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JP2011095406A - Electrochromic mirror - Google Patents

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JP2011095406A
JP2011095406A JP2009247912A JP2009247912A JP2011095406A JP 2011095406 A JP2011095406 A JP 2011095406A JP 2009247912 A JP2009247912 A JP 2009247912A JP 2009247912 A JP2009247912 A JP 2009247912A JP 2011095406 A JP2011095406 A JP 2011095406A
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JP
Japan
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film
electrochromic
silver
conductive
conductive reflective
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Pending
Application number
JP2009247912A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Nakaho
純一 仲保
Masaharu Hattori
正治 服部
Atsushi Yamaguchi
敦 山口
Nagahiro Saito
永宏 齋藤
Osamu Takai
治 高井
Koji Mitamura
紘志 御田村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nagoya University NUC
Tokai Rika Co Ltd
Original Assignee
Nagoya University NUC
Tokai Rika Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Nagoya University NUC, Tokai Rika Co Ltd filed Critical Nagoya University NUC
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Abstract

【課題】反射膜に銀を用いても、エレクトロクロミック膜の変色が抑制されたエレクトロクロミックミラーを得る。
【解決手段】本エレクトロクロミックミラー10では、エレクトロクロミック膜16と、銀を含む導電性反射膜18と、仕事関数が銀以下である金属からなる保護膜36とを設けているため、エレクトロクロミック膜16への銀の拡散が抑制され、エレクトロクロミック膜16の黄変を抑制することができる。
【選択図】図1
An electrochromic mirror in which discoloration of an electrochromic film is suppressed even when silver is used for a reflective film is obtained.
In the electrochromic mirror 10, an electrochromic film 16, a conductive reflective film 18 containing silver, and a protective film 36 made of a metal having a work function equal to or lower than silver are provided. The diffusion of silver to 16 is suppressed, and yellowing of the electrochromic film 16 can be suppressed.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、例えば、車両の後方確認用としてアウタミラーやインナミラーに用いられて電圧を印加することにより反射率を可変できるエレクトロクロミックミラーに関する。   The present invention relates to an electrochromic mirror that can be used for an outer mirror or an inner mirror for confirming the rear of a vehicle, and whose reflectance can be varied by applying a voltage.

下記特許文献1に開示されたエレクトロクロミックミラーでは、エレクトロクロミック膜と反射膜の間に透明なリチウムイオン透過膜が設けられている。これにより反射膜に含まれる銀がエレクトロクロミック膜に拡散することを防止し、エレクトロクロミック膜が着色することを抑制することができる。   In the electrochromic mirror disclosed in Patent Document 1 below, a transparent lithium ion permeable film is provided between the electrochromic film and the reflective film. Thereby, silver contained in the reflective film can be prevented from diffusing into the electrochromic film, and coloring of the electrochromic film can be suppressed.

特開2009−8747号公報JP 2009-8747 A

しかしながら、エレクトロクロミック膜の着色は抑制できるものの、透明なリチウムイオン透過膜は一般に導電性が低く、十分な着色消色性を得ることが難しい場合があった。
本発明は、上記事実を考慮して、着色消色性を良好に保ちつつエレクトロクロミック膜の変色が抑制されたエレクトロクロミックミラーを得ることが目的である。
However, although coloring of the electrochromic film can be suppressed, a transparent lithium ion permeable film generally has low conductivity, and it may be difficult to obtain sufficient coloring and decoloring properties.
In view of the above facts, an object of the present invention is to obtain an electrochromic mirror in which discoloration of an electrochromic film is suppressed while maintaining good color decoloring properties.

請求項1に記載の本発明にかかるエレクトロクロミックミラーは、還元反応することで着色されるエレクトロクロミック膜と、前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側に形成されて前記エレクトロクロミック膜を透過した光を反射すると共に導電性を有し、銀または銀を含む合金により形成された導電性反射膜と、前記導電性反射膜の厚さ方向一方の側で前記エレクトロクロミック膜とは反対側に設けられ、仕事関数が銀以下である金属を含んで形成された保護膜と、前記保護膜の厚さ方向一方の側で前記導電性反射膜とは反対側に設けられた導電性を有する導電性膜と、前記導電性膜の前記導電性反射膜の側で活性炭を含めて形成された導電性を有するカーボン膜と、リチウムイオンを含めて構成されて前記保護膜と前記導電性膜との間に封入され、前記導電性膜を正とし、前記導電性反射膜または前記保護膜を負として電圧を印加することで前記リチウムイオンが前記エレクトロクロミック膜の側へ移動して、前記エレクトロクロミック膜の還元反応に供される電解液と、を備えている。   The electrochromic mirror according to the first aspect of the present invention is formed on one side in the thickness direction of the electrochromic film that is colored by a reduction reaction and is transmitted through the electrochromic film. Provided on the opposite side of the electrochromic film on one side in the thickness direction of the conductive reflective film, and having a conductive reflective film that reflects light and has conductivity and is formed of silver or an alloy containing silver A protective film formed of a metal having a work function equal to or lower than silver, and a conductive film provided on one side of the protective film in the thickness direction opposite to the conductive reflective film. A conductive carbon film including activated carbon on the conductive reflective film side of the conductive film, and the protective film and the conductive film including lithium ions. The lithium ion is moved to the electrochromic film side by applying a voltage with the conductive film being positive and the conductive reflective film or the protective film being negative. And an electrolytic solution used for the reduction reaction of the membrane.

請求項1に記載の本発明にかかるエレクトロクロミックミラーでは、仕事関数が銀以下である金属を含めて形成された保護膜により、エレクトロクロミック膜への銀イオンの拡散を抑制し、エレクトロクロミック膜の変色が抑制される。   In the electrochromic mirror according to the first aspect of the present invention, diffusion of silver ions to the electrochromic film is suppressed by the protective film formed including a metal having a work function of silver or less, and the electrochromic film Discoloration is suppressed.

