[go: up one dir, main page]

JP2012083549A - Photosensitive coloring resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic el display - Google Patents

Photosensitive coloring resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic el display Download PDF

Info

Publication number
JP2012083549A
JP2012083549A JP2010229630A JP2010229630A JP2012083549A JP 2012083549 A JP2012083549 A JP 2012083549A JP 2010229630 A JP2010229630 A JP 2010229630A JP 2010229630 A JP2010229630 A JP 2010229630A JP 2012083549 A JP2012083549 A JP 2012083549A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
acid
alkali
general formula
soluble resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010229630A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Otsu
猛 大津
Shigeo Tsuji
成夫 辻
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP2010229630A priority Critical patent/JP2012083549A/en
Publication of JP2012083549A publication Critical patent/JP2012083549A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Optical Filters (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive coloring resin composition for a color filter which is excellent in image formation property even when density of a coloring material is high, excellent in balance between sensitivity and solubility, and further excellent in sharpness and adhesion of pixel edges; and to provide a color filter using the photosensitive coloring resin composition, liquid crystal display device using the color filter, and an organic EL display.SOLUTION: The photosensitive coloring resin composition for a color filter contains an alkali-soluble resin (A); at least one selected from a group consisting of an alkali-soluble resin (A'), an alkali-soluble resin (A1'), an alkali-soluble resin (A''), and an alkali-soluble resin (A1''); a photo-polymerization initiator (B); a coloring agent (C); and a thiol compound containing two or more mercapto groups, and in which a carbon atom at α position with respect to the mercapto group includes at least one hydrocarbon group as a substitution group (D).

Description

本発明は、カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物、カラーフィルタ、液晶表示装置及び有機ELディスプレイに関するものである。詳しくは、色材の濃度が高い場合でも画像形成性に優れ、感度及び溶解性のバランスに優れ、更には画素エッジのシャープ性、密着性に優れるカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物と、その用途に関する。   The present invention relates to a photosensitive colored resin composition for a color filter, a color filter, a liquid crystal display device, and an organic EL display. Specifically, even when the colorant concentration is high, the image forming property is excellent, the balance between sensitivity and solubility is excellent, the sharpness of the pixel edge, and the photosensitive coloring resin composition for color filter that is excellent in adhesion, and its Regarding usage.

従来、顔料を用いたカラーフィルタの製造法としては、染色法、電着法、インクジェット法、顔料分散法などが知られている。
顔料分散法によるカラーフィルタの製造の場合、通常、分散剤などにより顔料を分散してなる着色樹脂組成物に、バインダー樹脂、光重合開始剤、光重合性モノマー等を添加して感光化した感光性着色樹脂組成物をガラス基板上にコートして乾燥後、マスクを用いて露光し、現像を行うことによって着色パターンを形成し、その後これを加熱することによりパターンを固着して画素を形成する。これらの工程を各色ごとに繰り返してカラーフィルタを形成する。
Conventionally, as a method for producing a color filter using a pigment, a dyeing method, an electrodeposition method, an ink jet method, a pigment dispersion method, and the like are known.
In the case of producing a color filter by the pigment dispersion method, usually a photosensitive resin obtained by adding a binder resin, a photopolymerization initiator, a photopolymerizable monomer, etc. to a colored resin composition obtained by dispersing a pigment with a dispersant or the like. After coating with a coloring resin composition on a glass substrate, drying, exposing using a mask and developing, a colored pattern is formed by heating, and then the pattern is fixed by heating to form pixels. . These steps are repeated for each color to form a color filter.

このようなカラーフィルタの画像形成に用いられる感光性着色樹脂組成物には、十分な解像性、基板との良好な密着性、低現像残渣などの特性が求められている。更に、近年では、色濃度が高い画素や光学濃度の高い樹脂ブラックマトリックスが要求されている。このため、感光性着色樹脂組成物には、顔料やカーボンブラックなどの色材を多量に含みつつ、上記特性に優れることが要求される。   The photosensitive colored resin composition used for image formation of such a color filter is required to have characteristics such as sufficient resolution, good adhesion to a substrate, and low development residue. Furthermore, in recent years, a pixel having a high color density and a resin black matrix having a high optical density are required. For this reason, the photosensitive colored resin composition is required to be excellent in the above characteristics while containing a large amount of a coloring material such as a pigment or carbon black.

一般に、感光性樹脂組成物は、塗布・乾燥・露光・現像の工程を経る光リソグラフィ工程に供されるため、かかる工程において、現像工程での除去部分に残渣や地汚れが生じないこと;除去部分が十分な溶解性を有すること;パターンエッジのシャープさなどの画素形成性を上げること;が常に求められている。しかし、上記のような色材の含有量が高い感光性着色樹脂組成物を用いて、画素やブラックマトリックス(以下、これらを合わせて「パターン」と称することがある。)を形成した場合、現像工程で未露光部の基板上に残渣や地汚れが生じる;未露光部の良好な溶解性が得られない;パターンエッジのシャープさに劣る;露光部の光硬化が十分でないため表面平滑性が悪い;等の問題が顕著に生じやすい。   In general, the photosensitive resin composition is subjected to a photolithographic process that undergoes coating, drying, exposure, and development processes. Therefore, in such a process, no residue or soiling occurs in the removed portion in the development process; There has always been a demand for the part to have sufficient solubility; to improve pixel formation such as sharpness of the pattern edge. However, when a pixel or a black matrix (hereinafter, these may be collectively referred to as a “pattern”) is formed using a photosensitive colored resin composition having a high content of the colorant as described above, development is performed. Residues and background stains occur on the substrate in the unexposed area in the process; good solubility in the unexposed area cannot be obtained; the sharpness of the pattern edge is inferior; Problems such as bad;

特に、樹脂ブラックマトリックスは黒色色材を含み、広い波長領域において遮光性を有するため、(1)露光部分と未露光部分における架橋密度の差をつけることが著しく困難なこと、(2)露光された部分でも膜厚方向における架橋密度の差が発生すること、つまり、光照射面側では十分に硬化しても、基底面側では硬化しづらいこと、(3)現像液に不溶な黒色色材を多量に含有するため、高い現像性が得難いこと等が、大きな課題となっている。   In particular, the resin black matrix contains a black color material and has a light-shielding property in a wide wavelength region, so that (1) it is extremely difficult to make a difference in crosslink density between an exposed portion and an unexposed portion, and (2) exposure is performed. The difference in cross-linking density in the film thickness direction occurs even in the part where the film is cured, that is, it is hard to cure on the base surface side even if it is sufficiently cured on the light irradiation surface side, and (3) a black color material insoluble in the developer. Since a large amount of is contained, it is difficult to obtain high developability.

そこで、このような問題を解決するために、バインダー樹脂として、カルボキシル基を有するノボラックエポキシアクリレート樹脂を使用した感光性着色樹脂組成物が提案されている(特許文献1参照)。しかし本発明者らの検討によると、このバインダー樹脂を使用した場合でも、溶解性と感度のバランスが不充分であるため、未露光部の溶解と同時に露光部への現像液の浸透が起こり、パターンのエッジ部分の直線性が低い;パターンの基板への密着性が不充分である;等の問題が生じることが判明した。   Therefore, in order to solve such problems, a photosensitive colored resin composition using a novolak epoxy acrylate resin having a carboxyl group as a binder resin has been proposed (see Patent Document 1). However, according to the study by the present inventors, even when this binder resin is used, since the balance between solubility and sensitivity is insufficient, the penetration of the developer into the exposed portion occurs simultaneously with the dissolution of the unexposed portion, It has been found that problems such as low linearity of the edge portion of the pattern; insufficient adhesion of the pattern to the substrate;

また、バインダー樹脂として、カルボキシル基を有するアクリル樹脂と脂環式エポキシ基含有不飽和化合物との反応物を使用した感光性樹脂組成物が提案されている(特許文献2参照)。しかし、本発明者らの検討によると、このバインダー樹脂を使用した場合でも感度が十分ではないため、パターンの基板への密着性が悪く、高精細なパターンの形成が困難であることが判明した。   Moreover, the photosensitive resin composition which uses the reaction material of the acrylic resin which has a carboxyl group, and an alicyclic epoxy group containing unsaturated compound as binder resin is proposed (refer patent document 2). However, according to the study by the present inventors, it was found that even when this binder resin was used, the sensitivity was not sufficient, so that the adhesion of the pattern to the substrate was poor and it was difficult to form a high-definition pattern. .

なお、特許文献3には、バインダー樹脂としてビフェニル骨格を含有するエポキシ樹脂と、不飽和基含有カルボン酸と、多塩基性カルボン酸無水物との反応物を用いたカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物が開示されている(特許文献3参照)。本文献に記載された組成物は、基板への密着性、パターンエッジのシャープさ、及び保存安定性については優れているが、感度・画素エッジの直線性については、改善の余地があった。   Patent Document 3 discloses a photosensitive colored resin composition for a color filter using a reaction product of an epoxy resin containing a biphenyl skeleton as a binder resin, an unsaturated group-containing carboxylic acid, and a polybasic carboxylic acid anhydride. The thing is disclosed (refer patent document 3). Although the composition described in this document is excellent in adhesion to a substrate, sharpness of a pattern edge, and storage stability, there is room for improvement in sensitivity and linearity of a pixel edge.

特開平11−84126号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-84126 特開平1−289820号公報JP-A-1-289820 特開2005−55814号公報JP 2005-55814 A

本発明の目的は、色材の濃度が高い場合でも画像形成性に優れ、感度及び溶解性のバランスに優れ、更には画素エッジのシャープ性、密着性に優れるカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物と、この感光性着色樹脂組成物を用いたカラーフィルタ、及びこれを用いてなる液晶表示装置、並びに有機ELディスプレイを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a photosensitive colored resin composition for a color filter, which has excellent image-forming properties even when the colorant concentration is high, excellent balance between sensitivity and solubility, and excellent pixel edge sharpness and adhesion. And a color filter using the photosensitive colored resin composition, a liquid crystal display device using the color filter, and an organic EL display.

本発明者らは鋭意検討の結果、特定の構造を有する複数種のバインダー樹脂、及び特定の構造を有するチオール化合物を使用することにより、上記課題を解決しうることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明の第1の要旨は、アルカリ可溶性樹脂(A)を含有し、アルカリ可溶性樹脂(A’)、アルカリ可溶性樹脂(A1’)、アルカリ可溶性樹脂(A”)、及びアルカリ可溶性樹脂(A1”)からなる群より選ばれる1以上を含有し、光重合開始剤(B)、色材(C)、及びメルカプト基を2個以上有し、該メルカプト基に対してα位の炭素原子が置換基として少なくとも1つの炭化水素基を有するチオール化合物(D)を含有することを特徴とするカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物に存する。
As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a plurality of types of binder resins having a specific structure and a thiol compound having a specific structure, leading to the present invention. .
That is, the first gist of the present invention includes an alkali-soluble resin (A), an alkali-soluble resin (A ′), an alkali-soluble resin (A1 ′), an alkali-soluble resin (A ″), and an alkali-soluble resin ( A1 ”) containing at least one selected from the group consisting of photopolymerization initiator (B), coloring material (C), and two or more mercapto groups, and an α-position carbon atom with respect to the mercapto group Contains a thiol compound (D) having at least one hydrocarbon group as a substituent, in a photosensitive colored resin composition for a color filter.

<アルカリ可溶性樹脂(A)>
下記一般式(1−a)で表されるエポキシ樹脂(a)と、不飽和基含有カルボン酸(b)との反応物を、更に多塩基酸及び/又はその無水物(c)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A)。
<Alkali-soluble resin (A)>
The reaction product of the epoxy resin (a) represented by the following general formula (1-a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) is further reacted with a polybasic acid and / or its anhydride (c). An alkali-soluble resin (A) obtained in this way.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔上記一般式(1−a)において、nは平均値を示し0〜10の数を示す。R41は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はビフェニル基のいずれかを表す。なお、1分子中に存在する複数のR41は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。Gはグリシジル基を表す。〕
<アルカリ可溶性樹脂(A’)>
下記一般式(1−a’)で示されるエポキシ化合物(a’)と、α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b’)との反応物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c’)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A’)。
[In the said general formula (1-a), n shows an average value and shows the number of 0-10. R 41 represents any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. A plurality of R 41 present in one molecule may be the same or different. G represents a glycidyl group. ]
<Alkali-soluble resin (A ')>
An epoxy compound (a ′) represented by the following general formula (1-a ′), an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group at the ester moiety ( An alkali-soluble resin (A ′) obtained by reacting a reaction product with b ′) with a polybasic acid and / or its anhydride (c ′).

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔上記一般式(1−a’)において、p及びqはそれぞれ独立に0〜4の整数を表し、R31及びR32はそれぞれ独立してアルキル基又はハロゲン原子を表す。R33及びR34はそれぞれ独立してアルキレン基を表す。x及びyはそれぞれ独立して0以上の整数を表す。〕
<アルカリ可溶性樹脂(A1’)>
上記一般式(1−a’)で示されるエポキシ化合物(a’)と、α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b’)との反応物と、多価アルコール(d’)との混合物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c’)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A1’)。
[In the general formula (1-a ′), p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 31 and R 32 each independently represent an alkyl group or a halogen atom. R 33 and R 34 each independently represents an alkylene group. x and y each independently represents an integer of 0 or more. ]
<Alkali-soluble resin (A1 ′)>
The epoxy compound (a ′) represented by the above general formula (1-a ′) and an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group at the ester moiety ( An alkali-soluble resin (A1 ′) obtained by reacting a mixture of a reaction product with b ′) and a polyhydric alcohol (d ′) with a polybasic acid and / or its anhydride (c ′).

<アルカリ可溶性樹脂(A”)>
下記一般式(1−a”)で示されるエポキシ化合物(a”)と不飽和基含有カルボン酸(b”)との反応物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c”)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A”)。
<Alkali-soluble resin (A ")>
A reaction product of an epoxy compound (a ″) represented by the following general formula (1-a ″) and an unsaturated group-containing carboxylic acid (b ″) is reacted with a polybasic acid and / or its anhydride (c ″). Alkali-soluble resin (A ") obtained by making it.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔上記一般式(1−a”)において、Xは下記一般式(2a)、(2b)又は(3)で表される連結基を示す。但し、分子構造中に1つ以上のアダマンタン構造を含む。lは、2又は3の整数を示す。 [In the above general formula (1-a ″), X represents a linking group represented by the following general formula (2a), (2b) or (3), provided that one or more adamantane structures are present in the molecular structure. 1 represents an integer of 2 or 3.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

(上記一般式(2a)及び(2b)において、R〜R及びR13〜R15は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアダマンチル基、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。
上記一般式(3)において、R〜R12は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。Yは、置換基を有していてもよい、アダマンタン構造を含む2価の連結基を示す。
(In the above general formulas (2a) and (2b), R 1 to R 4 and R 13 to R 15 each independently have an adamantyl group, a hydrogen atom, and a substituent which may have a substituent. An optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an optionally substituted phenyl group is shown.
In the general formula (3), R 5 to R 12 may each independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms that may have a substituent, or a substituent. Represents a phenyl group; Y represents a divalent linking group containing an adamantane structure, which may have a substituent.

上記一般式(2a)、(2b)及び(3)において、*は、一般式(1−a”)におけるグリシジルオキシ基との結合部位を示す。)〕
<アルカリ可溶性樹脂(A1”)>
上記一般式(1−a”)で示されるエポキシ化合物(a”)と不飽和基含有カルボン酸(b”)との反応物と、多価アルコール(d”)との混合物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c”)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A1”)。
In the general formulas (2a), (2b), and (3), * represents a binding site with the glycidyloxy group in the general formula (1-a ″).
<Alkali-soluble resin (A1 ")>
A mixture of a reaction product of the epoxy compound (a ″) represented by the general formula (1-a ″) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b ″) and a polyhydric alcohol (d ″) is converted into a polybasic acid. And / or an alkali-soluble resin (A1 ″) obtained by reacting with the anhydride (c ″) thereof.

本発明の第2の要旨は、透明基板上に、前記感光性着色樹脂組成物を用いて形成された画素又はブラックマトリックスを有する、カラーフィルタに存する。
本発明の第3の要旨は、前記カラーフィルタを用いて作製された、液晶表示装置に存する。
本発明の第4の要旨は、前記カラーフィルタを用いて作製された、有機ELディスプレ
イに存する。
The second gist of the present invention resides in a color filter having a pixel or black matrix formed using the photosensitive colored resin composition on a transparent substrate.
The third gist of the present invention resides in a liquid crystal display device manufactured using the color filter.
The fourth gist of the present invention resides in an organic EL display produced using the color filter.

本発明のカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物は、感度が高く、基板との密着性が良好で、顔料やカーボンブラックなどの色材を高い濃度で含有する場合でも、感度及び溶解性のバランスに優れ、更には画素エッジのシャープ性、密着性に優れ、解像力が高く、高精細な画素を形成することができる。本発明によれば、このようなカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物を使用することにより、高品質なカラーフィルタが得られ、更には高品質な液晶表示装置や有機ELディスプレイを提供することができる。   The photosensitive colored resin composition for color filters of the present invention has high sensitivity, good adhesion to the substrate, and balance between sensitivity and solubility even when containing a coloring material such as pigment or carbon black at a high concentration. In addition, the pixel edge sharpness and adhesion are excellent, and the resolution is high, so that a high-definition pixel can be formed. According to the present invention, by using such a photosensitive colored resin composition for a color filter, a high-quality color filter can be obtained, and further, a high-quality liquid crystal display device and an organic EL display can be provided. it can.

本発明のカラーフィルタを備えた有機EL素子の一例を示す断面概略図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows an example of the organic EL element provided with the color filter of this invention.

以下、本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更して実施することができる。
なお、本発明において、「(メタ)アクリル」とは「アクリル及び/又はメタクリル」を意味し、「(メタ)アクリレート」、「(メタ)アクリロイル」についても同様である。
Embodiments of the present invention will be specifically described below, but the present invention is not limited to the following embodiments, and various modifications can be made within the scope of the gist of the present invention.
In the present invention, “(meth) acryl” means “acryl and / or methacryl”, and the same applies to “(meth) acrylate” and “(meth) acryloyl”.

本発明において「全固形分」とは、カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物中又は後述するインク中に含まれる、溶剤以外の全成分を意味するものとする。
本発明において、重量平均分子量とは、GPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)によるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)をさす。
また、本発明において、「アミン価」とは、特に断りのない限り、有効固形分換算のアミン価を表し、分散剤の固形分1gあたりの塩基量と当量のKOHの重量で表される値である。なお、測定方法については後述する。
In the present invention, the “total solid content” means all components other than the solvent contained in the photosensitive colored resin composition for a color filter or in the ink described later.
In the present invention, the weight average molecular weight refers to a polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) by GPC (gel permeation chromatography).
Further, in the present invention, the “amine value” means an amine value in terms of effective solid content, unless otherwise specified, and is a value represented by the weight of KOH equivalent to the base amount per 1 g of the solid content of the dispersant. It is. The measuring method will be described later.

[カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物]
本発明のカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物(以下、「感光性着色樹脂組成物」又は「着色樹脂組成物」と称す場合がある)は、
アルカリ可溶性樹脂(A)
アルカリ可溶性樹脂(A’)、アルカリ可溶性樹脂(A1’)、アルカリ可溶性樹脂(A”)、及びアルカリ可溶性樹脂(A1”)からなる群より選ばれる1以上
光重合開始剤(B)
色材(C)
及び
メルカプト基を2個以上有し、該メルカプト基に対してα位の炭素原子が置換基として少なくとも一つの炭化水素基を有するチオール化合物(D)
を必須成分として含有し、好ましくは更に、
分散剤(E)
及び
光重合性モノマー(F)
を含有し、必要に応じて、更にアルカリ可溶性樹脂(A、A’、A1’、A”、 A1
”)以外のその他のバインダー樹脂(H)や、有機溶剤、密着向上剤、塗布性向上剤、現像改良剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、界面活性剤、顔料誘導体等、その他の配合成分を含むものであり、通常、各配合成分が、有機溶剤に溶解又は分散した状態で使用される。
[Photosensitive colored resin composition for color filter]
The photosensitive colored resin composition for color filters of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “photosensitive colored resin composition” or “colored resin composition”)
Alkali-soluble resin (A)
One or more photopolymerization initiators (B) selected from the group consisting of alkali-soluble resins (A ′), alkali-soluble resins (A1 ′), alkali-soluble resins (A ″), and alkali-soluble resins (A1 ″)
Color material (C)
And a thiol compound having two or more mercapto groups and having at least one hydrocarbon group as a substituent at a carbon atom in the α-position to the mercapto group (D)
As an essential component, preferably further,
Dispersant (E)
And photopolymerizable monomer (F)
If necessary, an alkali-soluble resin (A, A ′, A1 ′, A ″, A1
)) Other binder resins (H), organic solvents, adhesion improvers, coatability improvers, development improvers, ultraviolet absorbers, antioxidants, silane coupling agents, surfactants, pigment derivatives, etc. Other compounding components are included, and each compounding component is usually used in a state dissolved or dispersed in an organic solvent.

<アルカリ可溶性樹脂(A)>
アルカリ可溶性樹脂(A)は、特定のエポキシ樹脂(a)と、不飽和基含有カルボン酸(b)との反応物を、更に多塩基酸及び/又はその無水物(c)と反応させて得られるものである。
(1) エポキシ樹脂(a)
エポキシ樹脂(a)は下記一般式(1−a)で表される。
<Alkali-soluble resin (A)>
The alkali-soluble resin (A) is obtained by further reacting a reaction product of a specific epoxy resin (a) with an unsaturated group-containing carboxylic acid (b) with a polybasic acid and / or its anhydride (c). It is what
(1) Epoxy resin (a)
The epoxy resin (a) is represented by the following general formula (1-a).

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔上記一般式(1−a)において、nは平均値を示し0〜10の数を示す。R41は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はビフェニル基のいずれかを表す。なお、1分子中に存在する複数のR41は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。Gはグリシジル基を表す。〕
一般式(1−a)におけるR41は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はビフェニル基のいずれかを表すが、感度及び溶解性の点から、R41としては、水素原子又はメチル基が特に好ましい。なお、1分子中に存在する複数のR41は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。
[In the said general formula (1-a), n shows an average value and shows the number of 0-10. R 41 represents any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. A plurality of R 41 present in one molecule may be the same or different. G represents a glycidyl group. ]
R 41 in the general formula (1-a) represents any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, or a biphenyl group. As represented, from the viewpoint of sensitivity and solubility, R 41 is particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group. A plurality of R 41 present in one molecule may be the same or different.

前記一般式(1−a)で表されるエポキシ樹脂(a)は、例えば、下記一般式(1−a−1)で表される化合物とエピハロヒドリンとを、アルカリ金属水酸化物の存在下に反応させることにより得ることができる。   The epoxy resin (a) represented by the general formula (1-a) includes, for example, a compound represented by the following general formula (1-a-1) and an epihalohydrin in the presence of an alkali metal hydroxide. It can be obtained by reacting.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

(式中、n及びR41は、一般式(1−a)におけるのと同じ意味を表す。)
前記一般式(1−a−1)で表される化合物は、例えば下記一般式(1−a−2)で表される化合物とフェノール類とを酸触媒の存在下で縮合反応させることにより得ることができる。
(In the formula, n and R 41 represent the same meaning as in the general formula (1-a).)
The compound represented by the general formula (1-a-1) is obtained, for example, by subjecting a compound represented by the following general formula (1-a-2) and a phenol to a condensation reaction in the presence of an acid catalyst. be able to.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

(式中、Zはハロゲン原子、水酸基、又は低級アルコキシ基を表す。R41は前記一般式(1−a)におけるのと同じ意味を表す。)
上記一般式(1−a−2)のZにおいて、ハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子などが、低級アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜4のアルコキシ基などがそれぞれ好ましい基として挙げられる。
(In the formula, Z represents a halogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkoxy group. R 41 represents the same meaning as in the general formula (1-a).)
In Z of the general formula (1-a-2), a halogen atom is preferably a chlorine atom, a bromine atom or the like, and a lower alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as a methoxy group or an ethoxy group. As a group.

一方、フェノール類とは、フェノール性水酸基を1分子中に1個有する芳香族化合物であり、その具体例としては、フェノール、クレゾール、エチルフェノール、n−プロピルフェノール、イソブチルフェノール、t−ブチルフェノール、オクチルフェノール、キシレノール、メチルブチルフェノール、ジ−t−ブチルフェノール等を代表例とするアルキルフェノールの各種o−,m−,p−異性体、又はシクロペンチルフェノール、シクロヘキシルフェノール、シクロヘキシルクレゾール等を代表例とするシクロアルキルフェノール、又はフェニルフェノールなど、前記一般式(1−a)におけるR41として挙げた基で置換された置換フェノール類が挙げられる。これらのフェノール類は1種を単独で或いは2種以上を組み合わせて用いることができる。 On the other hand, phenols are aromatic compounds having one phenolic hydroxyl group per molecule, and specific examples thereof include phenol, cresol, ethylphenol, n-propylphenol, isobutylphenol, t-butylphenol, octylphenol. , Various o-, m-, and p-isomers of alkylphenols typified by xylenol, methylbutylphenol, di-t-butylphenol, etc., or cycloalkylphenols typified by cyclopentylphenol, cyclohexylphenol, cyclohexylresole, etc., or Examples thereof include substituted phenols substituted with the group exemplified as R 41 in the general formula (1-a) such as phenylphenol. These phenols can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

上記縮合反応を行う場合、フェノール類の使用量は一般式(1−a−2)で表される化合物1モルに対して好ましくは0.5〜20モル、特に好ましくは2〜15モルである。
上記縮合反応においては酸触媒を用いるのが好ましく、酸触媒としては種々のものが使用できるが、塩酸、硫酸、p−トルエンスルホン酸、シュウ酸、三弗化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛などが好ましく、特にp−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸が好ましい。これら酸触媒の使用量は特に限定されるものではないが、一般式(1−a−2)で表される化合物に対して0.1〜30重量%用いるのが好ましい。
When performing the said condensation reaction, Preferably the usage-amount of phenols is 0.5-20 mol with respect to 1 mol of compounds represented by general formula (1-a-2), Most preferably, it is 2-15 mol. .
In the above condensation reaction, it is preferable to use an acid catalyst, and various acid catalysts can be used, such as hydrochloric acid, sulfuric acid, p-toluenesulfonic acid, oxalic acid, boron trifluoride, anhydrous aluminum chloride, zinc chloride, etc. In particular, p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid, and hydrochloric acid are preferable. Although the usage-amount of these acid catalysts is not specifically limited, It is preferable to use 0.1-30 weight% with respect to the compound represented by general formula (1-a-2).

上記縮合反応は無溶剤下で、或いは有機溶剤の存在下で行うことができる。有機溶剤を使用する場合の具体例としてはトルエン、キシレン、メチルイソブチルケトンなどが挙げられる。有機溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に対して50〜300重量%が好ましく、特に100〜250重量%が好ましい。反応温度は40〜180℃の範囲が好ましく、反応時間は1〜8時間が好ましい。   The condensation reaction can be performed in the absence of a solvent or in the presence of an organic solvent. Specific examples in the case of using an organic solvent include toluene, xylene, methyl isobutyl ketone and the like. The amount of the organic solvent used is preferably 50 to 300% by weight, particularly preferably 100 to 250% by weight, based on the total weight of the charged raw materials. The reaction temperature is preferably in the range of 40 to 180 ° C., and the reaction time is preferably 1 to 8 hours.

反応終了後、中和処理或は水洗処理を行って生成物のpH値を3〜7好ましくは5〜7に調節する。水洗処理を行う場合、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、アンモニア、リン酸二水素ナトリウム、更にはジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、アニリン、フェニレンジアミンなどの有機アミンなどの様々な塩基性物質等を中和剤として用いて処理すれば良い。また、水洗処理は常法に従って行えば良い。例えば反応混合物中に上記中和剤を溶解した水を加え、分液抽出操作を繰り返す方法を採用することができる。   After completion of the reaction, neutralization treatment or water washing treatment is performed to adjust the pH value of the product to 3-7, preferably 5-7. When performing the water washing treatment, alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide, alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide and magnesium hydroxide, ammonia, sodium dihydrogen phosphate, diethylenetriamine, What is necessary is just to process using various basic substances, such as organic amines, such as a triethylenetetramine, aniline, and phenylenediamine, as a neutralizing agent. In addition, the washing treatment may be performed according to a conventional method. For example, a method in which water in which the neutralizing agent is dissolved is added to the reaction mixture and the liquid separation extraction operation is repeated can be employed.

上記中和処理或いは水洗処理を行った後、減圧加熱下で未反応のジヒドロキシベンゼン類及び溶剤を留去して生成物の濃縮を行って、前記一般式(1−a−1)で表される化合
物を得ることができる。
前記一般式(1−a−1)で表される化合物から、前記一般式(1−a)で表される本発明に係るエポキシ樹脂(a)を得る方法としては公知の方法が採用できる。例えば、一般式(1−a−1)で表される化合物と過剰のエピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン等のエピハロヒドリンの溶解混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を予め添加し、又は添加しながら20〜120℃の温度で1〜10時間反応させることにより、一般式(1−a)で表されるエポキシ樹脂(a)を得ることができる。
After the neutralization treatment or the water washing treatment, the unreacted dihydroxybenzenes and the solvent are distilled off under heating under reduced pressure to concentrate the product, which is represented by the general formula (1-a-1). Can be obtained.
As a method for obtaining the epoxy resin (a) according to the present invention represented by the general formula (1-a) from the compound represented by the general formula (1-a-1), a known method can be adopted. For example, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added in advance to a dissolved mixture of a compound represented by the general formula (1-a-1) and an epihalohydrin such as excess epichlorohydrin or epibromhydrin. Or the epoxy resin (a) represented by general formula (1-a) can be obtained by making it react at the temperature of 20-120 degreeC for 1 to 10 hours, adding.

このエポキシ樹脂(a)を得る反応において、アルカリ金属水酸化物はその水溶液を使用しても良く、その場合に該アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加すると共に減圧下、又は常圧下連続的に水及びエピハロヒドリンを留出させ、更に分液し、水は除去しエピハロヒドリンは反応系内に連続的に戻す方法であっても良い。
また、前記一般式(1−a−1)で表される化合物とエピハロヒドリンの溶解混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩を触媒として添加し、50〜150℃で1〜5時間反応させて得られる、一般式(1−a−1)で表される化合物のハロヒドリンエーテル化物に、アルカリ金属水酸化物の固体又は水溶液を加え、再び20〜120℃の温度で1〜10時間反応させて脱ハロゲン化水素(閉環)させる方法でも良い。
In the reaction for obtaining the epoxy resin (a), an aqueous solution of the alkali metal hydroxide may be used. In that case, the aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system and the pressure is reduced. Alternatively, water and epihalohydrin may be continuously distilled off under normal pressure, followed by liquid separation, water may be removed, and epihalohydrin may be continuously returned to the reaction system.
Further, a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide or trimethylbenzylammonium chloride is added as a catalyst to a dissolved mixture of the compound represented by the general formula (1-a-1) and epihalohydrin, and 50 To the halohydrin etherified compound of the compound represented by the general formula (1-a-1) obtained by reacting at ~ 150 ° C for 1 to 5 hours, an alkali metal hydroxide solid or an aqueous solution is added, and again 20 A method of dehydrohalogenating (ring closure) by reacting at a temperature of ˜120 ° C. for 1 to 10 hours may be used.

このような反応において使用されるエピハロヒドリンの量は、一般式(1−a−1)で表される化合物の水酸基1当量に対し通常1〜20モル、好ましくは2〜10モルである。また、アルカリ金属水酸化物の使用量は一般式(1−a−1)で表される化合物の水酸基1当量に対し通常0.8〜15モル、好ましくは0.9〜11モルである。
更に、反応を円滑に進行させるためにメタノール、エタノールなどのアルコール類の他、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行っても良い。アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対し2〜20重量%、好ましくは4〜15重量%である。また、非プロトン性極性溶媒を用いる場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対し5〜100重量%、好ましくは10〜90重量%である。
The amount of epihalohydrin used in such a reaction is usually 1 to 20 mol, preferably 2 to 10 mol, relative to 1 equivalent of the hydroxyl group of the compound represented by formula (1-a-1). Moreover, the usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.8-15 mol normally with respect to 1 equivalent of hydroxyl groups of the compound represented by general formula (1-a-1), Preferably it is 0.9-11 mol.
Furthermore, in order to make the reaction proceed smoothly, the reaction may be carried out by adding an aprotic polar solvent such as dimethylsulfone or dimethylsulfoxide in addition to alcohols such as methanol and ethanol. When alcohols are used, the amount used is 2 to 20% by weight, preferably 4 to 15% by weight, based on the amount of epihalohydrin. Moreover, when using an aprotic polar solvent, the usage-amount is 5 to 100 weight% with respect to the quantity of an epihalohydrin, Preferably it is 10 to 90 weight%.

このようなエポキシ化反応の反応生成物を水洗した後、又は水洗することなく、加熱減圧下、例えば110〜250℃、圧力1.3kPa(10mmHg)以下の条件下で、エピハロヒドリンや他の添加溶媒などを除去して、目的とするエポキシ樹脂(a)を得る。
また、更に加水分解性ハロゲンの少ないエポキシ樹脂とするために、得られたエポキシ樹脂を再びトルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて反応を行い、閉環を確実なものにすることもできる。この場合、アルカリ金属水酸化物の使用量はエポキシ化に使用した一般式(1−a−1)で表される化合物の水酸基1当量に対して好ましくは0.01〜0.3モル、特に好ましくは0.05〜0.2モルである。反応温度は50〜120℃、反応時間は通常0.5〜2時間である。
After washing the reaction product of such an epoxidation reaction with water or without washing with water, epihalohydrin and other added solvents under heating and reduced pressure, for example, under conditions of 110 to 250 ° C. and a pressure of 1.3 kPa (10 mmHg) or less. Are removed to obtain the desired epoxy resin (a).
In addition, in order to obtain an epoxy resin with less hydrolyzable halogen, the obtained epoxy resin is dissolved again in a solvent such as toluene or methyl isobutyl ketone, and an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is dissolved. The reaction can be carried out by adding an aqueous solution to ensure ring closure. In this case, the amount of the alkali metal hydroxide used is preferably 0.01 to 0.3 mol, particularly preferably 1 equivalent to the hydroxyl group of the compound represented by the general formula (1-a-1) used for the epoxidation. Preferably it is 0.05-0.2 mol. The reaction temperature is 50 to 120 ° C., and the reaction time is usually 0.5 to 2 hours.

