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JP2010181835A - Display panel - Google Patents

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JP2010181835A
JP2010181835A JP2009027731A JP2009027731A JP2010181835A JP 2010181835 A JP2010181835 A JP 2010181835A JP 2009027731 A JP2009027731 A JP 2009027731A JP 2009027731 A JP2009027731 A JP 2009027731A JP 2010181835 A JP2010181835 A JP 2010181835A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cross
wiring
wirings
sectional enlarged
display panel
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2009027731A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Maki Okabe
真樹 岡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2009027731A priority Critical patent/JP2010181835A/en
Publication of JP2010181835A publication Critical patent/JP2010181835A/en
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To achieve microfabrication of wiring lines on a display panel and reduction in the resistance of the wiring lines. <P>SOLUTION: The display panel includes a plurality of integrated circuits 221, 222 laid in a circumference of a pixel region, and a plurality of wiring lines 241 to 243 formed along the circumference of the pixel region. The wiring lines 241 to 243 connect integrated circuits 221, 222. The plurality of wiring lines 241 to 243 are covered with an insulating layer 280. The wiring lines 241 to 243 in a length direction partially have cross-section-enlarged portions 261 to 266 where the cross sections of the lines 241 to 243 are enlarged in the width direction. The cross-section enlarged portions 261 to 266 each includes: a columnar portion 261a to 266a extended from the line 241 to 243 in the thickness direction of a glass substrate 121; and an enlarged portion 261b to 266b spreading from the columnar portion 261a to 266a in the width direction of the wiring line 241 to 243, while the insulating layer 280 is interposed between the enlarged portion and other wiring lines. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は表示パネルに関し、例えば、画素領域の周縁部に複数の配線を備えた表示パネルに関する。   The present invention relates to a display panel, for example, a display panel provided with a plurality of wirings in a peripheral portion of a pixel region.

表示パネルは、例えば、アクティブマトリクス型液晶表示装置が知られている。アクティブマトリクス型液晶表示装置は、スイッチング素子としてTFT(ThinFilm Transistor:薄膜トランジスタ)を備えている。また、この液晶表示装置は、互いに対向する2枚の基板を備えた液晶パネルを備えている。   As the display panel, for example, an active matrix liquid crystal display device is known. The active matrix liquid crystal display device includes a TFT (Thin Film Transistor) as a switching element. The liquid crystal display device also includes a liquid crystal panel including two substrates facing each other.

液晶パネルの一方の基板(アレイ基板)には、透明基板(例えば、ガラス基板)にゲートバスライン(走査信号線)とソースバスライン(映像信号線)とが格子状に設けられている。また、ゲートバスラインとソースバスラインとの交差部近傍にはTFTが設けられている。TFTは、ゲートバスラインに接続されたゲート電極、ソースバスラインに接続されたソース電極、及びドレイン電極とから構成される。ドレイン電極は、画像を形成するため、基板上にマトリクス状に配置された画素電極と接続されている。また、液晶パネルの他方の基板(カラーフィルタ基板)には、液晶層を介して画素電極との間に電圧を印加するための共通電極が透明基板に設けられている。そして、各TFTのゲート電極がゲートバスラインからアクティブなゲート信号(走査信号)を受けたときに当該TFTのソース電極がソースバスラインから受けるソース信号(映像信号)と、共通電極に供給される共通電極信号とに基づいて、液晶層に電圧が印加される。これにより液晶が駆動され、画面上に所望の画像が表示される。   On one substrate (array substrate) of the liquid crystal panel, gate bus lines (scanning signal lines) and source bus lines (video signal lines) are provided in a lattice pattern on a transparent substrate (for example, a glass substrate). A TFT is provided in the vicinity of the intersection between the gate bus line and the source bus line. The TFT includes a gate electrode connected to the gate bus line, a source electrode connected to the source bus line, and a drain electrode. The drain electrode is connected to pixel electrodes arranged in a matrix on the substrate in order to form an image. Further, on the other substrate (color filter substrate) of the liquid crystal panel, a common electrode for applying a voltage to the pixel electrode through the liquid crystal layer is provided on the transparent substrate. When the gate electrode of each TFT receives an active gate signal (scan signal) from the gate bus line, the source signal (video signal) received by the source electrode of the TFT from the source bus line is supplied to the common electrode. A voltage is applied to the liquid crystal layer based on the common electrode signal. As a result, the liquid crystal is driven and a desired image is displayed on the screen.

かかる液晶表示装置には、例えば、ゲートバスラインに走査信号を送るゲートドライバや、ソースバスラインに信号を送るソースドライバや、これらを制御する制御回路などが、液晶パネルの基板(アレイ基板)上に形成された形態が知られている(例えば、特開2008−89619(特許文献1)。   In such a liquid crystal display device, for example, a gate driver for sending a scanning signal to a gate bus line, a source driver for sending a signal to a source bus line, a control circuit for controlling these, etc. are provided on a substrate (array substrate) of the liquid crystal panel. (For example, JP-A-2008-89619 (Patent Document 1) is known.

