JP2012059619A - Protective film, plasma display panel and display device - Google Patents
Protective film, plasma display panel and display device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2012059619A JP2012059619A JP2010203350A JP2010203350A JP2012059619A JP 2012059619 A JP2012059619 A JP 2012059619A JP 2010203350 A JP2010203350 A JP 2010203350A JP 2010203350 A JP2010203350 A JP 2010203350A JP 2012059619 A JP2012059619 A JP 2012059619A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- magnesium oxide
- oxide
- rare earth
- display panel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
【課題】保護膜に必要な(a)イオン衝突に強いこと(=低スパッタレート)、(b)二次電子放出度が高いこと(=低電圧特性であること)、(c)電荷を蓄積できる十分な絶縁性があること(=位相差の特性が良好なこと)、を具備するプラズマディスプレイパネル用保護膜を提供する。
【解決手段】酸化マグネシウムMgOを成分とする第1の保護膜4を前面側ガラス基板1及び表示電極2を覆う形で形成された誘電体層3を更に覆う形で形成する。この誘電体層3を保護する第1の保護膜4を形成し、更に第2の保護膜5を重ねて形成する。この第1の保護膜4は酸化マグネシウムを成分とする。第2の保護膜5は酸化マグネシウム及び希土類酸化物の混合物で構成する。
【選択図】図1[PROBLEMS] To provide (a) resistance to ion collision required for a protective film (= low sputtering rate), (b) high secondary electron emission (= low voltage characteristics), and (c) charge accumulation. Provided is a protective film for a plasma display panel having sufficient insulation properties (= good phase difference characteristics).
A first protective film 4 containing magnesium oxide MgO as a component is formed so as to further cover a dielectric layer 3 formed so as to cover a front glass substrate 1 and a display electrode 2. A first protective film 4 that protects the dielectric layer 3 is formed, and a second protective film 5 is further formed thereon. The first protective film 4 contains magnesium oxide as a component. The second protective film 5 is composed of a mixture of magnesium oxide and rare earth oxide.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、表示デバイスとして用いられるプラズマディスプレイパネル、特に保護膜を形成する材料及びその形成方法に関する。 The present invention relates to a plasma display panel used as a display device, and more particularly to a material for forming a protective film and a method for forming the same.
プラズマディスプレイパネルは2枚のガラス基板の間隙に密閉された微小な放電空間を多数設けた表示デバイスである。現在、一般的なAC型プラズマディスプレイパネルでは、前面側ガラス基板の表示電極は誘電体層で被覆され、さらに該誘電体層上に保護膜が形成される。 A plasma display panel is a display device provided with a large number of minute discharge spaces sealed in the gap between two glass substrates. Currently, in a general AC type plasma display panel, a display electrode of a front glass substrate is covered with a dielectric layer, and a protective film is further formed on the dielectric layer.
誘電体層は電極への電圧印加により生じた電荷を蓄積するために設けられている。保護膜は放電ガス中のイオンの衝突による誘電体層の損傷を防ぐと同時に、二次電子放出により放電開始電圧を低減するために設けられている。 The dielectric layer is provided for accumulating charges generated by applying a voltage to the electrodes. The protective film is provided to prevent damage to the dielectric layer due to collision of ions in the discharge gas and to reduce the discharge start voltage by secondary electron emission.
保護膜に求められる特性としては、(a)イオン衝突に強いこと(=低スパッタレートであること)、(b)二次電子放出度が高いこと(=低電圧特性であること)、の他に、(c)電荷を蓄積できる十分な絶縁性があること(=位相差の特性が良好なこと)、があげられる。 The characteristics required for the protective film include (a) being strong against ion collision (= low sputtering rate), (b) having a high secondary electron emission degree (= low voltage characteristics), and the like. (C) that it has sufficient insulating properties to accumulate charges (= good phase difference characteristics).
従来、保護膜としては、蒸着で形成された厚さ数百nm程度の酸化マグネシウム膜が主に用いられている。これを基準として、上記各性能をさらに改善すべく新しい材料が提案されている。 Conventionally, as the protective film, a magnesium oxide film having a thickness of about several hundreds nm formed by vapor deposition is mainly used. Based on this, new materials have been proposed to further improve the above-described performances.
特開昭52−116067号公報(特許文献1)では、ストロンチウムSrの酸化物または炭酸塩等の化合物にアルカリ土類または希土類元素の一種以上の化合物を混合した材料により、電極を被覆する誘電体層または保護膜層を形成することが開示されている。 In Japanese Patent Application Laid-Open No. 52-116067 (Patent Document 1), a dielectric that covers an electrode with a material in which a compound such as an oxide or carbonate of strontium Sr is mixed with one or more compounds of alkaline earth or rare earth elements. It is disclosed to form a layer or a protective film layer.
