JP2010111758A - Resin composition, prepreg, laminate and printed board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、樹脂組成物、プリプレグ、積層板及びプリント基板に関する。 The present invention relates to a resin composition, a prepreg, a laminated board, and a printed board.
近年、電子機器は小型化、軽量化が進行し、それに用いるプリント基板には、多層化、微細配線化による高密度配線が要求されている。高密度配線を実現するため、プリント基板には、基板上の微細配線の信頼性向上を目的として、高接着性、及び相間接続配線の信頼性を向上させる低熱膨張性が要求されている。 In recent years, electronic devices have been reduced in size and weight, and printed circuit boards used therefor are required high-density wiring by multilayering and fine wiring. In order to realize high-density wiring, the printed circuit board is required to have high adhesiveness and low thermal expansion for improving the reliability of the interphase connection wiring for the purpose of improving the reliability of the fine wiring on the substrate.
一方、PHS、携帯電話等の情報通信機器の信号帯域、コンピューターのCPUクロックタイムはGHz帯に達し、高周波数化が進行している。電気信号の伝送損失は、誘電損失と導体損失と放射損失との和で表され、電気信号の周波数が高くなるほど、誘電損失、導体損失及び放射損失は大きくなる関係にある。 On the other hand, the signal band of information communication devices such as PHS and mobile phones, and the CPU clock time of computers have reached the GHz band, and higher frequencies are advancing. The transmission loss of an electric signal is represented by the sum of dielectric loss, conductor loss, and radiation loss, and the dielectric loss, conductor loss, and radiation loss increase as the frequency of the electric signal increases.
伝送損失は、電気信号を減衰させ、電気信号の信頼性を損なうため、高周波信号を取り扱う配線板においては、誘電損失、導体損失、放射損失の増大を抑制する工夫が必要である。 Since transmission loss attenuates an electrical signal and impairs the reliability of the electrical signal, a circuit board that handles high-frequency signals must be devised to suppress increases in dielectric loss, conductor loss, and radiation loss.
誘電損失は、回路を形成する絶縁体の比誘電率の平方根、誘電正接及び使用される信号の周波数の積に比例する。そのため、絶縁体として比誘電率及び誘電正接の小さな絶縁材料を選定することによって誘電損失の増大を抑制することができる。 Dielectric loss is proportional to the product of the square root of the relative permittivity of the insulator forming the circuit, the dielectric loss tangent and the frequency of the signal used. Therefore, an increase in dielectric loss can be suppressed by selecting an insulating material having a small relative dielectric constant and dielectric loss tangent as the insulator.
導体損失は、一般に、導体層の表面粗さを小さくすることによって低減される。しかし、導体層の表面粗さを小さくすると、絶縁層との接着性が低下するという新たな問題を生じる。高接着性、低誘電損失性及び低熱膨張性をすべて満たす樹脂組成物、基板材料の開発が求められている。 The conductor loss is generally reduced by reducing the surface roughness of the conductor layer. However, when the surface roughness of the conductor layer is reduced, there arises a new problem that the adhesiveness with the insulating layer is lowered. Development of a resin composition and a substrate material that satisfy all of high adhesiveness, low dielectric loss, and low thermal expansion is demanded.
従来の代表的な低誘電率で、且つ、低誘電正接である樹脂材料を以下に示す。ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)に代表されるフッ素樹脂は、比誘電率及び誘電正接がともに低いため、古くから高周波信号を扱う基板材料に使用されている。 Conventional resin materials having a low dielectric constant and low dielectric loss tangent are shown below. A fluororesin typified by polytetrafluoroethylene (PTFE) has a low relative dielectric constant and dielectric loss tangent, and has long been used as a substrate material for handling high-frequency signals.
これに対して、有機溶剤によるワニス化が容易で、成型温度及び硬化温度が低く、取り扱い易い、非フッ素系の低誘電率、低誘電正接の絶縁材料も種々検討されてきた。 On the other hand, various non-fluorine insulating materials having a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent, which can be easily varnished with an organic solvent, have a low molding temperature and curing temperature, and are easy to handle, have been studied.
例えば、特許文献1に記載のポリブタジエン等のジエン系ポリマーをガラスクロスに含浸して過酸化物で硬化した例がある。
For example, there is an example in which a glass cloth is impregnated with a diene polymer such as polybutadiene described in
また、特許文献2に記載のように、シアネートエステル、ジエン系ポリマー及びエポキシ樹脂を加熱してBステージ化した例がある。
In addition, as described in
特許文献3記載のアリル化ポリフェニレンエーテル及びトリアリルイソシアネート等からなる樹脂組成物の例や、特許文献4、特許文献5に記載の全炭化水素骨格の多官能スチレン化合物を架橋成分として用いる例など多数が挙げられる。しかし、高接着性、低誘電損失性及び低熱膨張性をすべて満たす系は見出されていない。
Examples of resin compositions composed of allylated polyphenylene ether and triallyl isocyanate described in Patent Document 3, and examples of using all-hydrocarbon polyfunctional styrene compounds described in Patent Document 4 and
一方、配線板の絶縁層には基材としてガラスクロスが含まれる場合が多く、基材の低誘電率、低誘電正接化の検討も種々行われてきた。例として、特許文献6に記載の酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ホウ素等の配合比を規定したNEガラスクロス、特許文献7に記載の石英ガラス繊維と非石英ガラス繊維を複合化したガラスクロス、特許文献8に記載の直径7μm以下の細線石英ガラス繊維、それを用いたクロスの製造方法等を挙げることができる。低誘電率、且つ低誘電正接であるクロス又は不織布と、高接着性、低誘電損失性及び低熱膨張性をすべて満たす樹脂組成物とを複合化することによって高周波信号の伝送特性に優れ、微細配線加工に対応しつつ、優れた信頼性を有する高周波用プリント基板、多層プリント基板及びそれに用いる積層板、プリプレグ等の配線板材料を得ることができる。
On the other hand, the insulating layer of the wiring board often contains glass cloth as a base material, and various studies have been made on the low dielectric constant and low dielectric loss tangent of the base material. Examples include NE glass cloth that defines the compounding ratio of silicon oxide, aluminum oxide, boron oxide, and the like described in
また、特許文献9には、ポリフェニレンエーテルの優れた特性を維持しながら、低沸点の汎用溶剤に可溶で、配線基板のプロセス加工性に優れた低誘電損失樹脂組成物を提供することを目的として、特定の構造式で示される繰り返し単位からなる共重合体である多層配線基板用低誘電損失樹脂が開示されている。
Further,
また、特許文献10には、ワニスの保存安定性に優れ、誘電率、誘電正接が低く高耐熱性である樹脂組成物及び該組成物を用いた硬化性フィルムを提供することを目的として、2官能性フェニレンエーテルオリゴマー体の末端をスチレン化した化合物と二重結合を有するスチレン系熱可塑性エラストマーに特定の重合禁止剤もしくは酸化防止剤を組み合わせた硬化性樹脂組成物が開示されている。
さらに、特許文献11には、線膨張係数が小さく、十分な強度、耐熱性および耐薬品性を有し、且つ、良好な誘電特性を示す熱可塑性樹脂および該熱可塑性樹脂から得られる自動車外板成形品を提供することを目的として、ポリフェニレンエーテル樹脂(A)、ポリスチレン樹脂(B)、比誘電率が50以上である無機フィラー(C)及びアスペクト比が5以上の板状及び/若しくは針状の無機フィラー(D)を含有し、(A)と(B)の含有量の重量比が70/30〜10/90であり、(A)および(B)の合計100重量部あたりの(C)の含有量が10〜250重量部であり、(A)および(B)の合計100重量部あたりの(D)の含有量が1〜100重量部であり、且つ(A)が連続相を成形する熱可塑性樹脂組成物が開示されている。 Further, Patent Document 11 discloses a thermoplastic resin having a small coefficient of linear expansion, sufficient strength, heat resistance and chemical resistance, and good dielectric properties, and an automobile outer plate obtained from the thermoplastic resin. For the purpose of providing a molded article, a polyphenylene ether resin (A), a polystyrene resin (B), an inorganic filler (C) having a relative dielectric constant of 50 or more, and a plate shape and / or needle shape having an aspect ratio of 5 or more. Inorganic filler (D), the weight ratio of the content of (A) and (B) is 70/30 to 10/90, and (C) per 100 parts by weight in total of (A) and (B) ) Is 10 to 250 parts by weight, (A) and (B) are 100 parts by weight in total (D) content is 1 to 100 parts by weight, and (A) is a continuous phase. A thermoplastic resin composition to be molded is disclosed. There.
特許文献12には、優れた耐熱性、電気絶縁性、誘電特性、熱伝導性を有する相溶性の良好な複合材料を提供することを目的として、特定のポリエーテルイミド、特定のポリフェニレンオキシド、シラン系カップリング剤、フィラー、およびスチレン系共重合体もしくはジビニル系化合物からなる複合材料が開示されている。 Patent Document 12 discloses a specific polyetherimide, a specific polyphenylene oxide, and a silane for the purpose of providing a composite material having excellent heat resistance, electrical insulation, dielectric properties, and thermal conductivity and good compatibility. A composite material comprising a coupling agent, a filler, and a styrene copolymer or a divinyl compound is disclosed.
特許文献5においては、誘電正接の値が極めて低い多官能スチレン化合物を架橋成分とする樹脂組成物を石英ガラスクロスに含浸したプリプレグ、積層板、配線板、多層配線板等の配線板材料が開示されており、その絶縁層の誘電正接は10GHzにおいて0.0009と極めて優れた特性を示す。しかし、特許文献5に記載された積層板、配線板及び多層配線板は、穴あけ加工性(ドリル加工性)に対する配慮が欠けている。すなわち、石英ガラスクロスは非常に硬く、ドリル等による穴あけ加工性が一般ガラスクロスを用いた場合に比べて劣る。また、石英ガラスクロスの作製に用いられる石英ガラス繊維は生産性が低く、安定供給性及びコストにおいて課題があった。
我々は、石英ガラスクロスの低誘電正接性を維持しつつ、加工性を改善する技術として、石英繊維と、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のオレフィン繊維とを複合化した複合クロスを用いる技術や、薄く疎密な構造を有する薄物石英クロスを適用する技術を見出し、検討を進めてきた。 As a technology to improve processability while maintaining the low dielectric loss tangent property of quartz glass cloth, we use technology that uses a composite cloth in which quartz fiber and olefin fiber such as polypropylene, polyethylene, and polymethylpentene are combined. We have found a technique to apply a thin quartz cloth having a thin and dense structure, and have been studying it.
