JP2011225846A - ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】面状ムラの観点で優れるハードコート層形成用組成物を提供すること。
本発明の別の目的は、透明基材とハードコート層との密着性、及びハードコート層と該ハードコート層上に設けられた他の層との密着性に優れる光学フィルムを提供することである。
【解決手段】下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物。
（ａ）特定構造を有する含フッ素ポリマーからなるレベリング剤
（ｂ）炭酸エステル溶剤
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
【選択図】なし

Description

本発明は、ハードコート層形成用組成物、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び画像表示装置に関する。

陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面への傷付きを防止するために、透明基材上にハードコート層を有するハードコートフィルムを設けることが好適である。近年では、デジタルサイネージ、モバイル端末用途、バリアフリーパソコン等を目的としてディスプレイとタッチパネルを組合せて用いられることが広く普及してきている。ディスプレイを直接触ったり場所を動かす機会が従来より飛躍的に増加したことによって表示面が傷つく機会も多くなり、より高レベルな傷つき防止性が求められるようになってきている。
また、近年のＬＣＤのように高精細、高品位化された画像表示装置の場合には、上記表示面への傷付き防止の他に、表示面での外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するためにハードコート層上に反射防止層又は反射防止層を有する光学フィルムを設けることも行われている。

ハードコート層は、透明基材上にハードコート層形成用組成物を塗布し、硬化させて得ることができるが、ハードコート層形成用組成物を塗布する際に、レベリング性が低いと、ハードコート層の面状ムラが問題となる。
また、この問題を改善するためにハードコート層形成用組成物にレベリング剤を添加する場合、レベリング剤の表面偏在性が低いと、ハードコート層内部にもレベリング剤が多く分布し、十分な面状改良効果が得られないことがある。
更に、ハードコート層上に反射防止層又は反射防止層などの他の層を積層する場合、レベリング剤の一部がハードコート層／他の層界面に残ってしまい、密着性を悪化させることがある。
また、ハードコート層内部にレベリング剤が多く分布することにより、ハードコート層と透明基材との密着性が悪化することも知られており、改善が求められる。

また、特許文献１には、フルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する繰り返し単位を有するポリマーを含有する組成物について開示されている。

特開２００４−１６３６１０号公報

特許文献１には、フルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する繰り返し単位を有するポリマーを用いたハードコート層とその上に積層した反射防止膜との密着性（耐擦傷性）が向上することが記載されているが、近年要求されるより厳しいレベルの密着性に対しては不十分であり、良好な面状とハードコート層とその上に積層した反射防止膜との密着性の両立についてはさらに改良が求められている。また、良好な面状と、透明基材とハードコート層との密着性の両立についてもさらなる改善が求められる。

本発明の目的は、先行技術に対して、更に面状ムラの観点で優れるハードコート層形成用組成物を提供することである。
本発明の別の目的は、透明基材とハードコート層との密着性、及びハードコート層と該ハードコート層上に設けられた他の層との密着性に優れる光学フィルムを提供することである。
本発明の更なる別の目的は、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することである。

本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記手段により、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。

１．
下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物。
（ａ）下記含フッ素ポリマー（１）及び含フッ素ポリマー（２）から選ばれる少なくともいずれかのレベリング剤
含フッ素ポリマー（１）：下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位を全重合単位に対して５０質量％より多く含有するポリマー

（上記一般式［１］において、Ｒ^０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
含フッ素ポリマー（２）：下記一般式［２］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位と、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートから選ばれる少なくともいずれかに由来する重合単位とを含むポリマー

（上記一般式［２］において、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ^２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
（ｂ）炭酸エステル溶剤
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤
２．
前記（ａ）レベリング剤が前記含フッ素ポリマー（１）である上記１に記載のハードコート層形成用組成物。
３．
前記（ｂ）炭酸エステル溶剤の含有量が全溶剤に対して１０質量％以上である上記１又は２に記載のハードコート層形成用組成物。
４．
更に（ｅ）シリカ微粒子を含有する上記１〜３のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
５．
透明基材上に、上記１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有するハードコートフィルム。
６．
透明基材上に、上記１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有し、更に該ハードコート層上に反射防止層を有する光学フィルム。
７．
前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである上記６に記載の光学フィルム。
８．
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムであって、該セルロースアシレートフィルム基材のハードコート層の界面には、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在し、かつ該反射防止層が下記含フッ素ポリマー（１）であるレベリング剤を含有し、該レベリング剤がハードコート層と反射防止層との界面に存在しない光学フィルム。
含フッ素ポリマー（１）：下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位を全重合単位に対して５０質量％より多く含有するポリマー。

（上記一般式［１］において、Ｒ^０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
９．
上記６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
１０．
上記６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム又は上記１０に記載の偏光板を有する画像表示装置。
１１．
セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に上記１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成し、更に、該ハードコート層上に下記（ｆ）、（ｇ）、及び（ｈ）を含む硬化性組成物を塗布、硬化して反射防止層を形成する光学フィルムの製造方法。
（ｆ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｇ）中空シリカ微粒子
（ｈ）光重合開始剤

本発明によれば、面状ムラの観点で優れるハードコート層形成用組成物を提供することができる。また、透明基材とハードコート層との密着性、及びハードコート層と該ハードコート層上に設けられた他の層との密着性に優れる光学フィルムを提供することができる。
また、該光学フィルムの製造方法、該光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板、及び該光学フィルム又は偏光板を有する画像表示装置を提供することができる。

以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」、「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
なお、本発明においては、「モノマーに相当する繰り返し単位」、及び「モノマーに由来する繰り返し単位」とは、モノマーの重合後に得られる成分が繰り返し単位となることを意味している。

本発明のハードコート層形成用組成物は、下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有することを特徴とする。
（ａ）下記含フッ素ポリマー（１）及び含フッ素ポリマー（２）から選ばれる少なくともいずれかのレベリング剤
含フッ素ポリマー（１）：下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位を全重合単位に対して５０質量％より多く含有するポリマー

（上記一般式［１］において、Ｒ^０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
含フッ素ポリマー（２）：下記一般式［２］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する繰り返し単位と、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートから選ばれる少なくともいずれかに由来する繰り返し単位とを含むポリマー

（上記一般式［２］において、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ^２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
（ｂ）炭酸エステル溶剤
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｄ）光重合開始剤

［（ａ）レベリング剤］
本発明のハードコート層形成用組成物に含まれる前記（ａ）レベリング剤について説明する。
（ａ）レベリング剤は、前記含フッ素ポリマー（１）及び含フッ素ポリマー（２）から選ばれる少なくともいずれかである。

含フッ素ポリマー（１）は、下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位を全重合単位に対して５０質量％より多く含有するポリマーである。

（上記一般式［１］において、Ｒ^０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。）

含フッ素ポリマー（１）において、一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する繰り返し単位の含有量は、含フッ素ポリマー（１）を構成する全重合単位の５０質量％を超えるが、好ましくは７０質量％以上であり、より好ましくは８０質量％以上である。

一般式［１］においてＲ^０は、水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。
ｎは１以上１８以下の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が更に好ましく、８であることが最も好ましい。
また、含フッ素ポリマー（１）中に一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。

含フッ素ポリマー（１）において、一般式［１］は下記一般式［１−２］であることが好ましい。

（上記一般式［１−２］において、Ｒ^０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ^２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。ここで、Ｒ^２は水素原子又は置換基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基を表す。）

一般式［１−２］において、Ｒ^０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。
Ｘは酸素原子、硫黄原子、又は−Ｎ（Ｒ^２）−を表し、酸素原子又は−Ｎ（Ｒ^２）−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ^２は、水素原子又は置換基を有しても良い炭素
数１〜８のアルキル基を表し、置換基としてはフェニル基、ベンジル基、エーテル酸素などが挙げられる。水素原子又は置換基を有しても良い炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。
ｍは１〜６の整数を表し、１〜３がより好ましく、１であることが更に好ましい。
ｎは１〜１８の整数を表し、４〜１２がより好ましく、６〜８が更に好ましく、８であることが最も好ましい。
含フッ素ポリマー（１）中に、一般式［２］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの重合単位が２種類以上構成単位として含まれていても良い。

以下に一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの具体例を挙げるが、これらに限定されることはない。

含フッ素ポリマー（１）は、一般式［１］で表されるモノマーに由来する重合単位のみからなっていてもよく、一般式［１］で表されるモノマーと共重合可能な他の種類のモノマーとの共重合体であっても良い。このような共重合可能な他の種類のモノマーとしては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ ２ｎｄ ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ ２Ｐａｇｅ １〜４８３記載のものを用いることができる。
例えばアクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等を挙げることができる。

前記他の種類のモノマーとして具体的には、以下の単量体をあげることができる。
アクリル酸エステル類：
アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等、
メタクリル酸エステル類：
メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタク
リレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等、