請求項2に記載の本発明にかかるエレクトロクロミックミラーは、請求項1に記載の本発明において、前記銀よりも仕事関数が小さい金属は、モース硬度が4以下であることを特徴としている。   The electrochromic mirror according to the second aspect of the present invention is the electrochromic mirror according to the first aspect of the present invention, wherein the metal having a work function smaller than the silver has a Mohs hardness of 4 or less.

請求項2に記載の本発明にかかるエレクトロクロミックミラーでは、モース硬度が4以下の金属を含んで形成された保護膜により、前記導電性反射膜の耐久性が向上し、導電性反射膜の白濁化が抑制される。   In the electrochromic mirror according to the second aspect of the present invention, the durability of the conductive reflective film is improved by the protective film formed by including a metal having a Mohs hardness of 4 or less. Is suppressed.

請求項3に記載の本発明にかかるエレクトロクロミックミラーは、請求項1または請求項2に記載の発明において、前記銀よりも仕事関数が小さい金属は、ビスマスまたはスズであることを特徴としている。   The electrochromic mirror according to the third aspect of the present invention is characterized in that, in the invention according to the first or second aspect, the metal having a work function smaller than that of silver is bismuth or tin.

請求項3の本発明にかかるエレクトロクロミックミラーでは、ビスマスまたはスズを含んで形成された保護膜により、前記導電性反射膜の耐久性がさらに向上し、導電性反射膜の白濁化がより効果的に抑制される。   In the electrochromic mirror according to the third aspect of the present invention, the protective film formed by containing bismuth or tin further improves the durability of the conductive reflective film, and the whitening of the conductive reflective film is more effective. To be suppressed.

以上説明したように、本発明にかかるエレクトロクロミックミラーでは、エレクトロクロミック膜の変色が抑制される。   As described above, in the electrochromic mirror according to the present invention, discoloration of the electrochromic film is suppressed.

本発明のエレクトロクロミックミラーの構成例の概略を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the outline of the structural example of the electrochromic mirror of this invention.

図1には本発明にかかるエレクトロクロミックミラーの構成の一例が概略的な断面図により示されている。
図1に示されるように、エレクトロクロミックミラー10は表面側基板12を備えている。表面側基板12はガラス等により形成された透明の基板本体14を備えている。前記基板本体14を構成する材質は、ミラーの表面を構成するのに適する透明性(透光性)を有するものであれば特に制限はない。例えば、ガラス(無機ガラス)や樹脂を挙げることができる。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of the configuration of an electrochromic mirror according to the present invention.
As shown in FIG. 1, the electrochromic mirror 10 includes a surface side substrate 12. The front-side substrate 12 includes a transparent substrate body 14 made of glass or the like. The material constituting the substrate body 14 is not particularly limited as long as it has transparency (translucency) suitable for constituting the surface of the mirror. For example, glass (inorganic glass) and resin can be mentioned.

この基板本体14の厚さ方向一方(図1の矢印W方向)側の面にはエレクトロクロミック膜16が形成されている。エレクトロクロミック膜16は、例えば、三酸化タングステン(WO)や三酸化モリブデン(MoO)、又は、このような酸化物が含まれる混合物により形成されており、特に、本発明においては、三酸化タングステンによりエレクトロクロミック膜16が形成されていることが好ましい。
また基板本体14の厚さ方向に沿ったエレクトロクロミック膜16の厚さには、特に制限はなく、例えば、300nm以上1000nm以下の範囲で設定することができる。本発明においては反射率低下の観点から、エレクトロクロミック膜16の厚さは400nm以上600nm以下であることが好ましい。
An electrochromic film 16 is formed on the surface of the substrate body 14 on one side in the thickness direction (the direction of arrow W in FIG. 1). The electrochromic film 16 is formed of, for example, tungsten trioxide (WO 3 ), molybdenum trioxide (MoO 3 ), or a mixture containing such an oxide. It is preferable that the electrochromic film 16 is formed of tungsten.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the thickness of the electrochromic film | membrane 16 along the thickness direction of the substrate main body 14, For example, it can set in the range of 300 nm or more and 1000 nm or less. In the present invention, the thickness of the electrochromic film 16 is preferably 400 nm or more and 600 nm or less from the viewpoint of a decrease in reflectance.

前記基板本体上にエレクトロクロミック膜を形成する方法としては、特に制限なく通常用いられる方法を適用することができる。例えば、蒸着法、スパッタリング法等を挙げることができる。   As a method of forming an electrochromic film on the substrate body, a method that is usually used can be applied without any particular limitation. For example, a vapor deposition method, a sputtering method, etc. can be mentioned.

このエレクトロクロミック膜16の基板本体14とは反対側の面には導電性反射膜18が形成されている。この導電性反射膜18は、導電性を有し、且つ、リチウムイオンの透過が可能な光沢を有する反射膜であって、銀または銀を含む合金から形成される。前記銀を含む合金は銀を主体としてその他の金属(好ましくは、カチオン透過性の高い金属材料)を含んで構成される。前記銀を含む合金を構成する銀以外の金属としては、例えば、ロジウム(Rh)、ルテニウム(Ru)、パラジウム(Pd)、ニッケル(Ni)等を挙げることができ、中でもパラジウム(Pd)を含む合金であることが好ましい。かかる態様であることで導電性反射膜のカチオン透過性が向上し、応答速度が向上する。
また、基板本体14の厚さ方向に沿った導電性反射膜18の厚さには特に制限はく、例えば、30nm以上200nm以下の範囲で設定することができる。本発明においては、導電性と反射率の観点から、導電性反射膜18の厚さは、40nm以上60nm以下であることが好ましい。
A conductive reflective film 18 is formed on the surface of the electrochromic film 16 opposite to the substrate body 14. The conductive reflective film 18 is a reflective film having conductivity and gloss capable of transmitting lithium ions, and is formed of silver or an alloy containing silver. The alloy containing silver is mainly composed of silver and other metals (preferably, a metal material having high cation permeability). Examples of the metal other than silver constituting the silver-containing alloy include rhodium (Rh), ruthenium (Ru), palladium (Pd), nickel (Ni), and the like. Among them, palladium (Pd) is included. An alloy is preferred. With such an embodiment, the cation permeability of the conductive reflective film is improved, and the response speed is improved.
Moreover, there is no restriction | limiting in particular in the thickness of the electroconductive reflection film 18 along the thickness direction of the substrate main body 14, For example, it can set in the range of 30 nm or more and 200 nm or less. In the present invention, the thickness of the conductive reflective film 18 is preferably 40 nm or more and 60 nm or less from the viewpoint of conductivity and reflectance.

