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JP2010085607A - Composition for optical component, and optical component - Google Patents

Composition for optical component, and optical component Download PDF

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JP2010085607A
JP2010085607A JP2008253249A JP2008253249A JP2010085607A JP 2010085607 A JP2010085607 A JP 2010085607A JP 2008253249 A JP2008253249 A JP 2008253249A JP 2008253249 A JP2008253249 A JP 2008253249A JP 2010085607 A JP2010085607 A JP 2010085607A
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JP
Japan
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formula
group
composition
bis
acid
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Application number
JP2008253249A
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Japanese (ja)
Inventor
Akihiro Horimoto
章弘 堀元
Hiromi Oki
博美 沖
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composition for optical components, excellent in optical characteristics, heat resistance, adhesion characteristics, processability and the like, and to provide optical components excellent in optical characteristics and heat resistance. <P>SOLUTION: The composition for optical components contains (a) a hydroxyamide polymer expressed by general formula (A), (b) inorganic particles having a specific surface area of 30 to 200 m<SP>2</SP>/g, and (c) a solvent. In formula (A), X, Y<SP>1</SP>and Y<SP>2</SP>each represents a group different from one another; and l and m are integers, l representing an integer of 4 or more, m representing an integer of 0 or more and l+m being equal to 4 or more. The arrangement of repeating units in formula (A) may be a block type or a random type. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、光学部品用組成物及び光学部品に関する。   The present invention relates to an optical component composition and an optical component.

光通信に代表される光学材料として、石英ガラス等の無機材料、ポリマー系の有機材料が検討されている。無機材料は、一般的に、光学部品の製作プロセスに、高温加熱が必要とされる等の加工性の問題がある。有機材料としては、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリイミド及びポリベンゾオキサゾールなどが知られている。ポリメチルメタクリレート及びポリカーボネートは耐熱性の観点から、その適用用途が制限されたり、適用のために工程が複雑化する問題が生じる。   As optical materials typified by optical communication, inorganic materials such as quartz glass and polymer organic materials are being studied. Inorganic materials generally have processability problems such as high-temperature heating required in the optical component manufacturing process. As an organic material, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polyimide, polybenzoxazole, and the like are known. From the viewpoint of heat resistance, polymethyl methacrylate and polycarbonate have problems in that their applications are limited and the process becomes complicated due to application.

また、フッ素化ポリイミド及びフッ素化ポリベンゾオキサゾールは、幅広く検討されており(例えば、特許文献1参照。)、光学材料としての適用がなされているが、その構造中にフッ素を導入しているため、使用用途に制限されることがあり、より信頼性の高い材料が望まれる。   Further, fluorinated polyimides and fluorinated polybenzoxazoles have been widely studied (see, for example, Patent Document 1) and are applied as optical materials, but because fluorine is introduced into the structure. In some cases, the material may be limited to the intended use, and a more reliable material is desired.

また、光学材料として、可視光域の透過率が良好な嵩高い特定構造を持つポリベンゾオキサゾールが知られている(例えば、特許文献2参照。)。これは、ノルボルナン骨格等の嵩高い特定構造を導入することにより、光透過率は向上するが、その反面、脂肪族構造及び疎水構造が導入されていることにより、耐熱性が低下し、その適用用途が制限されたり、樹脂の基板への濡れ性が低下することから、塗布均一性が低下する等の問題があり、実用化するには適用範囲が狭い、または難しいという問題がある。   As an optical material, polybenzoxazole having a bulky specific structure with favorable transmittance in the visible light region is known (see, for example, Patent Document 2). This is because the light transmittance is improved by introducing a bulky specific structure such as a norbornane skeleton, but on the other hand, the introduction of an aliphatic structure and a hydrophobic structure reduces the heat resistance and its application. There is a problem that application is limited or wettability of the resin to the substrate is lowered, so that there is a problem that coating uniformity is lowered, and there is a problem that the application range is narrow or difficult to put into practical use.

また、光学部品としての光導波路において、SiO等の無機酸化物による導波路の作製は、その製膜方法から、コンフォーマルに製膜が進むため、下地凹凸の影響を受け易く、平坦化処理等の工夫が必要となり、工程が複雑化する。また、ポリイミドを用いた場合は(例えば、特許文献3参照。)、ポリイミド構造中にカルボニル基を含むため、吸湿による影響を受けることが問題となる。また、光導波路に、ポリイミドやポリベンゾオキサゾールと無機粒子の複合材料を用いることが知られている(例えば、特許文献4)。これらは、ポリマーの溶液中に、無機粒子を分散する必要があり、光導波路の製造において、無機粒子の分散性を制御する必要がある。しかしながら、十分な光学特性を得るために、無機粒子の添加量が多くなると、製膜性が低下する問題が生じる。   In addition, in optical waveguides as optical components, waveguides made of inorganic oxides such as SiO are formed conformally from the film forming method. The process is complicated. Further, when polyimide is used (for example, refer to Patent Document 3), since a carbonyl group is included in the polyimide structure, there is a problem that it is affected by moisture absorption. In addition, it is known to use a composite material of polyimide or polybenzoxazole and inorganic particles for an optical waveguide (for example, Patent Document 4). In these, it is necessary to disperse the inorganic particles in the polymer solution, and it is necessary to control the dispersibility of the inorganic particles in the production of the optical waveguide. However, if the amount of inorganic particles added is increased in order to obtain sufficient optical characteristics, there arises a problem that the film forming property is lowered.

国際公開第2003/010223号パンフレットInternational Publication No. 2003/010223 Pamphlet 特開平11−322929号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-322929 特開2001−354853号公報JP 2001-354853 A 特開2007−63502号公報JP 2007-63502 A

本発明は、このような事情のもとで、光学特性、耐熱性及び加工性などに優れる光学部品用組成物を提供し、さらには、光学特性及び耐熱性に優れた光学部品を提供するものである。   Under such circumstances, the present invention provides a composition for optical parts that is excellent in optical characteristics, heat resistance, workability, and the like, and further provides an optical part that is excellent in optical characteristics and heat resistance. It is.

本発明者らは、前記目的を達成するために鋭意研究を重ねた結果、特定構造のヒドロキシアミド重合体と、比表面積が30〜200m2/gの無機粒子及び溶剤を用いることにより、均一な製膜性を発現し、光学特性、耐熱性及び物理特性の高い樹脂に変換され、その目的に適合し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have obtained a uniform structure by using a hydroxyamide polymer having a specific structure, inorganic particles having a specific surface area of 30 to 200 m 2 / g, and a solvent. The present inventors have found that the film can be formed and converted into a resin having high optical properties, heat resistance and physical properties, and can meet the purpose, and the present invention has been completed based on this finding.

即ち、本発明は、下記第(1)項から第(9)項の手段により達成される。   That is, the present invention is achieved by the following means (1) to (9).

(1) 一般式(A)で表されるヒドロキシアミド重合体(a)と、比表面積が30〜200m2/gの無機粒子(b)及び溶剤(c)を含む光学部品用組成物。 (1) A composition for optical parts comprising the hydroxyamide polymer (a) represented by the general formula (A), inorganic particles (b) having a specific surface area of 30 to 200 m 2 / g, and a solvent (c).

Figure 2010085607
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[式(A)中、Xは下記式(B)で表される基の中から選ばれる基を示し、2つの繰り返し単位中のXは同一でも異なっていてもよい。Y1は下記式(C)及び式(D)で表される基の中から選ばれる基を示す。Y2は下記式(E)及び式(F)で表される基の中から選ばれる基を示す。l及びmは、lが4以上の整数、mが0以上の整数かつ、l+mが4以上の整数を示す。また、式(A)における繰り返し単位の配列はブロック的、ランダム的のいずれであってもよい。] [In the formula (A), X represents a group selected from the groups represented by the following formula (B), and the X in the two repeating units may be the same or different. Y 1 represents a group selected from the groups represented by the following formulas (C) and (D). Y 2 represents a group selected from the groups represented by the following formula (E) and formula (F). l and m are integers where l is an integer of 4 or more, m is an integer of 0 or more, and l + m is an integer of 4 or more. In addition, the arrangement of the repeating units in the formula (A) may be either block or random. ]

Figure 2010085607
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Figure 2010085607
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Figure 2010085607
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Figure 2010085607
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[式(B)及び式(C)中のX1は、下記式(G) [X 1 in Formula (B) and Formula (C) represents the following formula (G)

Figure 2010085607
Figure 2010085607

で表される基の中から選ばれる基を示し、式(E)の中のRは、アリール基又は炭素数1〜10のアルキル基で表される基の中から選ばれる基を示す。式(D)中のpは1以上、4以下の整数を示す。
また、式(B)、式(C)、式(D)、式(E)、式(F)及び式(G)で表される基における環構造上の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基の中から選ばれる少なくとも1個の基で置換されていてもよい。]
In the formula (E), R represents a group selected from an aryl group or a group represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. P in the formula (D) represents an integer of 1 or more and 4 or less.
Moreover, the hydrogen atom on the ring structure in the group represented by Formula (B), Formula (C), Formula (D), Formula (E), Formula (F), and Formula (G) has 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may be substituted with at least one group selected from alkyl groups. ]

(2) 前記ヒドロキシアミド重合体(a)は、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が5000以上、15000以下である、第(1)項に記載の光学部品用組成物。
(3) 前記無機粒子(b)が、表面が被覆されていてもよい、酸化チタンまたは酸化ジルコニウムである、第(1)項または第(2)項に記載の光学部品用組成物。
(4) 前記ヒドロキシアミド重合体(a)は、一般式(H)で表される、第(1)項〜第(3)項のいずれか1項に記載の光学部品用組成物。
(2) The composition for optical components according to item (1), wherein the hydroxyamide polymer (a) has a weight average molecular weight in terms of standard polystyrene of from 5,000 to 15,000.
(3) The composition for optical components according to (1) or (2), wherein the inorganic particles (b) are titanium oxide or zirconium oxide, the surface of which may be coated.
(4) The composition for optical components according to any one of Items (1) to (3), wherein the hydroxyamide polymer (a) is represented by General Formula (H).

