JP2010134375A - Drawing apparatus and drawing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光の照射により対象物に画像を描画する技術に関連する。 The present invention relates to a technique for drawing an image on an object by light irradiation.
従来より、1つの光ビームをポリゴンミラーやガルバノミラー等の偏向器により走査しつつ対象物に照射することにより画像を記録する技術が、半導体基板やガラス基板上に形成された感光材料へのパターンの描画や、版材等の印刷用の部材への画像の記録等に利用されている。 Conventionally, a technique for recording an image by irradiating an object while scanning a single light beam with a deflector such as a polygon mirror or a galvanometer mirror is a pattern on a photosensitive material formed on a semiconductor substrate or glass substrate. Are used for recording images and recording images on printing members such as printing plates.
このような描画装置では、描画される画像の歪みを補正する対策が施されることがあり、例えば、特許文献1に開示される走査式描画装置では、光源とポリゴンミラーとの間に偏向器が設けられ、さらに、偏向器を制御する制御回路が設けられる。そして、制御回路により、ポリゴンミラーの各反射面を回転方向に分割した小分割面ごとの倒れ角に応じて偏向器から出射される光ビームの出射方向が補正される。
In such a drawing apparatus, a measure for correcting distortion of an image to be drawn may be taken. For example, in the scanning drawing apparatus disclosed in
また、特許文献2に開示されるマルチビーム走査装置では、マルチビーム走査装置の設計に起因する固有の走査線曲がりを補正する補正屈折面が光学系のレンズに設けられる。
ところで、同時に描画が行われる照射位置の数を増やして描画の高速化を図る場合、複数の光源や変調器を精度良く配置することが要求される。また、照射位置の数を増やすことにより一走査により照射可能な面積が増大すると、レンズの収差やポリゴンミラーの面倒れや歪みの影響が無視できなくなる。 By the way, when increasing the number of irradiation positions where drawing is performed at the same time to increase the drawing speed, it is required to accurately arrange a plurality of light sources and modulators. Further, if the area that can be irradiated by one scan increases by increasing the number of irradiation positions, the effects of lens aberration, polygon mirror surface tilt and distortion cannot be ignored.
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、光学系の影響による歪みを補正しつつ高速かつ高精度に画像を描画することを主たる目的としている。 The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main purpose to draw an image with high speed and high accuracy while correcting distortion due to the influence of an optical system.
請求項1に記載の発明は、光の照射により対象物に画像を描画する描画装置であって、空間変調された光ビームを生成する変調光生成部と、前記光ビームを偏向することにより前記光ビームの前記対象物上の照射位置を所定の走査方向に走査する偏向部と、前記偏向部に対して前記対象物を相対的に移動することにより前記光ビームの照射位置を前記走査方向に対して交差する方向に移動する移動機構と、前記光ビームの照射位置の各走査により描画可能な領域内に設定された対象画素配列に対応する対象座標と、前記各走査において前記変調光生成部に入力される論理描画データが示す論理画素配列に対応する論理座標との関係を示す補正テーブルを記憶する記憶部と、前記補正テーブルを参照して、前記光ビームの各走査における対象画素配列を示す対象描画データを、前記対象画素配列以上の解像度を有する論理画素配列を示す論理描画データへと変換するデータ変換部とを備える。
The invention according to
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載の描画装置であって、前記偏向部が、回転しつつ複数の反射面にて前記光ビームを反射することにより前記光ビームを偏向するポリゴンミラーを備え、前記記憶部が、前記ポリゴンミラーの各反射面に対応する補正テーブルを記憶する。 A second aspect of the present invention is the drawing apparatus according to the first aspect, wherein the deflection unit deflects the light beam by reflecting the light beam on a plurality of reflecting surfaces while rotating. A mirror is provided, and the storage unit stores a correction table corresponding to each reflecting surface of the polygon mirror.
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の描画装置であって、前記光ビームの照射位置の各走査により前記対象物上に描画される対象画素配列の行数および列数が一定である。
The invention according to claim 3 is the drawing apparatus according to
請求項4に記載の発明は、請求項1に記載の描画装置であって、前記偏向部が、揺動しつつ反射面にて前記光ビームを反射することにより前記光ビームを偏向するガルバノミラーを備える。 A fourth aspect of the present invention is the drawing apparatus according to the first aspect, wherein the deflection unit deflects the light beam by reflecting the light beam on a reflecting surface while swinging. Is provided.
請求項5に記載の発明は、請求項1ないし4のいずれかに記載の描画装置であって、前記光ビームの前記対象物への照射により、前記走査方向に交差する方向に一列に並ぶ複数の位置のそれぞれに変調された光が照射される。 A fifth aspect of the present invention is the drawing apparatus according to any one of the first to fourth aspects, wherein a plurality of lines are aligned in a direction intersecting the scanning direction by irradiating the object with the light beam. The modulated light is irradiated to each of the positions.
請求項6に記載の発明は、請求項5に記載の描画装置であって、前記複数の位置の数が、50以上である。 The invention according to claim 6 is the drawing apparatus according to claim 5, wherein the number of the plurality of positions is 50 or more.
請求項7に記載の発明は、請求項5または6に記載の描画装置であって、前記変調光生成部が、光源部と、回折格子型の複数の光変調素子を直線状に配列した空間光変調器と、前記光源部からの光を光束断面が直線状である線状光に変換して前記空間光変調器へと導く光学系とを備える。 A seventh aspect of the present invention is the drawing apparatus according to the fifth or sixth aspect, wherein the modulated light generation unit is a space in which a light source unit and a plurality of diffraction grating type light modulation elements are linearly arranged. An optical modulator, and an optical system that converts light from the light source unit into linear light having a linear light beam cross section and guides the light to the spatial light modulator.