前記導電性反射膜は、種々の物理的または化学的蒸着法によって作製(成膜)することができる。例えば、銀を含むターゲット材料を用意し、そのターゲット材料を用いて種々のスパッタリングを行なうことによって銀を含む導電性反射膜を前記エレクトロクロミック膜上に形成することができる。   The conductive reflective film can be produced (deposited) by various physical or chemical vapor deposition methods. For example, a conductive reflective film containing silver can be formed on the electrochromic film by preparing a target material containing silver and performing various sputtering using the target material.

また導電性反射膜18のエレクトロクロミック膜16とは反対側の面には保護膜36が形成されている。この保護膜36は、仕事関数が銀以下である金属を含むが、仕事関数が銀以下である金属のみからなることが好ましい。ここで仕事関数は、物質表面において、表面から1個の電子を無限遠まで取り出すのに必要な最小エネルギーを意味する。
保護膜36が、仕事関数が銀以下ある金属を含んで形成されていることにより、導電性保護膜18に含まれる銀のエレクトロクロミック膜16中へ拡散が抑制され、銀によるエレクトロクロミック膜16の変色を抑制することができる。
A protective film 36 is formed on the surface of the conductive reflective film 18 opposite to the electrochromic film 16. The protective film 36 includes a metal having a work function of silver or less, but is preferably made of only a metal having a work function of silver or less. Here, the work function means the minimum energy required to extract one electron from the surface to infinity at the material surface.
By forming the protective film 36 including a metal having a work function equal to or lower than silver, diffusion into the silver electrochromic film 16 included in the conductive protective film 18 is suppressed, and the electrochromic film 16 made of silver is suppressed. Discoloration can be suppressed.

このことは例えば、以下のように考えることができる。エレクトロクロミック膜16は銀よりも仕事関数が大きい物質(例えば、三酸化タングステン)で構成されるため、エレクトロクロミック膜16と導電性反射膜18の境界においては、導電性反射膜18に含まれる銀原子の電子がエレクトロクロミック膜16を構成する物質に捕獲され、銀原子が銀イオンになりやすい状態におかれている。銀イオンは銀原子よりも容易に移動できるため、エレクトロクロミック膜16中へ拡散した銀イオンによりエレクトロクロミック膜の変色が発生しやすい。
これに対して、本発明においては導電性反射膜18のエレクトロクロミック膜16とは反対側の面に、仕事関数が銀以下である金属を含む保護膜36が形成されているため、保護膜36に含まれる金属原子からエレクトロクロミック膜16と導電性反射膜18の境界で生成する銀イオンに電子が供給され、導電性反射膜18に含まれる銀のイオン化を抑制すると考えることができる。
This can be considered as follows, for example. Since the electrochromic film 16 is made of a material having a work function larger than that of silver (for example, tungsten trioxide), the silver contained in the conductive reflective film 18 at the boundary between the electrochromic film 16 and the conductive reflective film 18. Atomic electrons are trapped by the material constituting the electrochromic film 16, and silver atoms are easily converted into silver ions. Since silver ions can move more easily than silver atoms, discoloration of the electrochromic film is likely to occur due to silver ions diffused into the electrochromic film 16.
On the other hand, in the present invention, the protective film 36 containing a metal having a work function of silver or less is formed on the surface of the conductive reflective film 18 opposite to the electrochromic film 16. Electrons are supplied from the metal atoms contained in the silver ions generated at the boundary between the electrochromic film 16 and the conductive reflective film 18 to suppress the ionization of silver contained in the conductive reflective film 18.

前記保護膜36に含まれる銀の仕事関数(4.63eV)と比べて、仕事関数が銀以下である金属としては、ビスマス(Bi、4.34eV)、スズ(Sn、4.42eV)、モリブデン(Mo、4.57eV)、アンチモン(Sb、4.63eV)、ガリウム(Ga、4.32eV)、亜鉛(Zn、4.27eV)、クロム(Cr、4.50eV)、ニオブ(Nb、4.33)、バナジウム(V、4.30eV)、チタン(Ti、4.33eV)、タングステン(W、4.63eV)、セシウム(Cs、4.50eV)、ホウ素(B、4.45eV)、タンタル(Ta、4.30)等を挙げることができる。
中でも、エレクトロクロミック膜16の変色抑制の観点から、ビスマス(Bi)、スズ(Sn)、クロム(Cr)であることが好ましい。
Compared with the silver work function (4.63 eV) contained in the protective film 36, the metal having a work function equal to or lower than silver is bismuth (Bi, 4.34 eV), tin (Sn, 4.42 eV), molybdenum. (Mo, 4.57 eV), antimony (Sb, 4.63 eV), gallium (Ga, 4.32 eV), zinc (Zn, 4.27 eV), chromium (Cr, 4.50 eV), niobium (Nb, 4. 33), vanadium (V, 4.30 eV), titanium (Ti, 4.33 eV), tungsten (W, 4.63 eV), cesium (Cs, 4.50 eV), boron (B, 4.45 eV), tantalum ( Ta, 4.30) and the like.
Among these, bismuth (Bi), tin (Sn), and chromium (Cr) are preferable from the viewpoint of suppressing discoloration of the electrochromic film 16.

