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JP2011128481A - Electrooptical device, method of manufacturing the same, and electronic equipment - Google Patents

Electrooptical device, method of manufacturing the same, and electronic equipment Download PDF

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JP2011128481A
JP2011128481A JP2009288743A JP2009288743A JP2011128481A JP 2011128481 A JP2011128481 A JP 2011128481A JP 2009288743 A JP2009288743 A JP 2009288743A JP 2009288743 A JP2009288743 A JP 2009288743A JP 2011128481 A JP2011128481 A JP 2011128481A
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JP
Japan
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substrate
electro
optical device
sealing material
terminal portion
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2009288743A
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Japanese (ja)
Inventor
Kozo Gyoda
幸三 行田
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrooptical device having a hardly breakable substrate structure, a method of manufacturing the electrooptical device, and electronic equipment. <P>SOLUTION: The electrooptical device includes a display panel 12 which includes a first substrate including a plurality of organic EL elements and terminal parts 16a to 16c comprising a plurality of terminals electrically connected to the organic EL elements; a sealing material 26 disposed on the circumference of a display area 15 where the organic EL elements are disposed and at least a part of the circumference of each of the terminal parts 16a to 16c; and a second substrate disposed facing the first substrate across the sealing material 26, and having opening holes 71a to 71c formed in areas to overlap with the terminal parts 16a to 16c in plane view. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器に関する。   The present invention relates to an electro-optical device, a method for manufacturing the electro-optical device, and an electronic apparatus.

電気光学装置の1つとして、例えば、有機EL(エレクトロルミネッセンス)装置が知られている(特許文献1)。上記有機EL装置は、一対の基板間において陽極と陰極との間に発光層などの有機膜が挟持された有機EL素子を備えると共に、一方の基板の端部に外部と電気的に接続するための端子部を有する。端子部には、外部と繋がる中継基板が実装されることから、一方の基板が他方の基板より端子部の領域分、張り出した構造となっている。一対の基板を貼り合わせるためのシール材は、端子部にはみ出さないように、複数の有機EL素子が設けられた発光領域を囲んで設けられている。   As one of electro-optical devices, for example, an organic EL (electroluminescence) device is known (Patent Document 1). The organic EL device includes an organic EL element in which an organic film such as a light emitting layer is sandwiched between an anode and a cathode between a pair of substrates, and is electrically connected to the outside at one end of one substrate. Terminal portion. Since a relay substrate connected to the outside is mounted on the terminal portion, one substrate has a structure protruding from the other substrate by the region of the terminal portion. A sealing material for bonding the pair of substrates is provided so as to surround a light emitting region provided with a plurality of organic EL elements so as not to protrude from the terminal portion.

特開平10−301072号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-301072

しかしながら、上記基板の厚みを薄くすると、有機EL装置の強度が弱くなり、特に端子部の領域のコーナーや端面に割れや欠けが発生し易いという課題があった。   However, if the thickness of the substrate is reduced, the strength of the organic EL device is weakened, and there is a problem that cracks and chips are likely to occur particularly in the corners and end faces of the terminal portions.

本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態又は適用例として実現することが可能である。   SUMMARY An advantage of some aspects of the invention is to solve at least a part of the problems described above, and the invention can be implemented as the following forms or application examples.

[適用例1]本適用例に係る電気光学装置は、電気光学素子と、前記電気光学素子に電気的に接続された端子からなる端子部と、を有する第1基板と、前記電気光学素子が設けられた素子領域の周囲、及び前記端子部の周囲の少なくとも一部に設けられたシール材と、前記シール材を介して前記第1基板に対向配置され、平面的に前記端子部と重なる領域に開口部又は切り欠き部が設けられた第2基板と、を備えた電気光学パネルを有することを特徴とする。   Application Example 1 An electro-optical device according to this application example includes an electro-optical element, a first substrate including a terminal portion that is electrically connected to the electro-optical element, and the electro-optical element. A sealing material provided in the periphery of the provided element region and at least a part of the periphery of the terminal portion, and a region that is opposed to the first substrate via the sealing material and overlaps the terminal portion in plan view And an electro-optical panel having a second substrate provided with an opening or a notch.

この構成によれば、第2基板において端子部と平面的に重なる領域に開口部又は切り欠き部が設けられているので、端子部を有する第1基板に第2基板を重ねたとしても、端子部に例えば中継基板を接続することができる。また、素子領域の周囲に加えて、端子部の周囲の少なくとも一部にシール材を設けることにより、端子部の周辺の強度を向上させることができる。   According to this configuration, since the opening or the notch is provided in a region overlapping the terminal portion in the second substrate, even if the second substrate is overlaid on the first substrate having the terminal portion, the terminal For example, a relay board can be connected to the part. In addition to the periphery of the element region, the seal material is provided on at least a part of the periphery of the terminal portion, whereby the strength of the periphery of the terminal portion can be improved.

[適用例2]上記適用例に係る電気光学装置において、前記第1基板と前記第2基板とが略同じ大きさであることが好ましい。   Application Example 2 In the electro-optical device according to the application example, it is preferable that the first substrate and the second substrate have substantially the same size.

この構成によれば、両基板の大きさが同じ大きさなので、第1基板が端子部の領域分、第2基板よりはみ出す場合に比べて、接合後の端子部の領域においてコーナー部の強度を向上させることができる。   According to this configuration, since both substrates have the same size, the strength of the corner portion is increased in the region of the terminal portion after bonding compared to the case where the first substrate protrudes from the second substrate by the region of the terminal portion. Can be improved.

[適用例3]上記適用例に係る電気光学装置において、前記シール材は、前記素子領域の周囲、及び前記端子部が設けられた前記第1基板のコーナー部に設けられていることが好ましい。   Application Example 3 In the electro-optical device according to the application example, it is preferable that the sealing material is provided around the element region and at a corner portion of the first substrate on which the terminal portion is provided.

この構成によれば、端子部が設けられた第1基板のコーナー部にシール材が設けられているので、一対の基板における端子部が設けられた領域のコーナー部の強度を向上させることができる。   According to this configuration, since the sealing material is provided at the corner portion of the first substrate on which the terminal portion is provided, the strength of the corner portion in the region where the terminal portion is provided on the pair of substrates can be improved. .

[適用例4]上記適用例に係る電気光学装置において、前記第1基板には、端子部が設けられており、前記シール材は、前記端子部を囲むように設けられていることが好ましい。   Application Example 4 In the electro-optical device according to the application example, it is preferable that a terminal portion is provided on the first substrate, and the sealing material is provided so as to surround the terminal portion.

この構成によれば、端子部間の領域にもシール材が設けられているので、第2基板における端子部と重なる領域に開口部や切り欠き部が設けられていても、端子部の周辺の強度を向上させることができる。   According to this configuration, since the sealing material is also provided in the region between the terminal portions, even if the opening portion or the cutout portion is provided in the region overlapping the terminal portion in the second substrate, the periphery of the terminal portion is provided. Strength can be improved.

[適用例5]上記適用例に係る電気光学装置において、前記第1基板には、複数の端子部が設けられており、前記シール材は、前記複数の端子部のうち少なくとも2つを囲むように設けられていることが好ましい。   Application Example 5 In the electro-optical device according to the application example, the first substrate includes a plurality of terminal portions, and the sealing material surrounds at least two of the plurality of terminal portions. Is preferably provided.

この構成によれば、少なくとも2つの端子部を囲むようにシール材が設けられているので、端子部毎にシール材を囲んで設けることと比較して、シール材の塗布量を少なくすることができる。   According to this configuration, since the sealing material is provided so as to surround at least two terminal portions, it is possible to reduce the coating amount of the sealing material as compared with providing the sealing material for each terminal portion. it can.

[適用例6]上記適用例に係る電気光学装置において、前記開口部又は前記切り欠き部は、平面視で前記複数の端子部のうち少なくとも2つを囲むように設けられていることが好ましい。   Application Example 6 In the electro-optical device according to the application example, it is preferable that the opening or the notch is provided so as to surround at least two of the plurality of terminal portions in a plan view.

この構成によれば、少なくとも2つの端子部を囲むように開口部又は切り欠き部を設けるので、1つの端子部毎に開口部又は切り欠き部を設ける場合と比較して、加工しやすくすることができる。また、中継基板と接続しやすくすることができる。   According to this configuration, since the opening or notch is provided so as to surround at least two terminal portions, it is easier to process compared to the case where an opening or notch is provided for each terminal portion. Can do. Further, it can be easily connected to the relay board.

[適用例7]上記適用例に係る電気光学装置において、前記電気光学パネルの厚みが100μm以下で構成され、前記電気光学パネルは、少なくとも一方が透明な一対の樹脂フィルムで挟まれてラミネートされていることが好ましい。   Application Example 7 In the electro-optical device according to the application example, the electro-optical panel has a thickness of 100 μm or less, and the electro-optical panel is sandwiched and laminated between a pair of transparent resin films. Preferably it is.

この構成によれば、電気光学パネルが樹脂フィルムでラミネートされているので、電気光学パネルの強度を補強することができる。また、樹脂フィルムでラミネートされているので、電気光学パネルが破損した場合の破材が飛び散ることを防ぐことができる。   According to this configuration, since the electro-optical panel is laminated with the resin film, the strength of the electro-optical panel can be reinforced. Moreover, since it laminates with the resin film, it can prevent that the broken material scatters when an electro-optical panel is damaged.

[適用例8]本適用例に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学素子及び端子部が設けられた第1基板と、前記第1基板にシール材を介して対向配置された第2基板と、を備えた電気光学パネルを有する電気光学装置の製造方法であって、前記第1基板における前記電気光学素子が設けられた素子領域の周囲、及び、前記端子部の周囲の少なくとも一部にシール材を塗布する塗布工程と、前記シール材を介して前記第1基板に前記第2基板を対向配置して貼り付ける貼付工程と、前記第2基板において前記端子部と平面的に重なる領域を切断して前記端子部を露出させる切断工程と、を有することを特徴とする。   Application Example 8 A method for manufacturing an electro-optical device according to this application example includes a first substrate provided with an electro-optical element and a terminal portion, and a second substrate disposed opposite to the first substrate with a sealing material interposed therebetween. And an electro-optic device having an electro-optic panel, wherein the electro-optic device is provided on at least a part of the periphery of the element region on the first substrate and the periphery of the terminal portion. An application step of applying a sealing material, an attaching step of attaching and attaching the second substrate to the first substrate via the sealing material, and a region overlapping the terminal portion in the second substrate in a plane A cutting step of cutting and exposing the terminal portion.

この方法によれば、切断工程において第2基板における端子部と平面的に重なる領域を切断するので、貼付工程によって端子部を有する第1基板に第2基板を重ねたとしても、端子部に中継基板を接続することができる。また、塗布工程によって素子領域の周囲に加えて、端子部の周囲の少なくとも一部にシール材を塗布するので、端子部の周辺の強度を向上させることができる。   According to this method, since the region of the second substrate that overlaps with the terminal portion in the cutting step is cut in the cutting step, even if the second substrate is overlaid on the first substrate having the terminal portion by the attaching step, the relay to the terminal portion is performed. A substrate can be connected. Further, since the sealing material is applied to at least a part of the periphery of the terminal portion in addition to the periphery of the element region by the application process, the strength of the periphery of the terminal portion can be improved.

[適用例9]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法において、前記塗布工程は、前記素子領域の周囲、及び前記端子部が設けられた前記第1基板のコーナー部に前記シール材を塗布することが好ましい。   Application Example 9 In the method of manufacturing an electro-optical device according to the application example, the application step applies the sealing material around the element region and the corner portion of the first substrate on which the terminal portion is provided. It is preferable to do.

