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JP2011209369A - Display device and photodetection method - Google Patents

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JP2011209369A
JP2011209369A JP2010074630A JP2010074630A JP2011209369A JP 2011209369 A JP2011209369 A JP 2011209369A JP 2010074630 A JP2010074630 A JP 2010074630A JP 2010074630 A JP2010074630 A JP 2010074630A JP 2011209369 A JP2011209369 A JP 2011209369A
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JP
Japan
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light
pixel
circuit
pixel circuit
dummy pixel
Prior art date
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Pending
Application number
JP2010074630A
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Japanese (ja)
Inventor
Junichi Yamashita
淳一 山下
Katsuhide Uchino
勝秀 内野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
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  • Control Of Indicators Other Than Cathode Ray Tubes (AREA)
  • Control Of El Displays (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To perform appropriate photodetection while achieving arrangement of a pixel circuit and a photodetection circuit in an area saving state.SOLUTION: A plurality of photodetectors SL are arranged corresponding to a plurality of pixel circuits (a group of pixel circuits constituting a dummy pixel block) that is a part of the pixel circuits in a pixel array. The plurality of photodetectors SL are connected to one detection signal output circuit 31 in common, and the detection signal output circuit 31 generates and outputs a photodetection signal from output in accordance with received light quantity obtained in the plurality of photodetectors SL.

Description

本発明は、画素回路がマトリクス状に配置された画素アレイを有する表示装置と、その表示駆動方法であって、例えば発光素子として有機エレクトロルミネッセンス素子(有機EL素子)を用いた表示装置と、その光検出方法に関する。   The present invention relates to a display device having a pixel array in which pixel circuits are arranged in a matrix, and a display driving method thereof, for example, a display device using an organic electroluminescence element (organic EL element) as a light emitting element, The present invention relates to a light detection method.

特表2007−501953号公報Special table 2007-501953 gazette 特表2008−518263号公報Special table 2008-518263 gazette

有機エレクトロルミネッセンス(EL:Electroluminescence)発光素子を画素に用いたアクティブマトリクス方式の表示装置では、各画素回路内部の発光素子に流れる電流を、画素回路内部に設けた能動素子(一般には薄膜トランジスタ:TFT)によって制御する。有機ELは電流発光素子のため、EL素子に流れる電流量をコントロールすることで発色の階調を得ている。
即ち有機EL素子を有する画素回路では、与えられた信号値電圧に応じた電流を有機EL素子に流すことで、信号値に応じた階調の発光が行われるようにしている。
In an active matrix type display device using an organic electroluminescence (EL) light-emitting element for a pixel, an active element (generally a thin film transistor: TFT) provided in the pixel circuit with a current flowing through the light-emitting element in each pixel circuit. Control by. Since the organic EL is a current light emitting element, a color gradation is obtained by controlling the amount of current flowing through the EL element.
That is, in a pixel circuit having an organic EL element, a current corresponding to a given signal value voltage is caused to flow through the organic EL element so that light emission with a gradation corresponding to the signal value is performed.

このような有機EL素子を用いた表示装置など、自発光素子を用いた表示装置では、画素間の発光輝度のばらつきを無くして画面上に生じるムラなどを無くすことが重要である。
有機EL素子は時間経過や温度によって発光効率が低下し輝度劣化が生ずる。つまり同じ信号値を与えて同じ電流を流しても、その発光輝度が時間と共に低下してしまう。例えば図13は、200nitの輝度で発光させた有機EL素子の、時間経過による発光輝度の劣化率を表している。
In a display device using a self-luminous element, such as a display device using such an organic EL element, it is important to eliminate unevenness in light emission luminance between pixels and eliminate unevenness on the screen.
In the organic EL element, the light emission efficiency decreases with the passage of time and temperature, and the luminance deteriorates. That is, even if the same signal value is applied and the same current is supplied, the light emission luminance decreases with time. For example, FIG. 13 shows the deterioration rate of light emission luminance over time of an organic EL element that emits light with a luminance of 200 nits.

また、輝度劣化量は発光させる輝度によっても変動する。すると、輝度劣化量は表示映像に依存する為、各画素毎に劣化量は異なってしまう。このため例えば相対的に明るい画素、長く表示された画素が焼き付いてしまうという問題がある。
図14(a)は、一例として全体を黒表示とした画面上で、一部分に「BS」という高輝度の固定パターンを表示させた状態を示している。このような表示を長時間行うと、「BS」表示部分の画素が、他の黒表示部分の画素よりも輝度劣化が進行する。
Also, the luminance deterioration amount varies depending on the luminance to be emitted. Then, since the luminance deterioration amount depends on the display image, the deterioration amount is different for each pixel. For this reason, for example, there is a problem that relatively bright pixels and long-displayed pixels are burned.
FIG. 14A shows a state in which a fixed pattern having a high luminance of “BS” is displayed in part on a black screen as an example. When such a display is performed for a long time, the luminance of the pixels in the “BS” display portion deteriorates more than the pixels in the other black display portions.

その後、例えば図14(b)のように、画面上の全画素に対して同一の高階調の信号値を与えて、全体が白表示となる画面表示を行わせるとする。各画素に与える信号値は全て例えば白レベル階調の値であるため、一面、白の画像となるはずである。
ところが、上記の「BS」部分の画素のみ、輝度劣化が進行していると、図14(c)のように、「BS」部分の画素のみで発光輝度が低下し、画面上、焼き付きが生じた状態となってしまう。
Thereafter, for example, as shown in FIG. 14B, it is assumed that the same high gradation signal value is given to all the pixels on the screen, and the entire screen is displayed in white. Since all the signal values given to each pixel are, for example, white level gradation values, it should be a white image.
However, if the luminance degradation is progressing only in the pixels in the “BS” portion, the luminance is reduced only in the pixels in the “BS” portion as shown in FIG. 14C, and image sticking occurs on the screen. It will be in a state.

このような状況に対処するものとして、上記特許文献1,2では、各画素回路内に光センサを配置して、光センサの検出値をパネル内でフィードバックして発光輝度を補正する方式や、光センサからシステムにフィードバックして補正する方式が開示されている。   In order to deal with such a situation, in Patent Documents 1 and 2 described above, a method of arranging a photosensor in each pixel circuit and feeding back a detection value of the photosensor in the panel to correct emission luminance, A method of correcting by feedback from the optical sensor to the system is disclosed.

画素の発光輝度を検出する構成として、図15(a)のようなセンサ外付型と、図15(b)のセンサ内蔵型がある。
図15(a)の場合、ガラス基台101上の樹脂層100内に画素回路101及び有機EL素子103が形成される。そして樹脂層103の上面に輝度センサ104が配置されて、有機EL素子103からの光を受光する構成とされる。輝度センサ104はa−Si(アモルファスシリコン)センサーなどで形成される。この場合、画素回路101は表示有効領域外のダミー画素とされる。
There are a sensor external type as shown in FIG. 15A and a sensor built-in type as shown in FIG.
In the case of FIG. 15A, the pixel circuit 101 and the organic EL element 103 are formed in the resin layer 100 on the glass base 101. A luminance sensor 104 is disposed on the upper surface of the resin layer 103 to receive light from the organic EL element 103. The luminance sensor 104 is formed of an a-Si (amorphous silicon) sensor or the like. In this case, the pixel circuit 101 is a dummy pixel outside the display effective area.

また図15(b)の場合、ガラス基台101上の樹脂層100内に画素回路101及び有機EL素子103が形成される。そして画素回路101と同一層(有機EL素子103の下方)に輝度センサ104が配置されて、有機EL素子103からの光を受光する構成とされる。輝度センサ104はPINダイオードなどで形成される。   In the case of FIG. 15B, the pixel circuit 101 and the organic EL element 103 are formed in the resin layer 100 on the glass base 101. A luminance sensor 104 is disposed in the same layer as the pixel circuit 101 (below the organic EL element 103), and receives light from the organic EL element 103. The luminance sensor 104 is formed by a PIN diode or the like.

しかしながら、図15(a)の場合、ダミー画素との位置合わせ精度の課題があり、製造効率が悪い。
一方、図15(b)のセンサ内蔵型では、例えば画素回路101と輝度センサ104を同一プロセスで形成していくことができ、位置合わせ精度は問題にならない。
ところが、輝度センサ104及びその受光情報を出力する検出信号出力回路を、画素回路と同一平面にレイアウトしていく必要から、1つの画素回路領域に対して必要となる面積が増大する。また1つの画素回路領域にPINダイオードや検出信号出力回路の素子を形成するため、素子数が増大するという問題がある。
However, in the case of FIG. 15A, there is a problem of alignment accuracy with the dummy pixel, and the manufacturing efficiency is poor.
On the other hand, in the sensor built-in type in FIG. 15B, for example, the pixel circuit 101 and the luminance sensor 104 can be formed by the same process, and the alignment accuracy does not matter.
However, since the luminance sensor 104 and the detection signal output circuit for outputting the received light information need to be laid out on the same plane as the pixel circuit, the area required for one pixel circuit region increases. In addition, since the elements of the PIN diode and the detection signal output circuit are formed in one pixel circuit region, there is a problem that the number of elements increases.

本発明は、画素回路領域に輝度センサを内蔵する図15(b)のセンサ内蔵型の構成を採る。その上で、画素回路領域における素子数の削減、及びそれによる画素回路領域の省面積を実現することを目的とする。   The present invention adopts the sensor built-in configuration of FIG. 15B in which a luminance sensor is built in the pixel circuit region. In addition, an object of the present invention is to reduce the number of elements in the pixel circuit region and to thereby reduce the area of the pixel circuit region.

本発明の表示装置は、入力された信号値に応じて発光駆動される発光素子を有する画素回路が、マトリクス状に配置されて成る画素アレイと、上記画素アレイにおける各画素回路に信号値を与えて、各画素回路で信号値に応じた輝度の発光を行わせる発光駆動部と、上記画素アレイ内における画素回路のうちの一部となる複数の画素回路に対応して配置される複数の受光素子と、該複数の受光素子が接続され、上記複数の受光素子において得られる受光光量に応じた出力から光検出信号を生成して出力する検出信号出力回路と、を有する光検出部とを備える。   In the display device of the present invention, a pixel circuit having light emitting elements driven to emit light according to an input signal value is arranged in a matrix, and a signal value is given to each pixel circuit in the pixel array. And a plurality of light receiving units arranged corresponding to a plurality of pixel circuits which are a part of the pixel circuits in the pixel array. A light detection unit including an element and a detection signal output circuit connected to the plurality of light receiving elements and generating and outputting a light detection signal from an output corresponding to the amount of received light obtained in the plurality of light receiving elements. .

また上記画素アレイにおける有効表示領域外となる複数の上記画素回路がダミー画素回路とされ、上記光検出部における複数の受光素子は、同一の信号値で発光させる複数のダミー画素回路に対応して配置されている。
また同一の信号値で発光させる一群のダミー画素回路から成るダミー画素ブロックが複数形成されており、上記光検出部は、上記各ダミー画素ブロックに対応して設けられている。
また上記光検出部における各受光素子は各ダミー画素回路の近傍位置に配置され、上記検出信号出力回路は、上記画素アレイの外部に配置されている。
また上記光検出部は、R画素、G画素、B画素としての各色の発光を行うダミー画素回路を含む上記各ダミー画素ブロックに対応して設けられている。
或いは上記光検出部は、R画素、G画素、B画素のうちの1つの色の発光を行うダミー画素回路のみを含む上記各ダミー画素ブロックに対応して設けられている。
Further, the plurality of pixel circuits outside the effective display area in the pixel array are dummy pixel circuits, and the plurality of light receiving elements in the light detection unit correspond to the plurality of dummy pixel circuits that emit light with the same signal value. Is arranged.
A plurality of dummy pixel blocks each including a group of dummy pixel circuits that emit light with the same signal value are formed, and the light detection unit is provided corresponding to each dummy pixel block.
In addition, each light receiving element in the light detection unit is disposed in the vicinity of each dummy pixel circuit, and the detection signal output circuit is disposed outside the pixel array.
Further, the light detection unit is provided corresponding to each dummy pixel block including a dummy pixel circuit that emits light of each color as an R pixel, a G pixel, and a B pixel.
Alternatively, the light detection unit is provided corresponding to each of the dummy pixel blocks including only a dummy pixel circuit that emits light of one color among the R pixel, the G pixel, and the B pixel.

また上記光検出部における上記検出信号出力回路は、複数の受光素子における受光光量による電流変動に応じて電圧が変動する光検出信号を出力する構成とされている。
或いは、上記光検出部における上記検出信号出力回路は、複数の受光素子における受光光量による電流変動に応じて変動する電圧値をデジタル信号に変換した光検出信号を出力する構成とされている。
また上記光検出部による検出信号に基づいて、上記発光駆動部が上記画素アレイにおける各画素回路に与える信号値を補正する補正処理部をさらに備える。
In addition, the detection signal output circuit in the light detection unit is configured to output a light detection signal whose voltage varies according to a current variation due to the amount of light received by a plurality of light receiving elements.
Alternatively, the detection signal output circuit in the light detection unit is configured to output a light detection signal obtained by converting a voltage value that fluctuates according to a current fluctuation due to the amount of light received by a plurality of light receiving elements into a digital signal.
The light emission drive unit further includes a correction processing unit that corrects a signal value given to each pixel circuit in the pixel array based on a detection signal from the light detection unit.

