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JP2012072440A - Electroless plating method - Google Patents

Electroless plating method Download PDF

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JP2012072440A
JP2012072440A JP2010218073A JP2010218073A JP2012072440A JP 2012072440 A JP2012072440 A JP 2012072440A JP 2010218073 A JP2010218073 A JP 2010218073A JP 2010218073 A JP2010218073 A JP 2010218073A JP 2012072440 A JP2012072440 A JP 2012072440A
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JP
Japan
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plating
metal
solution
electroless plating
plated
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Pending
Application number
JP2010218073A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideki Hiraoka
秀樹 平岡
Shinya Kanbe
慎哉 神戸
Yoji Horie
洋慈 堀江
Hideo Honma
英夫 本間
Mitsuhiro Watanabe
充広 渡辺
Yuichi Saito
裕一 齋藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toagosei Co Ltd
Kanto Gakuin University Surface Engineering Research Institute
Original Assignee
Toagosei Co Ltd
Kanto Gakuin University Surface Engineering Research Institute
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Filing date
Publication date
Application filed by Toagosei Co Ltd, Kanto Gakuin University Surface Engineering Research Institute filed Critical Toagosei Co Ltd
Priority to JP2010218073A priority Critical patent/JP2012072440A/en
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Abstract

【課題】無電解めっき方法において、パラジウム等の貴金属を使用することなく、またクロム酸等の有害な薬剤を使用せずにめっきと被めっき物間の良好な密着性を確保でき、かつ、めっき液を繰り返し使用することができる無電解めっき方法を提供すること。
【解決手段】被めっき物の表面上に、めっき金属の金属イオンを還元する能力を有する有機残基を側鎖に含有するポリマーを塗設する工程(1)と、前記ポリマーが塗設された被めっき物の表面上に、前記金属イオンを含みこの金属イオンを還元しうる還元剤を含まない溶液中において、前記金属イオンの部分還元金属酸化物を析出させる工程(2)と、前記金属イオンを還元しうる還元剤を含む溶液中において、前記部分還元金属酸化物を自己触媒性を有するめっき金属に還元する工程(3)と、被めっき物の表面上に、無電解めっき液中においてめっき金属の被膜を形成する工程(4)と、を含む無電解めっき方法。
【選択図】 なし
In an electroless plating method, good adhesion between plating and an object to be plated can be secured without using noble metals such as palladium and without using harmful agents such as chromic acid, and plating. To provide an electroless plating method capable of repeatedly using a liquid.
A step (1) of coating a polymer containing an organic residue in a side chain having an ability to reduce metal ions of a plating metal on the surface of an object to be plated, and the polymer is coated. A step (2) of depositing a partially reduced metal oxide of the metal ion in a solution containing the metal ion and not containing a reducing agent capable of reducing the metal ion on the surface of the object to be plated; A step (3) of reducing the partially reduced metal oxide to a plating metal having autocatalytic properties in a solution containing a reducing agent capable of reducing metal, and plating in an electroless plating solution on the surface of the object to be plated And a step (4) of forming a metal film.
[Selection figure] None

Description

本発明は、無電解めっき方法に関する。当該無電解めっき方法は電子回路用、装飾用などの無電解銅めっき方法として好適なものである。   The present invention relates to an electroless plating method. The electroless plating method is suitable as an electroless copper plating method for electronic circuits and decorations.

無電解めっき技術は、プラスチックスやセラミックスなど電気伝導性を有しない物体の表面にもめっき被膜を形成する方法として広く用いられている。電子材料分野では配線板への多層配線を行う際に、層間の接続を行うためのスルーホールやビアホールに導電性を付与するためのめっき技術として、不可欠な技術となっている。また、電子機器等から発生する電磁波を遮蔽する目的で、プラスチックなどで成型された電子機器の筐体の内面などにも無電解めっきが使用されている。さらに、プラスチックのように成形性が優れた材料へめっきを行えば複雑な形状の成型物に対して金属光沢を有する外観を付与することができ、装飾用途などに広く利用されている。さらに、自動車等の様々な工業製品において、従来は金属を使用していた部品が、軽量化、低コスト化するなどの目的でプラスチックに置き換えられており、その際に金属のような外観を付与して高級感を与えるなどの目的で無電解めっきが行われている。   The electroless plating technique is widely used as a method for forming a plating film on the surface of an object having no electrical conductivity such as plastics and ceramics. In the field of electronic materials, when performing multilayer wiring to a wiring board, it is an indispensable technique as a plating technique for imparting conductivity to through holes and via holes for connecting between layers. Further, for the purpose of shielding electromagnetic waves generated from electronic devices and the like, electroless plating is also used on the inner surface of the case of electronic devices molded of plastic or the like. Furthermore, if a material having excellent moldability such as plastic is plated, an appearance having a metallic luster can be imparted to a molded product having a complicated shape, and it is widely used for decorative purposes. Furthermore, in various industrial products such as automobiles, parts that previously used metal have been replaced with plastics for the purpose of reducing weight and cost, giving a metal-like appearance. Electroless plating is performed for the purpose of giving a high-class feeling.

しかしながら、従来から広く行われてきた無電解めっき技術は、めっき被膜を形成したい物(被めっき物)の表面に、無電解めっき反応を促進する触媒としてパラジウムなどの貴金属微粒子を吸着させる必要があった。その方法としては被めっき物をスズ−パラジウムコロイド分散液に浸漬してコロイドを吸着させ、続いてスズを溶解除去して表面にパラジウム微粒子が付着した状態とする方法や、被めっき物をパラジウムイオン含有溶液に浸し、続いて還元処理によりパラジウムを析出させる方法が行われている。しかしながら、パラジウムは回路基板を製造する際に使用するエッチング液によって溶解除去されにくいため配線間に残存しやすい。このため、回路を高密度化するために、配線間隔を狭くすると、残存したパラジウムにより絶縁不良が発生するという問題があった。さらに、パラジウムは希少な金属であるためコスト的な問題や安定供給に不安がある。このため、パラジウムなどの貴金属触媒を使わない無電解めっき方法が望まれていた。   However, electroless plating technology that has been widely used in the past requires adsorption of noble metal fine particles such as palladium as a catalyst for accelerating the electroless plating reaction on the surface of an object for which a plating film is desired to be formed (to-be-plated object). It was. As the method, the object to be plated is immersed in a tin-palladium colloidal dispersion to adsorb the colloid, and then the tin is dissolved and removed so that the palladium fine particles adhere to the surface. A method of immersing in a containing solution and subsequently depositing palladium by a reduction treatment is performed. However, since palladium is difficult to be dissolved and removed by the etching solution used when manufacturing the circuit board, it tends to remain between the wirings. For this reason, if the wiring interval is narrowed in order to increase the density of the circuit, there is a problem that insulation failure occurs due to the remaining palladium. Furthermore, since palladium is a rare metal, there are concerns about cost problems and stable supply. Therefore, an electroless plating method that does not use a noble metal catalyst such as palladium has been desired.

また、プラスチック表面へ無電解めっきを行う際は、クロムやマンガンを含む酸化性の液でプラスチック表面を荒らし、密着性を高める工程が必要で、この工程で排出される廃液は有害な金属を含むため、作業環境面や廃棄物処理の観点で問題があった。   Also, when electroless plating is performed on the plastic surface, a process is required to roughen the surface of the plastic with an oxidizing liquid containing chromium and manganese to improve adhesion, and the waste liquid discharged in this process contains harmful metals. Therefore, there were problems in terms of work environment and waste disposal.

これらの問題に対し、特許文献1においてパラジウムの代わりに塩化第二銅(CuCl2)と塩化第一スズ(SnCl2)を含む溶液に被めっき物を浸漬した後に、還元剤を含む溶液に浸漬して、銅を還元して触媒核を形成する方法が提案されている。この方法は、パラジウムの代わりに銅を触媒として付着させるため、配線基板を作成する際に触媒核が容易に溶解除去でき、絶縁信頼性が向上する。さらに貴金属を使用しないので低コスト化が可能である。 For these problems, in Patent Document 1, after immersing an object to be plated in a solution containing cupric chloride (CuCl 2 ) and stannous chloride (SnCl 2 ) instead of palladium, the substrate is immersed in a solution containing a reducing agent. Thus, a method of reducing copper to form a catalyst nucleus has been proposed. In this method, since copper is attached instead of palladium as a catalyst, the catalyst nucleus can be easily dissolved and removed when the wiring board is formed, and the insulation reliability is improved. Further, since no precious metal is used, the cost can be reduced.

パラジウムを使用しない無電解めっき方法としては、特許文献2において開示された方法及び特許文献3や非特許文献1によって開示された方法もある。これらの方法は、表面を酸化性の液で荒らす代わりにめっきや被めっき物との密着性が優れた材料をコーティングしている。これらの方法では、コーティングする材料としてポリマーなど被めっき物に対して密着性に優れるものを選択することで、クロムやマンガンを含む酸化性の液でプラスチック表面を荒らす必要がなくなるというメリットがある。   Examples of the electroless plating method that does not use palladium include the method disclosed in Patent Document 2 and the method disclosed in Patent Document 3 and Non-Patent Document 1. In these methods, instead of roughening the surface with an oxidizing liquid, a material having excellent adhesion to plating or an object to be plated is coated. In these methods, there is an advantage that it is not necessary to roughen the plastic surface with an oxidizing liquid containing chromium or manganese by selecting a coating material such as a polymer having excellent adhesion to the object to be plated.

この内、特許文献2の方法では、陽イオン交換樹脂を粉砕して得た粉末をアクリル樹脂などと混合した組成物を被めっき物に塗布してから、銅イオンなどの金属イオンを含有する溶液に浸漬させることで、陽イオン交換樹脂中のスルホン酸基などに陽イオンとして保持させ、その後に水素化ホウ素ナトリウムやジメチルアミノボラン等の還元剤で還元し、触媒核としての金属銅を析出させる工程を経て、最後に通常の無電解めっき液を用いて無電解めっきを析出させる。   Among these, in the method of Patent Document 2, a composition containing a powder obtained by pulverizing a cation exchange resin mixed with an acrylic resin or the like is applied to an object to be plated, and then a solution containing metal ions such as copper ions. So that the sulfonic acid group in the cation exchange resin can be held as a cation, and then reduced with a reducing agent such as sodium borohydride or dimethylaminoborane to deposit metal copper as a catalyst nucleus. Through the process, finally, electroless plating is deposited using a normal electroless plating solution.

一方、特許文献3や非特許文献1において、被めっき物へ塗布するポリマーは、本発明で用いているポリマーと同様に、カテコール骨格を有するドーパミンを主原料としたポリマーである。特許文献3や非特許文献1では、ムール貝等が海中で様々な物体に体を固定するのに用いる接着性のたんぱく質にドーパミンが多く含まれることに着目し、ドーパミンを含むポリマーが様々な物質に密着性の良いコーティングをすることが可能であるとしている。これらの文献ではコーティングしたポリマーの表面に無電解めっきが可能であることが開示されている。その方法はジメチルアミノボランと塩化銅(II)(CuCl2)と水酸化ナトリウムを溶解しためっき液に、当該ポリマーを塗布した被めっき物を浸漬してめっきを析出させるものである。 On the other hand, in Patent Document 3 and Non-Patent Document 1, the polymer applied to the object to be plated is a polymer mainly composed of dopamine having a catechol skeleton, as in the polymer used in the present invention. In Patent Document 3 and Non-Patent Document 1, paying attention to the fact that mussels and the like contain a large amount of dopamine in the adhesive protein used to fix the body to various objects in the sea, polymers containing dopamine are included in various substances. It is said that it is possible to perform coating with good adhesion. These documents disclose that electroless plating is possible on the surface of the coated polymer. The method is to deposit a plating by immersing the object to be plated coated with the polymer in a plating solution in which dimethylaminoborane, copper (II) chloride (CuCl 2 ) and sodium hydroxide are dissolved.

特開2008−214706号公報JP 2008-214706 A 特開2005−248220号公報JP 2005-248220 A 国際公開第2008/049108号パンフレットInternational Publication No. 2008/049108 Pamphlet

Haeshin Lee, Shara M. Dellatore, William M. Miller, Phillip B. Messersmith, SCIENCE, 318, p426-430(2007)Haeshin Lee, Shara M. Dellatore, William M. Miller, Phillip B. Messersmith, SCIENCE, 318, p426-430 (2007)

上記の特許文献に記載の方法は、いくつかの問題点を含んでいる。
特許文献1に記載の無電解めっき方法では、ABS樹脂などのプラスチック上へ無電解めっきを行う際は、クロムやマンガンを含む酸化性の液でプラスチック表面を荒らす必要があった。
The method described in the above patent document includes several problems.
In the electroless plating method described in Patent Document 1, when electroless plating is performed on a plastic such as an ABS resin, it is necessary to roughen the plastic surface with an oxidizing liquid containing chromium or manganese.

