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JP2012080869A - Culture reactor and tool for culture reactor - Google Patents

Culture reactor and tool for culture reactor Download PDF

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JP2012080869A JP2010254303A JP2010254303A JP2012080869A JP 2012080869 A JP2012080869 A JP 2012080869A JP 2010254303 A JP2010254303 A JP 2010254303A JP 2010254303 A JP2010254303 A JP 2010254303A JP 2012080869 A JP2012080869 A JP 2012080869A
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transparent conductive
culture reactor
culture
transparent
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JP2010254303A
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Japanese (ja)
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Kunio Isono
邦夫 磯野
Masashi Iketani
雅視 池谷
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BIO OPTICAL Inc
Original Assignee
BIO OPTICAL Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cell culture reactor usable for culturing and observing cells or the like, and to provide a tool for the same.SOLUTION: The culture reactor includes: a storage portion for culturing cells inside; a transparent plate 5 constituting at least part of a cell contact surface inside the storage portion; a first transparent conductive film 10d constituting a sensor portion and an electric stimulation portion or heater portion continuously disposed from the inside to the outside of the storage portion on the cell contact surface side of the transparent plate 5; and at least one layer of a second transparent conductive film and a third transparent conductive film constituting a heater portion or a sensor portion, respectively, on the opposite side of the first transparent conductive film setting surface. The tool for the culture reactor for fixing the culture reactor is also provided.

Description

本発明は、細胞等の培養および観察に利用可能な細胞培養リアクタおよびその治具に関する。   The present invention relates to a cell culture reactor that can be used for culturing and observing cells and the like, and a jig therefor.

近年、例えば、再生医療分野では万能細胞およびタンパク質等に関する基礎研究、臨床試験、創薬開発および疾患治療方法等の開発が進められている。一般に培養細胞を用いた研究においては、細胞を培養するための培養容器を用いて細胞培養試験、細胞観察または得られた細胞の分析等を行うが、そのような評価は細胞を直接、顕微鏡的に観察することにより行われることが望ましい場合がある。このような観察を可能とするため、スライドガラスを細胞培養面とする培養容器が知られている。   In recent years, for example, in the field of regenerative medicine, basic research, clinical trials, drug development, disease treatment methods, and the like regarding universal cells and proteins have been promoted. In general, in research using cultured cells, cell culture tests, cell observation, or analysis of the obtained cells are performed using a culture vessel for culturing cells. Such evaluation is performed directly on a microscopic basis. It may be desirable to do so by observing. In order to enable such observation, a culture container having a slide glass as a cell culture surface is known.

また、加温または電気刺激を与えて、細胞の変化を観察しまたは細胞を分化させることがある。このような試験を行うため、温度を調節するためのヒータ、細胞に電気刺激等を与えるための電極、または、細胞からの電気信号もしくは細胞温度を検出するための電極を細胞培養容器に配置する場合がある。   In addition, warming or electrical stimulation may be applied to observe cell changes or to differentiate cells. In order to perform such a test, a heater for adjusting the temperature, an electrode for applying electrical stimulation to the cell, or an electrode for detecting an electrical signal from the cell or the cell temperature is arranged in the cell culture container. There is a case.

細胞の顕微鏡による直接的な観察と培養温度の調節を同時に実現するため、本発明者は、スライドガラス基板またはシャーレに、ヒータとして機能する透明導電膜を成膜した培養容器を報告した(特許文献1参照)。本培養容器では、透明導電膜を透明な基板に備えることで、培養中の細胞を培養容器上で顕微鏡により直接観察することができる。   In order to simultaneously achieve direct observation of cells with a microscope and control of culture temperature, the present inventor has reported a culture vessel in which a transparent conductive film functioning as a heater is formed on a slide glass substrate or petri dish (Patent Document) 1). In the main culture container, by providing the transparent conductive film on the transparent substrate, the cells in culture can be directly observed on the culture container with a microscope.

さらに、神経細胞等の細胞評価試験においては、電気的な刺激を付与した場合の細胞の反応を観察することがある。本発明者らは、細胞接触面に透明導電膜を成膜することで、細胞に電気刺激を与えることができる細胞培養容器について提案している(特許文献2参照)。当該容器は、細胞培養面に透明導電膜が設置されていることから、細胞に電気的な刺激を付与することの他、当該透明導電膜をヒータとして使用して細胞を直接加温したり、透明導電膜を介して電気化学的な培養実験を可能としている。また、別の透明導電膜では、検出された電流から、培養容器中の細胞培養面の温度を測定することができる。   Furthermore, in a cell evaluation test for nerve cells or the like, the reaction of cells when an electrical stimulus is applied may be observed. The inventors of the present invention have proposed a cell culture container capable of applying electrical stimulation to cells by forming a transparent conductive film on the cell contact surface (see Patent Document 2). Since the container is provided with a transparent conductive film on the cell culture surface, in addition to applying electrical stimulation to the cells, the transparent conductive film is used as a heater to directly heat the cells, An electrochemical culture experiment is possible through a transparent conductive film. In another transparent conductive film, the temperature of the cell culture surface in the culture vessel can be measured from the detected current.

特開2009−093126号公報(特許請求の範囲等)JP 2009-093126 A (Claims etc.) 特開2009−201509号公報(特許請求の範囲の請求項6等)JP 2009-201509 A (claim 6 and the like)

しかし、特許文献1および特許文献2に記載の培養容器は細胞培養に通常用いられるシャーレを利用するため、細胞接触面に設置した透明導電膜用の電極を設置するためには、培養容器の蓋に貫通孔を設け、その貫通孔から細胞接触面に配置した透明電極膜層にプローブ電極を接触させる必要がある。そのため、培養途中の蓋の開閉等の作業性が悪いという問題がある。さらに、貫通孔への電極の設置が必要なためコンタミネーションを起こしやすいという問題がある。さらに、プローブ電極からの不純物の溶出等により、不純物が培養容器内部に混入する可能性があるという問題もある。   However, since the culture containers described in Patent Document 1 and Patent Document 2 use a petri dish usually used for cell culture, in order to install an electrode for a transparent conductive film placed on a cell contact surface, the lid of the culture container It is necessary to provide a probe electrode in contact with the transparent electrode film layer disposed on the cell contact surface from the through hole. Therefore, there exists a problem that workability | operativity, such as opening and closing of the lid | cover during culture | cultivation, is bad. Furthermore, since it is necessary to install an electrode in the through hole, there is a problem that contamination is likely to occur. Furthermore, there is a problem that impurities may be mixed inside the culture vessel due to elution of impurities from the probe electrode.

本発明は、上記問題に応えるべくなされたものであって、作業性がよく、コンタミネーションの可能性が低減される培養リアクタを提供することを目的とする。   The present invention has been made to respond to the above-described problems, and an object thereof is to provide a culture reactor that has good workability and reduces the possibility of contamination.

上記目的を達成するために、本発明の実施の形態に係る培養リアクタの実施の形態は、内部に細胞を培養するための収容部と、収容部内の細胞接触面の少なくとも一部を構成する透明プレートと、透明プレートの細胞接触面側には、収容部の内側から外側に連続して設けられる第1の透明導電膜とを有するものである。   In order to achieve the above object, an embodiment of a culture reactor according to an embodiment of the present invention includes a container for culturing cells therein, and a transparent constituting at least a part of a cell contact surface in the container. It has a plate and the 1st transparent conductive film provided in the cell contact surface side of a transparent plate continuously from the inner side of an accommodating part to the outer side.

さらに、上述の第1の透明導電膜のうち、収容部外に延出する部分は、電極取出し端子部を構成し得る。   Furthermore, the portion of the first transparent conductive film described above that extends outside the accommodating portion can constitute an electrode extraction terminal portion.

さらに、その収容部は、筒部と鍔部とを接合して成り、第1の透明導電膜は、筒部の内部および外部に連続する同一平面上に形成され得る。   Further, the accommodating portion is formed by joining the cylindrical portion and the flange portion, and the first transparent conductive film can be formed on the same plane that continues to the inside and the outside of the cylindrical portion.

上記第1の透明導電膜は、センサ部、電気刺激部またはヒータ部を構成し得る。また、上記第2の透明導電膜および上記第3の透明導電膜も、センサ部、電気刺激部またはヒータ部を構成し得る。   The first transparent conductive film may constitute a sensor unit, an electrical stimulation unit, or a heater unit. Further, the second transparent conductive film and the third transparent conductive film can also constitute a sensor unit, an electrical stimulation unit, or a heater unit.

さらに、その筒部の外周は、筒部の軸方向に見た場合に外側へ突出する角部を有し、第1の透明導電膜のうち収容部外に延出する部分は、角部から突出し得る。   Furthermore, the outer periphery of the cylindrical portion has a corner portion that protrudes outward when viewed in the axial direction of the cylindrical portion, and the portion of the first transparent conductive film that extends outside the accommodating portion is from the corner portion. Can protrude.

本発明の培養リアクタにおいて、前記透明プレートの第1の透明導電膜設置面の逆側には、少なくとも1の透明導電膜を有し得る。本発明の培養リアクタにおいて、前記透明プレートの第1の透明導電膜設置面の逆側に2以上の透明導電膜を有する場合、これらの透明導電膜の膜間には絶縁層を有する。また、本発明の培養リアクタにおいて、前記透明プレートの第1の透明導電膜設置面の逆側に透明導電膜が設置されている場合、当該透明導電膜は、透明プレートから近い順に第2の透明導電膜、第3の透明導電膜と呼ぶこととする。   In the culture reactor of the present invention, the transparent plate may have at least one transparent conductive film on the side opposite to the first transparent conductive film installation surface. In the culture reactor of the present invention, when two or more transparent conductive films are provided on the opposite side of the first transparent conductive film installation surface of the transparent plate, an insulating layer is provided between the transparent conductive films. Moreover, in the culture reactor of the present invention, when a transparent conductive film is installed on the opposite side of the first transparent conductive film installation surface of the transparent plate, the transparent conductive film is second transparently in order from the transparent plate. The conductive film is referred to as a third transparent conductive film.

また、本発明の実施の形態に係る培養リアクタにおいて、第1の透明導電膜、第2の透明導電膜および第3の透明導電膜のうち、少なくとも1つの膜の膜厚が80nm以下であることが好ましい。   In the culture reactor according to the embodiment of the present invention, the film thickness of at least one of the first transparent conductive film, the second transparent conductive film, and the third transparent conductive film is 80 nm or less. Is preferred.

また、本発明の培養リアクタにおいて、第2の透明導電膜および第3の透明導電膜のうち少なくとも1つは、膜厚が500nm以下であり得る。   In the culture reactor of the present invention, at least one of the second transparent conductive film and the third transparent conductive film may have a film thickness of 500 nm or less.

ある実施態様において、第1の透明導電膜は、電気刺激部またはセンサ部を構成すると共に、その膜厚が1000nm以下であり、第2の透明導電膜は、ヒータ部を構成すると共に、その膜厚が500nm以下であり、第3の透明導電膜は、温度を測定するためのセンサ部を構成すると共に、その膜厚が80nm以下であるのが好ましい。あるいは、前記第1の透明導電膜は、電気刺激部またはセンサ部を構成すると共に、その膜厚が1000nm以下であり、前記第2の透明導電膜は、温度を測定するためのセンサ部を構成すると共に、その膜厚が80nm以下であり、前記第3の透明導電膜は、ヒータ部を構成すると共に、その膜厚が500nm以下であるのが好ましい。   In one embodiment, the first transparent conductive film constitutes an electrical stimulation part or a sensor part, and its film thickness is 1000 nm or less, and the second transparent conductive film constitutes a heater part, and its film The thickness is preferably 500 nm or less, and the third transparent conductive film preferably constitutes a sensor unit for measuring temperature and has a film thickness of 80 nm or less. Alternatively, the first transparent conductive film constitutes an electrical stimulation part or a sensor part, and the film thickness thereof is 1000 nm or less, and the second transparent conductive film constitutes a sensor part for measuring temperature. In addition, it is preferable that the film thickness is 80 nm or less, and the third transparent conductive film constitutes a heater part and the film thickness is 500 nm or less.

また、本発明の培養リアクタ用治具は、内部に細胞を培養するための収容部と、収容部内の細胞接触面の少なくとも一部を構成する透明プレートと、透明プレートの細胞接触面側には、収容部の内側から外側に連続して設けられる透明導電膜とを有する培養リアクタを固定するものである。また、培養リアクタ用治具は、培養リアクタを固定するための固定手段と、透明導電膜に給電するため、または電流を検出するための電極と、透明プレートと重なる領域に光を照射するための透光部とを有するものである。   In addition, the culture reactor jig of the present invention includes an accommodating portion for culturing cells therein, a transparent plate constituting at least a part of the cell contact surface in the accommodating portion, and a cell contacting surface side of the transparent plate. A culture reactor having a transparent conductive film continuously provided from the inside to the outside of the housing portion is fixed. The culture reactor jig is for fixing the culture reactor, for supplying power to the transparent conductive film, or for irradiating light to the area where the transparent plate is overlapped with the electrode for detecting current. It has a translucent part.

本発明によれば、作業性がよく、コンタミネーションの可能性が低減され、かつ、不純物が混入しにくい培養リアクタを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, workability | operativity is good, the possibility of contamination is reduced, and the culture reactor which an impurity is hard to mix can be provided.

本発明の実施の形態に係る培養リアクタの斜視図である。It is a perspective view of the culture reactor which concerns on embodiment of this invention. 図1に示す培養リアクタの蓋部を皿部から取り外しした場合の斜視図である。It is a perspective view at the time of removing the cover part of the culture reactor shown in FIG. 1 from a dish part. 図1に示す培養リアクタの分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of the culture reactor shown in FIG. 図1に示す培養リアクタを上面から見た場合の平面図である。It is a top view at the time of seeing the culture reactor shown in FIG. 1 from the upper surface. 図4に示す培養リアクタのA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of the culture reactor shown in FIG. 図4に示す培養リアクタのB−B線断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view of the culture reactor shown in FIG. 4 taken along the line BB. 培養リアクタが有するトップ透明プレートを図4のA−A線で切断した場合の断面図である。It is sectional drawing at the time of cut | disconnecting the top transparent plate which a culture reactor has with the AA of FIG. 培養リアクタが有するボトム透明プレートを図4のA−A線で切断した場合の断面図である。It is sectional drawing at the time of cut | disconnecting the bottom transparent plate which a culture reactor has with the AA of FIG. ボトム透明プレートの下面側のヒータ部としての透明導電膜を下面側からみた場合の平面図である。It is a top view at the time of seeing the transparent conductive film as a heater part of the lower surface side of a bottom transparent plate from the lower surface side. ボトム透明プレートのヒータ部と、ヒータ部の下面側に設けられたセンサ部としての透明導電膜とを厚さ方向に透過させて見た場合の平面図である。It is a top view at the time of permeate | transmitting in the thickness direction the heater part of a bottom transparent plate, and the transparent conductive film as a sensor part provided in the lower surface side of the heater part. 本発明の実施の形態に係る培養リアクタ用治具の斜視図である。It is a perspective view of the jig for culture reactors concerning an embodiment of the invention. 図11の培養リアクタ用治具に培養リアクタを載置した状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which mounted the culture reactor in the jig | tool for culture reactors of FIG. 図11の培養リアクタ用治具に培養リアクタを載置し、電極等を取り付けた状態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the state which mounted the culture reactor on the jig | tool for culture reactors of FIG. 11, and attached the electrode etc. 図11の培養リアクタ用治具に培養リアクタを載置し、顕微鏡で観察する場合の状態を示す概略図である。It is the schematic which shows the state in the case of mounting a culture reactor on the jig | tool for culture reactors of FIG. 11, and observing with a microscope. 本発明の実施の形態に係る培養リアクタを用いて細胞を培養する際のブロック図である。It is a block diagram at the time of culturing a cell using the culture reactor concerning an embodiment of the invention. 本発明の変形例において、センサ部としての透明導電膜を上側に有するボトム透明プレートの上側から見た場合の平面図である。In the modification of this invention, it is a top view at the time of seeing from the upper side of the bottom transparent plate which has a transparent conductive film as a sensor part on the upper side. 図16のボトム透明プレートを図4のA−A線と同様の線で切断した場合の断面図である。It is sectional drawing at the time of cut | disconnecting the bottom transparent plate of FIG. 16 with the same line as the AA of FIG. 本実施例において作製した透明導電膜をヒータ部として用いた場合の上昇温度をシミュレーション結果と比較して示すグラフである。It is a graph which shows the temperature rise at the time of using the transparent conductive film produced in a present Example as a heater part compared with a simulation result.

次に、本発明の培養リアクタの実施の形態について、図面を参照しながら説明する。   Next, an embodiment of the culture reactor of the present invention will be described with reference to the drawings.

(培養リアクタの構成)
図1は、本実施の形態に係る培養リアクタ1の斜視図である。図2は、図1に示す培養リアクタ1の蓋部2を皿部3から取り外しした場合の斜視図である。図3は、図1に示す培養リアクタ1の分解斜視図である。以後、培養リアクタ1から蓋部2を取り外した場合に、蓋部2が皿部3から離脱する方向を上、その逆方向を下という。また、上下方向間の距離を厚さという。
(Composition of culture reactor)
FIG. 1 is a perspective view of a culture reactor 1 according to the present embodiment. FIG. 2 is a perspective view when the lid 2 of the culture reactor 1 shown in FIG. FIG. 3 is an exploded perspective view of the culture reactor 1 shown in FIG. Hereinafter, when the lid 2 is removed from the culture reactor 1, the direction in which the lid 2 is detached from the dish 3 is referred to as “up”, and the opposite direction is referred to as “down”. The distance between the vertical directions is called the thickness.

培養リアクタ1は、主に付着性細胞を培養するために用いられる。培養リアクタ1は、収容した細胞等の様子が見えるように、好ましくは、透明な材料から構成される。たとえば、培養リアクタ1は、透明性が高く、かつ、硬化時の収縮率が小さいポリスチレンにより好適に構成される。培養リアクタ1は、たとえば、上面から見た場合に一片が40mmの略正方形状であって、その厚さ方向の高さが15mmであり、いわゆる略直方体形状を有している。   The culture reactor 1 is mainly used for culturing adherent cells. The culture reactor 1 is preferably made of a transparent material so that the state of the contained cells and the like can be seen. For example, the culture reactor 1 is preferably composed of polystyrene having high transparency and a low shrinkage rate upon curing. The culture reactor 1 has, for example, a substantially square shape with a piece of 40 mm when viewed from the top, a height of 15 mm in the thickness direction, and a so-called substantially rectangular parallelepiped shape.

図1および図2に示すように、培養リアクタ1は、蓋部2および皿部3を主に有する。皿部3は、培養するための細胞を内包に収容できる収容部(後で詳述する)を有し、収容部の開口部を蓋部2により塞ぐことで、収容した細胞を外部から隔離できる。   As shown in FIGS. 1 and 2, the culture reactor 1 mainly has a lid portion 2 and a dish portion 3. The dish part 3 has an accommodating part (which will be described in detail later) that can accommodate cells for culturing in an inner package, and the accommodated cells can be isolated from the outside by closing the opening part of the accommodating part with the lid part 2. .

図4は、図1に示す培養リアクタ1を上面から見た場合の平面図である。図5は、図4に示す培養リアクタ1のA−A線断面図である。図6は、図4に示す培養リアクタ1のB−B線断面図である。以後、各断面図においては、見易さのため、厚さ方向および幅方向の縮尺を適宜変更して図示している。   FIG. 4 is a plan view when the culture reactor 1 shown in FIG. 1 is viewed from above. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line AA of the culture reactor 1 shown in FIG. FIG. 6 is a cross-sectional view of the culture reactor 1 shown in FIG. Hereinafter, in each cross-sectional view, the scales in the thickness direction and the width direction are appropriately changed for easy viewing.

蓋部2は、上面側から枠部2a、トップ透明プレート4および筒部2bを主に有する。枠部2a、筒部2bおよびトップ透明プレート4を接合、嵌合あるいはインサート成型することで、蓋部2は、一体的に構成される。   The lid part 2 mainly has a frame part 2a, a top transparent plate 4 and a cylinder part 2b from the upper surface side. By joining, fitting, or insert molding the frame portion 2a, the cylindrical portion 2b, and the top transparent plate 4, the lid portion 2 is integrally configured.

枠部2aは、上側から見た場合に、略正方形の外周を有し、その内方に略正方形の開口部を有する枠状の部材である。筒部2bは、上側から見た場合に、外周が枠部2aの外周よりも小さい略正方形の筒状部材である。筒部2bは、上側から見た場合にその筒内側が枠部2aの開口部と重なるように、枠部2aに固着されている。その枠部2aと筒部2bとにより構成された窓部は、トップ透明プレート4を備える。   The frame part 2a is a frame-like member having a substantially square outer periphery when viewed from above, and having a substantially square opening inside thereof. The cylindrical part 2b is a substantially square cylindrical member whose outer periphery is smaller than the outer periphery of the frame part 2a when viewed from above. The cylinder part 2b is fixed to the frame part 2a so that the cylinder inner side overlaps with the opening part of the frame part 2a when viewed from above. The window part constituted by the frame part 2 a and the cylinder part 2 b includes a top transparent plate 4.

トップ透明プレート4は、枠部2aの外周よりも小さく、かつ筒部2bの外周よりも大きい外周を有する略正方形の透明な板状部材である。トップ透明プレート4は、枠部2aの開口部および筒部2bの筒内側から、蓋部2の外面に露出する。したがって、ユーザが蓋部2の上側から見た場合に、トップ透明プレート4の下側に存在する被観察物(たとえば、培養中の細胞)を、トップ透明プレート4を介して視認できる。トップ透明プレート4は、それを介して顕微鏡観察が容易であるように、カバーガラスと同等の光学的特性を有するのが好ましい。また、トップ透明プレート4は、全光線透過率が高く、屈折率が低く、かつ、光学的特性が均一であることが求められ、たとえば、ホウケイ酸ガラスや、ホウケイ酸ガラスと同等の光学的特性を有する樹脂等から主に構成される。たとえば、トップ透明プレート4は、厚さが150μm、一片の長さが35mmの略正方形の部材である。   The top transparent plate 4 is a substantially square transparent plate-like member having an outer periphery smaller than the outer periphery of the frame portion 2a and larger than the outer periphery of the cylindrical portion 2b. The top transparent plate 4 is exposed to the outer surface of the lid 2 from the opening of the frame 2a and the inside of the cylinder 2b. Therefore, when the user views from the upper side of the lid portion 2, an object to be observed (for example, cells in culture) existing below the top transparent plate 4 can be visually recognized through the top transparent plate 4. The top transparent plate 4 preferably has optical characteristics equivalent to those of the cover glass so that microscopic observation can be easily performed through the top transparent plate 4. Further, the top transparent plate 4 is required to have a high total light transmittance, a low refractive index, and uniform optical characteristics. For example, optical characteristics equivalent to borosilicate glass and borosilicate glass are required. It is mainly comprised from the resin etc. which have this. For example, the top transparent plate 4 is a substantially square member having a thickness of 150 μm and a length of one piece of 35 mm.

