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JP2011044481A - Manufacturing device for electronic circuit board - Google Patents

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JP2011044481A
JP2011044481A JP2009190155A JP2009190155A JP2011044481A JP 2011044481 A JP2011044481 A JP 2011044481A JP 2009190155 A JP2009190155 A JP 2009190155A JP 2009190155 A JP2009190155 A JP 2009190155A JP 2011044481 A JP2011044481 A JP 2011044481A
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Fumiyoshi Iwase
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Roland DG Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing device for an electronic circuit board that can form a high-density electronic circuit by an ink jet method and can save the trouble and time for manufacture more than before. <P>SOLUTION: The manufacturing device 1 for the electronic circuit board includes a laser 3 configured to form a predetermined hydrophilic pattern on a water-repellent surface of a substrate B having the water-repellent surface by irradiating the substrate B with light or an electron beam, and an ink head 2 having a print head 21 for discharging ink containing a conductive component onto the pattern. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子回路基板の製造装置に関する。   The present invention relates to an electronic circuit board manufacturing apparatus.

近年、インクジェット式記録装置の技術を応用して、電子回路基板を製作することが検討されている(例えば、特許文献1参照)。これは、金属粒子を分散させたインクを基板上に吐出することにより、基板上に所定の回路パターンを形成するものである。かかる手法はインクジェット法と称されており、従来のフォトリソグラフィ法と比較して、配線パターンに必要な部分にのみ金属インクを吐出すれば足りるので、金属材料の使用量が少なく、また、工程数を削減できるという利点を有している。   In recent years, it has been studied to manufacture an electronic circuit board by applying the technology of an ink jet recording apparatus (for example, see Patent Document 1). In this method, a predetermined circuit pattern is formed on a substrate by discharging ink in which metal particles are dispersed onto the substrate. Such a method is called an ink jet method, and it is sufficient to discharge a metal ink only to a portion necessary for a wiring pattern as compared with a conventional photolithography method. It has the advantage that can be reduced.

特開2007−296425号公報JP 2007-296425 A

ところで、近年の電子回路の高密度化に伴い、配線幅および配線間ピッチは非常に小さくなっている。しかし、従来のインクジェット法では、インクヘッドから吐出された金属インクが基板上に着弾した後、基板表面において広がってしまうため、配線幅および配線間ピッチの小さな電子回路を形成することが困難であった。また、そのような高密度な電子回路を形成するには、多くの手間と時間が必要であった。   By the way, with the recent increase in the density of electronic circuits, the wiring width and the pitch between wirings have become very small. However, in the conventional ink jet method, the metal ink ejected from the ink head spreads on the substrate surface after landing on the substrate, and thus it is difficult to form an electronic circuit having a small wiring width and wiring pitch. It was. Moreover, much labor and time are required to form such a high-density electronic circuit.

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、インクジェット法によって高密度な電子回路を形成可能であり、従来よりも製造の手間と時間を短縮できる電子回路基板の製造装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide an electronic circuit board capable of forming a high-density electronic circuit by an ink-jet method and capable of reducing the labor and time of manufacturing as compared with the prior art. It is to provide a manufacturing apparatus.

本発明に係る電子回路基板の製造装置は、撥水性の表面を有する基板に光または電子線を照射することにより前記基板の表面に親水性を有する所定パターンを形成する親水部形成装置と、前記パターン上に導電性成分を含むインクを吐出するプリントヘッドを有するインクヘッドと、を備えたものである。   An electronic circuit board manufacturing apparatus according to the present invention includes a hydrophilic portion forming apparatus that forms a predetermined pattern having hydrophilicity on a surface of a substrate by irradiating the substrate having a water-repellent surface with light or an electron beam, And an ink head having a print head for discharging ink containing a conductive component on the pattern.

本発明によれば、高密度な電子回路が形成可能となる。また、従来よりも製造の手間と時間を短縮することが可能となる。   According to the present invention, a high-density electronic circuit can be formed. In addition, it is possible to reduce manufacturing effort and time as compared with the prior art.

第1実施形態に係る電子回路基板の製造装置の要部を示す正面図である。It is a front view which shows the principal part of the manufacturing apparatus of the electronic circuit board which concerns on 1st Embodiment. (a)〜(e)は電子回路基板を製作する一連の工程を示す断面図である。(A)-(e) is sectional drawing which shows a series of processes which manufacture an electronic circuit board. (a)〜(f)は多層構造の電子回路基板を製作する一連の工程を示す断面図である。(A)-(f) is sectional drawing which shows a series of processes which manufacture the electronic circuit board of a multilayer structure. (a)〜(d)はスルーホールの製作の工程を示す断面図である。(A)-(d) is sectional drawing which shows the process of manufacture of a through hole. (a)〜(c)は電子デバイスを備えた基板に回路パターンを製作する一連の工程を示す模式図である。(A)-(c) is a schematic diagram which shows a series of processes which manufacture a circuit pattern in the board | substrate provided with the electronic device. (a)〜(c)は電子デバイスを備えた基板に回路パターンを製作する一連の工程を示す模式図である。(A)-(c) is a schematic diagram which shows a series of processes which manufacture a circuit pattern in the board | substrate provided with the electronic device. 他の電子回路基板の製造装置の要部を示す正面図である。It is a front view which shows the principal part of the manufacturing apparatus of another electronic circuit board. (a)は第2実施形態に係る電子回路基板の製造装置の斜視図であり、(b)は同製造装置の要部の正面図であり、(c)は回路基板の断面図である。(A) is a perspective view of the manufacturing apparatus of the electronic circuit board based on 2nd Embodiment, (b) is a front view of the principal part of the manufacturing apparatus, (c) is sectional drawing of a circuit board. (a)〜(d)は電子回路基板を製作する一連の工程を示す模式図である。(A)-(d) is a schematic diagram which shows a series of processes which manufacture an electronic circuit board. (a)〜(c)は電子回路基板を製作する一連の工程を示す模式図である。(A)-(c) is a schematic diagram which shows a series of processes which manufacture an electronic circuit board. (a)は第3実施形態に係る電子回路基板の製造装置の斜視図であり、(b)は同製造装置の要部の正面図である。(A) is a perspective view of the manufacturing apparatus of the electronic circuit board based on 3rd Embodiment, (b) is a front view of the principal part of the manufacturing apparatus. (a)〜(d)は回路基板を製作する一連の工程を示す模式図である。(A)-(d) is a schematic diagram which shows a series of processes which manufacture a circuit board. (a)〜(c)は回路基板を製作する一連の工程を示す模式図である。(A)-(c) is a schematic diagram which shows a series of processes which manufacture a circuit board. 他の実施形態に係る電子回路基板の製造装置の斜視図である。It is a perspective view of the manufacturing apparatus of the electronic circuit board which concerns on other embodiment.

<第1実施形態>
(電子回路基板の製造装置の構成)
以下、本発明の一実施形態を図面に従って説明する。図1に示すように、本実施形態に係る電子回路基板の製造装置(以下、単に製造装置という)1は、導電性のインクを吐出するインクヘッド2を備えている。このインクヘッド2は、いわゆるインクジェット式の吐出動作を行う。なお、本発明における「インクジェット式」とは、インクジェット技術によるインクの吐出方式を意味する。更に、「インクジェット式」には、公知の各種手法が含まれ、例えば二値偏向方式或いは連続偏向方式等の各種の連続方式や、サーマル方式或いは圧電素子方式等の各種のオンデマンド方式が含まれる。
<First Embodiment>
(Configuration of electronic circuit board manufacturing equipment)
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, an electronic circuit board manufacturing apparatus (hereinafter simply referred to as a manufacturing apparatus) 1 according to the present embodiment includes an ink head 2 that discharges conductive ink. The ink head 2 performs a so-called ink jet type ejection operation. The “inkjet type” in the present invention means an ink ejection method based on an inkjet technique. Furthermore, “inkjet” includes various known methods, for example, various continuous methods such as a binary deflection method or a continuous deflection method, and various on-demand methods such as a thermal method or a piezoelectric element method. .

製造装置1は、インクヘッド2とレーザー3と紫外線照射装置4とを備えている。図1等において、符号Yは主走査方向を示す。本実施形態では、主走査方向Yは左右方向となる。主走査方向と直交する方向である副走査方向は、基板Bが搬送される方向であり、前後方向となる。   The manufacturing apparatus 1 includes an ink head 2, a laser 3, and an ultraviolet irradiation device 4. In FIG. 1 and the like, the symbol Y indicates the main scanning direction. In the present embodiment, the main scanning direction Y is the left-right direction. The sub-scanning direction, which is a direction orthogonal to the main scanning direction, is the direction in which the substrate B is transported and is the front-rear direction.

