JP2011240243A

JP2011240243A - Organic solvent recovery system

Info

Publication number: JP2011240243A
Application number: JP2010114236A
Authority: JP
Inventors: Tsutomu Sugiura; 勉杉浦; Kazuyuki Kawada; 和之川田
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 2010-05-18
Filing date: 2010-05-18
Publication date: 2011-12-01
Anticipated expiration: 2030-05-18
Also published as: JP5573354B2

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic solvent recovery system including a configuration capable of reducing energy consumption in the organic solvent recovery system.SOLUTION: In this organic solvent recovery system 1B, a part of clean gas (G3) derived from an adsorption part 22 is sent to a purge part 23, and purge part outlet gas (G6) is introduced into the adsorption part 22 together with organic solvent-containing gas (G2). An adsorption element at a desorption part 21 whose desorption is completed is shifted to the purge part 23, and cooled efficiently by the clean gas (G3) at the purge part 23. Adsorption performance at the adsorption part 22 is improved, and resultantly the energy consumption can be reduced as the whole system.

Description

本発明は、有機溶剤を含有する排ガスから有機溶剤を回収する有機溶剤回収システムに関し、特に、各種工場や研究施設等（以下、生産設備と総称する）から排出される有機溶剤を含有する産業排ガスから有機溶剤を効率的に回収する有機溶剤回収システムに関する。 The present invention relates to an organic solvent recovery system for recovering an organic solvent from exhaust gas containing an organic solvent, and in particular, industrial exhaust gas containing an organic solvent discharged from various factories, research facilities, etc. (hereinafter collectively referred to as production equipment). The present invention relates to an organic solvent recovery system that efficiently recovers an organic solvent from a liquid.

有機溶剤を含有する排ガスから有機溶剤を回収する処理システムとして、吸着材を含有した吸着素子を利用したものが知られている。この吸着素子を利用した処理システムとしては、排ガスを吸着材に接触させて有機溶剤を吸着させ、これに高温のガスを吹き付けて有機溶剤を脱着させて高濃度の有機溶剤を含有する脱着ガスとして回収する排ガス処理装置が挙げられる（下記の特許文献１，２参照）。 As a processing system for recovering an organic solvent from an exhaust gas containing an organic solvent, a system using an adsorbing element containing an adsorbent is known. As a treatment system using this adsorbing element, an exhaust gas is brought into contact with an adsorbent to adsorb an organic solvent, and a high-temperature gas is blown onto the adsorbent to desorb the organic solvent to obtain a desorption gas containing a high concentration organic solvent. An exhaust gas treatment device to be recovered is cited (see Patent Documents 1 and 2 below).

特開平０１−１２７０２２号公報Japanese Patent Laid-Open No. 01-127022 特開２００７−４４５９５号公報JP 2007-44595 A

上記特許文献１，２においては、排ガス中の有機溶剤を濃縮し冷却凝縮にて回収する際に、吸着材を含有した吸着素子の脱着時の加熱、および高濃度の排ガスや脱着ガスを液化凝縮させる冷却等のエネルギーが必要となる。近年においては、有機溶剤回収システムにおける有機溶剤を効率的に回収するとともに、有機溶剤回収システムに用いられるこのエネルギーの削減（省エネ）が急務となってきている。 In the above Patent Documents 1 and 2, when the organic solvent in the exhaust gas is concentrated and recovered by cooling condensation, heating at the time of desorption of the adsorption element containing the adsorbent, and liquefaction condensation of the high concentration exhaust gas or desorption gas Energy such as cooling is required. In recent years, there has been an urgent need to efficiently recover the organic solvent in the organic solvent recovery system and to reduce this energy (energy saving) used in the organic solvent recovery system.

本発明は、有機溶剤回収システムに用いられるエネルギーをより削減することが可能な構成を備える有機溶剤回収システムを提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the organic-solvent collection | recovery system provided with the structure which can reduce the energy used for an organic-solvent collection | recovery system more.

本発明の第１の局面に基づく有機溶剤回収システムは、有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガスを接触させることで上記有機溶剤を吸着し且つ上記有機溶剤ガスよりも高温の排ガスを接触させることで吸着した上記有機溶剤を脱着する吸着素子を含む。 The organic solvent recovery system according to the first aspect of the present invention is configured to adsorb the organic solvent by contacting an organic solvent-containing gas containing an organic solvent and to contact exhaust gas having a temperature higher than that of the organic solvent gas. An adsorbing element for desorbing the adsorbed organic solvent is included.

さらに、当該有機溶剤回収システムは、上記吸着素子に上記有機溶剤含有ガスが導入されることによって上記有機溶剤を上記吸着素子に吸着させて清浄ガスを排出する吸着部と、上記吸着素子に上記排ガスが導入されることによって上記有機溶剤を上記吸着素子から脱着させて上記有機溶剤を含有する脱着ガスを排出する脱着部と、上記脱着部における上記吸着素子の脱着処理が完了した部分が上記吸着部への移行の前に移行するパージ部とを有する濃縮装置と、上記脱着ガスまたは上記排ガスを含む上記脱着ガスを冷却し凝縮して上記有機溶剤を回収する冷却回収装置と、を備える。 Further, the organic solvent recovery system includes an adsorption unit that adsorbs the organic solvent to the adsorbing element and discharges a clean gas by introducing the organic solvent-containing gas into the adsorbing element, and an exhaust gas to the adsorbing element. The desorbing part for desorbing the organic solvent from the adsorbing element and discharging the desorbing gas containing the organic solvent, and the part where the desorbing process of the adsorbing element in the desorbing part is completed is the adsorbing part. And a condensing device having a purge portion that moves before the transition to, and a cooling recovery device that cools and condenses the desorption gas including the desorption gas or the exhaust gas to recover the organic solvent.

上記吸着部から排出された上記清浄ガスの一部は上記パージ部に導入され、上記パージ部から排出されたパージ部出口ガスは、上記吸着部に導入される上記有機溶剤含有ガスに混入され、上記有機溶剤含有ガスは、上記パージ部出口ガスの熱エネルギーを受けて昇温した状態で上記吸着部に導入される。 A part of the clean gas discharged from the adsorption unit is introduced into the purge unit, and a purge unit outlet gas discharged from the purge unit is mixed into the organic solvent-containing gas introduced into the adsorption unit, The organic solvent-containing gas is introduced into the adsorption unit in a state where the temperature is raised by receiving the thermal energy of the purge unit outlet gas.

好適には、上記パージ部出口ガスの一部は、上記排ガスとともに上記脱着部に供給され、且つ／または上記脱着ガスとともに上記冷却回収装置に供給され、上記パージ部出口ガスの残部は、上記有機溶剤含有ガスとともに上記吸着部に導入され、上記パージ部出口ガスの上記一部と上記パージ部出口ガスの上記残部との風量の比が調節されることによって、上記吸着部に導入される上記有機溶剤含有ガスの温度が調節される。 Preferably, a part of the purge part outlet gas is supplied to the desorption part together with the exhaust gas and / or supplied to the cooling recovery device together with the desorption gas, and the remaining part of the purge part outlet gas is the organic substance. The organic gas introduced into the adsorption unit together with the solvent-containing gas is adjusted by adjusting the ratio of the air volume between the part of the purge unit outlet gas and the remaining part of the purge unit outlet gas. The temperature of the solvent-containing gas is adjusted.

本発明の第２の局面に基づく有機溶剤回収システムは、有機溶剤を含有する温度が約５０℃〜約２００℃の排ガスから上記有機溶剤を回収する有機溶剤回収システムである。 The organic solvent recovery system based on the second aspect of the present invention is an organic solvent recovery system that recovers the organic solvent from exhaust gas having an organic solvent containing temperature of about 50 ° C. to about 200 ° C.

当該有機溶剤回収システムは、上記有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガスを接触させることで上記有機溶剤を吸着し且つ上記有機溶剤ガスよりも高温の排ガスを接触させることで吸着した上記有機溶剤を脱着する吸着素子を含む。 The organic solvent recovery system adsorbs the organic solvent by contacting an organic solvent-containing gas containing the organic solvent and desorbs the organic solvent adsorbed by contacting exhaust gas having a temperature higher than that of the organic solvent gas. Including an adsorbing element.

上記有機溶剤含有ガスは、上記冷却回収装置において未回収の上記有機溶剤を含有するガスであり、上記冷却回収装置へ上記排ガスおよび上記脱着ガスを通過させる割合は、上記排ガスが０％〜５０％であり、上記脱着ガスが５０％〜１００％であり、上記吸着部から排出された上記清浄ガスの一部は上記パージ部に導入され、上記パージ部から排出されたパージ部出口ガスは、上記吸着部に導入される上記有機溶剤含有ガスに混入され、上記有機溶剤含有ガスは、上記パージ部出口ガスの熱エネルギーを受けて昇温した状態で上記吸着部に導入される。 The organic solvent-containing gas is a gas containing the organic solvent that has not been recovered in the cooling recovery device, and the exhaust gas and the desorption gas are allowed to pass through the cooling recovery device in an amount of 0% to 50%. The desorption gas is 50% to 100%, a part of the clean gas discharged from the adsorption unit is introduced into the purge unit, and the purge unit outlet gas discharged from the purge unit is The organic solvent-containing gas is mixed with the organic solvent-containing gas introduced into the adsorption unit, and the organic solvent-containing gas is introduced into the adsorption unit in a state of being heated by receiving the thermal energy of the purge unit outlet gas.

好適には、上記濃縮装置における上記パージ部の上記吸着部に対する割合は、約５％〜約５０％である。 Preferably, the ratio of the purge section to the adsorption section in the concentrator is from about 5% to about 50%.

好適には、上記排ガスは、生産設備から排出されるガスであり、上記清浄ガスの残部は、上記生産設備に戻される。 Preferably, the exhaust gas is a gas discharged from the production facility, and the remaining clean gas is returned to the production facility.