この方法によれば、端子部が設けられた第1基板のコーナー部にシール材を塗布するので、一対の基板における端子部が設けられた領域のコーナー部の強度を向上させることができる。   According to this method, since the sealing material is applied to the corner portion of the first substrate provided with the terminal portion, the strength of the corner portion in the region where the terminal portion is provided in the pair of substrates can be improved.

[適用例10]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法において、前記塗布工程は、前記第1基板における前記端子部を囲むように前記シール材を塗布することが好ましい。   Application Example 10 In the method of manufacturing an electro-optical device according to the application example, it is preferable that the application step is to apply the sealing material so as to surround the terminal portion of the first substrate.

この方法によれば、端子部を囲むようにシール材を塗布するので、第2基板における端子部と重なる領域が切断されていても、端子部の周辺の強度を向上させることができる。   According to this method, since the sealing material is applied so as to surround the terminal portion, the strength around the terminal portion can be improved even if the region of the second substrate overlapping the terminal portion is cut.

[適用例11]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法において、前記第1基板には、端子部が設けられており、前記塗布工程は、前記端子部を囲むように前記シール材を塗布することが好ましい。   Application Example 11 In the method of manufacturing an electro-optical device according to the application example, the first substrate is provided with a terminal portion, and the application step applies the sealing material so as to surround the terminal portion. It is preferable to do.

この方法によれば、端子部間の領域にもシール材を塗布するので、第2基板における端子部の領域に開口部や切り欠き部が設けられていても、端子部の周辺の強度を向上させることができる。   According to this method, since the sealing material is also applied to the region between the terminal portions, the strength around the terminal portion is improved even if the opening portion or the cutout portion is provided in the terminal portion region of the second substrate. Can be made.

[適用例12]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法において、前記第1基板には、複数の端子部が設けられており、前記塗布工程は、前記複数の端子部のうち少なくとも2つを囲むように前記シール材を塗布することが好ましい。   Application Example 12 In the method of manufacturing the electro-optical device according to the application example, the first substrate is provided with a plurality of terminal portions, and the coating process includes at least two of the plurality of terminal portions. It is preferable to apply the sealing material so as to surround.

この方法によれば、少なくとも2つの端子部を囲むようにシール材を塗布するので、端子部毎にシール材を囲んで塗布する場合と比較して、シール材の塗布量を少なくすることができる。   According to this method, since the sealing material is applied so as to surround at least two terminal portions, the amount of the sealing material applied can be reduced as compared with the case where the sealing material is applied surrounding each terminal portion. .

[適用例13]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法において、前記切断工程は、平面視で前記複数の端子部のうち少なくとも2つが露出するように切断することが好ましい。   Application Example 13 In the method of manufacturing the electro-optical device according to the application example, it is preferable that the cutting step is performed so that at least two of the plurality of terminal portions are exposed in a plan view.

この方法によれば、少なくとも2つの端子部を囲むように開口部又は切り欠き部を形成するので、1つの端子部毎に開口部又は切り欠き部を形成する場合と比較して、加工しやすくすることができる。また、中継基板と接続しやすくすることができる。   According to this method, since the opening or the notch is formed so as to surround at least two terminal portions, it is easier to process than the case where the opening or the notch is formed for each terminal portion. can do. Further, it can be easily connected to the relay board.

[適用例14]上記適用例に係る電気光学装置の製造方法において、前記電気光学パネルの厚みが100μm以下で構成され、少なくとも一方が透明な一対の樹脂フィルムで前記電気光学パネルを挟んでラミネートするラミネート工程を有することが好ましい。   Application Example 14 In the method of manufacturing an electro-optical device according to the application example, the electro-optical panel is laminated with a thickness of the electro-optical panel being 100 μm or less and at least one of which is transparent. It is preferable to have a laminating process.

この方法によれば、電気光学パネルを樹脂フィルムでラミネートするので、電気光学パネルの強度を補強することができる。また、樹脂フィルムでラミネートするので、電気光学パネルが破損した場合の破材が飛び散ることを防ぐことができる。   According to this method, since the electro-optical panel is laminated with the resin film, the strength of the electro-optical panel can be reinforced. Further, since the lamination is performed with the resin film, it is possible to prevent the broken material from scattering when the electro-optical panel is damaged.

[適用例15]本適用例に係る電子機器は、上記に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする。   Application Example 15 An electronic apparatus according to this application example includes the electro-optical device described above.

この構成によれば、破損しにくい電気光学装置を備える電子機器を提供することができる。   According to this configuration, it is possible to provide an electronic apparatus including an electro-optical device that is not easily damaged.

第1実施形態の電気光学装置としての有機EL装置の構成を示す模式平面図。1 is a schematic plan view illustrating a configuration of an organic EL device as an electro-optical device according to a first embodiment. 図1に示す有機EL装置のA−A'線に沿う模式断面図。The schematic cross section which follows the AA 'line of the organic electroluminescent apparatus shown in FIG. 有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram illustrating an electrical configuration of the organic EL device. 有機EL装置を構成する表示パネルの構造を示す模式断面図。The schematic cross section which shows the structure of the display panel which comprises an organic electroluminescent apparatus. 表示パネルの構造を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the structure of a display panel. 図5に示す表示パネルのB−B'線に沿う模式断面図。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view along the line BB ′ of the display panel shown in FIG. 5. 第2実施形態の有機EL装置の製造方法を示すフローチャート。The flowchart which shows the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of 2nd Embodiment. 有機EL装置の製造方法の一部を示す模式平面図。The schematic plan view which shows a part of manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置の製造方法の一部を示す模式平面図。The schematic plan view which shows a part of manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置の製造方法の一部を示す模式平面図。The schematic plan view which shows a part of manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus. 有機EL装置の製造方法の一部を示す模式図。The schematic diagram which shows a part of manufacturing method of an organic electroluminescent apparatus. 第3実施形態の表示パネルを備える電子機器の一例としてディスプレイと情報携帯端末の構成を模式的に示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows typically the structure of a display and an information portable terminal as an example of an electronic device provided with the display panel of 3rd Embodiment. 表示パネルの変形例の構造を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the structure of the modification of a display panel. 表示パネルの変形例の構造を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the structure of the modification of a display panel. 表示パネルの変形例の構造を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the structure of the modification of a display panel. 表示パネルの変形例の構造を示す模式平面図。The schematic plan view which shows the structure of the modification of a display panel.

以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。   DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings to be used are appropriately enlarged or reduced so that the part to be described can be recognized.

(第1実施形態)
<電気光学装置>
図1は、電気光学装置としての有機EL装置の構成を示す模式平面図である。図2は、図1に示す有機EL装置のA−A'線に沿う模式断面図である。以下、有機EL装置の構成を、図1及び図2を参照しながら説明する。
(First embodiment)
<Electro-optical device>
FIG. 1 is a schematic plan view showing a configuration of an organic EL device as an electro-optical device. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line AA ′ of the organic EL device shown in FIG. Hereinafter, the configuration of the organic EL device will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

図1に示すように、有機EL装置11は、外形が矩形状の電気光学パネルとしての表示パネル12を内包した表示部13を備えている。表示パネル12は、R(赤)、G(緑)、B(青)、3色の色表示が可能な複数の画素14が設けられた素子領域としての表示領域15を有している。複数の画素14は、表示領域15において3色のうち同色の画素14が短辺に沿った方向に配列した所謂ストライプ状の配列となっている。なお、画素14の配列はこれに限定されるものではない。   As shown in FIG. 1, the organic EL device 11 includes a display unit 13 including a display panel 12 as an electro-optical panel having a rectangular outer shape. The display panel 12 has a display area 15 as an element area provided with a plurality of pixels 14 capable of displaying colors of R (red), G (green), B (blue), and three colors. The plurality of pixels 14 have a so-called stripe arrangement in which pixels 14 of the same color among the three colors are arranged in the direction along the short side in the display region 15. Note that the arrangement of the pixels 14 is not limited to this.

表示パネル12の長辺に沿って設けられた複数の端子からなる3つの端子部16a,16b,16cには、表示パネル12を駆動制御する表示制御部(図示せず)との電気的な接続を図るべく、複数(例えば、3つ)の中継基板17a,17b,17cが実装されている。中継基板17a,17b,17cは、例えばフレキシブル回路基板(FPC)であって、その表面に表示パネル12を駆動する駆動回路の一部を構成する、例えばドライバーICなどの電子部品を実装したものも採用することができる。   The three terminal portions 16a, 16b, and 16c formed of a plurality of terminals provided along the long side of the display panel 12 are electrically connected to a display control unit (not shown) that drives and controls the display panel 12. In order to achieve this, a plurality of (for example, three) relay boards 17a, 17b, and 17c are mounted. The relay boards 17a, 17b, and 17c are, for example, flexible circuit boards (FPC), and have a surface on which an electronic component such as a driver IC that constitutes a part of a drive circuit that drives the display panel 12 is mounted. Can be adopted.

図2に示すように、有機EL装置11の表示部13は、中継基板17aが実装された表示パネル12を樹脂フィルム21と樹脂フィルム22との間に挟んでラミネートされた構造となっている。   As shown in FIG. 2, the display unit 13 of the organic EL device 11 has a structure in which the display panel 12 on which the relay substrate 17 a is mounted is sandwiched between a resin film 21 and a resin film 22.

表示パネル12は、画素14ごとに対応して設けられた電気光学素子としての有機エレクトロルミネッセンス素子23(以降、「有機EL素子23」と称する)を有する第1基板31と、同じく画素14ごとに対応して設けられた着色層を具備するカラーフィルター24を有する第2基板32とを、可視光透過性を有する封止樹脂25を介してシール材26により接合したものである。有機EL素子23は白色光を発するものであり、白色光がカラーフィルター24を透過して第2基板32側から射出することにより、カラー表示を可能とする所謂トップエミッション構造となっている。   The display panel 12 includes a first substrate 31 having an organic electroluminescence element 23 (hereinafter, referred to as “organic EL element 23”) as an electro-optic element provided corresponding to each pixel 14, and also for each pixel 14. A second substrate 32 having a color filter 24 having a colored layer provided corresponding thereto is joined by a sealing material 26 with a sealing resin 25 having visible light permeability. The organic EL element 23 emits white light, and has a so-called top emission structure that enables color display when the white light passes through the color filter 24 and is emitted from the second substrate 32 side.

第1基板31には、画素14ごとに有機EL素子23を駆動するための駆動回路(図示せず)が設けられており、有機EL素子23は駆動回路上に形成されている。駆動回路は薄膜トランジスターなどのスイッチング素子やこれに繋がる配線等を含むものであって、公知の構成を採用することができる。   The first substrate 31 is provided with a drive circuit (not shown) for driving the organic EL element 23 for each pixel 14, and the organic EL element 23 is formed on the drive circuit. The driving circuit includes a switching element such as a thin film transistor, wiring connected to the switching element, and the like, and a known configuration can be adopted.

このように、有機EL素子23を有する自発光型の表示パネル12において、第1基板31は透明なガラス基板または、例えば不透明なシリコン基板を用いることができる。一方、有機EL素子23からの発光が取り出される側の第2基板32は透明なガラス基板を用いる。   Thus, in the self-luminous display panel 12 having the organic EL element 23, the first substrate 31 can be a transparent glass substrate or an opaque silicon substrate, for example. On the other hand, a transparent glass substrate is used as the second substrate 32 on the side from which light emission from the organic EL element 23 is extracted.

本実施形態では、第1基板31と第2基板32とを接合した後に、その表面を機械的または化学的な研磨を施すことにより、それぞれの基板の厚みを薄くする加工が施されている。例えば、それぞれの基板の元の厚みは、およそ0.5mmである。そして、加工後の総厚がおよそ100μm以下(例えば、80μm程度)となるように研磨されている。したがって、表示パネル12自体がある程度の可撓性を有する構成となっている。   In this embodiment, after joining the 1st board | substrate 31 and the 2nd board | substrate 32, the process which makes the thickness of each board | substrate thin is performed by giving the surface mechanically or chemically. For example, the original thickness of each substrate is approximately 0.5 mm. And it grind | polishes so that the total thickness after a process may be set to about 100 micrometers or less (for example, about 80 micrometers). Therefore, the display panel 12 itself has a certain degree of flexibility.