アクリルアミド類：
アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなど。
メタクリルアミド類：
メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜６のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルメタクリルアミドなど。
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど

ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
ビニルエステル類：
ビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。

イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。

前記他の種類のモノマーとしては、これらの中でも下記一般式［３］で表されるモノマーが好ましい。
一般式［３］

（一般式［３］においてＲ^１１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（Ｒ^１３）−を表し、Ｒ^１２は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基、ポリ（アルキレンオキシ）基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基を表し、Ｒ^１３は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表す。）

一般式［３］において、Ｒ^１１は水素原子、ハロゲン原子又はメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。
Ｘは酸素原子、硫黄原子又は−Ｎ（Ｒ^１３）−を表し、酸素原子又は‐Ｎ（Ｒ^１３）‐がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。Ｒ^１３は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。

Ｒ^１２は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基、ポリオキシアルキレン基、ポリオキシアルキレン基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基（例えば、フェニル基又はナフチル基）を表す。前記置換基としてはアルキル基、ヒドロキシル基、アミノ基などが挙げられる。Ｒ^１２は、炭素数１〜１２の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基、又は総炭素数６〜１８の芳香族がより好ましく、炭素数１〜８の直鎖、分岐、又は環状のアルキル基が更に好ましく、ポリオキシアルキレン基又はポリオキシアルキレン基を含むアルキル基が特に好ましい。
以下に上記ポリ（アルキレンオキシ）基について説明する。

ポリ（アルキレンオキシ）基は（ＯＲ）ｘ又は（ＯＲ）ｘ−Ｈで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、又は−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）−であることが好ましい。
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位はポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであっても良く、直鎖又は分岐状のオキシプロピレン又はオキシエチレン単位であったり、又は直鎖又は分岐状のオキシプロピレン単位のブロック及びオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであっても良い。
このポリ（オキシアルキレン）鎖は１つ又はそれ以上の連結基（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連結基が３価以上の原子価を有する場合には、分岐状のオキシアルキレン単位が得られる。
また、ポリ（オキシアルキレン）基を有する重合単位を含む共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス［Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス）］、”トリトン“［Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ ａｎｄ Ｈａａｓ製））及びＰ．Ｅ．Ｇ（第一工業製薬（株）製）
として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。

一般式［３］で表されるモノマーの具体例としては、先に示したアルキル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、若しくはアクリルメタクリル類の具体例、及び下記のポリ（アルキレンオキシ）基を含有するものの具体例が挙げられが、これらに限定されることはない。ポリ（アルキレンオキシ）は重合度Ｘが異なるものの混合物であることが多く、具体例として示す化合物においても重合度の平均に近い整数で重合度を表している。

本発明で用いられる含フッ素ポリマー（１）を構成する前記一般式［１］で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位の量は、該含フッ素ポリマー（１）を構成する全重合単位に基づいて、５０質量％より多く、７０〜１００質量％であることがより好ましく、８０〜１００質量％でありことが更に好ましい。
本発明で好ましく用いられる一般式［３］で表されるモノマーに由来する重合単位の量は、該含フッ素ポリマー（１）を構成する全重合単位に基づいて、５０質量％より少ないことが好ましく、０〜３０質量％であることがより好ましく、０〜２０質量％であることが更に好ましい。

本発明で用いられる含フッ素ポリマー（１）のフッ素原子含有量（ポリマー全質量に対するフッ素原子の質量％）は高いほど塗布ムラ防止に効果があり、０．３質量％以上であることが好ましく、０．４質量％以上であることがより好ましく、０．５質量％以上であることが更に好ましい。

本発明で用いられる含フッ素ポリマー（１）の好ましい質量平均分子量は、２０００〜８００００が好ましく、４０００〜４００００がより好ましく、６０００〜２５０００が最も好ましい。含フッ素ポリマー（１）の質量平均分子量が上記の下限以上であることにより、レベリング剤の表面偏在性が向上するため面状ムラ改良の効果や耐擦傷性が良化し、また逆に上記の上限以下であることにより、レベリング剤の疎水性を適度に低く設定できるためはじき故障が発生し難く、また、ハードコート層上に反射防止層を形成した際にレベリング剤が反射防止層に速やかに抽出され易い。

ここで、質量平均分子量及び分子量は、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したＧＰＣ分析装置により、溶媒ＴＨＦ、示差屈折計検出によるポリスチレン換算で表した分子量である。

含フッ素ポリマー（１）は公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。若しくは場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。

以下、含フッ素ポリマー（１）の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分の質量比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。

次に、含フッ素ポリマー（２）について説明する。
含フッ素ポリマー（２）は、下記一般式［２］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位と、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートから選ばれる少なくともいずれかに由来する重合単位とを含むポリマーである。

（上記一般式［２］において、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ^２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１〜３の整数を表す。
Ｒ^２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）

含フッ素ポリマー（２）におけるフルオロ脂肪族基の一つは、テロメリゼーション法（テロマー法ともいわれる）若しくはオリゴメリゼーション法（オリゴマー法ともいわれる）により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれるものであることが好ましい。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ｏｆ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｆｌｕｏｒｉｎｅ Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ １８７，Ｅｄ ｂｙ Ｍｉｌｏｓ Ｈｕｄｌｉｃｋｙ ａｎｄ Ａｔｔｉｌａ Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ １９９５）の７４７−７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、
ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。

得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば［Ｓｃｈｅｍｅ２］のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、更に所望のモノマー構造へと変換されフルオロ脂肪族基含有ポリマーの製造に使用される。

含フッ素ポリマー（２）における前記一般式［２］においては、Ｒ^１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子、又は−Ｎ（Ｒ２）−を表す。ここでＲ^２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。Ｘは酸素原子がより好ましい。
一般式［２］中のｍは１以上６以下の整数が好ましく、２が特に好ましい。
一般式［２］中のｎは１〜３であって、１〜３の混合物を用いてもよく、２〜３が好ましい。
一般式［２］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下に挙げるがこの限りではない。

次に、含フッ素ポリマー（２）におけるポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートについて説明する。
ポリオキシアルキレン基は（ＯＲ）ｘで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−、又は−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）−であることが好ましい。
前記のポリ（オキシアルキレン）基中のオキシアルキレン単位はポリ（オキシプロピレン）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のオキシアルキレンが不規則に分布されたものであっても良く、直鎖又は分岐状のオキシプロピレン又はオキシエチレン単位であったり、又は直鎖又は分岐状のオキシプロピレン単位のブロック及びオキシエチレン単位のブロックのように存在するものであっても良い。
このポリ（オキシアルキレン）鎖は１つ又はそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など：Ｐｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つ又はそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のオキシアルキレン単位を得るための手段を供する。またこの共重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（オキシアルキレン）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（オキシアルキレン）材料、例えば商品名“プルロニック”［Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製）、アデカポリエーテル（旭電化工業（株）製）“カルボワックス［Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス）］、”トリトン“［Ｔｏｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍａｎｄ Ｈａａｓ製））及びＰ．Ｅ．Ｇ（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。別に、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。

含フッ素ポリマー（２）の特に好ましい態様としては、一般式［２］で表されるモノマーとポリオキシエチレン（メタ）アクリレートとポリオキシアルキレン（メタ）アクリレートとの３種以上のモノマーを共重合したポリマーである。ここでポリオキシアルキレン（メタ）アクリレートは、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレートとは異なるモノマーである。
より好ましくは、ポリオキシエチレン（メタ）アクリレートとポリオキシプロピレン（メタ）アクリレートと一般式［２］で表されるモノマーとの３元共重合体である。
ポリオキシエチレン（メタ）アクリレートの好ましい共重合比率としては、全モノマー中の０．５モル％以上２０モル％以下、より好ましくは１モル％以上１０モル％以下である。

含フッ素ポリマー（２）は、下記一般式［４］で表されるモノマーに由来する重合単位を含んでいてもよい。

（一般式［４］において、Ｒ^１３は水素原子、メチル基を表し、Ｙは２価の連結基を表す。Ｒ^１４は置換基を有しても良い炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐又は環状のアルキル基を表す。）

Ｙとしては、酸素原子、イオウ原子、−Ｎ（Ｒ^１５）−、等が好ましい。ここでＲ^１５は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。Ｒ^１５のより好ましい形態は水素原子及びメチル基である。Ｙは、酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−、−Ｎ（ＣＨ_３）−がより好ましい。
Ｒ^１４のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等が挙げられるがこの限りではない。炭素数４以上２０以下の直鎖、分岐又は環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。

