JP2010184290A - 基板アライメント方法、基板アライメント装置、レーザ加工裝置及びソーラパネル製造方法 - Google Patents
基板アライメント方法、基板アライメント装置、レーザ加工裝置及びソーラパネル製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2010184290A JP2010184290A JP2009031903A JP2009031903A JP2010184290A JP 2010184290 A JP2010184290 A JP 2010184290A JP 2009031903 A JP2009031903 A JP 2009031903A JP 2009031903 A JP2009031903 A JP 2009031903A JP 2010184290 A JP2010184290 A JP 2010184290A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- processing
- alignment
- image
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
【解決手段】レーザ光による最初の加工処理が終了した時点で、その加工処理によって形成された形状変化部分と基板の縁部の両方を含む箇所の画像を取得し、その画像を次回以降の加工処理前のアライメント処理に利用するようにした。画像の中に形状変化部分と基板縁部の両方の画像を含んでいるので、画像認識処理が容易となる。
【選択図】図3
Description
基板にレーザ光を照射する加工処理としては、透光性基板(ガラス基板)上に金属層、半導体層、透明電極層を順次形成し、形成後の各工程で各層をレーザ光を用いて短冊状に加工してソーラパネルを作成するソーラパネル製造などが該当する。このようなレーザ加工においては、各工程でアライメント処理が行なわれる。この発明では、レーザ光による最初の加工処理が終了した時点で、その加工処理によって形成された形状変化部分と基板の縁部の両方を含む箇所の画像を取得し、その画像を次回以降の加工処理前のアライメント処理に利用するようにした。例えば、ソーラパネル製造の場合、レーザ加工によって形成されたスクライブ線と基板縁部との両方を含む箇所の画像を取得し、取得した画像に基づいてレーザ加工処理の前にアライメント処理を行なうようにした。画像の中に形状変化部分と基板縁部の両方の画像を含んでいるので、画像認識処理が容易となるという効果がある。例えば、ソーラパネル製造の場合、スクライブ線の画像と基板縁部の形状の画像の両方を含んでいるので、画像認識処理が容易となる。これによって、基板上にアライメントマークを設けることなく正確にアライメントを行なうことができる。
10…台座
20…XYテーブル
30…スライドフレーム
31…ベース板
40…レーザ発生装置
50…光学系部材
60…アライメントカメラ装置
70…リニアエンコーダ
80…制御装置
Claims (4)
- 基板にレーザ光を照射する加工処理を施す際に、前記基板を前記加工位置にアライメント処理する基板アライメント方法において、
前記レーザ光による最初の加工処理が終了した時点で、前記最初の加工処理によって形成された前記基板の形状変化部分と前記基板の縁部との両方を含む箇所の画像を取得し、前記画像を前記基板のIDデータとして記憶しておき、2回目以降の加工処理を施す際は前記IDデータに基づいて前記アライメント処理を行なうことを特徴とする基板アライメント方法。 - 基板を保持する保持手段と、
前記基板にレーザ光を照射して所定の加工処理を施すレーザ光照射手段と、
前記基板を前記保持手段の所定位置にアライメント処理するアライメント手段と、
前記レーザ光による最初の加工処理が終了した時点で、前記最初の加工処理によって形成された前記基板の形状変化部分と前記基板の縁部との両方を含む箇所の画像を取得する画像取得手段と、
前記画像取得手段によって取得された前記画像を前記基板のIDデータとして記憶する記憶手段と、
2回目以降の加工処理を施す際は、前記IDデータに基づいて前記アライメント手段によるアライメント処理を制御する制御手段と
を備えたことを特徴とする基板アライメント装置。 - 請求項1に記載の基板アライメント方法又は請求項2に記載の基板アライメント装置を用いてワークに対してレーザ光による加工処理を行なうことを特徴とするレーザ加工装置。
- 請求項1に記載の基板アライメント方法、請求項2に記載の基板アライメント装置又は請求項3に記載のレーザ加工装置を用いて、ソーラパネルを製造することを特徴とするソーラパネル製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009031903A JP5253217B2 (ja) | 2009-02-13 | 2009-02-13 | 基板アライメント方法、基板アライメント装置、レーザ加工裝置及びソーラパネル製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009031903A JP5253217B2 (ja) | 2009-02-13 | 2009-02-13 | 基板アライメント方法、基板アライメント装置、レーザ加工裝置及びソーラパネル製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010184290A true JP2010184290A (ja) | 2010-08-26 |
JP5253217B2 JP5253217B2 (ja) | 2013-07-31 |
Family
ID=42765263
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009031903A Expired - Fee Related JP5253217B2 (ja) | 2009-02-13 | 2009-02-13 | 基板アライメント方法、基板アライメント装置、レーザ加工裝置及びソーラパネル製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5253217B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012066281A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Kataoka Seisakusho:Kk | レーザ加工機 |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60245134A (ja) * | 1984-05-18 | 1985-12-04 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 位置決め装置、及び該装置を用いた基板の位置決め方法 |
JPH05183053A (ja) * | 1991-12-28 | 1993-07-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | 溝アライメントによる切削方法 |
JPH06232254A (ja) * | 1993-02-01 | 1994-08-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体ウェーハの切断ライン位置検出方法及び装置 |
JPH08298236A (ja) * | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Sony Corp | パターンの露光方法及びその装置 |
JPH10216976A (ja) * | 1996-12-05 | 1998-08-18 | Nikon Corp | レーザ加工装置およびアライメント装置 |
JP2004239877A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-08-26 | Renesas Technology Corp | 回路パターンの検査方法および半導体装置の製造方法 |
JP2006019658A (ja) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Toshiba Corp | 露光システム及び半導体装置の製造方法 |
