityl group, stearyl group, oxirane group, oxetane group, thiirane group, Examples include a thietane group. Among these, an acyl group having 2 to 12 carbon atoms such as an acetyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, a benzoyl group, and a naphthoyl group is particularly preferable.
また、該セルロース繊維は、セルロースI型結晶構造を有することが好ましい。セルロースI型結晶は、他の結晶構造より結晶弾性率が高いため、高弾性率、高強度、低線膨張係数であり好ましい。該セルロース繊維がI型結晶構造であることは、その広角X線回折像測定により得られる回折プロファイルにおいて、2θ=14〜17°付近と2θ=22〜23°付近の二つの位置に典型的なピークをもつことから同定することができる。 Moreover, it is preferable that this cellulose fiber has a cellulose I type crystal structure. Cellulose I-type crystals are preferable because they have higher crystal elastic modulus than other crystal structures, and thus have high elastic modulus, high strength, and low linear expansion coefficient. That the cellulose fiber has the I-type crystal structure is typical at two positions near 2θ = 14-17 ° and 2θ = 22-23 ° in the diffraction profile obtained by wide-angle X-ray diffraction image measurement. It can be identified from having a peak.
尚、配線基板中のセルロース繊維の含有量は特に制限されないが、セルロース繊維の好適な含有量としては、複合体全量に対して、0.5重量%以上が好ましく、1重量%以上がより好ましく、2重量%以上がさらに好ましく、99重量%以下が好ましく、80重量%以下がより好ましく、70重量%以下がさらに好ましい。セルロース繊維の含有量が少な過ぎるとセルロース繊維による配線基板の線熱膨張係数低減の効果が不十分となる傾向がある。セルロース繊維の含有量が多過ぎると、樹脂による繊維間の接着、または繊維間の空間の充填が十分でなくなり、基板の強度、硬化したときの表面の平坦性が低下するおそれがある。 The content of the cellulose fiber in the wiring board is not particularly limited, but the preferred content of the cellulose fiber is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more based on the total amount of the composite. 2% by weight or more is more preferable, 99% by weight or less is preferable, 80% by weight or less is more preferable, and 70% by weight or less is more preferable. When there is too little content of a cellulose fiber, there exists a tendency for the effect of the linear thermal expansion coefficient reduction of the wiring board by a cellulose fiber to become inadequate. If the cellulose fiber content is too large, adhesion between the fibers by the resin or filling of the spaces between the fibers becomes insufficient, and the strength of the substrate and the flatness of the surface when cured may be reduced.
本発明の配線基板は、実質的にセルロース繊維と樹脂とから構成されることが好ましい。
配線基板中のセルロース繊維および樹脂の含有量は、例えば、樹脂と複合化する前のセルロースの重量と複合化後のセルロースの重量より求めることができる。また、樹脂が可溶な溶媒に配線基板を浸漬して樹脂のみを取り除き、残ったセルロース繊維の重量から求めることもできる。その他、熱分析や樹脂の比重から求める方法や、NMR、IRを用いて樹脂やセルロース繊維の官能基を定量して求めることもできる。
The wiring board of the present invention is preferably substantially composed of cellulose fibers and a resin.
The content of the cellulose fibers and the resin in the wiring board can be determined from, for example, the weight of cellulose before being combined with the resin and the weight of cellulose after being combined. Alternatively, the wiring board can be immersed in a solvent in which the resin is soluble to remove only the resin, and the weight can be determined from the weight of the remaining cellulose fibers. In addition, the functional group of the resin or cellulose fiber can be quantified and determined using thermal analysis or specific gravity of the resin, or NMR or IR.
(3)その他
本発明の配線基板中には、上述した樹脂及びセルロース繊維の他、必要に応じて、連鎖移動剤、紫外線吸収剤、充填剤、シランカップリング剤、光・熱重合開始剤、硬化剤などが含有されていてもよい。
なお、樹脂または樹脂前駆体として、エポキシ樹脂またはその前駆体を使用する場合は、エポキシ樹脂硬化剤が含有されていてもよい。
エポキシ樹脂硬化剤は特に限定されず、例えば、多価フェノール化合物類、アミン化合物類、酸無水物類、その他下記に挙げるようなものを用いることができる。
(3) Others In the wiring board of the present invention, in addition to the resin and cellulose fibers described above, a chain transfer agent, an ultraviolet absorber, a filler, a silane coupling agent, a photo / thermal polymerization initiator, A curing agent or the like may be contained.
In addition, when using an epoxy resin or its precursor as resin or a resin precursor, the epoxy resin hardening | curing agent may contain.
The epoxy resin curing agent is not particularly limited, and for example, polyhydric phenol compounds, amine compounds, acid anhydrides, and the following can be used.
例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、ハイドロキノン、レゾルシン、メチルレゾルシン、ビフェノール、テトラメチルビフェノール、ジヒドロキシナフタレン、ジヒドロキシジフェニルエーテル、チオジフェノール類、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、テルペンフェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール樹脂、ビスフェノールAノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ビフェニルフェノール樹脂、臭素化ビスフェノールA、臭素化フェノールノボラック樹脂などの種々の多価フェノール類や、種々のフェノール類とベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、クロトンアルデヒド、グリオキザールなどの種々のアルデヒド類との縮合反応で得られる多価フェノール樹脂類や、重質油またはピッチ類とフェノール類とホルムアルデヒド類との共縮合樹脂等の各種のフェノール樹脂類や、それら各種のフェノール(樹脂)類のフェノール性水酸基の全部もしくは一部をベンゾエート化あるいはアセテート化などのエステル化することによって得られる活性エステル化合物類や、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水ピロメリット酸、メチルナジック酸等の酸無水物類や、ジエチレントリアミン、イソホロンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジシアンジアミド、脂肪族ポリアミン、ポリアミド等のアミン類などが挙げられる。 For example, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol AD, hydroquinone, resorcin, methylresorcin, biphenol, tetramethylbiphenol, dihydroxynaphthalene, dihydroxydiphenyl ether, thiodiphenols, phenol novolac resin, cresol novolac resin, phenol aralkyl resin, terpene phenol resin Various polyphenols such as dicyclopentadiene phenol resin, bisphenol A novolak resin, naphthol novolak resin, biphenylphenol resin, brominated bisphenol A, brominated phenol novolac resin, various phenols and benzaldehyde, hydroxybenzaldehyde, Condensation with various aldehydes such as crotonaldehyde and glyoxal Of polyphenolic resins obtained by reaction, various phenol resins such as heavy oil or pitches, co-condensation resins of phenols and formaldehyde, and phenolic hydroxyl groups of these various phenols (resins) Active ester compounds obtained by esterifying all or part of them, such as benzoate or acetate, and acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, pyromellitic anhydride, methylnadic acid And amines such as diethylenetriamine, isophoronediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone, dicyandiamide, aliphatic polyamine, and polyamide.
カチオン系重合開始剤もエポキシ樹脂またはその前駆体の硬化剤として使用することができる。そのカチオン系重合開始剤としては、活性エネルギー線によりカチオン種またはルイス酸を発生する、活性エネルギー線カチオン系重合開始剤、または、熱によりカチオン種またはルイス酸を発生する熱カチオン重合開始剤を用いることができる。
例えば、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン化合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレートなどのホスホニウム塩、2−メチルイミダゾ−ル、2−フェニルイミダゾ−ル、2−エチル−4−メチルイミダゾ−ル、2−ウンデシルイミダゾ−ル、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾ−ル、2,4−ジシアノ−6−[2−メチルイミダゾリル−(1)]−エチル−S−トリアジンなどのイミダゾ−ル類、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテ−ト、2−メチルイミダゾリウムイソシアヌレ−ト、2−エチル−4−メチルイミダゾリウムテトラフェニルボレ−ト、2−エチル−1,4−ジメチルイミダゾリウムテトラフェニルボレ−トなどのイミダゾリウム塩、2,4−6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ−ル、ベンジルジメチルアミンなどのアミン類、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレ−トなどのアンモニウム塩、1,5−ジアザビシクロ(5,4,0)−7−ウンデセン、1,5−ジアザビシクロ(4,3,0)−5−ノネンなどのジアザビシクロ化合物などが挙げられる。
Cationic polymerization initiators can also be used as curing agents for epoxy resins or their precursors. As the cationic polymerization initiator, an active energy ray cationic polymerization initiator that generates a cationic species or a Lewis acid by active energy rays or a thermal cationic polymerization initiator that generates a cationic species or a Lewis acid by heat is used. be able to.
