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JP2011039759A - Touch panel device, method for manufacturing the same, display, and electronic equipment - Google Patents

Touch panel device, method for manufacturing the same, display, and electronic equipment Download PDF

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JP2011039759A
JP2011039759A JP2009186312A JP2009186312A JP2011039759A JP 2011039759 A JP2011039759 A JP 2011039759A JP 2009186312 A JP2009186312 A JP 2009186312A JP 2009186312 A JP2009186312 A JP 2009186312A JP 2011039759 A JP2011039759 A JP 2011039759A
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JP
Japan
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polyaniline
bridge wiring
touch panel
film
island
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2009186312A
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Japanese (ja)
Inventor
Atsushi Denda
敦 傳田
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

【課題】薄型でかつ光透過性が高く、製造が容易な信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を提供すること。
【解決手段】本発明のタッチパネル装置100は、基板1と、基板1の一方の面1a側に設けられ、互いに離間した複数の島状電極部12、22と、基板1のX軸方向において隣接する島状電極部12間を接続する第1のブリッジ配線11と、X軸方向とは異なるY軸方向において隣接する島状電極部22間を接続し、島状電極部22と一体的に形成された第2のブリッジ配線21と、第1のブリッジ配線11と第2のブリッジ配線21との間に設けられた絶縁膜30とを有するとともに、第1のブリッジ配線11の表面に、液相成膜法により成膜され、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜13が設けられ、第2のブリッジ配線21の表面に、液相成膜法により成膜され、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜23が設けられている。
【選択図】図2
A highly reliable capacitively coupled touch panel device that is thin, has high light transmittance, and is easy to manufacture.
A touch panel device according to the present invention includes a substrate and a plurality of island-shaped electrode portions that are provided on one surface of the substrate and spaced apart from each other in the X-axis direction. The first bridge wiring 11 that connects the island-shaped electrode portions 12 to be connected and the island-shaped electrode portions 22 that are adjacent in the Y-axis direction different from the X-axis direction are connected and formed integrally with the island-shaped electrode portions 22. The second bridge wiring 21 and the insulating film 30 provided between the first bridge wiring 11 and the second bridge wiring 21 and a liquid phase on the surface of the first bridge wiring 11. A polyaniline film 13 made of a polyaniline is formed by a film forming method, and a polyaniline film 23 made of a polyaniline is formed on the surface of the second bridge wiring 21 by a liquid phase film forming method. Is There.
[Selection] Figure 2

Description

本発明は、タッチパネル装置、タッチパネル装置の製造方法、表示装置および電子機器に関するものである。   The present invention relates to a touch panel device, a method for manufacturing the touch panel device, a display device, and an electronic apparatus.

近年、現金自動預け払い機(ATM)のように、電子機器を操作するための入力装置としてタッチパネル装置が普及している。このようなタッチパネル装置は、液晶表示装置等の各種表示装置の表示面側に搭載され、タッチパネル装置を透過して視認される表示装置の表示内容に応じて、タッチペン等の入力器具や人間の指等によりタッチ面の任意の位置を接触することにより、接触位置を特定して電子機器の各種操作、入力等を行う。このようなタッチパネル装置としては、例えば、抵抗膜方式、静電容量結合方式、弾性表面波方式等、種々の方式の装置が知られている。   2. Description of the Related Art In recent years, touch panel devices have become widespread as input devices for operating electronic devices, such as automatic teller machines (ATMs). Such a touch panel device is mounted on the display surface side of various display devices such as a liquid crystal display device, and depending on the display content of the display device that is viewed through the touch panel device, an input instrument such as a touch pen or a human finger is used. By touching an arbitrary position on the touch surface by means of, for example, the contact position is specified, and various operations and inputs of the electronic device are performed. As such a touch panel device, various types of devices such as a resistive film method, a capacitive coupling method, and a surface acoustic wave method are known.

特許文献1には、フィルム体の表面に設けられた互いに平行に延びる複数本の第1の電極と、フィルム体の裏面に設けられた第1の電極群に対して直交する方向に延びる互いに平行な複数本の第2の電極とを有するセンサ基板と、フィルム体の表面のうち、第1の電極群が存在しない領域に、第1の電極群と同等の厚さを有する充填層と、充填層および第1の電極群の表面に貼り付けられた保護シートとを有する静電容量結合方式の座標入力装置が開示されている。この座標入力装置では、使用者が手指を保護シートの表面に触れることにより、第1の電極群と第2の電極群との間の静電容量の変化に応じた電流値を測定して出力し、この電流出力値に基づいて、手指を押し当てた座標位置を検出できるようになっている。   In Patent Document 1, a plurality of first electrodes provided on the front surface of the film body and extending in parallel with each other and a first electrode group provided on the back surface of the film body and extending in a direction orthogonal to each other. A sensor substrate having a plurality of second electrodes, a filling layer having a thickness equivalent to that of the first electrode group in a region of the surface of the film body where the first electrode group does not exist, A capacitively coupled coordinate input device having a layer and a protective sheet attached to the surface of the first electrode group is disclosed. In this coordinate input device, when a user touches the surface of the protective sheet with a finger, a current value corresponding to a change in capacitance between the first electrode group and the second electrode group is measured and output. The coordinate position where the finger is pressed can be detected based on the current output value.

図14は、従来の静電容量方式のタッチパネル装置の構成を模式的に示す断面図である。なお、以下の説明では、図14中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
図14に示すタッチパネル装置900は、基板910と、基板910の下面に形成されたY電極920と、基板910の上面に形成されたX電極930と、X電極930を介して基板910の上方に設けられた保護シート950と、基板910と保護シート950との間に充填され、これらを接着する粘着層940とを有する。保護シート950の上面が、タッチパネル装置900におけるタッチ面であり、手指等がこのタッチ面に触れることにより、タッチパネル装置900はそのタッチ位置を検出するようになっている。
FIG. 14 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a conventional capacitive touch panel device. In the following description, the upper side in FIG. 14 is referred to as “upper” and the lower side is referred to as “lower”.
A touch panel device 900 shown in FIG. 14 includes a substrate 910, a Y electrode 920 formed on the lower surface of the substrate 910, an X electrode 930 formed on the upper surface of the substrate 910, and an upper side of the substrate 910 via the X electrode 930. The protective sheet 950 is provided, and the adhesive layer 940 is filled between the substrate 910 and the protective sheet 950 and adheres them. The upper surface of the protective sheet 950 is a touch surface in the touch panel device 900, and the touch panel device 900 detects the touch position when a finger or the like touches the touch surface.

ここで、Y電極920およびX電極930は、互いに直交する方向に延在する複数の線状の電極であり、これらの電極920、930間には、静電容量が形成されている。タッチ面に手指等が触れる前後で、この静電容量が変化するため、タッチパネル装置900は、各電極920、930においてその静電容量の変化を検出し、タッチ位置を特定するよう構成されている。   Here, the Y electrode 920 and the X electrode 930 are a plurality of linear electrodes extending in directions orthogonal to each other, and an electrostatic capacity is formed between the electrodes 920 and 930. Since the capacitance changes before and after the finger touches the touch surface, the touch panel device 900 is configured to detect the change in the capacitance at each of the electrodes 920 and 930 and specify the touch position. .

ところが、このようなタッチパネル装置900では、Y電極920とX電極930とが、基板910の異なる面に設けられているため、製造プロセスの複雑化を招く。特に、Y電極920およびX電極930は、それぞれ、導電膜を成膜した後、フォトリソグラフィー法およびエッチング法により所望の形状にパターニングするという複雑なプロセスを経て形成されるため、タッチパネル装置900の製造工程全体の高コスト化を招く。   However, in such a touch panel device 900, since the Y electrode 920 and the X electrode 930 are provided on different surfaces of the substrate 910, the manufacturing process is complicated. In particular, the Y electrode 920 and the X electrode 930 are formed through a complicated process in which a conductive film is formed and then patterned into a desired shape by a photolithography method and an etching method. This increases the cost of the entire process.

また、基板910の両面にそれぞれ電極を設けたため、タッチパネル装置900の薄型化が困難であった。
さらには、図14には図示していないものの、Y電極920を保護する保護シートも必要となることから、タッチパネル装置900を構成する層数が多くなることが避けられず、光透過性に劣ることも課題となっている。
In addition, since electrodes are provided on both surfaces of the substrate 910, it is difficult to reduce the thickness of the touch panel device 900.
Further, although not shown in FIG. 14, a protective sheet for protecting the Y electrode 920 is also required, so that the number of layers constituting the touch panel device 900 is inevitably increased, and the light transmittance is inferior. That is also an issue.

特開平9−305289号公報JP-A-9-305289

本発明の目的は、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を提供すること、前記タッチパネル装置を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記タッチパネル装置を備えた高性能の表示装置および電子機器を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a capacitive coupling type touch panel device that is thin, has high light transmission, and is highly reliable, and provides a manufacturing method that can efficiently manufacture the touch panel device. It is another object of the present invention to provide a high-performance display device and electronic device provided with the touch panel device.

上記目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のタッチパネル装置は、タッチパネル基板と、
該タッチパネル基板の一方の面側に設けられ、互いに離間した複数の島状電極部と、
前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接する島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接する島状電極部間を接続し、前記島状電極部と一体的に形成された第2のブリッジ配線と、
前記第1のブリッジ配線と前記第2のブリッジ配線との間に設けられた絶縁膜とを有するとともに、
前記第1のブリッジ配線および前記第2のブリッジ配線のうち少なくとも一方の表面の少なくとも一部に、液相成膜法により成膜され、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜が設けられていることを特徴とする。
これにより、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を提供することができる。
The above object is achieved by the present invention described below.
The touch panel device of the present invention includes a touch panel substrate,
A plurality of island-shaped electrode portions provided on one side of the touch panel substrate and spaced apart from each other;
A first bridge wiring connecting between the island-shaped electrode portions adjacent in the first direction of the touch panel substrate;
A second bridge wiring that connects adjacent island electrode portions in a second direction different from the first direction, and is formed integrally with the island electrode portions;
Having an insulating film provided between the first bridge wiring and the second bridge wiring;
A polyaniline coating film formed by a liquid phase film formation method and made of polyaniline is provided on at least a part of at least one surface of the first bridge wiring and the second bridge wiring. And
As a result, it is possible to provide a capacitive coupling touch panel device that is thin, has high light transmittance, and high reliability.

本発明のタッチパネル装置では、前記ポリアニリン被膜は、インクジェット法により成膜されたものであることが好ましい。
これにより、非成膜領域を覆うマスク等を用意しなくても部分的な成膜が可能になる。また、形成すべきポリアニリンが微細なパターンを有するものであっても好適に対応することができる。
In the touch panel device of the present invention, the polyaniline film is preferably formed by an inkjet method.
Thus, partial film formation is possible without preparing a mask or the like that covers the non-film formation region. Moreover, it can respond suitably even if the polyaniline to be formed has a fine pattern.

本発明のタッチパネル装置では、前記ポリアニリンは、下記式(1)で表されるものであることが好ましい。

Figure 2011039759
これにより、ポリアニリン被膜の安定性を十分に優れたものとしつつ、ポリアニリン被膜の導電性や、ブリッジ配線および絶縁膜に対する密着性等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。 In the touch panel device of the present invention, the polyaniline is preferably represented by the following formula (1).
Figure 2011039759
Thereby, while making the stability of the polyaniline coating sufficiently excellent, the conductivity of the polyaniline coating and the adhesion to the bridge wiring and the insulating film can be made particularly excellent, thereby improving the reliability of the touch panel device. It can be made particularly excellent.

本発明のタッチパネル装置では、前記ポリアニリンの重合度は、100以上100000以下であることが好ましい。
これにより、ポリアニリン被膜のブリッジ配線および絶縁膜に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the touch panel device of the present invention, the degree of polymerization of the polyaniline is preferably 100 or more and 100,000 or less.
As a result, the adhesion of the polyaniline film to the bridge wiring and the insulating film, the film strength, and the like can be made particularly excellent, and the reliability of the touch panel device can be made particularly excellent.

本発明のタッチパネル装置では、前記ポリアニリン被膜の平均厚さは、0.04μm以上0.4μm以下であることが好ましい。
これにより、ポリアニリン被膜のブリッジ配線および絶縁膜に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the touch panel device of the present invention, it is preferable that an average thickness of the polyaniline coating is 0.04 μm or more and 0.4 μm or less.
As a result, the adhesion of the polyaniline film to the bridge wiring and the insulating film, the film strength, and the like can be made particularly excellent, and the reliability of the touch panel device can be made particularly excellent.

本発明のタッチパネル装置では、前記第1のブリッジ配線、前記第2のブリッジ配線は、いずれも、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の透明導電材料で構成されたものであることが好ましい。
これにより、第1のブリッジ配線および第2のブリッジ配線の透明性を特に優れたものとすることができるとともに、ポリアニリン被膜と絶縁膜とに対する密着性を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the touch panel device of the present invention, each of the first bridge wiring and the second bridge wiring is one or two selected from the group consisting of ITO, IZO, IGZO, FTO, ZnO, AZO, and ATO. It is preferable that it is comprised with the transparent conductive material of the seed | species or more.
Thereby, the transparency of the first bridge wiring and the second bridge wiring can be made particularly excellent, and the adhesion between the polyaniline coating and the insulating film can be made particularly excellent, and the touch panel The reliability of the apparatus can be made particularly excellent.

本発明のタッチパネル装置では、前記複数の島状電極部の少なくとも中央部は、それぞれ同一面上に位置していることが好ましい。
これにより、タッチパネル装置のタッチ面と各島状電極部との離間距離もほぼ等しくなり、使用者の手指と各島状電極部との間に生じる静電容量のバラツキが抑制される。このため、静電容量の変化に基づいてタッチ位置を検出する際に、その検出精度を高めることができる。
In the touch panel device of the present invention, it is preferable that at least central portions of the plurality of island-shaped electrode portions are respectively located on the same plane.
Thereby, the separation distance between the touch surface of the touch panel device and each island-shaped electrode portion is also substantially equal, and the variation in electrostatic capacitance generated between the user's finger and each island-shaped electrode portion is suppressed. For this reason, when detecting a touch position based on the change of electrostatic capacitance, the detection accuracy can be improved.

本発明のタッチパネル装置の製造方法では、タッチパネル基板の一方の面側に、互いに離間した複数の島状電極部を形成し、前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線を形成する島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程と、
液相成膜法により、前記第1のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成するポリアニリン被膜形成工程と、
前記ポリアニリン被膜で被覆された前記第1のブリッジ配線上に、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第2のブリッジ配線を形成する第2のブリッジ配線形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を効率よく製造することができる製造方法を提供することができる。
本発明のタッチパネル装置の製造方法では、前記第2のブリッジ配線形成工程の後に、さらに、液相成膜法により、前記第2のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成する工程を有することが好ましい。
これにより、タッチパネル装置の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the method for manufacturing a touch panel device of the present invention, a plurality of island-shaped electrode portions that are spaced apart from each other are formed on one surface side of the touch-panel substrate, and between the island-shaped electrode portions that are adjacent in the first direction of the touch-panel substrate. An island-like electrode portion for forming a first bridge wiring for connecting the first bridge wiring and the first bridge wiring forming step;
A polyaniline film forming step of forming a polyaniline film composed of polyaniline on the first bridge wiring by a liquid phase film forming method;
An insulating film forming step of forming an insulating film on the first bridge wiring covered with the polyaniline coating;
And a second bridge wiring forming step of forming a second bridge wiring for connecting the island-shaped electrode portions adjacent to each other in a second direction different from the first direction.
Accordingly, it is possible to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing a capacitive touch panel device that is thin, has high light transmittance, and high reliability.
In the touch panel device manufacturing method of the present invention, after the second bridge wiring formation step, a step of forming a polyaniline film composed of polyaniline on the second bridge wiring by a liquid phase film forming method. It is preferable to have.
Thereby, the reliability of the touch panel device can be made particularly excellent.