一般式［４］で示されるモノマーのより具体的には次に示すモノマーがあげられるがこの限りではない。

含フッ素ポリマー（２）には、一般式［２］で表されるモノマーとポリ（オキシアルキレン）アクリレート及び／又はポリ（オキシアルキレン）メタクリレート、及び必要に応じて一般式［４］で表されるモノマーに由来する繰り返し単位を含むが、これ以外に、これらと共重合可能なモノマーを反応させることができる。
この共重合可能なモノマーの好ましい共重合比率としては、全モノマー中の２０モル％以下、より好ましくは１０モル％以下である。
このような単量体としては、ＰｏｌｙｍｅｒＨａｎｄｂｏｏｋ ２ｎｄ ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ ２Ｐａｇｅ １〜４８３記載のものを用いることができる。例えばアクリル酸、メタクリル
酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。

共重合可能なモノマーとしては、具体的には、以下の単量体をあげることができる。
アクリル酸エステル類： アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、クロルエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート等、メタクリル酸エステル類：メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、クロルエチルメタクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、トリメチロールプロパンモノメタクリレート、ベンジルメタクリレート、メトキシベンジルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等、

アクリルアミド類： アクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルアクリルアミドなど。
メタクリルアミド類： メタクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの、例えばメチル基、エチル基、プロピル基）、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリルアミド（アルキル基としては炭素数１〜３のもの）、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ−アセチルメタクリルアミドなど。
アリル化合物： アリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど

ビニルエーテル類： アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなどビニルエステル類：ビニルビチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど。

イタコン酸ジアルキル類： イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど。
フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類： ジブチルフマレートなど。
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど。

含フッ素ポリマー（２）中に用いられる一般式［２］で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該含フッ素ポリマー（２）に用いられる全単量体に対して５〜９０質量％であることが好ましく、より好ましくは８〜８０質量％であり、更に好ましくは１０〜７０質量％の範囲である。
ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及び／又はポリ（オキシアルキレン）メタクリレートの量は、該含フッ素ポリマー（２）に用いられる全単量体に対して１０〜８０質量％であることが好ましく、より好ましくは２０〜７５質量％であり、更に好ましくは３０〜７０質量％である。
含フッ素ポリマー（２）における一般式［４］で表されるモノマーの量は、該含フッ素ポリマー（２）に用いられる全単量体に対して、０〜４０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜３０質量％であり、更に好ましくは２〜２０質量％である。

含フッ素ポリマー（２）の質量平均分子量は、２０００〜８００００が好ましく、４０００〜４００００がより好ましく、６０００〜２５０００が最も好ましい。含フッ素ポリマー（２）の質量平均分子量が上記の下限以上であることにより、レベリング剤の表面偏在性が向上するため面状ムラ改良の効果や耐擦傷性が良化し、また逆に上記の上限以下であることにより、レベリング剤の疎水性を適度に低く設定できるためはじき故障が発生し難く、また、ハードコート層上に反射防止層を形成した際にレベリング剤が反射防止層に速やかに抽出され易い。

含フッ素ポリマー（２）は公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、ポリオキシアルキレン基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を有機溶媒中、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造てきる。若しくは場合によりその他の付加重合性不飽和化合物とを、添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。

以下、含フッ素ポリマー（２）の具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Ｍｗは質量平均分子量を表す。

本発明において、レベリング剤は、ハードコート層の塗布ムラを解消するために、ハードコート層表面に十分量が並ぶことが望ましい。しかしながら、ハードコート層の上に反射防止層を積層する際、ハードコート層に含有されたレベリング剤が、ハードコート層と反射防止層との界面に残ったままだと密着性を悪化させ、耐擦傷性を著しく減損させてしまう。このため、レベリング剤は反射防止層を積層した際に速やかに反射防止層中に抽出され、界面に残らないことが重要となる。含フッ素ポリマー（１）は、フルオロ脂肪族基の末端が水素原子であることにより、末端がフッ素原子である含フッ素ポリマー（２）よりも上層の塗布液をはじきにくく、速やかに上層に抽出されて、反射防止層とハードコート層との界面に残り難いという理由から、含フッ素ポリマー（１）がより好ましい。

本発明のハードコート層形成用組成物中の（ａ）レベリング剤の含有量は、十分なレベリング性を付与して塗布ムラを改良してかつハードコート層と他の層の界面に残存しないよう十分少なく設定する必要がある理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．０００５質量％〜２．５質量％が好ましく、０．００５質量％〜０．５質量％がより好ましい。

［（ｂ）炭酸エステル溶剤］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｂ）炭酸エステル溶剤について説明する。

前記（ａ）レベリング剤は含フッ素ポリマーであるため疎水性を示す。本発明のハードコート層形成用組成物には、溶剤として親水性を示す（ｂ）炭酸エステル溶剤を使用することで、疎水的な（ａ）レベリング剤をハードコート層の表面に偏在させることができる。更に、炭酸エステル溶剤を用いることでレベリング剤の添加量を少なくすることも期待される。

（ｂ）炭酸エステル溶剤としては、下記一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるものが好ましい。

式中、Ｒａ、Ｒｂは、それぞれ独立して、アルキル基を表す。ＲＣはアルキレン基を表す。

一般式（ＩＶ）及び一般式（Ｖ）について説明する。
式中、Ｒａ、Ｒｂは、それぞれ独立に、炭素数１〜３のアルキル基が好ましく、ＲＣは炭素数２又は２のアルキレン基が好ましい。
炭素数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。一般式（１）の溶剤として具体的には、例えば、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジ−ｎ−プロピルカーボーネート、ジイソプロピルカーボネート、非対称の例としては、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネート、エチルｎ−プロピルカーボネートが挙げられる。
炭素数２又は３のアルキレン基としては、エチレン基、イソプロピレン基が挙げられる。一般式（２）の溶剤としては、具体的には、例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピレンが挙げられる。

一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるカルボネート系溶剤は、セルロースアシレートフィルムを短時間で膨潤・溶解する溶剤であり、ハードコート層とセルロースアシレートフィルムとの密着性を良好にするとともに、ＴＡＣ（セルローストリアセテート）フィルムに塗工する場合、例えばワイヤーバーコート法、ダイコート法等で塗工する時に、レベリング性が良好となる。特に単層流延法によって作成されたＴＡＣフィルムは、複数層共流延法と比較し、フィルム表面の平滑性が劣る傾向があり、防眩層をウエット塗工した際に生じるＴＡＣフィルムの平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が発生し易いが、沸点が８０℃以上、好ましくは８５℃以上の溶剤を使用すると、平面性不良起因の筋状の塗工ムラ等が改善できる傾向があり、塗工適性上優位である。
一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるカルボネート系溶剤の沸点は、８５℃以上が好ましく、９０℃以上１４０℃以下であることが、耐薬品性向上の観点から好ましい。
一般式（ＩＶ）又は一般式（Ｖ）で表されるカルボネート系溶剤のなかでも、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネートが好ましく、ジメチルカーボーネートがより好ましい。

溶剤としては、塗工時の乾燥性、更なるレベリング性向上等を考慮し、炭酸エステル溶剤以外の有機溶剤を、密着性、塗工時のレベリング性が低下しない範囲で使用できる。
係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

本発明のハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は１〜７０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは２０〜７０質量％であり、最も好ましくは３０〜６５質量％である。（ｂ）炭酸エステル溶剤の含有量は、レベリング剤を十分表面に偏在させるようコントロールできる量以上必要で、またハードコート層に含有される他の素材の塗布液への溶解性の調整の観点から、全溶剤に対して１０質量％以上が好ましく、１０質量％〜７０質量％がより好ましく、１５質量％〜６０質量％が更に好ましい。

［（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物について説明する。
（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。該重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。

（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。

重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるい
はプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４-ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、１，６-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコール(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。

本発明のハードコート層形成用組成物中の（ｃ）不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、７０〜９９質量％が好ましく、８０〜９９質量％がより好ましい。

［（ｄ）光重合開始剤］
次に、本発明のハードコート層形成用組成物に含有される（ｄ）光重合開始剤について説明する。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

本発明のハードコート層形成用組成物中の（ｄ）光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。

本発明のハードコート層形成用組成物には、上記した以外の成分を添加することもできる。特に、（ｅ）シリカ微粒子を含有することは、シリカ微粒子が親水的であることによりレベリング剤の表面偏在性が向上し、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができるという理由から好ましい。また、これ以外にも屈折率を制御する効果や架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。

［（ｅ）シリカ微粒子］
シリカ微粒子のサイズ（１次粒径）は１５ｎｍ以上１００ｎｍ未満、更に好ましくは２０ｎｍ以上８０ｎｍ以下、最も好ましくは２５ｎｍ以上６０ｎｍ以下であり、微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子の粒径が小さすぎると、レベリング剤の表面偏在性を高める効果が少なくなり、大きすぎるとハードコート層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球形が最も好ましいが、不定形等の球形以外であっても問題無い。また、シリカ微粒子は粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いてもよい。

