JP2011247462A - Loop type heat pipe and evaporator manufacturing method of the loop type heat pipe - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ループ型ヒートパイプの構造とループ型ヒートパイプの蒸発器製造方法に関するものである。 The present invention relates to a structure of a loop heat pipe and a method for manufacturing an evaporator of the loop heat pipe.
ヒートパイプは、液体の蒸発と凝縮の潜熱を利用した装置で、コンピュータ等の電子機器の放熱に広く用いられている。このヒートパイプの一種としてループ型ヒートパイプがある。図8(a)はそのループ型ヒートパイプの原理図を示し、蒸発器10、凝縮器20、それらとを連結する蒸気管30および液管40から構成されることを示している。これらの内部にはアンモニアやフロンなどが作動流体として一定圧力で封入されている。発熱体は蒸発器10に密着して配置され、発熱体からの熱は蒸発器10に伝導するが、作動流体は蒸発器10においてこの熱により液相から気相へと変化する。気相へと変化した作動流体は、蒸発器10で吸収した熱を伴って蒸気管30を通り凝縮器20に移動する。ここで作動流体の吸収した熱が放熱され、気相からふたたび液相へと変化して、液管40を通って蒸発器10に戻る。 A heat pipe is a device that uses latent heat of liquid evaporation and condensation, and is widely used for heat dissipation of electronic devices such as computers. One type of heat pipe is a loop heat pipe. FIG. 8A shows a principle diagram of the loop heat pipe, which shows that the evaporator 10, the condenser 20, and the vapor pipe 30 and the liquid pipe 40 that connect them are configured. Inside these, ammonia or chlorofluorocarbon is sealed as a working fluid at a constant pressure. The heating element is arranged in close contact with the evaporator 10, and heat from the heating element is conducted to the evaporator 10, and the working fluid changes from the liquid phase to the gas phase by this heat in the evaporator 10. The working fluid changed to the gas phase moves to the condenser 20 through the vapor pipe 30 with the heat absorbed by the evaporator 10. Here, the heat absorbed by the working fluid is dissipated, changes from the gas phase to the liquid phase again, returns to the evaporator 10 through the liquid pipe 40.
図8(b)は、蒸発器10の内部構造を示し、図8(c)は図8(b)のA−A’断面を示したものである。蒸発器10の筐体内壁には軸方向に延びた溝形状の複数のグルーブ(蒸気排出溝)11が形成されており、そのグルーブ11の溝山12と接して円筒形のウィック(多孔質体)13が挿入されている。ウィック13は中空部14を有し、液管40からウィック13に送り込まれた液相の作動流体はこの中空部14に溜まり、ウィック13の微細な孔を毛細管現象により浸透し、ウィック13の外表面に滲み出す。このとき、蒸発器10に密着している発熱体からの熱は蒸発器10の筐体内壁の溝山を介してウィック13の表面に伝導され、その熱で作動流体は蒸発して気相の作動流体となり、熱を吸収して発熱体を冷却する。熱を吸収した気相の作動流体はグルーブ11を通って蒸気管30に至り、凝縮器20へと移動する。このように作動流体が循環し、相変化が繰り返されることで、発熱体の冷却が連続して行われる。 FIG. 8B shows the internal structure of the evaporator 10, and FIG. 8C shows the A-A 'cross section of FIG. 8B. A plurality of groove-shaped grooves (steam discharge grooves) 11 extending in the axial direction are formed on the inner wall of the housing of the evaporator 10. The cylindrical wick (porous body) is in contact with the groove 12 of the groove 11. ) 13 is inserted. The wick 13 has a hollow portion 14, and the liquid-phase working fluid sent from the liquid tube 40 to the wick 13 accumulates in the hollow portion 14, penetrates the fine holes of the wick 13 by capillary action, and the outside of the wick 13. It oozes on the surface. At this time, the heat from the heating element that is in close contact with the evaporator 10 is conducted to the surface of the wick 13 through the groove on the inner wall of the housing of the evaporator 10, and the working fluid evaporates by the heat and the gas phase It becomes a working fluid and absorbs heat to cool the heating element. The gas-phase working fluid that has absorbed heat passes through the groove 11, reaches the vapor pipe 30, and moves to the condenser 20. Thus, the working fluid circulates and the phase change is repeated, whereby the heating element is continuously cooled.
上記の説明のように、ループ型ヒートパイプは発熱体からの熱が蒸発器10の筐体を介してウィック13に伝導して作動流体を蒸発するため、筐体の溝山12とウィック13とが密着して接触し、効率よく熱伝導されることが重要である。この接触が不完全であると熱が充分にウィック13に伝わらず蒸発の効率は低下し、結果としてループ型ヒートパイプの冷却性能が低下することになる。 As described above, since the heat from the heating element is conducted to the wick 13 through the casing of the evaporator 10 to evaporate the working fluid, the loop heat pipe evaporates the working fluid 12 and the wick 13. It is important that the two come into close contact with each other and efficiently conduct heat. If this contact is incomplete, heat is not sufficiently transferred to the wick 13 and the efficiency of evaporation is reduced, resulting in a decrease in the cooling performance of the loop heat pipe.
