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JP2010210886A - 表示装置 - Google Patents

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JP2010210886A
JP2010210886A JP2009056326A JP2009056326A JP2010210886A JP 2010210886 A JP2010210886 A JP 2010210886A JP 2009056326 A JP2009056326 A JP 2009056326A JP 2009056326 A JP2009056326 A JP 2009056326A JP 2010210886 A JP2010210886 A JP 2010210886A
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Japan
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liquid crystal
film
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polarizer
light
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Application number
JP2009056326A
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English (en)
Inventor
Yoshifumi Yoshida
義史 吉田
Koshiro Ochiai
鋼志郎 落合
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

【課題】より薄型化された表示装置を提供する。
【解決手段】液晶化合物を重合して得られる重合体及び重合体中に配向して分散している二色性色素を含み、二色比が15以上である偏光子と、発光源とを含む表示装置。重合体が、液晶化合物を配向した後に、重合して得られる重合体であることが好ましく、偏光子の厚みが、10μm以下であることが好ましい。表示装置としては、液晶表示装置、EL表示装置及び投射型液晶表示装置等が挙げられる。
【選択図】図1

Description

本発明は、配向した重合体を含む膜からなる偏光子と発光源とを有する表示装置に関する。
従来の表示装置に含まれる偏光子は、PVA(ポリビニルアルコール)にヨウ素や二色性色素を添加して延伸することによって得られる。
特開平8−122525号公報
しかしながら、従来のPVAを用いた偏光子は、膜厚が25μmであり、さらに湿度温度に対する環境耐性、及び加工時の機械耐性が十分ではないため、膜厚が80μmの保護フィルムに接着剤層を介して貼合して用いられていた。そのため偏光子及び保護フィルムを合わせると、膜厚が105μmと大きく、該偏光子を含む表示装置の薄型化が十分に達成できない場合があった。
本発明は、液晶化合物を重合して得られる重合体及び重合体中に配向して分散している二色性色素を含み、二色比が15以上である偏光子と、発光源とを含む表示装置である。
本発明によれば、より薄型化された表示装置を提供することができる。
本発明の表示装置が含む偏光子4を含む積層体1を表す図である。 本発明の液晶表示装置10を表す概略図である。 本発明の液晶表示装置24を表す概略図である。 本発明のEL表示装置30を表す概略図である。 本発明のEL表示装置44を表す概略図である。 本発明の投射型液晶表示装置を表す概略図である。
本発明の表示装置が含む偏光子は、液晶化合物を重合して得られる重合体と、重合体中に配向して分散している二色性色素とを含み、二色比が15以上である。偏光子とは、偏光していない入射光を直交する2つの偏光成分に分解し、一方の偏光成分を透過させ、もう一方の偏光成分を吸収する物である。透過する偏光成分の軸方向は透過軸、吸収する偏光成分の軸方向は吸収軸という。
液晶化合物を重合して得られる重合体とは、配向した状態で固定された液晶化合物の重合体、又は配向させることができる重合体であり、配向した状態で固定された液晶化合物の重合体であることが好ましい。液晶化合物を重合して得られる重合体は、重合体の中間相又は液晶化合物の中間相を経て配向する。
重合体とは、オリゴマー、単独重合体、共重合体、三元重合体、及び、より高次の同族体、架橋した重合体、網状重合体、並びに線状重合体等を含むものである。
液晶化合物は、スメクチック相(S)を発現する化合物であることが好ましい。スメクチックB相(S)、スメクチックD相(S)、スメクチックE相(S)、スメクチックF相(S)、スメクチックG相(S)、スメクチックH相(S)、スメクチックI相(S)、スメクチックJ相(S)、スメクチックK相(S)であることがより好ましい。
スメクチック相(S)のうち、スメクチックB相(S)又は、スメクチックF相(S)及びスメクチックI相(S)並びにそれの傾斜した変形相がより好ましい。適切な中間層は、一般的に、長距離の配向秩序を達成することができる。スメクチック相(S)は、高い秩序を有する配向した膜を提供することができ、そのオーダーパラメーターは好ましくは0.91以上であり、0.93以上であることがより好ましい。