特開2000−164143号公報(特許文献2)では、酸化マグネシウムをアモルファス状態にすることで、不純ガスの含有量を低減し、放電電圧等の放電特性を改善向上したAC型プラズマディスプレイパネルが開示されている。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-164143 (Patent Document 2) discloses an AC plasma display panel in which magnesium oxide is made in an amorphous state to reduce the content of impure gas and improve discharge characteristics such as discharge voltage. Has been.
特開平8−96718号公報(特許文献3)では、希土類酸化物からなる保護膜成分を含むペーストから焼成されてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルを開示する。 Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-96718 (Patent Document 3) discloses a plasma display panel which is fired from a paste containing a protective film component made of a rare earth oxide.
特開2003−173738号公報(特許文献4)では、酸化マグネシウムを主成分として、希土類酸化物を少なくとも一種以上を含有するプラズマディスプレイパネルを開示する。 Japanese Patent Laying-Open No. 2003-173738 (Patent Document 4) discloses a plasma display panel containing magnesium oxide as a main component and containing at least one rare earth oxide.
特開2006−139999号公報(特許文献5)では、希土類酸化物を含有する保護層を備えるプラズマディスプレイパネルが開示されている。 Japanese Patent Laying-Open No. 2006-139999 (Patent Document 5) discloses a plasma display panel including a protective layer containing a rare earth oxide.
しかし、前記の3特性全てを満たし、従来保護膜に使用されている酸化マグネシウムの代替となる材料までには至っていない。 However, it has not yet been a material that satisfies all the above-mentioned three characteristics and can be used as a substitute for magnesium oxide that is conventionally used for protective films.
本発明の目的は、上記の3特性を具備するプラズマディスプレイパネル用保護膜を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a protective film for a plasma display panel having the above three characteristics.
本発明の前記並びにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろう。 The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、次の通りである。 Of the inventions disclosed in the present application, the outline of typical ones will be briefly described as follows.
本発明の代表的な実施の形態に関わる保護膜は、前面板の一方の面に配置された表示電極及び表示電極を覆う誘電体層を保護し、該保護膜は、第1の保護膜層と、第2の保護膜層を含み、第1の保護膜層は、前記誘電体層及び前記第2の保護膜層と挟まれるように配置され、第2の保護膜層は酸化マグネシウム及び希土類酸化物との混合物で形成され、放電空間に露出していることを特徴とする。 A protective film according to a representative embodiment of the present invention protects a display electrode disposed on one surface of a front plate and a dielectric layer covering the display electrode, and the protective film is a first protective film layer And the second protective film layer is disposed so as to be sandwiched between the dielectric layer and the second protective film layer, and the second protective film layer is composed of magnesium oxide and rare earth. It is formed of a mixture with an oxide and is exposed to the discharge space.
この保護膜において、第1の保護膜層は酸化マグネシウムで構成されていることを特徴としても良い。 In this protective film, the first protective film layer may be made of magnesium oxide.
この保護膜の希土類酸化物は、ユーロピウム酸化物であることを特徴としても良い。 The rare earth oxide of the protective film may be europium oxide.
この保護膜は、酸化マグネシウムとユーロピウム酸化物との混合物の組成がMg:Eu=90:10から60:40であることを特徴としても良い。 The protective film may be characterized in that the composition of the mixture of magnesium oxide and europium oxide is Mg: Eu = 90: 10 to 60:40.
この保護膜の希土類酸化物は、ランタン酸化物であることを特徴としても良い。 The rare earth oxide of the protective film may be lanthanum oxide.
この保護膜は、酸化マグネシウムとランタン酸化物との混合物の組成がMg:La=90:10から40:60であることを特徴としても良い。 This protective film may be characterized in that the composition of the mixture of magnesium oxide and lanthanum oxide is Mg: La = 90: 10 to 40:60.
この保護膜の希土類酸化物は、ガドリウム酸化物であることを特徴としても良い。 The rare earth oxide of the protective film may be gadolinium oxide.
この保護膜は酸化マグネシウムと前記ガドリウム酸化物との混合物の組成がMg:Gd=95:5から45:55であることを特徴としても良い。 The protective film may be characterized in that the composition of the mixture of magnesium oxide and the gadolinium oxide is Mg: Gd = 95: 5 to 45:55.
これらの保護膜を用いたプラズマディスプレイパネル、またこのプラズマディスプレイパネルを用いた表示装置も本発明の射程に入る。 A plasma display panel using these protective films and a display device using this plasma display panel also fall within the scope of the present invention.
