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JP2011100898A - Semiconductor device - Google Patents

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JP2011100898A
JP2011100898A JP2009255325A JP2009255325A JP2011100898A JP 2011100898 A JP2011100898 A JP 2011100898A JP 2009255325 A JP2009255325 A JP 2009255325A JP 2009255325 A JP2009255325 A JP 2009255325A JP 2011100898 A JP2011100898 A JP 2011100898A
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pad
circuit
pads
test
chip
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JP2009255325A
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Japanese (ja)
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Masamitsu Kuroda
真実 黒田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for detecting a failure in a path between a data input/output pad and a test pad and a failure in a circuit in the middle of the path. <P>SOLUTION: A micro-bump pad (a first pad 21) for data input/output is arranged in a connection path between the test pad (second pad 22) used for testing a semiconductor device and an internal circuit 23. Consequently, it is possible to detect a connection failure and a circuit failure of all the paths to the internal circuit 23 when executing a test using the second pad 22. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、データ入出力用の第1パッドとテスト用の第2パッドとを有する半導体デバイスに関する。   The present invention relates to a semiconductor device having a first pad for data input / output and a second pad for test.

データの入出力端子を、マイクロバンプなどを用いて形成するために、微小で狭ピッチのパッド(端子)を有する半導体メモリが知られている(例えば、特許文献1参照)。
このような半導体メモリでは、ウェハ試験用のプローブカードがマイクロバンプの狭ピッチに対応できない。このため、特許文献1では、微小で狭ピッチのパッドとは別にプローブ用の検査パッドを用意し、そこから制御して半導体メモリの試験を行うための構成が開示されている。
In order to form data input / output terminals using micro bumps or the like, a semiconductor memory having a minute and narrow pitch pad (terminal) is known (for example, see Patent Document 1).
In such a semiconductor memory, the wafer test probe card cannot cope with the narrow pitch of the micro bumps. For this reason, Patent Document 1 discloses a configuration for preparing a test pad for a probe separately from a fine, narrow-pitch pad, and performing a test on the semiconductor memory under control of the probe.

具体的に、上記特許文献1に記載の半導体メモリでは、内部回路に対し、信号の入出経路を、微小で狭ピッチのパッド側と検査パッド側とで切り換えるスイッチング回路部とその制御回路(ロジック制御部)を有する。検査時には、通常動作に使用される微小で狭ピッチのパッドに本来なら入力される所定数の信号が検査パッドを経由して内部回路(出力回路部)に伝達するように、スイッチング回路部の動作が制御される。通常動作時には、所定数の信号の入出力経路を検査パッド側と遮断し、微小で狭ピッチのパッド側と接続するように上記スイッチング回路部が制御される。   Specifically, in the semiconductor memory described in Patent Document 1, a switching circuit unit that switches a signal input / output path between a small and narrow pitch pad side and a test pad side with respect to an internal circuit and its control circuit (logic control). Part). During the inspection, the switching circuit unit operates so that a predetermined number of signals that are normally input to the fine, narrow-pitch pads used for normal operation are transmitted to the internal circuit (output circuit unit) via the inspection pad. Is controlled. During normal operation, the switching circuit unit is controlled so that a predetermined number of signal input / output paths are cut off from the inspection pad side and connected to the fine and narrow pitch pad side.

この切り換え制御回路の構成では、ウェハテスト時に、制御回路がスイッチング回路部を制御することによって、検査パッドを内部回路と接続し、検査パッドを介して外部テスタが内部回路の各種テストを行うことが可能である。
一般に、製造時のテストでは、内部回路自身の動作確認の他に、信号入出力経路の良否を調べる経路テストも重要である。
In the configuration of this switching control circuit, the control circuit controls the switching circuit unit during the wafer test so that the test pad is connected to the internal circuit, and the external tester performs various tests of the internal circuit via the test pad. Is possible.
Generally, in a test at the time of manufacturing, in addition to checking the operation of the internal circuit itself, a path test for checking the quality of the signal input / output path is also important.

特開2005−340343号公報JP 2005-340343 A

ところが、上記特許文献1に記載の構成では、微小で狭ピッチのパッド(例えばマイクロバンプ対応のパッド)からスイッチング回路部までの経路に不良があっても、その経路の不良は検出できないという不都合がある。   However, the configuration described in Patent Document 1 has a disadvantage in that even if there is a defect in the path from a fine and narrow pitch pad (for example, a pad corresponding to a micro bump) to the switching circuit unit, the defect in the path cannot be detected. is there.

この場合、微小で狭ピッチのパッドから切り換え回路までの経路不良は、微小で狭ピッチのパッドを他のチップ等と接続させた完成品に近い形態でしか判定できない。マイクロバンプパッドの経路で不良が検出された場合、このときはチップを積層した状態、または、これをパッケージに収容した状態である。このため、不良チップを廃棄する際に、積層した正常品の他のチップ、さらには、これに加えてパッケージ部材も廃棄されてしまう。その結果、不良品廃棄に伴う材料コストが増大し、それまでに費やされた製造コスト(工数)が無駄となり、このことが製品コストを高くしている。   In this case, the path failure from the minute and narrow pitch pad to the switching circuit can be determined only in a form close to a finished product in which the minute and narrow pitch pad is connected to another chip or the like. When a defect is detected in the path of the micro bump pad, at this time, the chip is stacked or the package is accommodated in a package. For this reason, when a defective chip is discarded, other stacked normal chips, and in addition to this, a package member is also discarded. As a result, the material cost associated with the disposal of defective products increases, and the manufacturing cost (man-hours) consumed up to that point is wasted, which increases the product cost.

本発明は、データ入出力用の第1パッド以外にテスト用の第2パッドを有する場合に、特に第1,第2パッド間経路や当該経路途中の回路の不良を検出することが可能であり、不良品をチップ状態で排除可能な構成の半導体デバイスを提供するものである。   In the present invention, when a second pad for testing is provided in addition to the first pad for data input / output, it is possible to detect a defect in a circuit between the first and second pads and a circuit in the middle of the path. A semiconductor device having a configuration in which defective products can be eliminated in a chip state is provided.

本発明に関わる半導体デバイスは、半導体基板と、複数の第2パッドと、複数の第1パッドとを有する。
前記複数の第2パッドは、前記半導体基板に形成されたテストのためのパッドである。
前記複数の第1パッドは、前記半導体基板に形成され、対応する第2パッドと前記内部回路との接続経路に各々が配置された、データ入出力のためのパッドである。
A semiconductor device according to the present invention includes a semiconductor substrate, a plurality of second pads, and a plurality of first pads.
The plurality of second pads are test pads formed on the semiconductor substrate.
The plurality of first pads are pads for data input / output, which are formed on the semiconductor substrate, and are respectively disposed in a connection path between the corresponding second pad and the internal circuit.

かかる構成では、テスト時に前記複数の第2パッドを用いて前記内部回路にデータ(またはテスト)信号を入力する。あるいは、前記複数の第2パッドを用いて内部回路からのデータ(または、入力したテスト信号の応答を示す)信号を外部に出力する。
テスト時の信号入力時に、データ(またはテスト)信号を複数の第2パッドから入力すると、当該信号が、第2パッドから第1パッドを経て内部回路に送られる。テスト時の信号出力時では、これとは逆に内部回路から第1パッドを経由して、第2パッドから信号を取り出す。
In such a configuration, a data (or test) signal is input to the internal circuit using the plurality of second pads during a test. Alternatively, a data signal from the internal circuit (or indicating the response of the input test signal) is output to the outside using the plurality of second pads.
If a data (or test) signal is input from a plurality of second pads when a signal is input during a test, the signal is sent from the second pad to the internal circuit via the first pad. At the time of signal output at the time of testing, on the contrary, a signal is taken out from the second pad via the first pad from the internal circuit.

信号の入力と出力のいずれの場合でも、信号がパッド間経路、すなわち第1,第2パッド間の経路を通過する。このパッド間経路に接続不良あるいは抵抗異常不良があると、このことが信号波形等に現れるため、これらの不良が検出される。
なお、パッド間経路に信号処理回路が存在する場合、このような接続不良および抵抗異常不良とともに、信号処理回路の良否も検出される。また、かかる接続や回路の不良は、第1パッドと内部回路の経路間についても同時に検出される。
In both cases of signal input and output, the signal passes through a path between pads, that is, a path between the first and second pads. If there is a connection failure or a resistance abnormality failure in the path between the pads, this appears in the signal waveform or the like, and these failures are detected.
When the signal processing circuit exists in the inter-pad path, the quality of the signal processing circuit is detected along with such a connection failure and a resistance abnormality failure. Further, such a connection or circuit failure is simultaneously detected between the path of the first pad and the internal circuit.

本発明によれば、データ入出力用の第1パッド以外にテスト用の第2パッドを有する場合に、特に第1,第2パッド間経路や当該経路途中の回路の不良を検出することが可能であり、不良品をチップ状態で排除可能な構成の半導体デバイスを提供することができる。   According to the present invention, when there is a second pad for testing in addition to the first pad for data input / output, it is possible to detect a defect in the circuit between the first and second pads and a circuit in the middle of the path. Thus, it is possible to provide a semiconductor device having a configuration in which defective products can be eliminated in a chip state.

第1の実施形態に関わるチップ積層型の半導体デバイスにおいて、そのチップの積層と各チップのパッド配置の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of the stacking of chips and the pad layout of each chip in the chip stacking type semiconductor device according to the first embodiment. 第1の実施形態で採用可能な、内部回路に対するパッドの第1の接続形態を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the 1st connection form of the pad with respect to an internal circuit which can be employ | adopted by 1st Embodiment. 第2の接続形態を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the 2nd connection form. 第3の接続形態を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the 3rd connection form. 第2の実施形態に関わり、IF回路の詳細な構成を含む半導体デバイスの回路ブロック図である。FIG. 6 is a circuit block diagram of a semiconductor device related to the second embodiment and including a detailed configuration of an IF circuit. データ圧縮回路の回路構成図である。It is a circuit block diagram of a data compression circuit. 比較例の接続形態を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the connection form of a comparative example. 比較例に関わり、IF回路の詳細な構成を含む半導体デバイスの回路ブロック図である。It is a circuit block diagram of a semiconductor device relating to a comparative example and including a detailed configuration of an IF circuit. 第1変形例に関わるIF回路のチップ内配置図である。FIG. 6 is an in-chip layout diagram of IF circuits according to a first modification.

本発明の実施形態を、図面を参照して、以下の順に説明する。
1.第1の実施の形態:パッドの接続態様の種類を示す実施形態である。
2.第2の実施の形態:IF回路の詳細まで含めた、より具体的な実施形態である。
3.第1変形例:IF回路のチップ内配置に関する変形例である。
4.第2変形例:その他の変形例である。
Embodiments of the present invention will be described in the following order with reference to the drawings.
1. 1st Embodiment: It is embodiment which shows the kind of connection aspect of a pad.
2. Second Embodiment: A more specific embodiment including details of the IF circuit.
3. First modification: a modification regarding the arrangement of the IF circuit in the chip.
4). Second modified example: Other modified examples.

<1.第1の実施の形態>
[チップ積層構造]
図1に、第1の実施形態に関わるチップ積層型の半導体デバイスにおいて、そのチップの積層と各チップのパッド配置の説明図を示す。
本実施形態に関わる半導体デバイスは、第1半導体デバイスと、第1半導体デバイスの一方の主面に載置されて、第1半導体デバイスと電気的に接続されている第2半導体デバイスとを有する。このため図1は、チップ積層型の半導体デバイスの構成例を開示する。ここで、例えば上層の第2半導体チップが、単一チップ型の半導体デバイスの構成例を開示する。
後述する変形例で言及するように、チップの積層数(積み重ねる段数)やデバイス全体に含まれるチップ数に限定はない。
<1. First Embodiment>
[Chip stacked structure]
FIG. 1 is an explanatory diagram of the stacking of chips and the pad layout of each chip in the chip stacking type semiconductor device according to the first embodiment.
The semiconductor device according to the present embodiment includes a first semiconductor device and a second semiconductor device that is placed on one main surface of the first semiconductor device and is electrically connected to the first semiconductor device. For this reason, FIG. 1 discloses a configuration example of a chip stacked semiconductor device. Here, for example, an upper layer second semiconductor chip discloses a configuration example of a semiconductor device of a single chip type.
As will be mentioned in a later-described modification, there is no limit to the number of chips stacked (the number of stacked stages) and the number of chips included in the entire device.

以下、図1に基づいて2チップ積層型のマルチチップモジュールを例として、本発明の実施の形態を説明する。ここでは、ロジックチップの上にメモリチップを搭載する場合を例とするが、後述する変形例にも言及するようにロジック、メモリの別は本質的なものでない。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 1 by taking a two-chip multi-chip module as an example. Here, a case where a memory chip is mounted on a logic chip is taken as an example, but the distinction between logic and memory is not essential, as will be mentioned in a modification described later.

図1(B)は、モジュール全体の積層構造を側面から透視して見た図である。図1(A)は、メモリチップ2の下面(ロジックチップ3との対向接続面)に設けられたパッドの種類を示す図である。図1(C)は、ロジックチップ3の上面(メモリチップ2との対向接続面)に設けられたパッドの種類を示す図である。なお、図1(A)と図1(C)はパッドの種類を示すのみで、その配置、大きさ(面積)あるいは数を限定するものではない。   FIG. 1B is a perspective view of the laminated structure of the entire module seen from the side. FIG. 1A is a diagram showing the types of pads provided on the lower surface of the memory chip 2 (opposite connection surface with the logic chip 3). FIG. 1C is a diagram illustrating the types of pads provided on the upper surface of the logic chip 3 (the connection surface facing the memory chip 2). 1A and 1C only show the types of pads, and the arrangement, size (area), or number thereof is not limited.

図1に図解するチップ積層型の半導体デバイス1は、第1半導体チップとしてのロジックチップ3と、ロジックチップ3の上に載置された第2半導体チップとしてのメモリチップ2とを有する。
この半導体デバイス1は、例えばシステムLSIを構成する際に、システムコントローラ等の制御部やロジック部が集積化されたロジックチップ3に、メモリが集積化されたメモリチップ2が積層されることで形成されている。
A chip stack type semiconductor device 1 illustrated in FIG. 1 includes a logic chip 3 as a first semiconductor chip and a memory chip 2 as a second semiconductor chip mounted on the logic chip 3.
The semiconductor device 1 is formed by stacking a memory chip 2 in which a memory is integrated on a logic chip 3 in which a control unit such as a system controller and a logic unit are integrated, for example, when configuring a system LSI. Has been.

メモリチップ2は、ロジックチップ3により制御されることを想定している。このため、メモリチップ2とロジックチップ3は、以下のようなパッド接続構造を採っている。   It is assumed that the memory chip 2 is controlled by the logic chip 3. For this reason, the memory chip 2 and the logic chip 3 have the following pad connection structure.

半導体デバイス1は、モジュール基板11を有し、モジュール基板11の上に、ロジックチップ3が既存のダイボンド接続手法で固定されている。
ロジックチップ3の一方の主面に、メモリチップ2に対して、書き込まれ或いは読み出されるデータ信号のほかに、クロック、コマンド、アドレスといった制御のための信号を入出力するための複数の比較的小面積のパッド(以下、積層接続パッド31)が配置されている。積層接続パッド31の数や配置位置に限定はないが、少なくともメモリチップ2が積層される領域に積層接続パッド31がまとめて配置されている。積層接続パッド31は、本例の場合、マイクロバンプ構造となっている。
The semiconductor device 1 has a module substrate 11, and the logic chip 3 is fixed on the module substrate 11 by an existing die bond connection method.
On one main surface of the logic chip 3, in addition to data signals to be written to or read from the memory chip 2, a plurality of relatively small signals for inputting / outputting control signals such as clocks, commands, addresses, etc. An area pad (hereinafter referred to as a laminated connection pad 31) is arranged. There is no limitation on the number and arrangement position of the stacked connection pads 31, but the stacked connection pads 31 are collectively arranged at least in a region where the memory chips 2 are stacked. In the case of this example, the laminated connection pad 31 has a micro bump structure.

また、ロジックチップ3の積層接続パッド31が設けられた面と同じ面において、たとえばその周縁に近い領域に、ワイヤボンディングのための比較的大面積のボンディングパッド32が配置されている。ボンディングパッド32の数や配置位置に限定はないが、少なくとも要求される特性を満足してワイヤボンディングが可能な位置、例えば図示のように周縁の近くにボンディングパッド32が配置されている。各ボンディングパッド32は、ワイヤ33によって積層接続パッド31の配線部(不図示)と電気的に接続されている。   In addition, a relatively large bonding pad 32 for wire bonding is disposed on the same surface as the surface on which the stacked connection pads 31 of the logic chip 3 are provided, for example, in a region near the periphery thereof. The number and arrangement positions of the bonding pads 32 are not limited, but the bonding pads 32 are arranged at positions where wire bonding can be performed with at least the required characteristics, for example, near the periphery as shown. Each bonding pad 32 is electrically connected to a wiring portion (not shown) of the laminated connection pad 31 by a wire 33.

一方、メモリチップ2の一方の主面に、データ信号や上記制御信号を入出力のために複数の第1パッド21が多数配置されている。また、この第1パッド21が形成されている面と同一のメモリチップ面の周縁部には、テストのための第2パッド22が所定数、配置されている。図1では図示していないメモリアレイは、これら第1パッド21や第2パッド22が形成された面側に半導体プロセスによって形成されている。   On the other hand, a plurality of first pads 21 are arranged on one main surface of the memory chip 2 for inputting / outputting data signals and control signals. In addition, a predetermined number of second pads 22 for testing are arranged on the periphery of the same memory chip surface as the surface on which the first pads 21 are formed. The memory array (not shown in FIG. 1) is formed by a semiconductor process on the surface side on which the first pad 21 and the second pad 22 are formed.

望ましくは、第1パッド21は、第2パッド22より小さく、高密度配置可能なパッドである。また、本例のように第1パッド21をメモリデバイスのデータ信号や制御信号の入出力用、第2パッド22をテスト用と想定すると、第1パッド21は第2パッド22より多く配置されることが望ましい。第1パッド21は、ロジックチップ3の表面(素子形成面)に形成されたパッド31と電気的、機械的に接続される。   Desirably, the first pad 21 is a pad that is smaller than the second pad 22 and can be arranged at high density. Further, assuming that the first pad 21 is used for input / output of data signals and control signals of the memory device and the second pad 22 is used for testing as in this example, the first pad 21 is arranged more than the second pad 22. It is desirable. The first pad 21 is electrically and mechanically connected to a pad 31 formed on the surface (element formation surface) of the logic chip 3.

第1パッド21の配置には基本的に限定はないが、少なくとも、接続対象であるロジックチップ3の積層接続パッド31と数や配置が対応している。
また、第2パッド22も配置や数に限定はないが、テスト用の場合、その仕様に応じて、その配置や数が決められる。
The arrangement of the first pads 21 is basically not limited, but at least the number and arrangement correspond to the stacked connection pads 31 of the logic chip 3 to be connected.
Also, the arrangement and number of the second pads 22 are not limited, but in the case of a test, the arrangement and number are determined according to the specifications.

このようなチップ積層接続のための第1パッド21と積層接続パッド31は、例えば、その一方が半田等からなるバンプ、他方が配線層と同様に形成されるランドで構成できる。或いは、両方をバンプ構造としてもよい。   For example, the first pad 21 and the stacked connection pad 31 for chip stack connection can be constituted by bumps made of solder or the like and lands formed in the same manner as the wiring layer on the other. Alternatively, both may have a bump structure.

なお、半田バンプは半円形状でもよいし、ほぼ球状のボールバンプでもよい。また、バンプ以外で第1パッド21と積層接続パッド31が採り得る形態は、導電性接着層(圧着により導電粒子が導通状態を確保するもの)等の種々の接続端子体をバンプに代えて用い、この接続端子体を、ランドに圧着し電気的接続をとる構成も採用可能である。   Note that the solder bumps may be semicircular or substantially spherical ball bumps. Moreover, the form which the 1st pad 21 and the lamination | stacking connection pad 31 can take other than a bump uses various connection terminal bodies, such as an electroconductive contact bonding layer (what ensures the conduction | electrical_connection state by crimping | compression-bonding), instead of a bump. It is also possible to adopt a configuration in which this connection terminal body is crimped to a land to make electrical connection.

図1の図示例では比較的大きなサイズとなっている第2パッド22は、第1パッド21の複数個に1個の割合で設けられる。また、第2パッド22は、図1に示す例では、テスト時にプローブやテストピンが接触するため、ある程度大きなピッチで配置され、そのパッドサイズもある程度大きくする必要がある。   The second pad 22 having a relatively large size in the illustrated example of FIG. 1 is provided at a ratio of one to a plurality of the first pads 21. In addition, in the example shown in FIG. 1, the probe and the test pin are in contact with each other in the example shown in FIG.

なお、第2パッド22は、テスト時にプローブやテストピンが接触することから、その下に素子が形成されないことが望ましい。第2パッド22の下層にトランジスタ等の素子が形成されていると、プローブやテストピンを第2パッド22に押し当てたときに、素子にダメージが入るおそれがある。このようなダメージ導入を避ける意味で第2パッド22の配置位置は、ある程度制限される。   In addition, since the probe and the test pin come into contact with the second pad 22 during the test, it is desirable that no element be formed thereunder. If an element such as a transistor is formed under the second pad 22, the element may be damaged when a probe or a test pin is pressed against the second pad 22. In order to avoid such damage introduction, the arrangement position of the second pad 22 is limited to some extent.

第1パッド21は、第2パッド22と異なり、チップの主面の任意の領域に形成されることと、プローブやテストピンが接触することがなく、素子にダメージを導入することがない。そのため、第1パッド21は任意の領域に形成可能であり、その結果、これをパッド数も周縁部に配置する場合より多く配置できる。   Unlike the second pad 22, the first pad 21 is formed in an arbitrary region on the main surface of the chip, the probe and the test pin do not come into contact with each other, and the element is not damaged. Therefore, the first pad 21 can be formed in an arbitrary region, and as a result, the number of pads can be increased as compared with the case where the pads are disposed in the peripheral portion.

メモリチップ2は、これが直接、外部と信号をやり取りすることはない。そのため、外部と信号をやり取りする外部接続用のパッドは、ボンディングパッド32のようにロジックチップ3にのみ設けられていればよい。
そのため、メモリチップ2はロジックチップ3とは、マイクロバンプ(第1パッド21と積層接続パッド31)で接続されている。
The memory chip 2 does not directly exchange signals with the outside. Therefore, an external connection pad for exchanging signals with the outside need only be provided on the logic chip 3 like the bonding pad 32.
Therefore, the memory chip 2 is connected to the logic chip 3 by micro bumps (first pads 21 and stacked connection pads 31).

ロジックチップ3に対し、メモリチップ2を積層した状態でワイヤボンディングのときにワイヤ33が接続される。そのため、ワイヤボンディングのときにメモリチップ2が邪魔にならないようにスペースが必要になる。したがって、本例では、ロジックチップ3が、メモリチップ2より平面視の面積(フットプリント)が大きい。なお、チップ間の接続をSi貫通ビア(いわゆるTSV)で行うこともできるが、その場合、チップ面積の制約はない。但し、一般的には、下に配置されるモジュール基板11側のチップの面積が、その上に積層されるチップの面積より大きい。   A wire 33 is connected to the logic chip 3 at the time of wire bonding in a state where the memory chip 2 is stacked. Therefore, a space is required so that the memory chip 2 does not get in the way during wire bonding. Therefore, in this example, the logic chip 3 has a larger area (footprint) in plan view than the memory chip 2. In addition, although connection between chips can also be performed by Si through vias (so-called TSV), in that case, there is no restriction on the chip area. However, generally, the area of the chip on the side of the module substrate 11 disposed below is larger than the area of the chip stacked thereon.

図1に示すように、ロジックチップ3の上にメモリチップ2が積層され、ロジックチップ3とワイヤ33を介して接続されたモジュール基板11の側が、パッケージ部材12で封止されている。パッケージ部材12の外面には、図示しない箇所に外部端子が設けられている。   As shown in FIG. 1, the memory chip 2 is stacked on the logic chip 3, and the side of the module substrate 11 connected to the logic chip 3 via the wires 33 is sealed with the package member 12. External terminals are provided on the outer surface of the package member 12 at locations not shown.

[パッド接続形態]
図2〜図4は、メモリチップ2(またはロジックチップ3)において本実施形態で採用可能な、内部回路に対するパッドの接続形態を示す図である。このパッドの接続形態はロジックチップ3においても採用可能であるが、以下、メモリチップ2において採用された場合を前提とする。
[Pad connection form]
2 to 4 are diagrams showing pad connection forms with respect to internal circuits that can be employed in the present embodiment in the memory chip 2 (or logic chip 3). This pad connection form can also be adopted in the logic chip 3, but hereinafter it is assumed that it is adopted in the memory chip 2.

図2に示す第1のパッド接続形態は、第2パッド22(ロジックチップ3の場合はボンディングパッド32)と、メモリアレイ等の内部回路23(ロジックチップ3の場合はロジック部等)との間の信号の経路を示すものである。
この形態では、第2パッド22と内部回路23との間に、第1のIF回路(IF回路1)4、第1パッド21、第2のIF回路(IF回路2)5が、この順で直列に接続されている。
The first pad connection form shown in FIG. 2 is between the second pad 22 (bonding pad 32 in the case of the logic chip 3) and the internal circuit 23 such as a memory array (logic unit in the case of the logic chip 3). This shows the signal path.
In this embodiment, the first IF circuit (IF circuit 1) 4, the first pad 21, and the second IF circuit (IF circuit 2) 5 are arranged in this order between the second pad 22 and the internal circuit 23. Connected in series.

第1のIF回路4は、使用と未使用の状態を切り替える機能をもつテストのための信号処理回路の一例を構成するものである。第1のIF回路4に、例えばドライバやレシーバといった入出力のための機能を、さらにもたせることもできる。
第1パッド21は、本例ではマイクロバンプ構造を有する。
第2のIF回路5は、例えばドライバやレシーバなど、増幅や信号波形整形との入出力のための機能をもつ回路などであり、そのような機能が必要でない場合は省略も可能である。入出力のための機能は、第1のIF回路4から省略することも可能である。
The first IF circuit 4 constitutes an example of a signal processing circuit for a test having a function of switching between a used state and an unused state. The first IF circuit 4 can further be provided with input / output functions such as a driver and a receiver.
The first pad 21 has a micro bump structure in this example.
The second IF circuit 5 is, for example, a circuit having a function for input / output with respect to amplification and signal waveform shaping, such as a driver or a receiver. If such a function is not necessary, the second IF circuit 5 can be omitted. The function for input / output can be omitted from the first IF circuit 4.

このように、本実施形態の半導体デバイス1は、比較的サイズが大きな第2パッド22と内部回路23との間に、比較的サイズが小さい第1パッド21が直列接続されていることが回路構成上の特徴である。この構成によって、特に第2パッド22と第1のIF回路4との間の接続経路がテスト時に信号経路として含まれるため、その接続経路の段線不良または高抵抗不良、さらにはテスト回路の不良が検出できる。   As described above, the semiconductor device 1 according to the present embodiment has a circuit configuration in which the relatively small first pad 21 is connected in series between the relatively large second pad 22 and the internal circuit 23. It is the above feature. With this configuration, in particular, the connection path between the second pad 22 and the first IF circuit 4 is included as a signal path at the time of the test. Can be detected.

なお、ここでは第2パッド22がテスト用を想定しているため第1のIF回路4が必須であるが、テスト用以外の場合、第1のIF回路4の省略も可能である。第1のIF回路4を省略した場合でも、第2パッド22と第1のIF回路4の接続経路を、第2パッド22を使って調べることが可能というメリットがある。   Here, since the second pad 22 is assumed to be used for testing, the first IF circuit 4 is essential, but the first IF circuit 4 can be omitted in cases other than testing. Even when the first IF circuit 4 is omitted, there is an advantage that the connection path between the second pad 22 and the first IF circuit 4 can be examined using the second pad 22.

なお、第1のIF回路4および第2のIF回路5は、1ビットの入出力、1ビットの入力、1ビットの出力といった3種類の入出力のうち、いずれも可能である。   The first IF circuit 4 and the second IF circuit 5 can be any of three types of input / output such as 1-bit input / output, 1-bit input, and 1-bit output.

図3に、第2のバッド接続形態を示す。
図3に示す第2のパッド接続形態は、1つのプローブパッド(第2パッド22)に対して2つのマイクロバンプパッド(第1パッド21)がそれぞれ直列に接続されている。第1のIF回路(IF回路1)4はテストのための信号処理や入出力の機能を有する。2つの第2のIF回路(IF回路2,3)5は入出力のための機能を有する。入出力のための機能が不要な場合、その機能を第1のIF回路4から省略できること、2つの第2のIF回路5そのものを省略できることは、前記第1のパッド接続形態と同様である。
FIG. 3 shows a second bad connection configuration.
In the second pad connection form shown in FIG. 3, two micro bump pads (first pads 21) are connected in series to one probe pad (second pad 22). The first IF circuit (IF circuit 1) 4 has signal processing and input / output functions for testing. The two second IF circuits (IF circuits 2 and 3) 5 have a function for input / output. When the function for input / output is unnecessary, the function can be omitted from the first IF circuit 4 and the two second IF circuits 5 themselves can be omitted as in the first pad connection mode.

第2のパッド接続形態によれば、例えば、第2のIF回路(IF回路2)5を信号入力用とし、もう1つの第2のIF回路(IF回路3)5を信号出力用に役割を割り振ることができる。この場合、信号入力経路と信号出力経路の回路や経路のテストを、1つのプローブパッド(第2パッド22)から試験できる。
このとき第1パッド21と第2パッド22の間の経路テストを、2系統のそれぞれで行うことが可能である。
According to the second pad connection mode, for example, the second IF circuit (IF circuit 2) 5 is used for signal input, and the other second IF circuit (IF circuit 3) 5 is used for signal output. Can be allocated. In this case, the circuit of the signal input path and the signal output path and the test of the path can be tested from one probe pad (second pad 22).
At this time, a path test between the first pad 21 and the second pad 22 can be performed in each of the two systems.

図4に、第3のバッド接続形態を示す。
図4に示す第3のパッド接続形態は、1つのプローブパッド(第2パッド22)に対して、N(≧3)個のマイクロバンプパッド(第1パッド21)がそれぞれ直列に接続されている。第1のIF回路(IF回路1)4はテストのための信号処理や入出力の機能を有する。2つの第2のIF回路(IF回路2,3)5は入出力のための機能を有する。入出力のための機能が不要な場合、その機能を第1のIF回路4から省略できること、2つの第2のIF回路5そのものを省略できることは、前記第1のパッド接続形態と同様である。
FIG. 4 shows a third bad connection configuration.
In the third pad connection form shown in FIG. 4, N (≧ 3) micro-bump pads (first pads 21) are connected in series to one probe pad (second pad 22). . The first IF circuit (IF circuit 1) 4 has signal processing and input / output functions for testing. The two second IF circuits (IF circuits 2 and 3) 5 have a function for input / output. When the function for input / output is unnecessary, the function can be omitted from the first IF circuit 4 and the two second IF circuits 5 themselves can be omitted as in the first pad connection mode.

第3のパッド接続形態によれば、例えば、N個の第2のIF回路(IF回路2)5のそれぞれを信号入出力用としてもよいし、その幾つかを信号入力用、残りを信号出力用としてもよい。
いずれにしても、信号の入力時、出力時または入出力時のテストを、1つのプローブパッドから実行できる。なお、このような構成が必要になる場合としては、後述する他の実施形態で述べるようにテスト時にはデータ信号を圧縮または伸張してテスト信号に変換する場合が好適である。この構成は、テスタ等によるチップの一括テスト数を増やして、テストのタクトタイムの削減、試験装置のハードウェハ資源の有効利用を通してテストコストを下げたい場合に有用である。
According to the third pad connection mode, for example, each of the N second IF circuits (IF circuits 2) 5 may be used for signal input / output, some of which may be used for signal input, and the rest for signal output. It may be used.
In any case, a test at the time of signal input, output or input / output can be executed from one probe pad. As a case where such a configuration is required, it is preferable to compress or expand a data signal and convert it into a test signal during a test, as will be described in other embodiments described later. This configuration is useful when it is desired to reduce the test cost by increasing the batch test number of chips by a tester or the like, reducing the tact time of the test, and effectively using the hard wafer resources of the test apparatus.

以上の本実施形態によれば、1つの第2パッド22と内部回路23との間に第1パッド21が必ず1つは直列に接続されている。このため、実動作時には第1パッド21を介した内部回路23への信号の授受が可能である。その一方で、テスト時には、第2パッド22から第1パッド21までの経路(本例の場合、第1のIF回路4)、第1パッド21から内部回路23までの経路8(本例の場合、第2のIF回路5)の経路テストが、第2パッド22から一括して行える。
したがって、経路テストの対象とならない箇所がないため、テストの信頼性が増す。また、テストの信頼性が高いため、テストで合格したチップが結局不良であることが組み立てた後に分かるようなことがなく、その分、資材を無駄にしないでコスト低減が図れる。
According to the embodiment described above, one first pad 21 is always connected in series between one second pad 22 and the internal circuit 23. For this reason, it is possible to send and receive signals to the internal circuit 23 via the first pad 21 during actual operation. On the other hand, during the test, the path from the second pad 22 to the first pad 21 (in this example, the first IF circuit 4) and the path 8 from the first pad 21 to the internal circuit 23 (in this example) The path test of the second IF circuit 5) can be performed collectively from the second pad 22.
Therefore, since there is no portion that is not subject to the path test, the reliability of the test is increased. Further, since the reliability of the test is high, it is not known after assembling that the chip that has passed the test is defective after all, and the cost can be reduced without wasting material.

<2.第2の実施形態>
本実施形態は、図3や図4といった形態と図2の形態を併せもつ、より具体的な回路を開示する実施形態である。
図5(A)に、データの圧縮・伸張機能をもつ第1および第2のIF回路の詳細な構成を含む半導体デバイスの回路ブロック図を示す。また、図5(B)に、メモリチップ2におけるIF回路の配置箇所の例を示す。
<2. Second Embodiment>
The present embodiment is an embodiment that discloses a more specific circuit having both the form of FIG. 3 and FIG. 4 and the form of FIG.
FIG. 5A shows a circuit block diagram of a semiconductor device including a detailed configuration of the first and second IF circuits having a data compression / decompression function. FIG. 5B shows an example of an IF circuit arrangement location in the memory chip 2.

図5(B)に示すように、半導体デバイス1はメモリアレイを任意数もつ。メモリアレイの数に限定はなく、ここでは2つとしている。2つのメモリアレイが、図2〜図4における内部回路23に該当する。   As shown in FIG. 5B, the semiconductor device 1 has an arbitrary number of memory arrays. There is no limitation on the number of memory arrays, here two. The two memory arrays correspond to the internal circuit 23 in FIGS.

図5(A)では、この内部回路(メモリアレイ)との接続経路を7系統だけ示す。この接続経路は図5(A)において符号“RT1〜RT7”により示す。実際のメモリアレイとIF回路の接続経路はもっと多いが、ここでは代表して、図2の1:1接続型を最初の経路R1〜RT3で示し、図4の1対多型を残る経路RT4〜RT7で示す。   FIG. 5A shows only seven systems of connection paths with the internal circuit (memory array). This connection path is indicated by reference numerals “RT1 to RT7” in FIG. Although there are more connection paths between the actual memory array and the IF circuit, here, representatively, the 1: 1 connection type in FIG. 2 is indicated by the first paths R1 to RT3, and the remaining path RT4 in FIG. ~ Shown at RT7.

ここで3つ存在する1:1型経路RT1〜RT3は、RT1がクロックCLK用、RT2がコマンドCMD用、RT3がアドレスADD用である。これらの1:1型経路R1〜R3の各々は、メモリアレイ(内部回路23)が複数ある場合は、少なくとも、その数だけ必要である。これらの1:1型経路を、以下、クロック経路RT1、コマンド経路RT2、アドレス経路RT3という呼び方をする。   The three 1: 1 type paths RT1 to RT3 that exist here are RT1 for the clock CLK, RT2 for the command CMD, and RT3 for the address ADD. When there are a plurality of memory arrays (internal circuits 23), each of these 1: 1 type paths R1 to R3 is required at least as many as the number. These 1: 1 type paths are hereinafter referred to as a clock path RT1, a command path RT2, and an address path RT3.

クロック経路RT1に、第2パッド22としてのクロックパッド22CKと、第1パッド21(マイクロバンプパッド)が設けられている。クロックパッド22CKと第1パッド21との間に、レシーバ51、リピータバッファ41、ドライバ42、および、スイッチ回路43が、この順で直列接続されている。また、第1パッド21のメモリセルアレイ側にレシーバ44が接続されている。
ここでスイッチ回路43は、本発明の“スイッチ”の一例である。また、リピータバッファ41は、配線による信号劣化が軽微な場合は省略可能である。
A clock pad 22CK as the second pad 22 and a first pad 21 (micro bump pad) are provided on the clock path RT1. A receiver 51, a repeater buffer 41, a driver 42, and a switch circuit 43 are connected in series in this order between the clock pad 22CK and the first pad 21. A receiver 44 is connected to the memory cell array side of the first pad 21.
Here, the switch circuit 43 is an example of the “switch” in the present invention. The repeater buffer 41 can be omitted when signal degradation due to wiring is slight.

クロックパッド22CKとレシーバ51の接続箇所にESD保護素子52が配置されている。同様に、第2パッド22とレシーバ44の接続箇所にESD保護素子45が配置されている。ESD保護素子52,45は、静電放電(ESD)を行うことでパッド入力される静電気から内部回路側を保護する素子である。ESD保護素子としては、ダイオード、ダイオード接続トランジスタ、GGMOS(Gate Grounded MOS FET)、或いは、これらの組み合わせが用いられる。   An ESD protection element 52 is disposed at a connection point between the clock pad 22CK and the receiver 51. Similarly, an ESD protection element 45 is disposed at a connection location between the second pad 22 and the receiver 44. The ESD protection elements 52 and 45 are elements that protect the internal circuit side from static electricity input to the pad by performing electrostatic discharge (ESD). As the ESD protection element, a diode, a diode-connected transistor, a GGMOS (Gate Grounded MOS FET), or a combination thereof is used.

スイッチ回路43は、第1パッド21を用いる通常動作時に、第1パッド21からクロックパッド22CKまでの回路や配線が余分な負荷となるため、動作負荷を軽減したい場合に、これらを切り離す回路である。スイッチ回路43を設けることは、この意味で好ましいが、負荷軽減が特性的に不要な場合はスイッチ回路43を省略してよい。
スイッチ回路43は、1つのトランジスタから構成してもよいが、ここでは、PMOSトランジスタとNMOSトランジスタを、ドレイン同士、ソース同士を接続した、いわゆるトランスファーゲートスイッチが、スイッチ回路43に含まれる。スイッチ回路43は、このほかに、上記NMOSトランジスタとPMOSトランジスタを同一の制御信号で駆動するためのインバータを有している。
The switch circuit 43 is a circuit that disconnects the circuit and the wiring from the first pad 21 to the clock pad 22CK during the normal operation using the first pad 21 when the operation load is to be reduced. . Although it is preferable to provide the switch circuit 43 in this sense, the switch circuit 43 may be omitted when load reduction is not necessary in terms of characteristics.
The switch circuit 43 may be composed of one transistor, but here, a so-called transfer gate switch in which a PMOS transistor and an NMOS transistor are connected to each other between drains and sources is included in the switch circuit 43. In addition to this, the switch circuit 43 has an inverter for driving the NMOS transistor and the PMOS transistor with the same control signal.

以上の経路構成は、コマンドパッド2CMを第2パッドとするコマンド経路RT2、アドレスパッド2ADを第2パッドとするアドレス経路RT3においても同様である。   The above path configuration is the same for the command path RT2 using the command pad 2CM as the second pad and the address path RT3 using the address pad 2AD as the second pad.

一方、残る4つの経路RT4〜RT7は、全体で1つの1対多型経路(図4参照)を構成しており、経路RT4とRT5がデータ入力用に、経路RT6とRT7がデータ出力用に機能が割り振られている。
第2パッド22の一例である1つのデータパッド22DTに対し、2つの入力経路共通のレシーバ53と、2つの出力経路共通のドライバ54が並列接続されている。また、データパッド22DTの入出力経路に、他の経路と同様なESD保護素子52が接続されている。
On the other hand, the remaining four routes RT4 to RT7 form a one-to-one polymorphic route (see FIG. 4) as a whole, and routes RT4 and RT5 are for data input, and routes RT6 and RT7 are for data output. The function is allocated.
A receiver 53 common to two input paths and a driver 54 common to two output paths are connected in parallel to one data pad 22DT which is an example of the second pad 22. Further, the ESD protection element 52 similar to the other paths is connected to the input / output path of the data pad 22DT.

レシーバ53の出力に対し、経路RT4とRT5を構成する回路部が並列接続されている。
この回路部は、レシーバ53側から、データ伸張回路46、ドライバ42、スイッチ回路43、ESD保護素子45、レシーバ44を含んで構成される。基本的には、この回路部は、1:1型経路RT1〜RT3のリピータバッファ41がデータ伸張回路46と置き換わったものである。
ドライバ54の入力にデータ圧縮回路47が接続されている。データ圧縮回路47は、データ幅を8ビットとすると、8ビットのデータ信号を1ビットのテスト信号に変換する“データ信号変換回路”の一例である。
The circuit units constituting the paths RT4 and RT5 are connected in parallel to the output of the receiver 53.
This circuit unit includes a data decompression circuit 46, a driver 42, a switch circuit 43, an ESD protection element 45, and a receiver 44 from the receiver 53 side. Basically, this circuit unit is obtained by replacing the repeater buffer 41 of the 1: 1 type paths RT1 to RT3 with a data expansion circuit 46.
A data compression circuit 47 is connected to the input of the driver 54. The data compression circuit 47 is an example of a “data signal conversion circuit” that converts an 8-bit data signal into a 1-bit test signal when the data width is 8 bits.

データ圧縮回路47の入力側は、それぞれ1ビットのデータを入力する経路RT6とRT7の回路部となっている。
この回路部は、データ圧縮回路47の入力をリセットするためのリセットトランジスタRTと、他の経路と同様なスイッチ回路43、第1パッド21、ESD保護素子45およびレシーバ48を含んで構成されている。
リセットトランジスタRTは、例えば1つのNMOSトランジスタで構成され、そのドレインがデータ圧縮回路47の入力に接続され、ソースが接地されている。リセットトランジスタRTのゲートは、本例ではスイッチ回路43を一括制御する制御信号(選択信号SEL)の反転信号で駆動される。
The input side of the data compression circuit 47 is a circuit portion of paths RT6 and RT7 for inputting 1-bit data.
This circuit section is configured to include a reset transistor RT for resetting the input of the data compression circuit 47, a switch circuit 43 similar to other paths, the first pad 21, the ESD protection element 45, and a receiver 48. .
The reset transistor RT is composed of, for example, one NMOS transistor, the drain is connected to the input of the data compression circuit 47, and the source is grounded. In this example, the gate of the reset transistor RT is driven by an inverted signal of a control signal (selection signal SEL) that collectively controls the switch circuit 43.

図6に、データ圧縮回路47の回路構成例を示す。
図6に図示したデータ圧縮回路47は、初段の排他的論理和ゲートの否定(XNOR)がスイッチ回路43からの出力に接続されている。排他的論理和ゲートの否定(XNOR)は出力ビット数に対応して8個設けられている。2段目、3段目、・・・、最終段にかけては、アンド回路ANDで出力数が縮小されて、最終的に1本のテストデータTDQに集約される。
初段の排他的論理和ゲートの否定(XNOR)には期待値が与えられるため、読み出しデータにおいて、期待値と論理が1ビットでも異なれば、テストデータTDQがテスト不合格を示す例えば“0”、全ビットが一致すればテスト合格を示す例えば“1”の論理が出力される。
FIG. 6 shows a circuit configuration example of the data compression circuit 47.
In the data compression circuit 47 shown in FIG. 6, the negation (XNOR) of the exclusive OR gate at the first stage is connected to the output from the switch circuit 43. Eight exclusive OR gate negations (XNOR) are provided corresponding to the number of output bits. In the second stage, the third stage,..., And the final stage, the number of outputs is reduced by the AND circuit AND, and is finally collected into one test data TDQ.
Since the expected value is given to the negation (XNOR) of the exclusive OR gate in the first stage, if the expected value and the logic differ even by 1 bit in the read data, the test data TDQ indicates a test failure, for example “0”, If all bits match, for example, a logic “1” indicating that the test has passed is output.

このようなデータ圧縮回路47は、本発明の適用に際して必須ではない。但し、第1パッド21を多数配置したため、その第2パッド22を、同じ数だけ配置できない場合を鑑みると、このようなデータ圧縮でテスト結果を出力する構成が望ましい。   Such a data compression circuit 47 is not essential when the present invention is applied. However, since a large number of first pads 21 are arranged, considering the case where the same number of second pads 22 cannot be arranged, a configuration in which test results are output by such data compression is desirable.

一方、データ伸張回路46の詳細は省略するが、この回路は、スクランブル信号と排他的論理和をとる排他的論理和ゲートの否定(XNOR)を含んで構成される。これは、メモリアレイの隣り合う列でデータパターンの論理“1”と“0”を入れ替えるスクランブルテストに適合した構成である。メモリではランダムなデータパターンが実使用時に入力され、あるいは出力されるが、テストパターンで全ての組み合わせで行うとテストの負荷が増大する。スクランブルテストは論理を入れ替える構成によって、テスト負荷を軽減するものである。
なお、このようなデータ伸張回路46は、本発明の適用に際しては必須ではない。但し、第2パッド22の数を第1パッド21に比べて減らす構成では、テスト負荷軽減に貢献するため、データ伸張回路46を内蔵させることが望ましい。
On the other hand, although details of the data decompression circuit 46 are omitted, this circuit is configured to include an exclusive OR gate negation (XNOR) that performs an exclusive OR with the scramble signal. This is a configuration suitable for a scramble test in which logic “1” and “0” of the data pattern are exchanged in adjacent columns of the memory array. In the memory, a random data pattern is input or output at the time of actual use. However, if the test pattern is used in all combinations, the test load increases. The scramble test reduces the test load by changing the logic.
Such a data decompression circuit 46 is not essential when applying the present invention. However, in the configuration in which the number of the second pads 22 is reduced as compared with the first pads 21, it is desirable to incorporate the data decompression circuit 46 in order to contribute to reducing the test load.

以上のように、第2の実施形態では、クロック、コマンド、アドレスの入力経路は、マイクロバンプ(第1パッド21)とプローブパッド(第2パッド22)を組みとして含む。一方、データのテストのための構成は、データ入出力用として共通な1つのデータパッド22DT(第2パッド22)に対して並列に接続させることで、プローブカードのピン数の削減を実現することができる。   As described above, in the second embodiment, the clock, command, and address input paths include the micro bump (first pad 21) and the probe pad (second pad 22) as a set. On the other hand, the configuration for data test is realized by reducing the number of pins of the probe card by connecting in parallel to one data pad 22DT (second pad 22) common for data input / output. Can do.

具体的に、データパッド22DTをテスト時の入出力共通パッドとし、データ入力経路RT4とRT5では、2つの第1パッド21を通常動作時に個別のデータD0とD1が供給される独立したパッドとしている。
通常動作時に入力される個別の入力データD0とD1に代えて、テスト時には、データパッド22DTから入力されるテストデータ信号と、不図示の第2パッドから入力されるスクランブル信号とのXNORをとり伸張された信号を内部回路に供給する。これにより、1つのテストパッドを用いて、メモリアレイの2列のテストが可能になっている。なお、データ伸張回路46を図6の圧縮回路と同様に多段構成にすることで、例えば8、16、…といった多数ビットの列テストを1つの入出力共通パッドで実行可能である。
Specifically, the data pad 22DT is an input / output common pad at the time of testing, and the two first pads 21 are independent pads to which individual data D0 and D1 are supplied during normal operation in the data input paths RT4 and RT5. .
Instead of individual input data D0 and D1 input during normal operation, XNOR of a test data signal input from the data pad 22DT and a scramble signal input from a second pad (not shown) is expanded during the test. The signal is supplied to the internal circuit. As a result, two columns of the memory array can be tested using one test pad. It should be noted that a multi-bit column test such as 8, 16,... Can be executed with a single input / output common pad, for example, by configuring the data expansion circuit 46 in a multi-stage configuration like the compression circuit of FIG.

同様に、データ出力経路RT6とRT7では、データパッド22DTをテスト時の入出力共通パッドとし、2つの第1パッド21を、通常動作時に個別の出力データQ0とQ1を出力する独立したパッドとしている。
通常動作時に出力される個別のデータQ0とD1に代えて、テスト時には、メモリアレイから出力される出力データQ0,Q1,…を、不図示の第2パッドから入力する期待値と比較し、比較結果を圧縮してテストデータを発生する。発生したテストデータは、データパッド22DTから、外部のテスタ等に出力できるようにしている。
以上の構成と動作から分かるように、本実施形態では、4つのマイクロバンプパッドを1つのプローブパッドで代替可能としている。
Similarly, in the data output paths RT6 and RT7, the data pad 22DT is an input / output common pad at the time of testing, and the two first pads 21 are independent pads that output individual output data Q0 and Q1 at the time of normal operation. .
Instead of the individual data Q0 and D1 output during normal operation, the output data Q0, Q1,... Output from the memory array are compared with expected values input from the second pad (not shown) during the test. Compress the results to generate test data. The generated test data can be output from the data pad 22DT to an external tester or the like.
As can be seen from the above configuration and operation, in the present embodiment, four micro bump pads can be replaced with one probe pad.

次に、第1パッド21を、第2パッド22と内部回路の直列接続経路の途中に挿入するように設けたことの利点を、この利点が得られない比較例と比べることで、より一層明らかにする。   Next, the advantage of providing the first pad 21 so as to be inserted in the middle of the series connection path of the second pad 22 and the internal circuit is further clarified by comparing with the comparative example in which this advantage cannot be obtained. To.

[比較例]
図7と図8に、比較例のブロック間の接続経路図と、より詳細なIF回路例を示す回路ブロック図とを示す。図7が、本発明が適用された図2〜図4に対応し、図8が図5(A)に対応する。
[Comparative example]
7 and 8 are a connection path diagram between blocks of a comparative example, and a circuit block diagram showing a more detailed example of an IF circuit. 7 corresponds to FIGS. 2 to 4 to which the present invention is applied, and FIG. 8 corresponds to FIG.

図7の比較例の接続経路図は、基本的には図2と比較すると明らかなように、プローブパッド(第1パッド21)が第2パッド22(マイクロバンプパッド)と内部回路23との経路途中ではなく、IF回路40に対し同列(並列)に接続されている。IF回路40は、特許文献1にもあるように(経路)選択スイッチの役目を必ず有し、その選択された信号が、内部回路との入出力が許可される。そのため、プローブパッドからマイクロバンプパッドの経路を試験することが出来なかった。   The connection path diagram of the comparative example of FIG. 7 is basically a path between the probe pad (first pad 21) and the second pad 22 (micro bump pad) and the internal circuit 23, as is apparent from comparison with FIG. Not in the middle, but connected to the IF circuit 40 in the same row (in parallel). As described in Patent Document 1, the IF circuit 40 always has a role of a (path) selection switch, and input / output of the selected signal with the internal circuit is permitted. Therefore, the path from the probe pad to the micro bump pad could not be tested.

図8は、図5(A)と同一構成は同一符号を付している。
図5(A)では経路の接続と遮断を制御するためスイッチ回路43が設けられているが、図8では、これに代わって経路選択スイッチとしてセレクタ49が配置される。なお、セレクタ49は、入力セレクタを回路ブロックで示し、出力セレクタをアンド回路で示しているが、入力側を切り換えるか出力側を切り換えるかの違いであり、基本的な機能としては同じものである。
In FIG. 8, the same components as those in FIG.
In FIG. 5A, a switch circuit 43 is provided to control connection and disconnection of the route, but in FIG. 8, a selector 49 is arranged as a route selection switch instead. In the selector 49, the input selector is indicated by a circuit block and the output selector is indicated by an AND circuit. However, the selector 49 is different in whether the input side is switched or the output side is switched, and the basic functions are the same. .

経路RT1〜RT5に設けられた(入力)セレクタ49は、その第1入力に、レシーバ44、ESD保護素子45および第1パッド21が直列に接続されている。また、第2入力には、ドライバ42の出力が接続されている。(入力)セレクタ49は、与えられる選択信号SELの論理に応じて出力に対し、第1入力側と第2入力側を排他的に接続する。
経路RT6とRT7に設けられた(出力)セレクタは、その第1出力に、レシーバ48、ESD保護素子45および第1パッド21が直列に接続されている。また、第2出力は、データ圧縮回路47のデータ入力端子に接続されている。(出力)セレクタ49は、与えられる選択信号SELの論理に応じて入力に対し、第1出力側と第2出力側を排他的に接続する。
なお、その他の構成は図8と図5(A)で共通する。
The (input) selector 49 provided in the paths RT1 to RT5 has a receiver 44, an ESD protection element 45, and a first pad 21 connected in series to the first input. The output of the driver 42 is connected to the second input. The (input) selector 49 exclusively connects the first input side and the second input side to the output according to the logic of the selection signal SEL to be applied.
In the (output) selector provided in the paths RT6 and RT7, the receiver 48, the ESD protection element 45, and the first pad 21 are connected in series to the first output. The second output is connected to the data input terminal of the data compression circuit 47. The (output) selector 49 exclusively connects the first output side and the second output side to the input according to the logic of the selection signal SEL to be applied.
Other configurations are common to FIGS. 8 and 5A.

図8の比較例では、プローブパッド(データパッド22DT等の第2パッド)から試験を行う際、マイクロバンプの経路の第1パッド21からセレクタ49までの間を経路テストできない。このため、パッドの断線、ドライバ、レシーバの不具合、セレクタの片側部分の不具合などを発見することができない。
これに対し、図2〜図4および図5(A)に開示する本実施形態の構成では、プローブパッドからの経路とマイクロバンプパッドからの経路を直列に繋ぐことで、この不具合の発生がない。
In the comparative example of FIG. 8, when the test is performed from the probe pad (second pad such as the data pad 22DT), the path test from the first pad 21 of the micro bump path to the selector 49 cannot be performed. For this reason, the disconnection of the pad, the failure of the driver and the receiver, the failure of one side portion of the selector, etc. cannot be found.
On the other hand, in the configuration of the present embodiment disclosed in FIGS. 2 to 4 and 5A, this problem does not occur by connecting the path from the probe pad and the path from the micro bump pad in series. .

以上の第1および第2の実施形態において、以下の変形例が実施できる。   In the first and second embodiments described above, the following modifications can be implemented.

<第1変形例>
第1変形例は、テスト回路(IF回路)のチップ配置位置に関する。
<First Modification>
The first modification relates to the chip arrangement position of the test circuit (IF circuit).

マイクロバンプパッド(第1パッド21)は比較的小さいため、配置の自由度が高い。よって、マイクロバンプパッドはチップ内の任意の場所に配置してよい。そのため、マイクロバンプパッドはマイクロバンプ経由に付く寄生容量を削減するために、インターフェース回路(レシーバ、ドライバ、ESD保護回路など)と、プローブパッド(第2パッド22)の経路との切り離し回路の近くに配置することが望まれる。   Since the micro bump pad (first pad 21) is relatively small, the degree of freedom in arrangement is high. Therefore, the micro bump pad may be disposed at any place in the chip. For this reason, in order to reduce the parasitic capacitance attached to the micro bump via the micro bump, the micro bump pad is close to the circuit that separates the interface circuit (receiver, driver, ESD protection circuit, etc.) from the path of the probe pad (second pad 22). It is desirable to arrange.

但し、テスト回路の機能を含むインターフェース回路自体は、フロアプランの都合で任意の場所に配置してよい。
プローブパッドは比較的大きくテスト環境(プローブカードの針の本数や同時測定数)に依存した配置の制約があるため、必ずしもマイクロバンプの経路の近くに配置できるとは限らない。
However, the interface circuit itself including the function of the test circuit may be arranged at an arbitrary place for the convenience of the floor plan.
Since the probe pad is relatively large and has an arrangement restriction depending on the test environment (the number of probe card needles and the number of simultaneous measurements), the probe pad cannot always be arranged near the path of the micro bump.

以上の制約は、内部回路の種類や数、顧客の要望や設計方針で種々であるため、その制約を満たすインターフェース回路およびテスト回路の配置も種々存在する。   The above restrictions vary depending on the types and number of internal circuits, customer requests, and design policies. Therefore, there are various arrangements of interface circuits and test circuits that satisfy the restrictions.

図9(A)〜図9(D)は、図5(B)に代えて採用可能な配置図である。
マイクロバンプパッド(第1パッド21)を含む経路のIF回路と、プローブパッド(第2パッド22)を含む経路のIF回路は、図9(A)のようにT字型配置としてよい。このIF回路配置により区分けされる2つの領域(図9(A)の空白領域)に内部回路を分割して配置する。
または、この2つのIF回路を図9(B)のように十字型配置として、それにより区分けされる4つの領域に内部回路を分割して配置してもよい。
内部回路を2分割する場合は、図5(B)や図9(A)の他に、図9(D)のようにしてもよい。この場合、マイクロバンプパッド(第1パッド21)を含む経路のIF回路と、プローブパッド(第2パッド22)を含む経路のIF回路が隣接して配置される。
さらに、2つのIF回路を、図9(C)のようにチップの片側に寄せて配置することもできる。
9A to 9D are layout diagrams that can be used instead of FIG. 5B.
The IF circuit in the path including the micro bump pad (first pad 21) and the IF circuit in the path including the probe pad (second pad 22) may be arranged in a T shape as shown in FIG. The internal circuit is divided and arranged in two areas (blank areas in FIG. 9A) divided by the IF circuit arrangement.
Alternatively, the two IF circuits may be arranged in a cross shape as shown in FIG. 9B, and the internal circuit may be divided and arranged in four regions divided by the IF circuit.
When the internal circuit is divided into two, in addition to FIG. 5 (B) and FIG. 9 (A), it may be as shown in FIG. 9 (D). In this case, the path IF circuit including the micro bump pad (first pad 21) and the path IF circuit including the probe pad (second pad 22) are arranged adjacent to each other.
Further, the two IF circuits can be arranged close to one side of the chip as shown in FIG.

<第2変形例(その他の変形例)>
上記第1および第2の実施形態では、2チップ積層型の半導体デバイスにおいて、本発明の実施形態を説明している。
但し、チップの積層数に限定はなく、3チップ以上の積層でもよい。その場合、3層以上に重ねてもよいし、1つのベースとなるチップの異なる領域に、それぞれ1つ、または、複数のチップを重ねた構成でもよい。
いずれにしても、上記第1および第2の実施形態で説明したテストが行えない経路をなくすパッド接続構造が、何れか1以上のチップに適用されていればよい。また、内部回路はメモリアレイである必要はない。本発明が適用されたチップを載置するチップがロジックチップ3である必要もない。
<Second Modification (Other Modifications)>
In the first and second embodiments, the embodiments of the present invention are described in the case of a two-chip stacked semiconductor device.
However, the number of stacked chips is not limited and may be a stack of 3 chips or more. In that case, three or more layers may be stacked, or one or a plurality of chips may be stacked in different regions of one base chip.
In any case, the pad connection structure that eliminates the path that cannot be tested as described in the first and second embodiments may be applied to any one or more chips. Also, the internal circuit need not be a memory array. The chip on which the chip to which the present invention is applied is not necessarily the logic chip 3.

図1においては、ロジックチップ3が面積としてメモリチップ2より大きい場合を例示するが、面積の大小関係は、これと逆でもよい。
また、ロジックチップ3のパッドから、ワイヤ33により外部端子を取り出す必要は必ずしもない。例えば、ロジックチップ3の裏面BGAまたはSi貫通ビア等によって外部接続を達成してもよい。
In FIG. 1, the case where the logic chip 3 is larger than the memory chip 2 as an area is illustrated, but the size relationship may be reversed.
Further, it is not always necessary to take out the external terminal by the wire 33 from the pad of the logic chip 3. For example, external connection may be achieved by the back surface BGA of the logic chip 3 or a Si through via.

また、図1はモールド樹脂封入や中空パッケージ構造を想定するが、ロジックチップ3の上にメモリチップ2を、その逆に、メモリチップ2の上にロジックチップ3をベアチップ実装するようにしてもよい。   1 assumes a mold resin encapsulation or a hollow package structure, the memory chip 2 may be mounted on the logic chip 3 and conversely, the logic chip 3 may be mounted on the memory chip 2 in a bare chip. .

メモリチップを搭載する場合、そのメモリアレイの記憶素子は、DRAM、SRAM、不揮発性メモリ、その他メモリの何れであってもよい。不揮発性メモリは、電荷蓄積能力を有するメモリトランジスタを記憶素子とするもの、抵抗変化素子を記憶素子とするもの、磁気素子を記憶素子とするものなど、どのようなものでもよい。
1対多のインターフェースを要請するメモリ方式はDDR方式など種々存在し、そのメモリ方式に限定はない。
When a memory chip is mounted, the memory element of the memory array may be any of DRAM, SRAM, nonvolatile memory, and other memories. The nonvolatile memory may be anything such as a memory transistor having a charge storage capability as a memory element, a resistance variable element as a memory element, or a magnetic element as a memory element.
There are various memory systems that require a one-to-many interface, such as the DDR system, and the memory system is not limited.

以上の第1および第2の実施形態、並びに、第1および第2変形例によれば、以下の利点が得られる。   According to the first and second embodiments and the first and second modifications, the following advantages can be obtained.

ウェハ状態でプローブパッドからマイクロバンプパッドの経路をテストできるため、マイクロバンプで別チップと組み立て後の動作状態をウェハ状態で模すことができる。これにより、本発明が非適用の場合に組み立て後にしか確認できない不良チップ領域をウェハ状態で発見することができ、不良品廃棄に伴うコストを削減することができる。
積層後は、プローブパッドの経路を切り離し回路で切り離すことができるので、マイクロバンプ経由で使用した際の特性にほとんど影響を与えない。
また、プローブパッドとマイクロバンプ用パッドの間にIF回路やテスト回路を挿入することができるので、例えば圧縮・伸張回路を挿入し、プローブパッド数を削減したり、リピータバッファを挿入して、プローブパッドをチップ端に配置したりすることができる。
なお、マイクロバンプパッドからの経路(切り離し回路からマイクロバンプパッド用のレシーバやドライバまでの間)にSi貫通電極を具備している場合にも上記の効果を得ることができる。
Since the path from the probe pad to the micro bump pad can be tested in the wafer state, the operation state after assembling with another chip can be simulated in the wafer state with the micro bump. Thereby, when the present invention is not applied, a defective chip area that can be confirmed only after assembly can be found in a wafer state, and the cost associated with disposal of defective products can be reduced.
After lamination, the probe pad path can be separated by a separation circuit, so that the characteristics when used via micro bumps are hardly affected.
In addition, since an IF circuit or test circuit can be inserted between the probe pad and the micro bump pad, for example, a compression / expansion circuit can be inserted to reduce the number of probe pads or a repeater buffer to insert a probe. Pads can be placed at the chip edges.
The above effect can also be obtained when the Si through electrode is provided in the path from the micro bump pad (between the separation circuit and the receiver or driver for the micro bump pad).

1…半導体デバイス、2…メモリチップ、3…ロジックチップ、4…第1のIF回路、5…第2のIF回路、11…モジュール基板、12…パッケージ部材、21…第1パッド(マイクロバンプパッド)、22…第2パッド(プローブパッド)、23…内部回路、40…IF回路、41…リピータバッファ、43…スイッチ回路、45…ESD保護素子、46…データ伸張回路、47…データ圧縮回路、49…セレクタ。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor device, 2 ... Memory chip, 3 ... Logic chip, 4 ... 1st IF circuit, 5 ... 2nd IF circuit, 11 ... Module substrate, 12 ... Package member, 21 ... 1st pad (micro bump pad) ), 22 ... second pad (probe pad), 23 ... internal circuit, 40 ... IF circuit, 41 ... repeater buffer, 43 ... switch circuit, 45 ... ESD protection element, 46 ... data decompression circuit, 47 ... data compression circuit, 49. Selector.

Claims (11)

半導体基板と、
前記半導体基板に形成された内部回路と、
前記半導体基板に形成されたテストのための複数の第2パッドと、
前記半導体基板に形成され、対応する第2パッドと前記内部回路との接続経路に各々が配置された、データ入出力のための複数の第1パッドと、
を有する半導体デバイス。
A semiconductor substrate;
An internal circuit formed on the semiconductor substrate;
A plurality of second pads for testing formed on the semiconductor substrate;
A plurality of first pads for data input / output, each formed on a connection path between the corresponding second pad and the internal circuit, formed on the semiconductor substrate;
A semiconductor device having:
前記複数の第1パッドの各々を、対応する第2パッドと電気的に切断または導通させるスイッチが、前記複数の第1パッドと前記複数の第2パッドとの間に複数配置されている
請求項1に記載の半導体デバイス。
The switch for electrically disconnecting or conducting each of the plurality of first pads from the corresponding second pad is disposed between the plurality of first pads and the plurality of second pads. 2. The semiconductor device according to 1.
複数の前記スイッチと、前記複数の第2パッドとの間にテストのための信号処理回路が配置されている
請求項2に記載の半導体デバイス。
The semiconductor device according to claim 2, wherein a signal processing circuit for a test is disposed between the plurality of switches and the plurality of second pads.
前記第1パッドは、前記第2パッドの数以上、設けられている
請求項3に記載の半導体デバイス。
The semiconductor device according to claim 3, wherein the number of the first pads is equal to or more than the number of the second pads.
前記信号処理回路は、前記内部回路に入出力されるデータ信号と、テスト時に、より少ない数のテストデータ信号とを変換するデータ信号変換回路を含む
請求項4に記載の半導体デバイス。
The semiconductor device according to claim 4, wherein the signal processing circuit includes a data signal conversion circuit that converts a data signal input / output to / from the internal circuit and a smaller number of test data signals during a test.
前記第1パッドは、前記第2パッドより面積が小さい
請求項5に記載の半導体デバイス。
The semiconductor device according to claim 5, wherein the first pad has a smaller area than the second pad.
前記第1パッドがマイクロバンプ用のパッドであり、前記第2パッドがテストプローブ用のパッドである
請求項6に記載の半導体デバイス。
The semiconductor device according to claim 6, wherein the first pad is a microbump pad, and the second pad is a test probe pad.
前記第1パッドは、前記第2パッドの数以上、設けられている
請求項1に記載の半導体デバイス。
The semiconductor device according to claim 1, wherein the number of the first pads is equal to or greater than the number of the second pads.
前記第1パッドは、前記第2パッドより面積が小さい
請求項1に記載の半導体デバイス。
The semiconductor device according to claim 1, wherein the first pad has a smaller area than the second pad.
複数の内部接続パッドと、複数の外部接続パッドとを一方の主面に有する第1半導体チップと、
前記第1半導体チップの前記一方の主面に載置されて、当該第1半導体チップと電気的に接続されている第2半導体チップと、
を有し、
前記第2半導体チップは、
半導体基板と、
前記半導体基板に形成された内部回路と、
前記半導体基板に形成されたテストのための複数の第2パッドと、
前記半導体基板の前記第1半導体チップとの対向する主面に形成されて前記複数の内部接続パッドと接続し、かつ、対応する第2パッドと前記内部回路との接続経路に各々が配置された、データ入出力のための複数の第1パッドと、
を有する半導体デバイス。
A first semiconductor chip having a plurality of internal connection pads and a plurality of external connection pads on one main surface;
A second semiconductor chip placed on the one main surface of the first semiconductor chip and electrically connected to the first semiconductor chip;
Have
The second semiconductor chip is
A semiconductor substrate;
An internal circuit formed on the semiconductor substrate;
A plurality of second pads for testing formed on the semiconductor substrate;
Formed on the main surface of the semiconductor substrate facing the first semiconductor chip to connect to the plurality of internal connection pads, and each disposed in a connection path between the corresponding second pad and the internal circuit A plurality of first pads for data input / output;
A semiconductor device having:
前記内部回路はメモリアレイを含む
請求項10に記載の半導体デバイス。
The semiconductor device according to claim 10, wherein the internal circuit includes a memory array.
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