本発明のタッチパネル装置の製造方法では、タッチパネル基板の一方の面側に、互いに離間した複数の島状電極部を形成し、前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線を形成する島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程と、
前記第1のブリッジ配線上に、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第2のブリッジ配線を形成する第2のブリッジ配線形成工程と、
液相成膜法により、前記第2のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成するポリアニリン被膜形成工程とを有することを特徴とする。
これにより、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を効率よく製造することができる製造方法を提供することができる。
In the method for manufacturing a touch panel device of the present invention, a plurality of island-shaped electrode portions that are spaced apart from each other are formed on one surface side of the touch-panel substrate, and between the island-shaped electrode portions that are adjacent in the first direction of the touch-panel substrate. An island-like electrode portion for forming a first bridge wiring for connecting the first bridge wiring and the first bridge wiring forming step;
An insulating film forming step of forming an insulating film on the first bridge wiring;
A second bridge wiring forming step of forming a second bridge wiring for connecting the island-shaped electrode portions adjacent in the second direction different from the first direction;
And a polyaniline film forming step of forming a polyaniline film made of polyaniline on the second bridge wiring by a liquid phase film forming method.
Accordingly, it is possible to provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing a capacitive touch panel device that is thin, has high light transmittance, and high reliability.

本発明のタッチパネル装置の製造方法では、前記ポリアニリン被膜を、インクジェット法により成膜することが好ましい。
これにより、非成膜領域を覆うマスク等を用意しなくても部分的な成膜が可能になる。また、形成すべきポリアニリンが微細なパターンを有するものであっても好適に対応することができる。
In the method for manufacturing a touch panel device of the present invention, the polyaniline film is preferably formed by an inkjet method.
Thus, partial film formation is possible without preparing a mask or the like that covers the non-film formation region. Moreover, it can respond suitably even if the polyaniline to be formed has a fine pattern.

本発明の表示装置は、本発明のタッチパネル装置を備えることを特徴とする。
これにより、タッチパネル装置を備えた高性能の表示装置が得られる。
本発明の電子機器は、本発明の表示装置を備えることを特徴とする。
これにより、高性能の電子機器が得られる。
The display device of the present invention includes the touch panel device of the present invention.
Thereby, a high performance display device provided with a touch panel device is obtained.
An electronic apparatus according to the present invention includes the display device according to the present invention.
Thereby, a high-performance electronic device is obtained.

タッチパネル装置の好適な実施形態を示す模式平面図である。It is a schematic plan view which shows suitable embodiment of a touchscreen apparatus. 図1に示すタッチパネル装置の模式断面図である。It is a schematic cross section of the touch panel device shown in FIG. タッチパネル装置の他の実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section showing other embodiments of a touch panel device. タッチパネル装置の製造方法の好適な実施形態を示す工程図である。It is process drawing which shows suitable embodiment of the manufacturing method of a touch panel apparatus. タッチパネル装置の製造に用いる液滴吐出装置の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of the droplet discharge apparatus used for manufacture of a touchscreen apparatus. 液体材料の吐出原理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the discharge principle of a liquid material. タッチパネル装置の製造工程を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the manufacturing process of a touchscreen apparatus. タッチパネル装置の製造工程を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the manufacturing process of a touchscreen apparatus. タッチパネル装置の製造工程を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the manufacturing process of a touchscreen apparatus. 交差部に配置された液滴の模式図である。図10(a)は、図7(b)に対応する平面図であり、図10(b)は、図7(c)に対応する平面図であり、図10(c)は、図7(d)に対応する平面図であり、図10(d)は、図8(a)に対応する平面図である。It is a schematic diagram of the droplet arrange | positioned at the cross | intersection part. 10A is a plan view corresponding to FIG. 7B, FIG. 10B is a plan view corresponding to FIG. 7C, and FIG. 10C is FIG. FIG. 10D is a plan view corresponding to FIG. 8A. 交差部に配置された液滴の模式図である。図11(a)は、図7(b)に対応する平面図であり、図11(b)は、図7(c)に対応する平面図であり、図11(c)は、図7(d)に対応する平面図であり、図11(d)は、図8(a)に対応する平面図である。It is a schematic diagram of the droplet arrange | positioned at the cross | intersection part. 11A is a plan view corresponding to FIG. 7B, FIG. 11B is a plan view corresponding to FIG. 7C, and FIG. 11C is FIG. It is a top view corresponding to d), and Drawing 11 (d) is a top view corresponding to Drawing 8 (a). 本発明の表示装置の好適な実施形態としての液晶表示装置の模式図であり、図12(a)は平面図、図12(b)は平面図におけるH−H’断面図である。液晶表示装置500の模式平面図、および模式断面図である。FIG. 12A is a schematic view of a liquid crystal display device as a preferred embodiment of the display device of the present invention, FIG. 12A is a plan view, and FIG. 12B is an H-H ′ sectional view in the plan view. FIG. 2 is a schematic plan view and a schematic cross-sectional view of a liquid crystal display device 500. 本発明の電子機器の好適な実施形態としてのモバイル型パーソナルコンピューターを示す斜視図である。1 is a perspective view showing a mobile personal computer as a preferred embodiment of an electronic apparatus of the present invention. 従来の静電容量方式のタッチパネル装置の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure of the conventional capacitive touch panel apparatus.

以下、本発明の好適な実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。なお、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせている。
<タッチパネル装置>
まず、本発明のタッチパネル装置について説明する。
図1は、本実施形態に係るタッチパネル装置100の模式平面図である。図2は、タッチパネル装置100のA−A’模式断面図である。
DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings. In the following drawings, in order to make each configuration easy to understand, the actual structure and the scale and number of each structure are different.
<Touch panel device>
First, the touch panel device of the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic plan view of a touch panel device 100 according to the present embodiment. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the touch panel device 100 taken along the line AA ′.

タッチパネル装置100は、基板(タッチパネル基板)1、入力領域2、および引き回し配線60を有する。
基板1は、平面視で矩形状に成形されており、光透過性および絶縁性を有するものである。基板1としては、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラス材料や、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の各種樹脂材料で構成されたものを用いることができる。
The touch panel device 100 includes a substrate (touch panel substrate) 1, an input region 2, and routing wiring 60.
The board | substrate 1 is shape | molded by the rectangular shape by planar view, and has a light transmittance and insulation. The substrate 1 is composed of various glass materials such as soda glass, non-alkali glass, borosilicate glass, and quartz glass, and various resin materials such as polyimide resin, acrylic resin, polyester resin, and polycarbonate resin. Can be used.

入力領域2は、図1において一点鎖線で囲まれた領域であり、タッチパネルに入力される位置情報を検出する領域である。
入力領域2には、複数のX電極10および複数のY電極20がそれぞれ配置されている。X電極10は図示でX軸方向(第1の方向)に沿って延在し、複数のX電極10は、Y軸方向(第2の方向)に沿って配列されている。Y電極20は図示でY軸方向に沿って延在し、それぞれのY電極20は、X軸方向に沿って配列されている。X電極10およびY電極20は、互いのブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)を交差させることによって入力領域2内で交差している。なお、ブリッジ配線11およびブリッジ配線21は、これらの間に、絶縁膜30が介在することにより、互いに接触することが防止されている。
The input area 2 is an area surrounded by an alternate long and short dash line in FIG. 1 and is an area for detecting position information input to the touch panel.
In the input region 2, a plurality of X electrodes 10 and a plurality of Y electrodes 20 are arranged. The X electrode 10 extends along the X-axis direction (first direction) in the drawing, and the plurality of X electrodes 10 are arranged along the Y-axis direction (second direction). The Y electrodes 20 extend in the Y-axis direction in the drawing, and each Y electrode 20 is arranged along the X-axis direction. The X electrode 10 and the Y electrode 20 cross in the input region 2 by crossing each other's bridge wiring (bridge wiring 11, bridge wiring 21). Note that the bridge wiring 11 and the bridge wiring 21 are prevented from contacting each other because the insulating film 30 is interposed therebetween.

X電極10は、X軸方向(第1の方向)に配列された複数の島状電極部12と、隣り合う島状電極部12同士を接続するブリッジ配線(第1のブリッジ配線)11とを備えている。島状電極部12は平面視で矩形状に形成され、一方の対角線がX軸に沿うように配置されている。
Y電極20は、Y軸方向(第2の方向)に配列された複数の島状電極部22と、隣り合う島状電極部22同士を接続するブリッジ配線(第2のブリッジ配線)21とを備えている。島状電極部22は平面視で矩形状に形成され、一方の対角線がY軸に沿うように配置されている。
The X electrode 10 includes a plurality of island-shaped electrode portions 12 arranged in the X-axis direction (first direction) and a bridge wiring (first bridge wiring) 11 that connects adjacent island-shaped electrode portions 12 to each other. I have. The island-shaped electrode portion 12 is formed in a rectangular shape in plan view, and is arranged so that one diagonal line is along the X axis.
The Y electrode 20 includes a plurality of island-shaped electrode portions 22 arranged in the Y-axis direction (second direction) and a bridge wiring (second bridge wiring) 21 that connects adjacent island-shaped electrode portions 22 to each other. I have. The island-shaped electrode part 22 is formed in a rectangular shape in plan view, and is arranged so that one diagonal line is along the Y axis.

島状電極部12と島状電極部22とは、X軸方向およびY軸方向において互い違いに配置(市松状配置)されており、入力領域2では、矩形状の島状電極部12、島状電極部22が平面視マトリクス状に配置されている。
島状電極部12、島状電極部22は、いずれも、ITO、IZO(インジウム亜鉛酸化物;登録商標)、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、島状電極部12および島状電極部22の透明性を特に優れたものとすることができ、使用者に島状電極部(島状電極部12、島状電極部22)のパターンが見えてしまうのをより確実に防止することができる。
島状電極部12、島状電極部22の平均厚さは、20nm以上300nm以下であるのが好ましく、40nm以上100nm以下であるのがより好ましい。これにより、導電性を確保しつつ、使用者に島状電極部(島状電極部12、島状電極部22)のパターンが見えてしまうのをより確実に防止することができる。
引き回し配線60は、X電極10およびY電極20と接続されており、タッチパネル装置100の内部あるいは外部装置に設けられた駆動部および電気信号変換/演算部(いずれも図示は省略)と接続されている。
The island-like electrode portions 12 and the island-like electrode portions 22 are alternately arranged (checkered arrangement) in the X-axis direction and the Y-axis direction, and in the input region 2, the rectangular island-like electrode portions 12 and the island-like shapes are arranged. The electrode portions 22 are arranged in a matrix in plan view.
Each of the island electrode portion 12 and the island electrode portion 22 is one or two selected from the group consisting of ITO, IZO (indium zinc oxide; registered trademark), IGZO, FTO, ZnO, AZO, and ATO. It is preferably composed of more than one kind of material. Thereby, the transparency of the island-like electrode portion 12 and the island-like electrode portion 22 can be made particularly excellent, and the pattern of the island-like electrode portion (the island-like electrode portion 12, the island-like electrode portion 22) can be given to the user. Can be more reliably prevented from being seen.
The average thickness of the island-shaped electrode portion 12 and the island-shaped electrode portion 22 is preferably 20 nm or more and 300 nm or less, and more preferably 40 nm or more and 100 nm or less. Thereby, it can prevent more reliably that a user sees the pattern of the island-like electrode part (the island-like electrode part 12, the island-like electrode part 22), ensuring electrical conductivity.
The lead wiring 60 is connected to the X electrode 10 and the Y electrode 20, and is connected to a drive unit and an electric signal conversion / calculation unit (both not shown) provided in the touch panel device 100 or in an external device. Yes.

次に、図2の断面図について説明する。
基板1の一方の面である機能面1aに、島状電極部12(図示は省略)、島状電極部22、およびブリッジ配線11が設けられている。また、ブリッジ配線11の表面には、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13が設けられている。また、ブリッジ配線21の表面には、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜(第2のポリアニリン被膜)23が設けられている。また、ブリッジ配線11とブリッジ配線21との間に、絶縁膜30が設けられている。また、基板1の一方の面である機能面1aに、引き回し配線60が配置されている。引き回し配線60は、機能面1aに配置された第1層60aおよび第1層60aに積層された第2層60bによって構成されている。また、引き回し配線60の表面(第2層60bの表面)には、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜61が設けられている。そして、引き回し配線60を覆って絶縁性保護膜62が形成されている。これらの電極および配線を覆って、平坦化膜40が形成されている。平坦化膜40上には、接着層51を介して保護基板50が配置されている。基板1の裏面1bには、シールド層70が設けられている。
Next, the sectional view of FIG. 2 will be described.
An island-like electrode portion 12 (not shown), an island-like electrode portion 22, and a bridge wiring 11 are provided on the functional surface 1a, which is one surface of the substrate 1. In addition, a polyaniline film (first polyaniline film) 13 made of polyaniline is provided on the surface of the bridge wiring 11. Further, a polyaniline film (second polyaniline film) 23 made of polyaniline is provided on the surface of the bridge wiring 21. An insulating film 30 is provided between the bridge wiring 11 and the bridge wiring 21. In addition, the routing wiring 60 is disposed on the functional surface 1 a which is one surface of the substrate 1. The routing wiring 60 includes a first layer 60a disposed on the functional surface 1a and a second layer 60b stacked on the first layer 60a. A polyaniline film 61 made of polyaniline is provided on the surface of the routing wiring 60 (the surface of the second layer 60b). An insulating protective film 62 is formed so as to cover the routing wiring 60. A planarizing film 40 is formed to cover these electrodes and wiring. A protective substrate 50 is disposed on the planarizing film 40 via an adhesive layer 51. A shield layer 70 is provided on the back surface 1 b of the substrate 1.

タッチパネル装置100を構成する複数の島状電極部12および島状電極部22の少なくとも中央部は、それぞれが基板1から等しい距離にある同一面上に位置している。この場合、タッチパネル装置100のタッチ面と各島状電極部(島状電極部12、島状電極部22)との離間距離もほぼ等しくなり、使用者の手指と各島状電極部12、22との間に生じる静電容量のバラツキが抑制される。このため、静電容量の変化に基づいてタッチ位置を検出する際に、その検出精度を高めることができる。   At least the central portions of the plurality of island-shaped electrode portions 12 and the island-shaped electrode portions 22 that constitute the touch panel device 100 are located on the same plane that is at an equal distance from the substrate 1. In this case, the separation distance between the touch surface of the touch panel device 100 and each of the island-shaped electrode portions (the island-shaped electrode portion 12 and the island-shaped electrode portion 22) is also substantially equal. The variation in electrostatic capacitance generated between the two is suppressed. For this reason, when detecting a touch position based on the change of electrostatic capacitance, the detection accuracy can be improved.

ブリッジ配線11、ブリッジ配線21は、いずれも、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成されたものであるのが好ましい。これにより、ブリッジ配線11、ブリッジ配線21の透明性を特に優れたものとすることができるとともに、ポリアニリン被膜(リアニリン被膜13、リアニリン被膜23)と絶縁膜30とに対する密着性を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。   Each of the bridge wiring 11 and the bridge wiring 21 is composed of one or more materials selected from the group consisting of ITO, IZO, IGZO, FTO, ZnO, AZO, and ATO. preferable. As a result, the transparency of the bridge wiring 11 and the bridge wiring 21 can be made particularly excellent, and the adhesion between the polyaniline coating (rianiline coating 13 and rianiline coating 23) and the insulating film 30 is particularly excellent. The reliability of the touch panel device 100 can be made particularly excellent.

ポリアニリン被膜13は、ブリッジ配線11および絶縁膜30の両方に接触するように設けられている。このようなポリアニリン被膜13を有することにより、ブリッジ配線11と絶縁膜30との密着性(ポリアニリン被膜13を介しての密着性)を優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の耐久性、信頼性を優れたものとすることができる。また、ポリアニリン被膜13を有することにより、ブリッジ配線11で接続される島状電極部12−島状電極部12間の導電性(ブリッジ配線11およびポリアニリン被膜13全体としての導電性)を特に優れたものとすることができ、より安定性の高いセンシングを実現することができる。図示の構成では、ポリアニリン被膜13は、ブリッジ配線11の表面(基板1に接触している部位外の部位)全体に設けられているが、ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13は、ブリッジ配線(第1のブリッジ配線)11の表面の一部のみを被覆するように設けられたものであってもよい。   The polyaniline film 13 is provided so as to contact both the bridge wiring 11 and the insulating film 30. By having such a polyaniline coating 13, the adhesion between the bridge wiring 11 and the insulating film 30 (adhesion through the polyaniline coating 13) can be improved, and the durability of the touch panel device 100 can be improved. Reliability can be improved. Further, by having the polyaniline coating 13, the conductivity between the island-shaped electrode portion 12 and the island-shaped electrode portion 12 connected by the bridge wiring 11 (conductivity as the bridge wiring 11 and the polyaniline coating 13 as a whole) is particularly excellent. Therefore, sensing with higher stability can be realized. In the illustrated configuration, the polyaniline film 13 is provided on the entire surface of the bridge wiring 11 (a part outside the part in contact with the substrate 1), but the polyaniline film (first polyaniline film) 13 is formed on the bridge wiring 11. (First bridge wiring) 11 may be provided so as to cover only a part of the surface.

