JP2012027486A - Liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
【課題】光配向で所望の値のリタデーションが付与された液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は一対の基板SUB1,SUB2間に液晶層LCを有し、液晶層を挟む上下の2つの配向膜ORI1,ORI2で構成されており、前記配向膜が、1〜80nmの方位角リタデーション値を有し、アンカリング強度が1.0×10-3Jm-2以上とした。
【選択図】図1Disclosed is a liquid crystal display device in which a desired value of retardation is provided by photo-alignment.
A liquid crystal display device has a liquid crystal layer LC between a pair of substrates SUB1 and SUB2, and is composed of two upper and lower alignment films ORI1 and ORI2 sandwiching the liquid crystal layer, and the alignment film has a thickness of 1 to 80 nm. The anchoring strength was 1.0 × 10 −3 Jm −2 or more.
[Selection] Figure 1
Description
本発明は、液晶表示装置に関するものである。そして、本発明は、特に光照射により配向膜に配向処理を施した液晶表示装置に好適なものである。 The present invention relates to a liquid crystal display device. The present invention is particularly suitable for a liquid crystal display device in which an alignment film is subjected to alignment treatment by light irradiation.
液晶表示装置の製造では、液晶配向制御層の一般的な処理として、ポリイミド等からなる有機膜に布で基板をこする、いわゆるラビングと呼ばれる処理が行われている。このラビング処理は、ラビング時の発塵による汚染、TFT型素子が搭載されている透明基板に対する摩擦による静電ダメージの発生、それらに基づく製造歩留まりの低下が問題となっている。このため、非接触の液晶配向技術が望まれており、その方法の一つに光配向処理がある(特許文献1)。 In the manufacture of a liquid crystal display device, as a general process for the liquid crystal alignment control layer, a so-called rubbing process is performed in which a substrate is rubbed with a cloth on an organic film made of polyimide or the like. This rubbing treatment has problems such as contamination due to dust generation during rubbing, generation of electrostatic damage due to friction with respect to the transparent substrate on which the TFT type element is mounted, and reduction in manufacturing yield based on them. For this reason, a non-contact liquid crystal alignment technique is desired, and one of the methods is a photo-alignment process (Patent Document 1).
特許文献1に開示された技術は、透明基板上に形成された有機配向膜に対し偏光紫外線を照射し、有機配向膜を構成する分子に紫外線の偏光方向に応じた化学変化を生じさせ、それにより有機配向膜に液晶配向の方向性とプレチルト角を与える技術である。従って、この技術によれば、ラビング時の発塵による汚染やTFT型素子搭載基板に対する静電ダメージの発生を防止でき、製造歩留まりの低下を防止できる。
The technique disclosed in
また、今日の液晶表示装置では、液晶表示装置の視野角を広げるため、あるいは、液晶表示装置に使われる二対の基板で液晶層を矜持した液晶セルの残留位相差を補償するために、位相差板と呼ばれる方位角リタデーションを有する層を、二対の基板で液晶層を矜持した液晶セルとこの液晶セルの偏光板の間に、例えば光入射側から、偏光板、位相差板、液晶セル、位相差板、偏光板の順に積層することが行われている。 In addition, in today's liquid crystal display devices, in order to widen the viewing angle of the liquid crystal display device or to compensate for the residual phase difference of the liquid crystal cell holding the liquid crystal layer between two pairs of substrates used in the liquid crystal display device, A layer having an azimuth retardation called a phase difference plate is placed between a liquid crystal cell holding a liquid crystal layer between two pairs of substrates and a polarizing plate of the liquid crystal cell, for example, from the light incident side, the polarizing plate, the phase difference plate, the liquid crystal cell, Lamination is performed in the order of a phase difference plate and a polarizing plate.
例えば、液晶分子がほぼ90°でツイスト配向されたTN型の液晶セルにおいては、特許文献2に示されるように、視角を変えても色調反転を抑えることが可能であるとされている。また、液晶分子が並行配向されたノーマリーホワイト型のホモジニアス配向の液晶セルにおいては、特許文献3に示されるように、液晶セル内の残留位相差を補償するために位相差板が用いられている。液晶分子が液晶セルの板に対して垂直に配向した、いわゆるVA型の液晶セルでも、特許文献4に記載されているように、視角特性を重視して僅かにラビングを施すことによって、オン時に液晶分子が倒れながら僅かにツイストする構造とすることがある。この場合液晶分子は液晶セルに対して完全に垂直にならないため液晶セル内に残留位相差が発生する。ただし、この残留位相差はそれほど大きくなく影響がホモジニアス配向の場合よりも小さいこと、位相差の小さな位相板の入手が困難であることから、位相差の補償はなされていないと思われる。
[先行技術文献]
[特許文献]
For example, in a TN type liquid crystal cell in which liquid crystal molecules are twist-aligned at approximately 90 °, as shown in
[Prior art documents]
[Patent Literature]
光配向処理は上述のような特長を持つにもかかわらず今日まで実用化された例がない。その原因は、液晶表示装置の画面を同一画像で長時間表示させ、その画像の表示を停止して例えば全面グレー表示を行った場合に、前の画像が焼きついて表示される、いわゆる残像がラビング処理で得られた液晶表示装置よりもきわめて発生しやすく、表示装置として実用上性能不足と判断されているためである。 Although the photo-alignment treatment has the above-described features, there has been no practical example to date. The cause is that when a liquid crystal display screen is displayed for a long time with the same image, and when the display of that image is stopped and, for example, a full-scale gray display is performed, the previous image is burned and displayed. This is because it is much easier to generate than the liquid crystal display device obtained by the processing, and it is judged that the performance of the display device is practically insufficient.
この残像はノーマリークローズの表示モードにおいては黒表示(電圧無印加の初期配向状態)でも見えるという特徴があり、配向規制層の配向規制力が弱いという原因で発生している。光配向処理によって得られた液晶表示装置のアンカリング強度は、ラビング処理した液晶表示装置の1/10〜1/100以下の値しか得られていないことが知られており、光配向処理の実用化には、光配向処理でもラビング並みのアンカリング強度が得られることが必要不可欠である。 This afterimage is characterized in that it can be seen in black display (initial alignment state with no voltage applied) in the normally closed display mode, and is generated due to the weak alignment regulating force of the alignment regulating layer. It is known that the anchoring strength of the liquid crystal display device obtained by the photo-alignment treatment is only 1/10 to 1/100 or less of the rubbing-processed liquid crystal display device. In order to achieve this, it is indispensable that an anchoring strength equivalent to that of rubbing can be obtained even with photo-alignment treatment.
また、液晶表示装置の視野角を広げるため、あるいは、液晶表示装置に使われる二対の基板で液晶層を矜持した液晶セルの残留位相差を補償するための位相差板は、位相差が80nm以下となるような小さな位相差を持つ位相板の入手が一般的には困難で高コストな液晶表示装置になってしまう。このほかに、特許文献5等に記載されたように、UVキュアラブル液晶を用いて液晶セルの内部に位相差板を形成する技術もあるが、この位相板を形成するためにはUVキュアラブル液晶セルを一旦作り、液晶層の硬化後対向基板をはがすという複雑な工程が追加されてしまうため、出来上がった液晶表示装置はやはり高価なものになってしまう。
In addition, a retardation plate for widening the viewing angle of a liquid crystal display device or compensating for a residual phase difference of a liquid crystal cell having a liquid crystal layer held between two pairs of substrates used in the liquid crystal display device has a phase difference of 80 nm. In general, it is difficult to obtain a phase plate having a small phase difference as described below, resulting in a high-cost liquid crystal display device. In addition, as described in
したがって、本発明の第一の目的は、光配向処理により配向膜を配向させた液晶表示装置において残像の発生を抑制し、信頼性高い液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。また、第二の目的は、位相差が80nm以下となるような小さな位相差層を低コストに作成することが可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。 Accordingly, a first object of the present invention is to provide a highly reliable liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, in which the occurrence of afterimages is suppressed in a liquid crystal display device in which an alignment film is aligned by photo-alignment treatment. A second object is to provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the same capable of producing a small retardation layer having a retardation of 80 nm or less at a low cost.
上記目的を達成するために、本発明では光配向処理により配向膜を配向させた液晶表示装置のアンカリング強度を高めるために配向膜の複屈折異方性に着目し、配向膜の方位角リタデーション向上による残像特性の改善を行うこととした。本発明の液晶表示装置は、第一の発明では、光照射により配向させた配向膜を有する液晶表示装置であって、前記配向膜は、1.0nm以上の方位角リタデーションを有し、アンカリング強度が1.0×10-3Jm-2以上としたものである。 In order to achieve the above object, the present invention focuses on the birefringence anisotropy of the alignment film in order to increase the anchoring strength of the liquid crystal display device in which the alignment film is aligned by photo-alignment treatment, and the azimuth retardation of the alignment film. It was decided to improve the afterimage characteristics by the improvement. The liquid crystal display device of the present invention is, in the first invention, a liquid crystal display device having an alignment film aligned by light irradiation, the alignment film having an azimuth angle retardation of 1.0 nm or more, and anchoring. The strength is 1.0 × 10 −3 Jm −2 or more.
第二の発明では、配向膜を有する液晶表示装置であって、この配向膜は、1.0nm以上の方位角リタデーション値で、アンカリング強度が1.0×10-3Jm-2以上であるというものである。このような構成の液晶表示装置においては、残像レベルの低い液晶表示装置とすることができる。 In the second invention, a liquid crystal display device having an alignment film, the alignment film has an azimuth retardation value of 1.0 nm or more and an anchoring strength of 1.0 × 10 −3 Jm −2 or more. That's it. In the liquid crystal display device having such a configuration, a liquid crystal display device having a low afterimage level can be obtained.
尚、この液晶表示装置は一対の基板間に液晶層を有して構成されており、この配向膜は液晶層を挟む上下の2つの配向膜で構成されており、さらにこの配向膜は光照射により配向させた配向膜で構成されているというものである。この配向膜は、9.0J/cm2以上の光の積算光量を照射して構成される。このような配向膜は、IPS型の液晶表示装置に適している。 This liquid crystal display device has a liquid crystal layer between a pair of substrates, and this alignment film is composed of two upper and lower alignment films sandwiching the liquid crystal layer, and this alignment film is irradiated with light. That is, it is composed of an alignment film aligned by the above. This alignment film is configured by irradiating an integrated light amount of light of 9.0 J / cm 2 or more. Such an alignment film is suitable for an IPS liquid crystal display device.
第三の発明では、液晶表示装置において、配向膜又は基板上の膜に、1〜80nmの方位角リタデーション値を有することを特徴としたものである。 In the third invention, the liquid crystal display device is characterized in that the alignment film or the film on the substrate has an azimuth retardation value of 1 to 80 nm.
上述のように、本発明における第一の発明によれば、従来技術と異なり、光配向処理によっても容易に残像が発生しない液晶表示装置を作成することができる。 As described above, according to the first aspect of the present invention, unlike the prior art, it is possible to produce a liquid crystal display device in which an afterimage is not easily generated even by a photo-alignment process.
具体的には、一般的配向膜として知られているポリイミドを例に出すと、膜厚100nm程度の配向膜にラビング処理を実施し、方位角リタデーションの測定をおこなうと(基板の残留位相差を含まない)、0.3〜0.7nm程度である。この配向処理された基板を用いて液晶表示装置を作成し残像評価を行った。 Specifically, taking polyimide known as a general alignment film as an example, rubbing treatment is performed on an alignment film with a thickness of about 100 nm, and azimuth angle retardation is measured (residual phase difference of the substrate is measured). Not included), about 0.3 to 0.7 nm. A liquid crystal display device was prepared using this alignment-treated substrate and an afterimage evaluation was performed.
具体的には、図8に示すような黒白チェッカーパターンを2時間表示し、この表示パターンを停止して直ちに全面黒表示を行うと、ただちに黒白チェッカーパターンは消失した。ここで、図8のチェッカーパターンとは、(8−1)のような一面黒の表示と(8−2)のような一面黒の表示を並べたパターンである。 Specifically, when a black and white checker pattern as shown in FIG. 8 is displayed for 2 hours, and when this display pattern is stopped and immediately the entire black display is performed, the black and white checker pattern disappears immediately. Here, the checker pattern in FIG. 8 is a pattern in which a black display as in (8-1) and a black display as in (8-2) are arranged.
一方、非接触配向(光配向処理)を行った場合では、方位角リタデーションがラビングと同程度の0.3〜0.7nmの基板を用いて、同様に液晶表示装置を作成し残像評価を行ったところ、容易に残像が発生した。同程度の膜厚において方位角リタデーションの値が1.0nm以上となった場合に初めて1.0×10−3Jm-2以上のアンカリング強度を達成し、残像試験を行うとラビングと同様に残像パターンが消失した。 On the other hand, when non-contact alignment (photo-alignment treatment) is performed, a liquid crystal display device is similarly prepared and an afterimage evaluation is performed using a substrate having a azimuth angle retardation of about 0.3 to 0.7 nm, which is similar to that of rubbing. As a result, an afterimage was easily generated. The anchoring strength of 1.0 × 10 −3 Jm −2 or more is achieved for the first time when the value of the azimuth angle retardation is 1.0 nm or more at the same film thickness, and afterimage test is performed in the same manner as rubbing. The pattern disappeared.
このように配向処理によって必要な方位角リタデーションの大きさが違う原因は、配向膜に付与される方位角リタデーションの深さ方向の分布が、配向処理によって異なるためと考えられる。すなわち、ラビング処理では、配向膜表面をこするために方位角リタデーションは配向膜表面に発生する。一方光配向処理では、配向性を付与する光は配向膜に吸収されつつも配向膜の深さ方向に十分に届く。 The reason why the required azimuth retardation is different depending on the alignment treatment is considered to be because the distribution in the depth direction of the azimuth retardation applied to the alignment film differs depending on the alignment treatment. That is, in the rubbing process, azimuth retardation is generated on the alignment film surface in order to rub the alignment film surface. On the other hand, in the photo-alignment treatment, the light imparting the orientation reaches the depth direction of the alignment film sufficiently while being absorbed by the alignment film.
このため、方位角リタデーションは配向膜の断面全域に渡って発生し、配向膜表面の方位角リタデーションはこの全体の方位角リタデーションの一部を占めるにすぎないと考えられる。特に、IPS方式でみられるような配向性の大小に起因する残像は、配向膜表面の配向性によって左右されると考えるのが妥当であり、光配向処理の場合、残像を発生させないために必要な方位角リタデーションの値はラビング処理の場合よりも大きくなる。発明者らは方位角リタデーションの値と残像の関係について鋭意検討を重ねた結果、第一の発明に示した条件で初めて残像が発生しなくなることを見出した。 For this reason, it is considered that the azimuth angle retardation occurs over the entire cross section of the alignment film, and the azimuth angle retardation on the surface of the alignment film occupies only a part of the entire azimuth angle retardation. In particular, it is appropriate to consider that the afterimage due to the orientation as seen in the IPS system depends on the orientation of the alignment film surface. In the case of photo-alignment treatment, it is necessary to prevent the afterimage from being generated. The value of the correct azimuth angle retardation is larger than that in the rubbing process. As a result of intensive studies on the relationship between the azimuth angle retardation value and the afterimage, the inventors have found that an afterimage does not occur for the first time under the conditions shown in the first invention.
本発明における第二の発明では、従来技術と異なり、位相差が80nm以下となるような小さな位相差層を低コストに作成することが可能となる。具体的には、同一膜厚において光照射によって方位角リタデーションが大きくなる配向膜を用いて、膜厚・照射光量や照射時の加熱温度を調整することで、位相差が80nm以下となるような任意の位相差層を高精度に作成することが可能となる。 In the second invention of the present invention, unlike the prior art, it is possible to produce a small retardation layer having a retardation of 80 nm or less at a low cost. Specifically, using an alignment film that increases the azimuth angle retardation by light irradiation at the same film thickness, adjusting the film thickness, irradiation light amount, and heating temperature at the time of irradiation, the phase difference becomes 80 nm or less. An arbitrary retardation layer can be created with high accuracy.
以下、発明を実施するための最良の形態について図面を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。 The best mode for carrying out the invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention should not be construed as being limited to the description of the embodiment modes.
図1は、本発明の実施例1を説明するIPS方式の液晶パネルの断面構造とその軸構成の説明図である。図1の(a)はIPS型の液晶表示装置を構成する液晶パネルの断面構造の説明図であり、基板SUB1とSUB2の間に液晶層LCを矜持し、一方の基板SUB2の主面にカラーフィルタCFなどの有機膜が配置され、そのカラーフィルタCF上に配向膜ORI2が配置されている。また基板SUB1の主面上に画素電極PXと対向電極CTが配置され、さらにその上方に配向膜ORI1が配置されている。 FIG. 1 is an explanatory diagram of a cross-sectional structure of an IPS-type liquid crystal panel and a shaft configuration thereof for explaining the first embodiment of the present invention. FIG. 1A is an explanatory diagram of a cross-sectional structure of a liquid crystal panel constituting an IPS type liquid crystal display device. A liquid crystal layer LC is held between substrates SUB1 and SUB2, and a color is formed on the main surface of one substrate SUB2. An organic film such as a filter CF is disposed, and an alignment film ORI2 is disposed on the color filter CF. Further, the pixel electrode PX and the counter electrode CT are disposed on the main surface of the substrate SUB1, and the alignment film ORI1 is disposed thereon.
図1の(b)は図1の(a)に示したIPS方式の液晶パネルの軸構成の説明図である。尚、図1(b)におけるαは0〜360°の任意の角度を示す。さらに、軸の向きは、表示パネルを表示側正面から見たときの方位角の方向を示すものである。2に液晶パネルの外面に積層した一対の偏光板、すなわち上部偏光板POL2および下側偏光板POL1は、液晶層LCに電界が印加されたときの透過率に比べ、液晶層に電界が印加されていないときの透過率が低くなるように配置されている。例えば、上側偏光板POL2および下側偏光板POL1は液晶パネルを介して、それぞれの偏光軸が互いに直交するように配置(いわゆるクロスニコル配置)されている。 FIG. 1B is an explanatory diagram of the shaft configuration of the IPS liquid crystal panel shown in FIG. In addition, (alpha) in FIG.1 (b) shows the arbitrary angles of 0-360 degrees. Furthermore, the direction of the axis indicates the direction of the azimuth when the display panel is viewed from the front of the display side. The pair of polarizing plates laminated on the outer surface of the liquid crystal panel in FIG. 2, that is, the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1, have an electric field applied to the liquid crystal layer compared to the transmittance when the electric field is applied to the liquid crystal layer LC. It is arranged so that the transmittance is low when not. For example, the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1 are arranged via a liquid crystal panel so that their polarization axes are orthogonal to each other (so-called crossed Nicols arrangement).
液晶パネルの上側と下側に設けられた配向膜ORI2とORL1の軸方向は、それぞれ同じ基板側の偏光板の偏光軸と並行(すなわち0°)の角をなすように設定される。液晶分子は配向膜の軸方向に沿って配列している。このときの液晶層の液晶パネルのギャップdと屈折率異方性Δnとの積Δnd(方位角リタデーション)の値は、300〜400nm(測定波長589nm)の範囲に設定されている。 The axial directions of the alignment films ORI2 and ORL1 provided on the upper side and the lower side of the liquid crystal panel are set so as to form an angle parallel (that is, 0 °) with the polarization axis of the polarizing plate on the same substrate side. The liquid crystal molecules are arranged along the axial direction of the alignment film. At this time, the product Δnd (azimuth angle retardation) of the gap d of the liquid crystal panel of the liquid crystal layer and the refractive index anisotropy Δn is set in the range of 300 to 400 nm (measurement wavelength 589 nm).
以上の構成により、電圧無印加状態では基板法線方向から観察したときの液晶層の方位角リタデーションは最小となり、クロスニコル状態に配置された上側偏光板および下側偏光板により黒が表示される。 With the above configuration, when no voltage is applied, the azimuth retardation of the liquid crystal layer when viewed from the normal direction of the substrate is minimized, and black is displayed by the upper polarizing plate and the lower polarizing plate arranged in the crossed Nicols state. .
液晶層に十分な高い電圧を印加すると、正の誘電率異方性を有する液晶分子は電極間で形成された電界方向に傾き、偏光板とは0°ではない角をなすことにより、基板法線方向から観察したときに液晶層の方位角リタデーション値によってクロスニコル状態に配置された下側偏光板POL1の光は上側偏光板POL2を透過するようになり、白が表示される。 When a sufficiently high voltage is applied to the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy are inclined in the direction of the electric field formed between the electrodes, and the substrate method is formed by forming an angle other than 0 ° with the polarizing plate. When viewed from the line direction, the light of the lower polarizing plate POL1 arranged in the crossed Nicol state by the azimuth angle retardation value of the liquid crystal layer is transmitted through the upper polarizing plate POL2, and white is displayed.
基板SUB2へのカラーフィルタCFなどの有機膜の製造方法、および基板SUB1の画素電極PXや対向電極CTの製造方法は、例えば特許文献6などの方法で作製可能である。これらの基板上にポリアミド酸やポリイミドの6%N−メチルピロリドン溶液を印刷し230℃2時間の熱処理を行い、100nm程度の膜厚の配向膜層ORI2またはORI1を形成した。これに偏光を照射して光配向により方位角リタデーションを付与した。
The manufacturing method of the organic film such as the color filter CF on the substrate SUB2 and the manufacturing method of the pixel electrode PX and the counter electrode CT of the substrate SUB1 can be manufactured by, for example, the method of
なお、用いる材料としてより好ましくは、光分解型の光配向性ポリイミド(例えば分子量4000〜100000)で、ジアミン部位がBAPP;2,2−ビス{4−(パラアミノフェノキシ)フェニル}プロパン、酸無水物がCBDA;1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物などを用いると良い。 More preferably, the material used is a photodegradable photo-alignable polyimide (for example, molecular weight 4000-100000), and the diamine portion is BAPP; 2,2-bis {4- (paraaminophenoxy) phenyl} propane, acid anhydride Is preferably CBDA; 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride.
光配向を行うための偏光照射装置は、例えば特許文献7の図2に示された構成の光学系を用いることができる。本実施例では、偏光源には高圧水銀灯(HgHP)を用い、その出射光を偏光分離器により所定の偏光方向を持つ直線偏光に変換し、この偏光をシャッターを通して基板上の配向膜を照射した。
For example, an optical system having the configuration shown in FIG. 2 of
また、本実施例では、用いた偏光照射系の照射エネルギーは波長254nm換算で約15mW/cm2であり、この直線偏光させた光を、0〜18J/cm2の積算光量の範囲で照射した。なお照射の際には基板を150℃に加熱可能なホットプレート上に配置し、加熱しながら照射を行った。 In this example, the irradiation energy of the polarized irradiation system used was about 15 mW / cm 2 in terms of a wavelength of 254 nm, and this linearly polarized light was irradiated in the range of the accumulated light amount of 0 to 18 J / cm 2 . . At the time of irradiation, the substrate was placed on a hot plate that can be heated to 150 ° C., and irradiation was performed while heating.
基板SUB1とSUB2の間に液晶層LCを矜持する方法など、配向処理工程以後の液晶表示装置の製造方法は、例えば[特許文献6]などに記載されたような通常の方法で作製した。 For example, a method for manufacturing a liquid crystal display device after the alignment treatment step, such as a method of holding the liquid crystal layer LC between the substrates SUB1 and SUB2, was manufactured by a normal method as described in, for example, [Patent Document 6].
この方法で製作された液晶表示装置に対し、液晶表示装置を分解し、基板SUB1および基板SUB2の方位角リタデーションとアンカリング強度を測定した。ここで測定する方位角リタデーションは、せいぜい0.1nm〜数nmのオーダーであることが多いため、高精度の光学測定装置が必要である。 With respect to the liquid crystal display device manufactured by this method, the liquid crystal display device was disassembled, and the azimuth angle retardation and anchoring strength of the substrate SUB1 and the substrate SUB2 were measured. Since the azimuth angle retardation measured here is often on the order of 0.1 nm to several nm at most, a highly accurate optical measuring device is required.
ここで、まず方位角リタデーションの測定方法について説明する。図2は、本発明における方位角リタデーションを測定するための配向膜微小複屈折測定系の説明図である。光源から出力された単一波長の光は、光軸と略直交に配置された入射側偏光板、位相差板、測定サンプル、透過側偏光板を通過して光検出器に入力される構成となっている。 Here, first, a method for measuring the azimuth angle retardation will be described. FIG. 2 is an explanatory diagram of an alignment film microbirefringence measurement system for measuring the azimuth angle retardation in the present invention. The single wavelength light output from the light source passes through the incident-side polarizing plate, retardation plate, measurement sample, and transmission-side polarizing plate arranged substantially orthogonal to the optical axis, and is input to the photodetector. It has become.
光源および光検出器には市販の分光光度計が使用可能であり、本実施例では日立製作所製ダブルビーム型分光光度計U−3310(波長スリット幅2nm)を用いた。測定サンプルは基板SUB1および基板SUB2について隣り合う場所から各2枚採取した。分光光度計のサンプル側には上記微小複屈折光学系を、リファレンス側にはもう1枚の同一仕様の測定サンプルのみを配置した。
A commercially available spectrophotometer can be used for the light source and the photodetector. In this example, a double beam spectrophotometer U-3310 (wavelength slit
偏光板には偏光度が高いものが必要で、位相差板には波長分散の小さいものが望ましい。本実施例では偏光板に日東電工社製SEG1425DUを、位相差板としてJSR社製のアートンフィルム(1/2波長板)をコーニング社製ガラスCorning7059に張り合わせたものを用いた。入射側偏光板の偏光軸と透過側偏光板の変更軸は略直交となるように配置され(図2においては45°と135°)、位相差板は入射側偏光軸と透過側偏光軸それぞれに対し約45°の角度となるように配置される(図2においては0°)。 The polarizing plate needs to have a high degree of polarization, and the retardation plate preferably has a small wavelength dispersion. In this example, SEG1425DU manufactured by Nitto Denko Co., Ltd. was used as the polarizing plate, and Arton film (1/2 wavelength plate) manufactured by JSR Co., Ltd. as a retardation plate was bonded to Corning 7059 manufactured by Corning. The polarization axis of the incident-side polarizing plate and the change axis of the transmission-side polarizing plate are arranged so as to be substantially orthogonal (45 ° and 135 ° in FIG. 2), and the retardation plate has an incident-side polarizing axis and a transmission-side polarizing axis, respectively. Is arranged so as to have an angle of about 45 ° (0 ° in FIG. 2).
測定サンプルは光路上で光軸に垂直な面で自由に回転可能なステージ(例えば、シグマ光機製回転ステージ)に取り付けられ、位相差板に対し配向軸が約0°の角となるように配置して波長範囲400nmから700nmの間1nmきざみで分光透過率を測定し、さらに位相差板に対し配向軸が約90°の角となるように配置して同様に波長範囲400nmから700nmの間1nmきざみで分光透過率を測定し、それぞれの場合について分光透過率が極小となる波長を求めた。 The measurement sample is mounted on a stage that can be freely rotated in a plane perpendicular to the optical axis on the optical path (for example, a rotary stage manufactured by Sigma Kogyo Co., Ltd.), and is arranged so that the orientation axis is an angle of about 0 ° with respect to the phase difference plate Then, the spectral transmittance is measured in increments of 1 nm in the wavelength range of 400 nm to 700 nm, and further arranged so that the orientation axis is an angle of about 90 ° with respect to the retardation plate, and similarly 1 nm in the wavelength range of 400 nm to 700 nm. The spectral transmittance was measured in steps, and the wavelength at which the spectral transmittance was minimized was determined for each case.
上記の微小複屈折測定系で測定した、位相差板に対して0°方向に配置したときの分光透過率が極小となる波長、よび位相差板に対して90°方向に配置したときの分光透過率が極小となる波長を用いて測定基板の方位角リタデーションを求める方法を次に説明する。 The wavelength when the spectral transmittance is minimized when arranged in the 0 ° direction with respect to the phase difference plate and the spectrum when arranged in the 90 ° direction with respect to the phase difference plate, measured by the above-described minute birefringence measurement system. Next, a method for obtaining the azimuth angle retardation of the measurement substrate using the wavelength at which the transmittance is minimized will be described.
光軸がy軸に平行な一軸性薄膜を2枚の偏光板で挟んだ場合、透過光強度は(1)式で現される。 When a uniaxial thin film whose optical axis is parallel to the y-axis is sandwiched between two polarizing plates, the transmitted light intensity is expressed by equation (1).
I=I0[cos2ψ−sin2φsin2(φ−ψ)sin2δ/2]・・・・・(1)
但し、I0は入射光強度、δ=2πΔn・d/λである。
I = I 0 [cos2ψ−sin2φsin2 (φ−ψ) sin 2 δ / 2] (1)
However, I 0 is the incident light intensity, δ = 2πΔn · d / λ.
図2に示されるように、上下の偏光軸を直交、かつ光軸とそれぞれ45°の角度をなすように配置すると、ψ=90°、φ=45°となり、(1)式は(2)式のように簡略化される。 As shown in FIG. 2, when the upper and lower polarization axes are orthogonal to each other and form an angle of 45 ° with the optical axis, ψ = 90 ° and φ = 45 °, and the equation (1) becomes (2) It is simplified like the formula.
I=I0sin2(πΔn・d/λ)・・・・・(2)
透過光強度が極小になるのは(3)式の条件が成立する場合である。
πΔn・d/λ=m (m=0、1,2、・・・)・・・・・(3)
(3)式の関係を用いると、透過率極小波長(λmin)の測定からΔndが求められる。本発明で使用した位相差板は波長550nm近辺において三次の極小(m=3)となるものを使用したので、(3)式は(4)式となる。
I = I 0 sin2 (πΔn · d / λ) (2)
The transmitted light intensity is minimized when the condition of equation (3) is satisfied.
πΔn · d / λ = m (m = 0, 1, 2,...) (3)
Using the relationship of the expression (3), Δnd can be obtained from the measurement of the minimum transmittance wavelength (λmin). Since the retardation plate used in the present invention has a cubic minimum (m = 3) in the vicinity of a wavelength of 550 nm, the expression (3) becomes the expression (4).
πΔn・d/λ=3 ・・・・・(4)
二枚の一軸性フィルムを用いた位相差板の合成位相差は、光軸を平行にして積層した場合は両者の和で、また光軸を直交して積層した場合は差で与えられる。ここで、位相差板のΔndをR、測定基板の方位角リタデーションをrとする。測定基板を位相差板の光軸と配向方向を平行にした場合の透過率極小波長をλp、位相差板の光軸と配向方向を直交させた場合の透過率極小波長をλTとすると、上記(4)式から次の(5)式、(6)式が得られる。
πΔn · d / λ = 3 (4)
The combined retardation of the retardation plates using two uniaxial films is given by the sum of both when the optical axes are laminated in parallel, and by the difference when the optical axes are laminated orthogonally. Here, Δnd of the retardation film is R, and azimuth retardation of the measurement substrate is r. Assuming that the minimum transmittance wavelength is λp when the optical axis of the phase difference plate is parallel to the orientation direction, and the minimum transmittance wavelength is λT when the optical axis of the retardation plate is orthogonal to the orientation direction, From the equation (4), the following equations (5) and (6) are obtained.
R+r=3λp ・・・・・(5)
R−r=3λT ・・・・・(6)
(5)式から(6)式を引くことにより、(7)式が得られる。
R + r = 3λp (5)
R−r = 3λT (6)
By subtracting equation (6) from equation (5), equation (7) is obtained.
r=3(λp−λT)/2 ・・・・(7)
つまり、分光光度計を用いてλpとλTを測定すれば、(7)式から測定基板の方位角リタデーションrが求められる。なおRとrは波長依存性を持つため(7)式は厳密には正しくない。しかし、微小位相差の測定ではλpとλTの値は接近しており(大きくても50nm程度)、位相差板に波長分散の小さいアートンフィルムを使用しているため、50nm程度の波長差での方位角リタデーションの波長依存はほぼ考慮する必要がなく、(7)式は適用可能である。
r = 3 (λp−λT) / 2 (7)
That is, if λp and λT are measured using a spectrophotometer, the azimuth angle retardation r of the measurement substrate can be obtained from the equation (7). Since R and r have wavelength dependence, equation (7) is not strictly correct. However, in the measurement of a minute phase difference, the values of λp and λT are close to each other (about 50 nm at most), and an arton film having a small wavelength dispersion is used for the phase difference plate. The wavelength dependence of the azimuth angle retardation need not be substantially considered, and the expression (7) is applicable.
次に、アンカリング強度の測定方法について説明する。 Next, a method for measuring anchoring strength will be described.
アンカリング強度の測定のため、基板SUB1および基板SUB2それぞれについてホモジニアス配向の液晶パネルを作製する。本実施例では基板の大きさが25×50mmで、基板の長辺側2辺に直径10μmのガラスファイバーを含む熱硬化型シール材を線状に形成したセルを作製した。 In order to measure the anchoring strength, a homogeneous alignment liquid crystal panel is manufactured for each of the substrate SUB1 and the substrate SUB2. In this example, a cell having a substrate size of 25 × 50 mm and a linear thermosetting sealing material containing glass fibers having a diameter of 10 μm on two long sides of the substrate was produced.
このセルに対し、以下の手順でアンカリング強度を測定した。 The anchoring strength was measured for this cell by the following procedure.
(1) 液晶(Δn=0.26)を浸した容器に作製したセルの短辺側一辺を2mm程度浸積して、液晶を封入した。封入が完了したセルをオーブン(設定温度90℃)で15分間エージングを行い、オーブンから取り出し室温放置し、一夜放置した。 (1) About 2 mm of one side of the short side of the cell prepared in a container immersed in liquid crystal (Δn = 0.26) was immersed to enclose the liquid crystal. The sealed cell was aged in an oven (set temperature 90 ° C.) for 15 minutes, removed from the oven, allowed to stand at room temperature, and left overnight.
(2) 偏光顕微鏡を用いて上記セルの光学ツイスト角(φ1)を測定した。用いた偏光顕微鏡では、光源の光は偏光子・測定サンプル・検光子を介して目視観察および光検出器(浜松フォトニクス製光電子増倍管)に出力するという光学系になっている。光検出器で検出された信号はA/Dコンバータ(ヒューレットパッカード製)でデジタル出力され、PCに取り込みが可能となっている。偏光子・検光子はステッピングモーター(最小駆動単位0.005°)により駆動可能となっており、0.01°ずつ偏光子を回転させで光強度が最小となる角度を4次のフィッティングにより求め、次いで、0.01°ずつ検光子を回転させで光強度が最小となる角度を4次のフィッティングにより求める作業を繰り返すことで、透過率が最小となる偏光子角度(θ1)および検光子角度(θ2)を求め、(8)式により光学ツイスト角(φ1)を計算した。 (2) The optical twist angle (φ1) of the cell was measured using a polarizing microscope. The polarization microscope used has an optical system in which light from a light source is output to a visual observation and a photodetector (a photomultiplier manufactured by Hamamatsu Photonics) through a polarizer, a measurement sample, and an analyzer. The signal detected by the photodetector is digitally output by an A / D converter (manufactured by Hewlett Packard) and can be taken into a PC. The polarizer / analyzer can be driven by a stepping motor (minimum drive unit 0.005 °), and the angle at which the light intensity is minimized by rotating the polarizer by 0.01 ° is obtained by fourth-order fitting. Then, the polarizer angle (θ1) and the analyzer angle at which the transmittance is minimized by repeating the work of rotating the analyzer by 0.01 ° to obtain the angle at which the light intensity is minimized by the fourth-order fitting. (Θ2) was determined, and the optical twist angle (φ1) was calculated using equation (8).
φ=θ1+90−θ2 ・・・・・(8)
(3) 遠心分離機の中心軸と直交する方向にセルを固定し遠心分離(500rpm)を3分行い、さらに高圧エアーをセル内に吹き付けることでセル内の液晶を除去した。
φ = θ1 + 90−θ2 (8)
(3) The cell was fixed in a direction perpendicular to the central axis of the centrifuge, centrifuged (500 rpm) for 3 minutes, and high pressure air was blown into the cell to remove liquid crystal in the cell.
(4) (1)で用いたΔn=0.26の液晶にピッチが46μmとなるようにメルク製カイラル材S−811の濃度を調整して得た液晶混合物を容器に浸し、作製したセルの短辺側一辺を2mm程度浸積して、液晶を封入した。封入が完了したセルをオーブン(設定温度90℃)で15分間エージングを行い、オーブンから取り出し室温放置し、二夜放置した。 (4) The liquid crystal mixture obtained by adjusting the concentration of the chiral material S-811 made by Merck so that the pitch is 46 μm in the liquid crystal of Δn = 0.26 used in (1) was immersed in a container, and One side of the short side was immersed for about 2 mm to enclose liquid crystal. The sealed cell was aged in an oven (set temperature 90 ° C.) for 15 minutes, removed from the oven, allowed to stand at room temperature, and left overnight.
(5) (2)と同じ方法を用いて光学ツイスト角(φ2)を計算した。 (5) The optical twist angle (φ2) was calculated using the same method as in (2).
上記で測定したカイラル不含有時の光学ツイスト角(φ1)とカイラル含有時の光学ツイスト角(φ2)のデータを用いて、(9)式によりアンカリング強度(Aφ)を計算した。 The anchoring strength (Aφ) was calculated by the equation (9) using the data of the optical twist angle (φ1) when no chiral was measured and the optical twist angle (φ2) when chiral was contained.
Aφ=2K2(2πd/P−φ2)/dsin(φ2−φ1)・・・・・(9) Aφ = 2K2 (2πd / P-φ2) / dsin (φ2-φ1) (9)
本実施例で作成した基板SUB1及びSUB2の方位角リタデーションとアンカリング強度の測定結果を図9と図10に示す。尚、これらの図では、積算光量は0〜15J/cm2の範囲で示す。図9は、配向膜形成時の照射光の積算光量と方位角リタデーションの関係を示す図である。図10は、配向膜形成時の照射光の積算光量とアンカリング強度の関係を示す図である。 The measurement results of the azimuth angle retardation and anchoring strength of the substrates SUB1 and SUB2 prepared in this example are shown in FIGS. In these figures, the integrated light quantity is shown in the range of 0 to 15 J / cm2. FIG. 9 is a diagram illustrating the relationship between the integrated light amount of irradiation light and the azimuth retardation when forming an alignment film. FIG. 10 is a diagram illustrating a relationship between the integrated light amount of the irradiation light and the anchoring intensity when forming the alignment film.
次に、実施例1の方法で作製した液晶表示装置に対し、図8に示した黒白チェッカーパターンを2時間表示し、この表示パターンの停止して直ちに全面黒表示を行うという残像消失レベルチェックを行った。この結果を図11と図12に示す。 Next, an afterimage disappearance level check is performed in which the black and white checker pattern shown in FIG. 8 is displayed for 2 hours on the liquid crystal display device manufactured by the method of Example 1, and the entire black display is immediately performed after the display pattern is stopped. went. The results are shown in FIG. 11 and FIG.
図11は、アンカリング強度と残像消失レベルの関係を示す図である。図12は、方位角リタデーションと残像消失レベルの関係を示す図である。「残像消失レベル」の各数値は、各方位角リタデーションにおける残像消失のレベルを示したものであり、4: 焼きつきが消失しない、3:24時間以内に消失、2:2時間以内に消失、1:30分以内に消失、0: 直ちに消失する、という意味である。 FIG. 11 is a diagram showing the relationship between the anchoring intensity and the afterimage disappearance level. FIG. 12 is a diagram showing the relationship between the azimuth angle retardation and the afterimage disappearance level. Each value of “afterimage disappearance level” indicates a level of afterimage disappearance in each azimuth angle retardation, 4: burn-in does not disappear, 3: disappears within 24 hours, 2: disappears within 2 hours, 1 means disappearing within 30 minutes, 0 means disappearing immediately.
図13に図9〜図12の測定結果を纏めた表を示す。図13において、ILQは積算光量であり、LVは官能試験による残像消失レベルである。これらの図表から示されるように、光照射によって形成される配向膜の方位角リタデーションとアンカリング強度は、残像消失に顕著な影響があることが確認された。今回の測定結果によれば、方位角リタデーションは1.0以上、アンカリング強度は0.99Jm-2以上に配向膜が形成されれば、ただちに黒白チェッカーパターンが消失することが確認された。 FIG. 13 shows a table summarizing the measurement results of FIGS. In FIG. 13, ILQ is an integrated light quantity, and LV is an afterimage disappearance level by a sensory test. As shown in these charts, it was confirmed that the azimuth angle retardation and anchoring strength of the alignment film formed by light irradiation have a significant effect on the afterimage disappearance. According to the measurement results this time, it was confirmed that the black-and-white checker pattern disappeared immediately when the orientation film was formed with an azimuth angle retardation of 1.0 or more and an anchoring strength of 0.99 Jm-2 or more.
尚、この液晶表示装置の全面黒表示において、筋状の輝度むらは発生しなかった。また液晶表示装置の基板SUB1および基板SUB2の配向膜表面を顕微鏡で観察したところ、表面に傷は確認されなかった。 In the entire black display of this liquid crystal display device, streaky luminance unevenness did not occur. Further, when the alignment film surfaces of the substrate SUB1 and the substrate SUB2 of the liquid crystal display device were observed with a microscope, no scratches were confirmed on the surfaces.
以上の結果を基に、本実施例では、方位角リタデーションは1.0以上、アンカリング強度は0.99Jm-2以上となるように、配向膜を形成するものとする。即ち、この実施例から、方位角リタデーションが1.0以上、アンカリング強度が1.0Jm-2以上の配向膜であれば、残像の生じない液晶表示装置を得ることができることがわかる。 Based on the above results, in this embodiment, the alignment film is formed so that the azimuth angle retardation is 1.0 or more and the anchoring strength is 0.99 Jm −2 or more. That is, it can be seen from this example that a liquid crystal display device with no afterimage can be obtained as long as the orientation film has an azimuth angle retardation of 1.0 or more and an anchoring strength of 1.0 Jm −2 or more.
配向膜の配向処理において、用いた偏光照射系の照射エネルギーは波長254nm換算で約15mW/cm2であり、この直線偏光させた光を照射量は5J/cm2となるように照射時間を調整して照射した。なお照射の際には基板を150℃に加熱可能なホットプレート上に配置し、加熱しながら照射を行った。その他の液晶表示装置の作製方法は、実施例1と同様に行った。 In the alignment treatment of the alignment film, the irradiation energy of the polarized irradiation system used is about 15 mW / cm 2 in terms of a wavelength of 254 nm, and the irradiation time is adjusted so that the irradiation amount of this linearly polarized light is 5 J / cm 2. And irradiated. At the time of irradiation, the substrate was placed on a hot plate that can be heated to 150 ° C., and irradiation was performed while heating. Other liquid crystal display device manufacturing methods were performed in the same manner as in Example 1.
比較例1の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2の方位角リタデーションは同一で、0.7であった。 The azimuth angle retardation of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Comparative Example 1 was the same and was 0.7.
比較例1の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2のアンカリング強度は同一で、6.2×10-4Jm-2であった。 The anchoring strengths of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Comparative Example 1 were the same and were 6.2 × 10 −4 Jm −2 .
比較例1の方法で作製した液晶表示装置に対し黒白チェッカーパターンを2時間表示し、この表示パターンを停止して直ちに全面黒表示を行うと、全面黒表示においても黒白チェッカーパターンが若干残像として確認された。 When the black and white checker pattern is displayed for 2 hours on the liquid crystal display device manufactured by the method of Comparative Example 1 and this display pattern is stopped and immediately the entire black display is performed, the black and white checker pattern is confirmed as an afterimage even in the full black display. It was done.
配向膜の配向処理において、レーヨン布(吉川加工製YA−19R)を用いてロールの回転数500rpm、ロールの進行速度20mm/秒、押し込み量0.6mmでラビング処理を行った。その他の液晶表示装置の作製方法は、実施例1と同様に行った。 In the alignment treatment of the alignment film, a rubbing treatment was performed using a rayon cloth (YA-19R manufactured by Yoshikawa Processing) at a roll rotation speed of 500 rpm, a roll traveling speed of 20 mm / second, and an indentation amount of 0.6 mm. Other liquid crystal display device manufacturing methods were performed in the same manner as in Example 1.
比較例2の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2の方位角リタデーションは同一で、0.7であった。 The azimuth retardation of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Comparative Example 2 was the same and was 0.7.
比較例2の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2のアンカリング強度は同一で、1.1×10-4Jm-2であった。 The anchoring strengths of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Comparative Example 2 were the same, 1.1 × 10 −4 Jm −2 .
比較例2の方法で作製した液晶表示装置に対し黒白チェッカーパターンを2時間表示し、この表示パターンを停止して直ちに全面黒表示を行うと、ただちに黒白チェッカーパターンは消失した。しかし、この液晶表示装置の全面黒表示において、筋状の輝度むらが発生した。液晶表示装置の基板SUB1および基板SUB2の配向膜表面を顕微鏡で観察したところ、表面にラビングに伴う筋状の傷が確認された。また、画素の一部が表示されない欠陥がいくつかの場所で見られた。 When the black and white checker pattern was displayed on the liquid crystal display device produced by the method of Comparative Example 2 for 2 hours, and this display pattern was stopped and the entire black display was performed immediately, the black and white checker pattern immediately disappeared. However, streaky luminance unevenness occurred in the entire black display of the liquid crystal display device. When the alignment film surfaces of the substrate SUB1 and the substrate SUB2 of the liquid crystal display device were observed with a microscope, streak-like scratches associated with rubbing were confirmed on the surface. In addition, defects in which some of the pixels are not displayed were seen in several places.
以上の実施例・比較例の実験結果を表1にまとめた。 The experimental results of the above examples and comparative examples are summarized in Table 1.
実施例1において、カラーフィルタCFなどの有機膜が製膜された基板SUB2、および画素電極PX・対向電極CTが形成された基板SUB1に対し、これらの基板上にポリアミド酸やポリイミドの6%N−メチルピロリドン溶液をスピンコート法で塗布し230℃2時間の熱処理を行い、100nmの膜厚の配向膜層ORI2またはORI1を形成した。配向膜の配向処理において、波長254nm換算で約15mW/cm2の光強度の偏光照射系を用いて、この直線偏光させた光を照射量は20J/cm2となるように照射時間を調整して照射した。なお照射の際には基板を150℃に加熱可能なホットプレート上に配置し、加熱しながら照射を行った。その他の液晶表示装置の作製方法は、実施例1と同様に行った。 In Example 1, for the substrate SUB2 on which an organic film such as the color filter CF is formed and the substrate SUB1 on which the pixel electrode PX and the counter electrode CT are formed, 6% N of polyamic acid or polyimide is formed on these substrates. -A methylpyrrolidone solution was applied by a spin coat method and heat-treated at 230 ° C for 2 hours to form an alignment film layer ORI2 or ORI1 having a thickness of 100 nm. In the alignment treatment of the alignment film, using a polarized light irradiation system having a light intensity of about 15 mW / cm 2 in terms of a wavelength of 254 nm, the irradiation time is adjusted so that the irradiation amount of this linearly polarized light is 20 J / cm 2. And irradiated. At the time of irradiation, the substrate was placed on a hot plate that can be heated to 150 ° C., and irradiation was performed while heating. Other liquid crystal display device manufacturing methods were performed in the same manner as in Example 1.
実施例2の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2の方位角リタデーションは同一で、2.1であった。 The azimuth angle retardation of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Example 2 was the same, 2.1.
実施例1において、カラーフィルタCFなどの有機膜が製膜された基板SUB2、および画素電極PX・対向電極CTが形成された基板SUB1に対し、これらの基板上にポリアミド酸やポリイミドの8%N−メチルピロリドン溶液をスピンコート法で塗布し230℃で2時間の熱処理を行い、200nmの膜厚の配向膜層ORI2またはORI1を形成した。配向膜の配向処理において、波長254nm換算で約15mW/cm2の光強度の偏光照射系を用いて、この直線偏光させた光を照射量は15J/cm2となるように照射時間を調整して照射した。なお照射の際には基板を200℃に加熱可能なホットプレート上に配置し、加熱しながら照射を行った。その他の液晶表示装置の作製方法は、実施例1と同様に行った。 In Example 1, with respect to the substrate SUB2 on which an organic film such as the color filter CF is formed and the substrate SUB1 on which the pixel electrode PX and the counter electrode CT are formed, 8% N of polyamic acid or polyimide is formed on these substrates. -A methylpyrrolidone solution was applied by spin coating, and heat treatment was performed at 230 ° C for 2 hours to form an alignment film layer ORI2 or ORI1 having a thickness of 200 nm. In the alignment treatment of the alignment film, using a polarized light irradiation system having a light intensity of about 15 mW / cm 2 in terms of a wavelength of 254 nm, the irradiation time is adjusted so that the dose of the linearly polarized light is 15 J / cm 2. And irradiated. At the time of irradiation, the substrate was placed on a hot plate that can be heated to 200 ° C., and irradiation was performed while heating. Other liquid crystal display device manufacturing methods were performed in the same manner as in Example 1.
実施例3の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2の方位角リタデーションは同一で、5.4であった。 The azimuth angle retardation of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Example 3 was the same and was 5.4.
実施例1において、カラーフィルタCFなどの有機膜が製膜された基板SUB2、および画素電極PX・対向電極CTが形成された基板SUB1に対し、これらの基板上にポリアミド酸やポリイミドの8%N−メチルピロリドン溶液をスピンコート法で低速回転条件で塗布し230℃で2時間の熱処理を行い、約0.5μmの膜厚の配向膜層ORI2またはORI1を形成した。配向膜の配向処理において、波長254nm換算で約15mW/cm2の光強度の偏光照射系を用いて、この直線偏光させた光を照射量は30J/cm2となるように照射時間を調整して照射した。なお照射の際には基板を200℃に加熱可能なホットプレート上に配置し、加熱しながら照射を行った。その他の液晶表示装置の作製方法は、実施例1と同様に行った。 In Example 1, with respect to the substrate SUB2 on which an organic film such as the color filter CF is formed and the substrate SUB1 on which the pixel electrode PX and the counter electrode CT are formed, 8% N of polyamic acid or polyimide is formed on these substrates. -A methylpyrrolidone solution was applied by spin coating under low-speed rotation conditions, and heat treatment was performed at 230 ° C for 2 hours to form an alignment film layer ORI2 or ORI1 having a thickness of about 0.5 µm. In the alignment treatment of the alignment film, using a polarized light irradiation system having a light intensity of about 15 mW / cm 2 in terms of a wavelength of 254 nm, the irradiation time is adjusted so that the dose of the linearly polarized light is 30 J / cm 2. And irradiated. At the time of irradiation, the substrate was placed on a hot plate that can be heated to 200 ° C., and irradiation was performed while heating. Other liquid crystal display device manufacturing methods were performed in the same manner as in Example 1.
実施例4の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2の方位角リタデーションは同一で、11.9であった。 The azimuth angle retardation of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Example 4 was the same, 11.9.
実施例1において、カラーフィルタCFなどの有機膜が成膜された基板SUB2、および画素電極PX・対向電極CTが形成された基板SUB1に対し、これらの基板上にポリアミド酸やポリイミドの10%N−メチルピロリドン溶液をスピンコート法で低速回転条件で塗布し230℃2時間の熱処理を行い、約1.0μmの膜厚の配向膜層ORI2またはORI1を形成した。配向膜の配向処理において、波長254nm換算で約15mW/cm2の光強度の偏光照射系を用いて、この直線偏光させた光を照射量は60J/cm2となるように照射時間を調整して照射した。なお照射の際には基板を200℃に加熱可能なホットプレート上に配置し、加熱しながら照射を行った。その他の液晶表示装置の作製方法は、実施例1と同様に行った。 In Example 1, the substrate SUB2 on which an organic film such as the color filter CF is formed and the substrate SUB1 on which the pixel electrode PX and the counter electrode CT are formed are 10% N of polyamic acid or polyimide on these substrates. -A methylpyrrolidone solution was applied by spin coating under low-speed rotation conditions, and heat treatment was performed at 230 ° C for 2 hours to form an alignment film layer ORI2 or ORI1 having a thickness of about 1.0 µm. In the alignment treatment of the alignment film, using a polarized light irradiation system having a light intensity of about 15 mW / cm 2 in terms of a wavelength of 254 nm, the irradiation time is adjusted so that the irradiation amount of this linearly polarized light is 60 J / cm 2. And irradiated. At the time of irradiation, the substrate was placed on a hot plate that can be heated to 200 ° C., and irradiation was performed while heating. Other liquid crystal display device manufacturing methods were performed in the same manner as in Example 1.
実施例5の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2の方位角リタデーションは同一で、20.3であった。 The azimuth angle retardation of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Example 5 was the same, which was 20.3.
実施例1において、カラーフィルタCFなどの有機膜が製膜された基板SUB2、および画素電極PX・対向電極CTが形成された基板SUB1に対し、これらの基板上にポリアミド酸やポリイミドの10%N−メチルピロリドン溶液をスピンコート法で低速回転条件で塗布し230℃2時間の熱処理を行い、約1.0μmの膜厚の配向膜層ORI2またはORI1を形成した。配向膜の配向処理において、波長254nm換算で約15mW/cm2の光強度の偏光照射系を用いて、この直線偏光させた光を照射量は60J/cm2となるように照射時間を調整して照射した。なお、照射の際には基板を200℃に加熱可能なホットプレート上に配置し、加熱しながら照射を行った。 In Example 1, for the substrate SUB2 on which an organic film such as the color filter CF is formed and the substrate SUB1 on which the pixel electrode PX and the counter electrode CT are formed, 10% N of polyamic acid or polyimide is formed on these substrates. -A methylpyrrolidone solution was applied by spin coating under low-speed rotation conditions, and heat treatment was performed at 230 ° C for 2 hours to form an alignment film layer ORI2 or ORI1 having a thickness of about 1.0 µm. In the alignment treatment of the alignment film, using a polarized light irradiation system having a light intensity of about 15 mW / cm 2 in terms of a wavelength of 254 nm, the irradiation time is adjusted so that the irradiation amount of this linearly polarized light is 60 J / cm 2. And irradiated. At the time of irradiation, the substrate was placed on a hot plate that can be heated to 200 ° C., and irradiation was performed while heating.
これらの基板の上に、さらにポリアミド酸やポリイミドの10%N−メチルピロリドン溶液をスピンコート法で低速回転条件で塗布し230℃で2時間の熱処理を行い、合計約2.0μmの膜厚の配向膜層ORI2またはORI1を形成した。配向膜の配向処理において、波長254nm換算で約15mW/cm2の光強度の偏光照射系を用いて、この直線偏光させた光を照射量は60J/cm2となるように照射時間を調整して照射した。なお照射の際には基板を200℃に加熱可能なホットプレート上に配置し、加熱しながら照射を行った。その他の液晶表示装置の作製方法は、実施例1と同様に行った。 On these substrates, a 10% N-methylpyrrolidone solution of polyamic acid or polyimide was further applied by a spin coating method under low-speed rotation conditions, and heat treatment was performed at 230 ° C. for 2 hours to obtain a total film thickness of about 2.0 μm. The alignment film layer ORI2 or ORI1 was formed. In the alignment treatment of the alignment film, using a polarized light irradiation system having a light intensity of about 15 mW / cm 2 in terms of a wavelength of 254 nm, the irradiation time is adjusted so that the irradiation amount of this linearly polarized light is 60 J / cm 2. And irradiated. At the time of irradiation, the substrate was placed on a hot plate that can be heated to 200 ° C., and irradiation was performed while heating. Other liquid crystal display device manufacturing methods were performed in the same manner as in Example 1.
実施例6の方法で作製した液晶表示装置の基板SUB1およびSUB2の方位角リタデーションは同一で、41.3であった。 The azimuth angle retardation of the substrates SUB1 and SUB2 of the liquid crystal display device manufactured by the method of Example 6 was the same, 41.3.
以上の実施例・比較例の実験結果を表2にまとめた。 The experimental results of the above examples and comparative examples are summarized in Table 2.
上述配向膜のような、偏光照射により方位角リタデーションが生成する性質をもつ有機膜の膜厚・照射光量や照射時の加熱温度を調整することで、位相差が100nm以下となるような任意の位相差層を高精度に作成することが可能となる。なお、実施例2〜6では下地基板にIPS用の基板を用いたが、方位角リタデーションの生成は下地基板によらず偏光照射により方位角リタデーションが生成する性質をもつ有機膜層のみが関与するため、IPS用に限らずTN用、VA用、ホモジニアス配向用など他のあらゆる方式においても適用が可能なのは自明である。実施例2〜6の偏光照射で得られた方位角リタデーションは様々な方法で活用できる。以下の実施例7〜12の例の一部を示す。 By adjusting the film thickness, irradiation light amount, and heating temperature at the time of irradiation of the organic film having the property of generating azimuth angle retardation by polarized light irradiation such as the alignment film described above, an arbitrary phase difference of 100 nm or less is obtained. The retardation layer can be created with high accuracy. In Examples 2 to 6, an IPS substrate was used as the base substrate. However, the generation of the azimuth angle retardation involves only the organic film layer having the property of generating the azimuth angle retardation by polarization irradiation regardless of the base substrate. Therefore, it is obvious that the present invention can be applied not only to IPS but also to any other system such as TN, VA, and homogeneous alignment. The azimuth angle retardation obtained by polarized light irradiation in Examples 2 to 6 can be used in various ways. Some examples of Examples 7-12 below are shown.
図3は、本発明の実施例7を説明するTN方式液晶表示装置を構成する液晶パネルの断面構成を説明する模式図である。図3においては、このTN方式の液晶パネル(TN液晶セル、又は単にTNセルとも称する)は、ガラスなどの絶縁支持体(以下基板)SUB1、SUB2の主面間に液晶層LCを挟持した構成であり、一方の基板SUB1の主面上に配向膜ORI1が配置されている。また、他方の基板SUB2の主面上にカラーフィルタCFなどの有機膜が配置され、そのカラーフィルタCF上に対向電極CTに代表される電極膜、配向膜ORI2が配置されている。なお、一方の基板SUB1の主面には、画素電極PXが配置され、外面には偏光板POL1が積層され、必要に応じて位相差板PS1が配置される。また、他方の基板SUB2の外面にも偏光板POL2が積層され、必要に応じて位相差板PS2が配置される。
FIG. 3 is a schematic diagram for explaining a cross-sectional configuration of a liquid crystal panel constituting a TN mode liquid crystal display device for explaining an
実施例7では、図3の構成において、一方の基板SUB1に配置された配向膜ORI1及びカラーフィルタCFなどの有機膜が、他方の基板SUB2に配置された配向膜ORI2にリタデーションを付与することにより、所望の値のリタデーションを付与した液晶表示装置を構成するというものである。 In Example 7, in the configuration of FIG. 3, the alignment film ORI1 disposed on one substrate SUB1 and the organic film such as the color filter CF impart retardation to the alignment film ORI2 disposed on the other substrate SUB2. The liquid crystal display device provided with a desired value of retardation is configured.
図4は、図3で示したTN方式の液晶表示装置を構成する液晶パネルの軸構成を説明する図である。図4の(a)は図3と同じTN方式の液晶パネル、図4の(b)は図4の(a)の各構成層の光学軸の関係を説明する図である。 FIG. 4 is a diagram for explaining a shaft configuration of a liquid crystal panel constituting the TN liquid crystal display device shown in FIG. 4A is a TN liquid crystal panel similar to that in FIG. 3, and FIG. 4B is a diagram for explaining the optical axis relationship of each component layer in FIG. 4A.
図4により各構成と軸の関係について説明する。液晶セルの外側に設けられた一対の偏光板、すなわち上側偏光板POL2および下側偏光板POL1は、液晶層LCに電界が印加されたときの透過率に比べ、液晶層LCに電界が印加されていないときの透過率が高くなるように配置されている。例えば、上側偏光板POL2および下側偏光板POL1は、液晶セルを介して、それぞれの偏光軸が互いに直交するように配置(いわゆるクロスニコル配置)されている。すなわち、図2に示す液晶表示装置は、いわゆるノーマリホワイトモード(以下、「NWモード」ともいう。)で表示を行う。 The relationship between each component and the axis will be described with reference to FIG. The pair of polarizing plates provided outside the liquid crystal cell, that is, the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1, have an electric field applied to the liquid crystal layer LC as compared with the transmittance when the electric field is applied to the liquid crystal layer LC. It is arranged so that the transmittance is high when not. For example, the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1 are arranged via a liquid crystal cell so that their respective polarization axes are orthogonal to each other (so-called crossed Nicols arrangement). That is, the liquid crystal display device shown in FIG. 2 performs display in a so-called normally white mode (hereinafter also referred to as “NW mode”).
液晶層LCに十分に高い電圧を印加すると、正の誘電異方性を有する液晶分子は基板面に対してほとんど垂直に配向し、基板法線方向から観察したときの液晶層のリタデーションは非常に小さくなり、クロスニコル状態に配置された上側偏光板POL2および下側偏光板POL1を透過する光は殆どなくなり、黒が表示される。 When a sufficiently high voltage is applied to the liquid crystal layer LC, the liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy are aligned almost perpendicular to the substrate surface, and the retardation of the liquid crystal layer when observed from the normal direction of the substrate is very high. The light is reduced and almost no light is transmitted through the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1 arranged in the crossed Nicols state, and black is displayed.
液晶セルの上側と下側に設けられた配向膜ORI2とORI1の軸方向は、それぞれ同じ基板側の偏光板の偏光軸と平行になるように設定される。また、少なくとも片側の基板(ここでは、他方の基板SUB2)にはカラーフィルタCFなどの有機膜が形成されている。このとき、上下基板合わせた2層の配向膜層および有機膜層には2〜200nmのリタデーション(測定波長:589nm)が付与されている。 The axial directions of the alignment films ORI2 and ORI1 provided on the upper and lower sides of the liquid crystal cell are set so as to be parallel to the polarization axis of the polarizing plate on the same substrate side. In addition, an organic film such as a color filter CF is formed on at least one substrate (here, the other substrate SUB2). At this time, retardation of 2 to 200 nm (measurement wavelength: 589 nm) is imparted to the two alignment film layers and the organic film layer combined with the upper and lower substrates.
このような配向処理により、液晶層LCの液晶分子はほぼ90°ツイストして配列されている。そして、この液晶セルのギャップdと屈折率異方性Δnとの積Δnd(リタデーション)の値は、350〜400nm(測定波長:589nm)の範囲に設定されている。 By such an alignment treatment, the liquid crystal molecules of the liquid crystal layer LC are aligned with a twist of about 90 °. The value of the product Δnd (retardation) of the gap d and the refractive index anisotropy Δn of the liquid crystal cell is set in the range of 350 to 400 nm (measurement wavelength: 589 nm).
このように、図4の構成では、(b−1)のように、上偏光板の偏光軸に対して位相差軸は並行又は直交するように配置されている。また、(b−2)のように、下偏光板の偏光軸に対して位相差軸は並行又は直交するように配置されている。尚、上偏光板の偏光軸と下偏光板の偏光軸とは、互いに直交するように配置されている(b−3)。 As described above, in the configuration of FIG. 4, as shown in (b-1), the phase difference axis is arranged in parallel or orthogonal to the polarization axis of the upper polarizing plate. Further, as shown in (b-2), the phase difference axis is arranged in parallel or orthogonal to the polarization axis of the lower polarizing plate. The polarizing axis of the upper polarizing plate and the polarizing axis of the lower polarizing plate are disposed so as to be orthogonal to each other (b-3).
このようなTN方式の液晶パネルにリタデーションを付与する方法について次に説明する。 Next, a method for imparting retardation to such a TN liquid crystal panel will be described.
配向膜にはポリイミドから成る配向膜材料をスピン塗布等で印刷し、230℃2時間の焼成により30〜3000nm程度の膜厚の層を形成させる。これに、偏光を照射して光配向によりリタデーションを付与する。なお、用いる材料として、より好ましくは光分解型の光配向性ポリイミド(例えば、分子量4000〜100000、ジアミンがBAPP;2,2−ビス{4−(パラアミノフェノキシ)フェニル}プロパン、酸無水物がCBDA;1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、等を用いるとよい。
An alignment film material made of polyimide is printed on the alignment film by spin coating or the like, and a layer having a thickness of about 30 to 3000 nm is formed by baking at 230 ° C. for 2 hours. This is irradiated with polarized light to give retardation by photo-alignment. In addition, as a material to be used, a photodecomposition type photo-alignment polyimide (for example, molecular weight 4000-100000, diamine is BAPP; 2,2-bis {4- (paraaminophenoxy) phenyl} propane, acid anhydride is
また、配向膜の下地に形成される有機膜には、アクリル、エポキシからなるカラーフィルタ、保護膜、または光分解性のポリイミド膜が形成されている。 In addition, a color filter made of acrylic or epoxy, a protective film, or a photodegradable polyimide film is formed on the organic film formed on the base of the alignment film.
光配向を行うための露光装置は、特許文献7の図2に示された構成の光学系を用いることができる。偏光源には高圧水銀灯(HgHP)を用い、その出射光を偏光分離器等により所定の偏光方向を持つ直線偏光に変換する。この偏光をシャッターを通してマスクに至り、レンズで基板上の下層配向膜を照射する。この直線偏光させた光を、波長254nmにおいて約30分間露光する。露光の際の照射エネルギーは約15mW/cm2である。なお、下地有機膜の膜厚やその有無、光照射量を調整することで所望のリタデーションを得ることが可能である。実施例7で得られた基板のリタデーションを表2に表記した。 As an exposure apparatus for performing photo-alignment, an optical system having a configuration shown in FIG. A high pressure mercury lamp (HgHP) is used as the polarization source, and the emitted light is converted into linearly polarized light having a predetermined polarization direction by a polarization separator or the like. This polarized light reaches the mask through the shutter, and the lower alignment film on the substrate is irradiated with the lens. This linearly polarized light is exposed for about 30 minutes at a wavelength of 254 nm. The irradiation energy at the time of exposure is about 15 mW / cm 2 . A desired retardation can be obtained by adjusting the film thickness of the underlying organic film, its presence or absence, and the amount of light irradiation. The retardation of the substrate obtained in Example 7 is shown in Table 2.
このようにして所望の値のリタデーションを付与した液晶パネルでTN方式の液晶表示装置を構成することができる。リタデーションは大きいほど改善効果がはっきりと確認できる。 In this way, a TN liquid crystal display device can be configured with a liquid crystal panel provided with a retardation of a desired value. The greater the retardation, the clearer the improvement effect.
図5は、本発明の実施例8を説明するホモジニアス型の液晶パネルの断面構成図を示す。図3と同一符号は同一機能部分を示す。ノーマリーホワイト型のホモジニアス配向の液晶表示装置において、その液晶層LCに十分に高い電圧を印加すると、正の誘電異方性を有する液晶分子は基板面に対してほとんど垂直に配向し、基板法線方向から観察したときの液晶層LCのリタデーションは非常に小さくなり、クロスニコル状態に配置された上側偏光板POL2および下側偏光板POL1を透過する光はほとんどなくなり黒が表示される。 FIG. 5 is a cross-sectional view of a homogeneous liquid crystal panel for explaining an eighth embodiment of the present invention. 3 denote the same functional parts. In a normally white liquid crystal display device with homogeneous alignment, when a sufficiently high voltage is applied to the liquid crystal layer LC, the liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy are aligned almost perpendicular to the substrate surface. The retardation of the liquid crystal layer LC when observed from the line direction becomes very small, and almost no light is transmitted through the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1 arranged in the crossed Nicols state, and black is displayed.
しかしながら、配向膜ORI1、ORI2の表面の近傍に存在する液晶層LCの液晶分子には、配向膜から強い配向規制力(アンカリング効果)が働いているので、通常のアクティブマトリクス型液晶表示装置で用いられる5V程度の電圧では、これらの液晶分子の配向は変化しない。すなわち、黒表示を行うための電圧が印加された状態においても、基板面に平行に配向したままの液晶分子が存在する。この液晶分子は、液晶層LCに垂直に入射する光に対して有限の(ゼロでない)リタデーションを示す。このリタデーションは残留リタデーションと言われるもので、その大きさは液晶材料にもよるが、多くは20nm程度である。残留リタデーションは、黒表示状態における光漏れ(以下、「黒浮き」ともいう。)の要因となり、コントラスト比を低下させる。 However, the liquid crystal molecules in the liquid crystal layer LC existing in the vicinity of the surfaces of the alignment films ORI1 and ORI2 have a strong alignment regulating force (anchoring effect) from the alignment film, so that in a normal active matrix liquid crystal display device At a voltage of about 5V used, the alignment of these liquid crystal molecules does not change. That is, even when a voltage for performing black display is applied, there are liquid crystal molecules that remain aligned parallel to the substrate surface. The liquid crystal molecules exhibit a finite (non-zero) retardation with respect to light incident perpendicularly to the liquid crystal layer LC. This retardation is called residual retardation, and its size is about 20 nm although it depends on the liquid crystal material. The residual retardation causes light leakage in the black display state (hereinafter also referred to as “black float”), and lowers the contrast ratio.
図5においては、基板SUB1とSUB2の主面間に液晶を挟持した構成であり、一方の支持体上にカラーフィルタCFなどの有機膜が配置され、そのカラーフィルタCF上に対向電極CT等の電極膜、上側配向膜ORI2が配置されている。また、もう下側基板SUB1の主面には下側配向膜ORI1が配置されている。 In FIG. 5, the liquid crystal is sandwiched between the main surfaces of the substrates SUB1 and SUB2, an organic film such as a color filter CF is disposed on one support, and a counter electrode CT or the like is disposed on the color filter CF. An electrode film and an upper alignment film ORI2 are disposed. Further, a lower alignment film ORI1 is disposed on the main surface of the lower substrate SUB1.
実施例8では、上記図5に示したパネル構成において、一方の基板に配置された配向膜及びカラーフィルタなどの有機膜、及びもう一方の基板に配置された配向膜にリタデーションを付与することにより所望の値のリタデーションを付与した液晶表示装置を構成するというものである。 In Example 8, in the panel configuration shown in FIG. 5 described above, by providing retardation to the alignment film disposed on one substrate and the organic film such as a color filter, and the alignment film disposed on the other substrate. A liquid crystal display device having a desired value of retardation is configured.
図6は、本発明の実施例8を説明するための図5で示したホモジニアス配向型の液晶パネルの軸構成を示した図である。図6(a)は図5と同じ液晶パネルの断面構成、図6の(b)は、図6(a)の軸構成の説明図である。図6の(b)における「軸1−a−1(i)」は配向軸と位相差の方向が略水平な場合を、「軸1−a−1(ii)」は配向軸と位相差の方向が略直交な場合を、示している。なお、配向軸と位相差の方向を略直交にするには、実施例6のように位相差が形成される層を複数回成膜し、最表層とそれ以外の層で光を照射する方向を略直交させることで実現できる。 FIG. 6 is a diagram showing the shaft configuration of the homogeneous alignment type liquid crystal panel shown in FIG. 5 for explaining the eighth embodiment of the present invention. 6A is a cross-sectional configuration of the same liquid crystal panel as FIG. 5, and FIG. 6B is an explanatory diagram of the shaft configuration of FIG. 6A. In FIG. 6B, “axis 1-a-1 (i)” indicates the case where the orientation axis and the phase difference direction are substantially horizontal, and “axis 1-a-1 (ii)” indicates the orientation axis and the phase difference. The case where the directions of are substantially orthogonal is shown. In order to make the orientation axis and the phase difference direction substantially orthogonal to each other, a layer in which a phase difference is formed is formed a plurality of times as in Example 6 and light is irradiated on the outermost layer and other layers. Can be realized by making them substantially orthogonal.
液晶パネルの外面に設けられた一対の偏光板、すなわち上側偏光板POL2および下側偏光板POL1は、液晶層LCに電界が印加されたときの透過率に比べ、液晶層LCに電界が印加されていないときの透過率が高くなるように配置されている。例えば、上側偏光板POL2および下側偏光板POL1は、液晶パネルを介して、それぞれの偏光軸が互いに直交するように配置(いわゆる、クロスニコル配置)されている。 The pair of polarizing plates provided on the outer surface of the liquid crystal panel, that is, the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1, have an electric field applied to the liquid crystal layer LC compared to the transmittance when the electric field is applied to the liquid crystal layer LC. It is arranged so that the transmittance is high when not. For example, the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1 are arranged via a liquid crystal panel so that their polarization axes are orthogonal to each other (so-called crossed Nicols arrangement).
液晶パネルの上側と下側に設けられた配向膜ORI2とORI1の軸方向は、それぞれ同じ基板側の偏光板の偏光軸と45°の角をなすように設定される。液晶層LCの液晶分子は偏光板の偏光軸と45°の角をもって配列されている。このときの液晶層の液晶パネルLCのギャップdと屈折率異方性Δnとの積Δnd(リタデーション)の値は、350〜400nm(測定波長:589nm)の範囲に設定されている。 The axial directions of the alignment films ORI2 and ORI1 provided on the upper side and the lower side of the liquid crystal panel are set so as to form a 45 ° angle with the polarization axis of the polarizing plate on the same substrate side. The liquid crystal molecules of the liquid crystal layer LC are aligned with a 45 ° angle with the polarization axis of the polarizing plate. At this time, the product Δnd (retardation) of the gap d of the liquid crystal panel LC of the liquid crystal layer and the refractive index anisotropy Δn is set in a range of 350 to 400 nm (measurement wavelength: 589 nm).
図6の(b−3)に示すように、液晶層の上偏光板POL2側に配置されている配向膜ORI2の配向軸は、位相差軸に対して直交するように配置されている。また、(b−4)のように、液晶層の下偏光板POL1側に配置されている配向膜ORI1も位相差軸に対して直交するように配置されている。尚、配向膜ORI2の配向軸の方向と有機膜位相軸の方向は同じになるように配置されている(b−5)。 As shown in FIG. 6B-3, the alignment axis of the alignment film ORI2 arranged on the upper polarizing plate POL2 side of the liquid crystal layer is arranged so as to be orthogonal to the retardation axis. Further, as shown in (b-4), the alignment film ORI1 arranged on the lower polarizing plate POL1 side of the liquid crystal layer is also arranged so as to be orthogonal to the retardation axis. Note that the alignment axis ORI2 and the organic film phase axis are arranged in the same direction (b-5).
以上の構成により,電圧無印加状態では基板法線方向から観察したときの液晶層のリタデーションは最大となり、クロスニコル状態に配置された上側偏光板および下側偏光板を透過する光により白が表示される。 With the above configuration, when no voltage is applied, the retardation of the liquid crystal layer is maximized when observed from the normal direction of the substrate, and white is displayed by the light transmitted through the upper and lower polarizing plates arranged in the crossed Nicols state. Is done.
液晶層に十分に高い電圧を印加すると、正の誘電異方性を有する液晶分子は基板面に対してほとんど垂直に配向し、基板法線方向から観察したときの液晶層のリタデーションは非常に小さくなり、クロスニコル状態に配置された上側偏光板および下側偏光板を透過する光はほとんどなくなり、黒が表示される。 When a sufficiently high voltage is applied to the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy are aligned almost perpendicular to the substrate surface, and the retardation of the liquid crystal layer when observed from the normal direction of the substrate is very small. Thus, almost no light is transmitted through the upper polarizing plate and the lower polarizing plate arranged in the crossed Nicols state, and black is displayed.
また、少なくとも片側基板にはカラーフィルタなどの有機膜が形成されている。この有機膜の一部は偏光照射により方位角リタデーションが生成する性質をもつ有機膜層で構成されており、図6の(b)における「軸1−a−1(i)」のように配向軸と位相差の方向が略水平となるように軸配置されている。この有機膜は実施例6に準じた方法で作製し、方位角リタデーションは41.3nmであった。またこの層の上に配向膜を実施例5の条件に準じて形成した。その結果、この基板SUB2の方位角リタデーションは61.6nmであった。基板SUB1には偏光照射により方位角リタデーションが生成する性質をもつ有機膜層は配向膜だけであり、方位角リタデーションは20.3nmであった。 An organic film such as a color filter is formed on at least one side substrate. A part of this organic film is composed of an organic film layer having a property that azimuth angle retardation is generated by irradiation with polarized light, and is oriented as shown by “axis 1-a-1 (i)” in FIG. The shaft is arranged so that the direction of the phase difference from the shaft is substantially horizontal. This organic film was produced by the method according to Example 6, and the azimuth angle retardation was 41.3 nm. An alignment film was formed on this layer according to the conditions of Example 5. As a result, the azimuth angle retardation of this substrate SUB2 was 61.6 nm. On the substrate SUB1, the organic film layer having the property of generating azimuth angle retardation by polarized light irradiation was only the alignment film, and the azimuth angle retardation was 20.3 nm.
リタデーションを付与した基板の効果:液晶層に十分に高い電圧を印加すると、正の誘電異方性を有する液晶分子は基板面に対してほとんど垂直に配向し、基板法線方向から観察したときの液晶層のリタデーションは非常に小さくなり、クロスニコル状態に配置された上側偏光板POL2および下側偏光板POL1を透過する光はほとんどなくなり、黒が表示される。 Effect of substrate with retardation: When a sufficiently high voltage is applied to the liquid crystal layer, liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy are aligned almost perpendicular to the substrate surface, and are observed when viewed from the normal direction of the substrate. The retardation of the liquid crystal layer becomes very small, and almost no light passes through the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1 arranged in the crossed Nicols state, and black is displayed.
しかしながら、配向膜の表面の近傍に存在する液晶分子には、配向膜から強い配向規制力(アンカリング効果)が働いているので、通常のアクティブマトリクス型液晶表示装置で用いられる5V程度の電圧では、これらの液晶分子の配向は変化しない。すなわち、黒表示を行うための電圧が印加された状態においても、基板面に平行に配向したままの液晶分子が存在する。この液晶分子は、液晶層に垂直に入射する光に対して有限の(ゼロでない)リタデーションを示す。このリタデーションは、残留リタデーションと言われるもので、その大きさは液晶材料にもよるが、多くは20nm程度である。残留リタデーションは、黒表示状態における光漏れ(以下、「黒浮き」ともいう。)の要因となり、コントラスト比を低下させる。 However, since liquid crystal molecules existing in the vicinity of the surface of the alignment film have a strong alignment regulating force (anchoring effect) from the alignment film, at a voltage of about 5 V used in a normal active matrix liquid crystal display device. The alignment of these liquid crystal molecules does not change. That is, even when a voltage for performing black display is applied, there are liquid crystal molecules that remain aligned parallel to the substrate surface. The liquid crystal molecules exhibit a finite (non-zero) retardation for light that is incident perpendicular to the liquid crystal layer. This retardation is called residual retardation, and its size is about 20 nm, although it depends on the liquid crystal material. The residual retardation causes light leakage in the black display state (hereinafter also referred to as “black float”), and lowers the contrast ratio.
この位相差を補償するには、残留方位角リタデーションの方向に直交する位相差板を外部に貼り付ければよい。しかし、必要な方位角リタデーションの値が20nm程度と小さく、一方で外部に貼り付ける位相差板で方位角リタデーション値が20nmと小さいものは製作が困難である。しかし、本実施例では基板SUB2に61.6nmの方位角リタデーションを有し、基板SUB1に20.3nmの方位角リタデーションを有する。液晶の残留方位角リタデーションは配向膜の配向方向と同一であるため、よって液晶セル全体の方位角リタデーションは102nmとなり、この値の方位角リタデーションは容易に入手可能な102nmの位相差板を液晶セルの位相差軸方向に略直交するように配置することで相殺でき、光抜けの抑制が可能である。 In order to compensate for this phase difference, a phase difference plate orthogonal to the direction of residual azimuth angle retardation may be attached to the outside. However, the required azimuth angle retardation value is as small as about 20 nm, and on the other hand, it is difficult to manufacture a retardation plate attached to the outside with a small azimuth angle retardation value of 20 nm. However, in this embodiment, the substrate SUB2 has an azimuth angle retardation of 61.6 nm, and the substrate SUB1 has an azimuth angle retardation of 20.3 nm. Since the residual azimuth angle retardation of the liquid crystal is the same as the alignment direction of the alignment film, the azimuth angle retardation of the entire liquid crystal cell is 102 nm, and this value of azimuth angle retardation is a readily available 102 nm retardation plate. Can be offset by being arranged so as to be substantially orthogonal to the phase difference axis direction, and light leakage can be suppressed.
実施例8に対し、基板SUB2の有機膜の一部は偏光照射により方位角リタデーションが生成する性質をもつ有機膜層で構成されており、図6の(b)における「軸1−a−1(ii)」のように配向軸と位相差の方向が略直交となるように軸配置されている。この有機膜は実施例5に準じた方法で作製し、方位角リタデーションは20.3nmであった。またこの層の上に配向膜を実施例1の条件に準じて下層有機膜に対し位相軸が略直交となるように形成した。 In contrast to Example 8, a part of the organic film of the substrate SUB2 is composed of an organic film layer having a property of generating azimuth angle retardation by polarized light irradiation, and “axis 1-a-1” in FIG. As in (ii), the axes are arranged so that the orientation axis and the phase difference direction are substantially orthogonal. This organic film was produced by the method according to Example 5, and the azimuth angle retardation was 20.3 nm. An alignment film was formed on this layer in accordance with the conditions of Example 1 so that the phase axis was substantially orthogonal to the lower organic film.
液晶の残留方位角リタデーションは配向膜の配向方向と同一であり、配向膜の方位角リタデーションと併せると22.3nmとなる。しかし、これに直交するように有機膜層に20.3nmの方位角リタデーションが形成されているため、液晶セル全体の方位角リタデーションは2.3nmに軽減され、光抜けの抑制が可能である。 The residual azimuth angle retardation of the liquid crystal is the same as the alignment direction of the alignment film, and becomes 22.3 nm when combined with the azimuth angle retardation of the alignment film. However, since the azimuth angle retardation of 20.3 nm is formed in the organic film layer so as to be orthogonal to this, the azimuth angle retardation of the entire liquid crystal cell is reduced to 2.3 nm, and light leakage can be suppressed.
図7は、垂直配向方式の液晶パネルの断面構成図を示す。図5における前記実施例と同一符号は同一機能部分に対応する。垂直配向(VA)方式の液晶パネルは配向膜が不要とされているが、配向膜がなく完全に垂直に液晶が配向している場合、電圧印加したときの液晶の駆動方向が一様にならずにドメインが発生することがある。このため、配向膜を配置し配向処理を行った方が良い。しかし、この配向処理を行うということは,初期配向状態において液晶層がプレチルトを有するということであり、リタデーションは0にはならないため光り抜けが発生し、コントラストが低下するという問題もある。 FIG. 7 is a cross-sectional configuration diagram of a vertical alignment type liquid crystal panel. The same reference numerals as those in the embodiment in FIG. 5 correspond to the same functional parts. A vertical alignment (VA) type liquid crystal panel does not require an alignment film. However, when there is no alignment film and the liquid crystal is aligned completely vertically, the driving direction of the liquid crystal when a voltage is applied becomes uniform. Domain may occur. For this reason, it is better to arrange the alignment film and perform the alignment treatment. However, performing this alignment treatment means that the liquid crystal layer has a pretilt in the initial alignment state, and the retardation does not become zero, so that there is a problem that light leakage occurs and the contrast is lowered.
図7においては、一対の基板に液晶層を挟持した構成であり、一方の基板SUB2の主面にカラーフィルタCFなどの有機膜が配置され、そのカラーフィルタCF上に対向電極等の電極膜、配向膜ORI2が配置されている。また、もう一方の基板SUB1の主面には画素電極PX、配向膜ORI1が配置されている。 In FIG. 7, a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates, an organic film such as a color filter CF is disposed on the main surface of one substrate SUB2, and an electrode film such as a counter electrode is disposed on the color filter CF. An alignment film ORI2 is disposed. Further, the pixel electrode PX and the alignment film ORI1 are disposed on the main surface of the other substrate SUB1.
実施例10では、このような図7の構成において、一方の基板に配置された配向膜及びカラーフィルタなどの有機膜、及びもう一方の基板に配置された配向膜にリタデーションを付与することにより所望の値のリタデーションを付与した液晶表示装置を構成する。 In Example 10, in such a configuration of FIG. 7, it is desired to provide retardation to the alignment film and the organic film such as the color filter disposed on one substrate and the alignment film disposed on the other substrate. The liquid crystal display device which gave the retardation of the value of is comprised.