本発明の光検出方法は、上記画素アレイと上記発光駆動部とを備えた表示装置の光検出方法として、上記画素アレイ内における画素回路のうちの一部となる複数の画素回路に対応して複数の受光素子を配置し、該複数の受光素子を一の検出信号出力回路に共通に接続し、該検出信号出力回路が、上記複数の受光素子において得られる受光光量に応じた出力から光検出信号を生成して出力する光検出方法である。   The light detection method of the present invention corresponds to a plurality of pixel circuits that are a part of the pixel circuits in the pixel array as a light detection method for a display device including the pixel array and the light emission driving unit. A plurality of light receiving elements are arranged, and the plurality of light receiving elements are commonly connected to one detection signal output circuit, and the detection signal output circuit detects light from an output corresponding to the amount of received light obtained by the plurality of light receiving elements. This is a light detection method for generating and outputting a signal.

このような本発明では、例えばTFTアクティブマトリックス有機EL表示装置などにおいて、TFT内蔵側のPINダイオードなどの受光素子を用いることが想定される。
例えばそのような場合に、複数の画素回路(例えば複数のダミー画素回路)について、複数の受光素子を配置する。ただし、この複数の受光素子を、一の検出信号出力回路に共通に接続する。即ち1つの受光素子につき1つの検出信号出力回路で、1つの光検出部を構成するのではなく、複数の受光素子と1つの検出信号出力回路で1つの光検出部を構成する。
In the present invention, for example, in a TFT active matrix organic EL display device, it is assumed that a light receiving element such as a PIN diode on the TFT built-in side is used.
For example, in such a case, a plurality of light receiving elements are arranged for a plurality of pixel circuits (for example, a plurality of dummy pixel circuits). However, the plurality of light receiving elements are commonly connected to one detection signal output circuit. That is, one light detection unit is not constituted by one detection signal output circuit for one light receiving element, but one light detection unit is constituted by a plurality of light receiving elements and one detection signal output circuit.

本発明によれば、複数の画素回路(例えば複数のダミー画素回路)について、複数の受光素子を配置し、この複数の受光素子を、一の検出信号出力回路に共通に接続する。そして検出信号出力回路は、複数の受光素子で得られる受光光量に応じた出力から光検出信号を生成して出力する。
これにより、画素回路のレイアウトスペースにおいて共に受光素子を配置する際に、各画素回路領域に検出信号出力回路を配置しない構成を採ることができる。従って画素回路領域のレイアウトスペース内での素子数の削減、及びそれによる画素回路領域の省面積を実現できる。
According to the present invention, a plurality of light receiving elements are arranged for a plurality of pixel circuits (for example, a plurality of dummy pixel circuits), and the plurality of light receiving elements are commonly connected to one detection signal output circuit. The detection signal output circuit generates and outputs a light detection signal from an output corresponding to the amount of received light obtained by the plurality of light receiving elements.
Accordingly, when the light receiving elements are arranged in the layout space of the pixel circuit, it is possible to adopt a configuration in which the detection signal output circuit is not arranged in each pixel circuit region. Therefore, it is possible to reduce the number of elements in the layout space of the pixel circuit region and thereby reduce the area of the pixel circuit region.

本発明の実施の形態の表示装置の構成のブロック図である。It is a block diagram of the structure of the display apparatus of embodiment of this invention. 実施の形態の表示パネル部分の構成のブロック図である。It is a block diagram of the structure of the display panel part of embodiment. 実施の形態の画素回路の回路図である。It is a circuit diagram of a pixel circuit of an embodiment. 実施の形態のダミー画素回路を含む画素アレイの説明図である。It is explanatory drawing of the pixel array containing the dummy pixel circuit of embodiment. 実施の形態の画素回路の発光動作の説明図である。It is explanatory drawing of the light emission operation | movement of the pixel circuit of embodiment. 実施の形態の光検出部の検出動作の説明図である。It is explanatory drawing of the detection operation of the photon detection part of embodiment. 実施の形態の補正処理に用いる輝度劣化曲線の説明図である。It is explanatory drawing of the luminance degradation curve used for the correction process of embodiment. 実施の形態の信号値補正処理の説明図である。It is explanatory drawing of the signal value correction process of embodiment. 実施の形態の構成例Iの光検出部の回路図である。It is a circuit diagram of the photon detection unit of Configuration Example I of the embodiment. 実施の形態の省面積化の説明図である。It is explanatory drawing of area saving of embodiment. 実施の形態の構成例IIの光検出部の回路図である。It is a circuit diagram of the photodetection part of Configuration Example II of the embodiment. 実施の形態の構成例III光検出部の回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a configuration example III photodetection unit of the embodiment. 時間経過による有機EL素子の輝度劣化の説明図である。It is explanatory drawing of the luminance deterioration of the organic EL element by progress of time. 輝度劣化による焼き付きの説明図である。It is explanatory drawing of the burn-in by luminance degradation. センサ構造の説明図である。It is explanatory drawing of a sensor structure.

以下、本発明の実施の形態を次の順序で説明する。
<1.表示装置の構成>
<2.画素回路の動作>
<3.光検出部の動作及び補正処理>
<4.実施の形態の光検出部の構成>
[4−1:構成例I]
[4−2:構成例II]
[4−3:構成例III]
<5.変形例>
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in the following order.
<1. Configuration of display device>
<2. Operation of Pixel Circuit>
<3. Operation of light detection unit and correction processing>
<4. Configuration of Photodetector of Embodiment>
[4-1: Configuration example I]
[4-2: Configuration example II]
[4-3: Configuration example III]
<5. Modification>

<1.表示装置の構成>

図1に実施の形態の有機EL表示装置の構成を示す。
この有機EL表示装置は、有機EL素子を発光素子とし、アクティブマトリクス方式で発光駆動を行うものである。
<1. Configuration of display device>

FIG. 1 shows a configuration of an organic EL display device according to an embodiment.
This organic EL display device uses an organic EL element as a light emitting element and performs light emission driving by an active matrix method.

図1では表示パネル部分の構成として、画素アレイ20、水平セレクタ11、ドライブスキャナ12、ライトスキャナ13を示している。
画素アレイ20には、図2で後述するように画素回路10がマトリクス状に配置される。水平セレクタ11、ドライブスキャナ12、ライトスキャナ13は、画素アレイ20における各画素回路10にそれぞれ信号値を与えて発光させる発光駆動部となる。
FIG. 1 shows a pixel array 20, a horizontal selector 11, a drive scanner 12, and a write scanner 13 as the configuration of the display panel portion.
In the pixel array 20, pixel circuits 10 are arranged in a matrix as will be described later with reference to FIG. The horizontal selector 11, the drive scanner 12, and the write scanner 13 serve as a light emission drive unit that gives a signal value to each pixel circuit 10 in the pixel array 20 to emit light.

また画素アレイ20に対して、所要の画素回路、例えば有効表示領域外となるダミー画素領域DMAの画素回路の発光輝度を検出する光検出部30が設けられる。
各光検出部30は、検出動作制御部21の動作制御により、光検出信号を光検出線DETLに出力する。具体的には光検出線DETLの電位を受光光量に応じて変動させる。
電圧検出部22は、光検出部30の光検出信号による光検出線DETLの電位変動を検出し、その電位変動から発光輝度情報値を生成する。そして発光輝度情報値を補正処理部40に与える。
The pixel array 20 is provided with a light detection unit 30 that detects the light emission luminance of a required pixel circuit, for example, a pixel circuit in the dummy pixel region DMA outside the effective display region.
Each light detection unit 30 outputs a light detection signal to the light detection line DETL by the operation control of the detection operation control unit 21. Specifically, the potential of the light detection line DETL is changed according to the amount of received light.
The voltage detection unit 22 detects the potential fluctuation of the light detection line DETL due to the light detection signal of the light detection unit 30, and generates a light emission luminance information value from the potential fluctuation. Then, the light emission luminance information value is given to the correction processing unit 40.

補正処理部40は、水平セレクタ11に入力する映像データDVに対して補正処理を行う。例えば図14で説明した焼き付きに対する補正等である。
この補正処理部40には補正演算部41、補正量算出部42、フラッシュメモリ43、DRAM(Dynamic Random Access Memory)44が設けられる。
補正量算出部42は、光検出部30の検出動作により得られる発光輝度情報に基づいて階調値毎の輝度劣化特性(輝度劣化曲線)を求め、その輝度劣化曲線から補正パターンを生成する。
フラッシュメモリ43は、輝度劣化曲線や補正パターンの情報を記憶する。
補正演算部41は、映像データDVの各信号値を、補正パターンの情報を用いて補正する。DRAM44は、補正演算部41の演算処理のための記憶領域として用いられる。
この補正処理部40による補正動作については後述する。
The correction processing unit 40 performs correction processing on the video data DV input to the horizontal selector 11. For example, correction for burn-in described with reference to FIG.
The correction processing unit 40 includes a correction calculation unit 41, a correction amount calculation unit 42, a flash memory 43, and a DRAM (Dynamic Random Access Memory) 44.
The correction amount calculation unit 42 obtains a luminance degradation characteristic (luminance degradation curve) for each gradation value based on the light emission luminance information obtained by the detection operation of the light detection unit 30, and generates a correction pattern from the luminance degradation curve.
The flash memory 43 stores information on luminance degradation curves and correction patterns.
The correction calculation unit 41 corrects each signal value of the video data DV using the correction pattern information. The DRAM 44 is used as a storage area for calculation processing of the correction calculation unit 41.
The correction operation by the correction processing unit 40 will be described later.

補正処理部40で補正された映像データDVは水平セレクタ11に入力される。水平セレクタ11は、映像データDVに基づいた信号値(映像信号電圧Vsig)を、画素アレイ20内の各画素回路に与える。   The video data DV corrected by the correction processing unit 40 is input to the horizontal selector 11. The horizontal selector 11 gives a signal value (video signal voltage Vsig) based on the video data DV to each pixel circuit in the pixel array 20.

図2により、表示パネル部分(画素アレイ20、水平セレクタ11、ドライブスキャナ12、ライトスキャナ13)の構成を説明する。
図示のように、画素アレイ20には、多数の画素回路10が列方向と行方向(m行×n列)にマトリクス状に配列されている。
なお、画素回路10のそれぞれは、R(赤)、G(緑)、B(青)のいずれかの発光画素となり、各色の画素回路10が所定規則で配列されてカラー表示装置が構成される。
The configuration of the display panel portion (pixel array 20, horizontal selector 11, drive scanner 12, write scanner 13) will be described with reference to FIG.
As illustrated, in the pixel array 20, a large number of pixel circuits 10 are arranged in a matrix in the column direction and the row direction (m rows × n columns).
Each of the pixel circuits 10 is a light emitting pixel of any one of R (red), G (green), and B (blue), and a color display device is configured by arranging the pixel circuits 10 of each color according to a predetermined rule. .

上述のように各画素回路10を発光駆動するための構成として、水平セレクタ11、ドライブスキャナ12、ライトスキャナ13が設けられる。
また水平セレクタ11により選択され、映像データとしての輝度信号の信号値(階調値)に応じた電圧を画素回路10に供給する信号線DTL1、DTL2・・・DTL(n)が、画素アレイ上で列方向に配されている。信号線DTL1、DTL2・・・DTL(n)は、画素アレイ20においてマトリクス配置された画素回路10の列数分(n列)だけ配される。
As described above, the horizontal selector 11, the drive scanner 12, and the write scanner 13 are provided as a configuration for driving each pixel circuit 10 to emit light.
Also, signal lines DTL1, DTL2,... DTL (n) that are selected by the horizontal selector 11 and supply a voltage corresponding to the signal value (gradation value) of the luminance signal as video data to the pixel circuit 10 are on the pixel array. It is arranged in the column direction. The signal lines DTL1, DTL2,... DTL (n) are arranged by the number of columns (n columns) of the pixel circuits 10 arranged in a matrix in the pixel array 20.

また画素アレイ20上において、行方向に書込制御線WSL1,WSL2・・・WSL(m)、電源制御線DSL1,DSL2・・・DSL(m)が配されている。これらの書込制御線WSL及び電源制御線DSLは、それぞれ、画素アレイ20においてマトリクス配置された画素回路10の行数分(m行)だけ配される。   On the pixel array 20, write control lines WSL1, WSL2,... WSL (m) and power supply control lines DSL1, DSL2,. These write control lines WSL and power supply control lines DSL are arranged by the number of rows (m rows) of the pixel circuits 10 arranged in a matrix in the pixel array 20, respectively.

書込制御線WSL(WSL1〜WSL(m))はライトスキャナ13により駆動される。
ライトスキャナ13は、設定された所定のタイミングで、行状に配設された各書込制御線WSL1〜WSL(m)に順次、走査パルスWS(WS1,WS2・・・WS(m))を供給して、画素回路10を行単位で線順次走査する。
Write control lines WSL (WSL1 to WSL (m)) are driven by the write scanner 13.
The write scanner 13 sequentially supplies scanning pulses WS (WS1, WS2,... WS (m)) to each of the write control lines WSL1 to WSL (m) arranged in rows at a predetermined timing set. Then, the pixel circuit 10 is line-sequentially scanned in units of rows.