特許文献2の方法では陽イオン交換樹脂を使用するため、一般に強塩基性である無電解めっき液に対する耐性が劣るという問題があった。また、スルホン酸等の強酸性基を有するので配線パターンが微細な電子材料では絶縁信頼性が低下する恐れがある。   In the method of Patent Document 2, since a cation exchange resin is used, there is a problem that resistance to an electroless plating solution which is generally strongly basic is inferior. In addition, since it has a strongly acidic group such as sulfonic acid, there is a possibility that the insulation reliability is lowered in an electronic material having a fine wiring pattern.

また、特許文献2の段落0015において、好ましい範囲として定められるイオン交換樹脂粉末の粒子径は5〜10μmであることから、塗膜の厚さは厚い。このため被めっき物の表面が微細な形状である場合は、めっき表面の形状が被めっき物の表面形状を再現しにくくなるという問題がある。さらに、粉末を多量に含む塗膜であるために、塗膜は透明性が損なわれ、透明な被めっき体にめっきを析出させた後、裏面からは金属光沢のある外観を見ることができない。   Further, in paragraph 0015 of Patent Document 2, since the particle diameter of the ion exchange resin powder determined as a preferable range is 5 to 10 μm, the thickness of the coating film is thick. For this reason, when the surface of a to-be-plated object is a fine shape, there exists a problem that the shape of a plating surface becomes difficult to reproduce the surface shape of a to-be-plated object. Further, since the coating film contains a large amount of powder, the transparency of the coating film is impaired, and after plating is deposited on a transparent object to be plated, an appearance with metallic luster cannot be seen from the back surface.

特許文献3や非特許文献1にも開示されているように、強い還元剤であるジメチルアミノボランと銅イオンをめっき液中で混在させると、めっき液としての安定性が悪く、被めっき物の有無にかかわらず銅が還元されて析出し、いわゆるめっき液の分解が起こることは、当該業者にはよく知られている事実である。本発明者らがドーパミン残基を含有するポリマーをPETフィルムの片面に塗布した試験片を用いて、特許文献3や非特許文献1と同様のめっき液で無電解めっきを試みたところ、最初の30分程度は何も起こらず、その後にめっき液から気泡が多数発生し、液が黒く変色した。その後、試験片を取り出したところ、PETフィルムの両面に銅めっきが析出しており、さらにめっき液を入れていたガラス製容器の内面にもめっきが析出していた。
このように特許文献3や非特許文献1に記載されている方法では銅めっきが析出するものの、ドーパミン残基を含有するポリマーの表面だけにめっきを選択的に析出させることはできない。また、この後で同じ液を用いてめっきを試みても、めっき液が分解しているため繰り返しめっきを析出させることはできなかった。
As disclosed in Patent Document 3 and Non-Patent Document 1, when dimethylaminoborane, which is a strong reducing agent, and copper ions are mixed in the plating solution, the stability as the plating solution is poor, and It is a fact well known to those skilled in the art that copper is reduced and deposited regardless of the presence or absence of so-called plating solution decomposition. When the present inventors tried electroless plating with a plating solution similar to Patent Document 3 or Non-Patent Document 1 using a test piece in which a polymer containing a dopamine residue was applied to one side of a PET film, the first Nothing happened for about 30 minutes, after that many bubbles were generated from the plating solution, and the solution turned black. Thereafter, when the test piece was taken out, copper plating was deposited on both surfaces of the PET film, and further, plating was deposited on the inner surface of the glass container in which the plating solution was put.
Thus, although the copper plating is deposited by the methods described in Patent Document 3 and Non-Patent Document 1, it is not possible to selectively deposit the plating only on the surface of the polymer containing the dopamine residue. Moreover, even if it tried plating using the same liquid after this, since the plating solution was decomposed | disassembled, it was not able to deposit plating repeatedly.

このようなめっき方法は液が1回しか使えず、工業的にはほとんど価値が無い。また、ドーパミン残基を含有するポリマーは被塗布物との密着性を確保するのには役にたっているが、特許文献3や非特許文献1に記載されているめっき液中において、ドーパミン骨格に含まれるカテコール基はジメチルアミノボランよりも還元性が弱いので、金属イオンに対して還元性を発揮することはできず、カテコールは実質的にめっき反応に関与していないと言える。   Such a plating method can be used only once and has little industrial value. In addition, the polymer containing a dopamine residue is useful for ensuring adhesion to an object to be coated, but in the plating solution described in Patent Document 3 and Non-Patent Document 1, the polymer has a dopamine skeleton. Since the contained catechol group is less reducible than dimethylaminoborane, it cannot exhibit reducibility with respect to metal ions, and it can be said that catechol is not substantially involved in the plating reaction.

本発明は、無電解めっき方法において、パラジウム等の貴金属を使用することなく、またクロム酸等の有害な薬剤を使用せずにめっきと被めっき物間の良好な密着性を確保でき、かつ、めっき液を繰り返し使用することができる無電解めっき方法を提供すべく検討を行ったものである。   In the electroless plating method, the present invention can ensure good adhesion between the plating and the object to be plated without using a noble metal such as palladium and without using a harmful agent such as chromic acid, and The present inventors have studied to provide an electroless plating method that can repeatedly use a plating solution.

本発明者等は、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下の(1)及び(9)に記載する解決手段を見いだした。好ましい実施形態である(2)〜(8)とともに列挙する。
(1)被めっき物の表面上に、めっき金属の金属イオンを還元する能力を有する有機残基を側鎖に含有するポリマーを塗設する工程と、前記ポリマーが塗設された被めっき物の表面上に、前記金属イオンを含みこの金属イオンを還元しうる還元剤を含まない溶液中において、前記金属イオンの部分還元金属酸化物を析出させる工程と、前記金属イオンを還元しうる還元剤を含む溶液中において、前記部分還元金属酸化物を自己触媒性を有するめっき金属に還元する工程と、被めっき物の表面上に、無電解めっき液中において、めっき金属の被膜を形成する工程と、を含む無電解めっき方法、
(2)前記有機残基がヒドロキノン残基、カテコール残基又はピロガロール残基である、(1)に記載の無電解めっき方法、
(3)前記ポリマーが架橋された、(1)又は(2)に記載の無電解めっき方法、
(4)前記有機残基のフェノール性水酸基の含有量が4mmol/gポリマー以上である、(1)〜(3)のいずれか1つに記載の無電解めっき方法、
(5)めっき金属が銅又はニッケルである、(1)〜(4)のいずれか1つに記載の無電解めっき方法、
(6)自己触媒性を有するめっき金属が被めっき物の表面を5%以上被覆している工程(3)である、(1)〜(5)のいずれか1つに記載の無電解めっき方法、
(7)前記めっき金属が銅であり、前記工程(2)における部分還元金属酸化物がCu2Oである、を含む、(1)〜(6)のいずれか1つに記載の銅の無電解めっき方法、
(8)前記ポリマーをパターニングする工程を含み、前記めっき金属のパターン状被膜を形成する工程とした、(1)〜(7)のいずれか1つに記載の無電解めっき方法、
(9)(1)〜(8)のいずれか1つに記載の無電解めっき方法で無電解めっきを析出させためっき製品。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found a solution means described in the following (1) and (9). They are listed together with (2) to (8) which are preferred embodiments.
(1) A step of coating a polymer containing an organic residue in a side chain having an ability to reduce metal ions of a plating metal on the surface of the plated object, and a plated object coated with the polymer. A step of precipitating a partially reduced metal oxide of the metal ion in a solution containing the metal ion and not containing a reducing agent capable of reducing the metal ion; and a reducing agent capable of reducing the metal ion. A step of reducing the partially reduced metal oxide to a plating metal having autocatalytic properties in a solution containing the step of forming a coating film of the plating metal on the surface of the object to be plated in an electroless plating solution; Including electroless plating method,
(2) The electroless plating method according to (1), wherein the organic residue is a hydroquinone residue, a catechol residue or a pyrogallol residue,
(3) The electroless plating method according to (1) or (2), wherein the polymer is crosslinked,
(4) The electroless plating method according to any one of (1) to (3), wherein the content of the phenolic hydroxyl group of the organic residue is 4 mmol / g polymer or more.
(5) The electroless plating method according to any one of (1) to (4), wherein the plating metal is copper or nickel,
(6) The electroless plating method according to any one of (1) to (5), which is a step (3) in which a plating metal having autocatalytic properties covers a surface of an object to be plated by 5% or more. ,
(7) The absence of copper according to any one of (1) to (6), wherein the plating metal is copper, and the partially reduced metal oxide in the step (2) is Cu 2 O. Electrolytic plating method,
(8) The electroless plating method according to any one of (1) to (7), including a step of patterning the polymer and forming a pattern film of the plating metal.
(9) A plated product in which electroless plating is deposited by the electroless plating method according to any one of (1) to (8).

本発明による無電解めっき方法は従来工業的に用いられてきた無電解めっき方法とは異なり、貴金属であるパラジウムを使用することなく良好な無電解めっきができる。このため、低コストで将来の資源供給不安を解消することもできる。さらに、電子材料分野で問題となっていた、エッチング後にパラジウムが残存する問題もなくなり絶縁信頼性向上に寄与することができる。また、クロムなどの有害金属を使った粗化工程を行うことなく、被めっき物へ良好なめっき被膜の密着性が得られるため、作業時の安全性が高く、廃液の漏洩による土壌、水質汚染などの問題もなくすことができる。これらのため無電解めっき方法として極めて有用である。   Unlike the electroless plating method conventionally used industrially, the electroless plating method according to the present invention can perform good electroless plating without using palladium which is a noble metal. For this reason, future resource supply anxiety can be solved at low cost. Furthermore, the problem of palladium remaining after etching, which has been a problem in the field of electronic materials, can be eliminated, and the insulation reliability can be improved. In addition, since the adhesion of the plating film to the object to be plated is obtained without performing a roughening process using toxic metals such as chromium, the work safety is high, and soil and water pollution due to leakage of waste liquid is achieved. It can be eliminated. For these reasons, it is extremely useful as an electroless plating method.

種々の還元剤を含む溶液のpHと酸化還元電位の関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between pH of a solution containing a various reducing agent, and oxidation-reduction potential. 本発明のめっき方法において、銅の部分還元酸化物の粒子が被めっき物の表面上に形成された一例を示す原子間力顕微鏡(AFM)写真の一例(結晶構造)を示す。An example (crystal structure) of an atomic force microscope (AFM) photograph showing an example in which particles of partially reduced oxide of copper are formed on the surface of an object to be plated in the plating method of the present invention is shown.

以下本発明を詳細に説明する。
本発明の無電解めっき方法は、被めっき物の表面上に、めっき金属のイオンを還元する能力を有する有機残基を側鎖に含有するポリマーを塗設する工程(1)と、前記ポリマーが塗設された被めっき物の表面上に、前記金属イオンを含みこの金属イオンを還元しうる還元剤を含まない溶液中において、前記金属イオンの部分還元金属酸化物を析出させる工程(2)と、前記金属イオンを還元しうる還元剤を含む溶液中において、前記部分還元金属酸化物を自己触媒性を有するめっき金属に還元する工程(3)と、被めっき物の表面上に、無電解めっき液中において、めっき金属の被膜を形成する工程(4)と、を含む。
以下、これらの工程順に説明する。
The present invention will be described in detail below.
The electroless plating method of the present invention comprises a step (1) of coating a polymer containing an organic residue having a capability of reducing plating metal ions on the surface of an object to be plated; A step (2) of precipitating a partially reduced metal oxide of the metal ion on a surface of the object to be plated in a solution containing the metal ion and not containing a reducing agent capable of reducing the metal ion; A step (3) of reducing the partially reduced metal oxide to a plating metal having autocatalytic properties in a solution containing a reducing agent capable of reducing the metal ions, and electroless plating on the surface of the object to be plated And (4) forming a plating metal film in the liquid.
Hereinafter, it demonstrates in order of these processes.

