JP2012089585A - Semiconductor laser apparatus - Google Patents
Semiconductor laser apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012089585A JP2012089585A JP2010232973A JP2010232973A JP2012089585A JP 2012089585 A JP2012089585 A JP 2012089585A JP 2010232973 A JP2010232973 A JP 2010232973A JP 2010232973 A JP2010232973 A JP 2010232973A JP 2012089585 A JP2012089585 A JP 2012089585A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat sink
- semiconductor laser
- submount
- laser bar
- expansion coefficient
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 74
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 17
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims abstract description 17
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 7
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 20
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000980 Aluminium gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Semiconductor Lasers (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は、ヒートシンクを備えた半導体レーザ装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor laser device provided with a heat sink.
従来の半導体レーザ装置は、例えば、特許文献1、特許文献2及び特許文献3に記載されている。
Conventional semiconductor laser devices are described in, for example,
特許文献1には、半導体レーザバーの両面を金属製のサブマウントで挟んだ半導体レーザモジュールが開示されている。サブマウントの材料としては、Mo、W、Cu、Cu−W合金、Cu−Mo合金、SiC又はAlNを用いることができる。各サブマウントの厚みは、50〜200μmである。この半導体レーザ装置においては、半導体レーザモジュールは、液体冷却式ヒートシンクに取り付けられている。これにより、半導体レーザバーの反りを矯正することが可能である。
特許文献2には、ヒートシンクの上に半導体レーザバーを取り付けると共に、ヒートシンクにおける半導体レーザバーの取り付け面と同一の面上に、線膨張係数の小さな材料からなる補強部材を貼り付けた半導体レーザ装置が開示されている。補強部材の材料は、Cu、Al、Ni、W、Mo、Fe、Cr、Co及びBiのいずれかを含んでいる。
特許文献3には、液体冷却式ヒートシンクを樹脂層で被覆し、半導体レーザバーを取り付けた半導体レーザ装置が開示されている。この文献では、冷却効率を高めると共に、腐食や水漏れを防止可能な構造を開示している。
しかしながら、半導体レーザモジュールと高品質な液体冷却式ヒートシンクを組み合わせた場合、半導体レーザモジュール自体の反りは、サブマウントにより抑制されているはずなのに、半導体レーザモジュールからの発光点位置が、設計上の直線上から微妙に変位した曲線上に並び、目的の発光分布が得られなくなるという発光特性の劣化現象が観察された。 However, when a semiconductor laser module and a high-quality liquid-cooled heat sink are combined, the warpage of the semiconductor laser module itself should be suppressed by the submount, but the emission point position from the semiconductor laser module is a straight line in the design. It was observed that the emission characteristics were deteriorated such that the desired emission distribution could not be obtained.
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、発光特性の劣化を抑制可能な半導体レーザ装置を目的とする。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor laser device capable of suppressing deterioration in light emission characteristics.
本願発明者らは、半導体レーザ装置の特性劣化の原因を鋭意検討した。線膨張係数の小さなCu−W合金を一対のサブマウントとして採用し、これらを用いて半導体レーザバーを挟持しているはずであるから、発光点位置は原則的に変更されないはずである。しかしながら、近年の高品質な液体冷却型ヒートシンクは、冷却効率が高く、且つ、小型化されているが、厚みが薄いために、これ自体が伸縮する際に厚み方向にも撓むことができる。この場合、本来は剛性の高いはずのレーザモジュールと、高品質ヒートシンクの線膨張係数の差から、両者の間に応力が発生し、ヒートシンクが厚み方向に撓んで変形する。本願発明者らは、発光点位置のずれが、かかる高性能なヒートシンクに起因して生じていることを発見した。 The inventors of the present application intensively studied the cause of the characteristic deterioration of the semiconductor laser device. Since a Cu-W alloy having a small linear expansion coefficient is adopted as a pair of submounts and the semiconductor laser bar should be sandwiched using these, the emission point position should not be changed in principle. However, recent high-quality liquid-cooled heat sinks have high cooling efficiency and are downsized. However, since the thickness is small, the liquid-cooled heat sink can bend in the thickness direction when it expands and contracts. In this case, due to the difference in linear expansion coefficient between the laser module that should originally be highly rigid and the high-quality heat sink, stress is generated between them, and the heat sink is bent and deformed in the thickness direction. The inventors of the present application have found that the deviation of the light emitting point position is caused by such a high performance heat sink.