また本発明における保護膜36に含まれる、仕事関数が銀以下である金属は、モース硬度が4以下であることが好ましい。モース硬度が4以下の金属を含んで保護膜36を構成することで、導電性反射膜18の白濁化を抑制することができる。これは例えば、保護膜36がモース硬度4以下の軟らかい金属を含んで構成されることで、本発明のエレクトロクロミックミラーの繰返し使用による保護膜36と面を接して構成される導電性反射膜18における微細なひび割れ(クラック)の発生を抑制できるためと考えることができる。
仕事関数が銀以下であり、モース硬度が4以下である金属としては、ビスマス(Bi)、スズ(Sn)、アンチモン(Sb)、ガリウム(Ga)、亜鉛(Zn)、セシウム(Cs)等を挙げることができ、中でもビスマス(Bi)、スズ(Sn)であることが好ましい。
In addition, the metal having a work function of silver or less contained in the protective film 36 in the present invention preferably has a Mohs hardness of 4 or less. By configuring the protective film 36 to include a metal having a Mohs hardness of 4 or less, white turbidity of the conductive reflective film 18 can be suppressed. This is because, for example, the protective film 36 includes a soft metal having a Mohs hardness of 4 or less, so that the conductive reflective film 18 is formed in contact with the protective film 36 by repeated use of the electrochromic mirror of the present invention. It can be considered that generation of fine cracks (cracks) can be suppressed.
Examples of metals having a work function of silver or less and a Mohs hardness of 4 or less include bismuth (Bi), tin (Sn), antimony (Sb), gallium (Ga), zinc (Zn), and cesium (Cs). Among them, bismuth (Bi) and tin (Sn) are preferable.

前記保護膜36の厚さには特に制限はく、例えば、10nm以上200nm以下の範囲で設定することができる。本発明においては、エレクトロクロミック膜16の変色抑制と導電性反射膜18の白濁化抑制の観点から、保護膜36の厚さは、20nm以上80nm以下であることが好ましい。   The thickness of the protective film 36 is not particularly limited, and can be set, for example, in the range of 10 nm to 200 nm. In the present invention, from the viewpoint of suppressing discoloration of the electrochromic film 16 and suppressing turbidity of the conductive reflective film 18, the thickness of the protective film 36 is preferably 20 nm or more and 80 nm or less.

前記保護膜36は、前記導電性反射膜18と同様に、種々の物理的または化学的蒸着法によって作製(成膜)することができる。例えば、仕事関数が銀以下である金属(好ましくは、モース硬度が4以下の金属)を含むターゲット材料を用意し、そのターゲット材料を用いて種々のスパッタリングを行なうことによって、仕事関数が銀以下である金属を含む保護膜36を前記導電性反射膜18上に形成することができる。   The protective film 36 can be formed (deposited) by various physical or chemical vapor deposition methods, similarly to the conductive reflective film 18. For example, by preparing a target material containing a metal having a work function of silver or less (preferably a metal having a Mohs hardness of 4 or less) and performing various sputtering using the target material, the work function is less than silver. A protective film 36 containing a certain metal can be formed on the conductive reflective film 18.

以上の構成の表面側基板12の厚さ方向一方の側には裏面側基板24が表面側基板12と対向するように設けられている。裏面側基板24はガラス等により形成された透明の基板本体26を備えている。この基板本体26の厚さ方向他方、すなわち、表面側基板12の側の面には導電性膜28が形成されている。導電性膜28は、クロム(Cr)やニッケル(Ni)等の金属や、インジウムチンオキサイド(In:Sn、所謂「ITO」)や酸化スズ(SnO)、フッ素ドープ酸化スズ(SnO:F)、酸化亜鉛(ZnO)等、更にはこれらの混合物により形成されていることが好ましい。
前記導電性膜28は、前記導電性反射膜18と同様に、種々の物理的または化学的蒸着法によって作製(成膜)することができる。
The back side substrate 24 is provided on one side in the thickness direction of the front side substrate 12 having the above configuration so as to face the front side substrate 12. The back surface side substrate 24 includes a transparent substrate body 26 made of glass or the like. A conductive film 28 is formed on the other side in the thickness direction of the substrate body 26, that is, on the surface on the surface-side substrate 12 side. The conductive film 28 is made of a metal such as chromium (Cr) or nickel (Ni), indium tin oxide (In 2 O 3 : Sn, so-called “ITO”), tin oxide (SnO 2 ), fluorine-doped tin oxide (SnO). 2 : F), zinc oxide (ZnO 2 ), and the like, and a mixture of these is preferable.
The conductive film 28 can be formed (deposited) by various physical or chemical vapor deposition methods, similarly to the conductive reflective film 18.

