JP2011182203A - Package, manufacturing method therefor, piezoelectric vibrator, oscillator, electronic equipment, and radio-controlled clock - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、パッケージ、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計に関するものである。 The present invention relates to a package, a package manufacturing method, a piezoelectric vibrator, an oscillator, an electronic device, and a radio timepiece.
近年、携帯電話や携帯情報端末機器には、時刻源や制御信号等のタイミング源、リファレンス信号源等として水晶等を利用した圧電振動子が用いられている。この種の圧電振動子は、様々なものが知られているが、その1つとして、表面実装型の圧電振動子が知られている。この種の圧電振動子は、例えば互いに接合されたガラス材料からなるベース基板及びリッド基板と、両基板の間に形成されたキャビティと、キャビティ内に気密封止された状態で収納された圧電振動片(電子部品)とを備えている。 2. Description of the Related Art In recent years, a piezoelectric vibrator using a crystal or the like is used as a time source, a timing source such as a control signal, a reference signal source or the like in a mobile phone or a portable information terminal device. Various piezoelectric vibrators of this type are known, and one of them is a surface-mount type piezoelectric vibrator. This type of piezoelectric vibrator includes, for example, a base substrate and a lid substrate made of glass materials bonded to each other, a cavity formed between both substrates, and a piezoelectric vibration housed in a hermetically sealed state in the cavity. A piece (electronic component).
ベース基板とリッド基板とを直接接合させる方法として、陽極接合が提案されている。陽極接合は、ベース基板及びリッド基板のうち、一方の基板の内面に形成された接合材と、他方の基板との間に電圧を印加することにより、接合材と他方の基板の内面とを接合する方法である。接合材の材料として、抵抗値が比較的低いアルミニウム(Al)を採用する場合がある。このように、接合材にAlを採用することで、接合材の全面に対して均一に電圧を印加でき、接合材と他方の基板の内面とを確実に陽極接合できると考えられる。また、特許文献1には、接合材の耐電圧性を高めるために、Alに銅(Cu)が含有されたAl合金を接合材として採用する構成も記載されている。
An anodic bonding has been proposed as a method of directly bonding the base substrate and the lid substrate. Anodic bonding is performed by applying a voltage between the bonding material formed on the inner surface of one of the base substrate and the lid substrate and the other substrate, thereby bonding the bonding material and the inner surface of the other substrate. It is a method to do. As a material for the bonding material, aluminum (Al) having a relatively low resistance value may be employed. Thus, it is considered that by using Al as the bonding material, a voltage can be uniformly applied to the entire surface of the bonding material, and the bonding material and the inner surface of the other substrate can be reliably anodically bonded.
ところで、Alは非常に活性(イオン化傾向が比較的高い)な金属であるため、通常、Alからなる接合材の表面(圧電振動子の外面からの露出面)は、大気によって自然酸化されることで、酸化アルミニウム(AlO3)からなる酸化皮膜(例えば、数nm程度)を形成している。 By the way, since Al is a very active metal (having a relatively high ionization tendency), usually the surface of the bonding material made of Al (exposed surface from the outer surface of the piezoelectric vibrator) is naturally oxidized by the atmosphere. Thus, an oxide film (for example, about several nm) made of aluminum oxide (AlO 3 ) is formed.
しかしながら、例えば酸化皮膜が損傷して接合材の表面にAlが露出する場合、このAlに水分が付着すると、酸化還元反応により表面のAlが電子を失ってイオン化(電離)し、生じたAlイオンが水分中の水酸化物(OH)イオンと反応して水酸化アルミニウム(Al(OH)3)となって溶け出すことで、接合材が腐食する。この腐食が接合材の奥まで進行すると、キャビティの内部と外部とが連通して、圧電振動子の気密性(接合材のガスバリア性)が低下する虞がある。すなわち、連通した箇所を通って大気がキャビティ内に侵入することで、圧電振動片の振動特性が低下するという問題がある。なお、特許文献1のようにAlにCuを含有したAl合金を接合材に採用しても、上述した問題は同様に発生する。
However, for example, when the oxide film is damaged and Al is exposed on the surface of the bonding material, if water adheres to this Al, the Al on the surface loses electrons and is ionized (ionized) due to the oxidation-reduction reaction, and the generated Al ions Reacts with hydroxide (OH) ions in the water and dissolves into aluminum hydroxide (Al (OH) 3 ), which corrodes the bonding material. When this corrosion progresses to the depth of the bonding material, the inside and the outside of the cavity communicate with each other, and the airtightness of the piezoelectric vibrator (gas barrier property of the bonding material) may be reduced. That is, there is a problem that the vibration characteristics of the piezoelectric vibrating piece are deteriorated by the air entering the cavity through the communicating portion. Even if an Al alloy containing Cu in Al is employed as a bonding material as in
そこで、本発明は、上述した問題に鑑みてなされたものであり、接合材の腐食を抑制して、気密性に優れたパッケージ、パッケージの製造方法、圧電振動子、発振器、電子機器及び電波時計を提供するものである。 Accordingly, the present invention has been made in view of the above-described problems, and is a package having excellent airtightness by suppressing corrosion of a bonding material, a package manufacturing method, a piezoelectric vibrator, an oscillator, an electronic device, and a radio timepiece. Is to provide.
上述した課題を解決するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明に係るパッケージの製造方法は、互いに接合された絶縁体からなる第1基板及び第2基板の間に、電子部品を封入可能なキャビティを備えたパッケージの製造方法であって、前記第1基板の接合面に形成されたアルミニウムを主成分とする材料からなる接合材と、前記第2基板の接合面とを陽極接合する接合工程と、前記第1基板と前記第2基板との間から露出する前記接合材を酸素プラズマで処理することにより前記接合材を酸化させる酸化工程とを有していることを特徴としている。
In order to solve the above-described problems, the present invention provides the following means.
A manufacturing method of a package according to the present invention is a manufacturing method of a package provided with a cavity capable of enclosing an electronic component between a first substrate and a second substrate made of an insulator bonded to each other. A bonding step of anodically bonding a bonding material made of aluminum as a main component formed on the bonding surface of the substrate and the bonding surface of the second substrate; and between the first substrate and the second substrate. And an oxidizing step of oxidizing the bonding material by treating the exposed bonding material with oxygen plasma.
この構成によれば、アルミニウムを主成分とする材料からなる接合材を介して、第1基板と第2基板とを陽極接合することで、接合材の全面に対して均一に電圧を印加することができ、両基板の接合面同士が強固に陽極接合されたパッケージを簡単に形成できる。
特に、第1基板と第2基板との間から露出する接合材を酸素プラズマで処理することで、接合材の表層部分が酸素プラズマによって酸化され、酸化アルミニウムとなる。酸化アルミニウムは非常に緻密で化学的安定性に優れているため、パッケージの外面に露出しても、腐食することはない。そのため、大気や大気中の水分等がキャビティ内に流入するのを抑制できる。なお、本発明の構成によれば、酸素プラズマによって接合材を積極的に酸化させておくことで、自然酸化により形成される酸化皮膜よりも厚く、緻密な膜を形成できる。
したがって、接合材の腐食を抑制して、キャビティ内の気密を長期に亘って安定した状態に維持できる。
According to this configuration, a voltage is uniformly applied to the entire surface of the bonding material by anodic bonding the first substrate and the second substrate through the bonding material made of a material mainly composed of aluminum. It is possible to easily form a package in which the bonding surfaces of both substrates are strongly anodically bonded.