JP2007033537A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Sharp Corp | 可撓性表示素子の製造装置およびその素子の製造方法 |
JP2007111754A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
WO2007144565A2 (en) * | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Oerlikon Balzers Coating (Uk) Limited | Process for laser scribing |
JP2008177364A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-07-31 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
JP2009289786A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの切削方法 |
-
2009
- 2009-02-13 JP JP2009031903A patent/JP5253217B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60245134A (ja) * | 1984-05-18 | 1985-12-04 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 位置決め装置、及び該装置を用いた基板の位置決め方法 |
JPH05183053A (ja) * | 1991-12-28 | 1993-07-23 | Disco Abrasive Syst Ltd | 溝アライメントによる切削方法 |
JPH06232254A (ja) * | 1993-02-01 | 1994-08-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 半導体ウェーハの切断ライン位置検出方法及び装置 |
JPH08298236A (ja) * | 1995-04-26 | 1996-11-12 | Sony Corp | パターンの露光方法及びその装置 |
JPH10216976A (ja) * | 1996-12-05 | 1998-08-18 | Nikon Corp | レーザ加工装置およびアライメント装置 |
JP2004239877A (ja) * | 2003-02-10 | 2004-08-26 | Renesas Technology Corp | 回路パターンの検査方法および半導体装置の製造方法 |
JP2006019658A (ja) * | 2004-07-05 | 2006-01-19 | Toshiba Corp | 露光システム及び半導体装置の製造方法 |
JP2007033537A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Sharp Corp | 可撓性表示素子の製造装置およびその素子の製造方法 |
JP2007111754A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
WO2007144565A2 (en) * | 2006-06-14 | 2007-12-21 | Oerlikon Balzers Coating (Uk) Limited | Process for laser scribing |
JP2008177364A (ja) * | 2007-01-18 | 2008-07-31 | Denso Corp | 半導体装置の製造方法及び半導体装置 |
JP2009289786A (ja) * | 2008-05-27 | 2009-12-10 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの切削方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012066281A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Kataoka Seisakusho:Kk | レーザ加工機 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5253217B2 (ja) | 2013-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102355837B1 (ko) | 레이저 가공 장치 | |
EP2250534B1 (en) | Laser processing a multi-device panel | |
CN102998909B (zh) | 曝光装置 | |
JP6278451B2 (ja) | マーキング装置およびパターン生成装置 | |
CN101738873B (zh) | 曝光装置 | |
JP2013500867A (ja) | 緯度方向等値線スクライビング加工、ステッチング、ならびに簡易化されたレーザ制御およびスキャナ制御 | |
KR101586577B1 (ko) | 위치 계측 장치, 얼라인먼트 장치, 패턴 묘화 장치 및 위치 계측 방법 | |
JP5392943B2 (ja) | レーザ加工方法、レーザ加工装置及びソーラパネル製造方法 | |
JP5224343B2 (ja) | レーザ加工装置 | |
TW201315554A (zh) | 雷射加工裝置及雷射加工方法 | |
JP2007048835A (ja) | レーザ加工装置及びそれを用いた太陽電池基板のパターニング方法 | |
KR101886357B1 (ko) | 레이저 광선의 스폿 형상 검출 방법 및 스폿 형상 검출 장치 | |
KR102770093B1 (ko) | 위치 조정 방법 및 위치 조정 장치 | |
TWI414384B (zh) | 雷射加工方法、雷射加工裝置及太陽電池板製造方法 | |
KR20130098838A (ko) | 레이저 가공 장치, 레이저 가공 방법 및 레이저 가공 프로그램을 기록한 컴퓨터가 판독 가능한 기록 매체 | |
JP5268749B2 (ja) | 基板状態検査方法及びレーザ加工装置並びにソーラパネル製造方法 | |
JP5253217B2 (ja) | 基板アライメント方法、基板アライメント装置、レーザ加工裝置及びソーラパネル製造方法 | |
WO2016147977A1 (ja) | 描画装置 | |
JP2010188395A (ja) | レーザ加工方法、レーザ加工装置及びソーラパネル製造方法 | |
JP5349352B2 (ja) | レーザ光状態検査方法及び装置、レーザ加工方法及び装置並びにソーラパネル製造方法 | |
JP2008171873A (ja) | 位置決め装置、位置決め方法、加工装置及び加工方法 | |
JP6224462B2 (ja) | レーザー加工装置における加工送り機構の作動特性検出方法およびレーザー加工装置 | |
KR20160107992A (ko) | 레이저 마킹 장치 | |
CN115229361A (zh) | 激光加工装置的调整方法和激光加工装置 | |
JP2009160610A (ja) | レーザリペア装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20111005 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20121214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130215 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130416 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130416 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |