JP2010514685A - アリール置換ピラゾールアミド化合物の結晶形 - Google Patents
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Abstract
本発明は、化合物Iの新規な結晶、そのような新規な形態が含まれる医薬組成物およびp38キナーゼ関連症状(例えば、関節リウマチ)の治療方法、そのような新規な形態の使用を提供する。
Description
(引用出願)
本出願は、2006年12月20日に出願された米国仮出願番号60/875,892の優先権の利益を主張し、それは本明細書でそのまま引用により援用されている。
本出願は、2006年12月20日に出願された米国仮出願番号60/875,892の優先権の利益を主張し、それは本明細書でそのまま引用により援用されている。
本発明は一般に、N−(5−(シクロプロピルカルバモイル)−2−メチルフェニル)−5−メチル−1−(3−(トリフルオロメチル)ピリジン−2−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキサミドの結晶形に関する。本発明はまた、一般に、前記結晶形を含む医薬組成物、並びに該結晶形を炎症性疾患治療に用いる方法、およびそのような結晶形を得る方法にも関する。
米国特許出願公報第US−2005−0159424−A1に開示されている、式I:
の構造を有する化合物N−(5−(シクロプロピルカルバモイル)−2−メチルフェニル)−5−メチル−1−(3−(トリフルオロメチル)ピリジン−2−イル)−1H−ピラゾール−4−カルボキサミド、並びにそれの医薬的に許容される塩、プロドラッグ、溶媒和物、異性体、および/または水和物は、p38キナーゼ阻害剤として有効であり、またp38キナーゼ関連症状(例えば、関節リウマチ)の治療に用いられ得る。式Iの化合物は、本明細書で「化合物I」という。
化合物Iの製造過程、および化合物Iを用いる治療方法も、米国特許出願公報第2005/0159424A1に開示されている。この引用は本出願人に帰属し、また本明細書でそのまま引用により援用されている。特に、米国特許出願公報第2005/0159424A1はさらに、化合物Iを、その中の反応式1〜8(これらは特に製造方法に関して、本明細書で引用により援用されている)で開示されている反応順序により製造できることを開示する。
(発明の簡単な説明)
本発明の一つの形態では、化合物Iの新規な結晶形、およびそのような化合物Iの新規な結晶形を選択的に製造するプロセスが提供されている。
本発明の一つの形態では、化合物Iの新規な結晶形、およびそのような化合物Iの新規な結晶形を選択的に製造するプロセスが提供されている。
(定義)
特定の形態を特徴付けるために本明細書で用いられる名称(例えば、「N−2」)は、類似または同一の物理的および化学的特徴を有するいずれの他の任意の物質に関して限定して考慮されるべきではなく、むしろ、これらの命名は、本明細書中に提示されている、解析情報に従って解釈されるべき単なる識別子であると理解されるべきである。
特定の形態を特徴付けるために本明細書で用いられる名称(例えば、「N−2」)は、類似または同一の物理的および化学的特徴を有するいずれの他の任意の物質に関して限定して考慮されるべきではなく、むしろ、これらの命名は、本明細書中に提示されている、解析情報に従って解釈されるべき単なる識別子であると理解されるべきである。
本発明は、少なくともある部分において、化合物Iの結晶形を新規な物質として(特に医薬的に許容される形態で)提供する。本明細書で用いられるように、用語「医薬的に許容される」とは、正常な医学的判断の範囲内で、過度の毒性、刺激、アレルギー反応、または合理的な損益比に見合った他の合併症を伴わずに、ヒトおよび動物の組織と接触させるのに適した化合物、物質、組成物、および/または剤形をいう。ある好まれる形態において、化合物Iの結晶形は実質的に純粋な形である。
本明細書で用いられるように、「多形」とは、同一の化学組成を有するものの、結晶を形成する分子、原子、および/またはイオンが異なる空間配置を有する結晶形をいう。
本明細書で用いられるように、「溶媒和物」とは、結晶構造に組み込まれた溶媒分子をさらに含む、分子、原子、および/またはイオンの結晶形をいう。溶媒和物中の溶媒分子は、規則的配置および/または不規則的配置で存在し得る。溶媒和物は、量論溶媒分子量または非量論溶媒分子量を含み得る。例えば、非量論溶媒分子量の溶媒和物は、溶媒和物から溶媒が一部喪失した結果生じ得る。
本明細書で用いられるように、「非晶質の」とは、結晶性ではない分子、原子、および/またはイオンの固形物をいう。非結晶固形物は、明確なX線回析パターンを示さない。
本明細書で用いられるように、結晶形に関して用いられる「実質的に純粋」とは、化合物の重量に基づいて90重量%超(例えば化合物Iの、90、91、92、93、94、95、96、97、98および99重量%超、さらに約100重量%と同等)の純度を有する化合物を意味する。残りの物質には、化合物の他の形態および/または反応不純物および/またはその製造で生じる製造不純物が含まれる。例えば、化合物Iの結晶形が、90重量%超の純度を有する場合に実質的に純粋であると見なされ得て、それは当該技術分野において現時点で公知であり一般に受け入れられている方法によって測定され、その際に残りの10重量%未満の物質には、例えば化合物Iの他の形態および/または反応不純物および/または製造不純物が含まれる。
TGAによって評価される、本明細書で用いられる用語「無視できる重量減少」は、無溶媒(非溶媒和)結晶形の存在を示す。定量的観点から、この用語は、例えば請求項2が熱重量分析曲線により評価されていて、それが例えば図3で約180℃において重量減少≦0.028%を有する、というように定義される。
水分収着等温線によって評価される、本明細書で用いられる用語「無視できる%水の取り込み」は、試験される型が非吸湿性であることを示す。
(発明の詳細な説明)
本発明は、化合物Iの新規な結晶形に関し、それは本明細書で記載され、評価されている。
本発明は、化合物Iの新規な結晶形に関し、それは本明細書で記載され、評価されている。
特に本発明は、化合物IのN−2結晶形に関する。
一水和物H−1は低湿度下で不安定であり、加熱下で(90℃、30m)無溶媒形、T1H1(N−7)へ、〜15%(1.6Å)の結晶a軸収縮とともに、トポタクチカルに(topotactically)変換する。
ある形態において、無溶媒N−2型をBuOAc、iPrOAc、およびアセトンから結晶化し、一方で他の無溶媒N−5、N−6およびN−7型を融解物から得た。
N−2は25℃および50℃で、最も安定な多形(無溶媒)体である。25℃および50℃でのスラリー変換の研究、および融解データに基づくと:N−2:N−5、およびN−2:N−6は遷移温度50℃〜204℃でエナンチオトロピー型(enantiotropic)であり;N−5:N−6はより安定であるN−5とのモノトロピー型(monotropes)であり;N−7はN−2、N−5およびN−6とのでモノトロピー型(monotropic)であり、従って192℃より低いあらゆる温度でより不安定である。H−1から、むしろ、より安定なN−2ではなく、計量的に類似な(metrically similar)N−7構造への高温での脱水/変換は、おそらくトポタクチク(topotactic)な核生成に関連している。
ブタノール/水の混合物におけるスラリー変換研究は、RH≦16%でN−2がより安定な形態であり、またRH≧30%ではH−1がより安定な形態であることを示す。脱水H−1(おそらくN−7)の水分収着データは、RHが上昇する過程において、75〜95%RHの間でサンプルが部分的に再水和してH−1になることを示す。下降過程において、25%RHでH−1は部分的に脱水する(おそらくN−7になる)。有効データは、平衡N−2/H−1変換が以下のRH範囲であることを証明する:25%<RHeq≦30%。動的要素にもかかわらず、RH<30%でウェットケーキ(Wetcakes)は脱水される。
一水和物の他に、化合物Iは有機溶媒の多くとも溶媒和物を形成する。溶媒和物の3型ファミリー(EtOAc溶媒和物に代表される、EA.5−3型;PrOAc溶媒和物、PA.5−3型;MeCN溶媒和物、AN−3型;およびCH2CL2溶媒和物、DC−3)は、結晶学的反復(crystallographic a repeat)に沿って、大きな疎水性包接チャネルを有する(V〜215Å3)。(1:1)メタノレート、M−4型、は比較的安定であることが示され;構造が−50℃で測定された場合に溶媒部位は完全に占有され、また構造が82℃で再測定された場合でもなお50%が占有される。THFおよび水が一緒の、エタノール溶媒和物(E−8)、イソプロパノール溶媒和物(IPA−10)、第2(second)アセトニトリル型(AN−11)、および3つの混合溶媒和物(SA−9、SB−12、SC−13)の単結晶構造が決定されている。
N−2およびH−1は、50℃/75%RHで開放しておよび密閉して少なくとも4週間貯蔵された場合で、さらにHILに少なくとも1週間さらされた場合に、固体状態で化学的および物理的に安定である。N−2の水溶解度は≧28μg/mLであり、一方でH−1の溶解度は7μg/mLである。モンキーPKクロスオーバー(monkey PK crossover)研究(n=4)は、この〜4x溶解度比率(ratio)が、H−1と比較してN−2におおよそ2倍大きな暴露(exposure)をもたらすことを示した。H−1の乾燥研究は、乾燥器を40℃で維持した場合に、2.4〜3.4%RHではH−1がN−7に変換し、一方で20〜30%RHでは変換が観測されなかったことを示した。平衡RH研究に基づけば、処理(handling)、製剤化または貯蔵する間、N−2は水和物形成を起こすことができる。しかし、高温および高湿(例えば、50℃/75%RH)で、一般的なフィラー賦形剤の存在下、N−2を3週間またはそれ以上貯蔵した研究では、変換を示さなかった。
結晶形のサンプルは、単結晶形について優勢な(dominant)量、および一またはそれ以上の適宜存在する他の結晶形の少量の存在を示す、実質的に純粋な相均一性で提供され得る。サンプルにおける一以上の結晶形の存在は、粉末X線回折(PXRD)または固体核磁気共鳴分析法(SSNMR)のような技術によって決定することができる。例えば、実験で測定されたPXRDパターンとシミュレーションされたPXRDパターンとの比較における余分なピークの存在は、サンプル内に一以上の結晶形があることを示し得る。シミュレーションされたPXRDは、単結晶X線データから計算できる。Smith, D.K., “A FORTRAN Program for Calculating X-Ray Powder Diffraction Patterns,” Lawrence Radiation Laboratory, Livermore, California, UCRL-7196 (April 1963) を参照。
好ましくは、結晶形は、シミュレーションされたPXRDパターンに存在しない余分なピークから生じる、実験で測定されたPXRDパターンにおける全ピーク面積の10%未満、好ましくは5%未満、そしてより好ましくは2%未満によって示されるような、実質的に純粋な相均一性を有する。最も好ましいのは、結晶形が、シミュレーションされたPXRDパターンに存在しない余分なピークから生じる、実験で測定されたPXRDパターンにおいて全ピーク面積の1%未満である、実質的に純粋な相均一性を有することである。
結晶形の製造についての手順は、当該技術分野で周知である。結晶形は、様々な方法(例えば、適当な溶媒からの結晶化または再結晶化、昇華、融解からの成長、固体以外から固体への状態変換、超臨界流体からの結晶化、および噴射スプレーが含まれる)によって製造され得る。溶媒混合物から結晶形の結晶化または再結晶化をするための技術には、例えば、溶媒の蒸発、溶媒混合物の温度の低下、分子および/または塩の過飽和溶媒混合物の結晶シーディング(crystal seeding)、溶媒混合物の凍結乾燥、および溶媒混合物への貧溶媒(逆溶媒(countersolvent))の付加が含まれる。
形態は、単結晶X線回折を用いて評価および識別してもよく、それは一定の分析温度での形態の単結晶の単位格子測定に基づいている。単位格子の詳細な記載は、Stout & Jensen, X-Ray Structure Determination: A Practical Guide, Macmillan Co., New York (1968), Chapter 3 で提供され、それは単位格子およびそれらの使用に関して本明細書で引用により組み込まれている。あるいは、結晶格子内の空間関係における原子の固有配置を、測定された部分原子座標に従って評価してもよい。結晶構造を評価する別の方法は、実験によるまたは観測された回折プロファイルが、純粋な粉末物質を表すシミュレーションされたプロファイルと比較される(両者は同一の分析温度で行われる)粉末X線回折分析による方法、および一連の2θ値を特徴とする対象の形態についての測定による方法である。
形態を評価する他の方法には、例えば、固体核磁気共鳴(SSNMR)、示差走査熱量測定、および熱重量分析などが用いられ得る。また、これらのパラメータを組み合わせて用いて、対象の形態を評価してもよい。そのような方法は、当業者に周知である。