その結果、複合クロス及び薄物石英クロスの実用化に向けた共通の課題として、積層板、プリント基板とした際のZ方向の熱膨張係数(以下、熱膨張係数と略す)の低減を見出した。 As a result, as a common problem for the practical application of the composite cloth and the thin quartz cloth, it was found that the thermal expansion coefficient in the Z direction (hereinafter abbreviated as the thermal expansion coefficient) when the laminated board and the printed board were used.
これは、複合クロスの場合、クロス中に含まれるオレフィン繊維の影響により熱膨張係数が大きくなる傾向にあり、薄物石英クロスの場合、プリプレグの製造時に樹脂組成物が過剰に塗布され易いために系内の低熱膨張成分であるガラス繊維等の含有量が低下して積層板、プリント基板の熱膨張係数が増大するものであった。この問題は、樹脂組成物中に石英等の低熱膨張性の無機フィラーを高充填することによって解決されると考える。 This is because in the case of composite cloth, the coefficient of thermal expansion tends to increase due to the influence of olefin fibers contained in the cloth, and in the case of thin quartz cloth, the resin composition is easily applied excessively during the production of the prepreg. The content of glass fiber or the like, which is a low thermal expansion component, decreased, and the thermal expansion coefficient of the laminate and the printed board increased. This problem is considered to be solved by highly filling the resin composition with a low thermal expansion inorganic filler such as quartz.
しかし、一般に、無機フィラーを高充填した樹脂組成物は硬く、脆い硬化物を形成するため、導体層との接着力が低下するという新たな問題を生じる。 However, in general, a resin composition highly filled with an inorganic filler is hard and forms a brittle cured product, which causes a new problem that the adhesive strength with a conductor layer is reduced.
本発明は、無機フィラーの充填密度を高めるとともに、接着力を向上させた低熱膨張性樹脂組成物を提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the low thermal expansion resin composition which raised the packing density of the inorganic filler and improved the adhesive force.
さらに、本発明は、本技術を低誘電損失樹脂組成物及び加工性の優れた低誘電損失クロスとの複合化材料である配線板材料に応用し、低誘電損失性、低熱膨張性、高接着性及び優れたドリル加工性をすべて満たす樹脂組成物、並びにこの樹脂組成物を用いるプリプレグ、積層板、プリント基板及び多層プリント基板を提供することを目的とする。 Furthermore, the present invention applies this technology to a wiring board material that is a composite material of a low dielectric loss resin composition and a low dielectric loss cloth excellent in processability, and has low dielectric loss, low thermal expansion, and high adhesion. It aims at providing the resin composition which satisfy | fills all the characteristics and the outstanding drill workability, and the prepreg, laminated board, printed circuit board, and multilayer printed circuit board which use this resin composition.
本発明の樹脂組成物は、架橋成分70〜90重量部と、高分子量成分10〜30重量部と、無機フィラー150〜400重量部とを含有する樹脂組成物であって、前記高分子量成分の破断伸び率が700%以上であることを特徴とする。 The resin composition of the present invention is a resin composition containing 70 to 90 parts by weight of a crosslinking component, 10 to 30 parts by weight of a high molecular weight component, and 150 to 400 parts by weight of an inorganic filler, The elongation at break is 700% or more.
本発明のプリプレグは、上記樹脂組成物をクロス又は不織布に含浸したことを特徴とする。 The prepreg of the present invention is characterized in that a cloth or a nonwoven fabric is impregnated with the resin composition.
本発明の積層板は、上記プリプレグの硬化物の片面又は両面に導体層を有することを特徴とする。 The laminated board of this invention has a conductor layer in the single side | surface or both surfaces of the hardened | cured material of the said prepreg, It is characterized by the above-mentioned.
本発明のプリント基板は、上記プリプレグの硬化物の片面又は両面に導体配線を有することを特徴とする。 The printed circuit board of the present invention is characterized by having a conductor wiring on one side or both sides of the cured product of the prepreg.
本発明によれば、導体層との高接着性及び低熱膨張性を両立した樹脂組成物、並びにこれを用いたプリプレグ、積層板等の配線板材料、プリント基板及び多層プリント基板を得ることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain a resin composition that achieves both high adhesion to the conductor layer and low thermal expansion, and wiring board materials such as prepregs and laminates, printed boards, and multilayer printed boards using the resin composition. .
さらに、本発明によれば、低誘電損失材料である熱硬化性ポリフェニレンエーテル、スチレン系エラストマー、酸化ケイ素フィラーを複合化した樹脂組成物と石英繊維とオレフィン繊維を複合化した複合クロス又は薄物石英クロスとを複合化することによって、低伝送損失性及び優れたドリル加工性をも有するプリプレグ、積層板等の配線板材料、並びにこれを用いた高周波用プリント基板及び多層プリント基板を得ることができる。 Furthermore, according to the present invention, a thermosetting polyphenylene ether which is a low dielectric loss material, a styrene-based elastomer, a resin composition in which a silicon oxide filler is combined, and a composite cloth or thin quartz cloth in which quartz fibers and olefin fibers are combined. Are combined, wiring board materials such as prepregs and laminates having low transmission loss and excellent drillability, as well as high-frequency printed boards and multilayer printed boards using the same can be obtained.
本発明は、低熱膨張性及び高接着性を両立する多層プリント基板、プリント基板並びにそれを製造するために用いる樹脂組成物、プリプレグ、積層板などの配線板材料に関し、更に高周波信号の伝送特性にも優れた低誘電率、低誘電正接な多層プリント基板、プリント基板並びにそれを製造するために用いる樹脂組成物、プリプレグ、積層板などの配線板材料に関する。 The present invention relates to a multilayer printed circuit board that achieves both low thermal expansion and high adhesion, a printed circuit board, and a wiring board material such as a resin composition, a prepreg, and a laminate used for manufacturing the printed circuit board. The present invention also relates to a multilayer printed board having excellent low dielectric constant and low dielectric loss tangent, a printed board, and a wiring board material such as a resin composition, a prepreg, and a laminate used for producing the printed board.
本発明は、以下の構成を特徴とする。 The present invention is characterized by the following configurations.
(1)本発明の樹脂組成物は、架橋成分(A)を70〜90重量部と高分子量成分(B)を10〜30重量部と無機フィラー(C)を150〜400重量部含有する樹脂組成物であって、高分子量成分(B)の破断伸び率が700%以上である。 (1) The resin composition of the present invention is a resin containing 70 to 90 parts by weight of the crosslinking component (A), 10 to 30 parts by weight of the high molecular weight component (B), and 150 to 400 parts by weight of the inorganic filler (C). It is a composition, Comprising: The breaking elongation rate of a high molecular weight component (B) is 700% or more.
(2)上記(1)に記載の特徴に加え、前記無機フィラー(C)を251〜400重量部含有する。 (2) In addition to the feature described in (1) above, the inorganic filler (C) is contained in an amount of 251 to 400 parts by weight.
(3)上記(1)又は(2)に記載の特徴に加え、架橋成分(A)として硬化性ポリフェニレンエーテル化合物を含有し、高分子量成分(B)として水素添加されたスチレン系エラストマーを含有し、無機フィラーとして球状酸化ケイ素フィラーを含有する。 (3) In addition to the characteristics described in (1) or (2) above, the composition contains a curable polyphenylene ether compound as the crosslinking component (A) and a hydrogenated styrene elastomer as the high molecular weight component (B). And a spherical silicon oxide filler as an inorganic filler.
(4)上記(3)に記載の特徴に加え、硬化性ポリフェニレンエーテルが下記一般式(1)又は下記一般式(2)で表されるGel Permeation Chromatography測定(以下、GPC測定と称する)におけるスチレン換算数平均分子量が1000〜15000の化合物である。 (4) In addition to the characteristics described in (3) above, the curable polyphenylene ether is styrene in Gel Permeation Chromatography measurement (hereinafter referred to as GPC measurement) represented by the following general formula (1) or the following general formula (2). It is a compound having a converted number average molecular weight of 1000 to 15000.
(5)上記(3)に記載の特徴に加え、水素添加されたスチレン系エラストマーが、全炭化水素骨格を有し、GPC測定におけるスチレン換算数平均分子量が50000〜100000であり、スチレン含有率が10〜40重量%である。
(5) In addition to the features described in (3) above, the hydrogenated styrene elastomer has a total hydrocarbon skeleton, the styrene-equivalent number average molecular weight in GPC measurement is 50,000 to 100,000, and the styrene content is 10 to 40% by weight.
(6)上記(3)に記載の特徴に加え、球状酸化ケイ素フィラーの平均粒径が0.2〜3μmであり、その表面にビニル系、メタクリレート系、アクリレート系、スチレン系シランカップリング剤の少なくとも1つが担持されている。 (6) In addition to the characteristics described in (3) above, the spherical silicon oxide filler has an average particle size of 0.2 to 3 μm, and vinyl, methacrylate, acrylate and styrene silane coupling agents are formed on the surface thereof. At least one is carried.
(7)上記(3)に記載の特徴に加え、更に、下記一般式(3)又は(4)で表される特定構造の難燃剤の少なくとも1つを含有する。 (7) In addition to the feature described in the above (3), it further contains at least one flame retardant having a specific structure represented by the following general formula (3) or (4).
(9)本発明のプリプレグは、上記(1)又は(2)に記載の樹脂組成物をクロス又は不織布に含浸している。
(9) The prepreg of the present invention is obtained by impregnating a cloth or a nonwoven fabric with the resin composition described in the above (1) or (2).