特開2008−89619JP2008-89619

液晶パネルの基板(アレイ基板)上に、ゲートドライバや、ソースドライバや、制御回路などの集積回路を形成する場合、これらの回路を接続する配線が基板上に形成される。このような場合に、各配線を微細(狭ピッチ)にできれば、液晶パネルの小型化に寄与する。また、各配線の抵抗値を下げることができれば、液晶表示装置の低電力化(省力化)に寄与する。本発明は、ゲートドライバや、ソースドライバや、制御回路などの集積された回路を接続する配線が基板上に形成される表示パネルにおいて、かかる基板上に形成される配線の微細化、低抵抗化が可能な構造を提案する。   When an integrated circuit such as a gate driver, a source driver, or a control circuit is formed on a substrate (array substrate) of a liquid crystal panel, wiring for connecting these circuits is formed on the substrate. In such a case, if each wiring can be made fine (narrow pitch), it contributes to miniaturization of the liquid crystal panel. Moreover, if the resistance value of each wiring can be lowered, it contributes to the reduction in power consumption (labor saving) of the liquid crystal display device. The present invention relates to a display panel in which wiring for connecting integrated circuits such as a gate driver, a source driver, and a control circuit is formed on a substrate, and the wiring formed on the substrate is miniaturized and the resistance is reduced. We propose a possible structure.

本発明に係る表示パネルは、中央に画素領域が形成された透明基板を備えている。透明基板上で、画素領域の周縁部には、複数の集積回路が配置されている。また、透明基板上で、画素領域の周縁部に沿って複数の配線が形成されている。かかる複数の配線は、集積回路を接続している。また、複数の配線は絶縁層によって覆われている。また、配線の長さ方向には、部分的に、配線の幅方向の断面を大きくした断面拡大部を備えている。断面拡大部は、配線から透明基板の厚さ方向に延びた柱部と、他の配線との間に絶縁層を介在させた状態で、柱部から配線の幅方向に広がった拡大部とを備えている。かかる表示パネルによれば、配線の微細化、低抵抗化を図ることができる。さらにかかる表示パネルが用いられた表示装置の省スペース化、省力化を図ることができる。   The display panel according to the present invention includes a transparent substrate having a pixel region formed in the center. On the transparent substrate, a plurality of integrated circuits are arranged at the periphery of the pixel region. A plurality of wirings are formed along the peripheral edge of the pixel region on the transparent substrate. The plurality of wirings connect the integrated circuits. The plurality of wirings are covered with an insulating layer. In addition, in the length direction of the wiring, a cross-sectional enlarged portion in which a cross section in the width direction of the wiring is partially enlarged is provided. The cross-sectional enlarged portion includes a pillar portion extending in the thickness direction of the transparent substrate from the wiring, and an enlarged portion extending in the width direction of the wiring from the pillar portion with an insulating layer interposed between the other wirings. I have. According to such a display panel, it is possible to achieve finer wiring and lower resistance. Furthermore, it is possible to save space and labor of a display device using such a display panel.

この場合、複数の配線に、断面拡大部が複数設けられており、各断面拡大部は、配線の長さ方向にずらして配置されているとよい。   In this case, a plurality of cross-sectional enlarged portions are provided in the plurality of wirings, and each cross-sectional enlarged portion is preferably arranged so as to be shifted in the length direction of the wiring.

本発明の一実施形態に係る液晶パネルの構造を示す分解斜視図。The disassembled perspective view which shows the structure of the liquid crystal panel which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る液晶パネルの構造を示す断面図。1 is a cross-sectional view illustrating a structure of a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る液晶パネルの配線構造を示す断面図。1 is a cross-sectional view showing a wiring structure of a liquid crystal panel according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る液晶パネルの配線に設けられた断面拡大部の構造を示す断面図。Sectional drawing which shows the structure of the cross-sectional expansion part provided in the wiring of the liquid crystal panel which concerns on one Embodiment of this invention. 断面拡大部の製造工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing process of a cross-section expansion part. 断面拡大部の製造工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing process of a cross-section expansion part. 断面拡大部の製造工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing process of a cross-section expansion part. 断面拡大部の製造工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing process of a cross-section expansion part. 断面拡大部の製造工程を示す断面図。Sectional drawing which shows the manufacturing process of a cross-section expansion part. 断面拡大部の他の形態を示す断面図。Sectional drawing which shows the other form of a cross-section enlarged part. 断面拡大部の他の形態を示す断面図。Sectional drawing which shows the other form of a cross-section enlarged part.

以下、本発明の一実施形態に係る表示パネルを図面に基づいて説明する。なお、同じ作用を奏する部材又は部位には、適宜に同じ符号を付している。ここでは、液晶表示パネルを例に挙げて本発明に係る表示パネルの一形態を説明する。   Hereinafter, a display panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the same code | symbol is attached | subjected suitably to the member or site | part which has the same effect | action. Here, a mode of a display panel according to the present invention will be described by taking a liquid crystal display panel as an example.

図1は、液晶パネル100の構造を示す分解斜視図である。また、図2は、液晶パネル100の断面構造を示している。
この液晶表示装置は、図1に示すように、アレイ基板120とカラーフィルタ基板140とを、枠状のシール材160を介在させて貼り合わせた構造を備えている。アレイ基板120とカラーフィルタ基板140の間隙で、枠状のシール材160の内側には、液晶180が封入されている。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing the structure of the liquid crystal panel 100. FIG. 2 shows a cross-sectional structure of the liquid crystal panel 100.
As shown in FIG. 1, this liquid crystal display device has a structure in which an array substrate 120 and a color filter substrate 140 are bonded together with a frame-shaped sealing material 160 interposed therebetween. Liquid crystal 180 is sealed inside the frame-shaped sealing material 160 in the gap between the array substrate 120 and the color filter substrate 140.