本発明に使用することができるシリカ微粒子は塗布液中での分散性向上、膜強度向上のために表面処理を施していてもよく、表面処理方法の具体例及びその好ましい例は、特開２００７−２９８９７４号公報の［０１１９］〜［０１４７］に記載のものと同様である。

シリカ微粒子の具体的な例としては、ＭｉＢＫ−ＳＴ、ＭｉＢＫ−ＳＤ（以上、平均粒子径１５ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）、ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（平均粒子径５０ｎｍ、日産化学工業（株）製シリカゾル）などを好ましく用いることができる。

［導電性化合物］
本発明の光学フィルムハードコート層は、帯電防止性を付与する目的で導電性化合物を含有してもよい。特に、親水性を有する導電性化合物を用いることにより、レベリング剤の表面偏在性を向上させることができ、面状ムラ防止、耐擦傷性を更に向上させることができる。導電性化合物に親水性を持たせるためには、親水性基を導電性化合物に導入してもよく、親水性基としては、高い導電性を発現させ、かつ比較的安価である観点から、カチオン性基を有することが好ましく、中でも４級アンモニウム塩基を有することがより好ましい。

本発明に用いられる導電性化合物は、特に制限はないが、イオン導電性化合物又は電子伝導性化合物が挙げられる。イオン導電性化合物としては、カチオン性、アニオン性、非イオン性、両性等のイオン導電性化合物が挙げられる。電子伝導性化合物としては、芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である電子伝導性化合物が挙げられる。これらの中では帯電防止性能が高く、比較的安価で、更に基材側領域に偏在させる観点から、４級アンモニウム塩基を有する化合物（カチオン系化合物）が好適である。

４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型又は高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型カチオン系帯電防止剤がより好ましく用いられる。高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、基材側領域に偏在させる観点から、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で現される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。

一般式（Ｉ）中、Ｒ_１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子又は−ＣＨ_２ＣＯＯ⁻Ｍ^＋を表す。Ｙは水素原子又は−ＣＯＯ⁻Ｍ^＋を表す。Ｍ^＋はプロトン又はカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−又は−Ｏ−を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。

式中、Ｒ_２、Ｒ_２'及びＲ_２"は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基又はアリーレン基を表す。Ｘ⁻はアニオンを表す。ｐ及びｑは、それぞれ独立に、０又は１を表す。

一般式（ＩＩ）、（ＩＩＩ）中、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ_３とＲ_４及びＲ_５とＲ_６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。Ａ、Ｂ及びＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ_７ＣＯＲ_８−、−Ｒ_９ＣＯＯＲ_１０ＯＣＯＲ_１１−、−Ｒ_１２ＯＣＲ_１３ＣＯＯＲ_１４−、−Ｒ_１５−（ＯＲ_１６）_ｍ−、−Ｒ_１７ＣＯＮＨＲ_１８ＮＨＣＯＲ_１９−、−Ｒ_２０ＯＣＯＮＨＲ_２１ＮＨＣＯＲ_２２−又は―Ｒ_２３ＮＨＣＯＮＨＲ_２４ＮＨＣＯＮＨＲ_２５−を表す。Ｅは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ_７ＣＯＲ_８−、−Ｒ_９ＣＯＯＲ_１０ＯＣＯＲ_１１−、−Ｒ_１２ＯＣＲ_１３ＣＯＯＲ_１４−、−Ｒ_１５−（ＯＲ_１６）_ｍ−、−Ｒ_１７ＣＯＮＨＲ_１８ＮＨＣＯＲ_１９−、−Ｒ_２０ＯＣＯＮＨＲ_２１ＮＨＣＯＲ_２２−又は―Ｒ_２３ＮＨＣＯＮＨＲ_２４ＮＨＣＯＮＨＲ_２５−又は−ＮＨＣＯＲ_２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ_７、Ｒ_８、Ｒ_９、Ｒ_１１、Ｒ_１２、Ｒ_１４、Ｒ_１５、Ｒ_１６、Ｒ_１７、Ｒ_１９、Ｒ_２０、Ｒ_２２、Ｒ_２３、Ｒ_２５及びＲ_２６はアルキレン基を表す。Ｒ_１０、Ｒ_１３、Ｒ_１８、Ｒ_２１及びＲ_２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基及びアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。Ｘ⁻はアニオンを表す。Ｚ_１、Ｚ_２は−Ｎ＝Ｃ−基とともに５員又は６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ^＋［Ｘ⁻］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。ｎは５〜３００の整数を表す。

一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数１〜４の分岐又は直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。

一般式（Ｉ）において、Ｒ_１は水素原子が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基である。
Ｑは、好ましくは群Ａから選ばれる下記一般式（ＶＩ）であり、Ｒ_２、Ｒ_２'及びＲ_２"は各々メチル基である。
Ｘ⁻は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、
好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。ｐ及びｑは、好ましくは０又は１であり、より好ましくはｐ＝０、ｑ＝１である。

一般式（ＩＩ）及び（ＩＩＩ）において、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６は、好ましくは炭素数１〜４の置換又は無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。Ａ、Ｂ及びＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ⁻は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、
好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくはＥは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。Ｚ_１、Ｚ_２が、−Ｎ＝Ｃ−基とともに形成する５員又は６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。

以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造のユニットを有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｒ及び実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。

上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。

電子伝導性化合物としては、好ましくは芳香族炭素環又は芳香族ヘテロ環を、単結合又は二価以上の連結基で連結した非共役高分子又は共役高分子である。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族炭素環としては、例えばベンゼン環が挙げられ、更に縮環を形成してもよい。非共役高分子又は共役高分子における前記芳香族ヘテロ環としては、例えばピリジン環、ビラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、インドール環、カルバゾール環、ペンゾイミダゾール環、イミダゾピリジン環などが挙げられ、更に縮環を形成してもよく、置換基を有してもよい。

また、非共役高分子又は共役高分子における前記二価以上の連結基としては、炭素原子、珪素原子、窒素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子、金属、金属イオンなどで形成される連結基が挙げられる。好ましくは、炭素原子、窒素原子、珪素原子、硼素原子、酸素原子、硫黄原子及びこれらの組み合わせから形成される基であり、組み合わせにより形成される基としては、置換若しくは無置換のメチレン基、カルボニル基、イミノ基、スルホニル基、スルフィニル基、エステル基、アミド基、シリル基などが挙げられる。

電子伝導性化合物としては、具体的には、置換又は非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン、又はこれらの誘導体等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもでき、導電性ポリマーを構成し得るモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーも用いることができる。

電子伝導性化合物としては、共役高分子であることが更に好ましい。共役高分子の例としては、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリフルオレン、ポリアズレン、ポリ（パラフェニレンサルファイド）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）、複鎖型共役系高分子（ポリペリナフタレンなど）、金属フタロシアニン系高分子、その他共役系高分子（ポリ（パラキシリレン）、ポリ［α−（５，５’−ビチオフェンジイル）ベンジリデン］など）、又はこれらの誘導体等が挙げられる。
好ましくはポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（パラフェニレンビニレン）、ポリ（２，５−チエニレンビニレン）が挙げられ、より好ましくはポリチオフェン、ポリアニリン、ポリピロール又はこれらの誘導体、更に好ましくはポリチオフェン及びその誘導体の少なくともいずれかが挙げられる。

以下に、電子伝導性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。また、これらの他にも、国際公開第９８／０１９０９号記載の化合物等が挙げられる。

本発明で用いる電子伝導性化合物の質量平均分子量は、１，０００〜１，０００，０００が好ましく、より好ましくは１０，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。ここで質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより測定されるポリスチレン換算質量平均分子量である。

本発明で用いる電子伝導性化合物は、塗布性及び他の成分との親和性付与の観点から、有機溶剤に可溶であることが好ましい。ここで、「可溶」とは溶剤中に単一分子状態又は複数の単一分子が会合した状態で溶解しているか、粒子径が３００ｎｍ以下の粒子状に分散されている状態を指す。
一般に、電子伝導性化合物は水を主成分とする溶媒に溶解することから、化合物としては親水性を有するが、このような電子伝導性化合物を有機溶剤に可溶化するには、電子伝導性化合物を含む組成物中に、有機溶剤との親和性を上げる化合物（例えば可溶化補助剤等）や有機溶剤中での分散剤等を添加する、あるいは疎水化処理したポリアニオンドーパントを用いることにより、有機溶剤に可溶化することができる。これらの方法により本発明で示される有機溶剤へも溶解可能となるが、化合物としての親水性は残っており、本発明の方法を適用すれば導電性化合物の偏在が可能である。

導電性化合物として４級アンモニウム塩基を有する化合物が用いられる場合、元素分析（ＥＳＣＡ）による帯電防止層表面側の窒素又は硫黄の窒素原子量が０．５〜５ｍｏｌ％であることが好ましい。この範囲であれば良好な帯電防止性が得易い。より好ましくは０．５〜３．５ｍｏｌ％であり、更に好ましくは０．５〜２．５ｍｏｌ％である。