本発明の一形態において、化合物Iの結晶形は、実質的に純粋な形態で提供される。化合物Iのこの結晶形は医薬組成物に用いられ得て、それは、例えば賦形剤、担体、および他の原薬または異なる分子構造の活性化学部分の一つからなる群から選択される、一またはそれ以上の他の組成物が適宜含まれ得る。
好ましくは、結晶形は、シミュレーションされたPXRDパターンに存在しない余分なピークから生じる、実験で測定されたPXRDパターンにおける全ピーク面積の10%未満、好ましくは5%未満、そしてより好ましくは2%未満によって示されるような、実質的に純粋な相均一性を有する。最も好ましいのは、結晶形が、シミュレーションされたPXRDパターンに存在しない余分なピークから生じる、実験で測定されたPXRDパターンにおいて全ピーク面積の1%未満である、実質的に純粋な相均一性を有することである。
別の形態において、本質的に化合物IのN−2結晶形からなる組成物が提供される。この形態の組成物には、組成物中の化合物Iの重量に基づいて、化合物IのN−2結晶形が少なくとも90重量%が含まれ得る。
反応不純物および/または製造不純物の存在は、当該技術分野で周知の分析技術(例えば、クロマトグラフィー、核磁気共鳴分析法、質量分析または赤外分光法など)によって決定され得る。
結晶形は、様々な方法(例えば、適当な溶媒からの結晶化または再結晶化、昇華、融解からの成長、固体以外から固体への状態変換、超臨界流体からの結晶化、および噴射スプレー)によって製造され得る。溶媒混合物から結晶形の結晶化または再結晶化をするための技術には、例えば、溶媒の蒸発、溶媒混合物の温度の低下、分子および/または塩の過飽和溶媒混合物の結晶シーディング(crystal seeding)、溶媒混合物の凍結乾燥、および溶媒混合物への貧溶媒(逆溶媒(countersolvent))の付加が含まれる。「貧溶媒」は、化合物が低溶解度を有する溶媒である。結晶を製造するための適当な溶媒には、極性および非極性溶媒が含まれる。ハイスループット結晶化技術は、多形のような結晶形の製造に用いられ得る。
多形を含む薬物の結晶、製造方法、および薬物の結晶の評価は、Solid-state Chemistry of Drugs, S. R. Byrn, R.R. Pfeiffer, and J.G. Stowell, 2nd Edition, SSCI, West Lafayette, Indiana (1999) において議論されている。
溶媒を用いる結晶化技術のために、溶媒の選択は一般に一つまたはそれ以上の因子(例えば、化合物の溶解度、結晶化技術、および溶媒の蒸気圧)に依存する。溶媒を組み合わせて用いてもよく;例えば、化合物は第一の溶媒の中に可溶化されて溶液を得ることができ、続いて貧溶媒の付加によって溶液中の化合物の溶解度を減少させ、結晶(特に興味のある結晶のタイプおよびサイズ)の形成を得ることができる。
化合物Iの目的の形態を作るにあたり、多段階(multi−step)プロセスを用いて、化合物Iの様々な形態および純度を形成し得て、それにより目的の形態(例えば、化合物IのN−2型)を得るという最終目的をなし得る。
化合物Iのある特定の結晶を製造する一つの方法として、スラリーを与えるために化合物IのH−1型は適当な溶媒中で懸濁および/または撹拌され、該スラリーは加熱されて溶解を促進し得る。用語「スラリー」は、本明細書中で用いられるように、化合物Iの飽和溶液を意味し、それはまた化合物Iの他の多形の付加的な量も含み、所定の温度で化合物Iおよび溶媒の不均一な混合物を与え得る。その際の適当な溶媒には、本明細書で開示されているように、例えば、極性非プロトン性溶媒および極性プロトン性溶媒、並びに2つまたはそれ以上のこれらの混合物が含まれる。適切な極性非プロトン性溶媒の特定の例には、これらに限定されないが、アセトニトリル、テトラヒドロフラン(THF)、ジクロロメタン、アセトン、ジメチルホルムアミド、およびジメチルスルホキシドが含まれる。
結晶化を促進するために、種晶はいずれの結晶化混合物にも加えられ得る。当業者にとって明確であるように、種晶の添加は、特定の結晶形の成長を調節する手段として、または結晶性生成物の粒径分布を調節する手段として用いられる。従って、必要な種晶の量およびタイプの計算は、利用できる種晶のサイズおよび平均的な生成物粒子の目的のサイズに依存し、これは例えば、"Programmed cooling of batch crystallizers," J. W. Mullin and J. Nyvlt, Chemical Engineering Science, 1971, 26:369-377 に記載されている。一般に、小さなサイズの種晶(例えば、30ミクロン未満の範囲内で)は、バッチにおける結晶の成長を効果的に調節するのに必要である。小さなサイズの種晶は、大きな結晶のふるい分け、粉砕、または微粉化、あるいは溶液の微結晶化によって生成し得る。注意を払うべきことは、結晶の粉砕または微粉化は、目的の結晶形との結晶化度においていかなる変化(すなわち、非結晶質のまたは別の多形への変化)ももたらさないことである。この調節は、ラマンのような適当な技術でモニター(monitoring)することによって行うことができる。
カップリング反応の終わりには、一水和物型(H−1型)を得る。
次いで混合物は、例えば減圧下で(約30トール)、温度約50℃で蒸留し、室温(約20〜22℃)に冷却して濃縮してもよい。
冷却混合物を減圧下でろ過することができ、単離した固形物を水で洗浄することができる。次いで、該物質を窒素でパージしながら乾燥し、目的の結晶形KF(Karl Fisher)を得て、エンドポイントでは1:1水和物(H−1型)に相当した。ラマンを用いて、形態変化をモニターした。n−ブタノール/シクロヘキサン(9:1、10L/kg)中のH−1物質をスラリーした。この混合物をスラリーして、それをTURRAX(湿式ミル)の中へ通す。ヘプタンを加えた(10L/kg)。温度を室温(20〜22℃)に保ち、ろ過した。ラマンでモニターした。
単離した固形物は、生成物の好ましい結晶形が形成されたことを保証するために、適当な分光技術または分析技術(例えば、当業者に周知のPXRDなど)によって分析することができる。得られた結晶形は、典型的に約70重量%を超える量の単離収率で生成されるが、結晶化手順において最初に用いた化合物Iの重量に基づき、90重量%を超えることが好ましい。必要な場合は、生成物の塊を崩すために、生成物を同時粉砕するかまたはメッシュスクリーンを通す(例えば、メッシュサイズが12−18スクリーンの範囲内を用いる)ことができるが、メッシュスクリーンを用いることは好ましくはない。
あるいは、結晶形は、蒸留または溶媒添加技術(例えば、当業者に周知であるもの、および/または本明細書に引例で記載されているもの)によって得ることができる。この目的のための適当な溶媒には、極性プロトン性溶媒(例えば、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、およびイソプロパノール))、非極性プロトン性溶媒(上述したものが含まれる)、およびケトン(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、およびメチルイソブチルケトン)も含まれる、本明細書で記載されているいずれの溶媒が含まれる。
一般的な手引きとして、反応混合物をろ過して望ましくない不純物、無機塩類などを全て除去し、続いて反応溶媒または結晶化溶媒で洗浄することができる。得られた溶液を濃縮して、過剰溶媒またはガス構成成分を除去することができる。蒸留が用いられるならば、収集される留出物の最終的な量は、プロセス要素(factor)(例えば、容器サイズ、攪拌能力などが含まれる)に依存して変わり得る。適当な温度(例えば、18〜20℃の範囲内)で行われ得る。一般的な手引きとして、反応溶液を最初の体積の約1/10まで蒸留することができ、その後で溶媒交換を行うことができる。溶媒交換は、上述されているように、n−ブタノール/シクロヘキサン、その後にヘプタンを用いて行うことができる。
反応の程度および生成物の重量%を決定するために、反応は、当業者に周知である標準のプロセス技術に従って、サンプルおよびアッセイすることができる。必要ならば、反応濃度を最適化するために、さらなる反応溶媒を加えるか、または除去することができる。好ましくは、典型的にスラリーの生じる濃度である、最終濃度が約50重量%に調節される。
反応混合物を蒸留せずに、溶媒を直接、反応容器に加えることが好まれる場合がある。この目的のために好ましい溶媒は、溶媒交換に関連して上で議論したように、最終的に結晶格子に参加し得るものである。最終濃度は目的の純度、回収率などに依存して変わり得るが、溶液中の化合物Iの最終濃度は約4%〜約7%が好ましい。反応混合物は、溶媒を加えた後に攪拌し、同時に加温してもよい。一例として、反応混合物を約70℃に加温しながら約1時間攪拌することができる。反応は、好ましくは熱い状態でろ過し、反応溶媒、加えた溶媒またはそれらの組み合わせのいずれかで洗浄する。種晶は、結晶化を開始させるために、いずれの結晶化溶液にも加えることができる。
本明細書に記載されている様々な形態は、当業者に周知である、様々な分析技術の使用を通じて、お互いから区別できる。そのような技術には、これらに限定されないが、粉末X線回折(PXRD)および/または熱重量分析(TGA)が含まれる。特に、形態は単結晶X線回折を用いて評価および識別することができ、それは一定の分析温度での、所定の形態の単結晶の単位格子測定に基づいている。単位格子の詳細な記載は、Stout & Jensen, X-Ray Structure Determination: A Practical Guide, Macmillan Co., New York (1968), Chapter 3 で提供され、そのような技術に関してそれは本明細書で引用により組み込まれている。
あるいは、結晶格子内の空間関係における固有の原子配置を、測定された部分原子座標に従って評価してもよい。結晶構造を評価する別の方法は、回折プロファイルが純粋な粉末物質を表すシミュレーションされたプロファイルと比較される(両者は同一の分析温度で行われる)粉末X線回折分析による方法、および一連の2θ値(通常は4つまたはそれ以上)を特徴とする対象の形態についての測定による方法である。
形態を評価する他の方法(例えば、固体核磁気共鳴(SSNMR)分光法、示差走査熱量測定(DSC)、サーモグラフィ、および結晶もしくは非結晶の形態の肉眼的検査)も用いられ得る。またこれらのパラメータを組み合わせて用いて、対象の形態を評価してもよい。
X線回折パターンが、用いられた測定条件に依存する測定誤差と共に得られ得ることは、当業者が認識している。特に、X線回折パターンにおける強度が、用いられた測定条件および結晶の形態に依存して変動し得ることは、一般に周知である。さらに理解されるべきことは、相対強度もまた、実験条件に依存して変化し得ることであり、従って、強度の正確な順は考慮されるべきではない。また、通常のX線回折パターンについての回折角の測定誤差は、典型的に約0.2%またはそれ未満、好ましくは約0.1%であり(本明細書で後に議論するように)、前述の回折角に関してその程度の測定誤差は考慮されるべきである。従って、理解されるべきことは、本発明の結晶形が、本明細書で開示された添付図に描かれているX線回折パターンと完全に同一のX線回折パターンを提供する結晶形に限定されないということである。添付図に開示されているのと実質的に同一のX線回折パターンを提供するいずれの結晶形も、本発明の範囲内にある。この文脈において、「実質的に同一」とは、通常のX線回析パターンについての回折角の測定誤差が典型的に約±0.2°またはそれ未満、好ましくは約±0.1°またはそれ未満であることを意味する。粉末パターンにおけるピークは、この範囲内で水平に観測され、但し垂直方向の高さは異なり得る。X線回折パターンの実質的同一性を確認する能力は、当業者の範囲内にある。
X線回折パターンが、用いられた測定条件に依存する測定誤差と共に得られ得ることは、当業者が認識している。特に、X線回折パターンにおける強度が、用いられた測定条件および結晶の形態に依存して変動し得ることは、一般に周知である。さらに理解されるべきことは、相対強度もまた、実験条件に依存して変化し得ることであり、従って、強度の正確な順は考慮されるべきではない。また、通常のX線回折パターンについての回折角の測定誤差は、典型的に約0.2%またはそれ未満、好ましくは約0.1%であり(本明細書で後に議論するように)、前述の回折角に関してその程度の測定誤差は考慮されるべきである。従って、理解されるべきことは、本発明の結晶形が、本明細書で開示された添付図に描かれているX線回折パターンと完全に同一のX線回折パターンを提供する結晶形に限定されないということである。添付図に開示されているのと実質的に同一のX線回折パターンを提供するいずれの結晶形も、本発明の範囲内にある。この文脈において、「実質的に同一」とは、通常のX線回析パターンについての回折角の測定誤差が典型的に約±0.2°またはそれ未満、好ましくは約±0.1°またはそれ未満であることを意味する。粉末パターンにおけるピークは、この範囲内で水平に観測され、但し垂直方向の高さは異なり得る。X線回折パターンの実質的同一性を確認する能力は、当業者の範囲内にある。
(有用性)
