JP2010129803A - Wiring circuit board and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線回路基板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a printed circuit board and a method for manufacturing the same.
フレキシブル配線回路基板等の配線回路基板では、ポリイミド等の絶縁層の片面または両面に、所定のパターンを有する銅箔等の導体層(導体パターン)が形成され、導体パターンを覆うように絶縁層上にカバーレイフィルムが形成されている。 In a printed circuit board such as a flexible printed circuit board, a conductor layer (conductor pattern) such as a copper foil having a predetermined pattern is formed on one side or both sides of an insulation layer such as polyimide, and the conductor layer is covered with the conductor layer. A coverlay film is formed on the surface.
カバーレイフィルムは、導体パターンの端子部を除く領域に接着剤層を介して接着され、導体パターンの端子部の表面にはめっき層が形成される(特許文献1〜3)。それにより、端子部の腐食が防止される。
しかしながら、配線回路基板の使用により金属のイオンマイグレーションが発生する場合がある。それにより、導体パターン間で短絡が発生する。ここで、イオンマイグレーションとは電界が発生している状態で水分が媒体となって金属イオンが移動する現象をいう。また、水分等の浸入により、端子部近傍の導体パターンの部分が腐食する場合がある。それにより、端子部に搭載される電子部品と導体パターンとの接続性が低下する。 However, metal ion migration may occur due to the use of the printed circuit board. As a result, a short circuit occurs between the conductor patterns. Here, ion migration refers to a phenomenon in which metal ions move using moisture as a medium while an electric field is generated. In addition, the conductor pattern portion in the vicinity of the terminal portion may corrode due to the penetration of moisture or the like. Thereby, the connectivity between the electronic component mounted on the terminal portion and the conductor pattern is lowered.
特許文献1のフレキシブルプリント配線板では、カバーレイフィルムおよび回路導体の腐食を防止するために、カバーレイフィルムと回路導体との境界部にスクリーン印刷が行われる。この場合、スクリーン印刷のための製造設備および塗料が必要になる。それにより、製造コストが高くなる。
In the flexible printed wiring board of
本発明の目的は、イオンマイグレーションおよび腐食の発生が防止されかつ低コスト化が可能な配線回路基板およびその製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a printed circuit board which can prevent the occurrence of ion migration and corrosion and can be reduced in cost, and a method for manufacturing the same.
(1)第1の発明に係る配線回路基板は、第1の絶縁層と、第1の絶縁層上に形成され、所定のパターンを有する金属を含む導体層と、導体層の一部領域を除いて導体層の他の領域を覆うように第1の絶縁層上に接着剤層を介して形成される第2の絶縁層と、導体層の一部領域に形成されるめっき層とを備え、接着剤層は、一部領域上のめっき層の一部を被覆するように他の領域からはみ出たものである。 (1) A printed circuit board according to a first invention includes a first insulating layer, a conductor layer formed on the first insulating layer and including a metal having a predetermined pattern, and a partial region of the conductor layer. A second insulating layer formed on the first insulating layer via an adhesive layer so as to cover other regions of the conductor layer except for, and a plating layer formed in a partial region of the conductor layer The adhesive layer protrudes from the other region so as to cover a part of the plating layer on the partial region.
この発明に係る配線回路基板おいては、導体層の一部領域を除く他の領域が接着剤層を介して第2の絶縁層により被覆される。また、導体層の一部領域がめっき層により覆われる。 In the printed circuit board according to the present invention, other regions except for a partial region of the conductor layer are covered with the second insulating layer via the adhesive layer. Moreover, a partial region of the conductor layer is covered with the plating layer.
この場合、導体層の一部領域に形成されためっき層の一部が、導体層の他の領域からはみ出た接着剤層により被覆される。これにより、導体層から溶出される金属イオンがめっき層と接着剤層との界面を通して外部へ移動することが防止される。したがって、イオンマイグレーションの発生が防止される。また、外部の雰囲気がめっき層と接着剤層との界面を通して導体層の表面に到達することが防止される。それにより、導体層の腐食が防止される。これらの結果、配線回路基板の信頼性が向上する。 In this case, a part of the plating layer formed in the partial region of the conductor layer is covered with the adhesive layer protruding from the other region of the conductive layer. This prevents metal ions eluted from the conductor layer from moving outside through the interface between the plating layer and the adhesive layer. Therefore, the occurrence of ion migration is prevented. Further, the external atmosphere is prevented from reaching the surface of the conductor layer through the interface between the plating layer and the adhesive layer. Thereby, corrosion of the conductor layer is prevented. As a result, the reliability of the printed circuit board is improved.
さらに、他の材料を新たに用意することなく、めっき層の一部が接着剤層で被覆されるので、配線回路基板の低コスト化が可能となる。 Furthermore, since a part of the plating layer is covered with the adhesive layer without newly preparing other materials, the cost of the printed circuit board can be reduced.
(2) めっき層は、導体層上に端面を有し、他の領域からはみ出た接着剤層は、めっき層の端面に直交する縦断面において、端面を含むめっき層の表面が接着剤層により5μm以上200μm以下の長さ被覆されてもよい。 (2) The plating layer has an end surface on the conductor layer, and the adhesive layer protruding from the other region has a vertical cross section perpendicular to the end surface of the plating layer, and the surface of the plating layer including the end surface is formed by the adhesive layer. It may be coated with a length of 5 μm or more and 200 μm or less.
ここで、上記の長さは、接着剤層の縁部における平均の長さである。 Here, said length is an average length in the edge part of an adhesive bond layer.
これにより、めっき層と接着剤層との界面の長さを十分に確保することができるとともに、めっき層の露出面積が過剰に小さくなることが防止される。したがって、めっき層と電子部品との接続性が確保されつつイオンマイグレーションの発生および導体層の腐食の発生が十分に防止される。その結果、配線回路基板の信頼性が十分に向上する。 Thereby, the length of the interface between the plating layer and the adhesive layer can be sufficiently secured, and the exposed area of the plating layer is prevented from becoming excessively small. Therefore, the occurrence of ion migration and the occurrence of corrosion of the conductor layer are sufficiently prevented while ensuring the connectivity between the plating layer and the electronic component. As a result, the reliability of the printed circuit board is sufficiently improved.
(3)めっき層の端面に直交する縦断面において、端面を含むめっき層の表面が接着剤層により10μm以上50μm以下の長さ被覆されてもよい。 (3) In the longitudinal section perpendicular to the end face of the plating layer, the surface of the plating layer including the end face may be covered with an adhesive layer for a length of 10 μm or more and 50 μm or less.