液晶化合物は、式(I)で表される化合物であることが好ましい。
U−V−W−X−Y−X’−Y’−X’’−W’−V’−U’ (I)
(X、X’及びX’’は、互いに独立して、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基、又は置換基を有していてもよいトランス−1,4−シクロへキシレン基であり(ただしX、X’及びX’’のうち少なくとも1つは1,4−フェニレン基である)、Y及びY’は、互いに独立して、−CHCH−、−CHO−、−OCH−、−OCO−、−COO−、−OCOO−、単結合、−N=N−、−C=C−、−C≡C−又は−C=N−であり、U及びU’は、互いに独立して、水素原子又は重合性基であり(ただしU及びU’のうち少なくとも1つは重合性基である)、V及びV’は、互いに独立して、置換基を有していてもよいC1−C20のアルキレン基であり(C1−C20のアルキレンのメチレン基は−O−、−S−又は−NH−に置換されていてもよい。)、W及びW’は、互いに独立して、単結合、−O−、−S−、−COO−、−OCOO−又は−OCO−である。)
X、X’及びX’’のうち少なくとも2つは置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基であることが好ましく、X、X’及びX’’が、置換基を有していてもよい1,4−フェニレン基であることがより好ましい。また、Y’が、−CHCH−、−CHO−又は−OCH−であることが好ましい。
1,4−フェニレン基の置換基としては、メチル、CN、F、Cl、及びBrが挙げられる。1,4−フェニレン基の−CH=の一つ以上は、−N=で置換されていてもよい。
トランス−1,4−シクロへキシレン基の置換基としては、メチル、CN、F、Cl、及びBrなどが挙げられる。トランス−1,4−シクロへキシレン基の−CH−は、−O−、−S−又は−NR−で置換されていてもよい。Rは、C1−C6のアルキル又はフェニルである。
U及びU’は、光重合性基であることが好ましい。U及びU’としては、CH=CH−、CH=CCl−、CH=C(CH)−、又は4−ビニルフェニリル、アクリレート(メタクリレート)、ビニルエーテル、オキセタン、エポキシ又はチオレン等が挙げられる。アクリレート(メタクリレート)、ビニルエーテル、オキセタン、エポキシ又はチオレンであることが好ましい。U及びU’は、同じ種類の基であることが好ましい。
V及びV’は、C2−C12のアルキレン基であることが好ましく、C6−C10のアルキレン基であることがより好ましい。該アルキレン基は、F、Cl、Br、CN、CHのような一つ以上の置換基を有してもよいが置換基はない方が好ましい。
W及びW’は、単結合又は−O−であることが好ましい。
液晶化合物としては、下記の化合物が挙げられる。
Figure 2010210886
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二色性色素としては、特に制限されず、染料であっても顔料であってもよい。二色性色素の吸収波長は、可視光の範囲である、400〜700nmであることが好ましい。
二色性色素は単独で使用しても、赤色、緑色及び青色のような、複数の二色性色素を組み合せて使用してもよい。二色性色素としては、具体的には、ペリレン系、ナフタレン系、アゾ系又はアントラキノン系等の二色性色素が挙げられる。上記のような色素であれば、重合体への分散が容易であり好ましい。
重合体に対する二色性色素の量は、50重量%以下であることが好ましく、20重量%以下であることがより好ましく、10重量%以下であることが特に好ましい。
本発明の偏光子は、二色比が15以上である。二色比とは、吸光度における二色比を意味し、且つ、消光軸に沿った(垂直入射で測定された)吸光度(A)及び透過軸に沿った吸光度(A)の比(A/A)として定義され、ここで吸光度(A及びA)は、A=−log10、A=−log10として定義され、ここでT及びTは、透過率である。
図1は、本発明の表示装置が含む偏光子4を含む積層体1を表す図である。
積層体1は、支持基材2の上に、配向膜3が積層され、配向膜3の上に、偏光子4が積層された積層体である。偏光子4は、重合体5と、重合体5中に配向して分散している二色性色素6とを含む。
偏光子4の作成方法について説明する。
支持基材の上に、液晶化合物と二色性色素とを含有する組成物を塗布し、乾燥して、未重合フィルムを得る(未重合フィルム調製工程)。得られた未重合フィルムを、重合させることによって、偏光子を得る(未重合フィルム重合工程)。
<未重合フィルム調製工程>
本工程では、支持基材又は配向膜の上に、液晶化合物と二色性色素とを含有する組成物を塗布し、乾燥して、未重合フィルムを得る。
支持基材又は配向膜への塗布方法としては、たとえば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、CAPコーティング法、インクジェット法又はダイコーティング法などが挙げられる。塗布に用いられるコーターとしては、グラビアコーター、CAPコーター、ダイコーター、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター又はインクジェットコーターなどが挙げられる。
上記組成物には、液晶化合物及び二色性色素の他に、必要に応じて、溶剤、重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤又はレベリング剤などの添加剤を含んでいてもよい。特に成膜時に成膜が容易となること溶剤を含むことが好ましい。得られた偏光子を硬化する働きをもつことから重合開始剤を含むことが好ましい。
溶剤としては、液晶化合物及び二色性色素を溶解し得る溶剤であることが好ましい。また、液晶化合物の重合反応に対して不活性な溶剤であることが好ましい。
溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル又はフェノールなどのアルコール;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、ガンマーブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート又は乳酸エチルなどのエステル系溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン又はメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤;ペンタン、ヘキサン又はヘプタンなどの非塩素系脂肪族炭化水素溶剤;トルエン又はキシレンなどの非塩素系芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリルなどのニトリル系溶剤;テトラヒドロフラン又はジメトキシエタンなどのエーテル系溶剤;クロロホルム又はクロロベンゼンなどの塩素系溶剤;などが挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、複数を組み合わせて用いてもよい。
重合開始剤としては熱重合開始剤又は光重合開始剤等を用いることができる。
熱重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤;過酸化水素、過硫酸塩、過酸化ベンゾイル等の過酸化物系開始剤;等が挙げられる。
光重合開始剤としては、たとえばベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシケトン類、α−アミノケトン類、ヨードニウム塩又はスルホニウム塩等が挙げられ、より具体的には、イルガキュア(Irgacure)907、イルガキュア184、イルガキュア651、イルガキュア819、イルガキュア250、イルガキュア369(以上、全てチバ・ジャパン株式会社製)、セイクオールBZ、セイクオールZ、セイクオールBEE(以上、全て精工化学株式会社製)、カヤキュアー(kayacure)BP100(日本化薬株式会社製)、カヤキュアーUVI−6992(ダウ社製)、アデカオプトマーSP−152又はアデカオプトマーSP−170(以上、全て株式会社ADEKA製)などを挙げることができる。
重合開始剤としては配向温度を調整できるので光重合開始剤が好ましい。
重合禁止剤としては、たとえばハイドロキノンまたはアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類、ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類、ピロガロール類、2,2,6,6−テトラメチル−1−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補足剤、チオフェノール類、β−ナフチルアミン類、およびβ−ナフトール類等を挙げることができる。
光増感剤としては、たとえばキサントン又はチオキサントン等のキサントン類、アントラセン又はアルキルエーテルなどの置換基を有するアントラセン類、フェノチアジン或いはルブレンを挙げることができる。
レベリング剤としては、シリコーン系、フッ素系、ポリエーテル系、アクリル酸共重合物系またはチタネート系等の種々のレベリング剤を用いることができ、たとえば放射線硬化塗料用添加剤(ビックケミージャパン製:BYK−352,BYK−353,BYK−361N)、塗料添加剤(東レ・ダウコーニング株式会社製:SH28PA、DC11PA、ST80PA)、または塗料添加剤(信越化学工業株式会社製:KP321、KP323、X22−161A、KF6001)などを挙げることができる。レベリング剤を用いることにより、偏光子を平滑化することができ
支持基材としては、たとえばガラス、プラスチックシート、プラスチックフィルム又は透光性フィルムを挙げることができる。なお上記透光性フィルムとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマーなどのポリオレフィンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリメタクリル酸エステルフィルム、ポリアクリル酸エステルフィルム、セルロースエステルフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリフェニレンスルフィドフィルム又はポリフェニレンオキシドフィルムなどが挙げられる。