よって、表示パネル12自体では外部からの衝撃に対して弱い、また衝撃で破損したときの飛散を防ぐ必要がある。また、有機EL素子23を封着した密封構造とし、外部からの水分等の浸入を防ぎ、より長い発光寿命を確保したいなどの理由から、同じく可撓性を有する樹脂フィルム21,22でラミネートしている。   Therefore, it is necessary for the display panel 12 itself to be weak against an external impact and to prevent scattering when it is damaged by the impact. In addition, the organic EL element 23 is sealed to prevent the intrusion of moisture or the like from the outside, and is laminated with the flexible resin films 21 and 22 for the purpose of ensuring a longer light emission life. ing.

ラミネートに用いられる樹脂フィルム21は、ガス透過性が低い透明な基材フィルム21aの一方の表面に接着剤を均一に塗布して形成された接着層21bを有する。同様に樹脂フィルム22は、ガス透過性が低い透明な基材フィルム22aの一方の表面に透明な接着剤を均一に塗布して形成された接着層22bを有する。   The resin film 21 used for laminating has an adhesive layer 21b formed by uniformly applying an adhesive on one surface of a transparent base film 21a having low gas permeability. Similarly, the resin film 22 has an adhesive layer 22b formed by uniformly applying a transparent adhesive on one surface of a transparent base film 22a having low gas permeability.

基材フィルム21a,22aとしては、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムやポリカーボネートフィルムなどが挙げられる。接着層21b,22bは、例えば、熱硬化型のエポキシ樹脂を用いることができる。また、粘着性を有する粘着剤としてもよい。粘着剤を用いればリペア性を実現できる。   Examples of the base films 21a and 22a include a PET (polyethylene terephthalate) film and a polycarbonate film. For the adhesive layers 21b and 22b, for example, a thermosetting epoxy resin can be used. Moreover, it is good also as an adhesive which has adhesiveness. Repair properties can be realized by using an adhesive.

接着層21b,22bが相対するように表示パネル12を挟んで2つの樹脂フィルム21,22によりラミネートする。また、有機EL素子23の防湿性、言い換えれば封止性を確保するために、ラミネート時に表示パネル12の周辺に発生するおそれがある空間27,28を封止樹脂により埋めた構造となっている。すなわち、封止樹脂と一緒に表示パネル12を挟んでラミネートしており、はみ出した封止樹脂の一部29が樹脂フィルム21,22の端面に盛り上がった状態となっている。   Lamination is performed with two resin films 21 and 22 with the display panel 12 sandwiched so that the adhesive layers 21b and 22b face each other. Further, in order to ensure moisture resistance of the organic EL element 23, in other words, sealing performance, spaces 27 and 28 that may be generated around the display panel 12 during lamination are filled with a sealing resin. . That is, the display panel 12 is laminated together with the sealing resin, and a part 29 of the protruding sealing resin is raised on the end surfaces of the resin films 21 and 22.

第2基板32には、第1基板31の端子部16aを露出させる開口部71aが設けられている。第1基板31の端子部16aには、異方性導電膜(ACF)33が配設され、第2基板32の上記開口部71aを介して中継基板17aが実装されている。中継基板17aの接続部を除く表面は絶縁性を有する、例えばポリイミドやソルダーレジストなどの保護膜で覆われており、樹脂フィルム21,22の接着層21b,22bと上記保護膜との接着性を確保するために、双方の界面に接着性を示す中間接着層34,35が設けられている。   The second substrate 32 is provided with an opening 71 a that exposes the terminal portion 16 a of the first substrate 31. An anisotropic conductive film (ACF) 33 is disposed on the terminal portion 16 a of the first substrate 31, and the relay substrate 17 a is mounted through the opening 71 a of the second substrate 32. The surface excluding the connection portion of the relay substrate 17a is insulative and is covered with a protective film such as polyimide or solder resist, for example, and the adhesion between the adhesive layers 21b and 22b of the resin films 21 and 22 and the protective film is improved. In order to ensure, intermediate adhesive layers 34 and 35 showing adhesiveness are provided at both interfaces.

このような構成の表示部13は所謂シート状(板状)であって、外部応力にある程度追随して表示面を湾曲させることができる。   The display unit 13 having such a configuration is a so-called sheet shape (plate shape), and the display surface can be curved by following external stress to some extent.

なお、表示パネル12がトップエミッション構造の有機EL素子23を有しているため、第1基板31側から光を取り出す必要がない。したがって、第1基板31側を覆う樹脂フィルム22は透明性を有する必要はなく、ラミネートが可能な金属薄膜などの熱伝導体を備えた不透明な樹脂フィルムでもよい。熱伝導体により有機EL素子23の発光に伴う発熱を放熱することが可能となる。   Since the display panel 12 includes the organic EL element 23 having a top emission structure, it is not necessary to extract light from the first substrate 31 side. Therefore, the resin film 22 covering the first substrate 31 does not have to be transparent, and may be an opaque resin film provided with a heat conductor such as a metal thin film that can be laminated. The heat conductor can dissipate heat generated by the light emission of the organic EL element 23.

図3は、有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、有機EL装置の電気的な構成を、図3を参照しながら説明する。   FIG. 3 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of the organic EL device. Hereinafter, the electrical configuration of the organic EL device will be described with reference to FIG.

図3に示すように、有機EL装置11は、複数の走査線41と、走査線41に対して交差する方向に延びる複数の信号線42と、信号線42に並行に延びる複数の電源線43とが、それぞれ格子状に配線されている。そして、走査線41と信号線42とにより区画された領域が画素領域として構成されている。信号線42は、信号線駆動回路44に接続されている。また、走査線41は、走査線駆動回路45に接続されている。   As shown in FIG. 3, the organic EL device 11 includes a plurality of scanning lines 41, a plurality of signal lines 42 extending in a direction intersecting the scanning lines 41, and a plurality of power supply lines 43 extending in parallel to the signal lines 42. Are wired in a grid pattern. An area partitioned by the scanning line 41 and the signal line 42 is configured as a pixel area. The signal line 42 is connected to the signal line drive circuit 44. The scanning line 41 is connected to the scanning line driving circuit 45.

各画素領域には、走査線41を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT(Thin Film Transistor)46と、このスイッチング用TFT46を介して信号線42から供給される画素信号を保持する保持容量47と、保持容量47によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用TFT48(以下、「TFT素子48」と称する。)とが設けられている。更に、各画素領域には、TFT素子48を介して電源線43に電気的に接続したときに、電源線43から駆動電流が流れ込む陽極51と、陰極52と、この陽極51と陰極52との間に挟持された機能層53とが設けられている。   Each pixel region holds a switching TFT (Thin Film Transistor) 46 to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 41 and a pixel signal supplied from the signal line 42 via the switching TFT 46. A holding capacitor 47 and a driving TFT 48 (hereinafter referred to as “TFT element 48”) to which a pixel signal held by the holding capacitor 47 is supplied to the gate electrode are provided. Further, in each pixel region, when electrically connected to the power supply line 43 via the TFT element 48, an anode 51 and a cathode 52 into which a drive current flows from the power supply line 43, and the anode 51 and the cathode 52 are connected. A functional layer 53 sandwiched therebetween is provided.

有機EL装置11は、陽極51と陰極52と機能層53とにより構成される有機EL素子23を複数備えている。また、有機EL装置11は、複数の有機EL素子23で構成される表示領域を備えている。   The organic EL device 11 includes a plurality of organic EL elements 23 including an anode 51, a cathode 52, and a functional layer 53. The organic EL device 11 includes a display area composed of a plurality of organic EL elements 23.

この構成によれば、走査線41が駆動されてスイッチング用TFT46がオン状態になると、そのときの信号線42の電位が保持容量47に保持され、保持容量47の状態に応じて、TFT素子48のオン・オフ状態が決まる。そして、TFT素子48のチャネルを介して、電源線43から陽極51に電流が流れ、更に、機能層53を介して陰極52に電流が流れる。機能層53は、ここを流れる電流量に応じた輝度で発光する。   According to this configuration, when the scanning line 41 is driven and the switching TFT 46 is turned on, the potential of the signal line 42 at that time is held in the holding capacitor 47, and the TFT element 48 depends on the state of the holding capacitor 47. ON / OFF state is determined. Then, a current flows from the power supply line 43 to the anode 51 through the channel of the TFT element 48, and further a current flows to the cathode 52 through the functional layer 53. The functional layer 53 emits light with a luminance corresponding to the amount of current flowing therethrough.

図4は、有機EL装置を構成する表示パネルの構造を示す模式断面図である。以下、表示パネルの構造を、図4を参照しながら説明する。なお、構成をわかりやすく示すため、各構成要素の層厚や寸法の比率、角度等は適宜異ならせてある。   FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the display panel constituting the organic EL device. Hereinafter, the structure of the display panel will be described with reference to FIG. In addition, in order to show the configuration in an easy-to-understand manner, the layer thickness, dimensional ratio, angle, and the like of each component are appropriately changed.

図4に示すように、本実施形態における表示パネル12は、機能層53で発する光を陰極52側から射出させる、いわゆるトップエミッション構造である。この表示パネル12は、第1基板31と、第1基板31に対向配置された第2基板32とを有する。   As shown in FIG. 4, the display panel 12 in this embodiment has a so-called top emission structure in which light emitted from the functional layer 53 is emitted from the cathode 52 side. The display panel 12 includes a first substrate 31 and a second substrate 32 disposed to face the first substrate 31.

第1基板31としては、ガラス基板等が挙げられる。本実施形態では、第1基板31の材料として無アルカリガラスを用いている。第1基板31の厚さは、例えば、30μm程度である。本実施形態では、第1基板31は、材料として厚さが、例えば、0.5mm程度のガラス基板を用い、第2基板32と接着された後にエッチングにより上述の厚さに加工される。   Examples of the first substrate 31 include a glass substrate. In the present embodiment, non-alkali glass is used as the material of the first substrate 31. The thickness of the first substrate 31 is, for example, about 30 μm. In the present embodiment, a glass substrate having a thickness of, for example, about 0.5 mm is used as the material of the first substrate 31, and after being bonded to the second substrate 32, the first substrate 31 is processed to the above-described thickness by etching.

なお、表示パネル12がトップエミッション型であることから、第1基板31の材料として、光透過性を有する材料および光透過性を有していない材料のいずれを用いてもよい。   In addition, since the display panel 12 is a top emission type, as the material of the first substrate 31, either a light transmissive material or a non-light transmissive material may be used.

第1基板31上には、回路素子層61が設けられている。回路素子層61は、下地保護膜(図示せず)やTFT素子48、配線等を含んでいる。TFT素子48は、画素14に対応して設けられている。   A circuit element layer 61 is provided on the first substrate 31. The circuit element layer 61 includes a base protective film (not shown), a TFT element 48, wiring, and the like. The TFT element 48 is provided corresponding to the pixel 14.

回路素子層61上には、平坦化層62が設けられている。平坦化層62は、TFT素子48や配線等による表面の凹凸を緩和している。平坦化層62には、陽極51に平面的に重なるように、反射層63が内装されている。反射層63は、光反射性を有する金属材料等からなり、例えばアルミニウム合金等からなる。   A planarizing layer 62 is provided on the circuit element layer 61. The flattening layer 62 relaxes unevenness on the surface due to the TFT element 48 and wiring. The planarizing layer 62 includes a reflective layer 63 so as to overlap the anode 51 in a planar manner. The reflective layer 63 is made of a metal material having light reflectivity, and is made of, for example, an aluminum alloy.

平坦化層62上には、陽極51が設けられている。陽極51は、例えば、ITO(Indium Thin Oxide:インジウム錫酸化物)等の光透過性を有する金属酸化物導電膜からなる。陽極51の材料は、IZO(Indium Zinc Oxide)(登録商標)であってもよい。陽極51は、画素14毎に回路素子層61のTFT素子48のドレイン端子と電気的に接続されている。   An anode 51 is provided on the planarization layer 62. The anode 51 is made of a metal oxide conductive film having optical transparency such as ITO (Indium Thin Oxide). The material of the anode 51 may be IZO (Indium Zinc Oxide) (registered trademark). The anode 51 is electrically connected to the drain terminal of the TFT element 48 of the circuit element layer 61 for each pixel 14.

なお、表示パネル12がトップエミッション型であることから、陽極51の材料は必ずしも光透過性を有していなくてもよい。例えば、アルミニウム等からなる金属電極を用いるようにしてもよい。また、陽極51の材料として光透過性を有していない材料を用いる場合は、反射層63は設けなくてよい。   In addition, since the display panel 12 is a top emission type, the material of the anode 51 does not necessarily have light transmittance. For example, a metal electrode made of aluminum or the like may be used. In addition, when a material that does not have optical transparency is used as the material of the anode 51, the reflective layer 63 need not be provided.

また、平坦化層62上には、隔壁64が設けられている。隔壁64は、例えば、アクリル樹脂等からなり、画素14の領域を区画している。   A partition wall 64 is provided on the planarization layer 62. The partition wall 64 is made of, for example, acrylic resin and partitions the region of the pixel 14.

陽極51及び隔壁64上には、機能層53が設けられている。本実施形態の機能層53は、正孔注入層と、正孔輸送層と、発光層と、電子輸送層とが順に積層されて構成されている(図4では、1層で図示)。正孔注入層は、例えば、トリアリールアミン(ATP)多量体で形成されている。正孔輸送層は、例えば、トリフェニルアミン誘導体(TPD)で形成されている。   A functional layer 53 is provided on the anode 51 and the partition wall 64. The functional layer 53 of the present embodiment is configured by sequentially stacking a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer (in FIG. 4, one layer is illustrated). The hole injection layer is formed of, for example, a triarylamine (ATP) multimer. The hole transport layer is made of, for example, a triphenylamine derivative (TPD).

発光層の発光色は白色である。白色発光材料としては、スチリルアミン系発光材料、アントラセン系ドーパミント(青色)、あるいはスチリルアミン系発光材料、ルブレン系ドーパミント(黄色)等が用いられる。電子輸送層は、例えばアルミニウムキノリノール錯体(Alq3)で形成されている。機能層53の各層は、例えば、真空蒸着法を用いて順次形成される。   The emission color of the light emitting layer is white. As the white light-emitting material, styrylamine-based light-emitting material, anthracene-based dopamine (blue), styrylamine-based light-emitting material, rubrene-based dopamine (yellow), or the like is used. The electron transport layer is formed of, for example, an aluminum quinolinol complex (Alq3). Each layer of the functional layer 53 is sequentially formed using, for example, a vacuum deposition method.

機能層53上には、陰極52が設けられている。陰極52は、本実施形態のようにトップエミッション構造である場合、光透過性を有する材料である、例えば、ITO等の透明導電材料が用いられる。また、陰極52は、マグネシウムと銀との合金(Mg−Ag合金)で構成するようにしてもよい。なお、陰極52の下層に、フッ化リチウム(LiF)等からなる電子注入バッファー層が設けられていてもよい。   A cathode 52 is provided on the functional layer 53. When the cathode 52 has a top emission structure as in the present embodiment, a transparent conductive material such as ITO, which is a material having optical transparency, is used. Moreover, you may make it comprise the cathode 52 with the alloy (Mg-Ag alloy) of magnesium and silver. An electron injection buffer layer made of lithium fluoride (LiF) or the like may be provided below the cathode 52.

陰極52及び隔壁64上には、電極保護層65が設けられている。電極保護層65は、光透過性、密着性、耐水性、ガスバリアー性等を考慮して、例えば、珪素酸化物や珪素酸窒化物等の珪素化合物で構成される。また、電極保護層65の厚さは100nm以上が好ましく、隔壁64を被覆することで発生する応力によるクラック発生を防ぐため、厚さの上限は200nm以下とすることが好ましい。電極保護層65は、PVD(物理気相成長法)、CVD(化学気相成長法)、またはイオンプレーティング法等を用いて形成される。   An electrode protective layer 65 is provided on the cathode 52 and the partition wall 64. The electrode protective layer 65 is made of, for example, a silicon compound such as silicon oxide or silicon oxynitride in consideration of light transmittance, adhesion, water resistance, gas barrier properties, and the like. Moreover, the thickness of the electrode protective layer 65 is preferably 100 nm or more, and the upper limit of the thickness is preferably 200 nm or less in order to prevent the occurrence of cracks due to the stress generated by covering the partition walls 64. The electrode protective layer 65 is formed using PVD (physical vapor deposition), CVD (chemical vapor deposition), ion plating, or the like.

電極保護層65上には、有機緩衝層66が形成されている。この有機緩衝層66は、隔壁64の形状の影響により凹凸状に形成された電極保護層65の凹凸部分を埋めるように設けられ、その上面は略平坦に形成される。   An organic buffer layer 66 is formed on the electrode protective layer 65. The organic buffer layer 66 is provided so as to fill the uneven portion of the electrode protection layer 65 formed in an uneven shape due to the influence of the shape of the partition wall 64, and the upper surface thereof is formed substantially flat.

有機緩衝層66としては、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂等からなる。有機緩衝層66は、第1基板31及び回路素子層61等の反りや堆積膨張により発生する応力を緩和し、不安定な形状の隔壁64から電極保護層65が剥離することを防止する機能を有する。   The organic buffer layer 66 is made of, for example, a thermosetting epoxy resin. The organic buffer layer 66 has a function of relieving stress generated by warping or deposition expansion of the first substrate 31 and the circuit element layer 61 and preventing the electrode protective layer 65 from peeling from the unstable partition wall 64. Have.

また、有機緩衝層66の上面が略平坦化されるので、有機緩衝層66上に形成される硬い被膜からなる後述するガスバリアー層67も平坦化される。したがって、応力が集中する部位がなくなり、これにより、ガスバリアー層67でのクラックの発生を防止する。   Further, since the upper surface of the organic buffer layer 66 is substantially flattened, a gas barrier layer 67, which will be described later, made of a hard film formed on the organic buffer layer 66 is also flattened. Therefore, there is no portion where stress is concentrated, and thereby, the generation of cracks in the gas barrier layer 67 is prevented.

有機緩衝層66の厚さは、3μm〜5μm程度が好ましい。有機緩衝層66は、例えば、真空スクリーン印刷法、スリットコート法、インクジェット法等を用いて形成される。   The thickness of the organic buffer layer 66 is preferably about 3 μm to 5 μm. The organic buffer layer 66 is formed using, for example, a vacuum screen printing method, a slit coating method, an ink jet method, or the like.

有機緩衝層66上には、有機緩衝層66を被覆し、かつ電極保護層65の終端部まで覆うような広い範囲で、ガスバリアー層67が形成されている。ガスバリアー層67は、酸素や水分が浸入するのを防止するためのもので、これにより酸素や水分による有機EL素子23の劣化等を抑えることができる。ガスバリアー層67は、透明性、ガスバリアー性、耐水性を考慮して、好ましくは窒素を含む珪素化合物、すなわち珪素窒化物や珪素酸窒化物などによって形成される。なお、本実施形態では、第1基板31からガスバリアー層67までを、「素子基板36」と称する。また、第2基板32とカラーフィルター24とを合わせて、「封止基板37」と称する。   On the organic buffer layer 66, a gas barrier layer 67 is formed in a wide range so as to cover the organic buffer layer 66 and cover the terminal portion of the electrode protective layer 65. The gas barrier layer 67 is for preventing intrusion of oxygen and moisture, thereby suppressing deterioration of the organic EL element 23 due to oxygen and moisture. In consideration of transparency, gas barrier properties, and water resistance, the gas barrier layer 67 is preferably formed of a silicon compound containing nitrogen, that is, silicon nitride or silicon oxynitride. In the present embodiment, the first substrate 31 to the gas barrier layer 67 are referred to as “element substrate 36”. The second substrate 32 and the color filter 24 are collectively referred to as a “sealing substrate 37”.

素子基板36の有機EL素子23が形成された面側、すなわちガスバリアー層67が形成された面側には、封止基板37が対向して配置されている。封止基板37は、シール材26および封止樹脂25を介して、素子基板36のガスバリアー層67と接着されている。封止基板37を構成する第2基板32は、例えば、光透過性を有する無機ガラスからなる。本実施形態では、第2基板32の材料として無アルカリガラスを用いている。   On the surface side of the element substrate 36 on which the organic EL element 23 is formed, that is, on the surface side on which the gas barrier layer 67 is formed, a sealing substrate 37 is disposed so as to face. The sealing substrate 37 is bonded to the gas barrier layer 67 of the element substrate 36 through the sealing material 26 and the sealing resin 25. The second substrate 32 that constitutes the sealing substrate 37 is made of, for example, inorganic glass having optical transparency. In the present embodiment, non-alkali glass is used as the material of the second substrate 32.

第2基板32の厚さは、例えば、30μm程度である。表示パネル12では、第1基板31および第2基板32に、プラスチック基板に比べてガスバリアー性の高いガラス基板を用い、これらのガラス基板の厚さを薄くすることにより可撓性が付与されている。   The thickness of the second substrate 32 is, for example, about 30 μm. In the display panel 12, a glass substrate having a higher gas barrier property than the plastic substrate is used for the first substrate 31 and the second substrate 32, and flexibility is imparted by reducing the thickness of these glass substrates. Yes.

シール材26は、第1基板31と第2基板32との間の非表示領域に配置され、第1基板31(第2基板32)の外周に沿って枠状に設けられている。シール材26は、水分透過率が低い材料からなる。シール材26の材料としては、例えば、エポキシ系樹脂に硬化剤として酸無水物を添加し、促進剤としてシランカップリング剤を添加した高接着性の接着剤を用いることができる。   The sealing material 26 is disposed in a non-display area between the first substrate 31 and the second substrate 32, and is provided in a frame shape along the outer periphery of the first substrate 31 (second substrate 32). The sealing material 26 is made of a material having a low moisture permeability. As the material of the sealing material 26, for example, a highly adhesive adhesive in which an acid anhydride is added as a curing agent to an epoxy resin and a silane coupling agent is added as an accelerator can be used.

封止樹脂25は、素子基板36と封止基板37とシール材26とで囲まれた領域に隙間なく充填されるように設けられている。封止樹脂25は、例えば、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系等の光透光性の高い樹脂からなる。耐熱性や耐水性を考慮すると、封止樹脂25の材料として、エポキシ系樹脂を用いることが好ましい。   The sealing resin 25 is provided so as to fill the region surrounded by the element substrate 36, the sealing substrate 37, and the sealing material 26 without any gap. The sealing resin 25 is made of a highly light-transmitting resin such as acrylic, epoxy, or urethane. In view of heat resistance and water resistance, it is preferable to use an epoxy resin as the material of the sealing resin 25.

カラーフィルター24は、第2基板32の有機EL素子23側に設けられている。カラーフィルター24は、赤色(R)光に対応するカラーフィルター24Rと、緑色(G)光に対応するカラーフィルター24Gと、青色(B)光に対応するカラーフィルター24Bとを有している(対応する色を区別しない場合には単にカラーフィルター24とも呼ぶ)。カラーフィルター24は、平面視で有機EL素子23に重なるように設けられている。   The color filter 24 is provided on the organic EL element 23 side of the second substrate 32. The color filter 24 includes a color filter 24R corresponding to red (R) light, a color filter 24G corresponding to green (G) light, and a color filter 24B corresponding to blue (B) light. If the colors to be used are not distinguished, they are also simply called color filters 24). The color filter 24 is provided so as to overlap the organic EL element 23 in plan view.

カラーフィルター24R,24G,24Bを区画するように、遮光層68が設けられている。遮光層68は、隔壁64に対応するように配置されている。遮光層68は、遮光性を有する材料からなり、例えばCr(クロム)等からなる。なお、カラーフィルター24と遮光層68とを覆うように、オーバーコート層が設けられていてもよい。   A light shielding layer 68 is provided so as to partition the color filters 24R, 24G, and 24B. The light shielding layer 68 is disposed so as to correspond to the partition wall 64. The light shielding layer 68 is made of a material having a light shielding property, and is made of, for example, Cr (chromium). An overcoat layer may be provided so as to cover the color filter 24 and the light shielding layer 68.

表示パネル12は、赤色光を射出する画素14Rと、緑色光を射出する画素14Gと、青色光を射出する画素14Bとを有している(対応する色を区別しない場合には単に画素14とも呼ぶ)。カラーフィルター24R,24G,24Bは、画素14R,14G,14Bに対応して配置されている。   The display panel 12 includes a pixel 14R that emits red light, a pixel 14G that emits green light, and a pixel 14B that emits blue light. Call). The color filters 24R, 24G, 24B are arranged corresponding to the pixels 14R, 14G, 14B.

有機EL素子23により発せられる白色光がカラーフィルター24R,24G,24Bを透過することで、画素14R,14G,14BにおいてR、G、Bの3つの異なる色の光が射出される。画素14R,14G,14Bから一つの画素群が構成され、それぞれの画素群において画素14R,14G,14Bのそれぞれの輝度を適宜変えることで、種々の色の表示を行うことができる。したがって、フルカラー表示またはフルカラー発光が可能な表示パネルを提供できる。   The white light emitted by the organic EL element 23 passes through the color filters 24R, 24G, and 24B, so that light of three different colors R, G, and B is emitted from the pixels 14R, 14G, and 14B. One pixel group is configured by the pixels 14R, 14G, and 14B, and various colors can be displayed by appropriately changing the luminance of the pixels 14R, 14G, and 14B in each pixel group. Therefore, a display panel capable of full color display or full color light emission can be provided.

表示パネル12では、機能層53から陰極52側に発せられた光は、観察側に射出される。また、機能層53から陽極51側に発せられた光は、反射層63により反射されて、観察側に射出される。   In the display panel 12, light emitted from the functional layer 53 to the cathode 52 side is emitted to the observation side. Further, the light emitted from the functional layer 53 to the anode 51 side is reflected by the reflective layer 63 and emitted to the observation side.

<電気光学パネルの構造>
図5は、有機EL装置を構成する電気光学パネルとしての表示パネルの構造を示す模式平面図である。図6は、図5に示す表示パネルのB−B'線に沿う模式断面図である。以下、表示パネルの構成を、図5及び図6を参照しながら説明する。
<Structure of electro-optical panel>
FIG. 5 is a schematic plan view showing a structure of a display panel as an electro-optical panel constituting the organic EL device. 6 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB ′ of the display panel shown in FIG. Hereinafter, the configuration of the display panel will be described with reference to FIGS.

図5及び図6に示すように、表示パネル12は、略同じ大きさの第1基板31と第2基板32とが、シール材26を介して貼り合わされている。シール材26は、表示領域15の周囲を囲むように設けられている。更に、シール材26は、端子部16(16a,16b,16c)の周囲を囲むように設けられている。言い換えれば、一対の基板(第1基板31、第2基板32)間は、表示領域15及び端子部16の領域以外、シール材26が設けられていることになる。   As shown in FIGS. 5 and 6, in the display panel 12, a first substrate 31 and a second substrate 32 having substantially the same size are bonded to each other via a seal material 26. The sealing material 26 is provided so as to surround the display area 15. Furthermore, the sealing material 26 is provided so as to surround the periphery of the terminal portion 16 (16a, 16b, 16c). In other words, the sealing material 26 is provided between the pair of substrates (the first substrate 31 and the second substrate 32) except for the display region 15 and the terminal portion 16 region.

上述したように、第1基板31の一端側には、第1端子部16aと、第2端子部16bと、第3端子部16cとが設けられている。そして、第2基板32における各端子部16a〜16cと平面的に重なる領域には、端子部16a〜16cの領域を囲むように開口する開口部としての開口孔71(71a,71b,71c)が設けられている。つまり、第2基板32側から平面視した場合、第1基板31に設けられた各端子部16a〜16cが露出するようになっている。これにより、各端子部16a〜16cは、開口孔71a〜71cを介して中継基板17a〜17cと接続することが可能となっている。   As described above, the first terminal portion 16a, the second terminal portion 16b, and the third terminal portion 16c are provided on one end side of the first substrate 31. And in the area | region which planarly overlaps each terminal part 16a-16c in the 2nd board | substrate 32, the opening hole 71 (71a, 71b, 71c) as an opening part opened so that the area | region of terminal part 16a-16c may be enclosed. Is provided. That is, when viewed in plan from the second substrate 32 side, the terminal portions 16a to 16c provided on the first substrate 31 are exposed. Thereby, each terminal part 16a-16c can be connected with the relay boards 17a-17c via the opening holes 71a-71c.

このように、第2基板32が第1基板31と略同じ大きさで構成されており、シール材26が表示領域15の周囲に加えて端子部16a〜16cの周囲にも設けられている。つまり、一対の基板31,32間の周囲にシール材26が設けられているので、シール材26が表示領域15の周囲のみ、かつ、第1基板31上の端子部16の領域が第2基板32の端面から張り出している場合と比較して、表示パネル12の強度を向上させることができる。特に、表示パネル12における端子部16が設けられている領域のコーナー部72a,72bの強度を向上させることができる。   As described above, the second substrate 32 is configured to have substantially the same size as the first substrate 31, and the sealing material 26 is provided around the terminal portions 16 a to 16 c in addition to the periphery of the display region 15. That is, since the sealing material 26 is provided around the pair of substrates 31 and 32, the sealing material 26 is only around the display region 15, and the region of the terminal portion 16 on the first substrate 31 is the second substrate. The strength of the display panel 12 can be improved as compared with the case of projecting from the end face of 32. In particular, the strength of the corner portions 72a and 72b in the region where the terminal portion 16 of the display panel 12 is provided can be improved.

また、シール材26は、第1基板31と第2基板32との間において、各基板31,32の端面まで設けられていることが望ましい。端面までシール材26が設けられていることにより、基板31,32間に隙間が発生しないことから、不純物などが表示領域15などに入り込むことを抑えることができる。   In addition, the sealing material 26 is preferably provided up to the end surfaces of the substrates 31 and 32 between the first substrate 31 and the second substrate 32. Since the sealing material 26 is provided up to the end surface, no gap is generated between the substrates 31 and 32, so that impurities or the like can be prevented from entering the display region 15 or the like.

以上詳述したように、第1実施形態の有機EL装置11によれば、以下に示す効果が得られる。   As described above in detail, according to the organic EL device 11 of the first embodiment, the following effects can be obtained.

(1)第1実施形態によれば、第2基板32において端子部16a〜16cと平面的に重なる領域を含む周囲に開口孔71a〜71cが設けられているので、端子部16を有する第1基板31に第2基板32を重ねたとしても、端子部16a〜16cに中継基板17a〜17cを接続することができる。また、表示領域15の周囲に加えて、端子部16a〜16cの周囲にシール材26を設けることにより、端子部16の周辺の強度を向上させることができる。   (1) According to the first embodiment, since the opening holes 71a to 71c are provided around the second substrate 32 including the area overlapping the terminal portions 16a to 16c in plan view, the first substrate having the terminal portion 16 is provided. Even if the second substrate 32 is stacked on the substrate 31, the relay substrates 17a to 17c can be connected to the terminal portions 16a to 16c. In addition to the periphery of the display region 15, the strength of the periphery of the terminal portion 16 can be improved by providing the sealing material 26 around the terminal portions 16 a to 16 c.

(2)第1実施形態によれば、第1基板31と第2基板32の大きさが同じ大きさなので、第1基板31が端子部16の領域分、第2基板32よりはみ出す場合に比べて、接合後の端子部16の領域においてコーナー部72a,72bや端面の強度を向上させることができる。   (2) According to the first embodiment, since the size of the first substrate 31 and the second substrate 32 is the same, compared to the case where the first substrate 31 protrudes from the second substrate 32 by the region of the terminal portion 16. Thus, the strength of the corner portions 72a and 72b and the end face can be improved in the region of the terminal portion 16 after joining.

(3)第1実施形態によれば、表示パネル12が樹脂フィルム21,22でラミネートされているので、表示パネル12の強度を補強することができる。また、樹脂フィルム21,22でラミネートされているので、表示パネル12が破損した場合の破材が飛び散ることを防ぐことができる。   (3) According to the first embodiment, since the display panel 12 is laminated with the resin films 21 and 22, the strength of the display panel 12 can be reinforced. Moreover, since it laminates with the resin films 21 and 22, it can prevent that the broken material scatters when the display panel 12 is damaged.

(第2実施形態)
<電気光学装置の製造方法>
図7は、電気光学装置の製造方法としての有機EL装置の製造方法を示すフローチャートである。図8〜図10は、有機EL装置の製造方法の一部を示す模式平面図である。図11は、有機EL装置の製造方法の一部を示す模式図である。以下、有機EL装置の製造方法を、図7〜図11を参照しながら説明する。なお、本実施形態では、マザー基板から1つの表示パネルを切り出す方法を説明する。
(Second Embodiment)
<Method of manufacturing electro-optical device>
FIG. 7 is a flowchart showing a method for manufacturing an organic EL device as a method for manufacturing an electro-optical device. 8 to 10 are schematic plan views illustrating a part of the method for manufacturing the organic EL device. FIG. 11 is a schematic view illustrating a part of the method for manufacturing the organic EL device. Hereinafter, a method for manufacturing the organic EL device will be described with reference to FIGS. In the present embodiment, a method for cutting out one display panel from a mother substrate will be described.

図7に示すように、ステップS11では、第1基板31上に画素14を形成する。詳しくは、図4に示すように、第1基板31上に、回路素子層61、隔壁64、陽極51、発光層を含む機能層53、陰極52等を形成する。なお、図4においては、これらの構成要素のいくつかを省略して描いている。   As shown in FIG. 7, in step S <b> 11, the pixel 14 is formed on the first substrate 31. Specifically, as shown in FIG. 4, a circuit element layer 61, a partition wall 64, an anode 51, a functional layer 53 including a light emitting layer, a cathode 52, and the like are formed on the first substrate 31. In FIG. 4, some of these components are omitted.

ステップS12では、第1基板31上の画素14に対して薄膜封止を行う(図4参照)。詳しくは、画素14を覆うようにして、電極保護層65、有機緩衝層66、ガスバリアー層67を形成する。この工程は、プラズマCVD法、スパッタ法、蒸着法、液滴吐出法、各種エッチング法等の種々の成膜方法、パターニング方法を用いて行うことができる。   In step S12, thin film sealing is performed on the pixels 14 on the first substrate 31 (see FIG. 4). Specifically, an electrode protective layer 65, an organic buffer layer 66, and a gas barrier layer 67 are formed so as to cover the pixels 14. This step can be performed using various film forming methods and patterning methods such as plasma CVD, sputtering, vapor deposition, droplet discharge, and various etching methods.

ステップS13(塗布工程)では、第1基板31上の画素14が形成された側にシール材26を形成する。具体的には、図8を参照しながら説明する。なお、上記した画素14などは、第1マザー基板12a’に形成されている。まず、図8に示すように、第1マザー基板12a’における表示領域15の周囲及び端子部16a〜16cの周囲にシール材26を塗布する。これにより、第1基板31となる領域の周囲全体に亘ってシール材26が塗布される。なお、図8における破線は、後に表示パネル12(第1基板31)となる外周形状を示している。   In step S13 (application process), the sealing material 26 is formed on the first substrate 31 on the side where the pixels 14 are formed. Specifically, this will be described with reference to FIG. The pixels 14 and the like described above are formed on the first mother substrate 12a '. First, as shown in FIG. 8, a sealing material 26 is applied around the display area 15 and around the terminal portions 16a to 16c in the first mother substrate 12a '. Thereby, the sealing material 26 is applied over the entire periphery of the region to be the first substrate 31. In addition, the broken line in FIG. 8 has shown the outer periphery shape used as the display panel 12 (1st board | substrate 31) later.

シール材26としては、例えば、エポキシの接着剤が用いられる。シール材26の形成方法としては、例えば、第1マザー基板12a’上に、ディスペンサー塗布法(スクリーン印刷法)等により、紫外線硬化性樹脂からなるシール材26を塗布することによって行う。また、シール材26にはスペーサーを混入させておく。   As the sealing material 26, for example, an epoxy adhesive is used. As a method for forming the sealing material 26, for example, the sealing material 26 made of an ultraviolet curable resin is applied onto the first mother substrate 12a 'by a dispenser application method (screen printing method) or the like. In addition, a spacer is mixed in the sealing material 26.

ステップS14では、第1マザー基板12a’上のシール材26で囲まれた領域(表示領域15)に、封止樹脂25を塗布する。詳しくは、第1マザー基板12a’上に、ディスペンサー塗布法又は液滴吐出法により熱硬化性樹脂からなる封止樹脂25を塗布することによって行う。また、封止樹脂25は、硬化後に透明となるものを用いる。以上により、素子基板36側が完成する。   In step S14, the sealing resin 25 is applied to the region (display region 15) surrounded by the sealing material 26 on the first mother substrate 12a '. In detail, the sealing resin 25 made of a thermosetting resin is applied on the first mother substrate 12a 'by a dispenser application method or a droplet discharge method. Further, as the sealing resin 25, a resin that becomes transparent after curing is used. Thus, the element substrate 36 side is completed.

ステップS21では、第2基板32が面付けされたマザー基板(第2マザーガラス基板)上にカラーフィルター24及び遮光層68を形成して、封止基板37側が完成する。   In step S21, the color filter 24 and the light shielding layer 68 are formed on the mother substrate (second mother glass substrate) on which the second substrate 32 is provided, and the sealing substrate 37 side is completed.

ステップS31(貼付工程)では、素子基板36(マザー基板)と封止基板37(マザー基板)とをシール材26及び封止樹脂25を介して貼り合わせる。詳しくは、減圧環境下において素子基板36と封止基板37との間でアライメント(位置合わせ)をした状態で接触、圧着させる。このとき、素子基板36と封止基板37とは、シール材26に含まれるスペーサーによって支持され、一定の間隔を有した状態で貼り合わされる。   In step S31 (sticking step), the element substrate 36 (mother substrate) and the sealing substrate 37 (mother substrate) are bonded together with the sealing material 26 and the sealing resin 25 interposed therebetween. Specifically, contact and pressure bonding are performed in a state where the element substrate 36 and the sealing substrate 37 are aligned (positioned) in a reduced pressure environment. At this time, the element substrate 36 and the sealing substrate 37 are supported by a spacer included in the sealing material 26 and are bonded together with a certain interval.

ステップS32では、シール材26を硬化させる。詳しくは、紫外線硬化性樹脂からなるシール材26に対し、封止基板37側から紫外線を照射することにより、シール材26を硬化させる。   In step S32, the sealing material 26 is cured. Specifically, the sealing material 26 is cured by irradiating the sealing material 26 made of an ultraviolet curable resin with ultraviolet rays from the sealing substrate 37 side.

ステップS33では、封止樹脂25を硬化させる。詳しくは、熱硬化性樹脂からなる封止樹脂25に対し熱処理を行うことにより、封止樹脂25を硬化させる。熱処理の方法としては、例えば、貼り合わせ後の素子基板36及び封止基板37を焼成炉内で加熱する方法を用いることができる。   In step S33, the sealing resin 25 is cured. Specifically, the sealing resin 25 is cured by performing a heat treatment on the sealing resin 25 made of a thermosetting resin. As a heat treatment method, for example, a method of heating the element substrate 36 and the sealing substrate 37 after bonding in a baking furnace can be used.

ステップS34では、第1基板31及び第2基板32をエッチングして、所定の厚さ、例えば、それぞれ30μm程度まで薄くする。エッチング液としては、例えば、フッ酸(フッ化水素酸)を希釈した水溶液を用いる。エッチング液は、塩酸、硫酸、硝酸、燐酸等の水溶液であってもよい。エッチング方法は、第1基板31および第2基板32をエッチング液に浸漬してもよいし、エッチング液をシャワー(吹き付け)してもよい。なお、この状態の基板を、表示パネル前駆体12aと称する。   In step S34, the first substrate 31 and the second substrate 32 are etched to reduce the thickness to a predetermined thickness, for example, about 30 μm. As the etchant, for example, an aqueous solution in which hydrofluoric acid (hydrofluoric acid) is diluted is used. The etching solution may be an aqueous solution of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, phosphoric acid or the like. In the etching method, the first substrate 31 and the second substrate 32 may be immersed in an etching solution, or the etching solution may be showered (sprayed). Note that the substrate in this state is referred to as a display panel precursor 12a.

ステップS35(切断工程)では、表示パネル前駆体12aを表示パネル12の形状に相当する切断ラインに沿って切断し個片化する(表示パネル12を切り出す)と共に、第2基板32における端子部16a〜16cと重なる領域の周囲を切断する。具体的には、図9を参照しながら説明する。まず、図9に示すように、表示パネル前駆体12aから表示パネル12となる外周形状に沿って切断する。切断する方法としては、例えば、レーザー切断法が用いられる。その後、第2基板32における、第1基板31に設けられた端子部16a〜16cと平面的に重なる領域の周囲を切断し、第1開口孔71a〜第3開口孔71cを形成する。   In step S35 (cutting step), the display panel precursor 12a is cut along a cutting line corresponding to the shape of the display panel 12 and separated into pieces (cut out the display panel 12), and the terminal portion 16a on the second substrate 32 is cut. Cut around the area that overlaps ~ 16c. Specifically, this will be described with reference to FIG. First, as shown in FIG. 9, it cut | disconnects along the outer periphery shape used as the display panel 12 from the display panel precursor 12a. As a cutting method, for example, a laser cutting method is used. Then, the circumference | surroundings of the area | region which overlaps planarly with the terminal parts 16a-16c provided in the 1st board | substrate 31 in the 2nd board | substrate 32 are cut | disconnected, and the 1st opening hole 71a-the 3rd opening hole 71c are formed.

レーザー切断法による切断条件は、例えば、次の通りである。レーザーは、UVレーザー(波長:266nm)である。また、光源は、エキシマレーザーである。周波数は50kHzである。レーザー出力は、1Wである。走査速度は、30mm/sである。なお、第2基板32における第1開口孔71a〜第3開口孔71cを切断する場合、レーザー出力は、例えば、0.75Wである。以上により、表示パネル前駆体12aから、図10に示すような表示パネル12が切り出される。   The cutting conditions by the laser cutting method are as follows, for example. The laser is a UV laser (wavelength: 266 nm). The light source is an excimer laser. The frequency is 50 kHz. The laser output is 1W. The scanning speed is 30 mm / s. In addition, when cut | disconnecting the 1st opening hole 71a-the 3rd opening hole 71c in the 2nd board | substrate 32, a laser output is 0.75W, for example. Thus, the display panel 12 as shown in FIG. 10 is cut out from the display panel precursor 12a.

このように、第1基板31上の表示領域15の周囲にシール材26を塗布すると共に、端子部16a〜16cの周囲の領域にもシール材26を塗布し、第1基板31と同じ大きさの第2基板32を貼り合わせるので、端子部16a〜16c周囲の領域を一対の基板31,32によって挟持することが可能となり、端子部16a〜16c周辺の強度を向上させることができる。   As described above, the sealing material 26 is applied around the display area 15 on the first substrate 31, and the sealing material 26 is applied also to the areas around the terminal portions 16 a to 16 c so as to have the same size as the first substrate 31. Since the second substrate 32 is bonded, the region around the terminal portions 16a to 16c can be held between the pair of substrates 31 and 32, and the strength around the terminal portions 16a to 16c can be improved.

ステップS36では、第1基板31に設けられた端子部16a,16b,16cに、中継基板17a,17b,17cを接続する(図1、図2参照)。詳述すると、端子部16a〜16cと中継基板17a〜17cとの接続は、第2基板32に形成された開口孔71a〜71cの中に異方性導電膜33を配置し、異方性導電膜33を介して行われる。   In step S36, the relay boards 17a, 17b, and 17c are connected to the terminal portions 16a, 16b, and 16c provided on the first board 31 (see FIGS. 1 and 2). More specifically, for connection between the terminal portions 16a to 16c and the relay substrates 17a to 17c, the anisotropic conductive film 33 is disposed in the opening holes 71a to 71c formed in the second substrate 32, and anisotropic conductive This is done via the membrane 33.

ステップS37(ラミネート工程)では、表示パネル12をラミネートする。具体的には、例えば、図11(a)に示すように、各部材を重ね合わせた状態とし、ラミネート装置75にセットする。詳しくは、樹脂フィルム22上に、表示パネル12と、樹脂フィルム21(いずれも図2参照)とを重ねてラミネート装置75にセットする。なお、図11では、ラミネート装置75の加圧ローラー76のみを図示している。   In step S37 (lamination step), the display panel 12 is laminated. Specifically, for example, as shown in FIG. 11A, the respective members are put in a stacked state and set in the laminating apparatus 75. Specifically, the display panel 12 and the resin film 21 (see FIG. 2) are stacked on the resin film 22 and set in the laminator 75. In FIG. 11, only the pressure roller 76 of the laminating apparatus 75 is illustrated.

次に、図11(b)に示すように、矢印で示す側から加圧し、80℃〜120℃の範囲で加熱して圧着する。加圧ローラー76に挟持された部分では、ローラーの熱によって樹脂フィルム21,22が溶解し、更に加圧されて相互に接着される。加熱圧着の方法は、ホットプレート型の並行板や一対の熱加圧ローラーを用いる方法が好ましい。また、真空圧着装置を用いてもよい。以上により、有機EL装置11が完成する。   Next, as shown in FIG.11 (b), it pressurizes from the side shown by the arrow, and it heats and crimps | bonds it in the range of 80 to 120 degreeC. In the portion sandwiched between the pressure rollers 76, the resin films 21 and 22 are melted by the heat of the rollers, and are further pressurized and bonded to each other. As a method of thermocompression bonding, a method using a hot plate type parallel plate or a pair of heat and pressure rollers is preferable. Further, a vacuum pressure bonding apparatus may be used. Thus, the organic EL device 11 is completed.

以上詳述したように、第2実施形態の有機EL装置11の製造方法によれば、以下に示す効果が得られる。   As described above in detail, according to the method for manufacturing the organic EL device 11 of the second embodiment, the following effects can be obtained.

(4)第2実施形態によれば、切断工程(ステップS35)において第2基板32における端子部16a〜16cと平面的に重なる領域を切断するので、貼り合わせ工程(ステップS31)によって端子部16を有する第1基板31に第2基板32を重ねたとしても、端子部16a〜16cに中継基板17a〜17cを接続することができる。また、シール材形成工程(ステップS13)によって表示領域15の周囲に加えて、端子部16a〜16cの周囲にシール材26を塗布するので、端子部16a〜16cの周辺の強度を向上させることができる。   (4) According to the second embodiment, in the cutting step (step S35), the region overlapping the terminal portions 16a to 16c in the second substrate 32 is cut, so that the terminal portion 16 is bonded by the bonding step (step S31). Even if the second substrate 32 is overlapped on the first substrate 31 having the above, the relay substrates 17a to 17c can be connected to the terminal portions 16a to 16c. Moreover, since the sealing material 26 is applied to the periphery of the terminal portions 16a to 16c in addition to the periphery of the display region 15 in the sealing material forming step (step S13), the strength of the periphery of the terminal portions 16a to 16c can be improved. it can.

(第3実施形態)
<電子機器>
図12は、本発明に係る表示パネルを備える電子機器の一例としてディスプレイと情報携帯端末の構成を模式的に示す概略斜視図である。以下、ディスプレイ及び情報携帯端末の構成を、図12を参照しながら説明する。
(Third embodiment)
<Electronic equipment>
FIG. 12 is a schematic perspective view schematically showing a configuration of a display and an information portable terminal as an example of an electronic apparatus including the display panel according to the present invention. Hereinafter, configurations of the display and the portable information terminal will be described with reference to FIG.

図12(a)に示すように、ディスプレイ81は、上記した第1実施形態の有機EL装置11を表示部である電子ペーパー82,83として用いたブック型のディスプレイである。このディスプレイ81には、本の綴じ代に相当する部分に、有機EL装置11の配線部に接続可能なコネクター(図示しない)を備えたヒンジ部84が設けられている。   As shown in FIG. 12A, the display 81 is a book-type display using the above-described organic EL device 11 of the first embodiment as electronic papers 82 and 83 which are display units. The display 81 is provided with a hinge portion 84 provided with a connector (not shown) that can be connected to the wiring portion of the organic EL device 11 at a portion corresponding to a book binding margin.

ヒンジ部84には、コネクターが回転軸を中心に回転可能に取り付けられており、接続された電子ペーパー82,83を通常の紙のように捲ることができる構成となっている。複数の電子ペーパー82,83がヒンジ部84に対して着脱可能に接続されていてもよい。これにより、(ルーズリーフのように)必要な枚数だけ電子ペーパー82,83を持ち運べるディスプレイ81を提供できる。   A connector is attached to the hinge portion 84 so as to be rotatable about a rotation axis, and the connected electronic paper 82 and 83 can be rolled like normal paper. A plurality of electronic papers 82 and 83 may be detachably connected to the hinge portion 84. Thereby, it is possible to provide a display 81 that can carry as many electronic papers 82 and 83 as necessary (like a loose leaf).

図12(b)に示すように、携帯情報端末(PDA:Personal Digital Assistants)91は、複数の操作ボタン92や表示部93を有する本体94を備えている。本体94は手のひらに収まる大きさであって、表示部93には、上記第1実施形態の電気光学装置としての有機EL装置11が搭載されている。複数の操作ボタン92を操作することにより、例えば住所録やスケジュール帳といった各種の情報を表示部93に表示することができる。薄型で自発光型の表示装置である有機EL装置11が搭載されているので、本体94をより薄型な構成とすることができる。すなわち、小型で薄型な携帯情報端末91を提供することができる。   As illustrated in FIG. 12B, a personal digital assistant (PDA) 91 includes a main body 94 having a plurality of operation buttons 92 and a display unit 93. The main body 94 has a size that fits in the palm of the hand, and the display unit 93 includes the organic EL device 11 as the electro-optical device of the first embodiment. By operating a plurality of operation buttons 92, various types of information such as an address book and a schedule book can be displayed on the display unit 93. Since the organic EL device 11 which is a thin and self-luminous display device is mounted, the main body 94 can be configured to be thinner. That is, a small and thin portable information terminal 91 can be provided.

また、表示パネル12が樹脂フィルム21,22により封着されているので、例えば、携帯情報端末91を誤って落としたとしても外部からの衝撃で表示パネル12が破損し難い。たとえ破損しても表示パネル12の破片が飛び散らない安全な携帯情報端末91が実現される。   Further, since the display panel 12 is sealed with the resin films 21 and 22, for example, even if the portable information terminal 91 is accidentally dropped, the display panel 12 is hardly damaged by an external impact. Even if it is broken, a safe portable information terminal 91 is realized in which fragments of the display panel 12 are not scattered.

なお、有機EL装置11を搭載可能な電子機器は、上述したブック型のディスプレイ81や携帯情報端末91に限らず、種々の電子機器に搭載することができる。例えば、パーソナルコンピューター、デジタルスチルカメラ、デジタルビデオカメラ、DVDビューワー、カーナビゲーション装置などの車載用ディスプレイ、電子手帳、POS端末、オーディオ機器、デジタルサイネージと呼ばれる電子広告媒体等が挙げられる。   The electronic device on which the organic EL device 11 can be mounted is not limited to the book-type display 81 and the portable information terminal 91 described above, and can be mounted on various electronic devices. For example, a personal computer, a digital still camera, a digital video camera, a DVD viewer, an in-vehicle display such as a car navigation device, an electronic notebook, a POS terminal, an audio device, an electronic advertisement medium called a digital signage, and the like.

以上詳述したように、第3実施形態の電子機器によれば、以下に示す効果が得られる。   As described above in detail, according to the electronic device of the third embodiment, the following effects can be obtained.

(5)第3実施形態によれば、上記した有機EL装置11を備えることによって、破損しにくい基板構造を有する電子機器を提供することができる。   (5) According to the third embodiment, by providing the organic EL device 11 described above, it is possible to provide an electronic apparatus having a substrate structure that is not easily damaged.

なお、実施形態は上記に限定されず、以下のような形態で実施することもできる。   In addition, embodiment is not limited above, It can also implement with the following forms.

(変形例1)
上記したように、端子部16a〜16cの周囲を囲むようにシール材26を設けることに限定されない。図13〜図15は、変形例の表示パネルの構造を示す模式平面図である。例えば、図13〜図15に示す表示パネル112,212,312のようにシール材126,226,326を設けてもよい。
(Modification 1)
As described above, the present invention is not limited to providing the sealing material 26 so as to surround the periphery of the terminal portions 16a to 16c. 13 to 15 are schematic plan views showing the structure of a display panel according to a modification. For example, sealing materials 126, 226, and 326 may be provided as in the display panels 112, 212, and 312 shown in FIGS.

図13に示す表示パネル112は、第1実施形態と同様に、表示パネル112の一端側に3つの端子部16a〜16cが並んで配置されている。なお、シール材126は、表示領域15の周囲に設けられていると共に、3つの端子部16a〜16c全体を囲むように設けられている。また、端子部16の領域に設けられたシール材126の形状に沿って、第2基板32に開口孔171が設けられている。これによれば、端子部16a〜16c間にシール材126が設けられていないものの、3つの端子部16a〜16c全体を囲むように表示パネル112の第1辺112a、第2辺112b、第3辺112cまでシール材126が配置されているので、表示パネル112の端面(辺112a〜112c)及びコーナー部172a,172bの強度を向上させることができる。また、第1実施形態の表示パネル12と比較して、シール材126の塗布量を少なくすることができる。   The display panel 112 shown in FIG. 13 has three terminal portions 16a to 16c arranged side by side on one end side of the display panel 112, as in the first embodiment. The sealing material 126 is provided around the display area 15 and is provided so as to surround the entire three terminal portions 16a to 16c. In addition, an opening hole 171 is provided in the second substrate 32 along the shape of the sealing material 126 provided in the region of the terminal portion 16. According to this, although the sealing material 126 is not provided between the terminal portions 16a to 16c, the first side 112a, the second side 112b, and the third side of the display panel 112 so as to surround the entire three terminal portions 16a to 16c. Since the sealing material 126 is disposed up to the side 112c, the strength of the end surface (sides 112a to 112c) of the display panel 112 and the corner portions 172a and 172b can be improved. Moreover, the application amount of the sealing material 126 can be reduced as compared with the display panel 12 of the first embodiment.

図14に示す表示パネル212は、第1実施形態と同様に、表示パネル212の一端側に3つの端子部16a〜16cが並んで配置されている。なお、シール材226は、表示領域15の周囲に設けられていると共に、各端子部16a〜16cにおける三辺の周囲に設けられている。具体的には、各端子部16a〜16cの一辺から表示パネル212の第1辺212aに亘って、シール材226の無い領域となっている。つまり、各端子部16a〜16cに接続される中継基板17a〜17cの形状に沿ってシール材226が設けられている。また、端子部16a〜16cの領域に設けられたシール材226の形状に沿って、第2基板32に3つの切り欠き部271a,271b,271cが設けられている。   As in the first embodiment, the display panel 212 shown in FIG. 14 has three terminal portions 16a to 16c arranged side by side on one end side of the display panel 212. The sealing material 226 is provided around the display area 15 and around the three sides of each of the terminal portions 16a to 16c. Specifically, a region without the sealing material 226 extends from one side of each of the terminal portions 16 a to 16 c to the first side 212 a of the display panel 212. That is, the sealing material 226 is provided along the shape of the relay boards 17a to 17c connected to the terminal portions 16a to 16c. In addition, three cutout portions 271a, 271b, and 271c are provided on the second substrate 32 along the shape of the sealing material 226 provided in the region of the terminal portions 16a to 16c.

これによれば、表示パネル212の第1辺212aのコーナー部272a,272b、及び、各端子部16a〜16c間にシール材226が設けられているので、表示領域15の周囲のみにシール材が設けられている場合と比較して、表示パネル212のコーナー部272a,272b及び端面(第1辺212a)の強度を向上させることができる。更に、中継基板17a〜17cの形状に沿ってシール材226及び切り欠き部271a〜271cが設けられており、第1基板31に直接中継基板17a〜17cを配置して接合できるので、端子部16a〜16cに中継基板17a〜17cを接続しやすくすることができる。   According to this, since the sealing material 226 is provided between the corner portions 272a and 272b of the first side 212a of the display panel 212 and the terminal portions 16a to 16c, the sealing material is provided only around the display area 15. Compared with the case where it is provided, the strength of the corner portions 272a and 272b and the end face (first side 212a) of the display panel 212 can be improved. Further, the sealing material 226 and the cutout portions 271a to 271c are provided along the shape of the relay substrates 17a to 17c, and the relay substrates 17a to 17c can be directly arranged and joined to the first substrate 31, so that the terminal portion 16a. It is easy to connect the relay boards 17a to 17c to .about.16c.

図15に示す表示パネル312は、第1実施形態と同様に、表示パネル312の一端側に3つの端子部16a〜16cが並んで配置されている。なお、シール材326は、表示領域15の周囲に設けられていると共に、端子部16が設けられている領域の第2辺312bと第3辺312cに沿って設けられている。また、端子部16の周辺に設けられたシール材326の形状に沿って、第2基板32に切り欠き部371が設けられている。   The display panel 312 shown in FIG. 15 has three terminal portions 16a to 16c arranged side by side on one end side of the display panel 312 as in the first embodiment. The sealing material 326 is provided around the display area 15 and is provided along the second side 312b and the third side 312c of the area where the terminal portion 16 is provided. In addition, a notch 371 is provided in the second substrate 32 along the shape of the sealing material 326 provided around the terminal portion 16.