For example, phosphine compounds such as triphenylphosphine, phosphonium salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-undecyl Imidazoles such as imidazole, 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 2,4-dicyano-6- [2-methylimidazolyl- (1)]-ethyl-S-triazine, 1-cyanoethyl- 2-undecylimidazolium trimellitate, 2-methylimidazolium isocyanurate, 2-ethyl-4-methylimidazolium tetraphenylborate, 2-ethyl-1,4-dimethylimidazolium tetraphenylborate Imidazolium salts such as 2,4-6-tris (dimethylaminomethy ) Amines such as phenol and benzyldimethylamine; ammonium salts such as triethylammonium tetraphenylborate; 1,5-diazabicyclo (5,4,0) -7-undecene; 1,5-diazabicyclo (4, And diazabicyclo compounds such as 3,0) -5-nonene.
また、これらジアザビシクロ化合物のテトラフェニルボレ−ト、フェノール塩、フェノールノボラック塩、2−エチルヘキサン酸塩など、さらにはトリフル酸(Triflic acid)塩、三弗化硼素エーテル錯化合物、金属フルオロ硼素錯塩、ビス(ペルフルオルアルキルスルホニル)メタン金属塩、アリールジアゾニウム化合物、芳香族オニウム塩、周期表第IIIa〜Va族元素のジカルボニルキレート、チオピリリウム塩、MF6 −陰イオン(ここでMは燐、アンチモンおよび砒素から選択される)の形の周期表第VIb族元素、アリールスルホニウム錯塩、芳香族ヨードニウム錯塩、芳香族スルホニウム錯塩、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィド−ビス−ヘキサフルオロ金属塩(例えば燐酸塩、砒酸塩、アンチモン酸塩等)、アリールスルホニウム錯塩、ハロゲン含有錯イオンの芳香族スルホニウムまたはヨードニウム塩等を用いることができる。その他、鉄化合物の混合配位子金属塩およびシラノール−アルミニウム錯体も使用することが可能である。これらの塩のいくつかは、FX−512(3M社)、UVR−6990およびUVR−6974(ユニオン・カーバイド(Union Carbide)社)、UVE−1014およびUVE−1016(ジェネラル・エレクトリック(General Electric)社)、KI−85(デグッサ(Degussa)社)、SP−150およびSP−170(旭電化社)、並びに、サンエイドSI−60L、SI−80LおよびSI−100L(三新化学工業社)として商品として入手できる。 Further, tetraphenylborate, phenol salt, phenol novolak salt, 2-ethylhexanoate and the like of these diazabicyclo compounds, triflic acid salt, boron trifluoride ether complex compound, metal fluoroboron complex salt, bis (perfluoroalkyl sulfonyl) methane metal salts, aryl diazonium compounds, aromatic onium salts, periodic table dicarbonyl chelate of a IIIa~Va group elements, thiopyrylium salts, MF 6 - anion (where M is phosphorus, antimony Periodic group VIb elements, arylsulfonium complex salts, aromatic iodonium complex salts, aromatic sulfonium complex salts, bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide-bis-hexafluorometal salts (Eg phosphate, arsenate, antimonate, etc.), ants Or a sulfonium complex salt, an aromatic sulfonium or iodonium salt of a halogen-containing complex ion, or the like. In addition, mixed ligand metal salts of iron compounds and silanol-aluminum complexes can also be used. Some of these salts are FX-512 (3M), UVR-6990 and UVR-6974 (Union Carbide), UVE-1014 and UVE-1016 (General Electric) ), KI-85 (Degussa), SP-150 and SP-170 (Asahi Denka), and Sun Aid SI-60L, SI-80L and SI-100L (Sanshin Chemical Co., Ltd.) Available.
また、好ましい熱カチオン系重合開始剤としては、トリフル酸塩であり、例としては、3M社からFC−520として入手できるトリフル酸ジエチルアンモニウム、トリフル酸トリエチルアンモニウム、トリフル酸ジイソプロピルアンモニウム、トリフル酸エチルジイソプロピルアンモニウム等(これらの多くはR.R.Almによって1980年10月発行のモダン・コーティングス(Modern Coatings)に記載されている)がある。 A preferred thermal cationic polymerization initiator is triflate, for example, diethylammonium triflate, triethylammonium triflate, diisopropylammonium triflate, ethyl diisopropyl triflate available from 3M as FC-520. Ammonium, etc. (many of which are described in Modern Coatings published October 1980 by RR Alm).
一方、活性エネルギー線カチオン系重合開始剤としても用いられる芳香族オニウム塩のうち、熱によりカチオン種を発生するものがあり、これらも熱カチオン系重合開始剤として用いることができる。
これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
また、硬化促進剤としては、例えば、ベンジルジメチルアミン、各種のイミダゾール系化合物等のアミン類、トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類等が挙げられる。
On the other hand, among aromatic onium salts that are also used as active energy ray cationic polymerization initiators, there are those that generate cationic species by heat, and these can also be used as thermal cationic polymerization initiators.
These may be used alone or in combination of two or more.
Examples of the curing accelerator include amines such as benzyldimethylamine and various imidazole compounds, and phosphines such as triphenylphosphine.
また、充填剤としては、例えば、線膨張係数を下げる目的で充填するシリカ、硬化物表面を粗化させる目的で充填するゴム成分(例えば特許第3785749号に記載)、難燃剤などが挙げられる。 Examples of the filler include silica filled for the purpose of reducing the linear expansion coefficient, rubber components filled for the purpose of roughening the surface of the cured product (for example, described in Japanese Patent No. 378549), and a flame retardant.
(4)配線基板の製造方法
本発明の配線基板の製造方法としては特に限定されるものではないが、上述の樹脂および/または樹脂の前駆体、並びに、平均繊維径が4〜1000nmのセルロース繊維を含有する組成物を硬化させて形成されることが好ましい。
(4) Manufacturing method of wiring board Although it does not specifically limit as a manufacturing method of the wiring board of this invention, The above-mentioned resin and / or the precursor of resin, and a cellulose fiber whose average fiber diameter is 4-1000 nm It is preferably formed by curing a composition comprising
該樹脂および/または樹脂の前駆体、並びに、平均繊維径が4〜1000nmのセルロース繊維を含有する組成物は、通常、溶媒中に樹脂および/または樹脂の前駆体、並びに、平均繊維径が4〜1000nmのセルロース繊維が分散された分散液である。
該溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。具体的に有機溶媒としては、使用される樹脂または樹脂前駆体が溶解または分散すれば特に限定されないが、例えば、芳香族系炭化水素、非プロトン性極性溶媒、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、グリコールエーテル系溶媒などが挙げられる。好ましくは、非プロトン性極性溶媒(特に、アミド系溶媒)、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒である。これらの溶媒は1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
The resin and / or resin precursor and a composition containing cellulose fibers having an average fiber diameter of 4 to 1000 nm usually have a resin and / or resin precursor and an average fiber diameter of 4 in a solvent. It is a dispersion liquid in which cellulose fibers of ˜1000 nm are dispersed.
Examples of the solvent include water and organic solvents. Specifically, the organic solvent is not particularly limited as long as the resin or resin precursor used is dissolved or dispersed. For example, aromatic hydrocarbon, aprotic polar solvent, alcohol solvent, ketone solvent, glycol Examples include ether solvents. Preferred are aprotic polar solvents (particularly amide solvents), alcohol solvents, and ketone solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
なお、本発明で使用される有機溶媒は、後の工程で有機溶媒を除去する工程があることから沸点が高すぎないことが好ましい。有機溶媒の沸点は300℃以下が好ましく、200℃以下が好ましく、180℃以下が更に好ましい。また、取扱い性などの点から、70℃以上が好ましい。
芳香族系炭化水素としては、好ましくは炭素数6〜12の芳香族炭化水素が挙げられ、具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。
In addition, since the organic solvent used by this invention has the process of removing an organic solvent at a next process, it is preferable that a boiling point is not too high. The boiling point of the organic solvent is preferably 300 ° C. or less, preferably 200 ° C. or less, and more preferably 180 ° C. or less. Moreover, 70 degreeC or more is preferable from points, such as handleability.
