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JP2011213849A - Polyamideimide resin material, polyamideimide solution, and polyamideimide thin film - Google Patents

Polyamideimide resin material, polyamideimide solution, and polyamideimide thin film Download PDF

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JP2011213849A
JP2011213849A JP2010082966A JP2010082966A JP2011213849A JP 2011213849 A JP2011213849 A JP 2011213849A JP 2010082966 A JP2010082966 A JP 2010082966A JP 2010082966 A JP2010082966 A JP 2010082966A JP 2011213849 A JP2011213849 A JP 2011213849A
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JP
Japan
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polyamideimide
resin material
polyamide
solution
measurement
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Pending
Application number
JP2010082966A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takuya Kitaoka
卓也 北岡
Toshihiro Asada
俊浩 麻田
Hironobu Ono
博信 大野
Sadaya Kitazawa
貞哉 北沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Fine Chemical Co Ltd
Nippon Kodoshi Corp
Original Assignee
Nippon Fine Chemical Co Ltd
Nippon Kodoshi Corp
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Publication date
Application filed by Nippon Fine Chemical Co Ltd, Nippon Kodoshi Corp filed Critical Nippon Fine Chemical Co Ltd
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Abstract

【課題】測定波長400nmでの光透過率が80%以上の高い透明性を有するポリアミドイミド樹脂を提供することを目標とする。
【解決手段】無水トリカルボン酸クロライド(例えば、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライド)とジアミンから合成されるポリアミドイミド樹脂とする。そして例えば、該ポリアミドイミド樹脂は、有機溶媒に対し20重量%以上の可溶性を示し、有機溶媒は、N−メチルピロリドン,γ−ブチロラクトン及びシクロペンタノンから選択される1種もしくはそれらの混合溶液であることを特徴とする。
【選択図】 なし
An object of the present invention is to provide a polyamideimide resin having a high transparency with a light transmittance of 80% or more at a measurement wavelength of 400 nm.
A polyamideimide resin synthesized from a diamine anhydride (for example, anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride) and a diamine is provided. For example, the polyamideimide resin exhibits a solubility of 20% by weight or more in an organic solvent, and the organic solvent is one kind selected from N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone and cyclopentanone or a mixed solution thereof. It is characterized by being.
[Selection figure] None

Description

本発明は、ポリアミドイミド樹脂材料、ポリアミドイミド溶液及びポリアミドイミド薄膜に関するものである。   The present invention relates to a polyamideimide resin material, a polyamideimide solution, and a polyamideimide thin film.

地球温暖化の影響などから低消費電力製品やクリーンエネルギーの利用が求められてきており、消費電力の少ない薄型テレビ等の表示装置や太陽電池・太陽熱温水器等の高品質化が求められてきている。これらの表示装置の保護膜や、太陽電池パネルや太陽熱温水器のコーティング剤等として使用される透明樹脂や透明シートに対する要求も高まってきており、十分な機械的強度や耐熱性が要求されてきている。   The use of low power consumption products and clean energy has been demanded due to the effects of global warming, etc., and there has been a demand for high quality display devices such as flat-screen TVs, solar cells and solar water heaters with low power consumption. Yes. The demand for protective films for these display devices, transparent resins and transparent sheets used as coating agents for solar battery panels and solar water heaters, etc. has increased, and sufficient mechanical strength and heat resistance have been required. Yes.

これらの要求を満たすものとして、例えば特許文献1に示すような透明ポリイミド樹脂があり、透明ポリアミック酸溶液を塗布するなどして薄膜を形成することにより、透明性を確保しつつ必要な機械的強度や耐熱性、耐化学性を確保することが可能である。   In order to satisfy these requirements, for example, there is a transparent polyimide resin as shown in Patent Document 1, and by forming a thin film by applying a transparent polyamic acid solution or the like, the necessary mechanical strength is ensured while ensuring transparency. It is possible to ensure heat resistance and chemical resistance.

しかしながら、原料が特殊であり、高価であった。又、ポリアミック酸溶液は、塗布後、イミド化を行うにあたり、長時間高温処理が必要で、汎用に使用するには障害が大きかった。   However, the raw materials were special and expensive. Further, the polyamic acid solution requires high-temperature treatment for a long time before imidization after coating, and has been a major obstacle for general use.