本発明に関わるプラズマディスプレイパネルは、酸化マグネシウムMgOを主成分としランタンLa等からなる希土類酸化物を含む保護膜層と酸化マグネシウムからなる保護膜層の二層構造からなる保護膜により、前記の3特性全てに良好な成績を収めることが可能となる。 The plasma display panel according to the present invention includes a protective film having a two-layer structure of a protective film layer containing a rare earth oxide composed mainly of magnesium oxide MgO and made of lanthanum La and the like, and a protective film layer made of magnesium oxide. It is possible to achieve good results for all the characteristics.
以下、図を用いて本発明の実施の形態を説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明にかかわるプラズマディスプレイパネル内の発光セルの断面を表す概念図である。 FIG. 1 is a conceptual diagram showing a cross section of a light emitting cell in a plasma display panel according to the present invention.
プラズマディスプレイパネルは大別すると前面側ガラス基板100と背面側ガラス基板200を含んで構成される。 The plasma display panel is roughly configured to include a front glass substrate 100 and a back glass substrate 200.
前面側ガラス基板100は、装置実装時に表示面となる側の基板である。この前面側ガラス基板100は、前面側ガラス板1、表示電極2、誘電体層3、第1の保護膜4、第2の保護膜5を含んで構成される。また、背面側ガラス基板200は、装置実装時に装置内に収納等される側の基板である。図上では、背面側ガラス基板200はリブ6、蛍光体層7、誘電体層8、アドレス電極9、背面側ガラス板10を含んで構成している。しかし、実際には装置の外観上、露出が問題となるような図示しないガス排気管などは、背面側ガラス基板200に設けられることが多い。 The front glass substrate 100 is a substrate on the side that becomes the display surface when the apparatus is mounted. The front glass substrate 100 includes a front glass plate 1, a display electrode 2, a dielectric layer 3, a first protective film 4, and a second protective film 5. The rear glass substrate 200 is a substrate on the side that is housed in the apparatus when the apparatus is mounted. In the drawing, the rear glass substrate 200 is configured to include ribs 6, phosphor layers 7, dielectric layers 8, address electrodes 9, and rear glass plates 10. However, in reality, a gas exhaust pipe (not shown) or the like whose exposure is a problem on the appearance of the apparatus is often provided on the rear glass substrate 200.
前面側ガラス板1は、前面側ガラス基板100の構造材としての役割を果たすガラス基板である。装置実装後はこの前面側ガラス板1を通して、プラズマディスプレイパルの表示映像が視者の目に届くこととなる。したがって、所望の構造材的な強度と可視光の透過性を有していれば、前面側ガラス板1の素材はガラスには限られない。 The front glass plate 1 is a glass substrate that serves as a structural material for the front glass substrate 100. After the device is mounted, the display image of the plasma display pal reaches the eyes of the viewer through the front glass plate 1. Therefore, the material of the front side glass plate 1 is not limited to glass as long as it has a desired structural material strength and visible light transmittance.
この前面側ガラス板1の表示面側(図1では上方)には乱反射の防止膜等が形成されることもあるが、本発明とは直接の関連がないため、ここでは省略している。 An irregular reflection prevention film or the like may be formed on the display surface side (upward in FIG. 1) of the front glass plate 1, but it is omitted here because it is not directly related to the present invention.
表示電極2は、前面側ガラス基板100に設けられる維持電極、走査電極をいう。本発明においては、この二つを区別する必要はないため、表示電極2としてまとめている。表示電極2は、一定の透過性を有するITO等で作成されることが多いが、材質には特に制限はない。 The display electrode 2 refers to a sustain electrode and a scan electrode provided on the front glass substrate 100. In the present invention, since it is not necessary to distinguish between the two, the display electrodes 2 are combined. The display electrode 2 is often made of ITO or the like having a certain transparency, but the material is not particularly limited.
誘電体層3は、アドレス電極9に加えられた電圧によって生じた電荷を蓄積するために設けられている。 The dielectric layer 3 is provided for accumulating charges generated by the voltage applied to the address electrode 9.
第1の保護膜4は、誘電体層3に接する保護膜である。また、第2の保護膜5は、第1の保護膜4に重ねる形で形成された保護膜である。本発明においては、第1の保護膜4は酸化マグネシウムMgOで構成するものと想定している。 The first protective film 4 is a protective film in contact with the dielectric layer 3. The second protective film 5 is a protective film formed so as to overlap the first protective film 4. In the present invention, it is assumed that the first protective film 4 is composed of magnesium oxide MgO.
第2の保護膜5は、柱状構造を有して形成される。第2の保護膜5の材料については後述する。 The second protective film 5 is formed having a columnar structure. The material of the second protective film 5 will be described later.