本発明の新規な結晶形は、p38キナーゼ活性の選択的阻害剤であり、特にイソ型のp38αおよびp38βに対してである。従って、本発明の新規な結晶形は、p38キナーゼ活性と関連する症状を治療するのに有用である。そのような症状には、サイトカインレベルがp38による細胞内シグナル伝達の結果として調節される疾患なども含まれ、特に、サイトカインIL−1、IL−4、IL−8、およびTNF−αの過剰産生が関連する疾患が含まれる。本明細書で用いられるように、用語「治療」とは、すぐに効くまたは予防的な処置(例えば、疾患または障害の発症を阻害するかまたは遅らせる、および症状または病状の全部または部分的低下をもたらす、並びに/あるいは疾患または障害および/またはその症状を軽減、寛解、低下または治療する、ことが意図されている処置)の、一方または両方を包含する。本明細書で、「p−38α/βキナーゼ」阻害に関する言及がされている場合、これはp38αおよび/またはp38βキナーゼのいずれか一方が阻害されていることを意味する。従って、p−38α/βキナーゼ阻害に関するIC50値への言及は、その化合物が、p38αおよびp38βキナーゼの、少なくとも一つまたは両方を阻害するために有用であることを意味する。
本発明の新規な結晶形は、p38キナーゼ活性の選択的阻害剤であり、特にイソ型のp38αおよびp38βに対してである。従って、本発明の新規な結晶形は、p38キナーゼ活性と関連する症状を治療するのに有用である。そのような症状には、サイトカインレベルがp38による細胞内シグナル伝達の結果として調節される疾患なども含まれ、特に、サイトカインIL−1、IL−4、IL−8、およびTNF−αの過剰産生が関連する疾患が含まれる。本明細書で用いられるように、用語「治療」とは、すぐに効くまたは予防的な処置(例えば、疾患または障害の発症を阻害するかまたは遅らせる、および症状または病状の全部または部分的低下をもたらす、並びに/あるいは疾患または障害および/またはその症状を軽減、寛解、低下または治療する、ことが意図されている処置)の、一方または両方を包含する。本明細書で、「p−38α/βキナーゼ」阻害に関する言及がされている場合、これはp38αおよび/またはp38βキナーゼのいずれか一方が阻害されていることを意味する。従って、p−38α/βキナーゼ阻害に関するIC50値への言及は、その化合物が、p38αおよびp38βキナーゼの、少なくとも一つまたは両方を阻害するために有用であることを意味する。
p−38α/βキナーゼ阻害剤としての活性を考慮して、本発明の新規な結晶形はp−38関連症状(これらに限定されないが、炎症性疾患、自己免疫疾患、破壊的な(destructive)骨障害、増殖性疾患、血管新生障害、感染病、神経変性疾患、およびウィルス疾患が含まれる)を治療するのに有用である。
特に、本発明の新規な結晶形が用いられ得る、具体的な症状または疾患には、これらに限定されないが、膵炎(急性もしくは慢性)、喘息、アレルギー、成人呼吸窮迫症候群、慢性閉塞性肺疾患、糸球体腎炎、関節リウマチ、全身性エリテマトーデス、強皮症、慢性甲状腺炎、グレーブス病、自己免疫性胃炎、糖尿病、自己免疫性溶血性貧血、自己免疫性好中球減少症、血小板減少症、アトピー性皮膚炎、慢性活動性肝炎、重症筋無力症、多発性硬化症、炎症性腸疾患、潰瘍性大腸炎、クローン病、乾癬、移植片対宿主拒絶反応、エンドトキシンにより誘発される炎症反応、結核症、アテローム性動脈硬化症、筋肉変性、悪液質、乾癬性関節炎、ライター症候群、痛風、外傷性関節炎、風疹性関節炎、急性滑膜炎、膵β細胞疾患;巨大(massive)好中球浸潤を特徴とする疾患;リウマチ様脊椎炎、痛風性関節炎および他の関節炎の症状、脳マラリア、慢性炎症性肺疾患、珪肺症、肺サルコイドーシス(pulmonary sarcoisosis)、骨吸収疾患(bone resorption disease)、同種移植の拒絶反応、感染症による発熱および筋痛、感染症に二次的な悪液質、メロイド(myeloid)形成、瘢痕組織の形成、潰瘍性大腸炎、胸やけ(pyresis)、インフルエンザ、骨粗しょう症、変形性関節炎および多発性骨髄腫関連性の骨障害、急性骨髄性白血病、慢性骨髄性白血病、転移性黒色腫、カポジ肉腫、多発性骨髄腫、敗血症、敗血症ショック、および細菌性赤痢;アルツハイマー病、パーキンソン病、脳虚血、または外傷性障害が原因の神経変性疾患;血管形成障害(例えば、固形腫瘍、眼血管新生、および幼児血管腫(infantile haemangiomas)が含まれる);ウィルス疾患(例えば、急性肝炎感染症(例えば、A型肝炎、B型肝炎、およびC型肝炎が含まれる)、CMV網膜炎、AIDS、ARC、または悪性腫瘍、およびヘルペスが含まれる);発作、心筋虚血、発作心臓発作における虚血、臓器ハイポシア(organ hyposia)、血管肥厚化、心臓および腎臓の再潅流障害、血栓症、心肥大、トロンビン誘発性血小板凝集、内毒血症および/または毒素性ショック症候群、並びにプロスタグランジンエンドペルオキシド合成酵素−2に関連する症状、が含まれる。
また、本発明の新規な結晶性p38阻害剤は、誘発性炎症促進性タンパク質(例えば、プロスタグランジンエンドペルオキシド合成酵素−2(PGHS−2)、これはまた、シクロオキシゲナーゼ−2(COX−2)とも呼ばれる)の発現を阻害する。従って、さらなるp38関連症状には、浮種、痛覚消失、発熱、および痛み(例えば、神経筋痛、頭痛、癌が原因の痛み、歯痛、および関節炎痛)が含まれる。本発明の結晶形はまた、獣医学のウィルス感染症(例えば、レンチウィルス感染症(例えば、これに限定されないがウマ伝染性貧血ウィルスが含まれる));または、レトロウィルス感染症(例えば、ネコ免疫不全ウィルス、ウシ免疫不全ウィルス、およびイヌ免疫不全ウィルスが含まれる)を治療するのにも用いることができる。
用語「p38関連症状」または「p38関連疾患または障害」が本明細書で用いられる場合、それぞれは、詳細に繰り返すように上述した全ての症状を、並びにp38キナーゼ活性の影響を受ける他のいずれの症状をも包含することが意図される。
従って本発明はそのような症状の治療方法を提供し、その治療方法は少なくとも一つの本発明の新規な結晶形の有効量を、これが必要な被験者に投与することを特徴とする。p38キナーゼ関連症状の治療方法は、本発明の新規な結晶形を、単独で、あるいはお互いの結晶形と組み合わせておよび/またはそのような症状を治療する上で有用である他の適当な治療薬と組み合わせて、投与することを特徴とし得る。そのような他の治療薬の典型例には、副腎皮質ステロイド、ロリプラム、カルフォスチン、CSAID、4−置換イミダゾ[1,2−A]キノキサリン(米国特許第4,200,750号に開示されている);インターロイキン−10、グルココルチコイド、サリチル酸、一酸化窒素、および他の免疫抑制剤;核移行インヒビター(例えば、デオキシスパガリン(DSG));非ステロイド系抗炎症性薬物(NSAID)(例えば、イブプロフェン、セレコキシブ、およびロフェコキシブ);ステロイド(例えば、プレドニゾンまたはデキサメタゾン);抗ウィルス薬(例えば、アバカビル);抗増殖性剤(例えば、メトトレキセート、レフルノミド、FK506(タクロリムス、プログラフ(Prograf));細胞毒性薬(例えば、アザチオプリン(azathiprine)およびシクロホスファミド);TNF−α阻害剤(例えば、テニダップ)、抗TNF抗体もしくは可溶性TNF受容体、およびラパマイシン(シロリムスまたはラパミューン)、またはそれらの誘導体が含まれる。
上記の他の治療薬は、本発明の新規な結晶形と組み合わせて用いられる場合に、例えば、医師用卓上教科書(PDR)で示される量で、または特に断りがなければ当業者によって決定される量で用いられ得る。本発明の方法において、そのような他の治療薬を、本発明の化合物の投与より前に、同時にまたはその後に投与することができる。
本発明はまた、p38−キナーゼ関連症状(例えば上述したような、TNF−α、IL−1および/またはIL−8介在症状が含まれる)を治療することのできる、本発明の新規な結晶形が含まれる医薬組成物も提供する。本発明の組成物は、上述した他の治療薬を適宜含むことができ、医薬製剤の分野で周知の技術によって製剤できる(例えば、通常の固体もしくは液体ビヒクルまたは希釈剤、並びに望ましい投与形態に適切なタイプの医薬品添加物(例えば、賦形剤、結合剤、防腐剤、安定剤、香味剤など)を用いる)。
本発明の新規な結晶形は、治療する症状に適切ないずれかの方法によって投与することができ、それは部位特異的治療または送達する薬物の量の必要性に依存し得る。送達の他の様式も考慮されているが、局所性投与は一般に皮膚関連疾患にとって好ましく、また組織的処置は癌性または前癌性の症状にとって好ましい。例えば、該化合物は、経口的に(例えば、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤、または液体製剤(例えば、シロップ剤が含まれる)の形で);局所的に(例えば、液剤、懸濁剤、ゲル剤、または軟膏剤の形で);舌下で;頬内に;非経口的に(例えば、皮下、静脈内、筋肉内、または胸骨内の注射または注入の技術による(例えば、滅菌注射可能な水性または非水性の液剤または懸濁剤));鼻腔的に(例えば、吸入スプレーによる);局所的に(例えば、クリーム剤または軟膏剤の形で);直腸的に(例えば、坐剤の形で);または、リポソーム的に送達することができる。非毒性の医薬的に許容されるビヒクルまたは希釈剤が含まれる用量単位製剤を投与してもよい。該化合物は、即時放出または持続放出に適当な形態で投与することができる。即時放出または持続放出は適当な医薬組成物、あるいは特に持続放出の場合に、皮下インプラントまたは浸透圧ポンプのようなデバイスを用いて達成することができる。
錠剤/カプセルが好ましい。
局所性投与のための典型的な組成物には、局所的な担体(例えば、プラスチベース(PLASTIBASE)(登録商標)(ポリエチレンでゲル化した鉱油))が含まれる。
経口投与のための典型的な組成物には、懸濁剤(これには、例えばバルクを分けるための微結晶セルロース、懸濁化剤としてのアルギニン酸またはアルギニン酸ナトリウム、増粘剤としてのメチルセルロース、および甘味剤または芳香剤(例えば、当該技術分野において周知のもの)が含まれ得る);および即時放出錠剤(これには、例えば微結晶セルロース、リン酸ジカルシウム、デンプン、ステアリン酸マグネシウム、および/またはラクトース、および/または他の賦形剤、結合剤、増量剤、崩壊剤、希釈剤、および滑沢剤(例えば、当該技術分野において知られているもの)が含まれ得る)が含まれる。本発明の化合物はまた、舌下および/または頬側投与(例えば、成型、圧縮、または凍結乾燥した錠剤を用いる)によって経口的に送達することができる。典型的な組成物には、速く溶解するための希釈剤(例えば、マンニトール、ラクトース、スクロース、および/またはシクロデキストリン)が含まれ得る。また、そのような製剤には、高分子賦形剤(例えば、セルロース(アビセル(登録商標))またはポリエチレングリコール(PEG));粘膜接着を助けるための賦形剤(例えば、ヒドロキシプロピルセルロース(HPC)、ヒドロキシプロピルメチルセルロース(HPMC)、カルボキシメチルセルロースナトリウム(SCMC)、および/または無水マレイン酸共重合体(例えば、ガントレツ(GANTREZ)(登録商標));および、放出を制御するための薬剤(例えば、ポリアクリル酸共重合体(例えば、カルボポール(CARBOPOL)934(登録商標))も含まれ得る。滑沢剤、流動促進剤、芳香剤、着色剤、および安定化剤もまた、製造および使用を容易にするために加えることができる。
鼻エアロゾルまたは吸入投与のための典型的な組成物には液剤(例えば、ベンジルアルコール、または他の適当な保存剤、吸収および/またはバイオアベイラビリティを高めるための吸収促進剤、および/または他の可溶化剤もしくは分散剤(例えば、当該技術分野において周知のもの)が含まれ得る)が含まれる。
非経口投与のための典型的な組成物には、注射可能な液剤または懸濁剤(これらには例えば、適当な非毒性の非経口的に許容される希釈剤もしくは溶媒(例えば、マンニトール、1,3−ブタンジオール、水、リンガー溶液、生理食塩液)、または他の適当な分散剤もしくは湿潤剤および懸濁化剤(例えば、合成されたモノグリセリドまたはジグリセリド、および脂肪酸(例えば、オレイン酸))が含まれ得る)が含まれる。
直腸投与のための典型的な組成物には、坐剤(これには例えば、適当な非刺激性の賦形剤(例えば、ココアバター、合成グリセリドエステル、またはポリエチレングリコールであり、それらは通常の温度では固体であるが、直腸腔中で液化しおよび/または溶解して薬物を放出する)が含まれ得る)が含まれる。
本発明の新規な結晶形の有効量は当業者によって決定され得て、この有効量は1日当たり活性化合物が約0.05〜100mg/体重kgの哺乳動物にとっての典型的な投与量を含み、これを単回投与でまたは個別の分割投与の形態で(例えば、1日当たり1〜4回)投与することができる。いずれの特定の被験者においても、具体的な用量レベルおよび投与の頻度は変わり得て、また様々な要素(例えば、用いられる具体的な化合物の活性、その化合物の代謝的な安定性および作用の長さ、被験者の種類、年齢、体重、通常の健康、性別および食事、投与の様式および時間、排泄の割合、薬物の組み合わせ、並びにある症状の激しさが含まれる)に依存することが、理解される。治療にとって好ましい被験者には動物が含まれ、哺乳動物(例えば、ヒト)および家畜(例えば、イヌ、ネコ、ウマなど)が最も好ましい。従って、用語「被験者」が本明細書で用いられる場合、この用語はp38酵素レベルの媒介によって影響を受ける全ての被験者(最も好ましいのは哺乳動物)を含むことが意図される。