上述の問題を解決するため、本発明に係る半導体レーザ装置は、直線上に配列された複数の発光点を有する半導体レーザバーと、内部に流体通路が形成された厚みが3mm以下の板状の液体冷却式のヒートシンクと、半導体レーザバーの一方面に固定されヒートシンクよりも線膨張係数の小さな材料からなりヒートシンクに固定された第1サブマウントと、半導体レーザバーの他方面に固定されヒートシンクよりも線膨張係数の小さな材料からなる第2サブマウントと、前記ヒートシンクにおける前記第1サブマウントの取り付け面とは反対側の面の、前記第1サブマウントに対向する位置に、固定され、ヒートシンクよりも小さな線膨張係数を有する厚みが0.1〜0.5mmのモリブデン補強体と、を備えることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems, a semiconductor laser device according to the present invention includes a semiconductor laser bar having a plurality of light emitting points arranged in a straight line, and a plate-like liquid having a thickness of 3 mm or less with a fluid passage formed therein. A cooling heat sink, a first submount made of a material fixed to one surface of the semiconductor laser bar and having a smaller linear expansion coefficient than the heat sink, and fixed to the heat sink; and a linear expansion coefficient fixed to the other surface of the semiconductor laser bar The second submount made of a small material and a surface of the heat sink opposite to the mounting surface of the first submount, fixed at a position facing the first submount, and having a smaller linear expansion than the heat sink And a molybdenum reinforcing body having a coefficient of 0.1 to 0.5 mm in thickness.
本発明の半導体レーザによれば、液体冷却式ヒートシンクは高性能であるが、上述のように、厚みが薄い場合には、レーザモジュール(半導体レーザバー+サブマウント)との線膨張係数の差により、湾曲する傾向がある。しかしながら、レーザモジュールとは逆側に、線膨張係数の小さなモリブデン補強体を固定することで、ヒートシンクに対して、レーザモジュール側からの応力によって湾曲しようとする力と、モリブデン補強体側からの応力によって湾曲しようとする力とか相殺される傾向となる。また、モリブデン補強体をヒートシンクに取り付けることで、全体の剛性も向上する。したがって、本発明の半導体レーザ装置によれば、ヒートシンクの湾曲が抑制され、発光点位置の変位が抑制され、発光特性の劣化を抑制することができる。 According to the semiconductor laser of the present invention, the liquid-cooled heat sink has high performance. However, as described above, when the thickness is small, the difference in linear expansion coefficient from the laser module (semiconductor laser bar + submount) There is a tendency to bend. However, by fixing the molybdenum reinforcement body having a small linear expansion coefficient on the opposite side to the laser module, the force to bend against the heat sink by the stress from the laser module side and the stress from the molybdenum reinforcement body side. It tends to cancel out the force to bend. Moreover, the rigidity of the whole is improved by attaching the molybdenum reinforcement to the heat sink. Therefore, according to the semiconductor laser device of the present invention, the curvature of the heat sink is suppressed, the displacement of the light emitting point position is suppressed, and the deterioration of the light emission characteristics can be suppressed.
なお、モリブデン補強体とは、モリブデンを主成分(重量パーセント80%以上)とする補強体のことであるが、若干の不純物が混入していても同様の効果が得られる。 The molybdenum reinforcing body is a reinforcing body containing molybdenum as a main component (weight percent 80% or more), but the same effect can be obtained even if some impurities are mixed.
本発明の半導体レーザ装置によれば、発光特性の劣化を抑制することができる。 According to the semiconductor laser device of the present invention, it is possible to suppress the deterioration of the light emission characteristics.
以下、実施の形態に係る半導体レーザ装置について説明する。なお、同一要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。 Hereinafter, the semiconductor laser device according to the embodiment will be described. Note that the same reference numerals are used for the same elements, and redundant description is omitted.
図1は、半導体レーザ装置の斜視図、図2は、半導体レーザ装置を矢印II方向から見た側面図、図3は半導体レーザ装置を矢印III方向から見た正面図である。 1 is a perspective view of the semiconductor laser device, FIG. 2 is a side view of the semiconductor laser device viewed from the direction of arrow II, and FIG. 3 is a front view of the semiconductor laser device viewed from the direction of arrow III.