請求項8に記載の発明は、請求項1ないし7のいずれかに記載の描画装置であって、前記対象画素配列における画素ピッチが、前記論理画素配列における画素ピッチの1倍以上50倍以下である。
The invention according to claim 8 is the drawing apparatus according to any one of
請求項9に記載の発明は、光の照射により対象物に画像を描画する描画方法であって、a)変調光生成部により空間変調された光ビームを生成する工程と、b)前記光ビームを偏向する偏向部により前記光ビームの前記対象物上の照射位置を所定の走査方向に走査する工程と、c)前記a)およびb)工程に並行して、前記偏向部に対して前記対象物を相対的に移動することにより前記光ビームの照射位置を前記走査方向に対して交差する方向に移動する工程とを備え、前記光ビームの照射位置の各走査により描画可能な領域内に設定された対象画素配列に対応する対象座標と、前記各走査において前記変調光生成部に入力される論理描画データが示す論理画素配列に対応する論理座標との関係を示す補正テーブルが記憶部に記憶されており、前記a)工程において、前記補正テーブルを参照して、前記光ビームの各走査における対象画素配列を示す対象描画データが、前記対象画素配列以上の解像度を有する論理画素配列を示す論理描画データへと変換されて前記変調光生成部に入力される。 The invention according to claim 9 is a drawing method for drawing an image on an object by irradiation of light, wherein a) a step of generating a light beam spatially modulated by a modulated light generation unit, and b) the light beam. Scanning the irradiation position of the light beam on the object in a predetermined scanning direction by a deflecting unit that deflects the light beam, and c) parallel to the steps a) and b) with respect to the deflecting unit. A step of moving the irradiation position of the light beam in a direction intersecting the scanning direction by relatively moving an object, and setting the irradiation position of the light beam within an area that can be drawn by each scanning A correction table indicating the relationship between the target coordinates corresponding to the target pixel array and the logical coordinates corresponding to the logical pixel array indicated by the logical drawing data input to the modulated light generation unit in each scan is stored in the storage unit Has been In the step a), referring to the correction table, the target drawing data indicating the target pixel array in each scan of the light beam is changed to logical drawing data indicating a logical pixel array having a resolution higher than the target pixel array. It is converted and input to the modulated light generator.
請求項10に記載の発明は、請求項9に記載の描画方法であって、前記a)工程の前に、d)前記変調光生成部に論理テストパターンを示すデータを入力しつつテスト対象物上における光ビームの照射位置を走査することにより、前記テスト対象物上にテストパターンを描画する工程と、e)前記テスト対象物上に描画された前記テストパターンを撮像してテストパターン画像を取得する工程と、f)前記論理テストパターンと前記テストパターン画像とを比較することにより、前記補正テーブルを生成する工程とをさらに備える。 A tenth aspect of the present invention is the drawing method according to the ninth aspect of the present invention, in which, before the step a), d) a test object while inputting data indicating a logical test pattern to the modulated light generation unit. A step of drawing a test pattern on the test object by scanning the irradiation position of the light beam on the top; and e) capturing the test pattern drawn on the test object to obtain a test pattern image And f) generating the correction table by comparing the logical test pattern with the test pattern image.
請求項11に記載の発明は、請求項9または10に記載の描画方法であって、前記偏向部が、回転しつつ複数の反射面にて前記光ビームを反射することにより前記光ビームを偏向するポリゴンミラーを備え、前記記憶部が、前記ポリゴンミラーの各反射面に対応する補正テーブルを記憶する。 An eleventh aspect of the present invention is the drawing method according to the ninth or tenth aspect, wherein the deflecting unit deflects the light beam by reflecting the light beam on a plurality of reflecting surfaces while rotating. And a storage table storing a correction table corresponding to each reflecting surface of the polygon mirror.
請求項12に記載の発明は、請求項9または10に記載の描画方法であって、前記偏向部が、揺動しつつ反射面にて前記光ビームを反射することにより前記光ビームを偏向するガルバノミラーを備える。 A twelfth aspect of the present invention is the drawing method according to the ninth or tenth aspect, wherein the deflecting unit deflects the light beam by reflecting the light beam on a reflecting surface while swinging. Equipped with a galvanometer mirror.
