JP2011039759A - Touch panel device, method for manufacturing the same, display, and electronic equipment - Google Patents
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Abstract
【課題】薄型でかつ光透過性が高く、製造が容易な信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を提供すること。
【解決手段】本発明のタッチパネル装置100は、基板1と、基板1の一方の面1a側に設けられ、互いに離間した複数の島状電極部12、22と、基板1のX軸方向において隣接する島状電極部12間を接続する第1のブリッジ配線11と、X軸方向とは異なるY軸方向において隣接する島状電極部22間を接続し、島状電極部22と一体的に形成された第2のブリッジ配線21と、第1のブリッジ配線11と第2のブリッジ配線21との間に設けられた絶縁膜30とを有するとともに、第1のブリッジ配線11の表面に、液相成膜法により成膜され、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜13が設けられ、第2のブリッジ配線21の表面に、液相成膜法により成膜され、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜23が設けられている。
【選択図】図2A highly reliable capacitively coupled touch panel device that is thin, has high light transmittance, and is easy to manufacture.
A touch panel device according to the present invention includes a substrate and a plurality of island-shaped electrode portions that are provided on one surface of the substrate and spaced apart from each other in the X-axis direction. The first bridge wiring 11 that connects the island-shaped electrode portions 12 to be connected and the island-shaped electrode portions 22 that are adjacent in the Y-axis direction different from the X-axis direction are connected and formed integrally with the island-shaped electrode portions 22. The second bridge wiring 21 and the insulating film 30 provided between the first bridge wiring 11 and the second bridge wiring 21 and a liquid phase on the surface of the first bridge wiring 11. A polyaniline film 13 made of a polyaniline is formed by a film forming method, and a polyaniline film 23 made of a polyaniline is formed on the surface of the second bridge wiring 21 by a liquid phase film forming method. Is There.
[Selection] Figure 2
Description
本発明は、タッチパネル装置、タッチパネル装置の製造方法、表示装置および電子機器に関するものである。 The present invention relates to a touch panel device, a method for manufacturing the touch panel device, a display device, and an electronic apparatus.
近年、現金自動預け払い機(ATM)のように、電子機器を操作するための入力装置としてタッチパネル装置が普及している。このようなタッチパネル装置は、液晶表示装置等の各種表示装置の表示面側に搭載され、タッチパネル装置を透過して視認される表示装置の表示内容に応じて、タッチペン等の入力器具や人間の指等によりタッチ面の任意の位置を接触することにより、接触位置を特定して電子機器の各種操作、入力等を行う。このようなタッチパネル装置としては、例えば、抵抗膜方式、静電容量結合方式、弾性表面波方式等、種々の方式の装置が知られている。 2. Description of the Related Art In recent years, touch panel devices have become widespread as input devices for operating electronic devices, such as automatic teller machines (ATMs). Such a touch panel device is mounted on the display surface side of various display devices such as a liquid crystal display device, and depending on the display content of the display device that is viewed through the touch panel device, an input instrument such as a touch pen or a human finger is used. By touching an arbitrary position on the touch surface by means of, for example, the contact position is specified, and various operations and inputs of the electronic device are performed. As such a touch panel device, various types of devices such as a resistive film method, a capacitive coupling method, and a surface acoustic wave method are known.
特許文献1には、フィルム体の表面に設けられた互いに平行に延びる複数本の第1の電極と、フィルム体の裏面に設けられた第1の電極群に対して直交する方向に延びる互いに平行な複数本の第2の電極とを有するセンサ基板と、フィルム体の表面のうち、第1の電極群が存在しない領域に、第1の電極群と同等の厚さを有する充填層と、充填層および第1の電極群の表面に貼り付けられた保護シートとを有する静電容量結合方式の座標入力装置が開示されている。この座標入力装置では、使用者が手指を保護シートの表面に触れることにより、第1の電極群と第2の電極群との間の静電容量の変化に応じた電流値を測定して出力し、この電流出力値に基づいて、手指を押し当てた座標位置を検出できるようになっている。
In
図14は、従来の静電容量方式のタッチパネル装置の構成を模式的に示す断面図である。なお、以下の説明では、図14中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
図14に示すタッチパネル装置900は、基板910と、基板910の下面に形成されたY電極920と、基板910の上面に形成されたX電極930と、X電極930を介して基板910の上方に設けられた保護シート950と、基板910と保護シート950との間に充填され、これらを接着する粘着層940とを有する。保護シート950の上面が、タッチパネル装置900におけるタッチ面であり、手指等がこのタッチ面に触れることにより、タッチパネル装置900はそのタッチ位置を検出するようになっている。
FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a conventional capacitive touch panel device. In the following description, the upper side in FIG. 14 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
A
ここで、Y電極920およびX電極930は、互いに直交する方向に延在する複数の線状の電極であり、これらの電極920、930間には、静電容量が形成されている。タッチ面に手指等が触れる前後で、この静電容量が変化するため、タッチパネル装置900は、各電極920、930においてその静電容量の変化を検出し、タッチ位置を特定するよう構成されている。
Here, the
ところが、このようなタッチパネル装置900では、Y電極920とX電極930とが、基板910の異なる面に設けられているため、製造プロセスの複雑化を招く。特に、Y電極920およびX電極930は、それぞれ、導電膜を成膜した後、フォトリソグラフィー法およびエッチング法により所望の形状にパターニングするという複雑なプロセスを経て形成されるため、タッチパネル装置900の製造工程全体の高コスト化を招く。
However, in such a
また、基板910の両面にそれぞれ電極を設けたため、タッチパネル装置900の薄型化が困難であった。
さらには、図14には図示していないものの、Y電極920を保護する保護シートも必要となることから、タッチパネル装置900を構成する層数が多くなることが避けられず、光透過性に劣ることも課題となっている。
In addition, since electrodes are provided on both surfaces of the
Further, although not shown in FIG. 14, a protective sheet for protecting the
本発明の目的は、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を提供すること、前記タッチパネル装置を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記タッチパネル装置を備えた高性能の表示装置および電子機器を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a capacitive coupling type touch panel device that is thin, has high light transmission, and is highly reliable, and provides a manufacturing method that can efficiently manufacture the touch panel device. It is another object of the present invention to provide a high-performance display device and electronic device provided with the touch panel device.
上記目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のタッチパネル装置は、タッチパネル基板と、
該タッチパネル基板の一方の面側に設けられ、互いに離間した複数の島状電極部と、
前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接する島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接する島状電極部間を接続し、前記島状電極部と一体的に形成された第2のブリッジ配線と、
前記第1のブリッジ配線と前記第2のブリッジ配線との間に設けられた絶縁膜とを有するとともに、
前記第1のブリッジ配線および前記第2のブリッジ配線のうち少なくとも一方の表面の少なくとも一部に、液相成膜法により成膜され、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜が設けられていることを特徴とする。
これにより、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を提供することができる。
The above object is achieved by the present invention described below.
The touch panel device of the present invention includes a touch panel substrate,
A plurality of island-shaped electrode portions provided on one side of the touch panel substrate and spaced apart from each other;
A first bridge wiring connecting between the island-shaped electrode portions adjacent in the first direction of the touch panel substrate;
A second bridge wiring that connects adjacent island electrode portions in a second direction different from the first direction, and is formed integrally with the island electrode portions;
Having an insulating film provided between the first bridge wiring and the second bridge wiring;
A polyaniline coating film formed by a liquid phase film formation method and made of polyaniline is provided on at least a part of at least one surface of the first bridge wiring and the second bridge wiring. And
As a result, it is possible to provide a capacitive coupling touch panel device that is thin, has high light transmittance, and high reliability.
本発明のタッチパネル装置では、前記ポリアニリン被膜は、インクジェット法により成膜されたものであることが好ましい。
これにより、非成膜領域を覆うマスク等を用意しなくても部分的な成膜が可能になる。また、形成すべきポリアニリンが微細なパターンを有するものであっても好適に対応することができる。
In the touch panel device of the present invention, the polyaniline film is preferably formed by an inkjet method.
Thus, partial film formation is possible without preparing a mask or the like that covers the non-film formation region. Moreover, it can respond suitably even if the polyaniline to be formed has a fine pattern.
本発明のタッチパネル装置では、前記ポリアニリンは、下記式(1)で表されるものであることが好ましい。
本発明のタッチパネル装置では、前記ポリアニリンの重合度は、100以上100000以下であることが好ましい。
これにより、ポリアニリン被膜のブリッジ配線および絶縁膜に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the touch panel device of the present invention, the degree of polymerization of the polyaniline is preferably 100 or more and 100,000 or less.
As a result, the adhesion of the polyaniline film to the bridge wiring and the insulating film, the film strength, and the like can be made particularly excellent, and the reliability of the touch panel device can be made particularly excellent.
本発明のタッチパネル装置では、前記ポリアニリン被膜の平均厚さは、0.04μm以上0.4μm以下であることが好ましい。
これにより、ポリアニリン被膜のブリッジ配線および絶縁膜に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the touch panel device of the present invention, it is preferable that an average thickness of the polyaniline coating is 0.04 μm or more and 0.4 μm or less.
As a result, the adhesion of the polyaniline film to the bridge wiring and the insulating film, the film strength, and the like can be made particularly excellent, and the reliability of the touch panel device can be made particularly excellent.