本発明のハードコート層には、これらの他に更に添加剤を含有することも可能である。更に含有し得る添加剤としては、ポリマーの分解を抑える目的で、紫外線吸収剤、亜リン酸エステル、ヒドロキサム酸、ヒドロキシアミン、イミダゾール、ハイドロキノン、フタル酸、などを挙げることができる。また、膜強度を高める目的で無機微粒子、ポリマー微粒子、シランカップリング剤、屈折率を下げて透明性を高める目的でフッ素系化合物（特に、フッ素系界面活性剤）、内部散乱性付与の目的でマット粒子などを挙げることができる。

［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、透明基材上に前記ハードコート層形成用組成物を用いて形成されたハードコート層を有する。
本発明の光学フィルムは、透明基材上にハードコート層を有し、更に目的に応じて、必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。例えば、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層などを設けることができる。

本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。
透明基材／ハードコート層
透明基材／ハードコート層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
透明基材／ハードコート層／防眩層

本発明の光学フィルムは、透明基材上に、ハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有し、ハードコート層中、（ａ）レベリング剤は該ハードコート層の表面側（透明基材と反対側の界面側）に偏在して存在する。（ａ）レベリング剤がハードコート層の表面側に存在することで、ハードコート層の面状を改良することができる。また、該ハードコート層上にその他の層を積層した場合、ハードコート層の表面側に存在する（ａ）レベリング剤は速やかに該その他の層に抽出されて、ハードコート層／その他の層界面に残りにくいため、ハードコート層とその他の層との密着性を向上させることもできる。

本明細書において、「（ａ）レベリング剤が、ハードコート層の表面側（透明基材と反対側の界面側）に偏在して存在する」とは、ハードコート層の最表面にレベリング剤のフルオロ脂肪族基が吸着していることを表し、偏在の度合いは、レベリング剤の添加量を数点振った組成物を用いてハードコート層を作製し、ハードコート層表面の表面自由エネルギーを測定することで推測することが出来る。レベリング剤の添加量を増やすと、表面自由エネルギーは低減しやがて飽和するが、飽和値に到達するのに必要な添加量が少ないほどレベリング剤の偏在性が良いと推測することができる。炭酸エステル溶剤を用いると、他の溶剤と比較してレベリング剤の偏在性に優れるため、表面自由エネルギーが飽和値に到達するのに必要な添加量を少なくすることができる。なお、ハードコート層の表面自由エネルギーは、ハードコート層表面の複数種の標準溶液に対する接触角を測定し、Ｄ． Ｋ． Ｏｗｅｎｓ ａｎｄ Ｒ． Ｃ． Ｗｅｎｄｔ， Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｓｃｉ．， １３， １７４１〜１７４７ （１９６９）に記載のオーウェンスの式などを用いて算出することが出来る。標準溶液としては、水やヨウ化メチレンが好ましく用いられる。

本明細書において、「ハードコート層上にその他の層を積層した場合、ハードコート層の表面側に存在する（ａ）レベリング剤は速やかに該その他の層に抽出」されることは、ハードコート層のみを形成した光学フィルムを、隣接する反射防止層形成用塗布液に用いる溶媒に浸漬して溶出物を取り除いた後、その表面をＸ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）で分析したフッ素原子量を測定することで推測することができる。具体的には、炭素原子量に対するフッ素原子量の割合であるＦ／Ｃの値を用いることが出来、Ｆ／Ｃが小さい方が、ハードコート層上にその他の層を積層した場合に、レベリング剤がハードコート層／その他の層界面に残りにくいと推測出来る。

［透明基材］
本発明の光学フィルムにおいては、透明基材（支持体）として種々用いることができるが、セルロース系ポリマーを含む基材が好ましく、セルロースアシレートフィルムを用いることがより好ましい。
セルロースアシレートフィルムとしては、特に限定されないが、ディスプレイに設置する場合は、セルローストリアセテートフィルムを偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてそのまま用いることができるため、生産性やコストの点でセルローストリアセテートフィルムが特に好ましい。
セルロースアシレートフィルムの厚さは、通常、２５μｍ〜１０００μｍ程度であるが、取り扱い性が良好で、かつ必要な基材強度が得られる４０μｍ〜２００μｍが好ましい。

本発明ではセルロースアシレートフィルムに、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算に従う。セルロースアシレートの粘
度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることが更に好ましい。

また、本発明に使用するセルロースアシレートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の値が１．０に近いこと、換言すれば分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．３〜１．６５であることが更に好ましく、１．４〜１．６であることが最も好ましい。

一般に、セルロースアシレートの２，３，６位の水酸基は全体の置換度の１／３ずつに均等に分配されるわけではなく、６位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの６位水酸基の置換度が、２，３位に比べて多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して６位の水酸基が３２％以上アシル基で置換されていることが好ましく、更には３３％以上、特に３４％以上であることが好ましい。更にセルロースアシレートの６位アシル基の置換度が０．８８以上であることが好ましい。６位水酸基は、アセチル基以外に炭素数３以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、ＮＭＲによって求めることができる。

本発明ではセルロースアシレートとして、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４、実施例、合成例１、段落番号００４８〜００４９、合成例２、段落番号００５１〜００５２、合成例３に記載の方法で得られたセルロースアセテートを用いることができる。

［ハードコート層の物性］
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性能を得るための光学設計から、１．４８〜１．６５であることが好ましい。更に望ましくは１．４８〜１．６０、最も好ましくは１．４８〜１．５５である。

ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、０．５μｍ〜２０μｍとし、好ましくは１μｍ〜１０μｍ、更に好ましくは１μｍ〜５μｍである。
また、ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

［反射防止層］

（低屈折率層）
本発明の光学フィルムは、前記ハードコート層上に直接又は他の層を介して低屈折率層を有することが好ましい。この場合、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムとして機能することができる。
低屈折率層をハードコート層上に直接設ける場合には、層厚２００ｎｍ以下の薄膜層とすることが好ましい。更に、光学層厚で設計波長の約１／４の層厚で形成すればよい。但し、最も単純な構成である低屈折率層１層で反射防止を行う１層薄膜干渉型の場合は、反射率０．５％以下を満足し、かつ、ニュートラルな色味、高い耐擦傷性、耐薬品性、耐候性を有する実用的な低屈折率材料がないため、更に低反射化が必要な場合には、ハードコート層と低屈折率層との間に高屈折率層を形成する２層薄膜干渉型、又は、ハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層を順次形成する３層薄膜干渉型など、多層の光学干渉によって反射を防止する多層薄膜干渉型反射防止フィルムとすればよい。
この場合、低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．５１であることが好ましい。１．３０〜１．４６であることが好ましく、１．３２〜１．３８が更に好ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。

低屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分としては公知のものを用いることができ、具体的には特開２００７−２９８９７４号公報に記載の含フッ素硬化性樹脂と無機微粒子を含有する組成物や、特開２００２−３１７１５２号公報、特開２００３−２０２４０６号公報、及び特開２００３−２９２８３１号公報に記載の中空シリカ微粒子含有低屈折率コーティングを好適に用いることができる。

（高屈折率層及び中屈折率層）
高屈折率層の屈折率は、１．６５〜２．２０であることが好ましく、１．７０〜１．８０であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．６５であることが好ましく、１．５８〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。

中屈折率層、高屈折率層は上記屈折率範囲の層であれば特に限定されないが、構成成分として公知のものを用いる事ができ、具体的には特開２００８−２６２１８７の段落番号［００７４］〜［００９４］に示される。

（防眩層）
本発明では前記帯電防止層とは別に表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で防眩層を形成してもよい。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。

本発明の光学フィルムとして、特に好ましい態様は、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムであって、該セルロースアシレートフィルム基材のハードコート層の界面には、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在し、かつ該反射防止層が前記含フッ素ポリマー（１）であるレベリング剤を含有し、該レベリング剤がハードコート層と反射防止層との界面に存在しない光学フィルムである。
ここで、ハードコート層とは、ハードコート層成分が含まれている部分全体を指し、基材とは、ハードコート層成分を含まない部分を示すこととする。
本発明の光学フィルムでは、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在している。このように各成分が混じり合うことにより、基材とハードコート層の密着性が向上する。基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さは、ハードコート層全体の厚さに対して５％以上９９％以下であることが好ましく、１５％以上９８％以下であることが更に好ましく、３０％以上９５％以下であることが最も好ましい。混在した領域が５％未満であると基材とハードコート層との密着性が不十分になり、また１００％であるとハードコート層の最表面に基材成分が露出するため、反射防止層との密着性を阻害する。
また、混在した領域は、フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析した時に、基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分として測定することができ、この領域の膜厚も同様にＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定することができる。

