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JP2012049196A - Printed wiring board and method of manufacturing the same - Google Patents

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JP2012049196A JP2010187482A JP2010187482A JP2012049196A JP 2012049196 A JP2012049196 A JP 2012049196A JP 2010187482 A JP2010187482 A JP 2010187482A JP 2010187482 A JP2010187482 A JP 2010187482A JP 2012049196 A JP2012049196 A JP 2012049196A
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永浚 李
Hung-Lin Chang
欽崇 張
Myong-Ho Oh
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Abstract

【課題】本発明は、キャビティを形成する時の切断時間を短縮することのできるプリント配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】プリント配線板の製造方法は、まず、開口を有する基板、第1配線層および第2配線層を提供する。開口は、基板を貫通する。基板は、第1表面、および第1表面と向かい合う第2表面を有し、第1配線層と第2配線層は、それぞれ第1表面と第2表面の上に配置される。それから、開口の中に離型層を形成する。第1表面と離型層の上に、第1ビルドアップ配線構造を形成する。第2表面と離型層の上に、第2ビルドアップ配線構造を形成する。続いて、離型層の周囲に沿って、第1ビルドアップ配線構造を切断する。その後、離型層と離型層の上にある既に切断された部分の第1ビルドアップ配線構造を除去して、キャビティを形成する。
【選択図】図1I
The present invention provides a printed wiring board capable of reducing the cutting time when forming a cavity and a method for manufacturing the same.
A printed wiring board manufacturing method first provides a substrate having an opening, a first wiring layer, and a second wiring layer. The opening penetrates the substrate. The substrate has a first surface and a second surface facing the first surface, and the first wiring layer and the second wiring layer are disposed on the first surface and the second surface, respectively. Then, a release layer is formed in the opening. A first buildup wiring structure is formed on the first surface and the release layer. A second buildup wiring structure is formed on the second surface and the release layer. Subsequently, the first buildup wiring structure is cut along the periphery of the release layer. Thereafter, the first build-up wiring structure in the already cut portion on the release layer and the release layer is removed to form a cavity.
[Selection] Figure 1I

Description

本発明は、プリント配線板およびその製造方法に関するものであり、特に、キャビティ(cavity)を有するプリント配線板およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a printed wiring board and a manufacturing method thereof, and more particularly to a printed wiring board having a cavity and a manufacturing method thereof.

近年、電子技術の進歩に伴い、高科学技術の電子産業が続々と世に送り出されたことによって、更に人間性化し、より優れた機能を有する電子商品が次々と開発され、軽薄短小化の傾向に向かって発展した。これらの電子商品内には、通常、上部に電子部材を取り付けるためのプリント配線板が配置される。プリント配線板と上部に取り付ける電子部材の総厚さを減らして、薄化の要求に符合させるため、電子部材の厚さを減らすこと以外に、プリント配線板の上に一部または全ての電子部材を収容するキャビティまたは開口を形成することが、現在常用されている薄化の手段である。特許文献1において、キャビティ付きプリント配線板の製造方法が開示されている。   In recent years, along with the advancement of electronic technology, the electronic industry of high science and technology has been sent to the world one after another. As a result, more and more electronic products with better functions have been developed one after another. Developed towards. In these electronic goods, a printed wiring board for attaching an electronic member to the upper part is usually arranged. In order to reduce the total thickness of the printed wiring board and the electronic parts attached to the upper part to meet the demand for thinning, in addition to reducing the thickness of the electronic parts, some or all of the electronic parts on the printed wiring board Forming a cavity or opening that accommodates is a thinning means commonly used today. In patent document 1, the manufacturing method of the printed wiring board with a cavity is disclosed.

特開平10−022645号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-022645

本発明は、電子部材を収容するキャビティまたは開口を形成する時の切断時間が長い問題を解決することができる。   The present invention can solve the problem of a long cutting time when forming a cavity or opening for accommodating an electronic member.

本発明は、キャビティを有するプリント配線板を製造するためのプリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the manufacturing method of the printed wiring board for manufacturing the printed wiring board which has a cavity.

本発明は、また、電子部材を収容するキャビティを有するプリント配線板を提供することを目的とする。   Another object of the present invention is to provide a printed wiring board having a cavity for accommodating an electronic member.