この実施形態では、アレイ基板120は、透明基板としてのガラス基板121に、ゲートバスライン211(走査信号線)とソースバスライン212(映像信号線)とが格子状に設けられている。ガラス基板121には、中央に画素領域210が形成されている。また、画素領域210の周縁部120aには、ゲートドライバ221及びソースドライバ222などの集積回路が設けられている。また、画素領域210の周縁部120aには、さらにこれらの集積回路221、222を接続するための複数(図示例では、3本)の配線241〜243が設けられている。図3は、かかる配線241〜243が形成された部分を示している。なお、図3は、図示の便宜上、配線241〜243の上に形成されている絶縁層280を省略している。この実施形態では、図3に示すように、かかる配線241〜243に断面拡大部261〜266が設けられている。かかる断面拡大部261〜266によって、配線241〜243の微細化、低抵抗化が図られている。以下、詳細に説明する。   In this embodiment, the array substrate 120 includes a glass substrate 121 as a transparent substrate, and gate bus lines 211 (scanning signal lines) and source bus lines 212 (video signal lines) are provided in a grid pattern. A pixel region 210 is formed at the center of the glass substrate 121. In addition, integrated circuits such as a gate driver 221 and a source driver 222 are provided in the peripheral portion 120 a of the pixel region 210. In addition, a plurality of (three in the illustrated example) wirings 241 to 243 for connecting the integrated circuits 221 and 222 are further provided on the peripheral portion 120a of the pixel region 210. FIG. 3 shows a portion where such wirings 241 to 243 are formed. Note that FIG. 3 omits the insulating layer 280 formed on the wirings 241 to 243 for convenience of illustration. In this embodiment, as shown in FIG. 3, cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are provided in the wirings 241 to 243. By the cross-sectional enlarged portions 261 to 266, the wirings 241 to 243 are miniaturized and the resistance is reduced. Details will be described below.

この実施形態では、図2に示すように、アレイ基板120はカラーフィルタ基板140よりも大きい基板である。アレイ基板120とカラーフィルタ基板140とを貼り合せたとき、アレイ基板120の周縁部120a(画素領域210の周縁部120a)は、カラーフィルタ基板140からはみ出る。かかるアレイ基板120の周縁部120aには、図1に示すように、集積回路としてのゲートドライバ221と、ソースドライバ222と、制御回路223とが配置されている。   In this embodiment, as shown in FIG. 2, the array substrate 120 is a substrate larger than the color filter substrate 140. When the array substrate 120 and the color filter substrate 140 are bonded together, the peripheral edge 120 a of the array substrate 120 (the peripheral edge 120 a of the pixel region 210) protrudes from the color filter substrate 140. As shown in FIG. 1, a gate driver 221 as an integrated circuit, a source driver 222, and a control circuit 223 are arranged on the peripheral edge 120 a of the array substrate 120.

ゲートドライバ221は、ゲートバスライン211に走査信号を送る駆動回路である。ソースドライバ222は、ソースバスライン212に信号を送る駆動回路である。制御回路223は、液晶表示装置の種々の制御を行う。例えば、制御回路223は、外部から入力される映像信号を基に、ゲートバスライン211に送る信号と、ソースバスライン212に送る信号とを生成する。そして、ゲートバスライン211とソースバスライン212とに、生成した信号を同期させて送る。   The gate driver 221 is a drive circuit that sends a scanning signal to the gate bus line 211. The source driver 222 is a drive circuit that sends a signal to the source bus line 212. The control circuit 223 performs various controls of the liquid crystal display device. For example, the control circuit 223 generates a signal to be sent to the gate bus line 211 and a signal to be sent to the source bus line 212 based on a video signal input from the outside. Then, the generated signals are sent to the gate bus line 211 and the source bus line 212 in synchronization.

この実施形態では、ゲートドライバ221とソースドライバ222とは、図1及び図3に示すように、複数の配線241〜243によって接続されている。図4は、かかる断面拡大部265が形成された部位の配線241〜243の断面構造を示している。この実施形態では、配線241〜243は、ソースドライバ222とゲートドライバ221との間に設けられている。配線241〜243は、アレイ基板120の外側から順に並べられ、それぞれアレイ基板120の周縁部120aに沿って延びている。   In this embodiment, the gate driver 221 and the source driver 222 are connected by a plurality of wirings 241 to 243 as shown in FIGS. FIG. 4 shows a cross-sectional structure of the wirings 241 to 243 at the site where the cross-sectional enlarged portion 265 is formed. In this embodiment, the wirings 241 to 243 are provided between the source driver 222 and the gate driver 221. The wirings 241 to 243 are arranged in order from the outside of the array substrate 120 and extend along the peripheral edge 120a of the array substrate 120, respectively.

また、この実施形態では、ゲートドライバ221が配置される位置には、配線241〜243の接続端子241a〜243aが設けられている。ゲートドライバ221は、かかる接続端子241a〜243aに接続されている。また、ソースドライバ222が配置される位置には、配線241〜243の接続端子241b〜243bが設けられている。ソースドライバ222は、かかる接続端子241b〜243bに接続されている。この実施形態では、配線241、242は、図3に示すように、長さ方向において部分的に配線断面を大きくする断面拡大部261〜266を備えている。   In this embodiment, connection terminals 241a to 243a of the wirings 241 to 243 are provided at positions where the gate driver 221 is disposed. The gate driver 221 is connected to the connection terminals 241a to 243a. In addition, connection terminals 241b to 243b of wirings 241 to 243 are provided at positions where the source driver 222 is disposed. The source driver 222 is connected to the connection terminals 241b to 243b. In this embodiment, as shown in FIG. 3, the wirings 241 and 242 include cross-sectional enlarged portions 261 to 266 that partially enlarge the wiring cross section in the length direction.