一方、従来のポリアミドイミド樹脂は、無水トリメリット酸と芳香族ジアミンの反応によって得られ、すぐれた熱安定性と他のエンジニアリングプラスチックに例のない強靭さを備えている。又、耐熱性も優れており(例えば連続使用温度260℃)、機械的強度もあり、高温に於ける摺動性が優れている。さらに、一部のポリアミドイミド樹脂は、イミド化まで完了させた状態でNメチルピロリドンに可溶なものもある。   On the other hand, the conventional polyamideimide resin is obtained by the reaction of trimellitic anhydride and aromatic diamine, and has excellent thermal stability and toughness unmatched by other engineering plastics. In addition, it has excellent heat resistance (for example, continuous use temperature of 260 ° C.), mechanical strength, and excellent slidability at high temperatures. Furthermore, some polyamideimide resins may be soluble in N-methylpyrrolidone after completion of imidization.

特開平9−95533号公報JP-A-9-95533

しかしながら、例えば出願人の提供する有機溶媒可溶性ポリアミドイミドである「SOXR」は、可視光領域での透明性が十分でなく黄色みがかっていた。さらに有機触媒NMP(N−メチルピロリドン)にしか溶けず使用に制限があった。
このため、透明性を確保したポリアミドイミド樹脂の実現が待たれていた。
However, for example, “SOXR”, which is an organic solvent-soluble polyamideimide provided by the applicant, is not sufficiently transparent in the visible light region and has a yellowish color. Furthermore, it was soluble only in the organic catalyst NMP (N-methylpyrrolidone), and its use was limited.
For this reason, realization of the polyamide-imide resin which ensured transparency was awaited.

本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、透明性を実現した耐熱性透明ポリアミドイミド樹脂材料、ポリアミドイミド溶液、ポリアミドイミド薄膜等を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of said subject, Comprising: It aims at providing the heat resistant transparent polyamide-imide resin material which realized transparency, a polyamide-imide solution, a polyamide-imide thin film, etc.

上述した課題を解決する一手段として、本発明に係る一発明の実施の形態例は以下の構成を備える。
すなわち、無水トリカルボン酸クロライドとジアミンから合成されるポリアミドイミド樹脂材料とする。そして例えば、前記無水トリカルボン酸クロライドは、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドであることを特徴とする。
As a means for solving the above-described problem, an embodiment of the present invention according to the present invention has the following configuration.
That is, a polyamide-imide resin material synthesized from tricarboxylic anhydride chloride and diamine is used. For example, the anhydrous tricarboxylic acid chloride is anhydrous cyclohexane tricarboxylic acid chloride.

また例えば、有機溶媒に対し20重量%以上の可溶性を示すことを特徴とするポリアミドイミド樹脂材料とする。
さらに例えば、前記有機溶媒は、N−メチルピロリドン,γ−ブチロラクトン及びシクロペンタノンから選択される1種もしくはそれらの混合溶液であることを特徴とする。
For example, it is set as the polyamide imide resin material which shows the solubility of 20 weight% or more with respect to an organic solvent.
Further, for example, the organic solvent is one selected from N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone and cyclopentanone or a mixed solution thereof.

又は、以上に記載したいずれかのポリアミドイミド樹脂材料を用いたことを特徴とするポリアミドイミド樹脂膜とする。
そして例えば、測定波長400nmでの光透過率が80%以上であることを特徴とするポリアミドイミド樹脂膜とする。
Alternatively, a polyamide-imide resin film characterized by using any of the polyamide-imide resin materials described above.
For example, the polyamideimide resin film is characterized in that the light transmittance at a measurement wavelength of 400 nm is 80% or more.

本発明によれば、透明化を実現し、耐熱性を有するポリアミドイミド樹脂材料、ポリアミドイミド溶液、ポリアミドイミド薄膜、を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, transparency can be implement | achieved and the polyamide-imide resin material, the polyamide-imide solution, and the polyamide-imide thin film which have heat resistance can be provided.

以下、本発明に係る一発明の実施の形態例を詳細に説明する。本実施の形態例は、比較的廉価な材料により実現可能な耐熱性、機械的強度に優れた透明ポリアミドイミド樹脂材料、ポリアミドイミド薄膜及びポリアミドイミド溶液について説明する。   Hereinafter, an embodiment of an invention according to the present invention will be described in detail. In this embodiment, a transparent polyamide-imide resin material, a polyamide-imide thin film, and a polyamide-imide solution excellent in heat resistance and mechanical strength that can be realized by a relatively inexpensive material will be described.