配向膜は、混合組成物の塗布時に、組成物に溶解しない溶剤耐性を持つこと、溶剤の除去や液晶の配向の加熱処理時に、耐熱性をもつこと、ラビング時に、摩擦などによる剥がれなどが起きないことが好ましく、ポリマー又はポリマーを含有する組成物からなることが好ましい。
上記ポリマーとしては、たとえば分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸又はポリアクリル酸エステル類等のポリマーを挙げることができる。ポリマーは、単独又は2種類以上用いてもよく、共重合体として用いてもよい。ポリマーは、脱水や脱アミンなどによる重縮合や、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合等の連鎖重合、配位重合や開環重合等で容易に得ることができる。
またこれらのポリマーは、溶剤に溶解して、塗布することができる。溶剤及び塗布方法は、液晶化合物と二色性色素とを含有する組成物の場合と同様である。
また配向膜材料として、市販の配向膜材料をそのまま使用してもよい。市販の配向膜材料としては、サンエバー(登録商標、日産化学工業株式会社製)又はオプトマー(登録商標、JSR株式会社製)などが挙げられる。
配向膜の厚さは、たとえば10nm〜10000nmである。
配向膜は、必要に応じてラビング法もしくは偏光UV照射法により配向させることが好ましい。ラビング法では、たとえばラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールを、配向膜に接触させる。偏光UV照射法では、たとえばマスキングなどによって配向膜の表面にパターンを形成することもできる。
<未重合フィルム重合工程>
未重合フィルム重合工程では、未重合フィルム調製工程で得られた未重合フィルムを、硬化させる。これにより液晶化合物が配向して固定されたフィルム、すなわち重合フィルムが得られる。
未重合フィルムを重合させる方法は、液晶化合物の種類に応じて、決定する。光重合、熱重合等により重合フィルムを重合させることができる。本発明では、特に光重合により未重合フィルムを重合させることが好ましい。光重合によれば低温で未重合フィルムを重合させることができるので、支持基材の耐熱性の選択幅が広がる。また工業的にも製造が容易となる。また成膜性の観点からも光重合が好ましい。光重合は、未重合フィルムに可視光、紫外光又はレーザー光を照射することにより行う。取り扱い性の観点から、紫外光が特に好ましい。光照射は、組成物が高度に秩序化された中間層をとる温度(例えばスメクチックB層をとる温度)に加温しながら行うことが好ましい。この際、マスキングや現像を行うことなどによって重合フィルムをパターニングすることもできる。
未重合フィルム重合工程後に、支持基材を剥離する工程を含んでいてもよい。これにより、得られる積層体は、配向膜と偏光子とからなる。また支持基材を剥離する工程に加えて、配向膜を剥離する工程をさらに含んでいてもよい。これにより、偏光子を得ることができる。偏光子の膜厚は、1〜20μmであることが好ましい。
また未重合フィルムの上面にさらに配向膜を貼付して重合させる方法も好ましい。
また2枚の支持基材にそれぞれ配向膜を塗布し、その塗布した面を対向させて、セルを形成し、当該セルに液晶化合物と二色性色素とを含有する組成物を充填したのち、重合させる方法も好ましい。
このようにして得られた偏光子は、さまざまな表示装置に用いることができる。
本発明の表示装置とは、表示素子を有する表示装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。表示素子としては、例えば、EL(エレクトロルミネッセンス)素子(有機物及び無機物を含むEL素子、有機EL素子、無機EL素子)、電子放出素子、液晶素子、電子インク、電気泳動素子、グレーティングライトバルブ(GLV)、プラズマディスプレイ(PDP)、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、圧電セラミックディスプレイ、カーボンナノチューブ、など、電気磁気的作用により、コントラスト、輝度、反射率、透過率などが変化する表示素子を有する表示装置が挙げられる。EL素子を用いた表示装置としてはELディスプレイ、電子放出素子を用いた表示装置としてはフィールドエミッションディスプレイ(FED)やSED方式平面型ディスプレイ(SED:Surface−conduction Electron−emitter Disply)などが挙げられる。液晶素子を用いた表示装置としては液晶ディスプレイ(透過型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイ、反射型液晶ディスプレイ、直視型液晶ディスプレイ、投写型液晶ディスプレイ、以下「LCD」という場合がある)が挙げられる。電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置としては電子ペーパーが挙げられる。また、3Dテレビやホログラム等の立体表示装置等も挙げられる。