以下、断面拡大部261〜266の一例として、断面拡大部265を説明する。断面拡大部265は、図4に示すように、柱部265aと、拡大部265bとを備えている。柱部265aは、配線242からガラス基板121の厚さ方向に延びた部位である。拡大部265bは、他の配線241、243との間に絶縁層280を介在させた状態で、柱部265aから配線242の幅方向に広がっている。断面拡大部265の拡大部265bは、柱部265aによって配線241〜243よりも高い位置に設けられている。また、拡大部265bと他の配線241、243との間には、絶縁層280が介在している。これにより、拡大部265bが、他の配線241、243と電気的に接続されることはない。   Hereinafter, the cross-sectional enlarged portion 265 will be described as an example of the cross-sectional enlarged portions 261 to 266. As shown in FIG. 4, the cross-sectional enlarged portion 265 includes a column portion 265 a and an enlarged portion 265 b. The column part 265 a is a part extending from the wiring 242 in the thickness direction of the glass substrate 121. The enlarged portion 265b extends from the column portion 265a in the width direction of the wiring 242 with the insulating layer 280 interposed between the other wirings 241 and 243. The enlarged portion 265b of the cross-sectional enlarged portion 265 is provided at a position higher than the wirings 241 to 243 by the column portion 265a. An insulating layer 280 is interposed between the enlarged portion 265b and the other wirings 241 and 243. Accordingly, the enlarged portion 265b is not electrically connected to the other wirings 241 and 243.

以上、図4に基づいて、断面拡大部265を説明した。図示は省略するが、他の断面拡大部261〜264、266についても同様の構造を備えている。すなわち、他の断面拡大部261〜264、266は、それぞれ配線241、242からガラス基板121の厚さ方向に延びた柱部261a〜264a、266aを備えている。また、他の断面拡大部261〜264、266は、柱部261a〜264a、266aから配線241〜243の幅方向に延びた拡大部261b〜264b、266bを備えている。   The cross-sectional enlarged portion 265 has been described based on FIG. Although illustration is omitted, the other cross-sectional enlarged portions 261 to 264 and 266 have the same structure. That is, the other cross-sectional enlarged portions 261 to 264 and 266 include column portions 261 a to 264 a and 266 a extending from the wirings 241 and 242 in the thickness direction of the glass substrate 121, respectively. Further, the other cross-sectional enlarged portions 261 to 264 and 266 include enlarged portions 261 b to 264 b and 266 b extending from the pillar portions 261 a to 264 a and 266 a in the width direction of the wirings 241 to 243.

各断面拡大部261〜266は、配線241、242の長さ方向においてずらして設けられている。すなわち、この実施形態では、断面拡大部261〜266は、配線241〜243の幅方向に延びている。このため、断面拡大部261〜266は、配線241、242の長さ方向に位置をずらして設けることによって、断面拡大部261〜266を干渉させずに、配線241、242の長さ方向に複数設けることができる。また、各断面拡大部261〜266と、他の配線(当該断面拡大部261〜266が設けられた配線とは異なる配線)との間には、それぞれ絶縁層280が介在している。このため、当該断面拡大部261〜266が設けられた配線と、他の配線とが電気的に接続されることはない。   The cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are provided so as to be shifted in the length direction of the wirings 241 and 242. That is, in this embodiment, the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 extend in the width direction of the wirings 241 to 243. For this reason, a plurality of cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are provided in the length direction of the wirings 241 and 242 without being interfered with each other by providing a position shifted in the length direction of the wirings 241 and 242. Can be provided. In addition, an insulating layer 280 is interposed between each cross-sectional enlarged portion 261 to 266 and another wiring (a wiring different from the wiring provided with the cross-sectional enlarged portion 261 to 266). For this reason, the wiring provided with the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 is not electrically connected to the other wiring.

断面拡大部261〜266が設けられた部位は、例えば、図4に示すように、配線241、242の幅方向断面において、配線241、242の断面を大きくする。このため、配線241、242は、当該断面拡大部261〜266が設けられた部位において、電気的な抵抗が低下する。   For example, as shown in FIG. 4, the portion where the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are provided enlarges the cross section of the wirings 241 and 242 in the cross section in the width direction of the wirings 241 and 242. For this reason, the electrical resistances of the wirings 241 and 242 are reduced at the portions where the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are provided.

この実施形態では、図3に示すように、断面拡大部261、263、264、266は、それぞれ配線241に設けられている。また、断面拡大部262、265は、それぞれ配線242に設けられている。すなわち、この実施形態では、3本の配線241〜243のうちアレイ基板120の周縁部120aの一番外側に設けられた配線241には、4つの断面拡大部261、263、264、266が設けられている。また、3本の配線241〜243のうち周縁部120aの真ん中に設けられた配線242には、2つの断面拡大部262、265が設けられている。また、3本の配線241〜243のうち周縁部120aの一番内側に設けられた配線243には、断面拡大部は設けられていない。   In this embodiment, as shown in FIG. 3, the enlarged cross-sectional portions 261, 263, 264, and 266 are provided in the wiring 241. Further, the cross-sectional enlarged portions 262 and 265 are respectively provided in the wiring 242. That is, in this embodiment, among the three wirings 241 to 243, the wiring 241 provided on the outermost side of the peripheral edge portion 120a of the array substrate 120 is provided with four cross-sectional enlarged portions 261, 263, 264, and 266. It has been. In addition, two cross-sectional enlarged portions 262 and 265 are provided in the wire 242 provided in the middle of the peripheral edge portion 120a among the three wires 241 to 243. Of the three wires 241 to 243, the wire 243 provided on the innermost side of the peripheral portion 120a is not provided with an enlarged section.