ポリアニリン被膜23は、ブリッジ配線21および絶縁膜30の両方に接触するように設けられている。このようなポリアニリン被膜23を有することにより、ブリッジ配線21と絶縁膜30との密着性(ポリアニリン被膜23を介しての密着性)を優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の耐久性、信頼性を優れたものとすることができる。また、ポリアニリン被膜23を有することにより、ブリッジ配線21で接続される島状電極部12−島状電極部12間の導電性(ブリッジ配線11およびポリアニリン被膜13全体としての導電性)を特に優れたものとすることができ、より安定性の高いセンシングを実現することができる。図示の構成では、ポリアニリン被膜23は、ブリッジ配線21の表面(基板1に接触している部位外の部位)全体に設けられているが、ポリアニリン被膜(第2のポリアニリン被膜)23は、ブリッジ配線(第2のブリッジ配線)21の表面の一部のみを被覆するように設けられたものであってもよい。   The polyaniline coating 23 is provided in contact with both the bridge wiring 21 and the insulating film 30. By having such a polyaniline coating 23, the adhesion between the bridge wiring 21 and the insulating film 30 (adhesion through the polyaniline coating 23) can be improved, and the durability of the touch panel device 100 can be improved. Reliability can be improved. Further, by having the polyaniline coating 23, the conductivity between the island-like electrode portion 12 and the island-like electrode portion 12 connected by the bridge wiring 21 (conductivity as the bridge wiring 11 and the polyaniline coating 13 as a whole) is particularly excellent. Therefore, sensing with higher stability can be realized. In the illustrated configuration, the polyaniline film 23 is provided on the entire surface of the bridge wiring 21 (the part outside the part in contact with the substrate 1). However, the polyaniline film (second polyaniline film) 23 is formed on the bridge wiring 21. (Second bridge wiring) 21 may be provided so as to cover only a part of the surface of 21.

また、ポリアニリンは、透明性が高く、上述したようなブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)の構成材料との屈折率差の小さい材料である。したがって、使用者にブリッジ配線11、21(ポリアニリン被膜13、23)のパターンが見えてしまうのを確実に防止することができ、タッチパネル装置100の外観に悪影響を及ぼすことを確実に防止することができる。   Polyaniline is highly transparent and has a small refractive index difference from the constituent materials of the bridge wiring (bridge wiring 11 and bridge wiring 21) as described above. Therefore, it is possible to reliably prevent the user from seeing the pattern of the bridge wirings 11 and 21 (polyaniline coatings 13 and 23), and to reliably prevent the appearance of the touch panel device 100 from being adversely affected. it can.

本実施形態において、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23は、いずれも、液相成膜法により成膜されたものである。これにより、以下のような効果が得られる。すなわち、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23の形成に用いる組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)は、前述したような材料で構成されたブリッジ配線11、ブリッジ配線21との親和性に優れている。このため、タッチパネル装置の製造時(ポリアニリン被膜の形成時)において、ポリアニリン被膜形成用組成物を目的とする部位(ブリッジ配線の表面)に選択的に付着させ、目的とするパターンのポリアニリン被膜を容易かつ確実に形成しつつ、ブリッジ配線との密着性を強固なものとすることができる。また、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23を、液相成膜法により成膜することにより、タッチパネル装置100の生産性を特に優れたものとし、また、製造コストを抑制することができる。   In this embodiment, both the polyaniline film 13 and the polyaniline film 23 are formed by a liquid phase film formation method. Thereby, the following effects are obtained. That is, the composition (polyaniline film forming composition) used for forming the polyaniline film 13 and the polyaniline film 23 is excellent in affinity with the bridge wiring 11 and the bridge wiring 21 made of the materials described above. For this reason, at the time of manufacturing a touch panel device (when forming a polyaniline film), the polyaniline film forming composition is selectively attached to the target site (the surface of the bridge wiring) to easily form the polyaniline film with the target pattern. In addition, the adhesiveness with the bridge wiring can be strengthened while forming reliably. Further, by forming the polyaniline film 13 and the polyaniline film 23 by the liquid phase film forming method, the productivity of the touch panel device 100 can be made particularly excellent, and the manufacturing cost can be suppressed.

ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23を形成する液相成膜法としては、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット法、ゾル・ゲル法等が挙げられるが、インクジェット法が好ましい。これにより、非成膜領域を覆うマスク等を用意しなくても部分的な成膜が可能になる。また、形成すべきポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23が微細なパターンを有するものであっても好適に対応することができる。
ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23を構成するポリアニリンは、下記式(1)で表されるものであるのが好ましい。
Examples of the liquid phase film forming method for forming the polyaniline coating 13 and the polyaniline coating 23 include a screen printing method, an ink jet method, a sol-gel method, and the like, and an ink jet method is preferable. Thus, partial film formation is possible without preparing a mask or the like that covers the non-film formation region. Further, even if the polyaniline coating 13 and the polyaniline coating 23 to be formed have a fine pattern, it can be suitably handled.
The polyaniline constituting the polyaniline coating 13 and the polyaniline coating 23 is preferably represented by the following formula (1).

Figure 2011039759
Figure 2011039759

これにより、ポリアニリン被膜(ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23)の安定性を十分に優れたものとしつつ、ポリアニリン被膜の導電性や、ブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)および絶縁膜30に対する密着性等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。   Thereby, the stability of the polyaniline coating (polyaniline coating 13, polyaniline coating 23) is sufficiently excellent, and the conductivity of the polyaniline coating and the adhesion to the bridge wiring (bridge wiring 11, bridge wiring 21) and the insulating film 30 are improved. The touch panel device 100 can be made particularly excellent in reliability.

式(1)中、nは0.3以上0.7以下であるが、0.4以上0.6以下であるが好ましい。また、式(1)中、mは0.3以上0.7以下であるが、0.4以上0.6以下であるが好ましい。
また、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23を構成するポリアニリンの重合度は、100以上100000以下であるのが好ましく、1000以上50000以下であるのがより好ましい。ポリアニリンの重合度が前記範囲内の値であると、ポリアニリン被膜の導電性、ブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)および絶縁膜30に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In formula (1), n is 0.3 or more and 0.7 or less, but is preferably 0.4 or more and 0.6 or less. Moreover, in Formula (1), m is 0.3 or more and 0.7 or less, but is preferably 0.4 or more and 0.6 or less.
The degree of polymerization of the polyaniline constituting the polyaniline coating 13 and the polyaniline coating 23 is preferably 100 or more and 100,000 or less, more preferably 1000 or more and 50000 or less. When the degree of polymerization of the polyaniline is within the above range, the conductivity of the polyaniline film, the adhesion to the bridge wiring (bridge wiring 11, bridge wiring 21) and the insulating film 30, the film strength, etc. are particularly excellent. Thus, the reliability of the touch panel device 100 can be made particularly excellent.

また、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23の平均厚さは、0.04μm以上0.4μm以下であるのが好ましく、0.08μm以上0.2μm以下であるのがより好ましい。ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23の平均厚さが前記範囲内の値であると、ポリアニリン被膜(ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23)のパターンが視認されてしまうことを確実に防止しつつ、ブリッジ部の抵抗を低減することができ、また、ポリアニリン被膜のブリッジ配線(ブリッジ配線11、ブリッジ配線21)および絶縁膜30に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。   The average thickness of the polyaniline coating 13 and the polyaniline coating 23 is preferably 0.04 μm or more and 0.4 μm or less, and more preferably 0.08 μm or more and 0.2 μm or less. When the average thickness of the polyaniline coating 13 and the polyaniline coating 23 is a value within the above range, the pattern of the polyaniline coating (polyaniline coating 13 and polyaniline coating 23) is reliably prevented from being visually recognized, and the bridge portion The resistance can be reduced, and the adhesion of the polyaniline film to the bridge wiring (bridge wiring 11 and bridge wiring 21) and the insulating film 30, the film strength, and the like can be made particularly excellent. The reliability can be made particularly excellent.

絶縁膜30は、立体的に交差するブリッジ配線11とブリッジ配線21とを絶縁する。絶縁膜30は、例えば、ポリシロキサン、アクリル系樹脂、アクリルモノマー等を印刷法を用いて塗布し、それを乾燥固化して形成することができる。
ポリシロキサンを用いて形成した場合には、絶縁膜30はシリコン酸化物で構成された無機絶縁膜となる。また、アクリル系樹脂、およびアクリルモノマーを採用した場合には、絶縁膜30は樹脂材料で構成された有機絶縁膜となる。
The insulating film 30 insulates the bridge wiring 11 and the bridge wiring 21 that intersect three-dimensionally. The insulating film 30 can be formed, for example, by applying polysiloxane, acrylic resin, acrylic monomer or the like using a printing method, and drying and solidifying it.
When formed using polysiloxane, the insulating film 30 is an inorganic insulating film made of silicon oxide. When acrylic resin and acrylic monomer are employed, the insulating film 30 is an organic insulating film made of a resin material.

絶縁膜30の構成材料の比誘電率は、4.0以下であるのが好ましく、3.5以下であるのがより好ましい。これにより、ブリッジ配線の交差部における寄生容量を低減して、タッチパネルの位置検出性能をより優れたものとすることができる。
また絶縁膜30の構成材料の屈折率は、2.0以下であるのが好ましく、1.7以下であるのがより好ましい。これにより、基板1やX電極10、Y電極20との屈折率差を小さくすることができ、使用者に絶縁膜30のパターンが見えてしまうのをより確実に防止することができる。
The relative dielectric constant of the constituent material of the insulating film 30 is preferably 4.0 or less, and more preferably 3.5 or less. Thereby, the parasitic capacitance in the intersection part of bridge wiring can be reduced, and the position detection performance of a touch panel can be made more excellent.
In addition, the refractive index of the constituent material of the insulating film 30 is preferably 2.0 or less, and more preferably 1.7 or less. Thereby, the refractive index difference with the board | substrate 1, X electrode 10, and Y electrode 20 can be made small, and it can prevent more reliably that a user sees the pattern of the insulating film 30. FIG.

引き回し配線60の第1層60aは、X電極10またはY電極20を入力領域2の外側の領域まで延出したものであり、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成されたものであるのが好ましい。
第2層60bは、第1層60a上に積層形成され、引き回し配線60の配線抵抗を低減する。第2層60bの構成材料としては、例えば、Au、Ag、Al、Cu、Pd等の金属、およびカーボン(グラファイト、カーボンナノチューブ等のナノカーボン)のうち1種類以上を成分とするものが挙げられる。また、第2層60bは、上記材料含む有機化合物、ナノ粒子、ナノワイヤー等を用いて形成することができる。第2層60bの構成材料は、第1層60aよりもシート抵抗を小さくすることができるものであれば特に限定されない。
The first layer 60a of the routing wiring 60 is obtained by extending the X electrode 10 or the Y electrode 20 to a region outside the input region 2, and is a group made of ITO, IZO, IGZO, FTO, ZnO, AZO, and ATO. It is preferably composed of one or two or more materials selected from the following.
The second layer 60b is laminated on the first layer 60a, and reduces the wiring resistance of the routing wiring 60. As a constituent material of the second layer 60b, for example, a material containing at least one of a metal such as Au, Ag, Al, Cu, and Pd and carbon (nanocarbon such as graphite and carbon nanotube) is used. . In addition, the second layer 60b can be formed using an organic compound, nanoparticles, nanowires, or the like containing the above materials. The constituent material of the second layer 60b is not particularly limited as long as the sheet resistance can be made smaller than that of the first layer 60a.

本実施形態では、引き回し配線60の表面(第2層60bの表面)に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61が設けられている。このように、引き回し配線60の表面に、ポリアニリン被膜61が設けられることにより、引き回し配線60の断線をより確実に防止することができ、タッチパネル装置100の耐久性、信頼性を特に優れたものとすることができる。また、ポリアニリン被膜61を有することにより、引き回し配線60(第2層60b)を構成する金属材料の酸化を防止したり、安定した不動態膜を形成したりすることができ、より安定性の高いセンシングを実現することができる。このような効果が得られるのは、ポリアニリンが貴金属的性質(高いRedox電位)を有すること等によるものと考えられる。図示の構成では、ポリアニリン被膜61は、引き回し配線60の第2層60bの表面(第1層60aに接触している部位外の部位)全体に設けられているが、ポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61は、引き回し配線60の第2層60bの表面の一部のみを被覆するように設けられたものであってもよい。   In the present embodiment, a polyaniline film (third polyaniline film) 61 made of polyaniline is provided on the surface of the routing wiring 60 (the surface of the second layer 60b). Thus, by providing the polyaniline film 61 on the surface of the routing wiring 60, the disconnection of the routing wiring 60 can be more reliably prevented, and the durability and reliability of the touch panel device 100 are particularly excellent. can do. Further, by having the polyaniline coating 61, it is possible to prevent oxidation of the metal material constituting the routing wiring 60 (second layer 60b) and to form a stable passive film, which is more stable. Sensing can be realized. Such an effect is considered to be due to the fact that polyaniline has noble metal properties (high redox potential). In the illustrated configuration, the polyaniline film 61 is provided on the entire surface of the second layer 60b of the routing wiring 60 (the part outside the part in contact with the first layer 60a). However, the polyaniline film (third polyaniline film) is provided. The coating 61 may be provided so as to cover only a part of the surface of the second layer 60 b of the routing wiring 60.

本実施形態において、ポリアニリン被膜61は、液相成膜法により成膜されたものである。これにより、以下のような効果が得られる。すなわち、ポリアニリン被膜61の形成に用いる組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)は、前述したような材料で構成された引き回し配線60(第2層60b)との親和性に優れている。このため、タッチパネル装置100の製造時(ポリアニリン被膜61の形成時)において、ポリアニリン被膜形成用組成物を目的とする部位(引き回し配線60(第2層60b)の表面)に選択的に付着させ、目的とするパターンのポリアニリン被膜61を容易かつ確実に形成しつつ、引き回し配線60(第2層60b)との密着性を強固なものとすることができる。また、ポリアニリン被膜61を、液相成膜法により成膜することにより、タッチパネル装置100の生産性を特に優れたものとし、また、製造コストを抑制することができる。   In the present embodiment, the polyaniline film 61 is formed by a liquid phase film formation method. Thereby, the following effects are obtained. That is, the composition (polyaniline film forming composition) used for forming the polyaniline film 61 is excellent in affinity with the lead wiring 60 (second layer 60b) made of the material as described above. For this reason, at the time of manufacturing the touch panel device 100 (at the time of forming the polyaniline film 61), the composition for forming the polyaniline film is selectively attached to the target portion (the surface of the routing wiring 60 (second layer 60b)), While easily and reliably forming the polyaniline film 61 having a desired pattern, the adhesion to the lead wiring 60 (second layer 60b) can be strengthened. Further, by forming the polyaniline film 61 by a liquid phase film forming method, the productivity of the touch panel device 100 can be made particularly excellent, and the manufacturing cost can be suppressed.

ポリアニリン被膜61を形成するための液相成膜法としては、特に、インクジェット法が好ましい。これにより、非成膜領域を覆うマスク等を用意しなくても部分的な成膜が可能になる。また、形成すべきポリアニリン被膜61が微細なパターンを有するものであっても好適に対応することができる。
ポリアニリン被膜61を構成するポリアニリンは、上記で説明したポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜23の構成材料としてのポリアニリンと同様の条件を満足するのが好ましい。これにより、ポリアニリン被膜61の安定性を十分に優れたものとしつつ、ポリアニリン被膜61の導電性や、引き回し配線60(第2層60b)や絶縁性保護膜62に対する密着性等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
As the liquid phase film forming method for forming the polyaniline film 61, an ink jet method is particularly preferable. Thus, partial film formation is possible without preparing a mask or the like that covers the non-film formation region. Further, even if the polyaniline film 61 to be formed has a fine pattern, it can be suitably handled.
The polyaniline constituting the polyaniline film 61 preferably satisfies the same conditions as the polyaniline as the constituent material of the polyaniline film 13 and the polyaniline film 23 described above. As a result, the stability of the polyaniline coating 61 is sufficiently excellent, and the conductivity of the polyaniline coating 61 and the adhesion to the lead wiring 60 (second layer 60b) and the insulating protective film 62 are particularly excellent. The reliability of the touch panel device 100 can be made particularly excellent.

また、ポリアニリン被膜61の平均厚さは、0.04μm以上0.4μm以下であるのが好ましく、0.08μm以上0.2μm以下であるのがより好ましい。ポリアニリン被膜61の平均厚さが前記範囲内の値であると、引き回し配線60が設けられた部位における抵抗を確実に低いものとすることができるとともに、ポリアニリン被膜61の引き回し配線60(第2層60b)や絶縁性保護膜62に対する密着性、膜強度等を特に優れたものとすることができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
引き回し配線60を覆う絶縁性保護膜62は、絶縁膜30と同様に、絶縁性材料で構成されたものであり、例えば、ポリシロキサン、アクリル系樹脂、およびアクリルモノマー等を形成材料に用いた印刷法によって形成することができる。したがって、絶縁性保護膜62は絶縁膜30を形成する工程で同時に形成することができる。
Further, the average thickness of the polyaniline coating 61 is preferably 0.04 μm or more and 0.4 μm or less, and more preferably 0.08 μm or more and 0.2 μm or less. When the average thickness of the polyaniline coating 61 is within the above range, the resistance at the portion where the routing wiring 60 is provided can be reliably reduced, and the routing wiring 60 of the polyaniline coating 61 (second layer) 60b), the adhesion to the insulating protective film 62, the film strength, and the like can be made particularly excellent, and the reliability of the touch panel device 100 can be made particularly excellent.
The insulating protective film 62 that covers the routing wiring 60 is made of an insulating material, like the insulating film 30. For example, printing using polysiloxane, an acrylic resin, an acrylic monomer, or the like as a forming material is used. It can be formed by the method. Therefore, the insulating protective film 62 can be formed at the same time in the process of forming the insulating film 30.

平坦化膜40は、基板1の機能面1aの少なくとも入力領域2を覆って形成され、X電極10やY電極20による機能面1a側の凹凸を平坦化している。平坦化膜40は、図示のように、機能面1aの略全面(外部接続端子部を除く)を覆って形成されていることが好ましい。平坦化膜40により基板1の機能面1a側が平坦化されていることで、基板1と保護基板50とをほぼ全面にわたって均一に接合することができる。
また平坦化膜40の構成材料の屈折率は、2.0以下であるのが好ましく、1.7以下であるのがより好ましい。これにより、基板1やX電極10、Y電極20との屈折率差を小さくすることができ、使用者にX電極10やY電極20の配線パターンを見えにくくすることができる。
The planarizing film 40 is formed so as to cover at least the input region 2 of the functional surface 1a of the substrate 1 and planarizes unevenness on the functional surface 1a side due to the X electrode 10 and the Y electrode 20. As shown in the drawing, the planarizing film 40 is preferably formed so as to cover substantially the entire functional surface 1a (excluding the external connection terminal portion). Since the functional surface 1a side of the substrate 1 is planarized by the planarizing film 40, the substrate 1 and the protective substrate 50 can be bonded uniformly over almost the entire surface.
Further, the refractive index of the constituent material of the planarizing film 40 is preferably 2.0 or less, and more preferably 1.7 or less. Thereby, the refractive index difference with the board | substrate 1, the X electrode 10, and the Y electrode 20 can be made small, and the wiring pattern of the X electrode 10 or the Y electrode 20 can be made hard to see for a user.

保護基板50は、光透過性を有するものである。保護基板50としては、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラス材料や、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の各種樹脂材料で構成されたものを用いることができる。あるいは、本実施形態のタッチパネル装置100が液晶パネルや有機ELパネル等の表示装置の前面に配置される場合には、保護基板50として、表示装置の一部として用いられる光学素子基板(偏光板や位相差板等)を用いることもできる。また、保護基板50は、例えば、上記ガラス材料や樹脂材料で構成された板材と、上記光学素子基板との接合体であってもよい。   The protective substrate 50 is light transmissive. The protective substrate 50 is composed of various glass materials such as soda glass, non-alkali glass, borosilicate glass, and quartz glass, and various resin materials such as polyimide resin, acrylic resin, polyester resin, and polycarbonate resin. Can be used. Alternatively, when the touch panel device 100 of the present embodiment is disposed on the front surface of a display device such as a liquid crystal panel or an organic EL panel, an optical element substrate (polarizing plate or A phase difference plate or the like can also be used. The protective substrate 50 may be a joined body of a plate material made of the glass material or resin material and the optical element substrate, for example.

シールド層70は、例えば、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料(透明導電材料)を基板1の裏面1b(機能面1aとは反対側の面)に成膜することで形成することができる。また、上記透明導電材料で構成されたフィルムを用意し、当該フィルムを基板1の裏面1bに接着した構成としてもよい。
シールド層70が設けられていることで、基板1の裏面1b側において効果的に電界を遮断する。これにより、タッチパネル装置100の電界が表示装置等に作用したり、表示装置等の外部機器の電界がタッチパネル装置100に作用したりするのを防止することができる。
なお、図2に示す構成では基板1の裏面1bにシールド層70が設けられているが、図3に示すように、シールド層70Aを基板1の機能面1a側に形成することもできる。
The shield layer 70 is made of, for example, one or two or more materials (transparent conductive material) selected from the group consisting of ITO, IZO, IGZO, FTO, ZnO, AZO, and ATO. It can be formed by forming a film on the surface opposite to 1a. Moreover, it is good also as a structure which prepared the film comprised with the said transparent conductive material, and adhere | attached the said film on the back surface 1b of the board | substrate 1. FIG.
By providing the shield layer 70, the electric field is effectively cut off on the back surface 1 b side of the substrate 1. Thereby, it is possible to prevent the electric field of the touch panel device 100 from acting on the display device or the like, or the electric field of an external device such as the display device from acting on the touch panel device 100.
In the configuration shown in FIG. 2, the shield layer 70 is provided on the back surface 1 b of the substrate 1. However, as shown in FIG. 3, the shield layer 70 </ b> A can be formed on the functional surface 1 a side of the substrate 1.

図3に示すタッチパネル装置100Aでは、基板1の機能面1a上にシールド層70Aが形成されており、シールド層70Aを覆って絶縁膜80Aが形成されている。絶縁膜80A上の構成は、図2に示したタッチパネル装置100と同様である。タッチパネル装置100Aでは、基板1の片面にシールド層70Aや、X電極10、Y電極20、引き回し配線60等を形成するので、製造工程が煩雑化するのを回避でき、タッチパネル装置の生産性を特に優れたものとすることができる。   In the touch panel device 100A shown in FIG. 3, a shield layer 70A is formed on the functional surface 1a of the substrate 1, and an insulating film 80A is formed to cover the shield layer 70A. The configuration on the insulating film 80A is the same as that of the touch panel device 100 shown in FIG. In the touch panel device 100A, since the shield layer 70A, the X electrode 10, the Y electrode 20, the routing wiring 60, and the like are formed on one surface of the substrate 1, the manufacturing process can be avoided, and the productivity of the touch panel device is particularly improved. It can be excellent.

ここで、タッチパネル装置100の動作原理について簡単に説明する。
まず、図示は省略の駆動部から、引き回し配線60を介してX電極10およびY電極20に所定の電位を供給する。
なお、シールド層70には、例えばグランドの電位(接地電位)を入力する。
上記のように電位が供給された状態で、保護基板50側から入力領域2に向けて手指を近づけると、保護基板50に近づけた手指と、接近位置付近のX電極10およびY電極20のそれぞれとの間に寄生容量が形成される。すると、寄生容量が形成されたX電極10およびY電極20では、この寄生容量を充電するために一時的な電位低下が引き起こされる。
Here, the operation principle of the touch panel device 100 will be briefly described.
First, a predetermined potential is supplied to the X electrode 10 and the Y electrode 20 from the driving unit (not shown) through the lead wiring 60.
For example, a ground potential (ground potential) is input to the shield layer 70.
When a finger is brought closer to the input region 2 from the protective substrate 50 side in the state where the potential is supplied as described above, each of the finger brought close to the protective substrate 50 and each of the X electrode 10 and the Y electrode 20 in the vicinity of the approach position. Parasitic capacitance is formed between Then, in the X electrode 10 and the Y electrode 20 in which the parasitic capacitance is formed, a temporary potential drop is caused to charge the parasitic capacitance.

駆動部では、各電極の電位をセンシングしており、上述の電位低下が発生したX電極10およびY電極20を即座に検出する。そして、検出された電極の位置を電気信号変換/演算部によって解析することによって、入力領域2における指の位置情報が検出される。
具体的には、X軸方向に延在するX電極10によって、手指が接近した位置の入力領域2におけるY座標が検出され、Y軸方向に延在するY電極20によって、入力領域2におけるX座標が検出される。
The drive unit senses the potential of each electrode, and immediately detects the X electrode 10 and the Y electrode 20 in which the above-described potential drop has occurred. Then, the position information of the finger in the input area 2 is detected by analyzing the detected electrode position by the electric signal conversion / calculation unit.
Specifically, the Y coordinate in the input area 2 at the position where the finger approaches is detected by the X electrode 10 extending in the X axis direction, and the X electrode in the input area 2 is detected by the Y electrode 20 extending in the Y axis direction. Coordinates are detected.

<タッチパネル装置の製造方法>
次に、タッチパネル装置の製造方法について説明する。
以下、図1および図2に示したタッチパネル装置100の製造方法について図面を参照して説明する。図4は、タッチパネル装置の製造方法の好適な実施形態を示す工程図、図5は、液滴吐出装置IJの概略構成を示す斜視図、図6は、ピエゾ方式による液体材料の吐出原理を説明するための図、図7、図8および図9は、タッチパネル装置100の製造工程を示す模式断面図である。また、図10は、ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)S30、絶縁膜形成工程S40およびブリッジ配線形成工程S50をさらに具体的に示す説明図である。図10(a)は、図7(b)に対応する平面図である。図10(b)は、図7(c)に対応する平面図である。図10(c)は、図7(d)に対応する平面図である。図10(d)は、図8(a)に対応する平面図である。また、図11は、変形例に係る製造方法を示す工程図であり、図11(a)〜図11(d)は、それぞれ図10(a)〜図10(d)に対応する図である。
<Method for manufacturing touch panel device>
Next, a method for manufacturing the touch panel device will be described.
Hereinafter, a method of manufacturing the touch panel device 100 shown in FIGS. 1 and 2 will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a process diagram showing a preferred embodiment of a manufacturing method of a touch panel device, FIG. 5 is a perspective view showing a schematic configuration of a droplet discharge device IJ, and FIG. 6 explains a principle of discharging a liquid material by a piezo method. FIGS. 7, 8, and 9 are schematic cross-sectional views illustrating the manufacturing process of the touch panel device 100. FIG. 10 is an explanatory view showing more specifically the polyaniline film forming step (first polyaniline film forming step) S30, the insulating film forming step S40 and the bridge wiring forming step S50. FIG. 10A is a plan view corresponding to FIG. FIG. 10B is a plan view corresponding to FIG. FIG. 10C is a plan view corresponding to FIG. FIG. 10D is a plan view corresponding to FIG. Moreover, FIG. 11 is process drawing which shows the manufacturing method which concerns on a modification, and FIG. 11 (a)-FIG.11 (d) are figures corresponding to FIG.10 (a)-FIG.10 (d), respectively. .

本実施形態のタッチパネル装置の製造方法は、図4に示すように、基板1の機能面1aに、島状電極部12、島状電極部22、ブリッジ配線11、および引き回し配線60の第1層60aを形成する島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10と、引き回し配線60の第1層60aに第2層60bを積層し、引き回し配線60を完成させる第2層形成工程S20と、ブリッジ配線11の表面にポリアニリン被膜13を形成し、引き回し配線60(第2層60b)の表面に、ポリアニリン被膜61を形成するポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)S30と、ポリアニリン被膜13で被覆されたブリッジ配線11上に絶縁膜30を形成するとともに、ポリアニリン被膜61で被覆された引き回し配線60上に絶縁性保護膜62を形成する絶縁膜形成工程S40と、絶縁膜30上を経由して隣り合った島状電極部22同士を接続するブリッジ配線21を形成する第2のブリッジ配線形成工程S50と、ブリッジ配線21の表面にポリアニリン被膜23を形成するポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程)S60と、基板1の機能面1a側を平坦化する平坦化膜40を形成する平坦化膜形成工程(保護膜形成工程)S70と、接着層51を介して保護基板50を平坦化膜40と接合する保護基板接合工程(接着層形成工程)S80と、基板1の裏面1bにシールド層70を形成するシールド層形成工程(導電膜形成工程)S90とを有している。   As shown in FIG. 4, the manufacturing method of the touch panel device according to the present embodiment has a first layer of island-shaped electrode portions 12, island-shaped electrode portions 22, bridge wirings 11, and routing wirings 60 on the functional surface 1 a of the substrate 1. An island-shaped electrode portion for forming 60a, a first bridge wiring forming step S10, a second layer forming step S20 for stacking the second layer 60b on the first layer 60a of the routing wiring 60, and completing the routing wiring 60; A polyaniline film forming step (first polyaniline film forming step) S30 in which a polyaniline film 13 is formed on the surface of the bridge wiring 11 and a polyaniline film 61 is formed on the surface of the routing wiring 60 (second layer 60b), and a polyaniline film An insulating film 30 is formed on the bridge wiring 11 covered with 13, and an insulating property is provided on the routing wiring 60 covered with the polyaniline film 61. An insulating film forming step S40 for forming the protective film 62, a second bridge wiring forming step S50 for forming the bridge wiring 21 for connecting the adjacent island electrode portions 22 via the insulating film 30, and a bridge A polyaniline film forming step (second polyaniline film forming step) S60 for forming the polyaniline film 23 on the surface of the wiring 21, and a flattening film forming step for forming the flattening film 40 for flattening the functional surface 1a side of the substrate 1 (Protective film forming step) S70, protective substrate bonding step (adhesive layer forming step) S80 for bonding the protective substrate 50 to the planarizing film 40 via the adhesive layer 51, and forming the shield layer 70 on the back surface 1b of the substrate 1. And a shield layer forming step (conductive film forming step) S90.

本実施形態のタッチパネル装置100の製造工程は、印刷法の一種である液滴吐出法によって成膜する工程を有している。そこで、タッチパネル装置の製造方法の説明に先立ち、液滴吐出装置について説明する。
図5に示す液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1001と、X軸方向駆動軸1004と、Y軸方向ガイド軸1005と、制御装置CONTと、ステージ1007と、クリーニング機構1008と、基台1009と、ヒーター1015とを備えている。液滴吐出装置としては、ピエゾ素子(圧電素子)を用いた電気機械変換方式の、液滴吐出装置が好適に用いられる。
The manufacturing process of the touch panel device 100 of this embodiment includes a process of forming a film by a droplet discharge method which is a kind of printing method. Therefore, prior to the description of the method for manufacturing the touch panel device, the droplet discharge device will be described.
A droplet discharge device IJ shown in FIG. 5 includes a droplet discharge head 1001, an X-axis direction drive shaft 1004, a Y-axis direction guide shaft 1005, a control device CONT, a stage 1007, a cleaning mechanism 1008, and a base. 1009 and a heater 1015. As the droplet discharge device, an electromechanical conversion type droplet discharge device using a piezoelectric element (piezoelectric element) is preferably used.