Figure 2010085607
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[式(H)中、X’は下記式(I)で表される基の中から選ばれる基を示し、式中の2つの繰り返し単位中のX’は同一でも異なっていてもよい。Y3は下記式(J)及び式(K)で表される基の中から選ばれる基を示す。Y4は下記式(L)で表される基の中から選ばれる基を示す。l’及びm’は、l’が4以上の整数、m’が0以上の整数かつ、l’+m’が4以上の整数を示す。また、式(H)における繰り返し単位の配列はブロック的、ランダム的のいずれであってもよい。] [In the formula (H), X ′ represents a group selected from the groups represented by the following formula (I), and X ′ in two repeating units in the formula may be the same or different. Y 3 represents a group selected from the groups represented by the following formulas (J) and (K). Y 4 represents a group selected from the groups represented by the following formula (L). l ′ and m ′ are integers where l ′ is an integer of 4 or more, m ′ is an integer of 0 or more, and l ′ + m ′ is an integer of 4 or more. In addition, the arrangement of the repeating units in the formula (H) may be either block or random. ]

Figure 2010085607
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Figure 2010085607
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Figure 2010085607
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Figure 2010085607
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[式(I)及び式(J)中のX2は、下記式(M) [X 2 in Formula (I) and Formula (J) represents the following formula (M)

Figure 2010085607
Figure 2010085607

で表される基の中から選ばれる基を示し、式(L)の中のRは、アリール基又は炭素数1〜10のアルキル基で表される基の中から選ばれる基を示す。式(K)中のp’は1以上、4以下の整数を示す。
また、式(I)、式(J)、式(K)、式(L)及び式(M)で表される基における環構造上の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基の中から選ばれる少なくとも1個の基で置換されていてもよい。]
In the formula (L), R represents a group selected from an aryl group or a group represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. P ′ in the formula (K) represents an integer of 1 or more and 4 or less.
Moreover, the hydrogen atom on the ring structure in the group represented by the formula (I), the formula (J), the formula (K), the formula (L), and the formula (M) is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. It may be substituted with at least one group selected from ]

(5) 前記ヒドロキシアミド重合体は、一般式(N)で表される、第(1)項〜第(4)項のいずれか1項に記載の光学部品用組成物。 (5) The composition for optical components according to any one of Items (1) to (4), wherein the hydroxyamide polymer is represented by General Formula (N).

Figure 2010085607
Figure 2010085607

[式(N)中、X’’は下記式(O)で表される基の中から選ばれる基を示し、式中の2つのX’’は同一でも異なっていてもよい。Y5は下記式(P)で表される基の中から選ばれる基を示す。Y6は下記(Q)で表される基の中から選ばれる基を示す。l’’及びm’’は、l’’が4以上の整数、m’’が0以上の整数かつ、l’’+m’’が4以上の整数を示す。また、式(N)における繰り返し単位の配列はブロック的、ランダム的のいずれであってもよい。] [In formula (N), X ″ represents a group selected from the groups represented by the following formula (O), and two X ″ in the formula may be the same or different. Y 5 represents a group selected from the groups represented by the following formula (P). Y 6 represents a group selected from the groups represented by the following (Q). l ″ and m ″ indicate l ″ is an integer of 4 or more, m ″ is an integer of 0 or more, and l ″ + m ″ is an integer of 4 or more. In addition, the arrangement of the repeating units in the formula (N) may be either block or random. ]

Figure 2010085607
Figure 2010085607

Figure 2010085607
Figure 2010085607

Figure 2010085607
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[式(O)及び式(P)中のX3は、式(R) [X 3 in Formula (O) and Formula (P) represents Formula (R)

Figure 2010085607
Figure 2010085607

で表される基の中から選ばれる基を示し、式(Q)の中のRは、アリール基又は炭素数1〜10のアルキル基で表される基の中から選ばれる基を示す。また、式(O)、式(P)、式(Q)及び式(R)で表される基における環構造上の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基の中から選ばれる少なくとも1個の基で置換されていてもよい。] In the formula (Q), R represents a group selected from an aryl group or a group represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Moreover, the hydrogen atom on the ring structure in the group represented by Formula (O), Formula (P), Formula (Q), and Formula (R) is at least one selected from alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. It may be substituted with groups. ]

(6) 前記光学部品用組成物を用いて、プラズマCVD法により製膜されたSiOx膜表面へ製膜する際に、該組成物と該SiOx膜との接触角が0°以上、10°以下である第(1)項〜第(5)項のいずれか1項に記載の光学部品用組成物。
(7) 前記光学部品用組成物は、23℃/湿度45%での雰囲気下で、スピンコータの回転数を1400rpmで塗膜を形成し、これを380℃/250秒加熱したフィルムの平均厚みが500nmになるように、前記ヒドロキシアミド重合体の含有量を調整した時の25℃での溶液粘度が、3mPa・s以上、11mPa・s以下である第(1)項〜第(6)項のいずれか1項に記載の光学部品用組成物。
(8) 第(1)項〜第(7)項のいずれか1項に記載の光学部品用組成物を用いて製膜し、前記光学部品用組成物中のヒドロキシアミド重合体を縮合反応させて得られる光学部品。
(9) 前記光学部品は、380nmの波長における光の減衰係数が、0以上、0.01以下である、第(8)項に記載の光学部品。
(6) When forming the film on the surface of the SiOx film formed by the plasma CVD method using the optical component composition, the contact angle between the composition and the SiOx film is 0 ° or more and 10 ° or less. The composition for optical components according to any one of Items (1) to (5).
(7) In the composition for optical components, a coating film was formed at a rotating speed of a spin coater at 1400 rpm in an atmosphere at 23 ° C./humidity 45%, and the average thickness of the film heated at 380 ° C./250 seconds was The solution viscosity at 25 ° C. when the content of the hydroxyamide polymer is adjusted so as to be 500 nm is from 3 mPa · s to 11 mPa · s. The composition for optical components according to any one of the above.
(8) A film is formed using the composition for optical components according to any one of items (1) to (7), and the hydroxyamide polymer in the composition for optical components is subjected to a condensation reaction. Optical parts obtained.
(9) The optical component according to (8), wherein the optical component has a light attenuation coefficient of 0 or more and 0.01 or less at a wavelength of 380 nm.

本発明によれば、光学特性、耐熱性、密着特性及び加工性などに優れる光学部品用組成物が得られる。また、前記光学部品用組成物は、製膜をする際に基材への濡れ性にも優れることから、製膜の均一性も優れることより、得られる膜の特性も良好なものとなる。
前記光学部品用組成物より得られる光学部品は、光学特性及び耐熱性などに優れ、これを具備する光学デバイスは、光学特性及び耐熱性に優れたものである。
According to the present invention, a composition for optical parts that is excellent in optical properties, heat resistance, adhesion properties, workability, and the like can be obtained. In addition, since the composition for optical parts is excellent in wettability to a substrate when forming a film, the uniformity of the film formation is excellent, and the properties of the obtained film are also good.
An optical component obtained from the composition for optical components is excellent in optical properties and heat resistance, and an optical device having the optical components is excellent in optical properties and heat resistance.

本発明は、一般式(A)で表されるヒドロキシアミド重合体(a)と、比表面積が30〜200m2/gの無機粒子(b)及び溶剤(c)を含むことを特徴とするとする光学部品用組成物である。これにより、光学特性、耐熱性、密着特性及び加工性などに優れる光学部品用組成物を提供できる。 The present invention is characterized by comprising a hydroxyamide polymer (a) represented by the general formula (A), inorganic particles (b) having a specific surface area of 30 to 200 m 2 / g, and a solvent (c). It is a composition for optical components. Thereby, the composition for optical components which is excellent in an optical characteristic, heat resistance, contact | adherence characteristic, workability, etc. can be provided.

前記一般式(A)で表されるヒドロキシアミド重合体(a)は、前記式(B)で表される基の中から選ばれる基を有するビスアミノフェノール化合物の少なくとも1種と、前記式(C)及び前記式(D)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸化合物の少なくとも1種とを用いて反応させて合成することができる。   The hydroxyamide polymer (a) represented by the general formula (A) includes at least one bisaminophenol compound having a group selected from the groups represented by the formula (B), and the formula (A). C) and at least one dicarboxylic acid compound having a group selected from the groups represented by the above formula (D) can be reacted and synthesized.

また、ジカルボン酸化合物として、前記式(C)及び前記式(D)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸化合物の少なくとも1種と、式(E)及び式(F)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸化合物とを用いて反応させることもできる。   Further, as the dicarboxylic acid compound, at least one dicarboxylic acid compound having a group selected from the groups represented by the formula (C) and the formula (D), and the formula (E) and the formula (F) The reaction can also be carried out using a dicarboxylic acid compound having a group selected from the groups represented.

上記ヒドロキシアミド重合体(a)の合成において、ビスアミノフェノール化合物と、ジカルボン酸化合物とを反応させる方法としては、従来の酸クロライド法、活性化エステル法、ポリリン酸やジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下での縮合反応等の方法を挙げることができる。   In the synthesis of the hydroxyamide polymer (a), as a method of reacting a bisaminophenol compound with a dicarboxylic acid compound, a conventional acid chloride method, an activated ester method, a dehydrating condensing agent such as polyphosphoric acid or dicyclohexylcarbodiimide A method such as a condensation reaction in the presence of

なお、前記ビスアミノフェノール化合物における基とは、アミノ基及びフェノール性水酸基と結合し得る結合手を四つ有する基を意味する。また、前記ジカルボン酸化合物における基とは、カルボキシル基と結合し得る結合手を二つ有する基を意味する。   The group in the bisaminophenol compound means a group having four bonds that can be bonded to an amino group and a phenolic hydroxyl group. In addition, the group in the dicarboxylic acid compound means a group having two bonds that can bond to a carboxyl group.