3本の配線241〜243は、アレイ基板120の周縁部120aの一番外側に設けられた配線241が最も長い。ついで、周縁部120aの真ん中に設けられた配線242が長い。そして、周縁部120aの一番内側に設けられた配線243は、3本の配線241〜243の中で最も短い。この実施形態では、各配線241〜243の基本の断面は同じであり、各配線241〜243はそれぞれ同じ材料で形成されている。このため、上述した断面拡大部261〜266が設けられていない場合には、各配線241〜243の抵抗は、配線241〜243が長ければ長いほど大きくなると考えられる。このため、上述した断面拡大部261〜266が設けられていない場合には、アレイ基板120の周縁部120aの一番外側に設けられた配線241が最も抵抗値が高いと考えられる。ついで、周縁部120aの真ん中に設けられた配線242の抵抗値が高く、周縁部120aの一番内側に設けられた配線243の抵抗値が最も低いと考えられる。   Among the three wires 241 to 243, the wire 241 provided on the outermost side of the peripheral edge 120a of the array substrate 120 is the longest. Next, the wiring 242 provided in the middle of the peripheral edge 120a is long. The wiring 243 provided on the innermost side of the peripheral portion 120a is the shortest of the three wirings 241 to 243. In this embodiment, the basic cross section of each wiring 241 to 243 is the same, and each wiring 241 to 243 is formed of the same material. For this reason, when the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 described above are not provided, the resistance of each of the wirings 241 to 243 is considered to increase as the wirings 241 to 243 become longer. For this reason, when the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 described above are not provided, the wiring 241 provided on the outermost side of the peripheral edge portion 120a of the array substrate 120 is considered to have the highest resistance value. Next, the resistance value of the wiring 242 provided in the middle of the peripheral edge portion 120a is high, and the resistance value of the wiring 243 provided on the innermost side of the peripheral edge portion 120a is considered to be the lowest.

この実施形態では、最も長い配線241に4つの断面拡大部261、263、264、266が設けられている。また、次に長い配線242には2つの断面拡大部262、265が設けられている。また、最も短い配線243には、断面拡大部が設けられていない。断面拡大部261〜266は、それぞれ配線の電気的な抵抗を部分的に低下させる。また、配線全体としては、断面拡大部の数に応じて、配線全体としての電気的な抵抗が低下すると考えられる。断面拡大部261〜266を設けない状態では、配線が長いほど配線の全体の抵抗値が高い。この実施形態では、配線が長いほど断面拡大部を数多く設けている。換言すると、断面拡大部261〜266を設けない状態における、全体の抵抗値が高い配線に、断面拡大部261〜266を数多く設けている。これにより、各配線241〜243の抵抗値のばらつきが改善される。   In this embodiment, four cross-sectional enlarged portions 261, 263, 264, and 266 are provided on the longest wiring 241. The next long wiring 242 is provided with two cross-sectional enlarged portions 262 and 265. Further, the shortest wiring 243 is not provided with an enlarged section. Each of the enlarged cross-sectional portions 261 to 266 partially reduces the electrical resistance of the wiring. In addition, as a whole wiring, it is considered that the electrical resistance of the whole wiring decreases according to the number of cross-sectional enlarged portions. In the state where the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are not provided, the overall resistance value of the wiring is higher as the wiring is longer. In this embodiment, the longer the wiring is, the more cross-sectional enlarged portions are provided. In other words, a large number of cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are provided in the wiring having a high overall resistance value in a state where the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are not provided. Thereby, the dispersion | variation in the resistance value of each wiring 241-243 is improved.

この実施形態では、配線241〜243の抵抗値のばらつきが改善されるので、各配線241〜243を通じて、より安定して信号を送ることができる。また、この実施形態では、断面拡大部261〜266が配線241、242に設けられていることによって、配線241、242の抵抗値がそれぞれ低下する。   In this embodiment, variation in resistance values of the wirings 241 to 243 is improved, so that signals can be transmitted more stably through the wirings 241 to 243. In this embodiment, since the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are provided in the wirings 241 and 242, the resistance values of the wirings 241 and 242 are decreased.

また、この実施形態では、図4に示すように、断面拡大部261〜266は、配線241〜243からガラス基板121の厚さ方向に延びた柱部261a〜266aを備えている。そして、断面拡大部261〜266は、他の配線との間に絶縁層280を介在させた状態で、柱部261a〜266aから配線241〜243の幅方向に広がった拡大部261b〜266bを備えている。このため、各配線241〜243の間隔を狭くしても、断面拡大部261〜266が、他の配線に電気的に接触するのを防止できる。このため、各配線241〜243の間隔を狭くできる。このように、かかるアレイ基板120上に形成される配線241〜243の微細化、低抵抗化を実現できる。   In this embodiment, as shown in FIG. 4, the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 include column portions 261 a to 266 a extending from the wirings 241 to 243 in the thickness direction of the glass substrate 121. The cross-sectional enlarged portions 261 to 266 include enlarged portions 261b to 266b extending from the column portions 261a to 266a in the width direction of the wires 241 to 243 with the insulating layer 280 interposed between the cross-sectional enlarged portions 261 to 266. ing. For this reason, even if the space | interval of each wiring 241-243 is narrowed, it can prevent that the cross-sectional enlarged parts 261-266 electrically contact another wiring. For this reason, the space | interval of each wiring 241-243 can be narrowed. In this manner, the wirings 241 to 243 formed on the array substrate 120 can be miniaturized and the resistance can be reduced.