本発明では、光学系の影響による歪みを補正しつつ高速かつ高精度に画像を描画することができる。請求項2および11の発明では、ポリゴンミラーの各面による画像の歪みを個別に補正することができる。 In the present invention, an image can be drawn at high speed and with high accuracy while correcting distortion due to the influence of the optical system. According to the second and eleventh aspects of the present invention, it is possible to individually correct image distortion caused by each surface of the polygon mirror.
図1は本発明の一の実施の形態に係る描画装置1を示す斜視図である。描画装置1は光ビームの照射により平板状のプリント基板である対象物9に配線パターンである画像を描画するダイレクトパターン描画装置であり、光ビームを出射するヘッド部11、対象物9を保持しつつ移動する移動機構12、並びに、ヘッド部11および移動機構12の制御を行う制御部13を備える。移動機構12は図1中のY方向(光ビームの副走査方向に対応する。)に対象物9を移動し、移動機構12および対象物9の上方には対象物9の描画面を撮像するカメラ2が配置される。制御部13はヘッド部11、移動機構12およびカメラ2に接続されて各部の制御を行う。対象物9の描画面には感光材料が塗布されており、感光材料が光ビームの照射により感光することにより描画が行われる。
FIG. 1 is a perspective view showing a
図2および図3はヘッド部11の内部構成を簡略化して示す図であり、図3では光学素子の配列を展開して示している。ヘッド部11は空間変調された光ビームを生成する変調光生成部111、および、光ビームをX方向に走査する偏向部112を有する。変調光生成部111はレーザ光を出射する光源部1111、光源部1111からの光をZ方向に光束断面が直線状に伸びる線状光に変換する光学系である線状光生成部1112、および、線状光が導かれる空間光変調器1113を有し、空間光変調器1113は回折格子型の1024個の光変調素子がZ方向に直線状に配列されたものとなっている。
2 and 3 are diagrams showing the internal configuration of the
本実施の形態では、光変調素子には、交互に並ぶ微小な固定リボンおよび可動リボンを有するGLV(Grating Light Valve)素子が用いられ、可動リボンが昇降して回折格子の深さが変更されることにより回折状態と正反射状態とが切り替えられて光が変調される。空間光変調器1113ではZ方向に並ぶGLV素子である反射型の光変調素子が制御されることにより、Z方向における1024箇所の各位置において個別に光変調が行われる。なお、回折格子型の光変調器としてはGLV素子以外に、例えば、電界により屈折率が変化する材料の表面に複数の微細な電極を配列することにより、電気光学効果を利用して内部の屈折率分布を制御することができる全反射型の光変調器(以下、「TIR(Total Internal Reflection)型光変調器」という。)が用いられてもよい。TIR型光変調器では、配列された電極により内部に周期的な屈折率分布が生じ、内部を光ビームが透過する際に光ビームに位相差が生じることにより回折が生じる(すなわち、TIR型光変調器が回折格子として機能する。)。
In the present embodiment, a GLV (Grating Light Valve) element having minute fixed ribbons and movable ribbons alternately arranged is used as the light modulation element, and the movable ribbon moves up and down to change the depth of the diffraction grating. Thus, the light is modulated by switching between the diffraction state and the regular reflection state. The
ヘッド部11の偏向部112は6枚の反射面を有するポリゴンミラー1121、光の進行方向においてポリゴンミラー1121の手前側に配置されたレンズ1122、ポリゴンミラー1121の後方に配置されたfθレンズ1123、および、X方向に伸びるミラー1124を備える。
The
光源部1111から出射された光ビームは、線状光生成部1112により上下方向であるZ方向に伸びる線状光とされ、Z方向に光変調素子が配列された空間光変調器1113に入射する。空間光変調器1113により空間変調された光ビームは、レンズ1122によりZ方向においてポリゴンミラー1121の反射面内に収まる大きさに集光されつつポリゴンミラー1121に導かれる。ポリゴンミラー1121の回転軸および各反射面はZ方向に平行であり、図2に示すように平面視したときのポリゴンミラー1121の形状は正六角形となっている。また、図3に示すように、ポリゴンミラー1121はモータ1125に接続されており、ポリゴンミラー1121は回転しつつ光ビームを反射することにより光ビームを偏向し、光ビームはY方向に垂直な水平方向であるX方向(光ビームの主走査方向に対応する。)に走査される。モータ1125にはエンコーダ1126が取り付けられ、エンコーダ1126によりポリゴンミラー1121の角度位置が取得される。
The light beam emitted from the
図3に示すように、fθレンズを通過した光ビームはミラー1124によりXY平面に平行な方向からZX平面に平行な方向へと反射され、下方に進行して対象物9の描画面に照射される。これにより、Y方向に並ぶ光変調素子の像が描画面上に形成される。光ビームの対象物9上の照射位置はポリゴンミラー1121の回転によりX方向に走査されるとともに、移動機構12が偏向部112に対して対象物9を相対的に移動して光ビームの照射位置をY方向(すなわち、主走査方向であるX方向に垂直な方向)に移動する。このとき、fθレンズ1123により、照射位置のX方向の移動速度(すなわち、走査速度)はポリゴンミラー1121の反射面の角度位置に関わらず一定とされる。以上の動作により、変調光生成部111によりY方向に並ぶ複数の位置に変調された光が同時に照射されつつ偏向部112および移動機構12により複数の照射位置が走査され、対象物9上に描画が行われる。
As shown in FIG. 3, the light beam that has passed through the fθ lens is reflected by the
図4は描画装置1の機能構成を示すブロック図である。描画装置1の制御部13はヘッド部11および移動機構12の制御を行う描画制御部131、描画に必要な演算を行う演算部132、並びに、演算時に参照されるデータが記憶される記憶部133を有し、制御部13に接続された外部記憶部14から入力される描画データ71に基づいて対象物9上への描画の制御が行われる。
FIG. 4 is a block diagram showing a functional configuration of the
演算部132はデータ変換部1321および補正テーブル生成部1322を有し、データ変換部1321は外部記憶部14から入力された描画データ71を各走査において変調光生成部111の空間光変調器1113に入力されるデータ(以下、「論理描画データ」という。)へと変換する。描画制御部131が論理描画データを空間光変調器1113に入力しつつ空間光変調器1113の動作を制御することにより、光ビームの空間変調が行われる。
The
また、描画制御部131にはエンコーダ1126からポリゴンミラー1121(図3参照)の角度位置を示す信号が入力され、描画制御部131は光ビームの主走査に同期して移動機構12を制御する。これにより、対象物9が副走査方向であるY方向に移動される。本実施の形態では制御部13はコンピュータ上のソフトウェアにより実現されるが、ハードウェアにより実現されるものであってもよく、例えば、制御部13には画像処理を行うGPU(Graphic Processing Unit)等の集積回路を搭載したボードが用いられてもよい。
A signal indicating the angular position of the polygon mirror 1121 (see FIG. 3) is input from the