In particular, by treating the bonding material exposed from between the first substrate and the second substrate with oxygen plasma, the surface layer portion of the bonding material is oxidized by oxygen plasma to become aluminum oxide. Since aluminum oxide is very dense and excellent in chemical stability, it does not corrode even if it is exposed on the outer surface of the package. Therefore, it can suppress that air | atmosphere, the water | moisture content in air | atmosphere, etc. flow in into a cavity. According to the configuration of the present invention, a dense film that is thicker than the oxide film formed by natural oxidation can be formed by actively oxidizing the bonding material with oxygen plasma.
Therefore, corrosion of the bonding material can be suppressed, and the airtightness in the cavity can be maintained in a stable state for a long time.
また、前記接合工程では、第1ウエハに含まれる複数の前記第1基板と、第2ウエハに含まれる複数の前記第2基板とを、それぞれ陽極接合し、前記接合工程と前記酸化工程との間に、前記第1ウエハと前記第2ウエハとの接合体の一方の面に粘着シートを貼り付ける工程と、前記接合体を前記パッケージの形成領域毎に個片化し、複数の接合片を形成する個片化工程と、前記粘着シートを延伸することで、個片化された前記複数の接合片同士の間隔を広げるエクスパンド工程とを有し、前記酸化工程では、延伸された前記粘着シート上に前記複数の接合片が離間配置された状態で、前記各接合片の前記第1基板と前記第2基板との間から露出した前記接合材を、酸素プラズマで処理することを特徴としている。
接合片の外側面に露出した接合材を均一に酸化させるには、全ての接合片を外側面が露出するように離間配置する必要がある。
そこで、本発明の構成によれば、エクスパンド工程において複数の接合片が分離した状態を利用して酸化工程を行うので、全ての接合片を改めて離間配置する必要がなく、製造効率を向上させることができる。すなわち、各接合片間のスペースを確保した状態で酸素プラズマを照射できるので、各接合片における第1基板と第2基板との間から露出する接合材を均一に酸化させることができる。
また、個片化された複数の接合片の接合材を一括して酸化させることができるので、各接合片毎に接合材を酸化させる場合に比べて製造効率の向上を図ることができる。さらに、各接合片が粘着シート上に貼り付けられた状態で接合材を酸化させることで、プラズマ処理装置への搬送時や成膜時における接合片の位置ズレを抑制できる。
In the bonding step, the plurality of first substrates included in the first wafer and the plurality of second substrates included in the second wafer are respectively anodically bonded, and the bonding step and the oxidation step are performed. In the meantime, a step of attaching an adhesive sheet to one surface of the joined body of the first wafer and the second wafer, and separating the joined body into each package formation region to form a plurality of joined pieces And an expanding step of expanding the interval between the plurality of pieces separated into pieces by stretching the pressure-sensitive adhesive sheet, and in the oxidation step, the stretched pressure-sensitive adhesive sheet The bonding material exposed from between the first substrate and the second substrate of each bonding piece in a state where the plurality of bonding pieces are spaced apart from each other is treated with oxygen plasma.
In order to uniformly oxidize the bonding material exposed on the outer surface of the bonding piece, it is necessary to dispose all the bonding pieces so that the outer surface is exposed.
Therefore, according to the configuration of the present invention, since the oxidation process is performed using a state in which a plurality of pieces are separated in the expanding process, it is not necessary to separately arrange all the pieces to be separated, thereby improving manufacturing efficiency. Can do. That is, since oxygen plasma can be irradiated in a state in which a space between the bonding pieces is ensured, the bonding material exposed from between the first substrate and the second substrate in each bonding piece can be uniformly oxidized.
Moreover, since the joining materials of the plurality of joining pieces that have been separated into pieces can be oxidized collectively, the manufacturing efficiency can be improved as compared with the case where the joining material is oxidized for each joining piece. Further, by oxidizing the bonding material in a state in which each bonding piece is stuck on the pressure-sensitive adhesive sheet, it is possible to suppress the positional deviation of the bonding piece during conveyance to the plasma processing apparatus or during film formation.
また、本発明のパッケージは、上記本発明のパッケージの製造方法を用いて製造されたことを特徴としている。
この構成によれば、上記本発明のパッケージの製造方法を用いて製造されているため、気密性に優れたパッケージを提供できる。
The package of the present invention is manufactured using the above-described method for manufacturing a package of the present invention.
According to this structure, since it is manufactured using the method for manufacturing a package of the present invention, a package having excellent airtightness can be provided.
また、本発明に係る圧電振動子は、上記本発明のパッケージの前記キャビティ内に、圧電振動片が気密封止されてなることを特徴としている。
この構成によれば、気密性に優れたパッケージを備えているので、振動特性に優れた信頼性の高い圧電振動子を提供できる。
The piezoelectric vibrator according to the present invention is characterized in that a piezoelectric vibrating piece is hermetically sealed in the cavity of the package of the present invention.
According to this configuration, since the package having excellent airtightness is provided, a highly reliable piezoelectric vibrator having excellent vibration characteristics can be provided.
また、本発明に係る発振器は、上記本発明の圧電振動子が、発振子として集積回路に電気的に接続されていることを特徴としている。 An oscillator according to the present invention is characterized in that the piezoelectric vibrator of the present invention is electrically connected to an integrated circuit as an oscillator.
また、本発明に係る電子機器は、上記本発明の圧電振動子が、計時部に電気的に接続されていることを特徴としている。 In addition, an electronic apparatus according to the present invention is characterized in that the piezoelectric vibrator of the present invention is electrically connected to a timer unit.
また、本発明に係る電波時計は、上記本発明の圧電振動子が、フィルタ部に電気的に接続されていることを特徴としている。 A radio timepiece according to the present invention is characterized in that the piezoelectric vibrator of the present invention is electrically connected to a filter portion.
本発明に係る発振器、電子機器及び電波時計においては、振動特性に優れた信頼性の高い圧電振動子を備えているので、圧電振動子と同様に特性及び信頼性に優れた製品を提供できる。 Since the oscillator, electronic device, and radio timepiece according to the present invention include a highly reliable piezoelectric vibrator having excellent vibration characteristics, a product having excellent characteristics and reliability can be provided in the same manner as the piezoelectric vibrator.
本発明に係るパッケージ及びパッケージの製造方法によれば、接合材の腐食を抑制して、気密性に優れたパッケージを提供できる。
また、本発明に係る圧電振動子によれば、キャビティ内の気密性を確保し、振動特性に優れた信頼性の高い圧電振動子を提供することができる。
本発明に係る発振器、電子機器及び電波時計においては、上述した圧電振動子を備えているので、圧電振動子と同様に特性及び信頼性に優れた製品を提供することができる。
According to the package and the manufacturing method of the package according to the present invention, it is possible to provide a package having excellent airtightness by suppressing the corrosion of the bonding material.
In addition, according to the piezoelectric vibrator of the present invention, it is possible to provide a highly reliable piezoelectric vibrator that ensures airtightness in the cavity and has excellent vibration characteristics.
Since the oscillator, electronic device, and radio timepiece according to the present invention include the above-described piezoelectric vibrator, a product having excellent characteristics and reliability can be provided in the same manner as the piezoelectric vibrator.