蒸発器10からウィック13への熱伝導効率を高めるために、蒸発器筐体の内壁に形成された溝山とこれに密着するウィックの接触面との間に、金属多孔質層を設けることも知られている。 In order to increase the efficiency of heat conduction from the evaporator 10 to the wick 13, a porous metal layer may be provided between the groove formed on the inner wall of the evaporator housing and the contact surface of the wick that is in close contact therewith. Are known.
上記したように、ループ型ヒートパイプの蒸発器の筐体内壁とウィックとの密着の良否が冷却性能を左右する。しかしながら、ループ型ヒートハイプ動作時のウィックにかかる熱ひずみや、蒸発器の組み立て時にウィックに加わる機械的応力などによりウィックが変形し、隙間が生じて溝山とウィック表面との接触が不完全となる場合があり、冷却性能が低下する、という問題がある。 As described above, the quality of close contact between the inner wall of the housing of the evaporator of the loop heat pipe and the wick affects the cooling performance. However, the wick deforms due to thermal strain applied to the wick during loop heat-hype operation or mechanical stress applied to the wick during assembly of the evaporator, creating a gap and incomplete contact between the groove and the wick surface. In some cases, there is a problem that the cooling performance is lowered.
また、ウィック外周の表面に多孔質金属層を設け、蒸発器の内壁に形成した溝山とウィックとの熱伝導性を向上させることも知られている。しかし、多孔質金属層と溝山が機械的な圧力によって密着しているため、上記で述べたように熱的な応力や機械的な応力によって隙間が形成され、接触面での熱抵抗が大きくなって熱伝導性が低下する恐れがある。 It is also known to provide a porous metal layer on the outer surface of the wick to improve the thermal conductivity between the groove and the wick formed on the inner wall of the evaporator. However, because the porous metal layer and the groove are in close contact with each other by mechanical pressure, a gap is formed by thermal stress or mechanical stress as described above, and the thermal resistance at the contact surface is large. There is a risk that the thermal conductivity decreases.
本発明は、熱応力や機械的応力が働いても間隙を生ずることなく、高い冷却性能を有するループ型ヒートパイプを提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a loop heat pipe having high cooling performance without generating a gap even when thermal stress or mechanical stress is applied.
発明の一観点によれば、管を介して蒸発器と凝縮器とに作動流体を循環するループ型ヒートパイプであり、蒸発器は、内壁に溝を形成した筐体と、筐体の溝の溝山の形状に合わせた金属パターンを外壁表面に形成し、管から流入した作動流体を蒸発させるウィックとを備え、筐体にウィックを溝山と金属パターンとを相対して収容し、溝山を形成する金属に金属パターンを拡散させる拡散接合したループ型ヒートパイプが提供される。 According to one aspect of the invention, a loop heat pipe that circulates a working fluid to an evaporator and a condenser via a pipe, the evaporator includes a casing formed with a groove on an inner wall, and a groove of the casing. A metal pattern that matches the shape of the groove is formed on the outer wall surface, and a wick that evaporates the working fluid flowing in from the pipe is provided, and the housing is configured to accommodate the groove and the metal pattern relative to each other. There is provided a diffusion-bonded loop heat pipe that diffuses a metal pattern into a metal forming the metal.
発明の別の一観点によれば、管を介して蒸発器と凝縮器とに作動流体を循環するループ型ヒートパイプであり、蒸発器は筐体と外壁に溝を形成し、溝の溝山に金属膜を形成し管から流入した作動流体を蒸発させるウィックとを備え、筐体の内壁を形成する金属にウィックの溝山の金属膜を拡散させる拡散接合したループ型ヒートパイプが提供される。 According to another aspect of the invention, a loop-type heat pipe that circulates a working fluid to an evaporator and a condenser via a pipe, the evaporator forms a groove in the housing and the outer wall, and the groove groove And a wick that evaporates the working fluid flowing in from the tube, and a diffusion-bonded loop heat pipe that diffuses the metal film of the ridge of the wick into the metal that forms the inner wall of the housing is provided. .