本実施の形態例では、無水トリカルボン酸クロライドとジアミンからポリアミドイミド樹脂を合成する。無水トリカルボン酸クロライドとしては、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドを用いることがより好ましい。ポリアミドイミド樹脂材料は、例えば以下に示す有機溶媒に対して20重量%以上の可溶性を示す。   In this embodiment, a polyamideimide resin is synthesized from tricarboxylic anhydride chloride and diamine. As the anhydrous tricarboxylic acid chloride, it is more preferable to use anhydrous cyclohexane tricarboxylic acid chloride. For example, the polyamide-imide resin material has a solubility of 20% by weight or more with respect to the organic solvent shown below.

有機溶媒としては、例えばN−メチルピロリドン,γ−ブチロラクトン及びシクロペンタノンから選択される1種もしくはそれらの混合溶液とできる。
無水トリカルボン酸クロライドと合成されるジアミンとしては、構造式1で示す4,4−オキシジアニリン(以下「4,4−ODA」と称す。)を用いることが望ましい。しかし、ジアミン化合物としては、4,4−ODAに限定されるものではなく、例えば以下のジアミン化合物を用いることもできる。
As the organic solvent, for example, one kind selected from N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone and cyclopentanone or a mixed solution thereof can be used.
As the diamine synthesized with tricarboxylic anhydride chloride, it is desirable to use 4,4-oxydianiline (hereinafter referred to as “4,4-ODA”) represented by Structural Formula 1. However, as a diamine compound, it is not limited to 4, 4-ODA, For example, the following diamine compounds can also be used.

(1)PPD:p−フェニレンジアミン
(2)MPD:m−フェニレンジアミン
(3)3,4−ODA:3,4‘−オキシジアニリン
(4)ASD:4,4‘−チオジアニリン
(5)HFBAPP:2,2−ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ヘキサフルオロプロパン
(6)BAPS:ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン
(7)O−TB:O−トリジン
(8)m−TB:m−トリジン
(9)TFMB:2,2‘−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル
(10)MDA:4,4'−メチレンジアニリン
(11)DABP:4,4'−ジアミノベンゾフェノン
(1) PPD: p-phenylenediamine (2) MPD: m-phenylenediamine (3) 3,4-ODA: 3,4′-oxydianiline (4) ASD: 4,4′-thiodianiline (5) HFBAPP : 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane (6) BAPS: bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone (7) O-TB: O-tolidine
(8) m-TB: m-tolidine (9) TFMB: 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl (10) MDA: 4,4′-methylenedianiline (11) DABP: 4,4'-diaminobenzophenone

まず、本発明に係る一発明の実施の形態例のポリアミドイミド樹脂材料となるポリアミドイミド粉末の作製過程を説明する。
(1)均一溶液の作成
First, a process for producing a polyamide-imide powder that will be a polyamide-imide resin material according to an embodiment of the present invention will be described.
(1) Preparation of uniform solution

攪拌機、温度計、窒素ガス導入管を備えたガラス容器に、構造式1で示す4,4−オキシジアニリン(以下「4,4−ODA」と称す。)27.63g(0.138mol)を仕込み、ジメチルアセトアミド(以下、「DMAc」と称す。)300g、トリエチルアミン13.96g(0.138mol)を加え、一定時間攪拌して均一溶液を作成する。   27.63 g (0.138 mol) of 4,4-oxydianiline (hereinafter referred to as “4,4-ODA”) represented by Structural Formula 1 was placed in a glass container equipped with a stirrer, a thermometer, and a nitrogen gas introduction tube. First, 300 g of dimethylacetamide (hereinafter referred to as “DMAc”) and 13.96 g (0.138 mol) of triethylamine are added, and the mixture is stirred for a certain time to form a uniform solution.

構造式1(4,4−ODA)

Figure 2011213849
Structural formula 1 (4,4-ODA)
Figure 2011213849

(2)ポリアミド溶液の作成
以上のようにして作成した均一溶液を、氷冷しながら、40℃を超えないように構造式2で示す無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライド(以下「CHTAC」と称す。)30.00g(0.138mol)をゆっくり添加する。
添加終了後、氷冷をやめ、室温にて2時間反応させた後、アニリン0.21g(0.002mol)を添加し、さらに30分攪拌し、粘度19psのポリアミド溶液を作成する。
(2) Preparation of polyamide solution Anhydrous cyclohexanetricarboxylic acid chloride represented by Structural Formula 2 (hereinafter referred to as “CHTAC”) 30 so as not to exceed 40 ° C. while the ice-cooled homogeneous solution was prepared as described above. Slowly add 0.000 g (0.138 mol).
After completion of the addition, the ice cooling is stopped and the reaction is allowed to proceed at room temperature for 2 hours. Then, 0.21 g (0.002 mol) of aniline is added, and the mixture is further stirred for 30 minutes to prepare a polyamide solution having a viscosity of 19 ps.