以下、図面に基づいて、本発明の実施形態を説明する。
(圧電振動子)
図1は、本実施形態における圧電振動子をリッド基板側から見た一部破断斜視図である。また図2は圧電振動子の内部構成図であって、リッド基板を取り外した状態で圧電振動片を上方から見た図ある。また、図3は図2に示すA−A線に沿った圧電振動子の断面図であり、図4は圧電振動子の分解斜視図である。なお、図1では、後述するキャビティ内に収容された構成部材は省略して図示している。
図1〜図4に示すように、本実施形態の圧電振動子1は、ベース基板(第1基板)2及びリッド基板(第2基板)3が接合材23を介して陽極接合された箱状のパッケージ10と、パッケージ10のキャビティC内に収納された圧電振動片(電子部品)5とを備えた表面実装型の圧電振動子1である。そして、圧電振動片5とベース基板2の裏面2a(図3中下面)に設置された外部電極6,7とが、ベース基板2を貫通する一対の貫通電極8,9によって電気的に接続されている。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(Piezoelectric vibrator)
FIG. 1 is a partially broken perspective view of the piezoelectric vibrator according to the present embodiment as viewed from the lid substrate side. FIG. 2 is an internal configuration diagram of the piezoelectric vibrator, and is a view of the piezoelectric vibrating piece viewed from above with the lid substrate removed. 3 is a cross-sectional view of the piezoelectric vibrator taken along line AA shown in FIG. 2, and FIG. 4 is an exploded perspective view of the piezoelectric vibrator. In FIG. 1, constituent members housed in cavities described later are not shown.
As shown in FIGS. 1 to 4, the
ベース基板2は、ガラス材料、例えばソーダ石灰ガラスからなる透明な絶縁基板で板状に形成されている。ベース基板2には、一対の貫通電極8,9が形成される一対のスルーホール21,22が形成されている。スルーホール21,22は、ベース基板2の裏面2aから表面2b(図3中上面)に向かって漸次径が縮径した断面テーパ形状をなしている。
The
リッド基板3は、ベース基板2と同様に、ガラス材料、例えばソーダ石灰ガラスからなる透明の絶縁基板であり、ベース基板2に重ね合わせ可能な大きさの板状に形成されている。そして、リッド基板3の裏面3b(図3中下面)側には、圧電振動片5が収容される矩形状の凹部3aが形成されている。この凹部3aは、ベース基板2及びリッド基板3が重ね合わされたときに、圧電振動片5を収容するキャビティCを形成する。そして、リッド基板3は、凹部3aをベース基板2側に対向させた状態でベース基板2に対して接合材23を介して陽極接合されている。すなわち、リッド基板3の裏面3b側には、中央部に形成された凹部3aと、凹部3aの周囲に形成され、ベース基板2との接合面となる額縁領域3cとが形成されている。
Similar to the
圧電振動片5は、水晶、タンタル酸リチウムやニオブ酸リチウム等の圧電材料から形成された音叉型の振動片であり、所定の電圧が印加されたときに振動するものである。
この圧電振動片5は、平行に配置された一対の振動腕部24,25と、一対の振動腕部24,25の基端側を一体的に固定する基部26とからなる音叉型で、一対の振動腕部24,25の外表面上には、振動腕部24,25を振動させる図示しない一対の第1の励振電極と第2の励振電極とからなる励振電極と、第1の励振電極及び第2の励振電極と後述する引き回し電極27,28とを電気的に接続する一対のマウント電極とを有している(何れも不図示)。
The piezoelectric vibrating
This piezoelectric vibrating
このように構成された圧電振動片5は、図3,図4に示すように、金等のバンプBを利用して、ベース基板2の表面2bに形成された引き回し電極27,28上にバンプ接合されている。より具体的には、圧電振動片5の第1の励振電極が、一方のマウント電極及びバンプBを介して一方の引き回し電極27上にバンプ接合され、第2の励振電極が他方のマウント電極及びバンプBを介して他方の引き回し電極28上にバンプ接合されている。これにより、圧電振動片5は、ベース基板2の表面2bから浮いた状態で支持されるとともに、各マウント電極と引き回し電極27,28とがそれぞれ電気的に接続された状態となる。
3 and 4, the piezoelectric vibrating
外部電極6,7は、例えば金(Au)からなり、ベース基板2の裏面2aにおける長手方向の両側に設置され、各貫通電極8,9及び各引き回し電極27,28を介して圧電振動片5に電気的に接続されている。より具体的には、一方の外部電極6は、一方の貫通電極8及び一方の引き回し電極27を介して圧電振動片5の一方のマウント電極に電気的に接続されている。また、他方の外部電極7は、他方の貫通電極9及び他方の引き回し電極28を介して、圧電振動片5の他方のマウント電極に電気的に接続されている。
The
貫通電極8,9は、焼成によってスルーホール21,22に対して一体的に固定された筒体32及び芯材部31によって形成されたものであり、スルーホール21,22を完全に塞いでキャビティC内の気密を維持しているとともに、外部電極6,7と引き回し電極27,28とを導通させる役割を担っている。具体的に、一方の貫通電極8は、外部電極6と基部26との間で引き回し電極27の下方に位置しており、他方の貫通電極9は、外部電極7と振動腕部25との間で引き回し電極28の下方に位置している。
The through-
筒体32は、ペースト状のガラスフリットが焼成されたものである。筒体32は、両端が平坦で且つベース基板2と略同じ厚みの円筒状に形成されている。そして、筒体32の中心には、芯材部31が筒体32の中心孔を貫通するように配されている。また、本実施形態ではスルーホール21,22の形状に合わせて、筒体32の外形が円錐状(断面テーパ状)となるように形成されている。そして、この筒体32は、スルーホール21,22内に埋め込まれた状態で焼成されており、これらスルーホール21,22に対して強固に固着されている。
上述した芯材部31は、金属材料により円柱状に形成された導電性の芯材であり、筒体32と同様に両端が平坦で、かつベース基板2の厚みと略同じ厚さとなるように形成されている。なお、貫通電極8,9は、導電性の芯材部31を通して電気導通性が確保されている。
The
The
上述した接合材23は、ベース基板2の表面2b上の外周部分に、リッド基板3の額縁領域3cと対向するように形成されている。そして、ベース基板2とリッド基板3とは、凹部3aをベース基板2の表面2b側に対向させた状態で、ベース基板2に対して接合材23を介して陽極接合されている。このような接合材23は、ベース基板2の表面2b上にキャビティCの周囲を囲むように形成されたアルミニウム(Al)からなるアルミ膜23aと、アルミ膜23aの外側を囲むように形成された酸化アルミニウム(AlO3)からなるアルミナ膜23bとで構成されている。
The
アルミナ膜23bは、ベース基板2とリッド基板3との間からパッケージ10の外面(側面)と略面一になるように露出しており、後述するようにアルミ膜23aの外周部分を積極的に酸化させることで形成される。すなわち、接合材23は、パッケージ10の外面から見てアルミ膜23aは露出おらず、アルミナ膜23bによって覆われた状態になっている。なお、接合材23全体の幅d1(図1参照)は150μm程度に形成されており、その中でアルミナ膜23bの幅d2(図1参照)は数十nm程度に形成されている。すなわち、アルミナ膜23bは、通常の自然酸化膜(例えば、数nm)に比べて十分厚くなるように形成されている。
The
このように構成された圧電振動子1を作動させる場合には、ベース基板2に形成された外部電極6,7に対して、所定の駆動電圧を印加する。これにより、圧電振動片5の各励振電極に電流を流すことができ、一対の振動腕部24,25を接近・離間させる方向に所定の周波数で振動させることができる。そして、この一対の振動腕部24,25の振動を利用して、時刻源、制御信号のタイミング源やリファレンス信号源等として利用することができる。
When the
(圧電振動子の製造方法)
次に、上述した圧電振動子の製造方法について説明する。図5は、本実施形態に係る圧電振動子の製造方法のフローチャートである。図6は、ウエハ接合体の分解斜視図である。以下には、ベース基板用ウエハ40(第1ウエハ)とリッド基板用ウエハ(第2ウエハ)50との間に複数の圧電振動片5を封入してウエハ接合体60を形成し、ウエハ接合体(接合体)60を切断することにより複数の圧電振動子(接合片)1を同時に製造する方法について説明する。なお、図7以下の各図に示す破線Mは、切断工程で切断する切断線を図示したものである。
本実施形態に係る圧電振動子の製造方法は、主に、圧電振動片作製工程(S10)と、リッド基板用ウエハ作製工程(S20)と、ベース基板用ウエハ作製工程(S30)と、組立工程(S40以下)とを有している。そのうち、圧電振動片作製工程(S10)、リッド基板用ウエハ作製工程(S20)及びベース基板用ウエハ作製工程(S30)は、並行して実施することが可能である。
(Piezoelectric vibrator manufacturing method)
Next, a method for manufacturing the above-described piezoelectric vibrator will be described. FIG. 5 is a flowchart of the method for manufacturing the piezoelectric vibrator according to this embodiment. FIG. 6 is an exploded perspective view of the wafer bonded body. In the following, a plurality of piezoelectric vibrating
The piezoelectric vibrator manufacturing method according to the present embodiment mainly includes a piezoelectric vibrating piece manufacturing step (S10), a lid substrate wafer manufacturing step (S20), a base substrate wafer manufacturing step (S30), and an assembly step. (S40 and below). Among them, the piezoelectric vibrating piece producing step (S10), the lid substrate wafer producing step (S20) and the base substrate wafer producing step (S30) can be performed in parallel.