本発明のタッチパネル装置では、前記第1のブリッジ配線、前記第2のブリッジ配線は、いずれも、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の透明導電材料で構成されたものであることが好ましい。
これにより、第1のブリッジ配線および第2のブリッジ配線の透明性を特に優れたものとすることができるとともに、ポリアニリン被膜と絶縁膜とに対する密着性を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the touch panel device of the present invention, each of the first bridge wiring and the second bridge wiring is one or two selected from the group consisting of ITO, IZO, IGZO, FTO, ZnO, AZO, and ATO. It is preferable that it is comprised with the transparent conductive material of the seed | species or more.
Thereby, the transparency of the first bridge wiring and the second bridge wiring can be made particularly excellent, and the adhesion between the polyaniline coating and the insulating film can be made particularly excellent, and the touch panel The reliability of the apparatus can be made particularly excellent.
本発明のタッチパネル装置では、前記複数の島状電極部の少なくとも中央部は、それぞれ同一面上に位置していることが好ましい。
これにより、タッチパネル装置のタッチ面と各島状電極部との離間距離もほぼ等しくなり、使用者の手指と各島状電極部との間に生じる静電容量のバラツキが抑制される。このため、静電容量の変化に基づいてタッチ位置を検出する際に、その検出精度を高めることができる。
In the touch panel device of the present invention, it is preferable that at least central portions of the plurality of island-shaped electrode portions are respectively located on the same plane.
Thereby, the separation distance between the touch surface of the touch panel device and each island-shaped electrode portion is also substantially equal, and the variation in electrostatic capacitance generated between the user's finger and each island-shaped electrode portion is suppressed. For this reason, when detecting a touch position based on the change of electrostatic capacitance, the detection accuracy can be improved.
本発明のタッチパネル装置の製造方法では、タッチパネル基板の一方の面側に、互いに離間した複数の島状電極部を形成し、前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線を形成する島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程と、
液相成膜法により、前記第1のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成するポリアニリン被膜形成工程と、
前記ポリアニリン被膜で被覆された前記第1のブリッジ配線上に、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第2のブリッジ配線を形成する第2のブリッジ配線形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を効率よく製造することができる製造方法を提供することができる。
本発明のタッチパネル装置の製造方法では、前記第2のブリッジ配線形成工程の後に、さらに、液相成膜法により、前記第2のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成する工程を有することが好ましい。
これにより、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the method for manufacturing a touch panel device of the present invention, a plurality of island-shaped electrode portions that are spaced apart from each other are formed on one surface side of the touch-panel substrate, and between the island-shaped electrode portions that are adjacent in the first direction of the touch-panel substrate. An island-like electrode portion for forming a first bridge wiring for connecting the first bridge wiring and the first bridge wiring forming step;
A polyaniline film forming step of forming a polyaniline film composed of polyaniline on the first bridge wiring by a liquid phase film forming method;
An insulating film forming step of forming an insulating film on the first bridge wiring covered with the polyaniline coating;
And a second bridge wiring forming step of forming a second bridge wiring for connecting the island-shaped electrode portions adjacent to each other in a second direction different from the first direction.
Accordingly, it is possible to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing a capacitive touch panel device that is thin, has high light transmittance, and high reliability.
In the touch panel device manufacturing method of the present invention, after the second bridge wiring formation step, a step of forming a polyaniline film composed of polyaniline on the second bridge wiring by a liquid phase film forming method. It is preferable to have.
Thereby, the reliability of the touch panel device can be made particularly excellent.
本発明のタッチパネル装置の製造方法では、タッチパネル基板の一方の面側に、互いに離間した複数の島状電極部を形成し、前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線を形成する島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程と、
前記第1のブリッジ配線上に、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第2のブリッジ配線を形成する第2のブリッジ配線形成工程と、
液相成膜法により、前記第2のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成するポリアニリン被膜形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を効率よく製造することができる製造方法を提供することができる。
In the method for manufacturing a touch panel device of the present invention, a plurality of island-shaped electrode portions that are spaced apart from each other are formed on one surface side of the touch-panel substrate, and between the island-shaped electrode portions that are adjacent in the first direction of the touch-panel substrate. An island-like electrode portion for forming a first bridge wiring for connecting the first bridge wiring and the first bridge wiring forming step;
An insulating film forming step of forming an insulating film on the first bridge wiring;
A second bridge wiring forming step of forming a second bridge wiring for connecting the island-shaped electrode portions adjacent in the second direction different from the first direction;
And a polyaniline film forming step of forming a polyaniline film made of polyaniline on the second bridge wiring by a liquid phase film forming method.
Accordingly, it is possible to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing a capacitive touch panel device that is thin, has high light transmittance, and high reliability.
本発明のタッチパネル装置の製造方法では、前記ポリアニリン被膜を、インクジェット法により成膜することが好ましい。
これにより、非成膜領域を覆うマスク等を用意しなくても部分的な成膜が可能になる。また、形成すべきポリアニリンが微細なパターンを有するものであっても好適に対応することができる。
In the method for manufacturing a touch panel device of the present invention, the polyaniline film is preferably formed by an inkjet method.
Thus, partial film formation is possible without preparing a mask or the like that covers the non-film formation region. Moreover, it can respond suitably even if the polyaniline to be formed has a fine pattern.
本発明の表示装置は、本発明のタッチパネル装置を備えることを特徴とする。
これにより、タッチパネル装置を備えた高性能の表示装置が得られる。
本発明の電子機器は、本発明の表示装置を備えることを特徴とする。
これにより、高性能の電子機器が得られる。
The display device of the present invention includes the touch panel device of the present invention.
Thereby, a high performance display device provided with a touch panel device is obtained.
An electronic apparatus according to the present invention includes the display device according to the present invention.
Thereby, a high-performance electronic device is obtained.
以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。なお、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせている。
<タッチパネル装置>
まず、本発明のタッチパネル装置について説明する。
図1は、本実施形態に係るタッチパネル装置100の模式平面図である。図2は、タッチパネル装置100のA−A’模式断面図である。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the following drawings, in order to make each configuration easy to understand, the actual structure and the scale and number of each structure are different.
<Touch panel device>
First, the touch panel device of the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic plan view of a
タッチパネル装置100は、基板(タッチパネル基板)1、入力領域2、および引き回し配線60を有する。
基板1は、平面視で矩形状に成形されており、光透過性および絶縁性を有するものである。基板1としては、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラス材料や、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の各種樹脂材料で構成されたものを用いることができる。
The
The board |
入力領域2は、図1において一点鎖線で囲まれた領域であり、タッチパネルに入力される位置情報を検出する領域である。
入力領域2には、複数のX電極10および複数のY電極20がそれぞれ配置されている。X電極10は図示でX軸方向(第1の方向)に沿って延在し、複数のX電極10は、Y軸方向(第2の方向)に沿って配列されている。Y電極20は図示でY軸方向に沿って延在し、それぞれのY電極20は、X軸方向に沿って配列されている。X電極10およびY電極20は、互いのブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)を交差させることによって入力領域2内で交差している。なお、ブリッジ配線11およびブリッジ配線21は、これらの間に、絶縁膜30が介在することにより、互いに接触することが防止されている。
The
In the
X電極10は、X軸方向(第1の方向)に配列された複数の島状電極部12と、隣り合う島状電極部12同士を接続するブリッジ配線(第1のブリッジ配線)11とを備えている。島状電極部12は平面視で矩形状に形成され、一方の対角線がX軸に沿うように配置されている。
Y電極20は、Y軸方向(第2の方向)に配列された複数の島状電極部22と、隣り合う島状電極部22同士を接続するブリッジ配線(第2のブリッジ配線)21とを備えている。島状電極部22は平面視で矩形状に形成され、一方の対角線がY軸に沿うように配置されている。
The
The
島状電極部12と島状電極部22とは、X軸方向およびY軸方向において互い違いに配置(市松状配置)されており、入力領域2では、矩形状の島状電極部12、島状電極部22が平面視マトリクス状に配置されている。
島状電極部12、島状電極部22は、いずれも、ITO、IZO(インジウム亜鉛酸化物;登録商標)、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、島状電極部12および島状電極部22の透明性を特に優れたものとすることができ、使用者に島状電極部(島状電極部12、島状電極部22)のパターンが見えてしまうのをより確実に防止することができる。
島状電極部12、島状電極部22の平均厚さは、20nm以上300nm以下であるのが好ましく、40nm以上100nm以下であるのがより好ましい。これにより、導電性を確保しつつ、使用者に島状電極部(島状電極部12、島状電極部22)のパターンが見えてしまうのをより確実に防止することができる。
引き回し配線60は、X電極10およびY電極20と接続されており、タッチパネル装置100の内部あるいは外部装置に設けられた駆動部および電気信号変換/演算部(いずれも図示は省略)と接続されている。
The island-
Each of the
The average thickness of the island-shaped
The
次に、図2の断面図について説明する。
基板1の一方の面である機能面1aに、島状電極部12(図示は省略)、島状電極部22、およびブリッジ配線11が設けられている。また、ブリッジ配線11の表面には、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13が設けられている。また、ブリッジ配線21の表面には、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜(第2のポリアニリン被膜)23が設けられている。また、ブリッジ配線11とブリッジ配線21との間に、絶縁膜30が設けられている。また、基板1の一方の面である機能面1aに、引き回し配線60が配置されている。引き回し配線60は、機能面1aに配置された第1層60aおよび第1層60aに積層された第2層60bによって構成されている。また、引き回し配線60の表面(第2層60bの表面)には、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜61が設けられている。そして、引き回し配線60を覆って絶縁性保護膜62が形成されている。これらの電極および配線を覆って、平坦化膜40が形成されている。平坦化膜40上には、接着層51を介して保護基板50が配置されている。基板1の裏面1bには、シールド層70が設けられている。
Next, the sectional view of FIG. 2 will be described.