本発明の新規な結晶形(例えば、本明細書の実施例に記載されている化合物が含まれる)を、一またはそれ以上の下記に記載されるアッセイによって試験することができ、p38α/β酵素およびTNF−αの阻害剤としての活性を示すことができる。
(生物学的アッセイ)
p38キナーゼの生成
ヒトp38α、βおよびγのイソ型のcDNAを、PCRによってクローニングした。これらのcDNAを、pGEX発現ベクター(ファルマシア社)中でサブクローニングした。GST−p38融合タンパク質を大腸菌中で発現させ、グルタチオンアガロースを用いてアフィニティークロマトグラフィーにより細菌ペレットから精製した。p38融合タンパク質を、恒常的活性型MKK6と一緒にインキュベートすることによって活性化した。活性なp38を、アフィニティークロマトグラフィーによってMKK6から分離した。恒常的活性型MKK6は、Raingeaud, et al. [Mol. Cell. Biol., 1247-1255 (1996)]に従って生成した。
p38キナーゼの生成
ヒトp38α、βおよびγのイソ型のcDNAを、PCRによってクローニングした。これらのcDNAを、pGEX発現ベクター(ファルマシア社)中でサブクローニングした。GST−p38融合タンパク質を大腸菌中で発現させ、グルタチオンアガロースを用いてアフィニティークロマトグラフィーにより細菌ペレットから精製した。p38融合タンパク質を、恒常的活性型MKK6と一緒にインキュベートすることによって活性化した。活性なp38を、アフィニティークロマトグラフィーによってMKK6から分離した。恒常的活性型MKK6は、Raingeaud, et al. [Mol. Cell. Biol., 1247-1255 (1996)]に従って生成した。
LPS−刺激のPBMCによるTNF−αの産生
ヘパリン処置したヒト全血を健常者から得た。末梢血単核球(PBMC)を、フィコール−ハイパック密度勾配遠心分離によってヒト全血から精製し、これをアッセイ培地(10%ウシ胎児血清を含有するRPMI培地)中で5×106/mLの濃度で再懸濁した。細胞懸濁液(50μL)を、試験化合物(0.2%DMSOを含む、アッセイ培地中で4倍濃度)(50μL)と一緒に、96ウェル組織培養プレート中で、室温で5分間インキュベートした。次いで、LPS(200ng/mLストック)(100μL)を該細胞懸濁液に加え、該プレートを37℃で6時間インキュベートした。インキュベート後に、培地を集め、そして−20℃で保存した。該培地中のTNF−αの濃度を、標準的なELISAキット(ファルミンゲン社−サンディエゴ、CA)を用いて定量化した。TNF−αの濃度、および試験化合物についてのIC50値(LPS−刺激のTNF−α産生を50%だけ阻害する化合物の濃度)を、線形回帰分析によって算出した。
ヘパリン処置したヒト全血を健常者から得た。末梢血単核球(PBMC)を、フィコール−ハイパック密度勾配遠心分離によってヒト全血から精製し、これをアッセイ培地(10%ウシ胎児血清を含有するRPMI培地)中で5×106/mLの濃度で再懸濁した。細胞懸濁液(50μL)を、試験化合物(0.2%DMSOを含む、アッセイ培地中で4倍濃度)(50μL)と一緒に、96ウェル組織培養プレート中で、室温で5分間インキュベートした。次いで、LPS(200ng/mLストック)(100μL)を該細胞懸濁液に加え、該プレートを37℃で6時間インキュベートした。インキュベート後に、培地を集め、そして−20℃で保存した。該培地中のTNF−αの濃度を、標準的なELISAキット(ファルミンゲン社−サンディエゴ、CA)を用いて定量化した。TNF−αの濃度、および試験化合物についてのIC50値(LPS−刺激のTNF−α産生を50%だけ阻害する化合物の濃度)を、線形回帰分析によって算出した。
p38アッセイ
アッセイは、V−底96ウェルプレート中で行なった。最終的なアッセイ容量は60μLであり、これはアッセイ緩衝液(50mMトリスpH7.5、10mMMgCl2、50mMNaCl、および1mMDTT)中の3つの20μL添加の酵素、基質(MBPおよびATP)、および試験化合物から調製した。細菌的に発現する活性化されたp38を、基質との反応の開始前に、試験化合物と一緒に予め10分間インキュベートした。該反応液を25℃で45分間インキュベートし、各試料にEDTA(0.5M、5μL)を加えることによって終了させた。該反応混合物を、スカトロンミクロ(Skatron Micro)96細胞ハーベスター(スカトロン社)を用いて、予め湿らせたフィルターマット上に吸引し、次いでPBSを用いて洗浄した。次いで、該フィルターマットをマイクロ波オーブン中で1分間乾燥し、メルチルレックス(MeltilLex)Aシンチレーションワックス(ワラック社)で処理し、マイクロベータシンチレーションカウンターモデル(Microbeta scintillation counter Model)1450(ワラック社)を用いてカウントした。阻害データは、プリズム(グラフパッドソフトウェア(Graph Pad Software)社)を用いて、非線形最小二乗回帰によって分析した。該アッセイ中の試薬の最終的な濃度は、ATPが1μM;[γ−33P]ATPが3nM;MBP(シグマ社、番号M1891)が2μg/ウェル;p38が10nM;および、DMSOが0.3%である。
アッセイは、V−底96ウェルプレート中で行なった。最終的なアッセイ容量は60μLであり、これはアッセイ緩衝液(50mMトリスpH7.5、10mMMgCl2、50mMNaCl、および1mMDTT)中の3つの20μL添加の酵素、基質(MBPおよびATP)、および試験化合物から調製した。細菌的に発現する活性化されたp38を、基質との反応の開始前に、試験化合物と一緒に予め10分間インキュベートした。該反応液を25℃で45分間インキュベートし、各試料にEDTA(0.5M、5μL)を加えることによって終了させた。該反応混合物を、スカトロンミクロ(Skatron Micro)96細胞ハーベスター(スカトロン社)を用いて、予め湿らせたフィルターマット上に吸引し、次いでPBSを用いて洗浄した。次いで、該フィルターマットをマイクロ波オーブン中で1分間乾燥し、メルチルレックス(MeltilLex)Aシンチレーションワックス(ワラック社)で処理し、マイクロベータシンチレーションカウンターモデル(Microbeta scintillation counter Model)1450(ワラック社)を用いてカウントした。阻害データは、プリズム(グラフパッドソフトウェア(Graph Pad Software)社)を用いて、非線形最小二乗回帰によって分析した。該アッセイ中の試薬の最終的な濃度は、ATPが1μM;[γ−33P]ATPが3nM;MBP(シグマ社、番号M1891)が2μg/ウェル;p38が10nM;および、DMSOが0.3%である。
LPS−刺激マウスによるTNF−αの産生
マウス(Balb/c雌性、6〜8週齢、ハーランラボ(Harlan Labs);n=8/処置群)に、滅菌生理食塩水中で懸濁したリポ多糖類(LPS;大腸菌0111:B4、シグマ社)(50μg/kg)を、腹腔内注射した。90分後、マウスをCO2:O2の吸入によって鎮静し、血液試料を得た。血清を分離し、製造主の指示(R&Dシステム社、ミネアポリス社(Minneapolis)、MN)に基づき商業的なELISAアッセイによって、TNF−アルファ濃度の分析をした。
マウス(Balb/c雌性、6〜8週齢、ハーランラボ(Harlan Labs);n=8/処置群)に、滅菌生理食塩水中で懸濁したリポ多糖類(LPS;大腸菌0111:B4、シグマ社)(50μg/kg)を、腹腔内注射した。90分後、マウスをCO2:O2の吸入によって鎮静し、血液試料を得た。血清を分離し、製造主の指示(R&Dシステム社、ミネアポリス社(Minneapolis)、MN)に基づき商業的なELISAアッセイによって、TNF−アルファ濃度の分析をした。
試験化合物を、LPS注射前の様々な時点で経口投与した。該化合物を様々なビヒクルまたは可溶化剤中の、懸濁剤または液剤のいずれかとして投与した。
(略語)
言及を容易にするために、以下の略語が本明細書(例えば、以下の製造方法および実施例が含まれる)で用いられる。
μL=マイクロリットル
μLまたはμl=マイクロリットル
μM=マイクロモル
API=原薬
aq.=水性
Boc=tert−ブチルオキシカルボニル
BuOAc=酢酸ブチル
Bz=ベンジル
DCE=1,2−ジクロロエタン
DCM=ジクロロメタン
DIPEA=ジイソプロピルエチルアミン
DMA=N,N−ジメチルアセトアミド
DMF=N,N−ジメチルホルムアミド
DMSO=ジメチルスルホキシド
DTT=ジチオスレイトール
EDCまたはEDCI=1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩
Et=エチル
EtOAc=酢酸エチル
EtOH=エタノール
g=グラム
HATU=O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート
HOBt=1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物
HPLC=高速液体クロマトグラフィー
iPrOAc=酢酸イソプロピル
Iso−P=イソプロピル
K2CO3=炭酸カリウム
KOH=水酸化カリウム
L=リットル
LC/MS=高速液体クロマトグラフィー/質量分析
LOD=乾燥減量
m−CPBA=m−クロロ過安息香酸
Me=メチル
MeOH=メタノール
meq=ミリグラム当量
mg=ミリグラム
min=分
mlまたはmL=ミリリットル
mM=ミリモル
mmol=ミリモル
mol=モル
mp=融点
MS=質量分析
NaH=水素化ナトリウム
NaOH=水酸化ナトリウム
ng=ナノグラム
NIST=米国標準技術局
nM=ナノモル
NMR=核磁気共鳴
Pd=パラジウム
Pd/C=炭素上のパラジウム
Ph=フェニル
POCl3=オキシ塩化リン
Pr=プロピル
RAP=相対面積百分率(relative area percent)
ret.t.=HPLC保持時間(分)
RH=相対湿度
RP HPLC=逆相HPLC
RTまたはrt=室温(20〜25℃)
satまたはsat’d=飽和
t−Bu=第三ブチル
TFA=トリフルオロ酢酸
THF=テトラヒドロフラン
TLC=薄層クロマトグラフィー
言及を容易にするために、以下の略語が本明細書(例えば、以下の製造方法および実施例が含まれる)で用いられる。
μL=マイクロリットル
μLまたはμl=マイクロリットル
μM=マイクロモル
API=原薬
aq.=水性
Boc=tert−ブチルオキシカルボニル
BuOAc=酢酸ブチル
Bz=ベンジル
DCE=1,2−ジクロロエタン
DCM=ジクロロメタン
DIPEA=ジイソプロピルエチルアミン
DMA=N,N−ジメチルアセトアミド
DMF=N,N−ジメチルホルムアミド
DMSO=ジメチルスルホキシド
DTT=ジチオスレイトール
EDCまたはEDCI=1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩
Et=エチル
EtOAc=酢酸エチル
EtOH=エタノール
g=グラム
HATU=O−(7−アザベンゾトリアゾール−1−イル−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスファート
HOBt=1−ヒドロキシベンゾトリアゾール水和物
HPLC=高速液体クロマトグラフィー
iPrOAc=酢酸イソプロピル
Iso−P=イソプロピル
K2CO3=炭酸カリウム
KOH=水酸化カリウム
L=リットル
LC/MS=高速液体クロマトグラフィー/質量分析
LOD=乾燥減量
m−CPBA=m−クロロ過安息香酸
Me=メチル
MeOH=メタノール
meq=ミリグラム当量
mg=ミリグラム
min=分
mlまたはmL=ミリリットル
mM=ミリモル
mmol=ミリモル
mol=モル
mp=融点
MS=質量分析
NaH=水素化ナトリウム
NaOH=水酸化ナトリウム
ng=ナノグラム
NIST=米国標準技術局
nM=ナノモル
NMR=核磁気共鳴
Pd=パラジウム
Pd/C=炭素上のパラジウム
Ph=フェニル
POCl3=オキシ塩化リン
Pr=プロピル
RAP=相対面積百分率(relative area percent)
ret.t.=HPLC保持時間(分)
RH=相対湿度
RP HPLC=逆相HPLC
RTまたはrt=室温(20〜25℃)
satまたはsat’d=飽和
t−Bu=第三ブチル
TFA=トリフルオロ酢酸
THF=テトラヒドロフラン
TLC=薄層クロマトグラフィー
実施例においてHPLCデータに使われる記載は、以下の条件を反映する。
方法A.カラム:YMC ODSA S−5 5u C18 4.6x50mm;溶媒:溶媒A=10%MeOH/90%水/0.1%THF、および溶媒B=90%MeOH/10%水/0.1%THF;方法:4分間グラジエント。
方法B.カラム:YMC s5 ODS 4.6x50mm;溶媒:溶媒A=10%MeOH/90%水/0.2%H3PO4、および溶媒B=90%MeOH/10%水/0.2%H3PO4;方法:4分間グラジエント。
(化合物IのN−2結晶形の製造)
BuOAc、iPrOAcおよびアセトンから結晶化することにより化合物IのN−2型を得る方法の一つは上述されており、一方でN−2型を得るための好ましい方法は下の反応式1に記載されている。
反応式1
反応式2
反応式1を繰り返すが、但し炭酸カリウムの代わりにリン酸水素二ナトリウムを用いる。
BuOAc、iPrOAcおよびアセトンから結晶化することにより化合物IのN−2型を得る方法の一つは上述されており、一方でN−2型を得るための好ましい方法は下の反応式1に記載されている。