ステージ1007は、この液滴吐出装置IJにより液体材料(パターン形成用液体材料)を付与される基板Pを支持するものであって、基板Pを基準位置に固定する図示は省略の固定機構を備えている。
液滴吐出ヘッド1001は、複数の吐出ノズルを備えたマルチノズルタイプの液滴吐出ヘッドであり、長手方向とX軸方向とを一致させている。複数の吐出ノズルは、液滴吐出ヘッド1001の下面に一定間隔で設けられている。液滴吐出ヘッド1001の吐出ノズルからは、ステージ1007に支持されている基板Pに対して、液体材料が吐出されるようになっている。
The stage 1007 supports the substrate P to which a liquid material (pattern forming liquid material) is applied by the droplet discharge device IJ, and includes a fixing mechanism (not shown) that fixes the substrate P to a reference position. ing.
The droplet discharge head 1001 is a multi-nozzle type droplet discharge head including a plurality of discharge nozzles, and the longitudinal direction and the X-axis direction are made to coincide. The plurality of discharge nozzles are provided on the lower surface of the droplet discharge head 1001 at regular intervals. A liquid material is discharged from the discharge nozzle of the droplet discharge head 1001 to the substrate P supported by the stage 1007.

X軸方向駆動軸1004には、X軸方向駆動モーター1002が接続されている。このX軸方向駆動モーター1002は、ステッピングモーター等からなるもので、制御装置CONTからX軸方向の駆動信号が供給されると、X軸方向駆動軸1004を回転させる。X軸方向駆動軸1004が回転すると、液滴吐出ヘッド1001はX軸方向に移動する。
Y軸方向ガイド軸1005は、基台1009に対して動かないように固定されている。ステージ1007は、Y軸方向駆動モーター1003を備えている。Y軸方向駆動モーター1003はステッピングモーター等であり、制御装置CONTからY軸方向の駆動信号が供給されると、ステージ1007をY軸方向に移動する。
制御装置CONTは、液滴吐出ヘッド1001に液滴の吐出制御用の電圧を供給する。また、X軸方向駆動モーター1002に液滴吐出ヘッド1001のX軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を、Y軸方向駆動モーター1003にステージ1007のY軸方向の移動を制御する駆動パルス信号を供給する。
An X-axis direction drive motor 1002 is connected to the X-axis direction drive shaft 1004. The X-axis direction drive motor 1002 is a stepping motor or the like, and rotates the X-axis direction drive shaft 1004 when a drive signal in the X-axis direction is supplied from the control device CONT. When the X-axis direction drive shaft 1004 rotates, the droplet discharge head 1001 moves in the X-axis direction.
The Y-axis direction guide shaft 1005 is fixed so as not to move with respect to the base 1009. The stage 1007 includes a Y-axis direction drive motor 1003. The Y-axis direction drive motor 1003 is a stepping motor or the like, and moves the stage 1007 in the Y-axis direction when a drive signal in the Y-axis direction is supplied from the control device CONT.
The control device CONT supplies a droplet discharge control voltage to the droplet discharge head 1001. In addition, a driving pulse signal for controlling movement of the droplet discharge head 1001 in the X-axis direction is supplied to the X-axis direction driving motor 1002, and a driving pulse signal for controlling movement of the stage 1007 in the Y-axis direction is supplied to the Y-axis direction driving motor 1003. Supply.

クリーニング機構1008は、液滴吐出ヘッド1001をクリーニングするものである。クリーニング機構1008には、図示は省略のY軸方向の駆動モーターが備えられている。このY軸方向の駆動モーターの駆動により、クリーニング機構は、Y軸方向ガイド軸1005に沿って移動する。クリーニング機構1008の移動も制御装置CONTにより制御される。   The cleaning mechanism 1008 is for cleaning the droplet discharge head 1001. The cleaning mechanism 1008 includes a Y-axis direction drive motor (not shown). The cleaning mechanism moves along the Y-axis direction guide shaft 1005 by driving the Y-axis direction drive motor. The movement of the cleaning mechanism 1008 is also controlled by the control device CONT.

ヒーター1015は、ここではランプアニールにより基板Pを熱処理する手段であり、基板P上に付与された液体材料に含まれる溶剤(溶媒、分散媒)の蒸発および乾燥を行う。このヒーター1015の電源の投入および遮断も制御装置CONTにより制御される。
液滴吐出装置IJは、液滴吐出ヘッド1001と基板Pを支持するステージ1007とを相対的に走査しつつ、基板Pに対して、液滴吐出ヘッド1001の下面にX軸方向に配列された複数の吐出ノズルから液滴を吐出するようになっている。
Here, the heater 1015 is a means for heat-treating the substrate P by lamp annealing, and performs evaporation and drying of a solvent (solvent, dispersion medium) contained in the liquid material applied on the substrate P. The heater 1015 is also turned on and off by the control device CONT.
The droplet discharge device IJ is arranged in the X axis direction on the lower surface of the droplet discharge head 1001 with respect to the substrate P while relatively scanning the droplet discharge head 1001 and the stage 1007 supporting the substrate P. Droplets are ejected from a plurality of ejection nozzles.

図6において、液体材料を収容する液体室1021に隣接してピエゾ素子1022が設置されている。液体室1021には、液体材料を収容する材料タンクを含む液体材料供給系1023を介して液体材料が供給される。ピエゾ素子1022は駆動回路1024に接続されており、この駆動回路1024を介してピエゾ素子1022に電圧を印加し、ピエゾ素子1022を変形させることにより、液体室1021が変形し、吐出ノズル1025から液体材料が吐出される。この場合、印加電圧の値を変化させることにより、ピエゾ素子1022の歪み量が制御される。また、印加電圧の周波数を変化させることにより、ピエゾ素子1022の歪み速度が制御される。ピエゾ方式による液滴吐出は材料に熱を加えないため、材料の組成に影響を与えにくいという利点を有する。   In FIG. 6, a piezo element 1022 is installed adjacent to a liquid chamber 1021 that stores a liquid material. The liquid material is supplied to the liquid chamber 1021 via a liquid material supply system 1023 including a material tank that stores the liquid material. The piezo element 1022 is connected to the drive circuit 1024, and a voltage is applied to the piezo element 1022 via the drive circuit 1024 to deform the piezo element 1022, whereby the liquid chamber 1021 is deformed and the liquid is discharged from the discharge nozzle 1025. Material is dispensed. In this case, the amount of distortion of the piezo element 1022 is controlled by changing the value of the applied voltage. Further, the strain rate of the piezo element 1022 is controlled by changing the frequency of the applied voltage. Since the droplet discharge by the piezo method does not apply heat to the material, it has an advantage of hardly affecting the composition of the material.

ここで、タッチパネル装置の製造方法の説明に戻る。以下、図7〜図9を参照しつつ、各工程について詳細に説明する。これらの工程図では、図2に示した構造を形成する工程を示している。
[島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程]
まず、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10について説明する。
島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10では、例えばガラス基板である基板1上に、図5に示した液滴吐出装置IJによって、例えば、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成された導電性粒子を含む液体材料の液滴を選択的に付与(配置)する。具体的には、基板1上に、島状電極部12と、ブリッジ配線11と、Y電極20の一部である島状電極部22と、島状電極部12および島状電極部22から延出された引き回し配線60の第1層60aとからなる液体材料のパターンを形成する。その後、基板1上に付与された液体材料(液滴)を乾燥させる。これにより、図7(a)に示すように、基板1上に、導電性粒子の集合体からなるX電極10(島状電極部12、ブリッジ配線11)、島状電極部22、および引き回し配線60の第1層60aが形成される。
Here, the description returns to the method for manufacturing the touch panel device. Hereinafter, each process will be described in detail with reference to FIGS. In these process drawings, the process of forming the structure shown in FIG. 2 is shown.
[Island-like electrode part / first bridge wiring formation process]
First, the island-shaped electrode portion / first bridge wiring forming step S10 will be described.
In the island-shaped electrode portion / first bridge wiring forming step S10, for example, ITO, IZO, IGZO, FTO, ZnO, AZO are formed on the substrate 1 which is a glass substrate by the droplet discharge device IJ shown in FIG. And the droplet of the liquid material containing the electroconductive particle comprised from the 1 type, or 2 or more types of material selected from the group which consists of ATO is selectively provided (arrange | positioned). Specifically, on the substrate 1, the island-like electrode portion 12, the bridge wiring 11, the island-like electrode portion 22 that is a part of the Y electrode 20, and the island-like electrode portion 12 and the island-like electrode portion 22 are extended. A pattern of the liquid material composed of the first layer 60a of the drawn lead-out wiring 60 is formed. Thereafter, the liquid material (droplet) applied on the substrate 1 is dried. As a result, as shown in FIG. 7 (a), the X electrode 10 (island electrode portion 12, bridge wire 11), the island electrode portion 22, and the lead wire made of an aggregate of conductive particles are formed on the substrate 1 as shown in FIG. 60 first layers 60a are formed.

本実施形態では、本工程S10において、導電性粒子を含有する液滴を吐出することによって、島状電極部12、ブリッジ配線11、島状電極部22、引き回し配線60の第1層60aとを形成しているが、液滴吐出法ではなく、例えば、他の液相成膜法を用いてもよい。また、フォトリソグラフィー法によるパターン形成方法も用いてもよい。すなわち、スパッタ法等により基板1の機能面1aのほぼ全面に導電膜(例えば、ITO膜)を形成した後、フォトリソグラフィー法およびエッチング法を用いて導電膜をパターニングすることで、島状電極部12、ブリッジ配線11、島状電極部22、および引き回し配線60の第1層60aを形成するようにしてもよい。   In the present embodiment, in this step S10, by discharging droplets containing conductive particles, the island-shaped electrode portion 12, the bridge wiring 11, the island-shaped electrode portion 22, and the first layer 60a of the routing wiring 60 are formed. Although formed, instead of the droplet discharge method, for example, another liquid phase film formation method may be used. Further, a pattern forming method by a photolithography method may be used. That is, after forming a conductive film (for example, an ITO film) over almost the entire functional surface 1a of the substrate 1 by sputtering or the like, the conductive film is patterned by using a photolithography method and an etching method, whereby the island-shaped electrode portion 12, the bridge wiring 11, the island-shaped electrode portion 22, and the first layer 60 a of the routing wiring 60 may be formed.

なお、島状電極部12、島状電極部22、ブリッジ配線11、および引き回し配線60の第1層60aの形成には、それぞれ、同一組成の組成物(液体材料)を用いてもよいし、異なる組成の組成物(液体材料)を用いてもよい。各部位で異なる組成の組成物を用いる場合であっても、液滴吐出装置を用いたインクジェット法ならば、好適に対応することができる。また、島状電極部12、島状電極部22、ブリッジ配線11、および引き回し配線60の第1層60aの形成は、同時に形成するものであってもよいし、所定の順序で形成するものであってもよい。例えば、形成すべき島状電極部12、島状電極部22に対応するパターンで液滴吐出を行い、乾燥して、島状電極部12、島状電極部22を形成した後、ブリッジ配線11、引き回し配線60の第1層60aに対応するパターンで液滴吐出を行い、乾燥して、ブリッジ配線11、引き回し配線60の第1層60aを形成してもよい。   In addition, for the formation of the first layer 60a of the island-shaped electrode portion 12, the island-shaped electrode portion 22, the bridge wiring 11, and the routing wiring 60, a composition (liquid material) having the same composition may be used. You may use the composition (liquid material) of a different composition. Even when a composition having a different composition is used in each part, an ink jet method using a droplet discharge device can be suitably used. Further, the formation of the first layer 60a of the island-shaped electrode portion 12, the island-shaped electrode portion 22, the bridge wiring 11, and the routing wiring 60 may be formed at the same time or in a predetermined order. There may be. For example, after the droplets are ejected in a pattern corresponding to the island-shaped electrode portions 12 and the island-shaped electrode portions 22 to be formed and dried to form the island-shaped electrode portions 12 and the island-shaped electrode portions 22, the bridge wiring 11 Alternatively, the droplets may be discharged in a pattern corresponding to the first layer 60 a of the routing wiring 60 and dried to form the bridge wiring 11 and the first layer 60 a of the routing wiring 60.

[第2層形成工程]
次に、第2層形成工程S20について説明する。
第2層形成工程S20では、液滴吐出装置IJによって、引き回し配線60の第2層60bの構成材料を含む液体材料の液滴を第1層60a上に吐出配置する。第2層60bを形成するための液体材料としては、例えば、銀粒子等の金属粒子を含む液体材料を用いることができる。その後、吐出配置した液滴を乾燥させる。これにより、図7(b)に示すように、第1層60a上に低抵抗の第2層60bが形成され、2層構造の引き回し配線60が入力領域2の外側の基板1上に形成される。
[Second layer forming step]
Next, the second layer forming step S20 will be described.
In the second layer forming step S20, droplets of a liquid material containing the constituent material of the second layer 60b of the routing wiring 60 are discharged and arranged on the first layer 60a by the droplet discharge device IJ. As the liquid material for forming the second layer 60b, for example, a liquid material containing metal particles such as silver particles can be used. Thereafter, the discharged droplets are dried. As a result, as shown in FIG. 7B, a low-resistance second layer 60b is formed on the first layer 60a, and a routing wiring 60 having a two-layer structure is formed on the substrate 1 outside the input region 2. The

引き回し配線60の第2層60bを形成する液体材料としては、銀粒子等の金属粒子を含む液体材料のほか、例えば、グラファイトやカーボンナノチューブを含む液体材料を用いることができる。金属粒子やカーボン粒子は、ナノ粒子やナノワイヤーの形態で液体材料中に分散される。また、第2層60bを金属膜とする場合には、有機金属化合物を含む液体材料を用いてもよい。   As a liquid material for forming the second layer 60b of the routing wiring 60, for example, a liquid material containing metal particles such as silver particles or a liquid material containing graphite or carbon nanotubes can be used. Metal particles and carbon particles are dispersed in the liquid material in the form of nanoparticles and nanowires. When the second layer 60b is a metal film, a liquid material containing an organometallic compound may be used.

[ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)]
次に、ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)S30について説明する。
ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程)S30では、図10(b)に示すように、液滴吐出装置IJによって、ポリアニリンを含む液体材料の液滴を、ブリッジ配線11の表面に吐出配置する。その後、吐出配置した液滴を乾燥させる。これにより、図7(c)に示すように、ブリッジ配線11の表面にポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13が形成される。また、本工程では、ポリアニリンを含む液体材料の液滴を、ブリッジ配線11の表面に吐出配置するとともに、引き回し配線60の第2層60bの表面にも吐出配置する。これにより、ブリッジ配線11の表面にポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13が形成されるとともに、引き回し配線60の第2層60bの表面にポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61が形成される。
[Polyaniline film forming step (first polyaniline film forming step)]
Next, the polyaniline film forming step (first polyaniline film forming step) S30 will be described.
In the polyaniline film forming step (first polyaniline film forming step) S30, as shown in FIG. 10B, droplets of a liquid material containing polyaniline are discharged onto the surface of the bridge wiring 11 by the droplet discharge device IJ. Deploy. Thereafter, the discharged droplets are dried. As a result, a polyaniline film (first polyaniline film) 13 is formed on the surface of the bridge wiring 11 as shown in FIG. Further, in this step, liquid material droplets containing polyaniline are discharged and arranged on the surface of the bridge wiring 11 and are also discharged and arranged on the surface of the second layer 60 b of the routing wiring 60. As a result, a polyaniline film (first polyaniline film) 13 is formed on the surface of the bridge wiring 11, and a polyaniline film (third polyaniline film) 61 is formed on the surface of the second layer 60b of the routing wiring 60. .