構造式2(CHTAC)

Figure 2011213849
Structural formula 2 (CHTAC)
Figure 2011213849

(3)ポリアミド溶液のイミド化
この様にして作成したポリアミド溶液に、無水酢酸26mL、ピリジン12mLを添加し、55℃にて2時間攪拌し、イミド化を行った。
(4)ポリアミドイミド粉末の作成
得られた反応溶液を、水/メタノール混合溶液に添加し、得られた粉末を水洗、乾燥することによりポリアミドイミド粉末を得た。
(3) Imidization of polyamide solution To the polyamide solution thus prepared, 26 mL of acetic anhydride and 12 mL of pyridine were added and stirred at 55 ° C. for 2 hours to perform imidization.
(4) Preparation of polyamideimide powder The obtained reaction solution was added to a water / methanol mixed solution, and the obtained powder was washed with water and dried to obtain a polyamideimide powder.

構造式3(:本実施の形態例)

Figure 2011213849
Structural formula 3 (: this embodiment)
Figure 2011213849

以上のようにして作成した本実施の形態例ポリアミドイミド樹脂材料であるポリアミドイミド粉末の物性評価を行った結果を以下に示す。
(1)分子量測定
得られたポリアミドイミド粉末3mgに、3mLのLiBrを添加したDMFを加えて溶解し、0.45μmの親水性PTFEメンブランフィルターカードリッジ(日本ミリポア社製Millex−LH)でろ過したものを、ゲル浸透クロマトグラフィーを使用し、分子量を測定した。
The results of physical property evaluation of the polyamideimide powder, which is the polyamideimide resin material of the present embodiment prepared as described above, are shown below.
(1) Molecular weight measurement To 3 mg of the obtained polyamideimide powder, DMF added with 3 mL of LiBr was added and dissolved, followed by filtration with 0.45 μm hydrophilic PTFE membrane filter cartridge (Millex-LH, manufactured by Millipore Japan). The ones were measured for molecular weight using gel permeation chromatography.

測定条件
カラム: TSKgel Super AWM−H 6.0mm(ID)×150mm(L) (東ソー)
移動相: DFM 10mM LiBr 添加
流量 : 0.6mL/min.
検出器: RI−101 示差屈折計(昭和電工社製)
注入量: 20μL
分子量校正: 単分散ポリスチレン
測定結果は、表1の通りである。
Measurement conditions Column: TSKgel Super AWM-H 6.0 mm (ID) × 150 mm (L) (Tosoh)
Mobile phase: DFM 10 mM LiBr added Flow rate: 0.6 mL / min.
Detector: RI-101 differential refractometer (manufactured by Showa Denko)
Injection volume: 20 μL
Molecular weight calibration: monodisperse polystyrene
The measurement results are as shown in Table 1.

Figure 2011213849
Figure 2011213849

(2)溶解性の測定
有機溶媒に対し、20w%となるように本実施の形態例のポリアミドイミド粉末を添加し、溶解性を確認する。確認方法は、調整した溶液を15日間室温にて放置した後、不溶物がなく、流動性がある事を目視で確認することで溶解性があると判定した。
溶解性の測定結果を表2に示す。比較として上市されている一般的な構造の有機溶媒可溶型ポリアミドイミド(ニッポン高度紙工業社製SOXR)の溶解性を記載する。
(2) Measurement of solubility The polyamideimide powder of this embodiment is added to the organic solvent so as to be 20 w%, and the solubility is confirmed. The confirmation method was determined to be soluble by visually confirming that the prepared solution was allowed to stand at room temperature for 15 days and then had no insoluble matter and had fluidity.
The solubility measurement results are shown in Table 2. As a comparison, the solubility of organic solvent-soluble polyamideimide (SOXR manufactured by Nippon Kogyo Paper Industries Co., Ltd.) having a general structure on the market is described.