好適には、上記濃縮装置は、回転軸と、上記回転軸の周りに設けられた上記吸着素子としての筒状吸着体と、を備え、上記回転軸の周りに上記筒状吸着体を回転させることにより、上記吸着部において上記有機溶剤含有ガス中の上記有機溶剤を吸着した上記吸着素子が、上記脱着部を経て上記パージ部に連続的に移行する。 Preferably, the concentrating device includes a rotating shaft and a cylindrical adsorbing body as the adsorbing element provided around the rotating shaft, and rotates the cylindrical adsorbing body around the rotating shaft. Thus, the adsorbing element that has adsorbed the organic solvent in the organic solvent-containing gas in the adsorbing portion continuously moves to the purge portion through the desorbing portion.

好適には、上記冷却回収装置へ上記排ガスおよび上記脱着ガスを通過させる割合が、上記排ガスが０％であり、上記脱着ガスが１００％である。 Preferably, the exhaust gas and the desorption gas are passed through the cooling recovery apparatus at a ratio of 0% for the exhaust gas and 100% for the desorption gas.

好適には、上記有機溶剤は、ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、またはｎ−デカンである。 Preferably, the organic solvent is n-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, or n-decane.

この発明に基づいた有機溶剤回収システムによれば、有機溶剤回収システムに用いられるエネルギーをより削減することが可能となる。 According to the organic solvent recovery system based on this invention, it is possible to further reduce the energy used in the organic solvent recovery system.

参考技術における有機溶剤回収システムの構造を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the organic solvent collection | recovery system in a reference technique. 実施の形態における有機溶剤回収システムの構造を示す概念図である。It is a key map showing the structure of the organic solvent recovery system in an embodiment. 実施の形態における有機溶剤回収システムに採用される濃縮装置の構造を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the concentration apparatus employ | adopted as the organic-solvent collection | recovery system in embodiment. 実施の形態の他の構成における有機溶剤回収システムの構造を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the organic-solvent collection | recovery system in the other structure of embodiment.

以下、発明を実施するための形態について、図面を参照して詳細に説明する。以下に示す実施の形態においては、同一または対応する部分について図中同一の符号を付し、その説明は繰り返さない場合がある。以下に説明する実施の形態において、個数、量などに言及する場合、特に記載がある場合を除き、本発明の範囲は必ずしもその個数、量などに限定されない。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following embodiments, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals in the drawings, and the description thereof may not be repeated. In the embodiments described below, when referring to the number, amount, and the like, the scope of the present invention is not necessarily limited to the number, amount, and the like unless otherwise specified.

（参考技術：有機溶剤回収システム１Ａ）
図１を参照して、本発明の有機溶剤回収システムに関する参考技術について説明する。参考技術としての有機溶剤回収システム１Ａは、生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）から有機溶剤を回収する有機溶剤回収システムであり、濃縮装置２０、再生ヒータ１００、冷却器３００、回収タンク４００、および、給気加熱装置５００を備えている。 (Reference technology: Organic solvent recovery system 1A)
With reference to FIG. 1, the reference technique regarding the organic solvent recovery system of this invention is demonstrated. An organic solvent recovery system 1A as a reference technique is an organic solvent recovery system that recovers an organic solvent from exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000, and includes a concentrator 20, a regenerative heater 100, a cooler 300, and a recovery tank 400. And a supply air heating device 500.

（濃縮装置２０）
濃縮装置２０は、脱着部２１と吸着部２２とを有している。吸着部２２には有機溶剤を含む有機溶剤含有ガス（Ｇ２）が導入される。吸着材に有機溶剤含有ガス（Ｇ２）が接触することで、有機溶剤含有ガス（Ｇ２）に含有される有機溶剤が吸着材に吸着される。これにより有機溶剤含有ガス（Ｇ２）が清浄化されて清浄ガス（Ｇ３）として排出される。 (Concentrator 20)
The concentrator 20 has a desorption part 21 and an adsorption part 22. An organic solvent-containing gas (G2) containing an organic solvent is introduced into the adsorption unit 22. When the organic solvent-containing gas (G2) comes into contact with the adsorbent, the organic solvent contained in the organic solvent-containing gas (G2) is adsorbed on the adsorbent. As a result, the organic solvent-containing gas (G2) is cleaned and discharged as a clean gas (G3).

脱着部２１には有機溶剤含有ガス（Ｇ２）よりも高温の清浄ガス（Ｇ３）が導入される。有機溶剤が吸着材から脱着され、これにより清浄ガス（Ｇ３）が有機溶剤を含有する脱着ガス（Ｇ４）として排出される。 A clean gas (G3) having a temperature higher than that of the organic solvent-containing gas (G2) is introduced into the desorption part 21. The organic solvent is desorbed from the adsorbent, whereby the clean gas (G3) is discharged as a desorption gas (G4) containing the organic solvent.

濃縮装置２０の吸着部２２には、配管ラインＬ２，Ｌ３が接続されている。配管ラインＬ２は吸着部２２に有機溶剤含有ガス（Ｇ２）を導入する。配管ラインＬ３は、吸着部２２から清浄ガス（Ｇ３）を導出する。配管ラインＬ３には、再生ヒータ１００に分岐する配管ラインＬ７が接続されている。 Piping lines L 2 and L 3 are connected to the adsorption unit 22 of the concentrating device 20. The piping line L2 introduces the organic solvent-containing gas (G2) into the adsorption unit 22. The piping line L3 leads the clean gas (G3) from the adsorption unit 22. A piping line L7 that branches to the regenerative heater 100 is connected to the piping line L3.

配管ラインＬ３には、給気加熱装置５００への清浄ガス（Ｇ３）流量を調節するバルブＶ１０１が設けられ、配管ラインＬ７には、再生ヒータ１００への清浄ガス（Ｇ３）流量を調節するバルブＶ１０２が設けられている。 The piping line L3 is provided with a valve V101 for adjusting the flow rate of clean gas (G3) to the supply air heating device 500, and the piping line L7 is a valve V102 for adjusting the flow rate of clean gas (G3) to the regenerative heater 100. Is provided.

脱着部２１には配管ラインＬ８，Ｌ５が接続されている。配管ラインＬ８は脱着部２１に高温の清浄ガス（Ｇ３）を導入する。配管ラインＬ５は、脱着部２１から脱着ガス（Ｇ４）を導出する。 Piping lines L8 and L5 are connected to the detachable portion 21. The piping line L8 introduces a high-temperature clean gas (G3) into the desorption part 21. The piping line L5 derives the desorption gas (G4) from the desorption portion 21.

（再生ヒータ１００）
再生ヒータ１００は、清浄ガス（Ｇ３）を高温状態にする。再生ヒータ１００には、配管ラインＬ７，Ｌ８が接続されている。配管ラインＬ７は、清浄ガス（Ｇ３）を導入し、配管ラインＬ８は、高温の清浄ガス（Ｇ３）を濃縮装置２０の脱着部２１に導出する。 (Regenerative heater 100)
The regenerative heater 100 brings the clean gas (G3) to a high temperature state. Piping lines L7 and L8 are connected to the regeneration heater 100. The piping line L7 introduces the clean gas (G3), and the piping line L8 leads the hot clean gas (G3) to the desorption part 21 of the concentrator 20.

（冷却器３００および回収タンク４００）
冷却器３００および回収タンク４００により、冷却回収装置が構成される。冷却器３００は、冷却水等を用いて脱着ガス（Ｇ４）等を凝縮させる。冷却器３００は、脱着ガス（Ｇ４）等を、有機溶剤を高濃度に含有する回収液と、有機溶剤を低濃度に含有する有機溶剤含有ガス（Ｇ２）とに分離する。有機溶剤を高濃度に含有する回収液は、回収タンク４００に回収される。 (Cooler 300 and recovery tank 400)
The cooler 300 and the recovery tank 400 constitute a cooling recovery device. The cooler 300 condenses the desorption gas (G4) using cooling water or the like. The cooler 300 separates the desorption gas (G4) or the like into a recovered liquid containing an organic solvent at a high concentration and an organic solvent-containing gas (G2) containing an organic solvent at a low concentration. The recovered liquid containing the organic solvent at a high concentration is recovered in the recovery tank 400.

冷却器３００には、配管ラインＬ１，Ｌ２，Ｌ６が接続されている。配管ラインＬ１には、配管ラインＬ５が合流している。配管ラインＬ１は、冷却器３００に排ガス（Ｇ１）および脱着ガス（Ｇ４）を導入し、配管ラインＬ２は、分離された有機溶剤を低濃度に含有する有機溶剤含有ガス（Ｇ２）を濃縮装置２０の吸着部２２に導出し、配管ラインＬ６は、分離された回収液を回収タンク４００に導出する。 Piping lines L1, L2, and L6 are connected to the cooler 300. The piping line L5 merges with the piping line L1. The piping line L1 introduces the exhaust gas (G1) and the desorption gas (G4) to the cooler 300, and the piping line L2 concentrates the organic solvent-containing gas (G2) containing the separated organic solvent at a low concentration. The pipe line L6 guides the separated recovered liquid to the recovery tank 400.

（給気加熱装置５００）
給気加熱装置５００は、清浄ガス（Ｇ３）の温度を所定温度にまで加熱昇温させて、生産設備１０００に清浄ガス（Ｇ３）を給気する。給気加熱装置５００には、配管ラインＬ３，Ｌ４が接続されている。配管ラインＬ３は、濃縮装置２０の吸着部２２から送り出された清浄ガス（Ｇ３）を導入し、配管ラインＬ４は、生産設備１０００に所定温度にまで加熱昇温された清浄ガス（Ｇ３）を導出する。 (Supply air heating device 500)
The supply air heating device 500 heats and raises the temperature of the clean gas (G3) to a predetermined temperature, and supplies the clean gas (G3) to the production facility 1000. Piping lines L 3 and L 4 are connected to the supply air heating device 500. The piping line L3 introduces the clean gas (G3) sent from the adsorption unit 22 of the concentrator 20, and the piping line L4 derives the clean gas (G3) heated to a predetermined temperature in the production facility 1000. To do.

（回収液の回収）
上記構成からなる有機溶剤回収システム１Ａを用いて、生産設備１０００として、リチウムイオン電池製造設備で使用される有機溶剤［ＮＭＰ（ｎ−メチル−２−ピロリドン）］を回収するシステムについて以下説明する。 (Recovery of recovered liquid)
A system for recovering an organic solvent [NMP (n-methyl-2-pyrrolidone)] used in a lithium ion battery manufacturing facility as the production facility 1000 using the organic solvent recovery system 1A having the above configuration will be described below.

生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）は、流量が約７７０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約１０００ｐｐｍ、温度が約１１０℃である。冷却器３００には、生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）と、濃縮装置２０から脱着された脱着ガス（Ｇ４）とが混合された状態で導入される。脱着ガス（Ｇ４）は、流量が約１１０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約２５８１ｐｐｍ、温度が約７３℃である。冷却器３００に導入される排ガス（Ｇ１）と脱着ガス（Ｇ４）との混合ガスは、流量が約８８０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約１１９８ｐｐｍ、温度が約１０５℃である。 The exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 has a flow rate of about 770 NCMM, an organic solvent concentration of about 1000 ppm, and a temperature of about 110 ° C. The cooler 300 is introduced in a state in which the exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 and the desorption gas (G4) desorbed from the concentrator 20 are mixed. The desorption gas (G4) has a flow rate of about 110 NCMM, an organic solvent concentration of about 2581 ppm, and a temperature of about 73 ° C. The mixed gas of the exhaust gas (G1) and the desorption gas (G4) introduced into the cooler 300 has a flow rate of about 880 NCMM, an organic solvent concentration of about 1198 ppm, and a temperature of about 105 ° C.

排ガス（Ｇ１）と脱着ガス（Ｇ４）との混合ガスが冷却器３００において、有機溶剤を高濃度に含有する回収液と有機溶剤を低濃度に含有する有機溶剤含有ガス（Ｇ２）とに分離される。有機溶剤を高濃度に含有する回収液は、回収タンク４００に回収される。有機溶剤［ＮＭＰ］の濃度は約７８ｗｔ％である。有機溶剤を低濃度に含有する有機溶剤含有ガス（Ｇ２）は、有機溶剤濃度が約３４３ｐｐｍ、温度が約２８℃である。有機溶剤含有ガス（Ｇ２）は、配管ラインＬ２により濃縮装置２０の吸着部２２に導出される。 The mixed gas of the exhaust gas (G1) and the desorption gas (G4) is separated in the cooler 300 into a recovered liquid containing an organic solvent at a high concentration and an organic solvent-containing gas (G2) containing an organic solvent at a low concentration. The The recovered liquid containing the organic solvent at a high concentration is recovered in the recovery tank 400. The concentration of the organic solvent [NMP] is about 78 wt%. The organic solvent-containing gas (G2) containing an organic solvent at a low concentration has an organic solvent concentration of about 343 ppm and a temperature of about 28 ° C. The organic solvent-containing gas (G2) is led to the adsorption unit 22 of the concentrating device 20 through the piping line L2.

吸着部２２から導出される清浄ガス（Ｇ３）は、流量が約７７０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約２０ｐｐｍ、温度が約３３℃である。清浄ガス（Ｇ３）の一部は、配管ラインＬ３を通じて給気加熱装置５００に導出され、残部は、配管ラインＬ７を通じて再生ヒータ１００に導出される。給気加熱装置５００および再生ヒータ１００へのそれぞれに供給すべき清浄ガス（Ｇ３）の流量は、バルブＶ１０１およびバルブＶ１０２により適切に制御される。 The clean gas (G3) derived from the adsorption unit 22 has a flow rate of about 770 NCMM, an organic solvent concentration of about 20 ppm, and a temperature of about 33 ° C. A part of the clean gas (G3) is led out to the supply air heating device 500 through the pipe line L3, and the remaining part is led out to the regenerative heater 100 through the pipe line L7. The flow rate of the clean gas (G3) to be supplied to the supply air heating device 500 and the regenerative heater 100 is appropriately controlled by the valve V101 and the valve V102.

再生ヒータ１００に導出された清浄ガス（Ｇ３）は、温度が約１３０℃に加熱された後、配管ラインＬ８を通じて濃縮装置２０の脱着部２１に導出される。脱着部２１における清浄ガス（Ｇ３）は、有機溶剤を吸着材から脱着させた後、有機溶剤を含有する脱着ガス（Ｇ４）として配管ラインＬ５，Ｌ１を通じて冷却器３００に導出される。 The clean gas (G3) led to the regenerative heater 100 is heated to about 130 ° C. and then led to the desorption part 21 of the concentrator 20 through the piping line L8. After desorbing the organic solvent from the adsorbent, the clean gas (G3) in the desorption unit 21 is led to the cooler 300 through the piping lines L5 and L1 as the desorption gas (G4) containing the organic solvent.

給気加熱装置５００に導出された清浄ガス（Ｇ３）は、温度が約７０℃に加熱された後、配管ラインＬ４を通じて生産設備１０００に導出される。 The clean gas (G3) led to the supply air heating device 500 is heated to about 70 ° C. and then led to the production facility 1000 through the piping line L4.

（実施の形態：有機溶剤回収システム１Ｂ）
次に、図２を参照して、本発明に基づいた実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂについて説明する。実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂも、上述した有機溶剤回収システム１Ａと同様に、生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）から有機溶剤を回収する有機溶剤回収システムである。有機溶剤回収システム１Ｂは、濃縮装置２００、再生ヒータ１００、冷却器３００、回収タンク４００、および、熱交換器６００を備えている。 (Embodiment: Organic solvent recovery system 1B)
Next, with reference to FIG. 2, the organic solvent collection | recovery system 1B in embodiment based on this invention is demonstrated. The organic solvent recovery system 1B in the embodiment is also an organic solvent recovery system that recovers the organic solvent from the exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000, similarly to the organic solvent recovery system 1A described above. The organic solvent recovery system 1B includes a concentrator 200, a regenerative heater 100, a cooler 300, a recovery tank 400, and a heat exchanger 600.

（濃縮装置２００）
濃縮装置２００は、吸着素子を含んでおり、脱着部２１と吸着部２２とパージ部２３とを有している。濃縮装置２００の吸着素子に有機溶剤を含有するガスを接触させることで、吸着素子はガス中の有機溶剤を吸着する。有機溶剤を吸着したこの吸着素子に、有機溶剤を含有するガスよりも高温のガスを接触させることで、吸着素子は吸着した有機溶剤を脱着する。 (Concentrator 200)
The concentrating device 200 includes an adsorption element, and includes a desorption unit 21, an adsorption unit 22, and a purge unit 23. By bringing a gas containing an organic solvent into contact with the adsorption element of the concentrator 200, the adsorption element adsorbs the organic solvent in the gas. The adsorbing element desorbs the adsorbed organic solvent by bringing the adsorbing element having adsorbed the organic solvent into contact with a gas having a temperature higher than that of the gas containing the organic solvent.

濃縮装置２００においては、吸着素子は、吸着部２２（吸着状態）、脱着部２１（脱着状態）、およびパージ部２３（パージ状態）へと順次移行され、パージ部２３（パージ状態）の後は再び吸着部２２（吸着状態）へと移行する。すなわち、パージ部２３は脱着部２１（脱着状態）の後であって吸着部２２（吸着状態）の前に構成されている。 In the concentrator 200, the adsorption element is sequentially shifted to the adsorption unit 22 (adsorption state), the desorption unit 21 (desorption state), and the purge unit 23 (purge state), and after the purge unit 23 (purge state), Again, it moves to the adsorption part 22 (adsorption state). That is, the purge unit 23 is configured after the desorption unit 21 (desorption state) and before the adsorption unit 22 (adsorption state).

これらの移行は、たとえばローター式の濃縮装置であれば、吸着素子（筒状吸着体）の回転によって実現される（図３を参照して詳細は後述する）。これらの移行は、たとえばバッチ式の濃縮装置であれば、ダンパー（およびバルブ）操作によって、吸着素子を吸着部２２（吸着状態）、脱着部２１（脱着状態）、およびパージ部２３（パージ状態）に移行させることによって実現される。 For example, in the case of a rotor type concentrator, these transitions are realized by rotation of an adsorption element (cylindrical adsorbent) (details will be described later with reference to FIG. 3). For example, in the case of a batch type concentrator, these transitions may be performed by operating a damper (and a valve) so that the adsorbing element is moved to the adsorbing unit 22 (adsorbing state), the desorbing unit 21 (desorbing state), and the purge unit 23 (purging state). It is realized by moving to.

濃縮装置２００の吸着部２２には、冷却器３００から未回収の有機溶剤を含む有機溶剤含有ガス（Ｇ２）と、パージ部２３から排出されたパージ部出口ガス（Ｇ６）との混合ガス（以下、吸着部入口ガス（Ｇ５）と称する）が導入される。吸着部２２における吸着材に吸着部入口ガス（Ｇ５）が接触し、吸着部入口ガス（Ｇ５）に含有される有機溶剤が吸着材に吸着される。これにより吸着部入口ガス（Ｇ５）が清浄化されて清浄ガス（Ｇ３）として排出される。 In the adsorption unit 22 of the concentrator 200, a mixed gas (hereinafter referred to as “a mixed gas” of an organic solvent-containing gas (G 2) containing an unrecovered organic solvent from the cooler 300 and a purge unit outlet gas (G 6) discharged from the purge unit 23. , Adsorber inlet gas (referred to as G5) is introduced. The adsorbent inlet gas (G5) contacts the adsorbent in the adsorber 22 and the organic solvent contained in the adsorber inlet gas (G5) is adsorbed by the adsorbent. Thereby, adsorption part entrance gas (G5) is cleaned, and it discharges as clean gas (G3).