本発明の無電解めっき方法の最初の工程は、被めっき物の表面上に、めっき金属の金属イオンを還元する能力を有する有機残基を側鎖に含有するポリマーを塗設する工程(1)である。以下、めっき金属の金属イオンを還元する能力を有する有機残基を側鎖に含有するポリマーを「還元性ポリマー」ともいう。
本発明で使用する還元性ポリマーは、めっき金属の金属イオンを還元する能力を有する有機残基を側鎖に含有するポリマーである。その還元性を有する有機残基は、ベンゼン環に2個以上のフェノール性水酸基を有することが好ましく、カテコールやハイドロキノン構造のように、その内の2個は少なくとも互いにオルト又はパラ位に相当する位置に結合していることがさらに好ましい。その理由は、2個の水酸基が互いにオルト又はパラの位置に結合していると、より還元力が高まるためである。レゾルシノールのように2個の水酸基が互いにメタの位置に結合する場合はオルト又はパラに比べて還元力が弱くて好ましく使用できないが、3個以上の水酸基が結合する場合はその内2個の水酸基がオルトかパラの位置関係にあれば、そのほかの組み合わせでメタの位置関係にある水酸基を有していてもよく、むしろ3個以上水酸基が存在すると、より還元力が強くなり好ましい場合がある。
The first step of the electroless plating method of the present invention is the step (1) of applying a polymer containing an organic residue in the side chain having the ability to reduce metal ions of the plating metal on the surface of the object to be plated. It is. Hereinafter, a polymer containing an organic residue having a capability of reducing metal ions of a plating metal in a side chain is also referred to as a “reducing polymer”.
The reducing polymer used in the present invention is a polymer containing in the side chain an organic residue having the ability to reduce the metal ion of the plating metal. The organic residue having reducibility preferably has two or more phenolic hydroxyl groups in the benzene ring, and at least two of them are positions corresponding to the ortho or para positions relative to each other, such as a catechol or hydroquinone structure. More preferably, it is bonded to. The reason is that when two hydroxyl groups are bonded to each other at the ortho or para position, the reducing power is further increased. When two hydroxyl groups are bonded to each other at the meta position, such as resorcinol, the reducing power is weaker than ortho or para and cannot be used preferably. However, when three or more hydroxyl groups are bonded, two of them are bonded. May have a hydroxyl group that is in a meta positional relationship with other combinations, and if there are three or more hydroxyl groups, the reducing power may become stronger and preferable.

本発明において、ポリマー中の前記有機残基がハイドロキノン残基、カテコール残基又はピロガロール残基であることが好ましく、ピロガロール残基であることがより好ましい。
また、ポリマーが単独重合体、共重合体を問わず、ポリマー中の前記有機残基のフェノール性水酸基の含有量が4mmol/gポリマー以上であることが好ましく、4〜18.2mmol/gポリマーであることがより好ましい。
In the present invention, the organic residue in the polymer is preferably a hydroquinone residue, a catechol residue or a pyrogallol residue, and more preferably a pyrogallol residue.
In addition, regardless of whether the polymer is a homopolymer or a copolymer, the content of the phenolic hydroxyl group of the organic residue in the polymer is preferably 4 mmol / g polymer or more, and it is preferably 4 to 18.2 mmol / g polymer. More preferably.

本発明で使用する還元性ポリマーは、めっき薬品に対する耐久性を高めるなどの目的を達成するために、架橋剤と混合しておきコーティングや成型した後に架橋反応を行うことが好ましい。架橋方法と使用する架橋剤は特に限定されない。例えば架橋剤としてはエポキシ化合物を好ましく使用することができる。この場合は加熱などの処理により、エポキシ化合物に含まれるエポキシ基とポリマー中のフェノール性水酸基が反応し化学的に架橋される。この際、エポキシ樹脂の添加量には注意が必要である。すなわち、エポキシ基によって還元性を有するフェノール性水酸基が消費されるため、エポキシ樹脂を多く配合しすぎると本発明の工程では無電解めっきができなくなるためである。エポキシ化合物を配合する目安としては、エポキシ基とフェノール性水酸基が1:1で反応したと仮定して、残存するフェノール性水酸基の量がコーティング組成物の固形分あたり、4mmol/g以上になることが好ましく、より好ましくは7mmol/g以上に調製することが好ましい。
すでに説明したように、被めっき物上に形成した還元性ポリマーは、架橋をして、工程(2)以下の処理で使用する溶液中で溶解することなく、処理できるようにすることが好ましい。
The reducing polymer used in the present invention is preferably mixed with a cross-linking agent and subjected to a cross-linking reaction after coating or molding in order to achieve an object such as enhancing durability against plating chemicals. The crosslinking method and the crosslinking agent used are not particularly limited. For example, an epoxy compound can be preferably used as the crosslinking agent. In this case, the epoxy group contained in the epoxy compound and the phenolic hydroxyl group in the polymer react and are chemically crosslinked by a treatment such as heating. At this time, attention must be paid to the amount of the epoxy resin added. That is, because the phenolic hydroxyl group having reducing properties is consumed by the epoxy group, if too much epoxy resin is added, electroless plating cannot be performed in the process of the present invention. As a guideline for blending the epoxy compound, it is assumed that the epoxy group and the phenolic hydroxyl group have reacted 1: 1, and the amount of the remaining phenolic hydroxyl group is 4 mmol / g or more per solid content of the coating composition. It is preferable to prepare at 7 mmol / g or more.
As already described, the reducing polymer formed on the object to be plated is preferably crosslinked so that it can be processed without being dissolved in the solution used in the processing after step (2).

その他の架橋剤としては、イソシアネート化合物も好ましく用いることができる。イソシアネート基は、フェノール性水酸基と反応するが、アルコール性水酸基とはより反応しやすく、アルコール性水酸基を含有するモノマーをポリマーに共重合しておくことで架橋反応を速やかに行うことができるので、被めっき物が高温で変形してしまう場合などに好ましく使用することができる。このようなアルコール性水酸基を含有するモノマーは特に限定しないが、例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートや3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートのような単官能のヒドロキシアクリレートを共重合して用いることができる。   As other crosslinking agents, isocyanate compounds can also be preferably used. The isocyanate group reacts with the phenolic hydroxyl group, but more easily reacts with the alcoholic hydroxyl group, so that the crosslinking reaction can be quickly performed by copolymerizing the monomer containing the alcoholic hydroxyl group with the polymer. It can be preferably used when the object to be plated is deformed at a high temperature. A monomer containing such an alcoholic hydroxyl group is not particularly limited, but a monofunctional hydroxy acrylate such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate or 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate is copolymerized. Can be used.

本発明において、還元性ポリマーを被めっき物表面に配置するための手段は、好ましくは2通りある。すなわち還元性ポリマーを必要に応じて架橋剤などと配合し溶媒などで薄めた溶液を被めっき物に塗布する方法と還元性ポリマーそのものを必要に応じて架橋剤などと配合して成型する方法である。   In the present invention, there are preferably two means for disposing the reducing polymer on the surface of the object to be plated. That is, a method in which a reducing polymer is blended with a crosslinking agent as necessary and a solution diluted with a solvent is applied to the object to be plated, and a method in which the reducing polymer itself is blended with a crosslinking agent as necessary and molded. is there.

本発明で用いる還元性ポリマーを被めっき物に塗布するための手段は、特に限定されない。被塗布物がフィルム等の平面状であればコーターなどを使用でき、複雑な形状に塗布する場合はスプレーによる方法、刷毛などによる方法、ポリマー溶液又は分散液中に被めっき物を直接浸漬して取り出す方法も使用できる。   The means for applying the reducing polymer used in the present invention to the object to be plated is not particularly limited. If the object to be coated is a flat surface such as a film, a coater or the like can be used. When applying to a complicated shape, a method using a spray, a method using a brush, etc., or directly immersing the object to be plated in a polymer solution or dispersion. The method of taking out can also be used.

本発明で用いることができる還元性ポリマーの成型物とは、めっき対象となる還元性ポリマーを溶融して型に流し込んで被めっき物を成型する方法、溶液を型に流し込んで乾燥して被めっき物とする方法、ポリマー中に架橋性の官能基を化学的に結合するか、又は、架橋剤を加えて架橋させるなどの方法で還元性ポリマーを硬化させる方法、懸濁重合、乳化重合などの方法で微粒子状に成型するなどの方法により得ることができる、還元性ポリマーを少なくとも表面に含有する被めっき物である。   The molded product of the reducing polymer that can be used in the present invention is a method in which the reducing polymer to be plated is melted and poured into a mold to mold the object to be plated, and the solution is poured into the mold and dried to be plated. Such as a method of forming a product, a method in which a crosslinkable functional group is chemically bonded in a polymer, or a method in which a reducing polymer is cured by a method of crosslinking by adding a crosslinking agent, suspension polymerization, emulsion polymerization, etc. It is an object to be plated that contains a reducing polymer at least on its surface, which can be obtained by a method such as molding into fine particles by a method.

本発明における工程(2)は、上記の還元性ポリマーを表面に有する被めっき物の表面上に、前記金属イオンを含みこの金属イオンを還元しうる還元剤を含まない溶液中において、前記金属イオンの部分還元金属酸化物を析出させる工程である。   In the step (2) in the present invention, the metal ion is contained in a solution that contains the metal ion on the surface of the object to be plated and does not contain a reducing agent that can reduce the metal ion. In which the partially reduced metal oxide is deposited.

本発明でめっき被膜を析出させる金属は、無電解めっき反応に対して自己触媒能を有するものが好ましい。そのような金属は工程(4)において使用する無電解めっき液で使用する還元剤の酸化を促進する能力を有し、使用する還元剤の種類によって自己触媒能を発揮できる金属と還元剤の組み合わせであることが好ましい。このような金属として例えば還元剤が次亜リン酸ナトリウムの場合は、金、ニッケル、コバルトなどが知られており、ホルムアルデヒドの場合は銅、金、銀などが知られている。この中でも銅、ニッケルが好ましい。自己触媒性とは、その金属が0価に還元された状態で金属イオンと還元剤を含有するめっき液に接触すると、還元剤が酸化される酸化反応を触媒的に促進し、金属イオンは還元剤から放出された電子により還元されてその表面にめっき膜として析出するというメカニズムによって、無電解めっき反応が進行する金属のことで、めっきを専門とする業界には広く知られている。
本発明において、めっき金属が銅又はニッケルであることが好ましく、銅であることがより好ましい。
In the present invention, the metal on which the plating film is deposited preferably has an autocatalytic ability for the electroless plating reaction. Such metal has the ability to promote oxidation of the reducing agent used in the electroless plating solution used in step (4), and a combination of a metal and a reducing agent that can exhibit autocatalytic activity depending on the type of reducing agent used. It is preferable that For example, when the reducing agent is sodium hypophosphite, gold, nickel, cobalt, and the like are known, and when formaldehyde is used, copper, gold, silver, and the like are known. Among these, copper and nickel are preferable. Autocatalytic property means that when the metal is reduced to zero valence, when it comes into contact with a plating solution containing a metal ion and a reducing agent, the catalytic reaction promotes an oxidation reaction in which the reducing agent is oxidized. A metal that undergoes an electroless plating reaction due to a mechanism in which it is reduced by electrons released from the agent and deposited as a plating film on its surface, and is widely known in the industry that specializes in plating.
In the present invention, the plating metal is preferably copper or nickel, and more preferably copper.

工程(2)において用いる金属イオン含有溶液は、上記の自己触媒性を有する金属イオン、pH調整剤、界面活性剤、キレート剤などの添加剤を含むが、金属イオンを還元できるような還元剤は含まない。その理由は、還元性ポリマーに結合している還元性官能基は、一般に無電解めっきに使用される還元剤に比べて還元力が弱いので、液中にこのような還元剤を含んでいると、ポリマー表面よりも液中での還元反応が優先してしまうためである。この場合、ポリマー表面における前記金属イオンが部分還元金属酸化物として析出する反応を阻害しない程度の微量の還元剤は入っていてもかまわない。   The metal ion-containing solution used in the step (2) includes additives such as the above-mentioned metal ions having a self-catalytic property, a pH adjuster, a surfactant, and a chelating agent. Not included. The reason is that the reducing functional group bonded to the reducing polymer generally has a reducing power weaker than that of a reducing agent used in electroless plating, and therefore the liquid contains such a reducing agent. This is because the reduction reaction in the liquid has priority over the polymer surface. In this case, a small amount of reducing agent that does not inhibit the reaction of the metal ions on the polymer surface as a partially reduced metal oxide may be contained.