反応終了後、生成した塩を濾過、水洗などにより除去し、更に、加熱減圧下、トルエン、メチルイソブチルケトンなどの溶剤を留去することにより、前記一般式(1−a)で表されるエポキシ樹脂(a)を得ることができる。
(2) 不飽和基含有カルボン酸(b)
不飽和基含有カルボン酸(b)としては、エチレン性不飽和二重結合を有する不飽和カルボン酸が挙げられ、具体例としては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、o−、m−、p−ビニル安息香酸、(メタ)アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体などのモノカルボン酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコ
ハク酸、2−アクリロイロキシエチルアジピン酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルマレイン酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルアジピン酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルテトラヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルマレイン酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルアジピン酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルマレイン酸(メタ)、アクリル酸にε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類を付加させたものである単量体、或いはヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレートに(無水)コハク酸、(無水)フタル酸、(無水)マレイン酸などの酸(無水物)を付加させた単量体、(メタ)アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。
After completion of the reaction, the generated salt is removed by filtration, washing with water, and the like, and the epoxy represented by the general formula (1-a) is removed by distilling off a solvent such as toluene and methyl isobutyl ketone under heating and reduced pressure. Resin (a) can be obtained.
(2) Unsaturated carboxylic acid (b)
As unsaturated group containing carboxylic acid (b), the unsaturated carboxylic acid which has an ethylenically unsaturated double bond is mentioned, As a specific example, (meth) acrylic acid, crotonic acid, o-, m-, p -Monocarboxylic acid such as vinyl benzoic acid, α-position haloalkyl of (meth) acrylic acid, alkoxyl, halogen, nitro, cyano substitution, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl adipic acid 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl maleic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl succinic acid 2- (meth) acryloyloxypropyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl tetrahydrophthalic acid, 2- (Meth) acryloyloxypropylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylmaleic acid, 2- (meth) acryloyloxybutyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxybutyladipic acid, 2- (meth) Acryloyloxybutylhydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxybutylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxybutylmaleic acid (meth), acrylic acid with ε-caprolactone, β-propiolactone, γ- Monomers to which lactones such as butyrolactone and δ-valerolactone are added, or hydroxyalkyl (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, (anhydrous) succinic acid, (anhydrous) phthalic acid, ( Monomer) to which acid (anhydride) such as maleic acid is added, (meth) acrylic acid dye Chromatography and the like.

これらの内、感度の点から、特に好ましいものは(メタ)アクリル酸である。これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
(3) エポキシ樹脂(a)と不飽和基含有カルボン酸(b)との反応
エポキシ樹脂(a)中のエポキシ基と不飽和基含有カルボン酸(b)とを反応させる方法としては公知の手法を用いることができる。例えば、エポキシ樹脂(a)と不飽和基含有カルボン酸(b)とを、トリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の3級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩、ピリジン、トリフェニルホスフィン等を触媒として、有機溶剤中、反応温度50〜150℃で数〜数十時間反応させることにより、エポキシ樹脂にカルボン酸を付加することができる。
Of these, (meth) acrylic acid is particularly preferable from the viewpoint of sensitivity. These may be used alone or in combination of two or more.
(3) Reaction of epoxy resin (a) with unsaturated group-containing carboxylic acid (b) Known method for reacting epoxy group in epoxy resin (a) with unsaturated group-containing carboxylic acid (b) Can be used. For example, an epoxy resin (a) and an unsaturated group-containing carboxylic acid (b) are converted into a tertiary amine such as triethylamine or benzylmethylamine, dodecyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, benzyltriethylammonium chloride, etc. Carboxylic acid can be added to the epoxy resin by reacting in an organic solvent at a reaction temperature of 50 to 150 ° C. for several to several tens of hours using a quaternary ammonium salt, pyridine, triphenylphosphine or the like as a catalyst.

該触媒の使用量は、反応原料混合物(エポキシ樹脂(a)と不飽和基含有カルボン酸(b)との合計)に対して好ましくは0.01〜10重量%、特に好ましくは0.3〜5重量%である。
また、反応中の重合を防止するために、重合防止剤(例えばメトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ピロガロール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等)を使用することが好ましく、その使用量は、反応原料混合物に対して好ましくは0.01〜10重量%、特に好ましくは0.1〜5重量%である。
The amount of the catalyst used is preferably 0.01 to 10% by weight, particularly preferably 0.3 to 0.3%, based on the reaction raw material mixture (total of epoxy resin (a) and unsaturated group-containing carboxylic acid (b)). 5% by weight.
In order to prevent polymerization during the reaction, it is preferable to use a polymerization inhibitor (for example, methoquinone, hydroquinone, methylhydroquinone, p-methoxyphenol, pyrogallol, tert-butylcatechol, phenothiazine, etc.). The amount of the reaction raw material mixture is preferably 0.01 to 10% by weight, particularly preferably 0.1 to 5% by weight.

エポキシ樹脂(a)のエポキシ基に不飽和基含有カルボン酸(b)を付加させる割合は、通常90〜100モル%である。エポキシ基の残存は保存安定性に悪影響を与えるため、不飽和基含有カルボン酸(b)はエポキシ樹脂(a)のエポキシ基1当量に対して、通常0.8〜1.5当量、特に0.9〜1.1当量の割合で反応を行うことが好ましい。
(4) 多塩基酸及び/又はその無水物(c)
エポキシ樹脂(a)と不飽和基含有カルボン酸(b)との反応物の水酸基に付加させる多塩基酸及び/又はその無水物(c)としては、公知のものが使用でき、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸、メチル−5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸等の二塩基性カルボン酸又はその無水物;トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸等の多塩基性カルボン酸又はその無水物等が挙げられる。中でも好ましくは、テトラヒドロ無水フタル酸又は無水コハク酸が挙げられる。これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
The proportion of the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) added to the epoxy group of the epoxy resin (a) is usually 90 to 100 mol%. Since the remaining epoxy group adversely affects storage stability, the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) is usually 0.8 to 1.5 equivalents, particularly 0, to 1 equivalent of the epoxy group of the epoxy resin (a). It is preferable to carry out the reaction at a ratio of .9 to 1.1 equivalents.
(4) Polybasic acid and / or its anhydride (c)
As the polybasic acid and / or anhydride (c) added to the hydroxyl group of the reaction product of the epoxy resin (a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b), known ones can be used. Acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, 5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, methyl-5-norbornene-2 Dibasic carboxylic acids such as 1,3-dicarboxylic acid or anhydrides thereof; polybasic carboxylic acids such as trimellitic acid, pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or anhydrides thereof. Among these, tetrahydrophthalic anhydride or succinic anhydride is preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

多塩基酸及び/又はその無水物(c)の付加率は、エポキシ樹脂(a)に不飽和基含有カルボン酸(b)を付加させたときに生成される水酸基の、通常10〜100モル%、好ましくは20〜100モル%、より好ましくは30〜100モル%である。この付加率が多すぎると、現像時の残膜率が低下することがあり、少なすぎると溶解性が不足したり、基板への密着性が不足することがある。   The addition rate of the polybasic acid and / or its anhydride (c) is usually 10 to 100 mol% of the hydroxyl group produced when the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) is added to the epoxy resin (a). , Preferably 20 to 100 mol%, more preferably 30 to 100 mol%. If the addition rate is too high, the remaining film rate during development may decrease, and if it is too low, the solubility may be insufficient or the adhesion to the substrate may be insufficient.

前記エポキシ樹脂(a)に、不飽和基含有カルボン酸(b)を付加させた後、多塩基酸及び/又はその無水物(c)を付加させる方法としては、公知の方法を用いることができる。
また、本発明においては、このようにして多塩基酸及び/又はその無水物(c)を付加後、生成したカルボキシル基の一部にエポキシ基含有化合物(d)を付加させても良い。この場合、エポキシ基含有化合物(d)として、光感度を向上させるために、グリシジル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘキシル(メタ)アクリレートや、重合性不飽和基を有するグリシジルエーテル化合物などの、エポキシ基含有不飽和化合物を付加させたり、また、現像性を向上させるために、重合性不飽和基を有さないグリシジルエーテル化合物を付加させることもでき、この両者を併用しても良い。重合性不飽和基を有さないグリシジルエーテル化合物の具体例としてはフェニル基やアルキル基を有するグリシジルエーテル化合物(ナガセ化成工業(株)製、商品名:デナコールEX−111、デナコールEX−121、デナコールEX−141、デナコールEX−145、デナコールEX−146、デナコールEX−171、デナコールEX−192)等がある。
As a method of adding the polybasic acid and / or anhydride (c) thereof after adding the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) to the epoxy resin (a), a known method can be used. .
Moreover, in this invention, after adding a polybasic acid and / or its anhydride (c) in this way, you may add an epoxy-group containing compound (d) to a part of produced | generated carboxyl group. In this case, as an epoxy group-containing compound (d), in order to improve photosensitivity, glycidyl (meth) acrylate, 3,4-epoxycyclohexyl (meth) acrylate, glycidyl ether compound having a polymerizable unsaturated group, etc. In order to add an epoxy group-containing unsaturated compound or to improve developability, a glycidyl ether compound having no polymerizable unsaturated group can be added, or both of them may be used in combination. Specific examples of the glycidyl ether compound having no polymerizable unsaturated group include a glycidyl ether compound having a phenyl group or an alkyl group (manufactured by Nagase Chemical Industries, Ltd., trade names: Denacol EX-111, Denacol EX-121, Denacol) EX-141, Denacol EX-145, Denacol EX-146, Denacol EX-171, Denacol EX-192) and the like.

本発明に係るアルカリ可溶性樹脂(A)は、前述のエポキシ樹脂(a)と不飽和基含有カルボン酸(b)との反応物を、更に多塩基酸及び/又はその無水物(c)と反応させて得られる樹脂の、カルボキシル基の一部にこのようなエポキシ基含有化合物(d)を付加させて得られる樹脂であっても良い。
(5) アルカリ可溶性樹脂(A)の物性等
本発明で用いるアルカリ可溶性樹脂(A)の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は通常1500以上、好ましくは2000以上であり、通常50000以下、好ましくは30000以下、より好ましくは10000以下である。このアルカリ可溶性樹脂(A)の重量平均分子量が小さすぎると、感度が劣り、大きすぎると現像液に対する溶解性が不足するため好ましくない。
The alkali-soluble resin (A) according to the present invention is obtained by reacting the reaction product of the epoxy resin (a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) with a polybasic acid and / or its anhydride (c). The resin obtained by adding such an epoxy group-containing compound (d) to a part of the carboxyl group of the resin obtained by the above process may be used.
(5) Physical Properties of Alkali-Soluble Resin (A) The weight-average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of the alkali-soluble resin (A) used in the present invention is usually 1500 or more, preferably Is 2000 or more, usually 50000 or less, preferably 30000 or less, more preferably 10,000 or less. If the weight average molecular weight of the alkali-soluble resin (A) is too small, the sensitivity is inferior.

また、本発明で用いるアルカリ可溶性樹脂(A)の酸価(mgKOH/g)は、通常10以上、好ましくは50以上であり、通常200以下、好ましくは150以下である。アルカリ可溶性樹脂(A)の酸価が低すぎると十分な溶解性が得られない場合があり、酸価が高すぎると硬化性が不足し、塗布膜の表面性が悪化する傾向がある。
<アルカリ可溶性樹脂(A’)、アルカリ可溶性樹脂(A1’)>
アルカリ可溶性樹脂(A’)は、下記一般式(1−a’)で示されるエポキシ化合物(a’)と、α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b’)との反応物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c’)と反応させて得られるものである。
Moreover, the acid value (mgKOH / g) of the alkali-soluble resin (A) used in the present invention is usually 10 or more, preferably 50 or more, and usually 200 or less, preferably 150 or less. If the acid value of the alkali-soluble resin (A) is too low, sufficient solubility may not be obtained. If the acid value is too high, curability is insufficient and the surface properties of the coating film tend to deteriorate.
<Alkali-soluble resin (A ′), alkali-soluble resin (A1 ′)>
The alkali-soluble resin (A ′) includes an epoxy compound (a ′) represented by the following general formula (1-a ′), an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or an α having a carboxyl group in the ester moiety. It is obtained by reacting a reaction product with a β-unsaturated monocarboxylic acid ester (b ′) with a polybasic acid and / or its anhydride (c ′).

アルカリ可溶性樹脂(A1’)は、下記一般式(1−a’)で示されるエポキシ化合物(a’)と、α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b’)との反応物と、多価アルコール(d’)との混合物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c’)と反応させて得られるものである。   The alkali-soluble resin (A1 ′) includes an epoxy compound (a ′) represented by the following general formula (1-a ′), an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or an α having a carboxyl group in the ester moiety. What is obtained by reacting a mixture of a reaction product with a β-unsaturated monocarboxylic acid ester (b ′) and a polyhydric alcohol (d ′) with a polybasic acid and / or its anhydride (c ′) It is.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔上記一般式(1−a’)において、p及びqはそれぞれ独立に0〜4の整数を表し、R31及びR32はそれぞれ独立してアルキル基又はハロゲン原子を表す。R33及びR34はそれぞれ独立してアルキレン基を表す。x及びyはそれぞれ独立して0以上の整数を表す。〕
(1) 一般式(1−a’)で示されるエポキシ化合物(a’)
まず、前記一般式(1−a’)で示されるエポキシ化合物(a’)(以下、「(a’)成分」と称することがある)について説明する。
[In the general formula (1-a ′), p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 31 and R 32 each independently represent an alkyl group or a halogen atom. R 33 and R 34 each independently represents an alkylene group. x and y each independently represents an integer of 0 or more. ]
(1) Epoxy compound (a ′) represented by general formula (1-a ′)
First, the epoxy compound (a ′) represented by the general formula (1-a ′) (hereinafter sometimes referred to as “(a ′) component”) will be described.

前記一般式(1−a’)において、R31及びR32のアルキル基としては、炭素数1〜10のアルキル基が好ましく、ハロゲン原子としてはCl、Br、F等が挙げられる。R31及びR32としては、それぞれ独立に炭素数1〜5のアルキル基が特に好ましい。
31及びR32のアルキル基、ハロゲン原子の作用機構の詳細は明らかではないが、分子の3次元構造に影響を与え、現像液に対しての溶解しやすさを制御しているものと推測される。
In the general formula (1-a ′), the alkyl group of R 31 and R 32 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the halogen atom includes Cl, Br, F, and the like. R 31 and R 32 are each particularly preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
Although details of the mechanism of action of the alkyl groups and halogen atoms of R 31 and R 32 are not clear, it is assumed that they affect the three-dimensional structure of the molecule and control the solubility in the developer. Is done.

従って上記観点からは、前記一般式(1−a’)におけるp及びqはそれぞれ独立して0〜4の整数を表すが、好ましくは1又は2である。
31及びR32のベンゼン環への結合位置は、特に制限は無いが、
Therefore, from the above viewpoint, p and q in the general formula (1-a ′) each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 1 or 2.
The bonding position of R 31 and R 32 to the benzene ring is not particularly limited,

Figure 2012083549
Figure 2012083549

又は Or

Figure 2012083549
Figure 2012083549

に対してo−位が好ましい。
なお、R31及びR32は同じ基であっても異なる基であっても良いが、製造上のコス
トの点から、同じ基であることが好ましい。
33及びR34のアルキレン基としては、炭素数1〜10のアルキレン基が挙げられ、特にそれぞれ独立してエチレン基又はプロピレン基である場合が好ましい。
The o-position is preferred.
R 31 and R 32 may be the same group or different groups, but are preferably the same group from the viewpoint of production cost.
Examples of the alkylene group of R 33 and R 34 include an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and it is particularly preferable that they are each independently an ethylene group or a propylene group.

x及びyは、それぞれ独立して0以上の整数を表すが、通常0〜6程度であり、好ましくは0〜3程度である。一般にx及びyは大きいほど溶解性が高いが、大きすぎる場合には、感度が低下する可能性がある。
なお、R33及びR34は同じ基であっても異なる基であっても良いが、製造上のコストの点から、同じ基であることが好ましい。
x and y each independently represents an integer of 0 or more, but is usually about 0 to 6, preferably about 0 to 3. In general, the larger x and y, the higher the solubility, but if it is too large, the sensitivity may decrease.
R 33 and R 34 may be the same group or different groups, but are preferably the same group from the viewpoint of production cost.

これら(a’)成分の分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)として、通常200〜200,000、好ましくは300〜100,000の範囲である。分子量が上記範囲未満であると皮膜形成性に問題を生じる場合が多く、逆に、上記範囲を超えた樹脂では、後述するα,β−不飽和モノカルボン酸等の付加反応時にゲル化が起こりやすく、製造が困難となる可能性がある。   The molecular weight of these components (a ′) is usually in the range of 200 to 200,000, preferably 300 to 100,000, as polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) as measured by gel permeation chromatography (GPC). If the molecular weight is less than the above range, there are many cases where a problem occurs in the film-forming property. Conversely, in the case of a resin exceeding the above range, gelation occurs during the addition reaction of α, β-unsaturated monocarboxylic acid and the like described later. It may be difficult and difficult to manufacture.

(2) α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はエステル部分にカルボキシル基を有
するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b’)
α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b’)(以下、「(b’)成分」と称することがある)のうち、α,β−不飽和モノカルボン酸としては、イタコン酸、クロトン酸、桂皮酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられ、好ましくは、アクリル酸及びメタクリル酸であり、特にアクリル酸が反応性に富むため好ましい。
(2) α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester (b ′) having a carboxyl group in the ester moiety
α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester (b ′) having a carboxyl group in the ester moiety (hereinafter sometimes referred to as “(b ′) component”) Among them, the α, β-unsaturated monocarboxylic acid includes itaconic acid, crotonic acid, cinnamic acid, acrylic acid, methacrylic acid, etc., preferably acrylic acid and methacrylic acid, and particularly acrylic acid is reactive. It is preferable because of its richness.

エステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステルとしては、アクリル酸−2−サクシノイルオキシエチル、アクリル酸−2−マレイノイルオキシエチル、アクリル酸−2−フタロイルオキシエチル、アクリル酸−2−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、メタクリル酸−2−サクシノイルオキシエチル、メタクリル酸−2−マレイノイルオキシエチル、メタクリル酸−2−フタロイルオキシエチル、メタクリル酸−2−ヘキサヒドロフタロイルオキシエチル、クロトン酸−2−サクシノイルオキシエチル等を挙げられ、好ましくは、アクリル酸−2−マレイノイルオキシエチル及びアクリル酸−2−フタロイルオキシエチルであり、特にアクリル酸−2−マレイノイルオキシエチルが好ましい。   The α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group in the ester portion includes acrylic acid-2-succinoyloxyethyl, acrylic acid-2-malenoyloxyethyl, acrylic acid-2-phthaloyloxyethyl, Acrylic acid-2-hexahydrophthaloyloxyethyl, methacrylic acid-2-succinoyloxyethyl, methacrylic acid-2-malenoyloxyethyl, methacrylic acid-2-phthaloyloxyethyl, methacrylic acid-2-hexahydrophthalo Yloxyethyl, crotonic acid-2-succinoyloxyethyl, and the like. Preferred are acrylic acid-2-malenoyloxyethyl acrylate and 2-phthaloyloxyethyl acrylate, and particularly acrylic acid-2-maleic acid. Noyloxyethyl is preferred.

(b’)成分と、前記(a’)成分との付加反応は、公知の手法を用いることができる。例えば、エステル化触媒の存在下、50〜150℃の温度で、(b’)成分と(a’)成分とを反応させることができる。ここで用いるエステル化触媒としては、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルジエチルアミン等の3級アミン、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩等を用いることができる。   A known method can be used for the addition reaction between the component (b ′) and the component (a ′). For example, the component (b ′) and the component (a ′) can be reacted at a temperature of 50 to 150 ° C. in the presence of an esterification catalyst. As the esterification catalyst used here, tertiary amines such as triethylamine, trimethylamine, benzyldimethylamine, and benzyldiethylamine, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, dodecyltrimethylammonium chloride, and the like can be used. .

なお(a’)成分、(b’)成分、及びエステル化触媒は、いずれも1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(b’)成分の使用量は、(a’)成分のエポキシ基1当量に対し0.5〜1.2当量の範囲が好ましく、さらに好ましくは0.7〜1.1当量の範囲である。
(b’)成分の使用量が少ないと不飽和基の導入量が不足し、引き続く多塩基酸及び/又はその無水物(c’)との反応も不十分となる。また、多量のエポキシ基が残存することも有利ではない。一方、該使用量が多いと(b’)成分が未反応物として残存する。い
ずれの場合も硬化特性が悪化する傾向が認められる。
In addition, as for (a ') component, (b') component, and an esterification catalyst, all may be used individually by 1 type and may use 2 or more types together.
The amount of component (b ′) used is preferably in the range of 0.5 to 1.2 equivalents, more preferably in the range of 0.7 to 1.1 equivalents, relative to 1 equivalent of the epoxy group of component (a ′). .
When the amount of component (b ′) used is small, the amount of unsaturated groups introduced is insufficient, and the subsequent reaction with polybasic acid and / or anhydride (c ′) becomes insufficient. Also, it is not advantageous that a large amount of epoxy groups remain. On the other hand, when the amount used is large, the component (b ′) remains as an unreacted product. In either case, there is a tendency for the curing properties to deteriorate.

(3) 多塩基酸及び/又はその無水物(c’)
(b’)成分が付加した(a’)成分に、さらに付加させる多塩基酸及び/又はその無水物(c’)(以下、「(c’)成分」と称することがある)としては、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸、及びこれらの無水物等から選ばれた、1種又は2種以上が挙げられる。
(3) Polybasic acid and / or its anhydride (c ′)
The polybasic acid and / or anhydride (c ′) to be further added to the component (a ′) added by the component (b ′) (hereinafter sometimes referred to as “component (c ′)”) Maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, benzophenonetetracarboxylic acid, methylhexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, methyl Examples thereof include one or more selected from tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, and anhydrides thereof.

好ましくは、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸、又はこれらの無水物である。特に好ましくは、テトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸、無水テトラヒドロフタル酸、又はビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。   Preferred are maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, biphenyltetracarboxylic acid, or their anhydrides. Particularly preferred is tetrahydrophthalic acid, biphenyltetracarboxylic acid, tetrahydrophthalic anhydride, or biphenyltetracarboxylic dianhydride.

(c’)成分の付加反応に関しても公知の手法を用いることができ、(a’)成分への(b’)成分の付加反応と同様な条件下で、継続反応させて得ることができる。
(c’)成分の付加量は、生成するアルカリ可溶性樹脂(A’)の酸価が10〜150mgKOH/gの範囲となるような程度であることが好ましく、さらに20〜140mgKOH/gの範囲となるような程度であることが好ましい。樹脂酸価が上記範囲未満であるとアルカリ現像性に乏しくなる傾向があり、また、上記範囲を超えると硬化性能に劣る傾向が認められる。
A known method can also be used for the addition reaction of the component (c ′), and it can be obtained by a continuous reaction under the same conditions as the addition reaction of the component (b ′) to the component (a ′).
The amount of component (c ′) added is preferably such that the acid value of the produced alkali-soluble resin (A ′) is in the range of 10 to 150 mgKOH / g, and more preferably in the range of 20 to 140 mgKOH / g. It is preferable that the degree is as follows. When the resin acid value is less than the above range, the alkali developability tends to be poor, and when it exceeds the above range, the curing performance tends to be inferior.

なお、この(c’)成分の付加反応時に、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの多官能アルコール(d’)を添加し、多分岐構造を導入したもの(アルカリ可溶性樹脂(A1’))としてもよい。多価アルコール(d’)としては、例えば後述する多価アルコール(d”)の例として挙げたものと同様の化合物が挙げられる。アルカリ可溶性樹脂(A1’)は、通常、(a’)成分と(b’)成分との反応物に、(c’)成分及び(d’)成分を混合した後に、加温することにより得られる。この場合、(c’)成分と(d’)成分の混合順序に、特に制限はない。加温により、(a’)成分と(b’)成分との反応物と(d’)成分との混合物中に存在するいずれかの水酸基に対して、(c’)成分が付加反応する。   In the addition reaction of component (c ′), a polyfunctional alcohol (d ′) such as trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol or the like is added to introduce a multi-branched structure (alkali-soluble resin (A1 ′ )). Examples of the polyhydric alcohol (d ′) include the same compounds as those exemplified as examples of the polyhydric alcohol (d ″) described below. The alkali-soluble resin (A1 ′) is usually a component (a ′). And the component (b ′) are mixed with the component (c ′) and the component (d ′) and then heated, in which case the components (c ′) and (d ′) There is no particular limitation on the mixing order of the above, with respect to any hydroxyl group present in the mixture of the reaction product of the component (a ′) and the component (b ′) and the component (d ′) by heating. Component (c ′) undergoes an addition reaction.

アルカリ可溶性樹脂(A’)及びアルカリ可溶性樹脂(A1’)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、通常1,000以上、好ましくは1,500以上であり、通常30,000以下、好ましくは20,000以下、さらに好ましくは10,000以下、特に好ましくは8,000以下である。重量平均分子量が大きすぎると現像性が悪化するおそれがあり、逆に小さすぎると耐アルカリ性に劣る可能性がある。   The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of the alkali-soluble resin (A ′) and the alkali-soluble resin (A1 ′) is usually 1,000 or more, preferably 1,500 or more. In general, it is 30,000 or less, preferably 20,000 or less, more preferably 10,000 or less, and particularly preferably 8,000 or less. If the weight average molecular weight is too large, the developability may be deteriorated. Conversely, if the weight average molecular weight is too small, the alkali resistance may be inferior.

<アルカリ可溶性樹脂(A”)、アルカリ可溶性樹脂(A1”)>
アルカリ可溶性樹脂(A”)は、下記一般式(1−a”)で示されるエポキシ化合物(a”)と不飽和基含有カルボン酸(b”)との反応物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c”)と反応させて得られるものである。
アルカリ可溶性樹脂(A1”)は、下記一般式(1−a”)で示されるエポキシ化合物(a”)と不飽和基含有カルボン酸(b”)との反応物と、多価アルコール(d”)との混合物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c”)と反応させて得られるものである。
<Alkali-soluble resin (A ″), alkali-soluble resin (A1 ″)>
The alkali-soluble resin (A ″) is obtained by reacting an epoxy compound (a ″) represented by the following general formula (1-a ″) with an unsaturated group-containing carboxylic acid (b ″), a polybasic acid and / or It is obtained by reacting with its anhydride (c ″).
The alkali-soluble resin (A1 ″) includes a reaction product of an epoxy compound (a ″) represented by the following general formula (1-a ″) and an unsaturated group-containing carboxylic acid (b ″), a polyhydric alcohol (d ″). ) And a polybasic acid and / or its anhydride (c ″).

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔上記一般式(1−a”)において、Xは下記一般式(2a)、(2b)又は(3)で表される連結基を示す。但し、分子構造中に1つ以上のアダマンタン構造を含む。lは、2又は3の整数を示す。 [In the above general formula (1-a ″), X represents a linking group represented by the following general formula (2a), (2b) or (3), provided that one or more adamantane structures are present in the molecular structure. 1 represents an integer of 2 or 3.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

(上記一般式(2a)及び(2b)において、R〜R及びR13〜R15は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアダマンチル基、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。
上記一般式(3)において、R〜R12は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。Yは、置換基を有していてもよい、アダマンタン構造を含む2価の連結基を示す。
(In the above general formulas (2a) and (2b), R 1 to R 4 and R 13 to R 15 each independently have an adamantyl group, a hydrogen atom, and a substituent which may have a substituent. An optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an optionally substituted phenyl group is shown.
In the general formula (3), R 5 to R 12 may each independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms that may have a substituent, or a substituent. Represents a phenyl group; Y represents a divalent linking group containing an adamantane structure, which may have a substituent.

上記一般式(2a)、(2b)及び(3)において、*は、一般式(1−a”)におけるグリシジルオキシ基との結合部位を示す。)〕
(1)一般式(1−a”)で示されるエポキシ化合物(a”)
まず、前記一般式(1−a”)で表されるエポキシ化合物(a”)(以下、「(a”)成分」と称することがある)における基Xについて説明する。
In the general formulas (2a), (2b), and (3), * represents a binding site with the glycidyloxy group in the general formula (1-a ″).
(1) Epoxy compound (a ″) represented by general formula (1-a ″)
First, the group X in the epoxy compound (a ″) represented by the general formula (1-a ″) (hereinafter sometimes referred to as “(a ″) component”) will be described.

前記基Xが前記一般式(2a)又は(2b)で表される構造である場合、前記一般式(2a)及び(2b)は、いずれもアダマンタン構造を2以上4以下有することが好ましい。アダマンタン構造が1では耐現像液性が低下して解像力に劣る傾向がある。
前記基Xが前記一般式(3)で表される構造である場合、前記一般式(3)におけるY
は、「置換基を有していてもよい、アダマンチル構造を含む2価の連結基」であれば、それ以外に特に制限は無いが、例えば下記一般式(4)又は(5)で表される連結基であることが好ましい。
When the group X has the structure represented by the general formula (2a) or (2b), it is preferable that the general formulas (2a) and (2b) both have an adamantane structure of 2 or more and 4 or less. When the adamantane structure is 1, the developer resistance tends to decrease and the resolution tends to be inferior.
When the group X is a structure represented by the general formula (3), Y in the general formula (3)
Is a “divalent linking group containing an adamantyl structure which may have a substituent”, but is not particularly limited. For example, it is represented by the following general formula (4) or (5). It is preferable that it is a coupling group.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔上記一般式(4)及び(5)は、いずれも置換基を有していても良い。*は前記一般式(3)におけるベンゼン環との結合部位を示す。〕
特に、前記一般式(1−a”)で表されるエポキシ化合物(a”)は、下記一般式(6)又は(7)で表されることが好ましい。
[All of the above general formulas (4) and (5) may have a substituent. * Represents a binding site with the benzene ring in the general formula (3). ]
In particular, the epoxy compound (a ″) represented by the general formula (1-a ″) is preferably represented by the following general formula (6) or (7).

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔一般式(6)、(7)に示されるアダマンチル基は置換基を有していても良い。
一般式(6)において、R16〜R23は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。
一般式(7)において、R24及びR25は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアダマンチル基、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。〕
上記一般式(2a)、(2b)、(3)、(6)及び(7)におけるR〜R25の炭素数1〜12のアルキル基としては、好ましくは炭素数1〜10のアルキル基が挙げられる。
[The adamantyl group represented by the general formulas (6) and (7) may have a substituent.
In General Formula (6), R 16 to R 23 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an optionally substituted phenyl group. Indicates a group.
In General Formula (7), R 24 and R 25 are each independently an adamantyl group that may have a substituent, a hydrogen atom, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms that may have a substituent. Or a phenyl group which may have a substituent. ]
The alkyl group having 1 to 12 carbon atoms of R 1 to R 25 in the general formulas (2a), (2b), (3), (6) and (7) is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Is mentioned.

また、これらのアルキル基が有していても良い置換基としては、ハロゲン原子、水酸基
、炭素数1〜10のアルコキシル基、炭素数2〜10のアルケニル基、フェニル基、カルボキシル基、スルファニル基、ホスフィノ基、アミノ基、及びニトロ基などが挙げられる。
また、上記一般式(2a)、(2b)、(3)、(6)、(7)におけるR〜R25のフェニル基が有していても良い置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜10のアルコキシル基、炭素数2〜10のアルケニル基、フェニル基、カルボキシル基、スルファニル基、ホスフィノ基、アミノ基、及びニトロ基などが挙げられる。
Examples of the substituent that these alkyl groups may have include a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a carboxyl group, a sulfanyl group, A phosphino group, an amino group, a nitro group, etc. are mentioned.
In addition, examples of the substituent that the phenyl group of R 1 to R 25 in the general formulas (2a), (2b), (3), (6), and (7) may have include a halogen atom, a hydroxyl group, Examples thereof include an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a carboxyl group, a sulfanyl group, a phosphino group, an amino group, and a nitro group.

また、上記一般式(2a)及び(2b)におけるR〜R及びR13〜R15のアダマンチル基、一般式(3)のYに含まれるアダマンタン環、一般式(6)におけるアダマンタン環、一般式(7)におけるアダマンチル基、一般式(7)におけるR24、R25のアダマンチル基、並びに一般式(4)及び(5)のアダマンタン環が有していても良い置換基としては、ハロゲン原子、水酸基、炭素数1〜10のアルコキシル基、炭素数2〜10のアルケニル基、フェニル基、カルボキシル基、スルファニル基、ホスフィノ基、アミノ基、及びニトロ基などが挙げられる。 Similarly, the general formula (2a) and adamantyl groups R 1 to R 4 and R 13 to R 15 in (2b), adamantane ring in the Y in the general formula (3), adamantane ring in the general formula (6), The adamantyl group in the general formula (7), the adamantyl group of R 24 and R 25 in the general formula (7), and the adamantane ring in the general formulas (4) and (5) may have a halogen Examples thereof include an atom, a hydroxyl group, an alkoxyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a carboxyl group, a sulfanyl group, a phosphino group, an amino group, and a nitro group.

前記一般式(6)において、R16〜R23は、特に、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、アルケニル基、又はフェニル基であることが好ましい。
また、前記一般式(7)において、R24及びR25は、特に、アルキル基、ハロゲン原子、アルコキシル基、アルケニル基、又はフェニル基であることが好ましい。
一般式(1−a”)に示されるXの分子量は、200以上1000以下であることが好ましい。Xの分子量が200未満では耐薬品性に劣る傾向があり、1000を超えると低感度となる可能性がある。
In the general formula (6), R 16 to R 23 are particularly preferably an alkyl group, a halogen atom, an alkoxyl group, an alkenyl group, or a phenyl group.
In the general formula (7), R 24 and R 25 are particularly preferably an alkyl group, a halogen atom, an alkoxyl group, an alkenyl group, or a phenyl group.
The molecular weight of X represented by the general formula (1-a ″) is preferably 200 or more and 1000 or less. When the molecular weight of X is less than 200, the chemical resistance tends to be inferior, and when it exceeds 1000, the sensitivity is low. there is a possibility.