電源制御線DSL(DSL1〜DSL(m))はドライブスキャナ12により駆動される。ドライブスキャナ12は、ライトスキャナ13による線順次走査に合わせて、行状に配設された各電源制御線DSL1〜DSL(m)に電源パルスDS(DS1,DS2・・・DS(m))を供給する。電源パルスDS(DS1,DS2・・・DS(m))は駆動電圧Vccと初期電圧Viniの2値に切り替わるパルス電圧とされる。
なおドライブスキャナ12,ライトスキャナ13は、クロックck及びスタートパルスspに基づいて、走査パルスWS、電源パルスDSのタイミングを設定する。
The power supply control lines DSL (DSL1 to DSL (m)) are driven by the drive scanner 12. The drive scanner 12 supplies power pulses DS (DS1, DS2,... DS (m)) to the power supply control lines DSL1 to DSL (m) arranged in a row in accordance with the line sequential scanning by the write scanner 13. To do. The power supply pulse DS (DS1, DS2,... DS (m)) is a pulse voltage that switches between two values of the drive voltage Vcc and the initial voltage Vini.
The drive scanner 12 and the write scanner 13 set the timing of the scanning pulse WS and the power supply pulse DS based on the clock ck and the start pulse sp.

水平セレクタ11は、ライトスキャナ13による線順次走査に合わせて、列方向に配された信号線DTL1、DTL2・・・に対して、画素回路10に対して入力させる信号線電圧を供給する。
本実施の形態では、水平セレクタ11は、各信号線DTLに対し、信号線電圧として、閾値補正基準電圧Vofsと映像信号電圧Vsigを供給する。
映像信号電圧Vsigは、水平セレクタ11に入力される映像データの信号値としての電圧値である。即ち発光させようとする階調値に相当する電圧値である
また閾値補正用基準電圧Vofsは、後述する閾値補正動作に用いる電圧である。
The horizontal selector 11 supplies a signal line voltage to be input to the pixel circuit 10 to the signal lines DTL1, DTL2,... Arranged in the column direction in accordance with the line sequential scanning by the write scanner 13.
In the present embodiment, the horizontal selector 11 supplies a threshold correction reference voltage Vofs and a video signal voltage Vsig as signal line voltages to each signal line DTL.
The video signal voltage Vsig is a voltage value as a signal value of video data input to the horizontal selector 11. That is, it is a voltage value corresponding to the gradation value to be emitted. The threshold correction reference voltage Vofs is a voltage used for a threshold correction operation described later.

図3に画素回路10の構成例を示している。この画素回路10が、図2における画素回路10のようにマトリクス配置される。
なお、図3では簡略化のため、信号線DTLと、書込制御線WSL及び電源制御線DSLが交差する部分に配される1つの画素回路10のみを示している。
FIG. 3 shows a configuration example of the pixel circuit 10. The pixel circuits 10 are arranged in a matrix like the pixel circuits 10 in FIG.
In FIG. 3, only one pixel circuit 10 arranged at a portion where the signal line DTL intersects with the write control line WSL and the power supply control line DSL is shown for simplification.

この画素回路10は、発光素子である有機EL素子1と、保持容量Csと、サンプリングトランジスタTs、駆動トランジスタTdとしてのnチャネルの薄膜トランジスタ(TFT)、補助容量Csubとで構成されている。なお容量Coledは有機EL素子1の寄生容量である。   The pixel circuit 10 includes an organic EL element 1 which is a light emitting element, a storage capacitor Cs, a sampling transistor Ts, an n-channel thin film transistor (TFT) as a drive transistor Td, and an auxiliary capacitor Csub. Note that the capacitance Coled is a parasitic capacitance of the organic EL element 1.

保持容量Csは、一方の端子が駆動トランジスタTdのソース(ノードND2)に接続され、他方の端子が同じく駆動トランジスタTdのゲート(ノードND1)に接続されている。
画素回路10の発光素子は例えばダイオード構造の有機EL素子1とされ、アノードとカソードを備えている。有機EL素子1のアノードは駆動トランジスタTdのソースに接続され、カソードは所定の配線(カソード電位Vcat)に接続されている。
また、有機EL素子1と並列に補助容量Csubが接続されている。
The storage capacitor Cs has one terminal connected to the source (node ND2) of the drive transistor Td and the other terminal connected to the gate (node ND1) of the drive transistor Td.
The light emitting element of the pixel circuit 10 is, for example, the organic EL element 1 having a diode structure, and includes an anode and a cathode. The anode of the organic EL element 1 is connected to the source of the drive transistor Td, and the cathode is connected to a predetermined wiring (cathode potential Vcat).
Further, an auxiliary capacitor Csub is connected in parallel with the organic EL element 1.

サンプリングトランジスタTsは、そのドレインとソースの一端が信号線DTLに接続され、他端が駆動トランジスタTdのゲートに接続される。
またサンプリングトランジスタTsのゲートは書込制御線WSLに接続されている。
駆動トランジスタTdのドレインは電源制御線DSLに接続されている。
The sampling transistor Ts has one end of its drain and source connected to the signal line DTL and the other end connected to the gate of the driving transistor Td.
The gate of the sampling transistor Ts is connected to the write control line WSL.
The drain of the drive transistor Td is connected to the power supply control line DSL.

有機EL素子1の発光駆動は、基本的には次のようになる。
信号線DTLに映像信号電圧Vsigが印加されたタイミングで、サンプリングトランジスタTsが、書込制御線WSLによってライトスキャナ13から与えられる走査パルスWSによって導通される。これにより信号線DTLからの映像信号電圧Vsigが保持容量Csに書き込まれる。
The light emission driving of the organic EL element 1 is basically as follows.
At the timing when the video signal voltage Vsig is applied to the signal line DTL, the sampling transistor Ts is turned on by the scanning pulse WS supplied from the write scanner 13 by the write control line WSL. As a result, the video signal voltage Vsig from the signal line DTL is written to the storage capacitor Cs.

駆動トランジスタTdは、ドライブスキャナ12によって駆動電位Vccが与えられている電源制御線DSLからの電流供給により電流Idsを有機EL素子1に流し、有機EL素子1を発光させる。
このとき電流Idsは、駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧Vgsに応じた値(保持容量Csに保持された電圧に応じた値)となり、有機EL素子1はその電流値に応じた輝度で発光する。
つまりこの画素回路10の場合、保持容量Csに信号線DTLからの映像信号電圧Vsigを書き込むことによって、駆動トランジスタTdのゲート印加電圧を変化させ、これにより有機EL素子1に流れる電流値をコントロールして発光の階調を得る。
The drive transistor Td causes the current Ids to flow through the organic EL element 1 by supplying current from the power supply control line DSL to which the drive potential Vcc is applied by the drive scanner 12, and causes the organic EL element 1 to emit light.
At this time, the current Ids becomes a value corresponding to the gate-source voltage Vgs of the driving transistor Td (a value corresponding to the voltage held in the holding capacitor Cs), and the organic EL element 1 emits light with luminance corresponding to the current value. To do.
That is, in the case of this pixel circuit 10, by writing the video signal voltage Vsig from the signal line DTL to the storage capacitor Cs, the gate applied voltage of the drive transistor Td is changed, thereby controlling the value of the current flowing through the organic EL element 1. To obtain the gradation of light emission.

駆動トランジスタTdは、常に飽和領域で動作するように設計されているので、駆動トランジスタTdは次の式1に示した値を持つ定電流源となる。
Ids=(1/2)・μ・(W/L)・Cox・(Vgs−Vth)2・・・(式1)
但し、Idsは飽和領域で動作するトランジスタのドレイン・ソース間に流れる電流、μは移動度、Wはチャネル幅、Lはチャネル長、Coxはゲート容量、Vthは駆動トランジスタTdの閾値電圧を表している。
この式1から明らかな様に、飽和領域ではドレイン電流Idsはゲート・ソース間電圧Vgsによって制御される。駆動トランジスタTdは、ゲート・ソース間電圧Vgsが一定に保持される為、定電流源として動作し、有機EL素子1を一定の輝度で発光させることができる。
Since the drive transistor Td is designed to always operate in the saturation region, the drive transistor Td becomes a constant current source having a value represented by the following expression 1.
Ids = (1/2) · μ · (W / L) · Cox · (Vgs−Vth) 2 (Equation 1)
Where Ids is the current flowing between the drain and source of a transistor operating in the saturation region, μ is the mobility, W is the channel width, L is the channel length, Cox is the gate capacitance, and Vth is the threshold voltage of the driving transistor Td. Yes.
As apparent from Equation 1, the drain current Ids is controlled by the gate-source voltage Vgs in the saturation region. Since the gate-source voltage Vgs is kept constant, the drive transistor Td operates as a constant current source, and can emit the organic EL element 1 with constant luminance.

このように基本的には、各フレーム期間において、画素回路10に映像信号値(階調値)Vsigが保持容量Csに書き込まれる動作が行われ、これにより表示すべき階調に応じて駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧Vgsが決まる。
そして駆動トランジスタTdは飽和領域で動作することで有機EL素子1に対して定電流源として機能し、ゲート・ソース間電圧Vgsに応じた電流を有機EL素子1に流すことで、各フレーム期間に有機EL素子1では映像信号の階調値に応じた輝度の発光が行われる。
In this way, basically, in each frame period, an operation is performed in which the video signal value (gradation value) Vsig is written in the storage capacitor Cs in the pixel circuit 10, and thereby the driving transistor is selected according to the gradation to be displayed. The gate-source voltage Vgs of Td is determined.
The drive transistor Td functions as a constant current source for the organic EL element 1 by operating in the saturation region, and a current corresponding to the gate-source voltage Vgs is supplied to the organic EL element 1 so that each frame period is The organic EL element 1 emits light with a luminance corresponding to the gradation value of the video signal.

本実施の形態では、画素アレイ20における一部の画素回路10はダミー画素回路とされている。
図4は画素アレイ20における画素回路10を示しているが、破線で囲った部分が有効表示領域AAであるとする。
この有効表示領域AA外が、ダミー画素回路10dが配置されるダミー画素領域DMAとなる。ダミー画素回路10dは、有効表示領域AA内の画素回路10と同じく、図3の回路構成であり、水平セレクタ11から信号線DTLを介して与えられる映像信号電圧Vsigに基づく発光を行う。
In the present embodiment, some of the pixel circuits 10 in the pixel array 20 are dummy pixel circuits.
FIG. 4 shows the pixel circuit 10 in the pixel array 20, and it is assumed that a portion surrounded by a broken line is an effective display area AA.
Outside the effective display area AA is a dummy pixel area DMA in which the dummy pixel circuit 10d is arranged. Similar to the pixel circuit 10 in the effective display area AA, the dummy pixel circuit 10d has the circuit configuration of FIG. 3 and emits light based on the video signal voltage Vsig supplied from the horizontal selector 11 via the signal line DTL.

本例の場合、複数のダミー画素回路10dの一群がダミー画素ブロックBLとされる。この図4では、ダミー画素ブロックBL1、BL2・・・BL(x)が形成されているとしている。
ダミー画素ブロックBLは、1つの光検出部30に対応するダミー画素回路群である。
例えば図1,図2では複数の光検出部30を示しているが、1つのダミー画素ブロックにつき、1つの光検出部30が設けられる。
そして、1つのダミー画素ブロックBL内の各ダミー画素回路10dは、それぞれが同一の信号値で発光させられる。
例えばダミー画素ブロックBL1内の各ダミー画素回路10dには、常に100nitに相当する映像信号電圧Vsigが供給されて発光駆動される。また例えばダミー画素ブロックBL2内の各ダミー画素回路10dには、常に200nitに相当する映像信号電圧Vsigが供給されて発光駆動される。
In the case of this example, a group of the plurality of dummy pixel circuits 10d is a dummy pixel block BL. In FIG. 4, dummy pixel blocks BL1, BL2,... BL (x) are formed.
The dummy pixel block BL is a dummy pixel circuit group corresponding to one light detection unit 30.
For example, FIG. 1 and FIG. 2 show a plurality of light detection units 30, but one light detection unit 30 is provided for each dummy pixel block.
Each dummy pixel circuit 10d in one dummy pixel block BL is caused to emit light with the same signal value.
For example, the video signal voltage Vsig corresponding to 100 nit is always supplied to each dummy pixel circuit 10d in the dummy pixel block BL1 to drive light emission. In addition, for example, the video signal voltage Vsig corresponding to 200 nit is always supplied to each dummy pixel circuit 10d in the dummy pixel block BL2 to drive light emission.

このように1つのダミー画素ブロックBLとされる一群のダミー画素回路10dは同一輝度の発光が行われ、この各ダミー画素回路10dの発光輝度を、対応する1つの光検出部30で検出するものとなる。
なお、後述するが、光検出部30は、受光素子と検出信号出力回路とから構成され、受光素子は、例えば1つのダミー画素回路10dのそれぞれに対応して設けられる。そして複数の受光素子が1つの検出信号出力回路に接続される構成となる。
In this way, a group of dummy pixel circuits 10d, which is one dummy pixel block BL, emits light with the same luminance, and the corresponding one light detection unit 30 detects the light emission luminance of each dummy pixel circuit 10d. It becomes.
As will be described later, the light detection unit 30 includes a light receiving element and a detection signal output circuit, and the light receiving element is provided corresponding to each dummy pixel circuit 10d, for example. A plurality of light receiving elements are connected to one detection signal output circuit.

<2.画素回路の動作>

続いて図5を用いて画素回路10の動作について説明する。なおダミー画素回路10dも同様の動作を行うことになる。
ここで述べる画素回路動作は、各画素回路10の駆動トランジスタTdの閾値、移動度のばらつきによるユニフォミティ劣化を補償するための閾値補正動作、移動度補正動作を含む動作である。
<2. Operation of Pixel Circuit>

Next, the operation of the pixel circuit 10 will be described with reference to FIG. The dummy pixel circuit 10d performs the same operation.
The pixel circuit operation described here is an operation including a threshold value correction operation and a mobility correction operation for compensating for uniformity degradation due to variations in the threshold and mobility of the driving transistor Td of each pixel circuit 10.