吸着部２２には配管ラインＬ２，Ｌ３が接続されている。配管ラインＬ２は吸着部２２に吸着部入口ガス（Ｇ５）を導入する。配管ラインＬ３は、吸着部２２から清浄ガス（Ｇ３）を導出する。吸着部２２の出口側には、清浄ガス（Ｇ３）の温度を測定する第１温度測定器Ｔ１が設けられている。吸着部２２の入口側には、吸着部入口ガス（Ｇ５）の温度を測定する第３温度測定器Ｔ３が設けられている。 Piping lines L 2 and L 3 are connected to the suction portion 22. The piping line L2 introduces the adsorption unit inlet gas (G5) into the adsorption unit 22. The piping line L3 leads the clean gas (G3) from the adsorption unit 22. A first temperature measuring device T1 that measures the temperature of the clean gas (G3) is provided on the outlet side of the adsorption unit 22. A third temperature measuring device T3 for measuring the temperature of the adsorption unit inlet gas (G5) is provided on the inlet side of the adsorption unit 22.

配管ラインＬ３には、パージ部２３に分岐する配管ラインＬ１０が接続されている。配管ラインＬ３には、熱交換器６００への清浄ガス（Ｇ３）流量を調節するバルブＶ１１３が設けられ、配管ラインＬ１０には、パージ部２３への清浄ガス（Ｇ３）流量を調節するバルブＶ１１４が設けられている。 A piping line L10 that branches to the purge unit 23 is connected to the piping line L3. The piping line L3 is provided with a valve V113 for adjusting the flow rate of the clean gas (G3) to the heat exchanger 600, and the piping line L10 is provided with a valve V114 for adjusting the flow rate of the clean gas (G3) to the purge unit 23. Is provided.

パージ部２３には、配管ラインＬ１０，Ｌ１１が接続されている。配管ラインＬ１０はパージ部２３に清浄ガス（Ｇ３）の一部を導入する。配管ラインＬ１１は、パージ部２３からパージ部出口ガス（Ｇ６）を導出する。配管ラインＬ１１は、配管ラインＬ２に合流している。 Piping lines L10 and L11 are connected to the purge unit 23. The piping line L10 introduces a part of the clean gas (G3) to the purge unit 23. The piping line L11 leads the purge unit outlet gas (G6) from the purge unit 23. The piping line L11 merges with the piping line L2.

脱着部２１では、吸着部入口ガス（Ｇ５）よりも高温の排ガス（Ｇ１）を吸着剤に導入することで、有機溶剤が吸着材から脱着され、これにより排ガス（Ｇ１）が有機溶剤を含有する脱着ガス（Ｇ４）として排出される。 In the desorption part 21, the organic solvent is desorbed from the adsorbent by introducing the exhaust gas (G1) having a temperature higher than that of the adsorption part inlet gas (G5) into the adsorbent, whereby the exhaust gas (G1) contains the organic solvent. It is discharged as desorption gas (G4).

脱着部２１には配管ラインＬ８，Ｌ５が接続されている。配管ラインＬ８は生産設備１０００から排ガス（Ｇ１）を導入する。配管ラインＬ５は、脱着部２１から脱着ガス（Ｇ４）を導出する。脱着部２１の出口側には、脱着ガス（Ｇ４）の温度を測定する第２温度測定器Ｔ２が設けられている。 Piping lines L8 and L5 are connected to the detachable portion 21. The piping line L8 introduces exhaust gas (G1) from the production facility 1000. The piping line L5 derives the desorption gas (G4) from the desorption portion 21. A second temperature measuring device T2 for measuring the temperature of the desorption gas (G4) is provided on the outlet side of the desorption portion 21.

ここで図３を参照して、濃縮装置２００の具体的構成について説明する。この濃縮装置２００は一例としてローター式であり、円柱状の筒状吸着体２１０を利用している。図に示すように、円柱状の外形を有する筒状吸着体２１０を利用する場合には、軸方向にガスが流動可能となるように構成された筒状吸着体２１０の軸中心に回転軸２１１を設け、この回転軸２１１をアクチュエータ等によって回転駆動する。 Here, with reference to FIG. 3, the specific structure of the concentration apparatus 200 is demonstrated. This concentrator 200 is of a rotor type as an example, and uses a cylindrical adsorbent 210 having a cylindrical shape. As shown in the figure, when a cylindrical adsorbent body 210 having a cylindrical outer shape is used, a rotating shaft 211 is arranged around the axis of the cylindrical adsorbent body 210 configured to allow gas to flow in the axial direction. The rotary shaft 211 is rotationally driven by an actuator or the like.

筒状吸着体２１０には、吸着材としては、活性アルミナ、シリカゲル、活性炭素材やゼオライトが広く利用されており、中でも活性炭と疎水性ゼオライトが特に好適に利用されている。活性炭と疎水性ゼオライトは、低濃度の有機化合物を吸着、脱着する機能に優れており、古くから吸着材として各種の装置に利用されている。 For the cylindrical adsorbent 210, activated alumina, silica gel, activated carbon material and zeolite are widely used as adsorbents, and among these, activated carbon and hydrophobic zeolite are particularly preferably used. Activated carbon and hydrophobic zeolite are excellent in the function of adsorbing and desorbing low-concentration organic compounds, and have been used as adsorbents in various devices for a long time.

筒状吸着体２１０の軸方向の両端面に近接するように、図３においては具体的に図示していない配管ラインＬ２，Ｌ３，Ｌ５，Ｌ８，Ｌ１０，Ｌ１１（図２参照）が接続されている。筒状吸着体２１０の一部は、吸着処理を行なうための吸着部２２として利用され、筒状吸着体２１０の他の一部は、脱着処理を行なうための脱着部２１として利用され、筒状吸着体２１０のさらに他の一部は、パージ処理を行なうためのパージ部２３として利用される。 Piping lines L2, L3, L5, L8, L10, and L11 (see FIG. 2) not specifically shown in FIG. 3 are connected so as to be close to both end faces in the axial direction of the cylindrical adsorbent 210. Yes. A part of the cylindrical adsorbent 210 is used as the adsorbing part 22 for performing the adsorbing process, and another part of the cylindrical adsorbing body 210 is used as the desorbing part 21 for performing the desorbing process. Still another part of the adsorbent 210 is used as a purge unit 23 for performing a purge process.

筒状吸着体２１０の吸着部２２には、軸方向の一方から吸着部入口ガス（Ｇ５）が導入され、軸方向の他方から清浄ガス（Ｇ３）が導出される。筒状吸着体２１０の脱着部２１には、軸方向の一方から高温の排ガス（Ｇ１）が導入され、軸方向の他方から脱着ガス（Ｇ４）が導出される。筒状吸着体２１０のパージ部２３には、軸方向の一方から清浄ガス（Ｇ３）の一部が導入され、軸方向の他方からパージ部出口ガス（Ｇ６）が導出される。 The adsorbing portion inlet gas (G5) is introduced into the adsorbing portion 22 of the cylindrical adsorbent body 210 from one side in the axial direction, and the clean gas (G3) is led out from the other side in the axial direction. High temperature exhaust gas (G1) is introduced into the desorption part 21 of the cylindrical adsorbent body 210 from one axial direction, and desorption gas (G4) is derived from the other axial direction. A part of the clean gas (G3) is introduced into the purge portion 23 of the cylindrical adsorbent body 210 from one axial direction, and the purge portion outlet gas (G6) is led out from the other axial direction.

この濃縮装置２００においては、筒状吸着体２１０が回転軸２１１を回転中心として図中矢印Ａ方向に所定の速度で回転する。これにより、筒状吸着体２１０の吸着処理が完了した部分は脱着処理を行なう脱着部２１へと移動し、筒状吸着体２１０の脱着処理が完了した部分はパージ処理を行なうパージ部２３へと移動し、さらにパージ処理が完了した部分は吸着処理を行なう吸着部２２へと移動する。この濃縮装置２００においては、同時に吸着処理と脱着処理とパージ処理とが行なわれることになり、連続的に清浄化処理を行なうことが可能となる。 In this concentrator 200, the cylindrical adsorbent 210 rotates at a predetermined speed in the direction of arrow A in the figure with the rotation shaft 211 as the center of rotation. As a result, the part where the adsorption process of the cylindrical adsorbent body 210 is completed moves to the desorption part 21 that performs the desorption process, and the part that completes the desorption process of the cylindrical adsorbent element 210 moves to the purge part 23 that performs the purge process. The portion that has moved and the purge processing has been completed moves to the suction section 22 that performs the suction processing. In the concentrator 200, the adsorption process, the desorption process, and the purge process are simultaneously performed, and the cleaning process can be continuously performed.

ここで仮に、濃縮装置２００においてパージ部２３が形成されていないとする。この場合、脱着処理の直後、すなわち吸着処理の初期には吸着素子がまだ高温であるために吸着材としての吸着性能が低い。また、脱着処理を行う脱着部から吸着処理を行う吸着部へ回転移行する際の有機溶剤の持ち込みにより、吸着性能が低下する場合もある。 Here, it is assumed that the purge unit 23 is not formed in the concentrator 200. In this case, immediately after the desorption process, that is, at the initial stage of the adsorption process, the adsorption element is still at a high temperature, so the adsorption performance as an adsorbent is low. In addition, there may be a case where the adsorption performance deteriorates due to the introduction of an organic solvent when the rotation shifts from the desorption part performing the desorption process to the adsorption part performing the adsorption process.

本実施の形態の濃縮装置２００においては、パージ部２３が、脱着部２１の後であって吸着部２２の前に構成されている。清浄ガス（Ｇ３）の一部がパージ部２３へ導入されることによって、パージ部２３における吸着素子が冷却される。清浄ガス（Ｇ３）によって吸着素子が冷却されるために、吸着素子の冷却効率が高い。 In the concentration apparatus 200 of the present embodiment, the purge unit 23 is configured after the desorption unit 21 and before the adsorption unit 22. When a part of the clean gas (G3) is introduced into the purge unit 23, the adsorption element in the purge unit 23 is cooled. Since the adsorption element is cooled by the clean gas (G3), the adsorption efficiency of the adsorption element is high.

パージ部２３に導入された清浄ガス（Ｇ３）は、パージ部出口ガス（Ｇ６）として有機溶剤含有ガス（Ｇ２）とともに吸着部入口ガス（Ｇ５）として再び吸着部２２に導入される。このサイクルによって、濃縮装置２００は吸着部２２における有機溶剤の除去率を高めることができる。なお、パージ部２３の吸着部２２に対する割合は、約５％〜約５０％であるとよい。この割合が約５％を下回ると、所望のパージ効果を得ることができない。この割合が約５０％を上回ると、経済性が悪くなる。 The clean gas (G3) introduced into the purge section 23 is again introduced into the adsorption section 22 as the adsorption section inlet gas (G5) together with the organic solvent-containing gas (G2) as the purge section outlet gas (G6). With this cycle, the concentrating device 200 can increase the removal rate of the organic solvent in the adsorption unit 22. The ratio of the purge unit 23 to the adsorption unit 22 is preferably about 5% to about 50%. If this ratio is less than about 5%, the desired purge effect cannot be obtained. If this ratio exceeds about 50%, the economy becomes worse.

また、パージ部２３において吸着素子と熱交換をした清浄ガス（Ｇ３）は、昇温されてパージ部出口ガス（Ｇ６）としてパージ部２３から導出される。昇温状態にあるパージ部出口ガス（Ｇ６）は、冷却器３００（図２参照）から導出された有機溶剤含有ガス（Ｇ２）と混合されることによって、有機溶剤含有ガス（Ｇ２）の温度を昇温させる。ここで、有機溶剤がｎ−メチル−２−ピロリドン等である場合、冷却器３００から導出された有機溶剤含有ガス（Ｇ２）の一部はミスト状となっている場合がある。 In addition, the clean gas (G3) that has exchanged heat with the adsorption element in the purge unit 23 is heated up and led out from the purge unit 23 as a purge unit outlet gas (G6). The purge portion outlet gas (G6) in the temperature rising state is mixed with the organic solvent-containing gas (G2) derived from the cooler 300 (see FIG. 2), thereby adjusting the temperature of the organic solvent-containing gas (G2). Raise the temperature. Here, when the organic solvent is n-methyl-2-pyrrolidone or the like, a part of the organic solvent-containing gas (G2) derived from the cooler 300 may be mist.

ミスト状の有機溶剤含有ガス（Ｇ２）は、吸着部２２に導入される前に、加熱されることによってすべてガス状にされる必要がある。有機溶剤回収システム１Ｂにおいては、パージ部２３から導出された昇温状態にあるパージ部出口ガス（Ｇ６）を活用して、ミスト状にある有機溶剤含有ガス（Ｇ２）を昇温させることができる。パージ部出口ガス（Ｇ６）によってミスト状の有機溶剤含有ガス（Ｇ２）を昇温させることで、その昇温に必要な他の加熱手段（図示せず）におけるエネルギーの使用量を低減することが可能となる。 Before the mist-like organic solvent-containing gas (G2) is introduced into the adsorption unit 22, it is necessary to be all gasified by being heated. In the organic solvent recovery system 1B, the temperature of the mist-like organic solvent-containing gas (G2) can be increased by utilizing the purge portion outlet gas (G6) in the temperature rising state derived from the purge portion 23. . By raising the temperature of the mist-like organic solvent-containing gas (G2) with the purge portion outlet gas (G6), the amount of energy used in other heating means (not shown) necessary for the temperature rise can be reduced. It becomes possible.

濃縮装置２００の回転速度により、吸着工程の時間、脱着工程の時間、およびパージ工程の時間が制御される。第１温度測定器Ｔ１により測定される清浄ガス（Ｇ３）の温度、第２温度測定器Ｔ２により測定される脱着ガス（Ｇ４）の温度、および第３温度測定器Ｔ３により測定される吸着部入口ガス（Ｇ５）の温度が、それぞれ所定の温度となるように、濃縮装置２００の回転速度により、吸着工程の時間、脱着工程の時間およびパージ工程の時間が制御される。特に、清浄ガス（Ｇ３）、脱着ガス（Ｇ４）、または吸着部入口ガス（Ｇ５）の温度を所定の温度にする方法として、濃縮装置２００の吸着素子の前後や吸着素子自体にアルミ等の熱交換材を導入することも可能である。 The time of the adsorption process, the time of the desorption process, and the time of the purge process are controlled by the rotation speed of the concentrator 200. The temperature of the clean gas (G3) measured by the first temperature measuring device T1, the temperature of the desorption gas (G4) measured by the second temperature measuring device T2, and the inlet of the adsorption unit measured by the third temperature measuring device T3 The time of the adsorption process, the time of the desorption process, and the time of the purge process are controlled by the rotational speed of the concentrator 200 so that the temperature of the gas (G5) becomes a predetermined temperature. In particular, as a method of setting the temperature of the clean gas (G3), the desorption gas (G4), or the adsorbing portion inlet gas (G5) to a predetermined temperature, heat such as aluminum before and after the adsorbing element of the concentrator 200 or on the adsorbing element itself. It is also possible to introduce an exchange material.

（再生ヒータ１００）
再び図２を参照して、再生ヒータ１００は、生産設備１０００から延びる配管ラインＬ１と配管ラインＬ８との間に設けられている。生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）の温度が十分に高温の場合には再生ヒータ１００を用いることはない。しかし、生産設備１０００が稼動初期状態で、排ガス（Ｇ１）の温度が所定温度に達していない場合には、排ガス（Ｇ１）を所定温度にまで加熱するために再生ヒータ１００が用いられる。 (Regenerative heater 100)
Referring to FIG. 2 again, the regenerative heater 100 is provided between the piping line L1 and the piping line L8 extending from the production facility 1000. When the temperature of the exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 is sufficiently high, the regenerative heater 100 is not used. However, when the production facility 1000 is in the initial operation state and the temperature of the exhaust gas (G1) does not reach the predetermined temperature, the regenerative heater 100 is used to heat the exhaust gas (G1) to the predetermined temperature.

生産設備１０００から延びる配管ラインＬ１には、配管ラインＬ１から分岐し、配管ラインＬ５に通じる配管ラインＬ９が設けられている。生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）の一部は、配管ラインＬ１、再生ヒータ１００、および配管ラインＬ８を通じて、濃縮装置２００の脱着部２１に送り出される。 The piping line L1 extending from the production facility 1000 is provided with a piping line L9 branched from the piping line L1 and leading to the piping line L5. A part of the exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 is sent to the desorption part 21 of the concentrator 200 through the piping line L1, the regenerative heater 100, and the piping line L8.

生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）の残部は、配管ラインＬ９を通じて直接冷却器３００へ送り出されることが可能となっている。排ガス（Ｇ１）の脱着部２１への送り出し量および冷却器３００への送り出し量は、配管ラインＬ１に設けられたバルブＶ１１１および配管ラインＬ９に設けられたバルブＶ１１２によりそれぞれ制御される。 The remainder of the exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 can be sent directly to the cooler 300 through the piping line L9. The amount of exhaust gas (G1) delivered to the desorption part 21 and the amount delivered to the cooler 300 are respectively controlled by a valve V111 provided in the piping line L1 and a valve V112 provided in the piping line L9.

（冷却器３００および回収タンク４００）
冷却器３００および回収タンク４００により、冷却回収装置が構成される。冷却器３００は、冷却水等を用いて脱着ガス（Ｇ４）等を凝縮させることで、有機溶剤を高濃度に含有する回収液と有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガス（Ｇ２）とに分離する。有機溶剤を高濃度に含有する回収液は、回収タンク４００に回収される。 (Cooler 300 and recovery tank 400)
The cooler 300 and the recovery tank 400 constitute a cooling recovery device. The cooler 300 condenses the desorption gas (G4) or the like using cooling water or the like to separate the recovered liquid containing the organic solvent into a high concentration and the organic solvent-containing gas (G2) containing the organic solvent. . The recovered liquid containing the organic solvent at a high concentration is recovered in the recovery tank 400.

冷却器３００には、配管ラインＬ２，Ｌ６，Ｌ７が接続されている。配管ラインＬ２は、分離された有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガス（Ｇ２）を濃縮装置２００の吸着部２２に導出する。配管ラインＬ６は、分離された回収液を回収タンク４００に導出する。配管ラインＬ７は、脱着部２１から配管ラインＬ５および次述する熱交換器６００を通して脱着ガス（Ｇ４）が導入される。 Piping lines L2, L6, and L7 are connected to the cooler 300. The piping line L2 guides the organic solvent-containing gas (G2) containing the separated organic solvent to the adsorption unit 22 of the concentrator 200. The piping line L6 leads the separated recovered liquid to the recovery tank 400. A desorption gas (G4) is introduced into the piping line L7 from the desorption part 21 through the piping line L5 and the heat exchanger 600 described below.

（熱交換器６００）
熱交換器６００は、配管ラインＬ３と配管ラインＬ４との間に位置し、且つこの熱交換器６００は、配管ラインＬ５と配管ラインＬ７との間にも位置している。図２においては２つの熱交換器６００が離間して示されているが、熱交換器６００は、配管ラインＬ３，Ｌ４間の熱エネルギーと、配管ラインＬ５，Ｌ７間の熱エネルギーとを交換することができる。 (Heat exchanger 600)
The heat exchanger 600 is positioned between the piping line L3 and the piping line L4, and the heat exchanger 600 is also positioned between the piping line L5 and the piping line L7. In FIG. 2, two heat exchangers 600 are shown apart from each other, but the heat exchanger 600 exchanges heat energy between the piping lines L3 and L4 and heat energy between the piping lines L5 and L7. be able to.

熱交換器６００は、吸着部２２から導出された清浄ガス（Ｇ３）を熱交換によって昇温させた上で生産設備１０００に送り出す。熱交換器６００は、脱着部２１から導出された脱着ガスＧ４を熱交換によって降温させた上で冷却器３００に送り出す。熱交換器６００の熱交換によって、生産設備に送り出す清浄ガス（Ｇ３）を所定の温度にするための他のエネルギーの使用量を低減することが可能となる。熱交換器６００の熱交換によって、冷却器３００に送り出す脱着ガス（Ｇ４）を所定の温度にするための他のエネルギーの使用量を低減することが可能となる。 The heat exchanger 600 raises the temperature of the clean gas (G3) derived from the adsorption unit 22 by heat exchange and then sends it to the production facility 1000. The heat exchanger 600 lowers the temperature of the desorption gas G4 derived from the desorption unit 21 by heat exchange, and then sends it to the cooler 300. By using the heat exchange of the heat exchanger 600, it is possible to reduce the amount of other energy used to bring the clean gas (G3) sent to the production facility to a predetermined temperature. By the heat exchange of the heat exchanger 600, it is possible to reduce the amount of other energy used to bring the desorption gas (G4) sent to the cooler 300 to a predetermined temperature.

（有機溶剤の回収）
上記構成からなる有機溶剤回収システム１Ｂにおいて、参考技術で説明した有機溶剤回収システム１Ａと同様に、生産設備１０００としてリチウムイオン電池製造設備で使用される有機溶剤［ＮＭＰ（ｎ−メチル−２−ピロリドン）］を回収するシステムについて以下説明する。 (Recovery of organic solvent)
In the organic solvent recovery system 1B having the above-described configuration, the organic solvent [NMP (n-methyl-2-pyrrolidone) used in the lithium ion battery manufacturing facility as the production facility 1000 is the same as the organic solvent recovery system 1A described in the reference technology. )] Will be described below.

生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）は、流量が約７７０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約１０００ｐｐｍ、温度が約１１０℃である。バルブＶ１１１を全開状態にし、バルブＶ１１２を閉鎖状態にし、生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）を１００％脱着部２１に導入する。ここでは、排ガス（Ｇ１）の温度は、十分に高温状態であることから、再生ヒータ１００による排ガス（Ｇ１）の加熱は行なわない。 The exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 has a flow rate of about 770 NCMM, an organic solvent concentration of about 1000 ppm, and a temperature of about 110 ° C. The valve V111 is fully opened, the valve V112 is closed, and the exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 is introduced into the 100% desorption section 21. Here, since the temperature of the exhaust gas (G1) is sufficiently high, the regenerative heater 100 does not heat the exhaust gas (G1).

脱着部２１から排出される脱着ガス（Ｇ４）は、流量が約７７０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約１８０３ｐｐｍ、温度が約９３℃である。バルブＶ１１２を閉鎖状態にし、生産設備１０００から排出される排ガス（Ｇ１）を脱着部２１に１００％導入していることから、冷却器３００に導入されるガスは、脱着ガス（Ｇ４）が１００％、直接導入される排ガス（Ｇ１）は０％である。 The desorption gas (G4) discharged from the desorption unit 21 has a flow rate of about 770 NCMM, an organic solvent concentration of about 1803 ppm, and a temperature of about 93 ° C. Since the valve V112 is closed and the exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 is 100% introduced into the desorption part 21, the gas introduced into the cooler 300 is 100% desorption gas (G4). The exhaust gas (G1) introduced directly is 0%.

脱着ガス（Ｇ４）が、冷却器３００において有機溶剤を高濃度に含有する回収液と有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガス（Ｇ２）とに分離される。有機溶剤を高濃度に含有する回収液は、回収タンク４００に回収される。有機溶剤［ＮＭＰ］の濃度は約８９ｗｔ％である。有機溶剤を含有する有機溶剤含有ガス（Ｇ２）は、流量が約７７０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約８５７ｐｐｍ、温度が約３７℃である。 The desorption gas (G4) is separated in the cooler 300 into a recovered liquid containing an organic solvent at a high concentration and an organic solvent-containing gas (G2) containing an organic solvent. The recovered liquid containing the organic solvent at a high concentration is recovered in the recovery tank 400. The concentration of the organic solvent [NMP] is about 89 wt%. The organic solvent-containing gas (G2) containing an organic solvent has a flow rate of about 770 NCMM, an organic solvent concentration of about 857 ppm, and a temperature of about 37 ° C.

この有機溶剤含有ガス（Ｇ２）には、配管ラインＬ２に接続された配管ラインＬ１１により、パージ部出口ガス（Ｇ６）が混合される。パージ部出口ガス（Ｇ６）は、流量が約１００ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約３８６ｐｐｍ、温度が約１００℃である。有機溶剤含有ガス（Ｇ２）とパージ部出口ガス（Ｇ６）との混合からなる吸着部入口ガス（Ｇ５）は、流量が約８７０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約８０３ｐｐｍ、温度が約４４℃である。吸着部入口ガス（Ｇ５）は濃縮装置２００の吸着部２２に導出される。 The organic solvent-containing gas (G2) is mixed with the purge portion outlet gas (G6) through the piping line L11 connected to the piping line L2. The purge section outlet gas (G6) has a flow rate of about 100 NCMM, an organic solvent concentration of about 386 ppm, and a temperature of about 100 ° C. The adsorption part inlet gas (G5), which is a mixture of the organic solvent-containing gas (G2) and the purge part outlet gas (G6), has a flow rate of about 870 NCMM, an organic solvent concentration of about 803 ppm, and a temperature of about 44 ° C. The adsorption unit inlet gas (G5) is led to the adsorption unit 22 of the concentrator 200.

濃縮装置２００の吸着部２２により有機溶剤が吸着された清浄ガス（Ｇ３）は、流量が約７７０ＮＣＭＭ、有機溶剤濃度が約１２ｐｐｍ、温度が約５３℃である。清浄ガス（Ｇ３）の一部は、配管ラインＬ１０を通じてパージ部２３に導出される。清浄ガス（Ｇ３）の残部は、配管ラインＬ３を通じて熱交換器６００に導出される。 The clean gas (G3) in which the organic solvent is adsorbed by the adsorption unit 22 of the concentrator 200 has a flow rate of about 770 NCMM, an organic solvent concentration of about 12 ppm, and a temperature of about 53 ° C. Part of the clean gas (G3) is led to the purge unit 23 through the piping line L10. The remainder of the clean gas (G3) is led out to the heat exchanger 600 through the piping line L3.

パージ部２３に導出された清浄ガス（Ｇ３）は、パージ部２３における吸着素子を冷却し、パージ部出口ガス（Ｇ６）として昇温された状態でパージ部２３から導出される。熱交換器６００に導出された清浄ガス（Ｇ３）は、脱着部２１から冷却器３００へ送り出されている脱着ガス（Ｇ４）と熱交換し、昇温した状態で熱交換器６００から生産設備１０００へと導出される。 The clean gas (G3) derived to the purge unit 23 is derived from the purge unit 23 in a state where the adsorption element in the purge unit 23 is cooled and the temperature is raised as the purge unit outlet gas (G6). The clean gas (G3) led out to the heat exchanger 600 exchanges heat with the desorption gas (G4) sent from the desorption unit 21 to the cooler 300, and in a state where the temperature is raised, the production facility 1000 Is derived.

（作用・効果）
上記構成を有する有機溶剤回収システム１Ｂの作用効果について、参考技術として説明した有機溶剤回収システム１Ａと比較した場合について説明する。 (Action / Effect)
The effect of the organic solvent recovery system 1B having the above configuration will be described in comparison with the organic solvent recovery system 1A described as the reference technique.

本実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂによれば、パージ部２３が、脱着部２１の後であって吸着部２２の前に構成されている。清浄ガス（Ｇ３）の一部がパージ部２３へ導入されることによって、パージ部２３における吸着素子が冷却される。清浄ガス（Ｇ３）によって吸着素子が冷却されるために、吸着素子の冷却効率が高い。 According to the organic solvent recovery system 1B in the present embodiment, the purge unit 23 is configured after the desorption unit 21 and before the adsorption unit 22. When a part of the clean gas (G3) is introduced into the purge unit 23, the adsorption element in the purge unit 23 is cooled. Since the adsorption element is cooled by the clean gas (G3), the adsorption efficiency of the adsorption element is high.

パージ部２３に導入された清浄ガス（Ｇ３）は、パージ部出口ガス（Ｇ６）として有機溶剤含有ガス（Ｇ２）とともに吸着部入口ガス（Ｇ５）として再び吸着部２２に導入される。このサイクルによって、濃縮装置２００は吸着部２２における有機溶剤の除去率を高めることができる。 The clean gas (G3) introduced into the purge section 23 is again introduced into the adsorption section 22 as the adsorption section inlet gas (G5) together with the organic solvent-containing gas (G2) as the purge section outlet gas (G6). With this cycle, the concentrating device 200 can increase the removal rate of the organic solvent in the adsorption unit 22.

（冷却器３００に必要な冷却温度の上昇が可能２８℃→３７℃）
本実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂによれば、生産設備１０００から排出される高温状態の排ガス（Ｇ２）を濃縮装置２００の脱着部２１に送り込むことで、有機溶剤回収システム１Ａにおける再生ヒータ１００の使用が不要となり、ユーティリティ使用量の増加を抑制することが可能となる。 (The cooling temperature required for the cooler 300 can be increased from 28 ° C to 37 ° C)
According to the organic solvent recovery system 1B in the present embodiment, the high-temperature exhaust gas (G2) discharged from the production facility 1000 is sent to the desorption part 21 of the concentrator 200, whereby the regenerative heater 100 in the organic solvent recovery system 1A. The use of the utility becomes unnecessary, and an increase in utility usage can be suppressed.

具体的には、有機溶剤回収システム１Ａにおいては、再生ヒータ１００により脱着部２１に導出する清浄ガス（Ｇ３）を３３℃から１３０℃に加熱する必要があった。しかし、本実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂによれば、高温状態の排ガス（Ｇ２）を高温状態で濃縮装置２００の脱着部２１に送り込むことから、脱着部２１に導出するガスの加熱を行なう必要がない。その結果、濃縮装置２００における濃縮倍率（吸着風量／脱着風量）を低減することが可能となる。なお、脱着部２１においては、ＮＭＰが高濃度含有した排ガス（Ｇ２）による脱着操作となるため、脱着効率の高い吸着材を用いることで、脱着操作の向上を図ることができる。 Specifically, in the organic solvent recovery system 1A, it was necessary to heat the clean gas (G3) led out to the desorption part 21 by the regenerative heater 100 from 33 ° C. to 130 ° C. However, according to the organic solvent recovery system 1B in the present embodiment, the exhaust gas (G2) in a high temperature state is sent to the desorption unit 21 of the concentrator 200 at a high temperature, so that the gas led out to the desorption unit 21 is heated. There is no need. As a result, it is possible to reduce the concentration factor (adsorption air amount / desorption air amount) in the concentration apparatus 200. In addition, in the desorption part 21, since it becomes desorption operation by the exhaust gas (G2) which NMP contained in high concentration, desorption operation can be improved by using an adsorbent with high desorption efficiency.

このように、本実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂにおいては、有機溶剤回収システム１Ａと比較した場合、経済的に濃縮倍率を低くすることで、濃縮装置２００の性能向上を図ることが可能となり、冷却器３００の冷却温度を上昇（２８℃→３７℃）させることが可能となり、冷却器３００のユーティリティ使用量の削減を可能とする。 As described above, in the organic solvent recovery system 1B according to the present embodiment, it is possible to improve the performance of the concentration apparatus 200 by economically reducing the concentration factor when compared with the organic solvent recovery system 1A. The cooling temperature of the cooler 300 can be increased (28 ° C. → 37 ° C.), and the utility usage of the cooler 300 can be reduced.

その上、有機溶剤がｎ−メチル−２−ピロリドン等である場合、冷却器３００から導出された有機溶剤含有ガス（Ｇ２）の一部はミスト状となっている。ミスト状の有機溶剤含有ガス（Ｇ２）は、吸着部２２に導入される前に、昇温されることによってガス状になっている必要がある。パージ部２３から導出された昇温状態にあるパージ部出口ガス（Ｇ６）を活用して、ミスト状にある有機溶剤含有ガス（Ｇ２）を昇温させることができる。パージ部出口ガス（Ｇ６）によってミスト状の有機溶剤含有ガス（Ｇ２）昇温させることで、その昇温に必要な他の加熱手段（図示せず）におけるエネルギーの使用量を低減することが可能となる。 In addition, when the organic solvent is n-methyl-2-pyrrolidone or the like, a part of the organic solvent-containing gas (G2) led out from the cooler 300 is mist. The mist-like organic solvent-containing gas (G2) needs to be in a gaseous state by being heated before being introduced into the adsorption unit 22. The temperature of the mist-like organic solvent-containing gas (G2) can be increased by utilizing the purge portion outlet gas (G6) in the temperature rising state derived from the purge portion 23. By raising the temperature of the mist-like organic solvent-containing gas (G2) with the purge portion outlet gas (G6), it is possible to reduce the amount of energy used in other heating means (not shown) necessary for the temperature rise. It becomes.

（冷却器３００への導入ガス温度の低減が可能１０５℃→７３℃）
また、生産設備１０００から排出される高温状態の排ガス（Ｇ１）を濃縮装置２００の脱着部２１に送り込むことで、吸着材による熱交換が行なわれることとなり、冷却器３００への導入前のガス温度を低減（１０５℃→７３℃）させることが可能となり、冷却器３００のユーティリティ使用量の削減を可能とする。 (The temperature of the gas introduced into the cooler 300 can be reduced from 105 ° C to 73 ° C)
Further, by sending the exhaust gas (G1) in a high temperature state discharged from the production facility 1000 to the desorption part 21 of the concentrator 200, heat exchange by the adsorbent is performed, and the gas temperature before being introduced into the cooler 300 (105 ° C. → 73 ° C.), and the utility usage of the cooler 300 can be reduced.

その上、配管ラインＬ３，Ｌ４間と熱交換が可能な熱交換器６００が配管ラインＬ５，Ｌ７間に設けられていることによって、熱交換器６００の熱交換によって、冷却器３００に送り出す脱着ガス（Ｇ４）を所定の温度にするための他のエネルギー使用量の削減を可能とする。 In addition, since the heat exchanger 600 capable of exchanging heat between the piping lines L3 and L4 is provided between the piping lines L5 and L7, the desorption gas sent to the cooler 300 by heat exchange of the heat exchanger 600. It is possible to reduce the amount of other energy used for setting (G4) to a predetermined temperature.

（給気加熱装置５００の導入温度の上昇が可能３３℃→５３℃）
また、生産設備１０００から排出される高温状態の排ガス（Ｇ１）を濃縮装置２００の脱着部２１に送り込むことで、吸着材による熱交換が行なわれることとなり、熱交換器６００への導入前のガス温度を上昇（３３℃→５３℃）させることが可能となる。配管ラインＬ５，Ｌ７間と熱交換が可能な熱交換器６００が配管ラインＬ３，Ｌ４間に設けられていることによって、熱交換器６００の熱交換によって、生産設備に送り出す清浄ガス（Ｇ３）を所定の温度にするための他のエネルギー使用量の削減を可能とする。 (Introduction temperature of supply air heating device 500 can be increased from 33 ° C to 53 ° C)
Further, the exhaust gas (G1) in a high temperature state discharged from the production facility 1000 is sent to the desorption part 21 of the concentrator 200, whereby heat exchange by the adsorbent is performed, and the gas before being introduced into the heat exchanger 600. The temperature can be increased (33 ° C. → 53 ° C.). By providing the heat exchanger 600 that can exchange heat with the piping lines L5 and L7 between the piping lines L3 and L4, the clean gas (G3) sent to the production facility by heat exchange of the heat exchanger 600 is supplied. It is possible to reduce the amount of other energy used to obtain a predetermined temperature.

このように、本実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂによれば、生産設備１０００から排出される高温状態の排ガス（Ｇ１）を濃縮装置２００の脱着部２１に送り込むことにより、システム全体としてのランニングコストを、有機溶剤回収システム１Ａに場合と比較して大きく削減することが可能となる。 Thus, according to the organic solvent recovery system 1B in the present embodiment, the high temperature exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 is sent to the desorption part 21 of the concentrator 200, so that the running of the entire system is performed. Cost can be greatly reduced compared to the case of the organic solvent recovery system 1A.

（ＮＭＰ回収液の濃度向上７８ｗｔ％→８９ｗｔ％）
また、本実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂによれば、有機溶剤回収システム１Ａに場合と比較して、冷却器３００の温度を上昇させることができるため、水の凝縮量が低減し、回収液中のＮＭＰ濃度を向上（７８ｗｔ％→８９ｗｔ％）させることが可能となる。 (Concentration improvement of NMP recovery liquid 78wt% → 89wt%)
In addition, according to the organic solvent recovery system 1B in the present embodiment, the temperature of the cooler 300 can be increased compared to the case of the organic solvent recovery system 1A, so that the amount of condensed water is reduced and recovered. The NMP concentration in the liquid can be improved (78 wt% → 89 wt%).

なお、上記の実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂにおいては、排ガス（Ｇ１）の温度の一例として１１０℃を想定した場合を示しているが、生産設備から排出される排ガス（Ｇ１）の温度としては、５０℃〜２００℃が想定される。したがって、排ガスの温度が所定温度に達していない場合には、必要に応じて、再生ヒータ１００を用いて排ガス（Ｇ１）の加熱を行なう。 In addition, in the organic solvent recovery system 1B in the above embodiment, a case where 110 ° C. is assumed as an example of the temperature of the exhaust gas (G1) is shown, but the temperature of the exhaust gas (G1) discharged from the production facility is shown. Is assumed to be 50 ° C to 200 ° C. Therefore, when the temperature of the exhaust gas does not reach the predetermined temperature, the exhaust gas (G1) is heated using the regenerative heater 100 as necessary.

また、生産設備１０００から排出された排ガス（Ｇ１）を１００％脱着部２１に導出し、脱着ガス（Ｇ４）を１００％冷却器３００に導出する場合について説明しているが、生産設備から排出される排ガス（Ｇ１）の一部を、配管ラインＬ９を通じて直接冷却器３００に導出させることも可能である。冷却器３００を通過させるガスの想定される割合は、排ガス（Ｇ１）が０％〜５０％、脱着ガス（Ｇ４）が５０％〜１００％程度である。 Moreover, although the case where the exhaust gas (G1) discharged from the production facility 1000 is led out to the 100% desorption section 21 and the desorption gas (G4) is led out to the 100% cooler 300 has been described, A part of the exhaust gas (G1) can be directly led to the cooler 300 through the piping line L9. Assumed ratios of the gas passing through the cooler 300 are about 0% to 50% for the exhaust gas (G1) and about 50% to 100% for the desorption gas (G4).

また、排ガス（Ｇ１）として生産設備１０００から排出されたガスを用い、浄化されたガスを生産設備１０００に戻す場合について説明しているが、排ガス（Ｇ１）として生産設備１０００から排出されたガスを直接用いる必要はなく、同様の性質を有する排ガス（Ｇ１）であれば、本実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂを用いて、高濃度の有機溶剤を回収することが可能である。また、浄化されたガスを生産設備１０００に戻す必要はなく、清浄されたガスを他の用途に用いることも可能である。 Moreover, although the case where the gas discharged | emitted from the production facility 1000 is used as exhaust gas (G1) and the purified gas is returned to the production facility 1000 is demonstrated, the gas discharged | emitted from the production facility 1000 as exhaust gas (G1) is demonstrated. It is not necessary to use directly, and if it is the exhaust gas (G1) which has the same property, it is possible to collect | recover a high concentration organic solvent using the organic solvent collection | recovery system 1B in this Embodiment. Further, it is not necessary to return the purified gas to the production facility 1000, and the purified gas can be used for other purposes.

また、有機溶剤として［ＮＭＰ（ｎ−メチル−２−ピロリドン）］を回収する場合について説明しているが、この有機溶剤に限定されることなく、１℃〜５０℃の冷却にて液化して回収できる有機溶剤であれば良い。即ち、有機溶剤としては、たとえば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、またはｎ−デカンである。ＮＭＰと同様の特性を有するこれらの有機溶剤の回収に対しても、本発明に基づいた有機溶剤回収システム１Ｂを用いることが可能である。 Moreover, although the case where [NMP (n-methyl-2-pyrrolidone)] is collect | recovered as an organic solvent is demonstrated, it is not limited to this organic solvent, but is liquefied by cooling at 1 degreeC-50 degreeC. Any organic solvent that can be recovered may be used. That is, the organic solvent is, for example, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, or n-decane. The organic solvent recovery system 1B based on the present invention can also be used for recovering these organic solvents having the same characteristics as NMP.

また、上記の実施の形態における有機溶剤回収システム１Ｂにおいては、濃縮装置２００の回転速度により、吸着工程、脱着工程、およびパージ工程の各時間が制御される。清浄ガス（Ｇ３）、脱着ガス（Ｇ４）、および吸着部入口ガス（Ｇ５）の温度が、それぞれ所定の温度となるように、濃縮装置２００の回転速度により、吸着工程、脱着工程およびパージ工程の各時間が制御される場合について説明している。 Further, in the organic solvent recovery system 1B in the above embodiment, each time of the adsorption process, the desorption process, and the purge process is controlled by the rotation speed of the concentrator 200. The adsorption process, the desorption process, and the purge process are performed at the rotational speed of the concentrator 200 so that the clean gas (G3), the desorption gas (G4), and the adsorption unit inlet gas (G5) have predetermined temperatures. The case where each time is controlled is described.

図４に示す有機溶剤回収システム１Ｃのように、清浄ガス（Ｇ３）、脱着ガス（Ｇ４）、吸着部入口ガス（Ｇ５）の各温度は、パージ部出口ガス（Ｇ６）の一部を、脱着ガス（Ｇ４）と混合した状態で冷却器３００に導入することによって調節されてもよい。この場合、配管ラインＬ１１から分岐し配管ラインＬ５に接続する配管ラインＬ１２を設ける。配管ラインＬ１２におけるパージ部出口ガス（Ｇ６）の風量は、バルブＶ１１５によって調節されるとよい。 As in the organic solvent recovery system 1C shown in FIG. 4, the temperatures of the clean gas (G3), the desorption gas (G4), and the adsorption unit inlet gas (G5) are desorbed from the purge unit outlet gas (G6). You may adjust by introduce | transducing into the cooler 300 in the state mixed with gas (G4). In this case, a piping line L12 branched from the piping line L11 and connected to the piping line L5 is provided. The air volume of the purge portion outlet gas (G6) in the piping line L12 may be adjusted by the valve V115.

また、清浄ガス（Ｇ３）、脱着ガス（Ｇ４）、吸着部入口ガス（Ｇ５）の各温度は、パージ部出口ガス（Ｇ６）の一部を、排ガス（Ｇ１）と混合した状態で脱着部２１に導入することによって調節されてもよい。この場合、配管ラインＬ１１から分岐し配管ラインＬ８に接続する配管ラインＬ１３を設ける。配管ラインＬ１３におけるパージ部出口ガス（Ｇ６）の風量は、バルブＶ１１６によって調節されるとよい。なお、清浄ガス（Ｇ３）、脱着ガス（Ｇ４）、吸着部入口ガス（Ｇ５）の各温度を調節するために、配管ラインＬ１２，Ｌ１３の両方が設けられていてもよい。 Further, the temperatures of the clean gas (G3), the desorption gas (G4), and the adsorption unit inlet gas (G5) are set such that a part of the purge unit outlet gas (G6) is mixed with the exhaust gas (G1). It may be adjusted by introducing it. In this case, a piping line L13 branched from the piping line L11 and connected to the piping line L8 is provided. The air volume of the purge portion outlet gas (G6) in the piping line L13 may be adjusted by the valve V116. In addition, in order to adjust each temperature of clean gas (G3), desorption gas (G4), and adsorption | suction part inlet gas (G5), both the piping lines L12 and L13 may be provided.

このように、今回開示した上記各実施の形態はすべての点で例示であって、制限的なものではない。本発明の技術的範囲は特許請求の範囲によって画定され、また特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。 Thus, the above-described embodiments disclosed herein are illustrative in all respects and are not restrictive. The technical scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

１Ａ〜１Ｃ有機溶剤回収システム、２０，２００濃縮装置、２１脱着部、２２吸着部、２３パージ部、１００再生ヒータ、２１０筒状吸着体、２１１回転軸、３００冷却器、４００回収タンク、５００給気加熱装置、６００熱交換器、１０００生産設備、Ｇ１排ガス、Ｇ２有機溶剤含有ガス、Ｇ３清浄ガス、Ｇ４脱着ガス、Ｇ５吸着部入口ガス、Ｇ６パージ部出口ガス、Ｌ１〜Ｌ１３配管ライン、Ｔ１〜Ｔ３温度測定器、Ｖ１０１，Ｖ１０２，Ｖ１１１〜Ｖ１１６バルブ。 1A to 1C Organic solvent recovery system, 20,200 Concentrator, 21 Desorption unit, 22 Adsorption unit, 23 Purge unit, 100 Regenerative heater, 210 Cylindrical adsorbent, 211 Rotating shaft, 300 Cooler, 400 Recovery tank, 500 Supply Gas heating device, 600 heat exchanger, 1000 production equipment, G1 exhaust gas, G2 organic solvent-containing gas, G3 clean gas, G4 desorption gas, G5 adsorption part inlet gas, G6 purge part outlet gas, L1-L13 piping line, T1- T3 Temperature measuring device, V101, V102, V111 to V116 valve.

Claims

An adsorbing element that adsorbs the organic solvent by contacting an organic solvent-containing gas containing an organic solvent and desorbs the organic solvent adsorbed by contacting exhaust gas having a temperature higher than that of the organic solvent gas; The organic solvent-containing gas is introduced into an element to adsorb the organic solvent to the adsorbing element and discharge a clean gas; and the exhaust gas is introduced into the adsorbing element to introduce the organic solvent into the element. A desorption part that desorbs from the adsorption element and discharges a desorption gas containing the organic solvent; and a purge part in which a part of the desorption part where the desorption process of the adsorption element is completed transitions to the adsorption part; A concentrating device having
A cooling recovery device that cools and condenses the desorption gas or the desorption gas containing the exhaust gas to recover the organic solvent;
With
A part of the clean gas discharged from the adsorption unit is introduced into the purge unit,
The purge portion outlet gas discharged from the purge portion is mixed into the organic solvent-containing gas introduced into the adsorption portion,
The organic solvent-containing gas is introduced into the adsorption unit in a state of being heated by receiving the thermal energy of the purge unit outlet gas.
Organic solvent recovery system.

A part of the purge section outlet gas is supplied to the desorption section together with the exhaust gas and / or is supplied to the cooling recovery apparatus together with the desorption gas,
The remainder of the purge portion outlet gas is introduced into the adsorption portion together with the organic solvent-containing gas,
The temperature of the organic solvent-containing gas introduced into the adsorption unit is adjusted by adjusting the ratio of the air volume between the part of the purge unit outlet gas and the remaining part of the purge unit outlet gas.
The organic solvent recovery system according to claim 1.

An organic solvent recovery system for recovering the organic solvent from exhaust gas having an organic solvent containing temperature of about 50 ° C. to about 200 ° C.,
An adsorbing element that adsorbs the organic solvent by contacting an organic solvent-containing gas containing the organic solvent and desorbs the organic solvent adsorbed by contacting exhaust gas at a temperature higher than the organic solvent gas, An adsorbing part that adsorbs the organic solvent to the adsorbing element by introducing the organic solvent-containing gas into the adsorbing element and discharges clean gas; and the organic solvent by introducing the exhaust gas into the adsorbing element A desorption unit that desorbs from the adsorption element and discharges a desorption gas containing the organic solvent, and a purge unit in which the desorption process of the adsorption element in the desorption unit is completed before the transition to the adsorption unit A concentrating device having
A cooling recovery device that cools and condenses the desorption gas or the desorption gas containing the exhaust gas to recover the organic solvent;
With
The organic solvent-containing gas is a gas containing the organic solvent not recovered in the cooling recovery device,
The ratio of allowing the exhaust gas and the desorption gas to pass through the cooling recovery device is such that the exhaust gas is 0% to 50%, the desorption gas is 50% to 100%,
A part of the clean gas discharged from the adsorption unit is introduced into the purge unit,
The purge portion outlet gas discharged from the purge portion is mixed into the organic solvent-containing gas introduced into the adsorption portion,
The organic solvent-containing gas is introduced into the adsorption unit in a state of being heated by receiving the thermal energy of the purge unit outlet gas.
Organic solvent recovery system.

A part of the purge section outlet gas is supplied to the desorption section together with the exhaust gas and / or is supplied to the cooling recovery apparatus together with the desorption gas,
The remainder of the purge portion outlet gas is introduced into the adsorption portion together with the organic solvent-containing gas,
The temperature of the organic solvent-containing gas introduced into the adsorption unit is adjusted by adjusting the ratio of the air volume between the part of the purge unit outlet gas and the remaining part of the purge unit outlet gas.
The organic solvent recovery system according to claim 3.

The ratio of the purge unit to the adsorption unit in the concentrator is about 5% to about 50%.
The organic solvent collection | recovery system in any one of Claim 1 to 4.

The exhaust gas is a gas discharged from production equipment,
The remainder of the clean gas is returned to the production facility;
The organic solvent recovery system according to any one of claims 1 to 5.

The concentrator is
A rotation axis;
A cylindrical adsorbent as the adsorbing element provided around the rotating shaft,
By rotating the cylindrical adsorbent around the rotation axis, the adsorbing element that adsorbs the organic solvent in the organic solvent-containing gas in the adsorbing portion is continuously connected to the purge portion via the desorbing portion. To migrate to
The organic solvent recovery system according to any one of claims 1 to 6.

The ratio of passing the exhaust gas and the desorption gas to the cooling recovery device is 0% for the exhaust gas and 100% for the desorption gas.
The organic solvent recovery system according to any one of claims 1 to 7.

The organic solvent is n-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, or n-decane.
The organic solvent recovery system according to any one of claims 1 to 8.