また、一般式(1−a”)で表されるエポキシ化合物(a”)のエポキシ当量は、210以上であることが好ましく、230以上であることがより好ましい。また、このエポキシ当量は450以下であることが好ましく、400以下であることがより好ましい。エポキシ化合物(a”)のエポキシ当量が210未満では耐アルカリ性が不充分となる場合があり、450を超えると生成する有機結合剤の感度が低下する傾向がある。   The epoxy equivalent of the epoxy compound (a ″) represented by the general formula (1-a ″) is preferably 210 or more, and more preferably 230 or more. The epoxy equivalent is preferably 450 or less, and more preferably 400 or less. When the epoxy equivalent of the epoxy compound (a ″) is less than 210, the alkali resistance may be insufficient, and when it exceeds 450, the sensitivity of the organic binder to be produced tends to decrease.

エポキシ化合物(a”)は、1種を単独で用いても良く、2種以上を組み合わせて用いても良い。
エポキシ化合物(a”)は、市販のものを用いても良いし、下記のようなフェノール化合物より公知の方法で合成して用いても良い。
As the epoxy compound (a ″), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
As the epoxy compound (a ″), a commercially available product may be used, or it may be synthesized from a phenol compound as described below by a known method.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

〔上記一般式(9a)、(9b)及び(10)におけるR〜R15は、それぞれ一般式(2a)、(2b)及び(3)におけると同義である。〕
例えば、一般式(9a)又は(9b)で表される化合物と、過剰のエピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン等のエピハロヒドリンの溶解混合物に、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を予め添加し、又は添加しながら20〜120℃の温度で1〜10時間反応させることにより、一般式(1−a”)におけるXが前記一般式(2a)又は(2b)で表される連結基であるエポキシ化合物(a”)を得ることができる。
[R 1 to R 15 in the general formulas (9a), (9b), and (10) have the same meanings as in the general formulas (2a), (2b), and (3), respectively. ]
For example, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added in advance to a dissolved mixture of the compound represented by the general formula (9a) or (9b) and an excess of epihalohydrin such as epichlorohydrin or epibromhydrin. The connecting group in which X in the general formula (1-a ″) is represented by the general formula (2a) or (2b) by adding or reacting at a temperature of 20 to 120 ° C. for 1 to 10 hours while adding. An epoxy compound (a ″) can be obtained.

また、一般式(10)で表される化合物と、過剰のエピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン等のエピハロヒドリンの溶解混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物を予め添加し、又は添加しながら20〜120℃の温度で1〜10時間反応させることにより、一般式(1−a”)におけるXが前記一般式(3)で表されるエポキシ化合物(a”)を得ることができる。   In addition, an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is added in advance or added to a dissolved mixture of the compound represented by the general formula (10) and an epihalohydrin such as excess epichlorohydrin or epibromohydrin. The epoxy compound (a ″) in which X in the general formula (1-a ″) is represented by the general formula (3) can be obtained by reacting at a temperature of 20 to 120 ° C. for 1 to 10 hours. .

このエポキシ化合物(a”)を得る反応において、アルカリ金属水酸化物として、その水溶液を使用しても良い。その場合、該アルカリ金属水酸化物の水溶液を連続的に反応系内に添加すると共に、減圧下又は常圧下に、連続的に水及びエピハロヒドリンを留出させ、更に分液し、水は除去し、エピハロヒドリンは反応系内に連続的に戻す方法であっても良い。   In the reaction for obtaining the epoxy compound (a ″), an aqueous solution thereof may be used as the alkali metal hydroxide. In that case, the aqueous solution of the alkali metal hydroxide is continuously added to the reaction system. Alternatively, water and epihalohydrin may be continuously distilled off under reduced pressure or normal pressure, followed by liquid separation, removal of water, and epihalohydrin being continuously returned to the reaction system.

また、前記一般式(9a)、(9b)、又は(10)で表される化合物とエピハロヒドリンの溶解混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩を触媒として添加し、50〜150℃で1〜5時間反応させて得られる、一般式(9a)、(9b)、又は(10)で表される化合物のハロヒドリンエーテル化物に、アルカリ金属水酸化物の固体又は水溶液を加え、再び20〜120℃の温度で1〜10時間反応させて脱ハロゲン化水素(閉環)させる方法でも、一般式(1−a”)で表されるエポキシ化合物(a
”)を製造することができる。
Further, a quaternary ammonium salt such as tetramethylammonium chloride, tetramethylammonium bromide, trimethylbenzylammonium chloride or the like is catalyzed to a dissolved mixture of the compound represented by the general formula (9a), (9b) or (10) and epihalohydrin. To the halohydrin etherified product of the compound represented by the general formula (9a), (9b), or (10) obtained by reacting at 50 to 150 ° C. for 1 to 5 hours. The epoxy compound (a) represented by the general formula (1-a ″) can also be obtained by adding a solid or aqueous solution of the product and reacting again at a temperature of 20 to 120 ° C. for 1 to 10 hours to dehydrohalogenate (ring closure).
)) Can be manufactured.

このような反応において使用されるエピハロヒドリンの量は、一般式(9a)、(9b)、又は(10)で表される化合物の水酸基1当量に対し通常1〜20モル、好ましくは2〜10モルである。また、アルカリ金属水酸化物の使用量は一般式(9a)、(9b)、又は(10)で表される化合物の水酸基1当量に対し通常0.8〜15モル、好ましくは0.9〜11モルである。   The amount of epihalohydrin used in such a reaction is usually 1 to 20 mol, preferably 2 to 10 mol, relative to 1 equivalent of the hydroxyl group of the compound represented by general formula (9a), (9b), or (10). It is. Moreover, the usage-amount of an alkali metal hydroxide is 0.8-15 mol normally with respect to 1 equivalent of hydroxyl groups of the compound represented by general formula (9a), (9b), or (10), Preferably 0.9- 11 moles.

上述の反応において、更に、反応を円滑に進行させるためにメタノール、エタノールなどのアルコール類の他、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒などを添加して反応を行っても良い。アルコール類を使用する場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対し2〜20重量%、好ましくは4〜15重量%である。また、非プロトン性極性溶媒を用いる場合、その使用量はエピハロヒドリンの量に対し5〜100重量%、好ましくは10〜90重量%である。   In the above-mentioned reaction, in addition to alcohols such as methanol and ethanol, an aprotic polar solvent such as dimethyl sulfone and dimethyl sulfoxide may be added to perform the reaction smoothly. When alcohols are used, the amount used is 2 to 20% by weight, preferably 4 to 15% by weight, based on the amount of epihalohydrin. Moreover, when using an aprotic polar solvent, the usage-amount is 5 to 100 weight% with respect to the quantity of an epihalohydrin, Preferably it is 10 to 90 weight%.

(2) 不飽和基含有カルボン酸(b”)
不飽和基含有カルボン酸(b”)(以下、「(b”)成分」と称することがある)としては、エチレン性不飽和基を有する不飽和カルボン酸が挙げられ、具体例としては、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、o−ビニル安息香酸、m−ビニル安息香酸、p−ビニル安息香酸、ケイヒ酸、α−位がハロアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、又はシアノ基で置換された(メタ)アクリル酸などのモノカルボン酸;2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルアジピン酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルマレイン酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルアジピン酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルテトラヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシプロピルマレイン酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルアジピン酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシブチルマレイン酸などの、2塩基酸の(メタ)アクリロイロキシアルキルエステル;(メタ)アクリル酸にε−カプロラクトン、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類を付加させたものである単量体;(メタ)アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。
(2) Unsaturated group-containing carboxylic acid (b ″)
Examples of the unsaturated group-containing carboxylic acid (b ″) (hereinafter sometimes referred to as “(b ″) component”) include unsaturated carboxylic acids having an ethylenically unsaturated group, and specific examples include ( (Meth) acrylic acid, crotonic acid, o-vinylbenzoic acid, m-vinylbenzoic acid, p-vinylbenzoic acid, cinnamic acid, α-position substituted with haloalkyl group, alkoxyl group, halogen atom, nitro group, or cyano group Monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid; 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl phthalic acid, 2 -(Meth) acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl maleic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyl succinic acid, -(Meth) acryloyloxypropyladipic acid, 2- (meth) acryloyloxypropyltetrahydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylphthalic acid, 2- (meth) acryloyloxypropylmaleic acid, 2- (Meth) acryloyloxybutyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxybutyl adipic acid, 2- (meth) acryloyloxybutyl hydrophthalic acid, 2- (meth) acryloyloxybutyl phthalic acid, 2- ( (Meth) acryloyloxybutylmaleic acid and the like (meth) acryloyloxyalkyl esters of dibasic acids; (meth) acrylic acid such as ε-caprolactone, β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, etc. Monomers to which lactones are added; (meth) acrylic acid dimers, etc. That.

また、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、グリシジルメタクリレートのアクリル酸付加物、グリシジルメタクリレートのメタクリル酸付加物のような水酸基含有不飽和化合物に無水コハク酸、無水マレイン酸、無水テトラヒドロフタル酸、無水フタル酸などの酸無水物を付加させた化合物も挙げられる。   Also, anhydrous hydroxyl-containing unsaturated compounds such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, trimethylolpropane diacrylate, acrylic acid adduct of glycidyl methacrylate, and methacrylic acid adduct of glycidyl methacrylate. The compound which added acid anhydrides, such as succinic acid, maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, and phthalic anhydride, is also mentioned.

特に好ましいものは、(メタ)アクリル酸である。
これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を混合して用いても良い。
(a”)成分中のエポキシ基と(b”)成分とを反応させる方法としては公知の手法を用いることができる。例えば、上記(a”)成分と(b”)成分とを、トリエチルアミン、ベンジルメチルアミン等の3級アミン、ドデシルトリメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド、テトラエチルアンモニウムクロライド、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウム塩、ピリジン、トリフェニルホスフィン等を触媒として、有機溶剤中、反応温度50〜150℃で数〜数十時間反応させることにより、エポキシ化合物にカルボン酸を付加することができる。
Particularly preferred is (meth) acrylic acid.
These may be used alone or in combination of two or more.
As a method of reacting the epoxy group in the component (a ″) with the component (b ″), a known method can be used. For example, the component (a ″) and the component (b ″) are combined with tertiary amines such as triethylamine and benzylmethylamine, quaternary compounds such as dodecyltrimethylammonium chloride, tetramethylammonium chloride, tetraethylammonium chloride, and benzyltriethylammonium chloride. Carboxylic acid can be added to the epoxy compound by reacting ammonium salt, pyridine, triphenylphosphine or the like in an organic solvent at a reaction temperature of 50 to 150 ° C. for several to several tens of hours.

該触媒の使用量は、反応原料混合物((a”)成分と(b”)成分との合計)に対して好ましくは0.01〜10重量%、特に好ましくは0.3〜5重量%である。また反応中の重合を防止するために、重合防止剤(例えばメトキノン、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、p−メトキシフェノール、ピロガロール、tert−ブチルカテコール、フェノチアジン等)を使用することが好ましく、その使用量は、反応原料混合物に対して好ましくは0.01〜10重量%、特に好ましくは0.03〜5重量%である。   The amount of the catalyst used is preferably 0.01 to 10% by weight, particularly preferably 0.3 to 5% by weight, based on the reaction raw material mixture (the sum of the components (a ″) and (b ″)). is there. In order to prevent polymerization during the reaction, it is preferable to use a polymerization inhibitor (for example, methoquinone, hydroquinone, methylhydroquinone, p-methoxyphenol, pyrogallol, tert-butylcatechol, phenothiazine, etc.). Preferably it is 0.01 to 10 weight% with respect to the reaction raw material mixture, Most preferably, it is 0.03 to 5 weight%.

(a”)成分のエポキシ基に(b”)成分を付加させる割合は、通常90〜100モル%である。エポキシ基の残存は保存安定性に悪影響を与える傾向があるため、(b”)成分は、(a”)成分のエポキシ基1当量に対して、通常0.8〜1.5当量、特に0.9〜1.1当量の割合で反応を行うことが好ましい。
(3) 多塩基酸及び/又はその無水物(c”)
多塩基酸及び/又はその無水物(c”)(以下、「(c”)成分」又は「多塩基酸(無水物)」と称することがある)としては、2塩基酸及び/又はその無水物(以下、「2塩基酸(無水物)」と称する)、3塩基酸及び/又はその無水物(以下、「3塩基酸(無水物)」と称する)、4塩基酸及び/又はその無水物(以下、「4塩基酸(無水物)」と称する)等を用いることができる。
The ratio of adding the (b ″) component to the epoxy group of the (a ″) component is usually 90 to 100 mol%. Since the remaining epoxy group tends to adversely affect storage stability, the component (b ″) is usually 0.8 to 1.5 equivalents, particularly 0, relative to 1 equivalent of the epoxy group of the component (a ″). It is preferable to carry out the reaction at a ratio of .9 to 1.1 equivalents.
(3) Polybasic acid and / or its anhydride (c ″)
As the polybasic acid and / or anhydride (c ″) (hereinafter, sometimes referred to as “(c ″) component” or “polybasic acid (anhydride)”), the dibasic acid and / or anhydride thereof Product (hereinafter referred to as “dibasic acid (anhydride)”, 3 basic acid and / or anhydride thereof (hereinafter referred to as “3 basic acid (anhydride)”), 4 basic acid and / or anhydride thereof (Hereinafter referred to as “4-basic acid (anhydride)”) and the like.

4塩基酸(無水物)(テトラカルボン酸及び/又はその二無水物)としては公知のものが使用でき、例えばピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸等のテトラカルボン酸、又はこれらの二無水物等が挙げられる。これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を組み合わせて用いても良い。   As the 4-basic acid (anhydride) (tetracarboxylic acid and / or dianhydride thereof), known ones can be used, such as pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid, biphenyl ether tetracarboxylic acid, etc. Tetracarboxylic acid, or these dianhydrides are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.

4塩基酸(無水物)としては、上記例示化合物の中でも、特にビフェニルテトラカルボン酸、又はその無水物が好ましい。
(a”)成分と(b”)成分との反応物に、(c”)成分として4塩基酸(無水物)を反応させることにより、架橋反応により分子量が増大する。このため、基板への密着性向上、溶解性の調節、感度やアルカリ耐性の向上等の効果があり好ましい。
As the 4-basic acid (anhydride), among the above exemplified compounds, biphenyltetracarboxylic acid or an anhydride thereof is particularly preferable.
By reacting a reaction product of the component (a ″) and the component (b ″) with a tetrabasic acid (anhydride) as the component (c ″), the molecular weight increases due to a crosslinking reaction. It is preferable because of the effects such as improvement of adhesion, adjustment of solubility, improvement of sensitivity and alkali resistance.

2塩基酸(無水物)(ジカルボン酸及び/又はその無水物)としては、例えばマレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、又はこれらの無水物等が挙げられる。中でも、テトラヒドロフタル酸、コハク酸、又はこれらの無水物が好ましい。これらは、1種を単独で用いても良く、2種以上を組み合わせて用いても良い。   Examples of the dibasic acid (anhydride) (dicarboxylic acid and / or anhydride thereof) include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, and chlorende. An acid, methyltetrahydrophthalic acid, or these anhydrides are mentioned. Among these, tetrahydrophthalic acid, succinic acid, or anhydrides thereof are preferable. These may be used alone or in combination of two or more.

(a”)成分と(b”)成分との反応物に、(c”)成分として2塩基酸(無水物)を反応させることにより、溶解性の調節が容易となり、また基板への密着性が向上するため好ましい。
3塩基酸(無水物)(トリカルボン酸及び/又はその無水物)としては、トリメリット酸、ヘキサヒドロトリメリット酸、又はこれらの無水物などが挙げられる。特に無水トリメリット酸、無水ヘキサヒドロトリメリット酸が好ましい。これらは、1種を単独で用いても良く、2種以上を組み合わせて用いても良い。
By reacting the reaction product of the component (a ″) and the component (b ″) with a dibasic acid (anhydride) as the component (c ″), it is possible to easily adjust the solubility and to adhere to the substrate. Is preferable.
Examples of the tribasic acid (anhydride) (tricarboxylic acid and / or anhydride thereof) include trimellitic acid, hexahydrotrimellitic acid, and anhydrides thereof. Particularly preferred are trimellitic anhydride and hexahydrotrimellitic anhydride. These may be used alone or in combination of two or more.

(c”)成分として3塩基酸(無水物)を用いることにより、アルカリ可溶性樹脂(A”)の分子量を増大させ、分子中に分岐を導入することができ、分子量と粘度のバランスをとることができる。また、分子中への酸基の導入量を増やすことができ、感度、密着性等のバランスが取れた樹脂を得ることができる。
(c”)成分としては、特に4塩基酸(無水物)を用いることが好ましい。この場合、
4塩基酸(無水物)の付加率は、(a”)成分に(b”)成分を付加させたときに生成される水酸基に対し、通常10〜100モル%、好ましくは20〜100モル%、より好ましくは30〜100モル%である。(c”)成分である4塩基酸(無水物)の付加率が少なすぎると、アルカリ可溶性樹脂(A”)の溶解性が不足したり、基板への密着性が不足する場合がある。
By using a tribasic acid (anhydride) as the component (c ″), the molecular weight of the alkali-soluble resin (A ″) can be increased, branching can be introduced into the molecule, and the molecular weight and viscosity must be balanced. Can do. Moreover, the amount of acid groups introduced into the molecule can be increased, and a resin having a good balance of sensitivity, adhesion, and the like can be obtained.
As the component (c ″), it is particularly preferable to use a 4-basic acid (anhydride).
The addition rate of 4-basic acid (anhydride) is usually 10 to 100 mol%, preferably 20 to 100 mol%, based on the hydroxyl group produced when component (b ") is added to component (a"). More preferably, it is 30-100 mol%. If the addition rate of the (c ″) component tetrabasic acid (anhydride) is too small, the solubility of the alkali-soluble resin (A ″) may be insufficient or the adhesion to the substrate may be insufficient.

なお、感光性着色樹脂組成物の粘度調節や溶解性調節の点から、上述した4塩基酸(無水物)の一部を、2塩基酸(無水物)に置き換えることが好ましい。
(c”)成分として4塩基酸(無水物)と2塩基酸(無水物)を併用する場合、そのモル比は、2塩基酸(無水物):4塩基酸(無水物)=99:1〜20:80であることが好ましく、80:20〜30:70であることがより好ましい。この範囲よりも4塩基酸(無水物)が少なすぎる場合、得られる塗膜の膜物性が低下する可能性があり、2塩基酸(無水物)が少なすぎる場合、得られる樹脂溶液の粘度が増大し、取り扱いが困難となる場合がある。
In addition, it is preferable to replace a part of the 4-basic acid (anhydride) described above with a dibasic acid (anhydride) from the viewpoint of adjusting the viscosity and solubility of the photosensitive colored resin composition.
When (c ″) a 4-basic acid (anhydride) and a 2-basic acid (anhydride) are used in combination, the molar ratio is 2 basic acid (anhydride): 4 basic acid (anhydride) = 99: 1 -20: 80 is preferable, and 80: 20-30: 70 is more preferable, and when the amount of 4-basic acid (anhydride) is less than this range, the film properties of the resulting coating film deteriorate. If the dibasic acid (anhydride) is too small, the viscosity of the resulting resin solution may increase and handling may be difficult.

また、基板への密着性向上、溶解性の容易な調節、感度やアルカリ耐性の向上等の効果に加え、分子量と粘度、感度、密着性等の様々なバランスを取るためには、4塩基酸(無水物)及び/又は2塩基酸(無水物)と、3塩基酸(無水物)とを併用することが好ましい。
(c”)成分として4塩基酸(無水物)及び/又は2塩基酸(無水物)と、3塩基酸(無水物)を併用する場合、3塩基酸(無水物)の使用量は、少なすぎると効果が薄く、アルカリ耐性低下の可能性があるので、3塩基酸(無水物)の使用量は、(a”)成分に、(b”)成分を付加させた時に生成される水酸基に対して、通常5〜70モル%、好ましくは10〜40モル%程度である。
In addition to the effects of improving adhesion to the substrate, easy adjustment of solubility, improvement of sensitivity and alkali resistance, etc., in order to achieve various balances such as molecular weight, viscosity, sensitivity, and adhesion, 4-basic acid is used. (Anhydride) and / or dibasic acid (anhydride) and tribasic acid (anhydride) are preferably used in combination.
In the case where a 4-basic acid (anhydride) and / or a 2-basic acid (anhydride) and a 3-basic acid (anhydride) are used in combination as the component (c ″), the amount of the 3-basic acid (anhydride) used is small. If the amount is too high, the effect is diminished and the alkali resistance may be lowered. Therefore, the amount of tribasic acid (anhydride) used is the amount of hydroxyl group produced when component (b ″) is added to component (a ″). On the other hand, it is usually about 5 to 70 mol%, preferably about 10 to 40 mol%.

(c”)成分の付加率の合計は、(a”)成分に(b”)成分を付加させたときに生成される水酸基に対し、通常10〜100モル%、好ましくは20〜100モル%、より好ましくは30〜100モル%である。(c”)成分の付加率が少なすぎると、アルカリ可溶性樹脂(A”)の溶解性が不足したり、基板への密着性が不足する場合がある。
なお(c”)成分は、(a”)成分に(b”)成分を付加させたときに生成される水酸基に対して反応させる以外に、(a”)成分に(b”)成分を付加させ、これに後述する多価アルコール(d”)を混合した時に、この混合物中に存在するいずれかの水酸基に対して反応させてもよい。
The total addition rate of component (c ″) is usually 10 to 100 mol%, preferably 20 to 100 mol%, based on the hydroxyl group produced when component (b ″) is added to component (a ″). More preferably, it is 30 to 100 mol%. If the addition rate of the component (c ″) is too small, the solubility of the alkali-soluble resin (A ″) may be insufficient or the adhesion to the substrate may be insufficient. is there.
In addition, the component (c ″) is added with the component (b ″) to the component (a ″) in addition to reacting with the hydroxyl group generated when the component (b ″) is added to the component (a ″). When a polyhydric alcohol (d ″), which will be described later, is mixed therewith, it may be reacted with any hydroxyl group present in the mixture.

(a”)成分に(b”)成分を付加させた後、或いはこれに、後述する多価アルコール(d”)を混合した後、(c”)成分を付加させる方法としては、公知の方法を用いることができる。
その反応温度は通常80〜130℃、好ましくは90〜125℃である。反応温度が130℃を超えると、(b”)成分における不飽和基の一部の重合が起こり、分子量の急激な増大につながる可能性がある。また、80℃未満では反応がスムーズに進まず、(c”)成分が残存する可能性がある。
As a method of adding the component (c ″) after adding the component (b ″) to the component (a ″) or mixing a polyhydric alcohol (d ″) described later thereto, a known method is known. Can be used.
The reaction temperature is usually 80 to 130 ° C, preferably 90 to 125 ° C. When the reaction temperature exceeds 130 ° C., some of the unsaturated groups in the component (b ″) are polymerized, which may lead to a rapid increase in molecular weight. , (C ″) may remain.

(4) 多価アルコール(d”)
本発明の感光性着色樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂(A)と併用するバインダー樹脂は、前述した(a”)成分と(b”)成分との反応物と、多価アルコール(d”)(以下、「(d”)成分」と称することがある)との混合物に、前述の(c”)成分を反応させて、前記混合物中に存在するいずれかの水酸基に対して(c”)成分を付加反応させることにより得られるアルカリ可溶性樹脂(A1”)であってもよい。アルカリ可溶性樹脂(A1”)は、通常、(a”)成分に(b”)成分を付加させてなる反応物に、(c”)成分及び(d”)成分を混合し、加温することにより得られる
。この場合、(c”)成分と(d”)成分の混合順序に、特に制限はない。
(4) Polyhydric alcohol (d ″)
In the photosensitive colored resin composition of the present invention, the binder resin used in combination with the alkali-soluble resin (A) includes the reaction product of the aforementioned component (a ″) and component (b ″), and the polyhydric alcohol (d ″). (Hereinafter also referred to as “component (d ″)”) and the above-mentioned component (c ″) is reacted with (c ″) any hydroxyl group present in the mixture. It may be an alkali-soluble resin (A1 ″) obtained by subjecting the component to an addition reaction. The alkali-soluble resin (A1 ″) is usually a reaction obtained by adding the component (b ″) to the component (a ″). The product is obtained by mixing the component (c ″) and component (d ″) and heating. In this case, the mixing order of the component (c ″) and the component (d ″) is not particularly limited.

(d”)成分としては、例えばトリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリメチロールエタン、1,2,3−プロパントリオールの中から選ばれる1種又は2種以上の多価アルコールであることが好ましい。
(d”)成分を用いることにより、アルカリ可溶性樹脂(A1”)の分子量を増大させ、分子中に分岐を導入することが出来、分子量と粘度のバランスをとることができる。また、分子中への酸基の導入率を増やすことができ、感度や密着性等のバランスのとれた有機結合剤を得ることができる。
Examples of the component (d ″) include trimethylolpropane, ditrimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol, trimethylolethane, and 1,2,3-propanetriol. An alcohol is preferred.
By using the component (d ″), the molecular weight of the alkali-soluble resin (A1 ″) can be increased, branching can be introduced into the molecule, and a balance between the molecular weight and the viscosity can be achieved. Moreover, the rate of introduction of acid groups into the molecule can be increased, and an organic binder having a good balance of sensitivity and adhesion can be obtained.

(d”)成分の使用量は、少な過ぎると効果が薄く、多過ぎると増粘やゲル化の可能性があるので、(a”)成分と(b”)成分との反応物に対して、通常0.01〜0.5重量倍程度、好ましくは0.02〜0.2重量倍程度である。
(5) アルカリ可溶性樹脂(A”)及び(A1”)の酸価と分子量
このようにして得られるアルカリ可溶性樹脂(A”)及び(A1”)の酸価は、通常10mgKOH/g以上、好ましくは50mgKOH/g以上である。酸価が10mgKOH/g未満では現像性が不足する場合がある。また酸価が過度に高いと、感光性着色樹脂組成物のアルカリ耐性に問題がある(すなわち、アルカリ性現像液により、パターン表面の粗面化や、膜減りが生じる)場合があるので、酸価は200mgKOH/g以下であることが好ましく、150mgKOH/g以下であることがより好ましい。
When the amount of the component (d ″) used is too small, the effect is thin, and when it is too large, there is a possibility of thickening or gelation. Therefore, the amount of the component (a ″) and the component (b ″) is not adjusted. In general, it is about 0.01 to 0.5 times by weight, preferably about 0.02 to 0.2 times by weight.
(5) Acid value and molecular weight of alkali-soluble resins (A ″) and (A1 ″) The acid values of the alkali-soluble resins (A ″) and (A1 ″) thus obtained are usually 10 mgKOH / g or more, preferably Is 50 mg KOH / g or more. If the acid value is less than 10 mgKOH / g, developability may be insufficient. If the acid value is excessively high, there is a problem with the alkali resistance of the photosensitive colored resin composition (that is, the alkaline developer may cause roughening of the pattern surface or film loss). Is preferably 200 mgKOH / g or less, and more preferably 150 mgKOH / g or less.

アルカリ可溶性樹脂(A”)及び(A1”)のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)は、1,500以上であることが好ましく、2,000以上であることがより好ましい。また、20,000以下であることが好ましく、10,000以下であることがより好ましい。重量平均分子量が小さ過ぎると感度や塗膜強度、アルカリ耐性に問題が生じる可能性があり、大き過ぎると現像性や再溶解性に問題が生じる場合がある。   The weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene as measured by gel permeation chromatography (GPC) of the alkali-soluble resins (A ″) and (A1 ″) is preferably 1,500 or more, and preferably 2,000 or more. It is more preferable. Moreover, it is preferable that it is 20,000 or less, and it is more preferable that it is 10,000 or less. If the weight average molecular weight is too small, there may be a problem in sensitivity, coating strength, and alkali resistance, and if it is too large, a problem may occur in developability and re-solubility.

前記アルカリ可溶樹脂(A)及びアルカリ可溶樹脂(A’、 A1’、A”、 A1”)を併用す
ることによりパターンの直線性が向上し、現像時間やテーパー角の調整になるという効果が得られる。
<その他のバインダー樹脂(H)>
本発明の感光性着色樹脂組成物においては、アルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’
、A”、A1”)の一部を、他のバインダー樹脂(H)に置き換えてもよい。即ち、アルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’、A”、 A1”)と他のバインダー樹脂を併用してもよい。
By using the alkali-soluble resin (A) and the alkali-soluble resin (A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) in combination, the linearity of the pattern is improved, and the development time and the taper angle are adjusted. Is obtained.
<Other binder resins (H)>
In the photosensitive colored resin composition of the present invention, alkali-soluble resins (A, A ′, A1 ′)
, A ″, A1 ″) may be replaced with another binder resin (H). That is, an alkali-soluble resin (A, A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) and another binder resin may be used in combination.

本発明の性能を損なわない限り、アルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’、A”、 A1”)と併用しうる他のバインダー樹脂(H)に制限は無く、カラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物に通常使用される樹脂から選択すれば良い。例えば、特開2007−271727号公報、特開2007−316620号公報、特開2007−334290号公報などに記載のバインダー樹脂などが挙げられる。   As long as the performance of the present invention is not impaired, other binder resins (H) that can be used in combination with alkali-soluble resins (A, A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) are not limited, and are photosensitive colored resins for color filters. What is necessary is just to select from resin normally used for a composition. Examples thereof include binder resins described in JP 2007-271727 A, JP 2007-316620 A, JP 2007-334290 A, and the like.

なお、他のバインダー樹脂(H)はいずれも、1種類を単独で用いても、2種以上を組み合わせて使用してもよい。
<光重合開始剤(B)>
光重合開始剤(B)は、通常、加速剤及び必要に応じて添加される増感色素等の付加剤との混合物(光重合開始剤系)として用いられる。光重合開始剤系は、光を直接吸収し、
或いは光増感されて分解反応又は水素引き抜き反応を起こし、重合活性ラジカルを発生する機能を有する成分である。
In addition, as for other binder resin (H), all may be used individually by 1 type, or may be used in combination of 2 or more type.
<Photoinitiator (B)>
The photopolymerization initiator (B) is usually used as a mixture (photopolymerization initiator system) with an accelerator and an additive such as a sensitizing dye added as necessary. The photoinitiator system absorbs light directly,
Alternatively, it is a component having a function of generating a polymerization active radical by photosensitization to cause a decomposition reaction or a hydrogen abstraction reaction.

光重合開始剤としては、例えば、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号各公報に記載のチタノセン化合物を含むメタロセン化合物;特開2000−56118号公報に記載のヘキサアリールビイミダゾール誘導体;特開平10−39503号公報記載のハロメチル化オキサジアゾール誘導体、ハロメチル−s−トリアジン誘導体、N−フェニルグリシン等のN−アリール−α−アミノ酸類、N−アリール−α−アミノ酸塩類、N−アリール−α−アミノ酸エステル類等のラジカル活性剤、α−アミノアルキルフェノン誘導体;特開2000−80068号公報、特開2006−36750号公報等に記載されているオキシムエステル誘導体等が挙げられる。   Examples of the photopolymerization initiator include metallocene compounds including titanocene compounds described in JP-A-59-152396 and JP-A-61-151197, and hexaarylbi compounds described in JP-A-2000-56118. Imidazole derivatives; N-aryl-α-amino acids such as halomethylated oxadiazole derivatives, halomethyl-s-triazine derivatives and N-phenylglycine described in JP-A-10-39503, N-aryl-α-amino acid salts, Radical activators such as N-aryl-α-amino acid esters, α-aminoalkylphenone derivatives; oxime ester derivatives described in JP 2000-80068 A, JP 2006-36750 A, and the like. .

具体的には、例えば、チタノセン誘導体類としては、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロライド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニ−1−イル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス(2,4,6−トリフルオロフェニ−1−イル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムジ(2,6−ジフルオロフェニ−1−イル)、ジシクロペンタジエニルチタニウムジ(2,4−ジフルオロフェニ−1−イル)、ジ(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニ−1−イル)、ジ(メチルシクロペンタジエニル)チタニウムビス(2,6−ジフルオロフェニ−1−イル)、ジシクロペンタジエニルチタニウム〔2,6−ジ−フルオロ−3−(ピロ−1−イル)−フェニ−1−イル〕等が挙げられる。   Specifically, for example, titanocene derivatives include dicyclopentadienyl titanium dichloride, dicyclopentadienyl titanium bisphenyl, dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,4,5,6-pentafluoro Phen-1-yl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,3,5,6-tetrafluorophen-1-yl), dicyclopentadienyl titanium bis (2,4,6-trifluoropheny 1-yl), dicyclopentadienyl titanium di (2,6-difluorophen-1-yl), dicyclopentadienyl titanium di (2,4-difluorophen-1-yl), di (methylcyclopenta Dienyl) titanium bis (2,3,4,5,6-pentafluorophen-1-yl), di (methylcyclone) Pentadienyl) titanium bis (2,6-difluorophen-1-yl), dicyclopentadienyltitanium [2,6-difluoro-3- (pyro-1-yl) -phen-1-yl] and the like. Can be mentioned.

また、ビイミダゾール誘導体類としては、2−(2’−クロロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(2’−クロロフェニル)−4,5−ビス(3’−メトキシフェニル)イミダゾール2量体、2−(2’−フルオロフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、2−(2’−メトキシフエニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体、(4’−メトキシフエニル)−4,5−ジフェニルイミダゾール2量体等が挙げられる。   Biimidazole derivatives include 2- (2′-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2′-chlorophenyl) -4,5-bis (3′-methoxyphenyl) imidazole. Dimer, 2- (2′-fluorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (2′-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, (4′-methoxy) Phenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer and the like.