(10)上記(9)に記載の特徴に加え、クロス又は不織布が石英繊維を含有する。 (10) In addition to the characteristics described in (9) above, the cloth or the nonwoven fabric contains quartz fibers.
(11)上記(9)又は(10)に記載の特徴に加え、クロス又は不織布がポリオレフィン繊維を含有する。 (11) In addition to the features described in (9) or (10) above, the cloth or the nonwoven fabric contains polyolefin fibers.
(12)本発明の積層板は、上記(9)に記載のプリプレグの硬化物の片面又は両面に導体層を有する。 (12) The laminated board of this invention has a conductor layer in the single side | surface or both surfaces of the hardened | cured material of the prepreg as described in said (9).
(13)本発明のプリント基板は、上記(9)に記載のプリプレグの硬化物の片面又は両面に導体配線を有する。 (13) The printed circuit board of the present invention has conductor wiring on one side or both sides of the cured product of the prepreg described in (9).
(14)本発明の多層プリント基板は、上記(13)に記載のプリント基板を複数、上記(9)に記載のプリプレグを介して積層接着し、その後、層間配線を形成することにより製造される。 (14) The multilayer printed circuit board of the present invention is manufactured by laminating and bonding a plurality of printed circuit boards described in (13) above through the prepreg described in (9), and then forming an interlayer wiring. .
プリント基板、特に、多層プリント基板においては、Z方向の低熱膨張化がスルーホール、ブラインドビアホールを用いた相間接続の信頼性向上の観点から重要な課題である。 In printed boards, particularly multilayer printed boards, low thermal expansion in the Z direction is an important issue from the viewpoint of improving the reliability of interphase connection using through holes and blind via holes.
一般に、樹脂を低熱膨張化する技術としては、フィラーを高充填する技術が知られている。 In general, as a technique for reducing the thermal expansion of a resin, a technique for highly filling a filler is known.
しかし、フィラーを高充填した絶縁層は硬く、脆いことから、導体層と絶縁層との接着性が低下する。プリント基板及び多層プリント基板においては、導体層と絶縁層との接着性の向上は重要な課題であり、本業界では0.7kN/m以上が好ましいとされる。 However, since the insulating layer highly filled with the filler is hard and brittle, the adhesion between the conductor layer and the insulating layer is lowered. In printed circuit boards and multilayer printed circuit boards, improvement in the adhesion between the conductor layer and the insulating layer is an important issue, and 0.7 kN / m or more is preferable in this industry.
導体層と絶縁層との接着性を改善する技術としては、表面粗さの大きな導体層を適用する技術、樹脂系内にエラストマー成分を添加する技術が知られている。 As a technique for improving the adhesion between the conductor layer and the insulating layer, a technique for applying a conductor layer having a large surface roughness and a technique for adding an elastomer component in a resin system are known.
しかし、表面粗さの増大は、導体損失の増大を招くことから好ましくない。通常、導体の表面粗さ(10点平均表面粗さRz、以下、表面粗さと称す)は7μm程度であるが、高周波信号用プリント基板においては導体層の表面粗さは3μm以下が好ましいとされている。一方、エラストマー成分の増量は接着性の向上に効果を有するものの、熱膨張係数が増加する。また、ゴム成分の増量は、吸湿耐熱性、耐溶剤性の劣化を招くという問題も有する。従来、低熱膨張性と高接着性との両立は困難であった。 However, an increase in surface roughness is not preferable because it causes an increase in conductor loss. Usually, the surface roughness of a conductor (10-point average surface roughness Rz, hereinafter referred to as surface roughness) is about 7 μm, but in a high-frequency signal printed circuit board, the surface roughness of the conductor layer is preferably 3 μm or less. ing. On the other hand, an increase in the amount of the elastomer component has an effect on improving the adhesiveness, but increases the thermal expansion coefficient. In addition, an increase in the amount of the rubber component has a problem that it causes deterioration of moisture absorption heat resistance and solvent resistance. Conventionally, it has been difficult to achieve both low thermal expansion and high adhesion.
我々は、フィラーを高充填した低熱膨張性樹脂組成物に添加するエラストマー成分の物性及び添加量に着目して研究を進め、エラストマー成分の添加量が少ない領域においては樹脂系の低熱膨張性が保たれること、エラストマー成分の添加量が少ない場合においても700%以上の破断伸びを有するエラストマー成分を添加した場合には、特異的に高い接着性が発現することを見出した。これは、導体層を剥離する際に生じる、絶縁層と導体層との界面に生じる応力を系内のゴム成分が効果的に分散し、剥離部分への応力集中を緩和するためであると考えられる。 We proceeded with research focusing on the physical properties and amount of the elastomer component added to the low thermal expansion resin composition highly filled with the filler, and the low thermal expansion property of the resin system was maintained in the region where the amount of the elastomer component was small. It has been found that even when the amount of the elastomer component added is small, when an elastomer component having a breaking elongation of 700% or more is added, specifically high adhesiveness is expressed. This is considered to be because the rubber component in the system effectively disperses the stress generated at the interface between the insulating layer and the conductor layer, which occurs when the conductor layer is peeled off, and the stress concentration on the peeled portion is alleviated. It is done.
低熱膨張性と高接着性とを両立する樹脂組成物の基本構成は、架橋成分(A)を70〜90重量部、破断伸び率が700%以上である高分子量成分(B)を10〜30重量部、無機フィラー(C)を150〜400重量部という比率であることが好ましい。上記比率において、無機フィラー(C)は、251〜400重量部であることが更に好ましい。本構成比とすることによって低熱膨張性と高接着性との両立が可能となる。 The basic composition of the resin composition that achieves both low thermal expansion and high adhesion is 70 to 90 parts by weight of the crosslinking component (A) and 10 to 30 of the high molecular weight component (B) having a breaking elongation of 700% or more. The ratio of 150 parts by weight and 150 parts by weight of the inorganic filler (C) is preferred. In the above ratio, the inorganic filler (C) is more preferably 251 to 400 parts by weight. By adopting this composition ratio, both low thermal expansion and high adhesiveness can be achieved.
架橋成分と高分子量成分の組み合わせは、自由に選定できる。両者が同一の単独溶媒又は同一組成の混合溶媒に可溶である組み合わせとすることがワイス化、プリプレグ化といった作業性の観点から好ましい。具体的には、架橋成分が複数のエポキシ基を有するエポキシ樹脂、フェノール性水酸基を有するフェノール樹脂、複数のシアネート基を有するシアネート樹脂、複数のアクリレート基又はメタクリレート基を有するアクリレート樹脂及びエポキシアクリレート樹脂である場合には、高分子量体としてアクリロニトリルブタジエンゴム、エポキシ化アクリロニトリルブタジエンゴム、天然ゴム、ポリアミドエラストマー、スチレン含有率50wt%以上のスチレン−ブタジエン共重合体又はスチレン−ブタジエン−スチレン共重合体等の組み合わせが挙げられる。 The combination of the crosslinking component and the high molecular weight component can be freely selected. It is preferable from the viewpoint of workability such as weissing or prepreg that both are soluble in the same single solvent or a mixed solvent having the same composition. Specifically, the cross-linking component is an epoxy resin having a plurality of epoxy groups, a phenol resin having a phenolic hydroxyl group, a cyanate resin having a plurality of cyanate groups, an acrylate resin having a plurality of acrylate groups or a methacrylate group, and an epoxy acrylate resin. In some cases, combinations of acrylonitrile butadiene rubber, epoxidized acrylonitrile butadiene rubber, natural rubber, polyamide elastomer, styrene-butadiene copolymer or styrene-butadiene-styrene copolymer having a styrene content of 50 wt% or more as a high molecular weight compound Is mentioned.
架橋成分(A)と高分子量成分(B)の配合比は、樹脂成分の総量を100重量部として架橋成分(A)を50〜90重量部配合することが好ましく、更に好ましくは70〜90重量部とする。架橋成分の添加量が少ないと熱膨張係数が大きくなる場合があるほか、耐溶剤性及び耐熱性の低下を招く場合がある。 The blending ratio of the crosslinking component (A) and the high molecular weight component (B) is preferably 50 to 90 parts by weight, more preferably 70 to 90 parts by weight, with the total amount of the resin components being 100 parts by weight. Part. When the addition amount of the crosslinking component is small, the thermal expansion coefficient may be increased, and the solvent resistance and heat resistance may be decreased.
無機フィラーの配合比は、フィラーの形状、所望の熱膨張係数により任意に調整することが可能であるが、樹脂組成物の硬化物の熱膨張係数が50ppm/℃以下、更に好ましくは30ppm/℃以下となるように調整することが好ましい。このような構成とすることによって、クロスや不織布の種類によらず、積層板、プリント基板及び多層プリント基板を低熱膨張化することが可能となる。 The compounding ratio of the inorganic filler can be arbitrarily adjusted according to the shape of the filler and a desired thermal expansion coefficient, but the thermal expansion coefficient of the cured product of the resin composition is 50 ppm / ° C. or less, more preferably 30 ppm / ° C. It is preferable to adjust so that it may become the following. By setting it as such a structure, it becomes possible to make low thermal expansion of a laminated board, a printed circuit board, and a multilayer printed circuit board irrespective of the kind of cloth or a nonwoven fabric.
具体的な無機フィラーの配合比は、樹脂そのものの熱膨張係数に影響されるが、概ね、樹脂成分100重量部に対して150重量部以上添加することが好ましい。更に好ましくは、251重量部以上添加する。更に好ましくは、300重量部以上添加する。球状酸化ケイ素フィラーの添加量の限界は概ね75vol%とされており、樹脂成分の比重を1g/cm3、酸化ケイ素の比重を2.65g/cm3とした場合には、樹脂成分100重量部に対して796重量部である。なお、成形性を考慮した場合の酸化ケイ素フィラーの添加量は、およそ400重量部以下であることが望ましい。 Although the specific blending ratio of the inorganic filler is influenced by the thermal expansion coefficient of the resin itself, it is generally preferable to add 150 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the resin component. More preferably, 251 parts by weight or more is added. More preferably, 300 parts by weight or more is added. The limit of the addition amount of the spherical silicon oxide filler is approximately 75 vol%. When the specific gravity of the resin component is 1 g / cm 3 and the specific gravity of the silicon oxide is 2.65 g / cm 3 , the resin component is 100 parts by weight. The amount is 796 parts by weight. In addition, when the moldability is taken into consideration, the addition amount of the silicon oxide filler is preferably about 400 parts by weight or less.