なお画素回路動作においては、閾値補正動作、移動度補正動作自体は、従来より行われているが、この必要性について簡単に説明しておく。
例えばポリシリコンTFT等を用いた画素回路では、駆動トランジスタTdの閾値電圧Vthや、駆動トランジスタTdのチャネルを構成する半導体薄膜の移動度μが経時的に変化することがある。また製造プロセスのバラツキによって閾値電圧Vthや移動度μのトランジスタ特性が画素毎に異なったりする。
駆動トランジスタTdの閾値電圧や移動度が画素毎に異なると、画素毎に駆動トランジスタTdに流れる電流値にばらつきが生じる。このため仮に全画素回路10に同一の映像信号値(映像信号電圧Vsig)を与えたとしても、有機EL素子1の発光輝度に画素毎のバラツキが生じ、その結果、画面のユニフォミティ(一様性)が損なわれる。
このことから、画素回路動作においては、閾値電圧Vthや移動度μの変動に対する補正機能を持たせるようにしている。
In the pixel circuit operation, the threshold value correction operation and the mobility correction operation itself have been performed conventionally. This necessity will be briefly described.
For example, in a pixel circuit using a polysilicon TFT or the like, the threshold voltage Vth of the drive transistor Td and the mobility μ of the semiconductor thin film constituting the channel of the drive transistor Td may change over time. Further, the transistor characteristics of the threshold voltage Vth and the mobility μ are different for each pixel due to variations in the manufacturing process.
If the threshold voltage and mobility of the drive transistor Td differ from pixel to pixel, the current value flowing through the drive transistor Td varies from pixel to pixel. For this reason, even if the same video signal value (video signal voltage Vsig) is given to all the pixel circuits 10, the light emission luminance of the organic EL element 1 varies from pixel to pixel. As a result, the screen uniformity (uniformity) ) Is damaged.
For this reason, the pixel circuit operation is provided with a correction function for fluctuations in the threshold voltage Vth and the mobility μ.

図5に画素回路10の発光サイクル(各フレーム期間)の動作のタイミングチャートを示す。
図5では、水平セレクタ11が信号線DTLに与える信号線電圧を示している。この動作例の場合、水平セレクタ11は信号線電圧として、1水平期間(1H)に、単一の所定の電圧値としての閾値補正基準電圧Vofsと、映像信号電圧Vsigとしてのパルス電圧を信号線DTLに与える。
また図5には、書込制御線WSLを介してライトスキャナ13によってサンプリングトランジスタTsのゲートに与えられる走査パルスWSを示している。nチャネルのサンプリングトランジスタTsは、走査パルスWSがHレベルとされることで導通され、走査パルスWSがLレベルとされることで非導通となる。
また図5には、電源制御線DSLを介してドライブスキャナ12から供給される電源パルスDSを示している。電源パルスDSとしては駆動電圧Vcc又は初期電圧Viniが与えられる。
また図5には、図3に示したノードND1、ND2の電圧として、駆動トランジスタTdのゲート電圧Vgとソース電圧Vsの変化を示している。
FIG. 5 shows a timing chart of the operation of the light emission cycle (each frame period) of the pixel circuit 10.
FIG. 5 shows the signal line voltage that the horizontal selector 11 gives to the signal line DTL. In the case of this operation example, the horizontal selector 11 uses the threshold correction reference voltage Vofs as a single predetermined voltage value and the pulse voltage as the video signal voltage Vsig as a signal line voltage in one horizontal period (1H) as a signal line. Give to DTL.
FIG. 5 shows a scan pulse WS applied to the gate of the sampling transistor Ts by the write scanner 13 via the write control line WSL. The n-channel sampling transistor Ts is turned on when the scanning pulse WS is set to the H level, and is turned off when the scanning pulse WS is set to the L level.
FIG. 5 shows a power pulse DS supplied from the drive scanner 12 via the power control line DSL. The drive voltage Vcc or the initial voltage Vini is given as the power supply pulse DS.
FIG. 5 shows changes in the gate voltage Vg and the source voltage Vs of the drive transistor Td as the voltages of the nodes ND1 and ND2 shown in FIG.

図5のタイミングチャートにおける時点tsは、発光素子である有機EL素子1が発光駆動される1サイクル、例えば画像表示の1フレーム期間の開始タイミングとなる。
この時点tsに至る前は、前フレームの発光が行われている。
即ち、有機EL素子1の発光状態は、電源パルスDSが駆動電圧Vccであり、サンプリングトランジスタTsがオフした状態である。この時、駆動トランジスタTdは飽和領域で動作するように設定されているため、有機EL素子1に流れる電流Idsは駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧Vgsに応じて、上述した式1に示される値となる。
The time ts in the timing chart of FIG. 5 is the start timing of one cycle in which the organic EL element 1 as a light emitting element is driven to emit light, for example, one frame period of image display.
Before reaching this time point ts, light emission of the previous frame is performed.
That is, the light emission state of the organic EL element 1 is a state where the power supply pulse DS is the drive voltage Vcc and the sampling transistor Ts is turned off. At this time, since the drive transistor Td is set to operate in the saturation region, the current Ids flowing through the organic EL element 1 is expressed by the above-described equation 1 according to the gate-source voltage Vgs of the drive transistor Td. Value.

時点tsで今回のフレームの発光のための動作が開始される。
期間LT1として、消光及び閾値補正のための準備が行われる。
まず電源パルスDS=初期電位Viniとされる。
このとき、初期電位Viniが有機EL素子1の閾値電圧Vthelとカソード電圧Vcatの和よりも小さい、つまりVini ≦Vthel+Vcatであることで、有機EL素子1は消光し、非発光期間が開始される。このとき電源制御線DSLが駆動トランジスタTdのソースとなる。また有機EL素子1のアノード(ノードND2)は初期電位Viniに充電される。
また駆動トランジスタTdのゲート電位(ノードND1)は、ソース電位の低下に応じて、或る電位Vg’まで低下する。
The operation for light emission of the current frame is started at time ts.
In the period LT1, preparation for extinction and threshold correction is performed.
First, the power supply pulse DS is set to the initial potential Vini.
At this time, when the initial potential Vini is smaller than the sum of the threshold voltage Vthel and the cathode voltage Vcat of the organic EL element 1, that is, Vini ≦ Vthel + Vcat, the organic EL element 1 is extinguished and a non-light emitting period is started. At this time, the power supply control line DSL becomes the source of the drive transistor Td. The anode (node ND2) of the organic EL element 1 is charged to the initial potential Vini.
Further, the gate potential (node ND1) of the drive transistor Td decreases to a certain potential Vg ′ in accordance with the decrease in the source potential.

一定期間後、閾値補正のための準備が行われる
即ち、信号線DTLの電位が閾値補正基準電圧Vofsである時に、走査パルスWSがHレベルとされ、サンプリングトランジスタTsがオンとされる。このため駆動トランジスタTdのゲート(ノードND1)は閾値補正基準電圧Vofsとなる。
駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧Vgs=Vofs−Viniとなる。
このVofs−Viniが駆動トランジスタTdの閾値電圧Vthよりも大きくないと閾値補正動作を行うことができないために、Vofs−Vini>Vthとなるように、初期電位Vini、基準電圧Vofsが設定されている。
即ち閾値補正の準備として、駆動トランジスタのゲート・ソース間電圧が、その閾値電圧Vthよりも十分広げられることになる。
After a certain period, preparation for threshold correction is performed. That is, when the potential of the signal line DTL is the threshold correction reference voltage Vofs, the scanning pulse WS is set to H level and the sampling transistor Ts is turned on. Therefore, the gate (node ND1) of the drive transistor Td becomes the threshold correction reference voltage Vofs.
The gate-source voltage Vgs of the drive transistor Td is Vgs = Vofs−Vini.
Since the threshold value correction operation cannot be performed unless this Vofs−Vini is larger than the threshold voltage Vth of the drive transistor Td, the initial potential Vini and the reference voltage Vofs are set so that Vofs−Vini> Vth. .
That is, as a preparation for threshold correction, the gate-source voltage of the drive transistor is sufficiently widened than the threshold voltage Vth.

続いて期間LT2として閾値補正(Vth補正)が行われる。
即ち、信号線電圧が閾値補正基準電圧Vofsとなっている間、ライトスキャナ13は走査パルスWSのHレベルを維持する。そしてドライブスキャナ12が電源パルスDSを駆動電圧Vccとする。
この場合、有機EL素子1のアノード(ノードND2)が駆動トランジスタTdのソースとなり電流が流れる。このため、駆動トランジスタTdのゲート(ノードND1)は閾値補正基準電圧Vofsに固定されたまま、ソースノード(ノードND2)が上昇する。
有機EL素子1のアノード電位(ノードND2の電位)が、Vcat+Vthel(有機EL素子1の閾値電圧)以下である限り、駆動トランジスタTdの電流は保持容量Csと寄生容量Coled及び補助容量Csubを充電するために使われる。有機EL素子1のアノード電位がVcat+Vthel以下である限りとは、有機EL素子1のリーク電流が駆動トランジスタTdに流れる電流よりもかなり小さいという意味である。
このためノードND2の電位(駆動トランジスタTdのソース電位)は、時間と共に上昇してゆく。
Subsequently, threshold correction (Vth correction) is performed in the period LT2.
That is, while the signal line voltage is the threshold correction reference voltage Vofs, the write scanner 13 maintains the H level of the scanning pulse WS. The drive scanner 12 sets the power supply pulse DS to the drive voltage Vcc.
In this case, the anode (node ND2) of the organic EL element 1 serves as the source of the drive transistor Td, and a current flows. Therefore, the source node (node ND2) rises while the gate (node ND1) of the drive transistor Td is fixed to the threshold correction reference voltage Vofs.
As long as the anode potential of the organic EL element 1 (potential of the node ND2) is equal to or lower than Vcat + Vthel (threshold voltage of the organic EL element 1), the current of the drive transistor Td charges the holding capacitor Cs, the parasitic capacitor Coled, and the auxiliary capacitor Csub. Used for. “As long as the anode potential of the organic EL element 1 is equal to or lower than Vcat + Vthel” means that the leakage current of the organic EL element 1 is considerably smaller than the current flowing through the drive transistor Td.
For this reason, the potential of the node ND2 (the source potential of the driving transistor Td) increases with time.

この閾値補正は、駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧を閾値電圧Vthとする動作である。従って駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧が閾値電圧Vthとなるまで、駆動トランジスタTdのソース電位が上昇される。
一定時間経過すると、駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧が閾値電圧Vthとなる。
なお、この例では閾値補正動作を1回行うものとしているが、駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧が閾値電圧Vthとなる時間を確保するため、閾値補正動作が分割して複数回行われることもある。
This threshold correction is an operation in which the gate-source voltage of the drive transistor Td is set to the threshold voltage Vth. Therefore, the source potential of the drive transistor Td is raised until the gate-source voltage of the drive transistor Td reaches the threshold voltage Vth.
After a certain period of time, the gate-source voltage of the drive transistor Td becomes the threshold voltage Vth.
In this example, the threshold correction operation is performed once. However, the threshold correction operation is divided and performed a plurality of times in order to secure time for the gate-source voltage of the drive transistor Td to be the threshold voltage Vth. There is also.

期間LT2の終了時点で、駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧が閾値電圧Vthとなった時、ソース電位(ノードND2:有機EL素子1のアノード電位)=Vofs−Vth≦Vcat+Vthelとなっている。(Vcatはカソード電位、Vthelは有機EL素子1の閾値電圧)
このとき、ライトスキャナ13は走査パルスWSをLレベルとし、サンプリングトランジスタTsがオフとなって閾値補正動作が完了する。
When the gate-source voltage of the drive transistor Td becomes the threshold voltage Vth at the end of the period LT2, the source potential (node ND2: anode potential of the organic EL element 1) = Vofs−Vth ≦ Vcat + Vthel. (Vcat is the cathode potential, Vthel is the threshold voltage of the organic EL element 1)
At this time, the write scanner 13 sets the scanning pulse WS to L level, the sampling transistor Ts is turned off, and the threshold correction operation is completed.

その後、信号線電圧が映像信号電圧Vsigとなっている期間LT3に、ライトスキャナ13が走査パルスWSがHレベルとし、映像信号電圧Vsigの書込及び移動度補正が行われる。即ち駆動トランジスタTdのゲートに映像信号電圧Vsigが入力される。   Thereafter, during a period LT3 in which the signal line voltage is the video signal voltage Vsig, the write scanner 13 sets the scanning pulse WS to the H level, and writing of the video signal voltage Vsig and mobility correction are performed. That is, the video signal voltage Vsig is input to the gate of the drive transistor Td.