反応式1
反応式1を繰り返すが、但し炭酸カリウムの代わりにリン酸水素二ナトリウムを用いる。
(形態を評価する手順)
(単結晶データ)
データをBruker−Nonius(BRUKER AXS, Inc., 5465 East Cheryl Parkway, Madison, WI 53711 USA)CAD4連続回折計で収集した。単位格子パラメータを、25高反射の実験用回折計の最小二乗分析を通じて得た。強度を、θ−2θ可変走査法による恒温でのCuKα照射(λ=1.5418Å)を用いて測定し、ローレンツ偏光因子についてのみ補正した。バックグラウンド計数を、走査時間の半分について走査の先端で収集した。交互に、単結晶データを、CuKα照射(λ=1.5418Å)を用いてBruker−Nonius Kappa CCD2000システムで収集した。測定した強度データの索引付けおよび加工を、集積プログラムスイート(Collect program suite)(Data collection and processing user interface: Collect: Data collection software, R. Hooft, Nonius B.V., 1998.)におけるHKL2000ソフトウェアパッケージ(Otwinowski, Z. & Minor, W. (1997) in Macromolecular Crystallography, eds. Carter, W.C. Jr & Sweet, R.M. (Academic, NY), Vol. 276, pp.307-326.)で行った。
(単結晶データ)
データをBruker−Nonius(BRUKER AXS, Inc., 5465 East Cheryl Parkway, Madison, WI 53711 USA)CAD4連続回折計で収集した。単位格子パラメータを、25高反射の実験用回折計の最小二乗分析を通じて得た。強度を、θ−2θ可変走査法による恒温でのCuKα照射(λ=1.5418Å)を用いて測定し、ローレンツ偏光因子についてのみ補正した。バックグラウンド計数を、走査時間の半分について走査の先端で収集した。交互に、単結晶データを、CuKα照射(λ=1.5418Å)を用いてBruker−Nonius Kappa CCD2000システムで収集した。測定した強度データの索引付けおよび加工を、集積プログラムスイート(Collect program suite)(Data collection and processing user interface: Collect: Data collection software, R. Hooft, Nonius B.V., 1998.)におけるHKL2000ソフトウェアパッケージ(Otwinowski, Z. & Minor, W. (1997) in Macromolecular Crystallography, eds. Carter, W.C. Jr & Sweet, R.M. (Academic, NY), Vol. 276, pp.307-326.)で行った。
必要であれば、結晶をデータ収集の間、オックスフォード極低温システム(Oxford Cryosystems Cryostream cooler: J. Cosier and A.M. Glazer, J. Appl. Cryst., 1986, 19, 105.)の冷却流の中で冷却した。
構造を直接的な方法によって解析し、マイナー部分の改良を施したSDP(SDP, Structure Determination Package, Enraf-Nonius, Bohemia NY 11716。SDPソフトウェアにおいて、f’およびf’’を含む散乱因子(Scattering factors)は、"International Tables for Crystallography", Kynoch Press, Birmingham, England, 1974, Vol IV, Tables 2.2A and 2.3.1.から得た)ソフトウェアパッケージ、または結晶学パッケージMAXUS(maXus solution and refinement software suite: S. Mackay, C.J. Gilmore, C. Edwards, M. Tremayne, N. Stewart, K. Shankland. maXusは、回折データから結晶構造を解析し、精密化するためのコンピュータプログラムである)を用いて、観測した反射に基づいて精密化した。
導かれた原子パラメータ(座標および温度因子)を、完全行列最小二乗法により精密化した。精密化において最小化した関数は、Σw(|FO|−|FC|)2であった。RをΣ||FO|−|FC||/Σ|FO|として定義し、一方、Rw=[Σw(|FO|−|FC|)2/Σw|FO|2]1/2であり、ここでwは観測強度における誤差に基づく適当な重み関数である。距離マップを、精密化の全段階で調査した。水素原子を、等方性温度因子を用いて理想的な位置に導入したが、水素パラメータは変化させなかった。
PXRD
粉末X線回折(PXRD)データを、Bruker C2 GADDSを用いて得た。放射線は、CuKα(40KV、50mA)であった。サンプル−検出器間距離は15cmであった。粉末サンプルを、直径1mmまたはそれより小さいシールドガラス(sealed glass)キャピラリーの中に置き;キャピラリーをデータ収集の間回転させた。データを、少なくとも2000秒のサンプル照射時間で3°≦2θ≦35°について収集した。得られた二次元の回折弧を積分して、3〜35°2θの範囲で0.02°2θのステップサイズ(step size)を用いて、伝統的な一次元PXRDパターンを作成した。
粉末X線回折(PXRD)データを、Bruker C2 GADDSを用いて得た。放射線は、CuKα(40KV、50mA)であった。サンプル−検出器間距離は15cmであった。粉末サンプルを、直径1mmまたはそれより小さいシールドガラス(sealed glass)キャピラリーの中に置き;キャピラリーをデータ収集の間回転させた。データを、少なくとも2000秒のサンプル照射時間で3°≦2θ≦35°について収集した。得られた二次元の回折弧を積分して、3〜35°2θの範囲で0.02°2θのステップサイズ(step size)を用いて、伝統的な一次元PXRDパターンを作成した。
DSC
示差走査熱量測定(DSC)実験を、TAインストラメント(Instruments)(登録商標)Q1000または2920モデルで行った。サンプル(約2〜6mg)をアルミ皿ではかり、100分の1ミリグラムまで正確に記録し、DSCへ移した。該装置を、50mL/分で、窒素ガスを用いてパージした。データを、加温速度10℃/分で、室温から300℃の間で収集した。プロットは、下方を向いている吸熱ピークで行った。
示差走査熱量測定(DSC)実験を、TAインストラメント(Instruments)(登録商標)Q1000または2920モデルで行った。サンプル(約2〜6mg)をアルミ皿ではかり、100分の1ミリグラムまで正確に記録し、DSCへ移した。該装置を、50mL/分で、窒素ガスを用いてパージした。データを、加温速度10℃/分で、室温から300℃の間で収集した。プロットは、下方を向いている吸熱ピークで行った。
TGA
熱重量分析(TGA)実験を、TAインストラメント(Instruments)(登録商標)Q500または2950モデルで行った。サンプル(約10〜30mg)を、予め重さを量ってある白金皿に置いた。サンプルの重量を正確に量り、該装置により1000分の1ミリグラムまで記録した。加熱炉を、100mL/分で、窒素ガスを用いてパージした。データを、加温速度10℃/分で、室温から300℃の間で収集した。
熱重量分析(TGA)実験を、TAインストラメント(Instruments)(登録商標)Q500または2950モデルで行った。サンプル(約10〜30mg)を、予め重さを量ってある白金皿に置いた。サンプルの重量を正確に量り、該装置により1000分の1ミリグラムまで記録した。加熱炉を、100mL/分で、窒素ガスを用いてパージした。データを、加温速度10℃/分で、室温から300℃の間で収集した。
実施例
以下の実施例は、本発明の範囲の一部を例示的に提供しており、それは好ましい実施形態を含むが、本発明の範囲を限定するものではない。特に断りがなければ、それらは本明細書に開示されている方法を用いて製造、単離および評価されている。本明細書で用いられる略語は、上記で定義している。用いられる分析方法は、本明細書で開示されている。
以下の実施例は、本発明の範囲の一部を例示的に提供しており、それは好ましい実施形態を含むが、本発明の範囲を限定するものではない。特に断りがなければ、それらは本明細書に開示されている方法を用いて製造、単離および評価されている。本明細書で用いられる略語は、上記で定義している。用いられる分析方法は、本明細書で開示されている。
実施例A 化合物I
工程1:粗化合物Iを製造し、不純物を除去するためのカップリング工程
反応器内に化合物II(1kg)、フィルスマイヤー試薬(0.5kg)およびTHF(7.1kg、8mL/g 化合物II 投入量)を投入した。得られたスラリーを、20℃で1〜2時間攪拌した。約0.5時間後、完全溶解が観察された。HPLC分析は、化合物IIの0.5相対面積百分率(relative area percent)(RAP)未満が残ったことを示した(IPC規格RAP 4.0%;HPLC方法の分析に関する部分を参照)。
工程1:粗化合物Iを製造し、不純物を除去するためのカップリング工程
反応器内に化合物II(1kg)、フィルスマイヤー試薬(0.5kg)およびTHF(7.1kg、8mL/g 化合物II 投入量)を投入した。得られたスラリーを、20℃で1〜2時間攪拌した。約0.5時間後、完全溶解が観察された。HPLC分析は、化合物IIの0.5相対面積百分率(relative area percent)(RAP)未満が残ったことを示した(IPC規格RAP 4.0%;HPLC方法の分析に関する部分を参照)。
別のガラス反応器内に化合物III(0.9kg)、リン酸水素ニカリウム(7.4kg、1.35M)、THF(4.4kg、8mL/g 化合物II 投入量)を投入した。固形物の全てを完全溶解させた後、得られたスラリーを20℃で1時間攪拌し、均一な二相混合物を得た。バッチ温度を20℃にして、豊富な(rich)化合物II−酸塩化物ストリーム(stream)を二相混合物に加え、但しバッチ温度は25℃未満に維持した。実験室スケールでは、加えるのに0.5時間かかった(注釈:収率または質に悪影響を与えずに、28℃の発熱を伴って、1分間にわたり、該酸塩化物ストリーム(stream)を加えた)。該酸塩化物の0.5RAP未満が残ったことをHPLC分析が示した後に(IPC規格RAP<1.0%;HPLC方法の分析に関する部分を参照)、得られた溶液を1時間攪拌した。水酸化ナトリウム(2.1kg、5N)を用いて、見かけのpHを6.8(範囲6.2〜7.2)に調製した。バッチを35℃に加熱した。攪拌を終え、層を分離した。下層にいた(The lower spent)水流を除去した。バッチ温度を40℃にした。豊富な(rich)THFストリーム(stream)を減圧下で濃縮して、最初の体積の約半分にし、同時にバッチ温度を35〜50℃の間に維持した。得られた生成物スラリーに、水(5kg、12mL/g 化合物II 投入量)を加え、同時に温度を30〜40℃の間に維持した。スラリーを20℃に冷却し、この温度で少なくとも1時間維持した。結晶をろ過により回収し、100μジーメンス/cm未満の伝導率エンドポイントまで、水で洗浄した。該ケーキを脱液し、4.0重量%未満のLODエンドポイントまで、50℃の減圧下で乾燥した。該粗製物を、99.8〜100.00RAP純度で、97〜99%収率で単離した。
工程2:多形転移
プロセスの第2工程は、粒径の同時調節(control)を伴う多形転移である。多形転移および粒径を調節(control)するために、二つのプロセスを生み出した。これらは、本明細書でプロセスAおよびプロセスBと表されている。
プロセスの第2工程は、粒径の同時調節(control)を伴う多形転移である。多形転移および粒径を調節(control)するために、二つのプロセスを生み出した。これらは、本明細書でプロセスAおよびプロセスBと表されている。
プロセスAにおいて、まず、ショッテン・バウマン(Schotten−Baumen)カップリングから直接に単離した(「粗製」または「ファーストドロップ(first drop)」という)化合物Iを、約1:1水和物(H−1型)に相当するエンドポイントまで乾燥した。次いで、これを熱(約80℃)1−ブタノール(約9mL/g 粗化合物I)に完全溶解し、前もって粒径をD[90]<20μmまで粉砕してある化合物I種晶でシードした。プロセスAにより目的のN−2型を得るが、より良い粒径を得るためにはさらなるプロセスを要する。プロセスAをバッチに用いて、第一の粒径D[90]>65μmを有する(それは粒径の目的粒径規格にほど遠い)化合物IのN−2型を得た。次いで、ヘプタンを与えて収率を最大化した。これは、確立された目的仕様の範囲内で、多形または第一の粒径に対して影響を与えない。特定の目標は、粒径がD[90]<30μm、そしてさらにはD[90]<20μmである。