図5は描画の準備段階として、論理描画データが示す画像と対象物9に描画される画像との対応関係を示すテーブル(以下、「補正テーブル」という。)を生成する流れを示す図である。まず、移動機構12上に対象物9に代えてテスト対象物が配置され、図4および図5に示すように、補正テーブル74の作成に用いられるテストパターンデータ72が外部記憶部14からデータ変換部1321および描画制御部131を介して変調光生成部111の空間光変調器1113に入力される。このとき、データ変換部1321ではテストパターンデータ72が示すテストパターンの形状を変更することなく、解像度が空間光変調器1113に適したものとなるようにテストパターンデータ72の形式が変換される。
FIG. 5 is a diagram showing a flow of generating a table (hereinafter referred to as “correction table”) indicating the correspondence between the image indicated by the logical drawing data and the image drawn on the object 9 as a drawing preparation stage. . First, a test object is arranged on the moving
図6はテストパターンデータ72が示す論理テストパターン81を例示する図であり、論理テストパターン81は空間光変調器1113に入力されるデータの画素配列(以下、「論理画素配列」という。)により表現されるテストパターンである。論理画素配列を表す座標系(以下、「論理座標系」といい、これにより表される座標を「論理座標」という。)のx方向、および、x方向に垂直なy方向はそれぞれ主走査方向であるX方向および副走査方向であるY方向にほぼ対応する。なお、実際には光学系による歪曲のためにx方向およびy方向はX方向およびY方向とは必ずしも一致しない。論理テストパターン81は、x方向およびy方向に平行な直線が等間隔に配置された格子状の矩形であり、光ビームの1回の主走査により描画される。図6では論理テストパターン81の縦横比を変えるとともに線の数を減らして示している。
FIG. 6 is a diagram illustrating a
データ変換部1321にて論理テストパターン81を示すデータが生成されると、描画制御部131がこのデータおよびエンコーダ1126からの信号に基づいて空間光変調器1113を制御することにより光ビームが変調され、テスト対象物上における光ビームの照射位置を走査することによりテストパターンの描画が行われる。テストパターンの描画はポリゴンミラー1121の各反射面に対して行われ、各反射面に対応したテストパターンが描画される(図5:ステップS11)。描画された各テストパターンはカメラ2(図1参照)により撮像され、画像データとして取得される(ステップS12)。
When data indicating the
図7は描画された1つのテストパターンの画像91(以下、「テストパターン画像91」という。)を示す図であり、歪曲を強調して示している。主走査方向であるX方向および副走査方向であるY方向は、それぞれテスト対象物の描画面上の座標系(以下、「対象座標系」といい、これにより表される座標を「対象座標」という。)を示す。テストパターン画像91はレンズの収差やポリゴンミラー1121の反射面が有する傾きや歪みといった光学系の影響により、例えば、図7に示すように樽型に歪曲した画像となる。特に、テストパターン画像91の周辺部に近いほど論理座標と対象座標とのずれが拡大する。歪曲形状は糸巻き型や他の形状となることもある。
FIG. 7 is a diagram showing a drawn test pattern image 91 (hereinafter referred to as “
図4に示すように、カメラ2により撮像されたテストパターン画像91は制御部13の記憶部133にテストパターン画像データ73として記憶される。図8および図9は全ての反射面に対応するテストパターン画像91の輪郭を重ねて示す図であり、テストパターン画像に符号91a〜91fを付している。図8に示すように、テストパターン画像91a〜91fでは反射面の固有の面倒れ(ポリゴンミラー1121の回転軸に対する反射面の傾き)の影響によりそれぞれ僅かに位置および傾きがずれている。
As shown in FIG. 4, the
次に、演算部132の補正テーブル生成部1322により、図9に示す重ね合わされたテストパターン画像91a〜91fにおいて、平行斜線を付して示す全てのテストパターン画像に共通の領域911(以下、「共通領域911」という。)内に、実際の光ビームの照射位置の1回の走査による描画の対象となる領域92(以下、「対象描画領域92」という。)が設定される(ステップS13)。対象描画領域92はX方向に平行な辺およびY方向に平行な辺により形成される矩形領域であり、対象描画領域92は共通領域911内に設けられることにより、ポリゴンミラー1121の反射面に依存することなく光ビームの照射位置の走査により描画可能な領域となる。また、XY方向に配列されて対象描画領域92内に描画される画像を表現する画素配列を「対象画素配列」と呼び、各画素を「対象画素」と呼ぶ。なお、図9では対象画素を表す正方形を誇張して示している。
Next, the correction
図10は1つのテストパターン画像91aおよび対象描画領域92を重ねて示す図であり、図11は他の1つのテストパターン画像91bおよび対象描画領域92を重ねて示す図である。なお、対象描画領域92中に参照のためにY方向に平行な破線を示している。対象描画領域92の位置は図9に示すようにテスト対象物上の対象座標系では一定であるが、描画したときの光ビームがポリゴンミラー1121のいずれの反射面により反射されたかによりテストパターン画像91との相対的な位置が変化する。図10では、テストパターン画像91a内における対象描画領域92の位置は図10における下側に相対的に偏っており、図11では、テストパターン画像91b内における対象描画領域92の位置は図11における上側に相対的に偏っている。また、テストパターン画像91の格子点は図6に示すxy方向にて表される論理座標系における論理テストパターンの格子点を示しており、図10および図11に示すように、対象描画領域92の1つの対象座標に対して反射面に依存して異なる論理座標が対応する。
FIG. 10 is a diagram showing one
対象描画領域92が設定されると、次に、テストパターン画像91aの格子点の対象座標が取得され、格子点における対象座標と論理座標との対応関係が得られる。また、正方形である各対象画素の各頂点の対象座標が取得される(ステップS14)。そして、取得された格子点の対象座標および対象画素の頂点の対象座標に基づいて対象画素の頂点の論理座標が求められる。
When the
図12は、対象描画領域92内において、論理座標を求める対象となる対象点611(すなわち、対象画素の頂点の1つ)、および、対象点611を囲む略四角形の格子要素61を示している。図13は論理座標系において対象点611に対応する変換済対象点621、および、変換済対象点621を囲み、格子要素61に対応する正方形の格子要素62(以下、「論理格子要素62」という。)を示している。図12では、格子要素61を囲む格子点に時計回りに符号612,613,614,615を付しており、各格子点を結ぶ線分を符号D1〜D4を付す細線にて示している。また、対象点611を通る直線L1と線分D1,D3との交点に符号616,618を付し、対象点を通る他の直線L2と線分D2,D4との交点に符号617,619を付している。
FIG. 12 shows a target point 611 (that is, one of the vertices of the target pixel) for which logical coordinates are to be obtained and a substantially
対象点611の論理座標が求められる際には、まず、格子点612から交点616までの距離と、交点616から格子点613までの距離との比が、格子点615から交点618までの距離と、交点618から格子点614までの距離との比に等しくなる直線L1および線分D1,D3における交点616,618の内分比s1,s2が求められる。同様に、格子点613から交点617までの距離と、交点617から格子点614までの距離との比が、格子点612から交点619までの距離と、交点619から格子点615までの距離との比に等しくなる直線L2および線分D2,D4における交点617,619の内分比t1,t2が求められる。
When the logical coordinates of the
次に、図13に示すように、図12の格子点612,613,614,615に対応する格子点622,623,624,625を有する格子要素62において、格子点622と格子点623とを結ぶ線分E1をs1対s2に内分する点626のx座標、および、格子点622と格子点625とを結ぶ線分E4をt1対t2に内分する点629のy座標が求められ、これらが変換済対象点621の論理座標とされる。
Next, as shown in FIG. 13, in the
上記方法により、対象描画領域92を形成する対象画素の各頂点の対象座標が論理座標に変換され、論理座標系における対象描画領域92に対応する領域(以下、「論理描画領域」という。)が得られる。また、他の全てのテストパターン画像についても対象描画領域92の変換が行われ、個別に論理描画領域が取得される。なお、対象画素の頂点の論理座標を求める手法は図12および図13に示す手法以外のものであってもよい。
By the above method, the target coordinates of each vertex of the target pixel forming the
図14は図10に示すテストパターン画像91aの対象描画領域92に対応する(すなわち、論理座標系における)論理描画領域82aを示す図であり、図15は図11に示すテストパターン画像91bの対象描画領域92に対応する論理描画領域82bを示す図である。図14および図15では論理描画領域に平行斜線を付して論理テストパターン81と重ねて示しており、さらに、図10および図11にて示す破線の参照線に対応する線を破線にて示している。
14 is a diagram showing a
図16は論理画素配列の一部を拡大して示す図であり、x方向およびy方向に配列された論理画素を示している。図4に示す補正テーブル生成部1322では、既述のように対象画素の頂点の対象座標が論理座標に変換され、符号821a〜821dを付して例示するように、各頂点が論理座標系に配置される。これにより、頂点821a〜821dにより囲まれ、1つの対象画素に対応する領域821(以下、「変換済対象画素821」という。)が論理描画領域82内に設定される。同様に対象描画領域92の他の全ての対象画素の頂点が変換され、これらの頂点を結ぶことにより、全ての変換済対象画素821が設定される。変換済対象画素821は論理座標系に対して歪曲しているため、頂点と頂点とを結ぶ変換済対象画素821の境界線は論理画素上を横切る。したがって、境界線により分断された論理画素の領域のうち、面積が大きい方の領域がいずれの変換済対象画素821(または論理描画領域82の外部)に含まれるかにより、境界線上の論理画素がいずれの変換済対象画素821に属するか(または論理描画領域82の外か)が決定される。これにより、変換済対象画素821を論理画素の集合として表現することができる。
FIG. 16 is an enlarged view showing a part of the logical pixel arrangement, and shows the logical pixels arranged in the x direction and the y direction. In the correction
1つの論理画素は1つの光変調素子に対応し、主走査時に論理画素がONを示す場合には対応する光変調素子がONとなって照射位置に描画が行われ、OFFを示す場合には光変調素子はOFFとなって描画は行われない。描画の際には、変換済対象画素821に含まれる論理画素のON/OFFにより光変調素子が制御され、対象物上においてXY方向に配列された対象画素に対応する領域への光のON/OFFが実現される。
One logical pixel corresponds to one light modulation element. When the logical pixel indicates ON during main scanning, the corresponding light modulation element is turned ON to perform drawing at the irradiation position, and when OFF is indicated. The light modulation element is turned off and drawing is not performed. At the time of drawing, the light modulation element is controlled by ON / OFF of the logical pixel included in the converted
本実施の形態では、対象描画領域92の1つの対象画素の一辺は10μmであり、光学系による歪みが一切なく、論理座標系のxy方向と対象座標系のXY方向とが一致する場合(すなわち、対象画素と変換済対象画素821との形状および大きさが同一の場合)には、1つの論理画素の一辺は1μmとされる。すなわち、描画装置1では対象画素配列における画素ピッチは論理画素配列における画素ピッチの10倍として設計されている。
In the present embodiment, one side of one target pixel in the
実際には一方の座標系に対して他方の座標系が歪曲しているため、論理画素と対象画素との画素ピッチの比は正確に1対10とはならず、変換済対象画素821を形成する論理画素の数は変換済対象画素821毎に異なる。換言すれば、変換済対象画素821を形成する論理画素は約100個であり、各論理画素の一辺の大きさは約1μmである。
Actually, since the other coordinate system is distorted with respect to one coordinate system, the ratio of the pixel pitch between the logical pixel and the target pixel is not exactly 1:10, and the converted
補正テーブル生成部1322にて各論理画素が属する変換済対象画素821が特定されると(すなわち、対象画素と論理画素との対応関係が求められると)、この情報は各対象画素がONの時にいずれの論理画素をONとすべきかを示す補正テーブル74として記憶部133に記憶される(ステップS15)。さらに、他のテストパターン画像91b〜91fに関しても論理描画領域82が求められ、同様に補正テーブル74が生成される。以上の処理により、ポリゴンミラー1121の各反射面に対応する補正テーブル74が記憶部133に記憶される(ステップS16)。
When the corrected
なお、図16に示す変換済対象画素821はテストパターン画像が示す格子点から導かれることから、上述の対象画素と論理画素との対応位置関係を求めて補正テーブル74を生成する処理は、実質的に論理テストパターン81とテストパターン画像91aとの比較により実現されているといえる。そして、対象画素に対応する論理画素を示す補正テーブル74は、実質的に対象画素配列における対象座標と論理座標との関係を示している。
Since the converted
図17は描画装置1による対象物9への描画の流れを示す図である。まず、図4に示す外部記憶部14から最初の主走査にて描画される描画データ71の一部(以下、「対象描画データ」という。)がデータ変換部1321に入力される(ステップS21)。対象描画データは図9に示す対象描画領域92に対応し、光ビームの1主走査における行数および列数が一定の対象画素配列を示す。
FIG. 17 is a diagram showing a flow of drawing on the object 9 by the
予め最初の主走査に用いられるポリゴンミラー1121(図2および図3参照)の反射面が設定されており、最初の主走査に用いられる反射面に対応する補正テーブル74が選択される(ステップS22)。データ変換部1321は選択された補正テーブル74を参照しつつ、対象描画データを図14および図15に例示する論理描画領域82内の論理画素配列を示す論理描画データへと変換して(すなわち、対象画素のON/OFFの情報を論理画素のON/OFFの情報に変換する。)データ変換部1321内のバッファメモリに蓄積する(ステップS23)。
The reflection surface of the polygon mirror 1121 (see FIGS. 2 and 3) used for the first main scan is set in advance, and the correction table 74 corresponding to the reflection surface used for the first main scan is selected (step S22). ). The