An island-like electrode portion 12 (not shown), an island-
タッチパネル装置100を構成する複数の島状電極部12および島状電極部22の少なくとも中央部は、それぞれが基板1から等しい距離にある同一面上に位置している。この場合、タッチパネル装置100のタッチ面と各島状電極部(島状電極部12、島状電極部22)との離間距離もほぼ等しくなり、使用者の手指と各島状電極部12、22との間に生じる静電容量のバラツキが抑制される。このため、静電容量の変化に基づいてタッチ位置を検出する際に、その検出精度を高めることができる。
At least the central portions of the plurality of island-shaped
ブリッジ配線11、ブリッジ配線21は、いずれも、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、ブリッジ配線11、ブリッジ配線21の透明性を特に優れたものとすることができるとともに、ポリアニリン被膜(リアニリン被膜13、リアニリン被膜23)と絶縁膜30とに対する密着性を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
Each of the
ポリアニリン被膜13は、ブリッジ配線11および絶縁膜30の両方に接触するように設けられている。このようなポリアニリン被膜13を有することにより、ブリッジ配線11と絶縁膜30との密着性(ポリアニリン被膜13を介しての密着性)を優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の耐久性、信頼性を優れたものとすることができる。また、ポリアニリン被膜13を有することにより、ブリッジ配線11で接続される島状電極部12−島状電極部12間の導電性(ブリッジ配線11およびポリアニリン被膜13全体としての導電性)を特に優れたものとすることができ、より安定性の高いセンシングを実現することができる。図示の構成では、ポリアニリン被膜13は、ブリッジ配線11の表面(基板1に接触している部位外の部位)全体に設けられているが、ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13は、ブリッジ配線(第1のブリッジ配線)11の表面の一部のみを被覆するように設けられたものであってもよい。
The
ポリアニリン被膜23は、ブリッジ配線21および絶縁膜30の両方に接触するように設けられている。このようなポリアニリン被膜23を有することにより、ブリッジ配線21と絶縁膜30との密着性(ポリアニリン被膜23を介しての密着性)を優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の耐久性、信頼性を優れたものとすることができる。また、ポリアニリン被膜23を有することにより、ブリッジ配線21で接続される島状電極部12−島状電極部12間の導電性(ブリッジ配線11およびポリアニリン被膜13全体としての導電性)を特に優れたものとすることができ、より安定性の高いセンシングを実現することができる。図示の構成では、ポリアニリン被膜23は、ブリッジ配線21の表面(基板1に接触している部位外の部位)全体に設けられているが、ポリアニリン被膜(第2のポリアニリン被膜)23は、ブリッジ配線(第2のブリッジ配線)21の表面の一部のみを被覆するように設けられたものであってもよい。
The
また、ポリアニリンは、透明性が高く、上述したようなブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)の構成材料との屈折率差の小さい材料である。したがって、使用者にブリッジ配線11、21(ポリアニリン被膜13、23)のパターンが見えてしまうのを確実に防止することができ、タッチパネル装置100の外観に悪影響を及ぼすことを確実に防止することができる。
Polyaniline is highly transparent and has a small refractive index difference from the constituent materials of the bridge wiring (
本実施形態において、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23は、いずれも、液相成膜法により成膜されたものである。これにより、以下のような効果が得られる。すなわち、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23の形成に用いる組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)は、前述したような材料で構成されたブリッジ配線11、ブリッジ配線21との親和性に優れている。このため、タッチパネル装置の製造時(ポリアニリン被膜の形成時)において、ポリアニリン被膜形成用組成物を目的とする部位(ブリッジ配線の表面)に選択的に付着させ、目的とするパターンのポリアニリン被膜を容易かつ確実に形成しつつ、ブリッジ配線との密着性を強固なものとすることができる。また、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23を、液相成膜法により成膜することにより、タッチパネル装置100の生産性を特に優れたものとし、また、製造コストを抑制することができる。
In this embodiment, both the
ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23を形成する液相成膜法としては、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット法、ゾル・ゲル法等が挙げられるが、インクジェット法が好ましい。これにより、非成膜領域を覆うマスク等を用意しなくても部分的な成膜が可能になる。また、形成すべきポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23が微細なパターンを有するものであっても好適に対応することができる。
ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23を構成するポリアニリンは、下記式(1)で表されるものであるのが好ましい。
Examples of the liquid phase film forming method for forming the
The polyaniline constituting the
これにより、ポリアニリン被膜(ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23)の安定性を十分に優れたものとしつつ、ポリアニリン被膜の導電性や、ブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)および絶縁膜30に対する密着性等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
Thereby, the stability of the polyaniline coating (
式(1)中、nは0.3以上0.7以下であるが、0.4以上0.6以下であるが好ましい。また、式(1)中、mは0.3以上0.7以下であるが、0.4以上0.6以下であるが好ましい。
また、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23を構成するポリアニリンの重合度は、100以上100000以下であるのが好ましく、1000以上50000以下であるのがより好ましい。ポリアニリンの重合度が前記範囲内の値であると、ポリアニリン被膜の導電性、ブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)および絶縁膜30に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In formula (1), n is 0.3 or more and 0.7 or less, but is preferably 0.4 or more and 0.6 or less. Moreover, in Formula (1), m is 0.3 or more and 0.7 or less, but is preferably 0.4 or more and 0.6 or less.
The degree of polymerization of the polyaniline constituting the
また、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23の平均厚さは、0.04μm以上0.4μm以下であるのが好ましく、0.08μm以上0.2μm以下であるのがより好ましい。ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23の平均厚さが前記範囲内の値であると、ポリアニリン被膜(ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23)のパターンが視認されてしまうことを確実に防止しつつ、ブリッジ部の抵抗を低減することができ、また、ポリアニリン被膜のブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)および絶縁膜30に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
The average thickness of the
絶縁膜30は、立体的に交差するブリッジ配線11とブリッジ配線21とを絶縁する。絶縁膜30は、例えば、ポリシロキサン、アクリル系樹脂、アクリルモノマー等を印刷法を用いて塗布し、それを乾燥固化して形成することができる。
ポリシロキサンを用いて形成した場合には、絶縁膜30はシリコン酸化物で構成された無機絶縁膜となる。また、アクリル系樹脂、およびアクリルモノマーを採用した場合には、絶縁膜30は樹脂材料で構成された有機絶縁膜となる。
The insulating
When formed using polysiloxane, the insulating
絶縁膜30の構成材料の比誘電率は、4.0以下であるのが好ましく、3.5以下であるのがより好ましい。これにより、ブリッジ配線の交差部における寄生容量を低減して、タッチパネルの位置検出性能をより優れたものとすることができる。
また絶縁膜30の構成材料の屈折率は、2.0以下であるのが好ましく、1.7以下であるのがより好ましい。これにより、基板1やX電極10、Y電極20との屈折率差を小さくすることができ、使用者に絶縁膜30のパターンが見えてしまうのをより確実に防止することができる。
The relative dielectric constant of the constituent material of the insulating
In addition, the refractive index of the constituent material of the insulating
引き回し配線60の第1層60aは、X電極10またはY電極20を入力領域2の外側の領域まで延出したものであり、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成されたものであるのが好ましい。