プロセスBは、粒径を改善するために用いる。プロセスBにおいて、ファーストドロップ(first drop)化合物Iを、50〜60℃より高いような温度の乾燥器(多くの種類の乾燥器が可能)内で乾燥させて、N−7およびH−1の2つの準安定的形態の混合物を得ることができる。この混合物を、湿式ミルで回しながら、周囲温度で1−ブタノールおよびシクロヘキサン(9:1)の溶媒組成物中でスラリーにした。具体的に、晶析装置に粗化合物I(1.0kg)、1−ブタノール(4.9kg)(6L/kg 投入量)およびシクロヘキサン(0.8kg)(1L/kg 投入量)を投入した。スラリーを攪拌し、バッチ温度を20〜25℃にした。反応器は、湿式ミル、ラマンプローブおよびラセンテク(Lasentec)FBRMプローブを備えたポンプアラウンドループ(pump around loop)を有していた。該湿式ミルをオンにし、バッチを湿式ミルおよびポンプアラウンドループ(pump around loop)を通じて再回転させた。ポンプアラウンドループ(pump around loop)内のラマンプローブを用いて、形態変化をモニターした(注釈:実験室で、多形転移は2時間以内に典型的に完了した)。XRDにより形態変換が確認された後、n−ヘプタン(2.1kg、3L/kg 投入量)を1時間にわたって加え、さらに1時間スラリーを攪拌した。これは、D[90]<30μmの確立された仕様の範囲内で、多形または第一の粒径に対して影響を与えない。生成物をろ過により回収し、n−ヘプタン(1.7kg、2.5L/kg)で洗浄した。ケーキを脱液し、50〜55℃の減圧下(約10トール)で乾燥し、GCによりエンドポイント<1−ブタノールおよびn−ヘプタンの0.5重量%とした。APIを、99.8〜100.00RAP純度で、84〜91%収率で単離した。以上により、第一の粒径D[90]<20μmを有する目的の無溶媒N−2型を産生した。
実施例B N−2への形態変化
化合物IをN−2に形態変化させるために、以下の手順が用いられ得る。
1)晶析装置の底弁から晶析装置の先端のポート(port)まで、TURRAX(湿式ミル)を含む再循環ループ(recirculation loop)(UTL25モデル)が備えられた、4L晶析装置用のインラインラマン分光装置を用意する。
2)化合物Iの水和物(12g)を晶析装置に投入する。
3)1−ブタノール(1.125L)(10L/kg 投入量)を晶析装置に投入する。
4)シクロヘキサン(1.125L)(1L/kg 投入量)を晶析装置に投入し、攪拌を開始する。
5)スラリーを18〜20℃で、TURRAX(湿式ミル)(細分散体が含まれる)を1にセットして用いて攪拌する。
6)ラマン解析によって形態変化をモニターする。
7)スラリーをサンプリングし、粒径を光学顕微鏡分析(visual microscopic analysis)によってモニターする(2時間以内に完了し得る)。
8)1時間にわたって、スラリーにヘプタン(1.5L、1.2L/kg 投入量)を満たす。
9)スラリーを、18〜20℃で1時間攪拌する。
10)バッチをろ過する(典型的な濃度は、2〜2.5mg/mLである)。
11)ヘプタンの約2倍ケーキ体積(cake volumes)で洗浄する。
12)ケーキを少なくとも1時間脱液する。
13)ケーキを50〜55℃で終夜乾燥して、ブタノール濃度<0.5%であることをGC分析によって確認する。
化合物IをN−2に形態変化させるために、以下の手順が用いられ得る。
1)晶析装置の底弁から晶析装置の先端のポート(port)まで、TURRAX(湿式ミル)を含む再循環ループ(recirculation loop)(UTL25モデル)が備えられた、4L晶析装置用のインラインラマン分光装置を用意する。
2)化合物Iの水和物(12g)を晶析装置に投入する。
3)1−ブタノール(1.125L)(10L/kg 投入量)を晶析装置に投入する。
4)シクロヘキサン(1.125L)(1L/kg 投入量)を晶析装置に投入し、攪拌を開始する。
5)スラリーを18〜20℃で、TURRAX(湿式ミル)(細分散体が含まれる)を1にセットして用いて攪拌する。
6)ラマン解析によって形態変化をモニターする。
7)スラリーをサンプリングし、粒径を光学顕微鏡分析(visual microscopic analysis)によってモニターする(2時間以内に完了し得る)。
8)1時間にわたって、スラリーにヘプタン(1.5L、1.2L/kg 投入量)を満たす。
9)スラリーを、18〜20℃で1時間攪拌する。
10)バッチをろ過する(典型的な濃度は、2〜2.5mg/mLである)。
11)ヘプタンの約2倍ケーキ体積(cake volumes)で洗浄する。
12)ケーキを少なくとも1時間脱液する。
13)ケーキを50〜55℃で終夜乾燥して、ブタノール濃度<0.5%であることをGC分析によって確認する。
実施例1〜13
化合物Iの結晶形を製造し、下記の表1に示す実施例1〜6のように一覧にした。化合物Iの他の形態は、実施例7〜13に見られる。前記結晶形は、N−2型(無溶媒型)の結晶を含む。表1に記載したそれぞれの実施例は、上述した一またはそれ以上の検査方法を用いて、化合物IのN−2型を分析する異なる方法を示す。
表1
化合物Iの結晶形を製造し、下記の表1に示す実施例1〜6のように一覧にした。化合物Iの他の形態は、実施例7〜13に見られる。前記結晶形は、N−2型(無溶媒型)の結晶を含む。表1に記載したそれぞれの実施例は、上述した一またはそれ以上の検査方法を用いて、化合物IのN−2型を分析する異なる方法を示す。
表1
実施例1
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのN−2型に関して、22℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのN−2型に関して、22℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
これらの実施例に関する単位格子データおよび他の性質は、上の表1で表にしている。単位格子パラメータは、本明細書で既に引用により援用している Stout & Jensen, “X-Ray Structure Determination: A Practical Guide”, (MacMillian, 1968) に記載されている手順に従って、単結晶X線結晶学的解析から得た。化合物IのN−2型の部分原子座標は、後述の表2で表にしている。本明細書の全ての実施例について、導かれた原子パラメータ(座標および温度因子)は、最小二乗法を通して精密化した。精密化において最小化した関数は、Σw(|FO|−|FC|)2であった。RをΣ||F|−|F||/Σ|FO|として定義し、一方、RW=[Σw(|FO|−|FC|)2/Σw|FO|2]1/2であり、ここでwは観測強度における誤差に基づく適当な重み関数である。距離マップを、精密化の全段階で調査した。水素原子を、等方性温度因子を用いて理想的な位置に導入したが、水素パラメータは変化させなかった。
水分吸着の研究は、25℃の約25〜約75%RHの範囲内で、N−2型が非吸湿性であることを示す。
B.部分原子座標
N−2型における化合物I分子の配置は、また、表2で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表2のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表2
室温における化合物IのN−2型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
N−2型における化合物I分子の配置は、また、表2で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表2のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表2
室温における化合物IのN−2型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
C.粉末X線回折
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。表3および図1は、化合物IのN−2結晶形に関するPXRDデータを示す。
表3
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2シータ(「2θ」)を用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。表3および図1は、化合物IのN−2結晶形に関するPXRDデータを示す。
表3
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2シータ(「2θ」)を用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
D.示差走査熱量測定(DSC)
示差走査熱量測定を、それぞれの結晶形について、TAインスツルメント(登録商標)モデルQ1000により行った。各分析について、DSCセル/サンプル室を、上から50mL/分の超高純度窒素ガスでパージした。該装置を高純度インジウムでキャリブレートした。加熱速度は、25℃〜300℃の間の温度範囲で10℃/分であった。サンプル重量によって標準化した熱流量を、測定したサンプル温度に対してプロットした。データをワット/グラム(「W/g」)の単位で記録した。下方を向いている吸熱ピークでプロットを行った。吸熱融解ピーク(endothermic melt peak)(融点)を、外挿した開始温度について評価した。図2は、化合物IのN−2結晶形に関するDSCサーモグラムを示し、約201℃〜約205℃の範囲内で開始する、吸熱転移を有することが観察された。
示差走査熱量測定を、それぞれの結晶形について、TAインスツルメント(登録商標)モデルQ1000により行った。各分析について、DSCセル/サンプル室を、上から50mL/分の超高純度窒素ガスでパージした。該装置を高純度インジウムでキャリブレートした。加熱速度は、25℃〜300℃の間の温度範囲で10℃/分であった。サンプル重量によって標準化した熱流量を、測定したサンプル温度に対してプロットした。データをワット/グラム(「W/g」)の単位で記録した。下方を向いている吸熱ピークでプロットを行った。吸熱融解ピーク(endothermic melt peak)(融点)を、外挿した開始温度について評価した。図2は、化合物IのN−2結晶形に関するDSCサーモグラムを示し、約201℃〜約205℃の範囲内で開始する、吸熱転移を有することが観察された。
E.熱重量分析 (TGA)
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図3は、化合物IのN−2結晶形のTGA曲線を示し、それは約180℃まで無視できる重量減少を有する。
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図3は、化合物IのN−2結晶形のTGA曲線を示し、それは約180℃まで無視できる重量減少を有する。
実施例2
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのH−1型に関して、22℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのH−1型に関して、22℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのH−1型の部分原子座標は、後述の表4で表にしている。水分吸着の研究は、約35〜約75%RHの範囲内で、H−1型が本質的に非吸湿性であることを示す。
B.部分原子座標
H−1型における化合物I分子の配置は、下の表4で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表4のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表4
室温における化合物IのH−1型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
H−1型における化合物I分子の配置は、下の表4で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表4のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表4
室温における化合物IのH−1型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
C.粉末X線回折
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。表5および図4は、化合物IのH−1型に関するPXRDデータを示す。
表5
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2θを用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。表5および図4は、化合物IのH−1型に関するPXRDデータを示す。
表5
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2θを用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
D.示差走査熱量測定(DSC)