たとえば、LCDの場合には、液晶で偏光状態を制御する駆動方式が多く、液晶の両側に偏光子が必須であることが多く、本発明の偏光子を用いることによって装置の薄型化が可能になる。LCDとは、液晶の光学的変調作用によって光の透過または非透過を制御する素子を用いた表示装置であり、液晶素子は一対の電極、及び液晶層を含む。なお、液晶素子としては、ネマチック液晶、コレステリック液晶、スメクチック液晶、ディスコチック液晶、サーモトロピック液晶、ライオトロピック液晶、リオトロピック液晶、低分子液晶、高分子液晶、強誘電液晶、反強誘電液晶、主鎖型液晶、側鎖型高分子液晶、プラズマアドレス液晶(PDLC)、バナナ型液晶等が挙げられる。また、駆動方式としてはTN(Twisted Nematic)モード、STN(Super Twisted Nematic)モード、IPS(In−Plane−Switching)モード、FFS(Fringe Field Switching)モード、MVA(Multi−domain Vertical Alignment)モード、PVA(Patterned Vertical Alignment)モード、ASV(Advanced Super View)モード、ASM(Axially Symmetric aligned Micro−cell)モード、OCB(Optical Compensated Birefringence)モード、ECB(Electrically Controlled Birefringence)モード、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)モード、AFLC(AntiFerroelectric Liquid Crystal)モード、PDLC(Polymer Dispersed Liquid Crystal)モード、ゲストホストモード等様々な駆動方式に適応可能である。薄型化を達成するために、発光源であるバックライトを側面や上下面に配置した方式に適応することも好ましい。
図2は、液晶表示装置10を表す概略図である。液晶層17を2枚の基板14a及び基板14bで挟んでいる。
一方の基板14aの片側には、カラーフィルタ15が配置されている。カラーフィルタ(CF)15が、液晶層17をはさんで画素電極22に対向する位置に配置され、ブラックマトリクス20が画素電極間の境界に対向する位置に配置されている。透明電極16がこれらを覆っている。カラーフィルタ15と透明電極16の間にオーバーコート層を有する場合もある。
もう一方の基板14bの片側には、薄膜トランジスタ21と画素電極22とが規則正しく配列されている。画素電極22は、液晶層17をはさんでカラーフィルタ15に対向する位置に配置されている。薄膜トランジスタ21と画素電極22との間には、層間絶縁膜18が配置されている。
薄膜トランジスタ21を形成する基板14bは、薄膜トランジスタ21を製造する際の高温に耐えるようにガラス基板が用いられている。また、低温で薄膜トランジスタ20を形成する場合には、プラスチック基板を用いてもよい。
薄膜トランジスタ21としては、石英基板上に形成する高温ポリシリコントランジスタ、ガラス基板上に形成する低温ポリシリコントランジスタ、ガラス基板またはプラスチック基板上に形成するアモルファスシリコントランジスタの3種類が挙げられる。液晶パネルの小型化のため、従来外付けであったドライバICをガラス基板上に形成する事が行われている。
透明電極16と、画素電極22との間には、液晶層17が配置されている。液晶層17は、2枚の基板等を挟持して隙間を一定に保つために、スペーサ23が形成されている。
液晶層17の両面には、液晶を所望の方向へ配向させるための配向膜が各々形成されていてもよい。
各部材は、基板14a、カラーフィルタ15及びブラックマトリクス20、透明電極16、液晶層17、層間絶縁膜18、薄膜トランジスタ21及び画素電極22、並びに基板14bの順番で積層されている。
このような液晶層17を挟んだ基板14a及び基板14bの外側には、様々な光学機能を持つフィルムが積層されている。ここでは、本発明の偏光子(例えば直線偏光子)12a及び12b、位相差フィルム(例えば1/4波長板)13a及び13bが、この順番で積層され、入射光を円偏光にする機能を持たせている。偏光子12aの外側に、外光の反射を防ぐための反射防止膜11が積層されている。本発明の偏光子によれば、表示装置の薄型化が達成できる。
偏光子12bの外側には、発光源であるバックライトユニット19が形成されている。バックライトユニット19は、光源、導光体、反射板、拡散シートおよび視野角調整シートを含む。光源としては、エレクトロルミネッセンス、冷陰極管、熱陰極管、LED、レーザー光源、水銀ランプなど、様々な光源を用いることができる。光源の特性に合わせて本発明の偏光子を選択すればよい。
図3は、偏光子を基板の内部(液晶側)に配置した液晶表示装置24を表す概略図である。液晶表示装置24では、各部材は、反射防止膜11、位相差フィルム13a、基板14a、偏光子12a、カラーフィルタ15及びブラックマトリクス20、透明電極16、液晶層17、層間絶縁膜18、薄膜トランジスタ21及び画素電極22、偏光子12b、基板14b、位相差フィルム13b、バックライトユニット19の順番で積層されている。
液晶表示装置24のように、偏光子12a及び偏光子12bは、基板14a及び基板14bと液晶層17との間に配置されていてもよい。
次に透過型液晶ディスプレイの動作を説明する。