また、発明の別の一観点によれば、扁平直方体形状のウィックの上下の外壁表面に、金属膜を所定の幅と間隔で帯状の金属パターンを形成する金属膜形成工程と、金属パターン上にインサート金属を配置するインサート金属配置工程と、扁平箱型の内壁底面に第1の溝山を金属パターンの形状に合わせた溝を形成した金属製の蒸発器の筐体に、インサート金属を配置したウィックをウィックの下面の金属パターンと第1の溝山に合わせて配置し、一方の面に第2の溝山を金属パターンの形状に合わせた溝が形成された金属製の蓋を、ウィックの上面の金属パターンを第2の溝山に合わせて蓋を載せるウィック収容工程と、ウィックが収容された筐体と蓋との接合面を溶着する溶着工程と、溶着された蒸発器を所定の温度で加熱し、インサート金属をウィックの金属パターンと第1および第2の溝山の金属に拡散させる拡散接合工程と、を備えるループ型ヒートパイプの蒸発器製造方法が提供される。 According to another aspect of the invention, a metal film forming step of forming a metal film with a predetermined width and interval on the upper and lower outer wall surfaces of a flat rectangular parallelepiped wick, on the metal pattern The insert metal was placed in the insert metal placement step of placing the insert metal, and in the housing of the metal evaporator in which the first groove crest was formed in the shape of the metal pattern on the bottom surface of the inner wall of the flat box type. The wick is placed in alignment with the metal pattern on the lower surface of the wick and the first groove crest, and a metal lid having a groove formed on one surface in accordance with the shape of the metal groove is formed on the wick. A wick accommodation step of placing a lid with the metal pattern on the upper surface aligned with the second groove crest, a welding step of fusing the joint surface between the housing housing the wick and the lid, and the deposited evaporator at a predetermined temperature With heat and insert Evaporator manufacturing method of the loop heat pipe comprising genus wick metal pattern and the diffusion and bonding step of diffusing the metal of the first and second Mizoyama, is provided.
また、発明の別の一観点によれば、扁平直方体形状のウィックの上下外壁表面に、所定の幅と間隔で帯状の溝を形成するウィック溝形成工程と、ウィックの溝の溝山に金属膜を形成する溝山金属膜形成工程と、金属膜上にインサート金属を配置するインサート金属配置工程と、金属製の蒸発器の筐体に、インサート金属を配置したウィックを配置し、ウィックの上面に金属製の蓋を載せるウィック収容工程と、ウィックが収容された筐体と蓋との接合面を溶着する溶着工程と、溶着された蒸発器を所定の温度で加熱し、インサート金属をウィックの金属膜と第1および第2の溝山の金属に拡散させる拡散接合工程と、を備えるループ型ヒートパイプの蒸発器製造方法が提供される。 Further, according to another aspect of the invention, a wick groove forming step of forming strip-shaped grooves at predetermined widths and intervals on the upper and lower outer wall surfaces of a flat rectangular parallelepiped wick, and a metal film on a groove mountain of the wick groove The groove metal film forming step for forming the insert metal, the insert metal placing step for placing the insert metal on the metal film, and the wick with the insert metal placed in the housing of the metal evaporator, are arranged on the upper surface of the wick. A wick housing process for placing a metal lid, a welding process for welding the joint surface between the housing housing the wick and the lid, and heating the welded evaporator at a predetermined temperature to insert metal into the wick metal There is provided a method for manufacturing an evaporator of a loop heat pipe, comprising: a diffusion bonding step of diffusing into a metal of the film and first and second groove crests.
蒸発器筐体の内壁の溝山とウィックの外壁表面の金属パターンとを拡散接合により一体化するようにしたので、熱応力や機械的応力が働いても間隙を生ずることなく、高い冷却性能を持ったループ型ヒートパイプの提供ができる。 The groove on the inner wall of the evaporator housing and the metal pattern on the outer wall surface of the wick are integrated by diffusion bonding, so that high cooling performance can be achieved without generating gaps even if thermal or mechanical stress is applied. A loop-type heat pipe can be provided.
(実施例1)
本発明のループ型ヒートパイプの蒸発器100の構造例を図1を用いて説明する。なお、本発明のループ型ヒートパイプは図8に示したループ型ヒートパイプの蒸発器10を除いて他の構成は同一である。
Example 1
A structural example of the evaporator 100 of the loop heat pipe of the present invention will be described with reference to FIG. The loop heat pipe of the present invention has the same configuration except for the evaporator 10 of the loop heat pipe shown in FIG.
図1(a)は、蒸発器100の外観例を示したもので、蒸発器100には蒸気管30および液管40が連結されている。蒸発器100の内部構造を説明するために、図1(b)に図1(a)に示すA−A’断面を、図1(c)に図1(b)に示すB−B’断面を示す。 FIG. 1A shows an example of the appearance of the evaporator 100, and a vapor pipe 30 and a liquid pipe 40 are connected to the evaporator 100. In order to describe the internal structure of the evaporator 100, FIG. 1 (b) shows the AA ′ cross section shown in FIG. 1 (a), and FIG. 1 (c) shows the BB ′ cross section shown in FIG. 1 (b). Indicates.
図1(b)、(c)に示すように、蒸発器100の外装はボックス型の筐体101とその筐体101を覆う蓋102からなり、それぞれの材質は例えばCu(銅)である。そして、筐体101の内部底面と蓋102の内側の長手方向(図1で蒸気管30と液管40に連結する方向)に幅と高さがそれぞれ1mmのグルーブ(溝)110を1mm間隔でストライプ状に形成している。 As shown in FIGS. 1B and 1C, the exterior of the evaporator 100 includes a box-type casing 101 and a lid 102 covering the casing 101, and each material is, for example, Cu (copper). Then, grooves (grooves) 110 each having a width and a height of 1 mm in the longitudinal direction inside the casing 101 and the inner side of the lid 102 (the direction in which the steam pipe 30 and the liquid pipe 40 are connected in FIG. 1) are spaced at 1 mm intervals. It is formed in a stripe shape.
筐体101の内部には、例えばアルミナ粉末を焼結させた多孔質体(平均気孔径2μm、空隙率60%)であるセラミックのウィック130を収容している。ウィック130の形状は、外形は筐体101に合わせた扁平の直方体形状をなし、内部に作動流体を溜める中空部140を有している。中空部140の一方は開口し、その開口部と液管40とが連結して作動流体が流入し、他方は閉じた構造となっている。中空部140の作動流体は毛細管現象により多孔質体を通って外表面(ここでは、中空部140内の表面と区別するため「外表面」と表現する)に滲み出る。ウィック130表面は筐体101および蓋102から伝導した熱で熱せられ、ウィック130表面に滲み出た作動流体は蒸気となるが、蒸気となった作動流体(気相の作動流体)は、グルーブ110を通って蒸気管30に流出する。なお、ウィック130の開口部は、作動流体が多孔質体を通らず直接筐体101内部に流れ出ないようにシール部材160で密閉している。 Inside the housing 101, for example, a ceramic wick 130, which is a porous body (average pore diameter 2 μm, porosity 60%) obtained by sintering alumina powder, is accommodated. The shape of the wick 130 is a flat rectangular parallelepiped shape that matches the housing 101, and has a hollow portion 140 that stores a working fluid therein. One of the hollow portions 140 is open, and the opening and the liquid pipe 40 are connected to each other so that the working fluid flows in and the other is closed. The working fluid in the hollow portion 140 oozes out to the outer surface (herein referred to as “outer surface” in order to be distinguished from the surface in the hollow portion 140) through the porous body by capillary action. The surface of the wick 130 is heated by the heat conducted from the casing 101 and the lid 102, and the working fluid that has oozed out to the surface of the wick 130 becomes steam, but the working fluid that has become steam (gas-phase working fluid) is the groove 110. Through the steam pipe 30. The opening of the wick 130 is sealed with a seal member 160 so that the working fluid does not flow through the porous body and does not flow directly into the housing 101.
ウィック130の外表面は、筐体101および蓋102に形成したグルーブ110の溝山120に合わせた例えばCuからなる金属パターン150を形成している。この金属パターン150と、筐体101および蓋102の溝山120をなす金属とは拡散接合をしており、一体化している(詳細は後述)。即ち、ループ型ヒートパイプ100の外装(筐体101および蓋102で構成)と接した発熱体からの熱は、この外装を介し拡散接合部を経てウィック130に伝熱されることになる。従来技術による構造は、外装内壁とウィック間に接合面があり、接合面が密着している場合は熱抵抗は小さいが、熱的あるいは機械的応力により接合面に隙間が生じると熱抵抗は大きなものとなって熱伝導率が低下するが、本発明のように一体化することで熱伝導率の低下を抑制できる。 On the outer surface of the wick 130, a metal pattern 150 made of Cu, for example, is formed in accordance with the groove 120 of the groove 110 formed in the housing 101 and the lid 102. The metal pattern 150 and the metal forming the groove 120 of the casing 101 and the lid 102 are diffusion-bonded and integrated (details will be described later). That is, the heat from the heating element that is in contact with the exterior of the loop heat pipe 100 (comprising the casing 101 and the lid 102) is transferred to the wick 130 via the exterior through the diffusion junction. The structure according to the prior art has a joint surface between the exterior inner wall and the wick, and the thermal resistance is small when the joint surface is in close contact, but the thermal resistance is large when a gap occurs in the joint surface due to thermal or mechanical stress. However, the thermal conductivity is lowered, but the integration of the present invention can suppress the lowering of the thermal conductivity.
次に、本発明のループ型ヒートパイプの蒸発器100の製造フローについて図2と図3を用いて説明する。説明の過程において、ウィック130の外表面部分を拡大した図4を補助的に用いる。なお、図2と図3は、図1(c)入力示したB−B’の断面である。 Next, a manufacturing flow of the evaporator 100 of the loop heat pipe of the present invention will be described with reference to FIGS. In the description process, FIG. 4 in which the outer surface portion of the wick 130 is enlarged is used as an auxiliary. 2 and 3 are cross-sectional views taken along the line B-B 'shown in FIG.
まず、ウィック130に対して次工程で行なう金属膜とウィック表面との密着を良くするため表面処理を行なう。表面処理の方法として例えばカップリング剤を用いる方法やUV光を照射する方法等がある(図2(a))。 First, a surface treatment is performed on the wick 130 in order to improve the adhesion between the metal film and the wick surface in the next step. Examples of the surface treatment method include a method using a coupling agent and a method of irradiating with UV light (FIG. 2A).