この半導体レーザ装置10は、ヒートシンク1と、ヒートシンク1に固定されたレーザモジュール2と、ヒートシンク1におけるレーザモジュール2に対向する位置に固定された補強体3とを備えており、必要に応じて、ヒートシンク1の上面に接着層を介して被覆部材を備えることができる。このような被覆部材は、内部に水等の冷却媒体を導入する場合のシール材としての機能も有している。必要に応じて開口1c2,1c3の周囲にOリングなどを配置する。
The
ヒートシンク1は、内部に流体通路が形成された板状の液体冷却式のヒートシンクである。また、ヒートシンク1の厚みZ1は3mm以下であるため、単体では、厚み方向に湾曲することを許容している。ヒートシンク1の詳細構造は、後述の図6に示されている。
The
レーザモジュール2は、第1サブマウント2aと、第2サブマウント2cとの間に、半導体レーザバー2bを挟んでいる。第1サブマウント2aは、接着層t1を介して、ヒートシンク1の上面に固定されており、且つ、接着層t2を介して、半導体レーザバー2bに固定されている。また、半導体レーザバー2は、接着層t3を介して、第2サブマウント2cに固定されている。すなわち、半導体レーザバー2bの一方面には第1サブマウント2aが固着され、半導体レーザバー2bの他方面には第2サブマウント2cが固着されている。なお、それぞれのサブマウント2b,2cを構成する材料の線膨張係数(熱膨張係数)は、ヒートシンク1の線膨張係数よりも小さく、又は、形状は板状(直方体)である。
In the
サブマウント2a,2cの構成材料としては、Mo、W、Cu、Cu−W合金、Cu−Mo合金、SiC又はAlNを用いることができ、各サブマウントの厚みは、50〜200μmとすることができる。
As the constituent material of the
補強体3は、板状のモリブデン(Mo)からなり、ヒートシンク1における第1サブマウントの取り付け面とは反対側の面の、第1サブマウント2aに対向する位置に、接着層t5を介して、固定されている。補強体3の構成材料は、ヒートシンク1よりも小さな線膨張係数を有しており、また、サブマウントと異なり、厚みが0.1〜0.5mmの範囲にある。なお、モリブデン補強体3とは、モリブデンを主成分(重量パーセント80%以上)とする補強体のことであるが、若干の不純物が混入していても同様の効果が得られる。
The reinforcing
ここで、サブマウントは、Cu−W合金を用いることが好ましく、補強体3モリブデンを用いることが好ましい。その理由としては、1つには、伸縮時においてヒートシンク1に与える応力を相殺する効果があることであるが、その他に、以下の効果があるからである。すなわち、Cu−W合金は熱伝導がよく、また半導体レーザバーと膨張率が近いため、半導体レーザバーのサブマウントとしては好都合である。また、サブマウントには、電極としての要素も必要なため、電気的導通を行わせるたにも、これは金属材料から構成される。
Here, it is preferable to use a Cu—W alloy for the submount, and it is preferable to use the reinforcing
XYZ三次元直交座標系を設定し、発光点の整列方向をY軸(レーザバーの長手方向)とし、レーザバー2bの厚み方向をZ軸とし、レーザ光の出射方向がX軸に平行であるとすると、各構成要素の例示寸法(好適範囲)は、以下の通りである。
(1)ヒートシンク1の寸法
X方向長X1:30mm(10mm〜30mm)
Y方向長Y1(本例では=Y3):12mm(10mm〜12mm)
Z方向長Z1:1.1mm(1mm〜3mm)
(2)半導体レーザモジュール2の寸法
X方向長X2:2mm(1mm〜5mm)
Y方向長Y2(本例では=Y3):10mm(5mm〜12mm)
Z方向長Z2:450μm(300μm〜600μm)
サブマウント2aの厚みZ3a:150μm(100μm〜300μm)
サブマウント2aのX方向長=X2
サブマウント2aのY方向長=Y2(=Y3)
サブマウント2cの厚みZ3c:150μm(100μm〜300μm)
サブマウント2cのX方向長=X2
サブマウント2cのY方向長=Y2(=Y3)
半導体レーザバー2bの厚みZ3c:140μm(100μm〜150μm)
半導体レーザバー2bのX方向長X2b:2mm(1mm〜5mm)
Suppose that an XYZ three-dimensional orthogonal coordinate system is set, the alignment direction of the light emitting points is the Y axis (the longitudinal direction of the laser bar), the thickness direction of the
(1) Dimensions of
Y direction length Y1 (= Y3 in this example): 12 mm (10 mm to 12 mm)
Z-direction length Z1: 1.1 mm (1 mm to 3 mm)
(2) Dimensions X direction length X2 of the semiconductor laser module 2: 2 mm (1 mm to 5 mm)
Y direction length Y2 (= Y3 in this example): 10 mm (5 mm to 12 mm)
Z-direction length Z2: 450 μm (300 μm to 600 μm)
X-direction length of
Y-direction length of the
X-direction length of
Y-direction length of the
Thickness Z3c of
X-direction length X2b of the
なお、本例では、X2b<X2である。これはサブマウントに電力供給線を取り付けるための領域を確保するためである。
半導体レーザバー2bのY方向長Y2b=Y2(=Y3)
(3)補強体3の寸法
X方向長X3:2mm(1mm〜5mm)
Y方向長Y3:10mm(5mm〜12mm)
Z方向長Z3:150μm(100μm〜500μm)
In this example, X2b <X2. This is to secure an area for attaching the power supply line to the submount.