本発明で用いる、式(B)で表される基を有するビスアミノフェノール化合物の具体例としては、2,5−ジアミノヒドロキノン、2,3−ジアミノヒドロキノン、3,6−ジアミノカテコール、4,6−ジアミノレゾルシノール、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−(2,3’−アミノ−3,4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−(3,4’−アミノ−2,3’−ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、2,3’−ジアミノ−3,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノ−2,3’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、2,3’−ジアミノ−3,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノ−2,3’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,3−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェニルスルファニル)ベンゼン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシビフェニル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビフェニル、3,4’−ジアミノ−2,3’−ジヒドロキシビフェニル、2,3’−ジアミノ−3,4’−ジヒドロキシビフェニル、3,3’−ジアミノ−2,2’−ジヒドロキシビナフチル、2,2’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシビナフチル、2,3’−ジアミノ−3,2’−ジヒドロキシビナフチル、9,9−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)スルファニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)スルファニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)フェニル)フルオレン及び9,9−ビス(4−(3−アミノ−4−ヒドロキシフェノキシ)フェニル)フルオレン等が挙げられる。   Specific examples of the bisaminophenol compound having a group represented by the formula (B) used in the present invention include 2,5-diaminohydroquinone, 2,3-diaminohydroquinone, 3,6-diaminocatechol, 4,6 -Diaminoresorcinol, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-amino-3-hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2 -Bis (4-amino-3-hydroxyphenyl) propane, 2,2- (2,3'-amino-3,4'-hydroxyphenyl) propane, 2,2- (3,4'-amino-2, 3'-hydroxyphenyl) propane, 3,3'-diamino-4,4'-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxy Diphenyl sulfone, 2,3′-diamino-3,4′-dihydroxydiphenyl sulfone, 3,4′-diamino-2,3′-dihydroxydiphenyl sulfone, 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 4,4'-diamino-3,3'-dihydroxydiphenyl ether, 2,3'-diamino-3,4'-dihydroxydiphenyl ether, 3,4'-diamino-2,3'-dihydroxydiphenyl ether, 1,3-bis (3-amino-4hydroxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (4-amino-3hydroxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (3-amino-4hydroxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (4 -Amino-3hydroxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (3-amino-4hydride) Xylphenylsulfanyl) benzene, 1,3-bis (4-amino-3hydroxyphenylsulfanyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4hydroxyphenylsulfanyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-) 3hydroxyphenylsulfanyl) benzene, 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxybiphenyl, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxybiphenyl, 3,4′-diamino-2,3′-dihydroxy Biphenyl, 2,3′-diamino-3,4′-dihydroxybiphenyl, 3,3′-diamino-2,2′-dihydroxybinaphthyl, 2,2′-diamino-3,3′-dihydroxybinaphthyl, 2,3 '-Diamino-3,2'-dihydroxybinaphthyl, 9,9-bis (4-amino-3-hydroxyph Enyl) fluorene, 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (3-amino-4-hydroxyphenyl) sulfanylphenyl) fluorene, 9,9-bis ( 4- (4-amino-3-hydroxyphenyl) sulfanylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (4-amino-3-hydroxyphenoxy) phenyl) fluorene and 9,9-bis (4- (3- Amino-4-hydroxyphenoxy) phenyl) fluorene and the like.

これらの中でも、溶剤に対する溶解性と、耐熱性の上で、2,5−ジアミノヒドロキノン、4,6−ジアミノレゾルシノール、ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)メタン、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−(2,3’−アミノ−3,4’−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−(3,4’−アミノ−2,3’−ヒドロキシフェニル)プロパン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、2,3’−ジアミノ−3,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノ−2,3’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、2,3’−ジアミノ−3,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノ−2,3’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,3−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェニルスルファニル)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)スルファニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)スルファニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(4−アミノ−3−ヒドロキシフェノキシ)フェニル)フルオレン及び9,9−ビス(4−(3−アミノ−4−ヒドロキシフェノキシ)フェニル)フルオレンが好ましく、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノ−3,3’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,3−ビス(3−アミノ−4ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−3ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、9,9−ビス(4−アミノ−3−ヒドロキシフェニル)フルオレン及び9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、がより好ましい。これらのビスアミノフェノール化合物は単独で用いてもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   Among these, in terms of solubility in solvents and heat resistance, 2,5-diaminohydroquinone, 4,6-diaminoresorcinol, bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) methane, bis (4-amino-3) -Hydroxyphenyl) methane, 2,2-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-amino-3-hydroxyphenyl) propane, 2,2- (2,3'- Amino-3,4′-hydroxyphenyl) propane, 2,2- (3,4′-amino-2,3′-hydroxyphenyl) propane, 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxydiphenylsulfone, 2,3′-diamino-3,4′-dihydroxydiphenylsulfone, 3,4′- Amino-2,3′-dihydroxydiphenyl sulfone, 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxydiphenyl ether, 2,3′-diamino-3, 4'-dihydroxydiphenyl ether, 3,4'-diamino-2,3'-dihydroxydiphenyl ether, 1,3-bis (3-amino-4hydroxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (4-amino-3hydroxyphenoxy) ) Benzene, 1,4-bis (3-amino-4hydroxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (4-amino-3hydroxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (3-amino-4hydroxyphenylsulfanyl) Benzene, 1,3-bis (4-amino-3hydroxyphenylsulfani ) Benzene, 1,4-bis (3-amino-4hydroxyphenylsulfanyl) benzene, 1,4-bis (4-amino-3hydroxyphenylsulfanyl) benzene, 9,9-bis (4-amino-3-hydroxy) Phenyl) fluorene, 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (4-amino-3-hydroxyphenyl) sulfanylphenyl) fluorene, 9,9-bis ( 4- (4-amino-3-hydroxyphenyl) sulfanylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (4-amino-3-hydroxyphenoxy) phenyl) fluorene and 9,9-bis (4- (3- Amino-4-hydroxyphenoxy) phenyl) fluorene is preferred, 3,3′-diamino-4,4′-dihydro Xidiphenyl sulfone, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxydiphenyl sulfone, 3,3′-diamino-4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 4,4′-diamino-3,3′-dihydroxydiphenyl ether, 1,3-bis (3-amino-4hydroxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (4-amino-3hydroxyphenoxy) benzene, 9,9-bis (4-amino-3-hydroxyphenyl) fluorene and 9 , 9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene is more preferred. These bisaminophenol compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いる、式(C)で表される基を有するジカルボン酸化合物の具体例としては、イソフタル酸、テレフタル酸、4,4’−ビフェニルジカルボン酸、3,3’−ビフェニルジカルボン酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、2,3−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−スルホニルビス安息香酸、3,3’−スルホニルビス安息香酸、4,4’−チオビス安息香酸、3,3’−チオビス安息香酸、4,4’−オキシビス安息香酸、3,3’−オキシビス安息香酸、ビス(4−カルボキシフェニル)メタン、ビス(3−カルボキシフェニル)メタン、2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)プロパン、2,2’−ジメチル−4,4’−ビフェニルジカルボン酸、3,3’−ジメチル−4,4’−ビフェニルジカルボン酸、2,2’−ジメチル−3,3’−ビフェニルジカルボン酸、1,3−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−カルボキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,3−ビス(3−カルボキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシフェニルスルファニル)ベンゼン、4,4’−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ビフェニル、3,4’−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ビフェニル、3,4’−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ビフェニル、3,3’−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ビフェニル、3,3’−ビス(3―カルボキシフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(3−カルボキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−カルボキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(3−カルボキシフェニル)スルファニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(4−カルボキシフェニル)スルファニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−カルボキシフェノキシフェニル)フルオレン及び9,9−ビス(3−カルボキシフェノキシフェニル)フルオレン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the dicarboxylic acid compound having a group represented by the formula (C) used in the present invention include isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4′-biphenyldicarboxylic acid, 3,3′-biphenyldicarboxylic acid, 1 , 4-Naphthalenedicarboxylic acid, 2,3-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4′-sulfonylbisbenzoic acid, 3,3′-sulfonylbisbenzoic acid, 4,4′-thiobisbenzoic acid Acid, 3,3′-thiobisbenzoic acid, 4,4′-oxybisbenzoic acid, 3,3′-oxybisbenzoic acid, bis (4-carboxyphenyl) methane, bis (3-carboxyphenyl) methane, 2,2 -Bis (4-carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxyphenyl) propane, 2,2'-dimethyl-4,4'-biphenyl Dicarboxylic acid, 3,3′-dimethyl-4,4′-biphenyldicarboxylic acid, 2,2′-dimethyl-3,3′-biphenyldicarboxylic acid, 1,3-bis (4-carboxyphenoxy) benzene, 1, 3-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (4-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (4-carboxyphenylsulfanyl) benzene 1,3-bis (3-carboxyphenylsulfanyl) benzene, 1,4-bis (4-carboxyphenylsulfanyl) benzene, 1,4-bis (3-carboxyphenylsulfanyl) benzene, 4,4′-bis ( 4-carboxyphenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-carboxyphenoxy) biphe 3,4′-bis (4-carboxyphenoxy) biphenyl, 3,4′-bis (3-carboxyphenoxy) biphenyl, 3,3′-bis (4-carboxyphenoxy) biphenyl, 3,3′-bis (3-carboxyphenoxy) biphenyl, 9,9-bis (3-carboxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-carboxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (3-carboxyphenyl) sulfanylphenyl ) Fluorene, 9,9-bis (4- (4-carboxyphenyl) sulfanylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-carboxyphenoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (3-carboxyphenoxyphenyl) fluorene, etc. However, it is not limited to these.