表面処理を行なったウィック130に対して、メタルマスクをウィック130の片側の外表面に密着させてCuを0.5μm蒸着する。メタルマスクは、筐体101および蓋102に形成したグルーブ110の溝山120に合わせたパターンが開口している。ウィック130表面には、この開口したパターンのCu蒸着膜131が形成されることになる。片側の面の蒸着後、対向する他方の面も同様にCu蒸着を行なう。図2(b)は、蒸着後にメタルマスクを取り外し、Cu蒸着膜131が形成された状態を示している。 A metal mask is brought into close contact with the outer surface of one side of the wick 130 with respect to the surface-treated wick 130, and Cu is deposited by 0.5 μm. In the metal mask, a pattern matching the groove 120 of the groove 110 formed in the housing 101 and the lid 102 is opened. On the surface of the wick 130, the Cu vapor deposition film 131 having this opening pattern is formed. After vapor deposition on one surface, Cu vapor deposition is similarly performed on the other surface facing each other. FIG. 2B shows a state in which the metal mask is removed after vapor deposition and a Cu vapor deposition film 131 is formed.
Cu蒸着に続いて、無電解めっき法によりCuめっきを行なう。蒸着で得られるCuの膜厚は限度があるので、Cuめっきにより膜厚を増大させる。めっき厚は30μmである。図2(c)は、Cu蒸着膜131とその上に生成したCuめっき膜132を示している(図1(c)の金属パターン150は、Cu蒸着膜131とCuめっき膜132とからなる)。また、図4(a)にその部分を拡大した図を示している。 Subsequent to Cu deposition, Cu plating is performed by an electroless plating method. Since there is a limit to the film thickness of Cu obtained by vapor deposition, the film thickness is increased by Cu plating. The plating thickness is 30 μm. FIG. 2C shows a Cu vapor deposition film 131 and a Cu plating film 132 formed thereon (the metal pattern 150 in FIG. 1C is composed of a Cu vapor deposition film 131 and a Cu plating film 132). . FIG. 4A shows an enlarged view of the portion.
続いて、インサート金属133を金属パターン150上に配置する。ここでは、インサート金属133としてSnAgのペーストをスクリーン印刷法により塗布している。印刷後、所定の温度と時間でSnAgペーストを乾燥する。インサート金属133を配置した状態を、図2(d)および図4(b)に示す。 Subsequently, the insert metal 133 is disposed on the metal pattern 150. Here, SnAg paste is applied as the insert metal 133 by a screen printing method. After printing, the SnAg paste is dried at a predetermined temperature and time. The state in which the insert metal 133 is disposed is shown in FIGS. 2 (d) and 4 (b).
インサート金属133を金属パターン150上に配置したウィック130を筐体101内に収容する。このとき、金属パターン150と筐体101に形成されているグルーブ110の溝山120とは位置合わせされる。図3(e)は、筐体101にウィック130を収容した状態を示している(筐体101には、蒸気管30と液管40とが連結され、シール部材160も装着されているものとする)。 The wick 130 in which the insert metal 133 is disposed on the metal pattern 150 is accommodated in the housing 101. At this time, the metal pattern 150 and the groove 120 of the groove 110 formed in the housing 101 are aligned. FIG. 3E shows a state in which the wick 130 is housed in the casing 101 (the steam pipe 30 and the liquid pipe 40 are connected to the casing 101, and the seal member 160 is also attached. To do).
続いて、蓋102を被せる。このとき、蓋102の内側に形成したグルーブ110の溝山120が金属パターン150と一致する。溝山120と金属パターン150、インサート金属133とが接している状態を図3(f)および図4(c)に示す。 Subsequently, the lid 102 is put on. At this time, the groove 120 of the groove 110 formed inside the lid 102 coincides with the metal pattern 150. The state where the groove 120, the metal pattern 150, and the insert metal 133 are in contact is shown in FIG. 3 (f) and FIG. 4 (c).
蓋をした状態で、筐体101と蓋102の隙間にレーザ溶接を施して蒸発器100を密閉構造にする。レーザ溶接の代わりに半田材により筐体101と蓋102の隙間を溶着するようにしてもよい(図3(g))。 With the lid closed, laser welding is applied to the gap between the casing 101 and the lid 102 to make the evaporator 100 a sealed structure. Instead of laser welding, the gap between the casing 101 and the lid 102 may be welded with a solder material (FIG. 3G).
密閉構造の蒸発器100を略250℃に加熱し、インサート金属133を溶融させ金属パターン150および筐体101、蓋102の溝山を形成する金属(Cu)を接合(液相拡散接合)する。図3(h)および図4(d)は、拡散接合によりインサート金属133が金属パターン150と溝山120の金属に拡散し、一体化した状態を示している。
(実施例2)
実施例1では、ウィック130外表面上の金属パターンの形成にマスク蒸着を行なうものであったが、実施例2では選択エッチングで形成するものである。図5は、ウィック130の外表面の部分を拡大した図で、この図を用いて金属パターンの形成方法を説明する。
The evaporator 100 having a sealed structure is heated to approximately 250 ° C., and the metal (Cu) that forms the groove of the metal pattern 150 and the casing 101 and the lid 102 is melted by melting the insert metal 133 (liquid phase diffusion bonding). 3 (h) and 4 (d) show a state in which the insert metal 133 is diffused and integrated into the metal pattern 150 and the groove 120 by diffusion bonding.
(Example 2)
In the first embodiment, mask deposition is performed to form the metal pattern on the outer surface of the wick 130. However, in the second embodiment, the metal pattern is formed by selective etching. FIG. 5 is an enlarged view of a portion of the outer surface of the wick 130, and a method for forming a metal pattern will be described with reference to FIG.
まず図5(a)では、実施例1と同様にウィック130の表面処理を行い、続いて次工程のCuめっきに対するシード層としてのCrとCuの全面スバッタリング(Crのスパッタリングの後にCuのスパッタリング)を行なう(図5(b))。ここでは、Crが0.1μm、Cuが0.3μmの膜厚である。なお、Crは下地であるウィック130に対しCuの密着性を高めるためのセメント層としての役割をなしている。全面スパッタリングにより、CrとCuは多孔質体の空孔の中に入り込むことになるが、そのことは問題にはならない。また、ここではCr/Cu膜134の生成にスパッタリングにより行なったが、蒸着で行なってもよい。 First, in FIG. 5A, the surface treatment of the wick 130 is performed in the same manner as in the first embodiment, and then Cr and Cu are entirely scattered as a seed layer for Cu plating in the next process (Cu sputtering is performed after Cr sputtering). Sputtering) is performed (FIG. 5B). Here, Cr has a thickness of 0.1 μm and Cu has a thickness of 0.3 μm. Note that Cr plays a role as a cement layer for improving the adhesion of Cu to the wick 130 as a base. Cr and Cu enter the pores of the porous body by the entire surface sputtering, but this is not a problem. In addition, although the Cr / Cu film 134 is formed by sputtering here, it may be formed by vapor deposition.
続いて、レジスト膜135の形成を行なう。レジストをウィック130外表面に全面塗布し、ベーキング、露光、現像といった通常のフォトリソグラフィのプロセスでレジスト膜135を形成する。レジスト膜135は次工程のCuめっきで析出するCuに対して保護膜の役割をなす。図5(c)は、レジスト膜135を形成した状態を示す。 Subsequently, a resist film 135 is formed. A resist is applied to the entire outer surface of the wick 130, and a resist film 135 is formed by a normal photolithography process such as baking, exposure, and development. The resist film 135 serves as a protective film for Cu deposited in the next Cu plating. FIG. 5C shows a state in which a resist film 135 is formed.
レジスト膜を形成した状態で,Cuの電解めっきを行なう。レジスト膜135の開口している部分にCuめっき膜136が形成される(図5(d))。Cuのめっき膜厚は30μmである。 Cu electroplating is performed with the resist film formed. A Cu plating film 136 is formed in the opening of the resist film 135 (FIG. 5D). The plating film thickness of Cu is 30 μm.
Cuめっき膜136の形成後、レジスト膜135を除去し、続いてスパッタリングによって生成されたCu、Crのエッチングを行なう。めっきされた部分のCuの表面も僅かエッチングにより溶解されるが、その最下層のCrはCuめっき膜136のマスキングにより溶解されることはなく、図5(e)に示す金属パターン151が形成されることになる。 After the formation of the Cu plating film 136, the resist film 135 is removed, and then etching of Cu and Cr generated by sputtering is performed. The plated Cu surface is also slightly dissolved by etching, but the lowermost layer Cr is not dissolved by the masking of the Cu plating film 136, and the metal pattern 151 shown in FIG. 5 (e) is formed. Will be.
金属パターン151形成後のウィック130を蒸発器の筐体101への組み込みは実施例1と同様である。
(実施例3)
実施例1および実施例2では、蒸発器100の筐体101の内壁に蒸気通路となるグルーブ110を形成し、ウィック130外表面はフラットとした例であったが、実施例3では蒸発器200の筐体201の内壁はフラットで、ウィック300の外表面にグルーブ310を形成した例である。なお、蒸発器200の筐体201、蓋202、ウィック300はグルーブの有無を除いてほぼ同形状である。
The wick 130 after the metal pattern 151 is formed is incorporated into the evaporator casing 101 in the same manner as in the first embodiment.
(Example 3)
In the first and second embodiments, the groove 110 serving as a steam passage is formed on the inner wall of the casing 101 of the evaporator 100 and the outer surface of the wick 130 is flat. This is an example in which the inner wall of the housing 201 is flat and the groove 310 is formed on the outer surface of the wick 300. In addition, the housing | casing 201 of the evaporator 200, the lid | cover 202, and the wick 300 are substantially the same shapes except for the presence or absence of a groove.
図6(a)は、外表面にグルーブ310を形成したウィック300に対し実施例1と同様に表面処理を行なった状態を示す。なお、図6(a)以降に示す図は、実施例1と同様に図1(c)に示したB−B’の断面である。 FIG. 6A shows a state in which the surface treatment is performed in the same manner as in the first embodiment on the wick 300 in which the groove 310 is formed on the outer surface. 6A and 6B are cross-sectional views taken along the line B-B 'shown in FIG.