また、ハロメチル化オキサジアゾール誘導体類としては、2−トリクロロメチル−5−(2’−ベンゾフリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−〔β−(2’−ベンゾフリル)ビニル〕−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−〔β−(2’−(6”−ベンゾフリル)ビニル)〕−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−フリル−1,3,4−オキサジアゾール等が挙げられる。   Examples of the halomethylated oxadiazole derivatives include 2-trichloromethyl-5- (2′-benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [β- (2′- Benzofuryl) vinyl] -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- [β- (2 ′-(6 ″ -benzofuryl) vinyl)]-1,3,4-oxadiazole, 2 -Trichloromethyl-5-furyl-1,3,4-oxadiazole and the like.

また、ハロメチル−s−トリアジン誘導体類としては、2−(4−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−メトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−エトキシカルボニルナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン等が挙げられる。   Examples of halomethyl-s-triazine derivatives include 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxynaphthyl) -4,6-bis ( Trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxynaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-ethoxycarbonylnaphthyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine and the like.

また、α−アミノアルキルフェノン誘導体類としては、2−メチル−1〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、4−ジメチルアミノエ
チルベンゾエ−ト、4−ジメチルアミノイソアミルベンゾエ−ト、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェノン、2−エチルヘキシル−1,4−ジ
メチルアミノベンゾエート、2,5−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロヘキサ
ノン、7−ジエチルアミノ−3−(4−ジエチルアミノベンゾイル)クマリン、4−(ジエチルアミノ)カルコン等が挙げられる。
Examples of α-aminoalkylphenone derivatives include 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4- Morpholinophenyl) -butanone-1,2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one, 4-dimethylaminoethylbenzoate, 4-dimethylaminoisoamylbenzoe -To, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, 2-ethylhexyl-1,4-dimethylaminobenzoate, 2,5-bis (4-diethylaminobenzal) cyclohexanone, 7-diethylamino-3- (4 -Diethylaminobenzoyl) coumarin, 4- (diethylamino) chalcone and the like It is.

また、オキシムエステル誘導体類としては、例えば以下の化合物などが挙げられる。   Moreover, as an oxime ester derivative, the following compounds etc. are mentioned, for example.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

Figure 2012083549
Figure 2012083549

Figure 2012083549
Figure 2012083549

Figure 2012083549
Figure 2012083549

Figure 2012083549
Figure 2012083549

その他に、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾインアルキルエーテル類;2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、1−クロロアントラキノン等のアントラキノン誘導体類;ベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、2−メチルベンゾフェノン、3−メチルベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2−クロロベンゾフェノン、4−ブロモベンゾフェノン、2−カルボキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体類;2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロへキシルフェニルケトン、α−ヒドロキシ−2−メチルフェニルプロパノン、1−ヒドロキシ−1−メチルエチル−(p−イソプロピルフェニル)ケトン、1−ヒドロキシ−1−(p−ドデシルフェニル)ケトン、2−メチル−(4’−メチルチオフェニル)−2−モルホリノ−1−プロパノン、1,1,1−トリクロロメチル−(p−ブチルフェニル)ケトン等のアセトフェノン誘導体類;チオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン誘導体類;p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジエチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸エステル誘導体類;9−フェニルアクリジン、9−(p−メトキシフェニル)アクリジン等のアクリジン誘導体類;9,10−ジメチルベンズフェナジン等のフェナジン誘導体類;ベンズアンスロン等のアンスロン誘導体類等も挙げられる。   Other benzoin alkyl ethers such as benzoin methyl ether, benzoin phenyl ether, benzoin isobutyl ether and benzoin isopropyl ether; anthraquinone derivatives such as 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-t-butylanthraquinone and 1-chloroanthraquinone Benzophenone, Michler's ketone, 2-methylbenzophenone, 3-methylbenzophenone, 4-methylbenzophenone, 2-chlorobenzophenone, 4-bromobenzophenone, benzophenone derivatives such as 2-carboxybenzophenone; 2,2-dimethoxy-2-phenyl Acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, α-hydroxy-2-methylphenol Nylpropanone, 1-hydroxy-1-methylethyl- (p-isopropylphenyl) ketone, 1-hydroxy-1- (p-dodecylphenyl) ketone, 2-methyl- (4′-methylthiophenyl) -2-morpholino-1 Acetophenone derivatives such as propanone, 1,1,1-trichloromethyl- (p-butylphenyl) ketone; thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2 Thioxanthone derivatives such as 1,4-diethylthioxanthone and 2,4-diisopropylthioxanthone; benzoic acid ester derivatives such as ethyl p-dimethylaminobenzoate and ethyl p-diethylaminobenzoate; 9-phenylacridine, 9- (p- Methoxyph Acridine derivatives such as benzyl) acridine; phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine; and anthrone derivatives such as benzanthrone.

これらの光重合開始剤の中では、感度の点からオキシムエステル誘導体類が特に好ましい。
これら光重合開始剤及び加速剤は、それぞれ単独で用いても良く、併用しても良い。
具体的な光重合開始剤系成分としては、例えば、「ファインケミカル」(1991年、3月1日号、vol.20、No.4)の第16〜26頁に記載されている、ジアルキルアセトフェノン系、ベンゾイン、チオキサントン誘導体等のほか、特開昭58−403023号公報、特公昭45−37377号公報等に記載されている、ヘキサアリールビイミダゾール系、S−トリハロメチルトリアジン系、特開平4−221958号公報、特開平
4−219756号公報等に記載されている、チタノセンとキサンテン色素、アミノ基又はウレタン基を有する付加重合可能なエチレン性飽和二重結合含有化合物を組み合わせた系、等が挙げられる。
Among these photopolymerization initiators, oxime ester derivatives are particularly preferable from the viewpoint of sensitivity.
These photopolymerization initiators and accelerators may be used alone or in combination.
Specific examples of the photopolymerization initiator component include dialkylacetophenone-based compounds described on pages 16 to 26 of "Fine Chemical" (March 1, 1991, vol. 20, No. 4). Benzoin, thioxanthone derivatives, and the like, as well as hexaarylbiimidazole series, S-trihalomethyltriazine series, and JP-A-4-221958 described in JP-A-58-403023 and JP-B-45-37377. And a combination of a titanocene and a xanthene dye, an addition-polymerizable ethylenic saturated double bond-containing compound having an amino group or a urethane group, and the like described in JP-A-4-219756. .

光重合開始剤系成分には、必要に応じて、感応感度を高める目的で、画像露光光源の波長に応じた増感色素を配合させることができる。これら増感色素としては、特開平4−221958号、同4−219756号公報に記載のキサンテン色素、特開平3−239703号、同5−289335号公報に記載の複素環を有するクマリン色素、特開平3−239703号、同5−289335号に記載の3−ケトクマリン化合物、特開平6−19240号公報に記載のピロメテン色素、その他、特開昭47−2528号、同54−155292号、特公昭45−37377号、特開昭48−84183号、同52−112681号、同58−15503号、同60−88005号、同59−56403号、特開平2−69号、特開昭57−168088号、特開平5−107761号、特開平5−210240号、特開平4−288818号公報に記載のジアルキルアミノベンゼン骨格を有する色素等を挙げることができる。   If necessary, a sensitizing dye corresponding to the wavelength of the image exposure light source can be added to the photopolymerization initiator system component for the purpose of increasing the sensitivity. These sensitizing dyes include xanthene dyes described in JP-A-4-221958 and JP-A-4-219756, coumarin dyes having a heterocyclic ring described in JP-A-3-239703 and JP-A-5-289335, and 3-ketocoumarin compounds described in Kaihei 3-239703 and 5-289335, pyromethene dyes described in JP-A-6-19240, and others, JP-A 47-2528, 54-155292, JP 45-37377, JP-A-48-84183, JP-A-52-112681, JP-A-58-15503, JP-A-60-88005, JP-A-59-56403, JP-A-2-6988, JP-A-57-168088. No. 5, JP-A-5-107761, JP-A-5-210240, and JP-A-4-288818. Mention may be made of a dye or the like having a skeleton.

これらの増感色素のうち好ましいものは、アミノ基含有増感色素であり、更に好ましいものは、アミノ基及びフェニル基を同一分子内に有する化合物である。特に、好ましいのは、例えば、4,4’−ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、2−アミノベンゾフェノン、4−アミノベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4−ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾオキサゾール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾ[4,5]ベンゾオキサゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾ[6,7]ベンゾオキサゾール、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)1,3,4−オキサゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンゾチアゾール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ベンゾチアゾール、2−(p−ジメチルアミノフェニル)ベンズイミダゾール、2−(p−ジエチルアミノフェニル)ベンズイミダゾール、2,5−ビス(p−ジエチルアミノフェニル)1,3,4−チアジアゾール、(p−ジメチルアミノフェニル)ピリジン、(p−ジエチルアミノフェニル)ピリジン、(p−ジメチルアミノフェニル)キノリン、(p−ジエチルアミノフェニル)キノリン、(p−ジメチルアミノフェニル)ピリミジン、(p−ジエチルアミノフェニル)ピリミジン等のp−ジアルキルアミノフェニル基含有化合物等である。   Among these sensitizing dyes, preferred are amino group-containing sensitizing dyes, and more preferred are compounds having an amino group and a phenyl group in the same molecule. Particularly preferred are, for example, 4,4′-dimethylaminobenzophenone, 4,4′-diethylaminobenzophenone, 2-aminobenzophenone, 4-aminobenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminobenzophenone. Benzophenone compounds such as 3,4-diaminobenzophenone; 2- (p-dimethylaminophenyl) benzoxazole, 2- (p-diethylaminophenyl) benzoxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzo [4,5 ] Benzoxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzo [6,7] benzoxazole, 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) 1,3,4-oxazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) Benzothiazole, 2- (p-di Tilaminophenyl) benzothiazole, 2- (p-dimethylaminophenyl) benzimidazole, 2- (p-diethylaminophenyl) benzimidazole, 2,5-bis (p-diethylaminophenyl) 1,3,4-thiadiazole, ( p-dimethylaminophenyl) pyridine, (p-diethylaminophenyl) pyridine, (p-dimethylaminophenyl) quinoline, (p-diethylaminophenyl) quinoline, (p-dimethylaminophenyl) pyrimidine, (p-diethylaminophenyl) pyrimidine, etc. P-dialkylaminophenyl group-containing compounds.

このうち最も好ましいものは、4,4’−ジアルキルアミノベンゾフェノンである。
増感色素もまた1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
<色材(C)>
色材(C)は、本発明の感光性着色樹脂組成物を着色するものをいう。色材としては、染顔料が使用できるが、耐熱性、耐光性等の点から顔料が好ましい。
Of these, 4,4′-dialkylaminobenzophenone is most preferred.
A sensitizing dye may also be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.
<Coloring material (C)>
The color material (C) refers to a colorant for the photosensitive colored resin composition of the present invention. As the coloring material, dyes and pigments can be used, but pigments are preferable from the viewpoint of heat resistance, light resistance and the like.

顔料としては青色顔料、緑色顔料、赤色顔料、黄色顔料、紫色顔料、オレンジ顔料、ブラウン顔料、黒色顔料等各種の色の顔料を使用することができる。また、その構造としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、インダンスレン系、ペリレン系等の有機顔料の他に種々の無機顔料等も利用可能である。   As the pigment, various color pigments such as a blue pigment, a green pigment, a red pigment, a yellow pigment, a purple pigment, an orange pigment, a brown pigment, and a black pigment can be used. In addition to organic pigments such as azo, phthalocyanine, quinacridone, benzimidazolone, isoindolinone, dioxazine, indanthrene, and perylene, various inorganic pigments can be used. It is.

以下に、本発明に使用できる顔料の具体例をピグメントナンバーで示す。なお、以下に挙げる「C.I.ピグメントレッド2」等の用語は、カラーインデックス(C.I.)を意味する。
赤色顔料としては、C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、
12、14、15、16、17、21、22、23、31、32、37、38、41、47、48、48:1、48:2、48:3、48:4、49、49:1、49:2、50:1、52:1、52:2、53、53:1、53:2、53:3、57、57:1、57:2、58:4、60、63、63:1、63:2、64、64:1、68、69、81、81:1、81:2、81:3、81:4、83、88、90:1、101、101:1、104、108、108:1、109、112、113、114、122、123、144、146、147、149、151、166、168、169、170、172、173、174、175、176、177、178、179、181、184、185、187、188、190、193、194、200、202、206、207、208、209、210、214、216、220、221、224、230、231、232、233、235、236、237、238、239、242、243、245、247、249、250、251、253、254、255、256、257、258、259、260、262、263、264、265、266、267、268、269、270、271、272、273、274、275、276を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントレッド48:1、122、168、177、202、206、207、209、224、242、254、更に好ましくはC.I.ピグメントレッド177、209、224、254を挙げることができる。
Hereinafter, specific examples of pigments that can be used in the present invention are shown by pigment numbers. Note that terms such as “CI Pigment Red 2” mentioned below mean a color index (CI).
Examples of red pigments include C.I. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9,
12, 14, 15, 16, 17, 21, 22, 23, 31, 32, 37, 38, 41, 47, 48, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 52: 2, 53, 53: 1, 53: 2, 53: 3, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 4, 60, 63, 63: 1, 63: 2, 64, 64: 1, 68, 69, 81, 81: 1, 81: 2, 81: 3, 81: 4, 83, 88, 90: 1, 101, 101: 1, 104, 108, 108: 1, 109, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 147, 149, 151, 166, 168, 169, 170, 172, 173, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 181, 184, 185, 187, 188, 190, 93,194,200,202,206,207,208,209,210,214,216,220,221,224,230,231,232,233,235,236,237,238,239,242,243, 245, 247, 249, 250, 251, 253, 254, 255, 256, 257, 258, 259, 260, 262, 263, 264, 265, 266, 267, 268, 269, 270, 271, 272, 273, 274, 275, 276. Of these, C.I. I. Pigment Red 48: 1, 122, 168, 177, 202, 206, 207, 209, 224, 242, 254, more preferably C.I. I. Pigment red 177, 209, 224, 254.

青色顔料としては、C.I.ピグメントブルー1、1:2、9、14、15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、16、17、19、25、27、28、29、33、35、36、56、56:1、60、61、61:1、62、63、66、67、68、71、72、73、74、75、76、78、79を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントブルー15、15:1、15:2、15:3、15:4、15:6、更に好ましくはC.I.ピグメントブルー15:6を挙げることができる。 緑色顔料としては、C.I.ピグメントグリーン1、2、4、7、8、10、13、14、15、17、18、19、26、36、45、48、50、51、54、55を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントグリーン7、36を挙げることができる。   Examples of blue pigments include C.I. I. Pigment Blue 1, 1: 2, 9, 14, 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 17, 19, 25, 27, 28, 29, 33, 35, 36, 56, 56: 1, 60, 61, 61: 1, 62, 63, 66, 67, 68, 71, 72, 73, 74, 75, 76, 78, 79. Of these, C.I. I. Pigment Blue 15, 15: 1, 15: 2, 15: 3, 15: 4, 15: 6, more preferably C.I. I. Pigment blue 15: 6. Examples of green pigments include C.I. I. Pigment green 1, 2, 4, 7, 8, 10, 13, 14, 15, 17, 18, 19, 26, 36, 45, 48, 50, 51, 54, 55. Of these, C.I. I. And CI Pigment Green 7 and 36.

黄色顔料としては、C.I.ピグメントイエロー1、1:1、2、3、4、5、6、9、10、12、13、14、16、17、24、31、32、34、35、35:1、36、36:1、37、37:1、40、41、42、43、48、53、55、61、62、62:1、63、65、73、74、75、81、83、87、93、94、95、97、100、101、104、105、108、109、110、111、116、117、119、120、126、127、127:1、128、129、133、134、136、138、139、142、147、148、150、151、153、154、155、157、158、159、160、161、162、163、164、165、166、167、168、169、170、172、173、174、175、176、180、181、182、183、184、185、188、189、190、191、191:1、192、193、194、195、196、197、198、199、200、202、203、204、205、206、207、208を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントイエロー83、117、129、138、139、150、154、155、180、185、更に好ましくはC.I.ピグメントイエロー83、138、139、150、180を挙げることができる。   Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment Yellow 1, 1: 1, 2, 3, 4, 5, 6, 9, 10, 12, 13, 14, 16, 17, 24, 31, 32, 34, 35, 35: 1, 36, 36: 1, 37, 37: 1, 40, 41, 42, 43, 48, 53, 55, 61, 62, 62: 1, 63, 65, 73, 74, 75, 81, 83, 87, 93, 94, 95, 97, 100, 101, 104, 105, 108, 109, 110, 111, 116, 117, 119, 120, 126, 127, 127: 1, 128, 129, 133, 134, 136, 138, 139, 142, 147, 148, 150, 151, 153, 154, 155, 157, 158, 159, 160, 161, 162, 163, 164, 165, 166, 167, 168, 169, 170, 172, 17 174, 175, 176, 180, 181, 182, 183, 184, 185, 188, 189, 190, 191, 191: 1, 192, 193, 194, 195, 196, 197, 198, 199, 200, 202 , 203, 204, 205, 206, 207, 208. Of these, C.I. I. Pigment yellow 83, 117, 129, 138, 139, 150, 154, 155, 180, 185, more preferably C.I. I. Pigment yellow 83, 138, 139, 150, 180.

オレンジ顔料としては、C.I.ピグメントオレンジ1、2、5、13、16、17、19、20、21、22、23、24、34、36、38、39、43、46、48、49、61、62、64、65、67、68、69、70、71、72、73、74、75、77、78、79を挙げることができる。この中でも、好ましくは、C.I.ピグメントオレンジ38、71を挙げることができる。   Examples of orange pigments include C.I. I. Pigment Orange 1, 2, 5, 13, 16, 17, 19, 20, 21, 22, 23, 24, 34, 36, 38, 39, 43, 46, 48, 49, 61, 62, 64, 65, 67, 68, 69, 70, 71, 72, 73, 74, 75, 77, 78, 79. Of these, C.I. I. And CI pigment oranges 38 and 71.

紫色顔料としては、C.I.ピグメントバイオレット1、1:1、2、2:2、3、3:1、3:3、5、5:1、14、15、16、19、23、25、27、29、31、32、37、39、42、44、47、49、50を挙げることができる。この中でも、好ましくはC.I.ピグメントバイオレット19、23、更に好ましくはC.I.ピグメントバイオレット23を挙げることができる。   Examples of purple pigments include C.I. I. Pigment Violet 1, 1: 1, 2, 2: 2, 3, 3: 1, 3: 3, 5, 5: 1, 14, 15, 16, 19, 23, 25, 27, 29, 31, 32, 37, 39, 42, 44, 47, 49, 50. Of these, C.I. I. Pigment violet 19, 23, more preferably C.I. I. And CI Pigment Violet 23.

また、本発明の感光性着色樹脂組成物が、カラーフィルターの樹脂ブラックマトリックス用感光性着色樹脂組成物である場合、色材(C)としては、黒色の色材を用いることができる。黒色色材は、黒色色材を単独でも良く、又は赤、緑、青等の混合によるものでも良い。また、これら色材は無機又は有機の顔料、染料の中から適宜選択することができる。   Moreover, when the photosensitive coloring resin composition of this invention is the photosensitive coloring resin composition for resin black matrices of a color filter, a black coloring material can be used as a coloring material (C). The black color material may be a single black color material or a mixture of red, green, blue, and the like. These color materials can be appropriately selected from inorganic or organic pigments and dyes.

黒色色材を調製するために混合使用可能な色材としては、ビクトリアピュアブルー(42595)、オーラミンO(41000)、カチロンブリリアントフラビン(ベーシック13)、ローダミン6GCP(45160)、ローダミンB(45170)、サフラニンOK70:100(50240)、エリオグラウシンX(42080)、No.120/リオノールイエロー(21090)、リオノールイエローGRO(21090)、シムラーファーストイエロー8GF(21105)、ベンジジンイエロー4T−564D(21095)、シムラーファーストレッド4015(12355)、リオノールレッド7B4401(15850)、ファーストゲンブルーTGR−L(74160)、リオノールブルーSM(26150)、リオノールブルーES(ピグメントブルー15:6)、リオノーゲンレッドGD(ピグメントレッド168)、リオノールグリーン2YS(ピグメントグリーン36)等が挙げられる(なお、上記の( )内の数字は、カラーインデックス(C.I.)を意味する)。   Color materials that can be mixed for preparing a black color material include Victoria Pure Blue (42595), Auramin O (41000), Catillon Brilliant Flavin (Basic 13), Rhodamine 6GCP (45160), Rhodamine B (45170). Safranin OK 70: 100 (50240), Erioglaucine X (42080), No. 120 / Lionol Yellow (21090), Lionol Yellow GRO (21090), Shimla First Yellow 8GF (21105), Benzidine Yellow 4T-564D (21095), Shimler First Red 4015 (12355), Lionol Red 7B4401 (15850), Fast Gen Blue TGR-L (74160), Lionol Blue SM (26150), Lionol Blue ES (Pigment Blue 15: 6), Lionogen Red GD (Pigment Red 168), Lionol Green 2YS (Pigment Green 36), etc. (The numbers in parentheses above mean the color index (CI)).

また、更に他の混合使用可能な顔料についてC.I.ナンバーにて示すと、例えば、C.I.黄色顔料20、24、86、93、109、110、117、125、137、138、147、148、153、154、166、C.I.オレンジ顔料36、43、51、55、59、61、C.I.赤色顔料9、97、122、123、149、168、177、180、192、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、C.I.バイオレット顔料19、23、29、30、37、40、50、C.I.青色顔料15、15:1、15:4、22、60、64、C.I.緑色顔料7、C.I.ブラウン顔料23、25、26等を挙げることができる。   Further, other pigments that can be used in combination are C.I. I. For example, C.I. I. Yellow pigments 20, 24, 86, 93, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 147, 148, 153, 154, 166, C.I. I. Orange pigments 36, 43, 51, 55, 59, 61, C.I. I. Red pigments 9, 97, 122, 123, 149, 168, 177, 180, 192, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, C.I. I. Violet pigments 19, 23, 29, 30, 37, 40, 50, C.I. I. Blue pigment 15, 15: 1, 15: 4, 22, 60, 64, C.I. I. Green pigment 7, C.I. I. Examples thereof include brown pigments 23, 25, and 26.

また、単独使用可能な黒色色材としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、ボーンブラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラック等が挙げられる。
これらの中で、カーボンブラックが遮光率、画像特性の観点から好ましい。カーボンブラックの例としては、以下のようなカーボンブラックが挙げられる。
Examples of the black color material that can be used alone include carbon black, acetylene black, lamp black, bone black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, and titanium black.
Among these, carbon black is preferable from the viewpoints of light shielding rate and image characteristics. Examples of carbon black include the following carbon black.

三菱化学社製:MA7、MA8、MA11、MA100、MA100R、MA220、MA230、MA600、#5、#10、#20、#25、#30、#32、#33、#40、#44、#45、#47、#50、#52、#55、#650、#750、#850、#950、#960、#970、#980、#990、#1000、#2200、#2300、#2350、#2400、#2600、#3050、#3150、#3250、#3600、#3750、#3950、#4000、#4010、OIL7B、OIL9B、OIL11B、OIL30B、OIL31B
デグサ社製:Printex3、Printex3OP、Printex30、Printex30OP、Printex40、Printex45、Printex55、P
rintex60、Printex75、Printex80、Printex85、Printex90、Printex A、Printex L、Printex G、Printex P、Printex U、Printex V、PrintexG、SpecialBlack550、SpecialBlack350、SpecialBlack250、SpecialBlack100、SpecialBlack6、SpecialBlack5、SpecialBlack4、Color Black FW1、Color Black FW2、Color Black FW2V、Color Black FW18、Color Black FW18、Color Black FW200、Color Black S160、Color Black S170
キャボット社製:Monarch120、Monarch280、Monarch460、Monarch800、Monarch880、Monarch900、Monarch1000、Monarch1100、Monarch1300、Monarch1400、Monarch4630、REGAL99、REGAL99R、REGAL415、REGAL415R、REGAL250、REGAL250R、REGAL330、REGAL400R、REGAL55R0、REGAL660R、BLACK PEARLS480、PEARLS130、VULCAN XC72R、ELFTEX−8コロンビヤン
カーボン社製:RAVEN11、RAVEN14、RAVEN15、RAVEN16、RAVEN22RAVEN30、RAVEN35、RAVEN40、RAVEN410、RAVEN420、RAVEN450、RAVEN500、RAVEN780、RAVEN850、RAVEN890H、RAVEN1000、RAVEN1020、RAVEN1040、RAVEN1060U、RAVEN1080U、RAVEN1170、RAVEN1190U、RAVEN1250、RAVEN1500、RAVEN2000、RAVEN2500U、RAVEN3500、RAVEN5000、RAVEN5250、RAVEN5750、RAVEN7000
他の黒色顔料の例としては、チタンブラック、アニリンブラック、酸化鉄系黒色顔料、及び、赤色、緑色、青色の三色の有機顔料を混合して黒色顔料として用いることができる。
Mitsubishi Chemical Corporation: MA7, MA8, MA11, MA100, MA100R, MA220, MA230, MA600, # 5, # 10, # 20, # 25, # 30, # 32, # 33, # 40, # 44, # 45 # 47, # 50, # 52, # 55, # 650, # 750, # 850, # 950, # 960, # 970, # 980, # 990, # 1000, # 2200, # 2300, # 2350, # 2400, # 2600, # 3050, # 3150, # 3250, # 3600, # 3750, # 3950, # 4000, # 4010, OIL7B, OIL9B, OIL11B, OIL30B, OIL31B
Made by Degussa: Printex3, Printex3OP, Printex30, Printex30OP, Printex40, Printex45, Printex55, P
rintex60, Printex75, Printex80, Printex85, Printex90, Printex A, Printex L, Printex G, Printex P, Printex U, Printex V, PrintexG, SpecialBlack550, SpecialBlack350, SpecialBlack250, SpecialBlack100, SpecialBlack6, SpecialBlack5, SpecialBlack4, Color Black FW1, Color Black FW2, Color Black FW2V, Color Black FW18, Color Black FW18, Color Black FW200, Color Black S160, Colo Black S170
Cabot Corporation: Monarch120, Monarch280, Monarch460, Monarch800, Monarch880, Monarch900, Monarch1000, Monarch1100, Monarch1300, Monarch1400, Monarch4630, REGAL99, REGAL99R, REGAL415, REGAL415R, REGAL250, REGAL250R, REGAL330, REGAL400R, REGAL55R0, REGAL660R, BLACK PEARLS480, PEARLS130 , VULCAN XC72R, ELFTEX-8 Colombian Made by Carbon: RAVEN11, RAVEN14, RAVEN15, RAVEN16, RAVEN22RAVEN30 RAVEN35, RAVEN40, RAVEN410, RAVEN420, RAVEN450, RAVEN500, RAVEN780, RAVEN850, RAVEN890H, RAVEN1000, RAVEN1020, RAVEN1040, RAVEN1060U, RAVEN1080U, RAVEN1170, RAVEN1190U, RAVEN1250, RAVEN1500, RAVEN2000, RAVEN2500U, RAVEN3500, RAVEN5000, RAVEN5250, RAVEN5750, RAVEN7000
As examples of other black pigments, titanium black, aniline black, iron oxide black pigments, and organic pigments of three colors of red, green, and blue can be mixed and used as black pigments.

また、顔料として、硫酸バリウム、硫酸鉛、酸化チタン、黄色鉛、ベンガラ、酸化クロム等を用いることもできる。
これら各種の顔料は、複数種を併用することもできる。例えば、色度の調整のために、緑色顔料と黄色顔料とを併用したり、青色顔料と紫色顔料とを併用することができる。
なお、これらの顔料は、平均粒径が通常1μm、好ましくは0.5μm以下、更に好ましくは0.25μm以下となるよう、分散して用いることが好ましい。
In addition, barium sulfate, lead sulfate, titanium oxide, yellow lead, bengara, chromium oxide, or the like can also be used as the pigment.
These various pigments can be used in combination. For example, in order to adjust chromaticity, a green pigment and a yellow pigment can be used in combination, or a blue pigment and a violet pigment can be used in combination.
These pigments are preferably used in a dispersed manner so that the average particle diameter is usually 1 μm, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0.25 μm or less.

なお本発明において、顔料の平均粒径は、動的光散乱DLSにより測定された顔料粒径から求めた値である。粒径測定は、十分に希釈された着色樹脂組成物(通常は希釈して、顔料濃度0.005〜0.2重量%程度に調製。但し測定機器により推奨された濃度があれば、その濃度に従う)に対して行い、25℃にて測定する。
また、色材として使用できる染料としては、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、キノンイミン系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、カルボニル系染料、メチン系染料等が挙げられる。
In the present invention, the average particle diameter of the pigment is a value obtained from the pigment particle diameter measured by dynamic light scattering DLS. For particle size measurement, a sufficiently diluted colored resin composition (usually diluted to a pigment concentration of about 0.005 to 0.2% by weight. However, if there is a concentration recommended by the measuring instrument, its concentration And measure at 25 ° C.
Examples of dyes that can be used as the colorant include azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, quinoneimine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, carbonyl dyes, and methine dyes.

アゾ系染料としては、例えば、C.I.アシッドイエロー11、C.I.アシッドオレンジ7、C.I.アシッドレッド37、C.I.アシッドレッド180、C.I.アシッドブルー29、C.I.ダイレクトレッド28、C.I.ダイレクトレッド83、C.I.ダイレクトイエロー12、C.I.ダイレクトオレンジ26、C.I.ダイレクトグリーン28、C.I.ダイレクトグリーン59、C.I.リアクティブイエロー2、C.I.リアクティブレッド17、C.I.リアクティブレッド120、C.I.リアクティブ
ブラック5、C.I.ディスパースオレンジ5、C.I.ディスパースレッド58、C.I.ディスパースブルー165、C.I.ベーシックブルー41、C.I.ベーシックレッド18、C.I.モルダントレッド7、C.I.モルダントイエロー5、C.I.モルダントブラック7等が挙げられる。
Examples of the azo dye include C.I. I. Acid Yellow 11, C.I. I. Acid Orange 7, C.I. I. Acid Red 37, C.I. I. Acid Red 180, C.I. I. Acid Blue 29, C.I. I. Direct Red 28, C.I. I. Direct Red 83, C.I. I. Direct Yellow 12, C.I. I. Direct Orange 26, C.I. I. Direct Green 28, C.I. I. Direct Green 59, C.I. I. Reactive Yellow 2, C.I. I. Reactive Red 17, C.I. I. Reactive Red 120, C.I. I. Reactive Black 5, C.I. I. Disperse Orange 5, C.I. I. Disperse thread 58, C.I. I. Disperse blue 165, C.I. I. Basic Blue 41, C.I. I. Basic Red 18, C.I. I. Molded Red 7, C.I. I. Moldant Yellow 5, C.I. I. Examples thereof include Moldant Black 7.

アントラキノン系染料としては、例えば、C.I.バットブルー4、C.I.アシッドブルー40、C.I.アシッドグリーン25、C.I.リアクティブブルー19、C.I.リアクティブブルー49、C.I.ディスパースレッド60、C.I.ディスパースブルー56、C.I.ディスパースブルー60等が挙げられる。
この他、フタロシアニン系染料として、例えば、C.I.パッドブルー5等が、キノンイミン系染料として、例えば、C.I.ベーシックブルー3、C.I.ベーシックブルー9等が、キノリン系染料として、例えば、C.I.ソルベントイエロー33、C.I.アシッドイエロー3、C.I.ディスパースイエロー64等が、ニトロ系染料として、例えば、C.I.アシッドイエロー1、C.I.アシッドオレンジ3、C.I.ディスパースイエロー42等が挙げられる。
Examples of anthraquinone dyes include C.I. I. Bat Blue 4, C.I. I. Acid Blue 40, C.I. I. Acid Green 25, C.I. I. Reactive Blue 19, C.I. I. Reactive Blue 49, C.I. I. Disperse thread 60, C.I. I. Disperse Blue 56, C.I. I. Disperse Blue 60 etc. are mentioned.
Other examples of the phthalocyanine dye include C.I. I. Pad Blue 5 and the like are quinone imine dyes such as C.I. I. Basic Blue 3, C.I. I. Basic Blue 9 and the like are quinoline dyes such as C.I. I. Solvent Yellow 33, C.I. I. Acid Yellow 3, C.I. I. Disperse Yellow 64 and the like are nitro dyes such as C.I. I. Acid Yellow 1, C.I. I. Acid Orange 3, C.I. I. Disperse Yellow 42 and the like.

<メルカプト基に対してα位の炭素原子が置換基として少なくとも一つの炭化水素基を有し、メルカプト基を2個以上有するチオール化合物(D)>
光重合開始剤系成分を構成する加速剤としては、例えば、N,N−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等のN,N−ジアルキルアミノ安息香酸アルキルエステル、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール等の複素環を有するメルカプト化合物又は脂肪族多官能メルカプト化合物等が挙げられるが、本発明では、特にメルカプト基に対してα位の炭素原子が置換基として少なくとも一つの炭化水素基を有し、メルカプト基を2個以上有するチオール化合物を用いると、感度、保存安定性、密着性の優れた感光性着色樹脂組成物が得られた。
<A thiol compound (D) in which the carbon atom at the α-position to the mercapto group has at least one hydrocarbon group as a substituent and has two or more mercapto groups>
Examples of the accelerator constituting the photopolymerization initiator system component include N, N-dialkylaminobenzoic acid alkyl esters such as N, N-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, 2-mercaptobenzothiazole, and 2-mercaptobenzoxazole. And mercapto compounds having a heterocyclic ring such as 2-mercaptobenzimidazole or aliphatic polyfunctional mercapto compounds. In the present invention, in particular, the carbon atom at the α-position to the mercapto group is at least one carbon atom as a substituent. When a thiol compound having a hydrogen group and two or more mercapto groups was used, a photosensitive colored resin composition excellent in sensitivity, storage stability, and adhesion was obtained.