光源から発せられた白色光は導光体に入射し、反射板によって進路を変えられて拡散シートで拡散されている。拡散光は視野角調整シートによって所望の指向性を持つように調整されたのちにバックライトユニット19から偏光子12bに入射する。
入射光は無偏光の状態だが、ある一方の直線偏光のみが液晶パネルの偏光子12bを透過する。この直線偏光は位相差フィルム13bによって円偏光になり、基板14b、半透明な材料で形成された画素電極22、等を順次透過して液晶層17に到る。
ここで画素電極22と対向する透明電極(対向電極)16との間の電位差の有無により、液晶分子の配向状態が制御されている。即ち、ある極端な配向状態においては、バックライトユニット19から入射した円偏光がそのままの状態で液晶層17、透明電極16を透過し、ある特定の波長範囲の光がカラーフィルタ15を透過して位相差フィルム13aに到り、偏光子12aをほぼ完全に透過する。従って、この画素はカラーフィルタで決まる色を最も明るく表示する。
また、別の極端な配向状態においては逆に、液晶層17を通過する光の偏光状態が変化して、カラーフィルタ15を透過した光を位相差フィルム13aと偏光子12aとがほぼ完全に吸収する。従って、この画素は黒を表示する。これら2つの状態の中間の配向状態では光が部分的に透過するため、この画素は中間色を表示することになる。
半透過型液晶ディスプレイの場合は、画素電極22は半透明な材料で形成されており、透過型液晶ディスプレイとしての動作はほぼ前述の通りである。但し、画素電極22の光の透過率を例えば70%に設計した場合には、30%の光が表示に用いられないことになる。一方、外光が反射防止膜11の方向から液晶パネルに入射した場合には、偏光子12aと位相差フィルム13aを透過した円偏光が液晶層17を通過し、画素電極22によってその30%が反射されて表示に利用されている。
図4は、EL表示装置30を表す概略図である。EL表示装置30は、画素電極35が形成された基板33上に、発光源である有機機能層36、及びカソード電極37が積層されたものである。画素電極35にプラス、カソード電極37にマイナスの電圧を加え、画素電極35及びカソード電極37間に直流を印加することにより、有機機能層36が発光する。発光源である有機機能層36は、電子輸送層、発光層、正孔輸送層などからなる。有機機能層36を有する有機EL表示装置について説明するが、無機機能層を有する無機EL表示装置にも適用してもよい。
本発明のEL表示装置30を製造するには、まず、基板33上に薄膜トランジスタ40を所望の形状に形成する。そして層間絶縁膜34を成膜し、次いで画素電極35をスパッタ法で成膜し、パターニングする。その後、有機機能層36を積層する。
基板33としては、サファイアガラス基板、石英ガラス基板、ソーダガラス基板、アルミナなどのセラミック基板、銅などの金属基板、プラスチック基板等が挙げられる。基板上に熱伝導性膜を形成してもよい。熱伝導性膜としては、ダイヤモンド薄膜(DLCなど)が挙げられる。画素電極35を反射型とする場合は、基板33とは反対方向へ光が出射する。したがって、透明材料だけでなく、ステンレスなどの非透過材料を用いることができる。基板は単一で形成されていてもよく、複数の基板を接着剤で貼り合わせて積層基板として形成されていていてもよい。これらの基板は、板に限定するものではなく、フィルムでもよい。
薄膜トランジスタ40としては、通常の多結晶シリコントランジスタを用いればよい。薄膜トランジスタ40は、画素電極35の端部に設けられ、その大きさは10〜30μm程度である。なお、画素電極35の大きさは20μm×20μm〜300μm×300μm程度である。
基板33上には、薄膜トランジスタ40の配線電極が設けられている。配線電極は抵抗が低く、画素電極35と電気的に接続して抵抗値を低く抑える機能があり、一般的にはその配線電極は、Al、Alおよび遷移金属(ただしTiを除く)、Tiまたは窒化チタン(TiN)のいずれか1種または2種以上を含有するものが使われる。
薄膜トランジスタ40と画素電極35との間には層間絶縁膜34が設けられる。層間絶縁膜34は、SiO等の酸化ケイ素、窒化ケイ素などの無機系材料をスパッタや真空蒸着で成膜したもの、SOG(スピン・オン・グラス)で形成した酸化ケイ素層、フォトレジスト、ポリイミド、アクリル樹脂などの樹脂系材料の塗膜など、絶縁性を有するものであればいずれであってもよい。
層間絶縁膜34上に、リブ41を形成する。リブ41は、画素電極35の周辺部(隣接画素間)に配置されている。リブ41の材料としては、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。リブ41の厚みは、好ましくは1.0μm以上3.5μmであり、より好ましくは1.5μm以上2.5μm以下である。
次に、透明電極である画素電極35と、発光源である有機機能層36と、カソード電極37とからなるEL素子について説明する。有機機能層36は、それぞれ少なくとも1層のホール輸送層および発光層を有し、例えば、電子注入輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層を順次有する。
画素電極35としては、例えば、ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドープ酸化インジウム)、ZnO、SnO、In等が挙げられるが、特にITO、IZOが好ましい。画素電極35の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の厚さを有すれば良く、10〜500nm程度とすることが好ましい。