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図5は、化合物IのH−1結晶形に関するDSCサーモグラムを示す。
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図5は、化合物IのH−1結晶形に関するDSCサーモグラムを示す。
E.熱重量分析(TGA)
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図6は、化合物IのH−1結晶形のTGA曲線を示し、それは薬物1モルに対して水1モルに相当する重量減少を有することを観察した。
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図6は、化合物IのH−1結晶形のTGA曲線を示し、それは薬物1モルに対して水1モルに相当する重量減少を有することを観察した。
実施例3
A.単結晶 X線測定
A.単結晶 X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのN−7型に関して、22℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
B.粉末X線回折
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。図7および表6は、化合物IのN−7型に関するPXRDデータを示す。
表6
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2θを用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。図7および表6は、化合物IのN−7型に関するPXRDデータを示す。
表6
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2θを用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
C.示差走査熱量測定(DSC)
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図8は、化合物IのN−7結晶形に関するDSCサーモグラムを示し、約190℃〜約194℃の範囲内で開始する、吸熱転移を有することが観察された。
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図8は、化合物IのN−7結晶形に関するDSCサーモグラムを示し、約190℃〜約194℃の範囲内で開始する、吸熱転移を有することが観察された。
D.熱重量分析(TGA)
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図9は、化合物IのN−7結晶形のTGA曲線を示し、それは約180℃まで無視できる重量減少を有する。
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図9は、化合物IのN−7結晶形のTGA曲線を示し、それは約180℃まで無視できる重量減少を有する。
実施例4
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのN−5型に関して、22℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのN−5型に関して、22℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのN−5型の部分原子座標は、後述の表7で表にする。
B.部分原子座標
N−5型における化合物I分子の配置は、下の表7で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表7のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表7
室温における化合物IのN−5型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
N−5型における化合物I分子の配置は、下の表7で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表7のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表7
室温における化合物IのN−5型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
C.粉末X線回折
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。図10および表8は、化合物IのN−5型に関するPXRDデータを示す。
表8
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2θを用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。図10および表8は、化合物IのN−5型に関するPXRDデータを示す。
表8
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2θを用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
D.示差走査熱量測定(DSC)
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図11は、化合物IのN−5結晶形のDSCサーモグラムを示し、約208℃〜約212℃の範囲内で開始する、吸熱転移を有することが観察された。
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図11は、化合物IのN−5結晶形のDSCサーモグラムを示し、約208℃〜約212℃の範囲内で開始する、吸熱転移を有することが観察された。
E.熱重量分析(TGA)
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図12は、化合物IのN−5結晶形のTGA曲線を示し、それは約180℃まで無視できる重量減少を有する。
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図12は、化合物IのN−5結晶形のTGA曲線を示し、それは約180℃まで無視できる重量減少を有する。
実施例5
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのN−6型に関して、30℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのN−6型に関して、30℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのN−6型の部分原子座標は、後述の表9で表にしている。
B.部分原子座標
N−6型における化合物I分子の配置は、下の表9で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表9のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表9
30℃における化合物IのN−6型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
N−6型における化合物I分子の配置は、下の表9で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表9のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表9
30℃における化合物IのN−6型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
C.粉末X線回折
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。図13および表10は、化合物IのN−6型に関するPXRDデータを示す。
表10
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2θを用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
粉末X線回折(PXRD)データを、上述したPXRD手順を用いて得た。図13および表10は、化合物IのN−6型に関するPXRDデータを示す。
表10
室温での特徴的な回折ピーク位置(2θ±0.1度)は、NISTまたは他の適当な標準でキャリブレーションした2θを用い、回転キャピラリー(spinning capillary)を有する回折計(CuKα)で収集した質の高いパターンに基づいている。
D.示差走査熱量測定(DSC)
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図14は、化合物IのN−6結晶形のDSCサーモグラムを示し、それは約229℃〜約233℃の範囲内で開始する、吸熱転移を有することが観察された。
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図14は、化合物IのN−6結晶形のDSCサーモグラムを示し、それは約229℃〜約233℃の範囲内で開始する、吸熱転移を有することが観察された。
E.熱重量分析(TGA)
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図15は、化合物IのN−6結晶形のTGA曲線を示し、それは約210℃まで無視できる重量減少を有する。
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図15は、化合物IのN−6結晶形のTGA曲線を示し、それは約210℃まで無視できる重量減少を有する。
実施例6
A.粉末X線回折
化合物IのP−14結晶形について、上述したPXRD手順を用いて粉末X線回折(PXRD)データを得て、それを図16に示している。
A.粉末X線回折
化合物IのP−14結晶形について、上述したPXRD手順を用いて粉末X線回折(PXRD)データを得て、それを図16に示している。
B.示差走査熱量測定(DSC)
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図17は、化合物IのP−14結晶形のDSCサーモグラムを示す。
示差走査熱量測定を、上述した手順を用いて行った。図17は、化合物IのP−14結晶形のDSCサーモグラムを示す。
C.熱重量分析(TGA)
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図18は、化合物IのP−14結晶形のTGA曲線を示す。
熱重量分析を、上述した手順を用いて行った。図18は、化合物IのP−14結晶形のTGA曲線を示す。
実施例7
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのAN−3型に関して、−70℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのAN−3型に関して、−70℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのAN−3型の部分原子座標は、後述の表11で表にしている。
B.部分原子座標
AN−3型における化合物I分子の配置は、下の表11で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表11のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表11
−70℃における化合物IのAN−3型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
AN−3型における化合物I分子の配置は、下の表11で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表11のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表11
−70℃における化合物IのAN−3型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
C.粉末X線回折
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのAN−3結晶形の粉末X線回折(PXRD)データを得た。図19は、化合物Iの溶媒和物の3型ファミリー(EA.5−3(−50℃で)、DC−3(−50℃で)、およびAN−3(−70℃で))からの、シミュレーションした粉末X線回折パターン(CuKα放射)を示す。3型ファミリーには、EA.5−3(EtOAcが中心付近で(about the center)不規則に配置(disordered))、DC−3(CH2Cl2が中心付近で(about the center)不規則に配置(disordered))およびAN−3(隙間に配置(ordered in the void space))が含まれる。PA−3を形成する酢酸プロピル溶媒和物はイソ構造だが、単結晶分析によって決定されていない。隙間は、〜80A3である。