インクジェットプリンタ1の内部には、主走査方向Yに延びるガイドレール10が設けられている。ガイドレール10の中央部の下方かつ前方には、ベルト状のベッド11が配置されている。ベッド11は、インクヘッド2によるインクの吐出やレーザー3による基板Bの加工の際に、基板Bを支持する部分である。基板Bに対するインクの吐出および加工は、ベッド11上において行われる。   A guide rail 10 extending in the main scanning direction Y is provided inside the ink jet printer 1. A belt-like bed 11 is disposed below and in front of the central portion of the guide rail 10. The bed 11 is a portion that supports the substrate B when ink is ejected by the ink head 2 or when the substrate B is processed by the laser 3. Ink ejection and processing on the substrate B are performed on the bed 11.

インクヘッド2は、基板Bに向かってインクを吐出するヘッドである。インクヘッド2は、インクを吐出するノズル20を有する複数のプリントヘッド21と、これらのプリントヘッド21を支持するプリントヘッドキャリッジ22とを有している。プリントヘッドキャリッジ22は、左右方向に移動可能なようにガイドレール10に係合している。プリントヘッド21は、前記ノズル20からインク滴を下方に向かって吐出する。各プリントヘッド21には、正面右側から順に、親水性の紫外線硬化インク、撥水性の紫外線硬化インク、イエロの紫外線硬化インク、ホワイトの紫外線硬化インク、銅粒子を分散させた金属ナノインク、銀粒子を分散させた金属ナノインクインクがそれぞれ供給される。ここで「親水性」とは、物質の表面が水を弾かず、水が表面になじんだ状態になりやすい性質のことをいう。より具体的には、物質上における水滴の接触角が25度以下のものをいう。「撥水性」とは、ある物質の表面に水滴を落とすと、水滴が弾かれてほぼ球形に近い状態となる性質をいう。より具体的には、物質上における水滴の接触角が60度以上のものをいう。「金属ナノインク」とは、分散させた金属微粒子を含むインクのことをいう。金属微粒子同士がインク中で融着しないように、粒子表面は有機物で被覆されている。金属微粒子としては、他にニッケルやマンガン等が適宜使用される。なお、金属ナノインクに代えて、他の導電性インク、例えば抵抗材料や半導体成分を含有するインク等を使用してもよい。これらは、いずれも導電性成分を含むインクである。なお、前記イエロやホワイトの紫外線硬化インクは、例えば基板Bに文字や記号等を印刷するための印刷用のインクである。ただし、イエロやホワイトの紫外線硬化インクは、電子回路の形成には必須ではない。そのため、それらのインクを吐出するプリントヘッド21は、省略してもよい。また、印刷用のインクの色彩は、イエロやホワイトに限定される訳ではなく、他の色のインクを用いることも可能である。   The ink head 2 is a head that ejects ink toward the substrate B. The ink head 2 includes a plurality of print heads 21 having nozzles 20 that eject ink, and a print head carriage 22 that supports these print heads 21. The print head carriage 22 is engaged with the guide rail 10 so as to be movable in the left-right direction. The print head 21 ejects ink droplets downward from the nozzles 20. In order from the front right side, hydrophilic UV curable ink, water-repellent UV curable ink, yellow UV curable ink, white UV curable ink, metal nano ink in which copper particles are dispersed, and silver particles are sequentially applied to each print head 21. The dispersed metal nano ink ink is supplied. Here, the term “hydrophilic” refers to a property that the surface of a substance does not repel water and water tends to become familiar with the surface. More specifically, the contact angle of water droplets on a substance is 25 degrees or less. “Water repellency” refers to the property that when a water droplet is dropped on the surface of a certain substance, the water droplet is repelled and becomes almost spherical. More specifically, the contact angle of water droplets on a substance is 60 degrees or more. “Metal nano ink” refers to an ink containing dispersed fine metal particles. The particle surface is coated with an organic substance so that the metal fine particles are not fused in the ink. As the metal fine particles, nickel, manganese, or the like is appropriately used. Instead of the metal nano ink, other conductive ink, for example, an ink containing a resistance material or a semiconductor component may be used. These are all inks containing a conductive component. The yellow or white UV curable ink is a printing ink for printing characters, symbols, and the like on the substrate B, for example. However, yellow or white UV curable ink is not essential for forming an electronic circuit. Therefore, the print head 21 that discharges the ink may be omitted. Further, the color of the printing ink is not limited to yellow or white, and other colors of ink can be used.

紫外線照射装置4は、紫外線硬化インクに紫外線を照射する装置であり、本実施形態では紫外線発光ダイオードから構成されている。なお、紫外線照射装置4の構成は何ら限定されず、例えばハロゲンランプ等で構成してもよい。紫外線照射装置4は、連結部材30を介してプリントヘッドキャリッジ22の右側部に取り付けられている。紫外線照射装置4は、インクヘッド2と共に左右方向に移動する。すなわち、紫外線照射装置4は、プリントヘッドキャリッジ22を介してガイドレール10に案内され、左右方向に移動する。ただし、紫外線照射装置4自体がガイドレール10に案内されるように構成されていてもよい。プリントヘッドキャリッジ22の左側部には、磁石31が取り付けられている。   The ultraviolet irradiation device 4 is a device that irradiates ultraviolet curable ink with ultraviolet rays, and is configured by an ultraviolet light emitting diode in this embodiment. In addition, the structure of the ultraviolet irradiation device 4 is not limited at all, and may be composed of, for example, a halogen lamp. The ultraviolet irradiation device 4 is attached to the right side portion of the print head carriage 22 via the connecting member 30. The ultraviolet irradiation device 4 moves in the left-right direction together with the ink head 2. That is, the ultraviolet irradiation device 4 is guided by the guide rail 10 via the print head carriage 22 and moves in the left-right direction. However, the ultraviolet irradiation device 4 itself may be configured to be guided by the guide rail 10. A magnet 31 is attached to the left side of the print head carriage 22.

次に、レーザー3について説明する。レーザー3は、親水部形成装置の一例であり、基板Bにレーザー処理を施すためのレーザー照射装置からなっている。レーザー3からは、例えばCOレーザー、YAGレーザー、エキシマレーザー等が照射されるが、具体的なレーザー光の種類は、決してこれらに限定されるものではない。レーザー3には、加工の種類等に応じて、レーザー光の照射中でも集光径を変更できるようなレンズ(図示せず)が内蔵されている。この集光径を変更することにより、単位面積当たりの照射強度が一定となるように設定することも可能である。また、レーザー3にはファンが設けられていてもよい。これにより、レーザー加工時に発生する煙を回収することが容易となる。レーザー3の右側部には、磁石32が取り付けられている。レーザー3には、主走査方向Yに移動するキャリッジ33が内蔵されており、レーザー3は前記ガイドレール10に沿って主走査方向Yに自走可能である。ただし、キャリッジはレーザー3ではなく、インクヘッド2に設けられていてもよい。あるいは、レーザー3およびインクヘッド2の両方にキャリッジが設けられていてもよい。 Next, the laser 3 will be described. The laser 3 is an example of a hydrophilic portion forming apparatus, and includes a laser irradiation apparatus for performing laser processing on the substrate B. The laser 3 emits, for example, a CO 2 laser, a YAG laser, an excimer laser, and the like, but the specific types of laser light are not limited to these. The laser 3 incorporates a lens (not shown) that can change the focused diameter even during laser irradiation, depending on the type of processing. It is also possible to set the irradiation intensity per unit area to be constant by changing the condensing diameter. The laser 3 may be provided with a fan. Thereby, it becomes easy to collect smoke generated during laser processing. A magnet 32 is attached to the right side of the laser 3. The laser 3 has a built-in carriage 33 that moves in the main scanning direction Y, and the laser 3 can travel in the main scanning direction Y along the guide rail 10. However, the carriage may be provided in the ink head 2 instead of the laser 3. Alternatively, carriages may be provided on both the laser 3 and the ink head 2.

キャリッジ33の駆動装置は何ら限定されるものではない。例えば、ガイドレール10の一端近傍に駆動ローラが設けられ、他端近傍に従動ローラが設けられ、それら両ローラに、キャリッジ33が固定された駆動ベルトが巻きかけられていてもよい。このような構成によれば、駆動ローラが回転すると駆動ベルトが走行し、キャリッジ33が主走査方向Yに移動することになる。   The drive device of the carriage 33 is not limited at all. For example, a driving roller may be provided in the vicinity of one end of the guide rail 10, a driven roller may be provided in the vicinity of the other end, and a driving belt to which the carriage 33 is fixed may be wound around these rollers. According to such a configuration, when the driving roller rotates, the driving belt travels, and the carriage 33 moves in the main scanning direction Y.