これにより、めっき層と接着剤層との界面の長さをより十分に確保することができるとともに、めっき層の露出面積の縮小を最小限に抑えることができる。したがって、めっき層と電子部品との接続性が十分に確保されつつイオンマイグレーションの発生および導体層の腐食の発生がより十分に防止される。その結果、配線回路基板の信頼性がより十分に向上する。 Thereby, the length of the interface between the plating layer and the adhesive layer can be more sufficiently secured, and the reduction of the exposed area of the plating layer can be minimized. Therefore, the occurrence of ion migration and the occurrence of corrosion of the conductor layer are more sufficiently prevented while the connectivity between the plating layer and the electronic component is sufficiently ensured. As a result, the reliability of the printed circuit board is further improved.
(4)第2の発明に係る配線回路基板の製造方法は、第1の絶縁層上に所定のパターンを有する金属を含む導体層を形成する工程と、導体層の一部領域を除いて導体層の他の領域を覆うように第1の絶縁層上に接着剤層を介して第2の絶縁層を形成する工程と、第1の絶縁層と第2の絶縁層とを加圧することにより第1の絶縁層と第2の絶縁層とを貼り合わせる工程と、導体層の一部領域にめっき層を形成する工程と、めっき層の形成後に第1の絶縁層と第2の絶縁層とを加圧する工程とを備えるものである。 (4) A method for manufacturing a printed circuit board according to a second invention includes a step of forming a conductor layer including a metal having a predetermined pattern on the first insulating layer, and a conductor except for a partial region of the conductor layer. Forming a second insulating layer on the first insulating layer via an adhesive layer so as to cover other regions of the layer, and pressurizing the first insulating layer and the second insulating layer A step of bonding the first insulating layer and the second insulating layer, a step of forming a plating layer in a partial region of the conductor layer, a first insulating layer and a second insulating layer after forming the plating layer; And a step of pressurizing.
この発明に係る配線回路基板の製造方法においては、第1の絶縁層上に所定のパターンを有する金属を含む導体層が形成され、導体層の一部領域を除いて導体層の他の領域を覆うように第1の絶縁層上に接着剤層を介して第2の絶縁層が形成される。その後、第1の絶縁層と第2の絶縁層とが加圧され、第1の絶縁層と第2の絶縁層とを貼り合わされ、導体層の一部領域にめっき層が形成される。 In the method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention, a conductor layer including a metal having a predetermined pattern is formed on the first insulating layer, and other areas of the conductor layer are removed except for a part of the conductor layer. A second insulating layer is formed on the first insulating layer so as to cover the adhesive layer. Thereafter, the first insulating layer and the second insulating layer are pressurized, the first insulating layer and the second insulating layer are bonded together, and a plating layer is formed in a partial region of the conductor layer.
さらに、めっき層の形成後に、第1の絶縁層と第2の絶縁層とが加圧される。これにより、第1の絶縁層と第2の絶縁層との間の接着層が、導体層の他の領域からはみ出る。 Furthermore, after the plating layer is formed, the first insulating layer and the second insulating layer are pressurized. As a result, the adhesive layer between the first insulating layer and the second insulating layer protrudes from the other region of the conductor layer.
この場合、導体層の一部領域に形成されためっき層の一部が、導体層の他の領域からはみ出た接着剤層により被覆される。これにより、導体層から溶出される金属イオンがめっき層と接着剤層との界面を通して外部へ移動することが防止される。したがって、イオンマイグレーションの発生が防止される。また、外部の雰囲気がめっき層と接着剤層との界面を通して導体層の表面に到達することが防止される。それにより、導体層の腐食が防止される。これらの結果、配線回路基板の信頼性が向上する。 In this case, a part of the plating layer formed in the partial region of the conductor layer is covered with the adhesive layer protruding from the other region of the conductive layer. This prevents metal ions eluted from the conductor layer from moving outside through the interface between the plating layer and the adhesive layer. Therefore, the occurrence of ion migration is prevented. Further, the external atmosphere is prevented from reaching the surface of the conductor layer through the interface between the plating layer and the adhesive layer. Thereby, corrosion of the conductor layer is prevented. As a result, the reliability of the printed circuit board is improved.
さらに、他の材料および設備を新たに用意することなく、めっき層の一部が接着剤層で被覆されるので、配線回路基板の材料コストの増大が抑制される。また、加圧によりめっき層の一部が接着剤層で被覆される。これにより、他の設備を用意する必要がない。これらの結果、材料コストおよび製造コストの増大が十分に抑制される。 Furthermore, since a part of the plating layer is covered with the adhesive layer without newly preparing other materials and equipment, an increase in the material cost of the printed circuit board is suppressed. Moreover, a part of the plating layer is covered with the adhesive layer by pressurization. Thereby, it is not necessary to prepare other facilities. As a result, increases in material cost and manufacturing cost are sufficiently suppressed.
(5)貼り合わせる工程において、第1の絶縁層および第2の絶縁層は第1の期間加圧され、めっき層の形成後に第1の絶縁層と第2の絶縁層とを加圧する工程において、第1の絶縁層および第2の絶縁層は第2の期間加圧され、第1の期間は、第2の期間よりも短くてもよい。 (5) In the bonding step, the first insulating layer and the second insulating layer are pressurized for the first period, and in the step of pressing the first insulating layer and the second insulating layer after forming the plating layer The first insulating layer and the second insulating layer are pressurized during the second period, and the first period may be shorter than the second period.
この場合、第1の期間は第2の期間よりも短いので、第1の絶縁層と第2の絶縁層とを貼り合わせる工程において接着剤層が完全に硬化することを防止することができるとともに、めっき層の形成前に接着剤層が第1の絶縁層と第2の絶縁層との間から過剰にはみ出すことを防止することができる。また、めっき層の形成後に、第1の絶縁層と第2の絶縁層との間から導体層の一部領域に接着剤層を容易にはみ出させることができるとともに、接着剤層を完全に硬化させることができる。それにより、めっき層の一部を接着剤層により確実に被覆することができる。 In this case, since the first period is shorter than the second period, it is possible to prevent the adhesive layer from being completely cured in the step of bonding the first insulating layer and the second insulating layer. The adhesive layer can be prevented from excessively protruding from between the first insulating layer and the second insulating layer before the plating layer is formed. In addition, after the plating layer is formed, the adhesive layer can be easily protruded from a portion of the conductor layer from between the first insulating layer and the second insulating layer, and the adhesive layer is completely cured. Can be made. Thereby, a part of plating layer can be reliably coat | covered with an adhesive bond layer.