工程(2)において用いる金属イオン含有溶液は、通常無電解めっきを行う場合のめっき液に対して還元剤を含まないものを使用することができる。その銅イオン源として硫酸銅、塩化銅などを使用することができる。これらの液はpH調整剤として水酸化ナトリウムなどの強塩基、高pHで銅イオンを安定して存在させるためのエチレンジアミン四酢酸(EDTA)、クエン酸などのキレート剤、界面活性剤などを添加することができる。   As the metal ion-containing solution used in the step (2), a solution that does not contain a reducing agent can be used with respect to a plating solution used in normal electroless plating. Copper sulfate, copper chloride, etc. can be used as the copper ion source. These liquids contain a strong base such as sodium hydroxide as a pH adjuster, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), a chelating agent such as citric acid, a surfactant, etc. for stably presenting copper ions at high pH. be able to.

工程(2)において用いる、金属イオン含有溶液の温度は特に限定されず、0℃から100℃までの温度範囲を使用することができ、好ましくは5℃から60℃、さらに好ましくは10℃から40℃である。本発明において使用する還元性ポリマーは多官能フェノールなどを還元性官能基として有しているが、これらの官能基で金属イオンを還元する場合はpH11以上の条件が好ましい。本発明において使用する還元性ポリマーや被めっき物へのダメージを軽減する意味では液の温度は低い方が好ましく、また、水の揮発による液濃度の変化を抑制する意味においても低温の方が好ましい。さらに、本発明者らの実験によれば、工程(2)では、温度は高い方が反応は速いものの、20℃程度の室温でも充分に反応するため、特別寒冷な場所で作業する場合を除けば、必ずしも加熱冷却をする必要はない。   The temperature of the metal ion-containing solution used in the step (2) is not particularly limited, and a temperature range from 0 ° C. to 100 ° C. can be used, preferably 5 ° C. to 60 ° C., more preferably 10 ° C. to 40 ° C. ° C. The reducing polymer used in the present invention has a polyfunctional phenol or the like as a reducing functional group. When reducing metal ions with these functional groups, a condition of pH 11 or higher is preferable. The liquid temperature is preferably lower in the sense of reducing damage to the reducing polymer and the object to be plated used in the present invention, and the lower temperature is also preferable in the sense of suppressing change in the liquid concentration due to water volatilization. . Furthermore, according to the experiments by the present inventors, in step (2), although the reaction is faster when the temperature is higher, the reaction is sufficiently performed even at a room temperature of about 20 ° C. Therefore, except when working in a special cold place. For example, heating and cooling are not necessarily required.

工程(2)においては、金属イオンは0価、もしくは途中まで還元された酸化物などの形態で還元剤含有ポリマーの表面に析出する。この工程で0価まで還元されれば、工程(3)を行わず、工程(4)の無電解めっき液による無電解めっき反応工程に進むことができる。   In the step (2), the metal ions are deposited on the surface of the reducing agent-containing polymer in the form of an oxide or the like reduced to zero or partially. If it is reduced to zero valence in this step, the step (3) is not performed, and the process can proceed to the electroless plating reaction step using the electroless plating solution in the step (4).

工程(2)により、0価まで還元されず、前記金属イオンの部分還元金属酸化物が析出された場合は、そのままでは無電解めっきの触媒として作用することができないので、工程(3)により、前記部分還元金属酸化物を自己触媒性を有するめっき金属に還元し、工程(4)において無電解めっきの触媒核として作用する状態にする必要がある。   If the partially reduced metal oxide of the metal ion is deposited by the step (2) and is not reduced to zero valence, it cannot act as a catalyst for electroless plating as it is. It is necessary to reduce the partially reduced metal oxide to a plating metal having autocatalytic properties so as to act as a catalyst nucleus for electroless plating in the step (4).

工程(3)において使用する液は還元剤を含む溶液であり、好ましくは水溶液である。この液にはpH調整剤、界面活性剤などを含んでもよい。還元剤は、自己触媒作用を有する金属(0価)が存在しなくても容易にめっき対象の金属イオンを還元できる能力を有するものを使用するとよい。そのような還元剤としては、ジメチルアミノボラン、水素化ホウ素ナトリウムなどが使用できる。一方、工程(3)は0価まで還元されていない部分還元金属酸化物を0価まで還元するための工程であるので、ホルマリンや次亜リン酸塩など自己触媒作用を有する金属(0価)が存在しないと、容易にはめっき対象の金属イオンを還元することができない還元剤は使用することができない。また、析出させる金属や還元剤の組み合わせにより、塩基や酸を用いて、適したpHに調整して使用する。   The liquid used in step (3) is a solution containing a reducing agent, preferably an aqueous solution. This liquid may contain a pH adjuster, a surfactant and the like. As the reducing agent, it is preferable to use a reducing agent having an ability to easily reduce metal ions to be plated even when a metal (zero valent) having an autocatalytic action does not exist. As such a reducing agent, dimethylaminoborane, sodium borohydride and the like can be used. On the other hand, since the step (3) is a step for reducing the partially reduced metal oxide that has not been reduced to zero valence to zero valence, a metal having self-catalysis such as formalin and hypophosphite (zero valence) If no exists, a reducing agent that cannot easily reduce metal ions to be plated cannot be used. Moreover, it adjusts and uses it for suitable pH using a base and an acid with the combination of the metal to precipitate and a reducing agent.

上記のジメチルアミノボラン、水素化ホウ素ナトリウムは還元力が強く、自己触媒性を有する金属のような触媒を使用しなくても、金属イオンを還元する能力がある。金属イオンを含む溶液に組み合わせると金属イオンを還元してめっき液を分解してしまい、めっき液を繰り返し使用することを不可能としてしまう。このため、無電解銅めっきや無電解ニッケルめっき液の還元剤として使用されることはほとんど無い。本発明による工程(3)においては、金属は被めっき物の表面に酸化物微粒子のように固体として析出した状態で工程(3)の液に持ち込まれるため、これらの還元剤を使用しても液の分解などが起こらず繰り返し使用することができる。   The above-mentioned dimethylaminoborane and sodium borohydride have a strong reducing power and have the ability to reduce metal ions without using a catalyst such as a metal having autocatalytic properties. When combined with a solution containing metal ions, the metal ions are reduced to decompose the plating solution, making it impossible to repeatedly use the plating solution. For this reason, it is hardly used as a reducing agent for electroless copper plating or electroless nickel plating solution. In the step (3) according to the present invention, the metal is brought into the liquid of the step (3) in a state of being deposited as a solid like oxide fine particles on the surface of the object to be plated, so even if these reducing agents are used. It can be used repeatedly without liquid decomposition.

工程(3)で使用する液の温度は特に限定しないが、一般に高温ほど還元反応が速くなるため、還元剤の種類、pH、濃度などに応じて温度調整して使用する。ジメチルアミノボランでは30℃から80℃程度が好ましい。水素化ホウ素ナトリウムでは10℃から60℃でも充分な還元性が得られる。   The temperature of the liquid used in the step (3) is not particularly limited, but generally the higher the temperature, the faster the reduction reaction. Therefore, the temperature is adjusted according to the type, pH, concentration, etc. of the reducing agent. In the case of dimethylaminoborane, the temperature is preferably about 30 to 80 ° C. With sodium borohydride, sufficient reducibility can be obtained even at 10 to 60 ° C.

本発明においては、工程(3)により析出した自己触媒性を有するめっき金属は被めっき物表面の5%以上を被覆していることが好ましい。これよりも被覆率が小さいとめっき析出が遅すぎるか、全く析出しない場合がある。さらに15%以上被覆していると、短時間でめっきできるため、めっき液による還元性ポリマーや被めっき物へのダメージが少なくなりめっき可能な材料の適応範囲が広がり好ましい。   In the present invention, it is preferable that the plated metal having autocatalytic properties deposited in the step (3) covers 5% or more of the surface of the object to be plated. If the coverage is smaller than this, plating deposition may be too slow or may not deposit at all. Further, when the coating is 15% or more, it is possible to perform plating in a short time, so that damage to the reducing polymer and the object to be plated by the plating solution is reduced, and the applicable range of materials that can be plated is widened.

工程(4)は工程(2)又は工程(2)及び(3)を経由して0価まで還元され、無電解めっきに対して自己触媒性を有する金属を析出させた被めっき物を無電解めっき液に接触させ無電解めっきを析出させる工程である。   In the step (4), the object to be plated which is reduced to zero valence through the step (2) or the steps (2) and (3) and deposits a metal having autocatalytic property against the electroless plating is electroless. It is a step of bringing electroless plating into contact with a plating solution.

工程(4)において用いる無電解めっき液は、通常パラジウムを触媒として付着させてから無電解めっきを行う場合のめっき液と同じものを使用することができる。めっき液の代表的なものとしては、無電解銅めっきにおいては、銅イオン源として硫酸銅、塩化銅を使用することができ、還元剤としてホルマリン、次亜リン酸塩を使用する例が広く知られている。これらの液はpH調整剤として水酸化ナトリウムなどの強塩基、高pHで銅イオンを安定して存在させるためのEDTAなどのキレート剤、界面活性剤などを添加することができる。   As the electroless plating solution used in the step (4), the same plating solution as that used when electroless plating is usually carried out after depositing palladium as a catalyst can be used. As typical plating solutions, copper sulfate and copper chloride can be used as a source of copper ions in electroless copper plating, and examples of using formalin and hypophosphite as reducing agents are widely known. It has been. These solutions can be added with a strong base such as sodium hydroxide as a pH adjuster, a chelating agent such as EDTA for allowing copper ions to stably exist at a high pH, a surfactant, and the like.

工程(4)で使用する液の温度は特に限定しないが、一般にパラジウムを触媒として使用する無電解めっきと同じ条件でよい。無電解銅めっきの代表的な還元剤であるホルマリン及び他の還元剤の場合、30〜80℃が好ましく、40〜70℃で使用することがより好ましい。この温度範囲であると、適度のめっき速度が得られ、めっき液も安定に使用できる。   Although the temperature of the liquid used at a process (4) is not specifically limited, Generally the same conditions may be sufficient as the electroless plating which uses palladium as a catalyst. In the case of formalin and other reducing agents, which are typical reducing agents for electroless copper plating, 30 to 80 ° C is preferable, and 40 to 70 ° C is more preferable. Within this temperature range, an appropriate plating rate can be obtained, and the plating solution can also be used stably.

工程(2)から(4)の間には、各工程で用いる溶液又はめっき液が後工程の溶液又はめっき液に混合しないようにすることによって、めっき被膜の品質安定化と各溶液又はめっき液の使用回数を維持する目的で、水などによる洗浄工程、及び必要に応じて洗浄液を除去する工程などを入れるのが好ましい。   Between steps (2) to (4), by preventing the solution or plating solution used in each step from being mixed with the solution or plating solution in the subsequent step, the quality of the plating film is stabilized and each solution or plating solution is used. For the purpose of maintaining the number of times of use, it is preferable to include a washing step with water and the like, and a step of removing the washing liquid as necessary.

工程(2)で用いる溶液が工程(3)の溶液に混ざると、工程(2)の溶液中で持ち込まれた金属イオンが還元されて還元剤を無駄に消費することになり、溶液を繰り返して使用できる回数が減るため好ましくない。また水などの洗浄液が工程(3)の溶液に混ざると、繰り返して使用する間に液の濃度が下がり、溶液を繰り返して使用できる回数が減るため好ましくない。   When the solution used in step (2) is mixed with the solution in step (3), the metal ions brought into the solution in step (2) are reduced and waste the reducing agent, and the solution is repeated. This is not preferable because the number of times it can be used is reduced. In addition, it is not preferable that a cleaning liquid such as water is mixed with the solution in step (3) because the concentration of the liquid decreases during repeated use and the number of times the solution can be used repeatedly decreases.

工程(3)で用いる溶液が工程(4)のめっき液に混ざると、工程(4)で用いるめっき液の中に持ち込まれた還元剤が工程(4)のめっき液中の金属イオンを還元し、金属が析出する。析出した金属の自己触媒作用により液の分解が促進されるため、これを防ぐことが好ましい。また水などの洗浄液が工程(3)の溶液に混ざると、繰り返して使用する間に液の濃度が下がり、溶液を繰り返して使用できる回数が減るため好ましくない。   When the solution used in step (3) is mixed with the plating solution in step (4), the reducing agent brought into the plating solution used in step (4) reduces the metal ions in the plating solution in step (4). , Metal is deposited. Since decomposition of the liquid is promoted by the autocatalytic action of the deposited metal, it is preferable to prevent this. In addition, it is not preferable that a cleaning liquid such as water is mixed with the solution in step (3) because the concentration of the liquid decreases during repeated use and the number of times the solution can be used repeatedly decreases.