メルカプト基に対してα位の炭素原子が有する炭化水素基としては、例えば炭素数1〜3のアルキル基が挙げられ、具体的にはメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が挙げられるが、より好ましくはメチル基又はエチル基である。メルカプト基に対してα位の炭素原子は、炭化水素基を1つ有することが好ましい。
前記チオール化合物の中で、一般式(d−1)で表される部分構造を有している化合物が反応性が高い点で好ましい。
Examples of the hydrocarbon group possessed by the α-position carbon atom with respect to the mercapto group include an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and specifically include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, and an isopropyl group. More preferably, it is a methyl group or an ethyl group. The carbon atom at the α-position with respect to the mercapto group preferably has one hydrocarbon group.
Among the thiol compounds, a compound having a partial structure represented by the general formula (d-1) is preferable in terms of high reactivity.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

(一般式(d−1)中において、R51、R52は各々独立して水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を表し、aは0〜4の整数を表す。ただし、R51及びR52が水素の場合を除く。)
一般式(d−1)中のR51、R52は水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を表し、炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基が挙げられるが、より好ましくはメチル基又はエチル基である。
前記チオール化合物は、一般式(d−2)で表されるカルボン酸と多官能アルコールとのカルボン酸エステルが好ましい。
(In General Formula (d-1), R 51 and R 52 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 4. However, R 51 And R 52 is hydrogen.)
R 51 and R 52 in the general formula (d-1) represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms. Specific examples of the hydrocarbon group include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, An isopropyl group is exemplified, and a methyl group or an ethyl group is more preferable.
The thiol compound is preferably a carboxylic acid ester of a carboxylic acid represented by the general formula (d-2) and a polyfunctional alcohol.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

(一般式(d−1)中において、R51、R52は各々独立して水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を表し、aは0〜4の整数を表す。ただし、R51及びR52が水素の場合を除く。)
上記式(d−2)のメルカプト基含有カルボン酸としては、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト酪酸、4−メルカプト吉草等が例示できる。
(In General Formula (d-1), R 51 and R 52 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 4. However, R 51 And R 52 is hydrogen.)
Examples of the mercapto group-containing carboxylic acid of the above formula (d-2) include 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutyric acid, 4-mercapto valerian and the like.

多官能アルコールとしては、アルキレングリコール( 但し、アルキルレン基の炭素数
は2〜10が好ましく、その炭素鎖は枝分かれしていてもよい。) 、ジエチレングリコ
ール、グリセリン、ジプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等が例示できる。
本発明で用いられるチオール化合物の具体例として以下の化合物を挙げることができる。
As the polyfunctional alcohol, alkylene glycol (wherein the alkylene group preferably has 2 to 10 carbon atoms, and the carbon chain thereof may be branched), diethylene glycol, glycerin, dipropylene glycol, trimethylolpropane, pentane. Examples include erythritol and dipentaerythritol.
Specific examples of the thiol compound used in the present invention include the following compounds.

炭化水素ジチオールとして、2 、5−ヘキサンジチオール、2 ,9−デカンジチオール、1,4−ビス(1−メルカプトエチル)ベンゼン等を例示することができる。
エステル結合を含む化合物として、フタル酸ジ(1−メルカプトエチルエステル)、フタル酸ジ(2−メルカプトプロピルエステル) 、フタル酸ジ(3−メルカプトブチルエ
ステル )、フタル酸ジ(3−メルカプトイソブチルエステル)、等が例示できる。
一般式(d−2)のカルボン酸誘導体として、エチレングリコールビス(3−メルカプトブチレート)、ジエチレングリコールビス(3−メルカプトブチレート)、ブタンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、オクタンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、ノナンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3 − メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3− メルカプ
トブチレート)、ペンタエリスリトールトリス(3− メルカプトブチレート)、ジペン
タエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトブチレート)、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−メルカプトブチレート)、エチレングリコールビス( 2 − メルカプト
プロピオネート) 、ジエチレングリコールビス(2−メルカプトプロピオネート)、ブ
タンジオールビス(2−メルカプトプロピオネート)、オクタンジオールビス(2−メルカプトプロピオネート)、ノナンジオールビス(2−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパントリス(2−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトプロピオネート) 、ペンタエリスリトールトリス(2−メル
カプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(2−メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールペンタキス(2−メルカプトプロピオネート)、エチレングリコールビス(2− メルカプトイソブチレート)、ジエチレングリコールビス(
2−メルカプトイソブチレート) 、ブタンジオールビス(2−メルカプトイソブチレー
ト)、オクタンジオールビス(2−メルカプトイソブチレート)、ノナンジオールビス(2−メルカプトイソブチレート)、トリメチロールプロパントリス(2−メルカプトイソブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトイソブチレート)、ペンタエリスリトールトリス(2−メルカプトイソブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(2−メルカプトイソブチレート)、ジペンタエリスリトールペンタキス(2
−メルカプトイソブチレート)、エチレングリコールビス(4−メルカプトバレレート)、ジエチレングリコールビス(4−メルカプトバレレート)、ブタンジオールビス(4−メルカプトバレレート)、オクタンジオールビス(4−メルカプトバレレート)、ノナンジオールビス(4−メルカプトバレレート)、トリメチロールプロパントリス(4−メルカプトバレレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(4−メルカプトバレレート)、ペンタエリスリトールトリス(4−メルカプトバレレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(4−メルカプトバレレート)、ジペンタエリスリトールペンタキス(4−メルカプトバレレート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトバレレート)、ジエチレングリコールビス(3−メルカプトバレレート)、ブタンジオールビス(3−メルカプトバレレート)、オクタンジオールビス(3−メルカプトバレレート)、ノナンジオールビス(3− メルカプトバレレート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトバ
レレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトバレレート)、ペンタエリスリトールトリス(3−メルカプトバレレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトバレレート)、ジペンタエリスリトールペンタキス(3−メルカプトバレレート)、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン等が例示できる。
Examples of the hydrocarbon dithiol include 2,5-hexanedithiol, 2,9-decanedithiol, 1,4-bis (1-mercaptoethyl) benzene, and the like.
As compounds containing an ester bond, di (1-mercaptoethyl ester) phthalate, di (2-mercaptopropyl ester) phthalate, di (3-mercaptobutyl ester) phthalate, di (3-mercaptoisobutyl ester) phthalate Can be exemplified.
As the carboxylic acid derivative of the general formula (d-2), ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), diethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), butanediol bis (3-mercaptobutyrate), octanediol bis (3 -Mercaptobutyrate), nonanediol bis (3-mercaptobutyrate), trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tris (3-mercaptobutyrate) , Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptobutyrate), dipentaerythritol pentakis (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis (2-mercaptopropionate), diethylene glycol Colebis (2-mercaptopropionate), butanediol bis (2-mercaptopropionate), octanediol bis (2-mercaptopropionate), nonanediol bis (2-mercaptopropionate), trimethylolpropane tris (2-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptopropionate), pentaerythritol tris (2-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (2-mercaptopropionate), dipentaerythritol Pentakis (2-mercaptopropionate), ethylene glycol bis (2-mercaptoisobutyrate), diethylene glycol bis (
2-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (2-mercaptoisobutyrate), octanediol bis (2-mercaptoisobutyrate), nonanediol bis (2-mercaptoisobutyrate), trimethylolpropane tris (2 -Mercaptoisobutyrate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoisobutyrate), pentaerythritol tris (2-mercaptoisobutyrate), dipentaerythritol hexakis (2-mercaptoisobutyrate), dipentaerythritol pentakis (2
-Mercaptoisobutyrate), ethylene glycol bis (4-mercaptovalerate), diethylene glycol bis (4-mercaptovalerate), butanediol bis (4-mercaptovalerate), octanediol bis (4-mercaptovalerate), Nonanediol bis (4-mercaptovalerate), trimethylolpropane tris (4-mercaptovalerate), pentaerythritol tetrakis (4-mercaptovalerate), pentaerythritol tris (4-mercaptovalerate), dipentaerythritol hexakis (4-mercaptovalerate), dipentaerythritol pentakis (4-mercaptovalerate), ethylene glycol bis (3-mercaptovalerate), diethylene glycol bis (3-mer Ptovalerate), butanediol bis (3-mercaptovalerate), octanediol bis (3-mercaptovalerate), nonanediol bis (3-mercaptovalerate), trimethylolpropane tris (3-mercaptovalerate), pentaerythritol Tetrakis (3-mercaptovalerate), pentaerythritol tris (3-mercaptovalerate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptovalerate), dipentaerythritol pentakis (3-mercaptovalerate), 1,3 Examples thereof include 5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione.

これらの中でも好ましくは、エチレングリコールビス(3−メルカプトブチレート)、ジエチレングリコールビス(3−メルカプトブチレート)、ブタンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、オクタンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールトリス(3− メルカプトブチレ
ート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトブチレート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトイソブチレート)、ジエチレングリコールビス(3−メルカプトイソブチレート)、ブタンジオールビス(3−メルカプトイソブチレート)、オクタンジオールビス(3−メルカプトイソブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトイソブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトイソブチレート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトイソブチレート)1,3,5−トリス(3−メルカプトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオンが挙げられる。さらに好ましくは、エチレングリコールビス(3−メルカプトブチレート)、ブタンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、ペンタエリスリトールトリス(3− メルカプトブチレート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトイソブチレート
)、ブタンジオールビス(3−メルカプトイソブチレート)、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトイソブチレート)、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオンが、重合開始能力、保存性の面から望ましい。
Among these, ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), diethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), butanediol bis (3-mercaptobutyrate), octanediol bis (3-mercaptobutyrate), tri Methylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tris (3-mercaptobutyrate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis ( 3-mercaptoisobutyrate), diethylene glycol bis (3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyrate), octanediol bis (3-mercap) Toisobutyrate), trimethylolpropane tris (3-mercaptoisobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptoisobutyrate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptoisobutyrate) 1,3,5-tris (3-Mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione. More preferably, ethylene glycol bis (3-mercaptobutyrate), butanediol bis (3-mercaptobutyrate), trimethylolpropane tris (3-mercaptobutyrate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), penta Erythritol tris (3-mercaptobutyrate), ethylene glycol bis (3-mercaptoisobutyrate), butanediol bis (3-mercaptoisobutyrate), trimethylolpropane tris (3-mercaptoisobutyrate), 1,3 , 5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2,4,6 (1H, 3H, 5H) -trione is desirable from the viewpoint of polymerization initiation ability and storage stability.

これらのチオール化合物は単独もしくは2種以上組み合わせて用いることができる。また、これらのチオール化合物と前記他の反応加速剤を併用しても構わない。
チオール化合物(D)の製造方法は特に限定されるものではないが、メルカプト基含有カルボン酸とアルコール類とのエステルについては、上述した式(d−2)で示されるメルカプト基含有カルボン酸とアルコール類とを常法に従って反応させてエステルを形成させることにより得ることができる。エステル反応の条件については特に制限はなく、従来公知の反応条件の中から適宜選択することができる。
These thiol compounds can be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use together these thiol compounds and said other reaction accelerator.
Although the manufacturing method of a thiol compound (D) is not specifically limited, About the ester of mercapto group containing carboxylic acid and alcohol, the mercapto group containing carboxylic acid and alcohol shown by the formula (d-2) mentioned above Can be obtained by reacting with a compound according to a conventional method to form an ester. There is no restriction | limiting in particular about the conditions of ester reaction, It can select suitably from conventionally well-known reaction conditions.

<分散剤(E)>
本発明においては、色材(C)を微細に分散させ、且つその分散状態を安定化させることが品質の安定性確保には重要なため、分散剤(E)を含むことが好ましい。
分散剤(E)としては、官能基を有する高分子分散剤が好ましく、更には、分散安定性の面からカルボキシル基;リン酸基;スルホン酸基;又はこれらの塩基;一級、二級又は三級アミノ基;四級アンモニウム塩基;ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環由来の基、等の官能基を有する高分子分散剤が好ましい。中でも特に、一級、二級又は三級アミノ基;四級アンモニウム塩基;ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環由来の基、等の塩基性官能基を有する高分子分散剤が特に好ましい。
<Dispersant (E)>
In the present invention, it is important to finely disperse the color material (C) and stabilize the dispersion state, so that it is important to ensure the stability of the quality. Therefore, it is preferable to include the dispersant (E).
As the dispersant (E), a polymer dispersant having a functional group is preferable, and further, from the viewpoint of dispersion stability, a carboxyl group; a phosphate group; a sulfonate group; or a base thereof; primary, secondary, or tertiary A polymeric dispersant having a functional group such as a quaternary amino group; a quaternary ammonium base; a group derived from a nitrogen-containing heterocycle such as pyridine, pyrimidine or pyrazine, is preferred. Among these, a polymer dispersant having a basic functional group such as a primary, secondary or tertiary amino group; a quaternary ammonium base; a group derived from a nitrogen-containing heterocycle such as pyridine, pyrimidine, pyrazine, or the like is particularly preferable.

また高分子分散剤としては、例えばウレタン系分散剤、アクリル系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリアリルアミン系分散剤、アミノ基を持つモノマーとマクロモノマーからなる分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレンジエステル系分散剤、ポリエーテルリン酸系分散剤、ポリエステルリン酸系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性ポリエステル系分散剤等を挙げることができる。   Examples of polymer dispersants include urethane dispersants, acrylic dispersants, polyethyleneimine dispersants, polyallylamine dispersants, dispersants composed of amino group-containing monomers and macromonomers, and polyoxyethylene alkyl ethers. Examples thereof include a dispersant, a polyoxyethylene diester dispersant, a polyether phosphate dispersant, a polyester phosphate dispersant, a sorbitan aliphatic ester dispersant, and an aliphatic modified polyester dispersant.

このような分散剤の具体例としては、商品名で、EFKA(エフカーケミカルズビーブイ(EFKA)社製)、Disperbyk(ビックケミー社製)、ディスパロン(楠本化成社製)、SOLSPERSE(ルーブリゾール社製)、KP(信越化学工業社製)、ポリフロー(共栄社化学社製)、アジスパー(味の素社製)等を挙げることができる。
これらの高分子分散剤は1種を単独で使用してもよく、又は2種以上を併用してもよい。
Specific examples of such a dispersant are trade names of EFKA (manufactured by EFKA Chemicals Beebuy (EFKA)), Disperbyk (manufactured by BYK Chemie), Disparon (manufactured by Enomoto Kasei), SOLPERSE (manufactured by Lubrizol) , KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), Ajisper (manufactured by Ajinomoto Co., Inc.) and the like.
These polymer dispersants may be used alone or in combination of two or more.

高分子分散剤の重量平均分子量(Mw)は通常700以上、好ましくは1000以上であり、また通常100,000以下、好ましくは50,000以下である。
これらの内、密着性及び直線性の面から、分散剤(E)は官能基を有するウレタン系高分子分散剤及び/又はアクリル系高分子分散剤を含むことが、特に好ましい。
ウレタン系及びアクリル系高分子分散剤としては、例えばDisperbyk160〜166、182シリーズ(いずれもウレタン系)、Disperbyk2000,2001等(いずれもアクリル系)(以上すべてビックケミー社製)が挙げられる。
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer dispersant is usually 700 or more, preferably 1000 or more, and usually 100,000 or less, preferably 50,000 or less.
Among these, it is particularly preferable that the dispersant (E) contains a urethane polymer dispersant and / or an acrylic polymer dispersant having a functional group in terms of adhesion and linearity.
Examples of urethane and acrylic polymer dispersants include Disperbyk 160 to 166, 182 series (both urethane), Disperbyk 2000, 2001, etc. (both acrylic) (all manufactured by BYK Chemie).

ウレタン系高分子分散剤として好ましい化学構造を具体的に例示するならば、例えば、ポリイソシアネート化合物と、分子内に水酸基を1個又は2個有する数平均分子量300〜10,000の化合物と、同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物とを反応させることによって得られる、重量平均分子量1,000〜200,000の分散樹脂等が挙げられる。   If a chemical structure preferable as a urethane polymer dispersant is specifically exemplified, for example, the same as a polyisocyanate compound and a compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the molecule Examples thereof include a dispersion resin having a weight average molecular weight of 1,000 to 200,000, which is obtained by reacting an active hydrogen with a compound having a tertiary amino group in the molecule.

上記のポリイソシアネート化合物の例としては、パラフェニレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン−1,5−ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、2,4,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、4,4′−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、ω,ω′−ジイソシネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α,α,α′,α′−テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、1,6,11−ウンデカントリイソシアネート、1,8−ジイソシアネート−4−イソシアネートメチルオクタン、1,3,6−ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリス(イソシアネートフェニルメタン)、トリス(イソシアネートフェニル)チオホスフェート等のトリイソシアネート、及びこれらの3量体、水付加物、及びこれらのポリオール付加物等が挙げられる。ポリイソシアネートとして好ましいのは有機ジイソシア
ネートの三量体で、最も好ましいのはトリレンジイソシアネートの三量体とイソホロンジイソシアネートの三量体である。これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
Examples of the polyisocyanate compound include paraphenylene diisocyanate, 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4'-diphenylmethane diisocyanate, naphthalene-1,5-diisocyanate, and tolidine diisocyanate. Aromatic diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, lysine methyl ester diisocyanate, 2,4,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, dimer acid diisocyanate and other aliphatic diisocyanates, isophorone diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), ω, ω Alicyclic diisocyanates such as '-diisocyanate dimethylcyclohexane, xylylene diisocyanate, α, α, α', α'-tetramethyl Aliphatic diisocyanates having aromatic rings such as luxylylene diisocyanate, lysine ester triisocyanate, 1,6,11-undecane triisocyanate, 1,8-diisocyanate-4-isocyanate methyloctane, 1,3,6-hexamethylene triisocyanate , Triisocyanates such as bicycloheptane triisocyanate, tris (isocyanatephenylmethane), tris (isocyanatephenyl) thiophosphate, and trimers thereof, water adducts, and polyol adducts thereof. Preferred as the polyisocyanate are trimers of organic diisocyanate, and most preferred are trimerene of tolylene diisocyanate and trimer of isophorone diisocyanate. These may be used alone or in combination of two or more.

イソシアネートの三量体の製造方法としては、前記ポリイソシアネート類を適当な三量化触媒、例えば第3級アミン類、ホスフィン類、アルコキシド類、金属酸化物、カルボン酸塩類等を用いてイソシアネート基の部分的な三量化を行い、触媒毒の添加により三量化を停止させた後、未反応のポリイソシアネートを溶剤抽出、薄膜蒸留により除去して目的のイソシアヌレート基含有ポリイソシアネートを得る方法が挙げられる。   As a method for producing an isocyanate trimer, the polyisocyanate may be converted into an isocyanate group using an appropriate trimerization catalyst such as tertiary amines, phosphines, alkoxides, metal oxides, carboxylates and the like. And the trimerization is stopped by adding a catalyst poison, and then the unreacted polyisocyanate is removed by solvent extraction and thin-film distillation to obtain the desired isocyanurate group-containing polyisocyanate.

同一分子内に水酸基を1個又は2個有する数平均分子量300〜10,000の化合物としては、ポリエーテルグリコール、ポリエステルグリコール、ポリカーボネートグリコール、ポリオレフィングリコール等、及びこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数1〜25のアルキル基でアルコキシ化されたもの及びこれら2種類以上の混合物が挙げられる。
ポリエーテルグリコールとしては、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、及びこれら2種類以上の混合物が挙げられる。ポリエーテルジオールとしては、アルキレンオキシドを単独又は共重合させて得られるもの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン−プロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシヘキサメチレングリコール、ポリオキシオクタメチレングリコール及びそれらの2種以上の混合物が挙げられる。
Examples of the compound having a number average molecular weight of 300 to 10,000 having one or two hydroxyl groups in the same molecule include polyether glycol, polyester glycol, polycarbonate glycol, polyolefin glycol and the like, and one terminal hydroxyl group of these compounds has a carbon number. Examples thereof include those alkoxylated with 1 to 25 alkyl groups and mixtures of two or more thereof.
Polyether glycols include polyether diols, polyether ester diols, and mixtures of two or more of these. Examples of the polyether diol include those obtained by homopolymerizing or copolymerizing alkylene oxide, such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene-propylene glycol, polyoxytetramethylene glycol, polyoxyhexamethylene glycol, polyoxyoctamethylene glycol, and the like. The mixture of 2 or more types of these is mentioned.

ポリエーテルエステルジオールとしては、エーテル基含有ジオールもしくは他のグリコールとの混合物をジカルボン酸又はそれらの無水物と反応させるか、又はポリエステルグリコールにアルキレンオキシドを反応させることによって得られるもの、例えばポリ(ポリオキシテトラメチレン)アジペート等が挙げられる。ポリエーテルグリコールとして最も好ましいのはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール又はこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数1〜25のアルキル基でアルコキシ化された化合物である。   Polyether ester diols include those obtained by reacting a mixture of ether group-containing diols or other glycols with dicarboxylic acids or their anhydrides or reacting polyester glycols with alkylene oxides, such as poly (poly And oxytetramethylene) adipate. Most preferred as the polyether glycol is polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyoxytetramethylene glycol or a compound in which one terminal hydroxyl group of these compounds is alkoxylated with an alkyl group having 1 to 25 carbon atoms.

ポリエステルグリコールとしては、ジカルボン酸(コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、フタル酸等)又はそれらの無水物とグリコール(エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、2,3−ブタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、2−メチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジーオル、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、1,8−オクタメチレングリコール、2−メチル−1,8−オクタメチレングリコール、1,9−ノナンジオール等の脂肪族グリコール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン等の脂環族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、N−メチルジエタノールアミン等のN−アルキルジアルカノールアミン等)とを重縮合させて得られたもの、例えばポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリエチレン/プロピレンアジペート等、又は前記ジオール類又は炭素数1〜25の1価アルコールを開始剤として用いて得られるポリラクトンジオール又はポリラクトンモノオール、例えばポリカプロラクトングリコール、ポリメチルバレロラクトン及びこれらの2種以上の混合物が挙げられる。ポリエステルグリコールとして最も好ましいのはポリカプロラクトングリコール又は炭素数1〜25のアルコールを開始剤としたポリカプロラクトンである。   Polyester glycol includes dicarboxylic acid (succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, fumaric acid, maleic acid, phthalic acid, etc.) or anhydrides thereof and glycol (ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, Dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, neopentyl glycol 2-methyl-1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, 2-methyl-2,4- Nanthanediol, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,5-dimethyl-2,5-hexanediol, 1,8-octamethylene glycol, Aliphatic glycols such as 2-methyl-1,8-octamethylene glycol and 1,9-nonanediol, alicyclic glycols such as bishydroxymethylcyclohexane, aromatic glycols such as xylylene glycol and bishydroxyethoxybenzene, N -N-alkyl dialkanolamines such as methyldiethanolamine) obtained by polycondensation, such as polyethylene adipate, polybutylene adipate, polyhexamethylene adipate, polyethylene / propylene adipate, etc., or the diol or carbon number 1 to 25 monovalent Polylactone diol or polylactone monool obtained by using an alcohol as an initiator, for example, polycaprolactone glycol, polymethyl valerolactone and mixtures of two or more thereof. Most preferred as the polyester glycol is polycaprolactone glycol or polycaprolactone initiated with an alcohol having 1 to 25 carbon atoms.

ポリカーボネートグリコールとしては、ポリ(1,6−ヘキシレン)カーボネート、ポリ(3−メチル−1,5−ペンチレン)カーボネート等、ポリオレフィングリコールとしてはポリブタジエングリコール、水素添加型ポリブタジエングリコール、水素添加型ポリイソプレングリコール等が挙げられる。
これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
Examples of polycarbonate glycol include poly (1,6-hexylene) carbonate and poly (3-methyl-1,5-pentylene) carbonate. Examples of polyolefin glycol include polybutadiene glycol, hydrogenated polybutadiene glycol, and hydrogenated polyisoprene glycol. Is mentioned.
These may be used alone or in combination of two or more.

同一分子内に水酸基を1個又は2個有する化合物の数平均分子量は、通常300〜10,000、好ましくは500〜6,000、更に好ましくは1,000〜4,000である。
本発明に用いられる同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物を説明する。活性水素、即ち、酸素原子、窒素原子又はイオウ原子に直接結合している水素原子としては、水酸基、アミノ基、チオール基等の官能基中の水素原子が挙げられ、中でもアミノ基、特に1級のアミノ基の水素原子が好ましい。
The number average molecular weight of the compound having one or two hydroxyl groups in the same molecule is usually 300 to 10,000, preferably 500 to 6,000, and more preferably 1,000 to 4,000.
A compound having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule used in the present invention will be described. Examples of the active hydrogen, that is, a hydrogen atom directly bonded to an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom include a hydrogen atom in a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, and a thiol group. Of these, the hydrogen atom of the amino group is preferred.

3級アミノ基は、特に限定されないが、例えば炭素数1〜4のアルキル基を有するアミノ基、又はヘテロ環構造、より具体的にはイミダゾール環又はトリアゾール環、などが挙げられる。
このような同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物を例示するならば、N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジエチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジプロピル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジブチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N,N−ジプロピルエチレンジアミン、N,N−ジブチルエチレンジアミン、N,N−ジメチル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジエチル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジプロピル−1,4−ブタンジアミン、N,N−ジブチル−1,4−ブタンジアミン等が挙げられる。
The tertiary amino group is not particularly limited, and examples thereof include an amino group having an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a heterocyclic structure, more specifically, an imidazole ring or a triazole ring.
Examples of such compounds having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule include N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, N , N-dipropyl-1,3-propanediamine, N, N-dibutyl-1,3-propanediamine, N, N-dimethylethylenediamine, N, N-diethylethylenediamine, N, N-dipropylethylenediamine, N, N -Dibutylethylenediamine, N, N-dimethyl-1,4-butanediamine, N, N-diethyl-1,4-butanediamine, N, N-dipropyl-1,4-butanediamine, N, N-dibutyl-1 , 4-butanediamine and the like.

また、3級アミノ基が含窒素ヘテロ環構造である場合の該含窒素ヘテロ環としては、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチアジアゾール環等のN含有ヘテロ5員環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、アクリジン環、イソキノリン環等の含窒素ヘテロ6員環が挙げられる。これらの含窒素ヘテロ環のうち好ましいものはイミダゾール環又はトリアゾール環である。   In addition, when the tertiary amino group is a nitrogen-containing heterocyclic structure, examples of the nitrogen-containing heterocyclic ring include pyrazole ring, imidazole ring, triazole ring, tetrazole ring, indole ring, carbazole ring, indazole ring, benzimidazole ring, benzo N-containing hetero 5-membered ring such as triazole ring, benzoxazole ring, benzothiazole ring, benzothiadiazole ring, etc., nitrogen-containing hetero 6-membered ring such as pyridine ring, pyridazine ring, pyrimidine ring, triazine ring, quinoline ring, acridine ring, isoquinoline ring A ring is mentioned. Among these nitrogen-containing heterocycles, preferred are an imidazole ring or a triazole ring.

これらのイミダゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、1−(3−アミノプロピル)イミダゾール、ヒスチジン、2−アミノイミダゾール、1−(2−アミノエチル)イミダゾール等が挙げられる。また、トリアゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、3−アミノ−1,2,4−トリアゾール、5−(2−アミノ−5−クロロフェニル)−3−フェニル−1H−1,2,4−トリアゾール、4−アミノ−4H−1,2,4−トリアゾール−3,5−ジオール、3−アミノ−5−フェニル−1H−1,3,4−トリアゾール、5−アミノ−1,4−ジフェニル−1,2,3−トリアゾール、3−アミノ−1−ベンジル−1H−2,4−トリアゾール等が挙げられる。中でも、N,N−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジエチル−1,3−プロパンジアミン、1−(3−アミノプロピル)イミダゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾールが好ましい。   Specific examples of these compounds having an imidazole ring and an amino group include 1- (3-aminopropyl) imidazole, histidine, 2-aminoimidazole, 1- (2-aminoethyl) imidazole and the like. Further, specific examples of the compound having a triazole ring and an amino group include 3-amino-1,2,4-triazole, 5- (2-amino-5-chlorophenyl) -3-phenyl-1H-1 , 2,4-triazole, 4-amino-4H-1,2,4-triazole-3,5-diol, 3-amino-5-phenyl-1H-1,3,4-triazole, 5-amino-1 , 4-diphenyl-1,2,3-triazole, 3-amino-1-benzyl-1H-2,4-triazole and the like. Among them, N, N-dimethyl-1,3-propanediamine, N, N-diethyl-1,3-propanediamine, 1- (3-aminopropyl) imidazole, 3-amino-1,2,4-triazole preferable.

これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
ウレタン系高分子分散剤を製造する際の原料の好ましい配合比率はポリイソシアネート化合物100重量部に対し、同一分子内に水酸基を1個又は2個有する数平均分子量30
0〜10,000の化合物が10〜200重量部、好ましくは20〜190重量部、更に好ましくは30〜180重量部、同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物が0.2〜25重量部、好ましくは0.3〜24重量部である。
These may be used alone or in combination of two or more.
The preferred blending ratio of the raw materials for producing the urethane-based polymer dispersant is a number average molecular weight of 30 having one or two hydroxyl groups in the same molecule with respect to 100 parts by weight of the polyisocyanate compound.
0 to 10,000 compounds are 10 to 200 parts by weight, preferably 20 to 190 parts by weight, more preferably 30 to 180 parts by weight, and compounds having an active hydrogen and a tertiary amino group in the same molecule are 0.2 to 0.2 parts by weight. 25 parts by weight, preferably 0.3 to 24 parts by weight.

ウレタン系高分子分散剤の製造はポリウレタン樹脂製造の公知の方法に従って行われる。製造する際の溶媒としては、通常、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン等の炭化水素類、ダイアセトンアルコール、イソプロパノール、第二ブタノール、第三ブタノール等一部のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム等の塩化物、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド等の非プロトン性極性溶媒等が用いられる。これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。   Manufacture of a urethane type polymer dispersing agent is performed in accordance with the well-known method of polyurethane resin manufacture. As a solvent for production, usually, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, isophorone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, benzene, toluene, xylene, hexane Hydrocarbons such as diacetone alcohol, isopropanol, sec-butanol, tert-butanol, etc., chlorides such as methylene chloride and chloroform, ethers such as tetrahydrofuran and diethyl ether, dimethylformamide, N-methyl Aprotic polar solvents such as pyrrolidone and dimethyl sulfoxide are used. These may be used alone or in combination of two or more.

上記製造に際して、通常、ウレタン化反応触媒が用いられる。この触媒としては、例えば、ジブチルチンジラウレート、ジオクチルチンジラウレート、ジブチルチンジオクトエート、スタナスオクトエート等の錫系、鉄アセチルアセトナート、塩化第二鉄等の鉄系、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の3級アミン系等の1種又は2種以上が挙げられる。   In the above production, a urethanization reaction catalyst is usually used. Examples of the catalyst include tin-based compounds such as dibutyltin dilaurate, dioctyltin dilaurate, dibutyltin dioctate, and stannous octoate, iron-based compounds such as iron acetylacetonate and ferric chloride, triethylamine, and triethylenediamine. 1 type, or 2 or more types, such as a secondary amine type | system | group, are mentioned.

同一分子内に活性水素と3級アミノ基を有する化合物の導入量は反応後のアミン価で1〜100mgKOH/gの範囲に制御するのが好ましい。より好ましくは5〜95mgKOH/gの範囲である。アミン価は、塩基性アミノ基を酸により中和滴定し、酸価に対応させてKOHのmg数で表した値である。アミン価が上記範囲より低いと分散能力が低下する傾向があり、また、上記範囲を超えると現像性が低下しやすくなる。   The introduction amount of the compound having active hydrogen and tertiary amino group in the same molecule is preferably controlled in the range of 1 to 100 mgKOH / g in terms of the amine value after the reaction. More preferably, it is the range of 5-95 mgKOH / g. The amine value is a value obtained by neutralizing and titrating a basic amino group with an acid, and representing the acid value in mg of KOH. When the amine value is lower than the above range, the dispersing ability tends to be lowered, and when it exceeds the above range, the developability tends to be lowered.

なお、以上の反応で高分子分散剤にイソシアネート基が残存する場合には更に、アルコールやアミノ化合物でイソシアネート基を潰すと生成物の経時安定性が高くなるので好ましい。
ウレタン系高分子分散剤の重量平均分子量(Mw)は通常1,000〜200,000、好ましくは2,000〜100,000、より好ましくは3,000〜50,000の範囲である。この分子量が1,000未満では分散性及び分散安定性が劣り、200,000を超えると溶解性が低下し分散性が劣ると同時に反応の制御が困難となる。
In addition, when an isocyanate group remains in the polymer dispersant by the above reaction, it is preferable to further crush the isocyanate group with an alcohol or an amino compound because the stability of the product with time is increased.
The weight average molecular weight (Mw) of the urethane-based polymer dispersant is usually in the range of 1,000 to 200,000, preferably 2,000 to 100,000, more preferably 3,000 to 50,000. If the molecular weight is less than 1,000, the dispersibility and dispersion stability are poor.

アクリル系高分子分散剤としては、官能基(ここでいう官能基とは、高分子分散剤に含有される官能基として前述した官能基である。)を有する不飽和基含有単量体と、官能基を有さない不飽和基含有単量体とのランダム・BR>、重合体、グラフト共重合体、ブロッ
ク共重合体を使用することが好ましい。これらの共重合体は公知の方法で製造することができる。
As the acrylic polymer dispersant, an unsaturated group-containing monomer having a functional group (the functional group here is the functional group described above as the functional group contained in the polymer dispersant); It is preferable to use a random monomer with an unsaturated group-containing monomer having no functional group, a polymer, a graft copolymer, or a block copolymer. These copolymers can be produced by a known method.

官能基を有する不飽和基含有単量体としては、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、アクリル酸ダイマー等のカルボキシル基を有する不飽和単量体、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート及びこれらの4級化物などの3級アミノ基、4級アンモニウム塩基を有する不飽和単量体が具体例として挙げられる。これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。   Examples of the unsaturated group-containing monomer having a functional group include (meth) acrylic acid, 2- (meth) acryloyloxyethyl succinic acid, 2- (meth) acryloyloxyethylphthalic acid, 2- (meth) acrylic acid. Tertiary amino groups such as unsaturated monomers having a carboxyl group such as leuoxyethyl hexahydrophthalic acid and acrylic acid dimer, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate and quaternized products thereof; Specific examples include unsaturated monomers having a quaternary ammonium base. These may be used alone or in combination of two or more.