駆動トランジスタTdのゲート電位は映像信号電圧Vsigの電位となるが、電源制御線DSLが駆動電圧Vccとなっていることで電流が流れ、ソース電位は時間とともに上昇してゆく。
このとき、駆動トランジスタTdのソース電圧が有機EL素子1の閾値電圧Vthelとカソード電圧Vcatの和を越えなければ、駆動トランジスタTdの電流は保持容量Csと寄生容量Coled及び補助容量Csubを充電するのに使用される。つまり有機EL素子1のリーク電流が駆動トランジスタTdに流れる電流よりもかなり小さければという条件である。
そしてこのときは、駆動トランジスタTdの閾値補正動作は完了しているため、駆動トランジスタTdが流す電流は移動度μを反映したものとなる。
具体的にいうと、移動度が大きいものはこの時の電流量が大きく、ソースの上昇も早い。逆に移動度が小さいものは電流量が小さく、ソースの上昇は遅くなる。
これによって、走査パルスWSがHレベルとなる期間LT4として、サンプリングトランジスタTsがオンしてから、駆動トランジスタTdのソース電圧Vsは上昇し、サンプリングトランジスタTsがオフしたときには、ソース電圧Vsは移動度μを反映した電圧となる。駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧Vgsは移動度を反映して小さくなり、一定時間経過後に完全に移動度を補正する電圧となる。
The gate potential of the drive transistor Td becomes the potential of the video signal voltage Vsig, but current flows because the power supply control line DSL is at the drive voltage Vcc, and the source potential rises with time.
At this time, if the source voltage of the drive transistor Td does not exceed the sum of the threshold voltage Vthel and the cathode voltage Vcat of the organic EL element 1, the current of the drive transistor Td charges the holding capacitor Cs, the parasitic capacitor Coled, and the auxiliary capacitor Csub. Used for. That is, the condition is that the leakage current of the organic EL element 1 should be much smaller than the current flowing through the drive transistor Td.
At this time, since the threshold value correcting operation of the drive transistor Td is completed, the current flowing through the drive transistor Td reflects the mobility μ.
Specifically, those with high mobility have a large current amount at this time, and the source rises quickly. On the other hand, when the mobility is low, the amount of current is small and the source rises slowly.
As a result, during the period LT4 when the scanning pulse WS is at the H level, the source voltage Vs of the drive transistor Td rises after the sampling transistor Ts is turned on, and when the sampling transistor Ts is turned off, the source voltage Vs becomes the mobility μ The voltage reflects. The gate-source voltage Vgs of the driving transistor Td is reduced to reflect the mobility, and becomes a voltage that completely corrects the mobility after a predetermined time has elapsed.

このように映像信号電圧Vsig書込及び移動度補正を行った後、ゲート・ソース間電圧Vgsを確定させ、ブートストラップ、発光状態へと移行する。
即ち走査パルスWSをLレベルとしてサンプリングトランジスタTsをオフして書き込みが終了し、有機EL素子1を発光させる。
この場合、駆動トランジスタTdのゲート・ソース間電圧Vgsに応じた電流Idsが流れ、ノードND2の電位は、有機EL素子1にその電流が流れる電圧まで上昇し、有機EL素子1は発光する。このときサンプリングトランジスタTsがオフであり、ノードND2の電位の上昇と同時に駆動トランジスタTdのゲート(ノードND1)も同様に上昇するため、ゲート・ソース間電圧Vgsは一定に保たれたままである。(ブートストラップ動作)
After writing the video signal voltage Vsig and correcting the mobility in this way, the gate-source voltage Vgs is determined, and the bootstrap and light emission states are entered.
That is, the scanning pulse WS is set to L level, the sampling transistor Ts is turned off, writing is completed, and the organic EL element 1 is caused to emit light.
In this case, a current Ids corresponding to the gate-source voltage Vgs of the drive transistor Td flows, the potential of the node ND2 rises to a voltage at which the current flows in the organic EL element 1, and the organic EL element 1 emits light. At this time, the sampling transistor Ts is off, and the gate of the drive transistor Td (node ND1) rises at the same time as the potential of the node ND2 rises, so the gate-source voltage Vgs remains constant. (Bootstrap operation)

このように画素回路10は1フレーム期間における1サイクルの発光駆動動作として、閾値補正動作及び移動度補正動作を含んで、有機EL素子1の発光のための動作が行われる。
閾値補正動作によって各画素回路10での駆動トランジスタTdの閾値電圧Vthのバラツキや、経時変動による閾値電圧Vth変動などに関わらず、信号電位Vsigに応じた電流を有機EL素子1に与えることができる。つまり製造上或いは経時変化による閾値電圧Vthのバラツキをキャンセルして、画面上に輝度ムラ等を発生させずに高画質を維持できる。
また、駆動トランジスタTdの移動度によってもドレイン電流は変動するため、画素回路10毎の駆動トランジスタTdの移動度のバラツキにより画質が低下するが、移動度補正により、駆動トランジスタTdの移動度の大小に応じてソース電位Vsが得られる。結果として各画素回路10の駆動トランジスタTdの移動度のバラツキを吸収するようなゲート・ソース間電圧Vgsに調整されるため、移動度のバラツキによる画質低下も解消される。
As described above, the pixel circuit 10 performs the operation for light emission of the organic EL element 1 including the threshold value correction operation and the mobility correction operation as the light emission drive operation of one cycle in one frame period.
A current corresponding to the signal potential Vsig can be supplied to the organic EL element 1 regardless of variations in the threshold voltage Vth of the drive transistor Td in each pixel circuit 10 and fluctuations in the threshold voltage Vth due to temporal fluctuations by the threshold correction operation. . That is, variations in the threshold voltage Vth due to manufacturing or changes over time can be canceled, and high image quality can be maintained without causing uneven brightness on the screen.
In addition, since the drain current varies depending on the mobility of the driving transistor Td, the image quality deteriorates due to variations in the mobility of the driving transistor Td for each pixel circuit 10, but the mobility correction increases or decreases the mobility of the driving transistor Td. In response to this, the source potential Vs is obtained. As a result, the gate-source voltage Vgs is adjusted so as to absorb the variation in mobility of the drive transistor Td of each pixel circuit 10, so that the deterioration in image quality due to the variation in mobility is also eliminated.

<3.光検出部の動作及び補正処理>

続いて光検出部30の構成及び動作を説明する。
図6は、1つのダミー画素回路10dと、それに対応する光検出部30を示している。
なお、1つの光検出部30は、上述のようにダミー画素ブロックBLとされる一群の複数のダミー画素回路10dに対応するが、ここではあくまでも動作説明のため、1つのダミー画素回路10dに対応する構成として示しているものである。
ダミー画素回路10dの構成は、通常の画素回路10と同様である。
<3. Operation of light detection unit and correction processing>

Next, the configuration and operation of the light detection unit 30 will be described.
FIG. 6 shows one dummy pixel circuit 10d and the corresponding light detection unit 30.
Note that one light detection unit 30 corresponds to a group of a plurality of dummy pixel circuits 10d that are the dummy pixel blocks BL as described above, but here, for the sake of explanation of operation, it corresponds to one dummy pixel circuit 10d. It is shown as a configuration to do.
The configuration of the dummy pixel circuit 10d is the same as that of the normal pixel circuit 10.

図6に示すように光検出部30は、受光素子SL(実際には後述するように複数の受光素子SL)と、検出信号出力回路31を有して構成される。
受光素子SLには、例えばPINダイオードが用いられる。
また検出信号出力回路31は、容量C1と、nチャネルTFTによる検出信号出力用トランジスタT5,スイッチングトランジスタT3,T4を備える。
As shown in FIG. 6, the light detection unit 30 includes a light receiving element SL (actually, a plurality of light receiving elements SL as will be described later) and a detection signal output circuit 31.
For example, a PIN diode is used as the light receiving element SL.
The detection signal output circuit 31 includes a capacitor C1, a detection signal output transistor T5 using n-channel TFTs, and switching transistors T3 and T4.

受光素子SLは、電源電圧Vccと検出信号出力用トランジスタT5のゲートの間に接続されている。
この光センサS1は、ダミー画素回路10dの有機EL素子1で発光される光を検出するように配置されている。そして検出光量に応じて、そのリーク電流が増減する。具体的には有機EL素子1の発光光量が多ければ電流増加量は大きく、少なければ電流増加量は小さくなる。
The light receiving element SL is connected between the power supply voltage Vcc and the gate of the detection signal output transistor T5.
The photosensor S1 is arranged to detect light emitted from the organic EL element 1 of the dummy pixel circuit 10d. The leak current increases or decreases according to the detected light amount. Specifically, if the amount of light emitted from the organic EL element 1 is large, the current increase amount is large, and if it is small, the current increase amount is small.

容量C1は、電源電圧Vccと検出信号出力用トランジスタT5のゲートの間に接続されている。
検出信号出力用トランジスタT5は、ドレインが電源電圧Vccに接続されている。そしてソースがスイッチングトランジスタT3と接続されている。
スイッチングトランジスタT3は、検出信号出力用トランジスタT5のソースと光検出線DETLの間に接続されている。
このスイッチングトランジスタT3のゲートは、図1に示した検出動作制御部21から与えられる制御パルスpT3によってオン/オフされる。スイッチングトランジスタT3がオンとされることで、検出信号出力用トランジスタT5のソース電位が光検出線DETLに出力される構成となっている。
The capacitor C1 is connected between the power supply voltage Vcc and the gate of the detection signal output transistor T5.
The drain of the detection signal output transistor T5 is connected to the power supply voltage Vcc. The source is connected to the switching transistor T3.
The switching transistor T3 is connected between the source of the detection signal output transistor T5 and the light detection line DETL.
The gate of the switching transistor T3 is turned on / off by a control pulse pT3 given from the detection operation control unit 21 shown in FIG. When the switching transistor T3 is turned on, the source potential of the detection signal output transistor T5 is output to the photodetection line DETL.

スイッチングトランジスタT4は、そのドレイン及びソースが検出信号出力用トランジスタT5のゲートと検出基準電位Vrの間に接続されている。このスイッチングトランジスタT4のゲートは、図1に示した検出動作制御部21から与えられる制御パルスpT4によってオン/オフされる。
スイッチングトランジスタT4がオンとされることで、検出信号出力用トランジスタT5のゲートに検出基準電位Vrが入力される構成となっている。
The drain and source of the switching transistor T4 are connected between the gate of the detection signal output transistor T5 and the detection reference potential Vr. The gate of the switching transistor T4 is turned on / off by a control pulse pT4 given from the detection operation control unit 21 shown in FIG.
When the switching transistor T4 is turned on, the detection reference potential Vr is input to the gate of the detection signal output transistor T5.

光検出部30の検出動作は次のようになる。
光検出部30では、まず検出準備のため、制御パルスpT4,pT3によってスイッチングトランジスタT3、T4がオンとされる。
スイッチングトランジスタT4がオンとされることで、検出基準電圧Vrが検出信号出力用トランジスタT5のゲートに入力される。
ここで検出基準電圧Vrは、検出信号出力用トランジスタT5をオンする電圧とされている。このため検出信号出力用トランジスタT5に電流が流れ、スイッチングトランジスタT3もオンとされているため、光検出線DETLに或る電位Vxが出力される。
このように検出準備として、検出信号出力用トランジスタT5のゲート電位=Vr,光検出線DETLの電位=Vxとされる。
The detection operation of the light detection unit 30 is as follows.
In the light detection unit 30, first, the switching transistors T3 and T4 are turned on by the control pulses pT4 and pT3 in preparation for detection.
When the switching transistor T4 is turned on, the detection reference voltage Vr is input to the gate of the detection signal output transistor T5.
Here, the detection reference voltage Vr is a voltage for turning on the detection signal output transistor T5. For this reason, a current flows through the detection signal output transistor T5 and the switching transistor T3 is also turned on, so that a certain potential Vx is output to the photodetection line DETL.
Thus, as preparation for detection, the gate potential of the detection signal output transistor T5 is set to Vr, and the potential of the light detection line DETL is set to Vx.

画素回路10dでは、1フレーム期間毎に図5で説明した動作が行われ、有機EL素子1では入力された映像信号電圧Vsigに応じた発光が行われる。すると受光素子SLでは有機EL素子1からの光を受光し、そのリーク電流が変化することとなる。   The pixel circuit 10d performs the operation described with reference to FIG. 5 for each frame period, and the organic EL element 1 emits light according to the input video signal voltage Vsig. Then, the light receiving element SL receives light from the organic EL element 1, and the leakage current changes.

このような有機EL素子の発光開始後、制御パルスpT4がLレベルとされ、スイッチングトランジスタT4がオフとされる。
スイッチングトランジスタT4がオフとなることで、検出信号出力用トランジスタT5のゲート電位の検出基準電位Vrへの固定が解除される。
そして受光素子SLが有機EL素子1の光を受光し、電源電圧Vccからリーク電流を検出信号出力用トランジスタT5のゲートに流すこととなる。
この動作によって検出信号出力用トランジスタT5のゲート電圧は、検出基準電圧Vrから上昇してゆき、それに伴って光検出線DETLの電位も電位Vxから増加してゆく。この光検出線DETLの電位変化を、電圧検出部22が検出する。
After starting the light emission of such an organic EL element, the control pulse pT4 is set to the L level, and the switching transistor T4 is turned off.
When the switching transistor T4 is turned off, the fixation of the gate potential of the detection signal output transistor T5 to the detection reference potential Vr is released.
Then, the light receiving element SL receives the light of the organic EL element 1, and causes a leakage current from the power supply voltage Vcc to flow to the gate of the detection signal output transistor T5.
By this operation, the gate voltage of the detection signal output transistor T5 increases from the detection reference voltage Vr, and the potential of the photodetection line DETL also increases from the potential Vx. The voltage detector 22 detects the potential change of the light detection line DETL.

この検出電位は、有機EL素子1の発光光量に応じたものとなる。換言すれば、特定の階調表示(例えば100nitの映像信号電圧Vsigによる表示)をダミー画素回路10dで実行させているのであれば、検出電位は、100nit輝度に相当する値となる。そしてこの検出電位の変動は、有機EL素子1の劣化具合を表すものとなる。   This detection potential corresponds to the amount of light emitted from the organic EL element 1. In other words, if a specific gradation display (for example, display by the video signal voltage Vsig of 100 nit) is executed by the dummy pixel circuit 10d, the detection potential becomes a value corresponding to 100 nit luminance. The fluctuation of the detected potential represents the degree of deterioration of the organic EL element 1.