次に、2回目の主走査に用いられる対象描画データが読み込まれ(ステップS21)、2回目の主走査に用いられるポリゴンミラー1121の反射面(すなわち、1回目の反射面の次の反射面)に対応する補正テーブル74が選択される(ステップS22)。そして、データ変換部1321が補正テーブル74を参照しつつ対象描画データを論理描画データへと変換し、バッファメモリに蓄積する(ステップS23)。ステップS21〜S23は、描画データ71全体が論理描画データに変換されるまで繰り返される(ステップS24)。
Next, target drawing data used for the second main scanning is read (step S21), and the reflecting surface of the
全ての対象描画データが論理描画データに変換されると、図1に示す移動機構12により副走査方向であるY方向への対象物9の移動が開始されるとともにポリゴンミラー1121の回転が開始される(ステップS25)。図4に示すようにヘッド部11のエンコーダ1126から送られるポリゴンミラー1121の回転位置の情報に基づいて、1回目の主走査に用いられる論理描画データに対応する反射面が光ビームを反射するときに1回目の主走査に対応する論理描画データが変調光生成部111の空間光変調器1113に入力される。
When all the target drawing data is converted into logical drawing data, the moving
図2および図3に示すように、光源部1111から出射された光ビームは線状光生成部1112により線状光とされて空間光変調器1113に連続的に入射しており、空間光変調器1113が入力された論理描画データに基づいて各光変調素子のON/OFFを制御することにより、空間変調された光ビームが生成される。空間変調された光ビームは偏向部112により対象物9上の照射位置を主走査方向であるX方向に走査されつつ対象物9の描画面に照射され、これにより、対象描画領域92に1回の主走査による描画が行われ、歪みのない対象画素の配列が描画される(ステップS26)。また、ステップS26の主走査方向への描画に並行して、移動機構12が対象物9を偏向部112に対して相対的に移動することにより、光ビームの照射位置が副走査方向に移動される。
As shown in FIGS. 2 and 3, the light beam emitted from the
1回目の主走査が終わると、次の主走査に用いられるポリゴンミラー1121の反射面に対応する論理描画データが空間光変調器1113に入力される。空間光変調器1113により空間変調された光ビームは偏向部112により対象物9上の照射位置(1回目の主走査による照射位置に対し副走査方向に隣接する照射位置)を主走査方向に走査されつつ対象物9の描画面に照射され、1回目の主走査時の対象描画領域92に隣接する対象描画領域92に2回目の主走査による描画が行われる(ステップS26)。
When the first main scan is completed, logical drawing data corresponding to the reflection surface of the
ステップS26が繰り返されて副走査方向に隙間なく並ぶ対象描画領域92に描画が行われ、全ての描画データ71が読み出されて描画が完了すると(ステップS27)、移動機構12による対象物9の移動が停止される(ステップS28)。
Step S26 is repeated, drawing is performed in the
対象物9への上記描画動作は適宜変更されてよく、例えば、全ての対象描画データを変換する前に、論理描画データのバッファメモリへの記憶が一定の量に達したときにステップS25以降の動作が開始されてもよい。この場合、ステップS21〜S23に示す対象描画データの論理描画データへの変換とステップS26に示す描画とが並行して行われる。 The above drawing operation on the object 9 may be changed as appropriate. For example, when the storage of the logical drawing data in the buffer memory reaches a certain amount before all the target drawing data is converted, the processing after step S25 is performed. An operation may be initiated. In this case, the conversion of the target drawing data shown in steps S21 to S23 into the logical drawing data and the drawing shown in step S26 are performed in parallel.
以上に説明したように、描画装置1では、空間変調された光ビームによる描画において、補正テーブル74を参照して、対象画素配列を示す対象描画データを光学系による歪みを反映した論理描画データへと変換することにより、光学系の影響による歪みを補正しつつ高速かつ高精度に画像を描画することができる。なお、本実施の形態では、Z方向に並ぶ1024個の光変調素子のうち、光学系の影響を受けずに論理描画領域82として有効に利用できるものは約800個とされる。既述のように論理画素配列は対象画素配列の約10倍の解像度とされるため、光ビームの照射位置におけるY方向の幅は約80の対象画素に相当する幅となり、高速に描画が行われる。
As described above, the
また、補正テーブル74がポリゴンミラー1121の各面に対して生成され、適宜選択されて参照されることにより、ポリゴンミラー1121の各面による画像の歪みを個別に補正することができる。対象画素は論理画素の集合により実現される仮想的な画素であることから、補正テーブルを再生成することにより、対象画素の画素ピッチを様々に変更することも実現される。
Further, the correction table 74 is generated for each surface of the
図18はヘッド部の他の例を示す図であり、図3と同様に光学素子の配列を展開して示している。図18に示すヘッド部11aは、図3に示すポリゴンミラー1121に代えて偏向部112にガルバノミラー1121aが設けられ、ガルバノミラー1121aは駆動部1127により反射面に平行な中心軸を中心に往復回動するように揺動する。また、駆動部1127からは、図3のエンコーダ1126からの出力と同様の役割を果たす信号が出力される。描画装置1の他の構成は図1ないし図4に示すものと同様である。
FIG. 18 is a diagram showing another example of the head portion, and shows the arrangement of the optical elements in an expanded manner as in FIG. 18 is provided with a
描画装置1の動作は、偏向部112の反射面が1つである点を除いて、ポリゴンミラー1121が用いられる場合と同様である。すなわち、テスト対象物にテストパターンが描画されて1つの反射面に対応する補正テーブル74が求められ、補正テーブル74を参照しつつ光学系の影響による歪みを補正しつつ高速かつ高精度に画像が描画される。
The operation of the
なお、ガルバノミラー1121aによる描画は、ミラーの往復の回動動作の一方(往路または復路)のみで行われてもよく、対象物9を間欠移動しつつミラーの往復の回動動作の双方で描画が行われてもよい。後者の場合は、空間光変調器1113に入力される論理描画データの主走査方向の順序が交互に反転される。
Note that the drawing by the
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。 As mentioned above, although embodiment of this invention has been described, this invention is not limited to the said embodiment, A various change is possible.