ハードコート層と反射防止層との界面に残存するレベリング剤の存在量は、ハードコート層中の表面から５ｎｍに残存するレベリング剤の量として調べることができ、ハードコート層のみを形成した光学フィルムを反射防止層形成用塗布液に用いる溶媒に浸漬して溶出物を取り除いた後、その表面をＸ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）で分析したフッ素原子量を測定することで推測することができる。ハードコート層におけるレベリング剤の偏在性が高ければ、レベリング剤は溶媒に速やかに抽出されるためフッ素原子が検出されなくなり、逆に偏在性が低いものの場合は抽出されにくく、また、浸漬後も内部からのブリードアウトにより表面にフッ素原子が検出される。
界面に残存するレベリング剤の存在量としては、上記の方法で検出したフッ素原子の量を炭素原子の量で除した値（Ｆ／Ｃ）が、０．５以下であることが好ましく、０．２以下であることがさらに好ましく、これによりハードコート層と反射防止層との結合が強化され、耐擦傷性を向上させることができる。なお、レベリング剤がハードコート層と反射防止層との界面に存在しないとは、上記の方法で検出したフッ素原子の量を炭素原子の量で除した値（Ｆ／Ｃ）が、０．２以下であることを指す。

（光学フィルムの製造方法）
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まずハードコート層形成用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。

塗布した後、乾燥、光照射してハードコート層形成用組成物から形成される層を硬化し、これによりハードコート層が形成される。必要に応じて、透明基材上にあらかじめその他の層を塗設しておき、その上にハードコート層を形成することも可能である。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。また必要に応じて前記したようなその他の層を設けることもできる。本発明の光学フィルムの製造方法において、複数の層を同時に塗布してもよいし、逐次塗布してもよい。

本発明の光学フィルムの製造方法の特に好ましい態様としては、セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムの製造方法であって、該基材上に前記ハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成し、更に、該ハードコート層上に下記（ｆ）、（ｇ）、及び（ｈ）を含む硬化性組成物を塗布、硬化して反射防止層を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法である。
（ｆ）不飽和二重結合を有する化合物
（ｇ）中空シリカ微粒子
（ｈ）光重合開始剤

（ｆ）不飽和二重結合を有する化合物
本発明では、不飽和二重結合を有する化合物を反射防止層のバインダーとして機能させることができる。不飽和二重結合を有する化合物としては、特に制限はないが、低屈折率化の観点から、含フッ素化合物を用いることが好ましい。含フッ素化合物は重合体であっても低分子であってもよい。

（重合性不飽和基を有する含フッ素重合体）
重合性不飽和基を有する含フッ素重合体は、少なくとも一種の含フッ素ビニルモノマーを重合して得ることが好ましい。
含フッ素ビニルモノマーとしてはフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン等）、（メタ）アクリル酸の部分又は完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（商品名、大阪有機化学製）やＲ−２０２０（商品名、ダイキン製）等）、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。これらの含フッ素ビニルモノマーの組成比を上げれば屈折率を下げることができるが、皮膜強度は低下する。本発明では共重合体のフッ素含率が２０〜６０質量％となるように含フッ素ビニルモノマーを導入することが好ましく、より好ましくは２５〜５５質量％の場合であり、特に好ましくは３０〜５０質量％の場合である。

上記含フッ素ビニルモノマーと架橋反応性付与のために下記（Ａ１）、（Ｂ１）、（Ｃ１）で示される単位との共重合体が好ましく利用できる。

（Ａ１）：グリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、
（Ｂ１）：カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、
（Ｃ１）：分子内に上記（Ａ１）、（Ｂ１）の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記（Ａ１）、（Ｂ１）の構成単位と反応させて得られる構成単位、（例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位）が挙げられる。

上記（Ｃ１）の構成単位は該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば（メタ）アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、ｏ−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、１，２，３−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは１種のみでなく２種以上であってもよい。これらのうち、（メタ）アクリロイル基及びシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。

光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、例えば下記４つの方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
・水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法
・水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する（メタ）アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法・エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、（メタ）アクリル酸を反応させてエステル化する方法
・カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法

上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機粒子共存
時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。

本発明に有用な重合体では上記含フッ素ビニルモノマーから導かれる繰返し単位及び側鎖に（メタ）アクリロイル基を有する繰返し単位以外に、基材への密着性、ポリマーのＴｇ（皮膜硬度に寄与する）、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜他のビニルモノマーを共重合することもできる。これらのビニルモノマーは目的に応じて複数を組み合わせてもよく、合計で共重合体中の０〜６５モル％の範囲で導入されていることが好ましく、０〜４０モル％の範囲であることがより好ましく、０〜３０モル％の範囲であることが特に好ましい。

併用可能なビニルモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸２‐ヒドロキシエチル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル等）、スチレン誘導体（スチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、不飽和カルボン酸類（アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等）、アクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類（Ｎ、Ｎ−ジメチルメタクリルアミド）、アクリロニトリル等を挙げることができる。

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類又はビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基（（メタ）アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等）を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の５〜７０ｍｏｌ％を占めていることが好ましく、特に好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％の場合である。好ましいポリマーについては、特開２００２−２４３９０７号、特開２００２−３７２６０１号、特開２００３−２６７３２号、特開２００３−２２２７０２号、特開２００３−２９４９１１号、特開２００３−３２９８０４号、特開２００４−４４４４号、特開２００４−４５４６２号の各公報に記載のものを挙げることができる。

本発明の含フッ素ポリマーには防汚性、及び耐擦傷性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていても良い。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平６−９３１００号、特開平１１−１８９６２１号、同１１−２２８６３１号、特開２０００−３１３７０９号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平２−２５１５５５号、同２−３０８８０６号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。特に好ましい化合物としては、特開平１１−１８９６２１号の実施例１、２、及び３のポリマー、又は特開平２−２５１５５５号の共重合体Ａ−２及びＡ−３を挙げることができる。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の０．５〜１０質量％であることが好ましく、特に好ましくは１〜５質量％である。

重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体の好ましい分子量は、質量平均分子量が５０００以上５０００００未満であり、より好ましくは１００００以上５０００００未満であり、更に好ましくは１５０００以上２０００００未満であり、最も好ましくは１５０００以上１０００００未満である。質量平均分子量が５０００以上であれば塗布性に優れ、ハ
ジキやムラ（塗膜の膜厚の面内バラツキ）が生じにくいため好ましい。また、質量平均分子量が５０００００未満であれば溶剤への溶解性が良好なため好ましい。
また、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体として、平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うこともできる。

（重合性不飽和基を有する多官能モノマー）
本発明では、反射防止層用組成物に含まれる重合性二重結合を有する化合物としては、特に規定は無いが、重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーを含むことが好ましい。重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができる。重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体と重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーとを併用することで、耐擦傷性あるいは薬品処理後の耐擦傷性を向上させることができる。
重合性二重結合を３つ以上有する多官能モノマーは、フッ素を含んでいないものでも、フッ素を含んでいるものでもよい。

本発明に用いられる非含フッ素多官能モノマーについて説明する。該モノマーとしては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性二重結合を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。

重合性二重結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。

中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、同ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
非含フッ素多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。

（ｇ）無機微粒子
本発明では、低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から、低屈折率層に無機微粒子を用いる。該無機微粒子は、平均粒子サイズが５〜１２０ｎｍであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。

多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。

また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。

本発明において中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ^２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ^２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ^２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることができる。

本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。

［中空微粒子の調製方法］
中空微粒子の好ましい製造方法を以下に記載する。第１段階として、後処理で除去可能なコア粒子形成、第２段階としてシェル層形成、第３段階としてコア粒子の溶解、必要に応じて第４段階として追加シェル相の形成である。具体的には中空粒子の製造は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報に記載されている中空シリカ微粒子の製造方法に準じて行うことができる。

（被覆粒子）
シェル厚を厚くすることで粒子表面の吸着サイトを減少させ、吸着水量を低減することが可能であり、好ましい。更に導電性の成分でシェルを形成すると導電性も付与することができて好ましい。特に好ましくは、コア粒子としてシリカ系の多孔質又は中空の粒子を用い、シェルとして、ＺｎＯ_２、Ｙ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_５、ＡＴＯ、ＩＴＯ、ＳｎＯ_２を用いる組み合わせである。被覆粒子については特開２００８−２４２３１４の段落番号［００３３］〜［００４０］に記載されており、本発明においても好適に用いることができる。

［無機微粒子の表面処理方法］
また、本発明においては無機微粒子は常法によりシランカップリング剤等により表面処理して用いることができる。
特に、低屈折率層形成用バインダーへの分散性を改良するために、無機微粒子の表面はオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。
無機微粒子の表面の処理方法については、特開２００８−２４２３１４号公報の段落番号［００４６］〜［００７６］に記載されており、該文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶媒、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。