さらに、蓋部2は、炭酸ガス注入孔7、灌流注入孔8および灌流排出孔9を有していてもよい。炭酸ガス注入孔7、灌流注入孔8および灌流排出孔9は、蓋部2の上側面と下側面とを貫通する貫通孔であり、上側から見て、筒部2bの内周よりも内側に設けられる。炭酸ガス注入孔7、灌流注入孔8および灌流排出孔9は、炭酸ガス、酸素、オゾン、あるいは灌流等を収容部に注入または排出するために用いられる。たとえば、炭酸ガス注入孔7から、炭酸ガス、酸素あるいはオゾン等を培養中の細胞に供給できる。また、灌流注入孔8から、培地等を供給し、灌流排出孔9から、古い培地等を排出するようにしてもよい。炭酸ガス注入孔7、灌流注入孔8および灌流排出孔9の直径は、たとえば4mm前後であり、それらの孔径に嵌合可能な径のチューブを用いて各供給物質を供給してもよい。また、炭酸ガス注入孔7、灌流注入孔8および灌流排出孔9に嵌合させるチューブとしては、シリコーン系樹脂、ポリアミド系樹脂あるいはフッ素系樹脂製のチューブを用いることができる。   Furthermore, the lid 2 may have a carbon dioxide injection hole 7, a perfusion injection hole 8, and a perfusion discharge hole 9. The carbon dioxide injection hole 7, the perfusion injection hole 8 and the perfusion discharge hole 9 are through-holes penetrating the upper side surface and the lower side surface of the lid part 2, and are located on the inner side of the inner periphery of the cylindrical part 2b when viewed from above. Provided. The carbon dioxide injection hole 7, the perfusion injection hole 8, and the perfusion discharge hole 9 are used for injecting or discharging carbon dioxide gas, oxygen, ozone, perfusion, or the like into the accommodating portion. For example, carbon dioxide, oxygen, ozone, or the like can be supplied from the carbon dioxide injection hole 7 to the cells being cultured. Alternatively, a medium or the like may be supplied from the perfusion injection hole 8 and an old medium or the like may be discharged from the perfusion discharge hole 9. The diameters of the carbon dioxide injection hole 7, the perfusion injection hole 8, and the perfusion discharge hole 9 are, for example, around 4 mm, and each supply substance may be supplied using a tube having a diameter that can be fitted to these hole diameters. Moreover, as a tube fitted to the carbon dioxide injection hole 7, the perfusion injection hole 8, and the perfusion discharge hole 9, a tube made of silicone resin, polyamide resin, or fluorine resin can be used.

皿部3は、上側から筒部3a、ボトム透明プレート5および鍔部3bを主に有する。筒部3a、ボトム透明プレート5および鍔部3bを接合、嵌合あるいはインサート成型することで、蓋部2は、一体的に構成される。筒部3aの筒内側の面、鍔部3bの上側の面、ボトム透明プレート5の上側の面、および蓋部2の下側の面は、培養する細胞を収容する空間、すなわち、収容部を構成する。   The dish part 3 mainly has a cylinder part 3a, a bottom transparent plate 5 and a flange part 3b from above. The lid portion 2 is integrally formed by joining, fitting, or insert molding the cylindrical portion 3a, the bottom transparent plate 5, and the flange portion 3b. The inner surface of the tube portion 3a, the upper surface of the flange portion 3b, the upper surface of the bottom transparent plate 5, and the lower surface of the lid portion 2 are spaces for storing cells to be cultured, that is, a storage portion. Constitute.

筒部3aは、上側から見て、略正方形の開口部を有する筒状部材である。また、筒部3aは、その下面側端部に外周すべてを取り囲むように外側方向へ延出するフランジ部6を有する。フランジ部6は、筒部3aの角部の部分に切り欠き部7を有する。皿部3と蓋部2とを嵌合させる際には、筒部3aの外周は、筒部2bの内周に囲まれるような形態で嵌合される。その場合に、筒部2bの内周と筒部3aの外周とが密着するように、筒部2bの内周よりも筒部3aの外周がわずかに小さいのが好ましい。   The cylindrical portion 3a is a cylindrical member having a substantially square opening when viewed from above. Moreover, the cylinder part 3a has the flange part 6 extended in an outward direction so that the outer periphery may be surrounded in the lower surface side edge part. The flange part 6 has the notch part 7 in the corner | angular part of the cylinder part 3a. When the dish part 3 and the lid part 2 are fitted, the outer periphery of the cylinder part 3a is fitted in a form surrounded by the inner periphery of the cylinder part 2b. In that case, it is preferable that the outer periphery of the cylinder part 3a is slightly smaller than the inner periphery of the cylinder part 2b so that the inner periphery of the cylinder part 2b and the outer periphery of the cylinder part 3a are in close contact with each other.

鍔部3bは、上側から見て、略正方形の外周および略正方形の開口部を有する部材である。鍔部3bは、筒部3aの筒内側よりも内方に開口部を有する。ボトム透明プレート5は、トップ透明プレート4と同様の部材から構成される。また、ボトム透明プレート5は、上側から見て、筒部3aの外周よりも大きい外周を有するため、ボトム透明プレート5の端部は、フランジ部6の切り欠き部7から露出する。したがって、ボトム透明プレート5は、筒部3aの筒内側、鍔部3bの開口部および切り欠き部7の内側から、皿部3の外側に露出する。かかる構造の皿部3では、ユーザが皿部3の下側から光を照射することで、ボトム透明プレート5の上にある被観察物を照らすことができる。   The flange 3b is a member having a substantially square outer periphery and a substantially square opening as viewed from above. The collar part 3b has an opening part inward rather than the cylinder inner side of the cylinder part 3a. The bottom transparent plate 5 is composed of the same members as the top transparent plate 4. Further, since the bottom transparent plate 5 has an outer periphery that is larger than the outer periphery of the cylindrical portion 3 a when viewed from above, the end portion of the bottom transparent plate 5 is exposed from the notch portion 7 of the flange portion 6. Therefore, the bottom transparent plate 5 is exposed to the outside of the dish portion 3 from the inside of the tube portion 3 a, the opening of the flange portion 3 b, and the inside of the notch portion 7. In the dish part 3 having such a structure, the user can illuminate the object to be observed on the bottom transparent plate 5 by irradiating light from the lower side of the dish part 3.

図7は、トップ透明プレート4のA−A線断面図である。図8は、ボトム透明プレート5のB−B線断面図である。   FIG. 7 is a cross-sectional view of the top transparent plate 4 taken along the line AA. FIG. 8 is a cross-sectional view of the bottom transparent plate 5 taken along the line BB.

トップ透明プレート4およびボトム透明プレート5には、透明導電膜10a,10b,10c,10d(以後、透明導電膜10a,10b,10c,10dすべてを指す場合には、「透明導電膜10」という。)が形成されている。透明導電膜10は、スズをドープした酸化インジウム(ITO:Indium Tin Oxide)や酸化スズ(TO:Tin Oxide)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO:Fluoride−doped Tin Oxide)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO:Antimony−doped Tin Oxide)、または酸化亜鉛(ZnO:Zinc Oxide)等の導電性金属酸化物を主成分とする半導体セラミックス層から構成できる。これらの導電性金属酸化物を主成分とする半導体セラミックス層は、可視光に対する優れた透明性と高い電気伝導性を併せ持っている。これらの透明導電層の中でも、ITOを主成分とする透明導電膜10は、透明性および耐熱性が高く、抗菌作用を有することから、特に好ましい。   The top transparent plate 4 and the bottom transparent plate 5 are referred to as transparent conductive films 10a, 10b, 10c, and 10d (hereinafter referred to as “transparent conductive film 10” when referring to all of the transparent conductive films 10a, 10b, 10c, and 10d). ) Is formed. The transparent conductive film 10 includes tin-doped indium oxide (ITO), tin oxide (TO), fluorine-doped tin oxide (FTO), and antimony-doped tin oxide (ATO). It can be composed of a semiconductor ceramic layer mainly composed of a conductive metal oxide such as Antimony-doped Tin Oxide (Zinc Oxide). The semiconductor ceramic layer mainly composed of these conductive metal oxides has both excellent transparency to visible light and high electrical conductivity. Among these transparent conductive layers, the transparent conductive film 10 mainly composed of ITO is particularly preferable since it has high transparency and heat resistance and has an antibacterial action.

透明導電膜10は、ヒータ部、センサ部または電気刺激部として機能する。たとえば、透明導電膜10が所定の電気抵抗値を有する場合には、透明導電膜10に通電すると、電気エネルギーの一部が熱エネルギーとして放出され、透明導電膜10が発熱する。その発熱により、透明導電膜10は、被観察物を加熱するためのヒータ部として機能できる。   The transparent conductive film 10 functions as a heater part, a sensor part, or an electrical stimulation part. For example, when the transparent conductive film 10 has a predetermined electric resistance value, when the transparent conductive film 10 is energized, part of the electrical energy is released as thermal energy, and the transparent conductive film 10 generates heat. Due to the heat generation, the transparent conductive film 10 can function as a heater unit for heating the object to be observed.

また、透明導電膜10は、温度を測定するためのセンサとして機能できる。一般に、温度変化ΔTに対し、電気抵抗は、ΔR[Ω]=kΔTの関係で変化する(k:係数)。ΔRは、電圧V[V]を印加した場合の電流変化ΔI[A]を検出することで測定できる。したがって、温度変化は、透明導電膜10に流れる電流値Iを検出することで測定できる。このように、透明導電膜10が電流量を検出するセンサ部として機能することで、得られた電流量により温度を測定することができる。   The transparent conductive film 10 can function as a sensor for measuring temperature. Generally, with respect to the temperature change ΔT, the electric resistance changes in a relationship of ΔR [Ω] = kΔT (k: coefficient). ΔR can be measured by detecting a current change ΔI [A] when a voltage V [V] is applied. Therefore, the temperature change can be measured by detecting the current value I flowing through the transparent conductive film 10. As described above, the transparent conductive film 10 functions as a sensor unit that detects the amount of current, whereby the temperature can be measured based on the obtained amount of current.

さらに、透明導電膜10に接触している細胞が存在する場合、透明導電膜10は、細胞が生じる電気信号を検出するためのセンサとして機能できる。たとえば、電気信号を生じる神経細胞等の活動の活発さを測定するために、電気信号を検出してもよい。   Further, when there are cells in contact with the transparent conductive film 10, the transparent conductive film 10 can function as a sensor for detecting an electrical signal generated by the cells. For example, the electrical signal may be detected in order to measure the activity of a nerve cell or the like that generates the electrical signal.