本発明は、プリント配線板の製造方法を提供する。この方法は、まず、開口を有する基板と、第1配線層と、第2配線層とを提供する。開口は、基板を貫通する。基板は、第1表面、および第1表面と向かい合う第2表面を有し、第1配線層と第2配線層は、それぞれ第1表面と第2表面の上に配置される。それから、開口の中に離型層を形成する。第1表面と離型層の上に、第1ビルドアップ配線構造を形成する。第2表面と離型層の上に、第2ビルドアップ配線構造を形成する。続いて、離型層の周囲に沿って、第1ビルドアップ配線構造を切断する。その後、離型層と離型層の上にある既に切断された部分の第1ビルドアップ配線構造を除去して、キャビティを形成する。   The present invention provides a method for manufacturing a printed wiring board. This method first provides a substrate having an opening, a first wiring layer, and a second wiring layer. The opening penetrates the substrate. The substrate has a first surface and a second surface facing the first surface, and the first wiring layer and the second wiring layer are disposed on the first surface and the second surface, respectively. Then, a release layer is formed in the opening. A first buildup wiring structure is formed on the first surface and the release layer. A second buildup wiring structure is formed on the second surface and the release layer. Subsequently, the first buildup wiring structure is cut along the periphery of the release layer. Thereafter, the first build-up wiring structure in the already cut portion on the release layer and the release layer is removed to form a cavity.

本発明は、プリント配線板を提出する。プリント配線板は、基板と、第1配線層と、第2配線層と、第1ビルドアップ配線構造と、第2ビルドアップ配線構造とを備える。基板は、開口を有し、この開口は、基板を貫通する。基板は、第1表面、および第1表面と向かい合う第2表面を有する。第1配線層は、第1表面の上に配置され、第2配線層は、第2表面の上に配置される。第1ビルドアップ配線構造は、第1表面の上に配置され、第1表面の一端に隣接する開口を露出する。第2ビルドアップ配線構造は、第2表面の上に配置され、第2表面の一端に隣接する開口を封鎖して、基板および第1ビルドアップ配線構造とともにキャビティを構成する。   The present invention provides a printed wiring board. The printed wiring board includes a substrate, a first wiring layer, a second wiring layer, a first buildup wiring structure, and a second buildup wiring structure. The substrate has an opening that passes through the substrate. The substrate has a first surface and a second surface facing the first surface. The first wiring layer is disposed on the first surface, and the second wiring layer is disposed on the second surface. The first buildup wiring structure is disposed on the first surface and exposes an opening adjacent to one end of the first surface. The second buildup wiring structure is disposed on the second surface and seals an opening adjacent to one end of the second surface to form a cavity together with the substrate and the first buildup wiring structure.

以上のように、本発明は、ビルドアップ法を利用して、基板の2つの側に第1および第2ビルドアップ配線構造を形成する前に、まず、基板の開口の中に離型層を形成するため、切断プロセスを行って第1ビルドアップ配線構造を切断した後、離型層によって、離型層の上方にある既に切断された部分の第1ビルドアップ配線構造を素早く除去することができる。   As described above, according to the present invention, before forming the first and second buildup wiring structures on the two sides of the substrate using the buildup method, first, the release layer is formed in the opening of the substrate. After forming the cutting process to cut the first build-up wiring structure, the release layer can quickly remove the already cut portion of the first build-up wiring structure above the release layer. it can.

本発明の上記及び他の目的、特徴、および利点をより分かり易くするため、図面と併せた幾つかの実施形態を以下に説明する。   In order to make the above and other objects, features and advantages of the present invention more comprehensible, several embodiments accompanied with figures are described below.

本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。It is sectional drawing of the manufacturing method of the printed wiring board which concerns on embodiment of this invention. 本発明の別の実施形態に係る離型層およびその上方にある既に切断された部分を除去した時の断面図である。It is sectional drawing when the mold release layer concerning another embodiment of this invention and the already cut | disconnected part above it are removed.

図1Aから図1Iは、本発明の実施形態に係るプリント配線板の製造方法の断面図である。まず、図1Aを参照すると、基板100および2つの配線材料層102を提供する。基板100は、例えば、誘電体コア(dielectric core)である。基板100は、互いに向かい合う第1表面100aと第2表面100bを有する。これらの配線材料層102は、それぞれ第1表面100aおよび第2表面100bの上に配置され、これらの配線材料層102の材料は、例えば、金属である。その後、基板100およびこれらの配線材料層102の中に、基板100を貫通する開口104および少なくとも1つの貫通孔106を形成する。開口104および貫通孔106の形成方法は、例えば、レーザー掘削または機械掘削である。   1A to 1I are cross-sectional views of a method for manufacturing a printed wiring board according to an embodiment of the present invention. First, referring to FIG. 1A, a substrate 100 and two wiring material layers 102 are provided. The substrate 100 is, for example, a dielectric core. The substrate 100 has a first surface 100a and a second surface 100b facing each other. These wiring material layers 102 are respectively disposed on the first surface 100a and the second surface 100b, and the material of these wiring material layers 102 is, for example, a metal. Thereafter, an opening 104 and at least one through-hole 106 penetrating the substrate 100 are formed in the substrate 100 and these wiring material layers 102. A method of forming the opening 104 and the through hole 106 is, for example, laser excavation or mechanical excavation.