図1に示すように、インクヘッド2の磁石31とレーザー3の磁石32とが接触すると、両磁石31、32が吸着されるため、レーザー3とインクヘッド2とが互いに連結される。ガイドレール10の右端部分は、インクヘッド2のホームポジションとなる。レーザー3とインクヘッド2との連結は、インクヘッド2のホームポジションにおいて行われる。連結後、インクヘッド2は、レーザー3と共に主走査方向Yに移動する。一方、インクヘッド2がホームポジションに固定された状態で、レーザー3が左側に移動すると、レーザー3とインクヘッド2との連結が解除される。連結が解除されると、インクヘッド2はホームポジションで待機し、レーザー3のみが主走査方向Yに移動することになる。なお、ホームポジションの近傍には、インクヘッド2を固定する固定装置(図示せず)が設けられている。このように、磁石31、32は、レーザー3とインクヘッド2とを着脱自在に連結する機能を有している。キャリッジ33とプリントヘッドキャリッジ22とは、磁石31、32によって着脱自在に連結されている。なお、製造装置1の各部の動作は、制御装置(図示せず)により制御される。   As shown in FIG. 1, when the magnet 31 of the ink head 2 and the magnet 32 of the laser 3 come into contact with each other, the magnets 31 and 32 are attracted, so that the laser 3 and the ink head 2 are connected to each other. The right end portion of the guide rail 10 is the home position of the ink head 2. The laser 3 and the ink head 2 are connected at the home position of the ink head 2. After the connection, the ink head 2 moves in the main scanning direction Y together with the laser 3. On the other hand, when the laser 3 moves to the left side with the ink head 2 fixed at the home position, the connection between the laser 3 and the ink head 2 is released. When the connection is released, the ink head 2 stands by at the home position, and only the laser 3 moves in the main scanning direction Y. A fixing device (not shown) for fixing the ink head 2 is provided in the vicinity of the home position. Thus, the magnets 31 and 32 have a function of detachably connecting the laser 3 and the ink head 2. The carriage 33 and the print head carriage 22 are detachably connected by magnets 31 and 32. In addition, operation | movement of each part of the manufacturing apparatus 1 is controlled by a control apparatus (not shown).

(電子回路基板の製造方法)
次に、製造装置1による電子回路基板の製造方法について説明する。
(Electronic circuit board manufacturing method)
Next, the manufacturing method of the electronic circuit board by the manufacturing apparatus 1 will be described.

まず、インクヘッド2が主走査方向Yに往復移動しながら、シリコン等からなる基板Bに向かってプリントヘッド21が親水性の紫外線硬化インクを吐出すると共に、紫外線照射装置4が紫外線を照射し、上記紫外線硬化インクを硬化させる。これにより、図2(a)に示すように、基板Bの表面に親水性の層(以下、親水層という)Pが形成される。次に、親水層Pの表面に向かってプリントヘッド21が撥水性の紫外線硬化インクを吐出すると共に、紫外線照射装置4が紫外線を照射し、上記紫外線硬化インクを硬化させる。これにより、図2(b)に示すように、親水層Pの上に撥水性の層(以下、撥水層という)Qが形成されることになる。   First, while the ink head 2 reciprocates in the main scanning direction Y, the print head 21 ejects hydrophilic ultraviolet curable ink toward the substrate B made of silicon or the like, and the ultraviolet irradiation device 4 irradiates ultraviolet rays. The ultraviolet curable ink is cured. Thereby, as shown in FIG. 2A, a hydrophilic layer (hereinafter referred to as a hydrophilic layer) P is formed on the surface of the substrate B. Next, the print head 21 discharges the water-repellent ultraviolet curable ink toward the surface of the hydrophilic layer P, and the ultraviolet irradiation device 4 irradiates the ultraviolet ray to cure the ultraviolet curable ink. As a result, a water repellent layer (hereinafter referred to as a water repellent layer) Q is formed on the hydrophilic layer P as shown in FIG.

次に、レーザー3によるレーザー加工を行う。すなわち、レーザー3からレーザー光が撥水層Qに照射される。これにより、図2(c)に示すように、レーザー光が照射された撥水層Qの部分は消失し、親水層Pが外部に露出する。レーザー3は、自らが主走査方向Yに移動すると共に、ベッド11上の基板Bが副走査方向Xに搬送されることによって、撥水層Qに電子回路の配線パターンに応じたパターン溝40を形成する。レーザー加工によれば、微細なパターン溝40を形成することが容易である。本実施形態では、約10ミクロン程度の幅のパターン溝40が形成される。   Next, laser processing with the laser 3 is performed. That is, laser light is irradiated from the laser 3 to the water repellent layer Q. As a result, as shown in FIG. 2C, the portion of the water-repellent layer Q irradiated with the laser light disappears, and the hydrophilic layer P is exposed to the outside. The laser 3 moves in the main scanning direction Y and the substrate B on the bed 11 is transported in the sub-scanning direction X, so that the pattern groove 40 corresponding to the wiring pattern of the electronic circuit is formed in the water repellent layer Q. Form. According to laser processing, it is easy to form a fine pattern groove 40. In the present embodiment, a pattern groove 40 having a width of about 10 microns is formed.

次に、図2(d)に示すように、プリントヘッド21から銀または銅粒子を含む金属ナノインクRをパターン溝40に吐出する。図2(d)に示すように、撥水層Qの表面ではインクRは広がらないため、インクRの幅をパターン溝40の幅と同等レベルに抑えることができる。すなわち、線幅の短い配線パターンを形成することができる。次に、レーザー3から金属ナノインクRにレーザー光を照射する。これにより、図2(e)に示すように、金属ナノインクRの溶媒や有機物が溶解除去されて、金属粒子の焼成体Sが生成される。この焼成体Sの全体が、電子回路の配線パターンとなる。   Next, as shown in FIG. 2D, the metal nano ink R containing silver or copper particles is ejected from the print head 21 into the pattern groove 40. As shown in FIG. 2D, since the ink R does not spread on the surface of the water repellent layer Q, the width of the ink R can be suppressed to the same level as the width of the pattern groove 40. That is, a wiring pattern with a short line width can be formed. Next, laser light is irradiated from the laser 3 to the metal nano ink R. Thereby, as shown in FIG.2 (e), the solvent and organic substance of the metal nano ink R are melt | dissolved and removed, and the sintered body S of a metal particle is produced | generated. The whole of the fired body S becomes a wiring pattern of an electronic circuit.

以上により、2次元の配線パターンを形成することができる。ただし、本実施形態に係る製造装置1は、3次元の配線パターンを形成することも可能である。次に、3次元の配線パターンの形成方法について説明する。   As described above, a two-dimensional wiring pattern can be formed. However, the manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment can also form a three-dimensional wiring pattern. Next, a method for forming a three-dimensional wiring pattern will be described.

3次元の配線パターンを形成する場合には、まず図3(a)に示すように、上述のように、基板Bの上に親水層P1と撥水層Q1とを順に形成し、撥水層Q1にパターン溝40を形成する。そして、パターン溝40に金属ナノインクRを吐出した後、金属ナノインクRを焼成する。これにより、第1層の配線パターンが形成される。次に、図3(b)に示すように、上記第1層の配線パターンの上に、すなわち撥水層Q1および焼成体S1の全体の上に、プリントヘッド21から親水性の紫外線硬化インクを吐出する。次に、紫外線照射装置4から紫外線を照射し、親水性の紫外線硬化インクを硬化させ、親水層P2を形成する。次に、プリントヘッド21から撥水性の紫外線硬化インクを吐出し、紫外線照射装置4から紫外線を照射し、撥水性の紫外線硬化インクを硬化させる。これにより、図3(c)に示すように、親水層P2の上に撥水層Q2が形成される。   In the case of forming a three-dimensional wiring pattern, first, as shown in FIG. 3A, the hydrophilic layer P1 and the water repellent layer Q1 are sequentially formed on the substrate B as described above. A pattern groove 40 is formed in Q1. Then, after discharging the metal nano ink R into the pattern groove 40, the metal nano ink R is baked. As a result, a first-layer wiring pattern is formed. Next, as shown in FIG. 3B, hydrophilic UV curable ink is applied from the print head 21 onto the wiring pattern of the first layer, that is, over the entire water repellent layer Q1 and the fired body S1. Discharge. Next, ultraviolet rays are irradiated from the ultraviolet irradiation device 4 to cure the hydrophilic ultraviolet curable ink, thereby forming the hydrophilic layer P2. Next, water-repellent ultraviolet curable ink is ejected from the print head 21, and ultraviolet rays are irradiated from the ultraviolet irradiation device 4 to cure the water-repellent ultraviolet curable ink. Thereby, as shown in FIG.3 (c), the water repellent layer Q2 is formed on the hydrophilic layer P2.

次に、図3(d)に示すように、レーザー3により、第2層の配線パターンに応じたパターン溝40を撥水層Q2に形成する。そして、図3(e)に示すように、プリントヘッド21からパターン溝40に金属ナノインクRを吐出する。次に、図3(f)に示すように、レーザー3によって、金属ナノインクRを焼成する。焼成体S2により、第2層の配線パターンが形成される。   Next, as shown in FIG. 3D, a pattern groove 40 corresponding to the wiring pattern of the second layer is formed in the water repellent layer Q2 by the laser 3. Then, as shown in FIG. 3E, the metal nano ink R is ejected from the print head 21 into the pattern groove 40. Next, as shown in FIG. 3 (f), the metal nano-ink R is baked by the laser 3. A second-layer wiring pattern is formed by the fired body S2.