これによれば、表示パネル312における第2辺312bと第3辺312cに沿ってシール材326が設けられているので、表示領域15の周囲のみにシール材が設けられている場合と比較して、表示パネル312のコーナー部372a,372b及び端面(辺312b,312c)の強度を向上させることができる。更に、第2基板32における端子部16と平面的に重なる領域から第1辺312aまで大きく切り欠き部371が設けられているので、端子部16a〜16cに中継基板17a〜17cを接続しやすくすることができる。加えて、シール材326の塗布量を少なくすることができる。   According to this, since the sealing material 326 is provided along the second side 312b and the third side 312c in the display panel 312, compared with the case where the sealing material is provided only around the display region 15. In addition, the strength of the corner portions 372a and 372b and the end surfaces (sides 312b and 312c) of the display panel 312 can be improved. Furthermore, since the notch 371 is largely provided from the region overlapping the terminal 16 on the second substrate 32 to the first side 312a, it is easy to connect the relay boards 17a to 17c to the terminals 16a to 16c. be able to. In addition, the application amount of the sealing material 326 can be reduced.

(変形例2)
上記したように、表示パネル12に3つの中継基板17a〜17cを接続させることに限定されない。図16は、変形例の有機EL装置の構成を示す模式平面図である。例えば、図16に示す有機EL装置(表示パネル412)の2つの端子部16a,16bのそれぞれに表示パネル412を駆動するためのICチップ417a,417bを実装し(COG:Chip On Glass)、残りの1つの端子部16cに中継基板17cを接続するようにしてもよい。これによれば、外部(表示制御部など)との接続を1つの中継基板17cで行うことができる。
(Modification 2)
As described above, the present invention is not limited to connecting the three relay boards 17a to 17c to the display panel 12. FIG. 16 is a schematic plan view showing a configuration of a modified organic EL device. For example, IC chips 417a and 417b for driving the display panel 412 are mounted on the two terminal portions 16a and 16b of the organic EL device (display panel 412) shown in FIG. 16 (COG: Chip On Glass), and the rest The relay substrate 17c may be connected to one terminal portion 16c. According to this, connection with the outside (a display control part etc.) can be performed by one relay board 17c.

(変形例3)
上記したように、トップエミッション型の有機EL装置に適用することに限定されず、例えば、ボトムエミッション型の有機EL装置に適用するようにしてもよい。
(Modification 3)
As described above, the present invention is not limited to being applied to a top emission type organic EL device, and may be applied to, for example, a bottom emission type organic EL device.

(変形例4)
本発明が適用される電気光学装置は、上記した有機EL装置11であることに限定されず、例えば、液晶装置、プラズマディスプレイ、電子ペーパー等であってもよい。
(Modification 4)
The electro-optical device to which the present invention is applied is not limited to the organic EL device 11 described above, and may be a liquid crystal device, a plasma display, electronic paper, or the like.

11…電気光学装置としての有機EL装置、12,112,212,312,412…電気光学パネルとしての表示パネル、12a…表示パネル前駆体、12a’…第1マザー基板、13…表示部、14,14R,14G,14B…画素、15…素子領域としての表示領域、16,16a,16b,16c…端子部、17a,17b,17c…中継基板、21,22…樹脂フィルム、21a,22a…基材フィルム、21b,22b…接着層、23…電気光学素子としての有機EL素子、24,24R,24G,24B…カラーフィルター、25…封止樹脂、26,126,226,326…シール材、27,28…空間、29…封止樹脂の一部、31…第1基板、32…第2基板、33…異方性導電膜、34,35…中間接着層、36…素子基板、37…封止基板、41…走査線、42…信号線、43…電源線、44…信号線駆動回路、45…走査線駆動回路、46…スイッチング用TFT、47…保持容量、48…TFT素子、51…陽極、52…陰極、53…機能層、61…回路素子層、62…平坦化層、63…反射層、64…隔壁、65…電極保護層、66…有機緩衝層、67…ガスバリアー層、68…遮光層、71,71a,71b,71c,171…開口部としての開口孔、72a,72b,172a,172b,272a,272b,372a,372b…コーナー部、75…ラミネート装置、76…加圧ローラー、81…ディスプレイ、82,83…電子ペーパー、84…ヒンジ部、112a,112b,112c,212a,312a,312b,312c…辺、271a,271b,271c,371…切り欠き部、417a,417b…ICチップ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Organic EL device as an electro-optical device, 12, 112, 212, 312, 412 ... Display panel as an electro-optical panel, 12a ... Display panel precursor, 12a '... First mother substrate, 13 ... Display unit, 14 , 14R, 14G, 14B ... pixels, 15 ... display area as element area, 16, 16a, 16b, 16c ... terminal part, 17a, 17b, 17c ... relay board, 21, 22 ... resin film, 21a, 22a ... base Material film, 21b, 22b ... Adhesive layer, 23 ... Organic EL element as electro-optical element, 24, 24R, 24G, 24B ... Color filter, 25 ... Sealing resin, 26, 126, 226, 326 ... Sealing material, 27 , 28 ... Space, 29 ... Part of the sealing resin, 31 ... First substrate, 32 ... Second substrate, 33 ... Anisotropic conductive film, 34, 35 ... Intermediate adhesive layer, 36 ... Elementary Substrate 37 ... Sealing substrate 41 ... Scanning line 42 ... Signal line 43 ... Power supply line 44 ... Signal line driving circuit 45 ... Scanning line driving circuit 46 ... Switching TFT 47 ... Holding capacitor 48 ... TFT element 51... Anode 52. Cathode 53. Functional layer 61. Circuit element layer 62 Flattening layer 63 Reflecting layer 64 Partition 50 65 Electrode protective layer 66 Organic buffer layer 67 ... Gas barrier layer, 68 ... Light shielding layer, 71, 71a, 71b, 71c, 171 ... Opening hole as opening, 72a, 72b, 172a, 172b, 272a, 272b, 372a, 372b ... Corner, 75 ... Laminating apparatus 76 ... Pressure roller, 81 ... Display, 82, 83 ... Electronic paper, 84 ... Hinge part, 112a, 112b, 112c, 212a, 312a, 312b, 312c ... Side 271a, 271b, 271c, 371 ... cut-out portion, 417a, 417b ... IC chip.

Claims (15)

電気光学素子と、前記電気光学素子に電気的に接続された端子からなる端子部と、を有する第1基板と、
前記電気光学素子が設けられた素子領域の周囲、及び前記端子部の周囲の少なくとも一部に設けられたシール材と、
前記シール材を介して前記第1基板に対向配置され、平面的に前記端子部と重なる領域に開口部又は切り欠き部が設けられた第2基板と、
を備えた電気光学パネルを有することを特徴とする電気光学装置。
A first substrate comprising: an electro-optic element; and a terminal portion including a terminal electrically connected to the electro-optic element;
A sealant provided around at least a part of the periphery of the element region where the electro-optical element is provided and around the terminal portion;
A second substrate disposed opposite to the first substrate via the sealing material and provided with an opening or a notch in a region overlapping the terminal portion in plan view;
An electro-optical device having an electro-optical panel.
請求項1に記載の電気光学装置であって、
前記第1基板と前記第2基板とが略同じ大きさであることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1,
The electro-optical device, wherein the first substrate and the second substrate have substantially the same size.
請求項1又は請求項2に記載の電気光学装置であって、
前記シール材は、前記素子領域の周囲、及び前記端子部が設けられた前記第1基板のコーナー部に設けられていることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1 or 2,
The electro-optical device, wherein the sealing material is provided around the element region and at a corner portion of the first substrate on which the terminal portion is provided.
請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記第1基板には、端子部が設けられており、
前記シール材は、前記端子部を囲むように設けられていることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device according to any one of claims 1 to 3,
The first substrate is provided with a terminal portion,
The electro-optical device, wherein the sealing material is provided so as to surround the terminal portion.
請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記第1基板には、複数の端子部が設けられており、
前記シール材は、前記複数の端子部のうち少なくとも2つを囲むように設けられていることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device according to any one of claims 1 to 3,
The first substrate is provided with a plurality of terminal portions,
The electro-optical device, wherein the sealing material is provided so as to surround at least two of the plurality of terminal portions.
請求項5に記載の電気光学装置であって、
前記開口部又は前記切り欠き部は、平面視で前記複数の端子部のうち少なくとも2つを囲むように設けられていることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 5,
The electro-optical device, wherein the opening or the notch is provided so as to surround at least two of the plurality of terminal portions in a plan view.
請求項1乃至請求項6のいずれか一項に記載の電気光学装置であって、
前記電気光学パネルの厚みが100μm以下で構成され、
前記電気光学パネルは、少なくとも一方が透明な一対の樹脂フィルムで挟まれてラミネートされていることを特徴とする電気光学装置。
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 6,
The electro-optical panel has a thickness of 100 μm or less,
The electro-optical device is characterized in that at least one of the electro-optical panels is sandwiched and laminated between a pair of transparent resin films.
電気光学素子及び端子部が設けられた第1基板と、前記第1基板にシール材を介して対向配置された第2基板と、を備えた電気光学パネルを有する電気光学装置の製造方法であって、
前記第1基板における前記電気光学素子が設けられた素子領域の周囲、及び、前記端子部の周囲の少なくとも一部にシール材を塗布する塗布工程と、
前記シール材を介して前記第1基板に前記第2基板を対向配置して貼り付ける貼付工程と、
前記第2基板において前記端子部と平面的に重なる領域を切断して前記端子部を露出させる切断工程と、
を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an electro-optical device having an electro-optical panel, comprising: a first substrate provided with an electro-optical element and a terminal portion; and a second substrate disposed opposite to the first substrate with a sealant interposed therebetween. And
An application step of applying a sealing material to the periphery of the element region where the electro-optical element is provided on the first substrate, and to at least a part of the periphery of the terminal portion;
An attaching step of attaching the second substrate to the first substrate so as to face the first substrate through the sealing material;
A cutting step in which the terminal portion is exposed by cutting a region overlapping the terminal portion in the second substrate;
A method for manufacturing an electro-optical device.
請求項8に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記塗布工程は、前記素子領域の周囲、及び前記端子部が設けられた前記第1基板のコーナー部に前記シール材を塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing an electro-optical device according to claim 8,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein in the coating step, the sealing material is applied to a periphery of the element region and a corner portion of the first substrate on which the terminal portion is provided.
請求項8又は請求項9に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記塗布工程は、前記第1基板における前記端子部を囲むように前記シール材を塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing the electro-optical device according to claim 8 or 9,
In the coating process, the sealing material is coated so as to surround the terminal portion of the first substrate.
請求項8乃至請求項10のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第1基板には、端子部が設けられており、
前記塗布工程は、前記端子部を囲むように前記シール材を塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing an electro-optical device according to any one of claims 8 to 10,
The first substrate is provided with a terminal portion,
In the coating step, the sealing material is coated so as to surround the terminal portion.
請求項8乃至請求項10のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記第1基板には、複数の端子部が設けられており、
前記塗布工程は、前記複数の端子部のうち少なくとも2つを囲むように前記シール材を塗布することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method for manufacturing an electro-optical device according to any one of claims 8 to 10,
The first substrate is provided with a plurality of terminal portions,
In the coating step, the sealing material is coated so as to surround at least two of the plurality of terminal portions.
請求項12に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記切断工程は、平面視で前記複数の端子部のうち少なくとも2つが露出するように切断することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an electro-optical device according to claim 12,
The method of manufacturing an electro-optical device, wherein the cutting step includes cutting so that at least two of the plurality of terminal portions are exposed in a plan view.
請求項8乃至請求項13のいずれか一項に記載の電気光学装置の製造方法であって、
前記電気光学パネルの厚みが100μm以下で構成され、
少なくとも一方が透明な一対の樹脂フィルムで前記電気光学パネルを挟んでラミネートするラミネート工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
A method of manufacturing an electro-optical device according to any one of claims 8 to 13,
The electro-optical panel has a thickness of 100 μm or less,
A method for manufacturing an electro-optical device, comprising: a laminating step of laminating the electro-optical panel between a pair of resin films, at least one of which is transparent.
請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 1.
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