初めに、図5に示すように、圧電振動片作製工程を行って図1〜図4に示す圧電振動片5を作製する(S10)。また、圧電振動片5を作製した後、共振周波数の粗調を行っておく。なお、共振周波数をより高精度に調整する微調に関しては、マウント後に行う。
First, as shown in FIG. 5, the piezoelectric vibrating reed manufacturing process is performed to manufacture the piezoelectric vibrating
(リッド基板用ウエハ作成工程)
次に、図5,図6に示すように、後にリッド基板3となるリッド基板用ウエハ50を、陽極接合を行う直前の状態まで作製するリッド基板用ウエハ作製工程を行う(S20)。具体的には、ソーダ石灰ガラスを所定の厚さまで研磨加工して洗浄した後に、エッチング等により最表面の加工変質層を除去した円板状のリッド基板用ウエハ50を形成する(S21)。次いで、リッド基板用ウエハ50の裏面50a(図6における下面)に、エッチング等により行列方向にキャビティC用の凹部3aを複数形成する凹部形成工程を行う(S22)。
次に、後述するベース基板用ウエハ40との間の気密性を確保するために、ベース基板用ウエハ40との接合面となるリッド基板用ウエハ50の裏面50a側を少なくとも研磨する研磨工程(S23)を行い、裏面50aを鏡面加工する。以上により、リッド基板用ウエハ作成工程(S20)が終了する。
(Wad production process for lid substrate)
Next, as shown in FIGS. 5 and 6, a lid substrate wafer manufacturing process is performed in which a
Next, in order to ensure airtightness with the
(ベース基板用ウエハ作成工程)
次に、上述した工程と同時或いは前後のタイミングで、後にベース基板2となるベース基板用ウエハ40を、陽極接合を行う直前の状態まで作製するベース基板用ウエハ作製工程を行う(S30)。まず、ソーダ石灰ガラスを所定の厚さまで研磨加工して洗浄した後に、エッチング等により最表面の加工変質層を除去した円板状のベース基板用ウエハ40を形成する(S31)。次いで、例えばプレス加工等により、ベース基板用ウエハに一対の貫通電極8,9を配置するためのスルーホール21,22を複数形成するスルーホール形成工程を行う(S32)。具体的には、プレス加工等によりベース基板用ウエハ40の裏面40bから凹部を形成した後、少なくともベース基板用ウエハ40の表面40a側から研磨することで、凹部を貫通させ、スルーホール21,22を形成することができる。
(Base substrate wafer creation process)
Next, a base substrate wafer manufacturing step is performed in which the
続いて、スルーホール形成工程(S32)で形成されたスルーホール21,22内に貫通電極8,9を形成する貫通電極形成工程(S33)を行う。これにより、スルーホール21,22内において、芯材部31がベース基板用ウエハ40の両面40a,40b(図6における上下面)に対して面一な状態で保持される。以上により、貫通電極8,9を形成することができる。
Subsequently, a through electrode forming step (S33) for forming the through
図7は、アルミ膜形成工程を説明するための図であって、ベース基板用ウエハを表面側から見た平面図である。なお、図7においては、貫通電極8,9及びスルーホール21,22の図示を省略する。
次に、図7に示すように、ベース基板用ウエハ40の表面40aにアルミ膜23aを成膜し、リッド基板用ウエハ50との接合領域(ベース基板用ウエハ40におけるキャビティCの形成領域以外の領域)にアルミ膜23aが残存するようにパターニングする(S34)。その後、一対の貫通電極8,9に電気的接続された引き回し電極27,28を形成する引き回し電極形成工程を行う(S35)。このようにして、ベース基板用ウエハ製作工程(S30)が終了する。
FIG. 7 is a diagram for explaining the aluminum film forming process, and is a plan view of the base substrate wafer as viewed from the front surface side. In FIG. 7, illustration of the through
Next, as shown in FIG. 7, an
次に、ベース基板用ウエハ作成工程(S30)で作成されたベース基板用ウエハ40の各引き回し電極27,28上に、圧電振動片作成工程(S10)で作成された圧電振動片5を、それぞれ金等のバンプBを介してマウントする(S40)。そして、上述した各ウエハ40,50の作成工程で作成されたベース基板用ウエハ40及びリッド基板用ウエハ50を重ね合わせる、重ね合わせ工程を行う(S50)。具体的には、図示しない基準マーク等を指標としながら、両ウエハ40,50を正しい位置にアライメントする。これにより、マウントされた圧電振動片5が、リッド基板用ウエハ50に形成された凹部3aとベース基板用ウエハ40とで囲まれるキャビティC内に収納された状態となる。
Next, the piezoelectric vibrating
重ね合わせ工程後、重ね合わせた2枚のウエハ40,50を図示しない陽極接合装置に入れ、図示しない保持機構によりウエハの外周部分をクランプした状態で、所定の温度雰囲気で所定の電圧を印加して陽極接合する接合工程を行う(S60)。具体的には、接合材23とリッド基板用ウエハ50との間に所定の電圧を印加する。すると、アルミ膜23aとリッド基板用ウエハ50との界面に電気化学的な反応が生じ、両者がそれぞれ強固に密着して陽極接合される。これにより、圧電振動片5をキャビティC内に封止することができ、ベース基板用ウエハ40とリッド基板用ウエハ50とが接合されたウエハ接合体60を得ることができる。そして、本実施形態のように両ウエハ40,50同士を陽極接合することで、接着剤等で両ウエハ40,50を接合した場合に比べて、経時劣化や衝撃等によるずれ、ウエハ接合体60の反り等を防ぎ、両ウエハ40,50をより強固に接合することができる。この場合、本実施形態では陽極接合に抵抗値が比較的低いアルミ膜23aを用いているため、アルミ膜23aの全面に対して均一に電圧を印加することができ、両ウエハ40,50の接合面同士が強固に陽極接合されたウエハ接合体60を簡単に形成することができる。また、陽極接合を比較的低電圧で行うことができるため、エネルギー消費量の低減を図り、製造コストを低減させることができる。
After the superposition process, the two
その後、一対の貫通電極8,9にそれぞれ電気的に接続された一対の外部電極6,7を形成し(S70)、圧電振動子1の周波数を微調整する(S80)。
Thereafter, a pair of
図8〜図12は個片化工程を説明するための工程図であり、ウエハ接合体がマガジンに保持された状態を示す断面図である。
周波数の微調が終了後、接合されたウエハ接合体60を切断して個片化する個片化工程を行う(S90)。個片化工程(S90)では、図8に示すように、まずUVテープ80及びリングフレーム81からなるマガジン82でウエハ接合体60を保持する。リングフレーム81は、その内径がウエハ接合体60の直径よりも大径に形成されたリング状の部材であり、厚さ(軸方向における長さ)がウエハ接合体60と同等に形成されている。また、UVテープ80はポリオレフィンからなるシート材に紫外線硬化樹脂、例えばアクリル系の粘着剤が塗布されたものである。
マガジン82は、リングフレーム81の一方の面81aから、貫通孔81bを塞ぐようにUVテープ80を貼り付けることで作成することができる。そして、リングフレーム81の中心軸とウエハ接合体60の中心軸とを一致させた状態で、UVテープ80の粘着面にウエハ接合体60を貼着する。具体的には、ベース基板用ウエハ40の裏面40b側(外部電極6,7側)を、UVテープ80の粘着面に貼着する。これにより、ウエハ接合体60がリングフレーム81の貫通孔81b内にセットされた状態となる。
8 to 12 are process diagrams for explaining the singulation process, and are sectional views showing a state in which the wafer bonded body is held in the magazine.