本発明の低熱膨張性樹脂組成物を高周波機器の絶縁材料に適用する場合には、架橋成分(A)として熱硬化性のポリフェニレンエーテル樹脂を適用することが好ましく、特に好ましい例としては、ワニス化溶媒に対する溶解性が高く、誘電特性も優れているスチレン換算数平均分子量が1000〜15000である、一般式(1)及び(2)で表される熱硬化性ポリフェニレンエーテルを挙げることができる。 When the low thermal expansion resin composition of the present invention is applied to an insulating material for a high frequency device, it is preferable to apply a thermosetting polyphenylene ether resin as a crosslinking component (A), and a particularly preferable example is varnishing. Examples thereof include thermosetting polyphenylene ethers represented by the general formulas (1) and (2), which have a high solubility in a solvent and excellent dielectric properties, and have a number average molecular weight in terms of styrene of 1000 to 15000.
架橋成分(A)として熱硬化性ポリフェニレンエーテルを使用した場合には、高分子量成分(B)としてはポリフェニレンエーテルとの相溶に優れるスチレン系エラストマーを用いることが好ましく、特に、その中でも水素添加されたスチレン系エラストマーを使用することが誘電特性の観点から好ましい。水素添加されたスチレン系エラストマーの好ましい例としては、スチレン含有率が10〜40wt%であり、スチレン換算数平均分子量が50000〜100000である水素添加されたスチレン−ブタジエン共重合体のうち、破断伸び率が700%以上の高分子量体を挙げることができる。 When a thermosetting polyphenylene ether is used as the crosslinking component (A), it is preferable to use a styrene elastomer excellent in compatibility with the polyphenylene ether as the high molecular weight component (B). It is preferable to use a styrene elastomer from the viewpoint of dielectric properties. As a preferable example of the hydrogenated styrene-based elastomer, among the hydrogenated styrene-butadiene copolymers having a styrene content of 10 to 40 wt% and a styrene-equivalent number average molecular weight of 50,000 to 100,000, the elongation at break A high molecular weight substance having a rate of 700% or more can be exemplified.
そのような高分子量成分の具体例としては、旭化成ケミカルズ(株)製、タフテック(登録商標)H1052、H1221、H1272等を挙げることができる。 Specific examples of such high molecular weight components include those manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation, Tuftec (registered trademark) H1052, H1221, and H1272.
無機フィラーとしては、樹脂組成物の硬化物の誘電特性を改善するために酸化ケイ素フィラーを用いることが好ましく、また、フィラーを高充填化するために球状のフィラーを用いることが好ましい。球状酸化ケイ素フィラーの粒径には特に制限は無いが、低熱膨張性樹脂組成物をワニス化した際、ワニス中で著しい沈殿が生じず、且つ表面積が大きいことに起因して低熱膨張化への寄与が大きい小径フィラーを好ましく使用する。具体的な球状酸化ケイ素フィラーの粒径は、10μm以下であることが好ましく、0.2〜3μmの範囲であることが更に好ましい。球状酸化ケイ素フィラーは、その表面をシラン系カップリング剤にて表面処理して用いることが、誘電特性、低吸湿性、はんだ耐熱性を改善する観点から好ましい。 As the inorganic filler, it is preferable to use a silicon oxide filler in order to improve the dielectric properties of the cured product of the resin composition, and it is preferable to use a spherical filler in order to make the filler highly filled. The particle size of the spherical silicon oxide filler is not particularly limited. However, when the low thermal expansion resin composition is varnished, no significant precipitation occurs in the varnish and the surface area is large. A small-diameter filler having a large contribution is preferably used. The particle diameter of the specific spherical silicon oxide filler is preferably 10 μm or less, and more preferably in the range of 0.2 to 3 μm. The spherical silicon oxide filler is preferably used after its surface is treated with a silane coupling agent from the viewpoint of improving dielectric properties, low moisture absorption, and solder heat resistance.
カップリング剤による球状酸化ケイ素フィラーの表面処理は、予め表面処理を実施したフィラーを樹脂組成物に添加しても良いし、樹脂組成物中にシラン系カップリング剤を添加して樹脂組成物調整中に実施しても良い。本発明において好ましく用いられるシラン系カップリング剤としては、γ−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、p−スチリルトリメトキシシラン等を例示することができる。 The surface treatment of the spherical silicon oxide filler with a coupling agent may be performed by adding a filler that has been surface-treated in advance to the resin composition, or by adding a silane coupling agent to the resin composition and adjusting the resin composition You may carry it in. Examples of the silane coupling agent preferably used in the present invention include γ-methacryloxypropyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, Examples thereof include vinyl tris (β-methoxyethoxy) silane and p-styryltrimethoxysilane.
プリント基板及び多層プリント基板においては、安全性の観点から難燃性が求められる場合が多く、樹脂材料においては、通常、難燃剤の添加による難燃化技術が用いられる。 In printed circuit boards and multilayer printed circuit boards, flame retardancy is often required from the viewpoint of safety. In resin materials, flame retarding technology by adding a flame retardant is usually used.
本発明においては、絶縁層の低熱膨張性と接着性とを両立するため、少なくとも室温において固形である難燃剤を用いることが好ましく、更に低誘電損失性を保つためには一般式(3)及び(4)の構造を有する難燃剤の適用が好ましい。一般式(3)及び(4)で表される難燃剤は誘電正接が低く、高周波信号を取り扱う電気部品の難燃化には好適である。更に難燃剤の平均粒径には特に制限は無いが、平均粒径を0.2〜3.0μmとすることにより、ワニス中における難燃剤の沈殿を抑制することができ、ワニスの保存安定性を改善できることから好ましい。ワニス粘度にもよるが、0.1〜1.0Pa・s(パスカル秒)のワニスにおいて本粒径範囲の難燃剤、酸化ケイ素フィラーを用いることによってその沈殿の発生を抑制することができる。 In the present invention, it is preferable to use a flame retardant that is solid at least at room temperature in order to achieve both low thermal expansion and adhesion of the insulating layer, and in order to maintain low dielectric loss, the general formula (3) and Application of a flame retardant having the structure (4) is preferred. The flame retardants represented by the general formulas (3) and (4) have a low dielectric loss tangent, and are suitable for flame retardant of electrical parts that handle high-frequency signals. Furthermore, although there is no restriction | limiting in particular in the average particle diameter of a flame retardant, precipitation of a flame retardant in a varnish can be suppressed by making an average particle diameter 0.2-3.0 micrometers, and the storage stability of a varnish. Can be improved. Although depending on the varnish viscosity, the occurrence of precipitation can be suppressed by using a flame retardant having a particle size in the range of 0.1 to 1.0 Pa · s (Pascal second) and a silicon oxide filler.
難燃剤の添加量は、樹脂成分の総量を100重量部として、10〜200重量部の範囲で添加することが好ましく、求める難燃性のレベル、使用するクロス、不織布の種類に合わせて配合量を決定することが望ましい。クロス、不織布にオレフィン繊維を含有する場合には、100重量部以上添加することが望ましい。 The addition amount of the flame retardant is preferably 10 to 200 parts by weight, with the total amount of the resin component being 100 parts by weight, and is added in accordance with the desired flame retardant level, the cloth used, and the type of nonwoven fabric. It is desirable to determine. When the cloth or nonwoven fabric contains olefin fibers, it is desirable to add 100 parts by weight or more.
本発明では、更に、誘電特性、ワニス粘度及び成膜性を調整することを目的として、一般式(5)、(6)及び(7)で表される架橋助剤を添加することができる。一般式(5)で表される全炭化水素骨格の多官能スチレン化合物は、その構造中にヘテロ原子を含有しないため、樹脂組成物の硬化物の誘電正接を一層低減する機能を有する。 In the present invention, a crosslinking aid represented by the general formulas (5), (6), and (7) can be added for the purpose of adjusting dielectric properties, varnish viscosity, and film formability. Since the polyfunctional styrene compound having an all-hydrocarbon skeleton represented by the general formula (5) does not contain a hetero atom in its structure, it has a function of further reducing the dielectric loss tangent of the cured product of the resin composition.
一般式(5)の多官能スチレン化合物は反応性が高いことから、硬化触媒を添加することなく樹脂系を硬化することが可能になる。硬化触媒は構造中にヘテロ原子を有することから、硬化触媒の除去による誘電正接の低減効果も期待される。 Since the polyfunctional styrene compound of the general formula (5) has high reactivity, the resin system can be cured without adding a curing catalyst. Since the curing catalyst has a hetero atom in the structure, an effect of reducing the dielectric loss tangent by removing the curing catalyst is also expected.
一般式(6)で表される特定構造のビスマレイミド化合物は、詳細は不明であるが、ワニスに添加することによってワニス粘度を低減する効果を有し、その誘電正接はマレイミド化合物としては小さい。 Although the details of the bismaleimide compound having a specific structure represented by the general formula (6) are unknown, it has an effect of reducing the varnish viscosity when added to the varnish, and its dielectric loss tangent is small as the maleimide compound.
一般式(7)で表される1、2−ポリブタジエン化合物は、高分子量体であるためワニス粘度を増加させる効果を有し、プリプレグの成膜性を向上するとともに、プリプレグの可とう性向上に寄与する。また、全炭化水骨格であり、芳香環を持たないため、誘電率の低減に寄与する。 The 1,2-polybutadiene compound represented by the general formula (7) has an effect of increasing the varnish viscosity because it is a high molecular weight substance, and improves the film forming property of the prepreg and improves the flexibility of the prepreg. Contribute. Moreover, since it is a whole hydrocarbon skeleton and does not have an aromatic ring, it contributes to the reduction of dielectric constant.