（ｈ）光重合開始剤
本発明における低屈折率層用組成物には、光重合開始剤が含まれることが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤については、特開２００８−１３４５８５号公報の段落［０１４１］〜［０１５９］にも記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。

「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。

市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／Ｉｒｇ１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。

光重合開始剤は、不飽和二重結合を有する有機成分１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。

光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーケトン及びチオキサントンなどを挙げることができる。更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を１種以上組み合わせて用いてもよい。

市販の光増感剤としては、日本化薬（株）製の「カヤキュアー（ＤＭＢＩ，ＥＰＡ）」などが挙げられる。

［偏光板用保護フィルム］
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化する、所謂ケン化処理を行うことで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。

上述したケン化処理について説明する。ケン化処理は、加温したアルカリ水溶液中に一定時間光学フィルムを浸漬し、水洗を行った後、中和するための酸洗浄を行う処理である。透明支持体の偏光膜と貼り合わせる側の面が浸水化されればどのような処理条件でも構わないため、処理剤の濃度、処理剤液の温度、処理時間は適宜決定されるが、通常生産性を確保する必要から３分以内で処理可能なように処理条件を決定する。一般的な条件としては、アルカリ濃度が３質量％〜２５質量％であり、処理温度は３０℃〜７０℃、処理時間は１５秒〜５分である。アルカリ処理に用いるアルカリ種としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好適であり、酸洗浄に使用する酸としては硫酸が好適であり、水洗に用いる水はイオン交換水又は純水が好適である。
本発明の光学フィルムの帯電防止層は、このようなケン化処理によってアルカリ水溶液に晒されても、帯電防止性能が良好に保たれる。

本発明の光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、セルロースアシレートフィルムは、セルローストリアセテートフィルムであることが好ましい。

［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。
本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が本発明の光学フィルム又は反射防止フィルムであることを特徴とする。

偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造することができる。

光学フィルムのセルロースアシレートフィルムが、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、帯電防止性、耐久性に優れた偏光板が作製できる。

また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記光学フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。

本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。

［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルム、反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有する。
本発明の光学フィルム、反射防止フィルム及び偏光板は液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置に好適に用いることができる。
特に、液晶表示装置等の画像表示装置に有利に用いることができ、透過型／半透過型液晶表示装置において、液晶セルのバックライト側の最表層に用いることが特に好ましい。
一般的に、液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された２枚の偏光板を有し、液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。更に、光学異方性層が、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置されるか、又は液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置されることもある。
液晶セルは、ＴＮモード、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード又はＥＣＢモードであることが好ましい。

以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによって限定して解釈されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。

〔反射防止フィルムの作製〕
下記に示す通りに、各層形成用の塗布液を調製し、各層を形成して、反射防止フィルム試料１〜２７を作製した。

（ハードコート層用塗布液の調製）
（フルオロ脂肪族基含有ポリマーＰ−７７の合成）
本文記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマー（Ｐ−７７）を次のように合成した。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート３１．９８質量部、ブレンマーＡＰ−４００（日本油脂（株）製）７．９５質量部、ジメチル２，２’−アゾビスイソブチレート１．１質量部、２−ブタノン３０質量部を加え窒素雰囲気下で６時間７８℃に加熱して反応を完結させた。質量平均分子量は３４０００であった。

類似の方法で、本文記載のフルオロ脂肪族基含有ポリマー（Ｐ−７４）、（Ｐ−７５）、（Ｐ−１９１）、（Ｐ−１９４）、（Ｐ−６２）、及び（Ｐ−６２）の質量平均分子量をそれぞれ１５００、３１００、５５００、８３０００に変えたものを合成した。なお、分子量の調整は反応時間と温度の調整により行った。

（ハードコート層用塗布液Ａ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液Ａ−１とした。
酢酸エチル３００質量部に対して、メチルイソブチルケトン７００質量部、ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートの混合物（ＰＥＴ３０、日本化薬（株）製）９７０質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）３０質量部、フルオロ脂肪族基含有ポリマーＰ−７５（分子量９０００）０．５質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液Ａ−１を調製した。

ハードコート層用塗布液Ａ−１と類似の方法で、各成分を下記表１のように混合して溶剤に溶解して表１記載の比率になるように調整し、固形分濃度５０質量％のハードコート層用塗布液Ａ−２〜Ａ−２６を作製した。

それぞれ使用した化合物を以下に示す。
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分３０質量％、日産化学工業（株）製）
光重合開始剤イルガキュア１８４（Ｉｒｇ．１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
反応性シリコーン（Ｘ２２−１６４Ｃ、信越化学（株）製）

（ハードコート層用塗布液Ｂ−１の調製）
導電性化合物の溶剤分散物Ａ ３２５．９質量部、ＤＰＨＡ（ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物）、日本化薬（株）製）８６９．４質量部に対して炭酸ジメチル（東京化成（株）製）３００質量部、メチルイソブチルケトン４７４．２質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・ジャパン（株）製）３０質量部、フルオロ脂肪族基含有ポリマーＰ−７５（分子量９０００）０．５質量部を添加し、撹拌の後、孔径１．０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液Ｂ−１を調製した。
分散物Ａ：本文記載のＩＰ−９の分散液（固形分３０．７質量％、溶媒はプロピレングリコールモノメチルエーテルとイソプロピルアルコールの質量比３０：７０）

（低屈折率層用塗布液の調製）
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）

上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。

内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ^２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ^２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。

（中空シリカ粒子分散液Ａの調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。

（低屈折率層用塗布液Ａの調製）
パーフルオロオレフィン共重合体（１）の２１．０質量部、反応性シリコーン（Ｘ２２−１６４Ｃ、信越化学（株）製）２．５質量部、イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）１．５質量部、中空シリカ粒子分散液Ａ１３７．４質量部をメチルエチルケトンに添加して１０００質量部とし、攪拌の後、孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Ａを調製した。

（ハードコート層Ａ−１の作製）
層厚８０μｍの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液Ａ−１をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａ−１を形成した。

（低屈折率層の作製）
ハードコート層Ａ−１の上に、低屈折率層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布し、厚さ９４ｎｍの低屈折率層を形成し、これを反射防止フィルム試料Ｎｏ．１とした。低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量とした。

同様の方法でハードコート層用塗布液Ａ−２〜２６を用いてハードコート層Ａ−２〜２６を、ハードコート層用塗布液Ｂ−１を用いてハードコート層Ｂ−１をそれぞれ作製し、その上に低屈折率層Ａを厚さ９４ｎｍになるように形成して反射防止フィルム試料Ｎｏ．２〜２７を作製した。なお、ハードコート層及び低屈折率層の屈折率の測定は、各層の塗布液を約４μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定した。「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ 部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。屈折率は、ハードコート層Ａ−１〜Ａ−２６、及びＢ−１はいずれも１．５２、低屈折率層Ａは１．３５であった。

また、低屈折率層の膜厚は、反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）を用いて算出した。算出の際の各層の屈折率は上記アッベ屈折率計で導出した値を使用して調整した。

（ハードコート層の表面自由エネルギーの算出）
各試料の低屈折率層を積層する前段階のハードコート層表面の表面自由エネルギーは水とヨウ化メチレンの接触角を測定し、本文記載のオーウェンスの式より算出した。

（ハードコート層／低屈折率層界面に残存するレベリング剤量）
各試料の低屈折率層を積層する前段階のハードコート層のみを形成した光学フィルムを、メチルエチルケトンに５分間浸漬して溶出物を取り除いた後、その表面をＸ線光電子分析装置（ＥＳＣＡ）で分析して炭素原子量に対するフッ素原子量の割合であるＦ／Ｃの値を測定し、これをハードコート層／低屈折率層界面に残存するレベリング剤量とした。

表２からわかるように、炭酸エステル溶媒を用いた場合には、（Ａ）含フッ素レベリング剤の添加量が０．０５％の場合と０．１％の場合で等しくなっており、添加量０．０５％で表面エネルギーが飽和していることがわかる（試料Ｎｏ．２、３）。一方、炭酸エステル溶媒を用いなかった場合には、０．０５％では飽和では飽和していないことが明らかである。このことから、炭酸エステル溶媒を用いることにより表面自由エネルギーが飽和値に到達するのに必要な添加量が少なくなっており、含フッ素レベリング剤の表面偏在性が向上していることが推測される。また、炭酸エステル溶剤を用いた場合には、用いない場合と比較してＦ／Ｃの値が小さく、ハードコート層／低屈折率層界面にレベリング剤が残らず、レベリング剤がすみやかに低屈折率層形成用塗布液の溶媒に抽出されていることもわかる。

（反射防止フィルムの評価）
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表３に示す。

（１）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価した。

（２）基材とハードコート層界面の観察
フィルムをミクロトームで切削し、断面を飛行時間型二次イオン質量分析装置（ＴＯＦ−ＳＩＭＳ）で分析し、界面の状態を観察した。基材成分とハードコート層成分が共に検出される部分を基材とハードコート層成分が混在した領域とし、この領域の膜厚も同じＴＯＦ−ＳＩＭＳの断面情報から測定し、ハードコート層全体の厚さに対する基材成分とハードコート層成分が混在した領域の厚さの割合を算出した。