また、保護膜の性能は放電空間11に露出しているものの成分により決定される。プラズマディスプレイパネルはその性質上、使用に伴い保護膜は削れて失われていく。本発明においては、第2の保護膜5が削れて第1の保護膜4が放電空間11に露出すると第1の保護膜4の成分である酸化マグネシウムMgOの性質が支配することとなる。 Further, the performance of the protective film is determined by the components exposed to the discharge space 11. Due to the nature of plasma display panels, the protective film is scraped and lost with use. In the present invention, when the second protective film 5 is shaved and the first protective film 4 is exposed to the discharge space 11, the properties of magnesium oxide MgO, which is a component of the first protective film 4, dominate.
リブ6は、前面側ガラス基板100と背面側ガラス基板200を貼合したときに、発光スペースである放電空間11を支えるための構造体である。通常、蛍光体層7の形成の都合上、背面側ガラス基板200にリブ6は形成される。 The rib 6 is a structure for supporting the discharge space 11 which is a light emitting space when the front glass substrate 100 and the rear glass substrate 200 are bonded together. Usually, the rib 6 is formed on the back glass substrate 200 for the convenience of forming the phosphor layer 7.
蛍光体層7は、表示電極2及びアドレス電極9によって励起されたプラズマによって、RGBの光を放出する蛍光体の層である。RGBのいずれを発光するかにより、用いる蛍光体は相違するが、本発明には直接の関連性がないので蛍光体の素材については省略する。 The phosphor layer 7 is a phosphor layer that emits RGB light by plasma excited by the display electrode 2 and the address electrode 9. The phosphor used depends on which of the RGB light is emitted, but since the present invention is not directly related, the phosphor material is omitted.
誘電体層8はアドレス電極9に加えられた電圧によって、リブ6で区切られた放電空間11内でプラズマ発光させるための誘電体の層である。 The dielectric layer 8 is a dielectric layer for emitting plasma in the discharge space 11 defined by the ribs 6 by a voltage applied to the address electrodes 9.
アドレス電極9は、背面側ガラス基板200に設けられるアドレス電極である。 The address electrode 9 is an address electrode provided on the rear glass substrate 200.
背面側ガラス板10は、背面側ガラス基板200の構造材としての役割を果たすガラス基板である。 The back side glass plate 10 is a glass substrate that plays a role as a structural material of the back side glass substrate 200.
本発明の特徴としては、2層によって形成された保護膜を有する点及びその2層の保護膜に用いる素材に特徴がある。 The present invention is characterized by having a protective film formed of two layers and a material used for the two-layer protective film.
次に、この特徴である、第2の保護膜5に用いる材料について検討する。 Next, the material used for the second protective film 5 which is this feature will be examined.
保護膜の性能としては、1)放電電圧、2)位相差、3)スパッタレート、の3つを考慮する必要がある。図2は、酸化マグネシウム及び希土類との組成割合での放電電圧の電圧特性の関係を表すグラフである。また、図3は、酸化マグネシウム及び希土類との組成割合での位相差を表すグラフである。 As the performance of the protective film, it is necessary to consider three factors: 1) discharge voltage, 2) phase difference, and 3) sputter rate. FIG. 2 is a graph showing the relationship of the voltage characteristics of the discharge voltage at the composition ratio of magnesium oxide and rare earth. FIG. 3 is a graph showing the phase difference in composition ratio between magnesium oxide and rare earth.
本発明においては、まず酸化マグネシウムMgOで厚さ250nmの第1の保護膜4を成膜する。その後連続して、酸化マグネシウムMgOと希土類を混合した組成物を材質とした第2の保護膜5を300nm成膜する。ここで、第2の保護膜5は2源蒸着による電子ビーム蒸着法により形成されるものとしている。 In the present invention, first, a first protective film 4 having a thickness of 250 nm is formed from magnesium oxide MgO. Subsequently, a second protective film 5 made of a composition in which magnesium oxide MgO and rare earth are mixed is formed to a thickness of 300 nm. Here, the 2nd protective film 5 shall be formed by the electron beam vapor deposition method by 2 source | sauce vapor deposition.
たとえば、酸化マグネシウムMgO単体を成膜する場合には、2源とも酸化マグネシウムMgOのソースとして生成する。また、酸化マグネシウムMgOと希土類の混合物を成膜する際には、一方を酸化マグネシウムMgOのソースとして、他方を希土類のソースとして同時に成膜する。より具体的には、ガドリウムGd混合物で保護膜を作成する際には、Gd2O3をソースに用いる。また、ランタンLa混合物で保護膜を作成する際には、La2O3をソースに用いる。ユーロピウムEu混合物で保護膜を作成する際には、Eu2O3をソースに用いる。 For example, when a magnesium oxide MgO single film is formed, both sources are generated as a source of magnesium oxide MgO. When a mixture of magnesium oxide MgO and rare earth is formed, the film is formed simultaneously using one as the source of magnesium oxide MgO and the other as the source of rare earth. More specifically, when forming a protective film with a gadolinium Gd mixture, Gd 2 O 3 is used as a source. Further, when forming a protective film with a lanthanum La mixture, La 2 O 3 is used as a source. When forming a protective film with a europium Eu mixture, Eu 2 O 3 is used as a source.