次に、図1Bを参照すると、電気めっきプロセスを行って、開口104と貫通孔106の側壁上に金属層108を形成し、これらの配線材料層102を連接する。その後、プラグ穴プロセス(plug hole process)を行って、貫通孔106の中をプラグ穴材料(plug hole material)109で満たす。   Next, referring to FIG. 1B, an electroplating process is performed to form a metal layer 108 on the sidewalls of the opening 104 and the through-hole 106, and these wiring material layers 102 are connected. Thereafter, a plug hole process is performed to fill the through hole 106 with a plug hole material 109.

続いて、図1Cを参照すると、パターン化プロセスを行って、開口104の側壁上にある部分の金属層108と配線材料層102を除去し、第1表面100aの上に第1配線層102aを形成するとともに、第2表面100bの上に第2配線層102bを形成する。   Subsequently, referring to FIG. 1C, a patterning process is performed to remove a portion of the metal layer 108 and the wiring material layer 102 on the sidewall of the opening 104, and to form the first wiring layer 102a on the first surface 100a. At the same time, the second wiring layer 102b is formed on the second surface 100b.

それから、図1Dを参照すると、開口104の中に離型層200を形成する。離型層200の形成方法は、例えば、埋め込みプロセスを行って、離型材料を開口104に埋め込むことである。離型層200の材料は、例えば、ポリテトラフルオロエチレン(polytetrafluoroethene,PTFE)または金属のような、誘電材料と分離しやすい材料である。   Then, referring to FIG. 1D, a release layer 200 is formed in the opening 104. A method for forming the release layer 200 is, for example, to embed a release material in the opening 104 by performing an embedding process. The material of the release layer 200 is a material that can be easily separated from a dielectric material such as polytetrafluoroethylene (PTFE) or metal.

続いて、図1Eを参照すると、ビルドアップ(build-up)法を利用して、第1表面100aの上にビルドアップ誘電層112aおよび配線材料層114を形成し、第2表面100bの上にビルドアップ誘電層122aおよび配線材料層124を形成する。配線材料層114および124の材料は、例えば、銅等の金属である。その後、ビルドアップ誘電層112aおよび配線材料層114の中に、少なくとも1つのブラインドホール116を形成し、ビルドアップ誘電層122aおよび配線材料層124の中に、少なくとも1つのブラインドホール126を形成する。ブラインドホール116は、一部の第1配線層102aを露出し、ブラインドホール126は、一部の第2配線層102bを露出する。ブライドホール116および126の形成方法は、例えば、レーザー掘削である。   Subsequently, referring to FIG. 1E, a build-up dielectric layer 112a and a wiring material layer 114 are formed on the first surface 100a by using a build-up method, and the second surface 100b is formed. Build-up dielectric layer 122a and wiring material layer 124 are formed. The material of the wiring material layers 114 and 124 is, for example, a metal such as copper. Thereafter, at least one blind hole 116 is formed in the build-up dielectric layer 112a and the wiring material layer 114, and at least one blind hole 126 is formed in the build-up dielectric layer 122a and the wiring material layer 124. The blind hole 116 exposes a part of the first wiring layer 102a, and the blind hole 126 exposes a part of the second wiring layer 102b. The method for forming the bride holes 116 and 126 is, for example, laser excavation.

次に、図1Fを参照すると、電気めっきプロセスを行って、ブラインドホール116の中に導電孔路118aを形成し、配線材料層114と第1配線層102aを電気接続するとともに、ブラインドホール126の中に導電孔路128aを形成し、配線材料層124と第2配線層102bを電気接続する。その後、配線材料層114および配線材料層124に対してパターン化プロセスを行って、ビルドアップ配線層114aおよびビルドアップ配線層124aを形成する。   Next, referring to FIG. 1F, an electroplating process is performed to form a conductive hole 118a in the blind hole 116, and the wiring material layer 114 and the first wiring layer 102a are electrically connected. A conductive hole 128a is formed therein to electrically connect the wiring material layer 124 and the second wiring layer 102b. Thereafter, a patterning process is performed on the wiring material layer 114 and the wiring material layer 124 to form the buildup wiring layer 114a and the buildup wiring layer 124a.