The aromatic hydrocarbon is preferably an aromatic hydrocarbon having 6 to 12 carbon atoms, specifically, benzene, toluene, xylene and the like.
アルコール系溶媒としては、好ましくは炭素数1〜7のアルコール系溶媒が挙げられ、具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどが挙げられる。
ケトン系溶媒(ケトン基を有する液体を指す)としては、好ましくは炭素数3〜9のケトン系溶媒が挙げられ、具体的には、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、ジイソプロピルケトン、ジ−tert−ブチルケトン、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘキシルメチルケトン、アセトフェノン、アセチルアセトン、ジオキサン等が挙げられる。この中でも、好ましくは、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)、シクロペンタノン、シクロヘキサノンであり、より好ましくは、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノンである。
The alcohol solvent is preferably an alcohol solvent having 1 to 7 carbon atoms, specifically, methanol, ethanol, propanol, butanol and the like.
The ketone solvent (referring to a liquid having a ketone group) is preferably a ketone solvent having 3 to 9 carbon atoms, specifically, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), diisopropyl. Examples include ketone, di-tert-butyl ketone, 2-heptanone, 4-heptanone, 2-octanone, cyclopentanone, cyclohexanone, cyclohexyl methyl ketone, acetophenone, acetylacetone, and dioxane. Among these, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclopentanone, and cyclohexanone are preferable, and methyl ethyl ketone (MEK) and cyclohexanone are more preferable.
非プロトン性極性溶媒としては、ジメチルスルフォキシド(DMSO)などのスルホキシド系溶媒、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、2−ピロリドン、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒が挙げられる。
グリコールエーテル系溶媒としては、好ましくは炭素数3〜9のグリコールエーテル系溶媒が挙げられ、具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
Examples of the aprotic polar solvent include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide (DMSO), formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, 2 Examples include amide solvents such as -pyrrolidone and N-methylpyrrolidone.
Preferred examples of the glycol ether solvent include glycol ether solvents having 3 to 9 carbon atoms. Specific examples include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, and ethylene glycol dimethyl ether. , Ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether Acetate etc. It is.
組成物中におけるセルロース繊維の含有量は、分散液の安定性の点から、分散液全量に対して、0.5重量%以上が好ましく、1重量%以上がより好ましく、50重量%以下が好ましく、40重量%以下がより好ましく、30重量%以下がさらに好ましい。
組成物中における有機溶媒の含有量は特に限定されないが、粘度や液安定性が好適なものになるといった取扱い性の点から、組成物全量に対して、1重量%以上が好ましく、5重量%以上がより好ましく、97.5重量%以下が好ましく、95重量%以下がより好ましい。
The content of the cellulose fiber in the composition is preferably 0.5% by weight or more, more preferably 1% by weight or more, and preferably 50% by weight or less based on the total amount of the dispersion from the viewpoint of the stability of the dispersion. 40% by weight or less is more preferable, and 30% by weight or less is more preferable.
The content of the organic solvent in the composition is not particularly limited, but is preferably 1% by weight or more, preferably 5% by weight with respect to the total amount of the composition from the viewpoint of handleability such that the viscosity and liquid stability are suitable. The above is more preferable, 97.5% by weight or less is preferable, and 95% by weight or less is more preferable.
組成物中において樹脂および/または樹脂前駆体と有機溶媒との重量比は特に限定さないが、上記と同様に、粘度や液安定性が好適なものになるといった取扱い性の点から、有機溶媒の含有量は、樹脂および/または樹脂前駆体100重量部に対して、5〜2000重量部が好ましく、25〜1000重量部がより好ましい。
また、組成物中には、上述したような、連鎖移動剤、紫外線吸収剤、充填剤、シランカップリング剤、光・熱重合開始剤、硬化剤などが含有されていてもよい。
The weight ratio of the resin and / or resin precursor to the organic solvent in the composition is not particularly limited, but in the same manner as described above, from the viewpoint of handleability such that viscosity and liquid stability are suitable, the organic solvent The content of is preferably 5 to 2000 parts by weight and more preferably 25 to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the resin and / or resin precursor.
The composition may contain a chain transfer agent, an ultraviolet absorber, a filler, a silane coupling agent, a photo / thermal polymerization initiator, a curing agent, and the like as described above.
この組成物を用いることにより、セルロース繊維が樹脂中に均一に分散した配線基板を得ることができる。該配線基板の製造方法は特に限定されないが、例えば該組成物に加熱処理および/または露光処理を施し、溶媒を除去して、セルロース繊維と樹脂とを含有する配線基板を得る。なお、樹脂前駆体を使用した場合は、該工程を経て該前駆体が硬化されて、樹脂となる。 By using this composition, a wiring board in which cellulose fibers are uniformly dispersed in the resin can be obtained. Although the manufacturing method of this wiring board is not specifically limited, For example, the composition is subjected to heat treatment and / or exposure treatment, and the solvent is removed to obtain a wiring board containing cellulose fibers and a resin. In addition, when a resin precursor is used, the precursor is cured through the step to become a resin.
加熱および/または露光処理を施す際、該組成物を基材上へ塗布して塗膜状としてもよく、また、型内に流し込んでもよい。該塗布や、型内に流し込む際に、必要に応じて、乾燥処理を施して、溶媒を除去してもよい。
加熱処理の条件は特に限定されず、樹脂前駆体が使用される場合は、該前駆体が硬化する温度以上であればよい。なかでも、溶媒を揮発させて除去できる点から、加熱温度は、60℃以上が好ましく、100℃以上がより好ましい。なお、セルロース繊維の分解を抑制する点から、250℃以下が好ましく、200℃以下がより好ましい。加熱時間は、生産性などの点から、60〜180分が好ましい。
When performing the heating and / or exposure treatment, the composition may be applied onto a substrate to form a coating film, or may be poured into a mold. When applying or pouring into a mold, the solvent may be removed by performing a drying treatment as necessary.
The conditions for the heat treatment are not particularly limited, and when a resin precursor is used, it may be at or above the temperature at which the precursor is cured. Among these, the heating temperature is preferably 60 ° C. or higher, more preferably 100 ° C. or higher, from the viewpoint that the solvent can be volatilized and removed. In addition, from the point which suppresses decomposition | disassembly of a cellulose fiber, 250 degrees C or less is preferable and 200 degrees C or less is more preferable. The heating time is preferably 60 to 180 minutes from the viewpoint of productivity.
加熱処理は複数回にわたって、温度・加熱時間を変更して実施してもよい。具体的には60〜100℃で30〜60分間の一次加熱と、130〜160℃で30〜60分間の二次加熱と、二次加熱温度よりも40〜60℃高い150〜200℃で30〜60分間の三次加熱との三段処理で行なうことが、溶媒を完全に除去し、基板の表面形状の不良を少なくし、完全硬化させるという点で好ましい。なお、少なくとも二段以上の加熱が好ましい。 The heat treatment may be performed multiple times by changing the temperature and the heating time. Specifically, primary heating at 60 to 100 ° C. for 30 to 60 minutes, secondary heating at 130 to 160 ° C. for 30 to 60 minutes, and 150 to 200 ° C. which is 40 to 60 ° C. higher than the secondary heating temperature. It is preferable to carry out by three-stage treatment with tertiary heating for ˜60 minutes in that the solvent is completely removed, the surface shape of the substrate is reduced, and the substrate is completely cured. In addition, at least two stages of heating is preferable.