第2層60bは、第1層60a上に積層形成され、引き回し配線60の配線抵抗を低減する。第2層60bの構成材料としては、例えば、Au、Ag、Al、Cu、Pd等の金属、およびカーボン(グラファイト、カーボンナノチューブ等のナノカーボン)のうち1種類以上を成分とするものが挙げられる。また、第2層60bは、上記材料含む有機化合物、ナノ粒子、ナノワイヤー等を用いて形成することができる。第2層60bの構成材料は、第1層60aよりもシート抵抗を小さくすることができるものであれば特に限定されない。
The
The
本実施形態では、引き回し配線60の表面(第2層60bの表面)に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61が設けられている。このように、引き回し配線60の表面に、ポリアニリン被膜61が設けられることにより、引き回し配線60の断線をより確実に防止することができ、タッチパネル装置100の耐久性、信頼性を特に優れたものとすることができる。また、ポリアニリン被膜61を有することにより、引き回し配線60(第2層60b)を構成する金属材料の酸化を防止したり、安定した不動態膜を形成したりすることができ、より安定性の高いセンシングを実現することができる。このような効果が得られるのは、ポリアニリンが貴金属的性質(高いRedox電位)を有すること等によるものと考えられる。図示の構成では、ポリアニリン被膜61は、引き回し配線60の第2層60bの表面(第1層60aに接触している部位外の部位)全体に設けられているが、ポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61は、引き回し配線60の第2層60bの表面の一部のみを被覆するように設けられたものであってもよい。
In the present embodiment, a polyaniline film (third polyaniline film) 61 made of polyaniline is provided on the surface of the routing wiring 60 (the surface of the
本実施形態において、ポリアニリン被膜61は、液相成膜法により成膜されたものである。これにより、以下のような効果が得られる。すなわち、ポリアニリン被膜61の形成に用いる組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)は、前述したような材料で構成された引き回し配線60(第2層60b)との親和性に優れている。このため、タッチパネル装置100の製造時(ポリアニリン被膜61の形成時)において、ポリアニリン被膜形成用組成物を目的とする部位(引き回し配線60(第2層60b)の表面)に選択的に付着させ、目的とするパターンのポリアニリン被膜61を容易かつ確実に形成しつつ、引き回し配線60(第2層60b)との密着性を強固なものとすることができる。また、ポリアニリン被膜61を、液相成膜法により成膜することにより、タッチパネル装置100の生産性を特に優れたものとし、また、製造コストを抑制することができる。
In the present embodiment, the
ポリアニリン被膜61を形成するための液相成膜法としては、特に、インクジェット法が好ましい。これにより、非成膜領域を覆うマスク等を用意しなくても部分的な成膜が可能になる。また、形成すべきポリアニリン被膜61が微細なパターンを有するものであっても好適に対応することができる。
ポリアニリン被膜61を構成するポリアニリンは、上記で説明したポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23の構成材料としてのポリアニリンと同様の条件を満足するのが好ましい。これにより、ポリアニリン被膜61の安定性を十分に優れたものとしつつ、ポリアニリン被膜61の導電性や、引き回し配線60(第2層60b)や絶縁性保護膜62に対する密着性等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
As the liquid phase film forming method for forming the
The polyaniline constituting the
また、ポリアニリン被膜61の平均厚さは、0.04μm以上0.4μm以下であるのが好ましく、0.08μm以上0.2μm以下であるのがより好ましい。ポリアニリン被膜61の平均厚さが前記範囲内の値であると、引き回し配線60が設けられた部位における抵抗を確実に低いものとすることができるとともに、ポリアニリン被膜61の引き回し配線60(第2層60b)や絶縁性保護膜62に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
引き回し配線60を覆う絶縁性保護膜62は、絶縁膜30と同様に、絶縁性材料で構成されたものであり、例えば、ポリシロキサン、アクリル系樹脂、およびアクリルモノマー等を形成材料に用いた印刷法によって形成することができる。したがって、絶縁性保護膜62は絶縁膜30を形成する工程で同時に形成することができる。
Further, the average thickness of the
The insulating
平坦化膜40は、基板1の機能面1aの少なくとも入力領域2を覆って形成され、X電極10やY電極20による機能面1a側の凹凸を平坦化している。平坦化膜40は、図示のように、機能面1aの略全面(外部接続端子部を除く)を覆って形成されていることが好ましい。平坦化膜40により基板1の機能面1a側が平坦化されていることで、基板1と保護基板50とをほぼ全面にわたって均一に接合することができる。
また平坦化膜40の構成材料の屈折率は、2.0以下であるのが好ましく、1.7以下であるのがより好ましい。これにより、基板1やX電極10、Y電極20との屈折率差を小さくすることができ、使用者にX電極10やY電極20の配線パターンを見えにくくすることができる。
The
Further, the refractive index of the constituent material of the
保護基板50は、光透過性を有するものである。保護基板50としては、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラス材料や、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の各種樹脂材料で構成されたものを用いることができる。あるいは、本実施形態のタッチパネル装置100が液晶パネルや有機ELパネル等の表示装置の前面に配置される場合には、保護基板50として、表示装置の一部として用いられる光学素子基板(偏光板や位相差板等)を用いることもできる。また、保護基板50は、例えば、上記ガラス材料や樹脂材料で構成された板材と、上記光学素子基板との接合体であってもよい。
The
シールド層70は、例えば、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料(透明導電材料)を基板1の裏面1b(機能面1aとは反対側の面)に成膜することで形成することができる。また、上記透明導電材料で構成されたフィルムを用意し、当該フィルムを基板1の裏面1bに接着した構成としてもよい。
シールド層70が設けられていることで、基板1の裏面1b側において効果的に電界を遮断する。これにより、タッチパネル装置100の電界が表示装置等に作用したり、表示装置等の外部機器の電界がタッチパネル装置100に作用したりするのを防止することができる。
なお、図2に示す構成では基板1の裏面1bにシールド層70が設けられているが、図3に示すように、シールド層70Aを基板1の機能面1a側に形成することもできる。
The
By providing the
In the configuration shown in FIG. 2, the
図3に示すタッチパネル装置100Aでは、基板1の機能面1a上にシールド層70Aが形成されており、シールド層70Aを覆って絶縁膜80Aが形成されている。絶縁膜80A上の構成は、図2に示したタッチパネル装置100と同様である。タッチパネル装置100Aでは、基板1の片面にシールド層70Aや、X電極10、Y電極20、引き回し配線60等を形成するので、製造工程が煩雑化するのを回避でき、タッチパネル装置の生産性を特に優れたものとすることができる。
In the
ここで、タッチパネル装置100の動作原理について簡単に説明する。
まず、図示は省略の駆動部から、引き回し配線60を介してX電極10およびY電極20に所定の電位を供給する。
なお、シールド層70には、例えばグランドの電位(接地電位)を入力する。
上記のように電位が供給された状態で、保護基板50側から入力領域2に向けて手指を近づけると、保護基板50に近づけた手指と、接近位置付近のX電極10およびY電極20のそれぞれとの間に寄生容量が形成される。すると、寄生容量が形成されたX電極10およびY電極20では、この寄生容量を充電するために一時的な電位低下が引き起こされる。
Here, the operation principle of the
First, a predetermined potential is supplied to the
For example, a ground potential (ground potential) is input to the
When a finger is brought closer to the
駆動部では、各電極の電位をセンシングしており、上述の電位低下が発生したX電極10およびY電極20を即座に検出する。そして、検出された電極の位置を電気信号変換/演算部によって解析することによって、入力領域2における指の位置情報が検出される。
具体的には、X軸方向に延在するX電極10によって、手指が接近した位置の入力領域2におけるY座標が検出され、Y軸方向に延在するY電極20によって、入力領域2におけるX座標が検出される。
The drive unit senses the potential of each electrode, and immediately detects the
Specifically, the Y coordinate in the
<タッチパネル装置の製造方法>
次に、タッチパネル装置の製造方法について説明する。
以下、図1および図2に示したタッチパネル装置100の製造方法について図面を参照して説明する。図4は、タッチパネル装置の製造方法の好適な実施形態を示す工程図、図5は、液滴吐出装置IJの概略構成を示す斜視図、図6は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図、図7、図8および図9は、タッチパネル装置100の製造工程を示す模式断面図である。また、図10は、ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)S30、絶縁膜形成工程S40およびブリッジ配線形成工程S50をさらに具体的に示す説明図である。図10(a)は、図7(b)に対応する平面図である。図10(b)は、図7(c)に対応する平面図である。図10(c)は、図7(d)に対応する平面図である。図10(d)は、図8(a)に対応する平面図である。また、図11は、変形例に係る製造方法を示す工程図であり、図11(a)〜図11(d)は、それぞれ図10(a)〜図10(d)に対応する図である。
<Method for manufacturing touch panel device>
Next, a method for manufacturing the touch panel device will be described.
Hereinafter, a method of manufacturing the
本実施形態のタッチパネル装置の製造方法は、図4に示すように、基板1の機能面1aに、島状電極部12、島状電極部22、ブリッジ配線11、および引き回し配線60の第1層60aを形成する島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10と、引き回し配線60の第1層60aに第2層60bを積層し、引き回し配線60を完成させる第2層形成工程S20と、ブリッジ配線11の表面にポリアニリン被膜13を形成し、引き回し配線60(第2層60b)の表面に、ポリアニリン被膜61を形成するポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)S30と、ポリアニリン被膜13で被覆されたブリッジ配線11上に絶縁膜30を形成するとともに、ポリアニリン被膜61で被覆された引き回し配線60上に絶縁性保護膜62を形成する絶縁膜形成工程S40と、絶縁膜30上を経由して隣り合った島状電極部22同士を接続するブリッジ配線21を形成する第2のブリッジ配線形成工程S50と、ブリッジ配線21の表面にポリアニリン被膜23を形成するポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程)S60と、基板1の機能面1a側を平坦化する平坦化膜40を形成する平坦化膜形成工程(保護膜形成工程)S70と、接着層51を介して保護基板50を平坦化膜40と接合する保護基板接合工程(接着層形成工程)S80と、基板1の裏面1bにシールド層70を形成するシールド層形成工程(導電膜形成工程)S90とを有している。
As shown in FIG. 4, the manufacturing method of the touch panel device according to the present embodiment has a first layer of island-shaped
本実施形態のタッチパネル装置100の製造工程は、印刷法の一種である液滴吐出法によって成膜する工程を有している。そこで、タッチパネル装置の製造方法の説明に先立ち、液滴吐出装置について説明する。
図5に示す液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1001と、X軸方向駆動軸1004と、Y軸方向ガイド軸1005と、制御装置CONTと、ステージ1007と、クリーニング機構1008と、基台1009と、ヒーター1015とを備えている。液滴吐出装置としては、ピエゾ素子(圧電素子)を用いた電気機械変換方式の、液滴吐出装置が好適に用いられる。
The manufacturing process of the
A droplet discharge device IJ shown in FIG. 5 includes a
ステージ1007は、この液滴吐出装置IJにより液体材料(パターン形成用液体材料)を付与される基板Pを支持するものであって、基板Pを基準位置に固定する図示は省略の固定機構を備えている。
液滴吐出ヘッド1001は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とX軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド1001の下面に一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド1001の吐出ノズルからは、ステージ1007に支持されている基板Pに対して、液体材料が吐出されるようになっている。
The
The
X軸方向駆動軸1004には、X軸方向駆動モーター1002が接続されている。このX軸方向駆動モーター1002は、ステッピングモーター等からなるもので、制御装置CONTからX軸方向の駆動信号が供給されると、X軸方向駆動軸1004を回転させる。X軸方向駆動軸1004が回転すると、液滴吐出ヘッド1001はX軸方向に移動する。
Y軸方向ガイド軸1005は、基台1009に対して動かないように固定されている。ステージ1007は、Y軸方向駆動モーター1003を備えている。Y軸方向駆動モーター1003はステッピングモーター等であり、制御装置CONTからY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ1007をY軸方向に移動する。
制御装置CONTは、液滴吐出ヘッド1001に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、X軸方向駆動モーター1002に液滴吐出ヘッド1001のX軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Y軸方向駆動モーター1003にステージ1007のY軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
An X-axis
The Y-axis
The control device CONT supplies a droplet discharge control voltage to the
クリーニング機構1008は、液滴吐出ヘッド1001をクリーニングするものである。クリーニング機構1008には、図示は省略のY軸方向の駆動モーターが備えられている。このY軸方向の駆動モーターの駆動により、クリーニング機構は、Y軸方向ガイド軸1005に沿って移動する。クリーニング機構1008の移動も制御装置CONTにより制御される。
The
ヒーター1015は、ここではランプアニールにより基板Pを熱処理する手段であり、基板P上に付与された液体材料に含まれる溶剤(溶媒、分散媒)の蒸発および乾燥を行う。このヒーター1015の電源の投入および遮断も制御装置CONTにより制御される。
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1001と基板Pを支持するステージ1007とを相対的に走査しつつ、基板Pに対して、液滴吐出ヘッド1001の下面にX軸方向に配列された複数の吐出ノズルから液滴を吐出するようになっている。
Here, the
The droplet discharge device IJ is arranged in the X axis direction on the lower surface of the
図6において、液体材料を収容する液体室1021に隣接してピエゾ素子1022が設置されている。液体室1021には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系1023を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子1022は駆動回路1024に接続されており、この駆動回路1024を介してピエゾ素子1022に電圧を印加し、ピエゾ素子1022を変形させることにより、液体室1021が変形し、吐出ノズル1025から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子1022の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子1022の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。
In FIG. 6, a
ここで、タッチパネル装置の製造方法の説明に戻る。以下、図7〜図9を参照しつつ、各工程について詳細に説明する。これらの工程図では、図2に示した構造を形成する工程を示している。
[島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程]
まず、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10について説明する。
島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10では、例えばガラス基板である基板1上に、図5に示した液滴吐出装置IJによって、例えば、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成された導電性粒子を含む液体材料の液滴を選択的に付与(配置)する。具体的には、基板1上に、島状電極部12と、ブリッジ配線11と、Y電極20の一部である島状電極部22と、島状電極部12および島状電極部22から延出された引き回し配線60の第1層60aとからなる液体材料のパターンを形成する。その後、基板1上に付与された液体材料(液滴)を乾燥させる。これにより、図7(a)に示すように、基板1上に、導電性粒子の集合体からなるX電極10(島状電極部12、ブリッジ配線11)、島状電極部22、および引き回し配線60の第1層60aが形成される。
Here, the description returns to the method for manufacturing the touch panel device. Hereinafter, each process will be described in detail with reference to FIGS. In these process drawings, the process of forming the structure shown in FIG. 2 is shown.
[Island-like electrode part / first bridge wiring formation process]
First, the island-shaped electrode portion / first bridge wiring forming step S10 will be described.
In the island-shaped electrode portion / first bridge wiring forming step S10, for example, ITO, IZO, IGZO, FTO, ZnO, AZO are formed on the
本実施形態では、本工程S10において、導電性粒子を含有する液滴を吐出することによって、島状電極部12、ブリッジ配線11、島状電極部22、引き回し配線60の第1層60aとを形成しているが、液滴吐出法ではなく、例えば、他の液相成膜法を用いてもよい。また、フォトリソグラフィー法によるパターン形成方法も用いてもよい。すなわち、スパッタ法等により基板1の機能面1aのほぼ全面に導電膜(例えば、ITO膜)を形成した後、フォトリソグラフィー法およびエッチング法を用いて導電膜をパターニングすることで、島状電極部12、ブリッジ配線11、島状電極部22、および引き回し配線60の第1層60aを形成するようにしてもよい。
In the present embodiment, in this step S10, by discharging droplets containing conductive particles, the island-shaped
なお、島状電極部12、島状電極部22、ブリッジ配線11、および引き回し配線60の第1層60aの形成には、それぞれ、同一組成の組成物(液体材料)を用いてもよいし、異なる組成の組成物(液体材料)を用いてもよい。各部位で異なる組成の組成物を用いる場合であっても、液滴吐出装置を用いたインクジェット法ならば、好適に対応することができる。また、島状電極部12、島状電極部22、ブリッジ配線11、および引き回し配線60の第1層60aの形成は、同時に形成するものであってもよいし、所定の順序で形成するものであってもよい。例えば、形成すべき島状電極部12、島状電極部22に対応するパターンで液滴吐出を行い、乾燥して、島状電極部12、島状電極部22を形成した後、ブリッジ配線11、引き回し配線60の第1層60aに対応するパターンで液滴吐出を行い、乾燥して、ブリッジ配線11、引き回し配線60の第1層60aを形成してもよい。
In addition, for the formation of the
[第2層形成工程]
次に、第2層形成工程S20について説明する。
第2層形成工程S20では、液滴吐出装置IJによって、引き回し配線60の第2層60bの構成材料を含む液体材料の液滴を第1層60a上に吐出配置する。第2層60bを形成するための液体材料としては、例えば、銀粒子等の金属粒子を含む液体材料を用いることができる。その後、吐出配置した液滴を乾燥させる。これにより、図7(b)に示すように、第1層60a上に低抵抗の第2層60bが形成され、2層構造の引き回し配線60が入力領域2の外側の基板1上に形成される。
[Second layer forming step]
Next, the second layer forming step S20 will be described.
In the second layer forming step S20, droplets of a liquid material containing the constituent material of the
引き回し配線60の第2層60bを形成する液体材料としては、銀粒子等の金属粒子を含む液体材料のほか、例えば、グラファイトやカーボンナノチューブを含む液体材料を用いることができる。金属粒子やカーボン粒子は、ナノ粒子やナノワイヤーの形態で液体材料中に分散される。また、第2層60bを金属膜とする場合には、有機金属化合物を含む液体材料を用いてもよい。
As a liquid material for forming the
[ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)]
次に、ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)S30について説明する。
ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)S30では、図10(b)に示すように、液滴吐出装置IJによって、ポリアニリンを含む液体材料の液滴を、ブリッジ配線11の表面に吐出配置する。その後、吐出配置した液滴を乾燥させる。これにより、図7(c)に示すように、ブリッジ配線11の表面にポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13が形成される。また、本工程では、ポリアニリンを含む液体材料の液滴を、ブリッジ配線11の表面に吐出配置するとともに、引き回し配線60の第2層60bの表面にも吐出配置する。これにより、ブリッジ配線11の表面にポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13が形成されるとともに、引き回し配線60の第2層60bの表面にポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61が形成される。
[Polyaniline film forming step (first polyaniline film forming step)]
Next, the polyaniline film forming step (first polyaniline film forming step) S30 will be described.
In the polyaniline film forming step (first polyaniline film forming step) S30, as shown in FIG. 10B, droplets of a liquid material containing polyaniline are discharged onto the surface of the
上述したように、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜61の形成に用いる組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)は、前述したような材料で構成されたブリッジ配線11、引き回し配線60(第2層60b)との親和性に優れている。このため、本工程において、組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)を目的とする部位(ブリッジ配線11の表面および引き回し配線60(第2層60b)の表面)に選択的に付着させ、目的とするパターンのポリアニリン被膜を容易かつ確実に形成することができる。また、形成されるポリアニリン被膜13のブリッジ配線11に対する密着性、ポリアニリン被膜61の引き回し配線60(第2層60b)に対する密着性を強固なものとすることができる。
As described above, the composition (polyaniline film forming composition) used for forming the
なお、ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13、およびポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61の形成には、それぞれ、同一組成の組成物(液体材料)を用いてもよいし、異なる組成の組成物(液体材料)を用いてもよい。各部位で異なる組成の組成物を用いる場合であっても、液滴吐出装置を用いたインクジェット法ならば、好適に対応することができる。また、ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13、およびポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61の形成は、同時に形成するものであってもよいし、所定の順序で形成するものであってもよい。例えば、形成すべきポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13に対応するパターンで液滴吐出を行い、乾燥して、ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13を形成した後、ポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61に対応するパターンで液滴吐出を行い、乾燥して、ポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61を形成してもよい。 The polyaniline film (first polyaniline film) 13 and the polyaniline film (third polyaniline film) 61 may be formed using compositions (liquid materials) having the same composition or different compositions. A composition (liquid material) may be used. Even when a composition having a different composition is used in each part, an ink jet method using a droplet discharge device can be suitably used. The polyaniline film (first polyaniline film) 13 and the polyaniline film (third polyaniline film) 61 may be formed simultaneously or in a predetermined order. Good. For example, after discharging droplets in a pattern corresponding to the polyaniline film (first polyaniline film) 13 to be formed and drying to form the polyaniline film (first polyaniline film) 13, the polyaniline film (third The polyaniline coating (third polyaniline coating) 61 may be formed by discharging droplets in a pattern corresponding to the (polyaniline coating) 61 and drying.