それから、図1Gを参照すると、図1Eおよび図1Fで述べたステップを2度繰り返して、ビルドアップ誘電層112aおよびビルドアップ配線層114aの上に、ビルドアップ誘電層112b、ビルドアップ配線層114b、ビルドアップ誘電層112c、およびビルドアップ配線層114cを形成し、ビルドアップ誘電層122aおよびビルドアップ配線層124aの上に、ビルドアップ誘電層122b、ビルドアップ配線層124b、ビルドアップ誘電層122c、およびビルドアップ配線層124cを形成する。また、ビルドアップ配線層114bは、ビルドアップ誘電層112bを貫通する導電孔路118bによって、ビルドアップ配線層114aと電気接続する。ビルドアップ配線層114cは、ビルドアップ誘電層112cを貫通する導電孔路118cによって、ビルドアップ配線層114bと電気接続する。ビルドアップ配線層124bは、ビルドアップ誘電層122bを貫通する導電孔路128bによって、ビルドアップ配線層124aと電気接続する。ビルドアップ配線層124cは、ビルドアップ誘電層122cを貫通する導電孔路128cによって、ビルドアップ配線層124bと電気接続する。   Then, referring to FIG. 1G, the steps described in FIG. 1E and FIG. 1F are repeated twice to build up the buildup dielectric layer 112b, the buildup wiring layer 114b on the buildup dielectric layer 112a and the buildup wiring layer 114a. Build-up dielectric layer 112c and build-up wiring layer 114c are formed, and build-up dielectric layer 122b, build-up wiring layer 124b, build-up dielectric layer 122c, and build-up dielectric layer 122c are formed on build-up dielectric layer 122a and build-up wiring layer 124a. Build-up wiring layer 124c is formed. The buildup wiring layer 114b is electrically connected to the buildup wiring layer 114a through a conductive hole 118b that penetrates the buildup dielectric layer 112b. The buildup wiring layer 114c is electrically connected to the buildup wiring layer 114b through a conductive hole 118c that penetrates the buildup dielectric layer 112c. The build-up wiring layer 124b is electrically connected to the build-up wiring layer 124a through a conductive hole 128b that penetrates the build-up dielectric layer 122b. The buildup wiring layer 124c is electrically connected to the buildup wiring layer 124b through a conductive hole 128c that penetrates the buildup dielectric layer 122c.

本実施形態において、ビルドアップ誘電層112a、ビルドアップ配線層114a、導電孔路118a、ビルドアップ誘電層112b、ビルドアップ配線層114b、導電孔路118b、ビルドアップ誘電層112c、ビルドアップ配線層114cおよび導電孔路118cは、第1ビルドアップ配線構造110を構成する。また、ビルドアップ誘電層122a、ビルドアップ配線層124a、導電孔路128a、ビルドアップ誘電層122b、ビルドアップ配線層124b、導電孔路128b、ビルドアップ誘電層122c、ビルドアップ配線層124cおよび導電孔路128cは、第2ビルドアップ配線構造120を構成する。   In this embodiment, the buildup dielectric layer 112a, the buildup wiring layer 114a, the conductive hole 118a, the buildup dielectric layer 112b, the buildup wiring layer 114b, the conductive hole 118b, the buildup dielectric layer 112c, and the buildup wiring layer 114c. The conductive hole 118c constitutes the first build-up wiring structure 110. Also, the buildup dielectric layer 122a, the buildup wiring layer 124a, the conductive hole 128a, the buildup dielectric layer 122b, the buildup wiring layer 124b, the conductive hole 128b, the buildup dielectric layer 122c, the buildup wiring layer 124c, and the conductive hole. The path 128c constitutes the second buildup wiring structure 120.

簡単に説明すると、本実施形態において、第1ビルドアップ配線構造110および第2ビルドアップ配線構造120は、それぞれ3層のビルドアップ誘電層およびビルドアップ配線層を有する。もちろん、その他の実施形態において、実際の需要に応じて、図1Eおよび図1Fで述べたステップを必要な回数繰り返し行ってもよい。つまり、第1ビルドアップ配線構造110および第2ビルドアップ配線構造120は、それぞれ1層または1層以上のビルドアップ誘電層およびビルドアップ配線層を有する。   Briefly, in the present embodiment, the first build-up wiring structure 110 and the second build-up wiring structure 120 each have three build-up dielectric layers and build-up wiring layers. Of course, in other embodiments, the steps described in FIGS. 1E and 1F may be repeated as many times as necessary in accordance with actual demand. That is, the first buildup wiring structure 110 and the second buildup wiring structure 120 each have one or more buildup dielectric layers and buildup wiring layers.