例えば、描画装置1における副走査方向は主走査方向に対して垂直な方向以外の方向であってもよく、走査方向に対して交差する方向であれば傾斜していてもよい。具体的には、連続的に副走査方向に移動する対象物上において描画を正確に(対象物を基準とする)X方向に平行に行うために、主走査方向がX方向から僅かに傾斜していてもよい。
For example, the sub-scanning direction in the
また、光が照射される一列に並ぶ複数の照射位置の数は本実施の形態では約800とされるが、いくつであってもよい。ただし、光学系の影響を取り除くことができる本実施の形態では、50以上とされることが好ましい。照射位置の配列方向は、主走査方向に交差する方向であれば、Y方向に対して傾斜していてもよい。 Further, the number of irradiation positions arranged in a line where light is irradiated is about 800 in the present embodiment, but may be any number. However, in the present embodiment in which the influence of the optical system can be removed, it is preferably 50 or more. The arrangement direction of the irradiation positions may be inclined with respect to the Y direction as long as the direction intersects the main scanning direction.
論理画素配列における画素ピッチに対する対象画素配列における画素ピッチの大きさは、光学系による歪みが無いと仮定した場合に論理画素配列が対象画素配列以上の解像度を有するのであれば10倍とは異なるものとされてもよく、1倍以上50倍以下とされることが実用上好ましい。さらに、対象画素は正方形の画素でなくてもよく、長方形とされてもよい。 The size of the pixel pitch in the target pixel array relative to the pixel pitch in the logical pixel array is different from 10 times if the logical pixel array has a resolution higher than that of the target pixel array on the assumption that there is no distortion due to the optical system. In practice, it is preferably 1 to 50 times. Further, the target pixel may not be a square pixel but may be a rectangle.
補正テーブル74は、対象画素に対応する論理画素の集合を示すもの以外に、対象画素配列(対象画素の頂点)に対応する対象座標と論理画素に対応する論理座標との関係を直接示すものであってもよい。この場合、描画時に補正テーブルを参照して対象画素に対応する論理画素の集合が求められることとなるが、対象画素の画素ピッチが変更されても補正テーブルの生成をやり直す作業は不要となる。また、対象画素配列に対応する対象座標と論理画素に対応する論理座標との関係を実質的に示すのであれば、補正テーブルは他の形式であってもよい。 The correction table 74 directly indicates the relationship between the target coordinates corresponding to the target pixel array (vertex of the target pixel) and the logical coordinates corresponding to the logical pixel, in addition to the set of logical pixels corresponding to the target pixel. There may be. In this case, a set of logical pixels corresponding to the target pixel is obtained with reference to the correction table at the time of drawing, but it is not necessary to regenerate the correction table even if the pixel pitch of the target pixel is changed. Further, the correction table may be in other formats as long as the relationship between the target coordinates corresponding to the target pixel array and the logical coordinates corresponding to the logical pixels is substantially shown.
ポリゴンミラー1121の反射面の数は6以外であってもよく、補正テーブル74は反射面の数だけ生成される。さらに、偏向部112にはポリゴンミラーやガルバノミラー以外の光学素子が用いられてもよく、例えば、AOM(Acoustic Optical Modulator)が用いられてもよい。
The number of reflection surfaces of the
変調光生成部111による光ビームの空間変調は、GLV素子やTIR素子のような回折格子型の光変調素子によるものには限定されず、例えば、二次元に配列された微小なミラーの向きを変更することにより空間変調を行うDMD(Digital Micromirror Device)が用いられてよい。また、対象物上の各位置に複数のミラーによる多重照射が行われてもよい。さらに、複数の半導体レーザや発光ダイオードにより空間変調された光ビーム(すなわち、変調された複数の光ビーム要素の束)が生成されてよい。
The spatial modulation of the light beam by the modulated
論理画素配列はON/OFFの二値情報を有するものの他に、多階調の情報を有するものとされてもよい。この場合、各論理画素に対応する位置に照射される光の強度または量が多階調に制御される。 The logical pixel array may have multi-gradation information in addition to the ON / OFF binary information. In this case, the intensity or amount of light applied to the position corresponding to each logical pixel is controlled to multiple gradations.
描画装置1はプリント基板以外に、半導体基板、マスク、表示装置用のガラス基板等へのパターンの描画を行う装置であってもよい。また、対象物が刷版や刷版用フィルムとされ、CTP(Computer to Plate)、イメージセッタ、電子写真式高速プリンタ等の印刷用の装置に上述の補正テーブルを利用する歪み補正が適用されてもよい。
The
1 描画装置
9 対象物
12 移動機構
72 テストパターンデータ
74 補正テーブル
81 論理テストパターン
91 テストパターン画像
92 対象描画領域
111 変調光生成部
112 偏向部
133 記憶部
1111 光源部
1112 線状光生成部
1113 空間光変調器
1121 ポリゴンミラー
1121a ガルバノミラー
1321 データ変換部
S11〜S16,S21〜S28 ステップ
DESCRIPTION OF
Claims (12)
空間変調された光ビームを生成する変調光生成部と、
前記光ビームを偏向することにより前記光ビームの前記対象物上の照射位置を所定の走査方向に走査する偏向部と、
前記偏向部に対して前記対象物を相対的に移動することにより前記光ビームの照射位置を前記走査方向に対して交差する方向に移動する移動機構と、
前記光ビームの照射位置の各走査により描画可能な領域内に設定された対象画素配列に対応する対象座標と、前記各走査において前記変調光生成部に入力される論理描画データが示す論理画素配列に対応する論理座標との関係を示す補正テーブルを記憶する記憶部と、
前記補正テーブルを参照して、前記光ビームの各走査における対象画素配列を示す対象描画データを、前記対象画素配列以上の解像度を有する論理画素配列を示す論理描画データへと変換するデータ変換部と、
を備えることを特徴とする描画装置。 A drawing device for drawing an image on an object by light irradiation,
A modulated light generator for generating a spatially modulated light beam;
A deflecting unit that scans an irradiation position of the light beam on the object in a predetermined scanning direction by deflecting the light beam;
A moving mechanism that moves the irradiation position of the light beam in a direction intersecting the scanning direction by moving the object relative to the deflection unit;
A logical pixel array indicated by target coordinates corresponding to a target pixel array set in an area that can be drawn by each scanning of the irradiation position of the light beam, and logical drawing data input to the modulated light generation unit in each scanning A storage unit for storing a correction table indicating a relationship with logical coordinates corresponding to
A data converter that refers to the correction table and converts target drawing data indicating a target pixel array in each scan of the light beam into logical drawing data indicating a logical pixel array having a resolution equal to or higher than the target pixel array; ,
A drawing apparatus comprising:
前記偏向部が、回転しつつ複数の反射面にて前記光ビームを反射することにより前記光ビームを偏向するポリゴンミラーを備え、
前記記憶部が、前記ポリゴンミラーの各反射面に対応する補正テーブルを記憶することを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 1,
The deflection unit includes a polygon mirror that deflects the light beam by reflecting the light beam on a plurality of reflecting surfaces while rotating,
The drawing apparatus, wherein the storage unit stores a correction table corresponding to each reflecting surface of the polygon mirror.