Y-direction length Y2b = Y2 (= Y3) of the
(3) Size X direction length X3 of the reinforcing body 3: 2 mm (1 mm to 5 mm)
Y direction length Y3: 10mm (5mm-12mm)
Z direction length Z3: 150 μm (100 μm to 500 μm)
なお、接着層t1、t2、t3、t5は、全て半田材料からなり、それぞれ厚みZtを有する。接着層としてはSnAgCu又はAuSnを用いることができるが、t2,t3ではAuSnを用い、t1,t5ではSnAgCuを用いることができる。厚みZtの例示寸法は10μmであり、好適範囲は3〜20μmである。上述の数値範囲の効果について、説明すると、数値範囲が3〜20μmの場合には、ハンダがはみ出さず、全体に行渡り、均一に接合できるという効果がある。 The adhesive layers t1, t2, t3, and t5 are all made of a solder material and each have a thickness Zt. SnAgCu or AuSn can be used as the adhesive layer, but AuSn can be used at t2 and t3, and SnAgCu can be used at t1 and t5. An exemplary dimension of the thickness Zt is 10 μm, and a preferable range is 3 to 20 μm. The effect of the above numerical range will be described. When the numerical range is 3 to 20 μm, there is an effect that the solder does not protrude and can be uniformly bonded.
ここで、液体冷却式のヒートシンク1、第1サブマウント2a、半導体レーザバー2b、第2サブマウント2c、及びモリブデン補強体3の物理量は、半導体レーザバーの湾曲がほぼ無くなるように調整する。
Here, the physical quantities of the liquid-cooled
図4は、半導体レーザ装置の分解斜視図である。 FIG. 4 is an exploded perspective view of the semiconductor laser device.
ヒートシンク1は、冷却媒体を導入するための開口(貫通孔)1c2,1c3を有しているが、これはヒートシンク1上に設けることが可能な被覆部材の開口(貫通孔)に連通していてもよい。被覆部材は必要に応じて設けられるものであり、冷却媒体に対するシール機能や、外部装置に組み込む場合のスペーサとしても機能させることができる。
The
ヒートシンク1の上面側に、レーザモジュール2を、接着層を介して配置し、裏面側に、補強体3を接着層を介して配置した後に、これらにZ軸方向に沿った熱と圧力を同時にかけ、しかる後、室温まで冷却することで、これらを固定する。接着層が溶ける程度の温度でよい。必要に応じて、適当な被覆部材を、接着層を介して、ヒートシンク1の上面上に配置し、これに同様の熱と圧力をかけて、固定する。
After the
図5は、半導体レーザバーの斜視図である。 FIG. 5 is a perspective view of the semiconductor laser bar.
レーザバー2bは、Y軸の直線上に沿って配列された複数の発光点2b2を有している。レーザバー2bは化合物半導体基板2b1からなるものであり、発光点2b2の位置には、活性層が存在しており、その両側には、クラッド層が位置している。化合物半導体の材料としては、GaN、AlGaAs、GaN、AlGaN或いはこれらにInを含んだ混晶が知られている。本例では、レーザバー2bは、GaAsを主成分とし、活性層には更にInが含まれ、その両側に位置するクラッド層にはAlが更に含まれているものとする。なお、GaAsとCu−W合金は、熱膨張係数が近いので、サブマウント/レーザバー間の応力は小さい。
The
ここで、高性能な液体冷却式のヒートシンク1について説明しておく。
Here, the high-performance liquid-cooled
図6は、液体冷却式のヒートシンクの分解斜視図である。 FIG. 6 is an exploded perspective view of a liquid-cooled heat sink.