一定時間経過後、制御パルスpT3がLレベルとされ、スイッチングトランジスタT3がオフとされて検出動作を終了する。
例えば1フレーム期間毎に、以上のような光検出動作が行われる。
そして、この光検出部30の検出信号出力回路31によれば、検出信号出力用トランジスタT5のゲート電圧が変動すればその変動分がソースに出力される構成となっている。つまり受光素子SLのリーク電流変化による検出信号出力用トランジスタT5のゲート電圧の変化がソースから光検出線DETLに出力される。
また、検出信号出力用トランジスタT5のゲート・ソース間電圧Vgsは、その閾値電圧Vthよりも大きくなるように設定されている。このため受光素子SLのリーク電流値が小さくても、検出信号出力用トランジスタT5を介することで光検出線DETLに出力される電流値は比較的大きく、これにより発光光量の検出情報を精度良く電圧検出部22に出力することが可能となっている。
After a certain period of time, the control pulse pT3 is set to L level, the switching transistor T3 is turned off, and the detection operation is finished.
For example, the light detection operation as described above is performed every frame period.
According to the detection signal output circuit 31 of the light detection unit 30, if the gate voltage of the detection signal output transistor T5 varies, the variation is output to the source. That is, the change in the gate voltage of the detection signal output transistor T5 due to the change in the leakage current of the light receiving element SL is output from the source to the light detection line DETL.
The gate-source voltage Vgs of the detection signal output transistor T5 is set to be larger than the threshold voltage Vth. For this reason, even if the leak current value of the light receiving element SL is small, the current value output to the light detection line DETL via the detection signal output transistor T5 is relatively large. It is possible to output to the detection unit 22.

このように光検出部30による光検出出力は、光検出線DETLの電位変動として表れる。
電圧検出部22は、光検出線DETLの電位変動量を検出することで、ダミー画素回路10dの発光輝度情報を得る。
図1に示したように、電圧検出部22は、輝度情報を補正処理部40に供給する。
Thus, the light detection output by the light detection unit 30 appears as a potential fluctuation of the light detection line DETL.
The voltage detector 22 detects light emission luminance information of the dummy pixel circuit 10d by detecting a potential fluctuation amount of the light detection line DETL.
As shown in FIG. 1, the voltage detection unit 22 supplies luminance information to the correction processing unit 40.

先に述べたように、有機EL素子は時間経過によって発光効率が低下してしまう。つまり同じ電流を流してもその発光輝度が時間と共に低下してしまうこととなる。その結果、例えば図14のように焼き付きが発生してしまう。
そこで本例の表示装置は、ダミー画素回路10dの発光光量を検出し、これによって発光輝度の劣化を判定する。そして劣化具合に応じて映像データDVを補正する。つまり各画素回路10に与える映像信号電圧Vsigを補正することとなる。
As described above, the light emission efficiency of the organic EL element decreases with time. In other words, even if the same current is supplied, the emission luminance is lowered with time. As a result, image sticking occurs as shown in FIG.
Therefore, the display device of this example detects the light emission amount of the dummy pixel circuit 10d, and thereby determines the deterioration of the light emission luminance. Then, the video data DV is corrected according to the degree of deterioration. That is, the video signal voltage Vsig applied to each pixel circuit 10 is corrected.

この補正動作について説明する。
上述のように、ダミー画素回路10dは、ダミー画素ブロックBL毎に所定の輝度で発光される。
例えば図4のダミー画素ブロックBL1の各ダミー画素回路10dでは100nit相当の映像信号電圧Vsigが与えられて発光動作が行われる。
またダミー画素ブロックBL2の各ダミー画素回路10dでは200nit相当の映像信号電圧Vsigが与えられて発光動作が行われる。
またダミー画素ブロックBL3の各ダミー画素回路10dでは400nit相当の映像信号電圧Vsigが与えられて発光動作が行われる。
This correction operation will be described.
As described above, the dummy pixel circuit 10d emits light with a predetermined luminance for each dummy pixel block BL.
For example, each dummy pixel circuit 10d of the dummy pixel block BL1 in FIG. 4 is supplied with a video signal voltage Vsig equivalent to 100 nit and performs a light emitting operation.
Each dummy pixel circuit 10d of the dummy pixel block BL2 is supplied with a video signal voltage Vsig equivalent to 200 nit and performs a light emitting operation.
Further, each dummy pixel circuit 10d of the dummy pixel block BL3 is supplied with a video signal voltage Vsig corresponding to 400 nit and performs a light emitting operation.

このように各ダミー画素回路10dを発光駆動させた状態で、各光検出部30が各ダミー画素ブロックBLにおける発光輝度を検出する。
そして検出された輝度情報値が、図1に示した補正処理部40における補正量算出部42に供給される。
補正量算出部42は、図7のような輝度劣化曲線を求める。例えば或る程度の期間、100nit、200nit、400nit・・・での各輝度情報値を蓄積していく。そして実測による輝度劣化量を求めると共に、さらなる時間経過に応じた劣化率の推定を行い、図7のような各輝度に応じた輝度劣化曲線を生成する。
この輝度劣化曲線の情報は例えばフラッシュメモリ43に保存される。
また、補正量算出部42は、この輝度劣化曲線と映像データDVを元に、画素回路毎の補正量の情報である補正パターンを作成する。
この輝度劣化曲線及び補正パターンの情報は例えばフラッシュメモリ43に保存される。
In this manner, each light detection unit 30 detects the light emission luminance in each dummy pixel block BL in a state where each dummy pixel circuit 10d is driven to emit light.
Then, the detected luminance information value is supplied to the correction amount calculation unit 42 in the correction processing unit 40 shown in FIG.
The correction amount calculation unit 42 obtains a luminance deterioration curve as shown in FIG. For example, each luminance information value at 100 nit, 200 nit, 400 nit,... Is accumulated for a certain period. Then, the luminance degradation amount by actual measurement is obtained, and the degradation rate is estimated according to further time passage, and a luminance degradation curve corresponding to each luminance as shown in FIG. 7 is generated.
Information on the luminance deterioration curve is stored in the flash memory 43, for example.
In addition, the correction amount calculation unit 42 creates a correction pattern, which is information on the correction amount for each pixel circuit, based on the luminance deterioration curve and the video data DV.
Information on the luminance deterioration curve and the correction pattern is stored in the flash memory 43, for example.

表示データとしての映像データDVは、補正演算部41に供給される。
補正演算部41は、映像データDVの各信号値、即ち各画素回路10に与える階調値を、補正パターンの情報に基づいて補正し、補正後の映像データDVを水平セレクタ11に出力する。つまり各画素回路10毎の輝度劣化分の補正値を、各画素回路10に対する信号値に与える。
Video data DV as display data is supplied to the correction calculation unit 41.
The correction calculation unit 41 corrects each signal value of the video data DV, that is, the gradation value to be given to each pixel circuit 10 based on the correction pattern information, and outputs the corrected video data DV to the horizontal selector 11. That is, the correction value for the luminance deterioration for each pixel circuit 10 is given to the signal value for each pixel circuit 10.

図8で、図14で説明した焼き付きに対応する補正動作を説明する。
図8(a)は、図14(a)と同様、黒表示内に「BS」という固定パターンを表示させた状態を示している。
このような固定パターン表示を長時間行った後、図14(b)のような全面白表示の映像データDVが供給された場合、補正しなければ、図14(c)のような焼き付きが発生する。ここで、図14(b)のような全面白表示の映像データDVが供給された場合に、焼き付き補正を行うとする。
The correction operation corresponding to the burn-in described with reference to FIG. 14 will be described with reference to FIG.
FIG. 8A shows a state in which a fixed pattern “BS” is displayed in the black display, as in FIG. 14A.
After such a fixed pattern display is performed for a long time, when the video data DV of the whole white display as shown in FIG. 14B is supplied, if it is not corrected, the burn-in as shown in FIG. 14C occurs. To do. Here, it is assumed that the burn-in correction is performed when the video data DV of the entire white display as shown in FIG. 14B is supplied.

補正量算出部42が焼き付き補正のため補正パターンを生成するためには、図8(b)のように輝度劣化曲線を参照する。
「BS」部分が例えば200nitでの表示であったとすると、「BS」部分の画素回路10については、200nitでの輝度劣化曲線を参照する。
そして輝度劣化曲線から、各画素回路10の劣化率を推定し、推定した劣化率に応じた図8(c)のような補正パターンを作成する。
つまりこの場合は「BS」の部分の画素回路10が輝度劣化が生じていることに応じて、「BS」部分の画素回路のみ、他の画素回路よりも高輝度階調とする補正パターンを生成する。
In order for the correction amount calculation unit 42 to generate a correction pattern for burn-in correction, a luminance deterioration curve is referred to as shown in FIG.
If the “BS” portion is displayed at 200 nit, for example, the luminance degradation curve at 200 nit is referred to for the pixel circuit 10 of the “BS” portion.
Then, the deterioration rate of each pixel circuit 10 is estimated from the luminance deterioration curve, and a correction pattern as shown in FIG. 8C corresponding to the estimated deterioration rate is created.
In other words, in this case, in response to the luminance deterioration of the pixel circuit 10 in the “BS” portion, only the pixel circuit in the “BS” portion generates a correction pattern having a higher luminance gradation than the other pixel circuits. To do.

そして図14(b)のような全面白表示の映像データDVが供給された場合の補正処理としては、補正演算部41が、入力された映像データDV(つまり全画素に共通の高階調値)に対し、図8(c)の補正パターンを合成する。それが補正された映像データDVとなる。
この補正後の映像データDVが水平セレクタ11に供給され、水平セレクタ11が各画素回路10に対して映像データDVの信号値に基づく映像信号電圧Vsigを与える。すると、表示映像は図8(d)のようになる。つまり焼き付きが補正された映像が得られる。
Then, as a correction process when the video data DV of the entire white display as shown in FIG. 14B is supplied, the correction calculation unit 41 receives the input video data DV (that is, a high gradation value common to all pixels). On the other hand, the correction pattern shown in FIG. This is the corrected video data DV.
The corrected video data DV is supplied to the horizontal selector 11, and the horizontal selector 11 supplies the video signal voltage Vsig based on the signal value of the video data DV to each pixel circuit 10. Then, the display image is as shown in FIG. That is, an image with burn-in corrected is obtained.

以上の補正動作は一例であるが、例えばこのような補正を行うことで、焼き付きのない表示映像を実現できる。
そして、このような補正を行うために、光検出部30を設け、画素回路10(ダミー画素回路10d)の発光輝度の検出を行うことが必要になる。
ところが、仮に図6のように、1つのダミー画素回路10dに1つの光検出部30を対応して設けることは、画素回路領域に配置する素子数の増加が問題となる。
そこで本実施の形態では、以下の構成例I,II,IIIのように、複数のダミー画素回路10dから成るダミー画素ブロックBLに1つの光検出部30が対応される構成を採る。
The above correction operation is an example. For example, by performing such correction, a display image without burn-in can be realized.
In order to perform such correction, it is necessary to provide the light detection unit 30 and detect the light emission luminance of the pixel circuit 10 (dummy pixel circuit 10d).
However, as shown in FIG. 6, provision of one photodetecting unit 30 corresponding to one dummy pixel circuit 10d causes an increase in the number of elements arranged in the pixel circuit region.
Therefore, in the present embodiment, as in the following configuration examples I, II, and III, a configuration is adopted in which one light detection unit 30 corresponds to a dummy pixel block BL including a plurality of dummy pixel circuits 10d.

<4.実施の形態の光検出部の構成>
[4−1:構成例I]

図9に本実施の形態の構成例Iとしての光検出部30を示す。
図9では、多数のダミー画素回路10dで形成される1つのダミー画素ブロックBLと、これに対応する1つの光検出部30を示している。
ダミー画素ブロックBL内の各ダミー画素回路10dは、例えば100nitなど、所定の輝度の発光が行われるように、水平セレクタ11から固定且つ共通の映像信号電圧Vsigが入力される。
なお、この例では、ダミー画素ブロックBLは、R画素、G画素、B画素としての各色の発光を行うダミー画素回路10dを含むものとしている。
<4. Configuration of Photodetector of Embodiment>
[4-1: Configuration example I]

FIG. 9 shows a light detection unit 30 as Configuration Example I of the present embodiment.
FIG. 9 shows one dummy pixel block BL formed by a large number of dummy pixel circuits 10d and one light detection unit 30 corresponding to the dummy pixel block BL.
Each dummy pixel circuit 10d in the dummy pixel block BL receives a fixed and common video signal voltage Vsig from the horizontal selector 11 so that light emission of a predetermined luminance such as 100 nit is performed.
In this example, the dummy pixel block BL includes a dummy pixel circuit 10d that emits light of each color as an R pixel, a G pixel, and a B pixel.

このようなダミー画素回路10dのそれぞれに対して、有機EL素子1の光を受光できるように受光素子SLが配置されている。
この複数の受光素子SL(PINダイオード)は、検出信号出力回路31に対して並列に接続される。即ち各受光素子SLのカソードは電源Vccのラインに接続され、各受光素子SLのアノードは検出信号出力用トランジスタT5のゲートに接続される。
検出信号出力回路31の動作は、図6で説明したとおりである。
For each of the dummy pixel circuits 10d, a light receiving element SL is disposed so that the light from the organic EL element 1 can be received.
The plurality of light receiving elements SL (PIN diodes) are connected in parallel to the detection signal output circuit 31. That is, the cathode of each light receiving element SL is connected to the line of the power supply Vcc, and the anode of each light receiving element SL is connected to the gate of the detection signal output transistor T5.
The operation of the detection signal output circuit 31 is as described in FIG.