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのAN−3結晶形の粉末X線回折(PXRD)データを得た。図19は、化合物Iの溶媒和物の3型ファミリー(EA.5−3(−50℃で)、DC−3(−50℃で)、およびAN−3(−70℃で))からの、シミュレーションした粉末X線回折パターン(CuKα放射)を示す。3型ファミリーには、EA.5−3(EtOAcが中心付近で(about the center)不規則に配置(disordered))、DC−3(CH2Cl2が中心付近で(about the center)不規則に配置(disordered))およびAN−3(隙間に配置(ordered in the void space))が含まれる。PA−3を形成する酢酸プロピル溶媒和物はイソ構造だが、単結晶分析によって決定されていない。隙間は、〜80A3である。
実施例8
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのE−8型に関して、−50℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのE−8型に関して、−50℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのE−8型の部分原子座標は、後述の表12で表にしている。
B.部分原子座標
E−8型における化合物I分子の配置は、下の表12で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表12のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表12
−50℃における化合物IのE−8型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
特に断りがなければ、占有は1である。
E−8型における化合物I分子の配置は、下の表12で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表12のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表12
−50℃における化合物IのE−8型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
実施例9
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのEA.5−3型に関して、−50℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのEA.5−3型に関して、−50℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのEA.5−3型の部分原子座標は、後述の表13で表にしている。
B.部分原子座標
EA.5−3型における化合物I分子の配置は、下の表13で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表13のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表13
−50℃における化合物IのEA.5−3型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
特に断りがなければ、占有は1である。
EA.5−3型における化合物I分子の配置は、下の表13で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表13のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表13
−50℃における化合物IのEA.5−3型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
C.粉末X線回折
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのEA.5−3型について、粉末X線回折(PXRD)データを得た。図19は、化合物Iの溶媒和物の3型ファミリー(EA.5−3、DC−3、AN−3およびPA−3)からの、シミュレーションした(−50℃で計算)粉末X線回折パターン(CuKαλ=1.5418Å)を示す。
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのEA.5−3型について、粉末X線回折(PXRD)データを得た。図19は、化合物Iの溶媒和物の3型ファミリー(EA.5−3、DC−3、AN−3およびPA−3)からの、シミュレーションした(−50℃で計算)粉末X線回折パターン(CuKαλ=1.5418Å)を示す。
実施例10
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのIPA−10型に関して、−50℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのIPA−10型に関して、−50℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのIPA−10型の部分原子座標は、後述の表14で表にしている。
B.部分原子座標
IPA−10型における化合物I分子の配置は、下の表14で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表14のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表14
−50℃における化合物IのIPA−10型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
IPA−10型における化合物I分子の配置は、下の表14で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表14のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表14
−50℃における化合物IのIPA−10型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
実施例11
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのSA−9型に関して、−50℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのSA−9型に関して、−50℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのSA−9型の部分原子座標は、後述の表15で表にしている。
B.部分原子座標
SA−9型における化合物I分子の配置は、下の表15で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表15のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表15
−50℃における化合物IのSA−9型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
特に断りがなければ、占有は1である。
SA−9型における化合物I分子の配置は、下の表15で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表15のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表15
−50℃における化合物IのSA−9型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
C.粉末X線回折
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのSA−9型について、粉末X線回折(PXRD)データを得て、それを図20に示す。
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのSA−9型について、粉末X線回折(PXRD)データを得て、それを図20に示す。
実施例12
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのSC−13型に関して、−60℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのSC−13型に関して、−60℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
化合物IのSC−13型の部分原子座標を、下記の表16で表にしている。
B.部分原子座標
SC−13型における化合物I分子の配置は、下の表16で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表16のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表16
−60℃における化合物IのSC−13型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
特に断りがなければ、占有は1である。
SC−13型における化合物I分子の配置は、下の表16で示すおおよその部分原子座標によって評価してもよい。従って、表16のおおよその座標は、測定温度によって変わる。これらの座標の統計的変動はまた、得られる誤差(error values)と一緒にも生じ得る。
表16
−60℃における化合物IのSC−13型に関する、部分原子パラメータおよびそれらの推定標準偏差
C.粉末X線回折
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのSD−14型の粉末X線回折(PXRD)データを得た。図21は、SC−13型の(2THF、1H2O)観測した(スラリー、室温)および計算した(−60℃)PXRDを示す。
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのSD−14型の粉末X線回折(PXRD)データを得た。図21は、SC−13型の(2THF、1H2O)観測した(スラリー、室温)および計算した(−60℃)PXRDを示す。
実施例13
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのSD−14型に関して、−80℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
A.単結晶X線測定
上の単結晶データ手順に従い、化合物IのSD−14型に関して、−80℃のサンプル温度で測定された、オングストローム(Å)でのおおよその単位格子定数、並びに結晶格子の体積(V)、空間群(sg)、単位格子あたりの分子、および結晶密度を下記に示す。
B.粉末X線回折
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのSD−14型の粉末X線回折(PXRD)データを得た。図22は、シミュレーションおよび観測した、SD−14型のPXRDデータおよびH1型のsPXRDを示す。
上述したPXRD手順を用いて、化合物IのSD−14型の粉末X線回折(PXRD)データを得た。図22は、シミュレーションおよび観測した、SD−14型のPXRDデータおよびH1型のsPXRDを示す。
SD−14(引き伸ばされたプレート(elongated plates))の、あらゆる周知のロット(lots)には、H−1(プリズム)が含まれる。
Claims (13)
- N−2型からなる、請求項1の結晶形。
- 前記N−2型が実質的に純粋な形態である、請求項2の結晶形。
- 実質的に表2に記載される部分原子座標の特徴を有する、請求項2の結晶形。
- 実質的に図1に示される粉末X線回折パターンの特徴を有する、請求項2の結晶形。
- 約室温で、9.3±0.1、11.9±0.1、15.4±0.1、16.9±0.1、17.5±0.1、18.8±0.1、20.2±0.1、および22.1±0.1の2θ値(CuKαλ−1.5418Å)を含む粉末X線回折パターンの特徴を有する、請求項2の結晶形。
- 約201℃〜約205℃の範囲内で開始される吸熱転移を有する、実質的に図2で示される示唆走査熱量測定サーモグラムの特徴を有する、請求項2の結晶形。
- 約180℃で0.028%以下の重量減少を有する、実質的に図3で示される熱重量分析曲線の特徴を有する、請求項2の結晶形。
- 少なくとも一つの請求項1の化合物、および医薬的に許容される担体または希釈剤を含む医薬組成物。
- 少なくとも一つの請求項2の化合物、および医薬的に許容される担体または希釈剤を含む医薬組成物。
- 請求項11の医薬組成物を、治療が必要な患者に投与することを特徴とする、炎症性疾患の治療方法。
- 該炎症性疾患が、喘息、成人呼吸窮迫症候群、慢性閉塞性肺疾患、慢性炎症性肺疾患、糖尿病、炎症性腸疾患、骨粗鬆症、乾癬、移植片対宿主拒絶、アテローム性動脈硬化症、並びに関節リウマチ、乾癬性関節炎、外傷性関節炎、風疹性関節炎、痛風性関節炎および変形性関節炎が含まれる関節炎から選択される、請求項12の方法。
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