各架橋助剤の配合比は、低熱膨張性、接着性、誘電特性を損なわないために、熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂を70〜90重量部として架橋助剤を30〜10重量部とすることが好ましい。 The blending ratio of each crosslinking aid may be 70 to 90 parts by weight of the thermosetting polyphenylene ether resin and 30 to 10 parts by weight of the crosslinking aid so as not to impair the low thermal expansibility, adhesiveness, and dielectric properties. preferable.
一般式(5)で表される多官能スチレン化合物の例としては、1、2−ビス(p−ビニルフェニル)エタン、1、2−ビス(m−ビニルフェニル)エタン、1−(p−ビニルフェニル)−2−(m−ビニルフェニル)エタン、ビス(p−ビニルフェニル)メタン、ビス(m−ビニルフェニル)メタン、p−ビニルフェニル−m−ビニルフェニルメタン、1、4−ビス(p−ビニルフェニル)ベンゼン、1、4−ビス(m−ビニルフェニル)ベンゼン、1−(p−ビニルフェニル)−4−(m−ビニルフェニル)ベンゼン、1、3−ビス(p−ビニルフェニル)ベンゼン、1、3−ビス(m−ビニルフェニル)ベンゼン、1−(p−ビニルフェニル)−3−(m−ビニルフェニル)ベンゼン、1、6−ビス(p−ビニルフェニル)ヘキサン、1、6−ビス(m−ビニルフェニル)ヘキサン、1−(p−ビニルフェニル)−6−(m−ビニルフェニル)ヘキサン、及び側鎖にビニル基を有するジビニルベンゼン重合体(オリゴマー)等を挙げることができ、これらは単独あるいは二種類以上の混合物として使用される。 Examples of the polyfunctional styrene compound represented by the general formula (5) include 1,2-bis (p-vinylphenyl) ethane, 1,2-bis (m-vinylphenyl) ethane, and 1- (p-vinyl). Phenyl) -2- (m-vinylphenyl) ethane, bis (p-vinylphenyl) methane, bis (m-vinylphenyl) methane, p-vinylphenyl-m-vinylphenylmethane, 1,4-bis (p- Vinylphenyl) benzene, 1,4-bis (m-vinylphenyl) benzene, 1- (p-vinylphenyl) -4- (m-vinylphenyl) benzene, 1,3-bis (p-vinylphenyl) benzene, 1,3-bis (m-vinylphenyl) benzene, 1- (p-vinylphenyl) -3- (m-vinylphenyl) benzene, 1,6-bis (p-vinylphenyl) hexane, Examples include 6-bis (m-vinylphenyl) hexane, 1- (p-vinylphenyl) -6- (m-vinylphenyl) hexane, and a divinylbenzene polymer (oligomer) having a vinyl group in the side chain. These can be used alone or as a mixture of two or more.
一般式(6)で表されるビスマレイミド化合物の例としては、ビス(3−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3、5−ジメチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−エチル−5−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−n−ブチル−4−マレイミドフェニル)メタン等がある。 Examples of the bismaleimide compound represented by the general formula (6) include bis (3-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3,5-dimethyl-4-maleimidophenyl) methane, and bis (3-ethyl). -4-maleimidophenyl) methane, bis (3-ethyl-5-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (3-n-butyl-4-maleimidophenyl) methane, and the like.
一般式(7)で表される1、2−ポリブタジエン化合物の例としては、JSR(株)製RB810、RB820及びRB830を挙げることができる。 Examples of the 1,2-polybutadiene compound represented by the general formula (7) include RB810, RB820, and RB830 manufactured by JSR Corporation.
本発明では、熱硬化反応の促進及び低温化を目的として、重合開始剤を添加してもよい。重合開始剤は、架橋成分の官能基の種類によって適宜選定する。一般式(1)又は(2)で表される熱硬化性ポリフェニレンエーテルを架橋成分とする場合には、ラジカル重合開始剤適用することが好ましい。ラジカル重合開始剤の種類によって硬化反応の開始温度を調整することができる。 In the present invention, a polymerization initiator may be added for the purpose of promoting the thermosetting reaction and lowering the temperature. The polymerization initiator is appropriately selected depending on the type of functional group of the crosslinking component. When the thermosetting polyphenylene ether represented by the general formula (1) or (2) is used as a crosslinking component, it is preferable to apply a radical polymerization initiator. The starting temperature of the curing reaction can be adjusted according to the type of radical polymerization initiator.
ラジカル重合開始剤の例としては、イソブチルパーオキサイド、α、α’−ビス(ネオデカノイルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、ジ−n−プロピルパーオキシジカルボネート、1、1、3、3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、ジイソプロピルパーオキシジカルボネート、1−シクロへキシル−1−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、ジ−2−エトキシエチルパーオキシジカルボネート、ジ(2−エチルヘキシルパーオキシ)ジカルボネート、t−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ジメトキシブチルパーオキシジデカネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチルパーオキシ)ジカルボネート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシピバレート、3、5、5−トリメチルヘキサノイルパーオキシド、オクタノイルパーオキサイド、1、1、3、3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2、5−ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチルエチルパーオキシ−2−エチルヘキサネート、t−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、m−トルオイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレート、α、α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキサイド、2、5−ジメチル−2、5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2、5−ジメチル−2、5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、t−ブチルトリメチルシリルパーオキサイドを挙げることができ、これらの開始剤は複合化して用いることができる。その添加量は、樹脂成分の総量を100重量部として0.0005〜20重量部の範囲で調整される。 Examples of radical polymerization initiators include isobutyl peroxide, α, α′-bis (neodecanoylperoxy) diisopropylbenzene, cumylperoxyneodecanoate, di-n-propylperoxydicarbonate, 1, 1 3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, diisopropylperoxydicarbonate, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxyneodecanoate, di-2-ethoxyethylperoxydicarbonate, di (2-ethylhexylperoxy) dicarbonate, t-hexylperoxyneodecanoate, dimethoxybutylperoxydidecanate, di (3-methyl-3-methoxybutylperoxy) dicarbonate, t-butylperoxyneodecano Ate, t-hexylperoxypi Valate, t-butylperoxypivalate, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2, 5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanoate, t-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, m-toluoyl peroxide, t-butylperoxyisobutyrate, α, α′-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, t-butylcumylper Xoxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexyne-3, t-butyltrimethylsilyl peroxide can be mentioned, and these initiators are complex Can be used. The addition amount is adjusted in the range of 0.0005 to 20 parts by weight, with the total amount of resin components being 100 parts by weight.
更に、ワニス、プリプレグ作製時の加熱による硬化反応を抑制するとともに、プリプレグ保管時の硬化反応の進行を抑制することを目的として重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤は、架橋成分の官能基の種類によって適宜選定する。一般式(1)又は(2)で表される熱硬化性ポリフェニレンエーテルを架橋成分とする場合には、ラジカル重合禁止剤を適用することが好ましい。その例としては、ハイドロキノン、p−ベンゾキノン、クロラニル、トリメチルキノン、4−t−ブチルピロカテコール等のキノン類及び芳香族ジオール類が挙げられ、好ましい添加量の範囲は0.0005〜5重量部である。 Furthermore, a polymerization inhibitor may be added for the purpose of suppressing the curing reaction due to heating during the preparation of varnish and prepreg and suppressing the progress of the curing reaction during prepreg storage. The polymerization inhibitor is appropriately selected depending on the type of functional group of the crosslinking component. When the thermosetting polyphenylene ether represented by the general formula (1) or (2) is used as a crosslinking component, it is preferable to apply a radical polymerization inhibitor. Examples thereof include quinones such as hydroquinone, p-benzoquinone, chloranil, trimethylquinone, 4-t-butylpyrocatechol, and aromatic diols, and the preferred range of addition amount is 0.0005 to 5 parts by weight. is there.
本発明で用いられる樹脂組成物のワニス化溶媒は、その沸点が140℃以下であることが好ましく、そのような溶媒としてはキシレンを例として挙げることができ、更に好ましくは、沸点が110℃以下であることが好ましく、そのような溶媒としては、トルエン、シクロヘキサン等が例示される。これらの溶媒は、混合して用いても良く、更に、無機フィラーのカップリング処理に使用されるメチルエチルケトン、メタノール等の極性溶媒を含有しても良い。ワニス濃度は、40〜65wt%が好ましく、樹脂組成物を構成する架橋成分(A)、高分子量体(B)の種類、配合量によってワニス粘度を0.1〜1.0Pa・s(パスカル秒)に適宜調整する。 The varnishing solvent of the resin composition used in the present invention preferably has a boiling point of 140 ° C. or lower. As such a solvent, xylene can be exemplified as an example, and more preferably the boiling point is 110 ° C. or lower. Preferably, toluene, cyclohexane and the like are exemplified as such a solvent. These solvents may be used as a mixture, and may further contain a polar solvent such as methyl ethyl ketone and methanol used for the coupling treatment of the inorganic filler. The varnish concentration is preferably 40 to 65 wt%, and the varnish viscosity is 0.1 to 1.0 Pa · s (Pascal second) depending on the type and amount of the crosslinking component (A) and the high molecular weight body (B) constituting the resin composition. ) As appropriate.
プリプレグは、上記樹脂組成物のワニスをクロス又は不織布に含浸、乾燥して作製することができる。乾燥条件は、乾燥温度が80〜150℃であることが好ましく、更に、乾燥時の不要な硬化反応を抑制しつつ、十分に乾燥するために、乾燥温度が80〜110℃であることが好ましい。乾燥時間は10〜90分の範囲にあることが好ましい。 The prepreg can be produced by impregnating a varnish of the resin composition into a cloth or a nonwoven fabric and drying it. As for the drying conditions, the drying temperature is preferably 80 to 150 ° C. Further, the drying temperature is preferably 80 to 110 ° C. in order to sufficiently dry while suppressing unnecessary curing reaction during drying. . The drying time is preferably in the range of 10 to 90 minutes.
