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JP2012003811A - Semiconductor device - Google Patents

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JP2012003811A
JP2012003811A JP2010138683A JP2010138683A JP2012003811A JP 2012003811 A JP2012003811 A JP 2012003811A JP 2010138683 A JP2010138683 A JP 2010138683A JP 2010138683 A JP2010138683 A JP 2010138683A JP 2012003811 A JP2012003811 A JP 2012003811A
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transistor
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Withdrawn
Application number
JP2010138683A
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Japanese (ja)
Inventor
Keisuke Nomoto
敬介 野本
Yuji Nakaoka
裕司 中岡
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Micron Memory Japan Ltd
Original Assignee
Elpida Memory Inc
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device that can avoid a multi-selection state in which both Y switches of selected bit line and non-selected bit line are selected.SOLUTION: A semiconductor device comprises: a Y switch for electrical-potentially connecting a bit line to an IO line according to the potential of a gate electrode; a via for supplying a Y switch control signal to the gate electrode of the Y switch; a transistor (N1) connected to the gate electrode of the Y switch for setting the gate electrode into GND potential in response to the signal (1) and for controlling the Y switch into electrically-nonconductive; and a circuit (P1 to P3) for precharging and equalizing the bit line in precharge voltage. The activation of the precharge signal in which the gate electrode of the Y switch is set into GND potential corresponds to the timing of the activation of the equalizer circuit.

Description

本発明は、半導体装置に関し、データ線間の接続を制御するトランジスタを備えた半導体装置等に適用して好適な装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a device suitable for application to a semiconductor device including a transistor for controlling connection between data lines.

以下では、関連技術の半導体装置としてDRAM(Dynamic Random Access Memory)について概説しておく。図1は、一般的なDRAMの構成の一例を模式的に示す図である。図1に示すように、メモリアレイ1、Xデコーダ及びXタイミング生成回路2、Yデコーダ及びYタイミング生成回路3、デコーダ制御回路4、DLL(Delay Locked Loop:遅延同期ループ)9、データラッチ回路5、入出力インターフェース6、内部クロック(CLK)生成回路7、制御信号生成回路8を備えている。メモリアレイ1はバンク0〜バンクmを備え、各バンクは、メモリマット列1、2、3を備えている。なお、バンク構成、バンク内のメモリマット構成等はかかる構成に制限されるものでないことは勿論である。制御信号生成回路8は、コマンド信号(/CS(チップセレクト)、/RAS(ロウアドレスストローブ)、/CAS(カラムアドレスストローブ)、/WE(ライトエネーブル))を入力し、該コマンドをデコードし、該コマンドデコード結果にしたがって制御信号を生成し、Xデコーダ及びXタイミング生成回路2、Yデコーダ及びYタイミング生成回路3、デコーダ制御回路4等に出力する。なお、信号名の前の記号「/」は、Lowレベルのとき活性状態であることを示す。また、入力したアドレス信号(ADD)のロウアドレスがXデコーダ2でデコードされ、サブワードドライバ(SWD)によりワード線WLが選択される。ワード線WLが選択されると、メモリセル(MC)からビット線(BL)にデータが読み出され、センスアンプ(SA)で増幅される。なお、アドレス(ADD)のカラムアドレスはYデコーダ3でデコードされ、選択されたカラム選択信号がアクティブとされ、ビット線(BL)、センスアンプ(SA)を選択する。   Hereinafter, DRAM (Dynamic Random Access Memory) will be outlined as a related-art semiconductor device. FIG. 1 is a diagram schematically showing an example of the configuration of a general DRAM. As shown in FIG. 1, a memory array 1, an X decoder and an X timing generation circuit 2, a Y decoder and a Y timing generation circuit 3, a decoder control circuit 4, a DLL (Delay Locked Loop) 9, and a data latch circuit 5 , An input / output interface 6, an internal clock (CLK) generation circuit 7, and a control signal generation circuit 8. The memory array 1 includes banks 0 to m, and each bank includes memory mat columns 1, 2, and 3. Of course, the bank configuration, the memory mat configuration in the bank, and the like are not limited to such a configuration. The control signal generation circuit 8 receives command signals (/ CS (chip select), / RAS (row address strobe), / CAS (column address strobe), / WE (write enable)) and decodes the command. Then, a control signal is generated according to the command decoding result and output to the X decoder and X timing generation circuit 2, the Y decoder and Y timing generation circuit 3, the decoder control circuit 4, and the like. Note that the symbol “/” in front of the signal name indicates an active state when the signal level is Low. In addition, the row address of the input address signal (ADD) is decoded by the X decoder 2, and the word line WL is selected by the sub word driver (SWD). When the word line WL is selected, data is read from the memory cell (MC) to the bit line (BL) and amplified by the sense amplifier (SA). The column address of the address (ADD) is decoded by the Y decoder 3, the selected column selection signal is activated, and the bit line (BL) and the sense amplifier (SA) are selected.

センスアンプ(SA)で増幅された出力(読み出しデータ)は、データラッチ回路5、入出力インターフェース6に転送され、DQピンより外部に出力される。DQピン(DQ端子)は複数ピンであり、所謂複数のI/O端子である。データストローブ信号DQS、/DQSは外部からデータを入力する際に、データをラッチするためのトリガ信号となる。データマスク信号DMは、例えば、データをマスクするための制御信号である。データを入力するのと同時に、データマスク信号DMをHighとすると、当該データのメモリセルへの書き込みはマスク(インヒビット)され、書き込みは行われない。データマスク信号DMは、半導体装置の外部端子であり、複数のデータマスク信号DMの端子で構成される。それぞれのデータマスク信号DMは、対応する複数のDQ端子で構成される複数のグループのうちのいずれかのグループに対応付けられる。   The output (read data) amplified by the sense amplifier (SA) is transferred to the data latch circuit 5 and the input / output interface 6 and output to the outside from the DQ pin. The DQ pin (DQ terminal) is a plurality of pins, so-called a plurality of I / O terminals. The data strobe signals DQS and / DQS serve as trigger signals for latching data when data is input from the outside. The data mask signal DM is a control signal for masking data, for example. When the data mask signal DM is set to High simultaneously with the input of data, writing of the data to the memory cell is masked (inhibited) and writing is not performed. The data mask signal DM is an external terminal of the semiconductor device and includes a plurality of data mask signal DM terminals. Each data mask signal DM is associated with one of a plurality of groups formed of a plurality of corresponding DQ terminals.

メモリセルにデータを書き込む場合、データマスク信号DMをLowとして、DQピンにデータを入力すると、入出力インターフェース6、データラッチ回路5を介して、センスアンプ(SA)に書き込みデータが転送される。センスアンプ(SA)は、ビット線(BL)を書き込みデータに即して駆動し、該ビット線(BL)に接続され、選択されたワード線に接続するメモリセルにデータを書き込む。   When writing data to the memory cell, when the data mask signal DM is set to Low and data is input to the DQ pin, the write data is transferred to the sense amplifier (SA) via the input / output interface 6 and the data latch circuit 5. The sense amplifier (SA) drives the bit line (BL) according to the write data, and writes data to the memory cell connected to the bit line (BL) and connected to the selected word line.

図2は、センスアンプ(SA)の典型的な構成の一例を示す図である。図2には、シェアード型のセンスアンプ回路(SA)のビット線系の一部が示されている。ワード線は、サブワードドライバ回路14により駆動される。メモリセルMCは、ゲート電極がワード線に接続され、ドレイン又はソース拡散層の一方が、ビット線に接続されたNMOSトランジスタと、一端がNMOSトランジスタのソース又はドレイン拡散層の他方に接続され、他端が電源(プレート電極)に接続された容量Csを備えている。   FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a typical configuration of the sense amplifier (SA). FIG. 2 shows a part of the bit line system of the shared sense amplifier circuit (SA). The word line is driven by the sub word driver circuit 14. In the memory cell MC, the gate electrode is connected to the word line, one of the drain or source diffusion layers is connected to the NMOS transistor connected to the bit line, and one end is connected to the other of the source or drain diffusion layers of the NMOS transistor. A capacitor Cs whose end is connected to a power source (plate electrode) is provided.

特に制限されるものではないが、図2に示すDRAMのデータ転送方式は、ビット線がYスイッチを介してローカルIO線に接続し、さらにメインIO線(グローバルIO線)に接続する階層型構造とされる。図示されているワード線に接続されたメモリセルMCはビット線BLTに接続されており、図示されない隣のワード線に接続するメモリセルは、BLTと相補のビット線BLBに接続される折り返し型ビット線とされる。ビット線対(BLT/B)間に接続されるセンスアンプ回路(SA)は、ソースがPCS線に共通接続され、ゲートとドレインが交差接続されたPMOSトランジスタ対と、ソースがNCS線に共通接続され、ゲートとドライバが交差接続されたNMOSトランジスタ対を備え、PMOSトランジスタ対のドレインとNMOSトランジスタ対のドレインがそれぞれ接続され、ビット線対(BLT/B)に接続されている。なお、TrueとBarのビット線対BLT、BLBは、BLT/Bとも表記される。   Although not particularly limited, the DRAM data transfer system shown in FIG. 2 has a hierarchical structure in which a bit line is connected to a local IO line via a Y switch and further connected to a main IO line (global IO line). It is said. The memory cell MC connected to the illustrated word line is connected to the bit line BLT, and the memory cell connected to the adjacent word line (not shown) is a folded bit connected to the bit line BLB complementary to the BLT. A line. The sense amplifier circuit (SA) connected between the bit line pair (BLT / B) has a source commonly connected to the PCS line, a PMOS transistor pair whose gate and drain are cross-connected, and a source commonly connected to the NCS line. In addition, an NMOS transistor pair in which a gate and a driver are cross-connected is provided. A drain of the PMOS transistor pair and a drain of the NMOS transistor pair are connected to each other and connected to the bit line pair (BLT / B). A pair of True and Bar bit lines BLT and BLB is also expressed as BLT / B.

図2において、図の上側に示すメモリマット0(11)のビット線対(BLT/BLB)と、下側に示すメモリマット1(13)のビット線対(BLT/BLB)とが、その間に配置されたセンスアンプ(SA)12を共有する構成とされている。センスアンプ回路(SA回路)と、メモリマット0(11)側のビット線対との間には、制御信号SHRB0でオン(導通)・オフ(非導通)が制御されるパストランジスタ(NMOSトランジスタ)が設けられ、センスアンプ(SA)と、メモリマット1(13)側のビット線対との間には、制御信号SHRB1でオン(導通)・オフ(非導通)が制御されるパストランジスタ(NMOSトランジスタ)が設けられている。メモリマット0(11)側のビット線対BLT/Bには、制御信号BLEQT0にゲートが接続されてオン(導通)・オフ(非導通)が制御される3つのNMOSトランジスタを備え、オン(導通)時、ビット線対BLT/Bをプリチャージ電源からプリチャージするとともに、メモリマット0(11)のビット線対BLT/Bをイコライズする回路が配設されている。同様に、メモリマット1(13)側のビット線対BLT/Bには、制御信号BLEQT1にゲートが接続されてオン(導通)・オフ(非導通)が制御される3つのNMOSトランジスタを備え、オン(導通)時、ビット線対BLT/Bをプリチャージ電源からプリチャージするとともに、メモリマット1(13)のビット線対BLT/Bをイコライズする回路が配設されている。   In FIG. 2, the bit line pair (BLT / BLB) of the memory mat 0 (11) shown on the upper side of the figure and the bit line pair (BLT / BLB) of the memory mat 1 (13) shown on the lower side are between them. The arranged sense amplifier (SA) 12 is shared. Between the sense amplifier circuit (SA circuit) and the bit line pair on the memory mat 0 (11) side, a pass transistor (NMOS transistor) whose on (conductive) and off (non-conductive) are controlled by the control signal SHRB0. And a pass transistor (NMOS) between the sense amplifier (SA) and the bit line pair on the memory mat 1 (13) side, which is controlled to be turned on (conductive) / off (non-conductive) by the control signal SHRB1. Transistor). The bit line pair BLT / B on the memory mat 0 (11) side includes three NMOS transistors whose gates are connected to the control signal BLEQT0 and are controlled to be on (conductive) and off (non-conductive). ), A circuit for precharging the bit line pair BLT / B from the precharge power supply and equalizing the bit line pair BLT / B of the memory mat 0 (11) is provided. Similarly, the bit line pair BLT / B on the memory mat 1 (13) side includes three NMOS transistors whose gates are connected to the control signal BLEQT1 to control on (conductive) and off (non-conductive). A circuit for precharging the bit line pair BLT / B from the precharge power supply and equalizing the bit line pair BLT / B of the memory mat 1 (13) when on (conductive) is provided.

さらに、センスアンプ(SA)のPMOSトランジスタ対とNMOSトランジスタ対の共通接続されたドレイン対は、カラム選択信号YSにゲートが接続され、オン(導通)・オフ(非導通)が制御されるYスイッチ(NMOSトランジスタ)を介してローカルIO線対(LIO線対)に接続される。メモリアレイ電源のVARY電源線とPCS間には、制御信号RSAEP1Tをゲートに入力するPMOSトランジスタ18を備え、VSSSA電源線とNCS間には、制御信号RSAENTをゲートに入力するNMOSトランジスタ20を備え、PCSとNCSの間には、制御信号EQCSがHighのときオン(導通)し、PCSとNCSをプリチャージするプリチャージ回路と、PCSとNCSをイコライズするイコライズ回路19を備えている。   Further, the drain pair of the PMOS transistor pair and the NMOS transistor pair of the sense amplifier (SA) connected in common has a gate connected to the column selection signal YS and is controlled to be on (conductive) / off (non-conductive). It is connected to a local IO line pair (LIO line pair) via (NMOS transistor). A PMOS transistor 18 that inputs a control signal RSAEP1T to the gate is provided between the VARY power supply line of the memory array power supply and the PCS, and an NMOS transistor 20 that inputs the control signal RSAENT to the gate is provided between the VSSSA power supply line and the NCS. Between the PCS and the NCS, there are provided a precharge circuit that is turned on (conductive) when the control signal EQCS is High, precharges the PCS and the NCS, and an equalize circuit 19 that equalizes the PCS and the NCS.

図3は、図1のメモリアレイ1内のデータ転送方式(階層化IO方式)の構成を模式的に示す図である。図3において、RWBUSはチップ内データ転送を行うための幹配線である。バスドライバ(BUSD)<k>301は、RWBUSに接続するk番目のバスドライバ回路である。バスドライバ回路<k>301に、MIO線(相補のMIOT、MIOB)のデータを増幅するためのメインアンプ回路(MA)<k>302が接続されている。   FIG. 3 is a diagram schematically showing the configuration of the data transfer method (hierarchical IO method) in the memory array 1 of FIG. In FIG. 3, RWBUS is a trunk wiring for performing intra-chip data transfer. A bus driver (BUDD) <k> 301 is a kth bus driver circuit connected to RWBUS. A main amplifier circuit (MA) <k> 302 for amplifying data on the MIO lines (complementary MIOT and MIOB) is connected to the bus driver circuit <k> 301.

メインアンプ回路<k>302は、アレイ内のk番目のMIO線対MIOT<k>、MIOB<k>が接続している。メインアンプ回路(MA)<k>302はMIO線対MIOT<k>、MIOB<k>に差動で接続され、バスドライバ(BUSD)<k>301に接続する。書き込み時、メインアンプ回路(MA)<k>302のライトアンプ(不図示)は、バスドライバ(BUSD)<k>301からの出力を受け、差動出力信号をMIO線対MIOT<k>、MIOB<k>に出力する。読み出し時、メインアンプ回路(MA)<k>302のデータアンプ(不図示)は、MIO線対MIOT<k>、MIOB<k>の信号を差動で受け、CMOSレベルに変換してバスドライバ(BUSD)<k>301に出力する。   The main amplifier circuit <k> 302 is connected to the kth MIO line pair MIOT <k>, MIOB <k> in the array. The main amplifier circuit (MA) <k> 302 is differentially connected to the MIO line pair MIOT <k> and MIOB <k>, and is connected to the bus driver (BUSD) <k> 301. At the time of writing, a write amplifier (not shown) of the main amplifier circuit (MA) <k> 302 receives an output from the bus driver (BUDD) <k> 301 and outputs a differential output signal to the MIO line pair MIOT <k>, Output to MIOB <k>. At the time of reading, the data amplifier (not shown) of the main amplifier circuit (MA) <k> 302 receives the signals of the MIO line pair MIOT <k> and MIOB <k> differentially, converts them to the CMOS level, and converts them into a bus driver. (BUSD) <k> 301 is output.

MIO線対(MIOT<k>、MIOB<k>)にはm+1個のSWC回路303(SWC<0>〜SWC<m>))が接続されている。SWCはMIO線対とLIO線対のクロス部である。   M + 1 SWC circuits 303 (SWC <0> to SWC <m>)) are connected to the MIO line pairs (MIOT <k>, MIOB <k>). SWC is a cross portion of the MIO line pair and the LIO line pair.

m+1個のSWC回路303(SWC<0>〜SWC<m>)のうち、ロウアドレス信号をデコードすることにより選択されるワード線WLから、データを読み出すセンスアンプ列SA<0>、SA<1>、SA<0>、・・・SA<n>に対応したSWC回路が選択され、それ以外は非選択となるように論理が構成されている。SWC<0>は、LIO線対LIOT<0>、LIOB<0>と接続される。SWC<1>は、LIO線対LIOT<1>、LIOB<1>と接続される。同様にして、SWC<m>は、LIO線対LIOT<m>、LIOB<m>と接続される。   Among the m + 1 SWC circuits 303 (SWC <0> to SWC <m>), sense amplifier arrays SA <0> and SA <1 for reading data from the word line WL selected by decoding the row address signal. >, SA <0>,... The logic is configured so that the SWC circuits corresponding to SA <n> are selected and the others are not selected. SWC <0> is connected to LIO line pair LIOT <0>, LIOB <0>. SWC <1> is connected to LIO line pair LIOT <1>, LIOB <1>. Similarly, SWC <m> is connected to LIO line pair LIOT <m>, LIOB <m>.

図3では、ワード線WLが選択されると、SWC<0>(303)が選択されることになる。LIO線は、カラムデコーダからのn+1本のYスイッチ制御信号(カラム選択信号)YS<0>〜YS<n>により、Yスイッチの導通/非導通が制御され、n+1個のカラムのセンスアンプSA<0>〜SA<n>のうちの1つが選択され、選択された1つのセンスアンプSAが接続される。なお、各カラムのYスイッチ対は、ビット線対BLT/BとローカルIO線対LIOT/Nとの間に接続され、ゲート電極が共通接続されてYスイッチ制御信号YSに接続されたNMOSトランジスタ対からなる。   In FIG. 3, when the word line WL is selected, SWC <0> (303) is selected. The LIO line is controlled by the n + 1 Y switch control signals (column selection signals) YS <0> to YS <n> from the column decoder to control the conduction / non-conduction of the Y switch. One of <0> to SA <n> is selected, and one selected sense amplifier SA is connected. The Y switch pair of each column is connected between the bit line pair BLT / B and the local IO line pair LIOT / N, and the NMOS transistor pair having the gate electrode connected in common and connected to the Y switch control signal YS. Consists of.

DRAMでは、不良セル救済のために冗長セルを備え、半導体製造時のウエハテスト工程等で良・不良を判定してフェイルマップを作成し、不良セルを冗長セルに置き換える等の救済措置がとされる。救済措置の一例として、例えばアクセスアドレスが不良セルのアドレスに該当した場合、当該不良セルにはアクセスしないように、冗長セルをアクセスするアドレスに置き換えるようにヒューズ回路の溶断等のプログラミングが行われ、冗長セルの選択時、不良セル(被救済セル)に接続するビット線(被救済ビット線)のYスイッチ(被救済Yスイッチ)や、ワード線は非選択(非活性)とされるように制御される。すなわち、被救済ビット線に接続するYスイッチ被救済Yスイッチのゲート電極は、Yスイッチ制御信号によりLow電位に固定化され、非選択状態とされる。   In DRAMs, redundant cells are provided to repair defective cells, and repair measures are taken, such as creating a fail map by determining good or defective in the wafer test process during semiconductor manufacturing, and replacing defective cells with redundant cells. The As an example of the remedy, for example, when the access address corresponds to the address of the defective cell, programming such as fusing of the fuse circuit is performed so as to replace the redundant cell with the address to access so as not to access the defective cell, When selecting a redundant cell, control is performed so that the Y switch (relieved Y switch) of the bit line (relieved bit line) connected to the defective cell (relieved cell) and the word line are not selected (inactive). Is done. That is, the gate electrode of the Y switch to be repaired Y switch connected to the bit line to be repaired is fixed to the low potential by the Y switch control signal and is not selected.

Yスイッチのゲート電極に対してYスイッチ制御信号を伝達するヴィア等の接続不良等により、Yスイッチのゲート電極がフローティング化した場合、当該Yスイッチのゲート電極はYスイッチ制御信号と非接続となり、ゲート電極の電荷をGNDに放電することができなくなる。このため、近接配線等の電位変動時に容量カップリング等により、当該Yスイッチのゲート電極がHigh電位(あるいはYスイッチを構成するNMOSトランジスタのゲート・ソース間電圧が閾値電圧を越えること)になり、非選択であるべきYスイッチが導通してしまう場合がある。この場合、非選択であるべきYスイッチと、読み出し対象の選択ビット線のYスイッチの両方が選択された状態となり、制御不能となるという問題が発生する。この問題を、図8を参照して以下に説明する。なお、図8は、本願発明者等が問題説明のために作成した図である。   When the gate electrode of the Y switch floats due to a connection failure such as a via that transmits the Y switch control signal to the gate electrode of the Y switch, the gate electrode of the Y switch becomes disconnected from the Y switch control signal. It becomes impossible to discharge the charge of the gate electrode to GND. For this reason, the gate electrode of the Y switch becomes a high potential (or the gate-source voltage of the NMOS transistor constituting the Y switch exceeds the threshold voltage) due to capacitive coupling or the like when the potential of the adjacent wiring or the like fluctuates. The Y switch that should not be selected may become conductive. In this case, both the Y switch that should not be selected and the Y switch of the selected bit line to be read are selected, causing a problem that control becomes impossible. This problem will be described below with reference to FIG. FIG. 8 is a diagram created by the inventors of the present application for explaining the problem.

ローカルIO線対Local−I/O_T/Bは、スイッチ回路(図3のSWC)を介して、メインIO線対に接続される。Local−I/O_T/Bは、Yスイッチを介して、ビット選に接続する。ビット線とワード選WLの交差部にメモリセルMCを備えている。ビット選の選択は、不図示のカラムデコーダで行われ、選択されたカラムに対応するYスイッチ制御信号はHighとされ、当該Yスイッチ制御信号にゲート電極が接続されたYスイッチが導通する。データ読み出し時、センスアンプSAはビット線対の差電位を差動増幅し、選択ビット線の電位が差動でLocal−I/O_T/Bに出力される。なお、図8では簡単のため、センスアンプSAは、シングルエンド入力、シングルエンド出力のインバータ(Local−I/O_T/Bの一方がHighのとき他方はLow)形式で模式的に示されているが、図2に示したセンスアンプ回路(SA回路)のように、ビット線間に接続された差動ラッチ回路で構成される。   The local IO line pair Local-I / O_T / B is connected to the main IO line pair via a switch circuit (SWC in FIG. 3). Local-I / O_T / B is connected to bit selection via the Y switch. A memory cell MC is provided at the intersection of the bit line and the word selection WL. Bit selection is performed by a column decoder (not shown), the Y switch control signal corresponding to the selected column is set to High, and the Y switch having the gate electrode connected to the Y switch control signal is turned on. At the time of data reading, the sense amplifier SA differentially amplifies the difference potential of the bit line pair, and the potential of the selected bit line is differentially output to Local-I / O_T / B. In FIG. 8, for the sake of simplicity, the sense amplifier SA is schematically shown in a single-end input and single-end output inverter format (when one of the Local-I / O_T / B is High, the other is Low). However, it is constituted by a differential latch circuit connected between bit lines as in the sense amplifier circuit (SA circuit) shown in FIG.

読み出し時に選択されたYスイッチ(読み出しY−Switch)のゲート電極に供給されるYスイッチ制御信号はHigh電位とされ、選択されたビット線(読み出しBitLine)に接続された選択セルMC(ワード線WLがHigh)のデータ(High)がビット線に読みだされ、Yスイッチを介して、Local−I/O_T/Bには本来High、Lowが出力されることになる(High期待、Low期待)。   The Y switch control signal supplied to the gate electrode of the Y switch (read Y-Switch) selected at the time of reading is set to the High potential, and the selected cell MC (word line WL) connected to the selected bit line (read BitLine). High) is read out to the bit line, and High and Low are originally output to Local-I / O_T / B via the Y switch (High expectation, Low expectation).

一方、被救済ビット線(被救済BitLine)に接続するYスイッチ(被救済Y−Switch)のゲート電極は、Yスイッチ制御信号により、GND電位に固定される(Fix Low)ことになるが、図8に×印で示したように、該ゲート電極に接続するヴィアの接続不良等により、Low固定とならず、フローティング状態のHigh電位となり、当該Yスイッチが非選択である場合に導通してしまう。この結果、被救済ビット線に接続され、選択されたワード線に接続されたメモリセルMCのデータ(Low)とその反転信号がLocal−I/O_T、Bに出力される。   On the other hand, the gate electrode of the Y switch (repaired Y-Switch) connected to the repaired bit line (repaired BitLine) is fixed to the GND potential (Fix Low) by the Y switch control signal. As indicated by an X in FIG. 8, due to poor connection of the via connected to the gate electrode, it is not fixed low, and becomes a high potential in a floating state and becomes conductive when the Y switch is not selected. . As a result, the data (Low) of the memory cell MC connected to the rescued bit line and the selected word line and its inverted signal are output to Local-I / O_T, B.

Local−I/O_T/Bの本来の読み出し値(期待値)はHighであるべきところ、今回は、被救済ビット線に接続された選択セルのデータ(Low)が同時に読み出されてしまい、読み出し値はLowとなる。なお、Local−I/O_BはLocal−I/O_Tの反転信号であるHighとなる。   The original read value (expected value) of Local-I / O_T / B should be High, but this time, the data (Low) of the selected cell connected to the bit line to be repaired is read at the same time. The value is Low. Note that Local-I / O_B is High, which is an inverted signal of Local-I / O_T.

図9は、図8の回路のレイアウトイメージで説明する図である。なお、図9は、本願発発明者等が問題説明のために作成した図である。図9に示すように、被救済Yスイッチのゲートは、Low固定(FIX Low)とされるが、Y−スイッチ制御信号とコンタクト不良により、非選択時にもLowとはならない(Floating High)。このため、選択ワード線WLに共通に接続され、読み出しビット線に接続されたメモリセルのデータ(Low)と被救済ビット線に接続されたメモリセルのデータ(High)が導通状態のYスイッチを介してLocal−I/O_T/Barに読み出される。Local−I/O_Tの本来の読み出し値(期待値)は、Highであるべきところ、被救済ビット線に接続された選択セルのデータ(Low)が同時に読み出され、メインIO線に接続されるメインアンプ内のデータアンプにてLowと判定される。   FIG. 9 is a diagram illustrating the layout image of the circuit of FIG. FIG. 9 is a diagram created by the inventors of the present application for explaining the problem. As shown in FIG. 9, the gate of the repaired Y switch is fixed to Low (FIX Low), but does not become Low even when not selected (Floating High) due to a Y-switch control signal and contact failure. For this reason, the Y switch connected in common to the selected word line WL and in which the data (Low) of the memory cell connected to the read bit line and the data (High) of the memory cell connected to the bit line to be repaired are turned on. To Local-I / O_T / Bar. The original read value (expected value) of Local-I / O_T should be High, but the data (Low) of the selected cell connected to the bit line to be repaired is simultaneously read and connected to the main IO line. The data amplifier in the main amplifier is determined to be Low.

図10は、図8の動作例を示すタイミング図である。なお、図10は、本願発発明者等が問題説明のために作成した図である。図10において、LIOT/Nは、LOCAL_IOT/B、LIOPREAは、LIOT/Nのプリチャージ制御信号であり、Lowのとき、LIOT/Nをプリチャージ電源電圧VDDにプリチャージ・イコライズする。なお、図10では、単に説明の簡単のため、READ/WRITEのアクセスを同一の4クロックサイクルとしている。   FIG. 10 is a timing chart showing an operation example of FIG. FIG. 10 is a diagram created by the inventors of the present application for explaining the problem. In FIG. 10, LIOT / N is a LOCAL_IOT / B, and LIOPREA is a LIOT / N precharge control signal. When LIOT / N is Low, LIOT / N is precharged and equalized to the precharge power supply voltage VDD. In FIG. 10, for ease of explanation, READ / WRITE access is set to the same four clock cycles.

Write Cycle(書き込みサイクル)では、外部データ端子から供給された書き込みデータに基づき、メインIO線MIOに接続されたメインアンプ内のライトアンプがHigh/Lowに駆動し、メインIO線MIOに接続するローカルIO線LION/Tはプリチャージ電圧VDDから、書き込みデータに対応してHigh電位、Low電位とされる。破線の波形は、非選択である被救済ビット線に接続するYスイッチのフローティング状態のゲート電極の電位の推移の一例を表している。Write Cycleの最後の1クロックサイクルでは、ローカルIO線LION/Tのプリチャージを制御する制御信号LIOPREAがLowとされ、ローカルIO線LIOT/Nはプリチャージ電圧にプリチャージ・イコライズされる。   In Write Cycle (write cycle), the write amplifier in the main amplifier connected to the main IO line MIO is driven to High / Low based on the write data supplied from the external data terminal, and is connected to the main IO line MIO. The IO line LION / T is changed from the precharge voltage VDD to a high potential and a low potential corresponding to the write data. The broken line waveform represents an example of the transition of the potential of the gate electrode in the floating state of the Y switch connected to the unselected relief bit line. In the last one clock cycle of Write Cycle, the control signal LIOPREA for controlling the precharge of the local IO line LION / T is set to Low, and the local IO line LIOT / N is precharged and equalized to the precharge voltage.

Read Cycle(読み出しサイクル)では、非選択の被救済ビット線に接続するYスイッチのゲート電位(フローティングゲート)は、付近の信号配線等のカップリング等による電荷蓄積により、High電位(フローティングHigh)に達する。このため、非選択の被救済ビット線に接続するYスイッチが導通し、選択された読み出しビット線のYスイッチのほか、非選択の被救済ビット線のYスイッチがともに導通するマルチ選択状態となる。なお、Read Cycle最後の1クロックサイクルでは、LIOPREAがLowとされ、LIOT/Nはプリチャージ電圧にプリチャージ・イコライズされる。なお、図10では、フォローティング化したゲート電極の波形(破線)として、Read Cycleにおいて、ゲート電極はHigh電位にまで上昇している例が示されているが、当該ゲート電極の電位が閾値電圧を超えれば、非選択のYスイッチはオンする。   In Read Cycle (read cycle), the gate potential (floating gate) of the Y switch connected to the non-selected relief bit line is set to the high potential (floating high) by charge accumulation due to coupling of nearby signal wirings and the like. Reach. For this reason, the Y switch connected to the unselected relief bit line becomes conductive, and the multi-select state where both the Y switch of the selected read bit line and the Y switch of the unselected relief bit line become conductive. . In the last clock cycle of Read Cycle, LIOPREA is set to Low, and LIOT / N is precharged and equalized to the precharge voltage. Note that FIG. 10 shows an example in which the gate electrode rises to the high potential in the Read Cycle as the waveform (broken line) of the gate electrode that is followed, but the potential of the gate electrode is the threshold voltage. Is exceeded, the non-selected Y switch is turned on.

上記の通り、ゲート電極に接続するヴィア等のコンタクト不良により、ゲート電極がフローティング化したYスイッチをウエハテスト工程で検出した場合、周知の冗長機能により、当該カラムを冗長カラムで置き換え、Yスイッチに対してYスイッチ制御信号を非選択(Low)に制御しても、当該Yスイッチのゲート電極のノードはフローティングであり、カップリングによって、冗長側のYスイッチと通信を行っているI/O線(ローカルIO線)に対してディスターブを与え(マルチ選択状態)、結果として、該冗長アドレスに対するアクセス不良となる。   As described above, when a Y switch in which the gate electrode is floated due to a contact failure such as a via connected to the gate electrode is detected in the wafer test process, the column is replaced with a redundant column by a well-known redundancy function. On the other hand, even if the Y switch control signal is controlled to be non-selected (Low), the node of the gate electrode of the Y switch is floating, and the I / O line is communicating with the redundant Y switch by coupling. A disturb is given to the (local IO line) (multi-selected state), resulting in an access failure to the redundant address.

なお、コンタクト不良等によりゲート電極がフローティング化したYスイッチにおいて、ゲート電極がフローティング状態でHighとなって選択状態となり、選択されたビット線のYスイッチのほか、非選択のYスイッチ(ゲート電極がフローティングHigh)がともに選択されるというマルチ選択状態の問題は、冗長構成の被救済ビット線等の制御に限らずに、図3等に示した任意のYスイッチに発生し得る。さらに、マルチ選択状態は、非選択のYスイッチ(NMOSトランジスタ)のゲート・ソース間電圧VGSが閾値電圧を超えた場合に起こるため、時間軸は限定されず、いつでも生じ得る。例えばWRITE CYCLEにおいてマルチ選択状態が発生した場合、非選択のYスイッチがオンし、該YスイッチによりローカルIO線と導通する非選択のビット線のメモリセルにデータが書き込まれる可能性も生じ得る。   Note that in a Y switch in which the gate electrode is floated due to a contact failure or the like, the gate electrode is in a floating state and becomes a high selection state. In addition to the Y switch of the selected bit line, a non-selected Y switch (the gate electrode is The problem of the multi-select state that both floating high) are selected can occur in any Y switch shown in FIG. Furthermore, since the multi-selection state occurs when the gate-source voltage VGS of the unselected Y switch (NMOS transistor) exceeds the threshold voltage, the time axis is not limited and may occur at any time. For example, when a multi-selection state occurs in WRITE CYCLE, a non-selected Y switch is turned on, and data may be written to a memory cell of a non-selected bit line that is electrically connected to the local IO line by the Y switch.

なお、特許文献1には、センスアンプ部におけるビット線コンタクトの数を削減することによりビット線容量の低減を図る半導体記憶装置の構成が開示されており、図15、図16等には、Yスイッチ制御信号(CSL)が8つのトランジスタのゲート電極にそれぞれのヴィアを介して供給される構成が開示されている。   Note that Patent Document 1 discloses a configuration of a semiconductor memory device that reduces the bit line capacitance by reducing the number of bit line contacts in the sense amplifier portion. FIGS. A configuration is disclosed in which a switch control signal (CSL) is supplied to the gate electrodes of eight transistors via respective vias.

特開平10−313101号公報JP-A-10-313101

上記したように、Yスイッチのゲート電極がフローティング化している場合、付近の配線のカップリング等によりレベルは微量であるが押し上げられていき、電荷蓄積により、ゲートがフローティング状態のYスイッチが導通してしまい、選択ビット線のYスイッチと非選択のビット線のYスイッチがともに選択されるマルチ選択状態に陥り、選択されたビット線からの読み出しを行うIO線にディスターブを与え、制御不能となる。近時の半導体製造の微細化の進展に伴い、コンタクト不良等によるゲート電極のフローティング化等の問題への対処が必須とされる(本願発明者等による知見)。   As described above, when the gate electrode of the Y switch is floating, the level is slightly increased due to the coupling of the nearby wiring, etc., but is pushed up, and the Y switch with the gate floating due to charge accumulation becomes conductive. As a result, the multi-selection state is selected in which both the Y switch of the selected bit line and the Y switch of the non-selected bit line are selected, and disturb is applied to the IO line for reading from the selected bit line, and control becomes impossible. . With recent progress in miniaturization of semiconductor manufacturing, it is essential to cope with problems such as floating of the gate electrode due to contact failure or the like (knowledge by the present inventors).

前記課題の少なくとも1つを解消するため、本発明は概略以下の構成とされる。   In order to solve at least one of the above-described problems, the present invention is generally configured as follows.

本発明の1つの側面によれば、第1のノードの電位に従って第2のノードと第3のノードとを電位的に接続する第1のトランジスタと、第1の信号を前記第1のノードに供給する第1のビアと、前記第1のノードに接続し、第2の信号に対応して前記第1のノードを所定電位に設定し前記第1のトランジスタを電気的に非導通とする制御を行う第2のトランジスタと、前記第2のノードを第1の周期(期間)に所定の電位に制御するイコライズ回路と、を備え、前記第2の信号を活性化させることで前記第1のノードを所定電位に設定する第2の周期(期間)は、前記イコライズ回路を活性化させる第1の周期(期間)に対応している。   According to one aspect of the present invention, a first transistor that electrically connects a second node and a third node according to the potential of the first node, and a first signal to the first node A first via to be supplied and a control connected to the first node, set the first node to a predetermined potential in response to a second signal, and electrically disconnects the first transistor A second transistor for controlling the second node to a predetermined potential in a first period (period), and activating the second signal to activate the first signal. The second period (period) in which the node is set to a predetermined potential corresponds to the first period (period) in which the equalizing circuit is activated.

本発明の他の一つの側面によれば、メモリセルに直接又は間接に接続された第1のデータ線と、
複数の前記第1のデータ線に共通に設けられ、選択された前記第1のデータ線との間でデータを伝送する第2のデータ線と、
前記複数の第1のデータ線にそれぞれ対応して設けられ、前記第1のデータ線と前記第2のデータ線との間に接続され、前記第1のデータ線と前記第2のデータ線の電気的な導通と非導通を制御する選択制御信号にゲート電極が接続される第1のスイッチトランジスタと、
前記第2のデータ線に対応して設けられ、プリチャージ信号の活性化に応答して、前記第2のデータ線をプリチャージする回路と、
前記第1のトランジスタのゲート電極を前記選択制御信号の電位によらず第1の電源に短絡させる制御を行う第2のスイッチトランジスタを含む制御回路と、を備え、
前記第1の電源は、前記ゲート電極に前記第1の電源電圧が与えられた前記第1のトランジスタを非導通とする電圧を有し、
前記制御回路は、前記第2のスイッチトランジスタを、前記プリチャージ信号に関連付けされた信号に基づき、前記プリチャージ信号が活性化して前記第2のデータ線をプリチャージする時に導通させて前記第1のトランジスタのゲート電極を前記第1電源に短絡させ、前記プリチャージ信号の非活性化時に非導通に制御する、半導体装置が提供される。
According to another aspect of the present invention, a first data line connected directly or indirectly to a memory cell;
A second data line provided in common to the plurality of first data lines and transmitting data to and from the selected first data line;
Provided corresponding to each of the plurality of first data lines, connected between the first data line and the second data line, and connected between the first data line and the second data line. A first switch transistor having a gate electrode connected to a selection control signal for controlling electrical conduction and non-conduction;
A circuit provided corresponding to the second data line and precharging the second data line in response to activation of a precharge signal;
A control circuit including a second switch transistor that performs control to short-circuit the gate electrode of the first transistor to the first power supply regardless of the potential of the selection control signal;
The first power supply has a voltage for turning off the first transistor in which the first power supply voltage is applied to the gate electrode,
The control circuit makes the first switch transistor conductive when the precharge signal is activated and precharges the second data line based on a signal associated with the precharge signal. A semiconductor device is provided in which the gate electrode of the transistor is short-circuited to the first power source and is controlled to be non-conductive when the precharge signal is inactivated.

本発明によれば、選択ビット線のYスイッチと非選択のビット線のYスイッチがともに選択されるマルチ選択状態に陥ることを回避することができる。   According to the present invention, it is possible to avoid a multi-selection state in which both the Y switch of the selected bit line and the Y switch of the non-selected bit line are selected.

DRAMの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of DRAM. ビット線系の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of a bit line system. 階層IO方式の構成を模式的に示す図である。It is a figure which shows the structure of a hierarchical IO system typically. 本発明の一態様を説明する図である。FIG. 10 illustrates one embodiment of the present invention. 本発明の別の態様を説明する図である。It is a figure explaining another aspect of this invention. 本発明の例示的な実施形態を説明する図である。It is a figure explaining exemplary embodiment of the present invention. 本発明の例示的な実施形態のタイミング波形を示す図である。FIG. 6 illustrates timing waveforms for an exemplary embodiment of the present invention. 関連技術を説明する図である。It is a figure explaining related technology. 関連技術のレイアウトを説明する図である。It is a figure explaining the layout of related technology. 関連技術のタイミング波形を示す図である。It is a figure which shows the timing waveform of related technology.

本発明の課題を解決する本発明の好ましい態様(Preferred Modes)の代表的な一例は、以下に示される。図4を参照すると、本発明の好ましい態様(Preferred Modes)の一つは、第1のノード(node1)の電位に従って、第2のノード(node2)と第3のノード(node3)とを電位的に接続する第1のトランジスタ(Tr.1)と、第1の信号を前記第1のノード(node1)に供給する第1のビア(Via.1)と、第1のノード(node1)に接続し、第2の信号に対応して前記第1のトランジスタ(Tr.1)を電気的に非導通に制御する第2のトランジスタ(Tr.2)と、第2のノード(node2)を第1周期(第1の期間又は第1のタイミング)で、所定の電位に制御するイコライズ回路(EQ)と、を備え、前記第2の信号の活性化の期間(第2の周期、第2の期間、第2のタイミング)は、第1の周期(第1の期間、又は第1のタイミング)に対応する。   A typical example of a preferred mode of the present invention that solves the problems of the present invention (Preferred Modes) is shown below. Referring to FIG. 4, according to one of the preferred embodiments of the present invention (Preferred Modes), the second node (node2) and the third node (node3) are connected to each other according to the potential of the first node (node1). A first transistor (Tr. 1) connected to the first node, a first via (Via. 1) for supplying a first signal to the first node (node 1), and a first node (node 1) In response to the second signal, the second transistor (Tr. 2) for controlling the first transistor (Tr. 1) to be electrically non-conductive and the second node (node 2) are first connected. And an equalizing circuit (EQ) that controls to a predetermined potential in a period (first period or first timing), and an activation period (second period, second period) of the second signal , The second timing) It corresponds to one period (first period, or the first timing).

本発明の態様の一例において、第4のノード(node4)の電位に従って第2のノード(node2)と第5のノード(node5)とを電位的に接続する第3のトランジスタ(Tr.3)と、第3のトランジスタ(Tr.3)を制御する制御回路(CNTL)と、を備え、制御回路(CNTL)は、第3のトランジスタ(Tr.3)を電気的に導通に制御するとき、前記第1のトランジスタ(Tr.1)を電気的に非導通に制御するように前記第1の信号を制御する。   In an example of the aspect of the present invention, a third transistor (Tr. 3) that potential-connects the second node (node 2) and the fifth node (node 5) according to the potential of the fourth node (node 4). , A control circuit (CNTL) for controlling the third transistor (Tr.3), and when the control circuit (CNTL) controls the third transistor (Tr.3) to be electrically conductive, The first signal is controlled so as to control the first transistor (Tr. 1) to be electrically non-conductive.

本発明の態様の一例において、前記制御回路(CNTL)は、前記第3のトランジスタ(Tr.3)を電気的に導通に制御するとき、前記第1のトランジスタ(Tr.1)を電気的に非導通に制御するように前記第1の信号を制御する。制御回路(CNTL)は、前記第3のノード(node3)に関連するアドレスと、該アドレスが欠陥アドレスであるか否かの情報と比較する判定回路(不図示)を含み、判定回路の判定結果に対応して、前記制御回路(CNTL)は、前記第3のノードと前記第5のノードのいずれか一方と、前記第2のノードとの情報の双方向の通信を制御する。   In an example of the aspect of the present invention, the control circuit (CNTL) electrically controls the first transistor (Tr.1) when the third transistor (Tr.3) is electrically controlled. The first signal is controlled so as to be controlled to be non-conductive. The control circuit (CNTL) includes an address associated with the third node (node3) and a determination circuit (not shown) that compares information regarding whether or not the address is a defective address. The control circuit (CNTL) controls bidirectional communication of information between the third node and the fifth node and the second node.

本発明の態様の一例において、前記第2のトランジスタ(Tr.2)が電気的に導通する期間は、前記イコライズ回路(EQ)が前記第2のノードを前記所定の電位に制御する期間の少なくとも一部の期間である。   In an example of the aspect of the present invention, the period in which the second transistor (Tr. 2) is electrically conductive is at least a period in which the equalization circuit (EQ) controls the second node to the predetermined potential. It is some period.

本発明の態様の一例において、前記第3及び第5のノード(node3、node5)は、それぞれ対応する第1と第2のメモリセルに関連するノードであり、前記第2のノード(node2)は、半導体装置の外部端子に関連するノードである。   In one example of an aspect of the present invention, the third and fifth nodes (node3, node5) are nodes associated with the corresponding first and second memory cells, respectively, and the second node (node2) is A node related to an external terminal of the semiconductor device.

本発明の態様の一例において、前記第1及び第2のメモリセルは、同一のアドレスであり、前記第2のメモリセルは、不良(FAIL)の前記第1のメモリセルに置換されるメモリセルである。   In one example of an aspect of the present invention, the first and second memory cells have the same address, and the second memory cell is replaced with a defective (FAIL) first memory cell. It is.

本発明の態様の一例において、前記第3及び第5のノードは、それぞれ対応する複数の前記メモリセルに接続するビット線のノードであり、前記第1の信号は、デコーディングされたアドレスに関連する信号であり、第2のノード(node2)は、ローカルデータ線である。   In one example of an aspect of the present invention, the third and fifth nodes are nodes of bit lines connected to the corresponding plurality of memory cells, respectively, and the first signal is related to a decoded address. The second node (node2) is a local data line.

本発明の態様の一例において、ローカルデータ線(Local IO)及び複数の前記ローカルデータ線に関連する一つのグローバルデータ線(図3のMIO)とで構成された階層データ線を備え、前記第3及び第5のノード(node3、node5)は、それぞれ前記ローカルデータ線(Local IO)であり、第2のノード(node2)は、前記グローバルデータ線(MIO)である。この場合、第1のトランジスタ(Tr.1)は、図3において、LIOとMIOの接続を制御するSWC内のスイッチトランジスタ、第3のトランジスタ(Tr.3)は、別のLIOとMIOの接続を制御する別のSWC内のスイッチトランジスタを構成する。   In one example of an aspect of the present invention, the hierarchical data line includes a local data line (Local IO) and one global data line (MIO in FIG. 3) related to the plurality of local data lines, The fifth node (node3, node5) is the local data line (Local IO), and the second node (node2) is the global data line (MIO). In this case, in FIG. 3, the first transistor (Tr. 1) is a switch transistor in the SWC that controls the connection between LIO and MIO, and the third transistor (Tr. 3) is a connection between another LIO and MIO. A switch transistor in another SWC that controls the above is configured.

本発明の態様の一例において、第2のトランジスタ(Tr.2)の出力を第1ノード1(node1)と、第4のノード(node4)に共通に接続し、第2の信号に対応して、前記第1、第3のトランジスタ(Tr.1、Tr.3)を電気的に共通に非導通に制御する構成としてもよい。あるいは、制御回路(CTRL)の代わりに、第3のトランジスタ(Tr.3)のゲート電極がヴィア(ゲート電極と上層のメタル配線層とを電気的に接続するヴィア)を介して第3のトランジスタ(Tr.3)の導通を制御する別の第1の信号(カラムデコーダから出力されるYスイッチ制御信号)に接続され、第2のトランジスタ(Tr.2)の一端を第1ノード1(node1)と、第4のノード(node4)に共通に接続し、第2の信号に対応して、前記第1、第3のトランジスタ(Tr.1、Tr.3)を電気的に共通に非導通に制御する構成としてもよい。   In an example of the aspect of the present invention, the output of the second transistor (Tr. 2) is commonly connected to the first node 1 (node 1) and the fourth node (node 4), and corresponds to the second signal. The first and third transistors (Tr.1, Tr.3) may be configured to be electrically non-conductive in common. Alternatively, instead of the control circuit (CTRL), the gate electrode of the third transistor (Tr. 3) is connected to the third transistor via the via (via that electrically connects the gate electrode and the upper metal wiring layer). (Tr.3) is connected to another first signal (Y switch control signal output from the column decoder) for controlling conduction, and one end of the second transistor (Tr.2) is connected to the first node 1 (node1). ) And the fourth node (node4) in common, and the first and third transistors (Tr.1, Tr.3) are electrically non-conductive in response to the second signal. It is good also as a structure controlled to.

以下では、図1、図2、図3等を参照して説明したLIOT/N(Local−I/O_T/B)を備えた階層型ビット線構成のDRAMに対して、本発明を適用した例を説明するが、本発明はかかる構成に制限されるものでないことは勿論である。但し、本願の請求内容はこの好ましい態様に限られず、本願の請求項に記載の内容であることは言うまでもない。   Hereinafter, an example in which the present invention is applied to a DRAM having a hierarchical bit line configuration having LIOT / N (Local-I / O_T / B) described with reference to FIG. 1, FIG. 2, FIG. However, it goes without saying that the present invention is not limited to such a configuration. However, it is needless to say that the claimed contents of the present application are not limited to this preferred mode, but are the contents described in the claims of the present application.

上記したように、Local−I/Oに接続されるYスイッチのゲートは、1つのコンタクトにてYスイッチ制御信号によってその電位が制御されているが、本発明の好ましい態様(Preferred Modes)の代表的な一例によれば、Yスイッチのゲートに、Yスイッチ制御信号に加えて、さらにLocal−I/Oをプリチャージする信号によって制御される信号に接続することにより、2点で、Yスイッチのゲートを制御することができる。この結果、Yスイッチのゲート電極とYスイッチ制御信号との接続点がコンタクト不良等によりYスイッチのゲート電極がフローティング化した場合にも、ゲート電極のもう一方の点でGNDと電気的に接続させ、ゲート電極の電位を強制的にGND電位とする。この結果、Yスイッチのゲート電極がフローティングHighとなって当該Yスイッチが導通してしまうという、意図しない動作(不具合)を抑えることができる。   As described above, the potential of the gate of the Y switch connected to the Local-I / O is controlled by the Y switch control signal at one contact, but it is representative of the preferred embodiment of the present invention (Preferred Modes). According to a typical example, the gate of the Y switch is connected to a signal controlled by a signal that precharges the Local-I / O in addition to the Y switch control signal at two points. The gate can be controlled. As a result, even if the connection point between the Y switch gate electrode and the Y switch control signal is floating due to a contact failure or the like, it is electrically connected to GND at the other point of the gate electrode. The potential of the gate electrode is forcibly set to the GND potential. As a result, an unintended operation (problem) that the gate electrode of the Y switch becomes floating high and the Y switch becomes conductive can be suppressed.

Local−I/Oがプリチャージ電源電圧にプリチャージ・イコライズすると同時に、Yスイッチのゲート電極とGND間に接続されたトランジスタ(N1)を導通させて、Yスイッチのゲート電極をGNDレベルに下げることにより、フローティング化したYスイッチのゲート電位をLowに戻し、Yスイッチが導通状態になることを抑える。   Local-I / O precharges and equalizes to the precharge power supply voltage, and at the same time, the transistor (N1) connected between the gate electrode of the Y switch and GND is made conductive to lower the gate electrode of the Y switch to the GND level. Thus, the gate potential of the floating Y switch is returned to Low, and the Y switch is prevented from becoming conductive.

図6は、本発明の一実施例の構成を示す図である。図6に示すように、Yスイッチのゲート電極を2つのコンタクトで接続する。すなわち、カラムデコーダからのYスイッチ制御信号と、ソースがGND(グランド)に接続されたNMOSトランジスタN1のドレイン端子に接続する信号(1)である。   FIG. 6 is a diagram showing the configuration of an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, the gate electrode of the Y switch is connected by two contacts. That is, the Y switch control signal from the column decoder and the signal (1) connected to the drain terminal of the NMOS transistor N1 whose source is connected to GND (ground).

Local−I/O_T/B間には、ゲートがLIOPREAに接続されたPMOSトランジスタP1と、プリチャージ電源端子VBLPにソースが接続され、ドレインがLocal−I/O_T/Bにそれぞれ接続され、ゲートがLIOPREAに接続されたPMOSトランジスタP2、3を備えたプリチャージ・イコライズ回路を備えている。LIOPREAは、Local−I/Oプリチャージ制御信号をインバータINVで反転して生成される。さらに、Local−I/O_T/BのYスイッチの共通ゲートとGND間に接続され、Local−I/Oプリチャージ制御信号をゲートに受けるNMOSトランジスタN1を備えている。Local−I/Oプリチャージ制御信号がHighのとき、LIOPREAはLowとなり、PMOSトランジスタP1、P2、P3が導通し、Local−I/O_T/Bはプリチャージ・イコライズされ、また、NMOSトランジスタN1が導通(オン)するため、Local−I/O_T/BのYスイッチの共通ゲートはGND電位に設定される。   Between Local-I / O_T / B, the PMOS transistor P1 whose gate is connected to LIOPREA, the source is connected to the precharge power supply terminal VBLP, the drain is connected to Local-I / O_T / B, and the gate is A precharge / equalize circuit including PMOS transistors P2 and 3 connected to LIOPREA is provided. LIOPREA is generated by inverting the Local-I / O precharge control signal with the inverter INV. Further, an NMOS transistor N1 connected between the common gate of the Y switch of Local-I / O_T / B and the GND and receiving a Local-I / O precharge control signal at the gate is provided. When the Local-I / O precharge control signal is High, LIOPREA is Low, the PMOS transistors P1, P2, and P3 are turned on, the Local-I / O_T / B is precharged and equalized, and the NMOS transistor N1 is In order to conduct (turn on), the common gate of the Y switch of Local-I / O_T / B is set to the GND potential.

Local−I/Oプリチャージ信号がLowのとき、LIOPREAはHighとなり、NMOSトランジスタN1が非導通(オフ)となり、またLIOPREAがHighとされ、PMOSトランジスタP1、P2、P3は非導通となる。   When the Local-I / O precharge signal is Low, LIOPREA is High, the NMOS transistor N1 is non-conductive (OFF), LIOPREA is High, and the PMOS transistors P1, P2, and P3 are non-conductive.

Local−I/Oのプリチャージ・イコライズ時に、Local−I/Oとビット線の接続を制御するYスイッチのゲート電位を、Lowに設定する構成としたことにより、Yスイッチの共通ゲートに、Yスイッチ制御信号を伝播させるコンタクト不良等により、Yスイッチの共通ゲートがフローティング化した場合にも、アクセスサイクル毎に行われるプリチャージ時に強制的にGND電位に設定することで、カラムアドレスの異なる複数のYスイッチが同時に選択されることを回避している。   At the time of Local-I / O precharge and equalization, the gate potential of the Y switch for controlling the connection between the Local-I / O and the bit line is set to Low, so that the common gate of the Y switch Even when the common gate of the Y switch floats due to a contact failure that propagates the switch control signal, by setting the GND potential forcibly at the precharge performed every access cycle, a plurality of different column addresses can be set. The Y switch is prevented from being selected at the same time.

図7は、本発明の一実施形態の動作を示すタイミング図である。クロック信号CK(/CK)、LIOT/Nの電圧波形、LIOPREAの電圧波形とその反転信号(1)が示されている。WRITE CYCLEの2、3クロックサイクルにおいて、LIOPREAはHighとされ、LIOT/Nに接続するPMOSトランジスタP1〜P3はオフ状態とされ、NMOSトランジスタN1はオフ状態とされ、書き込みデータに基き、LIOT/NはHigh/Lowに駆動される。LIOT/Nに接続される選択されたカラムのYスイッチがYスイッチ制御信号がHighとなってYスイッチがオンし、選択ビット線にLIOT/Nの書き込みデータが転送され、選択ワード線のメモリセルに書き込みデータが容量に蓄積される。   FIG. 7 is a timing diagram showing the operation of one embodiment of the present invention. A clock signal CK (/ CK), a voltage waveform of LIOT / N, a voltage waveform of LIOPREA and its inverted signal (1) are shown. In a few clock cycles of WRITE CYCLE, LIOPREA is set to High, PMOS transistors P1 to P3 connected to LIOT / N are turned off, NMOS transistor N1 is turned off, and LIOT / N based on write data. Is driven high / low. The Y switch of the selected column connected to LIOT / N becomes Y switch control signal High and the Y switch is turned on, LIOT / N write data is transferred to the selected bit line, and the memory cell of the selected word line Write data is stored in the capacity.

WRITE CYCLEの第4クロックサイクルにおいて、LIOPREAはLowとされ、LIOT/Nに接続するPMOSトランジスタP1〜P3はオン(導通)状態とされ、LIOT/Nは、プリチャージ電源電圧に、プリチャージ・イコライズされる。なお、この第4クロックサイクルにおいて、ビット線対も、ビット線対の間に設けられたプリチャージ・イコライズ回路でプリチャージ電源電圧にプリチャージ・イコライズされる。   In the fourth clock cycle of WRITE CYCLE, LIOPREA is set to Low, PMOS transistors P1 to P3 connected to LIOT / N are turned on (conductive), and LIOT / N is set to precharge power supply voltage and precharge / equalize. Is done. In this fourth clock cycle, the bit line pair is also precharged and equalized to a precharge power supply voltage by a precharge equalizing circuit provided between the bit line pairs.

NMOSトランジスタN1のゲートに入力される信号(1)はHighとなり(LIOPREAの相補信号)、NMOSトランジスタN1がオン(導通)状態となり、LIOT/Nに接続するYスイッチの共通ゲートはGND電位に設定される。すなわち、LIOT/Nに接続するYスイッチの共通ゲートにYスイッチ制御信号を接続するコンタクト(ビア)に不良があり、Yスイッチのゲートがフローティング化して、図7にYスイッチ・ゲートレベルとして示すように、付近の信号配線とのカップリング等により電位が徐々に上昇しても、NMOSトランジスタN1がオン(導通)することで強制的にGND電位に設定される。なお、図7では、WRITE CYCLE、READ CYCLEは、4クロックサイクルとされているが、本発明はかかる構成に制限されるものでない。またプリチャージは、例えば、ACTコマンド(バンクアクティブ)、READ/WRITEコマンドに続いて入力されるプリチャージコマンドの入力に基づき行うようにしてもよい。   The signal (1) input to the gate of the NMOS transistor N1 becomes High (a complementary signal to LIOPREA), the NMOS transistor N1 is turned on (conductive), and the common gate of the Y switch connected to LIOT / N is set to the GND potential. Is done. That is, the contact (via) connecting the Y switch control signal to the common gate of the Y switch connected to LIOT / N has a defect, and the gate of the Y switch floats, as shown in FIG. 7 as the Y switch gate level. Even if the potential gradually rises due to coupling with a nearby signal line or the like, the NMOS transistor N1 is forcibly set to the GND potential by turning on (conducting). In FIG. 7, WRITE CYCLE and READ CYCLE are four clock cycles, but the present invention is not limited to such a configuration. The precharge may be performed based on, for example, an input of a precharge command that is input following an ACT command (bank active) or a READ / WRITE command.

次のREAD CYCLEでは、LIOPREAはHighとなり、NMOSトランジスタN1はオフし、Yスイッチの共通ゲートはフローティング状態となり、再び、電位が徐々に上昇しても、READ CYCLEの第4サイクルにおいて、LIOPREAはLowとされ、NMOSトランジスタN1のゲートに入力される信号(1)はHighとなり(信号(1)はLIOPREAの相補信号)、NMOSトランジスタN1がオン(導通)状態となり、LIOT/Nに接続するYスイッチの共通ゲートはGND電位に設定される。またLIOT/Nに接続するPMOSトランジスタP1〜P3はオン(導通)状態とされ、LIOT/Nはプリチャージ電源電圧にプリチャージ・イコライズされる。   In the next READ CYCLE, LIOPREA becomes High, the NMOS transistor N1 is turned off, the common gate of the Y switch is in a floating state, and even if the potential gradually rises again, in the fourth cycle of READ CYCLE, LIOPREADA becomes Low. The signal (1) input to the gate of the NMOS transistor N1 becomes High (signal (1) is a complementary signal of LIOPREA), the NMOS transistor N1 is turned on (conductive), and the Y switch connected to LIOT / N These common gates are set to the GND potential. The PMOS transistors P1 to P3 connected to LIOT / N are turned on (conductive), and LIOT / N is precharged and equalized to the precharge power supply voltage.

すなわち、READ CYCLEにおいて、LIOT/Nの差電位の読み出し時(メインIO MIOに転送されたLIOT/Nの差電位をデータアンプで差動増幅する)には、Yスイッチの共通ゲートの電位は、Yスイッチを構成するNMOSトランジスタの閾値電圧には達しない。このため、非選択のYスイッチはオフ状態とされる。この結果、READ CYCLEにおいて、非選択のビット線に接続するYスイッチ(ゲートがフローティング状態)と、選択されたビット線に接続するYスイッチとが同時に導通状態に設定されるという事態の発生は回避される。   That is, in the READ CYCLE, when the LIOT / N difference potential is read (the LIOT / N difference potential transferred to the main IO MIO is differentially amplified by the data amplifier), the potential of the common gate of the Y switch is The threshold voltage of the NMOS transistor constituting the Y switch is not reached. For this reason, the non-selected Y switch is turned off. As a result, in READ CYCLE, the occurrence of a situation in which the Y switch connected to the unselected bit line (the gate is in a floating state) and the Y switch connected to the selected bit line are simultaneously set to the conductive state is avoided. Is done.

なお、本実施形態においては、メモリアレイのビット線対とLIOT/N間の接続を制御するYスイッチ対(図3のY−Switch)のゲート電極に対して、ソースがGNDに接続され、Local−IOプリチャージ信号をゲートに入力するNMOSトランジスタN1のドレインからの制御信号(1)を、Yスイッチ制御信号と該ゲート電極との接続点とは別の接続点で該ゲート電極に接続する(Yスイッチのゲート電極を2点で制御する)。その際、LIOT/Nのプリチャージ・イコライズ回路(P1、P2、P3)に対応して、Local−IOプリチャージ信号をゲートに入力するNMOSトランジスタN1を1つ備え、ローカルIO線対LIOT/Nに接続する複数のビット線対にそれぞれ接続する複数のYスイッチ対のゲート電極に対して、該1つのNMOSトランジスタN1のドレインからの制御信号(1)を共通に配線接続し、ローカルIO線対LIOT/Nのプリチャージ時に、複数のYスイッチ対のゲート電極を一斉にGND電位にリセットするようにしてもよいことは勿論である。すなわち、Yスイッチ対のゲート電極をプリチャージ時にGND電位にリセットするNMOSトランジスタN1は、複数のYスイッチ対に対して1つ設ける構成としてもよい。あるいは、各Yスイッチ対の近傍にNMOSトランジスタN1を1つ備え、各NMOSトランジスタN1のゲートにLocal−IOプリチャージ信号を配線接続する構成としてもよいことは勿論である。   In the present embodiment, the source is connected to GND with respect to the gate electrode of the Y switch pair (Y-Switch in FIG. 3) that controls the connection between the bit line pair of the memory array and the LIOT / N. The control signal (1) from the drain of the NMOS transistor N1 that inputs the IO precharge signal to the gate is connected to the gate electrode at a connection point different from the connection point between the Y switch control signal and the gate electrode ( The gate electrode of the Y switch is controlled at two points). At that time, in correspondence with the LIOT / N precharge / equalization circuits (P1, P2, P3), one NMOS transistor N1 for inputting a Local-IO precharge signal to the gate is provided, and the local IO line pair LIOT / N is provided. The control signal (1) from the drain of the one NMOS transistor N1 is connected in common to the gate electrodes of the plurality of Y switch pairs connected to the plurality of bit line pairs connected to each other, and the local IO line pair Of course, the gate electrodes of a plurality of Y switch pairs may be simultaneously reset to the GND potential during LIOT / N precharge. That is, one NMOS transistor N1 that resets the gate electrode of the Y switch pair to the GND potential at the time of precharging may be provided for a plurality of Y switch pairs. Alternatively, it is needless to say that one NMOS transistor N1 may be provided near each Y switch pair, and a Local-IO precharge signal may be connected to the gate of each NMOS transistor N1 by wiring.

本願の技術思想は、例えば、メモリやデータプロセッサのデータ信号の伝送ルート等、に適用できる。更に、Yスイッチのゲート電極をLow電位に強制的に設定するための信号(1)の発生方式等の回路形式、その他の制御信号を生成する回路は、実施例が開示する回路形式限られない。また、図4の第1のトランジスタTr.1がNMOSトランジスタであるYスイッチを例に説明したが、図4の第1のトランジスタTr.1がPMOSトランジスタで構成される場合、第2のトランジスタTr.2がオンすると、第1のトランジスタTr.1のゲート電極は電源電圧(VDD)に設定され、第1のトランジスタTr.1を非導通状態とされる。   The technical idea of the present application can be applied to, for example, a data signal transmission route of a memory or a data processor. Further, the circuit format such as the generation method of the signal (1) for forcibly setting the gate electrode of the Y switch to the low potential and the circuit for generating other control signals are not limited to the circuit formats disclosed in the embodiments. . In addition, the first transistor Tr. Although the Y switch in which 1 is an NMOS transistor has been described as an example, the first transistor Tr. 1 is a PMOS transistor, the second transistor Tr. 2 is turned on, the first transistor Tr. 1 is set to the power supply voltage (VDD), and the first transistor Tr. 1 is turned off.

本発明の技術思想は、様々な半導体装置に適用することができる。例えば、CPU(Central Processing Unit)、MCU(Micro Control Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、ASSP(Application Specific Standard Circuit)、メモリ(Memory)等の半導体装置全般に、本発明を適用することができる。このような本発明が適用された半導体装置の製品形態としては、例えば、SOC(システムオンチップ)、MCP(マルチチップパッケージ)やPOP(パッケージオンパッケージ)などが挙げられる。これらの任意の製品形態、パッケージ形態を有する半導体装置に対して本発明を適用することができる。また、トランジスタは、電界効果トランジスタ(Field Effect Transistor;FET)であれば良く、MOS(Metal Oxide Semiconductor)以外にもMIS(Metal−Insulator Semiconductor)、TFT(Thin Film Transistor)等の様々なFETに適用できる。トランジスタ等の様々なFETに適用できる。更に、装置内に一部のバイポーラ型トランジスタを有しても良い。更に、PMOSトランジスタ(P型チャネルMOSトランジスタ)は、第2導電型のトランジスタ、NMOSトランジスタ(N型チャネルMOSトランジスタ)は、第1導電型のトランジスタの代表例である。   The technical idea of the present invention can be applied to various semiconductor devices. For example, a CPU (Central Processing Unit), an MCU (Micro Control Unit), a DSP (Digital Signal Processor), an ASIC (Application Specific Integrated Circuit), and an ASP (Amplified Semiconductor). The present invention can be applied. Examples of the product form of the semiconductor device to which the present invention is applied include SOC (system on chip), MCP (multichip package), and POP (package on package). The present invention can be applied to a semiconductor device having any of these product forms and package forms. The transistor may be a field effect transistor (FET). In addition to a MOS (Metal Oxide Semiconductor), a transistor such as a MIS (Metal-Insulator Semiconductor) or a TFT (Thin Film Transistor) may be used. it can. It can be applied to various FETs such as transistors. Furthermore, some bipolar transistors may be included in the device. Further, the PMOS transistor (P-type channel MOS transistor) is a second conductivity type transistor, and the NMOS transistor (N-type channel MOS transistor) is a typical example of the first conductivity type transistor.