この導電性膜28の表面側基板12の側の面には導電性を有するカーボン膜30が形成されている。カーボン膜30はグラファイト、カーボンブラック、及び活性炭から選ばれる少なくとも1種を含んで形成されるが、活性炭が50重量パーセント以上含まれていることが好ましい。カーボン材料として活性炭を含むことで、電極の表面積が増大し、電子(電流)の流れがよりスムーズになり電圧ロスも少なくなる。また活性炭表面は、水素イオンを容易に発生させ得る触媒の好適な担持場所にもなる。
さらに、グラファイト等のカーボン材料を含むことによって、当該電極層における水素イオン吸収能を向上させ、電圧の印加を解除した際にエレクトロクロミック膜から電解液への水素イオンの移行を促進することができる。さらに、活性炭やグラファイトとともにカーボンブラックを含むことにより、カーボン電極を構成する主要構成要素(活性炭、グラファイト等)同士の電気的接触度合いを向上させることができる。
前記カーボン膜30は、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、およびアクリル樹脂等の合成樹脂材の少なくとも1種をバインダーとしてさらに含んでいることが好ましい。
A conductive carbon film 30 is formed on the surface of the conductive film 28 on the surface side substrate 12 side. The carbon film 30 is formed including at least one selected from graphite, carbon black, and activated carbon, and preferably includes 50% by weight or more of activated carbon. By including activated carbon as the carbon material, the surface area of the electrode increases, the flow of electrons (current) becomes smoother, and the voltage loss is reduced. The activated carbon surface also serves as a suitable place for a catalyst that can easily generate hydrogen ions.
Furthermore, by including a carbon material such as graphite, the hydrogen ion absorption ability in the electrode layer can be improved, and the transfer of hydrogen ions from the electrochromic film to the electrolyte can be promoted when the application of voltage is released. . Furthermore, by including carbon black together with activated carbon and graphite, the degree of electrical contact between the main components (activated carbon, graphite, etc.) constituting the carbon electrode can be improved.
The carbon film 30 preferably further includes at least one synthetic resin material such as a phenol resin, a polyimide resin, and an acrylic resin as a binder.

基板本体26の厚さ方向に沿ったカーボン膜30の厚さ寸法は、50μm以上であることが好ましい。
また前記カーボン膜30の形成方法としては、例えば、数種のカーボン材料(例えば、上述した活性炭、グラファイト及びカーボンブラック)を適当なバインダー(例えば、カルボキシメチルセルロースのようなセルロース系バインダー、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂等の合成樹脂系バインダー)とともに混合し、ドクターブレード法のような周知の方法によって、導電性膜28が形成された裏面側基板26上に塗布し、適当な温度(例えば150〜200℃)で加熱することによって成膜して形成することができる。
The thickness dimension of the carbon film 30 along the thickness direction of the substrate body 26 is preferably 50 μm or more.
As the method for forming the carbon film 30, for example, several types of carbon materials (for example, activated carbon, graphite, and carbon black described above) are used as appropriate binders (for example, cellulose binders such as carboxymethyl cellulose, phenol resins, polyimides). Mixed with a resin, a synthetic resin binder such as an acrylic resin), and applied onto the back side substrate 26 on which the conductive film 28 is formed by a known method such as a doctor blade method, and an appropriate temperature (for example, 150 to The film can be formed by heating at 200 ° C.).

以上の構成の表面側基板12と裏面側基板24との間には所定の隙間が形成されていると共に、表面側基板12の外周部と裏面側基板24の外周部との間は封止材32により封止されている。表面側基板12、裏面側基板24、及び封止材32により囲まれた空間内には電解液34が封入されている。電解液34は、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、ブチレンカーボネート、ジエチルカーボネート、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド等、又はこれらの混合物により形成された溶媒を有しており、特に、本発明においてはプロピレンカーボネートが溶媒として用いられていることが好ましい。   A predetermined gap is formed between the front surface side substrate 12 and the back surface side substrate 24 having the above configuration, and a sealing material is provided between the outer peripheral portion of the front surface side substrate 12 and the outer peripheral portion of the back surface side substrate 24. 32 is sealed. An electrolytic solution 34 is sealed in a space surrounded by the front surface side substrate 12, the back surface side substrate 24, and the sealing material 32. The electrolytic solution 34 has a solvent formed of propylene carbonate, ethylene carbonate, butylene carbonate, diethyl carbonate, γ-butyrolactone, dimethylformamide, or the like, or a mixture thereof. In particular, in the present invention, propylene carbonate is a solvent. It is preferable to be used as

前記電解質34は、前記溶媒の他に、過塩素酸リチウム(LiClO)、六フッ化リン酸リチウム(LiPF)、四フッ化ホウ酸リチウム(LiBF)、リチウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド(LiN(SOCF)、リチウムビス(ペンタフルオロエタンスルホニル)イミド(LiN(SO)、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム(LiCFSO)等やこれらの混合物を電解質として有しており、特に、本発明においては、過塩素酸リチウムが電解質として用いられていることが好ましい。 In addition to the solvent, the electrolyte 34 is composed of lithium perchlorate (LiClO 4 ), lithium hexafluorophosphate (LiPF 6 ), lithium tetrafluoroborate (LiBF 4 ), lithium bis (trifluoromethanesulfonyl) imide. (LiN (SO 2 CF 3 ) 2 ), lithium bis (pentafluoroethanesulfonyl) imide (LiN (SO 2 C 2 F 5 ) 2 ), lithium trifluoromethanesulfonate (LiCF 3 SO 3 ), etc., and mixtures thereof In particular, in the present invention, lithium perchlorate is preferably used as the electrolyte.

さらに、以上の構成のエレクトロクロミックミラー10の導電性膜28は、回路40を構成するスイッチ42に接続されている。スイッチ42は、ON状態で接続される端子に車両に搭載されるバッテリー等で構成され定格電圧が1.3V程度の直流電源44の正極が接続されている。この直流電源44の負極は導電性反射膜18に接続されている。また、スイッチ42がOFF状態で接続される端子は、上記の直流電源44を介さずに導電性反射膜18に接続されており、OFF状態では導電性反射膜18と導電性膜28とが短絡される。
また、図示しないが、直流電源44の負極が保護膜36に接続され、スイッチ42がOFF状態で接続される端子は、上記の直流電源44を介さずに保護膜36に接続されており、OFF状態では保護膜36と導電性膜28とが短絡される態様であってもよい。
Furthermore, the conductive film 28 of the electrochromic mirror 10 having the above configuration is connected to a switch 42 that constitutes the circuit 40. The switch 42 is connected to a terminal connected in the ON state by a battery or the like mounted on the vehicle, and is connected to the positive electrode of a DC power supply 44 having a rated voltage of about 1.3V. The negative electrode of the DC power supply 44 is connected to the conductive reflective film 18. The terminal connected when the switch 42 is in the OFF state is connected to the conductive reflective film 18 without passing through the DC power supply 44, and in the OFF state, the conductive reflective film 18 and the conductive film 28 are short-circuited. Is done.
Although not shown, the negative electrode of the DC power supply 44 is connected to the protective film 36, and the terminal to which the switch 42 is connected in the OFF state is connected to the protective film 36 without passing through the DC power supply 44. In a state, the protective film 36 and the conductive film 28 may be short-circuited.