クロス及び不織布の材質には、特に制限は無いが、高周波機器用絶縁材料に適用する場合には、石英繊維とオレフィン繊維とを複合化した複合クロス、薄く疎密な構造を有する薄物石英クロスを適用することが好ましい。複合クロスは、オレフィン繊維とガラス繊維とを共に含む糸を作製し、この混合糸を用いて作製するのが好ましい。オレフィン繊維とガラス繊維とは、破断伸び率が異なり、そのためにオレフィン繊維糸とガラス繊維糸を用いて交互織りした場合には、両繊維の伸縮度の違いにより、クロスに皺(しわ)や捩れ(よじれ)が発生する場合があるからである。 There are no particular restrictions on the material of the cloth and non-woven fabric, but when applied to insulating materials for high-frequency equipment, a composite cloth in which quartz fibers and olefin fibers are combined, and a thin quartz cloth with a thin and dense structure are applied. It is preferable to do. The composite cloth is preferably produced using a yarn containing both olefin fiber and glass fiber and using this mixed yarn. Olefin fiber and glass fiber have different elongation at break, so when weaving alternately using olefin fiber yarn and glass fiber yarn, the cross will be wrinkled or twisted due to the difference in the degree of stretch of both fibers. This is because (twisting) may occur.
また、ガラス繊維とオレフィン繊維の直径は、5〜20μmの範囲にあることが望ましい。繊維径が大きすぎると、基材の折り目が粗く、表面の凹凸の大きくなることから、プリプレグ及び積層板の概観を損なうため好ましくない。また、繊維系が小さすぎると、織りの際に繊維の切断が生じ易くなるため好ましくない。石英繊維とポリオレフィン繊維との配合比は、積層板、プリント基板及び多層プリント基板の低熱膨張性を保つために40/60重量比〜60/40重量比であることが好ましい。 The diameters of the glass fiber and olefin fiber are preferably in the range of 5 to 20 μm. If the fiber diameter is too large, the folds of the base material are rough and the unevenness of the surface becomes large, so that the appearance of the prepreg and the laminate is impaired, which is not preferable. Further, if the fiber system is too small, it is not preferable because the fiber is easily cut during weaving. The mixing ratio of the quartz fiber and the polyolefin fiber is preferably 40/60 weight ratio to 60/40 weight ratio in order to maintain the low thermal expansion of the laminated board, the printed board and the multilayer printed board.
薄物石英ガラスクロスの好ましい構成は、フィラメント径が5〜9μmである溶融石英ガラス繊維を15〜49本含有する石英ガラス糸を用いて作製される石英ガラスクロスであって、縦糸及び横糸の織り密度が30〜70本/25mmであり、単位面積当たりの重量が10〜18g/m2、厚さが15〜30μmである疎な石英ガラスクロスである。 A preferable configuration of the thin quartz glass cloth is a quartz glass cloth produced using quartz glass yarns containing 15 to 49 fused silica glass fibers having a filament diameter of 5 to 9 μm, and the weave density of warp and weft yarns Is a sparse quartz glass cloth having a weight per unit area of 10 to 18 g / m 2 and a thickness of 15 to 30 μm.
本構成をとることによって、プリプレグ1層あたりの石英繊維含有量が低減できるため、ドリル加工性を改善することができる。薄物石英クロスを適用したプリプレグは1層あたりの膜厚を10〜50μmとすることが可能であり、電子機器の薄型化に寄与できる。 By adopting this configuration, the quartz fiber content per layer of the prepreg can be reduced, so that drilling workability can be improved. A prepreg to which a thin quartz cloth is applied can have a film thickness of 10 to 50 μm per layer, which can contribute to a reduction in thickness of an electronic device.
本発明のプリプレグの樹脂含有率は50〜90wt%である。50wt%よりも低いと、十分な成形性を確保することができない場合があり、90wt%を超えると成型時に樹脂の流動性が高くなりすぎ、クロスが破断する場合がある。より好ましい樹脂含有率の範囲は60〜80wt%である。 The resin content of the prepreg of the present invention is 50 to 90 wt%. If it is lower than 50 wt%, sufficient moldability may not be ensured, and if it exceeds 90 wt%, the fluidity of the resin becomes too high during molding and the cloth may break. A more preferable range of the resin content is 60 to 80 wt%.
前述のように作製されたプリプレグの硬化物の両面又は片面に導体層を設置して積層板が製造される。導体層の設置はプリプレグ上に導体箔を重ね、熱プレスによって加熱、加圧し、導体箔との接着とプリプレグの硬化を同時に行うことが作業性の観点から好ましい。なお、本発明の樹脂組成物は、低熱膨張性を有することから、導体箔上に樹脂組成物ワニスを塗布、乾燥して作製した樹脂つき導体箔をプリプレグの替わりに用いてもよい。樹脂つき導体箔は、クロス、不織布を構造中に含んでいないため、ドリル加工性が更に向上するほか、レーザー穴あけ加工も容易である。 A laminated board is manufactured by installing a conductor layer on both sides or one side of the cured prepreg produced as described above. For the installation of the conductor layer, it is preferable from the viewpoint of workability that the conductor foil is overlapped on the prepreg, heated and pressed by hot press, and simultaneously adhered to the conductor foil and cured of the prepreg. In addition, since the resin composition of this invention has low thermal expansibility, you may use the conductor foil with resin produced by apply | coating and drying the resin composition varnish on conductor foil instead of a prepreg. Since the conductor foil with resin does not include cloth or nonwoven fabric in the structure, drilling workability is further improved and laser drilling is easy.
本発明のプリプレグや積層板を用いて、定法の配線加工、多層化及び相間接続の工程を経てプリント基板や多層プリント基板を作製することができる。 Using the prepreg or laminate of the present invention, a printed circuit board or a multilayer printed circuit board can be produced through the usual wiring processing, multilayering and interphase connection processes.
以下に、実施例及び比較例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited thereto.
まず、試薬及び評価方法を示す。 First, reagents and evaluation methods are shown.
(1)1、2−ビス(ビニルフェニル)エタン(BVPE)の合成
500mlの三口フラスコにグリニャール反応用粒状マグネシウム(関東化学製)5.36g(220mmol)を取り、滴下ロート、窒素導入管及びセプタムキャップを取り付けた。窒素気流下、スターラーによってマグネシウム粒を撹拌しながら、系全体をドライヤーで加熱脱水した。乾燥テトラヒドロフラン300mlをシリンジに取り、セプタムキャップを通じて注入した。溶液を−5℃に冷却した後、滴下ロートを用いてビニルベンジルクロライド(東京化成製)30.5g(200mmol)を約4時間かけて滴下した。滴下終了後0℃で20時間撹拌を続けた。
(1) Synthesis of 1,2-bis (vinylphenyl) ethane (BVPE) In a 500 ml three-necked flask, 5.36 g (220 mmol) of granular magnesium for Grignard reaction (manufactured by Kanto Chemical) was taken, a dropping funnel, a nitrogen inlet tube and a septum. A cap was attached. The whole system was heated and dehydrated with a drier while stirring the magnesium particles with a stirrer under a nitrogen stream. 300 ml of dry tetrahydrofuran was taken into a syringe and injected through a septum cap. After cooling the solution to −5 ° C., 30.5 g (200 mmol) of vinylbenzyl chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry) was dropped over about 4 hours using a dropping funnel. After completion of the dropwise addition, stirring was continued at 0 ° C. for 20 hours.
反応終了後、反応溶液をろ過して残存マグネシウムを除き、エバポレーターで濃縮した。濃縮溶液をヘキサンで希釈して、3.6%塩酸水溶液で1回、純水で3回洗浄し、次いで硫酸マグネシウムで脱水した。脱水溶液をシリカゲル(和光純薬製ワコーゲルC300)/ヘキサンのショートカラムに通して精製し、最後に、真空乾燥により目的のBVPEを得た。得られたBVPEは、1、2−ビス(p−ビニルフェニル)エタン(PP体、固体)、1、2−ビス(m−ビニルフェニル)エタン(mm体、液体)、1−(p−ビニルフェニル)−2−(m−ビニルフェニル)エタン(mp体、液体)の混合物で収率は90%であった。 After completion of the reaction, the reaction solution was filtered to remove residual magnesium and concentrated with an evaporator. The concentrated solution was diluted with hexane, washed once with a 3.6% aqueous hydrochloric acid solution and three times with pure water, and then dehydrated with magnesium sulfate. The dewatered solution was purified by passing through a short column of silica gel (Wako Gel C300 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) / Hexane, and finally the desired BVPE was obtained by vacuum drying. The obtained BVPE is 1,2-bis (p-vinylphenyl) ethane (PP body, solid), 1,2-bis (m-vinylphenyl) ethane (mm body, liquid), 1- (p-vinyl). The yield was 90% with a mixture of phenyl) -2- (m-vinylphenyl) ethane (mp form, liquid).
1H−NMRにより構造を調べたところ文献値と一致した(6H−ビニル:α−2H(6.7)、β−4H(5.7、5.2);8H−アロマティック(7.1〜7.4);4H−メチレン(2.9))。得られたBVPEを架橋成分として用いた。 When the structure was examined by 1 H-NMR, it was consistent with literature values (6H-vinyl: α-2H (6.7), β-4H (5.7, 5.2); 8H-aromatic (7.1 7.4); 4H-methylene (2.9)). The obtained BVPE was used as a crosslinking component.