また、この実施形態では、ゲートドライバ221とソースドライバ222とを接続する配線241〜243について例示したが、上述した断面拡大部261〜266の構造は、他の配線にも適用できる。例えば、液晶パネルの基板の周縁部に、同様に、集積回路(例えば、コントロール回路、信号生成回路など)が設けられ、これら各集積回路を接続する配線が設けられている場合、配線の低抵抗化のため、上記の断面拡大部を設けるとよい。断面拡大部は、上述したように、配線の低抵抗化に寄与する。また、複数の配線が液晶パネルの基板上に並べて設けられる場合には、これらの配線全体の低抵抗化と、微細化を実現できる。   Further, in this embodiment, the wirings 241 to 243 connecting the gate driver 221 and the source driver 222 are illustrated, but the structure of the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 described above can be applied to other wirings. For example, when an integrated circuit (for example, a control circuit, a signal generation circuit, etc.) is similarly provided on the peripheral portion of the substrate of the liquid crystal panel, and wiring for connecting these integrated circuits is provided, the low resistance of the wiring For the sake of simplicity, it is preferable to provide the above-mentioned enlarged section. As described above, the enlarged cross-section portion contributes to a reduction in the resistance of the wiring. In addition, when a plurality of wirings are provided side by side on the substrate of the liquid crystal panel, it is possible to realize a reduction in resistance and miniaturization of these wirings as a whole.

また、この実施形態では、図1に示すように、液晶パネル100のアレイ基板120上に形成される配線241〜243を例示した。他の形態として、例えば、カラーフィルタ基板に同様の配線が形成される場合があるなら、かかる配線に上記の断面拡大部を設けることができる。すなわち、液晶パネル100の基板上に形成された配線に、上記の断面拡大部を設けることによって、液晶パネル100全体として、配線の抵抗値が低下する。これにより、液晶パネル100の駆動に要する電力を低下させることができる。液晶パネル100の基板上に、複数の配線を並べて設ける場合には、上記の断面拡大部を設けることによって、各配線の抵抗値を調整できるとともに、かかる配線の微細化及び省スペース化に寄与する。このように、表示パネルにおいて、透明基板の周縁部に沿って形成された複数の配線の微細化を図ることができる。表示パネルの周縁部は、例えば、額縁状のフレームに嵌められる。この実施形態では、透明基板の周縁部に沿って形成された複数の配線の微細化を図ることができるので、表示パネルを支持する額縁状のフレームを細くすることができる。すなわち、表示装置に、より細いフレームを採用することができる。   In this embodiment, as shown in FIG. 1, the wirings 241 to 243 formed on the array substrate 120 of the liquid crystal panel 100 are exemplified. As another form, for example, if the same wiring may be formed on the color filter substrate, the cross-sectional enlarged portion can be provided in the wiring. That is, by providing the cross-sectional enlarged portion in the wiring formed on the substrate of the liquid crystal panel 100, the resistance value of the wiring as the entire liquid crystal panel 100 is lowered. Thereby, the electric power required for driving the liquid crystal panel 100 can be reduced. In the case where a plurality of wirings are provided side by side on the substrate of the liquid crystal panel 100, the resistance value of each wiring can be adjusted by providing the above-described cross-sectional enlarged portion, and the wiring contributes to miniaturization and space saving. . As described above, in the display panel, a plurality of wirings formed along the peripheral edge of the transparent substrate can be miniaturized. The peripheral part of the display panel is fitted to a frame-like frame, for example. In this embodiment, since the plurality of wirings formed along the peripheral edge of the transparent substrate can be miniaturized, the frame of the frame that supports the display panel can be thinned. That is, a thinner frame can be employed for the display device.

次に、上記断面拡大部261〜266の形成工程の一例を説明する。配線241〜243や断面拡大部261〜266は、アレイ基板120にゲートバスライン211やソースバスライン212やTFT(図示省略)などを形成する一連の工程に合わせて、形成するとよい。図5〜図7は、断面拡大部265の形成工程を示している。なお、他の断面拡大部261〜264、266についても同様の方法で形成できる。   Next, an example of the formation process of the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 will be described. The wirings 241 to 243 and the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are preferably formed in accordance with a series of steps for forming the gate bus lines 211, the source bus lines 212, TFTs (not shown), and the like on the array substrate 120. 5 to 7 show a process of forming the cross-sectional enlarged portion 265. Other cross-sectional enlarged portions 261 to 264 and 266 can be formed by the same method.

例えば、ゲートバスライン211やソースバスライン212やTFT(図示省略)などを形成する場合には、エッチング(etching)やフォトリソグラフィ(photolithography)などの手法にて、ガラス基板上に金属薄膜からなる微細な配線を形成する。配線241〜243は、ゲートバスライン211やソースバスライン212やTFT(図示省略)などを形成する工程に合わせて形成するとよい。例えば、配線241〜243は、ゲートバスライン211やソースバスライン212を形成する工程に合わせて、ガラス基板121の上に所定のパターンで形成するとよい。   For example, when forming the gate bus line 211, the source bus line 212, TFT (not shown), etc., a fine film made of a metal thin film on a glass substrate by a technique such as etching or photolithography. A simple wiring. The wirings 241 to 243 are preferably formed in accordance with a process of forming the gate bus line 211, the source bus line 212, the TFT (not shown), and the like. For example, the wirings 241 to 243 are preferably formed in a predetermined pattern on the glass substrate 121 in accordance with the process of forming the gate bus line 211 and the source bus line 212.