表面処理を行なった後、ウィック300の溝山320の部分に対して、Cr、Cuのマスク蒸着を行いCu/Cr膜301を形成する。そして、Cuの無電解めっきを行い、Cu/Cr膜301上にCuめっき膜302を生成する。蒸着膜によるCr、CuおよびめっきによるCuのそれぞれの膜厚は実施例1と同様である。Cuめっき膜302形成後、その上にインサート金属303としてSnAgのペーストを実施例1と同様にスクリーン印刷法により形成し、所定の温度と時間でペーストを乾燥する(図6(b)〜図(d))。 After performing the surface treatment, a Cu / Cr film 301 is formed on the groove 320 of the wick 300 by mask deposition of Cr and Cu. Then, electroless plating of Cu is performed to form a Cu plating film 302 on the Cu / Cr film 301. The film thicknesses of Cr, Cu by the deposited film, and Cu by plating are the same as those in Example 1. After forming the Cu plating film 302, an SnAg paste is formed thereon as an insert metal 303 by the screen printing method in the same manner as in Example 1, and the paste is dried at a predetermined temperature and time (FIG. 6B to FIG. d)).
以降は実施例1と同様にウィック300を蒸発器200の筐体201内に収容し、蓋202を被せ、隙間を溶着して密閉構造にし、加熱により拡散接合を行なう。即ち、図7(a)に示すように、溝山にインサート金属を配置したウィック200を内壁がフラットな筐体201に収容し、やはり内側の面がフラトな蓋202を被せ、筐体201と蓋202の隙間にレーザ溶接を施して蒸発器200を密閉構造にする。そして、250℃で所定時間加熱し、拡散接合する(図7(a)〜図7(h))。 Thereafter, the wick 300 is housed in the casing 201 of the evaporator 200, covered with the lid 202, and the gap is welded to form a sealed structure, and diffusion bonding is performed by heating, as in the first embodiment. That is, as shown in FIG. 7A, a wick 200 in which an insert metal is placed in a groove is housed in a casing 201 having a flat inner wall, and a lid 202 having a flat inner surface is also put on the casing 201. Laser welding is applied to the gap between the lids 202 to make the evaporator 200 a sealed structure. Then, it is heated at 250 ° C. for a predetermined time and diffusion-bonded (FIGS. 7A to 7H).
上記の実施例では、ウィックをセラミックの多孔質体を用いたが、ニッケル焼結金属(例えば平均気孔率は3μm、空隙率は50%)やテフロン(登録商標)粉末を焼結させたもの(例えば平均気孔率は5μm、空隙率は40%)であってもよい。 In the above embodiment, a ceramic porous body was used as the wick, but a sintered nickel metal (for example, an average porosity of 3 μm and a porosity of 50%) or Teflon (registered trademark) powder ( For example, the average porosity may be 5 μm, and the porosity may be 40%.
また、インサート金属としてSnAgを用いたが、SnAgCu、SnBi、Sn、Inなどであってもよい。 In addition, SnAg is used as the insert metal, but SnAgCu, SnBi, Sn, In, or the like may be used.
10 蒸発器
11 グルーブ(蒸気排出溝)
12 溝山
13 ウィック
14 中空部
20 凝縮器
30 蒸気管
40 液管
100 蒸発器
101 筐体
102 蓋
103 溶着部
110 グルーブ
120 溝山
130 ウィック
131 Cu蒸着膜
132 Cuめっき膜
133 インサート金属
134 Cr/Cu膜
136 Cuめっき膜
140 中空部
150 金属パターン
151 金属パターン
160 シール部材
200 蒸発器
201 筐体
202 蓋
300 ウィック
301 Cu/Cr膜
302 Cuめっき膜
303 インサート金属
310 グルーブ
320 溝山
10 Evaporator 11 Groove (steam discharge groove)
12 Groove mountain 13 Wick 14 Hollow portion 20 Condenser 30 Vapor tube 40 Liquid tube 100 Evaporator 101 Housing 102 Lid 103 Welding portion 110 Groove 120 Groove mountain 130 Wick 131 Cu vapor deposition film 132 Cu plating film 133 Insert metal 134 Cr / Cu Film 136 Cu plating film 140 Hollow part 150 Metal pattern 151 Metal pattern 160 Seal member 200 Evaporator 201 Housing 202 Lid 300 Wick 301 Cu / Cr film 302 Cu plating film 303 Insert metal 310 Groove 320 Groove mountain
Claims (4)
前記蒸発器は、
内壁に溝を形成した筐体と、
前記筐体の溝の溝山の形状に合わせた金属パターンを外壁表面に形成し、前記管から流入した前記作動流体を蒸発させるウィックとを備え、
前記筐体に前記ウィックを前記溝山を形成する金属と前記金属パターンとを相対して収容し、該溝山を形成する金属に該金属パターンを拡散させる拡散接合した
ことを特徴とするループ型ヒートパイプ。 A loop heat pipe that circulates the working fluid to the evaporator and condenser through a pipe,
The evaporator is
A housing with a groove formed on the inner wall;
Forming a metal pattern in accordance with the shape of the groove of the groove of the housing on the outer wall surface, and comprising a wick for evaporating the working fluid flowing in from the pipe,
A loop type characterized in that the metal that forms the groove and the metal pattern are accommodated relative to each other and the metal pattern that diffuses the metal pattern is diffused into the metal that forms the groove. heat pipe.