なお、第1層の配線パターンと第2層の配線パターンとは、以下のスルーホールによって導通することができる。スルーホールは、以下のようにして形成される。図3(d)に示すように、第2層の配線パターンを形成する部分では、撥水層Q2のみに溝40を形成していた。これに対し、図4(a)および図4(b)に示すように、スルーホールを形成する部分では、レーザー3により、撥水層Q2および親水層P2を貫通する溝40を形成する。なお、スルーホールを形成する部分には、第1層の金属ナノインクRまたはその焼成体が設けられている。次に、図4(c)に示すように、この溝40にプリントヘッド21から金属ナノインクRを吐出する。そして、レーザー3により、金属ナノインクRを焼成する(図4(d)参照)。これにより、第1層の配線パターンと第2層の配線パターンとをつなぐスルーホールが形成される。   The first-layer wiring pattern and the second-layer wiring pattern can be conducted through the following through holes. The through hole is formed as follows. As shown in FIG. 3D, the groove 40 is formed only in the water repellent layer Q2 in the portion where the second-layer wiring pattern is formed. On the other hand, as shown in FIG. 4A and FIG. 4B, a groove 40 penetrating the water repellent layer Q2 and the hydrophilic layer P2 is formed by the laser 3 in the portion where the through hole is formed. Note that the first layer of the metal nano-ink R or a fired body thereof is provided in a portion where the through hole is formed. Next, as shown in FIG. 4C, the metal nano ink R is discharged from the print head 21 into the groove 40. Then, the metal nano ink R is baked by the laser 3 (see FIG. 4D). As a result, a through hole that connects the wiring pattern of the first layer and the wiring pattern of the second layer is formed.

上記の電子回路は2層構造の電子回路であったが、3層以上の電子回路も同様にして製造可能である。   Although the above electronic circuit is an electronic circuit having a two-layer structure, an electronic circuit having three or more layers can be manufactured in the same manner.

(実施形態の効果)
以上説明したように、本実施形態に係る製造装置1においては、撥水層Qのパターン溝40に金属ナノインクRを吐出するようにしたので、吐出後の金属ナノインクRが周囲に広がることを抑制することができ、金属ナノインクRの幅を短くすることができる。また、撥水層Qのパターン溝40はレーザー3によって形成されるものであるため、微細化が容易であり、また、高い精度を有して形成される。従って、所望の配線幅および配線ピッチを備えた回路パターンを形成することができる。その結果、高密度な電子回路基板Aを得ることが可能になる。
(Effect of embodiment)
As described above, in the manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment, since the metal nano ink R is ejected into the pattern groove 40 of the water repellent layer Q, the metal nano ink R after ejection is prevented from spreading to the surroundings. And the width of the metal nano-ink R can be shortened. Further, since the pattern groove 40 of the water repellent layer Q is formed by the laser 3, it can be easily miniaturized and formed with high accuracy. Therefore, a circuit pattern having a desired wiring width and wiring pitch can be formed. As a result, a high-density electronic circuit board A can be obtained.

また、本実施形態に係る製造装置1は、基板Bに対する親水層Pおよび撥水層Qの形成から焼成体Sの生成に至るまでの一連の工程を全て行うことができる。このため、電子回路基板Aの製作を簡易に、かつ効率的に行うことができる。従来よりも製作の手間と時間を短縮することが可能となる。   In addition, the manufacturing apparatus 1 according to this embodiment can perform all the series of steps from the formation of the hydrophilic layer P and the water repellent layer Q to the substrate B to the generation of the fired body S. For this reason, the electronic circuit board A can be manufactured easily and efficiently. It is possible to reduce the time and labor of production than before.

さらに、インクヘッド2はレーザー3と同一のガイドレール10に沿って主走査方向Yに移動するため、インクヘッド2とレーザー3との相互の位置関係を良好に維持できる。パターン溝40の形成とパターン溝40に対する金属ナノインクRの吐出とを、精度良く行うことができる。   Further, since the ink head 2 moves in the main scanning direction Y along the same guide rail 10 as the laser 3, the mutual positional relationship between the ink head 2 and the laser 3 can be maintained well. The formation of the pattern groove 40 and the discharge of the metal nano ink R to the pattern groove 40 can be performed with high accuracy.

(変形例)
なお、製造装置1は、基板Bに予め組込まれた集積回路、抵抗器、コンデンサー等の電子デバイス間に回路パターンを形成する場合にも適用できる。以下、その一例として、図5(a)に示すように、中央部分に直方体形状の電子デバイス(例えばCPU等)50を有し、その四方に位置する基板Bの各端部に端子51を備えたものに、回路パターンを形成する場合について説明する。先ず、図5(b)に示すように、インクヘッド2から親水性の紫外線硬化インクを吐出し、これに紫外線照射装置4により紫外線を照射する。これにより、電子デバイス50の周囲に、外側に行くほど下方に傾斜する斜面を備えた断面略三角形状の親水層Pが形成される。次に、図5(c)に示すように、インクヘッド2から撥水性の紫外線硬化インクを前記親水層Pの傾斜面に吐出し、これに紫外線照射装置4により紫外線を照射する。これにより、親水層Pの表面を覆うようにして撥水層Qが形成される。その後、図6(a)に示すように、レーザー3からレーザー光を撥水層Qに照射して、その一部を消失させる。これにより、前記端子51とこれに対向する電子デバイス50の端子52とを繋ぐパターン溝40が形成される。次に、図6(b)に示すように、インクヘッド2からパターン溝40に金属ナノインクRを吐出する。これにより、金属ナノインクRを介して前記端子51、52が接続されることになる。その後、図6(c)に示すように、金属ナノインクRにレーザー3からレーザー光を照射する。金属ナノインクRは焼成され、この焼成体Sを介して端子51、52が導通状態で接続されることになる。
(Modification)
The manufacturing apparatus 1 can also be applied to a case where a circuit pattern is formed between electronic devices such as an integrated circuit, a resistor, and a capacitor incorporated in advance on the substrate B. Hereinafter, as an example, as shown in FIG. 5A, a rectangular parallelepiped electronic device (for example, a CPU) 50 is provided at the center portion, and terminals 51 are provided at each end of the substrate B located on the four sides. A case where a circuit pattern is formed will be described. First, as shown in FIG. 5B, hydrophilic ultraviolet curable ink is ejected from the ink head 2, and this is irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device 4. As a result, a hydrophilic layer P having a substantially triangular cross section is formed around the electronic device 50 and has a slope that slopes downward as it goes outward. Next, as shown in FIG. 5 (c), the water-repellent ultraviolet curable ink is ejected from the ink head 2 onto the inclined surface of the hydrophilic layer P and irradiated with ultraviolet rays by the ultraviolet irradiation device 4. Thereby, the water repellent layer Q is formed so as to cover the surface of the hydrophilic layer P. Then, as shown to Fig.6 (a), the laser beam is irradiated to the water-repellent layer Q from the laser 3, and the one part is lose | disappeared. As a result, a pattern groove 40 that connects the terminal 51 and the terminal 52 of the electronic device 50 facing the terminal 51 is formed. Next, as shown in FIG. 6B, the metal nano ink R is ejected from the ink head 2 into the pattern groove 40. Thus, the terminals 51 and 52 are connected via the metal nano ink R. Thereafter, as shown in FIG. 6C, the metal nano-ink R is irradiated with laser light from the laser 3. The metal nano ink R is fired, and the terminals 51 and 52 are connected in a conductive state via the fired body S.

上記実施形態では、インクヘッド2に親水性や撥水性の紫外線硬化インクを吐出可能なプリントヘッド21を備えさせているが、これらは適宜に省略しても構わない。これに代えて、例えば親水性や撥水性を予め備えている基板Bを使用することも可能である。予め親水性を備えている基板Bに対しては、撥水性の紫外線硬化インクにより撥水層Qを形成すればよい。予め下部に親水層Pおよび上部に撥水層Qを備えた基板を用いれば、前記各紫外線硬化インクの吐出は不要である。   In the above-described embodiment, the ink head 2 is provided with the print head 21 capable of ejecting hydrophilic or water-repellent ultraviolet curable ink, but these may be omitted as appropriate. Instead of this, it is also possible to use, for example, a substrate B provided with hydrophilicity and water repellency in advance. For the substrate B having hydrophilicity in advance, the water-repellent layer Q may be formed with water-repellent ultraviolet curable ink. If a substrate provided with a hydrophilic layer P in the lower portion and a water-repellent layer Q in the upper portion in advance is used, it is not necessary to discharge each ultraviolet curable ink.

前述したように、製造装置1のインクヘッド2は、印刷用のインクを吐出するプリントヘッド21を備えている。そのため、製造後の電子回路基板Aに対し、型番等の情報を印刷することができる。すなわち、単一の製造装置1によって、電子回路基板Aの製造と印刷とを実行することができる。   As described above, the ink head 2 of the manufacturing apparatus 1 includes the print head 21 that ejects printing ink. Therefore, information such as a model number can be printed on the electronic circuit board A after manufacture. That is, the manufacturing and printing of the electronic circuit board A can be performed by the single manufacturing apparatus 1.