それから、図1Hを参照すると、第1ビルドアップ配線構造110および第2ビルドアップ配線構造120の上に、それぞれ第1ソルダレジスト層150および第2ソルダレジスト層152を選択的に形成してもよい。本実施形態において、第1および第2ソルダレジスト層150および152は、それぞれ最外層のビルドアップ配線層(すなわち、ビルドアップ配線層114cおよびビルドアップ配線層124c)を覆う。   1H, a first solder resist layer 150 and a second solder resist layer 152 may be selectively formed on the first buildup wiring structure 110 and the second buildup wiring structure 120, respectively. . In the present embodiment, the first and second solder resist layers 150 and 152 cover the outermost buildup wiring layers (that is, the buildup wiring layer 114c and the buildup wiring layer 124c), respectively.

そして、引き続き図1Hを参照すると、離型層200の周囲に沿って、第1ビルドアップ配線構造110を切断する。第1ビルドアップ配線構造110を切断するステップは、例えば、レーザー切断を行うことである。特に言及することとして、本実施形態において、基板100内には開口104が予め形成されており、且つ開口104内には離型層200が予め形成されているため、上述した切断ステップを行う時は、第1ビルドアップ配線構造110を切断するだけでよく、基板100を切断する必要がない。そのため、切断時間を有効に短縮することができる。   1H, the first buildup wiring structure 110 is cut along the periphery of the release layer 200. The step of cutting the first buildup wiring structure 110 is, for example, performing laser cutting. In particular, in this embodiment, the opening 104 is formed in the substrate 100 in advance, and the release layer 200 is formed in the opening 104 in advance. In this case, it is only necessary to cut the first buildup wiring structure 110, and it is not necessary to cut the substrate 100. Therefore, the cutting time can be effectively shortened.

それから、図1Iを参照すると、離型層200と離型層200の上にある既に切断された部分の第1ビルドアップ配線構造110を除去して、キャビティ220を形成し、本実施形態のプリント配線板10の製造が完成する。キャビティ220は、チップまたはその他の電子部材を収容するために用いられる。離型層200の材料は、ポリテトラフルオロエチレンまたは金属のような、誘電材料と分離しやすい材料を選んで用いるため、このステップにおいて、離型層200を開口104の中から容易に直接剥離することができる。   Then, referring to FIG. 1I, the release layer 200 and the part of the first build-up wiring structure 110 that has already been cut on the release layer 200 are removed to form the cavity 220, and the print of this embodiment is performed. The production of the wiring board 10 is completed. The cavity 220 is used to accommodate a chip or other electronic member. The material of the release layer 200 is selected from a material that can be easily separated from the dielectric material, such as polytetrafluoroethylene or metal. Therefore, in this step, the release layer 200 is easily peeled directly from the opening 104. be able to.

また、別の実施形態において、リフトピン(lift pin)を用いて、離型層200を開口104の中から突き出してもよい。   In another embodiment, the release layer 200 may protrude from the opening 104 using a lift pin.

図2は、本発明の別の実施形態に係る離型層およびその上方にある既に切断された部分を除去した時の断面図である。図2を参照すると、本実施形態では、まず、第2ビルドアップ配線構造120の中に、離型層200の底部を露出するリフトピン孔300を形成する。それから、リフトピン302をリフトピン孔300に通し、離型層200とその上にある既に切断された第1ビルドアップ配線構造110を突き出して、キャビティ220を形成する。   FIG. 2 is a cross-sectional view of the release layer according to another embodiment of the present invention and the already cut portion above the release layer. Referring to FIG. 2, in this embodiment, first, a lift pin hole 300 that exposes the bottom of the release layer 200 is formed in the second buildup wiring structure 120. Then, the lift pins 302 are passed through the lift pin holes 300 to protrude the release layer 200 and the already cut first buildup wiring structure 110 thereon, thereby forming the cavity 220.

以下、図1Iを例として、本実施形態のプリント配線板を説明する。   Hereinafter, the printed wiring board of this embodiment will be described with reference to FIG. 1I as an example.

図1Iを参照すると、プリント配線板10は、基板100と、第1配線層102aと、第2配線層102bと、第1ビルドアップ配線構造110と、第2ビルドアップ配線構造120と、第1ソルダレジスト層150と、第2ソルダレジスト層152とを備える。   Referring to FIG. 1I, the printed wiring board 10 includes a substrate 100, a first wiring layer 102 a, a second wiring layer 102 b, a first buildup wiring structure 110, a second buildup wiring structure 120, A solder resist layer 150 and a second solder resist layer 152 are provided.