前記蒸発器は、
筐体と、
外壁に溝を形成し、該溝の溝山に金属膜を形成し、前記管から流入した前記作動流体を蒸発させるウィックとを備え、
前記筐体の内壁を形成する金属に前記ウィックの溝山の金属膜を拡散させる拡散接合した
ことを特徴とするループ型ヒートパイプ。 A loop heat pipe that circulates the working fluid to the evaporator and condenser through a pipe,
The evaporator is
A housing,
Forming a groove on the outer wall, forming a metal film on a groove mountain of the groove, and a wick for evaporating the working fluid flowing from the pipe,
A loop type heat pipe characterized by diffusion bonding which diffuses the metal film of the ridge of the wick to the metal forming the inner wall of the casing.
扁平直方体形状のウィックの上下の外壁表面に、金属膜を所定の幅と間隔で帯状の金属パターンを形成する金属膜形成工程と、
前記金属パターン上にインサート金属を配置するインサート金属配置工程と、
扁平箱型の内壁底面に第1の溝山を前記金属パターンの形状に合わせた溝を形成した金属製の前記蒸発器の筐体に、前記インサート金属を配置したウィックを該ウィックの下面の金属パターンと該第1の溝山に合わせて配置し、一方の面に第2の溝山を該金属パターンの形状に合わせた溝が形成された金属製の蓋を、該ウィックの上面の金属パターンを該第2の溝山に合わせて該蓋を載せるウィック収容工程と、
前記ウィックが収容された前記筐体と前記蓋との接合面を溶着する溶着工程と、
溶着された蒸発器を所定の温度で加熱し、前記インサート金属を前記ウィックの金属パターンと第1および第2の溝山の金属に拡散させる拡散接合工程と、
を備えることを特徴とするループ型ヒートパイプの蒸発器製造方法。 An evaporator manufacturing method for a loop heat pipe,
A metal film forming step of forming a band-shaped metal pattern with a predetermined width and interval on the upper and lower outer wall surfaces of the flat rectangular parallelepiped wick;
An insert metal placement step of placing an insert metal on the metal pattern;
A wick in which the insert metal is disposed in a metal housing of the evaporator in which a groove in which a first groove ridge is formed in accordance with the shape of the metal pattern is formed on the bottom surface of the inner wall of the flat box type is a metal on the lower surface of the wick. A metal lid on which a groove is formed in accordance with the shape of the metal pattern, and the metal pattern on the upper surface of the wick is arranged on the one surface to match the shape of the metal groove. A wick accommodation step of placing the lid in accordance with the second groove crest,
A welding step of welding a joint surface between the casing in which the wick is accommodated and the lid;
A diffusion bonding step of heating the deposited evaporator at a predetermined temperature and diffusing the insert metal into the metal pattern of the wick and the metal of the first and second grooves;
An evaporator manufacturing method for a loop heat pipe, comprising:
扁平直方体形状のウィックの上下外壁表面に、所定の幅と間隔で帯状の溝を形成するウィック溝形成工程と、
前記ウィックの溝の溝山に金属膜を形成する溝山金属膜形成工程と、
前記金属膜上にインサート金属を配置するインサート金属配置工程と、
金属製の前記蒸発器の筐体に、前記インサート金属を配置したウィックを配置し、該ウィックの上面に金属製の蓋を載せるウィック収容工程と、
前記ウィックが収容された前記筐体と前記蓋との接合面を溶着する溶着工程と、
溶着された蒸発器を所定の温度で加熱し、前記インサート金属を前記ウィックの金属膜と第1および第2の溝山の金属に拡散させる拡散接合工程と、
を備えることを特徴とするループ型ヒートパイプの蒸発器製造方法。 An evaporator manufacturing method for a loop heat pipe,
A wick groove forming step for forming a belt-like groove at a predetermined width and interval on the upper and lower outer wall surfaces of the flat rectangular parallelepiped wick;
A groove mountain metal film forming step of forming a metal film on the groove mountain of the wick groove;
An insert metal placement step of placing an insert metal on the metal film;
A wick housing step of disposing a wick in which the insert metal is disposed in a metal housing of the evaporator, and placing a metal lid on the upper surface of the wick;
A welding step of welding a joint surface between the casing in which the wick is accommodated and the lid;
A diffusion bonding step of heating the deposited evaporator at a predetermined temperature and diffusing the insert metal into the metal film of the wick and the metal of the first and second grooves;
An evaporator manufacturing method for a loop heat pipe, comprising:
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