以上の構成のエレクトロクロミックミラー10では、スイッチ42のOFF状態では、エレクトロクロミック膜16が略透明となっており、このため、基板本体14のエレクトロクロミック膜16とは反対側から入射した光は、基板本体14、エレクトロクロミック膜16を透過して導電性反射膜18にて反射される。さらに、導電性反射膜18にて反射された光はエレクトロクロミック膜16、基板本体14を透過する。本発明にかかるエレクトロクロミックミラーにおいて、光の反射率に特に制限はなく、例えば、55パーセント程度とすることができる。   In the electrochromic mirror 10 having the above configuration, the electrochromic film 16 is substantially transparent when the switch 42 is in an OFF state. Therefore, light incident from the opposite side of the substrate body 14 from the electrochromic film 16 is The light passes through the substrate body 14 and the electrochromic film 16 and is reflected by the conductive reflective film 18. Further, the light reflected by the conductive reflective film 18 passes through the electrochromic film 16 and the substrate body 14. In the electrochromic mirror according to the present invention, the light reflectance is not particularly limited, and can be, for example, about 55%.

一方、スイッチ42をON状態に切り替えると、回路40を導電性反射膜18の側に移動した電子(e)がエレクトロクロミック膜16に侵入すると共に、電解液34の電解質を構成するリチウムイオン(Li)が、保護膜36と導電性反射膜18を透過してエレクトロクロミック膜16に侵入する。これにより、エレクトロクロミック膜16では以下の式1の還元反応が生じ、所謂タングステンブロンズと称される青色のLiWOがエレクトロクロミック膜16で形成される。
Li+e+WO→LiWO・・・(式1)
このようにしてエレクトロクロミック膜16が青色に着色されることでエレクトロクロミック膜16が着色される前では55パーセント程度であった反射率が例えば、7パーセント程度まで低下する。
On the other hand, when the switch 42 is switched to the ON state, the electrons (e ) that have moved through the circuit 40 toward the conductive reflective film 18 enter the electrochromic film 16, and at the same time, the lithium ions ( Li + ) penetrates the protective film 36 and the conductive reflective film 18 and enters the electrochromic film 16. As a result, a reduction reaction of the following formula 1 occurs in the electrochromic film 16, and blue Li x WO 3 called so-called tungsten bronze is formed in the electrochromic film 16.
Li + + e + WO 3 → Li x WO 3 (Formula 1)
As a result of the electrochromic film 16 being colored in blue in this way, the reflectivity, which was about 55 percent before the electrochromic film 16 was colored, is reduced to, for example, about 7 percent.

さらに、以上の還元反応が生じる際には、カーボン膜30を構成する炭素から直流電源44の側へ電子(e)が移動し、これにより、電解質を構成する塩に由来する負イオン、例えば、過塩素酸リチウムの負イオン(ClO )がカーボン膜30の側へ移動する。これにより、上記の還元反応に対する以下の式2のような補償反応が生じる。
ClO +C−e→C・ClO ・・・(式2)
Furthermore, when the above reduction reaction occurs, electrons (e ) move from the carbon constituting the carbon film 30 to the DC power supply 44 side, whereby negative ions derived from the salt constituting the electrolyte, for example, Then, negative ions (ClO 4 ) of lithium perchlorate move to the carbon film 30 side. As a result, a compensation reaction like the following formula 2 occurs with respect to the above reduction reaction.
ClO 4 + C−e → C + · ClO 4 (Formula 2)

また、カーボン膜30には、活性炭のみならず、グラファイトとカーボンインクが含まれており、これにより、カーボン膜30は充分な導電性が付与され、カーボン膜30における反応を早くできる。
さらに、カーボン膜30を備えることにより、エレクトロクロミック膜16を着色するに際して印加する電圧を低くできる。このため、スイッチ42をOFF状態にして導電性反射膜18と導電性膜28とを短絡させると上記の式1及び式2とは逆向きの反応が生じ、エレクトロクロミック膜16が素早く消色される。
Further, the carbon film 30 contains not only activated carbon but also graphite and carbon ink, whereby the carbon film 30 is imparted with sufficient conductivity and the reaction in the carbon film 30 can be accelerated.
Furthermore, the provision of the carbon film 30 can reduce the voltage applied when coloring the electrochromic film 16. For this reason, when the switch 42 is turned off and the conductive reflective film 18 and the conductive film 28 are short-circuited, a reaction opposite to the above formulas 1 and 2 occurs, and the electrochromic film 16 is quickly discolored. The

以上のようなエレクトロクロミックミラー10を、例えば、車両における後方確認用のインナミラー(ルームミラー)やアウタミラー(ドアミラーやフェンダーミラー)等のミラー本体に用いると、昼間時にはスイッチ42をOFF状態で維持して高い反射率で後方を確認でき、夜間時等に後方の車両がヘッドライトを点灯させている場合には、スイッチ42をON状態に切り換えてエレクトロクロミック膜16を着色し、反射率を低下させることで、ヘッドライトの反射光を低減でき、眩しさが低下する。   When the electrochromic mirror 10 as described above is used for a mirror body such as an inner mirror (room mirror) or an outer mirror (door mirror or fender mirror) for rear confirmation in a vehicle, for example, the switch 42 is maintained in an OFF state during the daytime. When the vehicle behind is turning on the headlight at night or the like, the switch 42 is turned on to color the electrochromic film 16 and reduce the reflectance. Thereby, the reflected light of a headlight can be reduced and dazzling falls.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