露光処理には、赤外線、可視光線、紫外線などの光、電子線等が挙げられるが、好ましくは光である。更に好ましくは波長が200〜450nm程度の光であり、更に好ましくは波長が300〜400nmの紫外線である。
照射する量は、使用される樹脂前駆体や、光重合開始剤などによって適宜最適な量が選択されるが、波長300〜450nmの紫外線を、好ましくは0.1J/cm2以上200J/cm2以下の範囲で照射する。更に好ましくは1J/cm2以上20J/cm2以下の範囲で照射する。複数回に分割して照射すると、より好ましい。すなわち1回目に全照射量の1/20〜1/3程度を照射し、2回目以降に必要残量を照射することが好ましい。使用するランプの具体例としては、メタルハライドランプ、高圧水銀灯ランプ、紫外線LEDランプ等を挙げることができる。
Examples of the exposure treatment include light such as infrared rays, visible rays, and ultraviolet rays, electron beams, and the like, preferably light. More preferred is light having a wavelength of about 200 to 450 nm, and more preferred is ultraviolet light having a wavelength of 300 to 400 nm.
The amount to be irradiated, or a resin precursor used, but suitably the optimum amount depending on the photopolymerization initiator is selected, the ultraviolet rays having a wavelength of 300 to 450 nm, preferably 0.1 J / cm 2 or more 200 J / cm 2 Irradiate within the following range. More preferably, irradiation is performed in a range of 1 J / cm 2 or more and 20 J / cm 2 or less. It is more preferable to irradiate by dividing into multiple times. That is, it is preferable to irradiate about 1/20 to 1/3 of the total irradiation amount at the first time and to irradiate the necessary remaining amount after the second time. Specific examples of the lamp to be used include a metal halide lamp, a high pressure mercury lamp lamp, an ultraviolet LED lamp and the like.
上記樹脂および/または樹脂前駆体として、エポキシ樹脂および/またはその前駆体を使用した場合、該組成物にエポキシ樹脂硬化剤および/または硬化促進剤を加え、硬化させて複合体を作製することが好ましい。
組成物中のエポキシ樹脂成分の重量平均分子量(Mw)が200〜6,000の場合、エポキシ樹脂(当量):エポキシ樹脂硬化剤(当量)=1:0.8〜1.2の割合で配合することが好ましい。また、組成物中のエポキシ樹脂成分の重量平均分子量(Mw)が6,000超90,000以下の場合、エポキシ樹脂硬化剤を配合して硬化することも出来るが、多官能エポキシ樹脂をエポキシ樹脂成分の2〜20重量%添加し、硬化させる方が好ましい。
When an epoxy resin and / or precursor thereof is used as the resin and / or resin precursor, an epoxy resin curing agent and / or a curing accelerator may be added to the composition and cured to produce a composite. preferable.
When the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin component in the composition is 200 to 6,000, the epoxy resin (equivalent): epoxy resin curing agent (equivalent) = 1: 0.8 to 1.2 It is preferable to do. Further, when the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin component in the composition is more than 6,000 but not more than 90,000, it can be cured by adding an epoxy resin curing agent. It is preferable to add 2 to 20% by weight of the components and cure.
高分子量エポキシ樹脂は、エポキシ基濃度が低い為、硬化させるには多官能エポキシ樹脂を加えて、エポキシ基濃度を高め、架橋密度を上げることが好ましい。
硬化促進剤は全エポキシ樹脂100重量部に対して、0.1〜5.0重量部配合することが好ましい。
なお、硬化条件としては、以下の硬化方法IおよびIIの方法が好ましく挙げられる。
Since the high molecular weight epoxy resin has a low epoxy group concentration, it is preferable to add a polyfunctional epoxy resin to increase the epoxy group concentration and increase the crosslinking density in order to cure.
The curing accelerator is preferably blended in an amount of 0.1 to 5.0 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total epoxy resin.
As curing conditions, the following curing methods I and II are preferably exemplified.
硬化方法I:組成物中のエポキシ樹脂成分の重量平均分子量(Mw)が200〜6,000の場合、組成物にエポキシ樹脂硬化剤を加え、100〜200℃の温度で5分間加熱混合したのち、硬化促進剤を素早く混合して樹脂組成物を作製する。この樹脂組成物を減圧下で溶媒成分を除去し脱泡したのち、型の中に流し込み、120〜200℃で2〜5時間加熱して配線基板を得る。 Curing Method I: When the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin component in the composition is 200 to 6,000, an epoxy resin curing agent is added to the composition and heated and mixed at a temperature of 100 to 200 ° C. for 5 minutes. Then, a curing accelerator is quickly mixed to prepare a resin composition. The resin composition is defoamed after removing the solvent component under reduced pressure, and then poured into a mold and heated at 120 to 200 ° C. for 2 to 5 hours to obtain a wiring board.
硬化方法II:組成物中のエポキシ樹脂成分の重量平均分子量(Mw)が6,000超90,000以下の場合、分散液に多官能エポキシ樹脂および硬化促進剤を混合してワニスを作製し、スリット幅300μmのアプリケーターを用いて、PTFEテープ(中興化成工業(株):チューコーフロー スカイブドテープ MSF−100)上に塗膜を引き、熱風乾燥機にて60℃で60分保持し、160℃で60分間保持し、更に200℃で60分保持して、配線基板を得る。 Curing method II: When the weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin component in the composition is more than 6,000 but not more than 90,000, a polyfunctional epoxy resin and a curing accelerator are mixed into the dispersion to prepare a varnish. Using an applicator having a slit width of 300 μm, a coating film was drawn on a PTFE tape (Chuko Kasei Kogyo Co., Ltd .: Chuko Flow Skived Tape MSF-100), held at 60 ° C. for 60 minutes with a hot air dryer, and 160 ° C. For 60 minutes, and further at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a wiring board.
(形状、厚み)
本発明の配線基板の形状は、特に限定されず、板状、または曲面を有する板状とすることもできる。また、その他の異形形状であってもよい。また、厚さは必ずしも均一である必要はなく、部分的に異なっていてもよい。
形状が板状(シート状、フィルム状)である場合、その厚み(平均厚み)は、好ましくは5μm以上10cm以下であり、このような厚みとすることにより、構造材としての強度を保つことができる。さらに、より好ましくは7μm以上、1cm以下であり、さらに好ましくは10μm以上、250μm以下である。
なお、上記板状物において、フィルムとはその厚みが概ね、200μm以下の板状物を意味し、シートとはフィルムよりも厚い板状物を意味する。
尚、この厚みとは、配線基板の基板のみの厚みを意味し、接着剤層や銅箔などは含めない。
(Shape, thickness)
The shape of the wiring board of the present invention is not particularly limited, and may be a plate shape or a plate shape having a curved surface. Other irregular shapes may also be used. Further, the thickness is not necessarily uniform and may be partially different.
When the shape is a plate shape (sheet shape, film shape), the thickness (average thickness) is preferably 5 μm or more and 10 cm or less, and by using such a thickness, the strength as a structural material can be maintained. it can. Furthermore, it is more preferably 7 μm or more and 1 cm or less, and further preferably 10 μm or more and 250 μm or less.
In addition, in the said plate-shaped object, the film means the plate-shaped object whose thickness is generally 200 micrometers or less, and a sheet | seat means the plate-shaped object thicker than a film.
In addition, this thickness means the thickness of only the board | substrate of a wiring board, and an adhesive bond layer, copper foil, etc. are not included.
(線膨張係数)
本発明の配線基板は、低い線膨張係数(1Kあたりの伸び率)を示す。このセルロース繊維複合体の線膨張係数は、1〜70ppm/Kが好ましく、1〜60ppm/Kがより好ましく、1〜50ppm/Kが特に好ましい。
特に、配線基板用途においては、無機の薄膜トランジスタの線膨張係数が15ppm/K程度であるため、配線基板の線膨張係数が50ppm/Kを超えると無機膜との積層複合化の際に、二層の線膨張係数差が大きくなり、クラック等が発生するおそれがある。従って、配線基板の線膨張係数は、特に1〜50ppm/Kであることが好ましい。
なお、線膨張係数は、後述の実施例の項に記載される方法により測定される。
(Linear expansion coefficient)
The wiring board of the present invention exhibits a low coefficient of linear expansion (elongation rate per 1K). The linear expansion coefficient of the cellulose fiber composite is preferably 1 to 70 ppm / K, more preferably 1 to 60 ppm / K, and particularly preferably 1 to 50 ppm / K.