従って、この場合、複数の各受光素子SLが受光によって生じさせるリーク電流の和によって検出信号出力用トランジスタT5のゲート電位が変動する。
そしてそのゲート電位変動に応じて、スイッチングトランジスタT3を介して光検出線DETLに出力される検出信号出力用トランジスタT5のソース電位が変動する。
この光検出線DETLの電位変動が電圧検出部22で検出され、発光輝度の情報が補正量算出部42に供給される。
例えば、図9に示すダミー画素ブロックBLの各ダミー画素回路10dが、100nit相当の映像信号電圧Vsigで発光される場合、100nit発光画素における輝度劣化曲線を生成するための発光輝度の情報が補正量算出部42に供給されることになる。
Therefore, in this case, the gate potential of the detection signal output transistor T5 varies depending on the sum of the leak currents generated by the light receiving elements SL.
The source potential of the detection signal output transistor T5 output to the photodetection line DETL via the switching transistor T3 varies according to the gate potential variation.
The voltage detection unit 22 detects the potential fluctuation of the light detection line DETL, and the light emission luminance information is supplied to the correction amount calculation unit 42.
For example, when each dummy pixel circuit 10d of the dummy pixel block BL shown in FIG. 9 emits light with the video signal voltage Vsig equivalent to 100 nit, the information on the emission luminance for generating the luminance deterioration curve in the 100 nit pixel is the correction amount. It is supplied to the calculation unit 42.

この図9のような光検出部30の構成により、次のような利点が得られる。
まず、各ダミー画素回路10dに対応して配置されるのは受光素子SLのみである。例えば図10(b)のように1つのダミー画素回路10dに対して、その有機EL素子1の光を受光できるように1つの受光素子SLが配置される。
このため、各ダミー画素回路10dの形成領域には、図10(a)に模式的に示すように、受光素子SLのみを配置すればよい。そして検出信号出力回路31の部分は、画素回路領域外にレイアウトすることができる。
これにより、画素回路形成領域の省面積化が可能となる。
With the configuration of the light detection unit 30 as shown in FIG. 9, the following advantages are obtained.
First, only the light receiving element SL is arranged corresponding to each dummy pixel circuit 10d. For example, as shown in FIG. 10B, one light receiving element SL is arranged so that the light of the organic EL element 1 can be received with respect to one dummy pixel circuit 10d.
Therefore, only the light receiving element SL may be disposed in the formation region of each dummy pixel circuit 10d, as schematically shown in FIG. The detection signal output circuit 31 can be laid out outside the pixel circuit area.
As a result, the area of the pixel circuit formation region can be reduced.

また、同一輝度で発光される複数のダミー画素回路10dの光を複数の受光素子SLで受光し、これらの受光素子SLのリーク電流の総和で、検出信号出力用トランジスタT5のゲート電位を変動させる構成である。
このため、受光素子SLの素子サイズを小さくすることができる。
つまり、精度良く発光輝度検出を行うには、光検出線DETLの電位変動が発光輝度の変化に応じて大きいことが必要である。仮に、1つの受光素子SLのリーク電流に基づいて、光検出線DETLの電位変動を生じさせるとすると、受光素子SLのリーク電流量として比較的大きな電流量が必要になる。そのため、受光素子SLのサイズを或る程度大きくしなければならない。
しかし本例の場合は、多数の受光素子SLのリーク電流の総和に基づいて光検出線DETLの電位変動を生じさせる構成である。すると、1つ1つの受光素子SLのリーク電流量は小さくてもよいことになる。そのため、本例では受光素子SLの素子サイズを小さくできる。
例えば、ダミー画素ブロックBLが10×10の100個のダミー画素回路10dからなるとする。光検出感度を同一に保つのであれば、受光素子SLのサイズは、1つの画素回路に1つの光検出部30を設ける場合に比べて1/100で良くなる。
Further, the light of the plurality of dummy pixel circuits 10d that emits light with the same luminance is received by the plurality of light receiving elements SL, and the gate potential of the detection signal output transistor T5 is changed by the sum of the leak currents of these light receiving elements SL. It is a configuration.
For this reason, the element size of the light receiving element SL can be reduced.
That is, in order to detect the emission luminance with high accuracy, it is necessary that the potential fluctuation of the light detection line DETL is large in accordance with the change in the emission luminance. If the potential variation of the light detection line DETL is caused based on the leakage current of one light receiving element SL, a relatively large amount of current is required as the leakage current amount of the light receiving element SL. For this reason, the size of the light receiving element SL must be increased to some extent.
However, in this example, the potential variation of the photodetection line DETL is generated based on the sum of the leak currents of a large number of light receiving elements SL. Then, the leakage current amount of each light receiving element SL may be small. Therefore, in this example, the element size of the light receiving element SL can be reduced.
For example, it is assumed that the dummy pixel block BL includes 10 × 10 100 dummy pixel circuits 10d. If the photodetection sensitivities are kept the same, the size of the light receiving element SL can be reduced to 1/100 compared to the case where one photodetection unit 30 is provided in one pixel circuit.

以上のことから本実施の形態では、光検出部30のレイアウトスペースを大幅に縮小し、画素回路領域の省面積を実現しつつ、検出感度を従前以上に保つことが可能となる。   From the above, in the present embodiment, it is possible to significantly reduce the layout space of the light detection unit 30 and to keep the detection sensitivity higher than before while realizing the area saving of the pixel circuit region.

なお、実際には図1のように、複数のダミー画素ブロックBLに対応してそれぞれ図9のような光検出部30が設けられるが、各光検出部30が共通の光検出線DETLに接続される場合、各光検出部30の検出動作を時分割的に行えばよい。
もちろん、各光検出部30のそれぞれに対応して光検出線DETL及び電圧検出部22を設けるようにしてもよい。
Actually, as shown in FIG. 1, the light detection units 30 as shown in FIG. 9 are provided corresponding to the plurality of dummy pixel blocks BL, but each light detection unit 30 is connected to a common light detection line DETL. In this case, the detection operation of each light detection unit 30 may be performed in a time division manner.
Of course, the light detection line DETL and the voltage detection unit 22 may be provided for each of the light detection units 30.

[4−2:構成例II]

構成例IIとしての光検出部30を図11で説明する。
上記構成例Iの場合は、ダミー画素ブロックBLは、R画素、G画素、B画素のそれぞれのダミー画素回路10dを含むものとした。これに対し構成例IIは、ダミー画素ブロックBLを、各色毎のダミー画素回路10dで構成するようにする。
即ち図11に示すダミー画素回路10dのうち、R画素のみで、ダミー画素ブロックBL−Rを形成する。またG画素のみで、ダミー画素ブロックBL−Gを形成し、B画素のみで、ダミー画素ブロックBL−Bを形成する。
[4-2: Configuration example II]

The light detection unit 30 as the configuration example II will be described with reference to FIG.
In the case of the above configuration example I, the dummy pixel block BL includes the dummy pixel circuits 10d of the R pixel, the G pixel, and the B pixel. On the other hand, in the configuration example II, the dummy pixel block BL is configured by the dummy pixel circuit 10d for each color.
That is, in the dummy pixel circuit 10d shown in FIG. 11, the dummy pixel block BL-R is formed with only R pixels. Further, a dummy pixel block BL-G is formed with only G pixels, and a dummy pixel block BL-B is formed with only B pixels.

そして光検出部30は、R画素、G画素、B画素のうちの1つの色の発光を行うダミー画素回路のみを含む各ダミー画素ブロックに対応して設ける。
つまりダミー画素ブロックBL−Rに対して光検出部30Rを設け、またダミー画素ブロックBL−Gに対して光検出部30Gを設け、またダミー画素ブロックBL−Bに対して光検出部30Bを設ける。
The light detection unit 30 is provided corresponding to each dummy pixel block including only a dummy pixel circuit that emits light of one color among the R pixel, the G pixel, and the B pixel.
That is, the light detection unit 30R is provided for the dummy pixel block BL-R, the light detection unit 30G is provided for the dummy pixel block BL-G, and the light detection unit 30B is provided for the dummy pixel block BL-B. .

光検出部30Rは、R画素としての多数のダミー画素回路10dのそれぞれに対応して配置される複数の受光素子SLと、検出信号出力回路31Rで形成される。
光検出部30Gは、G画素としての多数のダミー画素回路10dのそれぞれに対応して配置される複数の受光素子SLと、検出信号出力回路31Gで形成される。
光検出部30Bは、B画素としての多数のダミー画素回路10dのそれぞれに対応して配置される複数の受光素子SLと、検出信号出力回路31Bで形成される。
検出信号出力回路31R、31G、31Bの構成は図9の検出信号出力回路31と同様である。
The light detection unit 30R is formed by a plurality of light receiving elements SL arranged corresponding to each of a large number of dummy pixel circuits 10d as R pixels and a detection signal output circuit 31R.
The light detection unit 30G is formed by a plurality of light receiving elements SL arranged corresponding to each of a large number of dummy pixel circuits 10d as G pixels, and a detection signal output circuit 31G.
The light detection unit 30B is formed by a plurality of light receiving elements SL arranged corresponding to each of a large number of dummy pixel circuits 10d as B pixels, and a detection signal output circuit 31B.
The configuration of the detection signal output circuits 31R, 31G, and 31B is the same as that of the detection signal output circuit 31 of FIG.

このような構成とすることで、構成例Iと同様の効果に加え、各色の波長特性に最適な受光素子SLを配置することが可能となり、各色に対応した精度の良い発光輝度検出が可能となる。   By adopting such a configuration, it is possible to arrange the light receiving element SL optimal for the wavelength characteristics of each color in addition to the same effects as in the configuration example I, and it is possible to detect the emission luminance with high accuracy corresponding to each color. Become.

なお、図11の例では、各光検出部30R、30G、30Bが共通の光検出線DETLに接続されている構成を示しているが、この場合、各光検出部30R、30G、30Bは時分割的に光検出動作を行い、電圧検出部22が時分割的にR光、G光、B光についての発光輝度情報の検出を行っても良い。
もちろん、R画素、G画素、B画素で区別せずに例えば100nitなどの所定輝度の発光についての輝度検出を行う場合、当該光検出部30R、30G、30Bについての時分割的な処理は必要ない。
また、光検出部30R、30G、30Bにそれぞれ対応して光検出線DETLを配し、個別に各光検出線DETLに接続された電圧検出部22で電圧検出を行っても良い。
In the example of FIG. 11, the light detection units 30R, 30G, and 30B are connected to a common light detection line DETL. However, in this case, the light detection units 30R, 30G, and 30B The light detection operation may be performed in a divided manner, and the voltage detection unit 22 may detect the emission luminance information for the R light, the G light, and the B light in a time division manner.
Of course, when performing luminance detection for light emission of a predetermined luminance such as 100 nit without distinguishing between the R pixel, the G pixel, and the B pixel, time-division processing for the light detection units 30R, 30G, and 30B is not necessary. .
Alternatively, the light detection lines DETL may be arranged corresponding to the light detection units 30R, 30G, and 30B, respectively, and voltage detection may be performed by the voltage detection units 22 individually connected to the light detection lines DETL.

[4−3:構成例III]

構成例IIIとしての光検出部30を図12で説明する。
これは光検出部30の構成としてA/D変換器としての構成を採る例である。図12の例では、ダミー画素ブロックBLは、図9の例と同様、R画素、G画素、B画素のそれぞれのダミー画素回路10dを含むものとしているが、図11のようにダミー画素ブロックBLが、各色毎のダミー画素回路10dで構成するものであってもよい。
[4-3: Configuration example III]

The light detection unit 30 as the configuration example III will be described with reference to FIG.
This is an example in which the configuration of the A / D converter is adopted as the configuration of the light detection unit 30. In the example of FIG. 12, the dummy pixel block BL includes the dummy pixel circuits 10d of the R pixel, the G pixel, and the B pixel as in the example of FIG. 9, but the dummy pixel block BL as shown in FIG. However, it may be configured by a dummy pixel circuit 10d for each color.

この構成例IIIとしての光検出部30は、検出信号出力回路31が、容量C1,C2、nチャネルFETとしてのトランジスタT6,T7,T8,T9、及びインバータINを有する構成とされている。
トランジスタT6,T7,T8,T9は、それぞれ図1に示した検出動作制御部21からの制御パルスpT6,pT7,pT8,pT9によってオン/オフされる。
In the light detection unit 30 as the configuration example III, the detection signal output circuit 31 includes capacitors C1 and C2, transistors T6, T7, T8, and T9 as n-channel FETs, and an inverter IN.
The transistors T6, T7, T8, and T9 are turned on / off by control pulses pT6, pT7, pT8, and pT9 from the detection operation control unit 21 shown in FIG.

各受光素子SLは、電源電圧Vccラインと、トランジスタT6,T9の接続点の間に並列に接続される。各受光素子SLによるリーク電流の検出時にはトランジスタT9はオフとされる。
トランジスタT6,T7の一端は接続されている(ノードA)。そしてトランジスタT7の他端には検出動作制御部21からスイープパルスSPPが供給される。
トランジスタT6,T7の接続点(ノードA)は、容量C2を介してインバータINに接続される。インバータINの出力が光検出線DETLに供給される。
トランジスタT8はインバータINの入力点と出力点の間に接続されている。
Each light receiving element SL is connected in parallel between the power supply voltage Vcc line and the connection point of the transistors T6 and T9. The transistor T9 is turned off when a leak current is detected by each light receiving element SL.
One ends of the transistors T6 and T7 are connected (node A). The sweep pulse SPP is supplied from the detection operation control unit 21 to the other end of the transistor T7.
A connection point (node A) between the transistors T6 and T7 is connected to the inverter IN via the capacitor C2. The output of the inverter IN is supplied to the light detection line DETL.
The transistor T8 is connected between the input point and the output point of the inverter IN.