本発明は、本発明の全開示(請求の範囲を含む)の枠内において、さらにその基本的技術思想に基づいて、実施形態ないし実施例の変更・調整が可能である。また、本発明の請求の範囲の枠内において種々の開示要素の多様な組み合わせないし選択が可能である。すなわち、本発明は、請求の範囲を含む全開示、技術的思想にしたがって当業者であればなし得るであろう各種変形、修正を含むことは勿論である。   The present invention can be modified or adjusted within the scope of the entire disclosure (including claims) of the present invention and based on the basic technical concept. Various combinations and selections of various disclosed elements are possible within the scope of the claims of the present invention. That is, the present invention of course includes various variations and modifications that could be made by those skilled in the art according to the entire disclosure including the claims and the technical idea.

1 メモリアレイ
2 Xデコーダ及びXタイミング生成回路
3 Yデコーダ及びYタイミング生成回路
4 デコーダ制御回路
5 データラッチ回路
6 入出力インターフェース
7 内部クロック(CLK)生成回路
8 制御信号生成回路
9 DLL(Delay Locked Loop:遅延同期ループ)
11 メモリマット0
12 センスアンプ部
13 メモリマット1
14 サブワードドライバ回路
18 PMOSトランジスタ
19 イコライズ回路
20 NMOSトランジスタ
301 バスドライバ(BUSD)
302 メインアンプ(MA)
303 SWC回路
304 センスアンプ(SA)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Memory array 2 X decoder and X timing generation circuit 3 Y decoder and Y timing generation circuit 4 Decoder control circuit 5 Data latch circuit 6 Input / output interface 7 Internal clock (CLK) generation circuit 8 Control signal generation circuit 9 DLL (Delay Locked Loop) : Delay locked loop)
11 Memory mat 0
12 Sense amplifier section 13 Memory mat 1
14 Sub-word driver circuit 18 PMOS transistor 19 Equalize circuit 20 NMOS transistor 301 Bus driver (BUSD)
302 Main amplifier (MA)
303 SWC circuit 304 Sense amplifier (SA)

Claims (10)

第1のノードの電位に従って第2のノードと第3のノードとを電位的に接続する第1のトランジスタと、
第1の信号を前記第1のノードに供給する第1のビアと、
前記第1のノードに接続し、第2の信号に対応して前記第1のトランジスタを電気的に非導通に制御する第2のトランジスタと、
前記第2のノードを第1の周期で所定の電位に制御するイコライズ回路と、
を備え、前記第2の信号の第2の周期は前記第1の周期に対応する半導体装置。
A first transistor that potentialally connects the second node and the third node according to the potential of the first node;
A first via for supplying a first signal to the first node;
A second transistor connected to the first node and electrically non-conductively controlled in response to a second signal;
An equalizing circuit for controlling the second node to a predetermined potential in a first period;
And the second period of the second signal corresponds to the first period.
第4のノードの電位に従って、前記第2のノードと第5のノードとを電位的に接続する第3のトランジスタと、
前記第3のトランジスタを制御する制御回路と、
を備え、
前記制御回路は、前記第3のトランジスタを電気的に導通に制御するとき、前記第1のトランジスタを電気的に非導通に制御するように前記第1の信号を制御する、請求項1記載の半導体装置。
A third transistor for potential-connecting the second node and the fifth node according to the potential of the fourth node;
A control circuit for controlling the third transistor;
With
2. The control circuit according to claim 1, wherein the control circuit controls the first signal to control the first transistor to be electrically non-conductive when the third transistor is controlled to be electrically conductive. Semiconductor device.
前記第2のトランジスタが電気的に導通する期間は、前記イコライズ回路が前記第2のノードを前記所定の電位に制御する期間の少なくとも一部の期間である、請求項2記載の半導体装置。   3. The semiconductor device according to claim 2, wherein the period in which the second transistor is electrically conductive is at least a part of a period in which the equalizing circuit controls the second node to the predetermined potential. 前記制御回路は、前記第3のノードに関連するアドレスと、該アドレスが欠陥アドレスであるか否かの情報と比較する判定回路を含み、前記判定回路の判定結果に対応して前記制御回路は、前記第3のノードと前記第5のノードのいずれか一方と、前記第2のノードとの情報の双方向の通信を択一的に制御する、請求項2又は3記載の半導体装置。   The control circuit includes a determination circuit that compares an address associated with the third node and information regarding whether or not the address is a defective address, and the control circuit corresponds to a determination result of the determination circuit. 4. The semiconductor device according to claim 2, wherein bidirectional communication of information between the second node and one of the third node and the fifth node is selectively controlled. 前記第2の信号の第2の周期を、前記第1の周期に替えて、前記第1の信号の周期に対応させ、
前記第2のトランジスタが電気的に導通する期間は、前記第1の信号が前記第1のトランジスタを非活性に制御する期間の少なくとも一部の期間である、請求項4記載の半導体装置。
The second period of the second signal is changed to the first period and corresponds to the period of the first signal,
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein the period in which the second transistor is electrically conductive is at least a part of a period in which the first signal controls the first transistor to be inactive.
前記第3及び第5のノードは、それぞれ対応する第1と第2のメモリセルに関連するノードであり、
前記第2のノードは、半導体装置の外部端子に関連するノードである、請求項4又は5記載の半導体装置。
The third and fifth nodes are nodes associated with corresponding first and second memory cells, respectively;
The semiconductor device according to claim 4, wherein the second node is a node related to an external terminal of the semiconductor device.
前記第1及び第2のメモリセルは、同一のアドレスであり、
前記第2のメモリセルは、不良の前記第1のビアに関連する前記第1のメモリセルに置換されるメモリセルである、請求項6記載の半導体装置。
The first and second memory cells have the same address;
The semiconductor device according to claim 6, wherein the second memory cell is a memory cell that is replaced with the first memory cell associated with the defective first via.
前記第3及び第5のノードは、それぞれ対応する複数の前記メモリセルに接続するビット線のノードであり、
前記第1の信号は、デコーディングされたアドレスに関連する信号であり、
前記第2のノードは、ローカルデータ線である、請求項6又は7記載の半導体装置。
The third and fifth nodes are bit line nodes connected to the corresponding plurality of the memory cells, respectively.
The first signal is a signal associated with a decoded address;
The semiconductor device according to claim 6, wherein the second node is a local data line.
ローカルデータ線及び複数の前記ローカルデータ線に関連する一つのグローバルデータ線とで構成された階層データ線を備え、前記第3及び第5のノードは、それぞれ前記ローカルデータ線であり、前記第2のノードは、前記グローバルデータ線であり、
前記第1の信号は、デコーディングされたアドレスに関連する信号である、請求項6記載の半導体装置。
A hierarchical data line including a local data line and one global data line related to the plurality of local data lines, wherein the third and fifth nodes are the local data lines, Are the global data lines,
The semiconductor device according to claim 6, wherein the first signal is a signal related to a decoded address.
メモリセルに直接又は間接に接続された第1のデータ線と、
複数の前記第1のデータ線に共通に設けられ、選択された前記第1のデータ線との間でデータを伝送する第2のデータ線と、
前記複数の第1のデータ線にそれぞれ対応して設けられ、前記第1のデータ線と前記第2のデータ線との間に接続され、前記第1のデータ線と前記第2のデータ線の電気的な導通と非導通を制御する選択制御信号にゲート電極が接続される第1のスイッチトランジスタと、
前記第2のデータ線に対応して設けられ、プリチャージ信号の活性化に応答して、前記第2のデータ線をプリチャージする回路と、
前記第1のトランジスタのゲート電極を前記選択制御信号の電位によらず第1の電源に短絡させる制御を行う第2のスイッチトランジスタを含む制御回路と、を備え、
前記第1の電源は、前記ゲート電極に前記第1の電源電圧が与えられた前記第1のトランジスタを非導通とする電圧を有し、
前記制御回路は、前記第2のスイッチトランジスタを、前記プリチャージ信号に関連付けされた信号に基づき、前記プリチャージ信号が活性化して前記第2のデータ線をプリチャージする時に導通させて、前記第1のトランジスタのゲート電極を、前記第1電源に短絡させ、前記プリチャージ信号の非活性化時に非導通に制御する、半導体装置。
A first data line connected directly or indirectly to the memory cell;
A second data line provided in common to the plurality of first data lines and transmitting data to and from the selected first data line;
Provided corresponding to each of the plurality of first data lines, connected between the first data line and the second data line, and connected between the first data line and the second data line. A first switch transistor having a gate electrode connected to a selection control signal for controlling electrical conduction and non-conduction;
A circuit provided corresponding to the second data line and precharging the second data line in response to activation of a precharge signal;
A control circuit including a second switch transistor that performs control to short-circuit the gate electrode of the first transistor to the first power supply regardless of the potential of the selection control signal;
The first power supply has a voltage for turning off the first transistor in which the first power supply voltage is applied to the gate electrode,
The control circuit makes the second switch transistor conductive when the precharge signal is activated to precharge the second data line based on a signal associated with the precharge signal, and A semiconductor device, wherein a gate electrode of one transistor is short-circuited to the first power supply and controlled to be non-conductive when the precharge signal is inactivated.
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