Figure 2011213849
Figure 2011213849

従来の一般的な有機溶媒可溶型ポリアミドイミド(SOXR)はNMPにしか溶解しない。NMPは、吸湿しやすく、沸点も高い。吸湿してしまうと、溶液の表面が白濁し、その後、流動性を失う。例えば、スクリーン印刷によりコーティングする際は、版の上で溶液(インク)が流動性を失い、印刷不可能な状態になることが知られている。   Conventional general organic solvent-soluble polyamideimide (SOXR) is soluble only in NMP. NMP is easy to absorb moisture and has a high boiling point. If the moisture is absorbed, the surface of the solution becomes cloudy and then loses fluidity. For example, when coating by screen printing, it is known that the solution (ink) loses fluidity on the plate and becomes unprintable.

この為、NMPを使用したインクを使用する際には、厳重な湿度管理(湿度40%以下)のもと、高温乾燥炉を必要とする等、多くの課題が存在した。
しかしながら、本実施の形態例のポリアミドイミド樹脂材料では、これらの課題の原因であるNMP以外にも、γ-ブチロラクトン(GBL)やシクロペンタノン(CPN)と言った有機溶媒にも溶解する。これらの有機溶媒を使用できるので、湿度管理などすることなく、容易にコーティング、乾燥し、ポリアミドイミド膜を形成出来る事が分かった。
For this reason, when using ink using NMP, there are many problems such as requiring a high-temperature drying furnace under strict humidity control (humidity of 40% or less).
However, the polyamide-imide resin material of the present embodiment is soluble in organic solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and cyclopentanone (CPN) in addition to NMP which causes these problems. Since these organic solvents can be used, it has been found that a polyamide-imide film can be easily formed by coating and drying without controlling humidity.

(3)光透過性の測定
・測定用フィルム作製
γ-ブチロラクトンに対し、28.6w%の本実施の形態例粉末を溶解させた溶液を作製した。この溶液をブレードコーターを使用して、表面に離剥処理を行ったガラス上にコーティングする。これを、120℃、15分程度乾燥した後、ガラスより塗膜を剥がし、これを250℃、40分乾燥させて、厚み25μmの測定用フィルムを作製した。
(3) Measurement of light transmittance and production of film for measurement A solution in which 28.6 w% of the powder of this embodiment was dissolved in γ-butyrolactone was produced. Using a blade coater, this solution is coated on a glass whose surface has been exfoliated. After drying this at 120 ° C. for about 15 minutes, the coating film was peeled off from the glass, and this was dried at 250 ° C. for 40 minutes to produce a measurement film having a thickness of 25 μm.

・測定結果
以上のようにして作製した測定用フィルムを、日立ハイテク社製U−4100型分光光度計を使用し、200〜2500nmの光透過率を測定した。比較対照として、ニッポン高度紙工業社製SOXRと、ポリイミドフィルムで代表的な東レデュポン社製カプトンを使用した。表3に200〜2500nmに、表4に200〜700nmの範囲の測定結果を示す。
-Measurement result The light transmittance of 200-2500 nm was measured for the film for measurement produced as mentioned above using the U-4100 type spectrophotometer by Hitachi High-Tech. As a comparative control, SOXR manufactured by Nippon Kogyo Paper Industry Co., Ltd. and Kapton manufactured by Toray DuPont, which is a typical polyimide film were used. Table 3 shows the measurement results in the range of 200 to 2500 nm, and Table 4 shows the measurement results in the range of 200 to 700 nm.

表3 200〜2500nmの光透過率

Figure 2011213849
Table 3 200-2500nm light transmittance
Figure 2011213849

表4 200〜2500nmの光透過率

Figure 2011213849
Table 4 200-2500 nm light transmittance
Figure 2011213849

従来のカプトン、及びSOXRは、可視光領域(380〜750nm)にて吸収があり、外観も黄色〜こげ茶色を呈している。この為、高い耐熱性を有するにもかかわらず、ガラス代替を必要としている太陽電池、光導波路、レンズのような光学関連分野への検討が進まなかった。
しかし、本実施の形態例(開発品1)では、可視光領域にて透過率が85%以上あり、無色透明を実現していることから、これらの分野での使用が可能になる。
Conventional Kapton and SOXR have absorption in the visible light region (380 to 750 nm), and the appearance is also yellow to dark brown. For this reason, in spite of having high heat resistance, examination to optical related fields such as solar cells, optical waveguides, and lenses that require glass replacement has not progressed.
However, in the present embodiment (development product 1), the transmittance is 85% or more in the visible light region, and colorless and transparent is realized, so that it can be used in these fields.