（３）塗布面状ムラ
塗布面側を上にして、裏面側から蛍光灯を照射して光を透過させ、目視による面検にてハジキ、ブツ等の点欠陥、塗布ムラ、乾燥ムラ等の面状ムラの発生頻度について、１０ｍ^２だけ検査し、その値を１０で割って１ｍ^２当たりの面状ムラの数を算出し、以下の基準で判定した。
◎ ・・面状ムラが０個
○ ・・面状ムラが１個以上３個未満で、僅かにあるが認識されない
○△・・面状ムラが３個以上５個未満で、僅かにあるがほとんど認識されない
△ ・・面状ムラが５個以上１０個未満で、面状ムラが目立ってしまう
× ・・面状ムラが１０個以上で、面状ムラが非常に目立つ
（４）密着性評価
ＪＩＳ−Ｋ−５４００に記載の碁盤目剥離法にて評価を行った。即ち、試料表面に１ｍｍ間隔で１００個の碁盤目を入れ、セロハンテープ（ニチバン（株）製）で密着試験を行った。新しいセロハンテープを貼ったあとに剥離し、以下の基準で判定した。
◎・・碁盤目中のマスの剥離が起こらない
○・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが９０％以上で、僅かに剥離するが問題がない
○△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが７０％以上９０％未満であり、僅かに剥離するがほとんど問題がない
△・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが５０％以上７０％未満で、やや剥離があり問題となる
×・・碁盤目中のマスの剥離が無いものが５０％未満であり、非常に問題である

（５）スチールウール耐傷性評価
反射防止フィルムの低屈折率層表面をラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とした。
評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ
こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）
試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定
移動距離（片道）：１３ｃｍ、
こすり速度：１３ｃｍ／秒、
荷重：５００ｇ／ｃｍ^２、１ｋｇ／ｃｍ^２いずれか
先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、
こすり回数：１０往復
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
Ａ ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
Ｂ ：非常に注意深く見ると弱い傷が見えるが僅かであり問題にならない。
Ｃ ：注意深く見ると弱い傷が見えるが、問題にならない
Ｄ ：中程度の傷が見え、傷が目立ってしまう。
Ｅ ：一目見ただけで分かる傷があり、非常に目立つ

（６）ゴミ付き性評価
反射防止フィルムの透明支持体側をＣＲＴ表面に貼り付け、０．５μｍ以上の埃及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ^３（立法フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋で２４時間使用した。反射防止フィルム１００ｃｍ^２当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が２０個未満の場合をＡ、２０個以上の場合をＢとして評価した。

（７）表面抵抗値測定
試料Ｎｏ．２及び２７について、２５℃、６０％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に、１００Ｖ、１分の条件下で表面抵抗値（ＳＲ）を円電極法で測定した。表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）で示す。

表３に示すように、本発明のハードコート形形成用組成物を使用すると、面状ムラを改善してかつ、密着性、スチールウール耐擦傷性も両立した反射防止フィルムを得ることができた。特に、炭酸エステル溶媒を用いた試料Ｎo.２，３では、炭酸エステル以外の溶媒を用いた試料Ｎo．4〜８と比べて５００g荷重におけるスチールウール耐性に優れていることがわかる。さらに１kg荷重で試験した場合には、試料Ｎo．4〜８では５００g荷重と比べて顕著に傷つきが悪化しているのに対し、試料２，３では５００gと同等の傷つき方で悪化がみられず、良好な耐擦傷性レベルを維持できることがわかった。試料Ｎｏ.２１，２４ではやや強いハジキ状の故障がみられたが、密着性、スチールウール耐擦傷性は優れていた。その他の試料では同様のハジキは見られなかった。また、試料Ｎｏ.２はｌｏｇＳＲが１４．０であったのに対して試料Ｎｏ.２７は９．４と低下してごみ付き性もＡランクになり、上記に加えて良好なごみ付き防止性も付与することができた。

次に、レベリング剤としてＰ−７５の代わりに表４に示す素材を使用する以外は、ハードコート層用塗布液Ａ−１と同様の方法で、固形分濃度５０質量％のハードコート層用塗布液を作製した。各ハードコート層用塗布液を用いる以外は反射防止フィルム試料Ａ−１同様の方法で、反射防止フィルム試料Ａ−２８〜３０を作製した。

メガファックＦ−５５５：ノニオン性フッ素系ポリマーの３０％ＭＩＢＫ溶液（ＤＩＣ（株）社製）
ユニダインＮＳ−１６０２：非イオン性フッ素ポリマーの３０％ＩＰＡ溶液（ダイキン（株）社製）

表４に示すように、レベリング剤として本願と異なる構造の化合物を用いた場合は、密着性及び面状ムラは良好であったが、スチールウール耐擦傷性が非常に悪く、耐擦傷性が改良できてないことがわかる。

（光学フィルムの鹸化処理）
前記試料Ｎｏ．２に以下の処理を行った。１．５ｍｏｌ／ｌの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１ｍｏｌ／ｌの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製した光学フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの光学フィルムを作製した。

（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、鹸化処理済みの光学フィルムを、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面に接着、保護して偏光板（試料Ｎｏ．３１）を作製した。
（円偏光板の作製）
偏光板試料の低屈折率層と反対側の面にλ／４板を粘着剤で貼り合せ円偏光板（試料Ｎｏ．３２）を作製し、有機ＥＬディスプレイの表面に光学機能層が外側になるように試料Ｎｏ．２４を粘着剤で貼り付けた。傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。

反射型液晶ディスプレイ及び半透過型液晶ディスプレイの表面の偏光板として、低屈折率層が外側になるようにＮｏ．３１を用いたところ、傷つきや面状ムラがなく、良好な表示性能が得られた。

Claims (11)

1. 下記（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、及び（ｄ）を含有するハードコート層形成用組成物。
   （ａ）下記含フッ素ポリマー（１）及び含フッ素ポリマー（２）から選ばれる少なくともいずれかのレベリング剤
   含フッ素ポリマー（１）：下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位を全重合単位に対して５０質量％より多く含有するポリマー
   

   

   （上記一般式［１］において、Ｒ０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
   含フッ素ポリマー（２）：下記一般式［２］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位と、ポリ（オキシアルキレン）アクリレート及びポリ（オキシアルキレン）メタクリレートから選ばれる少なくともいずれかに由来する重合単位とを含むポリマー
   

   

   （上記一般式［２］において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ２）−を表し、ｍは１以上６以下の整数、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
   （ｂ）炭酸エステル溶剤
   （ｃ）不飽和二重結合を有する化合物
   （ｄ）光重合開始剤
2. 前記（ａ）レベリング剤が前記含フッ素ポリマー（１）である請求項１に記載のハードコート層形成用組成物。
3. 前記（ｂ）炭酸エステル溶剤の含有量が全溶剤に対して１０質量％以上である請求項１又は２に記載のハードコート層形成用組成物。
4. 更に（ｅ）シリカ微粒子を含有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物。
5. 透明基材上に、請求項１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有するハードコートフィルム。
6. 透明基材上に、請求項１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物から形成されたハードコート層を有し、更に該ハードコート層上に反射防止層を有する光学フィルム。
7. 前記透明基材がセルロースアシレートフィルムである請求項６に記載の光学フィルム。
8. セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムであって、該セルロースアシレートフィルム基材のハードコート層の界面には、基材成分とハードコート層成分が混在した領域が存在し、かつ該反射防止層が下記含フッ素ポリマー（１）であるレベリング剤を含有し、該レベリング剤がハードコート層と反射防止層との界面に存在しない光学フィルム。
   含フッ素ポリマー（１）：下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する重合単位を全重合単位に対して５０質量％より多く含有するポリマー
   

   

   （上記一般式［１］において、Ｒ０は水素原子、ハロゲン原子、又はメチル基を表し、Ｌは２価の連結基を表し、ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
9. 請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板。
10. 請求項６〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム又は請求項１０に記載の偏光板を有する画像表示装置。
11. セルロースアシレートフィルム基材上に、ハードコート層、及び反射防止層を有する光学フィルムの製造方法であって、該セルロースアシレートフィルム基材上に請求項１〜４のいずれか１項に記載のハードコート層形成用組成物を塗布、硬化してハードコート層を形成し、更に、該ハードコート層上に下記（ｆ）、（ｇ）、及び（ｈ）を含む硬化性組成物を塗布、硬化して反射防止層を形成する光学フィルムの製造方法。
    （ｆ）不飽和二重結合を有する化合物
    （ｇ）中空シリカ微粒子
    （ｈ）光重合開始剤