In particular, in wiring board applications, since the linear expansion coefficient of an inorganic thin film transistor is about 15 ppm / K, when the linear expansion coefficient of the wiring board exceeds 50 ppm / K, two layers are formed in the lamination composite with the inorganic film. There is a risk that cracks and the like may occur due to a large difference in linear expansion coefficient. Therefore, the linear expansion coefficient of the wiring board is particularly preferably 1 to 50 ppm / K.
In addition, a linear expansion coefficient is measured by the method described in the term of the below-mentioned Example.
(ガラス転移温度)
本発明の配線基板では、セルロース繊維が樹脂中に均一に分散することによって、樹脂のTg(ガラス転移温度)を上昇させる効果を有する。該効果によって、後述する用途に好適な高Tgを示す材料を得ることができる。特に、エポキシ樹脂を使用した場合は、その効果が顕著となる。
(Glass-transition temperature)
In the wiring board of this invention, it has the effect of raising Tg (glass transition temperature) of resin, when a cellulose fiber disperse | distributes uniformly in resin. Due to this effect, a material having a high Tg suitable for the use described later can be obtained. In particular, when an epoxy resin is used, the effect becomes remarkable.
本発明の配線基板は半導体実装用配線基板、特に今後必要とされるフリップチップ型パッケージ、受動素子内蔵化技術の分野への適用が期待され、特にその優れた放熱性により大電流配線基板に有用である。 The wiring board of the present invention is expected to be applied to the field of semiconductor mounting wiring boards, especially flip chip packages that will be required in the future, and technology for incorporating passive elements, and is particularly useful for high current wiring boards due to its excellent heat dissipation. It is.
以下、製造例、実施例および比較例によって、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例により限定されるものではない。
配線基板における各種物性の測定方法は次の通りである。
[配線基板中のセルロース繊維の数平均繊維径]
セルロース繊維の数平均繊維径は、光学顕微鏡、SEM、TEM等で観察することにより計測して求めた。具体的には、配線基板を製造する組成物から溶媒を乾燥除去した後、30,000倍に拡大したSEM写真の対角線に線を引き、その近傍にある繊維をランダムに12点抽出し、最も太い繊維と最も細い繊維を除去した10点の測定値の平均を数平均繊維径とした。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to production examples, examples, and comparative examples. However, the present invention is not limited to the following examples unless it exceeds the gist.
The measuring method of various physical properties in the wiring board is as follows.
[Number average fiber diameter of cellulose fibers in the wiring board]
The number average fiber diameter of the cellulose fibers was measured and determined by observing with an optical microscope, SEM, TEM or the like. Specifically, after removing the solvent from the composition for producing the wiring board by drying, a line is drawn on the diagonal line of the SEM photograph magnified 30,000 times, and 12 fibers in the vicinity are randomly extracted, The average of 10 measured values from which the thick fiber and the thinnest fiber were removed was defined as the number average fiber diameter.
[配線基板の線膨張係数およびTg]
配線基板を、2.5mm幅×20mm長にカットした。これをSII製TMA「EXSTAR6000」を用いて引張モードでチャック間10mm、荷重30mN、窒素雰囲気下、室温から150℃まで10℃/min.で昇温し、次いで150℃から20℃まで10℃/min.で降温し、更に20℃から200℃まで5℃/min.で昇温した際の2度目の昇温時の40℃から110℃の測定値から線膨張係数を求めた。
また、2度目の昇温時の40℃から200℃の測定値からTg(ガラス転移温度)を求めた。
[Linear expansion coefficient and Tg of wiring board]
The wiring board was cut into 2.5 mm width × 20 mm length. Using a TII “EXSTAR6000” manufactured by SII, this was stretched in a tension mode at 10 mm / min. From room temperature to 150 ° C. in a nitrogen atmosphere with a load of 30 mm and a load of 30 mN. And then from 150 ° C. to 20 ° C. at 10 ° C./min. At a temperature of 5 ° C./min. The linear expansion coefficient was determined from the measured values from 40 ° C. to 110 ° C. during the second temperature increase.
Moreover, Tg (glass transition temperature) was calculated | required from the measured value of 40 to 200 degreeC at the time of the 2nd temperature rise.
[CAFの発生評価]
CAFの発生を評価するため、電食試験を以下のようにしておこなう。試験基板はライン/スペースが100μm/100μmの導体パターンを銅張積層板の銅箔から形成し、その上にエポキシ接着フィルムからなる絶縁体層を形成したものであり、この電食試験基板を121℃、85%RHの環境条件の中、該導体ライン間にDC15Vを1000h印加する。
[Evaluation of CAF occurrence]
In order to evaluate the occurrence of CAF, the electrolytic corrosion test is performed as follows. The test substrate is a conductor pattern having a line / space of 100 μm / 100 μm formed from a copper foil of a copper-clad laminate, and an insulator layer made of an epoxy adhesive film is formed thereon. Under the environmental conditions of 85 ° C. and 85% RH, DC 15 V is applied for 1000 h between the conductor lines.
[割れ試験]
割れ試験は3点曲げ試験による評価を行う。
[レーザー照射試験]
レーザー照射試験は、以下のようにしておこなう。
フィルムを50mm幅×50mm長にカットする。これにコマックス社製レーザー加工機「Laserman A」で照射し、照射表面をSEMで観察する。
[Crack test]
The crack test is evaluated by a three-point bending test.
[Laser irradiation test]
The laser irradiation test is performed as follows.
Cut the film into 50 mm wide x 50 mm long. This is irradiated with a laser processing machine “Laserman A” manufactured by Comax, and the irradiated surface is observed with an SEM.
<製造例1>
木粉((株)宮下木材、米松100、粒径50〜250μm、平均粒径138μm)を炭酸ナトリウム2重量%水溶液で80℃にて6時間脱脂した。これを脱塩水で洗浄した後、亜塩素酸ナトリウムを用いて酢酸酸性下、80℃にて5.5時間脱リグニンした。これを脱塩水で洗浄した後、水酸化カリウム5重量%水溶液に16時間浸漬して、脱ヘミセルロース処理を行った。これを脱塩水で洗浄した後、濾過により脱水した。これを酢酸中に分散して濾過する工程を3度行い、水を酢酸に置換した。このセルロース繊維を固形分40gに対して、酢酸400ml、無水酢酸400mlを添加し、115℃5hr反応させた。反応後、反応液を濾過して、メタノール、脱塩水の順で洗浄しアセチル化セルロース繊維(数平均繊維径60μm)を得た。
得られたアセチル化セルロース繊維の化学修飾率を、下記の測定方法に従って求めたところ、16mol%であった。
<Production Example 1>
Wood flour (Miyashita Wood Co., Ltd., Yonematsu 100, particle size 50-250 μm, average particle size 138 μm) was degreased with an aqueous solution of sodium carbonate 2% by weight at 80 ° C. for 6 hours. This was washed with demineralized water and then delignified with sodium chlorite under acetic acid acidity at 80 ° C. for 5.5 hours. This was washed with demineralized water and then immersed in a 5% by weight aqueous solution of potassium hydroxide for 16 hours for dehemicellulose treatment. This was washed with demineralized water and then dehydrated by filtration. The process of dispersing this in acetic acid and filtering was performed three times, and water was replaced with acetic acid. The cellulose fiber was added with 400 ml of acetic acid and 400 ml of acetic anhydride to a solid content of 40 g, and reacted at 115 ° C. for 5 hours. After the reaction, the reaction solution was filtered and washed with methanol and demineralized water in this order to obtain acetylated cellulose fibers (number average fiber diameter 60 μm).
It was 16 mol% when the chemical modification rate of the obtained acetylated cellulose fiber was calculated | required according to the following measuring method.
ここでいう化学修飾率とは、セルロース中の全水酸基のうちの化学修飾されたものの割合を示し、化学修飾率は下記の滴定法によって測定することができる。
乾燥セルロース0.05gを精秤し、これにエタノール1.5ml、蒸留水0.5mlを添加する。これを60〜70℃の湯浴中で30分静置した後、0.5N水酸化ナトリウム水溶液2mlを添加する。これを60〜70℃の湯浴中で3時間静置した後、超音波洗浄器にて30分間超音波振とうする。これを、フェノールフタレインを指示薬として0.2N塩酸標準溶液で滴定する。
The term “chemical modification rate” as used herein refers to the proportion of all hydroxyl groups in cellulose that have been chemically modified, and the chemical modification rate can be measured by the following titration method.