また、例えば予め撥水性を備えた基板Bにレーザー3からレーザー光を照射して、撥水性の一部分を親水性に改質させたり、基板Bに撥水性の紫外線照射インクを吐出して撥水層Qを形成した後、これに同じくレーザー光を照射して、その部分を親水性に改質させるようにしてもよい。このように、撥水性を親水性に改質させる場合、親水性のパターンは上記実施形態のようなパターン溝とはならず、撥水層Qと面一状に形成されることになる。   Further, for example, a substrate B having water repellency in advance is irradiated with laser light from the laser 3 so that a part of the water repellency is modified to be hydrophilic, or water repellant ultraviolet irradiation ink is ejected onto the substrate B for water repellency. After the layer Q is formed, it may be irradiated with laser light to modify the part to be hydrophilic. As described above, when the water repellency is modified to be hydrophilic, the hydrophilic pattern does not become the pattern groove as in the above embodiment, but is formed flush with the water repellent layer Q.

また、レーザー3は、同種または異種のレーザーを照射する複数のヘッドを適宜組み合せて構成することも可能である。例えば、図7に示すレーザー3は、YAGレーザー光およびエキシマレーザー光を照射可能な2つのヘッド3a、3bを備えている。また、一方のヘッド3aの側面に、加工面までの距離を測定する高さ検出センサ53を設けてもよい。このようにすれば、高さ検出センサ53による測定結果に基づいて、レーザー3によるレーザー集光径を一定に維持することが可能になる。   The laser 3 can also be configured by appropriately combining a plurality of heads that irradiate the same or different types of lasers. For example, the laser 3 shown in FIG. 7 includes two heads 3a and 3b that can irradiate YAG laser light and excimer laser light. Further, a height detection sensor 53 for measuring the distance to the processing surface may be provided on the side surface of one head 3a. In this way, it is possible to keep the laser condensing diameter by the laser 3 constant based on the measurement result by the height detection sensor 53.

さらに、レーザー3の種類および強度等を適宜に設定することにより、製造装置1にて、基板Bの切断を行うことも可能である。   Further, the substrate B can be cut by the manufacturing apparatus 1 by appropriately setting the type and intensity of the laser 3.

基板Bは剛体に限らず、フィルム状のフレキシブル基板であってもよい。   The substrate B is not limited to a rigid body, and may be a film-like flexible substrate.

<第2実施形態>
本発明に係る電子回路基板の製造装置は、次のように構成することも可能である。図8に示すように、本実施形態に係る製造装置1は、親水部形成装置としてのプラズマ照射装置3Aと、カメラ61と、マスク62と、インクヘッド2と、焼成炉63と、ベッド11とを備えている。また、製造装置1は、制御装置90を備えている。プラズマ照射装置3Aは、ガイドレール60に沿って主走査方向Yに自走し、プラズマ光を下向きに照射する。プラズマ照射装置3Aは、大気圧で用いることができるものである。カメラ61は、プラズマ照射装置3Aの側部に磁石等を介して着脱自在に取り付けられている。カメラ61がプラズマ照射装置3Aに取り付けられることにより、カメラ61はプラズマ照射装置3Aと共にガイドレール60に沿って主走査方向Yに移動する。カメラ61は、後述するマスク62のパターン孔を画像認識する認識装置として機能し、本実施形態ではデジタル式のカメラで構成されている。マスク62は、プラズマ照射装置3Aおよびカメラ61の下方に配置され、所定のパターン孔が形成されたステンレス製のものである。図8(b)に示すように、インクヘッド2は、ガイドレール10に沿って主走査方向Yに移動可能である。焼成炉63は、インクヘッド2の前方に配置されている。ベッド11は、基板Bを副走査方向Xに搬送する。なお、認識装置は、上記カメラ61に限定されるものではない。また、焼成装置も焼成炉63に限定されない。
Second Embodiment
The electronic circuit board manufacturing apparatus according to the present invention can also be configured as follows. As shown in FIG. 8, the manufacturing apparatus 1 according to the present embodiment includes a plasma irradiation apparatus 3A as a hydrophilic portion forming apparatus, a camera 61, a mask 62, an ink head 2, a baking furnace 63, and a bed 11. It has. Further, the manufacturing apparatus 1 includes a control device 90. The plasma irradiation device 3 </ b> A runs along the guide rail 60 in the main scanning direction Y and irradiates the plasma light downward. The plasma irradiation apparatus 3A can be used at atmospheric pressure. The camera 61 is detachably attached to the side portion of the plasma irradiation apparatus 3A via a magnet or the like. When the camera 61 is attached to the plasma irradiation apparatus 3A, the camera 61 moves in the main scanning direction Y along the guide rail 60 together with the plasma irradiation apparatus 3A. The camera 61 functions as a recognition device that recognizes an image of a pattern hole of a mask 62 described later, and is configured by a digital camera in this embodiment. The mask 62 is made of stainless steel disposed below the plasma irradiation apparatus 3A and the camera 61 and having a predetermined pattern hole. As shown in FIG. 8B, the ink head 2 can move in the main scanning direction Y along the guide rail 10. The firing furnace 63 is disposed in front of the ink head 2. The bed 11 conveys the substrate B in the sub-scanning direction X. The recognition device is not limited to the camera 61. Further, the baking apparatus is not limited to the baking furnace 63.

以上のような構成からなる製造装置1では、次のようにして電子回路基板Aが製作される。先ず、図9(a)および(b)に示すように、表面に撥水層Qを備えた基板Bをベッド11上に取り付ける。基板Bの四隅には、孔64が形成されている。ベッド11に設けられたピン65を孔64に挿入することにより、基板Bが固定される。次に、図9(c)に示すように、基板Bの上方にマスク62を配置する。この状態で、図9(d)に示すように、プラズマ照射装置3Aからマスク62のパターン孔を介して基板Bにプラズマ光を照射する。このようにして、プラズマ処理された撥水層Qの部分は撥水性から親水性に改質され、親水性のパターンが形成される。なお、その際、カメラ61はプラズマ照射装置3Aから切り離されている。   In the manufacturing apparatus 1 configured as described above, the electronic circuit board A is manufactured as follows. First, as shown in FIGS. 9A and 9B, a substrate B having a water repellent layer Q on the surface is attached on the bed 11. Holes 64 are formed in the four corners of the substrate B. The board B is fixed by inserting the pin 65 provided in the bed 11 into the hole 64. Next, as shown in FIG. 9C, a mask 62 is disposed above the substrate B. In this state, as shown in FIG. 9D, the substrate B is irradiated with plasma light from the plasma irradiation apparatus 3A through the pattern hole of the mask 62. In this way, the plasma-treated water repellent layer Q is modified from water repellency to hydrophilicity, and a hydrophilic pattern is formed. At that time, the camera 61 is separated from the plasma irradiation apparatus 3A.

次に、図10(a)に示すように、プラズマ照射装置3Aがカメラ61を伴って主走査方向Yに移動し、カメラ61によりマスク62がスキャンされる。なお、同様の電子回路基板Aを複数製作する場合には、このスキャン動作は一回で足り、二回目以降の製作の際には上記スキャン動作は不要となる。このため、一連の作業の効率化が図られることになる。カメラ61のスキャン結果は制御装置90に送られ、制御装置90はマスク62のパターン孔の位置、形状および寸法等を認識する。言い換えると、制御装置90は、基板Bに形成された親水性のパターンを認識する。制御装置90は、上記パターン上に金属ナノインクを吐出するようにインクヘッド2およびベッド11を制御する。すなわち、図10(b)に示すように、ベッド11により基板Bが副走査方向Xに搬送された後、図10(c)に示すようにインクヘッド2から金属ナノインクRが基板Bの親水性パターン上に吐出される。図8(c)に示すように、親水性パターン40Aの周囲は撥水層Qからなるために、親水性パターン40A上に吐出された金属ナノインクRが周囲へ広がることは抑制される。その後、基板Bはベッド11により副走査方向Xに搬送され、焼成炉63において金属ナノインクRが焼成される。   Next, as shown in FIG. 10A, the plasma irradiation apparatus 3 </ b> A moves in the main scanning direction Y along with the camera 61, and the mask 62 is scanned by the camera 61. It should be noted that when a plurality of similar electronic circuit boards A are manufactured, this scanning operation is sufficient, and the scanning operation is not necessary for the second and subsequent manufacturing. For this reason, the efficiency of a series of work is achieved. The scan result of the camera 61 is sent to the control device 90, and the control device 90 recognizes the position, shape, dimension, etc. of the pattern hole of the mask 62. In other words, the control device 90 recognizes the hydrophilic pattern formed on the substrate B. The control device 90 controls the ink head 2 and the bed 11 so that the metal nano ink is ejected onto the pattern. That is, as shown in FIG. 10B, after the substrate B is conveyed by the bed 11 in the sub-scanning direction X, the metal nano ink R is transferred from the ink head 2 to the hydrophilicity of the substrate B as shown in FIG. It is discharged onto the pattern. As shown in FIG. 8C, since the periphery of the hydrophilic pattern 40A is made of the water repellent layer Q, the metal nano ink R ejected on the hydrophilic pattern 40A is prevented from spreading to the periphery. Thereafter, the substrate B is conveyed by the bed 11 in the sub-scanning direction X, and the metal nano ink R is baked in the baking furnace 63.