(2)熱硬化性ポリフェニレンエーテル(一般式(1)の化合物)の合成
攪拌子を入れた2口フラスコに、ジ−μ−ヒドロキソビス[(N、N、N’、N’−テトラメチルエチレンジアミン)銅(II)]二塩化物:0.464g(1.0mmol)、水:4ml、テトラメチルエチレンジアミン:1mlを加えて攪拌した。攪拌停止後、2、6−ジメチルフェノール:9.90g(81.0mmol)、2−アリル−6−メチルフェノール:1.34g(9.0mmol)をトルエン:50ml(ミリリットル)に溶解した溶液をフラスコに静かに加え、40ml/min(ミリリットル毎分)又は50ml/minの酸素雰囲気下500〜800rpmで攪拌した。酸素雰囲気下で6時間攪拌した。
(2) Synthesis of thermosetting polyphenylene ether (compound of general formula (1)) To a two-necked flask containing a stirrer, di-μ-hydroxobis [(N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine ) Copper (II)] dichloride: 0.464 g (1.0 mmol), water: 4 ml, tetramethylethylenediamine: 1 ml were added and stirred. After the stirring was stopped, a flask was prepared by dissolving 2,6-dimethylphenol: 9.90 g (81.0 mmol) and 2-allyl-6-methylphenol: 1.34 g (9.0 mmol) in toluene: 50 ml (milliliter). And stirred at 500-800 rpm in an oxygen atmosphere of 40 ml / min (milliliter per minute) or 50 ml / min. The mixture was stirred for 6 hours under an oxygen atmosphere.
反応終了後、大過剰の塩酸/メタノールに沈殿させ、メタノールで洗浄後、トルエンに溶解させ、不溶物を濾別した。再びトルエンに溶解後、大過剰の塩酸/メタノールに再沈殿させ、メタノールで洗浄後、120℃/2時間、150℃/30分真空乾燥して白色の固形物を得た。固形物の分子量及び分子量分布は、Mn=15000、Mw/Mn=1.7であった。 After completion of the reaction, the reaction mixture was precipitated in a large excess of hydrochloric acid / methanol, washed with methanol, dissolved in toluene, and insoluble matter was filtered off. After dissolving again in toluene, it was reprecipitated in a large excess of hydrochloric acid / methanol, washed with methanol, and then vacuum dried at 120 ° C./2 hours, 150 ° C./30 minutes to obtain a white solid. The molecular weight and molecular weight distribution of the solid were Mn = 15000 and Mw / Mn = 1.7.
(3)その他の試薬
熱硬化性ポリフェニレンエーテル(一般式(2)の化合物)、OPE2St、スチレン換算数平均分子量2200、三菱ガス化学(株)製
ビスマレイミド:BMI−5100、3、3’−ジメチル−5、5’−ジエチル−4、4’−ジフェニルメタンビスマレイミド、大和化成工業(株)製
高分子量ポリブタジエン:RB810、スチレン換算数平均分子量130000、1、2−結合90%以上、JSR(株)製
水素添加したスチレン−ブタジエン共重合体:
タフテック(商標)H1043、スチレン含量率67wt%、Mn76000、破断伸び率20%、旭化成ケミカルズ(株)製
タフテック(商標)H1051、スチレン含量率42wt%、Mn75000、破断伸び率600、旭化成ケミカルズ(株)製
タフテック(商標)H1031、スチレン含量率30wt%、Mn53000、破断伸び率650%、旭化成ケミカルズ(株)製
タフテック(商標)H1052、スチレン含量率20wt%、Mn72000、破断伸び率700%、旭化成ケミカルズ(株)製
タフテック(商標)H1221、スチレン含量率12wt%、Mn71000、破断伸び率980%、旭化成ケミカルズ(株)製
タフテック(商標)H1272、スチレン含量率35wt%、Mn74000、破断伸び率950%、旭化成ケミカルズ(株)製
硬化触媒:2、5−ジメチル−2、5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3(略称25B)、日本油脂(株)製
難燃剤:SAYTEX8010、1、2−ビス(ぺンタブロモフェニル)エタン、平均粒径1.5μm、アルべマール日本(株)製
酸化ケイ素フィラー:アドマファイン、平均粒径0.5μm、(株)アドマテックス製
カップリング剤:KBM−503、γ−メタクリロキシプロピルジメトキシシラン、信越化学工業(株)製
銅箔:AMFN1/2Oz、カップリング処理付銅箔、厚さ18μm、Rz≒2.1μm、(株)日鉱マテリアルズ製
複合クロス:石英繊維Φ7μm=60wt%、ポリプロピレン繊維Φ20μm=40wt%:信越石英(株)製
薄物石英クロス:石英繊維Φ7μm、糸内の繊維数40本、縦糸60本/25mm、横糸43本/25mm、信越石英(株)製
(3)ガラスクロスの表面処理
ガラスクロスを0.5wt%のKBM503メタノール溶液に1時間浸し、次いでガラスクロスをメタノール溶液から取り出し、大気中で100℃/30分間加熱して乾燥し、表面処理を実施した。
(3) Other reagents Thermosetting polyphenylene ether (compound of general formula (2)), OPE2St, styrene equivalent number average molecular weight 2200, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Bismaleimide: BMI-5100, 3, 3′-dimethyl -5,5'-diethyl-4,4'-diphenylmethane bismaleimide, manufactured by Daiwa Kasei Kogyo Co., Ltd. High molecular weight polybutadiene: RB810, styrene-equivalent number average molecular weight 130,000, 1,2-bond 90% or more, JSR Corporation Manufactured hydrogenated styrene-butadiene copolymer:
Tuftec ™ H1043, styrene content 67 wt%, Mn 76000, elongation at
(4)ワニスの調製方法
所定量のカップリング剤、フィラーをメチルエチルケトン溶液中でボールミルにて2時間攪拌し、フィラーにカップリング処理を施した。次いで所定量の樹脂材料、難燃剤、硬化触媒、トルエンを加えて樹脂成分が完全に溶解するまで約8時間攪拌を続けてワニスを作製した。ワニス濃度は45〜65wt%とした。
(4) Preparation method of varnish A predetermined amount of coupling agent and filler were stirred in a methyl ethyl ketone solution for 2 hours by a ball mill, and the filler was subjected to a coupling treatment. Then, a predetermined amount of resin material, flame retardant, curing catalyst, and toluene were added, and stirring was continued for about 8 hours until the resin component was completely dissolved to prepare a varnish. The varnish concentration was 45 to 65 wt%.
(5)硬化物(樹脂板)の作製方法
樹脂ワニスをPETフィルムに塗布して室温で一夜、100℃で10分間乾燥した後、これを剥離してPTFE製の厚さ1.0mmのスペーサ内に充填し、真空プレスによって加圧、加熱して硬化物を得た。硬化条件は真空下、室温から2MPaに加圧し、一定速度(6℃/分)で昇温し、180℃で60分間保持とした。
(5) Preparation method of cured product (resin plate) After applying resin varnish to PET film and drying at room temperature overnight and at 100 ° C. for 10 minutes, this was peeled off and inside a PTFE thickness 1.0 mm spacer Then, it was pressurized and heated by a vacuum press to obtain a cured product. The curing condition was that the pressure was increased from room temperature to 2 MPa under vacuum, the temperature was increased at a constant rate (6 ° C./min), and the temperature was maintained at 180 ° C. for 60 minutes.
(6)プリプレグの作製方法
上記ワニスにクロスを浸漬した後、所定のギャップを有するスリットの間を一定速度で垂直に引き上げて、その後乾燥して作製した。スリットのギャップにより樹脂の塗布量を調節した。乾燥条件は、100℃/10分間とした。
(6) Preparation method of prepreg After the cloth was dipped in the varnish, the gap between the slits having a predetermined gap was vertically pulled up at a constant speed and then dried. The amount of resin applied was adjusted by the slit gap. The drying conditions were 100 ° C./10 minutes.
(7)銅張積層板の作製方法
上記で作製したプリプレグを4枚数積層し、上下面を銅箔でサンドイッチして、真空プレスにより、加圧、加熱して硬化した。硬化条件は室温から6MPaに加圧し、一定速度(6℃/分)で昇温し、180℃で60分保持とした。
(7) Method for producing copper-clad laminate Four prepregs produced as described above were laminated, the upper and lower surfaces were sandwiched with copper foil, and were cured by pressing and heating with a vacuum press. The curing conditions were a pressure from room temperature to 6 MPa, a temperature increase at a constant rate (6 ° C./min), and a hold at 180 ° C. for 60 minutes.
(8)比誘電率及び誘電正接の測定
空洞共振法(8722ES型ネットワークアナライザー、アジレントテクノロジー製:空洞共振器、関東電子応用開発製)によって、10GHzの値を測定した。銅張積層板から作製される試料は銅をエッチング除去した後、1.0×80mmの大きさに切り出して作製した。樹脂板から作製される試料は、樹脂板から1.0×1.5×80mmの寸法に切り出して作製した。
(8) Measurement of relative dielectric constant and dielectric loss tangent A value of 10 GHz was measured by a cavity resonance method (8722ES type network analyzer, manufactured by Agilent Technologies: Cavity Resonator, manufactured by Kanto Electronics Application Development). A sample prepared from a copper clad laminate was prepared by cutting out copper to a size of 1.0 × 80 mm. A sample prepared from a resin plate was cut out from the resin plate to a size of 1.0 × 1.5 × 80 mm.
(9)熱膨張係数の評価
熱膨張係数は、アルバック理工(株)製TM9300型熱機械試験機を用い、窒素雰囲気下、積層板の厚さ方向(Z方向)の値を観測した。試料は積層板を5×5mmの寸法に切り出し、175℃でアニール処理してサンプルとした。昇温速度は10℃/分とし、50〜100℃の間の熱膨張係数を求めた。
(9) Evaluation of thermal expansion coefficient As for the thermal expansion coefficient, a value in the thickness direction (Z direction) of the laminate was observed under a nitrogen atmosphere using a TM9300 type thermomechanical tester manufactured by ULVAC-RIKO. As a sample, a laminate was cut into a size of 5 × 5 mm and annealed at 175 ° C. to obtain a sample. The rate of temperature increase was 10 ° C./min, and the thermal expansion coefficient between 50 and 100 ° C. was determined.