酸化マグネシウムMgOと希土類酸化物との組成を変える場合には、成膜レートを変更して成膜、EDX分析して組成を確認することで測定条件の確認を行っている。 When the composition of magnesium oxide MgO and rare earth oxide is changed, the measurement conditions are confirmed by changing the film formation rate, forming the film, and checking the composition by EDX analysis.
本発明で測定する保護膜の成膜プロセスは、真空装置内に5×10−2(Pa)の圧力の酸化ガスを導入し、基板加熱ヒータによってガラス基板を300℃に加熱して成膜している。また封入ガス条件はネオンNe−20%Xe、66.7KPaである。 The protective film formation process measured by the present invention is performed by introducing an oxidizing gas having a pressure of 5 × 10 −2 (Pa) into a vacuum apparatus and heating the glass substrate to 300 ° C. with a substrate heater. ing. The sealed gas conditions are neon Ne-20% Xe and 66.7 KPa.
本発明では希土類としてランタンLa、ガドリウムGd、ユーロピウムEuを用いる。 In the present invention, lanthanum La, gadolinium Gd, and europium Eu are used as rare earths.
いずれの希土類を混合しても、物にもよるが概ね混合率10%を超えると、効果がほぼ一定となる。 Even if any rare earth is mixed, the effect becomes almost constant when the mixing ratio exceeds 10%, depending on the object.
酸化マグネシウムMgO−ガドリウムGd混合物の場合、MgO100%のものから約10ボルト放電電圧が低下する。 In the case of the magnesium oxide MgO-gadolinium Gd mixture, the discharge voltage is reduced by about 10 volts from that of 100% MgO.
酸化マグネシウムMgO−ランタンLa混合物の場合、約45−55ボルトの放電電圧の低下が見込める。 In the case of a magnesium oxide MgO-lanthanum La mixture, a reduction in discharge voltage of about 45-55 volts can be expected.
酸化マグネシウムMgO―ユーロピウムEu混合物の場合、約50−55ボルトの放電電圧の低下が見込める。 In the case of the magnesium oxide MgO-europium Eu mixture, a reduction in discharge voltage of about 50-55 volts can be expected.
以上のように、検証で用いた全ての希土類混合物は酸化マグネシウムMgO100%と比較して低電圧特性を有することがわかる。 As described above, it can be seen that all the rare earth mixtures used in the verification have low voltage characteristics as compared with 100% magnesium oxide MgO.
一方、位相差の点から検討したものが図3である。この図で表す位相差はデジタルLCRメータを使って実測した値である。 On the other hand, what was examined from the point of phase difference is FIG. The phase difference shown in this figure is a value measured using a digital LCR meter.
グラフからも明らかなとおり、希土類の材質にもよるが、希土類の割合が30%中盤から60%あたりになると、位相差が悪化することがわかる。いずれの希土類の材質でも、希土類100%のときに位相差が最も悪化する。 As is apparent from the graph, although depending on the rare earth material, it can be seen that the phase difference deteriorates when the ratio of the rare earth is about 60% from the middle of 30%. In any rare earth material, the phase difference is most aggravated when the rare earth is 100%.
ガドリウムGd100%では、位相差が−88°となる。酸化マグネシウムMgO−ガドリウムGd混合物の場合、概ねガドリウムGd55%のあたりで位相差の悪化、すなわち直流成分の抵抗の発生により壁電荷が保持できなくなる事態、が見え始める。 When gadolinium Gd is 100%, the phase difference is −88 °. In the case of the magnesium oxide MgO-gadolin Gd mixture, a situation in which the wall charge cannot be retained due to the deterioration of the phase difference, that is, the generation of the resistance of the direct current component, starts to appear around 55% of the gadolin Gd.
ランタンLa100%では、ガドリウムGd100%よりも若干位相差の性能が悪化するものの、−88°となる。ただし、酸化マグネシウムMgO−ランタンLa混合物での位相差の悪化の開始はランタンLaが60%近くになるまで持ちこたえる。 With lanthanum La 100%, although the phase difference performance is slightly worse than that of gadolin Gd 100%, it is −88 °. However, the onset of the deterioration of the phase difference in the magnesium oxide MgO-lanthanum La mixture lasts until the lanthanum La becomes close to 60%.