官能基を有さない不飽和基含有単量体としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレ
ート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシメチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカン(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、N−ビニルピロリドン、スチレン及びその誘導体、α−メチルスチレン、N−シクロヘキシルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−ベンジルマレイミドなどのN−置換マレイミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル及びポリメチル(メタ)アクリレートマクロモノマー、ポリスチレンマクロモノマー、ポリ2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートマクロモノマー、ポリエチレングリコールマクロモノマー、ポリプロピレングリコールマクロモノマー、ポリカプロラクトンマクロモノマーなどのマクロモノマー等が挙げられる。これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
Examples of the unsaturated group-containing monomer having no functional group include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl ( (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxymethyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) Acrylate, isobornyl (meth) acrylate, tricyclodecane (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, N-vinylpyrrolidone, styrene and its derivatives, α-methylstyrene, N-cyclohe N-substituted maleimides such as silmaleimide, N-phenylmaleimide, N-benzylmaleimide, acrylonitrile, vinyl acetate and polymethyl (meth) acrylate macromonomer, polystyrene macromonomer, poly-2-hydroxyethyl (meth) acrylate macromonomer, polyethylene glycol Examples thereof include macromonomers, polypropylene glycol macromonomers, and macromonomers such as polycaprolactone macromonomers. These may be used alone or in combination of two or more.

アクリル系高分子分散剤は、特に好ましくは、官能基を有するAブロックと官能基を有さないBブロックからなるA−B又はB−A−Bブロック共重合体であるが、この場合、Aブロック中には上記官能基を含む不飽和基含有単量体の他に、上記官能基を含まない不飽和基含有単量体が含まれていても良く、これらが該Aブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含有されていても良い。また、官能基を含まない部分構造の、Aブロック中の含有量は、通常80重量%以下であり、好ましくは50重量%以下、更に好ましくは30重量%以下である。   The acrylic polymer dispersant is particularly preferably an AB or BAB block copolymer composed of an A block having a functional group and a B block having no functional group. In addition to the unsaturated group-containing monomer containing the functional group, the block may contain an unsaturated group-containing monomer that does not contain the functional group. It may be contained in any form of polymerization or block copolymerization. Further, the content of the partial structure containing no functional group in the A block is usually 80% by weight or less, preferably 50% by weight or less, and more preferably 30% by weight or less.

Bブロックは、上記官能基を含まない不飽和基含有単量体からなるものであるが、1つのBブロック中に2種以上の単量体が含有されていても良く、これらは、該Bブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含有されていても良い。
該A−B又はB−A−Bブロック共重合体は、例えば、以下に示すリビング重合法にて調製される。
The B block is composed of an unsaturated group-containing monomer that does not contain the above functional group. However, two or more types of monomers may be contained in one B block. It may be contained in any form of random copolymerization or block copolymerization in the block.
The AB or BAB block copolymer is prepared, for example, by the living polymerization method shown below.

リビング重合法には、アニオンリビング重合法、カチオンリビング重合法、ラジカルリビング重合法があり、このうち、アニオンリビング重合法は、重合活性種がアニオンであり、例えば下記スキームで表される。   The living polymerization method includes an anion living polymerization method, a cation living polymerization method, and a radical living polymerization method. Among these, the anion living polymerization method has a polymerization active species as an anion, and is represented by the following scheme, for example.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

ラジカルリビング重合法は重合活性種がラジカルであり、例えば下記スキームで示される。   In the radical living polymerization method, the polymerization active species is a radical, and is represented by the following scheme, for example.

Figure 2012083549
Figure 2012083549

このアクリル系高分子分散剤を合成するに際しては、特開平9−62002号公報や、P.Lutz, P.Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), B.C.Anderson, G.D.Andrews et al, Macromolecules, 14, 1601(1981), K.Hatada, K.Ute,et al, Polym. J. 17, 977(1985), 18, 1037(1986), 右手浩一、畑田耕一、高分子加工、36, 366(1987),東村敏延、沢本光男、高分子論文集、46, 189(1989), M.Kuroki, T.Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737(1987)、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、43, 300(1985), D.Y.Sogoh, W.R.Hertler et al, Macromolecules, 20, 1473(1987)などに記載の公知の方法を採用することができる。   In synthesizing this acrylic polymer dispersant, JP-A-9-62002, P. Lutz, P. Masson et al, Polym. Bull. 12, 79 (1984), BC Anderson, GD Andrews et al. , Macromolecules, 14, 1601 (1981), K. Hatada, K. Ute, et al, Polym. J. 17, 977 (1985), 18, 1037 (1986), Koichi Right hand, Koichi Hatada, Polymer processing, 36 , 366 (1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Polymer Journal, 46, 189 (1989), M. Kuroki, T. Aida, J. Am. Chem. Sic, 109, 4737 (1987), Takuzo Aida Inoue Shohei, Synthetic Organic Chemistry, 43, 300 (1985), DYSogoh, WRHertler et al, Macromolecules, 20, 1473 (1987), etc. can be employed.

本発明で用いるアクリル系高分子分散剤がA−Bブロック共重合体であっても、B−A−Bブロック共重合体であっても、その共重合体を構成するAブロック/Bブロック比は1/99〜80/20、特に5/95〜60/40(重量比)であることが好ましく、この範囲外では、良好な耐熱性と分散性を兼備することができない場合がある。
また、本発明に係るA−Bブロック共重合体、B−A−Bブロック共重合体1g中の4級アンモニウム塩基の量は、通常0.1〜10mmolであることが好ましく、この範囲外では、良好な耐熱性と分散性を兼備することができない場合がある。
Whether the acrylic polymer dispersant used in the present invention is an AB block copolymer or a B-A-B block copolymer, the A block / B block ratio constituting the copolymer Is preferably 1/99 to 80/20, and more preferably 5/95 to 60/40 (weight ratio). Outside this range, it may not be possible to combine good heat resistance and dispersibility.
In addition, the amount of the quaternary ammonium base in 1 g of the AB block copolymer and the BAB block copolymer according to the present invention is preferably 0.1 to 10 mmol, and outside this range. In some cases, good heat resistance and dispersibility cannot be combined.

なお、このようなブロック共重合体中には、通常、製造過程で生じたアミノ基が含有される場合があるが、そのアミン価は1〜100mgKOH/g程度である。
ここで、これらのブロック共重合体等の分散剤のアミン価は、分散剤試料中の溶剤を除いた固形分1gあたりの塩基量と当量のKOHの重量で表し、次の方法により測定する。
100mLのビーカーに分散剤試料の0.5〜1.5gを精秤し、50mLの酢酸で溶解する。pH電極を備えた自動滴定装置を使って、この溶液を0.1mol/LのHClO4酢酸溶液にて中和滴定する。滴定pH曲線の変曲点を滴定終点とし次式によりアミン価を求める。
Such a block copolymer usually contains an amino group produced in the production process, but its amine value is about 1 to 100 mgKOH / g.
Here, the amine value of the dispersant such as these block copolymers is expressed by the weight of KOH equivalent to the base amount per 1 g of solid content excluding the solvent in the dispersant sample, and is measured by the following method.
Disperse 0.5-1.5 g of the dispersant sample in a 100 mL beaker and dissolve with 50 mL of acetic acid. This solution is neutralized with a 0.1 mol / L HClO4 acetic acid solution using an automatic titrator equipped with a pH electrode. Using the inflection point of the titration pH curve as the end point of titration, the amine value is determined by the following formula.

アミン価[mgKOH/g]=(561×V)/(W×S)
〔但し、W:分散剤試料秤取量[g]、V:滴定終点での滴定量[mL]、S:分散剤試料の固形分濃度[重量%]を表す。〕
また、このブロック共重合体の酸価は、該酸価の元となる酸性基の有無及び種類にもよるが、一般に低い方が好ましく、通常10mgKOH/g以下であり、その重量平均分子量(Mw)は、1000〜100,000の範囲が好ましい。ブロック共重合体の重量平均分子量が1000未満であると分散安定性が低下する傾向があり、100,000を超えると現像性、解像性が低下する傾向にある。
Amine value [mgKOH / g] = (561 × V) / (W × S)
[However, W: Weighing amount of dispersant sample [g], V: Titration amount at the end of titration [mL], S: Solid content concentration [wt%] of the dispersant sample. ]
The acid value of the block copolymer depends on the presence and type of the acid group that is the basis of the acid value, but is generally preferably low, and is usually 10 mg KOH / g or less, and its weight average molecular weight (Mw) ) Is preferably in the range of 1000 to 100,000. When the weight average molecular weight of the block copolymer is less than 1000, the dispersion stability tends to decrease, and when it exceeds 100,000, the developability and resolution tend to decrease.

また分散安定性向上の点から、分散剤(E)は、後述する顔料誘導体と併用することが好ましい。
<光重合性モノマー(F)>
本発明においては、更に光重合性モノマー(F)(光重合性化合物)を使用するのが、感度等の点で好ましい。
Moreover, it is preferable to use a dispersing agent (E) together with the pigment derivative mentioned later from the point of a dispersion stability improvement.
<Photopolymerizable monomer (F)>
In the present invention, it is preferable to use a photopolymerizable monomer (F) (photopolymerizable compound) in view of sensitivity and the like.

本発明に用いられる光重合性モノマー(F)としては、分子内にエチレン性不飽和基を少なくとも1個有する化合物(以下、「エチレン性単量体」と称することがある)を挙げることができる。具体的には、例えば(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリル酸アルキルエステル、アクリロニトリル、スチレン、及びエチレン性不飽和結合を1個有するカルボン酸と、多価又は1価アルコールのモノエステル、等が挙げられる。   Examples of the photopolymerizable monomer (F) used in the present invention include compounds having at least one ethylenically unsaturated group in the molecule (hereinafter sometimes referred to as “ethylenic monomer”). . Specifically, for example, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid alkyl ester, acrylonitrile, styrene, a carboxylic acid having one ethylenically unsaturated bond, a monoester of polyhydric or monohydric alcohol, etc. Can be mentioned.

本発明においては、特に、1分子中にエチレン性不飽和基を二個以上有する多官能エチレン性単量体を使用することが望ましい。
かかる多官能エチレン性単量体の例としては、例えば脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル;脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と、不飽和カルボン酸及び多塩基性カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステルなどが挙げられる。
In the present invention, it is particularly desirable to use a polyfunctional ethylenic monomer having two or more ethylenically unsaturated groups in one molecule.
Examples of such polyfunctional ethylenic monomers include, for example, esters of aliphatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; esters of aromatic polyhydroxy compounds and unsaturated carboxylic acids; aliphatic polyhydroxy compounds, aromatics Examples thereof include esters obtained by an esterification reaction of a polyvalent hydroxy compound such as a polyhydroxy compound with an unsaturated carboxylic acid and a polybasic carboxylic acid.

前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。   Examples of the ester of the aliphatic polyhydroxy compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolethane triacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, Acrylic acid esters of aliphatic polyhydroxy compounds such as pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, glycerol acrylate, etc. In the same way, itaconic acid ester instead of itaconate, Maleic acid esters in which instead of the crotonic acid ester or maleate was changed to and the like.

芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノ
ンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が挙げられる。
多塩基性カルボン酸及び不飽和カルボン酸と、多価ヒドロキシ化合物のエステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも単一物ではないが、代表的な具体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸、及びエチレングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及びジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等が挙げられる。
Examples of the ester of an aromatic polyhydroxy compound and an unsaturated carboxylic acid include acrylic acid esters and methacrylic acid esters of aromatic polyhydroxy compounds such as hydroquinone diacrylate, hydroquinone dimethacrylate, resorcin diacrylate, resorcin dimethacrylate, pyrogallol triacrylate and the like. Etc.
The ester obtained by the esterification reaction of a polybasic carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid and a polyvalent hydroxy compound is not necessarily a single substance, but representative examples include acrylic acid, phthalic acid, and Examples include condensates of ethylene glycol, condensates of acrylic acid, maleic acid and diethylene glycol, condensates of methacrylic acid, terephthalic acid and pentaerythritol, condensates of acrylic acid, adipic acid, butanediol and glycerin.

その他、本発明に用いられる多官能エチレン性単量体の例としては、ポリイソシアネート化合物と水酸基含有(メタ)アクリル酸エステル又はポリイソシアネート化合物とポリオール及び水酸基含有(メタ)アクリル酸エステルを反応させて得られるようなウレタン(メタ)アクリレート類;多価エポキシ化合物とヒドロキシ(メタ)アクリレート又は(メタ)アクリル酸との付加反応物のようなエポキシアクリレート類;エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類;フタル酸ジアリル等のアリルエステル類;ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有用である。   In addition, as an example of the polyfunctional ethylenic monomer used in the present invention, a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate ester or a polyisocyanate compound and a polyol and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate ester are reacted. Urethane (meth) acrylates as obtained; epoxy acrylates such as addition reaction product of polyvalent epoxy compound and hydroxy (meth) acrylate or (meth) acrylic acid; acrylamides such as ethylenebisacrylamide; diallyl phthalate Allyl esters such as: vinyl group-containing compounds such as divinyl phthalate are useful.

これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
<感光性着色樹脂組成物のその他の配合成分>
本発明の感光性着色樹脂組成物には、上述の成分の他、有機溶剤、密着向上剤、塗布性向上剤、現像改良剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、界面活性剤、顔料誘導体等を適宜配合することができる。
These may be used alone or in combination of two or more.
<Other compounding components of photosensitive colored resin composition>
In addition to the components described above, the photosensitive colored resin composition of the present invention includes an organic solvent, an adhesion improver, a coatability improver, a development improver, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a silane coupling agent, and a surfactant. In addition, pigment derivatives and the like can be appropriately blended.

(1) 有機溶剤
本発明の感光性着色樹脂組成物は、通常、アルカリ可溶性樹脂(A)、光重合開始剤(B)、色材(C)、及び必要に応じて使用される各種材料が、有機溶剤に溶解又は分散した状態で使用される。
有機溶剤としては、沸点が100〜300℃の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ましくは120〜280℃の沸点をもつ溶剤である。
このような有機溶剤としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
(1) Organic solvent The photosensitive colored resin composition of the present invention usually comprises an alkali-soluble resin (A), a photopolymerization initiator (B), a colorant (C), and various materials used as necessary. And used in a state dissolved or dispersed in an organic solvent.
As the organic solvent, it is preferable to select an organic solvent having a boiling point in the range of 100 to 300 ° C. More preferably, it is a solvent having a boiling point of 120 to 280 ° C.
Examples of such organic solvents include the following.

エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコール−t−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、3−メチル−3−メトキシブタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類;
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類;
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノブチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3−メチル−3−メトキシブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類;
エチレングリコールジアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、1,6−ヘキサノールジアセテートなどのグリコールジアセテート類;
シクロヘキサノールアセテートなどのアルキルアセテート類;
アミルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類;
アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトン、メトキシメチルペンタノンのようなケトン類;
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、メトキシメチルペンタノール、グリセリン、ベンジルアルコールのような1価又は多価アルコール類;
n−ペンタン、n−オクタン、ジイソブチレン、n−ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類;
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類;
ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類;
アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、メチルイソブチレート、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、γ−ブチロラクトンのような鎖状又は環状エステル類;
3−メトキシプロピオン酸、3−エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類;
ブチルクロライド、アミルクロライドのようなハロゲン化炭化水素類;
メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類;
アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類等:
上記に該当する市販の溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル#2、アプコ#18ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントNo.1及びNo.2、ソルベッソ#150、シェルTS28 ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ジグライム(いずれも商品名)などが挙げられる。
Ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol-t-butyl ether, diethylene glycol monomethyl Ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, methoxymethylpentanol, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 3-methyl-3-methoxybutanol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol Monoe Ether, glycol monoalkyl ethers such as tripropylene glycol methyl ether;
Glycol dialkyl ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dipropyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, dipropylene glycol dimethyl ether;
Ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, propylene glycol monobutyl ether acetate, methoxybutyl Acetate, 3-methoxybutyl acetate, methoxypentyl acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, triethylene glycol Roh ether acetate, triethylene glycol monoethyl ether acetate, glycol alkyl ether acetates such as 3-methyl-3-methoxybutyl acetate;
Glycol diacetates such as ethylene glycol diacetate, 1,3-butylene glycol diacetate, 1,6-hexanol diacetate;
Alkyl acetates such as cyclohexanol acetate;
Ethers such as amyl ether, diethyl ether, dipropyl ether, diisopropyl ether, dibutyl ether, diamyl ether, ethyl isobutyl ether, dihexyl ether;
Like acetone, methyl ethyl ketone, methyl amyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isoamyl ketone, diisopropyl ketone, diisobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl hexyl ketone, methyl nonyl ketone, methoxymethyl pentanone Ketones;
Mono- or polyhydric alcohols such as ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, butanediol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, methoxymethylpentanol, glycerin, benzyl alcohol;
aliphatic hydrocarbons such as n-pentane, n-octane, diisobutylene, n-hexane, hexene, isoprene, dipentene, dodecane;
Cycloaliphatic hydrocarbons such as cyclohexane, methylcyclohexane, methylcyclohexene, bicyclohexyl;
Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, cumene;
Amyl formate, ethyl formate, ethyl acetate, butyl acetate, propyl acetate, amyl acetate, methyl isobutyrate, ethylene glycol acetate, ethyl propionate, propyl propionate, butyl butyrate, isobutyl butyrate, methyl isobutyrate, ethyl Caprylate, butyl stearate, ethyl benzoate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, 3-methoxypropionic acid Linear or cyclic esters such as butyl, γ-butyrolactone;
Alkoxycarboxylic acids such as 3-methoxypropionic acid and 3-ethoxypropionic acid;
Halogenated hydrocarbons such as butyl chloride and amyl chloride;
Ether ketones such as methoxymethylpentanone;
Nitriles such as acetonitrile and benzonitrile:
Commercially available solvents corresponding to the above include mineral spirit, Barsol # 2, Apco # 18 Solvent, Apco thinner, Soal Solvent No. 1 and no. 2, Solvesso # 150, Shell TS28 Solvent, carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, ethyl cellosolve acetate, methyl cellosolve acetate, diglyme (all trade names) and the like.

これらの有機溶剤は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(1-1)フォトリソグラフィー法にてカラーフィルタの画素又はブラックマトリックス
を形成する場合の有機溶剤
フォトリソグラフィー法にてカラーフィルタの画素又はブラックマトリックスを形成する場合、有機溶剤としては沸点が100〜200℃(圧力1013.25[hPa]条件下。以下、沸点に関しては全て同様。)の範囲のものを選択するのが好ましい。より好ま
しくは120〜170℃の沸点を持つものである。
These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
(1-1) Organic solvent when forming color filter pixels or black matrix by photolithography method When forming color filter pixels or black matrix by photolithography method, the organic solvent has a boiling point of 100 to 200. It is preferable to select the one in the range of ° C. (pressure of 101.25 [hPa]. Hereinafter, all the boiling points are the same). More preferably, it has a boiling point of 120 to 170 ° C.

上記有機溶剤のうち、塗布性、表面張力などのバランスが良く、組成物中の構成成分の溶解度が比較的高い点からは、グリコールアルキルエーテルアセテート類が好ましい。
また、グリコールアルキルエーテルアセテート類は、単独で使用してもよいが、他の有機溶剤を併用してもよい。併用する有機溶剤として、特に好ましいのはグリコールモノアルキルエーテル類である。中でも、特に組成物中の構成成分の溶解性からプロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。なお、グリコールモノアルキルエーテル類は極性が高く、添加量が多すぎると顔料が凝集しやすく、後に得られる着色樹脂組成物の粘度が上がっていくなどの保存安定性が低下する傾向があるので、溶剤中のグリコールモノアルキルエーテル類の割合は5重量%〜30重量%が好ましく、5重量%〜20重量%がより好ましい。
Of the above organic solvents, glycol alkyl ether acetates are preferred from the viewpoints of good balance of coatability, surface tension and the like, and relatively high solubility of the constituent components in the composition.
In addition, glycol alkyl ether acetates may be used alone or in combination with other organic solvents. As the organic solvent used in combination, glycol monoalkyl ethers are particularly preferable. Of these, propylene glycol monomethyl ether is particularly preferred because of the solubility of the constituent components in the composition. Glycol monoalkyl ethers are highly polar, and if the amount added is too large, the pigment tends to aggregate, and the storage stability such as the viscosity of the colored resin composition obtained later tends to decrease. The proportion of glycol monoalkyl ethers in the solvent is preferably 5% by weight to 30% by weight, and more preferably 5% by weight to 20% by weight.

また、150℃以上の沸点をもつ有機溶剤(以下「高沸点溶剤」と称す場合がある。)を併用することも好ましい。このような高沸点溶剤を併用することにより、着色樹脂組成物は乾きにくくなるが、組成物中における顔料の均一な分散状態が、急激な乾燥により破壊されることを防止する効果がある。すなわち、例えばスリットノズル先端における、色材などの析出・固化による異物欠陥の発生を防止する効果がある。このような効果が高い点から、上述の各種溶剤の中でも、特にジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート、及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートが好ましい。   It is also preferable to use an organic solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher (hereinafter sometimes referred to as “high boiling point solvent”). By using such a high boiling point solvent in combination, the colored resin composition becomes difficult to dry, but it has an effect of preventing the uniform dispersion state of the pigment in the composition from being destroyed by rapid drying. That is, for example, there is an effect of preventing the occurrence of a foreign matter defect due to precipitation or solidification of a color material or the like at the tip of the slit nozzle. Among these various solvents, diethylene glycol mono-n-butyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, and diethylene glycol monoethyl ether acetate are particularly preferable because of such high effects.

有機溶剤中の高沸点溶剤の含有割合は、3重量%〜50重量%が好ましく、5重量%〜40重量%がより好ましく、5重量%〜30重量%が特に好ましい。高沸点溶剤の量が少なすぎると、例えばスリットノズル先端で色材などが析出・固化して異物欠陥を惹き起こす可能性があり、また多すぎると組成物の乾燥温度が遅くなり、後述するカラーフィルタ製造工程における、減圧乾燥プロセスのタクト不良や、プリベークのピン跡といった問題を惹き起こすことが懸念される。   The content of the high boiling point solvent in the organic solvent is preferably 3% by weight to 50% by weight, more preferably 5% by weight to 40% by weight, and particularly preferably 5% by weight to 30% by weight. If the amount of the high boiling point solvent is too small, for example, a coloring material may precipitate and solidify at the tip of the slit nozzle to cause a foreign matter defect, and if it is too much, the drying temperature of the composition will be slowed down. There is a concern that the filter manufacturing process may cause problems such as tact defects in the vacuum drying process and pin marks of prebaking.

なお沸点150℃以上の高沸点溶剤が、グリコールアルキルエーテルアセテート類であってもよく、またグリコールアルキルエーテル類であってもよく、この場合は、沸点150℃以上の高沸点溶剤を別途含有させなくてもかまわない。
好ましい高沸点溶剤として、例えば前述の各種溶剤の中ではジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、1,6−ヘキサノールジアセテート、トリアセチンなどが挙げられる。
The high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher may be glycol alkyl ether acetates or glycol alkyl ethers. In this case, a high boiling point solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher is not separately contained. It doesn't matter.
Preferred examples of the high boiling point solvent include diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, 1,3-butylene glycol diacetate, and 1,6-hexanol diester. Examples include acetate and triacetin.

(1-2)インクジェット法にてカラーフィルタの画素を形成する場合の有機溶剤
インクジェット法にてカラーフィルタの画素を形成する場合、有機溶剤としては、沸点が、通常130℃以上300℃以下、好ましくは150℃以上280℃以下のものが適当である。有機溶剤の沸点が低すぎると、得られる塗膜の均一性が不良になる傾向がある。逆に溶剤の沸点が高すぎると、後述するように、着色樹脂組成物の乾燥抑制の効果は高いが、熱焼成後においても塗膜中に残留溶剤が多く存在し、品質上の不具合を生じたり、真空乾燥などでの乾燥時間が長くなり、タクトタイムを増大させるなどの不具合を生じたりする場合がある。
(1-2) Organic solvent for forming color filter pixels by inkjet method When forming a color filter pixel by inkjet method, the organic solvent usually has a boiling point of 130 ° C to 300 ° C, preferably A temperature of 150 ° C. or higher and 280 ° C. or lower is appropriate. If the boiling point of the organic solvent is too low, the uniformity of the resulting coating film tends to be poor. Conversely, if the boiling point of the solvent is too high, the effect of inhibiting drying of the colored resin composition is high, as will be described later, but a large amount of residual solvent is present in the coating film even after heat firing, resulting in quality defects. In some cases, the drying time in vacuum drying or the like becomes longer, causing problems such as an increase in tact time.

また、有機溶剤の蒸気圧は、得られる塗膜の均一性の観点から、通常10mmHg以下、好ましくは5mmHg以下、より好ましくは1mmHg以下のものが使用できる。
なお、インクジェット法によるカラーフィルタ製造において、ノズルから発せられるインクは数〜数十pLと非常に微細であるため、ノズル口周辺あるいは画素バンク内に着弾
する前に、有機溶剤が蒸発してインクが濃縮・乾固する傾向がある。これを回避するためには、着色樹脂組成物に含まれる有機溶剤の沸点は高い方が好ましく、具体的には、着色樹脂組成物は、沸点180℃以上の溶剤を含むことが好ましい。より好ましくは、着色樹脂組成物は、沸点が200℃以上、特に好ましくは沸点が220℃以上である有機溶剤を含有する。また、沸点180℃以上である高沸点溶剤は、後述するインク及び/又はカラーフィルタ用着色樹脂組成物に含まれる全有機溶剤中、50重量%以上であることが好ましく、70重量%以上がより好ましく、90重量%以上が最も好ましい。全有機溶剤中の沸点180℃以上の高沸点溶剤の割合が50重量%未満である場合には、液滴からの溶剤の蒸発防止効果が十分に発揮されない場合もある。
The vapor pressure of the organic solvent is usually 10 mmHg or less, preferably 5 mmHg or less, more preferably 1 mmHg or less, from the viewpoint of the uniformity of the resulting coating film.
In the production of color filters by the ink jet method, the ink emitted from the nozzle is very fine, from several to several tens of pL, so the organic solvent evaporates before landing on the periphery of the nozzle opening or in the pixel bank. There is a tendency to concentrate and dry. In order to avoid this, it is preferable that the organic solvent contained in the colored resin composition has a higher boiling point. Specifically, the colored resin composition preferably contains a solvent having a boiling point of 180 ° C. or higher. More preferably, the colored resin composition contains an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or higher, particularly preferably a boiling point of 220 ° C. or higher. The high boiling point solvent having a boiling point of 180 ° C. or higher is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more in the total organic solvent contained in the ink and / or color filter colored resin composition described later. Preferably, 90% by weight or more is most preferable. When the ratio of the high boiling point solvent having a boiling point of 180 ° C. or higher in the total organic solvent is less than 50% by weight, the effect of preventing evaporation of the solvent from the droplets may not be sufficiently exhibited.

沸点180℃以上の高沸点溶剤の好ましい例として、例えば前述の各種溶剤の中ではジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、1,3−ブチレングリコールジアセテート、1,6−ヘキサノールジアセテート、トリアセチンなどが挙げられる。   Preferred examples of the high boiling point solvent having a boiling point of 180 ° C. or higher include, for example, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol methyl ether acetate, and 1,3-butylene glycol diacetate among the above-mentioned various solvents. 1,6-hexanol diacetate, triacetin and the like.

さらに、後述するインクや着色樹脂組成物の、粘度調整や固形分の溶解度調整のためには、沸点が180℃より低い有機溶剤を一部含有することも効果的である。このような有機溶剤としては、低粘度で溶解性が高く、低表面張力であるものが好ましく、エーテル類、エステル類やケトン類などが好ましい。中でも特に、シクロヘキサノン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、シクロヘキサノールアセテートなどが特に好ましい。   Furthermore, it is also effective to partially contain an organic solvent having a boiling point lower than 180 ° C. in order to adjust the viscosity and the solid solubility of the ink and colored resin composition described later. As such an organic solvent, those having low viscosity, high solubility and low surface tension are preferable, and ethers, esters, ketones and the like are preferable. Of these, cyclohexanone, dipropylene glycol dimethyl ether, cyclohexanol acetate and the like are particularly preferable.

一方、有機溶剤がアルコール類を含有すると、インクジェット法における吐出安定性が劣化する場合がある。よって、アルコール類は全有機溶剤中20重量%以下とすることが好ましく、10重量%以下がより好ましく、5重量%以下が特に好ましい。
(2) シランカップリング剤
基板との密着性を改善するため、シランカップリング剤を添加することも可能である。シランカップリング剤の種類としては、エポキシ系、(メタ)アクリル系、アミノ系等種々のものが1種を単独で、或いは2種以上を混合して使用できるが、特にエポキシ系のシランカップリング剤が好ましい。
On the other hand, when the organic solvent contains alcohols, the ejection stability in the ink jet method may deteriorate. Therefore, the alcohol is preferably 20% by weight or less in the total organic solvent, more preferably 10% by weight or less, and particularly preferably 5% by weight or less.
(2) Silane coupling agent A silane coupling agent can be added to improve adhesion to the substrate. As the types of silane coupling agents, various types such as epoxy, (meth) acrylic, amino and the like can be used alone or in combination of two or more. Agents are preferred.

(3) 界面活性剤
界面活性剤としてはアニオン系、カチオン系、非イオン系、両性界面活性剤等各種のものの1種又は2種以上を用いることができるが、諸特性に悪影響を及ぼす可能性が低い点で、非イオン系界面活性剤を用いるのが好ましい。
このような界面活性剤としては、例えば特開2003−322716号公報に記載されたものが好適に用いられる。
(3) Surfactant One or more surfactants such as anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants can be used, but they may adversely affect various properties. It is preferable to use a nonionic surfactant from the viewpoint of low.
As such a surfactant, for example, those described in JP-A No. 2003-322716 are preferably used.

(4) 顔料誘導体
顔料誘導体としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、キノフタロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、アントラキノン系、インダンスレン系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール系、ジオキサジン系等の誘導体が挙げられるが、中でもキノフタロン系が好ましい。
(4) Pigment derivatives As pigment derivatives, azo, phthalocyanine, quinacridone, benzimidazolone, quinophthalone, isoindolinone, dioxazine, anthraquinone, indanthrene, perylene, perinone, diketo Derivatives such as pyrrolopyrrole and dioxazine are listed, but quinophthalone is preferred.

顔料誘導体の置換基としてはスルホン酸基、スルホンアミド基及びその4級塩、フタルイミドメチル基、ジアルキルアミノアルキル基、水酸基、カルボキシル基、アミド基等が顔料骨格に直接又はアルキル基、アリール基、複素環基等を介して結合したものが挙げられ、好ましくはスルホン酸基である。またこれら置換基は一つの顔料骨格に複数置換していても良い。顔料誘導体の具体例としてはフタロシアニンのスルホン酸誘導体、キノフタロンのスルホン酸誘導体、アントラキノンのスルホン酸誘導体、キナクリドンのスルホン
酸誘導体、ジケトピロロピロールのスルホン酸誘導体、ジオキサジンのスルホン酸誘導体等が挙げられる。これらは1種を単独で用いても良く、2種以上を併用しても良い。
Substituents of pigment derivatives include sulfonic acid groups, sulfonamide groups and quaternary salts thereof, phthalimidomethyl groups, dialkylaminoalkyl groups, hydroxyl groups, carboxyl groups, amide groups, etc. directly on the pigment skeleton or alkyl groups, aryl groups, and complex groups. Examples thereof include those bonded via a ring group and the like, and a sulfonic acid group is preferable. Further, a plurality of these substituents may be substituted on one pigment skeleton. Specific examples of the pigment derivative include phthalocyanine sulfonic acid derivatives, quinophthalone sulfonic acid derivatives, anthraquinone sulfonic acid derivatives, quinacridone sulfonic acid derivatives, diketopyrrolopyrrole sulfonic acid derivatives, and dioxazine sulfonic acid derivatives. These may be used alone or in combination of two or more.

<感光性着色樹脂組成物中の成分配合量>
アルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’、A”、 A1”の合計)の含有量は、本発明の感光性着色樹脂組成物の全固形分に対して、通常5重量%以上、好ましくは10重量%以上であり、通常85重量%以下、好ましくは80重量%以下である。アルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’、A”、 A1”の合計)の含有量が著しく少ないと、未露光部分の現像液に対する溶解性が低下し、現像不良を誘起させやすくなる。逆に、アルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’、A”、 A1”の合計)の含有量が多すぎると、露光部への現像液の浸透性が高くなる傾向があり、画素のシャープ性や密着性が低下する場合がある。
<Ingredient compounding amount in photosensitive colored resin composition>
The content of the alkali-soluble resin (A, A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) is usually 5% by weight or more with respect to the total solid content of the photosensitive colored resin composition of the present invention, preferably It is 10% by weight or more, usually 85% by weight or less, preferably 80% by weight or less. If the content of the alkali-soluble resin (the total of A, A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) is extremely small, the solubility of the unexposed portion in the developing solution is lowered, and development defects are likely to be induced. Conversely, if the content of the alkali-soluble resin (A, A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) is too large, the permeability of the developer to the exposed area tends to increase, and the pixel sharpness And adhesion may be reduced.

アルカリ可溶性樹脂(A)とアルカリ可溶性樹脂(A’、 A1’、A”、 A1”の合計)の配合比率(重量比)は、通常9/1〜1/9、好ましくは8/2〜2/8である。アルカリ可溶性樹脂(A)が多すぎるとパターンの直線性が悪くなる傾向があり、アルカリ可溶性樹脂(A’、 A1’、A”、 A1”の合計)が多すぎると、感度が低下するという問題が生じる場合がある。   The blending ratio (weight ratio) of the alkali-soluble resin (A) and the alkali-soluble resin (A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) is usually 9/1 to 1/9, preferably 8/2 to 2. / 8. When there is too much alkali-soluble resin (A), the linearity of the pattern tends to deteriorate, and when there is too much alkali-soluble resin (total of A ′, A1 ′, A ″, A1 ″), the sensitivity decreases. May occur.