このような隣接する工程間の洗浄液には通常水が使用され、洗浄方法は、上記の目的を達成することができれば特に限定されず、例えば、スプレーによる吹き付けや、水への浸漬によって行うことができる。   Water is usually used for the cleaning liquid between such adjacent steps, and the cleaning method is not particularly limited as long as the above-described purpose can be achieved. For example, spraying by spraying or immersion in water can be performed. it can.

また、洗浄液の除去の具体的な方法は、特に限定するものではないが、例えば、吊り下げたり立てかけておくことで自然に洗浄液を落とす方法や、工程にかかる時間を短縮するために空気を吹きつけたり、2本のロールに挟んでスクウィーズする方法などを実施することができる。   The specific method of removing the cleaning liquid is not particularly limited. For example, the cleaning liquid can be naturally dropped by hanging or standing, or air can be blown to shorten the time required for the process. It is possible to perform a method such as attaching or squeezing between two rolls.

本発明による無電解めっき方法は、自己触媒性を有する金属を用いた無電解めっきに使用することができる。
本発明において、被めっき物の表面上に、一旦Cu2Oを析出させる工程と、自己触媒性を有する金属銅にまで還元する工程と、を含む、銅の無電解めっき方法は好ましく実施できる。
The electroless plating method according to the present invention can be used for electroless plating using a metal having autocatalytic properties.
In the present invention, on the surface of the object to be plated, once and a step of precipitating the Cu 2 O, the step of reducing to a metallic copper having autocatalytic, the electroless plating method of the copper can be preferably performed.

本発明の無電解めっき方法は、前記還元性ポリマーをパターニングする工程を含み、前記めっき金属のパターン状被膜を形成する工程を含むことができる。パターニングする工程は、公知の技法を採用することができる。シート状被めっき物に対して、工程(1)により形成された還元性ポリマーの層にフォトレジストを使用して所望のパターンを形成することができる。また、前記の還元性ポリマーの層に、目的とするパターンの逆パターンを押しつけて、還元性ポリマーを酸化分解することもできる。   The electroless plating method of the present invention can include a step of patterning the reducing polymer, and a step of forming a patterned film of the plated metal. A known technique can be adopted for the patterning step. A desired pattern can be formed on the sheet-shaped workpiece using a photoresist in the layer of the reducing polymer formed in the step (1). Further, the reducing polymer can be oxidatively decomposed by pressing a reverse pattern of the target pattern against the reducing polymer layer.

本発明の無電解めっき方法は、従来用いられてきた被めっき物表面にパラジウムを吸着させる方法とは異なり、被めっき物表面に還元性を有するポリマー被膜を形成し、続いてそのポリマー表面で自己触媒性を有する金属を析出させて、それ自体を無電解めっきに対する触媒として用いる。貴金属であるパラジウムを使わないため、低コスト化、資源の安定供給などの利点がある。また、電子回路に用いた場合にエッチング工程によって回路間にパラジウムが残存するようなことが無いため、信頼性が向上する。また、プラスチック上へのめっきにおいて、有害な金属を含む液で粗面化しなくても密着性が良好であるので、環境へ及ぼす影響が緩和される。さらに、パラジウムを使用しないことや粗化工程を必要としないことから、透明な樹脂の片面にめっきを行うと、裏面からも金属光沢を見ることができ、意匠性が向上する。   The electroless plating method of the present invention is different from the conventional method in which palladium is adsorbed on the surface of the object to be plated, and a reducing polymer film is formed on the surface of the object to be plated, and then the self-plating on the surface of the polymer. A metal having catalytic properties is deposited and used as a catalyst for electroless plating. Since palladium, which is a noble metal, is not used, there are advantages such as cost reduction and stable supply of resources. Further, when used in an electronic circuit, there is no palladium remaining between the circuits by the etching process, so that the reliability is improved. In addition, in plating on plastics, the adhesiveness is good without roughening with a liquid containing a harmful metal, so the influence on the environment is mitigated. Furthermore, since palladium is not used or a roughening step is not required, if one side of a transparent resin is plated, the metallic luster can be seen from the back side, and the design is improved.

以下、モノマー合成、還元性ポリマーの合成、及び実施例により本発明を説明する。   Hereinafter, the present invention will be described by monomer synthesis, synthesis of a reducing polymer, and examples.

(ドーパミン(メタ)アクリレートの製造実施例)
撹拌装置、温度計、滴下ロート、pH計、窒素ガス吹込み管を備えた1L4つ口フラスコにホウ酸ナトリウム(50.3g、0.25mol)、炭酸水素ナトリウム(21.0g、0.25mol)を入れ、蒸留水(500mL)に溶かし、氷浴で冷却しながら、30分以上窒素ガスでバブリングした。この緩衝液にドーパミン塩酸塩(25g、0.13mol)を加え溶解した。200mL滴下漏斗からアクリル酸クロリド(15.6mL、0.195mol)の脱水THF(テトラヒドロフラン)(125mL)溶液を、内温が30℃以下を維持するように、約2時間かけて滴下した。滴下中は、pH計を見ながらpH8以下にならないように、1N−水酸化ナトリウム水溶液を適量加えた。滴下終了後、氷浴をはずし、室温で1日撹拌した。窒素バブリングは反応終了まで継続した。
(Example of production of dopamine (meth) acrylate)
Sodium borate (50.3 g, 0.25 mol), sodium bicarbonate (21.0 g, 0.25 mol) were added to a 1 L four-necked flask equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, pH meter, and nitrogen gas blowing tube. Was dissolved in distilled water (500 mL) and bubbled with nitrogen gas for 30 minutes or more while cooling in an ice bath. To this buffer solution was added dopamine hydrochloride (25 g, 0.13 mol) and dissolved. A solution of acrylic acid chloride (15.6 mL, 0.195 mol) in dehydrated THF (tetrahydrofuran) (125 mL) was added dropwise from a 200 mL dropping funnel over about 2 hours so that the internal temperature was maintained at 30 ° C. or lower. During the dropwise addition, an appropriate amount of 1N sodium hydroxide aqueous solution was added so that the pH would not become 8 or less while observing the pH meter. The ice bath was removed after completion | finish of dripping, and it stirred at room temperature for 1 day. Nitrogen bubbling continued until the end of the reaction.

反応終了後、反応液をグラスフィルターでろ過し、少量の蒸留水で洗浄した。ろ液を2L分液漏斗に移し、酢酸エチル(3×200mL)で洗浄、水層を回収した。水層を氷浴で冷却し、濃塩酸を適量加えて酸性(pH2)にした。再び1L分液漏斗に移し、酢酸エチル(3×200mL)で抽出した。有機層を蒸留水(200mL)、飽和食塩水(200mL)で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過、窒素を吹き込みながら溶媒を減圧留去して、約100mLになるまで濃縮した。激しく撹拌しながらn−ヘキサン(900mL)を加えて結晶を析出させた。氷浴上で1時間、撹拌を継続した。結晶をグラスフィルターでろ過、少量のヘキサンで洗浄して、得られた固体を減圧乾燥して、ドーパミンアクリレートを19.9g(収率74%)得た。   After completion of the reaction, the reaction solution was filtered through a glass filter and washed with a small amount of distilled water. The filtrate was transferred to a 2 L separatory funnel, washed with ethyl acetate (3 × 200 mL), and the aqueous layer was collected. The aqueous layer was cooled in an ice bath and acidified (pH 2) by adding an appropriate amount of concentrated hydrochloric acid. Transfer again to a 1 L separatory funnel and extract with ethyl acetate (3 × 200 mL). The organic layer was washed with distilled water (200 mL) and saturated brine (200 mL), dried over anhydrous sodium sulfate, filtered, evaporated under reduced pressure while blowing nitrogen, and concentrated to about 100 mL. While vigorously stirring, n-hexane (900 mL) was added to precipitate crystals. Stirring was continued for 1 hour on an ice bath. The crystals were filtered through a glass filter, washed with a small amount of hexane, and the obtained solid was dried under reduced pressure to obtain 19.9 g (yield 74%) of dopamine acrylate.

上記実施例のアクリル酸クロリドをメタクリル酸無水物(23.0mL、0.146mol)に変えて、同様の操作によりメタクリレートを合成した(収量21.5g(収率75%))。   The acrylic acid chloride of the above Example was changed to methacrylic anhydride (23.0 mL, 0.146 mol) to synthesize methacrylate by the same operation (yield 21.5 g (yield 75%)).

(ポリマー合成例1:ポリドーパミンアクリルアミド)
撹拌装置、滴下ロート、冷却機、ガス吹込み管を備えた容量200mLの4つ口フラスコに、ドーパミンアクリルアミド30gをジメチルホルムアミド60gに溶解し、窒素ガス吹き込みながら2時間撹拌した。その後温度を70℃まで上げ、撹拌と窒素吹き込みを継続しながら、滴下ロートからジメチルホルムアミド10gに2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業(株)製、商品名V65)0.1gを混合した液を1時間掛けて滴下した。滴下後さらに10時間撹拌し、加熱、撹拌を停止したところ、反応溶液はやや褐色に着色し、粘度が上昇していた。ポリドーパミンアクリルアミドのホモポリマー溶液が得られた。フェノール性水酸基の含有量は、ホモポリマーの固形分当たり、9.65mmol/gであった。
この溶液にメタノール200gを加えてポリマー濃度を10重量%に希釈し、実施例のコーティング用組成物配合に使用した。
(Polymer synthesis example 1: polydopamine acrylamide)
30 g of dopamine acrylamide was dissolved in 60 g of dimethylformamide in a four-necked flask having a capacity of 200 mL equipped with a stirrer, a dropping funnel, a cooler, and a gas blowing tube, and stirred for 2 hours while blowing nitrogen gas. Thereafter, the temperature was raised to 70 ° C., and while continuing stirring and nitrogen blowing, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product) from a dropping funnel to 10 g of dimethylformamide (Name V65) A solution in which 0.1 g was mixed was dropped over 1 hour. After the addition, the mixture was further stirred for 10 hours, and the heating and stirring were stopped. As a result, the reaction solution was slightly brown and the viscosity was increased. A homopolymer solution of polydopamine acrylamide was obtained. The content of the phenolic hydroxyl group was 9.65 mmol / g per solid content of the homopolymer.
200 g of methanol was added to this solution to dilute the polymer concentration to 10% by weight and used for the coating composition formulation of the examples.

(ポリマー合成例2)
撹拌装置、滴下ロート、冷却機、ガス吹込み管を備えた容量2Lの4つ口フラスコに、ドーパミンアクリルアミド15gと3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピルアクリレート(東亞合成(株)製、商品名アロニックスM5700)15gをジメチルホルムアミド60gに溶解し、窒素ガス吹き込みながら2時間撹拌した。その後温度を70℃まで上げ、撹拌と窒素吹き込みを継続しながら、滴下ロートからジメチルホルムアミド10gに2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業(株)製、商品名V65)0.1gを混合した液を1時間掛けて滴下した。滴下後さらに10時間撹拌し、加熱し、撹拌を停止したところ、反応溶液はやや褐色に着色し、粘度が上昇していた。ドーパミンアクリルアミドのコポリマー溶液が得られた。フェノール性水酸基の含有量は、コポリマーの固形分当たり、4.83mmol/gであった。
この溶液にメタノール200gを加えてポリマー濃度を10重量%に希釈し、実施例のコーティング用組成物配合に使用した。
(Polymer synthesis example 2)
To a 2 L four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a cooler, and a gas blowing tube, 15 g of dopamine acrylamide and 3-phenoxy-2-hydroxypropyl acrylate (product name, Aronix M5700, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) ) 15 g was dissolved in 60 g of dimethylformamide and stirred for 2 hours while blowing nitrogen gas. Thereafter, the temperature was raised to 70 ° C., and while continuing stirring and nitrogen blowing, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product) from a dropping funnel to 10 g of dimethylformamide (Name V65) A solution in which 0.1 g was mixed was dropped over 1 hour. After the addition, the mixture was further stirred for 10 hours, heated, and the stirring was stopped. As a result, the reaction solution was colored slightly brown and the viscosity increased. A copolymer solution of dopamine acrylamide was obtained. The content of phenolic hydroxyl group was 4.83 mmol / g per solid content of the copolymer.
200 g of methanol was added to this solution to dilute the polymer concentration to 10% by weight and used for the coating composition formulation of the examples.