画素電極35は、蒸着法等によっても形成できるが、スパッタ法により形成することが好ましい。スパッタガスとしては、特に制限するものではなく、Ar、He、Ne、Kr、Xe等の不活性ガス、あるいはこれらの混合ガスを用いればよい。
カソード電極37の構成材料としては例えば、K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn、Zr等の金属元素単体、または安定性を向上させるためにそれらを含む2成分、3成分の合金系を用いることが好ましい。合金系としては、例えばAg・Mg(Ag:1〜20at%)、Al・Li(Li:0.3〜14at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)、Al・Ca(Ca:5〜20at%)等が好ましい。
カソード電極37は、蒸着、スパッタ法等、好ましくは蒸着法により形成される。カソード電極37の厚さは、0.1nm以上、好ましくは1〜500nm以上であることが好ましい。
正孔注入層は、画素電極35からの正孔の注入を容易にする機能を有し、正孔輸送層は、正孔を輸送する機能および電子を妨げる機能を有し、電荷注入層、電荷輸送層とも称される。
発光層の厚さ、正孔注入層と正孔輸送層とを併せた厚さおよび電子注入輸送層の厚さは特に限定されず、形成方法によっても異なるが、通常、5〜100nm程度とすることが好ましい。正孔注入層・正孔輸送層には、各種有機化合物を用いることができる。正孔注入輸送層、発光層および電子注入輸送層の形成には、均質な薄膜が形成できることから真空蒸着法を用いることが好ましい。
発光源である有機機能層36としては、1重項励起子からの発光(蛍光)を利用するもの、3重項励起子からの発光(燐光)を利用するもの、1重項励起子からの発光(蛍光)を利用するものと3重項励起子からの発光(燐光)を利用するものとを含むもの、有機物によって形成されたもの、無機物によって形成されたもの、有機物によって形成されたものと無機物によって形成されたものとを含むもの、高分子の材料、低分子の材料、高分子の材料と低分子の材料とを含むものなどを用いることができる。ただし、これに限定されず、EL素子として様々なものを用いたEL表示装置を用いることができる。
カソード電極37と封止フタ39との空間には乾燥剤38を配置する。これは、有機機能層36は湿度に弱いためである。乾燥剤38により水分を吸収し有機機能層36の劣化を防止する。
EL表示装置30の光入射面あるいは光出射面に形成する偏光子31は、直線偏光子に限定されるものではなく、楕円偏光子であってもよい。また、複数の偏光子や位相差フィルムをはり合わせたものでもよい。
偏光子としては、上述した偏光子4を用いる。
図5は、EL表示装置44を表す概略図である。EL表示装置44は、EL表示装置30とは異なり、薄膜封止膜42を用いた封止構造を有し、アレイ基板の反対面からも出射光を得ることができる。
薄膜封止膜42としては電解コンデンサのフィルムにDLC(ダイヤモンドライクカーボン)を蒸着したDLC膜を用いることが好ましい。DLC膜は水分浸透性が極めて悪く防湿性能が高い。また、DLC膜などをカソード電極37の表面に直接蒸着して形成してもよい。また、樹脂薄膜と金属薄膜とを多層に積層して、薄膜封止膜42を形成してもよい。
図6は、本発明の投射型液晶表示装置を示す概略図である。
本発明の偏光子142及び偏光子143は、例えば、投射型液晶表示装置(プロジェクター)に用いられる。
発光源である光源(例えば、高圧水銀ランプ)111から出射された光線束は、まずは第1のレンズアレイ112、第2のレンズアレイ113、偏光変換素子114、重畳レンズ115を通過することにより、反光線束断面での輝度の均一化と偏光化が行われる。
具体的には光源111から出射された光線束は、微小なレンズ112aがマトリクス状に形成された第1のレンズアレイ112によって多数の微小な光線束に分割される。第2のレンズアレイ113及び重畳レンズ115は、分割された光線束のそれぞれが、照明対象である3つの液晶ディスプレイ(LCD)パネル140R,140G,140Bの全体を照射するように備えられており、このため、各LCDパネル入射側表面は全体がほぼ均一な照度となる。
偏光変換素子114は、通常、偏光ビームスプリッタアレイにより構成され、第2のレンズアレイ113と重畳レンズ115との間に配置される。これにより光源からのランダム偏光をあらかじめ特定の偏光方向を有する偏光光に変換し、後述する入射側偏光子での光量損失を低減して、画面の輝度を向上させる役割を果たしている。
輝度が均一化および偏光化された光は反射ミラー122を経由してRGBの3原色に分離するためのダイクロイックミラー121,123,132により順次、レッドチャンネル、グリーンチャンネル、ブルーチャンネルに分離され、それぞれLCDパネル140R,140G,140Bに入射する。
LCDパネル140R,140G,140Bについて、その入射側及び出射側にそれぞれ本発明の偏光子(入射側)142及び偏光子(出射側)143が配置されている。