これらの中でも、溶剤に対する溶解性の上で、イソフタル酸、テレフタル酸、4,4’−スルホニルビス安息香酸、3,3’−スルホニルビス安息香酸、4,4’−チオビス安息香酸、3,3’−チオビス安息香酸、4,4’−オキシビス安息香酸、3,3’−オキシビス安息香酸、ビス(4−カルボキシフェニル)メタン、ビス(3−カルボキシフェニル)メタン、2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)プロパン、1,3−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−カルボキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,3−ビス(3−カルボキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシフェニルスルファニル)ベンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシフェニルスルファニル)ベンゼン、9,9−ビス(3−カルボキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−カルボキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(3−カルボキシフェニル)スルファニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(4−カルボキシフェニル)スルファニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−カルボキシフェノキシフェニル)フルオレン及び9,9−ビス(3−カルボキシフェノキシフェニル)フルオレンが好ましく、イソフタル酸、4,4’−スルホニルビス安息香酸、3,3’−スルホニルビス安息香酸、4,4’−チオビス安息香酸、3,3’−チオビス安息香酸、4,4’−オキシビス安息香酸、3,3’−オキシビス安息香酸、1,3−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−カルボキシフェノキシ)ベンゼン、9,9−ビス(3−カルボキシフェニル)フルオレン及び9,9−ビス(4−カルボキシフェニル)フルオレンがより好ましい。これらのジカルボン酸化合物は単独で用いてもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   Among these, in terms of solubility in a solvent, isophthalic acid, terephthalic acid, 4,4′-sulfonylbisbenzoic acid, 3,3′-sulfonylbisbenzoic acid, 4,4′-thiobisbenzoic acid, 3,3 '-Thiobisbenzoic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid, 3,3'-oxybisbenzoic acid, bis (4-carboxyphenyl) methane, bis (3-carboxyphenyl) methane, 2,2-bis (4- Carboxyphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxyphenyl) propane, 1,3-bis (4-carboxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis ( 4-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (4-carboxyphenylsulfurate) Anil) benzene, 1,3-bis (3-carboxyphenylsulfanyl) benzene, 1,4-bis (4-carboxyphenylsulfanyl) benzene, 1,4-bis (3-carboxyphenylsulfanyl) benzene, 9,9- Bis (3-carboxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-carboxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (3-carboxyphenyl) sulfanylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- ( 4-carboxyphenyl) sulfanylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-carboxyphenoxyphenyl) fluorene and 9,9-bis (3-carboxyphenoxyphenyl) fluorene are preferred, isophthalic acid, 4,4′-sulfonylbis Benzoic acid, 3,3′-sulfonylbisbenzoic acid 4,4′-thiobisbenzoic acid, 3,3′-thiobisbenzoic acid, 4,4′-oxybisbenzoic acid, 3,3′-oxybisbenzoic acid, 1,3-bis (4-carboxyphenoxy) benzene, 1,3-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (4-carboxyphenoxy) benzene, 1,4-bis (3-carboxyphenoxy) benzene, 9,9-bis (3-carboxyphenyl) Fluorene and 9,9-bis (4-carboxyphenyl) fluorene are more preferred. These dicarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いる、式(D)で表される基を有するジカルボン酸化合物の具体例としては、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、cis−1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、cis−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、trans−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−デカリンジカルボン酸、1,4−デカリンジカルボン酸、2,6−デカリンジカルボン酸、1,3−アダマンタンジカルボン酸、5−メチル−1,3−アダマンタンジカルボン酸、2,2−アダマンタンジカルボン酸、3,3’−(2,2−アダマンチル)フェニルジカルボン酸、4,4’−(2,2−アダマンチル)フェニルジカルボン酸、3,3’−(2,2−アダマンチルオキシ)フェニルジカルボン酸、4,4’−(2,2−アダマンチルオキシ)フェニルジカルボン酸、3,3’−(1,3−アダマンチル)フェニルジカルボン酸、4,4’−(1,3−アダマンチル)フェニルジカルボン酸、3,3’−(1,1’−ビアダマンタン)ジカルボン酸、3,5−(1,1’−ビアダマンタン)ジカルボン酸、3,3’−(1,1’−ビアダマンタン)ジカルボン酸、3,5’−(1,1’−ビアダマンタン)ジカルボン酸、3’,5’,7,7’−テトラメチル−1,1’−ビアダマンタン−3,5−ジカルボン酸、5,5’,7,7’−テトラメチル−1,1’−ビアダマンタン−3,3’ジカルボン酸及び3’,5,7,7’−テトラメチル−1,1’−ビアダマンタン−3,5’−ジカルボン酸等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the dicarboxylic acid compound having a group represented by the formula (D) used in the present invention include 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, cis-1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid. Cis-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, trans-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-decalindicarboxylic acid, 1,4-decalindicarboxylic acid, 2,6-decalindicarboxylic acid, 1,3-adamantane Dicarboxylic acid, 5-methyl-1,3-adamantane dicarboxylic acid, 2,2-adamantane dicarboxylic acid, 3,3 ′-(2,2-adamantyl) phenyl dicarboxylic acid, 4,4 ′-(2,2-adamantyl) ) Phenyldicarboxylic acid, 3,3 ′-(2,2-adamantyloxy) phenyldicarboxylic acid, , 4 ′-(2,2-adamantyloxy) phenyl dicarboxylic acid, 3,3 ′-(1,3-adamantyl) phenyl dicarboxylic acid, 4,4 ′-(1,3-adamantyl) phenyl dicarboxylic acid, 3, 3 ′-(1,1′-biadamantane) dicarboxylic acid, 3,5- (1,1′-biadamantane) dicarboxylic acid, 3,3 ′-(1,1′-biadamantane) dicarboxylic acid, 3, 5 ′-(1,1′-biadamantane) dicarboxylic acid, 3 ′, 5 ′, 7,7′-tetramethyl-1,1′-biadamantane-3,5-dicarboxylic acid, 5,5 ′, 7 , 7'-Tetramethyl-1,1'-biadamantane-3,3'dicarboxylic acid and 3 ', 5,7,7'-tetramethyl-1,1'-biadamantane-3,5'-dicarboxylic acid Etc., but are limited to these Not to.

これらの中でも、溶剤に対する溶解性と、耐熱性の上で、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、cis−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、trans−1,4−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−アダマンタンジカルボン酸、5−メチル−1,3−アダマンタンジカルボン酸、3,3’−(1,1’−ビアダマンタン)ジカルボン酸、3,5−(1,1’−ビアダマンタン)ジカルボン酸、3,3’−(1,1’−ビアダマンタン)ジカルボン酸、3,5’−(1,1’−ビアダマンタン)ジカルボン酸、3’,5’,7,7’−テトラメチル−1,1’−ビアダマンタン−3,5−ジカルボン酸、5,5’,7,7’−テトラメチル−1,1’−ビアダマンタン−3,3’ジカルボン酸及び3’,5,7,7’−テトラメチル−1,1’−ビアダマンタン−3,5’−ジカルボン酸が好ましい。これらのジカルボン酸化合物は単独で用いてもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   Among these, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, cis-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, trans-1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, and 1,3-adamantanedicarboxylic acid have solubility in solvents and heat resistance. Acid, 5-methyl-1,3-adamantane dicarboxylic acid, 3,3 ′-(1,1′-biadamantane) dicarboxylic acid, 3,5- (1,1′-biadamantane) dicarboxylic acid, 3,3 '-(1,1'-biadamantane) dicarboxylic acid, 3,5'-(1,1'-biadamantane) dicarboxylic acid, 3 ', 5', 7,7'-tetramethyl-1,1'- Biadamantane-3,5-dicarboxylic acid, 5,5 ′, 7,7′-tetramethyl-1,1′-biadamantane-3,3′dicarboxylic acid and 3 ′, 5,7,7′-tetramethyl 1,1'-biadamantane-3,5'-dicarboxylic acid. These dicarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いる、式(E)で表される基を有するジカルボン酸化合物において、R置換基としては、アリール基又は炭素数1〜10のアルキル基であり、具体的には、前記アリール基としては、フェニル基、ベンジル基、トリル基、o−キシリル基、m−キシリル基及びp−キシリル基などが挙げられる。前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、シクロヘキシル基及びアダマンチル基などが挙げられる。これらのなかでも、フェニル基、トリル基、o−キシリル基、m−キシリル基、p−キシリル基、メチル基、イソブチル基及びt−ブチル基が好ましく、フェニル基、トリル基、o−キシリル基、m−キシリル基及びp−キシリル基がより好ましい。   In the dicarboxylic acid compound having a group represented by the formula (E) used in the present invention, the R substituent is an aryl group or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specifically, as the aryl group, Examples thereof include a phenyl group, a benzyl group, a tolyl group, an o-xylyl group, an m-xylyl group, and a p-xylyl group. Examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, a cyclohexyl group, and an adamantyl group. Among these, phenyl group, tolyl group, o-xylyl group, m-xylyl group, p-xylyl group, methyl group, isobutyl group and t-butyl group are preferable, and phenyl group, tolyl group, o-xylyl group, An m-xylyl group and a p-xylyl group are more preferable.

そのような式(E)で表される基を有するジカルボン酸化合物の具体例として、R置換基がフェニル基であるフェニルエチニル基を有するジカルボン酸化合物の具体例としては、4−フェニルエチニルイソフタル酸、5−フェニルエチニルイソフタル酸、2−フェニルエチニルテレフタル酸、3−フェニルエチニルテレフタル酸、2−フェニルエチニル−1,5−ナフタレンジカルボン酸、3−フェニルエチニル−1,5−ナフタレンジカルボン酸、4−フェニルエチニル−1,5−ナフタレンジカルボン酸、1−フェニルエチニル−2,6−ナフタレンジカルボン酸、3−フェニルエチニル−2,6−ナフタレンジカルボン酸、4−フェニルエチニル−2,6−ナフタレンジカルボン酸、3,7−ビスフェニルエチニル−1,5−ナフタレンジカルボン酸、4,8−ビスフェニルエチニル−2,6−ナフタレンジカルボン酸、4−フェニルエチニル−2,2'−ビフェニルジカルボン酸、6−フェニルエチニル−2,2'−ビフェニルジカルボン酸、2−フェニルエチニル−4,4'−ビフェニルジカルボン酸、4,4'−ビスフェニルエチニル−2,2'−ビフェニルジカルボン酸、6,6'−ビスフェニルエチニル−2,2'−ビフェニルジカルボン酸、2,2'−ビスフェニルエチニル−4,4'−ビフェニルジカルボン酸、2,2−ビス(3−カルボキシ−4−フェニルエチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシ−5−フェニルエチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシ−2−フェニルエチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシ−3−フェニルエチニルフェニル)プロパン、ビス(3−カルボキシ−4−フェニルエチニルフェニル)スルホン、ビス(3−カルボキシ−5−フェニルエチニルフェニル)スルホン、ビス(4−カルボキシ−2−フェニルエチニルフェニル)スルホン、ビス(4−カルボキシ−3−フェニルエチニルフェニル)スルホン、ビス(3−カルボキシ−4−フェニルエチニルフェニル)エーテル、ビス(3−カルボキシ−5−フェニルエチニルフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシ−2−フェニルエチニルフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシ−3−フェニルエチニルフェニル)エーテル、等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   As a specific example of the dicarboxylic acid compound having a group represented by the formula (E), a specific example of a dicarboxylic acid compound having a phenylethynyl group whose R substituent is a phenyl group is 4-phenylethynylisophthalic acid. 5-phenylethynylisophthalic acid, 2-phenylethynylterephthalic acid, 3-phenylethynylterephthalic acid, 2-phenylethynyl-1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 3-phenylethynyl-1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 4- Phenylethynyl-1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1-phenylethynyl-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 3-phenylethynyl-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4-phenylethynyl-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 3,7-bisphenylethynyl-1,5-naphthalene Dicarboxylic acid, 4,8-bisphenylethynyl-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4-phenylethynyl-2,2′-biphenyldicarboxylic acid, 6-phenylethynyl-2,2′-biphenyldicarboxylic acid, 2-phenyl Ethynyl-4,4′-biphenyldicarboxylic acid, 4,4′-bisphenylethynyl-2,2′-biphenyldicarboxylic acid, 6,6′-bisphenylethynyl-2,2′-biphenyldicarboxylic acid, 2,2 '-Bisphenylethynyl-4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 2,2-bis (3-carboxy-4-phenylethynylphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxy-5-phenylethynylphenyl) propane 2,2-bis (4-carboxy-2-phenylethynylphenyl) propane, 2,2-bis (4-carbohydrate) Ci-3-phenylethynylphenyl) propane, bis (3-carboxy-4-phenylethynylphenyl) sulfone, bis (3-carboxy-5-phenylethynylphenyl) sulfone, bis (4-carboxy-2-phenylethynylphenyl) Sulfone, bis (4-carboxy-3-phenylethynylphenyl) sulfone, bis (3-carboxy-4-phenylethynylphenyl) ether, bis (3-carboxy-5-phenylethynylphenyl) ether, bis (4-carboxy- Examples include 2-phenylethynylphenyl) ether, bis (4-carboxy-3-phenylethynylphenyl) ether, and the like, but are not limited thereto.

これらの中でも、溶剤に対する溶解性の上で、4−フェニルエチニルイソフタル酸、5−フェニルエチニルイソフタル酸、2−フェニルエチニルテレフタル酸、3−フェニルエチニルテレフタル酸、2,2−ビス(3−カルボキシ−4−フェニルエチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシ−5−フェニルエチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシ−2−フェニルエチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシ−3−フェニルエチニルフェニル)プロパン、ビス(3−カルボキシ−4−フェニルエチニルフェニル)スルホン、ビス(3−カルボキシ−5−フェニルエチニルフェニル)スルホン、ビス(4−カルボキシ−2−フェニルエチニルフェニル)スルホン、ビス(4−カルボキシ−3−フェニルエチニルフェニル)スルホン、ビス(3−カルボキシ−4−フェニルエチニルフェニル)エーテル、ビス(3−カルボキシ−5−フェニルエチニルフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシ−2−フェニルエチニルフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシ−3−フェニルエチニルフェニル)エーテルが好ましく、4−フェニルエチニルイソフタル酸、5−フェニルエチニルイソフタル酸、2−フェニルエチニルテレフタル酸、3−フェニルエチニルテレフタル酸がより好ましい。これらのジカルボン酸化合物は単独で用いてもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   Among these, in terms of solubility in solvents, 4-phenylethynylisophthalic acid, 5-phenylethynylisophthalic acid, 2-phenylethynylterephthalic acid, 3-phenylethynylterephthalic acid, 2,2-bis (3-carboxy- 4-phenylethynylphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxy-5-phenylethynylphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxy-2-phenylethynylphenyl) propane, 2,2-bis ( 4-carboxy-3-phenylethynylphenyl) propane, bis (3-carboxy-4-phenylethynylphenyl) sulfone, bis (3-carboxy-5-phenylethynylphenyl) sulfone, bis (4-carboxy-2-phenylethynyl) Phenyl) sulfone, bis (4-carboxy-) -Phenylethynylphenyl) sulfone, bis (3-carboxy-4-phenylethynylphenyl) ether, bis (3-carboxy-5-phenylethynylphenyl) ether, bis (4-carboxy-2-phenylethynylphenyl) ether, bis (4-Carboxy-3-phenylethynylphenyl) ether is preferable, and 4-phenylethynylisophthalic acid, 5-phenylethynylisophthalic acid, 2-phenylethynylterephthalic acid, and 3-phenylethynylterephthalic acid are more preferable. These dicarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more.

本発明で用いる、式(F)で表される基を有するジカルボン酸化合物の具体例としては、4−エチニルイソフタル酸、5−エチニルイソフタル酸、2−エチニルテレフタル酸、3−エチニルテレフタル酸、2−エチニル−1,5−ナフタレンジカルボン酸、3−エチニル−1,5−ナフタレンジカルボン酸、4−エチニル−1,5−ナフタレンジカルボン酸、1−エチニル−2,6−ナフタレンジカルボン酸、3−エチニル−2,6−ナフタレンジカルボン酸、4−エチニル−2,6−ナフタレンジカルボン酸、3,7−ジエチニル−1,5−ナフタレンジカルボン酸、4,8−ジエチニル−2,6−ナフタレンジカルボン酸、4−エチニル−2,2'−ビフェニルジカルボン酸、6−エチニル−2,2'−ビフェニルジカルボン酸、2−エチニル−4,4'−ビフェニルジカルボン酸、4,4'−ジエチニル−2,2'−ビフェニルジカルボン酸、6,6'−ジエチニル−2,2'−ビフェニルジカルボン酸、2,2'−ジエチニル−4,4'−ビフェニルジカルボン酸、2,2−ビス(3−カルボキシ−4−エチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシ−5−エチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシ−2−エチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシ−3−エチニルフェニル)プロパン、ビス(3−カルボキシ−4−エチニルフェニル)スルホン、ビス(3−カルボキシ−5−エチニルフェニル)スルホン、ビス(4−カルボキシ−2−エチニルフェニル)スルホン、ビス(4−カルボキシ−3−エチニルフェニル)スルホン、ビス(3−カルボキシ−4−エチニルフェニル)エーテル、ビス(3−カルボキシ−5−エチニルフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシ−2−エチニルフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシ−3−エチニルフェニル)エーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。   Specific examples of the dicarboxylic acid compound having a group represented by the formula (F) used in the present invention include 4-ethynylisophthalic acid, 5-ethynylisophthalic acid, 2-ethynylterephthalic acid, 3-ethynylterephthalic acid, 2 -Ethynyl-1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 3-ethynyl-1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 4-ethynyl-1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1-ethynyl-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 3-ethynyl -2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4-ethynyl-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 3,7-diethynyl-1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 4,8-diethynyl-2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4 -Ethynyl-2,2'-biphenyldicarboxylic acid, 6-ethynyl-2,2'-biphenyldicarboxylic acid, 2-ethy 4,4′-biphenyldicarboxylic acid, 4,4′-diethynyl-2,2′-biphenyldicarboxylic acid, 6,6′-diethynyl-2,2′-biphenyldicarboxylic acid, 2,2′-diethynyl- 4,4′-biphenyldicarboxylic acid, 2,2-bis (3-carboxy-4-ethynylphenyl) propane, 2,2-bis (3-carboxy-5-ethynylphenyl) propane, 2,2-bis (4 -Carboxy-2-ethynylphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxy-3-ethynylphenyl) propane, bis (3-carboxy-4-ethynylphenyl) sulfone, bis (3-carboxy-5-ethynylphenyl) ) Sulfone, bis (4-carboxy-2-ethynylphenyl) sulfone, bis (4-carboxy-3-ethynylphenyl) sulfone, bis 3-carboxy-4-ethynylphenyl) ether, bis (3-carboxy-5-ethynylphenyl) ether, bis (4-carboxy-2-ethynylphenyl) ether, bis (4-carboxy-3-ethynylphenyl) ether, etc. However, it is not limited to these.

これらの中でも、溶剤に対する溶解性の上で、4−エチニルイソフタル酸、5−エチニルイソフタル酸、2−エチニルテレフタル酸、3−エチニルテレフタル酸、2,2−ビス(3−カルボキシ−4−エチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(3−カルボキシ−5−エチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシ−2−エチニルフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−カルボキシ−3−エチニルフェニル)プロパン、ビス(3−カルボキシ−4−エチニルフェニル)スルホン、ビス(3−カルボキシ−5−エチニルフェニル)スルホン、ビス(4−カルボキシ−2−エチニルフェニル)スルホン、ビス(4−カルボキシ−3−エチニルフェニル)スルホン、ビス(3−カルボキシ−4−エチニルフェニル)エーテル、ビス(3−カルボキシ−5−エチニルフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシ−2−エチニルフェニル)エーテル、ビス(4−カルボキシ−3−エチニルフェニル)エーテルが好ましく、4−エチニルイソフタル酸、5−エチニルイソフタル酸、2−エチニルテレフタル酸、3−エチニルテレフタル酸がより好ましい。これらのジカルボン酸化合物は単独で用いてもよく、また2種類以上を組み合わせて使用してもよい。   Among these, 4-ethynylisophthalic acid, 5-ethynylisophthalic acid, 2-ethynylterephthalic acid, 3-ethynylterephthalic acid, and 2,2-bis (3-carboxy-4-ethynylphenyl) in terms of solubility in solvents ) Propane, 2,2-bis (3-carboxy-5-ethynylphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxy-2-ethynylphenyl) propane, 2,2-bis (4-carboxy-3-ethynyl) Phenyl) propane, bis (3-carboxy-4-ethynylphenyl) sulfone, bis (3-carboxy-5-ethynylphenyl) sulfone, bis (4-carboxy-2-ethynylphenyl) sulfone, bis (4-carboxy-3) -Ethynylphenyl) sulfone, bis (3-carboxy-4-ethynylphenyl) ether, bi (3-carboxy-5-ethynylphenyl) ether, bis (4-carboxy-2-ethynylphenyl) ether, bis (4-carboxy-3-ethynylphenyl) ether are preferred, 4-ethynylisophthalic acid, 5-ethynylisophthalate Acid, 2-ethynyl terephthalic acid, and 3-ethynyl terephthalic acid are more preferable. These dicarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more.

なお、式(B)、式(C)、式(D)、式(E)、式(F)及び式(G)で表される基における環構造上の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基の中から選ばれる少なくとも1個の基で置換されていてもよい。上記炭素数1〜4のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基及びt−ブチル基などが挙げられる。   In addition, the hydrogen atom on the ring structure in the group represented by Formula (B), Formula (C), Formula (D), Formula (E), Formula (F), and Formula (G) has 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may be substituted with at least one group selected from alkyl groups. Examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, and t-butyl group.

本発明に用いるヒドロキシアミド重合体(a)の製造方法としては、例えば、酸クロライド法では、使用する酸クロライドは、まず、N,N’−ジメチルホルムアミド等の触媒存在下で、前記ジカルボン酸化合物と、過剰量の塩化チオニルとを、室温ないし100℃程度の温度で反応させ、過剰の塩化チオニルを加熱及び減圧により留去した後、残査をヘキサン等の溶媒で再結晶することにより得ることができる。このようにして製造したジカルボン酸クロライド化合物を、前記ビスアミノフェノール化合物と共に、通常、N−メチル−2−ピロリドン及びN,N’−ジメチルアセトアミド等の極性溶媒に溶解し、ピリジン等の酸受容剤存在下で、室温ないし−30℃程度の温度で反応させることにより、ヒドロキシアミド重合体を得ることができる。このようにして得られるヒドロキシアミド重合体が共重合体である場合の繰り返し単位の配列は、ブロック的であっても、ランダム的であっても良い。   As a method for producing the hydroxyamide polymer (a) used in the present invention, for example, in the acid chloride method, the acid chloride to be used is first a dicarboxylic acid compound in the presence of a catalyst such as N, N′-dimethylformamide. And an excess amount of thionyl chloride at room temperature to about 100 ° C., the excess thionyl chloride is distilled off by heating and decompression, and the residue is recrystallized with a solvent such as hexane. Can do. The dicarboxylic acid chloride compound thus produced is usually dissolved in a polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone and N, N′-dimethylacetamide together with the bisaminophenol compound, and an acid acceptor such as pyridine. A hydroxyamide polymer can be obtained by reacting in the presence at room temperature to about −30 ° C. When the hydroxyamide polymer thus obtained is a copolymer, the arrangement of repeating units may be block-like or random.

例えば、ブロック的な繰り返し単位の製造方法としては、酸クロライド法による場合、式(B)で表される基の中から選ばれる基を有するビスアミノフェノール化合物と、式(C)及び式(D)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸クロライド化合物の少なくとも1種とを、予め反応させて分子量を上げた後、更に式(B)で表される基の中から選ばれる基を有するビスアミノフェノール化合物と、式(E)及び式(F)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸クロライドの少なくとも1種とを反応させることにより得ることができる。   For example, as a method for producing a block-like repeating unit, in the case of the acid chloride method, a bisaminophenol compound having a group selected from groups represented by formula (B), formula (C) and formula (D ), After reacting in advance with at least one dicarboxylic acid chloride compound having a group selected from the groups represented by formula (B), the molecular weight is increased, and then the group is further selected from the groups represented by formula (B). It can be obtained by reacting a bisaminophenol compound having a group with at least one dicarboxylic acid chloride having a group selected from the groups represented by formulas (E) and (F).

また、逆に、式(B)で表される基の中から選ばれる基を有するビスアミノフェノール化合物と、式(E)及び式(F)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸クロライド化合物の少なくとも1種とを、予め反応させて、重合体の分子量を上げた後、更に式(B)で表される基の中から選ばれる基を有するビスアミノフェノール化合物と式(C)又は式(D)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸クロライド化合物の少なくとも1種とを反応させてもよい。   Conversely, it has a bisaminophenol compound having a group selected from the groups represented by formula (B) and a group selected from the groups represented by formula (E) and formula (F). After reacting in advance with at least one dicarboxylic acid chloride compound to increase the molecular weight of the polymer, the bisaminophenol compound further having a group selected from the group represented by formula (B) and the formula ( You may make it react with at least 1 sort (s) of the dicarboxylic acid chloride compound which has group chosen from group represented by C) or Formula (D).

ランダム的な繰り返し単位の場合は、式(B)で表される基の中から選ばれる基を有するビスアミノフェノール化合物と式(C)又は式(D)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸クロライド化合物の少なくとも1種と、式(E)及び式(F)で表される基の中から選ばれる基を有するジカルボン酸クロライド化合物の少なくとも1種とを、同時に反応させることにより得ることができる。   In the case of a random repeating unit, it is selected from a bisaminophenol compound having a group selected from the group represented by formula (B) and a group represented by formula (C) or formula (D). Simultaneously reacting at least one dicarboxylic acid chloride compound having a group with at least one dicarboxylic acid chloride compound having a group selected from the groups represented by formula (E) and formula (F). Can be obtained.

式(A)で表される構造中のl及びmは、lが4以上の整数、mが0以上の整数、且つl+mが4以上の整数であり、上記ヒドロキシアミド重合体に用いるビスアミノフェノール化合物及びジカルボン酸化合物の組み合わせにより異なるが、一般的には、l+mが4〜100の範囲である。   In the structure represented by the formula (A), l and m are each an integer of 4 or more, m is an integer of 0 or more, and l + m is an integer of 4 or more, and is a bisaminophenol used for the hydroxyamide polymer. Generally, l + m is in the range of 4 to 100, although it varies depending on the combination of the compound and the dicarboxylic acid compound.

このようにして得られる一般式(A)で表されるヒドロキシアミド重合体(a)は、溶剤(c)に対する溶解性、及び耐熱性の上で、一般式(H)で表される構造を有するヒドロキシアミド重合体であることが好ましく、一般式(N)で表される構造を有するヒドロキシアミド重合体であることがより好ましい。   The hydroxyamide polymer (a) represented by the general formula (A) thus obtained has a structure represented by the general formula (H) in terms of solubility in the solvent (c) and heat resistance. The hydroxyamide polymer having a structure represented by the general formula (N) is more preferable.

また、上記一般式(A)で表されるヒドロキシアミド重合体(a)は、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が5000以上、15000以下が好ましく、より好ましくは8000以上、12000以下である。重量平均分子量は上記範囲外でも使用できるが、下限値より小さいと製膜後のプロセス中に耐熱性が劣化するおそれがあり、上限値より大きいと、溶剤への溶解性が低下するおそれがあり、また、本発明の光学部品用組成物における溶液粘度が上昇することにより、塗膜形成時に基板への濡れ性が低下して、膜厚均一性の低下が起こるおそれがある。   In addition, the hydroxyamide polymer (a) represented by the general formula (A) preferably has a weight average molecular weight in terms of standard polystyrene of 5000 or more and 15000 or less, more preferably 8000 or more and 12000 or less. The weight average molecular weight can be used outside the above range, but if it is smaller than the lower limit, heat resistance may be deteriorated during the process after film formation, and if it is larger than the upper limit, solubility in a solvent may be reduced. Moreover, when the solution viscosity in the composition for optical parts of the present invention is increased, wettability to the substrate may be reduced during the formation of the coating film, and the film thickness uniformity may be reduced.

上記重量平均分子量は、高速液体クロマトグラフを用い、標準ポリスチレンで検量線を作成し、ポリスチレン換算で求めたものをいう。例えば、装置として、東ソー株式会社製高速液体クロマトグラフSC−8020システムに、TSKgelGMH−HRH高速SEC用カラム、UV(λ=270nm)検出器を用い、移動相としてLiBr0.5%を添加したN−メチル−2−ピロリドン液を用いて測定し、標準ポリスチレンとして、東ソー製PS−オリゴマーキットにより、リテンションタイムと分子量の検量線を作製し、ヒドロキシアミド重合体のポリスチレン換算の重量平均分子量を求めることができる。   The said weight average molecular weight says the thing calculated | required in polystyrene conversion, creating a calibration curve with standard polystyrene using a high performance liquid chromatograph. For example, as an apparatus, a TSKgelGMH-HRH high-speed SEC column, UV (λ = 270 nm) detector was used in a high performance liquid chromatograph SC-8020 system manufactured by Tosoh Corporation, and N-Br with 0.5% LiBr added as a mobile phase. It can be measured using a methyl-2-pyrrolidone solution, and a calibration curve of retention time and molecular weight can be prepared with PS-oligomer kit made by Tosoh as standard polystyrene, and the weight average molecular weight in terms of polystyrene of the hydroxyamide polymer can be obtained. it can.

また、ヒドロキシアミド重合体の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量を前記の範囲にするための反応方法としては、例えば、上記製造方法において、ジカルボン酸クロライド化合物とビスアミノフェノール化合物の反応モル比を調整して分子量を制御する方法、ジカルボン酸クロライド化合物とビスアミノフェノール化合物に、カルボン酸クロライド化合物又はアミノフェノール化合物を用いて、反応を停止させ、任意の分子量に調整する方法等を例示することができる。上記カルボン酸クロライド化合物及びアミノフェノール化合物は、ヒドロキシアミド重合体の末端基として反応を終結させ、それ以上分子量が大きくならないようにするために用い、例えば、安息香酸クロライド、2−アミノフェノールなどを例示することができる。   Moreover, as a reaction method for bringing the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene of the hydroxyamide polymer within the above range, for example, in the above production method, the reaction molar ratio of the dicarboxylic acid chloride compound and the bisaminophenol compound is adjusted. Examples thereof include a method for controlling the molecular weight, a method for stopping the reaction by using a carboxylic acid chloride compound or an aminophenol compound for the dicarboxylic acid chloride compound and the bisaminophenol compound, and adjusting the molecular weight to an arbitrary molecular weight. The carboxylic acid chloride compound and aminophenol compound are used to terminate the reaction as a terminal group of the hydroxyamide polymer and prevent the molecular weight from increasing any more. For example, benzoic acid chloride, 2-aminophenol and the like are exemplified. can do.

前記ジカルボン酸化合物とビスアミノフェノール化合物の反応モル比を調整することにより分子量を制御する方法においては、上記の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量とも関係し、上記で用いるジカルボン酸化合物及びビスアミノフェノール化合物の構造によりモル比が異なるが、一方の化合物のモル数を過剰に、例えば、アミノフェノール化合物のモル数を過剰とすることにより、反応モル比が0.7以上、0.9以下に調整されることが好ましく、0.75以上、0.90以下がより好ましく、さらに好ましくは、0.8以上、0.90以下とするのが良い。反応モル比は、前記範囲外でも使用できるが、前記下限値より低いと比較的低分子の成分が多く生じるため、その除去等により、工程の複雑化する恐れがある。また、前記上限値を超える場合、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が目的とする範囲よりも大きくなる恐れがある。   In the method of controlling the molecular weight by adjusting the reaction molar ratio of the dicarboxylic acid compound and the bisaminophenol compound, the dicarboxylic acid compound and the bisaminophenol compound used above are also related to the weight average molecular weight in terms of standard polystyrene. The molar ratio varies depending on the structure of the compound, but the reaction molar ratio is adjusted to 0.7 or more and 0.9 or less by increasing the number of moles of one compound, for example, by increasing the number of moles of the aminophenol compound. Preferably, it is 0.75 or more and 0.90 or less, and more preferably 0.8 or more and 0.90 or less. The reaction molar ratio can be used outside the above range, but if it is lower than the lower limit, a relatively low molecular component is often generated. Moreover, when exceeding the said upper limit, there exists a possibility that the weight average molecular weight of standard polystyrene conversion may become larger than the target range.

なお、本発明に用いるヒドロキシアミド重合体(a)は、加熱することにより縮合反応を生じさせ、ベンゾオキサゾール重合体を得ることができる。   In addition, the hydroxyamide polymer (a) used for this invention can produce a condensation reaction by heating, and can obtain a benzoxazole polymer.

本発明に用いる無機粒子(b)としては、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、硫化鉛粒子、硫化亜鉛粒子、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、窒化ガリウムなどが挙げられる。これらの中でも、屈折率及び透明性などの点で、酸化チタン粒子及び酸化ジルコニウム粒子が好ましい。これらの無機粒子は、それ自身の触媒活性を抑制するためや、ヒドロキシアミド重合体(a)や溶剤(c)との分散性を向上させるために、粒子表面がシリカやアルミナなどで被覆されていてもよい。
これらの無機粒子は、単独で用いてもよく、また、2種類以上を混合して使用することもできる。
Examples of the inorganic particles (b) used in the present invention include aluminum oxide particles, zirconium oxide particles, titanium oxide particles, zinc oxide particles, lead sulfide particles, zinc sulfide particles, barium titanate, potassium titanate, and gallium nitride. . Among these, titanium oxide particles and zirconium oxide particles are preferable in terms of refractive index and transparency. In order to suppress the catalytic activity of these inorganic particles and to improve the dispersibility with the hydroxyamide polymer (a) and the solvent (c), the surface of the particles is coated with silica or alumina. May be.
These inorganic particles may be used alone or in combination of two or more.

これらの無機粒子の比表面積は、30〜200m2/gであり、60〜200m2/gであることがより好ましい。比表面積が前記下限値より小さいと、光の散乱により透明性が低下する。また、比表面積が前記上限値より大きいと、表面自由エネルギーが大きくなり、凝集を起こし易くなるため、膜の均一性が低下する。上記比表面積は、一般的なBET法により求めることができる。 The specific surface area of these inorganic particles is 30 to 200 m 2 / g, and more preferably 60 to 200 m 2 / g. When the specific surface area is smaller than the lower limit, the transparency decreases due to light scattering. On the other hand, if the specific surface area is larger than the upper limit, the surface free energy increases and aggregation tends to occur, so that the uniformity of the film decreases. The specific surface area can be determined by a general BET method.

無機粒子の平均粒子径としては、1〜60nmが好ましく、1〜40nmがより好ましい。上記平均粒子径は、動的光散乱法による有効径として測定することができる。   As an average particle diameter of an inorganic particle, 1-60 nm is preferable and 1-40 nm is more preferable. The average particle diameter can be measured as an effective diameter by a dynamic light scattering method.

本発明に用いる溶剤(c)としては、ヒドロキシアミド重合体(a)の構造により、それぞれ異なるが、ケトン系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒及び非プロトン極性溶媒などが挙げられ、例えば、ケトン系溶媒として、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、4−メチル−シクロヘキサノン、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、炭酸プロピレン、ジアセトンアルコール及びγ−ブチロラクトンなど;エーテル系溶媒として、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコール1−モノ−n−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル及び1,3−ブチレングリコール−3−モノメチルエーテルなど;エステル系溶媒として、プロピレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、メチル−1,3−ブチレングリコールアセテート、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル及びメチル−3−メトキシプロピオネートなど;非プロトン系極性溶媒として、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド及びジメチルスルホキシドなど;等を挙げることができる。これらは1種又は2種以上を混合して用いることができる。これらの中で、ヒドロキシアミド重合体の構造により異なるが、N−メチル−2−ピロリドンと上記N−メチル−2−ピロリドン以外の溶媒の混合物、シクロペンタノンと上記シクロペンタノン以外の溶媒の混合物、シクロヘキサノンと上記シクロヘキサノン以外の溶媒の混合物が、好適に使用することができる。   The solvent (c) used in the present invention is different depending on the structure of the hydroxyamide polymer (a), and examples thereof include ketone solvents, ether solvents, ester solvents and aprotic polar solvents. Examples of the solvent include cyclopentanone, cyclohexanone, cycloheptanone, 4-methyl-cyclohexanone, 3,3,5-trimethylcyclohexanone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, propylene carbonate, diacetone alcohol and γ-butyrolactone; ether solvents Diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol dibutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene group Cole 1-mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, 1,3-butylene glycol-3-monomethyl ether and the like; as ester solvents, propylene glycol diacetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, methyl lactate, ethyl lactate, Butyl lactate, methyl-1,3-butylene glycol acetate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, methyl-3-methoxypropionate, etc .; as aprotic polar solvents, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N- Dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, etc .; These may be used alone or in combination of two or more. Among these, depending on the structure of the hydroxyamide polymer, a mixture of a solvent other than N-methyl-2-pyrrolidone and the above N-methyl-2-pyrrolidone, a mixture of a solvent other than cyclopentanone and the above cyclopentanone A mixture of cyclohexanone and a solvent other than cyclohexanone can be preferably used.

本発明の光学部品用組成物において、ヒドロキシアミド重合体(a)と無機粒子(b)と溶剤(c)の混合割合としては、光学部品の使用目的等により異なるが、無機粒子(b)は、前記ヒドロキシアミド重合体(a)100質量部に対して、10質量部〜200質量部が好ましく、50質量部〜150質量部がより好ましい。前記範囲外でも使用できるが、無機粒子(b)が200質量部を超えると、粘度が増加し、均一な膜が得られなくなるおそれがある。また、10質量部より少ないと、屈折率が上昇せず、良好な光学特性を得られなくなるおそれがある。   In the composition for optical parts of the present invention, the mixing ratio of the hydroxyamide polymer (a), the inorganic particles (b) and the solvent (c) varies depending on the purpose of use of the optical parts, but the inorganic particles (b) The hydroxyamide polymer (a) is preferably 10 parts by mass to 200 parts by mass, and more preferably 50 parts by mass to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass. Although it can be used outside the above range, when the inorganic particles (b) exceed 200 parts by mass, the viscosity increases and a uniform film may not be obtained. On the other hand, if the amount is less than 10 parts by mass, the refractive index does not increase and good optical properties may not be obtained.

また、溶剤(c)は、前記ヒドロキシアミド重合体(a)100質量部に対して、400質量部〜3000質量部が好ましく、900質量部〜2000質量部がより好ましい。前記範囲外でも使用できるが、溶剤(c)が3000質量部を超えると、十分な膜厚が得られ得られなくなるおそれがある。また、400質量部より少ないと、組成物の溶液粘度が増加し、均一な膜が得られ得られなくなるおそれがある。   Moreover, 400 mass parts-3000 mass parts are preferable with respect to 100 mass parts of said hydroxyamide polymers (a), and, as for a solvent (c), 900 mass parts-2000 mass parts are more preferable. Although it can be used outside the above range, if the solvent (c) exceeds 3000 parts by mass, a sufficient film thickness may not be obtained. On the other hand, when the amount is less than 400 parts by mass, the solution viscosity of the composition increases, and a uniform film may not be obtained.

本発明の光学部品用組成物は、(a)と無機粒子(b)と溶剤(c)以外の成分として、表面処理剤、分散剤、界面活性剤、シラン系に代表されるカップリング剤、酸素ラジカルやイオウラジカルを加熱により発生するラジカル開始剤等の添加剤を添加することができる。また、当該ヒドロキシアミド重合体に、感光剤としての例えばナフトキノンジアジド化合物と一緒に用いることで、感光性樹脂組成物として用いることが可能である。
上記表面処理剤としては、シランカップリング剤やキレート剤などが挙げられる。また、分散剤としては、グリセリンやステアリン酸及びオレイン酸などの脂肪酸、アルキルスルホコハク酸ナトリウム、アルキルメタリン酸ナトリウム、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリエステル、ポリエーテル、ポリウレタンなどが挙げられる。
The composition for an optical component of the present invention includes, as components other than (a), inorganic particles (b) and solvent (c), a surface treatment agent, a dispersant, a surfactant, a coupling agent represented by a silane system, Additives such as radical initiators that generate oxygen radicals or sulfur radicals by heating can be added. Moreover, it can be used as a photosensitive resin composition by using the hydroxyamide polymer together with, for example, a naphthoquinonediazide compound as a photosensitive agent.
Examples of the surface treatment agent include a silane coupling agent and a chelating agent. Examples of the dispersant include fatty acids such as glycerin, stearic acid, and oleic acid, sodium alkylsulfosuccinate, sodium alkylmetaphosphate, polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene oxide, polypropylene oxide, polyester, polyether, and polyurethane. .

本発明の光学部品用組成物は、上記で得られたヒドロキシアミド重合体(a)と無機粒子(b)と溶剤(c)、必要に応じて添加剤を混合することにより得ることができる。
上記組成物の混合において、無機粒子(b)と溶剤(c)を予め混合して、溶剤中に無機粒子を分散させた分散液を用意すると好ましい。
The composition for optical components of the present invention can be obtained by mixing the hydroxyamide polymer (a) obtained above, the inorganic particles (b), the solvent (c), and additives as required.
In mixing the composition, it is preferable to prepare a dispersion in which inorganic particles (b) and a solvent (c) are mixed in advance and inorganic particles are dispersed in the solvent.

これらの無機粒子を溶剤に均一に分散させる方法としては、例えば、溶剤と、無機粒子と、必要に応じて表面処理剤や分散剤とを混合し、高周波超音波ホモジナイザーや、微小ビーズを用いたビーズミル処理により、無機粒子が均一に分散された分散液を得ることができる。   As a method for uniformly dispersing these inorganic particles in a solvent, for example, a solvent, inorganic particles, and a surface treatment agent or a dispersant as necessary are mixed, and a high-frequency ultrasonic homogenizer or micro beads are used. By the bead mill treatment, a dispersion liquid in which inorganic particles are uniformly dispersed can be obtained.