<実施例1>
85×114mmのガラス基板上に、以下のようにしてエレクトロクロミック膜を形成した。即ち、市販の真空蒸着装置を用いて、三酸化タングステン(WO)を蒸着し、厚さ500nmの三酸化タングステンからなるエレクトロクロミック膜をガラス基板上に形成した。
次に、上記得られたエレクトロクロミック膜に接して導電性光反射膜を形成した。即ち、上記エレクトロクロミック膜の形成において、三酸化タングステン(WO)の代わりに銀(Ag)を用いて、エレクトロクロミック膜上に厚さ50nmの導電性反射膜を形成した。
次に、上記得られた導電性反射膜に接して保護膜を形成した。即ち、上記導電性反射膜の形成において、銀の代わりにスズ(Sn)を用いて、導電性反射膜上に厚さ50nmのスズからなる保護膜を形成した。
<Example 1>
An electrochromic film was formed on an 85 × 114 mm glass substrate as follows. That is, using a commercially available vacuum deposition apparatus, tungsten trioxide (WO 3 ) was deposited, and an electrochromic film made of tungsten trioxide having a thickness of 500 nm was formed on a glass substrate.
Next, a conductive light reflecting film was formed in contact with the obtained electrochromic film. That is, in the formation of the electrochromic film, a conductive reflective film having a thickness of 50 nm was formed on the electrochromic film using silver (Ag) instead of tungsten trioxide (WO 3 ).
Next, a protective film was formed in contact with the obtained conductive reflective film. That is, in the formation of the conductive reflective film, a protective film made of tin having a thickness of 50 nm was formed on the conductive reflective film using tin (Sn) instead of silver.

その一方、上記表面側基板と同じガラス基板を裏面側基板としても採用し、その表面に厚さ200nmのクロム(Cr)からなる導電性膜を、上記と同様にして蒸着により形成した。
次いでクロムからなる導電性膜上に、カーボン電極膜を形成した。即ち、グラファイト10質量%、カーボンブラック10質量%、活性炭70質量%及びポリイミド系バインダー10質量%からなるカーボン材料を適量の水と混合し、得られた混合材料を基板表面にドクターブレード法により塗布した。その後、180℃で1時間加熱し、厚さ約50μmのカーボン電極膜を形成した。
On the other hand, the same glass substrate as the front surface side substrate was also adopted as the back side substrate, and a conductive film made of chromium (Cr) having a thickness of 200 nm was formed on the surface by vapor deposition in the same manner as described above.
Next, a carbon electrode film was formed on the conductive film made of chromium. That is, a carbon material composed of 10% by mass of graphite, 10% by mass of carbon black, 70% by mass of activated carbon and 10% by mass of polyimide binder is mixed with an appropriate amount of water, and the obtained mixed material is applied to the substrate surface by a doctor blade method. did. Then, it heated at 180 degreeC for 1 hour, and formed the carbon electrode film about 50 micrometers thick.

こうして得られたカーボン電極膜の表面の周縁部にエポキシ系樹脂から成るシール材を塗布し、その内部に電解液を約0.2mmの厚さに塗布した。本実施例に係る電解液は、非プロトン溶媒であるプロピレンカーボネートに、濃度100mMとなるように過塩素酸リチウムを加えたものを使用した。
次いで、エレクトロクロミック膜、導電性反射膜および保護膜を備える表側面基板を重ね合わせ、上記シール材で封止することによって図1に示す構造を有するエレクトロクロミックミラーを得た。
A sealing material made of an epoxy resin was applied to the peripheral portion of the surface of the carbon electrode film thus obtained, and an electrolytic solution was applied to the inside to a thickness of about 0.2 mm. As the electrolytic solution according to this example, a solution obtained by adding lithium perchlorate to propylene carbonate, which is an aprotic solvent, to a concentration of 100 mM was used.
Subsequently, the front side surface board | substrate provided with an electrochromic film | membrane, an electroconductive reflection film, and a protective film was piled up, and the electrochromic mirror which has a structure shown in FIG. 1 was obtained by sealing with the said sealing material.

<実施例2〜7、比較例1〜2>
実施例1において、導電性反射膜を構成する金属と保護膜を構成する金属とを下記表1に示すように変更した以外は、実施例1と同様にしてエレクトロクロミックミラーを得た。
<Examples 2-7, Comparative Examples 1-2>
In Example 1, an electrochromic mirror was obtained in the same manner as in Example 1 except that the metal constituting the conductive reflective film and the metal constituting the protective film were changed as shown in Table 1 below.

<実施例8>
実施例1において、導電性反射膜を構成する金属としてAg37(三菱マテリアル社製、銀合金No37)を用いてスパッタリングで導電性反射膜を形成し、保護膜を、クロム(Cr)を用いて形成したこと以外は、実施例1と同様にしてエレクトロクロミックミラーを得た。
<Example 8>
In Example 1, a conductive reflective film is formed by sputtering using Ag37 (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, silver alloy No37) as a metal constituting the conductive reflective film, and a protective film is formed using chromium (Cr). Except that, an electrochromic mirror was obtained in the same manner as in Example 1.