本実施形態においては、上記第1実施形態と同様の効果が得られることは勿論、次のような特有の効果も得られる。すなわち、本実施形態では、プラズマ照射装置3Aによるプラズマ処理と、高い精度で製作されるマスク62とを組み合わせて、親水性パターン40Aを形成している。このため、親水性パターン40Aが精度良く形成される。しかも、インクヘッド2には、予め用意された描画パターンではなく、カメラ61による実際のスキャン結果に基づいて、制御装置90から正確な処理信号が送られる。このため、インクヘッド2によって高精度の回路パターンが形成されることになる。すなわち、マスク62に生じる張力や温度変化等により、マスク62の寸法が変化する場合があるが、本実施形態によれば、寸法が変化したとしても、変化後のマスク62のパターン孔を認識することができる。そのため、高精度の回路パターンを形成することができる。   In the present embodiment, the following effects can be obtained as well as the same effects as in the first embodiment. That is, in this embodiment, the hydrophilic pattern 40A is formed by combining the plasma treatment by the plasma irradiation apparatus 3A and the mask 62 manufactured with high accuracy. For this reason, the hydrophilic pattern 40A is accurately formed. In addition, an accurate processing signal is sent from the control device 90 to the ink head 2 based on an actual scan result by the camera 61 instead of a drawing pattern prepared in advance. For this reason, a highly accurate circuit pattern is formed by the ink head 2. That is, the dimension of the mask 62 may change due to tension, temperature change, or the like generated in the mask 62. According to this embodiment, even if the dimension changes, the pattern hole of the mask 62 after the change is recognized. be able to. Therefore, a highly accurate circuit pattern can be formed.

また、マスク62に応じたインク吐出用のデータを予めインクヘッド2に与える必要がないので、マスク62を取り替えるだけで、異なるパターンの電子回路を容易に製作することができる。本実施形態によれば、回路パターンの変更が容易である。   Further, since it is not necessary to provide the ink head 2 with ink ejection data corresponding to the mask 62, electronic circuits having different patterns can be easily manufactured by simply replacing the mask 62. According to the present embodiment, the circuit pattern can be easily changed.

なお、製作すべき回路基板Aが多い場合は、先ずプラズマ処理のみを行い、その後まとめて金属ナノインクRを吐出して回路パターンを描画してもよい。但し、時間の経過に伴いプラズマによる改質効果が薄れる可能性があるため、金属ナノインクRの吐出はプラズマ処理の直後に行うのが好ましい。   If there are many circuit boards A to be manufactured, only the plasma treatment may be performed first, and then the metal nano ink R may be ejected collectively to draw a circuit pattern. However, it is preferable that the metal nano-ink R be ejected immediately after the plasma treatment because the modification effect by the plasma may be reduced with the passage of time.

上記実施形態における親水部形成装置は、プラズマ光を照射するプラズマ照射装置3Aであったが、これに代えて例えば電子線を照射する装置等であってもよい。この場合も、同様の作用効果を得ることができる。   The hydrophilic portion forming apparatus in the above embodiment is the plasma irradiation apparatus 3A that irradiates plasma light. However, instead of this, for example, an apparatus that irradiates an electron beam or the like may be used. Also in this case, the same effect can be obtained.

<第3実施形態>
また、第2実施形態に係る製造装置1は、次のように一部を変更して構成することも可能である。本実施形態では、図11(a)および(b)に示すように、認識装置としてのカメラ61をインクヘッド2の側部に一体的に取り付けている。また、図11(a)に示すように、プラズマ照射装置3Aとインクヘッド2との間には、下端部に回転駆動されるブラシ66を有するクリーナ67が配置されている。さらに、図12(b)等に示すように、基板Bの表面を複数の領域に分けるために、本実施形態では基板Bの表面に色彩の異なるインクが塗布されている。具体的には、Cの領域が青色で、Dの領域が赤色で、Eの領域が黄色に色付けしている。なお、インクは、有機質でかつ撥水性を備えているのが好ましい。また、このインクは、スクリーン印刷等により塗布してもよく、製造装置1のインクヘッド2により塗布してもよい。
<Third Embodiment>
Further, the manufacturing apparatus 1 according to the second embodiment can be configured by changing a part thereof as follows. In this embodiment, as shown in FIGS. 11A and 11B, a camera 61 as a recognition device is integrally attached to the side portion of the ink head 2. Further, as shown in FIG. 11A, a cleaner 67 having a brush 66 that is rotationally driven at the lower end portion is disposed between the plasma irradiation device 3A and the ink head 2. Further, as shown in FIG. 12B and the like, in this embodiment, different colors of ink are applied to the surface of the substrate B in order to divide the surface of the substrate B into a plurality of regions. Specifically, the region C is colored blue, the region D is red, and the region E is colored yellow. The ink is preferably organic and has water repellency. The ink may be applied by screen printing or the like, or may be applied by the ink head 2 of the manufacturing apparatus 1.

本実施形態においても、図12(a)〜(d)および図13(a)〜(c)に示すように、第2実施形態と略同様にして電子回路基板が製作される。但し、基板Bにプラズマ照射装置3Aからプラズマ光が照射されると、その照射部分にあるインクの塗膜は除去されることになる。この場合も、塗膜が除去された部分に位置する基板Bの撥水層Qは、撥水性から親水性に改質される。その後、基板Bはベッド11により副走査方向Xに搬送され、クリーナ67の下方を通過する。その際に、基板Bの表面に付着しているインクかす等の異物は、回転しているプラシ66により綺麗に除去される。その後、基板Bはインクヘッド2の下方位置で停止する。そして、基板Bはカメラ61によりスキャンされる。基板Bの各領域C〜Eには色彩が施され、親水性に改質された部分の色彩は除去されているので、カメラ61によって親水性パターンを容易に認識することができる。実施形態2では、マスク62のパターン孔を基板Bの親水性パターンと見なし、当該親水性パターンを間接的に認識していた。これに対し、本実施形態では、基板Bの親水性パターンを直接認識する。そのため、親水性パターンの認識精度を向上させることができる。   Also in the present embodiment, as shown in FIGS. 12A to 12D and FIGS. 13A to 13C, an electronic circuit board is manufactured in substantially the same manner as in the second embodiment. However, when the substrate B is irradiated with plasma light from the plasma irradiation apparatus 3A, the ink coating film on the irradiated portion is removed. Also in this case, the water repellent layer Q of the substrate B located in the portion where the coating film has been removed is modified from water repellency to hydrophilicity. Thereafter, the substrate B is transported in the sub-scanning direction X by the bed 11 and passes below the cleaner 67. At that time, foreign matter such as ink dash adhering to the surface of the substrate B is cleanly removed by the rotating plush 66. Thereafter, the substrate B stops at a position below the ink head 2. The substrate B is scanned by the camera 61. Since the regions C to E of the substrate B are colored and the color of the portion modified to be hydrophilic is removed, the hydrophilic pattern can be easily recognized by the camera 61. In the second embodiment, the pattern hole of the mask 62 is regarded as the hydrophilic pattern of the substrate B, and the hydrophilic pattern is indirectly recognized. On the other hand, in this embodiment, the hydrophilic pattern of the substrate B is directly recognized. Therefore, the recognition accuracy of the hydrophilic pattern can be improved.

また、上記のように色分けをすれば、スキャン結果に基づいて、各色ごとに異なる種類のインクを吐出することが可能になる。制御装置90は、上記スキャン結果に基づいて、親水性パターンと、その親水性パターンがどの領域に形成されているかを認識することができる。そこで、制御装置90は、領域毎に異なるインクを吐出するようにインクヘッド2を制御することが可能となる。例えば、青色の領域の親水性パターン40Cに対して銅を含むインク、赤色領域の親水性パターン40Dに対して銀を含むインク、黄色領域の親水性パターン40Eに対して金を含むインクをそれぞれ吐出させることができる。また、基板Bの領域を識別するための情報として、色彩の代わりに次のようなものを採用してもよい。例えば、反射強度が相違するインクを基板Bに塗布したり、同種のインクでもその厚みが異なるように塗布する。この場合は、認識装置として、前記カメラ61に代えて、これら反射強度や厚みを認識するセンサ等を使用してもよい。その他に、数字や文字、或いはバーコード等により領域を識別することも可能である。この場合も、各領域をカメラ61でスキャンして認識し、各領域について吐出する金属ナノインクRの種類やその塗布量を適宜変更することが可能になる。   Further, if the color classification is performed as described above, different types of ink can be ejected for each color based on the scan result. The control device 90 can recognize the hydrophilic pattern and in which region the hydrophilic pattern is formed based on the scan result. Therefore, the control device 90 can control the ink head 2 so as to eject different ink for each region. For example, ink containing copper is applied to the hydrophilic pattern 40C in the blue region, ink containing silver is applied to the hydrophilic pattern 40D in the red region, and ink containing gold is applied to the hydrophilic pattern 40E in the yellow region. Can be made. Further, as information for identifying the region of the substrate B, the following may be adopted instead of the color. For example, inks having different reflection intensities are applied to the substrate B, or even the same kind of ink is applied so as to have different thicknesses. In this case, instead of the camera 61, a sensor for recognizing these reflection strengths and thicknesses may be used as the recognition device. In addition, the area can be identified by numbers, characters, barcodes, or the like. Also in this case, each region can be recognized by scanning with the camera 61, and the type of metal nano-ink R to be ejected and the coating amount thereof can be appropriately changed for each region.

本実施形態においても、カメラ61による実際のスキャン結果に基づいて、インクヘッド2により回路パターンが形成される。そのため、ベッド11に対する基板Bの取り付けにあたって、ゆがみやずれ等があったとしても、高品質の電子回路基板Aを製作することができる。   Also in this embodiment, a circuit pattern is formed by the ink head 2 based on the actual scan result by the camera 61. For this reason, even when there is distortion or displacement in the mounting of the substrate B to the bed 11, a high-quality electronic circuit substrate A can be manufactured.

(変形例)
なお、上記実施形態においては、基板Bの表面に複数の色彩による色分けを行ったが、基板Bの地色とは異なる一色のインクを表面全体に塗布するようにしてもよい。この場合にも、基板Bの親水性パターンをカメラ61によって直接認識することができる。
(Modification)
In the above embodiment, the surface of the substrate B is color-coded by a plurality of colors. However, a single color ink different from the ground color of the substrate B may be applied to the entire surface. Also in this case, the hydrophilic pattern of the substrate B can be directly recognized by the camera 61.

また、親水性パターン上に吐出された金属ナノインクRをカメラ61によりスキャンし、抜け部分の有無等を確認するようにしてもよい。抜け部分があった場合は、再度金属ナノインクRを吐出して修正する。このような再検査および修正を行うことにより、歩留りが向上する。   Alternatively, the metal nano-ink R ejected on the hydrophilic pattern may be scanned by the camera 61 to confirm the presence or absence of a missing part. If there is a missing part, the metal nano ink R is discharged again to correct it. By performing such re-examination and correction, the yield is improved.

また、上記実施形態では、インクヘッド2およびプラズマ照射装置3Aが主走査方向Yに移動するように構成している。しかるに、必ずしもこのように構成する必要はなく、例えば図14に示すように、インクヘッド2およびプラズマ照射装置3Aを主走査方向Yに幅広に形成し、主走査方向Yに移動しないように構成してもよい。この場合、カメラ61は主走査方向Yに移動可能であっても移動不能であってもよいが、移動不能な場合には、主走査方向Yの全域をスキャンできるようにそのスキャン範囲を拡大させる必要がある。   In the above embodiment, the ink head 2 and the plasma irradiation device 3A are configured to move in the main scanning direction Y. However, such a configuration is not necessarily required. For example, as illustrated in FIG. 14, the ink head 2 and the plasma irradiation device 3 </ b> A are formed wide in the main scanning direction Y and configured not to move in the main scanning direction Y. May be. In this case, the camera 61 may be movable or non-movable in the main scanning direction Y. However, when the camera 61 is not movable, the scanning range is expanded so that the entire area in the main scanning direction Y can be scanned. There is a need.

<その他の実施形態>
親水部形成装置(実施形態1のレーザー3、実施形態2および3のプラズマ照射装置3A)に、その他の加工機を設けてもよい。これにより、基板B等に対して機械加工を行うことも可能となる。
<Other embodiments>
Other processing machines may be provided in the hydrophilic portion forming apparatus (laser 3 in the first embodiment, plasma irradiation apparatus 3A in the second and third embodiments). Thereby, it is possible to perform machining on the substrate B or the like.

1 電子回路基板の製造装置
2 インクヘッド
3 レーザー(親水部形成装置)
3A プラズマ照射装置(親水部形成装置)
10 ガイドレール
21 プリントヘッド
40 パターン溝(パターン)
61 カメラ(認識装置)
62 マスク
63 焼成炉(焼成装置)
90 制御装置
B 基板
P 親水層
Q 撥水層
R インク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electronic circuit board manufacturing apparatus 2 Ink head 3 Laser (hydrophilic part forming apparatus)
3A Plasma irradiation device (hydrophilic part forming device)
10 Guide rail 21 Print head 40 Pattern groove (pattern)
61 Camera (recognition device)
62 Mask 63 Firing furnace (firing device)
90 Controller B Substrate P Hydrophilic layer Q Water repellent layer R Ink

Claims (12)

撥水性の表面を有する基板に光または電子線を照射することにより前記基板の表面に親水性を有する所定パターンを形成する親水部形成装置と、
前記パターン上に導電性成分を含むインクを吐出するプリントヘッドを有するインクヘッドと、
を備えた電子回路基板の製造装置。
A hydrophilic part forming apparatus for forming a predetermined pattern having hydrophilicity on the surface of the substrate by irradiating the substrate having a water repellent surface with light or an electron beam;
An ink head having a print head for discharging ink containing a conductive component on the pattern;
An electronic circuit board manufacturing apparatus comprising:
前記親水部形成装置および前記インクヘッドの所定方向の移動を案内するガイドレールを備え、
前記基板は、親水性の層とこの親水性の層の上に設けられた撥水性の層とを備え、
前記親水部形成装置は、前記基板の前記撥水性の層にレーザー光を照射することにより、前記親水性の層が露出した所定パターンの溝を形成するレーザーである、請求項1に記載の電子回路基板の製造装置。
A guide rail for guiding the movement of the hydrophilic portion forming device and the ink head in a predetermined direction;
The substrate includes a hydrophilic layer and a water-repellent layer provided on the hydrophilic layer,
2. The electron according to claim 1, wherein the hydrophilic portion forming device is a laser that forms a groove having a predetermined pattern in which the hydrophilic layer is exposed by irradiating the water-repellent layer of the substrate with laser light. Circuit board manufacturing equipment.
前記レーザーは、前記溝に吐出されたインクにレーザー光を照射することによって前記インクを焼成する、請求項2に記載の電子回路基板の製造装置。   The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 2, wherein the laser bakes the ink by irradiating the ink ejected into the groove with laser light. 前記インクヘッドは、撥水性のインクを吐出するプリントヘッドを有し、
前記基板の前記撥水性の層は、前記プリントヘッドから吐出された撥水性のインクによって形成される、請求項2または3に記載の電子回路基板の製造装置。
The ink head has a print head for discharging water-repellent ink,
4. The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 2, wherein the water-repellent layer of the substrate is formed by water-repellent ink ejected from the print head.
前記インクヘッドは、親水性のインクを吐出するプリントヘッドを有し、
前記基板の前記親水性の層は、前記プリントヘッドから吐出された親水性のインクによって形成される、請求項2〜4のいずれか一つに記載の電子回路基板の製造装置。
The ink head has a print head for discharging hydrophilic ink,
The apparatus for manufacturing an electronic circuit board according to claim 2, wherein the hydrophilic layer of the substrate is formed by hydrophilic ink ejected from the print head.
前記インクヘッドは、印刷用のインクを吐出するプリントヘッドを有している、請求項1〜5のいずれか一つに記載の電子回路基板の製造装置。   The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the ink head includes a print head that discharges printing ink. 前記親水部形成装置は、所定のパターン孔が形成されたマスクを介して前記基板の表面にプラズマ光または電子線を照射することにより、その表面の一部を改質して親水性を備えた前記パターンを形成する照射装置である、請求項1に記載の電子回路基板の製造装置。   The hydrophilic portion forming apparatus has hydrophilicity by modifying a part of the surface of the substrate by irradiating the surface of the substrate with plasma light or an electron beam through a mask in which a predetermined pattern hole is formed. The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 1, wherein the apparatus is an irradiation apparatus for forming the pattern. 前記マスクの前記パターン孔を認識することによって前記基板のパターンを認識する認識装置と、
前記認識装置から前記パターンの情報を受け、前記パターン上に前記インクを吐出するように前記インクヘッドを制御する制御装置と、
前記インクを焼成する焼成装置とを備えた、請求項7に記載の電子回路基板の製造装置。
A recognition device for recognizing the pattern of the substrate by recognizing the pattern hole of the mask;
A control device that receives information on the pattern from the recognition device and controls the ink head to eject the ink onto the pattern;
The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 7, further comprising a baking apparatus that bakes the ink.
前記基板の表面には、前記基板の地色とは異なる色の塗膜が設けられ、
前記照射装置は、前記マスクを介して前記基板の表面にプラズマ光を照射し、前記塗膜の一部を消失させて前記パターンを形成し、
前記基板の表面の色彩に基づいて前記パターンを認識する認識装置と、
前記認識装置から前記パターンの情報を受け、前記パターン上に前記インクを吐出するように前記インクヘッドを制御する制御装置と、
前記インクを焼成する焼成装置とを備えた、請求項7に記載の電子回路基板の製造装置。
On the surface of the substrate, a coating film having a color different from the ground color of the substrate is provided,
The irradiation device irradiates the surface of the substrate with plasma light through the mask, and forms the pattern by erasing a part of the coating film,
A recognition device for recognizing the pattern based on the color of the surface of the substrate;
A control device that receives information on the pattern from the recognition device and controls the ink head to eject the ink onto the pattern;
The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 7, further comprising a baking apparatus that bakes the ink.
前記基板の表面には、複数の領域の各々を識別するための複数の情報が付され、
前記照射装置は、前記マスクを介して前記基板の表面にプラズマ光を照射し、前記情報の一部を消失させて前記パターンを形成し、
前記基板の表面の前記情報と前記パターンとを認識する認識装置と、
前記認識装置から前記情報および前記パターンの情報を受け、異なる領域のパターン上に異なる種類のインクを吐出するように前記インクヘッドを制御する制御装置と、
前記インクを焼成する焼成装置とを備えた、請求項7に記載の電子回路基板の製造装置。
A plurality of information for identifying each of a plurality of regions is attached to the surface of the substrate,
The irradiation device irradiates the surface of the substrate with plasma light through the mask, and forms the pattern by erasing a part of the information,
A recognition device for recognizing the information and the pattern on the surface of the substrate;
A control device that receives the information and the pattern information from the recognition device, and controls the ink head to eject different types of ink onto patterns in different regions;
The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 7, further comprising a baking apparatus that bakes the ink.
前記インクは、紫外線が照射されると硬化するインクであり、
前記ガイドレールに案内されて前記所定方向に移動し、前記インクに対して紫外線を照射する紫外線照射装置を備えた、請求項2に記載の電子回路基板の製造装置。
The ink is an ink that cures when irradiated with ultraviolet rays,
The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 2, further comprising an ultraviolet irradiation device that is guided by the guide rail and moves in the predetermined direction to irradiate the ink with ultraviolet rays.
前記ガイドレールに沿って移動可能であり、互いに着脱自在に連結される第1および第2のキャリッジを備え、
前記第1のキャリッジは前記レーザーに設けられ、
前記第2のキャリッジは前記インクヘッドに設けられている、請求項2に記載の電子回路基板の製造装置。
First and second carriages movable along the guide rails and detachably connected to each other;
The first carriage is provided in the laser;
The electronic circuit board manufacturing apparatus according to claim 2, wherein the second carriage is provided in the ink head.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012170847A (en) * 2011-02-18 2012-09-10 Ricoh Co Ltd Device and method of manufacturing thin film
JP2015504547A (en) * 2011-12-23 2015-02-12 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー Multi-touch touch screen panel and manufacturing method thereof
KR101510557B1 (en) 2013-11-27 2015-04-08 주식회사 포스코 The steel sheet having three-dimensional surface and the method for preparation thereof
JP2015185738A (en) * 2014-03-25 2015-10-22 富士機械製造株式会社 Manufacturing method and manufacturing apparatus of electronic device
JP2021020183A (en) * 2019-07-30 2021-02-18 株式会社リコー Ink discharge device, ink discharge system and ink discharge method
CN113993294A (en) * 2020-07-27 2022-01-28 深南电路股份有限公司 Circuit board processing method and circuit board