また、透明導電膜10に接触している細胞が存在する場合、透明導電膜10に通電することにより、細胞に電気刺激を与えることができる。細胞に電気刺激を与えることで、細胞の分化誘導等をコントロールできる場合がある。また、直流の電気パルス信号を利用して、細胞膜等の隔壁に穿孔を設け、遺伝子またはたんぱく質等の生理活性物質を導入させることがある。このように、細胞接触面に設けられた透明電極膜10は、電気刺激部として機能することができる。   Further, when cells in contact with the transparent conductive film 10 are present, the cells can be electrically stimulated by energizing the transparent conductive film 10. In some cases, it is possible to control cell differentiation induction and the like by applying electrical stimulation to the cells. In addition, a direct current electric pulse signal may be used to perforate a partition wall such as a cell membrane to introduce a physiologically active substance such as a gene or a protein. Thus, the transparent electrode film 10 provided on the cell contact surface can function as an electrical stimulation unit.

本実施の形態においては、トップ透明プレート4の上側の面(すなわち、細胞非接触面)には、ヒータ部としての透明導電膜10aが形成されている。透明導電膜10aは、膜厚が1000nm以下、好ましくは、500nm以下であるのが好ましい。透明導電膜10aは、透明導電膜10aの層あたりの電気抵抗値が150Ω以下になるように形成される。トップ透明プレート4の上面にヒータ部としての透明導電膜10aを設けることで、蓋部2が結露により曇るのを防ぐことができる。   In the present embodiment, a transparent conductive film 10a serving as a heater portion is formed on the upper surface of the top transparent plate 4 (that is, the cell non-contact surface). The transparent conductive film 10a has a film thickness of 1000 nm or less, preferably 500 nm or less. The transparent conductive film 10a is formed so that the electric resistance value per layer of the transparent conductive film 10a is 150Ω or less. By providing the transparent conductive film 10a as a heater part on the upper surface of the top transparent plate 4, it can prevent that the cover part 2 becomes cloudy by dew condensation.

また、図8に示すように、ボトム透明プレート5の上側の面には、第1の透明導電膜としての透明導電膜10dが形成されている。透明導電膜10dは、筒部3aの内側(すなわち、細胞接触面)から連続して、筒部3aの外側であってフランジ部6の切り欠き部7から露出する部分(すなわち、リアクタ外)にまで形成されている。透明導電膜10dのうち、切り欠き部7から露出している部分は、以後、「電極取り出し部8」という。ボトム透明プレート5の上面は、培養する細胞と接触する細胞接触面であるため、ボトム透明プレート5の上面の透明導電膜10dに電圧を印加することで、細胞に電気刺激を与えることができる。なお、透明導電膜10dは、平滑な膜であってもよいし、凹凸形状を有する膜であってもよい。透明導電膜10dが凹凸形状を有する場合には、細胞の足場となるため、細胞が付着しやくすくなる場合がある。   Also, as shown in FIG. 8, a transparent conductive film 10d as a first transparent conductive film is formed on the upper surface of the bottom transparent plate 5. The transparent conductive film 10d is continuous from the inner side (that is, the cell contact surface) of the cylindrical part 3a and is formed on the outer side of the cylindrical part 3a and exposed from the notch 7 of the flange part 6 (that is, outside the reactor). Is formed. The portion of the transparent conductive film 10d that is exposed from the cutout portion 7 is hereinafter referred to as “electrode extraction portion 8”. Since the upper surface of the bottom transparent plate 5 is a cell contact surface that comes into contact with the cells to be cultured, by applying a voltage to the transparent conductive film 10d on the upper surface of the bottom transparent plate 5, it is possible to apply electrical stimulation to the cells. The transparent conductive film 10d may be a smooth film or a film having an uneven shape. When the transparent conductive film 10d has a concavo-convex shape, it becomes a cell scaffold, and thus the cell may be easily attached.

図9は、ボトム透明プレート5を下側から見た場合の、透明導電膜10bを示す平面図である。   FIG. 9 is a plan view showing the transparent conductive film 10b when the bottom transparent plate 5 is viewed from below.

図8および図9に示すように、ボトム透明プレート5の下側の面(すなわち、細胞非接触面)には、ボトム透明プレート5側から、第2の透明導電膜およびヒータ部としての透明導電膜10b、絶縁層11およびセンサ部としての第3の透明導電膜としての透明導電膜10cが形成されている。   As shown in FIGS. 8 and 9, the bottom transparent plate 5 has a lower surface (that is, a cell non-contact surface), from the bottom transparent plate 5 side, a second transparent conductive film and a transparent conductive as a heater part. A film 10b, an insulating layer 11, and a transparent conductive film 10c as a third transparent conductive film as a sensor portion are formed.

ヒータ部として機能する透明導電膜10bは、膜厚が1000nm以下、好ましくは、500nm以下であるのが好ましい。透明導電膜10bは、透明導電膜10bの層あたりの電気抵抗値が150Ω以下になるように形成される。また、透明導電膜10bは、その一部に溝12を有しているのが好ましい。透明導電膜10bが適切な位置に溝12を有する場合には、透明導電膜10bは、電極からの距離に関わらず、温度分布が均一になる。溝12は、たとえば、幅1mmで互いに対向する2辺の端部から他辺へ向かって延びている。また、溝12は、長手方向の長さが、透明導電膜10bの同方向の長さの約半分程度で、他の溝12とは、交わらないように形成される。溝12は、たとえば、溝12を設ける部分の透明導電膜10bを、レーザ加工等により除去することで形成される。また、透明電極膜10bには、溝12と重ならない位置に、陽極端子13および陰極端子14が設けられる。   The transparent conductive film 10b functioning as a heater part has a film thickness of 1000 nm or less, preferably 500 nm or less. The transparent conductive film 10b is formed so that the electric resistance value per layer of the transparent conductive film 10b is 150Ω or less. The transparent conductive film 10b preferably has a groove 12 in a part thereof. When the transparent conductive film 10b has the groove 12 at an appropriate position, the transparent conductive film 10b has a uniform temperature distribution regardless of the distance from the electrode. The groove 12 has, for example, a width of 1 mm and extends from the ends of the two sides facing each other toward the other side. The groove 12 has a length in the longitudinal direction that is about half of the length in the same direction of the transparent conductive film 10b, and is formed so as not to intersect with the other grooves 12. The groove 12 is formed, for example, by removing the transparent conductive film 10b where the groove 12 is provided by laser processing or the like. The transparent electrode film 10 b is provided with an anode terminal 13 and a cathode terminal 14 at positions that do not overlap with the grooves 12.

絶縁層11は、透明導電膜10bと、透明導電膜10cとが電気的に導通しないように設けられる絶縁のための層である。絶縁層11は、たとえば、二酸化ケイ素(SiO)あるいは酸化アルミニウム(Al)等の絶縁性の材料であって、耐熱性の高い材料から主に構成される。また、絶縁層11は、十分に絶縁できる膜厚で形成するのが好ましく、たとえば、絶縁層11は、膜厚が2000nmにて形成される。なお、本明細書において、「絶縁性」とは、実質的に電気を通さないことを意味し、たとえば、1.0×10−6S/m以下の電気伝導率を有するものを指す。 The insulating layer 11 is a layer for insulation provided so that the transparent conductive film 10b and the transparent conductive film 10c are not electrically connected. The insulating layer 11 is an insulating material such as silicon dioxide (SiO 2 ) or aluminum oxide (Al 2 O 3 ), and is mainly composed of a material having high heat resistance. The insulating layer 11 is preferably formed with a thickness that can be sufficiently insulated. For example, the insulating layer 11 is formed with a thickness of 2000 nm. In the present specification, “insulating” means substantially not conducting electricity, for example, having an electric conductivity of 1.0 × 10 −6 S / m or less.

図10は、ボトム透明プレート5を下側から見た場合の、透明導電膜10bと透明導電膜10cとを重ねて示す平面図である。なお、図10では、絶縁層11の図示を省略している。   FIG. 10 is a plan view showing the transparent conductive film 10b and the transparent conductive film 10c in an overlapping manner when the bottom transparent plate 5 is viewed from the lower side. In addition, illustration of the insulating layer 11 is abbreviate | omitted in FIG.

透明導電膜10bは、その下面側に、センサ部としての透明導電膜10cを絶縁層11を介して備える。透明導電膜10cは、膜厚が18〜80nm、特に好ましくは、膜厚が18〜50nm以下であるのが好ましい。透明導電膜10cの膜厚が18nm以上の場合には、均一な膜の成膜が容易である。透明導電膜10cの膜厚が80nm以下である場合には、透明導電膜10cのシートあたりの電気抵抗値は、10kΩ以上となる。透明導電膜10cの電気抵抗値が10kΩ以上の場合には、透明導電膜10cに流れる電流の大きさが、温度変化により測定できる程度に変化できることから、透明導電膜10cは、センサとして機能できる。また、透明導電膜10cの膜厚が80nm以下の場合、環境温度に応じた電気抵抗値の変化率が十分に大きいため、透明導電膜10cは、検出感度に優れたセンサ部となる。特に、透明導電膜10cの膜厚が50nm以下のセンサ部は、環境温度に応じた電気抵抗値の変化率が10%以上であるため、検出感度により優れている。   The transparent conductive film 10b includes a transparent conductive film 10c as a sensor part on the lower surface side through an insulating layer 11. The transparent conductive film 10c has a film thickness of 18 to 80 nm, and particularly preferably a film thickness of 18 to 50 nm or less. When the film thickness of the transparent conductive film 10c is 18 nm or more, it is easy to form a uniform film. When the film thickness of the transparent conductive film 10c is 80 nm or less, the electrical resistance value per sheet of the transparent conductive film 10c is 10 kΩ or more. When the electrical resistance value of the transparent conductive film 10c is 10 kΩ or more, the magnitude of the current flowing through the transparent conductive film 10c can be changed to a level that can be measured by a temperature change. Therefore, the transparent conductive film 10c can function as a sensor. Moreover, when the film thickness of the transparent conductive film 10c is 80 nm or less, since the rate of change of the electrical resistance value according to the environmental temperature is sufficiently large, the transparent conductive film 10c becomes a sensor unit with excellent detection sensitivity. In particular, a sensor part having a film thickness of 50 nm or less of the transparent conductive film 10c is more excellent in detection sensitivity because the change rate of the electric resistance value according to the environmental temperature is 10% or more.

センサ部として機能する透明導電膜10cは、たとえば、幅1mmで、全長が10.8mmになるように形成される。具体的には、幅1mmで長さ(図10のSL2)が20mmの透明導電膜を6本平行に設け、それらを蛇腹状になるように接続することで、透明導電膜10cを構成することができる。透明導電膜10cの回路全長を長くし、かつそれを蛇腹状に配置することで、検出できる領域の面積を増加できる。また、その透明導電膜10cの端部は、長さ(図10のSL3,SL4)が9mmの陽極用端子および陰極用端子に接続されている。透明導電膜10cの蛇腹形状部分は、ヒータ部としての透明導電膜10bの発熱部分に配置されている。したがって、ヒータ部の温度に応じて、透明導電膜10cの抵抗値が変化するため、透明導電膜10cにある一定の電圧を印加した場合に流れる電流量を検出することで、透明導電膜10bの温度変化を検出することができる。すなわち、上述の膜厚および形状を有する透明導電膜10cとすることで、透明導電膜10cのセンサ機能を最適化できる。   The transparent conductive film 10c functioning as the sensor unit is formed to have a width of 1 mm and a total length of 10.8 mm, for example. Specifically, the transparent conductive film 10c is configured by providing six transparent conductive films having a width of 1 mm and a length (SL2 in FIG. 10) of 20 mm in parallel and connecting them in a bellows shape. Can do. By increasing the overall circuit length of the transparent conductive film 10c and arranging it in a bellows shape, the area of the detectable region can be increased. Moreover, the edge part of the transparent conductive film 10c is connected to the terminal for anodes and the terminal for cathodes whose length (SL3, SL4 of FIG. 10) is 9 mm. The bellows-shaped part of the transparent conductive film 10c is arranged in the heat generating part of the transparent conductive film 10b as a heater part. Therefore, since the resistance value of the transparent conductive film 10c changes according to the temperature of the heater part, by detecting the amount of current that flows when a certain voltage is applied to the transparent conductive film 10c, A temperature change can be detected. That is, by using the transparent conductive film 10c having the above-described film thickness and shape, the sensor function of the transparent conductive film 10c can be optimized.