<比較例3>
実施例1において、導電性反射膜を構成する金属としてAgBi(Bi添加銀合金)を用いてスパッタリングで導電性反射膜を形成し、保護膜を形成しなかったこと以外は、実施例1と同様にしてエレクトロクロミックミラーを得た。
<Comparative Example 3>
In Example 1, the conductive reflective film was formed by sputtering using AgBi (Bi-added silver alloy) as a metal constituting the conductive reflective film, and the protective film was not formed. Thus, an electrochromic mirror was obtained.

<評価>
(変色および白濁)
得られたエレクトロクロミックミラーについて、以下のようにしてエレクトロクロミック膜の変色および白濁を評価した。結果を表1に示した。
得られたエレクトロクロミックミラーの導電性反射膜が負極、導電性膜が正極となるように1.3Vの直流電源を接続し、スイッチのON/OFFを100回繰り返した後、目視にてエレクトロクロミック膜および導電性反射膜を観察し、下記評価基準に従って評価した。
〜評価基準〜
○:エレクトロクロミック膜の変色が認められず、24時間経過以降も導電性反射膜の白濁が認められなかった。
△:エレクトロクロミック膜の変色は認められなかったが、24時間経過後に導電性反射膜の白濁が認められた。
×:エレクトロクロミック膜の変色が認められ、導電性反射膜の白濁も認められた。
<Evaluation>
(Discoloration and cloudiness)
About the obtained electrochromic mirror, discoloration and white turbidity of the electrochromic film were evaluated as follows. The results are shown in Table 1.
Connect the 1.3V DC power supply so that the electroreflective film of the obtained electrochromic mirror is the negative electrode and the conductive film is the positive electrode, and repeat the switch ON / OFF 100 times. The film and the conductive reflective film were observed and evaluated according to the following evaluation criteria.
~Evaluation criteria~
○: Discoloration of the electrochromic film was not observed, and white turbidity of the conductive reflective film was not observed after 24 hours.
Δ: Discoloration of the electrochromic film was not observed, but white turbidity of the conductive reflective film was observed after 24 hours.
X: Discoloration of the electrochromic film was observed, and white turbidity of the conductive reflective film was also observed.

(反射率)
得られたエレクトロクロミックミラーの電圧未印加時の反射率(DAY反射率(%))と電圧印加時の反射率(NIGHT反射率(%))とを分光反射率計を用いて測定した。結果を表1に示した。
(Reflectance)
The reflectance of the obtained electrochromic mirror when no voltage was applied (DAY reflectance (%)) and the reflectance when voltage was applied (NIGHT reflectance (%)) were measured using a spectral reflectometer. The results are shown in Table 1.

Figure 2011095406
Figure 2011095406

表1から、仕事関数が銀以下である金属を用いて保護膜を構成することで、変色を抑制できることが分かる。さらにモース硬度が4未満の金属を用いて保護膜を構成することでミラーの白濁化も抑制できることが分かる。   It can be seen from Table 1 that discoloration can be suppressed by forming a protective film using a metal having a work function of silver or less. Furthermore, it turns out that the cloudiness of a mirror can also be suppressed by comprising a protective film using the metal whose Mohs hardness is less than 4.

10 エレクトロクロミックミラー
16 エレクトロクロミック膜
18 導電性反射膜
28 導電性膜
30 カーボン膜
34 電解液
36 保護膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Electrochromic mirror 16 Electrochromic film 18 Conductive reflective film 28 Conductive film 30 Carbon film 34 Electrolyte solution 36 Protective film

Claims (3)

還元反応することで着色されるエレクトロクロミック膜と、
前記エレクトロクロミック膜の厚さ方向一方の側に形成されて前記エレクトロクロミック膜を透過した光を反射すると共に導電性を有し、銀または銀を含む合金により形成された導電性反射膜と、
前記導電性反射膜の厚さ方向一方の側で前記エレクトロクロミック膜とは反対側に設けられ、仕事関数が銀以下である金属を含んで形成された保護膜と、
前記保護膜の厚さ方向一方の側で前記導電性反射膜とは反対側に設けられた導電性を有する導電性膜と、
前記導電性膜の前記導電性反射膜の側で活性炭を含めて形成された導電性を有するカーボン膜と、
リチウムイオンを含めて構成されて前記保護膜と前記導電性膜との間に封入され、前記導電性膜を正とし、前記導電性反射膜または前記保護膜を負として電圧を印加することで前記リチウムイオンが前記エレクトロクロミック膜の側へ移動して、前記エレクトロクロミック膜の還元反応に供される電解液と、
を備えるエレクトロクロミックミラー。
An electrochromic film colored by a reduction reaction;
A conductive reflective film formed on one side in the thickness direction of the electrochromic film, reflecting light transmitted through the electrochromic film and having conductivity, and formed of silver or an alloy containing silver;
A protective film that is provided on one side in the thickness direction of the conductive reflective film on the side opposite to the electrochromic film and that includes a metal having a work function of silver or less;
A conductive film having conductivity provided on one side in the thickness direction of the protective film on the side opposite to the conductive reflective film;
A carbon film having conductivity formed including activated carbon on the conductive reflective film side of the conductive film;
Lithium ions are included and enclosed between the protective film and the conductive film, the conductive film is positive, and the conductive reflective film or the protective film is negative and voltage is applied to apply the voltage. An electrolytic solution in which lithium ions move to the electrochromic film side and subjected to a reduction reaction of the electrochromic film;
Electrochromic mirror equipped with.
前記銀よりも仕事関数が小さい金属は、モース硬度が4以下である請求項1に記載のエレクトロクロミックミラー。   The electrochromic mirror according to claim 1, wherein the metal having a work function smaller than silver has a Mohs hardness of 4 or less. 前記銀よりも仕事関数が小さい金属は、ビスマスまたはスズである請求項1または請求項2に記載のエレクトロクロミックミラー。   The electrochromic mirror according to claim 1 or 2, wherein the metal having a work function smaller than silver is bismuth or tin.
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