After the fine adjustment of the frequency is completed, an individualization process is performed for cutting and bonding the bonded wafer bonded body 60 (S90). In the individualization step (S90), as shown in FIG. 8, first, the wafer bonded
The
次に、図9に示すように、リッド基板用ウエハ50における表面50bの表層部分に対して、切断線Mに沿ってレーザー光R1を照射し、ウエハ接合体60にスクライブラインM’を形成する。
Next, as shown in FIG. 9, the surface layer portion of the
次に、スクライブラインM’が形成されたウエハ接合体60を、1つ1つの圧電振動子1に切断する切断工程を行う。切断工程では、まず図10に示すように、リングフレーム81の他方の面81cに、貫通孔81bを塞ぐようにリッド基板用ウエハ50を保護するためのセパレーター83を貼り付ける。これにより、ウエハ接合体60は、UVテープ80とセパレーター83とにより挟持された状態で、リングフレーム81の貫通孔81b内に保持される。この状態でウエハ接合体60をブレーキング装置内に搬送する。
次いで、ブレーキング装置内に搬送されたウエハ接合体60に対して、割断応力を加えるブレーキング工程を行う。ブレーキング工程では、刃の長さがウエハ接合体60の直径よりも長い切断刃70(刃先角度θが例えば80度〜100度)を用意し、この切断刃70をベース基板用ウエハ40の裏面40b側からスクライブラインM’に位置合わせした後、切断刃70の刃先をベース基板用ウエハ40の裏面40bに接触させる。その後、ウエハ接合体60の厚さ方向(切断線M)に沿って、ウエハ接合体60に所定の割断応力(例えば、10kg/inch)を加える。
Next, a cutting process of cutting the wafer bonded
Next, a breaking process for applying cleaving stress is performed on the wafer bonded
これにより、ウエハ接合体60には、厚さ方向に沿ってクラックが発生し、ウエハ接合体60がリッド基板用ウエハ50上に形成されたスクライブラインM’に沿って折れるように切断される。そして、各スクライブラインM’毎に切断刃70を押し当てることで、ウエハ接合体60を切断線M毎のパッケージ10に一括して分離することができる。その後、ウエハ接合体60に貼り付けられたセパレーター83を剥離する。
As a result, a crack is generated in the wafer bonded
次に、図11に示すように、ウエハ接合体60をエクスパンド装置91内に搬送し、UVテープ80を引き延ばすエクスパンド工程を行う。
まずエクスパンド装置91について説明する。エクスパンド装置91は、リングフレーム81がセットされる円環状のベースリング92と、ベースリング92の内側に配置され、ウエハ接合体60よりも大径に形成された円板状のヒーターパネル93とを備えている。ヒーターパネル93は、ウエハ接合体60がセットされるベースプレート94に伝熱型のヒーター(不図示)が搭載されたものであり、ヒーターパネル93の中心軸がベースリング92の中心軸に一致するように配置されている。また、ヒーターパネル93は、図示しない駆動手段によって軸方向に沿って移動可能に構成されている。なお、図示しないがエクスパンド装置91は、ベースリング92上にセットされるリングフレーム81を、ベースリング92との間で挟持する押え部材も備えている。
Next, as shown in FIG. 11, an expanding process is performed in which the wafer bonded
First, the expanding
このような装置を用いてエクスパンド工程を行うには、まずウエハ接合体60をエクスパンド装置91にセットする前に、後述するグリップリング85のうち、内側リング85aをヒーターパネル93の外側にセットする。この時、内側リング85は、ヒーターパネル93に固定され、ヒーターパネル93の移動時にともに移動するようにセットされる。なお、グリップリング85は、内径がヒーターパネル93の外径よりも大きく、リングフレーム81の貫通孔81bの内径よりも小さく形成された樹脂製のリングであり、内側リング85aと、内径が内側リング85aの外径と同等に形成された外側リング85b(図12参照)とで構成されている。すなわち、内側リング85aは外側リング85bの内側に嵌まり込むようになっている。
In order to perform the expanding process using such an apparatus, first, before setting the wafer bonded
その後、マガジン82に固定されたウエハ接合体60をエクスパンド装置91にセットする。この時、UVテープ80側(外部電極6,7側)をヒーターパネル93及びベースリング92に向けてウエハ接合体60をセットする。そして、図示しない押え部材によってリングフレーム81をベースリング92との間に挟持する。次に、ヒーターパネル93のヒーターによってUVテープ80を加熱して、UVテープ80を軟化させる。そして、図12に示すように、UVテープ80を加熱した状態でヒーターパネル93を内側リング85aとともに上昇させる(図12中矢印参照)。この時、リングフレーム81はベースリング92と押え部材との間で挟持されているので、UVテープ80がウエハ接合体60の径方向外側に向かって延伸する。これにより、UVテープ80に貼着されたパッケージ10同士が離間し、隣接するパッケージ10間のスペースが拡大する。そして、この状態で内側リング85aの外側に外側リング85bをセットする。具体的には、内側リング85aと外側リング85bとの間にUVテープ80を挟んだ状態で、両者を嵌め合わせる。これにより、UVテープ80が延伸された状態でグリップリング85に保持される。そして、グリップリング85の外側のUVテープ80を切断し、リングフレーム81とグリップリング85とを分離する。
Thereafter, the wafer bonded
図13は、酸化工程を説明するための図であって、図13(a)は複数の複数の圧電振動子がUVテープに貼り付けられた状態を示す断面図であり、図13(b)はリッド基板を取り外した状態の平面図である。
図13に示すように、アルミ膜23aを酸素(O2)プラズマで処理し、アルミ膜23aの外周部分を酸化させる酸化工程(S100)を行う。具体的には、まず複数のパッケージ10を、UVテープ80に貼り付けられた状態でプラズマ処理装置のチャンバー内に搬送し、パッケージ10を例えば80℃程度まで加熱する。そして、チャンバー内を減圧した状態で、チャンバー内に酸素ガスを供給するとともに、酸素プラズマを生成し、生成された酸素プラズマを、リッド基板3の表面3d側からパッケージ10の厚さ方向に沿って照射する(図13(a)矢印参照)。すると、この酸素プラズマによりベース基板2とリッド基板3との間から露出するアルミ膜23aの外周部分が酸化されて、AlO3となる。なお、酸化工程(S100)におけるプラズマの照射条件としては、例えば、酸素流量を1000sccm、RFパワーを900W、チャンバー内の真空度を500mtorrに設定することが好ましい。以上により、アルミ膜23aの周囲を囲むように幅が数十nm程度のアルミナ膜23bが形成される。
FIG. 13 is a diagram for explaining the oxidation process, and FIG. 13A is a cross-sectional view showing a state in which a plurality of piezoelectric vibrators are attached to the UV tape, and FIG. FIG. 6 is a plan view of a state where a lid substrate is removed.
As shown in FIG. 13, the
この場合、パッケージ10の外側面に露出する接合材23に均一に酸素プラズマを照射するには、全てのパッケージ10を外側面が露出するように離間配置する必要がある。
そこで、本実施形態によれば、エクスパンド工程において複数のパッケージ10が分離した状態を利用して酸化工程(S100)を行うので、全てのパッケージ10を改めて離間配置する必要がなく、製造効率を向上させることができる。すなわち、各パッケージ10間のスペースを確保した状態で酸素プラズマを照射できるので、各パッケージ10におけるベース基板2とリッド基板3との間から露出する接合材23を均一にアルミナ膜23bに形成できる。
また、エクスパンドされたUVテープ80上に複数のパッケージ10を貼り付けた状態でプラズマ照射を行うことで、個片化された複数のパッケージ10に対して一括してアルミナ膜23bを形成できるので、各パッケージ10に個別でアルミナ膜23bを形成する場合に比べて製造効率の向上を図ることができる。さらに、プラズマ処理装置への搬送時や成膜時におけるパッケージ10の位置ズレを抑制できる。
In this case, in order to uniformly irradiate the
Therefore, according to the present embodiment, since the oxidation process (S100) is performed using the state where the plurality of
In addition, by performing plasma irradiation in a state where a plurality of
また、ベース基板2の裏面2a側にUVテープ80が貼り付けられた状態で、リッド基板3側からプラズマ照射を行うことで、外部電極6,7への酸素プラズマの照射を抑制できる。これにより、酸素プラズマによる外部電極6,7の酸化を抑制して、外部電極6,7の導電性を維持できる。なお、本実施形態では、外部電極6,7がAuで形成されているため、仮に外部電極6,7にO2プラズマが照射されたとしても外部電極6,7が酸化される虞はない。
Further, by irradiating the plasma from the
なお、アルミ膜23aに対して酸素プラズマを効率的に照射するためには、グリップリング85(パッケージ10)を回転させながらプラズマ照射を行うことが好ましい。
In order to efficiently irradiate the
次に、アルミナ膜23bが形成された圧電振動子1を取り出すためのピックアップ工程を行う。ピックアップ工程では、まずUVテープ80に対してUV照射し、UVテープ80の粘着力を低下させる。これにより、UVテープ80から圧電振動子1が剥離される。その後、画像認識等により各圧電振動子1の位置を把握して、ノズル等により吸引することで、UVテープ80から剥離された圧電振動子1を取り出していく。
以上により、互いに陽極接合されたベース基板2とリッド基板3との間に形成されたキャビティC内に圧電振動片5が封止された、図1に示す2層構造式表面実装型の圧電振動子1を一度に複数製造することができる。
Next, a pickup process for taking out the
As described above, the
その後、内部の電気特性検査を行う(S110)。すなわち、圧電振動片5の共振周波数、共振抵抗値、ドライブレベル特性(共振周波数及び共振抵抗値の励振電力依存性)等を測定してチェックする。また、絶縁抵抗特性等を併せてチェックする。そして、圧電振動子1の外観検査を行って、寸法や品質等を最終的にチェックする。
Thereafter, an internal electrical characteristic inspection is performed (S110). That is, the resonance frequency, resonance resistance value, drive level characteristic (excitation power dependency of the resonance frequency and resonance resistance value), etc. of the piezoelectric vibrating
このように、本実施形態では、酸化工程(S60)において、アルミ膜23aに対して酸素プラズマを照射することで、アルミ膜23aの外周部分を酸化させ、アルミナ膜23bを形成する構成とした。
この構成によれば、アルミ膜23aの周囲を囲むようにアルミナ膜23bが形成されることになるので、アルミ膜23aはアルミナ膜23bに保護され、ベース基板2とリッド基板3との間からアルミ膜23aが露出しない。ここで、酸化アルミニウムは非常に緻密で化学的安定性に優れているため、パッケージ10の外面に露出しても、腐食することはない。そのため、大気や大気中の水分等がキャビティC内に流入してくるのを抑制できる。なお、本実施形態によれば、酸素プラズマによってアルミ膜23aを積極的に酸化させておくことで、自然酸化膜よりも厚く、緻密な膜を形成することができる。
したがって、接合材23の腐食を抑制して、キャビティC内の気密を長期に亘って安定した状態に維持できるため、振動特性に優れた信頼性の高い圧電振動子1を提供できる。
Thus, in this embodiment, in the oxidation step (S60), the
According to this configuration, since the
Therefore, the corrosion of the
(発振器)
次に、本発明に係る発振器の一実施形態について、図14を参照しながら説明する。
本実施形態の発振器100は、図14に示すように、圧電振動子1を、集積回路101に電気的に接続された発振子として構成したものである。この発振器100は、コンデンサ等の電子部品102が実装された基板103を備えている。基板103には、発振器用の上記集積回路101が実装されており、この集積回路101の近傍に、圧電振動子1が実装されている。これら電子部品102、集積回路101及び圧電振動子1は、図示しない配線パターンによってそれぞれ電気的に接続されている。なお、各構成部品は、図示しない樹脂によりモールドされている。
(Oscillator)
Next, an embodiment of an oscillator according to the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 14, the
このように構成された発振器100において、圧電振動子1に電圧を印加すると、圧電振動子1内の圧電振動片5が振動する。この振動は、圧電振動片5が有する圧電特性により電気信号に変換されて、集積回路101に電気信号として入力される。入力された電気信号は、集積回路101によって各種処理がなされ、周波数信号として出力される。これにより、圧電振動子1が発振子として機能する。
また、集積回路101の構成を、例えば、RTC(リアルタイムクロック)モジュール等を要求に応じて選択的に設定することで、時計用単機能発振器等の他、当該機器や外部機器の動作日や時刻を制御したり、時刻やカレンダー等を提供したりする機能を付加することができる。
In the
Further, by selectively setting the configuration of the
上述したように、本実施形態の発振器100によれば、キャビティC内の気密が確保された圧電振動子1を備えているため、特性及び信頼性に優れた高品質な発振器100を提供できる。さらにこれに加え、長期に亘って安定した高精度な周波数信号を得ることができる。
As described above, according to the
(電子機器)
次に、本発明に係る電子機器の一実施形態について、図15を参照して説明する。なお電子機器として、上述した圧電振動子1を有する携帯情報機器110を例にして説明する。
始めに本実施形態の携帯情報機器110は、例えば、携帯電話に代表されるものであり、従来技術における腕時計を発展、改良したものである。外観は腕時計に類似し、文字盤に相当する部分に液晶ディスプレイを配し、この画面上に現在の時刻等を表示させることができるものである。また、通信機として利用する場合には、手首から外し、バンドの内側部分に内蔵されたスピーカ及びマイクロフォンによって、従来技術の携帯電話と同様の通信を行うことが可能である。しかしながら、従来の携帯電話と比較して、格段に小型化及び軽量化されている。
(Electronics)
Next, an embodiment of an electronic apparatus according to the present invention will be described with reference to FIG. Note that the
First, the
次に、本実施形態の携帯情報機器110の構成について説明する。この携帯情報機器110は、図15に示すように、圧電振動子1と、電力を供給するための電源部111とを備えている。電源部111は、例えば、リチウム二次電池からなっている。この電源部111には、各種制御を行う制御部112と、時刻等のカウントを行う計時部113と、外部との通信を行う通信部114と、各種情報を表示する表示部115と、それぞれの機能部の電圧を検出する電圧検出部116とが並列に接続されている。そして、電源部111によって、各機能部に電力が供給されるようになっている。
Next, the configuration of the
制御部112は、各機能部を制御して音声データの送信及び受信、現在時刻の計測や表示等、システム全体の動作制御を行う。また、制御部112は、予めプログラムが書き込まれたROMと、ROMに書き込まれたプログラムを読み出して実行するCPUと、CPUのワークエリアとして使用されるRAM等とを備えている。