ヒートシンク1は、3枚の金属製(本例ではCu)の板状部材1a1,1b1、1c1を積層して固定してなる。
The
最下部の板状部材1a1は、2つの開口(貫通孔)1a2,1a3と、上側の板状部材1b1の下面と共に流体流路を構成する凹部1a4を有している。凹部1a4は、開口1a3に連続している。 The lowermost plate-like member 1a1 has two openings (through holes) 1a2 and 1a3 and a recess 1a4 that forms a fluid flow path together with the lower surface of the upper plate-like member 1b1. The recess 1a4 is continuous with the opening 1a3.
中央の板状部材1b1は、2つの開口(貫通孔)1b2,1b3と、流体流路を構成する複数の貫通孔1b4を有している。貫通孔1b4は、凹部1a4に対向する位置に、位置している。 The central plate-like member 1b1 has two openings (through holes) 1b2 and 1b3 and a plurality of through holes 1b4 constituting a fluid flow path. The through hole 1b4 is located at a position facing the recess 1a4.
上部の板状部材1c1は、2つの開口(貫通孔)1c2,1c3と、下側の板状部材1b1の上面と共に流体流路を構成する凹部1c4を有している。凹部1c4は、開口1c2に連続しており、開口1c3には連続していない。 The upper plate-like member 1c1 has two openings (through holes) 1c2, 1c3 and a recess 1c4 that forms a fluid flow path with the upper surface of the lower plate-like member 1b1. The recess 1c4 is continuous with the opening 1c2, and is not continuous with the opening 1c3.
冷却媒体が下方から上方に向かう矢印W1に沿ってヒートシンク1内に導入されると、これは、連通した開口群1a3、1b3、1c3を通って、上部に抜けることもできるし、矢印W2で示されるように、凹部1a4、貫通孔1b4、凹部1c4で規定される流体流路を通って、開口1c2に至ることもできる。開口1c2から矢印W3に沿ってヒートシンク1内に導入された冷却媒体は、連通した開口群1c2、1b2、1a2を通って、下方に抜けることもできる。なお、板状部材は、Cuなどの金属からなるが、その表面は、樹脂層により被覆されており、腐食が防止されている。
When the cooling medium is introduced into the
図7は、ヒートシンクの幅方向寸法を大きくした半導体レーザ装置の正面図である。 FIG. 7 is a front view of the semiconductor laser device in which the widthwise dimension of the heat sink is increased.
上述の説明では、ヒートシンク1のY方向長Y1は、補強体3のY方向長Y3に一致していたが、これは同図に示すように、Y3よりも大きくてもよい。また、ヒートシンク1のX方向長を上記実施形態のものよりも大きくしてもよい。この場合においても、上記実施形態と同様の効果がある。
In the above description, the Y-direction length Y1 of the
図8は、比較例となる半導体レーザ装置の正面図である。 FIG. 8 is a front view of a semiconductor laser device as a comparative example.