このような検出信号出力回路31による検出動作は次のようになる。
各ダミー画素回路10dの発光時に、トランジスタT6,T8をオンとし、トランジスタT7,T9はオフとする。
この状態で、各受光素子SLのリーク電流により変動する電圧(センサ出力電圧という)がノードAに保持される。
次に、トランジスタT6,T8をオフし、トランジスタT7をオンとする。するとトランジスタT7を介してスイープパルスSPPがノードAに入力される。
このとき、スイープパルスSPPの電圧が、センサ出力電圧より高いときは、インバータINの出力がLとなり、逆にスイープパルスSPPの電圧が、センサ出力電圧より低いときはインバータINの出力がHとなる。
このインバータINのL、Hのパルス出力が光検出線DETLに出力される。
Such detection operation by the detection signal output circuit 31 is as follows.
When each dummy pixel circuit 10d emits light, the transistors T6 and T8 are turned on, and the transistors T7 and T9 are turned off.
In this state, a voltage (referred to as sensor output voltage) that fluctuates due to the leakage current of each light receiving element SL is held at the node A.
Next, the transistors T6 and T8 are turned off and the transistor T7 is turned on. Then, the sweep pulse SPP is input to the node A through the transistor T7.
At this time, when the voltage of the sweep pulse SPP is higher than the sensor output voltage, the output of the inverter IN becomes L, and conversely, when the voltage of the sweep pulse SPP is lower than the sensor output voltage, the output of the inverter IN becomes H. .
The L and H pulse outputs of the inverter IN are output to the light detection line DETL.

電圧検出部22では、光検出線DETLに表れるインバータINの出力パルスの周期を検出する。
つまりセンサ出力電圧が高いほど出力パルスのH期間が長くなるため、出力パルスの周期検出で、センサ出力電圧を測定でき、つまりダミー画素ブロックBLでの発光輝度情報を得ることができる。
The voltage detector 22 detects the period of the output pulse of the inverter IN that appears on the light detection line DETL.
That is, the higher the sensor output voltage, the longer the H period of the output pulse. Therefore, the sensor output voltage can be measured by detecting the period of the output pulse, that is, the light emission luminance information in the dummy pixel block BL can be obtained.

本実施の形態では、各ダミー画素回路10dに対して受光素子SLを配置する一方、検出信号出力回路31は、画素領域外に配置することができることは先の構成例Iで述べた。すると、検出信号出力回路31の構成(素子数)は、画素領域のレイアウトを考慮する必要がないことにもなる。
そこで、図12の構成のように、検出信号出力回路31を、複数の受光素子SLにおける受光光量による電流変動に応じて変動する電圧値をデジタル信号に変換した光検出信号を出力する構成とすることも可能となる。つまりA/D変換器内蔵型の回路構成を採ることが可能である。
このような検出信号出力回路31とすれば、光検出線DETLにデジタル出力として検出信号を出力でき、出力のバラツキやノイズが大幅に軽減され、検出精度の向上が可能となる。
In this embodiment, the light receiving element SL is arranged for each dummy pixel circuit 10d, while the detection signal output circuit 31 can be arranged outside the pixel region as described in the above configuration example I. Then, the configuration (number of elements) of the detection signal output circuit 31 does not need to consider the layout of the pixel region.
Therefore, as in the configuration of FIG. 12, the detection signal output circuit 31 is configured to output a light detection signal obtained by converting a voltage value that fluctuates according to a current variation due to the amount of received light in the plurality of light receiving elements SL into a digital signal. It is also possible. That is, an A / D converter built-in circuit configuration can be adopted.
With such a detection signal output circuit 31, a detection signal can be output as a digital output to the light detection line DETL, output variations and noise can be greatly reduced, and detection accuracy can be improved.

<5.変形例>

以上の実施の形態では、ダミー画素回路10dについての光検出を行う光検出部30について各例を説明したが、上記各例は、有効表示領域AA内の画素回路10に対する光検出部としても、そのまま適用できることは言うまでもない。
例えば表示動作実行中に、各画素回路10の発光輝度検出を行い、映像信号電圧Vsigの補正などを行うことも可能である。
<5. Modification>

In the above embodiment, each example of the light detection unit 30 that performs light detection on the dummy pixel circuit 10d has been described. However, each of the above examples may be used as a light detection unit for the pixel circuit 10 in the effective display area AA. Needless to say, it can be applied as it is.
For example, during the display operation, it is possible to detect the luminance of each pixel circuit 10 and correct the video signal voltage Vsig.

また、上記例では焼き付き補正のための光検出を行う例で述べたが、その他の画質悪化要因に対する補正処理のための光検出動作にも適用できる。
さらには、補正処理の目的以外の光検出にも本発明は適用できる。例えば外部からのパネル表面へのレーザポインタ等による光を検出したり、ユーザのパネル表面へのタッチを、画素回路10の発光の指等の反射光で検出する場合の光検出部としても適用できる。即ち、ユーザの入力操作を実現するための構成としても適用できる。
In the above example, the example in which light detection for burn-in correction is performed is described. However, the present invention can also be applied to a light detection operation for correction processing for other image quality deterioration factors.
Furthermore, the present invention can be applied to light detection other than the purpose of correction processing. For example, it can be applied as a light detection unit in the case where light from a laser pointer or the like to the panel surface from the outside is detected, or when a user touches the panel surface is detected by reflected light such as a light emitting finger of the pixel circuit 10. . That is, the present invention can be applied as a configuration for realizing a user input operation.

また、図9,図11,図12の各例では、1つのダミー画素回路10dに対して1つの受光素子SLを配置した例であるが、例えば複数の画素回路10(10d)に対応して1つの受光素子SLを配置してもよい。例えば1つの受光素子SLが、隣接する2つの画素回路10(10d)の光を受光するような配置構成である。従って図9等のダミー画素ブロックBL内では、ダミー画素回路10dの数よりも、少ない数の受光素子SLが配置される構成も考えられる。   Further, in each of the examples of FIGS. 9, 11, and 12, one light receiving element SL is arranged for one dummy pixel circuit 10d. For example, it corresponds to a plurality of pixel circuits 10 (10d). One light receiving element SL may be arranged. For example, one light receiving element SL is arranged to receive light from two adjacent pixel circuits 10 (10d). Therefore, a configuration in which a smaller number of light receiving elements SL than the number of dummy pixel circuits 10d are arranged in the dummy pixel block BL shown in FIG.

実施の形態における画素回路10(ダミー画素回路10d)の構成は図3に示したが、画素回路10の構成はそれに限定されない。例えば3以上のトランジスタを有する画素回路であってもよい。   Although the configuration of the pixel circuit 10 (dummy pixel circuit 10d) in the embodiment is illustrated in FIG. 3, the configuration of the pixel circuit 10 is not limited thereto. For example, a pixel circuit having three or more transistors may be used.

1 有機EL素子、10 画素回路、11 水平セレクタ、12 ドライブスキャナ、13 ライトスキャナ、20 画素アレイ、21 検出動作制御部、22 電圧検出部、22a 電圧検出部、30 光検出部、31 検出信号出力回路、40 補正処理部、41 補正演算部、42 補正量算出部、SL 受光素子、T5 検出信号出力用トランジスタ、DETL 光検出線   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Organic EL element, 10 pixel circuit, 11 horizontal selector, 12 drive scanner, 13 light scanner, 20 pixel array, 21 detection operation control part, 22 voltage detection part, 22a voltage detection part, 30 light detection part, 31 detection signal output Circuit, 40 correction processing unit, 41 correction calculation unit, 42 correction amount calculation unit, SL light receiving element, T5 detection signal output transistor, DETL photodetection line

Claims (10)

入力された信号値に応じて発光駆動される発光素子を有する画素回路が、マトリクス状に配置されて成る画素アレイと、
上記画素アレイにおける各画素回路に信号値を与えて、各画素回路で信号値に応じた輝度の発光を行わせる発光駆動部と、
上記画素アレイ内における画素回路のうちの一部となる複数の画素回路に対応して配置される複数の受光素子と、該複数の受光素子が接続され、上記複数の受光素子において得られる受光光量に応じた出力から光検出信号を生成して出力する検出信号出力回路と、を有する光検出部と、
を備えた表示装置。
A pixel array in which pixel circuits having light-emitting elements that are driven to emit light according to input signal values are arranged in a matrix;
A light emission driving unit that gives a signal value to each pixel circuit in the pixel array and causes each pixel circuit to emit light with a luminance according to the signal value;
A plurality of light receiving elements arranged corresponding to a plurality of pixel circuits which are a part of the pixel circuits in the pixel array, and the received light quantity obtained by the plurality of light receiving elements connected to each other. A detection signal output circuit that generates and outputs a light detection signal from an output according to the light detection unit, and
A display device comprising:
上記画素アレイにおける有効表示領域外となる複数の上記画素回路がダミー画素回路とされ、
上記光検出部における複数の受光素子は、同一の信号値で発光させる複数のダミー画素回路に対応して配置されている請求項1に記載の表示装置。
A plurality of the pixel circuits outside the effective display area in the pixel array are dummy pixel circuits,
The display device according to claim 1, wherein the plurality of light receiving elements in the light detection unit are arranged corresponding to the plurality of dummy pixel circuits that emit light with the same signal value.
同一の信号値で発光させる一群のダミー画素回路から成るダミー画素ブロックが複数形成されており、
上記光検出部は、上記各ダミー画素ブロックに対応して設けられている請求項2に記載の表示装置。
A plurality of dummy pixel blocks composed of a group of dummy pixel circuits that emit light with the same signal value are formed,
The display device according to claim 2, wherein the light detection unit is provided corresponding to each of the dummy pixel blocks.
上記光検出部における各受光素子は各ダミー画素回路の近傍位置に配置され、上記検出信号出力回路は、上記画素アレイの外部に配置されている請求項3に記載の表示装置。   4. The display device according to claim 3, wherein each light receiving element in the light detection unit is disposed in the vicinity of each dummy pixel circuit, and the detection signal output circuit is disposed outside the pixel array. 上記光検出部は、R画素、G画素、B画素としての各色の発光を行うダミー画素回路を含む上記各ダミー画素ブロックに対応して設けられている請求項4に記載の表示装置。   The display device according to claim 4, wherein the light detection unit is provided corresponding to each dummy pixel block including a dummy pixel circuit that emits light of each color as an R pixel, a G pixel, and a B pixel. 上記光検出部は、R画素、G画素、B画素のうちの1つの色の発光を行うダミー画素回路のみを含む上記各ダミー画素ブロックに対応して設けられている請求項4に記載の表示装置。   5. The display according to claim 4, wherein the light detection unit is provided corresponding to each of the dummy pixel blocks including only a dummy pixel circuit that emits light of one color of R, G, and B pixels. apparatus. 上記光検出部における上記検出信号出力回路は、複数の受光素子における受光光量による電流変動に応じて電圧が変動する光検出信号を出力する構成とされている請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, wherein the detection signal output circuit in the light detection unit is configured to output a light detection signal in which a voltage varies according to a current variation due to a received light amount in a plurality of light receiving elements. 上記光検出部における上記検出信号出力回路は、複数の受光素子における受光光量による電流変動に応じて変動する電圧値をデジタル信号に変換した光検出信号を出力する構成とされている請求項1に記載の表示装置。   2. The detection signal output circuit in the light detection unit is configured to output a light detection signal obtained by converting a voltage value that fluctuates according to a current fluctuation due to a light reception amount in a plurality of light receiving elements into a digital signal. The display device described. 上記光検出部による検出信号に基づいて、上記発光駆動部が上記画素アレイにおける各画素回路に与える信号値を補正する補正処理部をさらに備えた請求項1に記載の表示装置。   The display device according to claim 1, further comprising a correction processing unit that corrects a signal value that the light emission driving unit gives to each pixel circuit in the pixel array based on a detection signal from the light detection unit. 入力された信号値に応じて発光駆動される発光素子を有する画素回路が、マトリクス状に配置されて成る画素アレイと、
上記画素アレイにおける各画素回路に信号値を与えて、各画素回路で信号値に応じた輝度の発光を行わせる発光駆動部と、
を備えた表示装置の光検出方法として、
上記画素アレイ内における画素回路のうちの一部となる複数の画素回路に対応して複数の受光素子を配置し、該複数の受光素子を一の検出信号出力回路に共通に接続し、該検出信号出力回路が、上記複数の受光素子において得られる受光光量に応じた出力から光検出信号を生成して出力する光検出方法。
A pixel array in which pixel circuits having light-emitting elements that are driven to emit light according to input signal values are arranged in a matrix;
A light emission driving unit that gives a signal value to each pixel circuit in the pixel array and causes each pixel circuit to emit light with a luminance according to the signal value;
As a light detection method for a display device comprising:
A plurality of light receiving elements are arranged corresponding to a plurality of pixel circuits which are a part of the pixel circuits in the pixel array, the plurality of light receiving elements are connected in common to one detection signal output circuit, and the detection is performed. A light detection method in which a signal output circuit generates and outputs a light detection signal from an output corresponding to the amount of light received by the plurality of light receiving elements.
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