0.05 g of dry cellulose is precisely weighed, and 1.5 ml of ethanol and 0.5 ml of distilled water are added thereto. This is left to stand in a hot water bath at 60 to 70 ° C. for 30 minutes, and then 2 ml of 0.5N aqueous sodium hydroxide solution is added. After leaving this in a 60-70 degreeC hot water bath for 3 hours, it ultrasonically shakes for 30 minutes with an ultrasonic cleaner. This is titrated with 0.2N hydrochloric acid standard solution using phenolphthalein as an indicator.
ここで、滴定に要した0.2N塩酸水溶液の量Z(ml)から、化学修飾により導入された置換基のモル数Qは、下記式で求められる。
Q(mol)=0.5(N)×2(ml)/1000
−0.2(N)×Z(ml)/1000
Here, from the amount Z (ml) of the 0.2N aqueous hydrochloric acid solution required for the titration, the number of moles Q of the substituent introduced by chemical modification is obtained by the following formula.
Q (mol) = 0.5 (N) × 2 (ml) / 1000
-0.2 (N) x Z (ml) / 1000
この置換基のモル数Qと、化学修飾率X(mol%)との関係は、以下の式で算出される(セルロース=(C6O5H10)n=(162.14)n,繰り返し単位1個当たりの水酸基数=3,OHの分子量=17)。なお、以下において、Tは置換基の分子量である。 The relationship between the number of moles Q of the substituent and the chemical modification rate X (mol%) is calculated by the following formula (cellulose = (C 6 O 5 H 10 ) n = (162.14) n , repetition Number of hydroxyl groups per unit = 3, molecular weight of OH = 17). In the following, T is the molecular weight of the substituent.
これを解いていくと、以下の通りである。 Solving this, it is as follows.
<実施例1>
製造例1で得られた含水アセチル化セルロース繊維(繊維含有量7重量%、残部は主に水)を濾過により脱水する。これをメチルエチルケトン中に分散して濾過する工程を3度行い、水をメチルエチルケトンに置換する。
一方、変性ビフェノール型エポキシ樹脂30重量%、メチルエチルケトン35重量%、シクロヘキサノン35重量%を含む溶液(三菱化学社製jER(登録商標)YX6954BH30)に、さらに、メチルエチルケトンと、シクロヘキサノンを加え、樹脂含量20重量%に調製したエポキシ樹脂溶液(変性ビフェノール型エポキシ樹脂20重量%、メチルエチルケトン40重量%、シクロヘキサノン40重量%)を作製する。
<Example 1>
The water-containing acetylated cellulose fiber obtained in Production Example 1 (fiber content 7% by weight, the balance being mainly water) is dehydrated by filtration. The step of dispersing this in methyl ethyl ketone and filtering is carried out three times to replace water with methyl ethyl ketone.
On the other hand, methyl ethyl ketone and cyclohexanone were further added to a solution containing 30% by weight of a modified biphenol type epoxy resin, 35% by weight of methyl ethyl ketone, and 35% by weight of cyclohexanone (JER (registered trademark) YX6954BH30 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and the resin content was 20% by weight. % Prepared epoxy resin solution (modified biphenol type epoxy resin 20 wt%, methyl ethyl ketone 40 wt%, cyclohexanone 40 wt%).
上記メチルエチルケトンで置換されたアセチル化セルロース繊維と上記エポキシ樹脂溶液とを用いて、全固形分に対してアセチル化セルロース繊維の含有量を5重量%になるように混合して、セルロース繊維分散液を調製する。
得られた分散液をビーズミル(寿工業社製ウルトラアペックスミルUAM−015)にてビーズ径0.3mm、周速11.4m/secで4時間処理し、更にビーズ径0.05mm、周速11.4m/secで4時間処理してセルロース繊維の解繊を行い、セルロース繊維が分散したセルロース繊維分散液を得る。セルロース繊維の数平均繊維径は、約50nmであるものと推定される。
Using the acetylated cellulose fiber substituted with methyl ethyl ketone and the epoxy resin solution, the content of the acetylated cellulose fiber is mixed to 5% by weight with respect to the total solid content, and the cellulose fiber dispersion is prepared. Prepare.
The obtained dispersion was treated with a bead mill (Ultra Apex Mill UAM-015 manufactured by Kotobuki Industries Co., Ltd.) at a bead diameter of 0.3 mm and a peripheral speed of 11.4 m / sec for 4 hours, and further a bead diameter of 0.05 mm and a peripheral speed of 11 The cellulose fiber is defibrated by treatment at 4 m / sec for 4 hours to obtain a cellulose fiber dispersion in which the cellulose fibers are dispersed. The number average fiber diameter of the cellulose fibers is estimated to be about 50 nm.
このセルロース繊維分散液に、このセルロース繊維分散液中のエポキシ樹脂固形分に対して、特殊ノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤を含む組成物(三菱化学社製jER(登録商標)157S65)5重量%、エポキシ樹脂固形分と該組成物との合計量に対して、0.05重量%の硬化促進剤(三菱化学社製jERキュア(登録商標)EMI24)を添加し、均一に混合した(樹脂、数平均繊維径が4〜1000nmのセルロース繊維を含有する組成物)。 A composition containing a special novolak-type epoxy resin and an epoxy resin curing agent in the cellulose fiber dispersion, based on the solid content of the epoxy resin in the cellulose fiber dispersion (jER (registered trademark) 157S65 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 5 weight %, A curing accelerator (jER Cure (registered trademark) EMI24 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) of 0.05% by weight is added to the total amount of the epoxy resin solids and the composition, and mixed uniformly (resin , A composition containing cellulose fibers having a number average fiber diameter of 4 to 1000 nm).
その後、溶媒の一部を揮発させ、アプリケーターで製膜して塗膜(厚さ:200μm)を得る。この塗膜を60℃で1時間加熱し、さらに160℃で1時間加熱し、さらに200℃で1時間加熱して硬化させ、配線基板を得る。配線基板中のセルロース繊維の数平均繊維径は、約50nmであるものと推定される。また線膨張係数は50ppm/K、Tgは142℃であると推定される。 Thereafter, a part of the solvent is volatilized and a film is formed with an applicator to obtain a coating film (thickness: 200 μm). This coating film is heated at 60 ° C. for 1 hour, further heated at 160 ° C. for 1 hour, and further heated at 200 ° C. for 1 hour to be cured to obtain a wiring board. The number average fiber diameter of the cellulose fibers in the wiring board is estimated to be about 50 nm. The linear expansion coefficient is estimated to be 50 ppm / K and Tg is 142 ° C.
CAFの発生評価ではショートなどの不具合は発生せず、1000hの試験後のライン間の絶縁抵抗は維持されるものと推察される。
割れ試験では、割れは発生しないものと推察される。
レーザー照射試験ではスミアは観察されないものと推察される。
In the CAF generation evaluation, it is assumed that no short circuit or other defects occur, and that the insulation resistance between the lines after the 1000 h test is maintained.
In the cracking test, it is assumed that no cracking occurs.
It is presumed that smear is not observed in the laser irradiation test.
<実施例2>
上記メチルエチルケトンで置換されたアセチル化セルロース繊維と上記エポキシ樹脂溶液とを用いて、全固形分に対してアセチル化セルロース繊維の含有量を10重量%になるように混合する以外は実施例1と同様にして配線基板を得る。
配線基板中のセルロース繊維の数平均繊維径は、約50nmであるものと推定される。また線膨張係数は40ppm/K、Tgは142℃であると推定される。
CAFの発生評価ではショートなどの不具合は発生せず、1000hの試験後のライン間の絶縁抵抗は維持されるものと推察される。
割れ試験では、割れは発生しないものと推察される。
レーザー照射試験ではスミアは観察されないものと推察される。
<Example 2>
The same as in Example 1 except that the acetylated cellulose fiber substituted with methyl ethyl ketone and the epoxy resin solution were mixed so that the content of acetylated cellulose fiber was 10% by weight with respect to the total solid content. Thus, a wiring board is obtained.