比較例では、図3に示した実施形態の半導体レーザ装置において、補強体3の取り付け位置を、ヒートシンク1の上面の両側に変更して補強体3Zとしたものである。比較例におけるその他の構造は、図3に示したものと同一である。
In the comparative example, in the semiconductor laser device according to the embodiment shown in FIG. 3, the attachment position of the reinforcing
上述の水冷ヒートシンクなどの液体冷却式ヒートシンクは高性能であるが、厚みが薄い場合には、レーザモジュール2との線膨張係数の差により、湾曲する傾向がある。
A liquid-cooled heat sink such as the above-described water-cooled heat sink has high performance, but when it is thin, it tends to bend due to a difference in linear expansion coefficient with the
比較例の場合、ヒートシンク1の冷却時において、矢印F1方向に縮小する力が働くが、半導体レーザモジュール2は、線膨張係数がヒートシンク1よりも小さく、これには矢印F2方向に縮小する力働く。すなわち、線膨張係数の差により、上に凸に変形する傾向がある。もちろん、補強体3Zが固定されているため、ヒートシンク1の伸縮は、若干緩和されるが、全体的な変形は抑制することができない。
In the case of the comparative example, when the
一方、図3に示した実施形態のように、レーザモジュール2とは逆側に、線膨張係数の小さなモリブデン補強体3を固定することで、ヒートシンク1に対して、レーザモジュール2側からの応力(矢印F2に示される力)によって湾曲しようとする力と、補強体3側からの応力(矢印F3に示される力)によって湾曲しようとする力とか相殺される傾向となる。また、補強体3をヒートシンク1に取り付けることで、全体の剛性も向上している。したがって、実施形態の半導体レーザ装置10によれば、ヒートシンク1の湾曲が抑制され、発光点位置の変位が抑制され、発光特性の劣化を抑制することができる。
On the other hand, as in the embodiment shown in FIG. 3, the stress from the
また、上述の構造の場合、ヒートシンク1の変形が抑制されるので、ヒートシンク1からの水漏れを抑制することができる。また、レーザへの電力供給線(レーザ駆動時には、半導体レーザバーの上下サブマウント間に電力が供給される)をサブマウントに取り付けた場合、この供給線が外れるのを抑制することができる。また、レンズを半導体レーザ装置の前面に配置する場合、発光点位置がずれないので、高い精度の製品を製造することができる。上記例示した寸法で、半導体レーザ装置を作製した場合、再現性よくヒートシンク1の湾曲量を、1.5μm以下とすることができ、発光特性の劣化を抑制可能な半導体レーザ装置が作製できた。
Further, in the case of the above-described structure, since the deformation of the
10・・・半導体レーザ装置、1・・・ヒートシンク、2・・・半導体レーザモジュール、3・・・モリブデン補強体。
DESCRIPTION OF
Claims (1)
内部に流体通路が形成された厚みが3mm以下の板状の液体冷却式のヒートシンクと、
前記半導体レーザバーの一方面に固定され前記ヒートシンクよりも線膨張係数の小さな材料からなり前記ヒートシンクに固定された第1サブマウントと、
前記半導体レーザバーの他方面に固定され前記ヒートシンクよりも線膨張係数の小さな材料からなる第2サブマウントと、
前記ヒートシンクにおける前記第1サブマウントの取り付け面とは反対側の面の、前記第1サブマウントに対向する位置に、固定され、ヒートシンクよりも小さな線膨張係数を有する厚みが0.1〜0.5mmのモリブデン補強体と、
を備えることを特徴とする半導体レーザ装置。 A semiconductor laser bar having a plurality of light emitting points arranged on a straight line;
A plate-like liquid-cooled heat sink having a thickness of 3 mm or less in which a fluid passage is formed;
A first submount fixed to one surface of the semiconductor laser bar and made of a material having a smaller linear expansion coefficient than the heat sink, and fixed to the heat sink;
A second submount made of a material fixed to the other surface of the semiconductor laser bar and having a smaller linear expansion coefficient than the heat sink;
Molybdenum having a thickness of 0.1 to 0.5 mm which is fixed at a position facing the first submount on the surface of the heat sink opposite to the mounting surface of the first submount and has a smaller linear expansion coefficient than the heat sink. A reinforcement,
A semiconductor laser device comprising:
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010232973A JP2012089585A (en) | 2010-10-15 | 2010-10-15 | Semiconductor laser apparatus |
DE112011103477T DE112011103477T5 (en) | 2010-10-15 | 2011-10-12 | Semiconductor laser device |
CN201180049763.XA CN103155310B (en) | 2010-10-15 | 2011-10-12 | Semiconductor laser device |
US13/877,911 US8879592B2 (en) | 2010-10-15 | 2011-10-12 | Semiconductor laser device |
PCT/JP2011/073433 WO2012050132A1 (en) | 2010-10-15 | 2011-10-12 | Semiconductor laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010232973A JP2012089585A (en) | 2010-10-15 | 2010-10-15 | Semiconductor laser apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012089585A true JP2012089585A (en) | 2012-05-10 |
Family
ID=46260920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010232973A Pending JP2012089585A (en) | 2010-10-15 | 2010-10-15 | Semiconductor laser apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012089585A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016115767A (en) * | 2014-12-12 | 2016-06-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | Semiconductor laser unit and semiconductor laser device |
WO2017138666A1 (en) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 古河電気工業株式会社 | Submount, submount having semiconductor element mounted thereto, and semiconductor element module |
US11769984B2 (en) | 2021-07-30 | 2023-09-26 | Panasonic Holdings Corporation | Laser module, laser oscillator and laser processing system |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004207619A (en) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Mitsubishi Materials Corp | Power module and substrate therefor |