The
計時部113は、発振回路、レジスタ回路、カウンタ回路及びインターフェース回路等を内蔵する集積回路と、圧電振動子1とを備えている。圧電振動子1に電圧を印加すると圧電振動片5が振動し、振動が水晶の有する圧電特性により電気信号に変換されて、発振回路に電気信号として入力される。発振回路の出力は二値化され、レジスタ回路とカウンタ回路とにより計数される。そして、インターフェース回路を介して、制御部112と信号の送受信が行われ、表示部115に、現在時刻や現在日付或いはカレンダー情報等が表示される。
The
通信部114は、従来の携帯電話と同様の機能を有し、無線部117、音声処理部118、切替部119、増幅部120、音声入出力部121、電話番号入力部122、着信音発生部123及び呼制御メモリ部124を備えている。
無線部117は、音声データ等の各種データを、アンテナ125を介して基地局と送受信のやりとりを行う。音声処理部118は、無線部117又は増幅部120から入力された音声信号を符号化及び複号化する。増幅部120は、音声処理部118又は音声入出力部121から入力された信号を、所定のレベルまで増幅する。音声入出力部121は、スピーカやマイクロフォン等からなり、着信音や受話音声を拡声したり、音声を集音したりする。
The
The
また、着信音発生部123は、基地局からの呼び出しに応じて着信音を生成する。切替部119は、着信時に限って、音声処理部118に接続されている増幅部120を着信音発生部123に切り替えることによって、着信音発生部123において生成された着信音が増幅部120を介して音声入出力部121に出力される。
なお、呼制御メモリ部124は、通信の発着呼制御に係るプログラムを格納する。また、電話番号入力部122は、例えば、0から9の番号キー及びその他のキーを備えており、これら番号キー等を押下することにより、通話先の電話番号等が入力される。
In addition, the
The call
電圧検出部116は、電源部111によって制御部112等の各機能部に対して加えられている電圧が、所定の値を下回った場合に、その電圧降下を検出して制御部112に通知する。このときの所定の電圧値は、通信部114を安定して動作させるために必要な最低限の電圧として予め設定されている値であり、例えば、3V程度となる。電圧検出部116から電圧降下の通知を受けた制御部112は、無線部117、音声処理部118、切替部119及び着信音発生部123の動作を禁止する。特に、消費電力の大きな無線部117の動作停止は、必須となる。更に、表示部115に、通信部114が電池残量の不足により使用不能になった旨が表示される。
When the voltage applied to each functional unit such as the
即ち、電圧検出部116と制御部112とによって、通信部114の動作を禁止し、その旨を表示部115に表示することができる。この表示は、文字メッセージであっても良いが、より直感的な表示として、表示部115の表示面の上部に表示された電話アイコンに、×(バツ)印を付けるようにしてもよい。
なお、通信部114の機能に係る部分の電源を、選択的に遮断することができる電源遮断部126を備えることで、通信部114の機能をより確実に停止することができる。
That is, the operation of the
In addition, the function of the
上述したように、本実施形態の携帯情報機器110によれば、キャビティC内の気密が確保された圧電振動子1を備えているため、特性及び信頼性に優れた高品質な携帯情報機器110を提供できる。さらにこれに加え、長期に亘って安定した高精度な時計情報を表示することができる。
As described above, according to the
(電波時計)
次に、本発明に係る電波時計の一実施形態について、図16を参照して説明する。
本実施形態の電波時計130は、図16に示すように、フィルタ部131に電気的に接続された圧電振動子1を備えたものであり、時計情報を含む標準の電波を受信して、正確な時刻に自動修正して表示する機能を備えた時計である。
日本国内には、福島県(40kHz)と佐賀県(60kHz)とに、標準の電波を送信する送信所(送信局)があり、それぞれ標準電波を送信している。40kHz若しくは60kHzのような長波は、地表を伝播する性質と、電離層と地表とを反射しながら伝播する性質とを併せもつため、伝播範囲が広く、上述した2つの送信所で日本国内を全て網羅している。
(Radio watch)
Next, an embodiment of a radio timepiece according to the present invention will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 16, the
In Japan, there are transmitting stations (transmitting stations) that transmit standard radio waves in Fukushima Prefecture (40 kHz) and Saga Prefecture (60 kHz), each transmitting standard radio waves. Long waves such as 40 kHz or 60 kHz have the property of propagating the surface of the earth and the property of propagating while reflecting the ionosphere and the surface of the earth, so the propagation range is wide and the above two transmitting stations cover all of Japan is doing.
以下、電波時計130の機能的構成について詳細に説明する。
アンテナ132は、40kHz若しくは60kHzの長波の標準電波を受信する。長波の標準電波は、タイムコードと呼ばれる時刻情報を、40kHz若しくは60kHzの搬送波にAM変調をかけたものである。受信された長波の標準電波は、アンプ133によって増幅され、複数の圧電振動子1を有するフィルタ部131によって濾波、同調される。 本実施形態における圧電振動子1は、上記搬送周波数と同一の40kHz及び60kHzの共振周波数を有する水晶振動子部138、139をそれぞれ備えている。
Hereinafter, the functional configuration of the
The
更に、濾波された所定周波数の信号は、検波、整流回路134により検波復調される。 続いて、波形整形回路135を介してタイムコードが取り出され、CPU136でカウントされる。CPU136では、現在の年、積算日、曜日、時刻等の情報を読み取る。読み取られた情報は、RTC137に反映され、正確な時刻情報が表示される。
搬送波は、40kHz若しくは60kHzであるから、水晶振動子部138、139は、上述した音叉型の構造を持つ振動子が好適である。
Further, the filtered signal having a predetermined frequency is detected and demodulated by the detection and
Since the carrier wave is 40 kHz or 60 kHz, the
なお、上述の説明は、日本国内の例で示したが、長波の標準電波の周波数は、海外では異なっている。例えば、ドイツでは77.5KHzの標準電波が用いられている。従って、海外でも対応可能な電波時計130を携帯機器に組み込む場合には、さらに日本の場合とは異なる周波数の圧電振動子1を必要とする。
In addition, although the above-mentioned description was shown in the example in Japan, the frequency of the long standard wave is different overseas. For example, in Germany, a standard radio wave of 77.5 KHz is used. Accordingly, when the
上述したように、本実施形態の電波時計130によれば、キャビティC内の気密が確保された圧電振動子1を備えているため、特性及び信頼性に優れた高品質な電波時計130を提供できる。さらにこれに加え、長期に亘って安定した高精度に時刻をカウントすることができる。
As described above, according to the
なお、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成等はほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。 It should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes those in which various modifications are made to the above-described embodiments without departing from the spirit of the present invention. That is, the specific materials, layer configurations, and the like given in the embodiment are merely examples, and can be changed as appropriate.