本発明では、アルカリ可溶性樹脂(A)に、アルカリ可溶性樹脂(A’)、アルカリ可溶性樹脂(A1’)、アルカリ可溶性樹脂(A”)、及びアルカリ可溶性樹脂(A1”)からなる群より選ばれる1つ以上を併用する。通常は1つを併用するが、2つ以上併用して
もよい。
前述の如く、本発明においては、アルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’、A”、 A1”)の一部を他のバインダー樹脂(H)に置き換えてもよい。
In the present invention, the alkali-soluble resin (A) is selected from the group consisting of an alkali-soluble resin (A ′), an alkali-soluble resin (A1 ′), an alkali-soluble resin (A ″), and an alkali-soluble resin (A1 ″). Use one or more. Usually one is used together, but two or more may be used together.
As described above, in the present invention, a part of the alkali-soluble resin (A, A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) may be replaced with another binder resin (H).

この場合、本発明の感光性着色樹脂組成物中に、上記の割合で含まれるアルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’、A”、 A1”の合計)のうちの通常、20重量%以下、好ましくは10重量%以下である。
光重合開始剤(B)の含有量は、本発明の感光性着色樹脂組成物の全固形分に対して、通常0.1重量%以上、好ましくは0.5重量%以上、更に好ましくは0.7重量以上であり、通常30重量%以下、好ましくは20重量%以下である。光重合開始剤(B)の含有量が少なすぎると感度低下を起こすことがあり、反対に多すぎると未露光部分の現像液に対する溶解性が低下し、現像不良を誘起させやすい。
In this case, usually 20% by weight or less of the alkali-soluble resin (total of A, A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) contained in the above-described proportion in the photosensitive colored resin composition of the present invention. , Preferably 10% by weight or less.
The content of the photopolymerization initiator (B) is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.5% by weight or more, more preferably 0%, based on the total solid content of the photosensitive colored resin composition of the present invention. 0.7% or more, usually 30% by weight or less, preferably 20% by weight or less. When the content of the photopolymerization initiator (B) is too small, the sensitivity may be lowered. On the other hand, when the content is too large, the solubility of the unexposed portion in the developer is lowered and development failure is likely to be induced.

光重合開始剤(B)と共に加速剤を用いる場合、加速剤の含有量は、本発明の感光性着色樹脂組成物の全固形分に対して、通常0重量%以上、好ましくは0.02重量%以上で、通常10重量%以下、好ましくは5重量%以下であり、加速剤は、光重合開始剤(B)に対して0.1〜50重量%、特に0.1〜10重量%の割合で用いることが好ましい。
光重合開始剤(B)と加速剤等よりなる光重合開始剤系成分の配合割合が著しく低いと露光光線に対する感度が低下する原因となることがあり、反対に著しく高いと未露光部分の現像液に対する溶解性が低下し、現像不良を誘起させることがある。
When using an accelerator with a photoinitiator (B), content of an accelerator is 0 weight% or more normally with respect to the total solid of the photosensitive coloring resin composition of this invention, Preferably it is 0.02 weight. %, Usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less, and the accelerator is 0.1 to 50% by weight, particularly 0.1 to 10% by weight, based on the photopolymerization initiator (B). It is preferable to use in proportion.
When the blending ratio of the photopolymerization initiator component composed of the photopolymerization initiator (B) and the accelerator or the like is extremely low, the sensitivity to the exposure light may be lowered. The solubility in the liquid may be reduced, leading to poor development.

また、本発明の感光性着色樹脂組成物中に占める増感色素の配合割合は感光性着色樹脂組成物中の全固形分中、通常0〜20重量%、好ましくは0〜15重量%、更に好ましくは0〜10重量%である。
色材(C)の含有量は、感光性着色樹脂組成物中の全固形分量に対して通常1〜70重量%の範囲で選ぶことができる。この範囲の中では、10〜70重量%がより好ましく、中でも20〜60重量%が特に好ましい。色材(C)の含有量が少なすぎると、色濃度に対する膜厚が大きくなりすぎて、液晶セル化の際のギャップ制御などに悪影響を及ぼす場
合がある。また、逆に色材(C)の含有量が多すぎると、十分な画像形成性が得られなくなることがある。
The blending ratio of the sensitizing dye in the photosensitive colored resin composition of the present invention is usually 0 to 20% by weight, preferably 0 to 15% by weight, based on the total solid content in the photosensitive colored resin composition. Preferably it is 0 to 10% by weight.
Content of a color material (C) can be normally selected in the range of 1 to 70 weight% with respect to the total solid content in the photosensitive colored resin composition. In this range, 10 to 70% by weight is more preferable, and 20 to 60% by weight is particularly preferable. If the content of the color material (C) is too small, the film thickness with respect to the color density becomes too large, which may adversely affect the gap control and the like when forming a liquid crystal cell. Conversely, if the content of the color material (C) is too large, sufficient image forming properties may not be obtained.

なお感光性着色樹脂組成物において、アルカリ可溶性樹脂(A)の色材(C)に対する量は、通常20〜500重量%、好ましくは30〜300重量%、より好ましくは50〜200重量%の範囲である。色材(C)に対するアルカリ可溶性樹脂(A)の含有量が低すぎると、未露光部分の現像液に対する溶解性が低下し、現像不良を誘起させやすく、著しく高いと、所望の画素膜厚が得られ難くなる。   In the photosensitive colored resin composition, the amount of the alkali-soluble resin (A) with respect to the color material (C) is usually 20 to 500% by weight, preferably 30 to 300% by weight, more preferably 50 to 200% by weight. It is. If the content of the alkali-soluble resin (A) with respect to the color material (C) is too low, the solubility of the unexposed part in the developing solution is lowered, and it is easy to induce development failure. It becomes difficult to obtain.

チオール化合物(D)の含有量は、本発明の感光性着色樹脂組成物の全固形分に対して、通常0.1重量%以上、好ましくは0.3重量%以上、更に好ましくは0.5重量以上であり、通常10重量%以下、好ましくは5重量%以下である。チオール化合物(D)の含有量が少なすぎると感度低下を起こすことがあり、反対に多すぎると保存安定性が悪くなる場合がある。   The content of the thiol compound (D) is usually 0.1% by weight or more, preferably 0.3% by weight or more, more preferably 0.5% by weight based on the total solid content of the photosensitive colored resin composition of the present invention. It is not less than the weight and is usually not more than 10% by weight, preferably not more than 5% by weight. When the content of the thiol compound (D) is too small, the sensitivity may be lowered. On the other hand, when the content is too large, the storage stability may be deteriorated.

分散剤(E)の含有量は、感光性着色樹脂組成物の固形分中、通常50重量%以下、好ましくは30重量%以下、通常1重量%以上、好ましくは3重量%以上である。また、分散剤(D)の含有量は、色材(C)に対して、通常5重量%以上、特に10重量%以上であり、通常200重量%以下、特に80重量%以下であることが好ましい。分散剤(E)の含有量が少な過ぎると、十分な分散性が得られない場合があり、多過ぎると相対的に他の成分の割合が減って色濃度、感度、成膜性等が低下する傾向がある。   The content of the dispersant (E) is usually 50% by weight or less, preferably 30% by weight or less, usually 1% by weight or more, preferably 3% by weight or more in the solid content of the photosensitive colored resin composition. Further, the content of the dispersant (D) is usually 5% by weight or more, particularly 10% by weight or more, and usually 200% by weight or less, particularly 80% by weight or less with respect to the coloring material (C). preferable. If the content of the dispersant (E) is too small, sufficient dispersibility may not be obtained. If the content is too large, the ratio of other components is relatively reduced, resulting in a decrease in color density, sensitivity, film formability, and the like. Tend to.

特に、分散剤(E)としては、高分子分散剤と顔料誘導体とを併用することが好ましいが、この場合、顔料誘導体の配合割合は本発明の感光性着色樹脂組成物の全固形分に対して、通常1重量%以上で、通常10重量%以下、好ましくは5重量%以下とすることが好ましい。
光重合性モノマー(F)を用いる場合、その含有量は、感光性着色樹脂組成物の全固形分に対して、通常90重量%以下、好ましくは80重量%以下である。光重合性モノマー(E)の含有量が多すぎると、露光部への現像液の浸透性が高くなり、良好な画像を得ることが困難となる場合がある。なお、光重合性モノマー(F)の含有量の下限は、通常1重量%以上、好ましくは5重量%以上である。
In particular, as the dispersant (E), it is preferable to use a polymer dispersant and a pigment derivative in combination. In this case, the blending ratio of the pigment derivative is based on the total solid content of the photosensitive colored resin composition of the present invention. Thus, it is usually 1% by weight or more, usually 10% by weight or less, preferably 5% by weight or less.
When using a photopolymerizable monomer (F), the content is 90 weight% or less normally with respect to the total solid of the photosensitive coloring resin composition, Preferably it is 80 weight% or less. When there is too much content of a photopolymerizable monomer (E), the permeability of the developing solution to an exposed part will become high and it may become difficult to obtain a favorable image. In addition, the minimum of content of a photopolymerizable monomer (F) is 1 weight% or more normally, Preferably it is 5 weight% or more.

界面活性剤を用いる場合、その含有量は、感光性着色樹脂組成物中の全固形分に対して通常0.001〜10重量%、好ましくは0.005〜1重量%、さらに好ましくは0.01〜0.5重量%、最も好ましくは0.03〜0.3重量%である。界面活性剤の含有量が上記範囲よりも少ないと塗布膜の平滑性、均一性が発現できない可能性があり、多いと塗布膜の平滑性、均一性が発現できない他、他の特性が悪化する場合がある。   When using surfactant, the content is 0.001 to 10 weight% normally with respect to the total solid in a photosensitive colored resin composition, Preferably it is 0.005-1 weight%, More preferably, it is 0.00. 01 to 0.5% by weight, most preferably 0.03 to 0.3% by weight. If the surfactant content is less than the above range, the smoothness and uniformity of the coating film may not be expressed. If the content is too high, the smoothness and uniformity of the coating film may not be expressed, and other characteristics deteriorate. There is a case.

なお、本発明の感光性着色樹脂組成物は、前述の有機溶剤を使用して、その固形分濃度が通常5〜50重量%、好ましくは10〜30重量%となるように、調液される。
<感光性着色樹脂組成物の製造方法>
本発明の感光性着色樹脂組成物(以下、「レジスト」と称することがある。)は、常法に従って製造される。
The photosensitive colored resin composition of the present invention is prepared using the above-mentioned organic solvent so that the solid content concentration is usually 5 to 50% by weight, preferably 10 to 30% by weight. .
<Method for producing photosensitive colored resin composition>
The photosensitive colored resin composition of the present invention (hereinafter sometimes referred to as “resist”) is produced according to a conventional method.

通常、色材(C)は、予めペイントコンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザー等を用いて分散処理するのが好ましい。分散処理により色材(C)が微粒子化されるため、レジストの塗布特性が向上する。また、色材(C)として黒色色材を使用した場合は遮光能力の向上に寄与する。   Usually, it is preferable to disperse the color material (C) in advance using a paint conditioner, a sand grinder, a ball mill, a roll mill, a stone mill, a jet mill, a homogenizer or the like. Since the color material (C) is finely divided by the dispersion treatment, the resist coating characteristics are improved. Moreover, when a black color material is used as a color material (C), it contributes to the improvement of a light-shielding capability.

分散処理は、通常、色材(C)、有機溶剤、及び必要に応じて分散剤(E)、並びにアルカリ可溶性樹脂(A、A’、 A1’、A”、 A1”)及び/又は他のバインダー樹脂(H)の一部又は全部を併用した系にて行うことが好ましい。(以下、分散処理に供する混合物、及び該処理にて得られた組成物を「インク」と称することがある。)特に分散剤(E)として高分子分散剤を用いると、得られたインク及びレジストの経時の増粘が抑制される(分散安定性に優れる)ので好ましい。   The dispersion treatment is usually performed by using a coloring material (C), an organic solvent, and, if necessary, a dispersing agent (E), an alkali-soluble resin (A, A ′, A1 ′, A ″, A1 ″) and / or other It is preferable to carry out in a system in which part or all of the binder resin (H) is used in combination. (Hereinafter, the mixture subjected to the dispersion treatment and the composition obtained by the treatment may be referred to as “ink”.) In particular, when a polymer dispersant is used as the dispersant (E), the obtained ink and This is preferable since the thickening of the resist over time is suppressed (excellent dispersion stability).

なお、着色樹脂組成物に配合する全成分を含有する液に対して分散処理を行った場合、分散処理時に生じる発熱のため、高反応性の成分が変性する可能性がある。従って、前述した成分を含む系にて分散処理を行うことが好ましい。
サンドグラインダーで色材(C)を分散させる場合には、0.1〜8mm程度の径のガラスビーズ又はジルコニアビーズが好ましく用いられる。分散処理条件は、温度は通常、0℃から100℃であり、好ましくは、室温から80℃の範囲である。分散時間は液の組成及び分散処理装置のサイズ等により適正時間が異なるため適宜調節する。レジストの20度鏡面光沢度(JIS Z8741)が100〜200の範囲となるように、インキの光沢を制御するのが分散の目安である。レジストの光沢度が低い場合には、分散処理が十分でなく荒い顔料(色材)粒子が残っていることが多く、現像性、密着性、解像性等が不十分となる可能性がある。また、光沢値が上記範囲を超えるまで分散処理を行うと、顔料が破砕して超微粒子が多数生じるため、却って分散安定性が損なわれる傾向がある。
In addition, when a dispersion treatment is performed on a liquid containing all components to be blended in the colored resin composition, a highly reactive component may be modified due to heat generated during the dispersion treatment. Therefore, it is preferable to perform the dispersion treatment in a system containing the above-described components.
When the color material (C) is dispersed with a sand grinder, glass beads or zirconia beads having a diameter of about 0.1 to 8 mm are preferably used. In the dispersion treatment conditions, the temperature is usually from 0 ° C. to 100 ° C., and preferably from room temperature to 80 ° C. The dispersion time is appropriately adjusted because the appropriate time varies depending on the composition of the liquid and the size of the dispersion treatment apparatus. The standard of dispersion is to control the gloss of the ink so that the 20-degree specular gloss (JIS Z8741) of the resist is in the range of 100 to 200. When the glossiness of the resist is low, the dispersion treatment is not sufficient, and rough pigment (coloring material) particles often remain, which may result in insufficient developability, adhesion, resolution, and the like. . Further, when the dispersion treatment is performed until the gloss value exceeds the above range, the pigment is crushed and a large number of ultrafine particles are generated, so that the dispersion stability tends to be impaired.

次に、上記分散処理により得られたインキと、レジスト中に含まれる、上記の他の成分を混合し、均一な溶液とする。レジストの製造工程においては、微細なゴミが液中に混じることが多いため、得られたレジストはフィルター等により濾過処理するのが望ましい。
[カラーフィルタ]
次に、本発明の感光性着色樹脂組成物を用いたカラーフィルタについて、その製造方法に従って説明する。
Next, the ink obtained by the dispersion treatment and the other components contained in the resist are mixed to obtain a uniform solution. In the resist manufacturing process, fine dust is often mixed in the liquid, and thus the obtained resist is preferably filtered by a filter or the like.
[Color filter]
Next, a color filter using the photosensitive colored resin composition of the present invention will be described according to its production method.

(1) 透明基板(支持体)
カラーフィルタの透明基板としては、透明で適度の強度があれば、その材質は特に限定されるものではない。材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホンなどの熱可塑性樹脂製シート、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂などの熱硬化性樹脂シート、又は各種ガラスなどが挙げられる。この中でも、耐熱性の観点からガラス、耐熱性樹脂が好ましい。
(1) Transparent substrate (support)
The transparent substrate of the color filter is not particularly limited as long as it is transparent and has an appropriate strength. Examples of the material include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polyolefin resins such as polypropylene and polyethylene, thermoplastic resin sheets such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, and polysulfone, epoxy resins, unsaturated polyester resins, and poly (meth). Examples thereof include thermosetting resin sheets such as acrylic resins, and various glasses. Among these, glass and heat resistant resin are preferable from the viewpoint of heat resistance.

透明基板及びブラックマトリックス形成基板には、接着性などの表面物性の改良のため、必要に応じ、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤や、ウレタン系樹脂などの各種樹脂の薄膜形成処理などを行っても良い。
透明基板の厚さは、通常0.05〜10mm、好ましくは0.1〜7mmの範囲とされる。また各種樹脂の薄膜形成処理を行う場合、その膜厚は、通常0.01〜10μm、好ましくは0.05〜5μmの範囲である。
For transparent substrates and black matrix forming substrates, to improve surface properties such as adhesion, corona discharge treatment, ozone treatment, silane coupling agents, thin film formation treatment of various resins such as urethane resins, etc. May be performed.
The thickness of the transparent substrate is usually 0.05 to 10 mm, preferably 0.1 to 7 mm. Moreover, when performing the thin film formation process of various resin, the film thickness is 0.01-10 micrometers normally, Preferably it is the range of 0.05-5 micrometers.

(2) ブラックマトリックス
透明基板上に、ブラックマトリックスを設け、通常、赤色、緑色、青色の画素画像を形成することにより、本発明のカラーフィルタを製造することができ、本発明の感光性着色樹脂組成物は、黒色、赤色、緑色、青色のうち少なくとも一種のレジスト形成用塗布液として使用される。ブラックレジストに関しては、透明基板上素ガラス面上、赤色、緑色、青色に関しては透明基板上に形成された樹脂ブラックマトリックス形成面上、又は、クロム化合物その他の遮光金属材料を用いて形成した金属ブラックマトリックス形成面上に、
塗布、加熱乾燥、画像露光、現像及び熱硬化の各処理を行って各色の画素画像を形成する。
(2) Black matrix By providing a black matrix on a transparent substrate and usually forming red, green, and blue pixel images, the color filter of the present invention can be produced, and the photosensitive colored resin of the present invention. The composition is used as at least one resist forming coating solution of black, red, green, and blue. For black resist, on the transparent glass substrate glass surface, for red, green and blue, on the resin black matrix forming surface formed on the transparent substrate, or metal black formed using a chromium compound or other light shielding metal material On the matrix forming surface,
Each process of application, heat drying, image exposure, development and thermosetting is performed to form pixel images of each color.

ブラックマトリックスは、遮光金属薄膜又は樹脂ブラックマトリックス用感光性着色樹脂組成物を利用して、透明基板上に形成される。遮光金属材料としては、金属クロム、酸化クロム、窒化クロムなどのクロム化合物、ニッケルとタングステン合金などが用いられ、これらを複数層状に積層させたものであっても良い。
これらの金属遮光膜は、一般にスパッタリング法によって形成され、ポジ型フォトレジストにより、膜状に所望のパターンを形成した後、クロムに対しては硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸及び/又は硝酸とを混合したエッチング液を用い、その他の材料に対しては、材料に応じたエッチング液を用いて蝕刻され、最後にポジ型フォトレジストを専用の剥離剤で剥離することによって、ブラックマトリックスを形成することができる。
The black matrix is formed on a transparent substrate using a light-shielding metal thin film or a photosensitive colored resin composition for resin black matrix. As the light-shielding metal material, chromium compounds such as metal chromium, chromium oxide and chromium nitride, nickel and tungsten alloy, etc. are used, and these may be laminated in a plurality of layers.
These metal light shielding films are generally formed by a sputtering method, and after forming a desired pattern in a film shape with a positive photoresist, ceric ammonium nitrate, perchloric acid and / or nitric acid are added to chromium. Other materials are etched using an etching solution according to the material, and finally a positive photoresist is stripped with a special stripping agent to form a black matrix. be able to.

この場合、まず、蒸着又はスパッタリング法などにより、透明基板上にこれら金属又は金属・金属酸化物の薄膜を形成する。次いで、この薄膜上に感光性着色樹脂組成物の塗膜を形成した後、ストライプ、モザイク、トライアングルなどの繰り返しパターンを有するフォトマスクを用いて、塗膜を露光・現像し、レジスト画像を形成する。その後、この塗膜にエッチング処理を施してブラックマトリックスを形成することができる。   In this case, first, a thin film of the metal or metal / metal oxide is formed on the transparent substrate by vapor deposition or sputtering. Next, after forming a coating film of the photosensitive colored resin composition on the thin film, the coating film is exposed and developed using a photomask having a repetitive pattern such as stripes, mosaics, and triangles to form a resist image. . Thereafter, this coating film can be etched to form a black matrix.

樹脂ブラックマトリックス用感光性着色樹脂組成物を利用する場合は、黒色の色材を含有する本発明の感光性着色樹脂組成物を使用して、ブラックマトリックスを形成する。例えば、カーボンブラック、黒鉛、鉄黒、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラックなどの黒色色材単独又は複数、もしくは、無機又は有機の顔料、染料の中から適宜選択される赤色、緑色、青色などの混合による黒色色材を含有する感光性着色樹脂組成物を使用し、下記の赤色、緑色、青色の画素画像を形成する方法と同様にして、ブラックマトリックスを形成することができる。   When using the photosensitive colored resin composition for resin black matrix, the black matrix is formed using the photosensitive colored resin composition of the present invention containing a black coloring material. For example, black color material such as carbon black, graphite, iron black, aniline black, cyanine black, titanium black or the like, or red, green, blue or the like appropriately selected from inorganic or organic pigments and dyes A black matrix can be formed in the same manner as described below for forming a red, green, and blue pixel image using a photosensitive colored resin composition containing a black color material by mixing.

(3) 画素の形成
(3-1) 感光性着色樹脂組成物の塗布
ブラックマトリックスを設けた透明基板上に、赤色、緑色、青色のうち一色の色材を含有する感光性着色樹脂組成物を塗布し、乾燥した後、塗膜の上にフォトマスクを重ね、このフォトマスクを介して画像露光、現像、必要に応じて熱硬化又は光硬化により画素画像を形成させ、着色層を作成する。この操作を、赤色、緑色、青色の三色の感光性着色樹脂組成物についてそれぞれ行うことによって、カラーフィルタ画像を形成することができる。
(3) Pixel formation
(3-1) Application of photosensitive colored resin composition After applying and drying a photosensitive colored resin composition containing a color material of one of red, green and blue on a transparent substrate provided with a black matrix. Then, a photomask is overlaid on the coating film, and a pixel image is formed through image exposure, development, and heat curing or photocuring as necessary through this photomask to form a colored layer. A color filter image can be formed by performing this operation for each of the three colored photosensitive colored resin compositions of red, green, and blue.

カラーフィルタ用の感光性着色樹脂組成物の塗布は、スピナー法、ワイヤーバー法、フローコート法、ダイコート法、ロールコート法、又はスプレーコート法などによって行うことができる。中でも、ダイコート法によれば、塗布液使用量が大幅に削減され、かつ、スピンコート法によった際に付着するミストなどの影響が全くなく、異物発生が抑制されるなど、総合的な観点から好ましい。   The photosensitive colored resin composition for color filters can be applied by a spinner method, a wire bar method, a flow coating method, a die coating method, a roll coating method, a spray coating method, or the like. In particular, the die coating method significantly reduces the amount of coating solution used, and has no influence from mist adhering to the spin coating method. To preferred.

塗膜の厚さは、厚すぎると、パターン現像が困難となるとともに、液晶セル化工程でのギャップ調整が困難となることがあり、薄すぎると顔料濃度を高めることが困難となり所望の色発現が不可能となることがある。塗膜の厚さは、乾燥後の膜厚として、通常0.2〜20μmの範囲とするのが好ましく、より好ましいのは0.5〜10μmの範囲、更に好ましいのは0.8〜5μmの範囲である。   If the thickness of the coating film is too thick, pattern development becomes difficult, and it may be difficult to adjust the gap in the liquid crystal cell forming process. May become impossible. The thickness of the coating film is preferably in the range of 0.2 to 20 μm, more preferably in the range of 0.5 to 10 μm, and still more preferably in the range of 0.5 to 5 μm, as the film thickness after drying. It is a range.

(3-2) 塗膜の乾燥
基板に感光性着色樹脂組成物を塗布した後の塗膜の乾燥は、ホットプレート、IRオー
ブン、又はコンベクションオーブンを使用した乾燥法によるのが好ましい。乾燥の条件は、前記溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて適宜選択することができる。乾燥時間は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて、通常は、40〜200℃の温度で15秒〜5分間の範囲で選ばれ、好ましくは50〜130℃の温度で30秒〜3分間の範囲で選ばれる。
(3-2) Drying of the coating film The drying of the coating film after applying the photosensitive colored resin composition to the substrate is preferably performed by a drying method using a hot plate, IR oven, or convection oven. Drying conditions can be appropriately selected according to the type of the solvent component, the performance of the dryer used, and the like. The drying time is usually selected in a range of 15 seconds to 5 minutes at a temperature of 40 to 200 ° C., preferably 50 to 130 ° C., depending on the type of solvent component and the performance of the dryer used. It is selected in the range of 30 seconds to 3 minutes.

乾燥温度は、高いほど透明基板に対する塗膜の接着性が向上するが、高すぎるとバインダー樹脂が分解し、熱重合を誘発して現像不良を生ずる場合がある。なお、この塗膜の乾燥工程は、温度を高めず、減圧チャンバー内で乾燥を行う、減圧乾燥法であっても良い。
(3-3) 露光
画像露光は、感光性着色樹脂組成物の塗膜上に、ネガのマスクパターンを重ね、このマスクパターンを介し、紫外線又は可視光線の光源を照射して行う。この際、必要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐため、光重合性の塗膜上にポリビニルアルコール層などの酸素遮断層を形成した後に露光を行っても良い。上記の画像露光に使用される光源は、特に限定されるものではない。光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプなどのランプ光源や、アルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、半導体レーザーなどのレーザー光源などが挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルタを利用することもできる。
The higher the drying temperature, the better the adhesion of the coating film to the transparent substrate. However, when the drying temperature is too high, the binder resin is decomposed, and thermal polymerization may be induced to cause development failure. In addition, the drying process of this coating film may be a reduced pressure drying method in which drying is performed in a reduced pressure chamber without increasing the temperature.
(3-3) Exposure Image exposure is performed by overlaying a negative mask pattern on the coating film of the photosensitive colored resin composition and irradiating a UV or visible light source through this mask pattern. At this time, if necessary, exposure may be performed after forming an oxygen blocking layer such as a polyvinyl alcohol layer on the photopolymerizable coating film in order to prevent a decrease in sensitivity of the photopolymerizable layer due to oxygen. The light source used for said image exposure is not specifically limited. Examples of the light source include a xenon lamp, a halogen lamp, a tungsten lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultra-high pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a medium-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, and a fluorescent lamp, an argon ion laser, a YAG laser, Examples include an excimer laser, a nitrogen laser, a helium cadmium laser, and a laser light source such as a semiconductor laser. An optical filter can also be used when used by irradiating light of a specific wavelength.

(3-4) 現像
本発明に係るカラーフィルタは、感光性着色樹脂組成物による塗膜を、上記の光源によって画像露光を行った後、有機溶剤、又は、界面活性剤とアルカリ性化合物とを含む水溶液を用いる現像によって、基板上に画像を形成して作製することができる。この水溶液には、更に有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料又は顔料を含ませることができる。
(3-4) Development The color filter according to the present invention contains an organic solvent or a surfactant and an alkaline compound after image-exposing the coating film of the photosensitive colored resin composition with the above-mentioned light source. An image can be formed on a substrate by development using an aqueous solution. This aqueous solution may further contain an organic solvent, a buffering agent, a complexing agent, a dye or a pigment.

アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化アンモニウムなどの無機アルカリ性化合物や、モノ−・ジ−又はトリエタノールアミン、モノ−・ジ−又はトリメチルアミン、モノ−・ジ−又はトリエチルアミン、モノ−又はジイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ−・ジ−又はトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)、コリンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。これらのアルカリ性化合物は、2種以上の混合物であっても良い。   Alkaline compounds include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium bicarbonate, potassium bicarbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium metasilicate, sodium phosphate, potassium phosphate Inorganic alkaline compounds such as sodium hydrogen phosphate, potassium hydrogen phosphate, sodium dihydrogen phosphate, potassium dihydrogen phosphate, ammonium hydroxide, mono-di- or triethanolamine, mono-di- or trimethylamine Mono-di- or triethylamine, mono- or diisopropylamine, n-butylamine, mono-di- or triisopropanolamine, ethyleneimine, ethylenediimine, tetramethylammonium hydroxide (TMAH), choline, etc. Machine alkaline compounds. These alkaline compounds may be a mixture of two or more.

界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類などのアニオン性界面活性剤、アルキルベタイン類、アミノ酸類などの両性界面活性剤が挙げられる。   Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers, polyoxyethylene alkyl aryl ethers, polyoxyethylene alkyl esters, sorbitan alkyl esters, monoglyceride alkyl esters, and alkylbenzene sulfonic acids. Examples include anionic surfactants such as salts, alkylnaphthalene sulfonates, alkyl sulfates, alkyl sulfonates, and sulfosuccinate esters, and amphoteric surfactants such as alkylbetaines and amino acids.

有機溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。有機溶剤は、単独で用いても良く、また、水溶液と併用しても良い。
現像処理の条件は特に制限はなく、通常、現像温度は10〜50℃の範囲、中でも15
〜45℃、特に好ましくは20〜40℃で、現像方法は、浸漬現像法、スプレー現像法、ブラシ現像法、超音波現像法などのいずれかの方法によることができる。
Examples of the organic solvent include isopropyl alcohol, benzyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, phenyl cellosolve, propylene glycol, diacetone alcohol and the like. The organic solvent may be used alone or in combination with an aqueous solution.
There are no particular limitations on the conditions for the development treatment, and the development temperature is usually in the range of 10 to 50 ° C.
The developing method can be any method such as an immersion developing method, a spray developing method, a brush developing method, and an ultrasonic developing method.

(3-5) 熱硬化処理
現像の後のカラーフィルタ基板には、熱硬化処理を施す。この際の熱硬化処理条件は、温度は100〜280℃の範囲、好ましくは150〜250℃の範囲で選ばれ、時間は5〜60分間の範囲で選ばれる。これら一連の工程を経て、一色のパターニング画像形成は終了する。この工程を順次繰り返し、ブラック、赤色、緑色、青色をパターニングし、カラーフィルタを形成する。なお、4色のパターニングの順番は、上記した順番に限定されるものではない。
(3-5) Thermosetting treatment The color filter substrate after development is subjected to thermosetting treatment. The thermosetting treatment conditions at this time are selected such that the temperature is in the range of 100 to 280 ° C, preferably 150 to 250 ° C, and the time is in the range of 5 to 60 minutes. Through these series of steps, the patterning image formation for one color is completed. This process is sequentially repeated to pattern black, red, green, and blue to form a color filter. Note that the order of patterning the four colors is not limited to the order described above.

(3-6) 透明電極の形成
カラーフィルタは、このままの状態で画像上にITOなどの透明電極を形成して、カラーディスプレー、液晶表示装置などの部品の一部として使用されるが、表面平滑性や耐久性を高めるため、必要に応じ、画像上にポリアミド、ポリイミドなどのトップコート層を設けることもできる。また一部、平面配向型駆動方式(IPSモード)などの用途においては、透明電極を形成しないこともある。
(3-6) Formation of transparent electrode The color filter is used as a part of components such as color displays and liquid crystal display devices by forming transparent electrodes such as ITO on the image as it is. In order to enhance the property and durability, a top coat layer such as polyamide or polyimide can be provided on the image as necessary. Further, in some applications such as a planar alignment type drive system (IPS mode), the transparent electrode may not be formed.

[液晶表示装置]
本発明の液晶表示装置は、上述の本発明のカラーフィルタを用いて作製されたものである。
液晶表示装置は、通常、カラーフィルタ上に配向膜を形成し、この配向膜上にスペーサーを散布した後、対向基板と貼り合わせて液晶セルを形成し、形成した液晶セルに液晶を注入し、対向電極に結線して完成する。配向膜としては、ポリイミド等の樹脂膜が好適である。配向膜の形成には、通常、グラビア印刷法及び/又はフレキソ印刷法が採用され、配向膜の厚さは数10nmとされる。熱焼成によって配向膜の硬化処理を行った後、紫外線の照射やラビング布による処理によって表面処理し、液晶の傾きを調整しうる表面状態に加工される。
[Liquid Crystal Display]
The liquid crystal display device of the present invention is manufactured using the above-described color filter of the present invention.
A liquid crystal display device usually forms an alignment film on a color filter, spreads spacers on the alignment film, and then bonds to a counter substrate to form a liquid crystal cell, injects liquid crystal into the formed liquid crystal cell, Complete by connecting to the counter electrode. As the alignment film, a resin film such as polyimide is suitable. For the formation of the alignment film, a gravure printing method and / or a flexographic printing method is usually employed, and the thickness of the alignment film is several tens of nm. After the alignment film is cured by thermal baking, it is surface-treated by irradiation with ultraviolet rays or a rubbing cloth to be processed into a surface state in which the tilt of the liquid crystal can be adjusted.

スペーサーとしては、対向基板とのギャップ(隙間)に応じた大きさのものが用いられ、通常2〜8μmのものが好適である。カラーフィルタ基板上に、フォトリソグラフィ法によって透明樹脂膜のフォトスペーサー(PS)を形成し、これをスペーサーの代わりに活用することもできる。対向基板としては、通常、アレイ基板が用いられ、特にTFT(薄膜トランジスタ)基板が好適である。   As the spacer, a spacer having a size corresponding to the gap (gap) with the counter substrate is used, and usually a spacer having a size of 2 to 8 μm is preferable. A photo spacer (PS) of a transparent resin film can be formed on the color filter substrate by photolithography, and this can be used instead of the spacer. As the counter substrate, an array substrate is usually used, and a TFT (thin film transistor) substrate is particularly preferable.