本発明に係る配線回路基板おいては、導体層の一部領域を除く他の領域が接着剤層を介して第2の絶縁層により被覆される。また、導体層の一部領域がめっき層により覆われる。 In the printed circuit board according to the present invention, other regions except for a partial region of the conductor layer are covered with the second insulating layer via the adhesive layer. Moreover, a partial region of the conductor layer is covered with the plating layer.
この場合、導体層の一部領域に形成されためっき層の一部が、導体層の他の領域からはみ出た接着剤層により被覆される。これにより、導体層から溶出される金属イオンがめっき層と接着剤層との界面を通して外部へ移動することが防止される。したがって、イオンマイグレーションの発生が防止される。また、外部の雰囲気がめっき層と接着剤層との界面を通して導体層の表面に到達することが防止される。それにより、導体層の腐食が防止される。これらの結果、配線回路基板の信頼性が向上する。 In this case, a part of the plating layer formed in the partial region of the conductor layer is covered with the adhesive layer protruding from the other region of the conductive layer. This prevents metal ions eluted from the conductor layer from moving outside through the interface between the plating layer and the adhesive layer. Therefore, the occurrence of ion migration is prevented. Further, the external atmosphere is prevented from reaching the surface of the conductor layer through the interface between the plating layer and the adhesive layer. Thereby, corrosion of the conductor layer is prevented. As a result, the reliability of the printed circuit board is improved.
さらに、他の材料を新たに用意することなく、めっき層の一部が接着剤層で被覆されるので、配線回路基板の低コスト化が可能となる。 Furthermore, since a part of the plating layer is covered with the adhesive layer without newly preparing other materials, the cost of the printed circuit board can be reduced.
以下、本発明の一実施の形態に係る配線回路基板およびその製造方法について図面を参照しつつ説明する。以下では、配線回路基板の一例として、フレキシブル配線回路基板を説明する。 Hereinafter, a printed circuit board and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. Hereinafter, a flexible printed circuit board will be described as an example of the printed circuit board.
(1)配線回路基板の構成
図1は本発明の一実施の形態に係るフレキシブル配線回路基板100の外観斜視図である。図2(a)は図1のフレキシブル配線回路基板100の模式的上面図であり、図2(b)は図2(a)のA−A線における一部拡大断面図である。なお、図2(a)においては、後述するフレキシブル配線回路基板100の複数の構成要素をそれぞれ識別するために、外部から視認可能な構成要素にハッチングを施している。
(1) Configuration of Wiring Circuit Board FIG. 1 is an external perspective view of a flexible
図1および図2に示すように、本実施の形態に係るフレキシブル配線回路基板100は、絶縁層1、導体パターン2、カバーレイ接着剤層3、カバーレイフィルム4およびめっき層5を含む。絶縁層1は、ベース樹脂層1aおよびベース接着剤層1bからなる。フレキシブル配線回路基板100の構造について、詳細を説明する。
As shown in FIGS. 1 and 2, a flexible printed
ベース樹脂層1aおよびベース接着剤層1bからなる絶縁層1上に、銅からなる所定の導体パターン(配線パターン)2が形成されている。
A predetermined conductor pattern (wiring pattern) 2 made of copper is formed on an insulating
図2(a)および図2(b)に示すように、絶縁層1上の所定の領域にカバーレイ接着剤層3を用いてカバーレイフィルム4が貼り合わされている。これにより、導体パターン2の一部がカバーレイ接着剤層3およびカバーレイフィルム4により覆われている。
As shown in FIGS. 2A and 2B, a
また、カバーレイフィルム4が貼り合わされていない絶縁層1上の領域においては、導体パターン2の一部を覆うようにめっき層5が形成されている。めっき層5が形成された導体パターン2の部分が、本フレキシブル配線回路基板100における端子部Tを構成する。端子部Tには、図示しない電子部品が搭載される。
Further, in the region on the insulating
ここで、図2(a)および図2(b)に示すように、導体パターン2においては、めっき層5の形成部分とカバーレイフィルム4で覆われる部分との間に、隙間Gが形成される。
Here, as shown in FIGS. 2A and 2B, in the
本実施の形態に係るフレキシブル配線回路基板100においては、導体パターン2の隙間G、その隙間Gの周辺に位置する絶縁層1の一部、および隙間Gの周辺に位置するめっき層5の一部がカバーレイ接着剤層3により覆われる。
In flexible printed
これにより、図2(b)に太線で示すように、めっき層5の端面5Eが、カバーレイ接着剤層3により覆われる。また、めっき層5の表面における端面5Eから所定幅の領域5Fが、カバーレイ接着剤層3により覆われる。以下の説明では、カバーレイ接着剤層3により覆われるめっき層5表面の領域5Fを表面被覆領域5Fと呼ぶ。
As a result, the
ここで、めっき層5の厚みをd1とし、表面被覆領域5Fの幅をd2とする。この場合、フレキシブル配線回路基板100の縦断面においては、めっき層5が厚さd1と幅d2との合計の長さ分カバーレイ接着剤層3により被覆される。以下の説明では、厚さd1と幅d2との合計の値を被覆長さと呼ぶ。
Here, the thickness of the
(2)配線回路基板の構成に基づく効果
本実施の形態に係るフレキシブル配線回路基板100においては、めっき層5の端面5Eおよび表面被覆領域5Fがカバーレイ接着剤層3により被覆される。
(2) Effect Based on Configuration of Printed Circuit Board In flexible printed
これにより、導体パターン2の表面から溶出される金属イオン(銅イオン)がめっき層5とカバーレイ接着剤層3との界面を通して外部へ移動することが防止される。したがって、高温高湿雰囲気においてもイオンマイグレーションの発生が防止される。また、高温高湿雰囲気においても、外部の雰囲気(水分等)がめっき層5とカバーレイ接着剤層3との界面を通して導体パターン2の表面に到達することが防止される。それにより、導体パターン2の腐食が防止される。したがって、端子部Tに搭載される図示しない電子部品と導体パターン2との接続性の低下が防止される。これらの結果、フレキシブル配線回路基板100の信頼性が向上する。
This prevents metal ions (copper ions) eluted from the surface of the
さらに、めっき層5の一部を被覆するために他の材料を用いる必要がない。したがって、フレキシブル配線回路基板100の低コスト化が可能となる。
Furthermore, it is not necessary to use another material for covering a part of the