前記光ビームの照射位置の各走査により前記対象物上に描画される対象画素配列の行数および列数が一定であることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 2,
The drawing apparatus, wherein the number of rows and the number of columns of the target pixel array drawn on the object by each scan of the irradiation position of the light beam are constant.
前記偏向部が、揺動しつつ反射面にて前記光ビームを反射することにより前記光ビームを偏向するガルバノミラーを備えることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 1,
The drawing apparatus, wherein the deflection unit includes a galvanometer mirror that deflects the light beam by reflecting the light beam on a reflection surface while swinging.
前記光ビームの前記対象物への照射により、前記走査方向に交差する方向に一列に並ぶ複数の位置のそれぞれに変調された光が照射されることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 4,
A drawing apparatus, wherein modulated light is irradiated to each of a plurality of positions arranged in a line in a direction intersecting the scanning direction by irradiation of the object with the light beam.
前記複数の位置の数が、50以上であることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 5,
The drawing apparatus, wherein the number of the plurality of positions is 50 or more.
前記変調光生成部が、
光源部と、
回折格子型の複数の光変調素子を直線状に配列した空間光変調器と、
前記光源部からの光を光束断面が直線状である線状光に変換して前記空間光変調器へと導く光学系と、
を備えることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to claim 5 or 6, wherein
The modulated light generator is
A light source unit;
A spatial light modulator in which a plurality of diffraction grating type light modulation elements are linearly arranged;
An optical system that converts the light from the light source section into linear light having a linear cross section and guides it to the spatial light modulator;
A drawing apparatus comprising:
前記対象画素配列における画素ピッチが、前記論理画素配列における画素ピッチの1倍以上50倍以下であることを特徴とする描画装置。 The drawing apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The drawing apparatus, wherein a pixel pitch in the target pixel array is 1 to 50 times a pixel pitch in the logical pixel array.
a)変調光生成部により空間変調された光ビームを生成する工程と、
b)前記光ビームを偏向する偏向部により前記光ビームの前記対象物上の照射位置を所定の走査方向に走査する工程と、
c)前記a)およびb)工程に並行して、前記偏向部に対して前記対象物を相対的に移動することにより前記光ビームの照射位置を前記走査方向に対して交差する方向に移動する工程と、
を備え、
前記光ビームの照射位置の各走査により描画可能な領域内に設定された対象画素配列に対応する対象座標と、前記各走査において前記変調光生成部に入力される論理描画データが示す論理画素配列に対応する論理座標との関係を示す補正テーブルが記憶部に記憶されており、
前記a)工程において、前記補正テーブルを参照して、前記光ビームの各走査における対象画素配列を示す対象描画データが、前記対象画素配列以上の解像度を有する論理画素配列を示す論理描画データへと変換されて前記変調光生成部に入力されることを特徴とする描画方法。 A drawing method for drawing an image on an object by light irradiation,
a) generating a spatially modulated light beam by the modulated light generator;
b) scanning the irradiation position of the light beam on the object in a predetermined scanning direction by a deflecting unit that deflects the light beam;
c) In parallel with the steps a) and b), the irradiation position of the light beam is moved in a direction crossing the scanning direction by moving the object relative to the deflection unit. Process,
With
A logical pixel array indicated by target coordinates corresponding to a target pixel array set in an area that can be drawn by each scanning of the irradiation position of the light beam, and logical drawing data input to the modulated light generation unit in each scanning A correction table showing the relationship with the logical coordinates corresponding to is stored in the storage unit,
In the step a), referring to the correction table, the target drawing data indicating the target pixel array in each scan of the light beam is changed to logical drawing data indicating a logical pixel array having a resolution higher than the target pixel array. A drawing method characterized by being converted and inputted to the modulated light generation unit.
前記a)工程の前に、
d)前記変調光生成部に論理テストパターンを示すデータを入力しつつテスト対象物上における光ビームの照射位置を走査することにより、前記テスト対象物上にテストパターンを描画する工程と、
e)前記テスト対象物上に描画された前記テストパターンを撮像してテストパターン画像を取得する工程と、
f)前記論理テストパターンと前記テストパターン画像とを比較することにより、前記補正テーブルを生成する工程と、
をさらに備えることを特徴とする描画方法。 The drawing method according to claim 9, wherein
Before step a)
d) drawing a test pattern on the test object by scanning the irradiation position of the light beam on the test object while inputting data indicating a logical test pattern to the modulated light generation unit;
e) capturing the test pattern drawn on the test object to obtain a test pattern image;
f) generating the correction table by comparing the logical test pattern and the test pattern image;
A drawing method, further comprising:
前記偏向部が、回転しつつ複数の反射面にて前記光ビームを反射することにより前記光ビームを偏向するポリゴンミラーを備え、
前記記憶部が、前記ポリゴンミラーの各反射面に対応する補正テーブルを記憶することを特徴とする描画方法。 The drawing method according to claim 9 or 10, wherein
The deflection unit includes a polygon mirror that deflects the light beam by reflecting the light beam on a plurality of reflecting surfaces while rotating,
The drawing method, wherein the storage unit stores a correction table corresponding to each reflecting surface of the polygon mirror.
前記偏向部が、揺動しつつ反射面にて前記光ビームを反射することにより前記光ビームを偏向するガルバノミラーを備えることを特徴とする描画方法。 The drawing method according to claim 9 or 10, wherein
The drawing method, wherein the deflection unit includes a galvanometer mirror that deflects the light beam by reflecting the light beam on a reflecting surface while swinging.
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