上述したように、ポリアニリン被膜13、ポリアニリン被膜61の形成に用いる組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)は、前述したような材料で構成されたブリッジ配線11、引き回し配線60(第2層60b)との親和性に優れている。このため、本工程において、組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)を目的とする部位(ブリッジ配線11の表面および引き回し配線60(第2層60b)の表面)に選択的に付着させ、目的とするパターンのポリアニリン被膜を容易かつ確実に形成することができる。また、形成されるポリアニリン被膜13のブリッジ配線11に対する密着性、ポリアニリン被膜61の引き回し配線60(第2層60b)に対する密着性を強固なものとすることができる。   As described above, the composition (polyaniline film forming composition) used for forming the polyaniline film 13 and the polyaniline film 61 includes the bridge wiring 11 and the lead wiring 60 (second layer 60b) made of the materials described above. Excellent affinity. For this reason, in this step, the composition (polyaniline film forming composition) is selectively attached to the target site (the surface of the bridge wiring 11 and the surface of the routing wiring 60 (second layer 60b)). A polyaniline film having a pattern to be formed can be easily and reliably formed. Further, the adhesion of the formed polyaniline coating 13 to the bridge wiring 11 and the adhesion of the polyaniline coating 61 to the routing wiring 60 (second layer 60b) can be strengthened.

なお、ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13、およびポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61の形成には、それぞれ、同一組成の組成物(液体材料)を用いてもよいし、異なる組成の組成物(液体材料)を用いてもよい。各部位で異なる組成の組成物を用いる場合であっても、液滴吐出装置を用いたインクジェット法ならば、好適に対応することができる。また、ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13、およびポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61の形成は、同時に形成するものであってもよいし、所定の順序で形成するものであってもよい。例えば、形成すべきポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13に対応するパターンで液滴吐出を行い、乾燥して、ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13を形成した後、ポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61に対応するパターンで液滴吐出を行い、乾燥して、ポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜)61を形成してもよい。   The polyaniline film (first polyaniline film) 13 and the polyaniline film (third polyaniline film) 61 may be formed using compositions (liquid materials) having the same composition or different compositions. A composition (liquid material) may be used. Even when a composition having a different composition is used in each part, an ink jet method using a droplet discharge device can be suitably used. The polyaniline film (first polyaniline film) 13 and the polyaniline film (third polyaniline film) 61 may be formed simultaneously or in a predetermined order. Good. For example, after discharging droplets in a pattern corresponding to the polyaniline film (first polyaniline film) 13 to be formed and drying to form the polyaniline film (first polyaniline film) 13, the polyaniline film (third The polyaniline coating (third polyaniline coating) 61 may be formed by discharging droplets in a pattern corresponding to the (polyaniline coating) 61 and drying.

[絶縁膜形成工程]
次に、絶縁膜形成工程S40について説明する。
絶縁膜形成工程S30では、液滴吐出装置IJによって、図7(d)および図10(c)に示すように、ポリアニリン被膜13上の領域に対して液滴を選択的に配置する。その後、基板1上の液体材料を加熱し、乾燥固化することで、ポリアニリン被膜13上に絶縁膜30が形成される。
[Insulating film formation process]
Next, the insulating film forming step S40 will be described.
In the insulating film forming step S30, the droplets are selectively placed on the region on the polyaniline film 13 by the droplet discharge device IJ, as shown in FIGS. 7D and 10C. Thereafter, the liquid material on the substrate 1 is heated and solidified by drying, whereby the insulating film 30 is formed on the polyaniline coating 13.

なお、絶縁膜30を形成するに際しては、図10(c)に示すように、少なくともポリアニリン被膜13上の領域において液滴を隙間無く配置することが好ましい。これにより、ポリアニリン被膜13に達する孔やクラックのない絶縁膜30を形成することができ、絶縁膜30における絶縁不良やポリアニリン被膜23、ブリッジ配線21の断線が防止される。   When forming the insulating film 30, it is preferable to dispose droplets at least in a region on the polyaniline film 13 without any gap as shown in FIG. Thereby, the insulating film 30 having no holes or cracks reaching the polyaniline coating 13 can be formed, and insulation failure in the insulating film 30 and disconnection of the polyaniline coating 23 and the bridge wiring 21 are prevented.

また、図7(d)に示すように、ポリアニリン被膜13上の領域とともにポリアニリン被膜61上の領域に対しても液滴を選択的に配置する。その後、基板1上の液体材料を加熱し、乾燥固化することで、ポリアニリン被膜61を覆う絶縁性保護膜62が形成される。
上記液体材料としては、例えば、ポリシロキサン、アクリル系樹脂、またはアクリルモノマーを含む液体材料を用いることができる。
Further, as shown in FIG. 7 (d), the droplets are selectively disposed not only on the region on the polyaniline film 13 but also on the region on the polyaniline film 61. Thereafter, the liquid material on the substrate 1 is heated and dried and solidified to form an insulating protective film 62 that covers the polyaniline film 61.
As the liquid material, for example, a liquid material containing polysiloxane, an acrylic resin, or an acrylic monomer can be used.

[第2のブリッジ配線形成工程]
次に、第2のブリッジ配線形成工程S50について説明する。
第2のブリッジ配線形成工程S50では、図8(a)および図10(d)に示すように、隣り合って配置された島状電極部22上と絶縁膜30上とにわたって、ITO、IZOおよびZnOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成された導電性粒子を含む液体材料の液滴を配線形状に付与(配置)する。その後、基板1上の液体材料を乾燥固化する。これにより、島状電極部22同士を接続するブリッジ配線21が形成される。
ブリッジ配線形成工程S40では、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10で用いたのと同一の液体材料を用いてブリッジ配線21を形成することが好ましい。
[Second Bridge Wiring Formation Process]
Next, the second bridge wiring formation step S50 will be described.
In the second bridge wiring formation step S50, as shown in FIG. 8A and FIG. 10D, ITO, IZO and over the island-like electrode portions 22 and the insulating film 30 arranged adjacent to each other. A liquid material droplet containing conductive particles made of one or more materials selected from the group consisting of ZnO is applied (arranged) to the wiring shape. Thereafter, the liquid material on the substrate 1 is dried and solidified. Thereby, the bridge wiring 21 that connects the island-shaped electrode portions 22 is formed.
In the bridge wiring formation step S40, it is preferable to form the bridge wiring 21 by using the same liquid material as that used in the island-shaped electrode portion / first bridge wiring formation step S10.

[ポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程)]
次に、ポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程)S60について説明する。
ポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程)S60では、液滴吐出装置IJによって、ポリアニリンを含む液体材料の液滴を、ブリッジ配線21の表面に吐出配置する。その後、吐出配置した液滴を乾燥させる。これにより、図8(b)に示すように、ブリッジ配線21の表面にポリアニリン被膜(第2のポリアニリン被膜)23が形成される。
[Polyaniline film forming step (second polyaniline film forming step)]
Next, the polyaniline film forming step (second polyaniline film forming step) S60 will be described.
In the polyaniline film forming step (second polyaniline film forming step) S60, droplets of a liquid material containing polyaniline are discharged and arranged on the surface of the bridge wiring 21 by the droplet discharge device IJ. Thereafter, the discharged droplets are dried. Thereby, as shown in FIG. 8B, a polyaniline film (second polyaniline film) 23 is formed on the surface of the bridge wiring 21.

上述したように、ポリアニリン被膜23の形成に用いる組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)は、前述したような材料で構成されたブリッジ配線21との親和性に優れている。このため、本工程において、組成物(ポリアニリン被膜形成用組成物)を目的とする部位(ブリッジ配線21の表面)に選択的に付着させ、目的とするパターンのポリアニリン被膜23を容易かつ確実に形成することができる。また、形成されるポリアニリン被膜23のブリッジ配線21に対する密着性を強固なものとすることができる。   As described above, the composition (polyaniline film forming composition) used for forming the polyaniline film 23 is excellent in affinity with the bridge wiring 21 made of the material as described above. Therefore, in this step, the composition (polyaniline film-forming composition) is selectively attached to the target site (the surface of the bridge wiring 21), and the polyaniline film 23 having the target pattern is easily and reliably formed. can do. Moreover, the adhesiveness with respect to the bridge | bridging wiring 21 of the polyaniline film 23 formed can be strengthened.

[平坦化膜形成工程]
次に、平坦化膜形成工程S70について説明する。
平坦化膜形成工程S70では、図8(c)に示すように、基板1の機能面1a側を平坦化させる目的で、絶縁材料からなる平坦化膜40を機能面1a側のほぼ全面に形成する。
平坦化膜40は、絶縁膜形成工程S40で用いた絶縁膜30形成用の液体材料と同様の液体材料を用いて形成することができるが、基板1の機能面1a側の平坦化を目的としているため、樹脂材料を用いて形成するのが好ましい。
[Planarization film forming process]
Next, the planarization film forming step S70 will be described.
In the planarization film forming step S70, as shown in FIG. 8C, a planarization film 40 made of an insulating material is formed on almost the entire functional surface 1a side for the purpose of planarizing the functional surface 1a side of the substrate 1. To do.
The planarizing film 40 can be formed using a liquid material similar to the liquid material for forming the insulating film 30 used in the insulating film forming step S40, but for the purpose of planarizing the functional surface 1a side of the substrate 1 Therefore, it is preferable to use a resin material.

[保護基板接合工程]
次に、保護基板接合工程S80について説明する。
保護基板接合工程S80では、図9(a)に示すように、別途用意した保護基板50と平坦化膜40との間に接着剤を配置し、かかる接着剤からなる接着層51を介して保護基板50と平坦化膜40とを貼り合わせる。保護基板50としては、例えば、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラス材料や、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の各種樹脂材料で構成された光透過性を有する透明基板のほか、偏光板や位相差板等の光学素子基板を用いてもよい。また、保護基板50は、例えば、上記ガラス材料や樹脂材料で構成された板材に加え、上記光学素子基板を備えるものであってもよい。この場合、上記板材と上記光学素子基板とを別々に用意し、本工程において、これらを接合してもよい。接着層51を構成する接着剤としては、透明な樹脂材料等を用いることができる。
[Protective substrate bonding process]
Next, the protective substrate bonding step S80 will be described.
In the protective substrate bonding step S80, as shown in FIG. 9A, an adhesive is disposed between the protective substrate 50 and the planarization film 40 that are separately prepared, and protection is performed via an adhesive layer 51 made of the adhesive. The substrate 50 and the planarizing film 40 are bonded together. The protective substrate 50 is composed of various glass materials such as soda glass, non-alkali glass, borosilicate glass, and quartz glass, and various resin materials such as polyimide resin, acrylic resin, polyester resin, and polycarbonate resin. In addition to the light-transmitting transparent substrate, an optical element substrate such as a polarizing plate or a retardation plate may be used. The protective substrate 50 may include the optical element substrate in addition to the plate material made of the glass material or the resin material, for example. In this case, the plate material and the optical element substrate may be prepared separately and joined in this step. As the adhesive constituting the adhesive layer 51, a transparent resin material or the like can be used.

[シールド層形成工程]
次に、シールド層形成工程S90について説明する。
シールド層形成工程S90では、図9(b)に示すように、基板1の裏面1b(機能面1aとは反対側の面)に導電膜で構成されたシールド層70を形成する。シールド層70は、真空成膜法、スクリーン印刷法、オフセット法、液滴吐出法等の公知の成膜法を用いて形成することができる。例えばシールド層70を液滴吐出法等の印刷法を用いて形成する場合には、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10、第2のブリッジ配線形成工程S50で使用されるITO、IZOおよびZnOよりなる群から選択される1種または2種以上の材料で構成された導電性粒子を含む液体材料を好適に用いることができる。
また、基板1に対する成膜によりシールド層70を形成する方法のほかにも、一面または両面に導電膜が成膜されたフィルムを別途用意し、かかるフィルムを基板1の裏面1bに貼り合わせることでフィルム上の導電膜をシールド層70としてもよい。
[Shield layer formation process]
Next, the shield layer forming step S90 will be described.
In the shield layer forming step S90, as shown in FIG. 9B, a shield layer 70 made of a conductive film is formed on the back surface 1b of the substrate 1 (the surface opposite to the functional surface 1a). The shield layer 70 can be formed using a known film formation method such as a vacuum film formation method, a screen printing method, an offset method, or a droplet discharge method. For example, when the shield layer 70 is formed using a printing method such as a droplet discharge method, the ITO used in the island-shaped electrode portion / first bridge wiring formation step S10 and second bridge wiring formation step S50, A liquid material containing conductive particles composed of one or more materials selected from the group consisting of IZO and ZnO can be suitably used.
In addition to the method of forming the shield layer 70 by film formation on the substrate 1, a film having a conductive film formed on one surface or both surfaces thereof is separately prepared and the film is bonded to the back surface 1b of the substrate 1. The conductive film on the film may be used as the shield layer 70.

なお、例えば、図11に示すようにして、絶縁膜30を形成してもよい。以下、図11に示す方法について説明する。
まず、上述したのとの同様に(図10(b)参照)、ブリッジ配線11の表面にポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜)13を形成する(図11(b)参照)。
その後、図11(c)に示すように、絶縁膜形成工程S40において、部分的にくびれた形状の絶縁膜30を形成する。より詳しくは、島状電極部22の配列方向(Y電極20の延在方向)の絶縁膜30の幅を、図示左右方向(X電極10の延在方向)の中央部30aで狭く、両側の端部30b、30bに向かって漸次広くなるように形成する。
For example, the insulating film 30 may be formed as shown in FIG. Hereinafter, the method shown in FIG. 11 will be described.
First, as described above (see FIG. 10B), a polyaniline film (first polyaniline film) 13 is formed on the surface of the bridge wiring 11 (see FIG. 11B).
Thereafter, as shown in FIG. 11C, in the insulating film forming step S40, the insulating film 30 having a partially constricted shape is formed. More specifically, the width of the insulating film 30 in the arrangement direction of the island-shaped electrode portions 22 (the extending direction of the Y electrode 20) is narrow at the center portion 30a in the horizontal direction (the extending direction of the X electrode 10) in the drawing, It forms so that it may become gradually wide toward the edge parts 30b and 30b.

そして、第2のブリッジ配線形成工程S50において、図11(d)に示すように、絶縁膜30の中央部30a(くびれた部分)を通過するようにブリッジ配線21を形成する。このような製造方法とすることで、ブリッジ配線21を形成するための液滴を基板1上に配置したときに、絶縁膜30の端部30b側の突出した部位が、液滴が濡れ広がるのを防止する堰部材として機能する。これにより、ブリッジ配線21とX電極10とが短絡するのを効果的に防止することができ、歩留まりよくタッチパネル装置100を製造することができる。   In the second bridge wiring formation step S50, as shown in FIG. 11D, the bridge wiring 21 is formed so as to pass through the central portion 30a (constricted portion) of the insulating film 30. With such a manufacturing method, when a droplet for forming the bridge wiring 21 is disposed on the substrate 1, the protruding portion on the end 30 b side of the insulating film 30 wets and spreads the droplet. It functions as a weir member that prevents Thereby, it is possible to effectively prevent the bridge wiring 21 and the X electrode 10 from being short-circuited, and the touch panel device 100 can be manufactured with a high yield.

以上に詳細に説明した本実施形態のタッチパネル装置100の製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
まず、本実施形態の製造方法では、X電極10と交差するY電極20の接続構造を、液滴吐出法を用いて形成することで、従来に比して工数を削減することができ、タッチパネル装置の製造コストを抑えることができる。
さらに詳しく説明すると、従来の接続構造の形成工程では、(1)層間絶縁膜を形成する工程と、(2)コンタクトホールを層間絶縁膜に形成する工程と、(3)コンタクトホールを含む領域にブリッジ配線をパターン形成する工程とを実施していた。
According to the manufacturing method of the touch panel device 100 of the present embodiment described in detail above, the following effects can be obtained.
First, in the manufacturing method of the present embodiment, the connection structure of the Y electrode 20 intersecting with the X electrode 10 is formed by using a droplet discharge method, so that the number of man-hours can be reduced as compared with the conventional method. The manufacturing cost of the apparatus can be suppressed.
More specifically, in the conventional connection structure forming step, (1) a step of forming an interlayer insulating film, (2) a step of forming a contact hole in the interlayer insulating film, and (3) a region including the contact hole. And a step of patterning the bridge wiring.

上述した従来工程と本実施形態の工程とを比較すれば明らかなように、本実施形態に係る製造方法では、従来工程における層間絶縁膜にコンタクトホールを形成するためのフォトリソグラフィー工程(およびエッチング工程)が不要になり、さらに、ブリッジ配線をパターン形成するためのフォトリソグラフィー工程およびエッチング工程も不要になる。
したがって、本実施形態の製造方法によれば、特にコストのかかるフォトリソグラフィー工程を削減することができ、タッチパネル装置の製造コストを低減することができる。また、液滴吐出法では、それぞれの膜を形成する領域にのみ選択的に液滴を配置するので、材料の使用量を抑えることができ、原材料費の点でも製造コスト低減に寄与する。
As is apparent from a comparison between the above-described conventional process and the process of the present embodiment, in the manufacturing method according to the present embodiment, a photolithography process (and an etching process) for forming a contact hole in the interlayer insulating film in the conventional process. ), And a photolithography process and an etching process for patterning the bridge wiring are also unnecessary.
Therefore, according to the manufacturing method of the present embodiment, the costly photolithography process can be reduced, and the manufacturing cost of the touch panel device can be reduced. Further, in the droplet discharge method, since droplets are selectively arranged only in the region where each film is formed, the amount of material used can be suppressed, and the raw material cost also contributes to a reduction in manufacturing cost.

また本実施形態の製造方法では、基板1上の同一層に、X電極10(島状電極部12、ブリッジ配線11)と、島状電極部22とを形成している。これにより、X電極10とY電極20とを層間絶縁膜を介した別々な層に形成する場合に比して、X電極10あるいはY電極20のパターニングに要する工数を削減することができるので、製造コストを低減することができる。   In the manufacturing method of the present embodiment, the X electrode 10 (the island-shaped electrode portion 12 and the bridge wiring 11) and the island-shaped electrode portion 22 are formed in the same layer on the substrate 1. Thereby, compared with the case where the X electrode 10 and the Y electrode 20 are formed in separate layers via an interlayer insulating film, the man-hour required for patterning the X electrode 10 or the Y electrode 20 can be reduced. Manufacturing cost can be reduced.

また本実施形態の製造方法では、基板1上に矩形状の島状電極部12と島状電極部22とを互い違いのマトリクス状に形成し、隣り合う島状電極部12同士、および隣り合う島状電極部22同士が、それらの角部において近接するように配置している。そして、隣り合う島状電極部12の角部同士をブリッジ配線11で接続し、隣り合う島状電極部22の角部同士をブリッジ配線11で接続している。これにより、隣り合う島状電極部12同士、島状電極部22同士を最短距離で接続し、ブリッジ配線11、21の長さを最短とすることができる。したがって、X電極10とY電極20との交差部の平面領域を小さくすることができ、交差部における構造が視認されにくい構成とすることができる。   In the manufacturing method of the present embodiment, the rectangular island-shaped electrode portions 12 and the island-shaped electrode portions 22 are formed on the substrate 1 in a staggered matrix, and the adjacent island-shaped electrode portions 12 and the adjacent islands are formed. The electrode portions 22 are arranged so as to be close to each other at their corners. The corner portions of the adjacent island electrode portions 12 are connected by the bridge wiring 11, and the corner portions of the adjacent island electrode portions 22 are connected by the bridge wiring 11. Thereby, adjacent island-shaped electrode parts 12 and island-shaped electrode parts 22 can be connected with the shortest distance, and the length of the bridge wirings 11 and 21 can be made the shortest. Therefore, it is possible to reduce the plane area of the intersection between the X electrode 10 and the Y electrode 20 and to make the structure at the intersection difficult to visually recognize.

また、線幅の狭いブリッジ配線11およびブリッジ配線21を短くすることができるので、X電極10およびY電極20の配線抵抗を低減させることができる。
なお、本実施形態においては、島状電極部12、島状電極部22の形状を平面視正方形としているが、これ以外にも、例えばひし形等の矩形状であってもよいし、多角形や円形等であってもよい。
Moreover, since the bridge wiring 11 and the bridge wiring 21 with a narrow line width can be shortened, the wiring resistance of the X electrode 10 and the Y electrode 20 can be reduced.
In addition, in this embodiment, although the shape of the island-shaped electrode part 12 and the island-shaped electrode part 22 is a square in plan view, other than this, for example, a rectangular shape such as a rhombus, a polygonal shape, It may be circular or the like.

また、図11に示す方法では、絶縁膜30をブリッジ配線21が形成される領域でくびれた平面形状に形成する。これにより、くびれた領域の側方に位置する絶縁膜30がブリッジ配線21の液滴のぬれ広がりを抑えることができるので、X電極10とY電極20とが接続される誤配線を防止して、タッチパネル装置の製造歩留りを向上させることができる。   Further, in the method shown in FIG. 11, the insulating film 30 is formed in a planar shape constricted in a region where the bridge wiring 21 is formed. As a result, the insulating film 30 located on the side of the constricted region can suppress the wetting and spreading of the droplets of the bridge wiring 21, thereby preventing erroneous wiring in which the X electrode 10 and the Y electrode 20 are connected. The manufacturing yield of the touch panel device can be improved.

また本実施形態のタッチパネル装置100では、入力領域2の周辺に形成された引き回し配線60が、X電極10およびY電極20を延設してなる第1層60aと、第1層60aよりもシート抵抗の小さい第2層60bとを積層した構造を有している。これにより、引き回し配線60の配線抵抗を低減させたタッチパネル装置とすることができる。したがって、入力領域2からの信号を増幅するバッファー回路等の周辺回路の規模を縮小することができるので、消費電力をさらに抑えることができる。   Further, in the touch panel device 100 of the present embodiment, the routing wiring 60 formed around the input region 2 includes a first layer 60a in which the X electrode 10 and the Y electrode 20 are extended, and a sheet rather than the first layer 60a. It has a structure in which a second layer 60b having a low resistance is stacked. Thereby, a touch panel device in which the wiring resistance of the routing wiring 60 is reduced can be obtained. Therefore, the scale of peripheral circuits such as a buffer circuit that amplifies the signal from the input region 2 can be reduced, so that power consumption can be further suppressed.

また本実施形態のタッチパネル装置100において、入力領域2の周辺の絶縁性保護膜62を、ブリッジ配線11、21の交差部に形成される絶縁膜30と同一成分を含む材料で形成することが好ましい。これにより、絶縁膜30と絶縁性保護膜62とを同一工程で形成することができるので、工数を削減でき、製造コストを低減できる構成となる。
また本実施形態のタッチパネル装置100では、基板1の機能面1a側が平坦化膜40によって平坦化されている。この構成によれば、基板1の機能面1a側と保護基板50とをほぼ全面で接合することができ、接着層51への気泡の混入を防止することができる。また、平坦化膜40によって基板1上に形成されたX電極10およびY電極20を保護することができ、タッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。
In the touch panel device 100 of the present embodiment, it is preferable that the insulating protective film 62 around the input region 2 is formed of a material containing the same component as the insulating film 30 formed at the intersection of the bridge wirings 11 and 21. . Thereby, since the insulating film 30 and the insulating protective film 62 can be formed in the same process, it becomes the structure which can reduce a man-hour and can reduce manufacturing cost.
In the touch panel device 100 of the present embodiment, the functional surface 1 a side of the substrate 1 is flattened by the flattening film 40. According to this configuration, the functional surface 1a side of the substrate 1 and the protective substrate 50 can be bonded almost over the entire surface, and bubbles can be prevented from being mixed into the adhesive layer 51. Further, the X electrode 10 and the Y electrode 20 formed on the substrate 1 can be protected by the planarizing film 40, and the reliability of the touch panel device 100 can be made particularly excellent.

また、保護基板50が接着層51を介して平坦化膜40と接合されていることで、保護基板50と平坦化膜40との間に屈折率の小さい空気層が形成されてしまうことを確実に防止することができる。これにより、空気層と保護基板50との界面や、空気層と平坦化膜との界面で光が反射するのを防止でき、表示装置の前面側に配置されるタッチパネル装置として良好な品質を得ることができる。
また、本実施形態のタッチパネル装置100では、基板1の裏面1bにシールド層70が形成されている。これにより、シールド層70により不要な電界を遮断することができ、タッチパネル装置100の入力領域2へのノイズの進入や、タッチパネル装置100の電界が表示装置等の外部機器側へ漏れ出るのを防止することができる。
In addition, since the protective substrate 50 is bonded to the planarizing film 40 via the adhesive layer 51, it is ensured that an air layer having a small refractive index is formed between the protective substrate 50 and the planarizing film 40. Can be prevented. As a result, it is possible to prevent light from being reflected at the interface between the air layer and the protective substrate 50 or the interface between the air layer and the planarizing film, thereby obtaining good quality as a touch panel device disposed on the front side of the display device. be able to.
In the touch panel device 100 of the present embodiment, the shield layer 70 is formed on the back surface 1 b of the substrate 1. Accordingly, an unnecessary electric field can be blocked by the shield layer 70, and noise can be prevented from entering the input area 2 of the touch panel device 100 and the electric field of the touch panel device 100 can be prevented from leaking to an external device such as a display device. can do.

本発明の製造方法では、第1のブリッジ配線および前記第2のブリッジ配線のうち少なくとも一方の表面に液相成膜法によりポリアニリン被膜を形成すればよく、これにより、薄型でかつ光透過性が高く、信頼性の高い静電容量結合方式のタッチパネル装置を効率よく製造することができるが、本実施形態のように、第1のブリッジ配線11上に第1のポリアニリン被膜13を形成する第1のポリアニリン被膜形成工程、第2のブリッジ配線21上に第2のポリアニリン被膜23を形成する第2のポリアニリン被膜形成工程の両方を有することにより、製造されるタッチパネル装置100の信頼性を特に優れたものとすることができる。   In the manufacturing method of the present invention, a polyaniline film may be formed on the surface of at least one of the first bridge wiring and the second bridge wiring by a liquid phase film forming method, thereby reducing the thickness and light transmittance. A high-capacitance capacitive touch panel device can be efficiently manufactured, but the first polyaniline film 13 is formed on the first bridge wiring 11 as in the present embodiment. In particular, the reliability of the manufactured touch panel device 100 is excellent by having both the polyaniline film forming step and the second polyaniline film forming step of forming the second polyaniline film 23 on the second bridge wiring 21. Can be.

<表示装置>
次に、本発明の表示装置について説明する。
本実施形態では、表示装置の一例として、タッチパネル装置を備えた液晶表示装置について説明する。
図12は、本発明の表示装置の好適な実施形態としての液晶表示装置の模式図であり、図12(a)は平面図、図12(b)は平面図におけるH−H’断面図である。
<Display device>
Next, the display device of the present invention will be described.
In this embodiment, a liquid crystal display device including a touch panel device will be described as an example of the display device.
12A and 12B are schematic views of a liquid crystal display device as a preferred embodiment of the display device of the present invention. FIG. 12A is a plan view, and FIG. 12B is a cross-sectional view taken along line HH ′ in the plan view. is there.

液晶表示装置500は、図12(a)に示すように、素子基板410、対向基板420、および画像表示領域410aを有している。
素子基板410は対向基板420に比して広い平面領域を有した矩形状の基板である。
対向基板420は液晶表示装置500における画像表示側であり、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラス等の各種ガラス材料や、ポリイミド系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の各種樹脂材料のような透明性の材料で構成された基板である。対向基板420は、シール材452を介して素子基板410の中央部に接合されている。
As shown in FIG. 12A, the liquid crystal display device 500 includes an element substrate 410, a counter substrate 420, and an image display region 410a.
The element substrate 410 is a rectangular substrate having a wider plane area than the counter substrate 420.
The counter substrate 420 is an image display side in the liquid crystal display device 500, and various glass materials such as soda glass, alkali-free glass, borosilicate glass, and quartz glass, polyimide resin, acrylic resin, polyester resin, and polycarbonate resin. The substrate is made of a transparent material such as various resin materials. The counter substrate 420 is bonded to the central portion of the element substrate 410 through a sealing material 452.

画像表示領域410aは、対応基板420の平面領域であって、シール材452の内周に沿って設けられた周辺見切り453の内側領域である。
素子基板410における対向基板420の周辺には、データ線駆動回路401、走査線駆動回路404、データ線駆動回路401および走査線駆動回路404と接続された接続端子402、および対向基板420に対して対向して配置された走査線駆動回路404同士を接続する配線405等が配置されている。
The image display area 410 a is a planar area of the corresponding substrate 420 and is an inner area of a peripheral parting line 453 provided along the inner periphery of the sealing material 452.
In the periphery of the counter substrate 420 in the element substrate 410, the data line driving circuit 401, the scanning line driving circuit 404, the connection terminal 402 connected to the data line driving circuit 401 and the scanning line driving circuit 404, and the counter substrate 420 A wiring 405 or the like for connecting the scanning line driving circuits 404 arranged to face each other is arranged.

次に、液晶表示装置500の断面について説明する。
素子基板410の液晶層450側の面には、画素電極409および配向膜418等が積層されている。
対向基板420の液晶層450側の面には、遮光膜(ブラックマトリクス)423、カラーフィルター422、共通電極425、および配向膜429等が積層されている。
Next, a cross section of the liquid crystal display device 500 will be described.
A pixel electrode 409, an alignment film 418, and the like are stacked on the surface of the element substrate 410 on the liquid crystal layer 450 side.
A light shielding film (black matrix) 423, a color filter 422, a common electrode 425, an alignment film 429, and the like are stacked on the surface of the counter substrate 420 on the liquid crystal layer 450 side.

液晶層450が、素子基板410および対向基板420によって挟持されている。
そして、対向基板420の外側(液晶層450反対側)の面には、接着層101を挟んで本発明のタッチパネル装置100が配置されている。
液晶表示装置500は、タッチパネル装置100を備えているため、指等の位置情報を確実に検出することができ、例えば、その検出結果に応じた表示を長期間にわたって安定的に行うことができる高性能のものである。
A liquid crystal layer 450 is sandwiched between the element substrate 410 and the counter substrate 420.
The touch panel device 100 of the present invention is arranged on the outer surface (opposite side of the liquid crystal layer 450) of the counter substrate 420 with the adhesive layer 101 interposed therebetween.
Since the liquid crystal display device 500 includes the touch panel device 100, position information such as a finger can be reliably detected. For example, the liquid crystal display device 500 can stably perform display according to the detection result over a long period of time. Of performance.

また、本実施形態の液晶表示装置500においては、対向基板420の外側(液晶層450と反対側)の面にタッチパネル装置100の各層が形成されていてもよい。これにより、液晶表示装置500の対向基板420とタッチパネル装置100の基板1とを共通化することができ、より製造コストを低減することができるとともに、液晶表示装置500を軽量化することができる。   Further, in the liquid crystal display device 500 of the present embodiment, each layer of the touch panel device 100 may be formed on the outer surface (opposite side of the liquid crystal layer 450) of the counter substrate 420. Thereby, the counter substrate 420 of the liquid crystal display device 500 and the substrate 1 of the touch panel device 100 can be made common, so that the manufacturing cost can be further reduced and the liquid crystal display device 500 can be reduced in weight.

なお、液晶表示装置500は、タッチパネル装置100の代わりに、上述したタッチパネル装置100Aを備えるものであってもよい。
また、本実施形態においては、本発明の表示装置の一例として液晶表示装置について説明したが、本発明の表示装置は、有機EL装置、電気泳動表示装置等、液晶表示装置以外の表示装置であってもよい。
The liquid crystal display device 500 may include the touch panel device 100A described above instead of the touch panel device 100.
In this embodiment, the liquid crystal display device has been described as an example of the display device of the present invention. However, the display device of the present invention is a display device other than the liquid crystal display device such as an organic EL device or an electrophoretic display device. May be.

<電子機器>
次に、本発明の電子機器について説明する。
本実施形態では、電子機器の一例として、モバイル型パーソナルコンピューターについて説明する。
図13は、本発明の電子機器の好適な実施形態としてのモバイル型パーソナルコンピューターを示す斜視図である。
図13に示すように、モバイル型パーソナルコンピューター1100は、表示部1101と、キーボード1102を有する本体部1103とを備えている。モバイル型パーソナルコンピューター1100は、上記実施形態の液晶表示装置500を表示部1101に備えている。
<Electronic equipment>
Next, the electronic apparatus of the present invention will be described.
In this embodiment, a mobile personal computer will be described as an example of an electronic device.
FIG. 13 is a perspective view showing a mobile personal computer as a preferred embodiment of the electronic apparatus of the present invention.
As shown in FIG. 13, the mobile personal computer 1100 includes a display unit 1101 and a main body unit 1103 having a keyboard 1102. A mobile personal computer 1100 includes the liquid crystal display device 500 of the above embodiment in a display unit 1101.

モバイル型パーソナルコンピューター1100は、液晶表示装置500を表示部1101に備えているため、指等の位置情報を確実に検出することができ、例えば、その検出結果に応じた表示を長期間にわたって安定的に行うことができる高性能のものである。
なお、本実施形態においては、本発明の電子機器の一例としてモバイル型パーソナルコンピューターについて説明したが、本発明の電子機器は、携帯電話、携帯用オーディオ機器、PDA(Personal Digital Assistant)等、モバイル型パーソナルコンピューター以外の電子機器であってもよい。
Since the mobile personal computer 1100 includes the liquid crystal display device 500 in the display unit 1101, position information of a finger or the like can be reliably detected. For example, display according to the detection result is stable over a long period of time. High performance that can be done.
In this embodiment, a mobile personal computer has been described as an example of the electronic apparatus of the present invention. However, the electronic apparatus of the present invention is a mobile type such as a mobile phone, a portable audio device, a PDA (Personal Digital Assistant), etc. Electronic devices other than personal computers may be used.

以上、本発明について、好適な実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれらに限定されるものではない。
例えば、本発明のタッチパネル装置、表示装置および電子機器では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
As mentioned above, although this invention was demonstrated based on suitable embodiment, this invention is not limited to these.
For example, in the touch panel device, the display device, and the electronic device of the present invention, the configuration of each unit can be replaced with any configuration that exhibits the same function, and any configuration can be added.

また、前述した実施形態では、第1のブリッジ配線および第2のブリッジ配線の両方の表面に、ポリアニリン被膜が設けられている場合について代表的に説明したが、ポリアニリン被膜は、第1のブリッジ配線および第2のブリッジ配線のうち一方の表面のみに設けられていてもよい。また、ポリアニリン被膜は、第1のブリッジ配線および/または第2のブリッジ配線の表面全面に形成されるものに限らず、その表面の一部にのみ設けられるものであってもよい。   In the above-described embodiment, the case where the polyaniline coating is provided on the surfaces of both the first bridge wiring and the second bridge wiring is representatively described. However, the polyaniline coating is formed by using the first bridge wiring. And it may be provided only on one surface of the second bridge wiring. The polyaniline film is not limited to being formed on the entire surface of the first bridge wiring and / or the second bridge wiring, but may be provided only on a part of the surface.

また、前述した実施形態では、シールド層70をタッチパネル装置製造工程の最後に実施するものとして説明したが、シールド層70は任意のタイミングで形成することができる。例えば、予めシールド層70が形成された基板1を島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10以降の工程に供することもできる。また、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10〜保護基板接合工程S80までの任意の工程の間にシールド層形成工程を配してもよい。   In the above-described embodiment, the shield layer 70 is described as being performed at the end of the touch panel device manufacturing process. However, the shield layer 70 can be formed at an arbitrary timing. For example, the board | substrate 1 in which the shield layer 70 was previously formed can also be used for the process after the island-shaped electrode part / first bridge wiring formation process S10. Moreover, you may arrange | position a shield layer formation process between the arbitrary processes to island-shaped electrode part and 1st bridge | bridging wiring formation process S10-protection board joining process S80.

また、前述した実施形態では、基板1の裏面1bにシールド層70を形成しているが、図3に示した変形例に係るタッチパネル装置100Aのように基板1の機能面1a側にシールド層70Aを形成する場合には、島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程S10に先立って、シールド層70Aを形成する工程と、絶縁膜80Aを形成する工程とを行う。この場合にも、シールド層70Aは、シールド層形成工程S90と同様の手法によって形成することができる。また、絶縁膜80Aの形成工程は、例えば絶縁膜形成工程S40と同様とすることができる。
また、前述した実施形態では、絶縁膜形成工程S40において、図10に示したように、平面視略矩形状の絶縁膜30を形成することとしたが、ブリッジ配線21の形成をさらに容易にするために絶縁膜30の形状を変更してもよい。
In the above-described embodiment, the shield layer 70 is formed on the back surface 1b of the substrate 1. However, the shield layer 70A is provided on the functional surface 1a side of the substrate 1 like the touch panel device 100A according to the modification shown in FIG. Is formed, the step of forming the shield layer 70A and the step of forming the insulating film 80A are performed prior to the island-shaped electrode portion / first bridge wiring formation step S10. Also in this case, the shield layer 70A can be formed by the same method as in the shield layer forming step S90. Further, the formation process of the insulating film 80A can be the same as the insulating film formation process S40, for example.
In the above-described embodiment, in the insulating film forming step S40, as shown in FIG. 10, the insulating film 30 having a substantially rectangular shape in plan view is formed. However, the formation of the bridge wiring 21 is further facilitated. Therefore, the shape of the insulating film 30 may be changed.

1…基板(タッチパネル基板) 1a…機能面 1b…裏面 10…X電極(第1電極) 11…ブリッジ配線(第1のブリッジ配線) 12…島状電極部 13…ポリアニリン被膜(第1のポリアニリン被膜) 20…Y電極(第2電極) 21…ブリッジ配線(第2のブリッジ配線) 22…島状電極部 23…ポリアニリン被膜(第2のポリアニリン被膜) 2…入力領域 30,80A…絶縁膜 30a…中央部 30b…端部 40…平坦化膜 50…保護基板 51…接着層 60…引き回し配線 60a…第1層 60b…第2層 61…ポリアニリン被膜(第3のポリアニリン被膜) 62…絶縁性保護膜 70,70A…シールド層(導電膜) 100,100A…タッチパネル装置 IJ…液滴吐出装置 1001…液滴吐出ヘッド 1002…X軸方向駆動モーター 1003…Y軸方向駆動モーター 1004…X軸方向駆動軸 1005…Y軸方向ガイド軸 1007…ステージ 1008…クリーニング機構 1009…基台 1015…ヒーター CONT…制御装置 P…基板 1021…液体室 1022…ピエゾ素子 1023…液体材料供給系 1024…駆動回路 1025…吐出ノズル S10…島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程 S20…第2層形成工程 S30…ポリアニリン被膜形成工程(第1のポリアニリン被膜形成工程) S40…絶縁膜形成工程 S50…第2のブリッジ配線形成工程 S60…ポリアニリン被膜形成工程(第2のポリアニリン被膜形成工程) S70…平坦化膜形成工程(保護膜形成工程) S80…保護基板接合工程(接着層形成工程) S90…シールド層形成工程(導電膜形成工程) 101…接着層 401…データ線駆動回路 402…接続端子 404…走査線駆動回路 405…配線 409…画素電極 410…素子基板 410a…画像表示領域 418…配向膜 420…対向基板 422…カラーフィルター 423…遮光膜(ブラックマトリクス) 425…共通電極 429…配向膜 450…液晶層 452…シール材 453…周辺見切り 500…液晶表示装置 1100…モバイル型パーソナルコンピューター 1101…表示部 1102…キーボード 1103…本体部 900…タッチパネル装置 910…基板 920…Y電極 930…X電極 940…粘着層 950…保護シート   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Board | substrate (touch panel board | substrate) 1a ... Functional surface 1b ... Back surface 10 ... X electrode (1st electrode) 11 ... Bridge wiring (1st bridge wiring) 12 ... Island-shaped electrode part 13 ... Polyaniline film (1st polyaniline film) 20 ... Y electrode (second electrode) 21 ... Bridge wiring (second bridge wiring) 22 ... Island-like electrode portion 23 ... Polyaniline coating (second polyaniline coating) 2 ... Input region 30, 80A ... Insulating film 30a ... Central portion 30b ... End portion 40 ... Flattening film 50 ... Protective substrate 51 ... Adhesive layer 60 ... Lead-out wiring 60a ... First layer 60b ... Second layer 61 ... Polyaniline coating (third polyaniline coating) 62 ... Insulating protective film 70, 70A ... shield layer (conductive film) 100, 100A ... touch panel device IJ ... droplet ejection device 1001 ... droplet ejection head 10 DESCRIPTION OF SYMBOLS 2 ... X-axis direction drive motor 1003 ... Y-axis direction drive motor 1004 ... X-axis direction drive shaft 1005 ... Y-axis direction guide shaft 1007 ... Stage 1008 ... Cleaning mechanism 1009 ... Base 1015 ... Heater CONT ... Control device P ... Substrate 1021 ... Liquid chamber 1022 ... Piezo element 1023 ... Liquid material supply system 1024 ... Drive circuit 1025 ... Discharge nozzle S10 ... Island-shaped electrode portion / first bridge wiring forming step S20 ... Second layer forming step S30 ... Polyaniline film forming step (first) 1 polyaniline film forming process) S40 ... insulating film forming process S50 ... second bridge wiring forming process S60 ... polyaniline film forming process (second polyaniline film forming process) S70 ... flattening film forming process (protective film forming process) S80 ... Protective substrate bonding process (adhesive layer type) S90 ... Shield layer forming step (conductive film forming step) 101 ... Adhesive layer 401 ... Data line driving circuit 402 ... Connecting terminal 404 ... Scanning line driving circuit 405 ... Wiring 409 ... Pixel electrode 410 ... Element substrate 410a ... Image display Area 418 ... Alignment film 420 ... Opposite substrate 422 ... Color filter 423 ... Light shielding film (black matrix) 425 ... Common electrode 429 ... Alignment film 450 ... Liquid crystal layer 452 ... Sealing material 453 ... Peripheral part-off 500 ... Liquid crystal display device 1100 ... Mobile type Personal computer 1101 ... Display unit 1102 ... Keyboard 1103 ... Main body unit 900 ... Touch panel device 910 ... Substrate 920 ... Y electrode 930 ... X electrode 940 ... Adhesive layer 950 ... Protective sheet

Claims (13)

タッチパネル基板と、
該タッチパネル基板の一方の面側に設けられ、互いに離間した複数の島状電極部と、
前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接する島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接する島状電極部間を接続し、前記島状電極部と一体的に形成された第2のブリッジ配線と、
前記第1のブリッジ配線と前記第2のブリッジ配線との間に設けられた絶縁膜とを有するとともに、
前記第1のブリッジ配線および前記第2のブリッジ配線のうち少なくとも一方の表面の少なくとも一部に、液相成膜法により成膜され、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜が設けられていることを特徴とするタッチパネル装置。
A touch panel substrate;
A plurality of island-shaped electrode portions provided on one side of the touch panel substrate and spaced apart from each other;
A first bridge wiring connecting between the island-shaped electrode portions adjacent in the first direction of the touch panel substrate;
A second bridge wiring that connects adjacent island electrode portions in a second direction different from the first direction, and is formed integrally with the island electrode portions;
Having an insulating film provided between the first bridge wiring and the second bridge wiring;
A polyaniline coating film formed by a liquid phase film formation method and made of polyaniline is provided on at least a part of at least one surface of the first bridge wiring and the second bridge wiring. Touch panel device.
前記ポリアニリン被膜は、インクジェット法により成膜されたものである請求項1に記載のタッチパネル装置。   The touch panel device according to claim 1, wherein the polyaniline film is formed by an inkjet method. 前記ポリアニリンは、下記式(1)で表されるものである請求項1または2に記載のタッチパネル装置。
Figure 2011039759
The touch panel device according to claim 1, wherein the polyaniline is represented by the following formula (1).
Figure 2011039759
前記ポリアニリンの重合度は、100以上100000以下である請求項1ないし3のいずれかに記載のタッチパネル装置。   The touch panel device according to any one of claims 1 to 3, wherein a degree of polymerization of the polyaniline is 100 or more and 100,000 or less. 前記ポリアニリン被膜の平均厚さは、0.04μm以上0.4μm以下である請求項1ないし4のいずれかに記載のタッチパネル装置。   5. The touch panel device according to claim 1, wherein an average thickness of the polyaniline coating is 0.04 μm or more and 0.4 μm or less. 前記第1のブリッジ配線、前記第2のブリッジ配線は、いずれも、ITO、IZO、IGZO、FTO、ZnO、AZOおよび、ATOよりなる群から選択される1種または2種以上の透明導電材料で構成されたものである請求項1ないし5のいずれかに記載のタッチパネル装置。   Each of the first bridge wiring and the second bridge wiring is made of one or more transparent conductive materials selected from the group consisting of ITO, IZO, IGZO, FTO, ZnO, AZO, and ATO. The touch panel device according to claim 1, which is configured. 前記複数の島状電極部の少なくとも中央部は、それぞれ同一面上に位置している請求項1ないし6のいずれかに記載のタッチパネル装置。   The touch panel device according to any one of claims 1 to 6, wherein at least central portions of the plurality of island-shaped electrode portions are respectively located on the same plane. タッチパネル基板の一方の面側に、互いに離間した複数の島状電極部を形成し、前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線を形成する島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程と、
液相成膜法により、前記第1のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成するポリアニリン被膜形成工程と、
前記ポリアニリン被膜で被覆された前記第1のブリッジ配線上に、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第2のブリッジ配線を形成する第2のブリッジ配線形成工程とを有することを特徴とするタッチパネル装置の製造方法。
A plurality of island-shaped electrode portions spaced apart from each other are formed on one surface side of the touch panel substrate, and a first bridge wiring is formed to connect the adjacent island-shaped electrode portions in the first direction of the touch panel substrate. An island-shaped electrode portion and a first bridge wiring forming step;
A polyaniline film forming step of forming a polyaniline film composed of polyaniline on the first bridge wiring by a liquid phase film forming method;
An insulating film forming step of forming an insulating film on the first bridge wiring covered with the polyaniline coating;
And a second bridge wiring forming step for forming a second bridge wiring for connecting the island-shaped electrode portions adjacent to each other in a second direction different from the first direction. Production method.
前記第2のブリッジ配線形成工程の後に、さらに、液相成膜法により、前記第2のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成する工程を有する請求項8に記載のタッチパネル装置の製造方法。   The touch panel device according to claim 8, further comprising a step of forming a polyaniline film made of polyaniline on the second bridge wiring by a liquid phase film forming method after the second bridge wiring forming step. Manufacturing method. タッチパネル基板の一方の面側に、互いに離間した複数の島状電極部を形成し、前記タッチパネル基板の第1の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第1のブリッジ配線を形成する島状電極部・第1のブリッジ配線形成工程と、
前記第1のブリッジ配線上に、絶縁膜を形成する絶縁膜形成工程と、
前記第1の方向と異なる第2の方向において隣接するそれぞれの島状電極部間を接続する第2のブリッジ配線を形成する第2のブリッジ配線形成工程と、
液相成膜法により、前記第2のブリッジ配線上に、ポリアニリンで構成されたポリアニリン被膜を形成するポリアニリン被膜形成工程とを有することを特徴とするタッチパネル装置の製造方法。
A plurality of island-shaped electrode portions spaced apart from each other are formed on one surface side of the touch panel substrate, and a first bridge wiring is formed to connect the adjacent island-shaped electrode portions in the first direction of the touch panel substrate. An island-shaped electrode portion and a first bridge wiring forming step;
An insulating film forming step of forming an insulating film on the first bridge wiring;
A second bridge wiring forming step of forming a second bridge wiring for connecting the island-shaped electrode portions adjacent in the second direction different from the first direction;
A method of manufacturing a touch panel device, comprising: forming a polyaniline film made of polyaniline on the second bridge wiring by a liquid phase film forming method.
前記ポリアニリン被膜を、インクジェット法により成膜する請求項8ないし10のいずれかに記載のタッチパネル装置の製造方法。   The method for manufacturing a touch panel device according to claim 8, wherein the polyaniline film is formed by an inkjet method. 請求項1ないし11のいずれかに記載のタッチパネル装置を備えることを特徴とする表示装置。   A display device comprising the touch panel device according to claim 1. 請求項12に記載の表示装置を備えることを特徴とする電子機器。   An electronic apparatus comprising the display device according to claim 12.
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