また、断面拡大部265は、図5〜図9に示すように、例えば、いわゆるリフトオフ加工によって形成するとよい。例えば、図5に示すように、ガラス基板121上に所定のパターンで配線241〜243を形成する。次に、図8に示すように、配線241〜243が形成されたガラス基板121上に、断面拡大部261〜266の逆パターンのフォトレジスト291で形成する。かかる逆パターンのフォトレジスト291は、例えば、ネガ型のフォトレジスト291aと、ポジ型のフォトレジスト291bを組み合わせて形成することができる。この実施形態では、図6に示すように、配線241〜243の上に、断面拡大部265を形成する部位292を除いて、ネガ型のフォトレジストの層291aを形成する。次に、図7に示すように、かかるネガ型のフォトレジストの層291aの上に、ポジ型のフォトレジスト292bの層を形成する。次に、図8に示すように、断面拡大部261〜266を形成する部位について、ポジ型のフォトレジスト292bを除去し、逆パターンのフォトレジスト291を形成する。   Moreover, the cross-sectional enlarged portion 265 may be formed by, for example, a so-called lift-off process, as shown in FIGS. For example, as shown in FIG. 5, wirings 241 to 243 are formed in a predetermined pattern on the glass substrate 121. Next, as shown in FIG. 8, a photoresist 291 having a reverse pattern of the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 is formed on the glass substrate 121 on which the wirings 241 to 243 are formed. The photoresist 291 having the reverse pattern can be formed by combining, for example, a negative photoresist 291a and a positive photoresist 291b. In this embodiment, as shown in FIG. 6, a negative photoresist layer 291a is formed on the wirings 241 to 243 except for the portion 292 where the cross-sectional enlarged portion 265 is formed. Next, as shown in FIG. 7, a layer of positive photoresist 292b is formed on the layer of negative photoresist 291a. Next, as shown in FIG. 8, the positive photoresist 292 b is removed from the portion where the cross-sectional enlarged portions 261 to 266 are formed, and a photoresist 291 having a reverse pattern is formed.

次に、図9に示すように、かかる逆パターンのフォトレジスト291に金属の薄膜を形成し、断面拡大部265を形成する。その後、図4に示すように、不要となる金属やフォトレジストを除去する。このように、リフトオフとマスクアライメントなどを組み合わせることによって、所定形状の断面拡大部265を形成することができる。そして、配線241〜243及び断面拡大部265は、図4に示すように、絶縁層280によって覆うとよい。なお、他の断面拡大部261〜264、266についても同様に形成できる。以上、断面拡大部261〜266の形成方法について、一例を示したが、断面拡大部261〜266の形成方法については、上記に限定されない。   Next, as shown in FIG. 9, a metal thin film is formed on the photoresist 291 having the reverse pattern, and a cross-sectional enlarged portion 265 is formed. Thereafter, as shown in FIG. 4, unnecessary metal and photoresist are removed. Thus, the cross-sectional enlarged portion 265 having a predetermined shape can be formed by combining lift-off and mask alignment. The wirings 241 to 243 and the cross-sectional enlarged portion 265 are preferably covered with an insulating layer 280 as shown in FIG. Other cross-sectional enlarged portions 261 to 264 and 266 can be formed in the same manner. As mentioned above, although an example was shown about the formation method of cross-section enlarged portions 261-266, the formation method of cross-section enlarged portions 261-266 is not limited above.

図10、図11は、他の実施形態に係る断面拡大部271、272の構造を示している。例えば、図10に示すように、断面拡大部271は、拡大部271bの幅を広くしてもよい。図10中、符号271aは、断面拡大部271の柱部を示している。また、図11に示すように、断面拡大部272の拡大部272bが、配線241〜243の幅方向において、柱部272aから片側のみに延びるように形成してもよい。   10 and 11 show the structures of the cross-sectional enlarged portions 271 and 272 according to other embodiments. For example, as shown in FIG. 10, the cross-sectional enlarged portion 271 may increase the width of the enlarged portion 271b. In FIG. 10, reference numeral 271 a indicates a pillar portion of the cross-sectional enlarged portion 271. Further, as shown in FIG. 11, the enlarged portion 272b of the cross-sectional enlarged portion 272 may be formed to extend from the column portion 272a only to one side in the width direction of the wirings 241 to 243.

以上、本発明の一実施形態に係る液晶パネルを例に挙げて本発明に係る表示パネルを説明したが、本発明に係る表示パネルは上記の液晶パネルに限定されない。   The display panel according to the present invention has been described above by taking the liquid crystal panel according to one embodiment of the present invention as an example, but the display panel according to the present invention is not limited to the above-described liquid crystal panel.