また、上述のような培養リアクタ1では、透明導電膜10cへの電圧の印加が容易となる。透明導電膜10cのうち、切り欠き部7から露出している電極取り出し部8から、電圧を印加できるからである。したがって、蓋部2に貫通孔を設けて、あるいは、筒部3aと鍔部3bとの間に貫通孔を設けて、収納部内方へ電極を挿入する必要がない。このように、培養容器の蓋に貫通孔を設ける必要が無いことから、作業性がよくコンタミネーションを起こしにくい。また、透明導電膜10cを収納部内側から外側まで延出させることで、電極が培養物に接触することがなく、収納部内方へプローブ電極を挿入した場合と比較して、電極を構成する物質からの溶出物等がないため、不純物の混入を少なくすることができる。   Moreover, in the culture reactor 1 as described above, it is easy to apply a voltage to the transparent conductive film 10c. This is because a voltage can be applied from the electrode extraction portion 8 exposed from the cutout portion 7 in the transparent conductive film 10c. Therefore, it is not necessary to provide a through hole in the lid portion 2 or provide a through hole between the cylindrical portion 3a and the flange portion 3b to insert the electrode into the storage portion. Thus, since there is no need to provide a through-hole in the lid of the culture vessel, workability is good and contamination is unlikely to occur. In addition, by extending the transparent conductive film 10c from the inside to the outside of the storage unit, the electrode does not contact the culture, and the substance constituting the electrode is compared with the case where the probe electrode is inserted into the storage unit. Since there is no eluate from the impurities, contamination of impurities can be reduced.

上述のような培養リアクタ1では、透明導電膜10cを用いてより高い検出感度で温度を検出できる。なぜなら、センサ部としての透明導電膜10cの抵抗値を向上させるために、上面から見た透明導電膜10cの平面形状を蛇腹状とするだけでなく、膜厚を80nm以下としているからである。かかる構造の透明導電膜10cは、温度に応じた電気抵抗値の変化率が10%以上となり、検出感度に優れたセンサ部となる。また、センサ部にて検出した温度に応じて、ヒータ部の発熱量を調節するような制御部を用いてもよい。また、センサ部としての透明導電膜10cとヒータ部としての透明導電膜10bとが、絶縁層のみを介して隣接するため、温度の検出が容易である。さらに、透明導電膜10bは、ボトム透明プレート5のみを介して培養中の細胞と隣接するため、細胞を効率よく加熱できる。   In the culture reactor 1 as described above, the temperature can be detected with higher detection sensitivity using the transparent conductive film 10c. This is because, in order to improve the resistance value of the transparent conductive film 10c as the sensor unit, the planar shape of the transparent conductive film 10c as viewed from above is not only bellows but also the film thickness is 80 nm or less. The transparent conductive film 10c having such a structure has a change rate of the electric resistance value corresponding to the temperature of 10% or more, and becomes a sensor unit having excellent detection sensitivity. Moreover, you may use the control part which adjusts the emitted-heat amount of a heater part according to the temperature detected with the sensor part. Moreover, since the transparent conductive film 10c as a sensor part and the transparent conductive film 10b as a heater part adjoin only through an insulating layer, temperature detection is easy. Furthermore, since the transparent conductive film 10b is adjacent to the cells in culture only through the bottom transparent plate 5, the cells can be efficiently heated.

また、上述のような培養リアクタ1では、ヒータ部としての透明導電膜10bに、溝12を設けたことで、場所によらず均一に加熱できる。特に、透明導電膜10bは、ボトム透明プレート5を介して細胞接触面に隣接していることから、より温度分布がより均一なヒータ部であるのが好ましい。   Moreover, in the culture reactor 1 as described above, the groove 12 is provided in the transparent conductive film 10b as the heater portion, so that it can be heated uniformly regardless of the place. In particular, since the transparent conductive film 10b is adjacent to the cell contact surface via the bottom transparent plate 5, it is preferable that the heater portion has a more uniform temperature distribution.

(培養リアクタ用治具)
次に、本実施の形態に係る培養リアクタ用治具20について説明する。図11は、本実施の形態に係る培養リアクタ1を培養リアクタ用治具20に固定し、倒立顕微鏡により観察する場合の断面図である。
(Culture reactor jig)
Next, the culture reactor jig 20 according to the present embodiment will be described. FIG. 11 is a cross-sectional view when the culture reactor 1 according to the present embodiment is fixed to the culture reactor jig 20 and observed with an inverted microscope.

図12は、本実施の形態に係る培養リアクタ用治具20を示す斜視図である。図13は、図12の培養リアクタ用治具20に培養リアクタ1を載置した状態を示す斜視図である。図14は、図12の培養リアクタ用治具20に培養リアクタ1を固定し、電極等を取り付けた状態を示す斜視図である。なお、図12においては、見易さのため、後述のプローブ電極25およびそのプローブ電極25を保持するための部材の図示を省略している。   FIG. 12 is a perspective view showing a culture reactor jig 20 according to the present embodiment. FIG. 13 is a perspective view showing a state in which the culture reactor 1 is placed on the culture reactor jig 20 of FIG. FIG. 14 is a perspective view showing a state in which the culture reactor 1 is fixed to the culture reactor jig 20 of FIG. In FIG. 12, illustration of a probe electrode 25 (to be described later) and a member for holding the probe electrode 25 are omitted for ease of viewing.

培養リアクタ用治具20は、培養リアクタ1を載置するための台座21を有する。台座21は、皿部3の下側の面と接触する面である。台座21は、培養リアクタ1を側面側から固定するための固定手段として機能する固定ホルダ22を有する。固定ホルダ22は、培養リアクタ1を挟み込む方向に移動できるのが好ましい。   The culture reactor jig 20 has a base 21 on which the culture reactor 1 is placed. The pedestal 21 is a surface that comes into contact with the lower surface of the dish portion 3. The pedestal 21 has a fixing holder 22 that functions as a fixing means for fixing the culture reactor 1 from the side surface side. The fixed holder 22 is preferably movable in a direction in which the culture reactor 1 is sandwiched.

培養リアクタ用治具20は、透明導電膜10に給電または電流を検出するための電極として、センサ部用電極24、プローブ電極25,25、電極26,26およびヒータ部用電極27,27等を有する。センサ部用電極24およびヒータ部用電極27,27は、台座21の上側の面に設けられている。そのため、培養リアクタ1を台座21に所定の向きで載置した場合には、透明導電膜10cの陽極用電極および陰極用電極にセンサ用電極24が電気的に接続される。同様に、培養リアクタ1を台座21に所定の向きで載置した場合には、陽極端子13および陰極端子14にヒータ部用電極27,27が電気的に接続される。したがって、台座21の所定の場所に培養リアクタ1を固定することで、センサ部用電極24を介して透明導電膜10cに流れる電流値を検出できることに加え、ヒータ部用電極27,27を介して透明導電膜10bに電圧を印加できる。なお、台座21または固定ホルダ22には、所定の向きでのみ培養リアクタ1を載置できるように、ガイド溝等が設けられているのが好ましい。   The culture reactor jig 20 includes a sensor electrode 24, probe electrodes 25 and 25, electrodes 26 and 26, heater electrodes 27 and 27, and the like as electrodes for supplying power to the transparent conductive film 10 or detecting current. Have. The sensor part electrode 24 and the heater part electrodes 27, 27 are provided on the upper surface of the base 21. Therefore, when the culture reactor 1 is placed on the pedestal 21 in a predetermined direction, the sensor electrode 24 is electrically connected to the anode electrode and the cathode electrode of the transparent conductive film 10c. Similarly, when the culture reactor 1 is placed on the pedestal 21 in a predetermined direction, the heater electrodes 27 and 27 are electrically connected to the anode terminal 13 and the cathode terminal 14. Therefore, by fixing the culture reactor 1 at a predetermined location on the pedestal 21, it is possible to detect the value of the current flowing through the transparent conductive film 10 c via the sensor electrode 24, and via the heater electrodes 27 and 27. A voltage can be applied to the transparent conductive film 10b. The pedestal 21 or the fixed holder 22 is preferably provided with a guide groove or the like so that the culture reactor 1 can be placed only in a predetermined direction.

また、プローブ電極25,25は、電極取り出し部8に電気的に接続し、透明導電膜10dに電圧を印加するために設けられている。なお、プローブ電極25,25は、電圧を印加するためではなく、電流を流すため、あるいは、電流を検出するための電極であってもよい。また、電極26,26は、蓋部2に設けられた透明導電膜10aに給電するために設けられている。したがって、培養リアクタ1を固定ホルダ22等により台座21に載置した後、電極取り出し部にプローブ電極25,25を接続し、蓋部2に設けられた透明導電膜10aに電極26,26をそれぞれ接続できる。   The probe electrodes 25, 25 are provided to electrically connect to the electrode extraction portion 8 and apply a voltage to the transparent conductive film 10d. Note that the probe electrodes 25 and 25 may be electrodes for flowing a current or detecting a current, not for applying a voltage. In addition, the electrodes 26 and 26 are provided to supply power to the transparent conductive film 10 a provided on the lid 2. Therefore, after placing the culture reactor 1 on the pedestal 21 with the fixed holder 22 or the like, the probe electrodes 25 and 25 are connected to the electrode take-out portion, and the electrodes 26 and 26 are respectively attached to the transparent conductive film 10a provided on the lid portion 2. Can connect.

台座部21のうち、開口部と重なる領域には、透光部としての貫通孔28が設けられている。したがって、培養リアクタ用治具20の内部に設けられた照光用部材からの光は、貫通孔28および開口部を抜けて、培養リアクタ1の内部の培養中の細胞等を照光できる。   A through hole 28 serving as a translucent portion is provided in a region of the pedestal portion 21 that overlaps the opening. Therefore, the light from the illumination member provided inside the culture reactor jig 20 can illuminate the cells being cultured inside the culture reactor 1 through the through hole 28 and the opening.

図15は、培養リアクタ1で細胞等を培養するためのシステム概略を示すブロック図である。   FIG. 15 is a block diagram showing an outline of a system for culturing cells and the like in the culture reactor 1.

培養リアクタ用治具20は、たとえば、以下のように用いられる。まず、培養リアクタ1を固定ホルダ22により固定する。それを倒立顕微鏡30の対物レンズ真上の架台上に配置する。次に電極を電源(付図示)につなぎ、炭酸ガス供給ユニット31から、チューブ32を通じてコントローラ33へ炭酸ガスを供給する。コントローラ33では、培養に適した濃度をセンシングして、そのセンシング値を培養に適する濃度(たとえば、約5%)とする様に炭酸ガス供給ユニット32で微調整を行い、チューブ32を通じて培養リアクタ1の収容部内へ炭酸ガスを供給する。灌流に使用する方法も同様で、循環させる灌流ユニット装置34を用いて実施する。   The culture reactor jig 20 is used as follows, for example. First, the culture reactor 1 is fixed by the fixed holder 22. It is placed on a frame directly above the objective lens of the inverted microscope 30. Next, the electrode is connected to a power source (illustrated), and carbon dioxide is supplied from the carbon dioxide supply unit 31 to the controller 33 through the tube 32. The controller 33 senses a concentration suitable for culture, finely adjusts the sensing value to a concentration suitable for culture (for example, about 5%) by the carbon dioxide supply unit 32, and the culture reactor 1 through the tube 32. Carbon dioxide gas is supplied into the storage section. The method used for perfusion is the same, and is performed using the perfusion unit device 34 to be circulated.

上述のような培養リアクタ用治具20を用いることで、培養リアクタ1に接続するための各電極を、簡便に接続することができる。また、培養リアクタ1を固定することができるため、培養した細胞を観察しやすい。また、上述のように培養リアクタ1を用いることで、各ガスボンベからの供給物を、コントローラ33により適宜供給できる。したがって、培養条件別のガスボンベを準備しなくても、チューブ等を経由して供給物をコントローラに供給することで、培養条件を変えることができる。そのため、培養装置の小型化を図ることができると共に、顕微鏡観察する机上のスペースを有効に活用することができる。   By using the culture reactor jig 20 as described above, each electrode for connection to the culture reactor 1 can be easily connected. Moreover, since the culture reactor 1 can be fixed, it is easy to observe the cultured cells. Further, by using the culture reactor 1 as described above, the supply from each gas cylinder can be appropriately supplied by the controller 33. Therefore, without preparing gas cylinders for each culture condition, the culture conditions can be changed by supplying the supply to the controller via a tube or the like. Therefore, it is possible to reduce the size of the culture apparatus and to effectively use the space on the desk for microscopic observation.

(その他の実施の形態)
以上、本発明の培養リアクタ1、および培養リアクタ用装置の各実施の形態について説明したが、本発明は、上述の実施の形態に限定されることなく、種々変形を施して実施可能である。
(Other embodiments)
While the embodiments of the culture reactor 1 and the apparatus for culture reactor of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be implemented with various modifications.

たとえば、本実施の形態においては、センサ部としての透明導電膜10cは、温度を検出するセンサとして機能するものとしたが、センサ部は、温度以外を検出するために用いられてもよい。   For example, in the present embodiment, the transparent conductive film 10c as a sensor unit functions as a sensor for detecting temperature, but the sensor unit may be used for detecting other than temperature.

本実施の形態においては、各部材の寸法を例示したが、例示した寸法に限定されず、また、誤差を含みうるものである。たとえば、培養リアクタ1は、上面から見て1辺が40mmの正方形であって、厚さが15mmとしたが、この数値に限定されない。また、培養リアクタ1は、上から見て平面視が略正方形でなくてもよい。測定する細胞によってこれらの値を適宜変えることができる。しかし、倒立顕微鏡30を用いて効率よく観察を行い、かつ、細胞を培養できる大きさの培養リアクタ1としては、上から見た平面視にて1辺が20〜50mmの正方形と同等の面積を有する形状であるのが好ましい。   In the present embodiment, the dimensions of each member have been illustrated, but the present invention is not limited to the illustrated dimensions, and may include errors. For example, the culture reactor 1 is a square having a side of 40 mm when viewed from the top and has a thickness of 15 mm, but is not limited to this value. Further, the culture reactor 1 does not have to be substantially square when viewed from above. These values can be appropriately changed depending on the cell to be measured. However, the culture reactor 1 having a size capable of efficiently observing using the inverted microscope 30 and capable of culturing cells has an area equivalent to a square having a side of 20 to 50 mm in a plan view seen from above. It is preferable to have a shape.

また、本実施の形態においては、培養リアクタ1は、上から見た平面視にて略正方形であるものとしたが、そのような形態に限らない。たとえば、上側から見た場合の形状が、円形、正方形以外の多角形、楕円等その他どのような形状であってもよい。上側から見て筒部3bの外周が角部を有する場合には、角部に切り欠き部7を設けることで、電極取り出し部8を容易に形成できる。なお、本明細書において「角部」とは、鋭角であるか鈍角であるかを問わず、また、平面あるいは曲面で面取りされていてもよい。また、培養リアクタ1の上側から見た場合の形状が四角形の場合には、培養リアクタ1を横に並べて観察する際に、観察が容易である。また、上側から見た場合の培養リアクタ1の形状が、正多角形の場合には、積み上げて保存する場合等に、積み上げやすいという利点を有する。   Moreover, in this Embodiment, although the culture reactor 1 shall be substantially square by the planar view seen from the top, it is not restricted to such a form. For example, the shape when viewed from above may be any other shape such as a circle, a polygon other than a square, an ellipse, or the like. When the outer periphery of the cylindrical portion 3b has a corner portion when viewed from above, the electrode extraction portion 8 can be easily formed by providing the notch portion 7 at the corner portion. In the present specification, the “corner portion” may be chamfered with a flat surface or a curved surface regardless of whether it is an acute angle or an obtuse angle. In addition, when the shape when viewed from above the culture reactor 1 is a rectangle, observation is easy when the culture reactors 1 are observed side by side. Further, when the shape of the culture reactor 1 when viewed from the upper side is a regular polygon, it has an advantage that it can be easily stacked when it is stacked and stored.

また、本実施の形態においては、電極取り出し部8は、角部に設けられるものとしたが、このような形態に限らない。たとえば、フランジ部6のうち、角部以外に切り欠き部7を設けることで、角部以外の部分に電極取り出し部8を設けることができる。しかし、角部に電極取り出し部8を設けることにより、電極を接触させやすい。   Moreover, in this Embodiment, although the electrode extraction part 8 shall be provided in a corner | angular part, it is not restricted to such a form. For example, by providing the notch portion 7 other than the corner portion in the flange portion 6, the electrode extraction portion 8 can be provided at a portion other than the corner portion. However, by providing the electrode take-out portion 8 at the corner, the electrode can be easily brought into contact.

また、本実施の形態においては、蓋部2は、枠部2aと筒部2bとの間にトップ透明プレート4を挟むものとしたが、このような形態に限らない。トップ透明プレート4を支持できるような蓋部2であればどのような形態であってもよい。しかし、トップ透明プレート4は、薄肉ガラスであり脆いことから、枠部2aと筒部2bとで挟むように固定することで、好適に固定できる。同様に、皿部3は、筒部3aと鍔部3bとの間にボトム透明プレート5を挟むように一体成型されているがこのような形態に限られない。   Moreover, in this Embodiment, although the cover part 2 shall sandwich the top transparent plate 4 between the frame part 2a and the cylinder part 2b, it is not restricted to such a form. Any form may be used as long as the lid 2 can support the top transparent plate 4. However, since the top transparent plate 4 is thin glass and is brittle, it can be suitably fixed by fixing it so as to be sandwiched between the frame portion 2a and the cylindrical portion 2b. Similarly, although the plate part 3 is integrally molded so that the bottom transparent plate 5 may be pinched | interposed between the cylinder part 3a and the collar part 3b, it is not restricted to such a form.

また、本実施の形態においては、蓋部2は、炭酸ガス注入孔7、灌流注入孔8および灌流排出孔9を有しているが、これらは必須ではない。蓋部2は、炭酸ガス注入孔7のみ、または、灌流注入孔8および灌流排出孔9のみを有していてもよいし、炭酸ガス注入孔7、灌流注入孔8および灌流排出孔9すべてを有していなくてもよい。また、蓋部2は、炭酸ガスおよび灌流以外の物質を挿入するための孔を有していてもよい。また、炭酸ガス注入孔7、灌流注入孔8および灌流排出孔9から、チューブ以外のものにより物質を注入してもよい。たとえば、シリンジ等により注入してもよい。   Moreover, in this Embodiment, although the cover part 2 has the carbon dioxide injection hole 7, the perfusion injection hole 8, and the perfusion discharge hole 9, these are not essential. The lid 2 may have only the carbon dioxide injection hole 7 or only the perfusion injection hole 8 and the perfusion discharge hole 9, or all of the carbon dioxide injection hole 7, the perfusion injection hole 8, and the perfusion discharge hole 9. It may not have. Moreover, the cover part 2 may have a hole for inserting a substance other than carbon dioxide and perfusion. Further, the substance may be injected from the carbon dioxide injection hole 7, the perfusion injection hole 8, and the perfusion discharge hole 9 by something other than a tube. For example, you may inject | pour with a syringe etc.

また、上述の実施の形態では、枠部2aおよび鍔部3bは、略正方形形状の開口部を有するものとしたが、このような形態に限らない。たとえば、枠部2aおよび鍔部3bに設けられた開口部は、正方形ではなく、円形あるいは多角形、楕円等様々な形状であってもよい。しかし、枠部2aおよび鍔部3bの開口部を、筒部2bおよび筒部3aの内周と同様の形状とすることで、顕微鏡で観察できる領域をより広く確保できる。   In the above-described embodiment, the frame portion 2a and the flange portion 3b have substantially square openings. However, the present invention is not limited to such a configuration. For example, the openings provided in the frame portion 2a and the flange portion 3b are not square but may be various shapes such as a circle, a polygon, and an ellipse. However, by making the openings of the frame portion 2a and the flange portion 3b the same shape as the inner periphery of the cylindrical portion 2b and the cylindrical portion 3a, a wider area that can be observed with a microscope can be secured.

また、上述の実施の形態は、透明導電膜10a,10b,10c,10dのすべてを有するが、これらの内の一部がなくてもよい。たとえば、結露等が生じない場所で培養リアクタ1を用いる場合には、透明導電膜10aは、必須ではない。細胞に加熱する必要がない場合には、透明導電膜10b,10cを設けなくてもよい。また、透明導電膜10bにより加熱された場合の温度を検出する必要がない場合には、透明導電膜10cを設けなくてもよい。また、透明導電膜10aの上側に、絶縁層を介して、センサ部としての別の透明導電膜10を設けてもよい。あるいは、センサ部としての透明導電膜10は、細胞接触面に設けられてもよい。   Moreover, although the above-mentioned embodiment has all the transparent conductive films 10a, 10b, 10c, and 10d, some of them may not be present. For example, when the culture reactor 1 is used in a place where condensation does not occur, the transparent conductive film 10a is not essential. If the cells do not need to be heated, the transparent conductive films 10b and 10c need not be provided. Further, when it is not necessary to detect the temperature when heated by the transparent conductive film 10b, the transparent conductive film 10c may not be provided. Moreover, you may provide another transparent conductive film 10 as a sensor part on the upper side of the transparent conductive film 10a through an insulating layer. Or the transparent conductive film 10 as a sensor part may be provided in a cell contact surface.

図16は、細胞接触面に設けた場合のセンサ部としての透明導電膜10eを、ボトム透明プレート5の上側から見た場合の平面図である。図17は、透明導電膜10eを、図4のA−A線と同様の線で切断した場合の断面図である。   FIG. 16 is a plan view of the transparent conductive film 10e as a sensor unit provided on the cell contact surface when viewed from the upper side of the bottom transparent plate 5. FIG. FIG. 17 is a cross-sectional view of the transparent conductive film 10e taken along the line AA in FIG.

図16に示すように、細胞接触面にセンサ部としての透明導電膜10eを設けた場合には、透明導電膜10eは、透明導電膜10cと同様に、たとえば、幅1mmで、全長が10.8mm以上になるように形成される。具体的には、幅1mmで長さ(図16のSL2)が20mmの透明導電膜を6本平行に設け、それらを蛇腹状になるように接続することで、構成され得る。また、その透明導電膜10eの2つの末端は、ボトム透明プレート5の辺に沿ってそれぞれ別の電極取り出し部8まで伸びている。図16に示す透明導電膜10eでは、プローブ電極25により電流を測定できる。図16に示す構造を有することで、透明導電膜10eは、細胞接触面に設けられているため、細胞の温度を直接検出できる。したがって、細胞の温度をより正確に測定することが求められている場合には、図16のように透明導電膜10eをボトム透明プレート5の上側に設けるのが好ましい。なお、細胞接触面にセンサ部としての透明導電膜10eを設ける場合には、細胞に電流が流れないように、透明導電膜10eの上側に絶縁層を設けることが好ましい。しかし、培養する細胞が、センサ部として機能させるための電流程度の電気刺激に耐えうる、あるいは電気刺激に対して特段の変化がない場合には、透明導電膜10eの上側に絶縁層を設けなくてもよい。   As shown in FIG. 16, when the transparent conductive film 10e as a sensor part is provided on the cell contact surface, the transparent conductive film 10e has a width of 1 mm and a total length of 10. It is formed to be 8 mm or more. Specifically, it can be configured by providing six transparent conductive films having a width of 1 mm and a length (SL2 in FIG. 16) of 20 mm in parallel and connecting them in a bellows shape. Further, the two ends of the transparent conductive film 10 e extend to different electrode extraction portions 8 along the sides of the bottom transparent plate 5. In the transparent conductive film 10 e shown in FIG. 16, the current can be measured by the probe electrode 25. By having the structure shown in FIG. 16, since the transparent conductive film 10e is provided on the cell contact surface, the cell temperature can be directly detected. Therefore, when it is required to measure the cell temperature more accurately, it is preferable to provide the transparent conductive film 10e on the upper side of the bottom transparent plate 5 as shown in FIG. In addition, when providing the transparent conductive film 10e as a sensor part in a cell contact surface, it is preferable to provide an insulating layer above the transparent conductive film 10e so that an electric current may not flow into a cell. However, if the cells to be cultured can withstand electrical stimulation of the current level for functioning as a sensor unit, or if there is no particular change in response to electrical stimulation, an insulating layer is not provided on the transparent conductive film 10e. May be.

また、透明導電膜10は、筒部3b等に設けられてもよい。しかし、付着性細胞は、一般に、ボトム透明プレート5の上側の面に付着するため、ボトム透明プレート5にヒータ部としての透明導電膜10を設けることで、細胞を直接加熱できるため好ましい。また、電気刺激部としての透明導電膜10は、細胞が付着する面に設けられる必要があることから、通常、ボトム透明プレート5の上側の面に設けられるのが好ましい。また、細胞接触面に、ヒータ部あるいはセンサ部としても機能する透明導電膜を設けてもよい。   Moreover, the transparent conductive film 10 may be provided in the cylinder part 3b etc. However, since the adherent cells generally adhere to the upper surface of the bottom transparent plate 5, it is preferable to provide the bottom transparent plate 5 with the transparent conductive film 10 as a heater portion so that the cells can be directly heated. Moreover, since it is necessary to provide the transparent conductive film 10 as an electric stimulation part in the surface to which a cell adheres, it is preferable to provide in the upper surface of the bottom transparent plate 5 normally. Moreover, you may provide the transparent conductive film which functions also as a heater part or a sensor part in a cell contact surface.

また、本実施の形態においては、細胞接触面に設けられる透明導電膜10aは、電気刺激部として機能するものとしたが、このような形態に限らない。たとえば、透明導電膜10aは、細胞が生じる電気信号を受信するためのセンサ部として機能するものとしてもよい。透明導電膜10aが細胞からの電気信号を受信するためのセンサ部として機能する場合には、個々の領域毎に電気信号を観測できるように透明導電膜10aを分割してもよい。   Moreover, in this Embodiment, although the transparent conductive film 10a provided in a cell contact surface shall function as an electrical stimulation part, it is not restricted to such a form. For example, the transparent conductive film 10a may function as a sensor unit for receiving an electrical signal generated by a cell. When the transparent conductive film 10a functions as a sensor unit for receiving an electric signal from a cell, the transparent conductive film 10a may be divided so that the electric signal can be observed for each region.

また、上述の実施の形態では、培養リアクタ1は、透明な部材から構成されるものとしたが、ここで透明とは、実質的に可視光を透過するものを指し、たとえば、全光線透過率が60%以上、好ましくは80%以上のものを指す。また、本明細書で「透明」とは、無色透明のみならず、上記の全光線透過率である場合には、有色透明であってもよい。また、トップ透明プレート4およびボトム透明プレート5としては、その他の部材よりも透過率が高いものを用いるのがより好ましい。   In the above-described embodiment, the culture reactor 1 is made of a transparent member. Here, transparent refers to a material that substantially transmits visible light, for example, total light transmittance. Of 60% or more, preferably 80% or more. Further, in the present specification, “transparent” is not only colorless and transparent, but may be colored and transparent in the case of the above-described total light transmittance. Moreover, as the top transparent plate 4 and the bottom transparent plate 5, it is more preferable to use a plate having a higher transmittance than other members.

次に、本発明の実施例について説明する。   Next, examples of the present invention will be described.

(ヒータ部の設計)
上から見て一片が40mmの略正方形の培養リアクタを用意した。細胞を培養する際に用いるヒータ部は、通常、培養リアクタ内を約20℃昇温できる能力が要求されている。したがって、縦が2.0cm、横が2.3cmの透明導電膜にて、室温から20℃昇温できるようなヒータ部としての透明導電膜の仕様を計算により設計した。計算結果を表1に示す。
(Heater design)
A substantially square culture reactor having a piece of 40 mm as viewed from above was prepared. The heater used for culturing cells is usually required to have the ability to raise the temperature in the culture reactor by about 20 ° C. Therefore, the specification of the transparent conductive film as a heater part that can be heated from room temperature to 20 ° C. by a transparent conductive film having a length of 2.0 cm and a width of 2.3 cm was designed by calculation. The calculation results are shown in Table 1.

Figure 2012080869
Figure 2012080869

次に、透明導電膜に溝を設けた場合の端子間抵抗値を計算にて求め、それにより消費される電力を計算した結果を表2に示す。   Next, Table 2 shows the result of calculating the inter-terminal resistance value when the groove is provided in the transparent conductive film and calculating the power consumed thereby.

Figure 2012080869
Figure 2012080869

さらに、上昇温度を考慮して抵抗値電圧を入力し、実際の測定値との比較を行った結果を表3に示す。なお、透明導電膜は、加工ロット毎に厚さ等が異なることから、透明導電膜の電気抵抗値の誤差を考慮し、表2の電気抵抗値の80%の値が実際の電気抵抗値になると仮定して補正し、補正後の計算を行った。   Further, Table 3 shows the result of comparison between the resistance value voltage and the actual measurement value in consideration of the rising temperature. Since the thickness of the transparent conductive film differs depending on the processing lot, taking into account the error of the electrical resistance value of the transparent conductive film, the value of 80% of the electrical resistance value in Table 2 is the actual electrical resistance value. Assuming that

Figure 2012080869
Figure 2012080869

上記検討を基に、ヒータ部の設計仕様を決定した。仕様を表4に示す。また、表4の仕様で作製したヒータの電流に対する温度特性を示すグラフを図18に示す。なお、透明導電膜は、真空蒸着装置(BMC−1400、株式会社シンクロン製)にて成膜した。また、透明導電膜中に溝を設けるため、レーザーマイクロカッター(LR−3100FSUV、HOYA株式会社製)を用いて、YAGレーザで溝部分の透明導電膜を除去した。   Based on the above study, the design specifications of the heater were determined. Table 4 shows the specifications. Further, FIG. 18 shows a graph showing the temperature characteristics with respect to the current of the heater manufactured according to the specifications shown in Table 4. In addition, the transparent conductive film was formed into a film with the vacuum evaporation apparatus (BMC-1400, the product made by Shincron Co., Ltd.). Moreover, in order to provide a groove | channel in a transparent conductive film, the transparent conductive film of the groove part was removed with the YAG laser using the laser micro cutter (LR-3100FSUV, the product made by HOYA Corporation).

Figure 2012080869
Figure 2012080869

(センサの設計)
次に、センサの設計について説明する。まず、上述のように作製した、ヒータ部としての透明導電膜に、絶縁層を設けた。絶縁層としては、真空蒸着装置(BMC−1400、株式会社シンクロン製)にて、SiO膜を形成した。次に、形成した絶縁層の上にセンサ部として、ITOからなる透明導電膜を形成した。
(Sensor design)
Next, sensor design will be described. First, the insulating layer was provided in the transparent conductive film as a heater part produced as mentioned above. As the insulating layer, a SiO 2 film was formed using a vacuum deposition apparatus (BMC-1400, manufactured by Shincron Co., Ltd.). Next, a transparent conductive film made of ITO was formed as a sensor part on the formed insulating layer.

ここで、透明導電膜あたりの抵抗値(以後、シート抵抗値という。)が5〜150kΩ/シートの場合、透明導電膜は、センサとして機能できた。したがって、センサ部が温度センサとして機能するためには、測定温度に対して十分な端子間抵抗値の変化があるのが好ましい。本実施例では、端子間抵抗値を10kΩ以上に設定するため、幅が1mm、長さが20mmの層を6本平行に設け、それらを蛇腹状に接続し、総回路長が10.8mmの透明導電膜を形成した。なお、図10において、SL1が20mm、SL2が18mm、SL3が9mm、SL4が9mmとなるように、センサ部としての透明導電膜を形成した。   Here, when the resistance value per transparent conductive film (hereinafter referred to as sheet resistance value) was 5 to 150 kΩ / sheet, the transparent conductive film could function as a sensor. Therefore, in order for the sensor unit to function as a temperature sensor, it is preferable that there is a sufficient change in resistance value between terminals with respect to the measured temperature. In this example, in order to set the resistance value between terminals to 10 kΩ or more, six layers each having a width of 1 mm and a length of 20 mm are provided in parallel, connected in a bellows shape, and the total circuit length is 10.8 mm. A transparent conductive film was formed. In FIG. 10, a transparent conductive film as a sensor portion was formed so that SL1 was 20 mm, SL2 was 18 mm, SL3 was 9 mm, and SL4 was 9 mm.

シート抵抗値が5〜150Ω/シートの場合、透明導電膜の膜厚および端子間抵抗値が、シート抵抗値に応じてどのように変化するかシミュレーションにより計算した。その結果を表5に示す。   When the sheet resistance value was 5 to 150Ω / sheet, the film thickness of the transparent conductive film and the inter-terminal resistance value were calculated by simulation according to the sheet resistance value. The results are shown in Table 5.