RGBそれぞれの光路に液晶パネルを挟んで、入射側と出射側に配置される2枚の偏光子について説明する。各光路に配置される偏光子(入射側)142及び偏光子(出射側)143は、その吸収軸を直交とした構成で配置され、各光路に配置される各LCDパネル140R,140G,140Bで画像信号により各画素ごとに制御された偏光状態を光量に変換する機能を果たしている。
本発明の偏光子は、ブルーチャンネル、グリーンチャンネル、レッドチャンネルの全ての光路で共通した構成であり、どの光路においても耐久性の優れた偏光子として有効である。
LCDパネル140R,140G,140Bの画像データに応じて、画素毎に異なる透過率で入射光を透過させることによって作成された光学像は、クロスダイクロイックプリズム150により合成され、投写レンズ170によって、スクリーン180に拡大投写される。
電子ペーパーとしては、光学異方性と染料分子配向のような分子により表示されるもの、電気泳動、粒子移動、粒子回転、相変化のような粒子により表示されるもの、フィルムの一端が移動することにより表示されるもの、分子の発色/相変化により表示されるもの、分子の光吸収により表示されるもの、電子とホールが結合して自発光により表示されるものなどのことをいう。例えば、電子ペーパーとして、マイクロカプセル型電気泳動、水平移動型電気泳動、垂直移動型電気泳動、球状ツイストボール、磁気ツイストボール、円柱ツイストボール方式、帯電トナー、電子粉流体、磁気泳動型、磁気感熱式、エレクトロウェッテイング、光散乱(透明/白濁変化)、コレステリック液晶/光導電層、コレステリック液晶、双安定性ネマチック液晶、強誘電性液晶、2色性色素・液晶分散型、可動フィルム、ロイコ染料による発消色、フォトクロミック、エレクトロクロミック、エレクトロデポジション、フレキシブル有機ELなどを用いることができる。ただし、これに限定されず、電子ペーパーとして様々なものを用いることができる。
電子ペーパーは、テキストや画像を個人的に利用するものだけでなく、広告表示(サイネージ)等に利用されるものであってもよい。本発明の偏光子によれば、電子ペーパーの厚みを薄くすることができる。
3D表示装置としては、例えばマイクロポール方式のように交互に異なる偏光子を配列させる方法が提案(特開2002−185983号公報)されているが、本偏光子を用いた場合、印刷、インクジェット、フォトリソグラフィー等によりパターニングが容易であるため製造工程を短くすることができて好ましい。
液晶化合物として、下記式で表される化合物97重量部、二色性色素としてアゾ色素NKX2029C 2重量部、重合開始剤としてIRG184(Ciba Geigy社製)0.9重量部、及び阻害剤としてp−メトキシフェノール0.1重量部を、クロロホルム400重量部中で混合する。
ガラス基板1の一面に、ポリイミド配向膜1を成膜しラビング処理する。ポリイミド配向膜1上に、上記の混合溶液をスピンコート法により塗布し、130℃で3分加熱乾燥すると、塗膜が得られる。
ガラス基板2の一面に、ポリイミド配向膜2を成膜しラビング処理する。ポリイミド配向膜1とポリイミド配向膜2とのラビング方向が同じとなるように、ポリイミド配向膜2を塗膜の上に重ね、2分間放置した後、UV照射する。
ガラス基板1、ガラス基板2、ポリイミド配向膜1及びポリイミド配向膜2を取り外すと、偏光子が得られる。得られた偏光子の二色比は、高吸収曲線の吸収が最大にある波長で約23である。膜厚は2μmである。
Figure 2010210886
得られた偏光子は、保護フィルムを貼合しないで、図に示した液晶表示装置、EL表示装置及び投射型液晶表示装置の偏光子として用いることができる。
本発明によれば、より薄型化された表示装置を提供することができる。
1 積層体
2 支持基材
3 配向膜
4 偏光子
5 重合体
6 二色性色素
10 液晶表示装置
11 反射防止膜
12a、12b 偏光子
13a、13b 位相差フィルム
14a、14b 基板
15 カラーフィルタ
16 透明電極
17 液晶層
18 層間絶縁膜
19 バックライトユニット
20 ブラックマトリクス
21 薄膜トランジスタ
22 画素電極
23 スペーサ
24 液晶表示装置
30 EL表示装置
31 偏光子
32 位相差フィルム
33 基板
34 層間絶縁膜
35 画素電極
36 発光層
37 カソード電極
38 乾燥剤
39 封止フタ
40 薄膜トランジスタ
41 リブ
42 薄膜封止膜
44 EL表示装置
111 光源
112 第1のレンズアレイ
112a レンズ
113 第2のレンズアレイ
114 偏光変換素子
115 重畳レンズ
121,123,132 ダイクロイックミラー
122 反射ミラー
140R、140G,140B LCDパネル
142,143 偏光子
150 クロスダイクロイックプリズム
170 投写レンズ
180 スクリーン

Claims (3)

  1. 液晶化合物を重合して得られる重合体及び重合体中に配向して分散している二色性色素を含み、二色比が15以上である偏光子と、
    発光源とを含む表示装置。
  2. 重合体が、液晶化合物を配向した後に、重合して得られる重合体である請求項1記載の表示装置。
  3. 偏光子の厚みが、10μm以下である請求項1又は2記載の表示装置。
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