対向基板との貼り合わせのギャップは、液晶表示装置の用途によって異なるが、通常2〜8μmの範囲で選ばれる。対向基板と貼り合わせた後、液晶注入口以外の部分は、エポキシ樹脂等のシール材によって封止する。シール材は、UV照射及び/又は加熱することによって硬化させ、液晶セル周辺がシールされる。
周辺をシールされた液晶セルは、パネル単位に切断した後、真空チャンバー内で減圧とし、上記液晶注入口を液晶に浸漬した後、チャンバー内をリークすることによって、液晶を液晶セル内に注入する。液晶セル内の減圧度は、通常、1×10-2〜1×10-7Paであるが、好ましくは1×10-3〜1×10-6Paである。また、減圧時に液晶セルを加温するのが好ましく、加温温度は通常30〜100℃であり、より好ましくは50〜90℃である。減圧時の加温保持は、通常10〜60分間の範囲とされ、その後液晶中に浸漬される。液晶を注入した液晶セルは、液晶注入口をUV硬化樹脂を硬化させて封止することによって、液晶表示装置(パネル)が完成する。
The gap for bonding to the counter substrate varies depending on the use of the liquid crystal display device, but is usually selected in the range of 2 to 8 μm. After being bonded to the counter substrate, portions other than the liquid crystal injection port are sealed with a sealing material such as an epoxy resin. The sealing material is cured by UV irradiation and / or heating, and the periphery of the liquid crystal cell is sealed.
The liquid crystal cell whose periphery is sealed is cut into panel units, then decompressed in a vacuum chamber, the liquid crystal injection port is immersed in liquid crystal, and then the liquid crystal is injected into the liquid crystal cell by leaking in the chamber. . The degree of reduced pressure in the liquid crystal cell is usually 1 × 10 −2 to 1 × 10 −7 Pa, preferably 1 × 10 −3 to 1 × 10 −6 Pa. Moreover, it is preferable to heat a liquid crystal cell at the time of pressure reduction, and heating temperature is 30-100 degreeC normally, More preferably, it is 50-90 degreeC. The warming hold during decompression is usually in the range of 10 to 60 minutes, and then immersed in the liquid crystal. The liquid crystal cell into which the liquid crystal is injected has a liquid crystal display device (panel) completed by sealing the liquid crystal injection port by curing the UV curable resin.

液晶の種類には特に制限がなく、芳香族系、脂肪族系、多環状化合物等、従来から知られている液晶であって、リオトロピック液晶、サーモトロピック液晶等のいずれでも良い
。サーモトロピック液晶には、ネマティック液晶、スメスティック液晶及びコレステリック液晶等が知られているが、いずれであっても良い。
[有機ELディスプレイ]
本発明の有機ELディスプレイは、本発明のカラーフィルタを用いて作製されたものである。
The type of liquid crystal is not particularly limited, and is a conventionally known liquid crystal such as an aromatic, aliphatic, or polycyclic compound, and may be any of lyotropic liquid crystal, thermotropic liquid crystal, and the like. As the thermotropic liquid crystal, nematic liquid crystal, smectic liquid crystal, cholesteric liquid crystal and the like are known, but any of them may be used.
[Organic EL display]
The organic EL display of the present invention is produced using the color filter of the present invention.

本発明のカラーフィルタを用いて有機ELディスプレイを作成する場合、例えば図1に示すように、まず透明支持基板10上に、着色樹脂組成物により形成されたパターン(すなわち、画素20、及び隣接する画素20の間に設けられた樹脂ブラックマトリックス(図示せず))が形成されてなるカラーフィルタを作製し、該カラーフィルタ上に有機保護層30及び無機酸化膜40を介して有機発光体500を積層することによって、有機EL素子100を作製することができる。なお、画素20及び樹脂ブラックマトリックスの内、少なくとも一つは本発明の感光性着色樹脂組成物を用いて作製されたものである。有機発光体500の積層方法としては、カラーフィルタ上面へ透明陽極50、正孔注入層51、正孔輸送層52、発光層53、電子注入層54、及び陰極55を逐次形成していく方法や、別基板上へ形成した有機発光体500を無機酸化膜40上に貼り合わせる方法などが挙げられる。このようにして作製された有機EL素子100を用い、例えば「有機ELディスプレイ」(オーム社,2004年8月20日発光,時任静士、安達千波矢、村田英幸著)に記載された方法等にて、有機ELディスプレイを作製することができる。   When an organic EL display is produced using the color filter of the present invention, for example, as shown in FIG. A color filter in which a resin black matrix (not shown) provided between the pixels 20 is formed is manufactured, and the organic light-emitting body 500 is formed on the color filter via the organic protective layer 30 and the inorganic oxide film 40. By laminating, the organic EL element 100 can be manufactured. In addition, at least one of the pixel 20 and the resin black matrix is produced using the photosensitive colored resin composition of the present invention. As a method for laminating the organic light emitter 500, a transparent anode 50, a hole injection layer 51, a hole transport layer 52, a light emitting layer 53, an electron injection layer 54, and a cathode 55 are sequentially formed on the upper surface of the color filter. For example, a method of adhering the organic light-emitting body 500 formed on another substrate onto the inorganic oxide film 40 can be used. A method described in, for example, “Organic EL display” (Ohm, Inc., August 20, 2004, light emission, Shizushi Tokito, Chiba Adachi, Hideyuki Murata) using the organic EL element 100 manufactured in this manner, etc. Thus, an organic EL display can be produced.

なお、本発明のカラーフィルタは、パッシブ駆動方式の有機ELディスプレイにもアクティブ駆動方式の有機ELディスプレイにも適用可能である。   The color filter of the present invention can be applied to both passive drive type organic EL displays and active drive type organic EL displays.

次に、合成例、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
<合成例1:アルカリ可溶性樹脂(I)の合成>
日本化薬(株)製「NC3000H」(前記一般式(1−a)において、R41=H、エポキシ当量288、軟化点69℃)400重量部、アクリル酸102重量部、p−メトキシフェノール0.3重量部、トリフェニルホスフィン5重量部、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート264重量部を反応容器に仕込み、95℃で酸価が3mgKOH/g以下になるまで撹拌した。酸価が目標に達するまで9時間を要した(酸価2.2mgKOH/g)。次いで、更にテトラヒドロ無水フタル酸151重量部を添加し、95℃で4時間反応させ、酸価102mgKOH/g、GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)3900のアルカリ可溶性樹脂(I)溶液を得た。
Next, although a synthesis example, an Example, and a comparative example are given and this invention is demonstrated more concretely, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.
<Synthesis Example 1: Synthesis of alkali-soluble resin (I)>
“NC3000H” manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. (in the general formula (1-a), R 41 = H, epoxy equivalent 288, softening point 69 ° C.) 400 parts by weight, acrylic acid 102 parts by weight, p-methoxyphenol 0 .3 parts by weight, 5 parts by weight of triphenylphosphine, and 264 parts by weight of propylene glycol monomethyl ether acetate were charged in a reaction vessel and stirred at 95 ° C. until the acid value was 3 mgKOH / g or less. It took 9 hours for the acid value to reach the target (acid value 2.2 mgKOH / g). Subsequently, 151 parts by weight of tetrahydrophthalic anhydride was further added and reacted at 95 ° C. for 4 hours. An alkali-soluble resin (I) solution having an acid value of 102 mgKOH / g and a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) of 3900 measured by GPC Got.

<合成例2:アルカリ可溶性樹脂(II)の合成>   <Synthesis Example 2: Synthesis of alkali-soluble resin (II)>

Figure 2012083549
Figure 2012083549

上記構造式で表されるエポキシ化合物(エポキシ当量231)40g、アクリル酸12.7g、メトキシブチルアセテート47.8g、トリフェニルホスフィン1.00g、及びパラメトキシフェノール0.025gを、温度計、攪拌機、冷却管を取り付けたフラスコに入れ、攪拌しながら90℃で酸価が5mgKOH/g以下になるまで反応させた。反応には15時間を要し、エポキシアクリレート溶液を得た。   40 g of an epoxy compound (epoxy equivalent 231) represented by the above structural formula, 12.7 g of acrylic acid, 47.8 g of methoxybutyl acetate, 1.00 g of triphenylphosphine, and 0.025 g of paramethoxyphenol were mixed with a thermometer, a stirrer, The mixture was placed in a flask equipped with a condenser and allowed to react at 90 ° C. with stirring until the acid value was 5 mgKOH / g or less. The reaction took 15 hours to obtain an epoxy acrylate solution.

上記エポキシアクリレート溶液25部及び、トリメチロールプロパン(TMP)0.76重量部、ビフェニルテトラカルボン酸2無水物(BPDA)3.7重量部、及びテトラヒドロフタル酸無水物(THPA)3.9重量部を、温度計、攪拌機、冷却管を取り付けたフラスコに入れ、攪拌しながら105℃までゆっくり昇温し反応させた。
樹脂溶液が透明になったところでメトキシブチルアセテートで希釈し、固形分50重量%となるよう調製し、酸価131mgKOH/g、GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)3000のアルカリ可溶性樹脂(II)を得た。
25 parts of the above epoxy acrylate solution, 0.76 parts by weight of trimethylolpropane (TMP), 3.7 parts by weight of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), and 3.9 parts by weight of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) Was put into a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube, and the temperature was slowly raised to 105 ° C. while stirring to react.
When the resin solution becomes transparent, it is diluted with methoxybutyl acetate, prepared to have a solid content of 50% by weight, and an alkali-soluble resin having an acid value of 131 mgKOH / g and a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) of 3000 measured by GPC (II) was obtained.

なお、このアルカリ可溶性樹脂(II)は、本発明における「アルカリ可溶性樹脂( A
1’)」に相当する。
<合成例3:アルカリ可溶性樹脂(III)の合成>
In addition, this alkali-soluble resin (II) is the “alkali-soluble resin (A
1 ') ".
<Synthesis Example 3: Synthesis of alkali-soluble resin (III)>

Figure 2012083549
Figure 2012083549

上記構造のエポキシ化合物(エポキシ当量264)50g、アクリル酸13.65g、メトキシブチルアセテート60.5g、トリフェニルホスフィン0.936g、及びパラメトキシフェノール0.032gを、温度計、攪拌機、冷却管を取り付けたフラスコに入れ、攪拌しながら90℃で酸価が5mgKOH/g以下になるまで反応させた。反応には12時間を要し、エポキシアクリレート溶液を得た。   50 g of epoxy compound having the above structure (epoxy equivalent 264), 13.65 g of acrylic acid, 60.5 g of methoxybutyl acetate, 0.936 g of triphenylphosphine, and 0.032 g of paramethoxyphenol were attached to a thermometer, a stirrer and a cooling pipe. The reaction was continued at 90 ° C. with stirring until the acid value was 5 mgKOH / g or less. The reaction took 12 hours to obtain an epoxy acrylate solution.

上記エポキシアクリレート溶液25重量部及び、トリメチロールプロパン(TMP)0.76重量部、ビフェニルテトラカルボン酸2無水物(BPDA)3.3重量部、テトラヒドロフタル酸無水物(THPA)3.5重量部を、温度計、攪拌機、冷却管を取り付けたフラスコに入れ、攪拌しながら105℃までゆっくり昇温し反応させた。
樹脂溶液が透明になったところでメトキシブチルアセテートで希釈し、固形分50重量%となるよう調製し、酸価131mgKOH/g、GPCで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)2600のアルカリ可溶性樹脂(III)を得た。
25 parts by weight of the above epoxy acrylate solution, 0.76 parts by weight of trimethylolpropane (TMP), 3.3 parts by weight of biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 3.5 parts by weight of tetrahydrophthalic anhydride (THPA) Was put into a flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a cooling tube, and the temperature was slowly raised to 105 ° C. while stirring to react.
When the resin solution becomes transparent, it is diluted with methoxybutyl acetate, prepared to have a solid content of 50% by weight, an acid value of 131 mg KOH / g, and an alkali-soluble resin having a polystyrene equivalent weight average molecular weight (Mw) of 2600 measured by GPC (III) was obtained.

なお、このアルカリ可溶性樹脂(III)は、本発明における「アルカリ可溶性樹脂(A
1”)」に相当する。
<合成例4:インクの調製>
カラー用カーボンブラック(三菱化学社製「MA−8」、平均粒子径24μm、DBP吸油量58ml/100g)50重量部に、プロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート(PGMEA)及びウレタン系高分子分散剤である「Disperbyk−182」(ビックケミー社製)を、該分散剤が固形分として10重量部の割合で、かつ固形分濃度が30重量%となるように加えた。分散液の全重量は181gであった。
The alkali-soluble resin (III) is an “alkali-soluble resin (A
1 ")".
<Synthesis Example 4: Preparation of ink>
Carbon black for color (“MA-8” manufactured by Mitsubishi Chemical Co., Ltd., average particle size 24 μm, DBP oil absorption 58 ml / 100 g), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) and urethane polymer dispersant Disperbyk-182 "(manufactured by Big Chemie) was added so that the dispersant was in a proportion of 10 parts by weight as a solid content and the solid content concentration was 30% by weight. The total weight of the dispersion was 181 g.

これを攪拌機によりよく攪拌し、プレミキシングを行った。次に、ペイントシェーカーにより25〜45℃の範囲で6時間分散処理を行った。ビーズとしては、0.5mmφのジルコニアビーズを用い、分散液と同じ重量を加えた。分散終了後(JIS Z8741における20度鏡面光沢度は170であった)、フィルターによりビーズと分散液を分離して、インク1を調製した。   This was thoroughly stirred with a stirrer and premixed. Next, the dispersion process was performed in the range of 25-45 degreeC with the paint shaker for 6 hours. As the beads, 0.5 mmφ zirconia beads were used, and the same weight as the dispersion was added. After the completion of dispersion (20-degree specular gloss in JIS Z8741 was 170), beads and dispersion were separated by a filter to prepare ink 1.

[実施例1〜6及び比較例1〜3]
(1)レジスト(感光性着色樹脂組成物)の調合
合成例4で調製したインク1を用いて、固形分中の比率が表1の配合割合となるように各成分を加え、さらに固形分が20重量%となるように有機溶剤を加え、スターラーにより攪拌、溶解させて、ブラックレジストを調製した。
[Examples 1-6 and Comparative Examples 1-3]
(1) Preparation of resist (photosensitive coloring resin composition) Using ink 1 prepared in Synthesis Example 4, each component was added so that the ratio in the solid content was the mixing ratio in Table 1, and the solid content was further increased. An organic solvent was added so as to be 20% by weight, and the mixture was stirred and dissolved with a stirrer to prepare a black resist.

〈配合物〉
合成例4で調製したインク1
合成例1乃至3で調製した各アルカリ可溶性樹脂溶液
光重合性モノマー:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)
光重合開始剤:チバスペシャリティケミカルズ社製「CGI242」下記構造式に示すオキシムエステル系化合物
<Formulation>
Ink 1 prepared in Synthesis Example 4
Each alkali-soluble resin solution prepared in Synthesis Examples 1 to 3 Photopolymerizable monomer: Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA)
Photopolymerization initiator: “CGI242” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. Oxime ester compound represented by the following structural formula

Figure 2012083549
Figure 2012083549

チオール化合物:昭和電工社製「カレンズMT PE1」(ペンタエリスリトールテト
ラキス(3−メルカプトブチレート))
有機溶剤:PGMEA
(2)レジストの評価
(1)で調製したブラックレジストをスピンコーターにてガラス基板に塗布し、ホットプレートで80℃にて1分間乾燥した。乾燥後のレジストの膜厚を触針式膜厚計(テンコール社製「α−ステップ」)で測定したところ、1μmであった。次に、このサンプルをマスクを通して高圧水銀灯で露光量を変えて像露光した。その後、温度23℃で、濃度0.1重量%のKOH水溶液を用いてスプレー現像することによりレジストパターンを得た。
Thiol compound: “Karenz MT PE1” (pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate)) manufactured by Showa Denko KK
Organic solvent: PGMEA
(2) Evaluation of resist The black resist prepared in (1) was applied to a glass substrate with a spin coater and dried on a hot plate at 80 ° C. for 1 minute. The film thickness of the resist after drying was measured with a stylus type film thickness meter (“α-step” manufactured by Tencor), and it was 1 μm. Next, this sample was image-exposed through a mask while changing the exposure amount with a high-pressure mercury lamp. Then, a resist pattern was obtained by spray development using a KOH aqueous solution with a concentration of 0.1% by weight at a temperature of 23 ° C.

形成されたレジストパターンについて、感度、解像力及び直線性を下記の基準で評価し、結果を表2に示した。
1.感度
寸法が20μmのマスクパターンを、寸法通り形成できる適正露光量(mJ/cm)をもって表示した。即ち、この露光量の少ないレジストは低露光量で画像形成が可能であるため高感度であることを示す。
The sensitivity, resolution and linearity of the formed resist pattern were evaluated according to the following criteria, and the results are shown in Table 2.
1. Sensitivity A mask pattern having a dimension of 20 μm was displayed with an appropriate exposure (mJ / cm 2 ) that can be formed according to the dimension. That is, a resist with a small exposure amount is highly sensitive because an image can be formed with a low exposure amount.

2.解像力
寸法が20μmのマスクパターンを忠実に再現する露光量における解像可能なレジスト最小パターン寸法を、200倍の倍率で顕微鏡観察した。
最小パターン寸法が10μm以下 : ◎
最小パターン寸法が10μmを超え15μm以下: ○
最小パターン寸法が15μmを超える : ×
3.直線性
寸法が20μmのマスクパターンを忠実に再現する露光量における細線黒色画素の形状を1000倍の倍率で顕微鏡観察した。
2. Resolution The minimum resist pattern dimension that can be resolved at an exposure amount that faithfully reproduces a mask pattern with a dimension of 20 μm was observed with a microscope at a magnification of 200 times.
Minimum pattern dimension is 10μm or less: ◎
Minimum pattern dimension is more than 10μm and 15μm or less: ○
Minimum pattern dimension exceeds 15 μm: ×
3. Linearity The shape of fine black pixels at an exposure amount that faithfully reproduces a mask pattern with a dimension of 20 μm was observed with a microscope at a magnification of 1000 times.

エッジの直線性の優れているもの :◎
エッジの直線性が比較的良好なもの :○
エッジに突起や凹凸が若干あるもの :△
エッジに突起や凹凸がかなり多いもの :×
Excellent edge linearity: ◎
Edge linearity is relatively good: ○
Some protrusions or irregularities on the edge: △
Edges with a lot of protrusions and irregularities: ×

Figure 2012083549
Figure 2012083549

Figure 2012083549
Figure 2012083549

表2より、本発明によれば、高感度で解像性、直線性に優れた感光性着色樹脂組成物が提供されることが分かる。   From Table 2, it can be seen that according to the present invention, a photosensitive colored resin composition having high sensitivity and excellent resolution and linearity is provided.

10 透明支持基板
20 画素
30 有機保護層
40 無機酸化膜
50 透明陽極
51 正孔注入層
52 正孔輸送層
53 発光層
54 電子注入層
55 陰極
100 有機EL素子
500 有機発光体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent support substrate 20 Pixel 30 Organic protective layer 40 Inorganic oxide film 50 Transparent anode 51 Hole injection layer 52 Hole transport layer 53 Light emitting layer 54 Electron injection layer 55 Cathode 100 Organic EL element 500 Organic light emitter

Claims (10)

アルカリ可溶性樹脂(A)を含有し、アルカリ可溶性樹脂(A’)、アルカリ可溶性樹脂(A1’)、アルカリ可溶性樹脂(A”)、及びアルカリ可溶性樹脂(A1”)からなる群より選ばれる1以上を含有し、光重合開始剤(B)、色材(C)、及びメルカプト基を2個以上有し、該メルカプト基に対してα位の炭素原子が置換基として少なくとも1つの炭化水素基を有するチオール化合物(D)を含有することを特徴とするカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物。
<アルカリ可溶性樹脂(A)>
下記一般式(1−a)で表されるエポキシ樹脂(a)と、不飽和基含有カルボン酸(b)との反応物を、更に多塩基酸及び/又はその無水物(c)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A)。
Figure 2012083549
〔上記一般式(1−a)において、nは平均値を示し0〜10の数を示す。R41は水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数3〜10のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はビフェニル基のいずれかを表す。なお、1分子中に存在する複数のR41は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。Gはグリシジル基を表す。〕
<アルカリ可溶性樹脂(A’)>
下記一般式(1−a’)で示されるエポキシ化合物(a’)と、α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b’)との反応物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c’)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A’)。
Figure 2012083549
〔上記一般式(1−a’)において、p及びqはそれぞれ独立に0〜4の整数を表し、R31及びR32はそれぞれ独立してアルキル基又はハロゲン原子を表す。R33及びR34はそれぞれ独立してアルキレン基を表す。x及びyはそれぞれ独立して0以上の整数を表す。〕
<アルカリ可溶性樹脂(A1’)>
上記一般式(1−a’)で示されるエポキシ化合物(a’)と、α,β−不飽和モノカルボン酸及び/又はエステル部分にカルボキシル基を有するα,β−不飽和モノカルボン酸エステル(b’)との反応物と、多価アルコール(d’)との混合物を、多塩基酸及び
/又はその無水物(c’)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A1’)。
<アルカリ可溶性樹脂(A”)>
下記一般式(1−a”)で示されるエポキシ化合物(a”)と不飽和基含有カルボン酸(b”)との反応物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c”)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A”)。
Figure 2012083549
〔上記一般式(1−a”)において、Xは下記一般式(2a)、(2b)又は(3)で表される連結基を示す。但し、分子構造中に1つ以上のアダマンタン構造を含む。lは、2又は3の整数を示す。
Figure 2012083549
(上記一般式(2a)及び(2b)において、R〜R及びR13〜R15は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアダマンチル基、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。
上記一般式(3)において、R〜R12は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を示す。Yは、置換基を有していてもよい、アダマンタン構造を含む2価の連結基を示す。
上記一般式(2a)、(2b)及び(3)において、*は、一般式(1−a”)におけるグリシジルオキシ基との結合部位を示す。)〕
<アルカリ可溶性樹脂(A1”)>
上記一般式(1−a”)で示されるエポキシ化合物(a”)と不飽和基含有カルボン酸(b”)との反応物と、多価アルコール(d”)との混合物を、多塩基酸及び/又はその無水物(c”)と反応させて得られるアルカリ可溶性樹脂(A1”)。
1 or more selected from the group consisting of alkali-soluble resin (A), alkali-soluble resin (A ′), alkali-soluble resin (A1 ′), alkali-soluble resin (A ″), and alkali-soluble resin (A1 ″) A photopolymerization initiator (B), a coloring material (C), and two or more mercapto groups, and a carbon atom at the α-position to the mercapto group has at least one hydrocarbon group as a substituent. A photosensitive colored resin composition for a color filter, which comprises a thiol compound (D) having a colorant.
<Alkali-soluble resin (A)>
The reaction product of the epoxy resin (a) represented by the following general formula (1-a) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b) is further reacted with a polybasic acid and / or its anhydride (c). An alkali-soluble resin (A) obtained in this way.
Figure 2012083549
[In the said general formula (1-a), n shows an average value and shows the number of 0-10. R 41 represents any of a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, a phenyl group, a naphthyl group, and a biphenyl group. A plurality of R 41 present in one molecule may be the same or different. G represents a glycidyl group. ]
<Alkali-soluble resin (A ')>
An epoxy compound (a ′) represented by the following general formula (1-a ′), an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group at the ester moiety ( An alkali-soluble resin (A ′) obtained by reacting a reaction product with b ′) with a polybasic acid and / or its anhydride (c ′).
Figure 2012083549
[In the general formula (1-a ′), p and q each independently represent an integer of 0 to 4, and R 31 and R 32 each independently represent an alkyl group or a halogen atom. R 33 and R 34 each independently represents an alkylene group. x and y each independently represents an integer of 0 or more. ]
<Alkali-soluble resin (A1 ′)>
The epoxy compound (a ′) represented by the above general formula (1-a ′) and an α, β-unsaturated monocarboxylic acid and / or an α, β-unsaturated monocarboxylic acid ester having a carboxyl group at the ester moiety ( An alkali-soluble resin (A1 ′) obtained by reacting a mixture of a reaction product with b ′) and a polyhydric alcohol (d ′) with a polybasic acid and / or its anhydride (c ′).
<Alkali-soluble resin (A ")>
A reaction product of an epoxy compound (a ″) represented by the following general formula (1-a ″) and an unsaturated group-containing carboxylic acid (b ″) is reacted with a polybasic acid and / or its anhydride (c ″). Alkali-soluble resin (A ") obtained by making it.
Figure 2012083549
[In the above general formula (1-a ″), X represents a linking group represented by the following general formula (2a), (2b) or (3), provided that one or more adamantane structures are present in the molecular structure. 1 represents an integer of 2 or 3.
Figure 2012083549
(In the above general formulas (2a) and (2b), R 1 to R 4 and R 13 to R 15 each independently have an adamantyl group, a hydrogen atom, and a substituent which may have a substituent. An optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an optionally substituted phenyl group is shown.
In the general formula (3), R 5 to R 12 may each independently have a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms that may have a substituent, or a substituent. Represents a phenyl group; Y represents a divalent linking group containing an adamantane structure, which may have a substituent.
In the general formulas (2a), (2b), and (3), * represents a binding site with the glycidyloxy group in the general formula (1-a ″).
<Alkali-soluble resin (A1 ")>
A mixture of a reaction product of the epoxy compound (a ″) represented by the general formula (1-a ″) and the unsaturated group-containing carboxylic acid (b ″) and a polyhydric alcohol (d ″) is converted into a polybasic acid. And / or an alkali-soluble resin (A1 ″) obtained by reacting with the anhydride (c ″) thereof.
さらに分散剤(E)を含む、請求項1に記載のカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物。   The photosensitive colored resin composition for a color filter according to claim 1, further comprising a dispersant (E). さらに光重合性モノマー(F)を含有する、請求項1又は2に記載のカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物。   Furthermore, the photosensitive colored resin composition for color filters of Claim 1 or 2 containing a photopolymerizable monomer (F). 光重合開始剤(B)が、オキシムエステル誘導体類を含む、請求項1ないし3のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物。   The photosensitive colored resin composition for color filters according to any one of claims 1 to 3, wherein the photopolymerization initiator (B) contains oxime ester derivatives. 色材(C)の含有量が、感光性着色樹脂組成物の全固形分中、20〜60重量%である、請求項1ないし4のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物。   The photosensitive coloring resin for color filters according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the coloring material (C) is 20 to 60% by weight in the total solid content of the photosensitive coloring resin composition. Composition. 色材(C)が黒色色材を含有する、請求項1ないし5のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物。   The photosensitive coloring resin composition for color filters as described in any one of Claims 1 thru | or 5 in which a color material (C) contains a black color material. チオール化合物(D)が、下記一般式(d−1)で表される部分構造を含むチオール化合物である請求項1ないし6のいずれか一項に記載のカラーフィルタ用感光性着色樹脂組成物。
Figure 2012083549
(一般式(d−1)中において、R51、R52は各々独立して水素原子又は炭素数1〜3の炭化水素基を表し、aは0〜4の整数を表す。ただし、R51及びR52が水素の場合を除く。)
The photosensitive colored resin composition for a color filter according to any one of claims 1 to 6, wherein the thiol compound (D) is a thiol compound including a partial structure represented by the following general formula (d-1).
Figure 2012083549
(In General Formula (d-1), R 51 and R 52 each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, and a represents an integer of 0 to 4. However, R 51 And R 52 is hydrogen.)
透明基板上に、請求項1ないし7のいずれか一項に記載の感光性着色樹脂組成物を用いて形成された画素又はブラックマトリックスを有する、カラーフィルタ。   The color filter which has a pixel or black matrix formed using the photosensitive coloring resin composition as described in any one of Claims 1 thru | or 7 on a transparent substrate. 請求項8に記載のカラーフィルタを用いて作製された、液晶表示装置。   A liquid crystal display device produced using the color filter according to claim 8. 請求項8に記載のカラーフィルタを用いて作製された、有機ELディスプレイ。
An organic EL display produced using the color filter according to claim 8.
JP2010229630A 2010-10-12 2010-10-12 Photosensitive coloring resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic el display Pending JP2012083549A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010229630A JP2012083549A (en) 2010-10-12 2010-10-12 Photosensitive coloring resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic el display

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010229630A JP2012083549A (en) 2010-10-12 2010-10-12 Photosensitive coloring resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic el display

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012083549A true JP2012083549A (en) 2012-04-26

Family

ID=46242484

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010229630A Pending JP2012083549A (en) 2010-10-12 2010-10-12 Photosensitive coloring resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic el display

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2012083549A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104035281A (en) * 2013-03-06 2014-09-10 株式会社艾迪科 Photocuring Composition
JP2014196469A (en) * 2013-03-06 2014-10-16 株式会社Adeka Photocurable compositions
KR20150009577A (en) * 2012-05-17 2015-01-26 후지필름 가부시키가이샤 Colored radiation-sensitive compositions, and color filters using them
JP2020117570A (en) * 2019-01-21 2020-08-06 三菱ケミカル株式会社 Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, cured product, and image display device
CN113777882A (en) * 2020-06-10 2021-12-10 新应材股份有限公司 White photosensitive resin composition, white partition wall, light conversion layer, and light emitting device
JP7643133B2 (en) 2021-03-25 2025-03-11 三菱ケミカル株式会社 Method for preparing alkali-soluble resin, method for producing photosensitive resin composition, method for producing cured product, and method for producing image display device

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01289820A (en) * 1988-05-17 1989-11-21 Kansai Paint Co Ltd Actinic radiation-curable unsaturated resin composition
JPH1184126A (en) * 1997-09-03 1999-03-26 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerizable composition for color filter and color filter
JP2005055814A (en) * 2003-08-07 2005-03-03 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, and liquid crystal display device
JP2008197494A (en) * 2007-02-14 2008-08-28 Toyo Ink Mfg Co Ltd Manufacturing method of color filter and transflective liquid crystal display device using color filter manufactured by the method
JP2009020501A (en) * 2007-06-11 2009-01-29 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device and organic EL display
JP2009086563A (en) * 2007-10-03 2009-04-23 Nippon Steel Chem Co Ltd Photosensitive resin composition for black resist containing polyfunctional thiol compound, black matrix for color filter using the same, and color filter

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01289820A (en) * 1988-05-17 1989-11-21 Kansai Paint Co Ltd Actinic radiation-curable unsaturated resin composition
JPH1184126A (en) * 1997-09-03 1999-03-26 Mitsubishi Chem Corp Photopolymerizable composition for color filter and color filter
JP2005055814A (en) * 2003-08-07 2005-03-03 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, and liquid crystal display device
JP2008197494A (en) * 2007-02-14 2008-08-28 Toyo Ink Mfg Co Ltd Manufacturing method of color filter and transflective liquid crystal display device using color filter manufactured by the method
JP2009020501A (en) * 2007-06-11 2009-01-29 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device and organic EL display
JP2009086563A (en) * 2007-10-03 2009-04-23 Nippon Steel Chem Co Ltd Photosensitive resin composition for black resist containing polyfunctional thiol compound, black matrix for color filter using the same, and color filter

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150009577A (en) * 2012-05-17 2015-01-26 후지필름 가부시키가이샤 Colored radiation-sensitive compositions, and color filters using them
KR101723114B1 (en) * 2012-05-17 2017-04-04 후지필름 가부시키가이샤 Colored radiation-sensitive compositions, and color filters using the same
CN104035281A (en) * 2013-03-06 2014-09-10 株式会社艾迪科 Photocuring Composition
KR20140109827A (en) * 2013-03-06 2014-09-16 가부시키가이샤 아데카 Photo-curable composition
JP2014196469A (en) * 2013-03-06 2014-10-16 株式会社Adeka Photocurable compositions
KR102160115B1 (en) * 2013-03-06 2020-09-25 가부시키가이샤 아데카 Photo-curable composition
JP2020117570A (en) * 2019-01-21 2020-08-06 三菱ケミカル株式会社 Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, cured product, and image display device
JP7188115B2 (en) 2019-01-21 2022-12-13 三菱ケミカル株式会社 Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, cured product, and image display device
CN113777882A (en) * 2020-06-10 2021-12-10 新应材股份有限公司 White photosensitive resin composition, white partition wall, light conversion layer, and light emitting device
CN113777882B (en) * 2020-06-10 2025-03-07 新应材股份有限公司 White photosensitive resin composition, white partition wall, light conversion layer and light emitting device
JP7643133B2 (en) 2021-03-25 2025-03-11 三菱ケミカル株式会社 Method for preparing alkali-soluble resin, method for producing photosensitive resin composition, method for producing cured product, and method for producing image display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5343410B2 (en) Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device and organic EL display
JP6361838B2 (en) Photosensitive coloring composition, cured product, black matrix, coloring spacer, and image display device
JP7283519B2 (en) Photosensitive resin composition, cured product and image display device
JP4561062B2 (en) Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, and liquid crystal display device
JP6037706B2 (en) Photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display device
JP6365118B2 (en) Photosensitive resin composition, cured product obtained by curing it, black matrix, and image display device
JP6620743B2 (en) Resin, photosensitive resin composition, cured product, color filter, and image display device
JP5957952B2 (en) Photosensitive colored resin composition, color filter, and liquid crystal display device
JP2013011845A (en) Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic electroluminescent display
JP2013167687A (en) Photosensitive coloring resin composition, color filter, and liquid-crystal display
JP5169422B2 (en) Colored resin composition, color filter, liquid crystal display device, and organic EL display
JP5092590B2 (en) Colored photopolymerizable composition, color filter and liquid crystal display device
JP2013195681A (en) Photosensitive resin composition, color filter, liquid crystal display device, and organic el display
JP2012083549A (en) Photosensitive coloring resin composition for color filter, color filter, liquid crystal display device, and organic el display
JP7188115B2 (en) Alkali-soluble resin, photosensitive resin composition, cured product, and image display device
JP7120234B2 (en) Photosensitive resin composition, cured product, black matrix and image display device
JP2013065000A (en) Photosensitive colored resin composition, color filter and liquid crystal display
JP6344108B2 (en) Photosensitive resin composition, cured product obtained by curing the same, black matrix, and image display device
JP6607054B2 (en) Photosensitive resin composition, cured product, black matrix, and image display device
JP5120349B2 (en) Photosensitive colored resin composition for color filter, color filter, and liquid crystal display device
JP2018159930A (en) Photosensitive resin composition, cured product obtained by curing the same, black matrix, and image display device
WO2023182350A1 (en) Pigment dispersion liquid, photosensitive resin composition, cured product, black matrix, image display device, and method for producing pigment dispersion liquid

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20131009

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140813

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140819

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150106