The number average fiber diameter of the cellulose fibers in the wiring board is estimated to be about 50 nm. The linear expansion coefficient is estimated to be 40 ppm / K and Tg is 142 ° C.
In the CAF generation evaluation, it is assumed that no short circuit or other defects occur, and that the insulation resistance between the lines after the 1000 h test is maintained.
In the cracking test, it is assumed that no cracking occurs.
It is presumed that smear is not observed in the laser irradiation test.
<実施例3>
上記メチルエチルケトンで置換されたアセチル化セルロース繊維と上記エポキシ樹脂溶液とを用いて、全固形分に対してアセチル化セルロース繊維の含有量を20重量%になるように混合する以外は実施例1と同様にして配線基板を得る。
配線基板中のセルロース繊維の数平均繊維径は、約50nmであるものと推定される。また線膨張係数は30ppm/K、Tgは142℃であると推定される。
CAFの発生評価ではショートなどの不具合は発生せず、1000hの試験後のライン間の絶縁抵抗は維持されるものと推察される。
割れ試験では、割れは発生しないものと推察される。
レーザー照射試験ではスミアは観察されないものと推察される。
<Example 3>
The same as in Example 1 except that the acetylated cellulose fiber substituted with methyl ethyl ketone and the epoxy resin solution were mixed so that the content of acetylated cellulose fiber was 20% by weight with respect to the total solid content. Thus, a wiring board is obtained.
The number average fiber diameter of the cellulose fibers in the wiring board is estimated to be about 50 nm. The linear expansion coefficient is estimated to be 30 ppm / K and Tg is 142 ° C.
In the CAF generation evaluation, it is assumed that no short circuit or other defects occur, and that the insulation resistance between the lines after the 1000 h test is maintained.
In the cracking test, it is assumed that no cracking occurs.
It is presumed that smear is not observed in the laser irradiation test.
<実施例4>
製造例1で得られたアセチル化セルロース繊維を0.5重量%の水懸濁液とし、回転式高速ホモジナイザー(エム・テクニック社製クレアミックス0.8S)にて20000rpmで60分解繊処理した。
更にSMT社製超音波ホモジナイザーUH−600S(周波数20kHz、実効出力密度22W/cm2)を用いて超音波処理を行った。
36mmφのストレート型チップ(チタン合金製)を用い、アウトプットボリウム8でチューニングを行い、最適なチューニング位置で30分間超音波処理を行った。セルロース繊維原料分散液は処理容器の外側から5℃の冷水で冷却し、また、マグネティックスターラーにて撹拌しながら処理を行った。
<Example 4>
The acetylated cellulose fiber obtained in Production Example 1 was made into a 0.5% by weight aqueous suspension, and subjected to 60-decomposition fiber treatment at 20000 rpm with a rotary high-speed homogenizer (Cleamix 0.8S manufactured by M Technique Co., Ltd.).
Further, ultrasonic treatment was performed using an ultrasonic homogenizer UH-600S (frequency 20 kHz, effective output density 22 W / cm 2 ) manufactured by SMT.
Using a 36 mmφ straight tip (made of titanium alloy), tuning was performed with the output volume 8, and ultrasonic treatment was performed for 30 minutes at the optimum tuning position. The cellulose fiber raw material dispersion was cooled with cold water at 5 ° C. from the outside of the processing vessel, and was processed while stirring with a magnetic stirrer.
この超音波処理した分散液の遠心分離を行い、上澄みを得た。遠心分離機として日立工機株式会社製のhimacCR22Gを用い、アングルローターとしてR20A2を用いた。50ml遠沈管8本を、回転軸から34度の角度で設置した。1本の遠沈管に入れるセルロース分散液の量は30mlとした。18000rpmにて30分間遠心分離作業を行いその上澄み液を採取した。 The ultrasonically treated dispersion was centrifuged to obtain a supernatant. HimacCR22G manufactured by Hitachi Koki Co., Ltd. was used as the centrifuge, and R20A2 was used as the angle rotor. Eight 50 ml centrifuge tubes were installed at an angle of 34 degrees from the rotation axis. The amount of the cellulose dispersion put in one centrifuge tube was 30 ml. Centrifugation was performed at 18000 rpm for 30 minutes, and the supernatant was collected.
得られた上澄み液を、固形分濃度が0.13重量%になるように水で希釈した。その後、孔径1μmのPTFEを用いた90mm径の濾過器に150g投入し、固形分が約5重量%になったところで2−プロパノール30mlを投入して置換した。
その後、120℃、0.14MPaで5分間プレス乾燥して白色のセルロースシートを得た。
The obtained supernatant was diluted with water so that the solid content concentration was 0.13% by weight. Thereafter, 150 g was put into a 90 mm diameter filter using PTFE having a pore diameter of 1 μm, and when the solid content reached about 5% by weight, 30 ml of 2-propanol was added and replaced.
Thereafter, it was press-dried at 120 ° C. and 0.14 MPa for 5 minutes to obtain a white cellulose sheet.
このシートに、変性ビフェノール型エポキシ樹脂30重量%、メチルエチルケトン35重量%、シクロヘキサノン35重量%を含む溶液(三菱化学社製jER(登録商標)YX6954BH30)とエポキシ樹脂固形分に対して特殊ノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤を含む組成物(三菱化学社製jER(登録商標)157S65)5重量%とエポキシ樹脂固形分と該組成物との合計量に対して、0.05重量%の硬化促進剤(三菱化学社製jERキュア(登録商標)EMI24)を添加し均一に混合した液を含浸させる。 In this sheet, a special novolac type epoxy resin with respect to a solution containing 30% by weight of a modified biphenol type epoxy resin, 35% by weight of methyl ethyl ketone, and 35% by weight of cyclohexanone (jER (registered trademark) YX6954BH30 manufactured by Mitsubishi Chemical) and an epoxy resin solid content , A composition containing an epoxy resin curing agent (JER (registered trademark) 157S65 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 5% by weight, an epoxy resin solid content, and 0.05% by weight of a curing accelerator based on the total amount of the composition (JER Cure (registered trademark) EMI24 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) is added and impregnated with the uniformly mixed solution.
このエポキシ含浸シートを60℃で1時間加熱し、さらに160℃で1時間加熱し、さらに200℃で1時間加熱して硬化させ、配線基板を得る。この配線基板中のセルロース繊維の充填率は40wt%である。 配線基板中のセルロース繊維の数平均繊維径は、約50nmであるものと推定される。また線膨張係数は10ppm/K、Tgは142℃であると推定される。 This epoxy impregnated sheet is heated at 60 ° C. for 1 hour, further heated at 160 ° C. for 1 hour, and further heated at 200 ° C. for 1 hour to be cured to obtain a wiring board. The filling rate of the cellulose fiber in this wiring board is 40 wt%. The number average fiber diameter of the cellulose fibers in the wiring board is estimated to be about 50 nm. Moreover, it is estimated that a linear expansion coefficient is 10 ppm / K and Tg is 142 degreeC.
CAFの発生評価ではショートなどの不具合は発生せず、1000hの試験後のライン間の絶縁抵抗は維持されるものと推察される。
割れ試験では、割れは発生しないものと推察される。
レーザー照射試験ではスミアは観察されないものと推察される。
In the CAF generation evaluation, it is assumed that no short circuit or other defects occur, and that the insulation resistance between the lines after the 1000 h test is maintained.
In the cracking test, it is assumed that no cracking occurs.
It is presumed that smear is not observed in the laser irradiation test.