JP2005217211A (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Tecnisco Ltd | Cooler for semiconductors and cooler stack for semiconductors |
JP2006294943A (en) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Sony Corp | Semiconductor laser apparatus and heat sink |
JP2007073549A (en) * | 2005-09-02 | 2007-03-22 | Hamamatsu Photonics Kk | Semiconductor laser module, semiconductor laser stack and process for fabricating semiconductor laser module |
JP2010074122A (en) * | 2008-08-21 | 2010-04-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Heat sink for led, heat sink precursor for led, led element, method for manufacturing heat sink for led and method for manufacturing led element |
-
2010
- 2010-10-15 JP JP2010232973A patent/JP2012089585A/en active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004207619A (en) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Mitsubishi Materials Corp | Power module and substrate therefor |
JP2005217211A (en) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Tecnisco Ltd | Cooler for semiconductors and cooler stack for semiconductors |
JP2006294943A (en) * | 2005-04-12 | 2006-10-26 | Sony Corp | Semiconductor laser apparatus and heat sink |
JP2007073549A (en) * | 2005-09-02 | 2007-03-22 | Hamamatsu Photonics Kk | Semiconductor laser module, semiconductor laser stack and process for fabricating semiconductor laser module |
JP2010074122A (en) * | 2008-08-21 | 2010-04-02 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Heat sink for led, heat sink precursor for led, led element, method for manufacturing heat sink for led and method for manufacturing led element |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016115767A (en) * | 2014-12-12 | 2016-06-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | Semiconductor laser unit and semiconductor laser device |
WO2017138666A1 (en) * | 2016-02-12 | 2017-08-17 | 古河電気工業株式会社 | Submount, submount having semiconductor element mounted thereto, and semiconductor element module |
US10992102B2 (en) | 2016-02-12 | 2021-04-27 | Furukawa Electric Co., Ltd. | Submount, semiconductor device mounting submount, and semiconductor device module |
US11769984B2 (en) | 2021-07-30 | 2023-09-26 | Panasonic Holdings Corporation | Laser module, laser oscillator and laser processing system |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2012050132A1 (en) | Semiconductor laser device | |
EP2191546B1 (en) | High power semiconductor laser diodes | |
US20080008216A1 (en) | Laser device including heat sink with insert to provide a tailored coefficient of thermal expansion | |
US20080008217A1 (en) | Laser device including heat sink with a tailored coefficient of thermal expansion | |
JP5622721B2 (en) | Heat transfer device having at least one semiconductor element, in particular a laser element or a light emitting diode element, and a method for assembling the same | |
JP2009111230A (en) | Laser module | |
JP2012089585A (en) | Semiconductor laser apparatus | |
JP2012089584A (en) | Semiconductor laser apparatus | |
JP4965466B2 (en) | Laser oscillator | |
US8553736B2 (en) | Laser device and method for manufacturing same | |
JP5090622B2 (en) | Semiconductor device with cooling element | |
WO2022039016A1 (en) | Semiconductor laser module | |
JP2017045528A (en) | Light source device and fluorescent plate assembly | |
JP2017208483A (en) | Semiconductor laser device | |
JP2007208065A (en) | Optical module | |
JP2018152408A (en) | Heat Spreader | |
US20120082176A1 (en) | Conduction cooled package laser and packaging method for forming the same | |
JP6573451B2 (en) | Semiconductor laser unit and semiconductor laser device | |
JP4659564B2 (en) | Semiconductor laser module, semiconductor laser stack, and manufacturing method of semiconductor laser module | |
JP2014130852A (en) | Heat exchange unit | |
JP6860461B2 (en) | heatsink | |
JP2010258354A (en) | Laser module | |
WO2010131498A1 (en) | Laser diode element | |
JP7392558B2 (en) | optical module | |
Wang et al. | High power vertical stacked and horizontal arrayed diode laser bar development based on insulation micro-channel cooling (IMCC) and hard solder bonding technology |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130521 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140408 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140605 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20141028 |