被覆長さは、5μm以上200μm以下に設定されることが好ましい。ここで、本実施の形態においては、被覆長さはカバーレイ接着剤層3の縁部における平均の長さをいう。これにより、めっき層5とカバーレイ接着剤層3との界面の長さを十分に確保することができるとともに、めっき層5の露出面積が過剰に小さくなることが防止される。したがって、端子部Tの領域が十分に確保され、めっき層5と電子部品との接続性が確保されつつイオンマイグレーションの発生および導体パターン2の腐食が十分に防止される。その結果、フレキシブル配線回路基板100の信頼性が十分に向上する。
The coating length is preferably set to 5 μm or more and 200 μm or less. Here, in the present embodiment, the covering length refers to the average length at the edge of the
被覆長さは10μm以上50μm以下に設定されることがさらに好ましい。これにより、めっき層5とカバーレイ接着剤層3との界面の長さをより十分に確保することができるとともに、めっき層5の露出面積の縮小を最小限に抑えることができる。したがって、端子部Tの領域がより十分に確保され、めっき層5と電子部品との接続性が十分に確保されつつイオンマイグレーションの発生および導体パターン2の腐食がより十分に防止される。その結果、フレキシブル配線回路基板100の信頼性がより十分に向上する。
More preferably, the coating length is set to 10 μm or more and 50 μm or less. Thereby, the length of the interface between the
(3)配線回路基板の製造方法
続いて、フレキシブル配線回路基板100の製造方法について、詳細を説明する。図3および図4は、図1のフレキシブル配線回路基板100の製造方法を示す模式的工程断面図である。
(3) Manufacturing method of wiring circuit board Subsequently, the manufacturing method of the flexible
初めに、図3(a)に示すように、絶縁体フィルムからなるベース樹脂層1aの一面にベース接着剤層1bを挟んで銅箔2Xが貼り合わされたベースフィルムを用意する。そして、露出する銅箔2Xの一面上にフォトレジストを塗布し、フォトマスクを用いて露光処理および現像処理を行う。これにより、所定のパターンのエッチングレジストが得られる。その後、銅箔2Xのエッチングおよびエッチングレジストの除去を行うことにより銅からなる導体パターン2(配線パターン)を形成する。
First, as shown in FIG. 3A, a base film is prepared in which a
上記のように、本実施の形態においては、ベース樹脂層1aおよびベース接着剤層1bにより絶縁層1が構成される。
As described above, in the present embodiment, the insulating
ベース樹脂層1aとしては、例えばポリイミドフィルムまたはポリエステルフィルム等の絶縁性フィルムが用いられる。ベース樹脂層1aの厚みは、10μm以上40μm以下であることが好ましい。
As the
また、ベース接着剤層1bとしては、例えばエポキシ樹脂系の接着剤、フェノール樹脂系の接着剤、ポリエステル樹脂系の接着剤、アクリル樹脂系の接着剤、またはアクリロニトリルブタジエンゴムからなる接着剤等が用いられる。ベース接着剤層1bの厚みは、10μm以上40μm以下であることが好ましい。
Further, as the base
導体パターン2の材料は、銅に限らず、金、ニッケルまたはアルミニウム等の他の金属を用いてもよいし、銅合金、はんだまたはアルミニウム合金等の合金を用いてもよい。導体パターン2の厚みは、5μm以上40μm以下であることが好ましい。
The material of the
なお、上記では、ベース樹脂層1a、ベース接着剤層1bおよび銅箔2Xからなる三層のベースフィルムを用いる旨を記載したが、ベース樹脂層1aおよび銅箔2Xからなる二層のベースフィルムを用いてもよい。
In the above description, it is described that a three-layer base film composed of the
次に、予めカバーレイ接着剤層3が一面に塗布されたカバーレイフィルム4を用意する。そして、図3(b)に示すように、導体パターン2が形成された絶縁層1の一面上に、カバーレイ接着剤層3を挟んでカバーレイフィルム4を熱プレスにより貼り合わせる。以下の説明では、このときの熱プレスを第1の熱プレスと呼ぶ。なお、カバーレイフィルム4は、予め定められた端子部Tの形成領域(図4参照)を除く領域に貼り付けられる。
Next, a
具体的には、導体パターン2が形成された絶縁層1上にカバーレイ接着剤層3を挟んでカバーレイフィルム4を配置した状態で、絶縁層1、導体パターン2、カバーレイ接着剤層3およびカバーレイフィルム4からなる積層体を第1の温度に加熱されたプレス機により、第1の期間、第1の圧力で加圧する。
Specifically, the insulating
このとき、第1の熱プレスは、カバーレイ接着剤層3が半硬化状態となるように行う。第1の温度は、50℃以上200℃以下に設定される。また、第1の期間は、5秒以上10分以下に設定され、第1の圧力は1kg/cm2以上90kg/cm2以下に設定される。
At this time, the first hot press is performed so that the
上記のように、第1の熱プレスが行われることにより、図3(b)に示すように、カバーレイフィルム4の端面4Eからカバーレイ接着剤層3の一部が押し出される。
As described above, by performing the first hot press, a part of the
カバーレイフィルム4としては、例えばポリイミドフィルムまたはポリエステルフィルム等の絶縁性フィルムが用いられる。カバーレイフィルム4の厚みは、10μm以上60μm以下であることが好ましい。
As the
カバーレイ接着剤層3としては、熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂とが混合された熱硬化型の接着剤が用いられる。熱硬化性樹脂としては、例えばエポキシ樹脂またはフェノール樹脂等を用いることができる。また、熱可塑性樹脂としては、例えばポリエステル樹脂、アクリル樹脂またはアクリロニトリルブタジエンゴム等を用いることができる。カバーレイ接着剤層3の厚みは、10μm以上40μm以下であることが好ましい。
As the
なお、カバーレイ接着剤層3が一面に塗布されたカバーレイフィルム4は、カバーレイフィルム4の一面に熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂とを混合した熱硬化型の接着剤を塗布し、塗布された接着剤を半硬化状態とし、その接着剤上に離型フィルムを積層することにより作製される。
The
その後、図4(c)に示すように、導体パターン2におけるカバーレイ接着剤層3が形成されない領域、すなわち端子部Tの形成領域に、例えば電解めっきによりめっき層5を形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 4C, the
本実施の形態において、めっき層5としては、金めっき層、ニッケル−金めっき層、錫めっき層、はんだめっき層、錫−銅系合金めっき層、または錫−銀系合金めっき層等を用いることができる。なお、本実施の形態においては、めっき層5の厚みは特に限定されない。
In the present embodiment, as the
めっき層5は、電解めっきに限らず、無電解めっきにより形成してもよい。また、めっき層5は、絶縁層1上の端子部Tの形成領域にはんだをスクリーン印刷することにより形成してもよいし、端子部Tの形成領域に溶融したはんだを接触させることにより形成してもよい。
The
続いて、図4(d)に示すように、絶縁層1、導体パターン2、カバーレイ接着剤層3およびカバーレイフィルム4からなる積層体に対して再び熱プレスを行う。以下の説明では、めっき層5の形成後の熱プレスを第2の熱プレスと呼ぶ。
Subsequently, as shown in FIG. 4 (d), the laminated body composed of the insulating
具体的には、上記の積層体を第2の温度に加熱されたプレス機により、第2の期間、第2の圧力で加圧する。 Specifically, the above laminate is pressurized at a second pressure for a second period by a press machine heated to a second temperature.