例えば、上述した実施形態では、ベース基板用ウエハ40の表面40aに接合材23を形成したが、これとは逆にリッド基板用ウエハ50の裏面50aに接合材23を形成しても構わない。この場合、成膜後にパターニングすることで、リッド基板用ウエハ50の裏面50aにおけるベース基板用ウエハ40との接合面のみに形成する構成でも構わないが、接合材23を凹部3aの内面を含む裏面50a全体に形成することで、接合材23のパターニングが不要になり、製造コストを低減することができる。
また、アルミナ膜23bの幅d2は適宜設計変更が可能である。
For example, in the above-described embodiment, the
The design of the width d2 of the
さらに、上述した接合工程(S60)では、ベース基板用ウエハ40の裏面40bに陽極となる接合補助材を配置するとともに、リッド基板用ウエハ50の表面50bに陰極を配置する方式(いわゆる、対向電極方式)を採用してもよいし、接合材23を陽極に接続するとともに、リッド基板用ウエハ50の表面50bに陰極を配置し、接合材23に対して電圧を直接印加する方式(いわゆる直接電極方式)を採用しても構わない。
対向電極方式を採用することで、陽極接合時に接合補助材と陰極との間に電圧を印加することで、接合補助材とベース基板用ウエハ40の裏面40bとの間に陽極接合反応が発生し、これに連動して接合材23とリッド基板用ウエハ50の裏面50aとの間が陽極接合される。これにより、接合材23の全面に対してより均一に電圧を印加することが可能になり、接合材23とリッド基板用ウエハ50の裏面50aとの間を確実に陽極接合することができる。
これに対して、直接電極方式を採用することで、対向電極方式で必要となる接合工程後の接合補助材の除去作業が不要になるので、製造工数を削減することができ、製造効率の向上を図ることができる。
Further, in the above-described bonding step (S60), a bonding auxiliary material serving as an anode is disposed on the
By adopting the counter electrode method, an anodic bonding reaction occurs between the bonding auxiliary material and the
In contrast, the direct electrode method eliminates the need to remove the bonding auxiliary material after the bonding process required by the counter electrode method, thus reducing the number of manufacturing steps and improving the manufacturing efficiency. Can be achieved.
また上述した実施形態では、本発明に係るパッケージの製造方法を使用しつつ、パッケージの内部に圧電振動片を封入して圧電振動子を製造したが、パッケージの内部に圧電振動片以外の電子部品を封入して、圧電振動子以外のデバイスを製造することも可能である。 In the above-described embodiment, the piezoelectric vibrator is manufactured by enclosing the piezoelectric vibrating piece in the package while using the package manufacturing method according to the present invention. However, the electronic component other than the piezoelectric vibrating piece is provided in the package. It is also possible to manufacture a device other than the piezoelectric vibrator by encapsulating.
また、上述した実施形態では、エクスパンド工程の終了後、複数のパッケージ10をUVテープ80に貼り付けた状態で酸化工程(S70)を行う場合について説明したが、これに限らず、以下に示すような方法で行うことも可能である。
具体的には、図17(a)に示すように、エクスパンド工程終了後、UVテープ80に貼り付けられた複数のパッケージ10の上方から第1治具150をセットする。第1治具150は、平板状のベース部151と、ベース部151に形成され、UVテープ80上に貼り付けられた複数のパッケージ10を収容する断面視凹状の収容部152とを備えている。すなわち、収容部152は、UVテープ80に貼り付けられた複数のパッケージ10の配列ピッチ毎に形成されている。そして、リッド基板3の表面3d側から各パッケージ10を覆うように第1治具150をセットし、各パッケージ10を治具150の各収容部152内に収容する。
In the above-described embodiment, the case where the oxidation process (S70) is performed in a state where the plurality of
Specifically, as shown in FIG. 17A, after the expanding process is completed, the
次に、図17(b)に示すように、第1治具150とUVテープ80とを上下反転させ、その後UVテープ80に対してUV照射し、各パッケージ10からUVテープ80を剥離する(図17(b)中矢印参照)。その結果、各パッケージ10が第1治具150の各収容部152内にそれぞれ収容された状態となる。
次に、図17(c)に示すように、第1治具150の上方から第2治具160をセットする。第2治具160は、平板状のベース部161と、第1治具150の収容部152に対向するように形成された凹部162とを備えている。そして、ベース基板2の裏面2a側から外部電極6,7を凹部162内に収容するように第2治具160をセットする。
Next, as shown in FIG. 17B, the
Next, as shown in FIG. 17C, the
続いて、第1治具150及び第2治具160を上下反転させ、第1治具150をパッケージ10から離間させる。これにより、第2治具160のベース部161上に複数のパッケージ10が所定間隔毎に配列された状態となる。この状態で、図17(d)に示すように、複数のパッケージ10を第2治具160ごとプラズマ処理装置内に搬送し、上述した酸化工程(S70)を行う。
この構成によれば、複数のパッケージ10をUVテープ80上に貼り付けた状態で酸化工程(S70)を行う場合と異なり、UVテープ80が途中で破断する等の虞がないので、プラズマ処理装置への搬送からプラズマ照射に至るまでを確実に行うことができる。なお、上述した構成では、各パッケージ10の配列ピッチ毎に凹部162を設ける構成について説明したが、これに限らず、ベース部161上における各パッケージ10の配列ピッチ毎に磁石を配置し、この磁石を用いて外部電極6,7を吸着しても構わない。
Subsequently, the
According to this configuration, unlike the case where the oxidation step (S70) is performed with a plurality of
1…圧電振動子 2…ベース基板(第1基板) 3…リッド基板(第2基板) 5…圧電振動片(電子部品) 6,7…外部電極 10…パッケージ(接合片) 23…接合材 40…ベース基板用ウエハ(第1ウエハ) 50…リッド基板用ウエハ(第2ウエハ) 60…ウエハ接合体(接合体) 100…発振器 101…発振器の集積回路 110…携帯情報機器(電子機器) 113…電子機器の計時部 130…電波時計 131…電波時計のフィルタ部 C…キャビティ
DESCRIPTION OF
Claims (7)
前記第1基板の接合面に形成されたアルミニウムを主成分とする材料からなる接合材と、前記第2基板の接合面とを陽極接合する接合工程と、
前記第1基板と前記第2基板との間から露出する前記接合材を酸素プラズマで処理することにより前記接合材を酸化させる酸化工程とを有していることを特徴とするパッケージの製造方法。 A method of manufacturing a package having a cavity capable of enclosing an electronic component between a first substrate and a second substrate made of an insulator bonded to each other,
A bonding step of anodic bonding a bonding material made of a material mainly composed of aluminum formed on the bonding surface of the first substrate and the bonding surface of the second substrate;
A method of manufacturing a package, comprising: an oxidizing step of oxidizing the bonding material by treating the bonding material exposed from between the first substrate and the second substrate with oxygen plasma.
前記接合工程と前記酸化工程との間に、
前記第1ウエハと前記第2ウエハとの接合体の一方の面に粘着シートを貼り付ける工程と、
前記接合体を前記パッケージの形成領域毎に個片化し、複数の接合片を形成する個片化工程と、
前記粘着シートを延伸することで、個片化された前記複数の接合片同士の間隔を広げるエクスパンド工程とを有し、
前記酸化工程では、延伸された前記粘着シート上に前記複数の接合片が離間配置された状態で、前記各接合片の前記第1基板と前記第2基板との間から露出した前記接合材を、酸素プラズマで処理することを特徴とする請求項1記載のパッケージの製造方法。 In the bonding step, the plurality of first substrates included in the first wafer and the plurality of second substrates included in the second wafer are respectively anodically bonded,
Between the joining step and the oxidation step,
Attaching an adhesive sheet to one surface of the joined body of the first wafer and the second wafer;
Dividing the joined body into pieces for each formation region of the package, and forming a plurality of joined pieces;
Expanding the adhesive sheet to expand the interval between the plurality of pieces separated into pieces, and an expanding step.
In the oxidation step, the bonding material exposed from between the first substrate and the second substrate of each bonding piece in a state where the plurality of bonding pieces are spaced apart on the stretched adhesive sheet. 2. The method of manufacturing a package according to claim 1, wherein the treatment is performed with oxygen plasma.
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