<比較例1>
変性ビフェノール型エポキシ樹脂30重量%、メチルエチルケトン35重量%、シクロヘキサノン35重量%を含む溶液(三菱化学社製jER(登録商標)YX6954BH30)とエポキシ樹脂固形分に対して特殊ノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化剤を含む組成物(三菱化学社製jER(登録商標)157S65)5重量%とエポキシ樹脂固形分と三菱化学社製jER(登録商標)157S65との合計量に対して、0.05重量%の硬化促進剤(三菱化学社製jERキュア(登録商標)EMI24)を添加し均一に混合したエポキシ溶液に、全固形分に対して20重量%のコロイダルシリカ(日産化学社製、MEK-ST-L)を添加し高速回転ホモジナイザーにて均一に分散させる。
<Comparative Example 1>
Special novolak-type epoxy resin and epoxy resin cured with a solution containing 30% by weight of modified biphenol-type epoxy resin, 35% by weight of methyl ethyl ketone, and 35% by weight of cyclohexanone (Mitsubishi Chemical Corporation jER (registered trademark) YX6954BH30) and epoxy resin solids 0.05% by weight based on the total amount of the composition containing the agent (Mitsubishi Chemical Corporation jER (registered trademark) 157S65) 5% by weight, epoxy resin solids and Mitsubishi Chemical Corporation jER (registered trademark) 157S65 A curing accelerator (JER Cure (registered trademark) EMI24 manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) was added to the epoxy solution uniformly mixed, and 20% by weight of colloidal silica (MEK-ST-L manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., based on the total solid content). ) And uniformly disperse with a high-speed rotating homogenizer.
その後、溶媒の一部を揮発させ、アプリケーターで製膜して塗膜(厚さ:200μm)を得る。この塗膜を60℃で1時間加熱し、さらに160℃で1時間加熱し、さらに200℃で1時間加熱して硬化させ、配線基板を得る。
配線基板中の線膨張係数は60ppm/K、Tgは137℃であると推定される。
CAFの発生評価ではショートなどの不具合は発生せず、1000hの試験後のライン間の絶縁抵抗は維持されるものと推察される。
割れ試験では、割れは発生しないものと推察される。
レーザー照射試験ではスミアが観察されるものと推察される。
Thereafter, a part of the solvent is volatilized and a film is formed with an applicator to obtain a coating film (thickness: 200 μm). This coating film is heated at 60 ° C. for 1 hour, further heated at 160 ° C. for 1 hour, and further heated at 200 ° C. for 1 hour to be cured to obtain a wiring board.
The linear expansion coefficient in the wiring board is estimated to be 60 ppm / K and Tg is 137 ° C.
In the CAF generation evaluation, it is assumed that no short circuit or other defects occur, and that the insulation resistance between the lines after the 1000 h test is maintained.
In the cracking test, it is assumed that no cracking occurs.
It is presumed that smear is observed in the laser irradiation test.
<比較例2>
添加するコロイダルシリカを30重量%にする以外は比較例1と同様にして配線基板を得る。
配線基板中の線膨張係数は50ppm/K、Tgは137℃であると推定される。
CAFの発生評価ではショートなどの不具合は発生せず、1000hの試験後のライン間の絶縁抵抗は維持されるものと推察される。
割れ試験では、割れは発生しないものと推察される。
レーザー照射試験ではスミアが観察されるものと推察される。
<Comparative example 2>
A wiring board is obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the amount of colloidal silica added is 30% by weight.
The linear expansion coefficient in the wiring board is estimated to be 50 ppm / K and Tg is 137 ° C.
In the CAF generation evaluation, it is assumed that no short circuit or other defects occur, and that the insulation resistance between the lines after the 1000 h test is maintained.
In the cracking test, it is assumed that no cracking occurs.
It is presumed that smear is observed in the laser irradiation test.
<比較例3>
添加するコロイダルシリカを40重量%にする以外は比較例1と同様にして配線基板用フィルムを得る。
配線基板用フィルム中の線膨張係数は40ppm/K、Tgは137℃であると推定される。
CAFの発生評価ではショートなどの不具合は発生せず、1000hの試験後のライン間の絶縁抵抗は維持されるものと推察される。
割れ試験では、割れは発生しないものと推察される。
レーザー照射試験ではスミアが大量に観察されるものと推察される。
<Comparative Example 3>
A film for a wiring board is obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the colloidal silica to be added is 40% by weight.
The linear expansion coefficient in the wiring board film is estimated to be 40 ppm / K and Tg is 137 ° C.
In the CAF generation evaluation, it is assumed that no short circuit or other defects occur, and that the insulation resistance between the lines after the 1000 h test is maintained.
In the cracking test, it is assumed that no cracking occurs.
It is assumed that a large amount of smear is observed in the laser irradiation test.
<比較例4>
単位面積当りの質量が48g/m2のEガラス繊維からなる平織りのガラスクロスに、エポキシ樹脂ワニスに含浸し、乾燥してガラス体積分率が、38%のプリプレグを作製する。前記プリプレグを2枚積層し、その上下に粗化面がプリプレグと接するように、厚さ18μmの片面粗化電解銅箔を構成し、プレスにより熱圧成形して一体化し、銅箔を除く厚さが100μmであり、ガラスクロスと樹脂との複合体中におけるガラス体積分率が38%である銅張積層板を得る。
<Comparative example 4>
A plain woven glass cloth made of E glass fibers having a mass per unit area of 48 g / m 2 is impregnated with an epoxy resin varnish and dried to prepare a prepreg having a glass volume fraction of 38%. Two prepregs are laminated, and a single-side roughened electrolytic copper foil with a thickness of 18 μm is constructed so that the roughened surface is in contact with the prepreg on the top and bottom, and is integrated by hot pressing with a press. A copper-clad laminate having a glass volume fraction of 38% in a composite of glass cloth and resin is obtained.
配線基板中の線膨張係数は30ppm/K、Tgは137℃であると推定される。
CAFの発生評価ではショートなどの不具合が発生し、1000hの試験後のライン間の絶縁抵抗は維持されないものと推察される。
割れ試験では、割れが発生するものと推察される。
レーザー照射試験ではスミアが観察されるものと推察される。
The linear expansion coefficient in the wiring board is estimated to be 30 ppm / K and Tg is 137 ° C.
In the CAF generation evaluation, it is assumed that defects such as short-circuits occur and the insulation resistance between lines after the 1000 h test is not maintained.
In the crack test, it is assumed that cracking occurs.
It is presumed that smear is observed in the laser irradiation test.
実施例1〜4では、セルロース繊維を用いることにより、シリカやガラス繊維に対して比重が小さいため(セルロース繊維は約1.5に対してシリカやガラス繊維は2以上)、従来より軽量な配線基板を提供することができる。
また、比較例4に示したようにフィラーとしてガラス繊維を用いると、基板の割れが発生したり、CAFが発生するものと推察される。また、比較例1〜4ではフィラーに無機物のシリカもしくはガラス繊維を用いるため、ビア形成工程における焼け残り(スミア)が観察されるものと推察される。
In Examples 1 to 4, since the specific gravity is small with respect to silica or glass fiber by using cellulose fiber (cellulose fiber is about 1.5 or more with respect to silica or glass fiber), the wiring is lighter than before. A substrate can be provided.
Moreover, when glass fiber is used as a filler as shown in Comparative Example 4, it is assumed that the substrate is cracked or CAF is generated. In Comparative Examples 1 to 4, since inorganic silica or glass fiber is used as the filler, it is presumed that unburned residue (smear) in the via formation process is observed.
また、本発明におけるセルロース繊維はアスペクト比が大きいため、球状シリカに対して低フィラー充填率で低線膨張であると推察される。
一方、比較例1〜3ではフィラーに球状のシリカを充填するため、線膨張係数はフィラー充填率に対して線形に下がるものと推察される。
また、本発明の配線基板のTgは樹脂単体のシートよりTgが向上する。おそらくこれはセルロース繊維と樹脂の相互作用によるものと考えられる。
Moreover, since the cellulose fiber in this invention has a large aspect ratio, it is guessed that it is a low linear expansion with a low filler filling rate with respect to spherical silica.
On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, since the filler is filled with spherical silica, it is presumed that the linear expansion coefficient decreases linearly with respect to the filler filling rate.
Further, the Tg of the wiring board of the present invention is higher than that of a single resin sheet. This is probably due to the interaction between cellulose fibers and resin.
これらの結果より、本発明の配線基板は、従来より軽量で、割れが生じにくく、CAFの発生を抑制し、ビア形成工程におけるスミア発生を抑制し、更に低フィラー充填率で低線膨張である。 From these results, the wiring board of the present invention is lighter than conventional, is less likely to crack, suppresses the generation of CAF, suppresses the occurrence of smear in the via formation process, and further has a low filler filling rate and low linear expansion. .
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