(10)耐溶剤性
硬化後の積層板から銅箔をエッチング除去し、20×20mmのサイズに切り出した後、110℃で2時間乾燥してサンプルとした。サンプルの初期重量を観測した後、室温でトルエンに20時間浸した。その後、トルエン中から試料を取り出し、110℃で2時間乾燥し、処理後のサンプル重量を観測した。(初期重量−処理後の重量)/初期重量×100の計算により溶出率を求め、溶出率が0.1wt%以上の試料を不良とした。
(10) Solvent resistance The copper foil was removed from the cured laminate by etching, cut into a size of 20 × 20 mm, and then dried at 110 ° C. for 2 hours to obtain a sample. After observing the initial weight of the sample, it was immersed in toluene at room temperature for 20 hours. Then, the sample was taken out from toluene, dried at 110 ° C. for 2 hours, and the weight of the sample after treatment was observed. The elution rate was determined by calculation of (initial weight−weight after treatment) / initial weight × 100, and a sample having an elution rate of 0.1 wt% or more was regarded as defective.
(11)破断伸び率の測定
破断伸び率の測定は、日本工業規格(JIS K6251)に準拠して行った。
(11) Measurement of elongation at break The measurement of elongation at break was performed in accordance with Japanese Industrial Standard (JIS K6251).
用いたサンプルは3号ダンベル、引張り速度は500mm/分とし、サンプルが破断するまでの伸びの変化を測定した。 The sample used was a No. 3 dumbbell, the tensile speed was 500 mm / min, and the change in elongation until the sample broke was measured.
(12)ピール強度の測定
ピール強度の測定は、日本工業規格(JIS C6481)に準拠して行った。
(12) Measurement of peel strength Peel strength was measured in accordance with Japanese Industrial Standard (JIS C6481).
以下、表1及び2に実施例、比較例の構成及び特性を示した。
(実施例1〜3)
実施例1〜3は、高分子量成分として破断伸び率が700%以上のエラストマーを20重量部添加した樹脂組成物の例である。フィラーの添加量が高く、樹脂成分中に占める高分子量成分の含有率が低いため、オレフィン繊維を含有する複合クロスを用いたにも係わらず、積層板の厚さ方向の熱膨張係数は30ppm/℃レベルの低熱膨張性が確認された。また、破断伸び率が700%以上のエラストマーを配合した効果として、表面粗さRzが2.1μmと小さな銅箔を用いたにも係わらず、0.7kN/m以上の高いピール強度が確認された。
(実施例4〜6)
実施例4〜6は、架橋助剤の成分を変更した例である。架橋助剤として多官能スチレン化合物BVPEを添加した系は、積層板の誘電特性のうち、特に誘電正接が低減される。架橋助剤として特定構造のビスマレイミド化合物を添加した系では、ワニス粘度が他の系に比べて低いことが確認される。架橋助剤としてポリブタジエンを添加した系では、ワニス粘度が上昇したことが確認される。
Tables 1 and 2 show the configurations and characteristics of Examples and Comparative Examples.
(Examples 1-3)
Examples 1 to 3 are examples of resin compositions in which 20 parts by weight of an elastomer having a breaking elongation of 700% or more is added as a high molecular weight component. Since the addition amount of the filler is high and the content of the high molecular weight component in the resin component is low, the thermal expansion coefficient in the thickness direction of the laminate is 30 ppm / despite the use of the composite cloth containing the olefin fiber. A low thermal expansibility of the ℃ level was confirmed. In addition, as an effect of blending an elastomer having an elongation at break of 700% or more, a high peel strength of 0.7 kN / m or more was confirmed in spite of using a copper foil having a small surface roughness Rz of 2.1 μm. It was.
(Examples 4 to 6)
Examples 4-6 are the examples which changed the component of the crosslinking adjuvant. In the system in which the polyfunctional styrene compound BVPE is added as a crosslinking aid, the dielectric loss tangent is particularly reduced among the dielectric properties of the laminate. It is confirmed that the system in which a bismaleimide compound having a specific structure is added as a crosslinking aid has a lower varnish viscosity than other systems. In the system in which polybutadiene is added as a crosslinking aid, it is confirmed that the varnish viscosity has increased.
以上のことから、架橋助剤を加えることによって、誘電特性の改善及びワニス粘度の調整が可能であることが確認された。
(実施例7)
実施例7は、薄物石英クロスを用いた例である。オレフィン繊維を含まない薄物石英クロスを用いることによって、更に低熱膨張化できることが確認された。また、1層当たりのプリプレグが薄膜化でき、単位面積あたりの化学物質の使用量を低減できることが確認された。
(比較例1〜3)
比較例1〜3は、高分子量成分として破断伸び率が650%以下のエラストマーを20重量部添加した樹脂組成物の例である。破断伸び率が低いエラストマーを配合したため、ピール強度は0.5kN/m以下と低い値を示した。
(比較例4)
比較例4は、高分子量成分を増量した樹脂組成物の例である。高分子量成分を増量することによってピール強度は0.7kN/mと高い値を示すものの、熱膨張係数が増大し、また、耐溶剤性が低下することが判明した。高分子量成分の増量は、低熱膨張化、耐溶剤性向上の観点から好ましくない。
From the above, it was confirmed that the addition of a crosslinking aid can improve the dielectric properties and adjust the varnish viscosity.
(Example 7)
Example 7 is an example using a thin quartz cloth. It was confirmed that the thermal expansion can be further reduced by using a thin quartz cloth that does not contain olefin fibers. It was also confirmed that the prepreg per layer can be made thin, and the amount of chemical substances used per unit area can be reduced.
(Comparative Examples 1-3)
Comparative Examples 1 to 3 are examples of resin compositions in which 20 parts by weight of an elastomer having a breaking elongation of 650% or less is added as a high molecular weight component. Since an elastomer having a low elongation at break was blended, the peel strength was as low as 0.5 kN / m or less.
(Comparative Example 4)
Comparative Example 4 is an example of a resin composition having an increased amount of high molecular weight components. By increasing the amount of the high molecular weight component, the peel strength was as high as 0.7 kN / m, but the coefficient of thermal expansion was increased and the solvent resistance was decreased. An increase in the high molecular weight component is not preferable from the viewpoint of low thermal expansion and improved solvent resistance.
実施例8では、実施例7のプリプレグを用いて作製したアンテナ回路内蔵高周波基板を作製した。工程を図2に示した。
In Example 8, the antenna circuit built-in high frequency board produced using the prepreg of Example 7 was produced. The process is shown in FIG.
(A)実施例7のプリプレグを10×10cmに切断して10枚積層し、積層プリプレグ2とし、2枚の銅箔1で挟み込んだ。真空プレスによって、5MPaの圧力で加圧しながら、真空下、昇温速度6℃/分の条件で昇温し、230℃で1時間保持して両面銅張積層板101を作製した。次いで、両面銅張積層板101を30℃のエッチング液(過硫酸アンモニウムペルオキシド200g/リットル、硫酸50g/リットル)に10分間浸し、銅層の厚さを8μmに低減した。
(A) The prepreg of Example 7 was cut into 10 × 10 cm and laminated 10 sheets to obtain a
(B)両面銅張積層板101の片面にフォトレジスト(日立化成製HS425)をラミネートしてフォトレジストアンテナパターン3を形成し、アンテナ回路接続用スルーホール部分にマスクを施し、露光した。次いで、残る銅箔1表面にフォトレジスト(日立化成製HS425)をラミネートしてフォトレジストスルーホールパターン4を形成し、アンテナのテストパターンを露光し、両面の未露光部分のフォトレジストを1%炭酸ナトリウム液で現像した。
(B) Photoresist antenna pattern 3 was formed by laminating a photoresist (HS425 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) on one side of double-sided copper-clad
(C)硫酸5%、過酸化水素5%のエッチング液で露出した銅箔をエッチング除去して、両面銅張積層板101にアンテナパターン5及びスルーホールパターン6を作製した。3%水酸化ナトリウム溶液で残存するフォトレジストを除去した。
(C) The copper foil exposed with an etching solution of 5% sulfuric acid and 5% hydrogen peroxide was removed by etching to produce an
(D)スルーホールパターン6側に1枚のプリプレグ102を介して銅箔103を積層し、上記(A)と同様の条件でプレス加工して多層化した。
(D) A
(E)新たに設置した導体層(銅箔103)に上記(B)及び(C)と同様の方法で、配線パターン7(配線回路)及びスルーホールパターン106を加工した。
(E) The wiring pattern 7 (wiring circuit) and the through
(F)外層のスルーホールパターン106をマスクとして、炭酸ガスレーザーによりスルーホール8を形成した。
(F) Through-
(G)スルーホール8内に銀ペースト9を導入し、アンテナパターン5(アンテナ回路)と裏面の配線(配線パターン7)とを接続し、アンテナ回路直下にシールド層を有するアンテナ内臓プリント配線板を作製した。
(実施例9〜10)
実施例9及び10は、フィラー成分の添加量を変更した例である。表3に示すように、フィラー成分を増量することによって積層板の低熱膨張化が促進され、破断伸びの高いエラストマー成分の効果により、高いピール強度が保持されることが確認された。
(G) A
(Examples 9 to 10)
Examples 9 and 10 are examples in which the amount of filler component added was changed. As shown in Table 3, it was confirmed that increasing the filler component promoted the low thermal expansion of the laminate, and the high peel strength was maintained by the effect of the elastomer component having a high elongation at break.
本発明の樹脂組成物、プリプレグ、積層板及びプリント基板は、薄く、軽量で加工性に優れ、誘電正接が低く、誘電損失が低いことから高速サーバー、ルーター、ミリ波レーダー等の高周波対応電子機器の絶縁部材に好適である。 The resin composition, prepreg, laminate and printed board of the present invention are thin, lightweight, excellent in workability, low dielectric loss tangent, and low dielectric loss. Therefore, high frequency compatible electronic devices such as high speed servers, routers, millimeter wave radars, etc. It is suitable for the insulating member.
1:銅箔、2:積層プリプレグ、3:フォトレジストアンテナパターン、4:フォトレジストスルーホールパターン、5:アンテナパターン、6:スルーホールパターン、7:配線パターン、8:スルーホール、9:銀ペースト、101:両面銅張積層板。 1: Copper foil, 2: Laminated prepreg, 3: Photoresist antenna pattern, 4: Photoresist through hole pattern, 5: Antenna pattern, 6: Through hole pattern, 7: Wiring pattern, 8: Through hole, 9: Silver paste 101: Double-sided copper-clad laminate.
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