このようなVA型の液晶表示装置の方位角リタデーションを付与する方法は先に述べた実施例1〜6と同じ方法で得ることができる。ここでは、配向軸と位相差の方向が略水平となるように軸配置されている。基板SUB1および基板SUB2に41.3nmの方位角リタデーションを有する。配向膜層はきわめて弱い配向処理であるため、方位角リタデーションはほとんど発生しない。液晶層の残留方位角リタデーションは2〜3nm程度であり、配向軸方向に形成された方位角リタデーションは合計85nmとなる。この値の方位角リタデーションは容易に入手可能な85nmの位相差板を液晶セルの位相差軸方向に略直交するように配置することで相殺でき、光抜けの抑制が可能である。 A method for providing the azimuth angle retardation of such a VA liquid crystal display device can be obtained by the same method as in the first to sixth embodiments. Here, the axes are arranged so that the direction of the alignment axis and the phase difference are substantially horizontal. The substrate SUB1 and the substrate SUB2 have an azimuth retardation of 41.3 nm. Since the alignment layer is an extremely weak alignment treatment, almost no azimuth angle retardation occurs. The residual azimuth angle retardation of the liquid crystal layer is about 2 to 3 nm, and the azimuth angle retardation formed in the alignment axis direction is 85 nm in total. This value of azimuth angle retardation can be offset by arranging an easily available 85 nm retardation plate so as to be substantially orthogonal to the phase difference axis direction of the liquid crystal cell, and light leakage can be suppressed.
実施例10に対し、基板SUB2の有機膜の一部は偏光照射により方位角リタデーションが生成する性質をもつ有機膜層で構成されており、配向軸と位相差の方向が略直交となるように軸配置されている。この有機膜は実施例1に準じた方法で作製し、方位角リタデーションは2nmであった。またこの層の上に配向膜を下層有機膜に対し位相軸が略直交となるように形成した。配向膜層はきわめて弱い配向処理であるため、方位角リタデーションはほとんど発生しない。 Compared to Example 10, a part of the organic film of the substrate SUB2 is composed of an organic film layer having a property of generating azimuth angle retardation by polarized light irradiation so that the orientation axis and the phase difference direction are substantially orthogonal to each other. It is axially arranged. This organic film was produced by the method according to Example 1, and the azimuth angle retardation was 2 nm. Further, an alignment film was formed on this layer so that the phase axis was substantially orthogonal to the lower organic film. Since the alignment layer is an extremely weak alignment treatment, almost no azimuth angle retardation occurs.
液晶の残留方位角リタデーションは配向膜の配向方向と同一であり、配向膜の方位角リタデーションと併せると2〜3nmとなる。しかし、これに直交するように有機膜層に2nmの方位角リタデーションが形成されているため、液晶セル全体の方位角リタデーションは1nmに軽減され、光抜けの抑制が可能である。 The residual azimuth angle retardation of the liquid crystal is the same as the alignment direction of the alignment film, and is 2 to 3 nm when combined with the azimuth angle retardation of the alignment film. However, since the azimuth angle retardation of 2 nm is formed in the organic film layer so as to be orthogonal to this, the azimuth angle retardation of the entire liquid crystal cell is reduced to 1 nm, and light leakage can be suppressed.
本発明の実施例12を、図1を参照して説明する。IPS方式の液晶パネルでは、配向膜の配向軸と偏光板の偏光軸は一致するように配置されるため,配向膜層に位相差があっても,その影響は無視できる。しかし、実際には配向軸と偏光軸の角を完全に一致させることは困難であり、位相差を持つ配向軸は偏光軸の軸ずれ角に対応する位相差によって光り抜けの原因となり、コントラスト低下の要因となる。この配向膜が持つ残留位相差は通常1nm以下と小さく、基板の外面に積層した位相差板での補正はきわめて困難である。 A twelfth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In the IPS liquid crystal panel, since the alignment axis of the alignment film and the polarization axis of the polarizing plate are arranged to coincide with each other, even if there is a phase difference in the alignment film layer, the influence can be ignored. However, in reality, it is difficult to make the angles of the alignment axis and the polarization axis completely coincide with each other, and the alignment axis having a phase difference causes a light leak due to the phase difference corresponding to the axis deviation angle of the polarization axis, resulting in a decrease in contrast. It becomes a factor of. The residual retardation of the alignment film is usually as small as 1 nm or less, and correction with a retardation plate laminated on the outer surface of the substrate is extremely difficult.
図1の(a)に示したIPS型の液晶表示装置を構成する液晶パネルの断面構造において、基板SUB1とSUB2の間に液晶層LCを挟持し、一方の基板SUB2の主面にカラーフィルタCFなどの有機膜が配置され、そのカラーフィルタCF上に配向膜ORI2が配置されている。また、基板SUB1の主面上に画素電極PXと対向電極CTが配置され、さらにその上方に配向膜ORI1が配置されている。 In the cross-sectional structure of the liquid crystal panel constituting the IPS type liquid crystal display device shown in FIG. 1A, the liquid crystal layer LC is sandwiched between the substrates SUB1 and SUB2, and the color filter CF is formed on the main surface of one substrate SUB2. An alignment film ORI2 is disposed on the color filter CF. Further, the pixel electrode PX and the counter electrode CT are disposed on the main surface of the substrate SUB1, and the alignment film ORI1 is disposed thereon.
実施例12では、このような断面構造において、一方の基板に配置された配向膜及びカラーフィルタなどの有機膜、及び他方の基板に配置された配向膜にリタデーションを付与することにより所望の値のリタデーションを付与した液晶パネルを構成するというものである。 In Example 12, in such a cross-sectional structure, a desired value is obtained by imparting retardation to an alignment film and an organic film such as a color filter disposed on one substrate and an alignment film disposed on the other substrate. The liquid crystal panel which gave the retardation is comprised.
図1の(b)に示したIPS方式の液晶パネルの軸構成において、液晶パネルの外面に積層した一対の偏光板、すなわち上側偏光板POL2および下側偏光板POL1は、液晶層LCに電界が印加されたときの透過率に比べ、液晶層に電界が印加されていないときの透過率が高くなるように配置されている。例えば、上側偏光板POL2および下側偏光板POL1は、液晶パネルを介して、それぞれの偏光軸が互いに直交するように配置(いわゆるクロスニコル配置)されている。 In the shaft configuration of the IPS liquid crystal panel shown in FIG. 1B, the pair of polarizing plates stacked on the outer surface of the liquid crystal panel, that is, the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1, have an electric field applied to the liquid crystal layer LC. The liquid crystal layer is disposed such that the transmittance when no electric field is applied is higher than the transmittance when it is applied. For example, the upper polarizing plate POL2 and the lower polarizing plate POL1 are arranged via a liquid crystal panel so that their polarization axes are orthogonal to each other (so-called crossed Nicols arrangement).
液晶パネルの上側と下側に設けられた配向膜ORI2とORI1の軸方向は、それぞれ同じ基板側の偏光板の偏光軸と平行(すなわち0°)の角をなすように設定される。液晶分子は配向膜の軸方向に沿って配列している。このときの液晶層の液晶パネルのギャップdと屈折率異方性Δnとの積Δnd(リタデーション)の値は、350〜400nm(測定波長:589nm)の範囲に設定されている。 The axial directions of the alignment films ORI2 and ORI1 provided on the upper side and the lower side of the liquid crystal panel are set so as to form an angle parallel to the polarizing axis of the polarizing plate on the same substrate side (that is, 0 °). The liquid crystal molecules are arranged along the axial direction of the alignment film. At this time, the product Δnd (retardation) of the gap d of the liquid crystal panel of the liquid crystal layer and the refractive index anisotropy Δn is set in a range of 350 to 400 nm (measurement wavelength: 589 nm).
以上の構成により,電圧無印加状態では基板法線方向から観察したときの液晶層のリタデーションは最小となり、クロスニコル状態に配置された上側偏光板および下側偏光板を透過する光により黒が表示される。 With the above configuration, when no voltage is applied, the retardation of the liquid crystal layer when viewed from the normal direction of the substrate is minimized, and black is displayed by the light transmitted through the upper and lower polarizers arranged in the crossed Nicols state. Is done.
液晶層に十分に高い電圧を印加すると、正の誘電異方性を有する液晶分子は電極間で形成された電界方向に傾き偏光板とは0°ではない角をなすことにより、基板法線方向から観察したときに液晶層のリタデーション値によって、クロスニコル状態に配置された下側偏光板POL1の光は上側偏光板POL2を透過するようになり、白が表示される。 When a sufficiently high voltage is applied to the liquid crystal layer, the liquid crystal molecules having positive dielectric anisotropy tilt in the direction of the electric field formed between the electrodes and form a non-zero angle with the polarizing plate, thereby causing the normal direction of the substrate When viewed from above, the light of the lower polarizing plate POL1 arranged in the crossed Nicol state is transmitted through the upper polarizing plate POL2 depending on the retardation value of the liquid crystal layer, and white is displayed.
このようなIPS型の液晶表示装置の方位角リタデーションを付与する方法は先に述べた実施例1〜6と同じ方法で得ることができる。ここでは、配向軸と位相差の方向が略水平となるように軸配置されている。基板SUB1および基板SUB2には実施例2の方法に準じて光照射を行うことで2nmの方位角リタデーションを有する。 The method of providing the azimuth angle retardation of such an IPS type liquid crystal display device can be obtained by the same method as in the first to sixth embodiments. Here, the axes are arranged so that the direction of the alignment axis and the phase difference are substantially horizontal. The substrate SUB1 and the substrate SUB2 have an azimuth angle retardation of 2 nm by performing light irradiation according to the method of Example 2.
この有機膜の位相差軸は光照射装置の装置上の問題により本来の設計値に対して0.5°左にずれている。配向膜層は実施例1の方法に準じて光照射を行うことで、1nmの方位角リタデーションを有する。光照射する際に、投入する基板の送り方向を有機膜の時と逆にすることにより配向膜の配向軸は本来の設計値に対して0.5°右にずれている。液晶層の残留方位角リタデーションは2〜3nm程度であり、配向軸方向に形成された方位角リタデーションは合計5nmとなるが、有機膜層方向の方位角リタデーションにより配向方向に対して垂直な方向の方位角リタデーションが相殺され、光抜けの抑制が可能である。 The phase difference axis of the organic film is shifted to the left by 0.5 ° with respect to the original design value due to a problem in the light irradiation apparatus. The alignment film layer has an azimuth retardation of 1 nm by performing light irradiation according to the method of Example 1. When irradiating light, the orientation direction of the alignment film is shifted to the right by 0.5 ° with respect to the original design value by reversing the feeding direction of the substrate to be introduced to that of the organic film. The residual azimuth retardation of the liquid crystal layer is about 2 to 3 nm, and the total azimuth retardation formed in the alignment axis direction is 5 nm. However, the azimuth retardation in the direction of the organic film layer is perpendicular to the alignment direction. The azimuth angle retardation is canceled and light leakage can be suppressed.
以上の通り、光配向処理によっても容易に残像が発生しない液晶表示装置を作成することができる。また、様々な方位角リタデーション値の位相差を形成する方法にも使用でき、各種液晶セルの光漏れ軽減等に有効に活用可能である。 As described above, a liquid crystal display device in which an afterimage is not easily generated even by the photo-alignment process can be produced. Further, it can be used for a method of forming phase differences of various azimuth angle retardation values, and can be effectively used for reducing light leakage of various liquid crystal cells.
SUB1,SUB2・・・基板、LC・・・液晶層、ORI1,ORI2・・・配向膜、CF・・・カラーフィルタ、CT・・・対向電極、PX・・・画素電極、POL1, POL2・・・偏光板、PS1,PS2・・・位相差板。 SUB1, SUB2 ... Substrate, LC ... Liquid crystal layer, ORI1, ORI2 ... Alignment film, CF ... Color filter, CT ... Counter electrode, PX ... Pixel electrode, POL1, POL2, ... -Polarizing plate, PS1, PS2 ... retardation plate.
Claims (3)
配向膜又は基板上の膜に、1〜80nmの方位角リタデーション値を有することを特徴とした液晶表示装置。 In liquid crystal display devices,
A liquid crystal display device having an azimuth angle retardation value of 1 to 80 nm on an alignment film or a film on a substrate.
前記配向膜は、光照射により配向させた配向膜である液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1.
The liquid crystal display device, wherein the alignment film is an alignment film aligned by light irradiation.
前記液晶表示装置は、IPS型である液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 1 or 2,
The liquid crystal display device is an IPS type liquid crystal display device.
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