Figure 2012080869
Figure 2012080869

また、ヒータ部としての透明導電膜の仕様計算と同様の計算方法で、膜厚の異なる透明導電膜の端子間抵抗値を計算した結果を表6に示す。   Table 6 shows the results of calculating the inter-terminal resistance values of the transparent conductive films having different film thicknesses by the same calculation method as the specification calculation of the transparent conductive film as the heater section.

Figure 2012080869
Figure 2012080869

表6の結果より、膜厚が80nm以下の場合は、端子間抵抗値が10kΩ以上になった。したがって、膜厚が80nm以下の透明導電膜は、センサ部として用いるのに適していることが示されていると言える。   From the results of Table 6, when the film thickness was 80 nm or less, the resistance value between terminals was 10 kΩ or more. Therefore, it can be said that a transparent conductive film having a thickness of 80 nm or less is suitable for use as a sensor portion.

ここで、シート抵抗値が120Ω/シートであって、膜厚が18nmの透明導電膜を実際に作成し、温度に対する端子間抵抗値を、抵抗測定器(デジタルマルチテスターR6552、株式会社アドバンテスト製)を用いて測定した。温度は、サーミスタ温度計(RF−100、Electronic Temperature Instruments Ltd,社製)を用いて測定した。測定結果を表7に示す。   Here, a transparent conductive film having a sheet resistance value of 120Ω / sheet and a film thickness of 18 nm was actually created, and the resistance value between terminals with respect to temperature was measured by a resistance meter (Digital Multitester R6552, manufactured by Advantest Corporation). It measured using. The temperature was measured using a thermistor thermometer (RF-100, manufactured by Electronic Temperature Instruments Ltd.). Table 7 shows the measurement results.

Figure 2012080869
Figure 2012080869

表7のデータに示されるように、シート抵抗値が120Ω/シートであって、膜厚が18nmの透明導電膜では、温度の上昇と端子間抵抗値の上昇とに相関関係がある。また、シート抵抗値が120Ω/シートであって、膜厚が18nmのセンサは、1℃あたりの端子間抵抗値が10%以上変化することから、センサとして十分な検出能を有していた。   As shown in the data in Table 7, in a transparent conductive film having a sheet resistance value of 120Ω / sheet and a film thickness of 18 nm, there is a correlation between an increase in temperature and an increase in resistance value between terminals. In addition, a sensor having a sheet resistance value of 120Ω / sheet and a film thickness of 18 nm had sufficient detection ability as a sensor because the inter-terminal resistance value per 1 ° C. changed by 10% or more.

(比較例)
ここで、23℃におけるシート抵抗値が5Ω以下であって、膜厚を400nmとした透明導電膜を用いて、温度を変化させた場合の端子間抵抗値を測定した。測定結果を表8に示す。
(Comparative example)
Here, the resistance value between terminals when the temperature was changed was measured using a transparent conductive film having a sheet resistance value at 23 ° C. of 5Ω or less and a film thickness of 400 nm. Table 8 shows the measurement results.

Figure 2012080869
Figure 2012080869

表8の結果より、膜厚を400nmとした比較例では、膜厚を18nmとした場合よりも、温度の上昇傾向と端子間抵抗値との間の相関関数が低下していた。また、温度1℃あたりの端子間抵抗値の変化率は、6%であったため、センサ部として用いるには難しかった。   From the results in Table 8, in the comparative example in which the film thickness was 400 nm, the correlation function between the temperature increasing tendency and the inter-terminal resistance value was lower than in the case where the film thickness was 18 nm. Moreover, since the change rate of the resistance value between terminals per 1 degreeC was 6%, it was difficult to use as a sensor part.

本発明は、たとえば、細胞等の培養および観察等に用いることができる。   The present invention can be used, for example, for culturing and observing cells and the like.

1 培養リアクタ
2,2a,2b 蓋部
3,3b 皿部
3a 筒部(皿部の一部)
4 トップ透明プレート(透明プレート、蓋部の一部)
5 ボトム透明プレート(透明プレート、皿部の一部)
6 鍔部(皿部の一部)
7 切り欠き部(皿部の一部)
8 電極取り出し部(透明導電膜、センサ部または電気刺激部の一部)
11 絶縁層
10a,10 透明導電膜(ヒータ部)
10b,10 透明導電膜(ヒータ部,第2の透明導電膜)
10c,10 透明導電膜(センサ部,第3の透明導電膜)
10d,10 透明導電膜(電気刺激部,第1の透明導電膜)


1 Culture Reactor 2, 2a, 2b Lid 3, 3b Dish 3a Tube (Part of Dish)
4 Top transparent plate (transparent plate, part of lid)
5 Bottom transparent plate (transparent plate, part of the pan)
6 Buttocks (part of the plate)
7 Notch (part of plate)
8 Electrode extraction part (transparent conductive film, sensor part or part of electrical stimulation part)
11 Insulating layers 10a, 10 Transparent conductive film (heater part)
10b, 10 transparent conductive film (heater part, second transparent conductive film)
10c, 10 transparent conductive film (sensor part, third transparent conductive film)
10d, 10 transparent conductive film (electric stimulation part, first transparent conductive film)


Claims (11)

内部に細胞を培養するための収容部と、
上記収容部内の細胞接触面の少なくとも一部を構成する透明プレートと、
上記透明プレートの細胞接触面側には、上記収容部の内側から外側に連続して設けられる第1の透明導電膜とを有することを特徴とする培養リアクタ。
A container for culturing cells inside,
A transparent plate constituting at least a part of the cell contact surface in the accommodating portion;
A culture reactor comprising a first transparent conductive film provided continuously from the inside to the outside of the housing portion on the cell contact surface side of the transparent plate.
請求項1に記載の培養リアクタにおいて、
前記第1の透明導電膜のうち、前記収容部外に延出する部分は、電極取出し端子部を構成することを特徴とする培養リアクタ。
The culture reactor according to claim 1,
A portion of the first transparent conductive film that extends outside the accommodating portion constitutes an electrode lead-out terminal portion.
請求項1または請求項2に記載の培養リアクタにおいて、
前記第1の透明導電膜は、センサ部、電気刺激部またはヒータ部を構成することを特徴とする培養リアクタ。
In the culture reactor according to claim 1 or 2,
The culture reactor according to claim 1, wherein the first transparent conductive film constitutes a sensor unit, an electrical stimulation unit, or a heater unit.
請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の培養リアクタにおいて、
前記収容部は、筒部と鍔部とを接合して成り、
前記第1の透明導電膜は、上記筒部の内部および外部に連続する同一平面上に形成されていることを特徴とする培養リアクタ。
In the culture reactor according to any one of claims 1 to 3,
The accommodating portion is formed by joining a cylindrical portion and a collar portion,
The culture reactor according to claim 1, wherein the first transparent conductive film is formed on the same plane continuous to the inside and the outside of the cylindrical portion.
請求項4に記載の培養リアクタにおいて、
前記筒部の外周は、当該筒部の軸方向に見た場合に外側へ突出する角部を有し、
前記第1の透明導電膜のうち前記収容部外に延出する部分は、前記角部から突出していることを特徴とする培養リアクタ。
The culture reactor according to claim 4,
The outer periphery of the cylindrical portion has a corner portion that protrudes outward when viewed in the axial direction of the cylindrical portion,
A portion of the first transparent conductive film that extends outside the accommodating portion protrudes from the corner portion.
請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の培養リアクタにおいて、
前記透明プレートの前記第1の透明導電膜設置面の逆側に、第2の透明導電膜および第3の透明導電膜のうち少なくとも1層を有し、
上記第2の透明導電膜および上記第3の透明導電膜の両方を有する場合には、当該第2の透明導電膜および当該第3の透明導電膜が絶縁層を介して積層されていることを特徴とする培養リアクタ。
The culture reactor according to any one of claims 1 to 5,
On the opposite side of the first transparent conductive film installation surface of the transparent plate, it has at least one layer of the second transparent conductive film and the third transparent conductive film,
In the case where both the second transparent conductive film and the third transparent conductive film are provided, the second transparent conductive film and the third transparent conductive film are laminated via an insulating layer. Feature culture reactor.
請求項6に記載の培養リアクタにおいて、
第1の透明導電膜、第2の透明導電膜および第3の透明導電膜の少なくとも1つの膜厚が80nm以下であることを特徴とする培養リアクタ。
The culture reactor according to claim 6,
A culture reactor, wherein the thickness of at least one of the first transparent conductive film, the second transparent conductive film, and the third transparent conductive film is 80 nm or less.
請求項6または請求項7に記載の培養リアクタにおいて、
前記第1の透明導電膜は、センサ部又は電気刺激部を構成し、
前記第2の透明導電膜および前記第3の透明導電膜は、それぞれヒータ部またはセンサ部を構成することを特徴とする培養リアクタ。
In the culture reactor according to claim 6 or 7,
The first transparent conductive film constitutes a sensor part or an electrical stimulation part,
The culture reactor according to claim 2, wherein the second transparent conductive film and the third transparent conductive film constitute a heater part or a sensor part, respectively.
請求項6から請求項8のいずれか1項に記載の培養リアクタにおいて、
前記第2の透明導電膜および前記第3の透明導電膜のうち少なくとも1方は、膜厚が500nm以下であることを特徴とする培養リアクタ。
In the culture reactor according to any one of claims 6 to 8,
At least one of the second transparent conductive film and the third transparent conductive film has a film thickness of 500 nm or less.
請求項6から請求項9のいずれか1項に記載の培養リアクタであって、
前記第1の透明導電膜は、前記電気刺激部または前記センサ部を構成すると共に、その膜厚が1000nm以下であり、
前記第2の透明導電膜は、前記ヒータ部を構成すると共に、その膜厚が500nm以下であり、
前記第3の透明導電膜は、温度を測定するための前記センサ部を構成すると共に、その膜厚が80nm以下であることを特徴とする培養リアクタ。
A culture reactor according to any one of claims 6 to 9,
The first transparent conductive film constitutes the electrical stimulation part or the sensor part, and has a film thickness of 1000 nm or less,
The second transparent conductive film constitutes the heater part and has a film thickness of 500 nm or less,
The third transparent conductive film constitutes the sensor unit for measuring temperature and has a film thickness of 80 nm or less.
内部に細胞を培養するための収容部と、
上記収容部内の細胞接触面の少なくとも一部を構成する透明プレートと、
上記透明プレートの細胞接触面側には、上記収容部の内側から外側に連続して設けられる透明導電膜とを有する培養リアクタを固定するための培養リアクタ用治具であって、
上記培養リアクタを固定するための固定手段と、
上記透明導電膜に給電するため、または電流を検出するための電極と、
上記透明プレートと重なる領域に光を照射するための透光部とを有する培養リアクタ用治具。

A container for culturing cells inside,
A transparent plate constituting at least a part of the cell contact surface in the accommodating portion;
On the cell contact surface side of the transparent plate is a culture reactor jig for fixing a culture reactor having a transparent conductive film continuously provided from the inside to the outside of the housing part,
Fixing means for fixing the culture reactor;
An electrode for supplying power to the transparent conductive film or for detecting a current;
A culture reactor jig having a light transmitting portion for irradiating light to a region overlapping with the transparent plate.

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