例えば、液晶パネルの具体的構成、ゲートドライバや、ソースドライバなどの集積回路の配置、配線パターン、断面拡大部の配置、形状などは、種々適宜に変更するとよい。また、上述した実施形態では、液晶パネルを例に挙げたが、本発明に係る表示パネルは、液晶パネルに限定されない。本発明に係る表示パネルの構造は、例えば、有機ELや、プラズマディスプレイなどの、いわゆるフラットパネルディスプレイに適用できる。この場合、本発明は、上述したように、表示パネルにおいて、透明基板の周縁部に沿って形成された複数の配線の微細化に寄与する。このため、これらのフラットパネルディスプレイのフレームを細くすることができる。   For example, the specific configuration of the liquid crystal panel, the arrangement of integrated circuits such as gate drivers and source drivers, the wiring pattern, the arrangement of the cross-sectional enlarged portion, the shape, and the like may be changed as appropriate. Moreover, although the liquid crystal panel was mentioned as an example in embodiment mentioned above, the display panel which concerns on this invention is not limited to a liquid crystal panel. The structure of the display panel according to the present invention can be applied to a so-called flat panel display such as an organic EL or a plasma display. In this case, as described above, the present invention contributes to miniaturization of a plurality of wirings formed along the peripheral edge of the transparent substrate in the display panel. For this reason, the frame of these flat panel displays can be made thin.

100 液晶パネル
120 アレイ基板
120a 周縁部(画素領域の周縁部)
121 ガラス基板(透明基板、基板)
140 カラーフィルタ基板
160 シール材
180 液晶
210 画素領域
211 ゲートバスライン
212 ソースバスライン
221 ゲートドライバ(集積回路)
222 ソースドライバ(集積回路)
223 制御回路
241〜243 配線
241a〜243a 接続端子
241b〜243b 接続端子
261〜266、271、272 断面拡大部
260a〜266a、271a、272a 柱部
260b〜266b、271b、272b 拡大部
280 絶縁層
291 逆パターンのフォトレジスト
291a ネガ型のフォトレジスト
291b ポジ型のフォトレジスト
100 Liquid crystal panel 120 Array substrate 120a Peripheral part (peripheral part of pixel region)
121 Glass substrate (transparent substrate, substrate)
140 Color filter substrate 160 Seal material 180 Liquid crystal 210 Pixel region 211 Gate bus line 212 Source bus line 221 Gate driver (integrated circuit)
222 Source Driver (Integrated Circuit)
223 Control circuits 241 to 243 Wiring 241a to 243a Connection terminals 241b to 243b Connection terminals 261 to 266, 271, 272 Cross section enlarged portions 260a to 266a, 271a, 272a Column portions 260b to 266b, 271b, 272b Enlarged portion 280 Insulating layer 291 Reverse Pattern photoresist 291a Negative photoresist 291b Positive photoresist

Claims (3)

画素領域の周縁部に複数の配線を備えた表示パネルであって、
中央に画素領域が形成された透明基板と、
前記透明基板上で、前記画素領域の周縁部に配置された複数の集積回路と、
前記透明基板上で、前記画素領域の周縁部に沿って形成され、前記集積回路を接続する複数の配線と、
前記複数の配線を覆う絶縁層と、
前記配線の長さ方向において部分的に、前記配線の幅方向の断面を大きくした断面拡大部と、
を備え、
前記断面拡大部は、前記配線から前記透明基板の厚さ方向に延びた柱部と、他の配線との間に前記絶縁層を介在させた状態で、前記柱部から前記配線の幅方向に広がった拡大部とを備えている、表示パネル。
A display panel having a plurality of wirings at the periphery of the pixel region,
A transparent substrate with a pixel region formed in the center;
A plurality of integrated circuits disposed on the periphery of the pixel region on the transparent substrate;
A plurality of wirings formed on the transparent substrate along the peripheral edge of the pixel region and connecting the integrated circuits;
An insulating layer covering the plurality of wirings;
A cross-sectional enlarged portion in which the cross-section in the width direction of the wiring is partially enlarged in the length direction of the wiring;
With
The cross-sectional enlarged portion extends from the pillar in the width direction of the wiring in a state where the insulating layer is interposed between the pillar extending from the wiring in the thickness direction of the transparent substrate and another wiring. A display panel with a widened area.
前記複数の配線に、前記断面拡大部が複数設けられており、各断面拡大部は、前記配線の長さ方向にずらして配置されている、請求項1に記載された表示パネル。   The display panel according to claim 1, wherein the plurality of cross-sectional enlarged portions are provided in the plurality of wirings, and each cross-sectional enlarged portion is arranged to be shifted in a length direction of the wiring. 請求項1又は請求項2に記載された表示パネルを備えた、表示装置。   A display device comprising the display panel according to claim 1.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012023622A1 (en) 2010-08-16 2012-02-23 国立大学法人九州大学 Reagent for tumor testing and pharmaceutical composition for tumor prevention
CN108962917A (en) * 2017-05-18 2018-12-07 三星显示有限公司 Display device
US11075329B2 (en) 2018-09-14 2021-07-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Display panel with light emitting diode (LED) power transfer structure and display apparatus including the same

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012023622A1 (en) 2010-08-16 2012-02-23 国立大学法人九州大学 Reagent for tumor testing and pharmaceutical composition for tumor prevention
CN108962917A (en) * 2017-05-18 2018-12-07 三星显示有限公司 Display device
CN108962917B (en) * 2017-05-18 2023-10-27 三星显示有限公司 display device
US11980073B2 (en) 2017-05-18 2024-05-07 Samsung Display Co., Ltd. Display device
US11075329B2 (en) 2018-09-14 2021-07-27 Samsung Electronics Co., Ltd. Display panel with light emitting diode (LED) power transfer structure and display apparatus including the same

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