基板100は、開口104を有し、且つ開口104は、基板100を貫通する。基板100は、互いに向かい合う第1表面100aおよび第2表面100bを有する。第1配線層102aは、第1表面100aの上に配置され、第2配線層102bは、第2表面100bの上に配置される。第1ビルドアップ配線構造100は、第1表面100aの上に配置され、第1表面100aの一端に隣接する開口104を露出する。第2ビルドアップ配線構造120は、第2表面100bの上に配置され、第2表面100bの一端に隣接する開口104を封鎖して、基板100および第1ビルドアップ配線構造110とともにキャビティ220を構成する。   The substrate 100 has an opening 104, and the opening 104 penetrates the substrate 100. The substrate 100 has a first surface 100a and a second surface 100b facing each other. The first wiring layer 102a is disposed on the first surface 100a, and the second wiring layer 102b is disposed on the second surface 100b. The first buildup wiring structure 100 is disposed on the first surface 100a and exposes the opening 104 adjacent to one end of the first surface 100a. The second buildup wiring structure 120 is disposed on the second surface 100b, blocks the opening 104 adjacent to one end of the second surface 100b, and forms the cavity 220 together with the substrate 100 and the first buildup wiring structure 110. To do.

本実施形態において、第1ビルドアップ配線構造110は、ビルドアップ誘電層112aと、ビルドアップ配線層114aと、導電孔路118aと、ビルドアップ誘電層112bと、ビルドアップ配線層114bと、導電孔路118bと、ビルドアップ誘電層112cと、ビルドアップ配線層114cと、導電孔路118cとを有する。第2ビルドアップ配線構造120は、ビルドアップ誘電層122aと、ビルドアップ配線層124aと、導電孔路128aと、ビルドアップ誘電層122bと、ビルドアップ配線層124bと、導電孔路128bと、ビルドアップ誘電層122cと、ビルドアップ配線層124cと、導電孔路128cとを有する。   In the present embodiment, the first build-up wiring structure 110 includes a build-up dielectric layer 112a, a build-up wiring layer 114a, a conductive hole path 118a, a build-up dielectric layer 112b, a build-up wiring layer 114b, and a conductive hole. A path 118b, a build-up dielectric layer 112c, a build-up wiring layer 114c, and a conductive hole path 118c are included. The second buildup wiring structure 120 includes a buildup dielectric layer 122a, a buildup wiring layer 124a, a conductive hole 128a, a buildup dielectric layer 122b, a buildup wiring layer 124b, a conductive hole 128b, and a build. An up dielectric layer 122c, a build-up wiring layer 124c, and a conductive hole 128c are provided.

簡単に説明すると、本実施形態において、第1ビルドアップ配線構造110および第2ビルドアップ配線構造120は、それぞれ3層のビルドアップ誘電層およびビルドアップ配線層を有する。しかしながら、その他の実施形態において、第1ビルドアップ配線構造110および第2ビルドアップ配線構造120は、実際の需要に応じて、それぞれ1層または1層以上のビルドアップ誘電層およびビルドアップ配線層を有してもよい。   Briefly, in the present embodiment, the first build-up wiring structure 110 and the second build-up wiring structure 120 each have three build-up dielectric layers and build-up wiring layers. However, in other embodiments, the first build-up wiring structure 110 and the second build-up wiring structure 120 may include one or more build-up dielectric layers and build-up wiring layers, respectively, depending on actual demand. You may have.

また、第1ソルダレジスト層150および第2ソルダレジスト層152は、選択的に、それぞれビルドアップ誘電層112cおよび122cの上に配置され、且つ最外層のビルドアップ配線層(すなわち、ビルドアップ配線層114cおよびビルドアップ配線層124c)を覆って、ビルドアップ配線層114cおよびビルドアップ配線層124cを保護する。また、基板100の中に、さらに金属層108を配置して、基板100の2つの側にある第1配線層102aおよび第2配線層102bを互いに電気接続する。   The first solder resist layer 150 and the second solder resist layer 152 are selectively disposed on the build-up dielectric layers 112c and 122c, respectively, and the outermost build-up wiring layer (that is, the build-up wiring layer). 114c and buildup wiring layer 124c) are covered to protect buildup wiring layer 114c and buildup wiring layer 124c. Further, a metal layer 108 is further disposed in the substrate 100, and the first wiring layer 102a and the second wiring layer 102b on the two sides of the substrate 100 are electrically connected to each other.

また、別の実施形態において、図2を例にすると、リフトピン302を用いて、離型層200とその上方にある既に切断された部分の第1ビルドアップ配線構造110を突き出すために、第2ビルドアップ配線構造120は、さらにリフトピン孔300を有してもよい。リフトピン孔300は、第2ビルドアップ配線構造120を貫通してキャビティ220に達するため、リフトピン302がリフトピン孔300を通過して離型層200を押し出すのに便利である。   Further, in another embodiment, taking FIG. 2 as an example, the lift pin 302 is used to project the release layer 200 and the first cut-up wiring structure 110 of the already cut portion above the release layer 200. The buildup wiring structure 120 may further include a lift pin hole 300. Since the lift pin hole 300 penetrates the second buildup wiring structure 120 and reaches the cavity 220, it is convenient for the lift pin 302 to pass through the lift pin hole 300 and push out the release layer 200.

以上のように、本発明は、ビルドアップ法を利用して、基板の2つの側に第1ビルドアップ配線構造および第2ビルドアップ配線構造を形成する前に、まず、基板の開口の中に離型層を形成するため、切断プロセスを行って第1ビルドアップ配線構造を切断した後、離型層によって、離型層の上方にある既に切断された部分の第1ビルドアップ配線構造を素早く除去することができる。   As described above, according to the present invention, before forming the first buildup wiring structure and the second buildup wiring structure on the two sides of the substrate using the buildup method, first, in the opening of the substrate. In order to form a release layer, a cutting process is performed to cut the first build-up wiring structure, and then the release layer quickly causes the first build-up wiring structure in the already cut portion above the release layer to be formed. Can be removed.

また、第1ビルドアップ配線構造および第2ビルドアップ配線構造を形成する前に、基板は予め開口を形成するため、第1ビルドアップ配線構造を切断した後、基板を再度切断してキャビティの深さを増やす必要がないため、切断時間を有効に短縮することができる。   In addition, before forming the first buildup wiring structure and the second buildup wiring structure, the substrate is formed with an opening in advance, so that after the first buildup wiring structure is cut, the substrate is cut again and the cavity depth is increased. Since it is not necessary to increase the length, the cutting time can be shortened effectively.

また、第1ビルドアップ配線構造および第2ビルドアップ配線構造を形成する前に、基板は予め開口を形成するため、上述したビルドアップ配線層の配線面積を浪費しないように、第2ビルドアップ配線構造のいくつかの基板に隣接するビルドアップ配線層によってレーザー遮蔽領域を構成する必要がない。   In addition, since the substrate is formed with an opening in advance before forming the first buildup wiring structure and the second buildup wiring structure, the second buildup wiring is formed so as not to waste the wiring area of the buildup wiring layer described above. There is no need to construct the laser shielding area by build-up wiring layers adjacent to several substrates of the structure.

以上のごとく、この発明を実施形態により開示したが、もとより、この発明を限定するためのものではなく、当業者であれば容易に理解できるように、この発明の技術思想の範囲内において、適当な変更ならびに修正が当然なされうるものであるから、その特許権保護の範囲は、特許請求の範囲および、それと均等な領域を基準として定めなければならない。   As described above, the present invention has been disclosed by the embodiments. However, the present invention is not intended to limit the present invention, and is within the scope of the technical idea of the present invention so that those skilled in the art can easily understand. Therefore, the scope of patent protection should be defined based on the scope of claims and the equivalent area.

10 プリント配線板
100 基板
100a 第1表面
100b 第2表面
102、114、124 配線材料層
102a 第1配線層
102b 第2配線層
104 開口
106 貫通孔
108 金属層
109 穿孔材料
110 第1ビルドアップ配線構造
112a、112b、112c、122a、122b、122c ビルドアップ誘電層
114a、114b、114c、124a、124b、124c ビルドアップ配線層
116、126 ブラインドホール
118a、118b、118c、128a、128b、128c 導電孔路
120 第2ビルドアップ配線構造
150 第1ソルダレジスト層
152 第2ソルダレジスト層
200 離型層
220 キャビティ
300 リフトピン孔
302 リフトピン
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Printed wiring board 100 Board | substrate 100a 1st surface 100b 2nd surface 102,114,124 Wiring material layer 102a 1st wiring layer 102b 2nd wiring layer 104 Opening 106 Through-hole 108 Metal layer 109 Perforated material 110 1st buildup wiring structure 112a, 112b, 112c, 122a, 122b, 122c Build-up dielectric layer 114a, 114b, 114c, 124a, 124b, 124c Build-up wiring layer 116, 126 Blind hole 118a, 118b, 118c, 128a, 128b, 128c Conductive hole 120 Second buildup wiring structure 150 First solder resist layer 152 Second solder resist layer 200 Release layer 220 Cavity 300 Lift pin hole 302 Lift pin

Claims (10)

貫通する開口を有し、且つ第1表面および前記第1表面と向かい合う第2表面を有する基板と、前記第1表面に配置された第1配線層と、前記第2表面に配置された第2配線層とを提供するステップと、
前記開口の中に離型層を形成するステップと、
前記第1表面と前記離型層の上に第1ビルドアップ配線構造を形成するステップと、
前記第2表面と前記離型層の上に第2ビルドアップ配線構造を形成するステップと、
前記離型層の周囲に沿って、前記第1ビルドアップ配線構造を切断するステップと、
前記離型層と前記離型層の上にある既に切断された部分の前記第1ビルドアップ配線構造を取り除いて、キャビティを形成するステップとを含む、プリント配線板の製造方法。
A substrate having an opening therethrough and having a first surface and a second surface facing the first surface, a first wiring layer disposed on the first surface, and a second disposed on the second surface Providing a wiring layer;
Forming a release layer in the opening;
Forming a first build-up wiring structure on the first surface and the release layer;
Forming a second build-up wiring structure on the second surface and the release layer;
Cutting the first buildup wiring structure along the periphery of the release layer;
Removing the first build-up wiring structure in the part that has already been cut above the release layer and forming a cavity.
前記離型層の材料が、ポリテトラフルオロエチレンまたは金属を含む請求項1記載のプリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the material of the release layer includes polytetrafluoroethylene or a metal. 前記離型層を形成するステップが、離型材料を前記開口に埋め込むことを含む請求項1記載のプリント配線板の製造方法。   The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the step of forming the release layer includes embedding a release material in the opening. 前記離型層と前記離型層の上にある部分の前記第1ビルドアップ配線構造を取り除くステップが、直接剥離すること、またはリフトピンを用いて前記第2ビルドアップ配線構造を通過し、前記離型層と前記離型層の上にある部分の前記第1ビルドアップ配線構造を突き出すことを含む請求項1記載のプリント配線板の製造方法。   The step of removing the first build-up wiring structure on the release layer and the portion above the release layer may be directly peeled off or passed through the second build-up wiring structure using a lift pin, and The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, further comprising protruding the first build-up wiring structure in a portion above the mold layer and the release layer. 前記第1ビルドアップ配線構造を切断するステップが、レーザー切断を行うことを含む請求項1記載のプリント配線板の製造方法。   The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the step of cutting the first buildup wiring structure includes performing laser cutting. 前記第1ビルドアップ配線構造の上に第1ソルダレジスト層を形成するステップと、
前記第2ビルドアップ配線構造の上に第2ソルダレジスト層を形成するステップとをさらに含む、請求項1記載のプリント配線板の製造方法。
Forming a first solder resist layer on the first buildup wiring structure;
The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 1, further comprising: forming a second solder resist layer on the second buildup wiring structure.
貫通する開口を有し、且つ第1表面および前記第1表面と向かい合う第2表面を有する基板と、
前記第1表面に配置された第1配線層と、
前記第2表面に配置された第2配線層と、
前記第1表面の上に配置され、前記第1表面の一端に隣接する前記開口を露出する第1ビルドアップ配線構造と、
前記第2表面の上に配置され、前記第2表面の一端に隣接する前記開口を封鎖して、前記基板および前記第1ビルドアップ配線構造とともにキャビティを構成する第2ビルドアップ配線構造とを含む、プリント配線板。
A substrate having an opening therethrough and having a first surface and a second surface facing the first surface;
A first wiring layer disposed on the first surface;
A second wiring layer disposed on the second surface;
A first build-up wiring structure disposed on the first surface and exposing the opening adjacent to one end of the first surface;
A second build-up wiring structure disposed on the second surface and sealing the opening adjacent to one end of the second surface and forming a cavity together with the substrate and the first build-up wiring structure , Printed wiring board.
前記基板が、誘電体コアである請求項7記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 7, wherein the substrate is a dielectric core. 前記第1ビルドアップ配線構造の上に配置された第1ソルダレジスト層と、
前記第2ビルドアップ配線構造の上に配置された第2ソルダレジスト層とをさらに含む、請求項7記載のプリント配線板。
A first solder resist layer disposed on the first buildup wiring structure;
The printed wiring board according to claim 7, further comprising a second solder resist layer disposed on the second buildup wiring structure.
前記第2ビルドアップ配線構造が、リフトピン孔を有し、前記リフトピン孔が前記第2ビルドアップ配線構造を貫通して前記キャビティに達する請求項7記載のプリント配線板。   The printed wiring board according to claim 7, wherein the second buildup wiring structure has a lift pin hole, and the lift pin hole penetrates the second buildup wiring structure and reaches the cavity.
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