[絶縁膜形成工程]
次に、絶縁膜形成工程S40について説明する。
絶縁膜形成工程S30では、液滴吐出装置IJによって、図7(d)および図10(c)に示すように、ポリアニリン被膜13上の領域に対して液滴を選択的に配置する。その後、基板1上の液体材料を加熱し、乾燥固化することで、ポリアニリン被膜13上に絶縁膜30が形成される。
[Insulating film formation process]
Next, the insulating film forming step S40 will be described.
In the insulating film forming step S30, the droplets are selectively placed on the region on the
なお、絶縁膜30を形成するに際しては、図10(c)に示すように、少なくともポリアニリン被膜13上の領域において液滴を隙間無く配置することが好ましい。これにより、ポリアニリン被膜13に達する孔やクラックのない絶縁膜30を形成することができ、絶縁膜30における絶縁不良やポリアニリン被膜23、ブリッジ配線21の断線が防止される。
When forming the insulating
また、図7(d)に示すように、ポリアニリン被膜13上の領域とともにポリアニリン被膜61上の領域に対しても液滴を選択的に配置する。その後、基板1上の液体材料を加熱し、乾燥固化することで、ポリアニリン被膜61を覆う絶縁性保護膜62が形成される。
上記液体材料としては、例えば、ポリシロキサン、アクリル系樹脂、またはアクリルモノマーを含む液体材料を用いることができる。
Further, as shown in FIG. 7 (d), the droplets are selectively disposed not only on the region on the
As the liquid material, for example, a liquid material containing polysiloxane, an acrylic resin, or an acrylic monomer can be used.
[第2のブリッジ配線形成工程]
次に、第2のブリッジ配線形成工程S50について説明する。
第2のブリッジ配線形成工程S50では、図8(a)および図10(d)に示すように、隣り合って配置された島状電極部22上と絶縁膜30上とにわたって、ITO、IZOおよびZnOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成された導電性粒子を含む液体材料の液滴を配線形状に付与(配置)する。その後、基板1上の液体材料を乾燥固化する。これにより、島状電極部22同士を接続するブリッジ配線21が形成される。
ブリッジ配線形成工程S40では、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10で用いたのと同一の液体材料を用いてブリッジ配線21を形成することが好ましい。
[Second Bridge Wiring Formation Process]
Next, the second bridge wiring formation step S50 will be described.
In the second bridge wiring formation step S50, as shown in FIG. 8A and FIG. 10D, ITO, IZO and over the island-
In the bridge wiring formation step S40, it is preferable to form the
[ポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程)]
次に、ポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程)S60について説明する。
ポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程)S60では、液滴吐出装置IJによって、ポリアニリンを含む液体材料の液滴を、ブリッジ配線21の表面に吐出配置する。その後、吐出配置した液滴を乾燥させる。これにより、図8(b)に示すように、ブリッジ配線21の表面にポリアニリン被膜(第2のポリアニリン被膜)23が形成される。
[Polyaniline film forming step (second polyaniline film forming step)]
Next, the polyaniline film forming step (second polyaniline film forming step) S60 will be described.
In the polyaniline film forming step (second polyaniline film forming step) S60, droplets of a liquid material containing polyaniline are discharged and arranged on the surface of the
上述したように、ポリアニリン被膜23の形成に用いる組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)は、前述したような材料で構成されたブリッジ配線21との親和性に優れている。このため、本工程において、組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)を目的とする部位(ブリッジ配線21の表面)に選択的に付着させ、目的とするパターンのポリアニリン被膜23を容易かつ確実に形成することができる。また、形成されるポリアニリン被膜23のブリッジ配線21に対する密着性を強固なものとすることができる。
As described above, the composition (polyaniline film forming composition) used for forming the
[平坦化膜形成工程]
次に、平坦化膜形成工程S70について説明する。
平坦化膜形成工程S70では、図8(c)に示すように、基板1の機能面1a側を平坦化させる目的で、絶縁材料からなる平坦化膜40を機能面1a側のほぼ全面に形成する。
平坦化膜40は、絶縁膜形成工程S40で用いた絶縁膜30形成用の液体材料と同様の液体材料を用いて形成することができるが、基板1の機能面1a側の平坦化を目的としているため、樹脂材料を用いて形成するのが好ましい。
[Planarization film forming process]
Next, the planarization film forming step S70 will be described.
In the planarization film forming step S70, as shown in FIG. 8C, a
The
[保護基板接合工程]
次に、保護基板接合工程S80について説明する。
保護基板接合工程S80では、図9(a)に示すように、別途用意した保護基板50と平坦化膜40との間に接着剤を配置し、かかる接着剤からなる接着層51を介して保護基板50と平坦化膜40とを貼り合わせる。保護基板50としては、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラス材料や、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の各種樹脂材料で構成された光透過性を有する透明基板のほか、偏光板や位相差板等の光学素子基板を用いてもよい。また、保護基板50は、例えば、上記ガラス材料や樹脂材料で構成された板材に加え、上記光学素子基板を備えるものであってもよい。この場合、上記板材と上記光学素子基板とを別々に用意し、本工程において、これらを接合してもよい。接着層51を構成する接着剤としては、透明な樹脂材料等を用いることができる。
[Protective substrate bonding process]
Next, the protective substrate bonding step S80 will be described.
In the protective substrate bonding step S80, as shown in FIG. 9A, an adhesive is disposed between the
[シールド層形成工程]
次に、シールド層形成工程S90について説明する。
シールド層形成工程S90では、図9(b)に示すように、基板1の裏面1b(機能面1aとは反対側の面)に導電膜で構成されたシールド層70を形成する。シールド層70は、真空成膜法、スクリーン印刷法、オフセット法、液滴吐出法等の公知の成膜法を用いて形成することができる。例えばシールド層70を液滴吐出法等の印刷法を用いて形成する場合には、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10、第2のブリッジ配線形成工程S50で使用されるITO、IZOおよびZnOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成された導電性粒子を含む液体材料を好適に用いることができる。
また、基板1に対する成膜によりシールド層70を形成する方法のほかにも、一面または両面に導電膜が成膜されたフィルムを別途用意し、かかるフィルムを基板1の裏面1bに貼り合わせることでフィルム上の導電膜をシールド層70としてもよい。
[Shield layer formation process]
Next, the shield layer forming step S90 will be described.
In the shield layer forming step S90, as shown in FIG. 9B, a
In addition to the method of forming the
なお、例えば、図11に示すようにして、絶縁膜30を形成してもよい。以下、図11に示す方法について説明する。
まず、上述したのとの同様に(図10(b)参照)、ブリッジ配線11の表面にポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13を形成する(図11(b)参照)。
その後、図11(c)に示すように、絶縁膜形成工程S40において、部分的にくびれた形状の絶縁膜30を形成する。より詳しくは、島状電極部22の配列方向(Y電極20の延在方向)の絶縁膜30の幅を、図示左右方向(X電極10の延在方向)の中央部30aで狭く、両側の端部30b、30bに向かって漸次広くなるように形成する。
For example, the insulating
First, as described above (see FIG. 10B), a polyaniline film (first polyaniline film) 13 is formed on the surface of the bridge wiring 11 (see FIG. 11B).
Thereafter, as shown in FIG. 11C, in the insulating film forming step S40, the insulating
そして、第2のブリッジ配線形成工程S50において、図11(d)に示すように、絶縁膜30の中央部30a(くびれた部分)を通過するようにブリッジ配線21を形成する。このような製造方法とすることで、ブリッジ配線21を形成するための液滴を基板1上に配置したときに、絶縁膜30の端部30b側の突出した部位が、液滴が濡れ広がるのを防止する堰部材として機能する。これにより、ブリッジ配線21とX電極10とが短絡するのを効果的に防止することができ、歩留まりよくタッチパネル装置100を製造することができる。
In the second bridge wiring formation step S50, as shown in FIG. 11D, the
以上に詳細に説明した本実施形態のタッチパネル装置100の製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
まず、本実施形態の製造方法では、X電極10と交差するY電極20の接続構造を、液滴吐出法を用いて形成することで、従来に比して工数を削減することができ、タッチパネル装置の製造コストを抑えることができる。
さらに詳しく説明すると、従来の接続構造の形成工程では、(1)層間絶縁膜を形成する工程と、(2)コンタクトホールを層間絶縁膜に形成する工程と、(3)コンタクトホールを含む領域にブリッジ配線をパターン形成する工程とを実施していた。
According to the manufacturing method of the
First, in the manufacturing method of the present embodiment, the connection structure of the
More specifically, in the conventional connection structure forming step, (1) a step of forming an interlayer insulating film, (2) a step of forming a contact hole in the interlayer insulating film, and (3) a region including the contact hole. And a step of patterning the bridge wiring.
上述した従来工程と本実施形態の工程とを比較すれば明らかなように、本実施形態に係る製造方法では、従来工程における層間絶縁膜にコンタクトホールを形成するためのフォトリソグラフィー工程(およびエッチング工程)が不要になり、さらに、ブリッジ配線をパターン形成するためのフォトリソグラフィー工程およびエッチング工程も不要になる。
したがって、本実施形態の製造方法によれば、特にコストのかかるフォトリソグラフィー工程を削減することができ、タッチパネル装置の製造コストを低減することができる。また、液滴吐出法では、それぞれの膜を形成する領域にのみ選択的に液滴を配置するので、材料の使用量を抑えることができ、原材料費の点でも製造コスト低減に寄与する。
As is apparent from a comparison between the above-described conventional process and the process of the present embodiment, in the manufacturing method according to the present embodiment, a photolithography process (and an etching process) for forming a contact hole in the interlayer insulating film in the conventional process. ), And a photolithography process and an etching process for patterning the bridge wiring are also unnecessary.
Therefore, according to the manufacturing method of the present embodiment, the costly photolithography process can be reduced, and the manufacturing cost of the touch panel device can be reduced. Further, in the droplet discharge method, since droplets are selectively arranged only in the region where each film is formed, the amount of material used can be suppressed, and the raw material cost also contributes to a reduction in manufacturing cost.
また本実施形態の製造方法では、基板1上の同一層に、X電極10(島状電極部12、ブリッジ配線11)と、島状電極部22とを形成している。これにより、X電極10とY電極20とを層間絶縁膜を介した別々な層に形成する場合に比して、X電極10あるいはY電極20のパターニングに要する工数を削減することができるので、製造コストを低減することができる。
In the manufacturing method of the present embodiment, the X electrode 10 (the island-shaped
また本実施形態の製造方法では、基板1上に矩形状の島状電極部12と島状電極部22とを互い違いのマトリクス状に形成し、隣り合う島状電極部12同士、および隣り合う島状電極部22同士が、それらの角部において近接するように配置している。そして、隣り合う島状電極部12の角部同士をブリッジ配線11で接続し、隣り合う島状電極部22の角部同士をブリッジ配線11で接続している。これにより、隣り合う島状電極部12同士、島状電極部22同士を最短距離で接続し、ブリッジ配線11、21の長さを最短とすることができる。したがって、X電極10とY電極20との交差部の平面領域を小さくすることができ、交差部における構造が視認されにくい構成とすることができる。
In the manufacturing method of the present embodiment, the rectangular island-shaped
また、線幅の狭いブリッジ配線11およびブリッジ配線21を短くすることができるので、X電極10およびY電極20の配線抵抗を低減させることができる。
なお、本実施形態においては、島状電極部12、島状電極部22の形状を平面視正方形としているが、これ以外にも、例えばひし形等の矩形状であってもよいし、多角形や円形等であってもよい。
Moreover, since the
In addition, in this embodiment, although the shape of the island-shaped
また、図11に示す方法では、絶縁膜30をブリッジ配線21が形成される領域でくびれた平面形状に形成する。これにより、くびれた領域の側方に位置する絶縁膜30がブリッジ配線21の液滴のぬれ広がりを抑えることができるので、X電極10とY電極20とが接続される誤配線を防止して、タッチパネル装置の製造歩留りを向上させることができる。
Further, in the method shown in FIG. 11, the insulating
また本実施形態のタッチパネル装置100では、入力領域2の周辺に形成された引き回し配線60が、X電極10およびY電極20を延設してなる第1層60aと、第1層60aよりもシート抵抗の小さい第2層60bとを積層した構造を有している。これにより、引き回し配線60の配線抵抗を低減させたタッチパネル装置とすることができる。したがって、入力領域2からの信号を増幅するバッファー回路等の周辺回路の規模を縮小することができるので、消費電力をさらに抑えることができる。
Further, in the
また本実施形態のタッチパネル装置100において、入力領域2の周辺の絶縁性保護膜62を、ブリッジ配線11、21の交差部に形成される絶縁膜30と同一成分を含む材料で形成することが好ましい。これにより、絶縁膜30と絶縁性保護膜62とを同一工程で形成することができるので、工数を削減でき、製造コストを低減できる構成となる。
また本実施形態のタッチパネル装置100では、基板1の機能面1a側が平坦化膜40によって平坦化されている。この構成によれば、基板1の機能面1a側と保護基板50とをほぼ全面で接合することができ、接着層51への気泡の混入を防止することができる。また、平坦化膜40によって基板1上に形成されたX電極10およびY電極20を保護することができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the
In the
また、保護基板50が接着層51を介して平坦化膜40と接合されていることで、保護基板50と平坦化膜40との間に屈折率の小さい空気層が形成されてしまうことを確実に防止することができる。これにより、空気層と保護基板50との界面や、空気層と平坦化膜との界面で光が反射するのを防止でき、表示装置の前面側に配置されるタッチパネル装置として良好な品質を得ることができる。
また、本実施形態のタッチパネル装置100では、基板1の裏面1bにシールド層70が形成されている。これにより、シールド層70により不要な電界を遮断することができ、タッチパネル装置100の入力領域2へのノイズの進入や、タッチパネル装置100の電界が表示装置等の外部機器側へ漏れ出るのを防止することができる。
In addition, since the
In the
本発明の製造方法では、第1のブリッジ配線および前記第2のブリッジ配線のうち少なくとも一方の表面に液相成膜法によりポリアニリン被膜を形成すればよく、これにより、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を効率よく製造することができるが、本実施形態のように、第1のブリッジ配線11上に第1のポリアニリン被膜13を形成する第1のポリアニリン被膜形成工程、第2のブリッジ配線21上に第2のポリアニリン被膜23を形成する第2のポリアニリン被膜形成工程の両方を有することにより、製造されるタッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the manufacturing method of the present invention, a polyaniline film may be formed on the surface of at least one of the first bridge wiring and the second bridge wiring by a liquid phase film forming method, thereby reducing the thickness and light transmittance. A high-capacitance capacitive touch panel device can be efficiently manufactured, but the
<表示装置>
次に、本発明の表示装置について説明する。
本実施形態では、表示装置の一例として、タッチパネル装置を備えた液晶表示装置について説明する。
図12は、本発明の表示装置の好適な実施形態としての液晶表示装置の模式図であり、図12(a)は平面図、図12(b)は平面図におけるH−H’断面図である。
<Display device>
Next, the display device of the present invention will be described.
In this embodiment, a liquid crystal display device including a touch panel device will be described as an example of the display device.
12A and 12B are schematic views of a liquid crystal display device as a preferred embodiment of the display device of the present invention. FIG. 12A is a plan view, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line HH ′ in the plan view. is there.
液晶表示装置500は、図12(a)に示すように、素子基板410、対向基板420、および画像表示領域410aを有している。
素子基板410は対向基板420に比して広い平面領域を有した矩形状の基板である。
対向基板420は液晶表示装置500における画像表示側であり、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラス材料や、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の各種樹脂材料のような透明性の材料で構成された基板である。対向基板420は、シール材452を介して素子基板410の中央部に接合されている。
As shown in FIG. 12A, the liquid
The
The
画像表示領域410aは、対応基板420の平面領域であって、シール材452の内周に沿って設けられた周辺見切り453の内側領域である。
素子基板410における対向基板420の周辺には、データ線駆動回路401、走査線駆動回路404、データ線駆動回路401および走査線駆動回路404と接続された接続端子402、および対向基板420に対して対向して配置された走査線駆動回路404同士を接続する配線405等が配置されている。
The
In the periphery of the
次に、液晶表示装置500の断面について説明する。
素子基板410の液晶層450側の面には、画素電極409および配向膜418等が積層されている。
対向基板420の液晶層450側の面には、遮光膜(ブラックマトリクス)423、カラーフィルター422、共通電極425、および配向膜429等が積層されている。
Next, a cross section of the liquid
A
A light shielding film (black matrix) 423, a
液晶層450が、素子基板410および対向基板420によって挟持されている。
そして、対向基板420の外側(液晶層450反対側)の面には、接着層101を挟んで本発明のタッチパネル装置100が配置されている。
液晶表示装置500は、タッチパネル装置100を備えているため、指等の位置情報を確実に検出することができ、例えば、その検出結果に応じた表示を長期間にわたって安定的に行うことができる高性能のものである。
A
The
Since the liquid
また、本実施形態の液晶表示装置500においては、対向基板420の外側(液晶層450と反対側)の面にタッチパネル装置100の各層が形成されていてもよい。これにより、液晶表示装置500の対向基板420とタッチパネル装置100の基板1とを共通化することができ、より製造コストを低減することができるとともに、液晶表示装置500を軽量化することができる。
Further, in the liquid
なお、液晶表示装置500は、タッチパネル装置100の代わりに、上述したタッチパネル装置100Aを備えるものであってもよい。
また、本実施形態においては、本発明の表示装置の一例として液晶表示装置について説明したが、本発明の表示装置は、有機EL装置、電気泳動表示装置等、液晶表示装置以外の表示装置であってもよい。
The liquid
In this embodiment, the liquid crystal display device has been described as an example of the display device of the present invention. However, the display device of the present invention is a display device other than the liquid crystal display device such as an organic EL device or an electrophoretic display device. May be.
<電子機器>
次に、本発明の電子機器について説明する。
本実施形態では、電子機器の一例として、モバイル型パーソナルコンピューターについて説明する。
図13は、本発明の電子機器の好適な実施形態としてのモバイル型パーソナルコンピューターを示す斜視図である。
図13に示すように、モバイル型パーソナルコンピューター1100は、表示部1101と、キーボード1102を有する本体部1103とを備えている。モバイル型パーソナルコンピューター1100は、上記実施形態の液晶表示装置500を表示部1101に備えている。
<Electronic equipment>
Next, the electronic apparatus of the present invention will be described.
In this embodiment, a mobile personal computer will be described as an example of an electronic device.
FIG. 13 is a perspective view showing a mobile personal computer as a preferred embodiment of the electronic apparatus of the present invention.
As shown in FIG. 13, the mobile
モバイル型パーソナルコンピューター1100は、液晶表示装置500を表示部1101に備えているため、指等の位置情報を確実に検出することができ、例えば、その検出結果に応じた表示を長期間にわたって安定的に行うことができる高性能のものである。
なお、本実施形態においては、本発明の電子機器の一例としてモバイル型パーソナルコンピューターについて説明したが、本発明の電子機器は、携帯電話、携帯用オーディオ機器、PDA(Personal Digital Assistant)等、モバイル型パーソナルコンピューター以外の電子機器であってもよい。
Since the mobile
In this embodiment, a mobile personal computer has been described as an example of the electronic apparatus of the present invention. However, the electronic apparatus of the present invention is a mobile type such as a mobile phone, a portable audio device, a PDA (Personal Digital Assistant), etc. Electronic devices other than personal computers may be used.
以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、本発明のタッチパネル装置、表示装置および電子機器では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on suitable embodiment, this invention is not limited to these.
For example, in the touch panel device, the display device, and the electronic device of the present invention, the configuration of each unit can be replaced with any configuration that exhibits the same function, and any configuration can be added.
また、前述した実施形態では、第1のブリッジ配線および第2のブリッジ配線の両方の表面に、ポリアニリン被膜が設けられている場合について代表的に説明したが、ポリアニリン被膜は、第1のブリッジ配線および第2のブリッジ配線のうち一方の表面のみに設けられていてもよい。また、ポリアニリン被膜は、第1のブリッジ配線および/または第2のブリッジ配線の表面全面に形成されるものに限らず、その表面の一部にのみ設けられるものであってもよい。 In the above-described embodiment, the case where the polyaniline coating is provided on the surfaces of both the first bridge wiring and the second bridge wiring is representatively described. However, the polyaniline coating is formed by using the first bridge wiring. And it may be provided only on one surface of the second bridge wiring. The polyaniline film is not limited to being formed on the entire surface of the first bridge wiring and / or the second bridge wiring, but may be provided only on a part of the surface.
また、前述した実施形態では、シールド層70をタッチパネル装置製造工程の最後に実施するものとして説明したが、シールド層70は任意のタイミングで形成することができる。例えば、予めシールド層70が形成された基板1を島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10以降の工程に供することもできる。また、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10〜保護基板接合工程S80までの任意の工程の間にシールド層形成工程を配してもよい。
In the above-described embodiment, the
また、前述した実施形態では、基板1の裏面1bにシールド層70を形成しているが、図3に示した変形例に係るタッチパネル装置100Aのように基板1の機能面1a側にシールド層70Aを形成する場合には、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10に先立って、シールド層70Aを形成する工程と、絶縁膜80Aを形成する工程とを行う。この場合にも、シールド層70Aは、シールド層形成工程S90と同様の手法によって形成することができる。また、絶縁膜80Aの形成工程は、例えば絶縁膜形成工程S40と同様とすることができる。
また、前述した実施形態では、絶縁膜形成工程S40において、図10に示したように、平面視略矩形状の絶縁膜30を形成することとしたが、ブリッジ配線21の形成をさらに容易にするために絶縁膜30の形状を変更してもよい。
In the above-described embodiment, the
In the above-described embodiment, in the insulating film forming step S40, as shown in FIG. 10, the insulating
1…基板(タッチパネル基板) 1a…機能面 1b…裏面 10…X電極(第1電極) 11…ブリッジ配線(第1のブリッジ配線) 12…島状電極部 13…ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜) 20…Y電極(第2電極) 21…ブリッジ配線(第2のブリッジ配線) 22…島状電極部 23…ポリアニリン被膜(第2のポリアニリン被膜) 2…入力領域 30,80A…絶縁膜 30a…中央部 30b…端部 40…平坦化膜 50…保護基板 51…接着層 60…引き回し配線 60a…第1層 60b…第2層 61…ポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜) 62…絶縁性保護膜 70,70A…シールド層(導電膜) 100,100A…タッチパネル装置 IJ…液滴吐出装置 1001…液滴吐出ヘッド 1002…X軸方向駆動モーター 1003…Y軸方向駆動モーター 1004…X軸方向駆動軸 1005…Y軸方向ガイド軸 1007…ステージ 1008…クリーニング機構 1009…基台 1015…ヒーター CONT…制御装置 P…基板 1021…液体室 1022…ピエゾ素子 1023…液体材料供給系 1024…駆動回路 1025…吐出ノズル S10…島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程 S20…第2層形成工程 S30…ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程) S40…絶縁膜形成工程 S50…第2のブリッジ配線形成工程 S60…ポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程) S70…平坦化膜形成工程(保護膜形成工程) S80…保護基板接合工程(接着層形成工程) S90…シールド層形成工程(導電膜形成工程) 101…接着層 401…データ線駆動回路 402…接続端子 404…走査線駆動回路 405…配線 409…画素電極 410…素子基板 410a…画像表示領域 418…配向膜 420…対向基板 422…カラーフィルター 423…遮光膜(ブラックマトリクス) 425…共通電極 429…配向膜 450…液晶層 452…シール材 453…周辺見切り 500…液晶表示装置 1100…モバイル型パーソナルコンピューター 1101…表示部 1102…キーボード 1103…本体部 900…タッチパネル装置 910…基板 920…Y電極 930…X電極 940…粘着層 950…保護シート
DESCRIPTION OF
Claims (13)
該タッチパネル基板の一方の面側に設けられ、互いに離間した複数の島状電極部と、
前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接する島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接する島状電極部間を接続し、前記島状電極部と一体的に形成された第2のブリッジ配線と、
前記第1のブリッジ配線と前記第2のブリッジ配線との間に設けられた絶縁膜とを有するとともに、
前記第1のブリッジ配線および前記第2のブリッジ配線のうち少なくとも一方の表面の少なくとも一部に、液相成膜法により成膜され、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜が設けられていることを特徴とするタッチパネル装置。 A touch panel substrate;
A plurality of island-shaped electrode portions provided on one side of the touch panel substrate and spaced apart from each other;
A first bridge wiring connecting between the island-shaped electrode portions adjacent in the first direction of the touch panel substrate;
A second bridge wiring that connects adjacent island electrode portions in a second direction different from the first direction, and is formed integrally with the island electrode portions;
Having an insulating film provided between the first bridge wiring and the second bridge wiring;
A polyaniline coating film formed by a liquid phase film formation method and made of polyaniline is provided on at least a part of at least one surface of the first bridge wiring and the second bridge wiring. Touch panel device.
液相成膜法により、前記第1のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成するポリアニリン被膜形成工程と、
前記ポリアニリン被膜で被覆された前記第1のブリッジ配線上に、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第2のブリッジ配線を形成する第2のブリッジ配線形成工程とを有することを特徴とするタッチパネル装置の製造方法。 A plurality of island-shaped electrode portions spaced apart from each other are formed on one surface side of the touch panel substrate, and a first bridge wiring is formed to connect the adjacent island-shaped electrode portions in the first direction of the touch panel substrate. An island-shaped electrode portion and a first bridge wiring forming step;
A polyaniline film forming step of forming a polyaniline film composed of polyaniline on the first bridge wiring by a liquid phase film forming method;
An insulating film forming step of forming an insulating film on the first bridge wiring covered with the polyaniline coating;
And a second bridge wiring forming step for forming a second bridge wiring for connecting the island-shaped electrode portions adjacent to each other in a second direction different from the first direction. Production method.
前記第1のブリッジ配線上に、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第2のブリッジ配線を形成する第2のブリッジ配線形成工程と、
液相成膜法により、前記第2のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成するポリアニリン被膜形成工程とを有することを特徴とするタッチパネル装置の製造方法。 A plurality of island-shaped electrode portions spaced apart from each other are formed on one surface side of the touch panel substrate, and a first bridge wiring is formed to connect the adjacent island-shaped electrode portions in the first direction of the touch panel substrate. An island-shaped electrode portion and a first bridge wiring forming step;
An insulating film forming step of forming an insulating film on the first bridge wiring;
A second bridge wiring forming step of forming a second bridge wiring for connecting the island-shaped electrode portions adjacent in the second direction different from the first direction;
A method of manufacturing a touch panel device, comprising: forming a polyaniline film made of polyaniline on the second bridge wiring by a liquid phase film forming method.
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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