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04179184A (en) * 1990-11-09 1992-06-25 Hitachi Ltd Printed wiring board and its manufacturing method
JPH07117312A (en) * 1993-10-22 1995-05-09 Canon Inc Recording apparatus and storing box for recording head
JPH1071710A (en) * 1996-08-30 1998-03-17 Oki Data:Kk Ink jet printer
JPH11246807A (en) * 1998-03-02 1999-09-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd Aqueous pigment dispersion and recording liquid for inkjet
JP2003188497A (en) * 2001-12-18 2003-07-04 Yasunaga Corp Method of forming conductor circuit
JP2004200244A (en) * 2002-12-16 2004-07-15 Sharp Corp Method and device for forming pattern
JP2004346159A (en) * 2003-05-21 2004-12-09 Sharp Corp Inkjet recording ink, inkjet recording method, print and inkjet recording apparatus
JP2005142275A (en) * 2003-11-05 2005-06-02 Seiko Epson Corp Pattern forming method and electronic device manufacturing method
JP2005159327A (en) * 2003-10-28 2005-06-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Method of manufacturing wiring, method of manufacturing thin film transistor, and method of discharging droplet
JP2006251231A (en) * 2005-03-09 2006-09-21 Seiko Epson Corp Photomask, manufacturing method thereof, and manufacturing method of electronic device
JP2007027528A (en) * 2005-07-20 2007-02-01 Seiko Epson Corp Circuit element manufacturing method, droplet discharge device, circuit element, circuit board, electronic device
JP2007112125A (en) * 2005-09-22 2007-05-10 Brother Ind Ltd Droplet ejector
JP2007190554A (en) * 2003-04-25 2007-08-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Drop discharge apparatus
JP2008078310A (en) * 2006-09-20 2008-04-03 Toppan Printing Co Ltd Method for forming conductive pattern, method for manufacturing wiring board, and wiring board
JP2008238159A (en) * 2007-02-27 2008-10-09 Toshiba Corp Droplet jetting applicator and method of manufacturing coated body
JP2009021552A (en) * 2007-06-14 2009-01-29 Seiko Epson Corp Contact hole forming method, conductive post forming method, wiring pattern forming method, multilayer wiring board manufacturing method, and electronic device manufacturing method
JP2009071037A (en) * 2007-09-13 2009-04-02 Konica Minolta Holdings Inc Method for forming conductive film pattern

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04179184A (en) * 1990-11-09 1992-06-25 Hitachi Ltd Printed wiring board and its manufacturing method
JPH07117312A (en) * 1993-10-22 1995-05-09 Canon Inc Recording apparatus and storing box for recording head
JPH1071710A (en) * 1996-08-30 1998-03-17 Oki Data:Kk Ink jet printer
JPH11246807A (en) * 1998-03-02 1999-09-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd Aqueous pigment dispersion and recording liquid for inkjet
JP2003188497A (en) * 2001-12-18 2003-07-04 Yasunaga Corp Method of forming conductor circuit
JP2004200244A (en) * 2002-12-16 2004-07-15 Sharp Corp Method and device for forming pattern
JP2007190554A (en) * 2003-04-25 2007-08-02 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Drop discharge apparatus
JP2004346159A (en) * 2003-05-21 2004-12-09 Sharp Corp Inkjet recording ink, inkjet recording method, print and inkjet recording apparatus
JP2005159327A (en) * 2003-10-28 2005-06-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Method of manufacturing wiring, method of manufacturing thin film transistor, and method of discharging droplet
JP2005142275A (en) * 2003-11-05 2005-06-02 Seiko Epson Corp Pattern forming method and electronic device manufacturing method
JP2006251231A (en) * 2005-03-09 2006-09-21 Seiko Epson Corp Photomask, manufacturing method thereof, and manufacturing method of electronic device
JP2007027528A (en) * 2005-07-20 2007-02-01 Seiko Epson Corp Circuit element manufacturing method, droplet discharge device, circuit element, circuit board, electronic device
JP2007112125A (en) * 2005-09-22 2007-05-10 Brother Ind Ltd Droplet ejector
JP2008078310A (en) * 2006-09-20 2008-04-03 Toppan Printing Co Ltd Method for forming conductive pattern, method for manufacturing wiring board, and wiring board
JP2008238159A (en) * 2007-02-27 2008-10-09 Toshiba Corp Droplet jetting applicator and method of manufacturing coated body
JP2009021552A (en) * 2007-06-14 2009-01-29 Seiko Epson Corp Contact hole forming method, conductive post forming method, wiring pattern forming method, multilayer wiring board manufacturing method, and electronic device manufacturing method
JP2009071037A (en) * 2007-09-13 2009-04-02 Konica Minolta Holdings Inc Method for forming conductive film pattern

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012170847A (en) * 2011-02-18 2012-09-10 Ricoh Co Ltd Device and method of manufacturing thin film
JP2015504547A (en) * 2011-12-23 2015-02-12 コリア インスティチュート オブ インダストリアル テクノロジー Multi-touch touch screen panel and manufacturing method thereof
KR101510557B1 (en) 2013-11-27 2015-04-08 주식회사 포스코 The steel sheet having three-dimensional surface and the method for preparation thereof
JP2015185738A (en) * 2014-03-25 2015-10-22 富士機械製造株式会社 Manufacturing method and manufacturing apparatus of electronic device
JP2021020183A (en) * 2019-07-30 2021-02-18 株式会社リコー Ink discharge device, ink discharge system and ink discharge method
JP7404695B2 (en) 2019-07-30 2023-12-26 株式会社リコー Ink discharge device, ink discharge system, and ink discharge method
CN113993294A (en) * 2020-07-27 2022-01-28 深南电路股份有限公司 Circuit board processing method and circuit board
CN113993294B (en) * 2020-07-27 2024-03-22 深南电路股份有限公司 Circuit board processing method and circuit board

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