このとき、第2の熱プレスは、カバーレイ接着剤層3が完全に硬化するように行う。第2の温度は、第1の温度以上でありかつ50℃以上200℃以下に設定されることが好ましい。また、第2の期間は、第1の期間以上でありかつ10分以上3時間以下に設定されることが好ましい。さらに、第2の圧力は、第1の圧力以上でありかつ1kg/cm2以上90kg/cm2以下に設定されることが好ましい。
At this time, the second hot press is performed so that the
ここで、第1の期間と第2の期間との合計の時間は、5秒以上3時間以下に設定されることが好ましい。また、熱プレスは、単層型プレス機および多段型プレス機のいずれを用いて行ってもよい。 Here, the total time of the first period and the second period is preferably set to 5 seconds or more and 3 hours or less. The hot press may be performed using either a single-layer press or a multistage press.
上記のように、導体パターン2の一部領域にめっき層5が形成された後、第2の熱プレスが行われることにより、図4(d)に示すように、カバーレイフィルム4の端面4Eからカバーレイ接着剤層3の一部が押し出される。これにより、カバーレイ接着剤層3は、めっき層5の端面5Eから幅d2分めっき層5の表面上にはみ出す。その結果、上述のように、フレキシブル配線回路基板100の縦断面におけるめっき層5の端面5Eおよび表面被覆領域5Fがカバーレイ接着剤層3により被覆される。
As described above, after the
(4)配線回路基板の製造方法に基づく効果
上記の製造方法においては、第1の熱プレスにより絶縁層1とカバーレイフィルム4との貼り合わせを行った後、露出する導体パターン2の部分にめっき層5が形成され、第2の熱プレスによりカバーレイ接着剤層3がカバーレイフィルム4と絶縁層1との間から押し出される。
(4) Effects based on the printed circuit board manufacturing method In the manufacturing method described above, after the insulating
これにより、他の材料および設備を新たに用意することなく、導体パターン2上のめっき層5の端面5Eおよび表面被覆領域5Fがカバーレイ接着剤層3で被覆される。それにより、材料コストおよび製造コストの増大が十分に抑制される。
Thereby, the
ここで、図4(d)のフレキシブル配線回路基板100において、カバーレイフィルム4の端面4Eからめっき層5を覆うカバーレイ接着剤層3の端辺3Eまでの長さLを、カバーレイ接着剤層3の露出長さLと呼ぶ。露出長さLは、隙間Gと表面被覆領域5Fの幅をd2との合計の値である。また、本実施の形態において、露出長さLは、カバーレイ接着剤層3の縁部における平均の長さをいう。
Here, in the flexible printed
露出長さLは、5μm以上400μm以下に設定されることが好ましい。これにより、めっき層5とカバーレイ接着剤層3との界面の長さを十分に確保することができるとともに、めっき層5の露出面積が過剰に小さくなることが防止される。したがって、めっき層5と図示しない電子部品との接続性が確保されつつ、イオンマイグレーションの発生および導体パターン2の腐食の発生が十分に防止される。その結果、フレキシブル配線回路基板100の信頼性が十分に向上する。
The exposure length L is preferably set to 5 μm or more and 400 μm or less. Thereby, the length of the interface between the
露出長さLは、5μm以上200μm以下に設定されることがより好ましい。これにより、めっき層5とカバーレイ接着剤層3との界面の長さをより十分に確保することができるとともに、めっき層5の露出面積の縮小を最小限に抑えることができる。したがって、めっき層5と図示しない電子部品との接続性が十分に確保されつつ、イオンマイグレーションの発生および導体パターン2の腐食の発生がより十分に防止される。その結果、フレキシブル配線回路基板100の信頼性がより十分に向上する。
The exposure length L is more preferably set to 5 μm or more and 200 μm or less. Thereby, the length of the interface between the
(5)カバーレイ接着剤層によるめっき層の被覆状態
図5は、カバーレイ接着剤層3によるめっき層5の被覆状態を示す模式的断面図である。図5(a)に、めっき層5の厚みd1が小さい場合のめっき層5の被覆状態が示されている。また、図5(b)に、めっき層5の厚みd1が大きい場合のめっき層5の被覆状態が示されている。
(5) Covering State of Plating Layer with Coverlay Adhesive Layer FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing a covering state of the
図5(a)および図5(b)に示すように、フレキシブル配線回路基板100においては、めっき層5の厚みd1に応じてカバーレイ接着剤層3によるめっき層5の被覆状態が変化するが、被覆長さ(厚さd1と幅d2との合計値)が5μm以上200μm以下に設定されることにより、上記の効果を得ることができる。
As shown in FIGS. 5A and 5B, in the flexible printed
(6)請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応
請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
(6) Correspondence between each constituent element of claims and each element of the embodiment An example of correspondence between each constituent element of the claims and each element of the embodiment will be described, but the present invention is limited to the following examples. Not.
上記実施の形態においては、フレキシブル配線回路基板100が配線回路基板の例であり、絶縁層1が第1の絶縁層の例であり、導体パターン2が導体層の例であり、カバーレイ接着剤層3が接着剤層の例であり、カバーレイフィルム4が第2の絶縁層の例であり、めっき層5の端面5Eがめっき層の端面の例である。
In the above embodiment, the flexible printed
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の要素を用いることもできる。 As each constituent element in the claims, various other elements having configurations or functions described in the claims can be used.
以下、実施例1〜5および比較例における配線回路基板およびその製造方法について説明する。 Hereinafter, the printed circuit board and the manufacturing method thereof in Examples 1 to 5 and the comparative example will be described.