(3)その他物性値の測定
・引張強度、弾性率、伸び率の測定
上記した光学特性測定用フィルムと同じ手順で25μm厚みのフィルムを作製し、測定した。装置は、STROGRAPH E−L((株)東洋精機製作所製)を使用した。
測定条件
サンプルサイズ:10mm×130mm
引張スピード :100mm/mim
(3) Measurement of other physical properties / Measurement of tensile strength, elastic modulus and elongation A film having a thickness of 25 μm was prepared and measured in the same procedure as the above-described optical property measurement film. The apparatus used was STROGRAP E-L (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho).
Measurement conditions Sample size: 10mm x 130mm
Tensile speed: 100 mm / mim

・ガラス転移温度、熱膨張係数の測定
光学特性測定用フィルムと同じ手順で25μm厚みのフィルムを作製し、測定した。
装置は、Thermo Plus TMA8310(Rigaku社製)を使用した。
測定条件
サンプルサイズ:5mm×15mm
測定方式 :TMA方式
測定範囲 :室温〜300℃
昇温速度 :10℃/min
-Measurement of glass transition temperature and coefficient of thermal expansion A film having a thickness of 25 µm was prepared and measured in the same procedure as the film for measuring optical properties.
The apparatus used was Thermo Plus TMA8310 (manufactured by Rigaku).
Measurement conditions Sample size: 5mm x 15mm
Measurement method: TMA method Measurement range: Room temperature to 300 ° C
Temperature increase rate: 10 ° C / min

・屈折率の測定
光学特性測定用フィルムと同じ手順で25μm厚みのフィルムを作製し測定した。
装置は、アッベ屈折計(アタゴ社製)を使用した。
測定条件
試験波長 :D線(589nm)
中間液 :ヨウ化メチレン
試験温度 :23℃
-Measurement of refractive index A 25 μm-thick film was prepared and measured in the same procedure as the optical property measurement film.
The apparatus used was an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).
Measurement conditions Test wavelength: D line (589 nm)
Intermediate solution: Methylene iodide Test temperature: 23 ° C

・誘電率の測定
光学特性測定用フィルムと同じ手順で25μm厚みのフィルムを作製し測定した。
装置は、ネットワークアナライザ(アジレントテクノロジー社製)を使用した。
測定条件
サンプルサイズ:3mm×15mm
試験方法 :空洞共振器摂動法
試験周波数 :1GHz
Measurement of dielectric constant A film having a thickness of 25 μm was prepared and measured in the same procedure as the film for measuring optical properties.
The apparatus used was a network analyzer (manufactured by Agilent Technologies).
Measurement conditions Sample size: 3mm x 15mm
Test method: Cavity resonator perturbation method Test frequency: 1 GHz

・測定結果
以上の測定結果を表5に示す。

Figure 2011213849
ポリアミドイミド樹脂が本来持つ高いガラス転移温度を有する。 -Measurement results Table 5 shows the above measurement results.
Figure 2011213849
It has a high glass transition temperature inherent to the polyamide-imide resin.

(4)その他原料を使用した比較例ポリアミドイミドの合成と評価
・比較例1
・比較例の合成
本実施の形態例のCHTAC30g(0.138mol)に代わり、無水トリメリット酸クロライド(構造式4)(以下「TAC」と称す。)29.06g(0.138mol)を使用した以外は、本実施の形態例と同条件で合成(比較例はニッポン高度紙工業社製「SOXR」と同一構造)。
CHTACの代わりに芳香族トリカルボン酸誘導体である無水トリメリット酸クロライド(構造式4)を用いたポリアミドイミドを合成し、溶解性、光透過率を測定した。
(4) Comparative Example Using Other Raw Materials Synthesis and Evaluation of Polyamideimide / Comparative Example 1
Synthesis of Comparative Example 29.06 g (0.138 mol) of trimellitic anhydride chloride (Structural Formula 4) (hereinafter referred to as “TAC”) was used in place of 30 g (0.138 mol) of CHTAC of the present embodiment. Except for the above, the synthesis was performed under the same conditions as in the present embodiment (the comparative example has the same structure as “SOXR” manufactured by Nippon Kogyo Co., Ltd.).
Polyamideimide was synthesized using trimellitic anhydride chloride (Structural Formula 4) which is an aromatic tricarboxylic acid derivative instead of CHTAC, and its solubility and light transmittance were measured.

構造式4 TAC

Figure 2011213849
Structural formula 4 TAC
Figure 2011213849

・比較例2
本実施の形態例のCHTAC30g(0.138mol)に代わり、TAC29.06g(0.138mol)を、4,4−ODAに代わり2,2−ビス(トリフルオロメチル−4,5−ジアミノビフェニル(構造式5)(以下「TFMB」と称す。)44.19g(0.138mol)を使用した以外は、本実施の形態例と同条件で合成。
Comparative example 2
Instead of 30 g (0.138 mol) of CHTAC in this embodiment, TAC 29.06 g (0.138 mol) was replaced with 2,2-bis (trifluoromethyl-4,5-diaminobiphenyl (structure) instead of 4,4-ODA. Formula 5) (hereinafter referred to as “TFMB”) Synthesized under the same conditions as in this embodiment, except that 44.19 g (0.138 mol) was used.

構造式5 TFMB

Figure 2011213849
Structural formula 5 TFMB
Figure 2011213849

・比較例3
本実施の形態例のCHTAC30g(0.138mol)に代わり、TAC29.06g(0.138mol)を、4,4−ODAに代わり4,4−ジアミノジシクロヘキシルメタン(構造式6)(以下「DCHM」と称す。)29.02g(0.138mol)を使用した以外は、本実施の形態例と同条件で合成を試みたが、TAC添加中、反応溶液に流動性がなくなり、攪拌が困難な状態になり、目指すポリアミドイミドは得られなかった。
Comparative example 3
Instead of 30 g (0.138 mol) of CHTAC in this embodiment, TAC 29.06 g (0.138 mol) was replaced with 4,4-diaminodicyclohexylmethane (Structural Formula 6) (hereinafter referred to as “DCHM”) instead of 4,4-ODA. The synthesis was attempted under the same conditions as in this embodiment except that 29.02 g (0.138 mol) was used. However, the reaction solution lost its fluidity during stirring and the stirring was difficult. Thus, the aimed polyamideimide could not be obtained.

構造式6 DCHM

Figure 2011213849
Structural Formula 6 DCHM
Figure 2011213849

・比較例の溶解性と光透過率の測定
比較例1〜3の有機溶剤に対する溶解性と400nmでの光透過率を測定した。
測定方法は本実施の形態例と同じ方法で行った。ただし、光透過率測定用サンプルフィルム作製の際に、γブチロラクトンに対し不溶なものは、NMPに溶解させ、インクにした後、同様の方法、条件にてフィルムを得た。
-Measurement of solubility and light transmittance of comparative example The solubility in organic solvents of Comparative Examples 1 to 3 and the light transmittance at 400 nm were measured.
The measurement method was the same as that in this embodiment. However, when the sample film for light transmittance measurement was prepared, a material insoluble in γ-butyrolactone was dissolved in NMP to form an ink, and a film was obtained by the same method and conditions.

・測定結果
測定結果を表6に示す。

Figure 2011213849
-Measurement results Table 6 shows the measurement results.
Figure 2011213849

400nmでの高い光透過率(無色)、溶解性を達成できたのは、本実施の形態例の実施品のみである。
また、このことより、高い光透過率(無色)と溶解性の両方を達成するためには、トリカルボン酸誘導体にTACを用いても達成できず、CHTACを用いることにより初めて達成できることが判明した。
Only the product of this embodiment has achieved high light transmittance (colorless) and solubility at 400 nm.
From this, it has also been found that in order to achieve both high light transmittance (colorless) and solubility, it is not possible to use TAC as a tricarboxylic acid derivative, but only when CHTAC is used.

Claims (7)

無水トリカルボン酸クロライドとジアミンから合成されることを特徴とするポリアミドイミド樹脂材料。 A polyamide-imide resin material synthesized from tricarboxylic anhydride chloride and diamine. 前記無水トリカルボン酸クロライドは、無水シクロヘキサントリカルボン酸クロライドであることを特徴とする請求項1記載のポリアミドイミド樹脂材料。 2. The polyamide-imide resin material according to claim 1, wherein the tricarboxylic anhydride chloride is anhydrous cyclohexane tricarboxylic chloride. 有機溶媒に対し20重量%以上の可溶性を示すことを特徴とする請求項1又は請求項2記載のポリアミドイミド樹脂材料。 The polyamide-imide resin material according to claim 1, wherein the polyamide-imide resin material has a solubility of 20% by weight or more with respect to an organic solvent. 前記有機溶媒は、N−メチルピロリドン,γ−ブチロラクトン及びシクロペンタノンから選択される1種もしくはそれらの混合溶液であることを特徴とする請求項3記載のポリアミドイミド樹脂材料。 4. The polyamide-imide resin material according to claim 3, wherein the organic solvent is one selected from N-methylpyrrolidone, γ-butyrolactone and cyclopentanone or a mixed solution thereof. 請求項1乃至請求項4のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂材料を 前記有機溶媒に溶解させたポリアミドイミド溶液 A polyamideimide solution in which the polyamideimide resin material according to any one of claims 1 to 4 is dissolved in the organic solvent. 請求項1乃至請求項5のいずれかに記載のポリアミドイミド樹脂材料もしくは溶液を用いたことを特徴とするポリアミドイミド樹脂膜。 A polyamideimide resin film using the polyamideimide resin material or solution according to any one of claims 1 to 5. 測定波長400nmでの光透過率が80%以上であることを特徴とする請求項6記載のポリアミドイミド樹脂膜。 7. The polyamideimide resin film according to claim 6, wherein the light transmittance at a measurement wavelength of 400 nm is 80% or more.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012062355A (en) * 2010-09-14 2012-03-29 Valeo Japan Co Ltd Coating material for polyamideimide-based film
WO2012121259A1 (en) * 2011-03-07 2012-09-13 日産化学工業株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
WO2012121257A1 (en) * 2011-03-07 2012-09-13 日産化学工業株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
US9279036B1 (en) 2014-12-26 2016-03-08 Fuji Xerox Co., Ltd. Polyamideimide precursor composition, polyamideimide molded article, and method for preparing polyamideimide molded article
JP2016071323A (en) * 2014-09-29 2016-05-09 株式会社日本触媒 Near-infrared cut filter

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06345867A (en) * 1993-06-08 1994-12-20 Toyobo Co Ltd Heat-resistant resin and varnish containing the resin
JP2002275263A (en) * 2002-01-21 2002-09-25 Toyobo Co Ltd Polyamide-imide
JP2005179565A (en) * 2003-12-22 2005-07-07 Toyobo Co Ltd Polyamide imide resin and its varnish
WO2008072495A1 (en) * 2006-12-12 2008-06-19 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Polyamide-imide resin, colorless transparent flexible metal laminate made of the same, and wiring board

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06345867A (en) * 1993-06-08 1994-12-20 Toyobo Co Ltd Heat-resistant resin and varnish containing the resin
JP2002275263A (en) * 2002-01-21 2002-09-25 Toyobo Co Ltd Polyamide-imide
JP2005179565A (en) * 2003-12-22 2005-07-07 Toyobo Co Ltd Polyamide imide resin and its varnish
WO2008072495A1 (en) * 2006-12-12 2008-06-19 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Polyamide-imide resin, colorless transparent flexible metal laminate made of the same, and wiring board

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012062355A (en) * 2010-09-14 2012-03-29 Valeo Japan Co Ltd Coating material for polyamideimide-based film
WO2012121259A1 (en) * 2011-03-07 2012-09-13 日産化学工業株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
WO2012121257A1 (en) * 2011-03-07 2012-09-13 日産化学工業株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
CN103492462A (en) * 2011-03-07 2014-01-01 日产化学工业株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
CN103502312A (en) * 2011-03-07 2014-01-08 日产化学工业株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
JPWO2012121259A1 (en) * 2011-03-07 2014-07-17 日産化学工業株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
JPWO2012121257A1 (en) * 2011-03-07 2014-07-17 日産化学工業株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
CN103502312B (en) * 2011-03-07 2015-07-29 日产化学工业株式会社 Composition, aligning agent for liquid crystal, liquid crystal orientation film and liquid crystal display device
JP6003882B2 (en) * 2011-03-07 2016-10-05 日産化学工業株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
JP6075286B2 (en) * 2011-03-07 2017-02-08 日産化学工業株式会社 Composition, liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film, and liquid crystal display element
JP2016071323A (en) * 2014-09-29 2016-05-09 株式会社日本触媒 Near-infrared cut filter
US9279036B1 (en) 2014-12-26 2016-03-08 Fuji Xerox Co., Ltd. Polyamideimide precursor composition, polyamideimide molded article, and method for preparing polyamideimide molded article

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