(ポリマー合成例3)
撹拌装置、滴下ロート、冷却機、ガス吹込み管を備えた容量2Lの4つ口フラスコに、ドーパミンアクリルアミド27gと2−ヒドロキシエチルアクリレート3gをジメチルホルムアミド60gに溶解し、窒素ガス吹き込みながら2時間撹拌した。その後温度を70℃まで上げ、撹拌と窒素吹き込みを継続しながら、滴下ロートからジメチルホルムアミド10gに2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業(株)製、商品名V65)0.1gを混合した液を1時間掛けて滴下した。滴下後さらに10時間撹拌し、加熱、撹拌を停止したところ、反応溶液はやや褐色に着色し、粘度が上昇していた。ドーパミンアクリルアミド27gと2−ヒドロキシエチルアクリレートのコポリマー溶液が得られた。フェノール性水酸基の含有量は、コポリマーの固形分当たり、8.69mmol/gであった。
得られたポリドーパミンアクリルアミドのコポリマー溶液にジメチルホルムアミド200gを加えてポリマー濃度を10重量%に希釈し、実施例のコーティング用組成物配合に使用した。
(Polymer synthesis example 3)
Dissolve 27 g of dopamine acrylamide and 3 g of 2-hydroxyethyl acrylate in 60 g of dimethylformamide in a 2 L four-necked flask equipped with a stirrer, dropping funnel, cooler and gas blowing tube, and stir for 2 hours while blowing nitrogen gas. did. Thereafter, the temperature was raised to 70 ° C., and while continuing stirring and nitrogen blowing, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product) from a dropping funnel to 10 g of dimethylformamide (Name V65) A solution in which 0.1 g was mixed was dropped over 1 hour. After the addition, the mixture was further stirred for 10 hours, and the heating and stirring were stopped. As a result, the reaction solution was slightly brown and the viscosity was increased. A copolymer solution of 27 g of dopamine acrylamide and 2-hydroxyethyl acrylate was obtained. The content of phenolic hydroxyl group was 8.69 mmol / g per solid content of the copolymer.
To the obtained polydopamine acrylamide copolymer solution, 200 g of dimethylformamide was added to dilute the polymer concentration to 10% by weight and used for the coating composition formulation of the examples.

(ポリマー合成例4)
撹拌装置、滴下ロート、冷却機、ガス吹込み管を備えた容量200mLの4つ口フラスコに、ドーパミンメタクリルアミド30gをジメチルホルムアミド60gに溶解し、窒素ガス吹き込みながら2時間撹拌した。その後温度を70℃まで上げ、撹拌と窒素吹き込みを継続しながら、滴下ロートからジメチルホルムアミド10gに2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)(和光純薬工業(株)製、商品名V65)0.1gを混合した液を1時間掛けて滴下した。滴下後さらに10時間撹拌し、加熱、撹拌を停止したところ、反応溶液はやや褐色に着色し、粘度が上昇していた。得られたポリドーパミンメタクリルアミドの溶液にメタノール200gを加えてポリマー濃度を10重量%に希釈し、実施例のコーティング用組成物配合に使用した。
(Polymer synthesis example 4)
30 g of dopamine methacrylamide was dissolved in 60 g of dimethylformamide in a four-necked flask with a capacity of 200 mL equipped with a stirrer, a dropping funnel, a cooler, and a gas blowing tube, and stirred for 2 hours while blowing nitrogen gas. Thereafter, the temperature was raised to 70 ° C., and while continuing stirring and nitrogen blowing, 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., product) from a dropping funnel to 10 g of dimethylformamide (Name V65) A solution in which 0.1 g was mixed was dropped over 1 hour. After the addition, the mixture was further stirred for 10 hours, and the heating and stirring were stopped. As a result, the reaction solution was slightly brown and the viscosity was increased. To the obtained polydopamine methacrylamide solution, 200 g of methanol was added to dilute the polymer concentration to 10% by weight and used for the coating composition formulation of the examples.

以下に、工程(2)〜(4)で使用する溶液の配合例を記す。
(配合例1)
(工程(2)で用いる溶液の配合例1)
硫酸銅五水和物7.5g、エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩4水和物91.2g、ポリエチレングリコール(三洋化成工業(株)製、商品名PEG2000)0.1g、2,2’−ビピリジル0.02gをビーカーに入れ、水を加えて1Lとした。ここに水酸化ナトリウムを溶解しながらpHが12.5になるまで加えた。
Below, the compounding example of the solution used by process (2)-(4) is described.
(Formulation example 1)
(Formulation example 1 of solution used in step (2))
Copper sulfate pentahydrate 7.5 g, ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt tetrahydrate 91.2 g, polyethylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., trade name PEG2000) 0.1 g, 2,2′-bipyridyl 0 0.02 g was put into a beaker and water was added to make 1 L. To this, sodium hydroxide was dissolved until the pH reached 12.5.

(配合例2)
(工程(2)で用いる溶液の配合例2)
塩化第二銅二水和物3g、エチレンジアミンテトラアセテート4ナトリウム塩4水和物91.2gをビーカーに入れ、水を加えて1Lとした。ここに水酸化ナトリウムを溶解しながらpHが12.5になるまで加えた。
(Formulation example 2)
(Formulation example 2 of solution used in step (2))
3 g of cupric chloride dihydrate and 91.2 g of ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt tetrahydrate were placed in a beaker, and water was added to make 1 L. To this, sodium hydroxide was dissolved until the pH reached 12.5.

(配合例3)
(工程(3)で用いる溶液の配合例1)
ジメチルアミノボラン35.5gをビーカーに入れ、水を加えて1Lとした。ここに水酸化ナトリウムを溶解しながらpHが12.5になるまで加えた。
(Formulation example 3)
(Formulation example 1 of solution used in step (3))
35.5 g of dimethylaminoborane was placed in a beaker, and water was added to make 1 L. To this, sodium hydroxide was dissolved until the pH reached 12.5.

(配合例4)
(工程(3)で用いる溶液の配合例2)
水素化ホウ素ナトリウム2gをビーカーに入れ、水を加えて1Lとした。ここに水酸化ナトリウムを溶解しながらpHが10になるまで加えた。
(Formulation example 4)
(Formulation example 2 of solution used in step (3))
2 g of sodium borohydride was placed in a beaker, and water was added to 1 L. To this, sodium hydroxide was dissolved until the pH reached 10.

(配合例5)
(工程(4)で用いる溶液の配合例)
硫酸銅五水和物7.5g、エチレンジアミンテトラアセテート四ナトリウム塩四水和物91.2g、ポリエチレングリコール(三洋化成工業(株)製、商品名PEG2000)0.1g、2,2’−ビピリジル0.02gをビーカーに入れ、水を加えて1Lとした。ここに20%ホルマリン16mLを加え、最後に水酸化ナトリウムを溶解しながらpHが12.5になるまで加えた。
(Formulation example 5)
(Example of formulation of solution used in step (4))
7.5 g of copper sulfate pentahydrate, 91.2 g of ethylenediaminetetraacetate tetrasodium salt tetrahydrate, 0.1 g of polyethylene glycol (manufactured by Sanyo Chemical Industries, Ltd., trade name PEG2000), 2,2′-bipyridyl 0 0.02 g was put into a beaker and water was added to make 1 L. To this, 16 mL of 20% formalin was added, and finally, sodium hydroxide was dissolved until the pH reached 12.5.

(実施例1)
合成例1で得られた濃度10重量%のポリマー溶液2.0gにエポキシ当量が約190g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名JER828)1.5g、2−メチルイミダゾール0.015g、メタノール9g、ジメチルホルムアミド4.5gからなるエポキシ樹脂溶液0.56gを加えて撹拌混合し、コーティング溶液を作成した。この溶液をバーコーターにより厚さ50μmのPETフィルムに塗布し、窒素を吹き込んだオーブン中に投入し、110℃で1時間乾燥するとともにエポキシ化合物によるポリドーパミンアクリルアミドの架橋反応を進めた。この場合、エポキシ基とフェノール性水酸基が架橋反応したとして、残存するフェノール性水酸基の濃度を計算すると、コーティング組成物の固形分に対して約8.2mmol/gであった。
Example 1
1.5 g of bisphenol A type epoxy resin (trade name JER828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) having an epoxy equivalent of about 190 g / eq was added to 2.0 g of the polymer solution having a concentration of 10% by weight obtained in Synthesis Example 1. 0.56 g of an epoxy resin solution consisting of 0.015 g of methylimidazole, 9 g of methanol and 4.5 g of dimethylformamide was added and mixed by stirring to prepare a coating solution. This solution was applied to a PET film having a thickness of 50 μm with a bar coater, placed in an oven blown with nitrogen, dried at 110 ° C. for 1 hour, and a crosslinking reaction of polydopamine acrylamide with an epoxy compound was advanced. In this case, assuming that the epoxy group and the phenolic hydroxyl group had undergone a crosslinking reaction, the concentration of the remaining phenolic hydroxyl group was calculated to be about 8.2 mmol / g based on the solid content of the coating composition.

作成しためっき用試験片を用いて下記の条件で無電解めっきを実施したところ、いずれも還元性を有するポリマーを塗布した面のみに光沢のある銅めっきが析出した。これらの液は繰り返し数回使用しても同様にめっきができることが確認できた。
なお、表1〜8においてめっき析出性の評価は、全面にめっきが析出した場合○、一部に析出が見られた場合を△、全く析出しなかった場合を×で表すこととする。
When electroless plating was carried out under the following conditions using the prepared test piece for plating, glossy copper plating was deposited only on the surface to which a polymer having reducibility was applied. It was confirmed that these solutions could be plated in the same manner even when used several times.
In Tables 1 to 8, the evaluation of the plating deposition property is represented by “◯” when plating is deposited on the entire surface, “Δ” when precipitation is partially observed, and “x” when no plating is deposited.

工程(3)を経過した後の試験片について原子間力顕微鏡(AFM)で拡大観察して観察された粒子の写真を、図2に示す。図2の写真では直径約10nmの粒子状の物質が密集していることが観察できた。   The photograph of the particle | grains observed by expanding and observing with the atomic force microscope (AFM) about the test piece after passing through a process (3) is shown in FIG. In the photograph of FIG. 2, it can be observed that particulate substances having a diameter of about 10 nm are concentrated.

Figure 2012072440
Figure 2012072440

(実施例2)
合成例2で得られた濃度10重量%のポリマー溶液2.0gにエポキシ当量が約190g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名JER828)1.5g、2−メチルイミダゾール0.015g、メタノール9g、ジメチルホルムアミド4.5gからなるエポキシ樹脂溶液0.56gを加えて撹拌混合し、コーティング溶液を作成した。この溶液をバーコーターにより厚さ50μmのPETフィルムに塗布し、窒素を吹き込んだオーブン中に投入し、110℃で1時間乾燥するとともにエポキシ化合物によるポリドーパミンアクリルアミドの架橋反応を進めた。この場合、エポキシ基とフェノール性水酸基が架橋反応したとして、残存するフェノール性水酸基の濃度を計算すると、コーティング組成物の固形分に対して約3.8mmol/gであった。
(Example 2)
1.5 g of bisphenol A type epoxy resin (trade name JER828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) having an epoxy equivalent of about 190 g / eq was added to 2.0 g of the polymer solution having a concentration of 10% by weight obtained in Synthesis Example 2. 0.56 g of an epoxy resin solution consisting of 0.015 g of methylimidazole, 9 g of methanol and 4.5 g of dimethylformamide was added and mixed by stirring to prepare a coating solution. This solution was applied to a PET film having a thickness of 50 μm with a bar coater, placed in an oven blown with nitrogen, dried at 110 ° C. for 1 hour, and a crosslinking reaction of polydopamine acrylamide with an epoxy compound was advanced. In this case, assuming that the epoxy group and the phenolic hydroxyl group had undergone a crosslinking reaction, the concentration of the remaining phenolic hydroxyl group was calculated to be about 3.8 mmol / g based on the solid content of the coating composition.

作成しためっき用試験片を用いて下記の条件で無電解めっきを実施したところ、実施例1に比べて温度を高めに設定し、時間を長めに設定することで、還元性を有するポリマーを塗布した面のみに光沢のある銅めっきが析出した。これらの液は繰り返し数回使用しても同様にめっきができることを確認できた。なお、表中においてめっき析出性の評価は、前に説明した通りである。この実施例においてめっき析出性が△であった条件、○であった条件について、それぞれ工程(3)経過後のテストピースをAFMで表面観察し、AFM像を観察したところ、△の場合よりも○になるにつれて、微粒子状析出物の大きさや数が増えている様子が判った。
また、条件番号4及び5の工程(3)により生成した微粒子状析出物の画像内での面積比率を画像処理ソフトによって計算したところ、それぞれ5.7%、19.0%となった。したがって、めっきを析出させるためには微粒子の析出面積が5%以上であることが好ましく、15%以上であることがより好ましいことが判った。
When electroless plating was carried out under the following conditions using the prepared test specimen for plating, the temperature was set higher than in Example 1, and the polymer having reducibility was applied by setting the time longer. A shiny copper plating was deposited only on the finished surface. It was confirmed that even when these solutions were used repeatedly several times, they could be similarly plated. In the table, the evaluation of the plating depositability is as described above. In this example, the surface of the test piece after the step (3) was observed with an AFM and the AFM image was observed under conditions where the plating deposition property was Δ and ○, respectively. It turned out that the size and the number of the fine particle precipitates increased as the mark became.
Moreover, when the area ratio in the image of the fine particle precipitate produced | generated by the process (3) of condition number 4 and 5 was calculated with the image processing software, they were 5.7% and 19.0%, respectively. Therefore, it was found that the deposition area of the fine particles is preferably 5% or more and more preferably 15% or more in order to deposit the plating.

Figure 2012072440
Figure 2012072440

(実施例3)
合成例2で得られた濃度10重量%のポリマー溶液2.0gに対し、エポキシ当量が約190g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名JER828)1.5g、2−メチルイミダゾール0.015g、メタノール9g、ジメチルホルムアミド4.5gからなるエポキシ樹脂溶液1.4gを加えて撹拌混合し、コーティング溶液を作成した。この溶液をバーコーターにより厚さ50μmのPETフィルムに塗布し、窒素を吹き込んだオーブン中に投入し、110℃で1時間乾燥するとともにエポキシ化合物によるポリドーパミンアクリルアミドの架橋反応を進めた。この場合、エポキシ基とフェノール性水酸基が架橋反応したとして、残存するフェノール性水酸基の濃度を計算すると、コーティング組成物の固形分に対して約2.8mmol/gであった。
(Example 3)
1.5 g of bisphenol A type epoxy resin (trade name JER828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) having an epoxy equivalent of about 190 g / eq with respect to 2.0 g of the polymer solution having a concentration of 10% by weight obtained in Synthesis Example 2; 1.4 g of an epoxy resin solution consisting of 0.015 g of 2-methylimidazole, 9 g of methanol and 4.5 g of dimethylformamide was added and mixed by stirring to prepare a coating solution. This solution was applied to a PET film having a thickness of 50 μm with a bar coater, placed in an oven blown with nitrogen, dried at 110 ° C. for 1 hour, and a crosslinking reaction of polydopamine acrylamide with an epoxy compound was advanced. In this case, assuming that the epoxy group and the phenolic hydroxyl group had undergone a crosslinking reaction, the concentration of the remaining phenolic hydroxyl group was calculated to be about 2.8 mmol / g based on the solid content of the coating composition.

作成しためっき用試験片を用いて下記の条件で無電解めっきを実施したところ、実施例2に比べて温度を高めに設定し、時間を長めに設定することで、還元性を有するポリマーを塗布した面の一部に光沢のある銅めっきが析出した。さらに時間を掛けることで全面にめっきが析出する可能性はあるが、工業的には時間がかかりすぎるのでこれ以上条件を検討しなかった。これらの液は繰り返し数回使用しても同様にめっきができることを確認できた。   When electroless plating was carried out under the following conditions using the prepared test specimen for plating, the temperature was set higher than in Example 2, and the polymer having reducibility was applied by setting the time longer. A shiny copper plating was deposited on a part of the finished surface. Furthermore, there is a possibility that the plating is deposited on the entire surface by taking time, but since it takes too much time industrially, the conditions were not examined any more. It was confirmed that even when these solutions were used repeatedly several times, they could be similarly plated.

Figure 2012072440
Figure 2012072440

(実施例4)
合成例3で得られた濃度10重量%のポリマー溶液2.0gにイソシアネート含有率13.2%、固形分濃度75%の溶液(日本ポリウレタン工業(株)製、商品名コロネートL)0.03g、ジメチルホルムアミド0.2gを加えて撹拌混合し、コーティング溶液を作成した。この溶液をバーコーターにより厚さ50μmのPETフィルムに塗布し、窒素を吹き込んだオーブン中に投入し、80℃で1時間乾燥するとともにイソシアネート化合物によるポリドーパミンアクリルアミドの架橋反応を進めた。この場合、エポキシ樹脂とフェノール性水酸基が架橋反応したとして、残存するフェノール性水酸基の濃度を計算すると、コーティング組成物の固形分に対して約8.2mmol/gであった。
Example 4
0.03 g of a solution having an isocyanate content of 13.2% and a solid content concentration of 75% (trade name Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd.) was added to 2.0 g of the polymer solution having a concentration of 10% by weight obtained in Synthesis Example 3. Then, 0.2 g of dimethylformamide was added and mixed by stirring to prepare a coating solution. This solution was applied to a PET film having a thickness of 50 μm by a bar coater, placed in an oven blown with nitrogen, dried at 80 ° C. for 1 hour, and a cross-linking reaction of polydopamine acrylamide with an isocyanate compound was advanced. In this case, assuming that the epoxy resin and the phenolic hydroxyl group had undergone a crosslinking reaction, the concentration of the remaining phenolic hydroxyl group was calculated to be about 8.2 mmol / g based on the solid content of the coating composition.

作成しためっき用試験片を用いて下記の条件で無電解めっきを実施したところ、実施例1と同様の条件で、還元性を有するポリマーを塗布した面に光沢のある銅めっきが析出した。これらの液は繰り返し数回使用しても同様にめっきができることを確認できた。なお、表中においてめっき析出性の評価は、全面にめっきした場合○で表した。   When electroless plating was performed under the following conditions using the prepared test piece for plating, shiny copper plating was deposited on the surface coated with the reducing polymer under the same conditions as in Example 1. It was confirmed that even when these solutions were used repeatedly several times, they could be similarly plated. In the table, the evaluation of the plating deposition property is represented by ◯ when the entire surface is plated.

Figure 2012072440
Figure 2012072440

(実施例5)
合成例4で得られた濃度10重量%のポリドーパミンメタクリルアミドの溶液2.0gにエポキシ当量が約190g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名JER828)1.5g、2−メチルイミダゾール0.015g、メタノール9g、ジメチルホルムアミド4.5gからなるエポキシ樹脂溶液0.56gを加えて撹拌混合し、コーティング溶液を作成した。この溶液をバーコーターにより厚さ50μmのPETフィルムに塗布し、窒素を吹き込んだオーブン中に投入し、110℃で1時間乾燥するとともにエポキシ化合物によるポリドーパミンアクリルアミドの架橋反応を進めた。この場合、エポキシ基とフェノール性水酸基が架橋反応したとして、残存するフェノール性水酸基の濃度を計算すると、コーティング組成物の固形分に対して約7.6mmol/gであった。
(Example 5)
1. A bisphenol A type epoxy resin having an epoxy equivalent of about 190 g / eq (2.0 brand name JER828, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.) in 2.0 g of a 10 wt% polydopamine methacrylamide solution obtained in Synthesis Example 4. An epoxy resin solution 0.56 g composed of 5 g, 2-methylimidazole 0.015 g, methanol 9 g, and dimethylformamide 4.5 g was added and mixed by stirring to prepare a coating solution. This solution was applied to a PET film having a thickness of 50 μm with a bar coater, placed in an oven blown with nitrogen, dried at 110 ° C. for 1 hour, and a crosslinking reaction of polydopamine acrylamide with an epoxy compound was advanced. In this case, assuming that the epoxy group and the phenolic hydroxyl group were cross-linked, the concentration of the remaining phenolic hydroxyl group was calculated to be about 7.6 mmol / g based on the solid content of the coating composition.

作成しためっき用試験片を用いて下記の条件で無電解めっきを実施したところ、いずれも還元性を有するポリマーを塗布した面のみに光沢のある銅めっきが析出した。これらの液は繰り返し数回使用しても同様にめっきができることを確認できた。   When electroless plating was carried out under the following conditions using the prepared test piece for plating, glossy copper plating was deposited only on the surface to which a polymer having reducibility was applied. It was confirmed that even when these solutions were used repeatedly several times, they could be similarly plated.

Figure 2012072440
Figure 2012072440

(実施例6)パターン形成例
合成例1で得られた濃度10重量%のポリマー溶液2.0gに紫外線硬化性樹脂としてトリメチロールプロパントリアクリレート(東亞合成(株)製、商品名アロニックスM309)0.4g、ラジカル系光重合開始剤(BASF社製、商品名イルガキュア907)、エポキシ当量が約190g/eqのビスフェノールA型エポキシ樹脂(ジャパンエポキシレジン(株)製、商品名JER828)1.5g、2−メチルイミダゾール0.015g、メタノール9g、ジメチルホルムアミド4.5gからなるエポキシ樹脂溶液0.56gを加えて撹拌混合し、コーティング溶液を作成した。この溶液をバーコーターにより厚さ50μmのPETフィルムに塗布し、窒素を吹き込んだオーブン中に投入し、60℃で1時間乾燥後取り出した。この上に直径3mmの円形の黒色パターンが格子状に配列されたフォトマスクを密着させ、フォトマスクの上から紫外線を400mJ/cm2照射した。続いてフォトマスクをはずして、コーティング面をメタノールで洗浄した。さらに窒素を吹き込んだオーブン中に投入し、110℃で1時間、エポキシ化合物によるポリドーパミンアクリルアミドの架橋反応を進めた。この場合、エポキシ基とフェノール性水酸基が架橋反応したとして、残存するフェノール性水酸基の濃度を計算すると、コーティング組成物の固形分に対して約5.9mmol/gであった。
Example 6 Pattern Formation Example Trimethylolpropane triacrylate (trade name Aronix M309, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) as an ultraviolet curable resin was added to 2.0 g of the polymer solution having a concentration of 10% by weight obtained in Synthesis Example 1. .4 g, radical photopolymerization initiator (BASF, trade name Irgacure 907), epoxy equivalent of about 190 g / eq bisphenol A type epoxy resin (Japan Epoxy Resin, trade name JER828) 1.5 g, An epoxy resin solution 0.56 g composed of 0.015 g of 2-methylimidazole, 9 g of methanol and 4.5 g of dimethylformamide was added and mixed by stirring to prepare a coating solution. This solution was applied to a 50 μm thick PET film by a bar coater, put into an oven blown with nitrogen, dried at 60 ° C. for 1 hour, and taken out. A photomask in which circular black patterns with a diameter of 3 mm were arranged in a lattice pattern was brought into close contact therewith, and ultraviolet rays were irradiated from above the photomask at 400 mJ / cm 2 . Subsequently, the photomask was removed, and the coating surface was washed with methanol. Furthermore, it was put into an oven in which nitrogen was blown, and a crosslinking reaction of polydopamine acrylamide with an epoxy compound was advanced at 110 ° C. for 1 hour. In this case, assuming that the epoxy group and the phenolic hydroxyl group had undergone a crosslinking reaction, the concentration of the remaining phenolic hydroxyl group was calculated to be about 5.9 mmol / g based on the solid content of the coating composition.

作成しためっき用試験片を用いて実施例2の条件5で無電解めっきを実施したところ、フォトマスクの黒色の円形パターンに相当する部分以外に銅めっきが析出した。     When electroless plating was performed under the condition 5 of Example 2 using the prepared test piece for plating, copper plating was deposited on portions other than the portion corresponding to the black circular pattern of the photomask.

(比較例1)
実施例1で作成した試験片について、工程(2)の後、工程(3)を行わずに工程(4)を実施したところ、条件を変えてもめっきは析出しなかった。工程(2)経由後のサンプルをAFMで観察したところ、全面に直径数十nmの微粒子が密集したような表面形状が観察された。
工程(2)及び(3)を経由した場合には、被めっき物上に粒子が密集したような類似した形状が観察できたが、工程(2)を経由しただけでは無電解めっきの析出は見られず、工程(2)で析出する微粒子は自己触媒性を有していない、すなわち0価の銅ではないといえる。後述の参考例の結果より工程(2)経由後に表面に析出した微粒子状の物質は亜酸化銅(Cu2O)であると考えられる。
(Comparative Example 1)
About the test piece created in Example 1, when the process (4) was performed without performing the process (3) after the process (2), the plating did not precipitate even if the conditions were changed. When the sample after passing through the step (2) was observed by AFM, a surface shape in which fine particles having a diameter of several tens of nm were densely observed on the entire surface was observed.
When passing through the steps (2) and (3), a similar shape in which particles were densely observed on the object to be plated could be observed. It can be said that the fine particles deposited in the step (2) do not have autocatalytic properties, that is, are not zero-valent copper. From the result of the reference example described later, it is considered that the fine particle substance deposited on the surface after passing through the step (2) is cuprous oxide (Cu 2 O).

Figure 2012072440
Figure 2012072440

(比較例2)
実施例1で作成した試験片について、工程(2)を行わずに工程(3)と工程(4)を実施したところ、条件を変えてもめっきは析出しなかった。この結果、工程(3)で還元剤が付着したことにより、工程(4)でめっきができるという可能性は無い。また比較例1及び2の結果より、この場合は工程(2)及び(3)の両方を経由することで、工程(4)でめっきが析出したと言える。
(Comparative Example 2)
About the test piece created in Example 1, when the process (3) and the process (4) were performed without performing the process (2), plating did not precipitate even if the conditions were changed. As a result, there is no possibility that plating can be performed in the step (4) due to the attachment of the reducing agent in the step (3). From the results of Comparative Examples 1 and 2, in this case, it can be said that the plating was deposited in step (4) by going through both steps (2) and (3).

Figure 2012072440
Figure 2012072440

(比較例3)
実施例1で作成した試験片について、工程(2)及び工程(3)のいずれもを行わずに工程(4)のみを実施したところ、条件を変えてもめっきは析出しなかった。
(Comparative Example 3)
About the test piece created in Example 1, when performing only the process (4) without performing any of the process (2) and the process (3), the plating did not precipitate even if the conditions were changed.

Figure 2012072440
Figure 2012072440

(比較例4)
特許文献3に基づき、塩化銅(II)2水和物8.5g、エチレンジアミン四酢酸14.6g、ほう酸6.2g、ジメチルアミノボラン5.9gをビーカーにとり、超純水を加えて1Lとした、ここに水酸化ナトリウムを溶解させながら加えてpHを7に調整した。この液を30℃に保持し、実施例1で作成した試験片を浸漬したところ、約40分間はめっきが析出せず、40分経過後に液が黒く変色して黒い固体が析出した。試験片を取り出すと還元性基含有ポリマーの塗布面と塗布していない面の両側にめっきが析出しており、ビーカーの内側にも一部めっきが析出した。また、このめっき液は試験片投入前には青緑色であったが、黒い固体が沈殿したあとは無色透明になっており、繰り返してめっきに使用することができなかった。めっき業者ではよく知られた、めっき液が分解した状態となっていた。
(Comparative Example 4)
Based on Patent Document 3, 8.5 g of copper (II) chloride dihydrate, 14.6 g of ethylenediaminetetraacetic acid, 6.2 g of boric acid, and 5.9 g of dimethylaminoborane were placed in a beaker, and ultrapure water was added to make 1 L. The pH was adjusted to 7 by adding sodium hydroxide while dissolving. When this liquid was kept at 30 ° C. and the test piece prepared in Example 1 was immersed, plating did not precipitate for about 40 minutes, and after 40 minutes, the liquid turned black and a black solid precipitated. When the test piece was taken out, plating was deposited on both sides of the coated surface of the reducing group-containing polymer and the uncoated surface, and a part of the plating was also deposited inside the beaker. This plating solution was blue-green before the test piece was introduced, but after the black solid precipitated, it became colorless and transparent and could not be used repeatedly for plating. The plating solution was in a state of being decomposed, which is well known to plating companies.

(参考例)
容量300mLの4つ口フラスコに、に各種フェノール類とジメチルアミノボランをそれぞれフェノール性水酸基濃度で0.2mol/L、ジメチルアミノボランの場合はその濃度を0.2mol/Lとなるように採取し、水を加えて200mLとした。このビーカーを温水浴に浸してビーカー内の液温度を60℃±1℃に保持した。ここへ水酸化ナトリウムを少量ずつ添加しながらpHを上げていき、酸化還元電位を測定した。pHと酸化還元電位の関係を図1に示す。
さらに同様の液についてpHを変えた液を用意し、それぞれに塩化銅(II)1.5gを加えて撹拌し、室温まで冷却後、液をろ過し、超純水で数回洗浄した後にろ紙ごと減圧乾燥器で乾燥した。pHや還元性化合物の種類ごとに沈殿の発生状況は異なり、カテコール、ハイドロキノン、ピロガロールを添加した水溶液ではpH12付近で赤褐色の沈殿が発生しており、pH10未満では沈殿を生じなかった。また、フェノールとレゾルシノールの水溶液からは沈殿は発生しなかった。フェノールとレゾルシノールは、カテコールやハイドロキノンに比べて、pH12付近でも酸化還元電位が高く、金属イオンを還元する能力は無いものと考えられ、水酸基が1個しかない場合や水酸基が2個あっても互いにメタ位に位置する構造では還元力が不十分である。一方互いにメタ位に位置する水酸基が存在しても、ピロガロールのようにいずれかの組み合わせがオルトもしくはパラ位になっていれば充分な還元性が得られる。比較に用いたジメチルアミノボラン水溶液からはpH12で黒褐色の沈殿が得られた。
(Reference example)
In a four-necked flask with a capacity of 300 mL, various phenols and dimethylaminoborane are collected so that the phenolic hydroxyl group concentration is 0.2 mol / L, and in the case of dimethylaminoborane, the concentration is 0.2 mol / L. , Water was added to 200 mL. This beaker was immersed in a warm water bath to maintain the liquid temperature in the beaker at 60 ° C. ± 1 ° C. The pH was raised while sodium hydroxide was added little by little, and the oxidation-reduction potential was measured. The relationship between pH and redox potential is shown in FIG.
Further, prepare liquids with different pH values for the same liquid, add 1.5 g of copper (II) chloride to each, stir, cool to room temperature, filter the liquid, wash several times with ultrapure water, and filter paper Each was dried in a vacuum dryer. Precipitation occurred differently depending on the pH and the type of the reducing compound. In the aqueous solution to which catechol, hydroquinone and pyrogallol were added, a reddish brown precipitate was generated around pH 12, and no precipitate was formed below pH 10. In addition, precipitation did not occur from an aqueous solution of phenol and resorcinol. Phenol and resorcinol have higher redox potential near pH 12 than catechol and hydroquinone, and are considered to have no ability to reduce metal ions. Even if there is only one hydroxyl group or two hydroxyl groups, In the structure located at the meta position, the reducing power is insufficient. On the other hand, even if there are hydroxyl groups located at the meta positions, sufficient reducibility can be obtained if any combination is in the ortho or para position as in pyrogallol. A dark brown precipitate was obtained at pH 12 from the aqueous dimethylaminoborane solution used for comparison.

これら沈殿をX線回折装置(XRD)により、CuKα線の回折で分析したところ、カテコール、ハイドロキノン、ピロガロール入りの溶液から得られた赤褐色沈殿の主成分は、回折角2θ=38.4°及び42.2°のピークが標品と一致することから、亜酸化銅(Cu2O)であることが判った。またジメチルアミノボラン水溶液から得られた黒褐色の沈殿は銅であった。したがって、自己触媒を有する金属が銅の場合、カテコール、ハイドロキノン、ピロガロールは、酸化還元電位で比較しても判るようにジメチルアミノボランほどの還元力は無いが、pHが12付近まで高くなると、2価の銅イオンを1価まで還元する能力を有しており、その際の酸化還元電位は、Ag/AgCl電極を基準とした場合に−300mV以下である必要がある。
この結果より、実施例の工程(2)で析出してきた微粒子状の物質は亜酸化銅(Cu2O)であると思われ、工程(3)においてジメチルアミノボランなどの還元剤でCuまで還元することで、工程(4)における無電解銅めっきの触媒として機能するに至ったと考えられる。
These precipitates were analyzed by X-ray diffractometer (XRD) by CuKα ray diffraction. As a result, the main components of reddish brown precipitates obtained from a solution containing catechol, hydroquinone and pyrogallol were found to have diffraction angles 2θ = 38.4 ° and 42 The .2 ° peak coincided with the sample, indicating that it was cuprous oxide (Cu 2 O). The blackish brown precipitate obtained from the aqueous dimethylaminoborane solution was copper. Therefore, when the metal having an autocatalyst is copper, catechol, hydroquinone, and pyrogallol are not as reducing as dimethylaminoborane, as can be seen from the oxidation-reduction potential, but when the pH increases to around 12, It has the ability to reduce monovalent copper ions to monovalent, and the oxidation-reduction potential at that time needs to be −300 mV or less when the Ag / AgCl electrode is used as a reference.
From this result, it is considered that the particulate material precipitated in step (2) of the example is cuprous oxide (Cu 2 O), and in step (3), it is reduced to Cu with a reducing agent such as dimethylaminoborane. It is thought that it came to function as a catalyst of the electroless copper plating in a process (4) by doing.

(めっきの性能評価方法)
実施例1〜3及び比較例4で析出した無電解めっき被膜について、密着性を調べるために、めっき上にカッターナイフによる切れ込み2本を30度に交差するように入れた。ここに透明なテープを張り、引き剥がしてめっきの剥がれを観察した。いずれも剥がれは無く良好な密着性を示した。
(Plating performance evaluation method)
For the electroless plating films deposited in Examples 1 to 3 and Comparative Example 4, in order to examine the adhesion, two cuts by a cutter knife were put on the plating so as to intersect at 30 degrees. A transparent tape was stretched and peeled off to observe the peeling of the plating. None of them peeled off and showed good adhesion.

Claims (9)

被めっき物の表面上に、めっき金属の金属イオンを還元する能力を有する有機残基を側鎖に含有するポリマーを塗設する工程(1)と、
前記ポリマーが塗設された被めっき物の表面上に、前記金属イオンを含みこの金属イオンを還元しうる還元剤を含まない溶液中において、前記金属イオンの部分還元金属酸化物を析出させる工程(2)と、
前記金属イオンを還元しうる還元剤を含む溶液中において、前記部分還元金属酸化物を自己触媒性を有するめっき金属に還元する工程(3)と、
被めっき物の表面上に、無電解めっき液中において、めっき金属の被膜を形成する工程(4)と、を含む
無電解めっき方法。
A step (1) of coating a polymer containing an organic residue in a side chain having an ability to reduce metal ions of a plating metal on the surface of an object to be plated;
A step of precipitating a partially reduced metal oxide of the metal ion in a solution containing the metal ion and not containing a reducing agent capable of reducing the metal ion on the surface of the object coated with the polymer ( 2) and
A step (3) of reducing the partially reduced metal oxide to a plating metal having autocatalytic properties in a solution containing a reducing agent capable of reducing the metal ions;
A step (4) of forming a plating metal film on the surface of an object to be plated in an electroless plating solution.
前記有機残基がヒドロキノン残基、カテコール残基又はピロガロール残基である、請求項1に記載の無電解めっき方法。   The electroless plating method according to claim 1, wherein the organic residue is a hydroquinone residue, a catechol residue, or a pyrogallol residue. 前記ポリマーが架橋された、請求項1又は2に記載の無電解めっき方法。   The electroless plating method according to claim 1, wherein the polymer is crosslinked. 前記有機残基のフェノール性水酸基の含有量が4mmol/gポリマー以上である、請求項1〜3のいずれか1つに記載の無電解めっき方法。   The electroless plating method according to any one of claims 1 to 3, wherein a content of the phenolic hydroxyl group of the organic residue is 4 mmol / g polymer or more. めっき金属が銅又はニッケルである、請求項1〜4のいずれか1つに記載の無電解めっき方法。   The electroless plating method according to claim 1, wherein the plating metal is copper or nickel. 自己触媒性を有するめっき金属が被めっき物の表面を5%以上被覆している工程(3)である、請求項1〜5のいずれか1つに記載の無電解めっき方法。   The electroless plating method according to any one of claims 1 to 5, which is a step (3) in which a plating metal having self-catalytic properties covers a surface of an object to be plated by 5% or more. 前記めっき金属が銅であり、前記工程(2)における部分還元金属酸化物がCu2Oである、請求項1〜6のいずれか1つに記載の銅の無電解めっき方法。 The electroless plating method for copper according to any one of claims 1 to 6, wherein the plating metal is copper, and the partially reduced metal oxide in the step (2) is Cu 2 O. 前記ポリマーをパターニングする工程を含み、前記めっき金属のパターン状被膜を形成する工程とした、請求項1〜7のいずれか1つに記載の無電解めっき方法。   The electroless plating method according to any one of claims 1 to 7, which includes a step of patterning the polymer and forming a patterned film of the plated metal. 請求項1〜8のいずれか1つに記載の無電解めっき方法で無電解めっきを析出させためっき製品。   A plated product in which electroless plating is deposited by the electroless plating method according to claim 1.
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