[実施例1]
実施例1においては、ベース樹脂層1aの一面にベース接着剤層1bを挟んで銅箔2Xが貼り合わされたベースフィルムを用意した。ベース樹脂層1aとしてはポリイミドフィルムを用い、ベース接着剤層1bとしてはエポキシ樹脂系の接着剤を用いた。ベース樹脂層1aの厚みは25μmであり、ベース接着剤層1bの厚みは15μmであり、銅箔2Xの厚みは35μmであった。
[Example 1]
In Example 1, a base film was prepared in which a
そして、露出する銅箔2Xの一面上に、上記と同様にして所定のパターンのエッチングレジストを形成した。その後、銅箔2Xのエッチングおよびエッチングレジストの除去を行うことにより銅からなる導体パターン2を形成した。
Then, an etching resist having a predetermined pattern was formed on one surface of the exposed
次に、カバーレイ接着剤層3が一面に塗布されたカバーレイフィルム4を用意した。カバーレイ接着剤層3としてはエポキシ樹脂系の接着剤を用い、カバーレイフィルム4としてはポリイミドフィルムを用いた。
Next, a
そして、導体パターン2が形成された絶縁層1の一面上に、カバーレイ接着剤層3を挟んでカバーレイフィルム4を第1の熱プレスにより貼り合わせた。なお、カバーレイフィルム4は、予め定められた端子部Tの形成領域を除く領域に貼り付けた。
And the
第1の熱プレスにおいては、第1の温度を150℃に設定し、第1の期間を1分に設定し、第1の圧力を40kg/cm2に設定した。 In the first hot press, the first temperature was set to 150 ° C., the first period was set to 1 minute, and the first pressure was set to 40 kg / cm 2 .
その後、カバーレイ接着剤層3が形成されない導体パターン2の部分に、電解めっきによりめっき層5を形成した。めっき層5の厚みは、約0.3μmであった。
Thereafter, a
最後に、絶縁層1、導体パターン2、カバーレイ接着剤層3およびカバーレイフィルム4からなる積層体に対して第2の熱プレスを行った。第2の熱プレスにおいては、第2の温度を150℃に設定し、第2の期間を1分に設定し、第2の圧力を40kg/cm2に設定した。
Finally, a second hot press was performed on the laminate composed of the insulating
[実施例2]
実施例2においては、第1の熱プレスおよび第2の熱プレスの条件が異なる点を除き、実施例1と同様にしてフレキシブル配線回路基板を作製した。
[Example 2]
In Example 2, a flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions of the first hot press and the second hot press were different.
本例では、第1の熱プレスの条件として、第1の温度を150℃に設定し、第1の期間を1分に設定し、第1の圧力を40kg/cm2に設定した。また、第2の熱プレスの条件として、第2の温度を150℃に設定し、第2の期間を3分に設定し、第2の圧力を40kg/cm2に設定した。 In this example, as the conditions for the first hot press, the first temperature was set to 150 ° C., the first period was set to 1 minute, and the first pressure was set to 40 kg / cm 2 . Further, as conditions for the second hot press, the second temperature was set to 150 ° C., the second period was set to 3 minutes, and the second pressure was set to 40 kg / cm 2 .
[実施例3]
実施例3においては、第1の熱プレスおよび第2の熱プレスの条件が異なる点を除き、実施例1と同様にしてフレキシブル配線回路基板を作製した。
[Example 3]
In Example 3, a flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions of the first hot press and the second hot press were different.
本例では、第1の熱プレスの条件として、第1の温度を150℃に設定し、第1の期間を1分に設定し、第1の圧力を40kg/cm2に設定した。また、第2の熱プレスの条件として、第2の温度を150℃に設定し、第2の期間を10分に設定し、第2の圧力を40kg/cm2に設定した。 In this example, as the conditions for the first hot press, the first temperature was set to 150 ° C., the first period was set to 1 minute, and the first pressure was set to 40 kg / cm 2 . Further, as conditions for the second hot press, the second temperature was set to 150 ° C., the second period was set to 10 minutes, and the second pressure was set to 40 kg / cm 2 .
[実施例4]
実施例4においては、第1の熱プレスおよび第2の熱プレスの条件が異なる点を除き、実施例1と同様にしてフレキシブル配線回路基板を作製した。
[Example 4]
In Example 4, a flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions of the first hot press and the second hot press were different.
本例では、第1の熱プレスの条件として、第1の温度を150℃に設定し、第1の期間を1分に設定し、第1の圧力を40kg/cm2に設定した。また、第2の熱プレスの条件として、第2の温度を150℃に設定し、第2の期間を34分に設定し、第2の圧力を40kg/cm2に設定した。 In this example, as the conditions for the first hot press, the first temperature was set to 150 ° C., the first period was set to 1 minute, and the first pressure was set to 40 kg / cm 2 . Further, as conditions for the second hot press, the second temperature was set to 150 ° C., the second period was set to 34 minutes, and the second pressure was set to 40 kg / cm 2 .
[実施例5]
実施例5においては、第1の熱プレスおよび第2の熱プレスの条件が異なる点を除き、実施例1と同様にしてフレキシブル配線回路基板を作製した。
[Example 5]
In Example 5, a flexible printed circuit board was produced in the same manner as in Example 1 except that the conditions of the first hot press and the second hot press were different.
本例では、第1の熱プレスの条件として、第1の温度を150℃に設定し、第1の期間を1分に設定し、第1の圧力を40kg/cm2に設定した。また、第2の熱プレスの条件として、第2の温度を150℃に設定し、第2の期間を120分に設定し、第2の圧力を40kg/cm2に設定した。 In this example, as the conditions for the first hot press, the first temperature was set to 150 ° C., the first period was set to 1 minute, and the first pressure was set to 40 kg / cm 2 . Further, as the conditions for the second hot press, the second temperature was set to 150 ° C., the second period was set to 120 minutes, and the second pressure was set to 40 kg / cm 2 .
[比較例]
比較例においては、第1の熱プレスにおける第1の期間が異なる点、およびめっき層5の形成後に第2の熱プレスを行わなかった点を除き実施例1と同様の方法でフレキシブル配線回路基板を作製した。なお、本例では、第1の温度を150℃に設定し、第1の期間を35分に設定し、第1の圧力を40kg/cm2に設定した。
[Comparative example]
In the comparative example, the flexible printed circuit board is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the first period in the first hot press is different and the second hot press is not performed after the
[評価]
実施例1〜5のフレキシブル配線回路基板におけるめっき層5の部分の縦断面は、図4(d)に示されるフレキシブル配線回路基板100とほぼ同様であった。一方、比較例のフレキシブル配線回路基板におけるめっき層5の部分の縦断面において、めっき層5はカバーレイ接着剤層3により被覆されていなかった。
[Evaluation]
The longitudinal section of the portion of the
実施例1〜5および比較例のフレキシブル配線回路基板の作製時においては、第1の熱プレス終了後に、カバーレイフィルム4の端面4Eからはみ出したカバーレイ接着剤層3の長さを測長顕微鏡により測定した。この長さは、上記実施の形態における隙間G(図4(d)参照)の長さに相当する。
In the production of the flexible printed circuit boards of Examples 1 to 5 and Comparative Example, the length of the
その結果、実施例1〜5のフレキシブル配線回路基板において、隙間Gの長さは、それぞれ29μm、30μm、30μm、28μmおよび29μmであった。また、比較例のフレキシブル配線回路基板において、隙間Gの長さは、50μmであった。 As a result, in the flexible printed circuit boards of Examples 1 to 5, the lengths of the gaps G were 29 μm, 30 μm, 30 μm, 28 μm, and 29 μm, respectively. In the flexible printed circuit board of the comparative example, the length of the gap G was 50 μm.
さらに、完成した実施例1〜5のフレキシブル配線回路基板について、第2の熱プレス終了後に、カバーレイフィルム4の端面4Eからはみ出したカバーレイ接着剤層3の長さを測長顕微鏡により測定した。この長さは、上記実施の形態における露出長さL(図4(d)参照)に相当する。
Furthermore, about the completed flexible wiring circuit board of Examples 1-5, the length of the cover-
その結果、実施例1〜5のフレキシブル配線回路基板において、露出長さLは、それぞれ32μm、35μm、41μm、49μmおよび82μmであった。 As a result, in the flexible printed circuit boards of Examples 1 to 5, the exposed lengths L were 32 μm, 35 μm, 41 μm, 49 μm, and 82 μm, respectively.
比較例のフレキシブル配線回路基板については、第2の熱プレスを行っていないので、本測定は行わなかった。 The flexible printed circuit board of the comparative example was not subjected to the second measurement because the second heat press was not performed.
上記の測定結果に基づいて、各フレキシブル配線回路基板におけるカバーレイ接着剤層3によるめっき層5の被覆長さを算出した。その結果、実施例1〜7のフレキシブル配線回路基板において、カバーレイ接着剤層3によるめっき層5の被覆長さは、それぞれ3μm、5μm、11μm、21μm、および53μmであった。
Based on the measurement results, the coating length of the
一方、上記のように、比較例において、めっき層5はカバーレイ接着剤層3により被覆されていなかったため、被覆長さは0μmであった。
On the other hand, as described above, in the comparative example, since the
実施例1〜5および比較例のフレキシブル配線回路基板について、以下の腐食試験を行った。 The following corrosion tests were performed on the flexible printed circuit boards of Examples 1 to 5 and the comparative example.
容積が12lのデシケータを用意し、そのデシケータ内に70%硝酸が480ml入った容器を配置した。そして、デシケータの蓋を閉じて30分間放置した。 A desiccator having a volume of 12 liters was prepared, and a container containing 480 ml of 70% nitric acid was placed in the desiccator. The lid of the desiccator was closed and left for 30 minutes.
続いて、70%硝酸の容器に加えて、デシケータ内に実施例1〜7および比較例のフレキシブル配線回路基板を配置し、デシケータの蓋を閉じて60分間放置した。そして、デシケータから70%硝酸の容器、ならびに実施例1〜7および比較例のフレキシブル配線回路基板を取り出した。 Subsequently, in addition to the 70% nitric acid container, the flexible printed circuit boards of Examples 1 to 7 and Comparative Example were placed in the desiccator, and the desiccator lid was closed and left for 60 minutes. And the container of 70% nitric acid and the flexible wiring circuit board of Examples 1-7 and a comparative example were taken out from the desiccator.
次に、実施例1〜5および比較例のフレキシブル配線回路基板を125℃の温度環境下で30分間加熱した後、再び各フレキシブル配線回路基板をデシケータ内に配置し、蓋を閉じた状態で90分間放置した。 Next, after heating the flexible printed circuit boards of Examples 1 to 5 and the comparative example in a temperature environment of 125 ° C. for 30 minutes, each flexible printed circuit board is again placed in the desiccator, and the lid is closed. Left for a minute.
最後に、デシケータから各フレキシブル配線回路基板を取り出し、導体パターン2に発生した腐食の大きさおよび個数を顕微鏡により測定した。
Finally, each flexible printed circuit board was taken out from the desiccator, and the magnitude and number of corrosion occurring on the
図6は、実施例1〜5および比較例のフレキシブル配線回路基板における露出長さL、カバーレイ接着剤層3によるめっき層5の被覆長さ、および腐食試験結果を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing the exposed length L, the coating length of the
図6に示すように、実施例1に係るフレキシブル配線回路基板において、25mm2当たりの腐食の個数は、外径が0.05mm以上0.12mm以下の腐食が2.1であり、外径が0.13mm以上0.4mm以下の腐食が3.0であり、外径が0.4mmよりも大きい腐食が0.5であった。 As shown in FIG. 6, in the flexible printed circuit board according to Example 1, the number of corrosions per 25 mm 2 is 2.1 when the outer diameter is 0.05 mm or more and 0.12 mm or less, and the outer diameter is 2.1. Corrosion between 0.13 mm and 0.4 mm was 3.0, and corrosion with an outer diameter greater than 0.4 mm was 0.5.
また、実施例2に係るフレキシブル配線回路基板において、25mm2当たりの腐食の個数は、外径が0.05mm以上0.12mm以下の腐食が1.9であり、外径が0.13mm以上0.4mm以下の腐食が1.7であり、外径が0.4mmよりも大きい腐食が0.3であった。 In the flexible printed circuit board according to Example 2, the number of corrosions per 25 mm 2 is 1.9 when the outer diameter is 0.05 mm or more and 0.12 mm or less, and the outer diameter is 0.13 mm or more and 0. Corrosion of 0.4 mm or less was 1.7, and corrosion having an outer diameter larger than 0.4 mm was 0.3.
さらに、実施例3に係るフレキシブル配線回路基板において、25mm2当たりの腐食の個数は、外径が0.05mm以上0.12mm以下の腐食が1.3であり、外径が0.13mm以上0.4mm以下の腐食が0.5であり、外径が0.4mmよりも大きい腐食が0.1であった。 Furthermore, in the flexible printed circuit board according to Example 3, the number of corrosions per 25 mm 2 is 1.3 when the outer diameter is 0.05 mm or more and 0.12 mm or less, and the outer diameter is 0.13 mm or more and 0. Corrosion of 4 mm or less was 0.5, and corrosion having an outer diameter greater than 0.4 mm was 0.1.
また、実施例4に係るフレキシブル配線回路基板において、25mm2当たりの腐食の個数は、外径が0.05mm以上0.12mm以下の腐食が1.1であり、外径が0.13mm以上0.4mm以下の腐食が0.1であり、外径が0.4mmよりも大きい腐食が0.1であった。 Further, in the flexible printed circuit board according to Example 4, the number of corrosions per 25 mm 2 is 1.1 when the outer diameter is 0.05 mm or more and 0.12 mm or less, and the outer diameter is 0.13 mm or more and 0. Corrosion of 0.4 mm or less was 0.1, and corrosion having an outer diameter greater than 0.4 mm was 0.1.
さらに、実施例5に係るフレキシブル配線回路基板において、25mm2当たりの腐食の個数は、外径が0.05mm以上0.12mm以下の腐食が0.9であり、外径が0.13mm以上0.4mm以下の腐食が0.1であり、外径が0.4mmよりも大きい腐食が0.2であった。 Furthermore, in the flexible printed circuit board according to Example 5, the number of corrosions per 25 mm 2 is 0.9 when the outer diameter is 0.05 mm or more and 0.12 mm or less, and the outer diameter is 0.13 mm or more and 0. Corrosion of 4 mm or less was 0.1, and corrosion having an outer diameter greater than 0.4 mm was 0.2.
一方、比較例に係るフレキシブル配線回路基板において、25mm2当たりの腐食の個数は、外径が0.05mm以上0.12mm以下の腐食が2.2であり、外径が0.13mm以上0.4mm以下の腐食が3.3であり、外径が0.4mmよりも大きい腐食が0.5であった。 On the other hand, in the flexible printed circuit board according to the comparative example, the number of corrosions per 25 mm 2 is 2.2 when the outer diameter is 0.05 mm or more and 0.12 mm or less, and the outer diameter is 0.13 mm or more and 0.0. Corrosion of 4 mm or less was 3.3, and corrosion having an outer diameter greater than 0.4 mm was 0.5.
上記のように、カバーレイ接着剤層3によりめっき層5が被覆された実施例1〜5のフレキシブル配線回路基板においては、比較例のフレキシブル配線回路基板に比べて導体パターン2に発生する腐食の大きさおよび個数が低減されている。
As described above, in the flexible printed circuit boards of Examples 1 to 5 in which the
これにより、めっき層5の端面5Eおよび表面被覆領域5Fをカバーレイ接着剤層3で被覆することにより、外部の雰囲気がカバーレイ接着剤層3とめっき層5との界面を通して導体パターン2に接触することが防止されることが明らかとなった。
As a result, the
実施例2〜5のフレキシブル配線回路基板では、実施例1のフレキシブル配線回路基板に比べて導体パターン2に発生する腐食の大きさおよび個数が低減されている。
In the flexible printed circuit boards of Examples 2 to 5, the magnitude and number of corrosion generated in the
これにより、カバーレイ接着剤層3によるめっき層5の被覆長さが5μm以上である場合には、外部の雰囲気がカバーレイ接着剤層3とめっき層5との界面を通して導体パターン2に接触することが十分に防止されることが明らかとなった。
Thereby, when the coating length of the
実施例3〜5のフレキシブル配線回路基板では、実施例1,2のフレキシブル配線回路基板に比べて導体パターン2に発生する腐食の大きさおよび個数が低減されている。
In the flexible printed circuit boards of Examples 3 to 5, the magnitude and number of corrosion generated in the
これにより、カバーレイ接着剤層3によるめっき層5の被覆長さが10μm以上である場合には、外部の雰囲気がカバーレイ接着剤層3とめっき層5との界面を通して導体パターン2に接触することがさらに十分に防止されることが明らかとなった。
Thereby, when the coating length of the
本発明は、配線回路基板を製造する場合に有用である。 The present invention is useful when manufacturing a printed circuit board.
1 絶縁層
1a ベース樹脂層
1b ベース接着剤層
2導体パターン
3 カバーレイ接着剤層
4 カバーレイフィルム
5 めっき層
5E 端面
100 フレキシブル配線回路基板
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記第1の絶縁層上に形成され、所定のパターンを有する金属を含む導体層と、
前記導体層の一部領域を除いて前記導体層の他の領域を覆うように前記第1の絶縁層上に接着剤層を介して形成される第2の絶縁層と、
前記導体層の前記一部領域に形成されるめっき層とを備え、
前記接着剤層は、前記一部領域上の前記めっき層の一部を被覆するように前記他の領域からはみ出たことを特徴とする配線回路基板。 A first insulating layer;
A conductor layer formed on the first insulating layer and including a metal having a predetermined pattern;
A second insulating layer formed on the first insulating layer via an adhesive layer so as to cover other regions of the conductor layer except for a part of the conductor layer;
A plating layer formed in the partial region of the conductor layer,
The printed circuit board according to claim 1, wherein the adhesive layer protrudes from the other region so as to cover a part of the plating layer on the partial region.
前記他の領域からはみ出た接着剤層は、前記めっき層の端面に直交する縦断面において、前記端面を含むめっき層の表面が前記接着剤層により5μm以上200μm以下の長さ被覆されたことを特徴とする請求項1記載の配線回路基板。 The plating layer has an end surface on the conductor layer,
The adhesive layer protruding from the other region has a longitudinal section perpendicular to the end face of the plating layer, and the surface of the plating layer including the end face is covered with the adhesive layer for a length of 5 μm or more and 200 μm or less. The wired circuit board according to claim 1, wherein:
前記導体層の一部領域を除いて前記導体層の他の領域を覆うように前記第1の絶縁層上に接着剤層を介して第2の絶縁層を形成する工程と、
前記第1の絶縁層と前記第2の絶縁層とを加圧することにより前記第1の絶縁層と前記第2の絶縁層とを貼り合わせる工程と、
前記導体層の前記一部領域にめっき層を形成する工程と、
前記めっき層の形成後に前記第1の絶縁層と前記第2の絶縁層とを加圧する工程とを備えることを特徴とする配線回路基板の製造方法。 Forming a conductor layer containing a metal having a predetermined pattern on the first insulating layer;
Forming a second insulating layer on the first insulating layer via an adhesive layer so as to cover other regions of the conductor layer except for a part of the conductor layer;
Bonding the first insulating layer and the second insulating layer by pressurizing the first insulating layer and the second insulating layer;
Forming a plating layer in the partial region of the conductor layer;
A method of manufacturing a printed circuit board, comprising: pressing the first insulating layer and the second insulating layer after forming the plating layer.
前記めっき層の形成後に前記第1の絶縁層と前記第2の絶縁層とを加圧する工程において、前記第1の絶縁層および前記第2の絶縁層は第2の期間加圧され、
前記第1の期間は、前記第2の期間よりも短いことを特徴とする請求項4記載の配線回路基板の製造方法。 In the bonding step, the first insulating layer and the second insulating layer are pressurized for a first period;
In the step of pressing the first insulating layer and the second insulating layer after forming the plating layer, the first insulating layer and the second insulating layer are pressed for a second period,
The method for manufacturing a printed circuit board according to claim 4, wherein the first period is shorter than the second period.
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