一方、ユーロピウム100%での位相差は−86°と、他の2種に比べて最も悪い。また酸化マグネシウムMgO−ユーロピウムEu混合物の位相差の悪化も35%程度に開始される。 On the other hand, the phase difference at 100% europium is -86 °, which is the worst compared to the other two types. Moreover, the deterioration of the phase difference of the magnesium oxide MgO-europium Eu mixture is also started to about 35%.
以上の1)放電電圧、2)位相差、の2点を考慮すると、第2の保護膜5として用いる素材、すなわちMgOと比較して十分に低電圧であり且つ壁電荷を蓄積できる十分な絶縁性を保てるもの、としては以下のようなものが考えられる。 Considering the above two points of 1) discharge voltage and 2) phase difference, the material used as the second protective film 5, that is, a sufficiently low voltage compared with MgO and sufficient insulation capable of accumulating wall charges. The following can be considered as things that can maintain the property.
・ガドリウム混合物 Mg−Gd組成: Mg:Gd=95:5〜45:55
・ランタン混合物 Mg−La組成: Mg:La=90:10〜40:60
・ユーロピウム混合物 Mg−Eu組成: Mg:Eu=90:10〜60:40
次に、3)スパッタレートについて考察してみる。ここでは、酸化マグネシウムMgO−ユーロピウムEuを第2の保護膜として用いたものについて検討する。
* Gadolinium mixture Mg-Gd composition: Mg: Gd = 95: 5-45: 55
Lanthanum mixture Mg-La composition: Mg: La = 90: 10-40: 60
Europium mixture Mg-Eu composition: Mg: Eu = 90: 10-60: 40
Next, 3) Consider the sputtering rate. Here, a case where magnesium oxide MgO-europium Eu is used as the second protective film is examined.
図4は従来の1層の保護膜を用いた際の、加速度試験前後のプラズマディスプレイパネルの局所断面図である。また図5は本発明にかかわる2層の保護膜を用いた際の、加速度試験前後のプラズマディスプレイパネルの局所断面図である。それぞれ、(a)は加速度試験前の断面図であり、(b)は加速度試験実施後の断面図である。 FIG. 4 is a local cross-sectional view of the plasma display panel before and after the acceleration test when a conventional single-layer protective film is used. FIG. 5 is a local sectional view of the plasma display panel before and after the acceleration test when the two-layer protective film according to the present invention is used. (A) is a cross-sectional view before the acceleration test, and (b) is a cross-sectional view after the acceleration test.
また、図6は加速度試験の評価条件及び評価結果についての表である。 FIG. 6 is a table of evaluation conditions and evaluation results of the acceleration test.
なお、本発明の加速度試験の評価条件は、電圧270V、周波数15KHzである。加速時間は従来のプラズマディスプレイパネルの場合307時間、本発明にかかわるプラズマディスプレイパネルでは261時間で行っている。 The evaluation conditions for the acceleration test of the present invention are a voltage of 270 V and a frequency of 15 KHz. The acceleration time is 307 hours for the conventional plasma display panel and 261 hours for the plasma display panel according to the present invention.
図4では加速度試験前は451nmの酸化マグネシウム単層の保護膜(従来の実施の形態の保護膜)12を有する。一方、加速度試験後は、92nmの厚さしか残っていない。 In FIG. 4, before the acceleration test, a magnesium oxide single-layer protective film (protective film of the conventional embodiment) 12 of 451 nm is provided. On the other hand, after the acceleration test, only a thickness of 92 nm remains.
一方、本発明に関わる図5では、第1の保護膜4は250nm、第2の保護膜5は300nmを想定して作成された第1の保護膜4と第2の保護膜の厚みは545nmである。第2の保護膜5は図からもわかる通り、柱状構造を有するMg−30%Eu―Oを想定している。一方、加速度試験後の厚みは362nmである。 On the other hand, in FIG. 5 according to the present invention, the thickness of the first protective film 4 and the second protective film prepared assuming that the first protective film 4 is 250 nm and the second protective film 5 is 300 nm is 545 nm. It is. As can be seen from the figure, the second protective film 5 is assumed to be Mg-30% Eu-O having a columnar structure. On the other hand, the thickness after the acceleration test is 362 nm.
同一の試験時間ではないので、スパッタレートで対比を行うと、
・従来のプラズマディスプレイパネル:
失われた量(掘れた量) 451−92=359nm
加速度時間 307h
スパッタレート 359/307=1.17nm/h
・本発明のプラズマディスプレイパネル
失われた量(掘れた量) 545−362=183nm
加速度時間 261h
スパッタレート 183/261=0.70nm/h
以上のように、スパッタレートで対比しても、約60%(0.70/1.17=0.598)と明らかな違いが把握できる。これは、酸化マグネシウムMgOを第1の保護膜4として形成し、それを下地にして第2の保護膜5としてMg−30%Eu−Oを形成することで、第2の保護膜5が強固になると推測される。
Since it is not the same test time, when comparing with the sputter rate,
-Conventional plasma display panel:
Lost amount (digged amount) 451-92 = 359 nm
Acceleration time 307h
Sputter rate 359/307 = 1.17 nm / h
-Plasma display panel of the present invention Amount lost (amount dug) 545-362 = 183 nm
Acceleration time 261h
Sputter rate 183/261 = 0.70nm / h
As described above, even when compared with the sputtering rate, a clear difference of about 60% (0.70 / 1.17 = 0.598) can be grasped. This is because magnesium oxide MgO is formed as the first protective film 4, and Mg-30% Eu—O is formed as the second protective film 5 on the basis of the magnesium oxide MgO, so that the second protective film 5 is strong. It is estimated that
以上のように、2層化することで、3)スパッタレートの点でも従来のものより良好な特性を得ることができる。 As described above, by forming two layers, it is possible to obtain better characteristics than the conventional one in terms of 3) sputtering rate.
このことから、1)放電電圧、2)位相差、3)スパッタレート、の3つの点で良好な結果を得ることができた。結果、イオン衝撃に強く、低電圧特性を有し、かつ電荷を蓄積できる十分な絶縁性を期待できる希土類混合物を実用可能とする手段を提供できる。 From this, good results could be obtained in three points: 1) discharge voltage, 2) phase difference, and 3) sputtering rate. As a result, it is possible to provide a means for practical use of a rare earth mixture that is resistant to ion bombardment, has low voltage characteristics, and can be expected to have sufficient insulating properties to accumulate electric charges.
本発明は、AC型プラズマディスプレイパネルの前面側ガラス基板に塗布される保護膜に使用することを想定する。 The present invention is assumed to be used for a protective film applied to a front glass substrate of an AC type plasma display panel.
1…前面側ガラス板、2…表示電極、3…誘電体層、4…第1の保護膜、5…第2の保護膜、
6…リブ、7…蛍光体層、8…誘電体層、9…アドレス電極、10…背面側ガラス板、
11…放電空間、12…保護膜(従来の実施の形態の保護膜)、
100…前面側ガラス基板、200…背面側ガラス基板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Front side glass plate, 2 ... Display electrode, 3 ... Dielectric layer, 4 ... 1st protective film, 5 ... 2nd protective film,
6 ... rib, 7 ... phosphor layer, 8 ... dielectric layer, 9 ... address electrode, 10 ... back side glass plate,
11 ... discharge space, 12 ... protective film (protective film of the conventional embodiment),
100 ... front side glass substrate, 200 ... back side glass substrate.
Claims (10)
該保護膜は、第1の保護膜層と、第2の保護膜層を含み、
前記第1の保護膜層は、前記誘電体層及び前記第2の保護膜層と挟まれるように配置され、
前記第2の保護膜層は酸化マグネシウム及び希土類酸化物との混合物で形成され、放電空間に露出していることを特徴とする保護膜。 A protective film for protecting a display electrode disposed on one surface of the front plate and a dielectric layer covering the display electrode,
The protective film includes a first protective film layer and a second protective film layer,
The first protective film layer is disposed so as to be sandwiched between the dielectric layer and the second protective film layer,
2. The protective film according to claim 1, wherein the second protective film layer is formed of a mixture of magnesium oxide and rare earth oxide and is exposed to the discharge space.
前記第1の保護膜層は酸化マグネシウムで構成されていることを特徴とする保護膜。 The protective film according to claim 1,
The protective film according to claim 1, wherein the first protective film layer is made of magnesium oxide.
前記希土類酸化物は、ユーロピウム酸化物であることを特徴とする保護膜。 The protective film according to claim 1,
The protective film, wherein the rare earth oxide is europium oxide.
前記酸化マグネシウムと前記ユーロピウム酸化物との混合物の組成がMg:Eu=90:10から60:40であることを特徴とする保護膜。 The protective film according to claim 3,
The composition of the mixture of the said magnesium oxide and the said europium oxide is Mg: Eu = 90: 10 to 60:40, The protective film characterized by the above-mentioned.
前記希土類酸化物は、ランタン酸化物であることを特徴とする保護膜。 The protective film according to claim 1,
The protective film according to claim 1, wherein the rare earth oxide is a lanthanum oxide.
前記酸化マグネシウムと前記ランタン酸化物との混合物の組成がMg:La=90:10から40:60であることを特徴とする保護膜。 The protective film according to claim 5,
A composition of a mixture of the magnesium oxide and the lanthanum oxide is Mg: La = 90: 10 to 40:60.
前記希土類酸化物は、ガドリウム酸化物であることを特徴とする保護膜。 The protective film according to claim 1,
The protective film, wherein the rare earth oxide is gadolinium oxide.
前記酸化マグネシウムと前記ガドリウム酸化物との混合物の組成がMg:Gd=95:5から45:55であることを特徴とする保護膜。 The protective film according to claim 7,
A protective film, wherein the composition of the mixture of magnesium oxide and gadolinium oxide is Mg: Gd = 95: 5 to 45:55.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010203350A JP2012059619A (en) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | Protective film, plasma display panel and display device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010203350A JP2012059619A (en) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | Protective film, plasma display panel and display device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012059619A true JP2012059619A (en) | 2012-03-22 |
JP2012059619A5 JP2012059619A5 (en) | 2013-10-24 |
Family
ID=46056473
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010203350A Pending JP2012059619A (en) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | Protective film, plasma display panel and display device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2012059619A (en) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1186738A (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-30 | Fujitsu Ltd | Flat display panel |
JPH11339665A (en) * | 1998-05-27 | 1999-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | Ac plasma display panel, substrate for it and protective film material for it |
JP2003173738A (en) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Hitachi Ltd | Protective film for plasma display panel |
JP2003272531A (en) * | 2002-03-18 | 2003-09-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas discharge panel and method of manufacturing the same |
JP2004095452A (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-25 | Hitachi Ltd | Film forming method, film forming apparatus, and protective film |
JP2006140000A (en) * | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | Coating solution for protective film formation |
JP2010192293A (en) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | Panasonic Corp | Manufacturing method of plasma display panel |
-
2010
- 2010-09-10 JP JP2010203350A patent/JP2012059619A/en active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1186738A (en) * | 1997-09-05 | 1999-03-30 | Fujitsu Ltd | Flat display panel |
JPH11339665A (en) * | 1998-05-27 | 1999-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | Ac plasma display panel, substrate for it and protective film material for it |
JP2003173738A (en) * | 2001-12-05 | 2003-06-20 | Hitachi Ltd | Protective film for plasma display panel |
JP2003272531A (en) * | 2002-03-18 | 2003-09-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Gas discharge panel and method of manufacturing the same |
JP2004095452A (en) * | 2002-09-03 | 2004-03-25 | Hitachi Ltd | Film forming method, film forming apparatus, and protective film |
JP2006140000A (en) * | 2004-11-11 | 2006-06-01 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | Coating solution for protective film formation |
JP2010192293A (en) * | 2009-02-19 | 2010-09-02 | Panasonic Corp | Manufacturing method of plasma display panel |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7474055B2 (en) | Plasma display panel | |
JP4569933B2 (en) | Plasma display panel | |
US7567036B2 (en) | Plasma display panel with single crystal magnesium oxide layer | |
TW544700B (en) | Plasma display panel and image display device using the same | |
JP2010182691A (en) | Plasma display panel and method of manufacturing the same | |
US20070228980A1 (en) | Gas discharge display apparatus | |
KR100756153B1 (en) | Plasma display panel | |
KR100765513B1 (en) | Plasma Display Panel And Method Of Manufacturing The Same | |
CN100499012C (en) | Plasma display panel | |
Park et al. | Effects of MgO thin film thickness and deposition rate on the lifetime of ac plasma display panel | |
JP2003173738A (en) | Protective film for plasma display panel | |
JP2012059619A (en) | Protective film, plasma display panel and display device | |
JP4100187B2 (en) | Plasma display panel | |
JP2009217940A (en) | Plasma display device | |
Lee et al. | The effect of a Si-doped protective layer on the discharge characteristics of an alternating current plasma display panel | |
US20090153050A1 (en) | Plasma display panel | |
JP2007323922A (en) | Plasma display panel | |
KR101039188B1 (en) | Plasma display panel | |
JP5584160B2 (en) | Method for manufacturing plasma display panel | |
JP2009140611A (en) | Protective film for plasma display panel and plasma display panel | |
US20110043107A1 (en) | Plasma Display Panel | |
WO2010061425A1 (en) | Plasma display panel and its manufacturing method | |
KR101191224B1 (en) | Plasma display panel having diffusion barrier | |
KR100793067B1 (en) | Plasma display panel | |
JP2007214067A (en) | Plasma display device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20120110 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20120206 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130905 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130905 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140311 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140826 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141010 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150310 |