本発明においては、光学部品用組成物を用いて光学部品を得ることができる。光学部品がフィルム状である場合の製造例としては、例えば、上記で得られたヒドロキシアミド重合体(a)と無機粒子(b)と溶剤(c)を用いて、光学部品用組成物を作製し、この光学部品用組成物を、適当な支持体、例えば、シリコンウエハやセラミック基板等に塗布して、塗膜を形成する。塗布方法としては、スピンナーを用いた回転塗布、スプレーコーターを用いた噴霧塗布、浸漬、印刷、ロールコーティング等が挙げられる。その後、上記で得た塗膜を、例えば、好ましくは窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガス雰囲気中で、40℃以上、425℃以下の温度で加熱して溶剤を除去し、引き続き、300℃以上、425℃以下の温度で、加熱及び/又は300℃以上、425℃以下の温度下で活性エネルギー線を照射して、前記光学部品用組成物中のヒドロキシアミド重合体を、縮合反応させ、ベンゾオキサゾール重合体としてフィルムを形成し、それを用いて光学部品として使用することができる。
前記活性エネルギー線としては、例えば、電子線、紫外線領域から赤外線領域の任意の波長の光線を用いることができる。
In the present invention, an optical component can be obtained using the composition for optical components. As an example of production when the optical component is in the form of a film, for example, a composition for optical component is produced using the hydroxyamide polymer (a), inorganic particles (b) and solvent (c) obtained above. Then, this composition for optical components is applied to an appropriate support such as a silicon wafer or a ceramic substrate to form a coating film. Examples of the coating method include spin coating using a spinner, spray coating using a spray coater, dipping, printing, roll coating, and the like. Thereafter, the coating film obtained above is heated, for example, preferably in an inert gas atmosphere such as nitrogen gas or argon gas at a temperature of 40 ° C. or higher and 425 ° C. or lower to remove the solvent, and subsequently 300 ° C. Above, at a temperature of 425 ° C. or less, by heating and / or irradiating active energy rays at a temperature of 300 ° C. or more and 425 ° C. or less, the hydroxyamide polymer in the optical component composition is subjected to a condensation reaction, A film can be formed as a benzoxazole polymer and used as an optical component.
As the active energy ray, for example, an electron beam, a light beam having an arbitrary wavelength from the ultraviolet region to the infrared region can be used.

このように光学部品用フィルムに用いることができる上記光学部品用組成物は、上記同様に塗布して形成した塗膜を、380℃で250秒間加熱して得られたフィルムが、380nmの波長におけるフィルム中の光の減衰係数が、0以上、0.01以下であることが好ましい。前記減衰係数は、数値が小さいほど、フィルム中での光の吸収が小さいことを意味しており、減衰係数が小さいほど、透明性がよいことから、フィルムの透明性が良好なものとなる。前記減衰係数は前記範囲外でも使用できるが、0.01を越えるとフィルム中で光が吸収されて減衰することを意味し、その使用用途によっては、好ましくない恐れがある。好ましくは0に近いほうがよく、0.008以下、より好ましくは0.005以下とするのが良い。   Thus, the composition for optical components that can be used for the film for optical components is a film obtained by heating a coating film formed by coating in the same manner as described above at 380 ° C. for 250 seconds, at a wavelength of 380 nm. The light attenuation coefficient in the film is preferably 0 or more and 0.01 or less. The attenuation coefficient means that the smaller the numerical value, the smaller the light absorption in the film. The smaller the attenuation coefficient, the better the transparency, and the better the transparency of the film. The attenuation coefficient can be used even outside the above range, but if it exceeds 0.01, it means that light is absorbed and attenuated in the film, which may be unpreferable depending on the intended use. Preferably, it should be close to 0, 0.008 or less, more preferably 0.005 or less.

上記減衰係数は、n&k Technology Inc.製n&kアナライザーや市販の分光エリプソメーターにより、測定することができ、前記分光エリプソメーターとしては、例えば、J.A.Woollam Co. Inc.製分光エリプソメーターにより測定することができる。減衰係数の測定に関しては、380nmでの波長の値を用いる。例えば、シリコン基板上にスピンコートで作製した塗膜を、窒素ガス雰囲気下で380℃で250秒間加熱処理して得られたフィルムを、n&k Technology Inc.社製n&kアナライザー1500を用いて、反射率測定を行い、380nmの波長での減衰係数を得ることができる。   The attenuation coefficient is determined by n & k Technology Inc. The spectroscopic ellipsometer can be measured by an n & k analyzer made by the company or a commercially available spectroscopic ellipsometer. A. Woollam Co. Inc. It can be measured with a spectroscopic ellipsometer. For the measurement of the attenuation coefficient, the value of the wavelength at 380 nm is used. For example, a film obtained by heat-treating a coating film produced by spin coating on a silicon substrate at 380 ° C. for 250 seconds in a nitrogen gas atmosphere is obtained from n & k Technology Inc. Reflectance measurement is performed using an n & k analyzer 1500 manufactured by the company, and an attenuation coefficient at a wavelength of 380 nm can be obtained.

本発明の光学部品用組成物は、特定の条件により形成される塗膜の厚みが500nmとなり、さらに、該組成物の溶液粘度が下記の範囲となるように、ヒドロキシアミド重合体の含有量を調整することが製膜性の上で好ましい。
上記溶液粘度としては、25℃で測定した時、3mPas以上、11mPas以下であることが好ましく、より好ましくは、4mPas以上、10mPas以下、さらに好ましくは、4mPas以上、8mPas以下である。溶液粘度は、前記範囲外でも使用できるが、前記下限値より低いと、ヒドロキシアミド重合体における比較的低分子成分が多く含まれる可能性が高く、アウトガスに代表される耐熱性の低下を生じる恐れがある。また、前記上限値を超えると、下地基板への濡れ性が低下することにより、製膜時のマージンの低下又は膜厚均一性等が低下する恐れがある。
The composition for optical components of the present invention has a hydroxyamide polymer content so that the thickness of the coating film formed under specific conditions is 500 nm and the solution viscosity of the composition is in the following range. It is preferable in terms of film formability to adjust.
The solution viscosity is preferably 3 mPas or more and 11 mPas or less when measured at 25 ° C., more preferably 4 mPas or more and 10 mPas or less, and further preferably 4 mPas or more and 8 mPas or less. Although the solution viscosity can be used outside the above range, if it is lower than the lower limit, there is a high possibility that a relatively low molecular component in the hydroxyamide polymer is contained in a large amount, which may cause a decrease in heat resistance typified by outgas. There is. On the other hand, if the upper limit is exceeded, the wettability to the underlying substrate is lowered, and there is a possibility that the margin during film formation or the film thickness uniformity is lowered.

上記溶液粘度におけるヒドロキシアミド重合体の含有量を調整する評価方法としては、上記で得られるヒドロキシアミド重合体を、標準溶剤としてN−メチル−2−ピロリドンに溶解した組成物とし、該組成物を、23℃/湿度45%での雰囲気下で、支持体上に、スピンコータの回転数を1400rpmで塗膜を形成し、該塗膜を380℃で250秒間加熱した後の塗膜の厚みが500nmになるように、該ヒドロキシアミド重合体の含有量が調整される。   As an evaluation method for adjusting the content of the hydroxyamide polymer in the solution viscosity, a composition obtained by dissolving the hydroxyamide polymer obtained above in N-methyl-2-pyrrolidone as a standard solvent is used. The film thickness after forming the coating film on the support at 1400 rpm under an atmosphere of 23 ° C./humidity of 45% and heating the coating film at 380 ° C. for 250 seconds is 500 nm. Thus, the content of the hydroxyamide polymer is adjusted.

上記溶液粘度は、市販のE型粘度計、B型粘度計により測定することができ、JIS Z 8809により規格制定された粘度計を校正する標準物質として製造された標準液により校正して用いる。例えば、E型粘度計としては、TVE−20L:東機産業(株)製を、標準液としては、東機産業(株)製の粘度計校正用の標準液JS10を例示することができる。   The solution viscosity can be measured with a commercially available E-type viscometer or B-type viscometer, and is used after being calibrated with a standard solution manufactured as a standard substance for calibrating a viscometer standardized by JIS Z 8809. For example, as an E type viscometer, TVE-20L: manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., and as a standard solution, a standard solution JS10 for viscometer calibration manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. can be exemplified.

また、上記光学部品用組成物は、プラズマCVD法により製膜されたSiOx膜の表面に、上記同様に塗布して塗膜を形成する際の光学部品用組成物の該SiOx膜に対する接触角が0°以上、10°以下であることが好ましく、前記範囲においては0°に近いほうがよく、好ましくは8°以下、より好ましくは5°以下である。前記接触角は、前記範囲外でも使用できるが、前記上限値を越えると、基板表面に対して、濡れ性が悪く、製膜性を低下させるため、膜特性のバラツキが大きくなったり、製膜のマージンが狭まる等の問題が生じる恐れがある。   Moreover, the composition for optical components has a contact angle with respect to the SiOx film of the composition for optical components when a coating film is formed by coating the surface of the SiOx film formed by the plasma CVD method in the same manner as described above. It is preferably 0 ° or more and 10 ° or less. In the above range, it is better to be close to 0 °, preferably 8 ° or less, more preferably 5 ° or less. The contact angle can be used outside the above range, but if the upper limit is exceeded, the wettability with the substrate surface is poor and the film-forming property is deteriorated. There is a possibility that a problem such as narrowing of the margin occurs.

上記接触角は、一般的なθ/2法により求めることができる。具体的には、基板上に、光素子用組成物の液滴を落とし、液滴の左右端点を結んだ線に対して、左右端点と頂点を線で結んだ角度を2倍して接触角とする。測定装置として、例えば、協和界面科学(株)製CA−X型の接触角測定装置を用いて、測定することができる。   The contact angle can be obtained by a general θ / 2 method. Specifically, the droplet of the composition for optical elements is dropped on the substrate, and the contact angle is obtained by doubling the angle connecting the left and right end points and the vertex with the line connecting the left and right end points of the droplet. And As a measuring apparatus, it can measure using the Kyowa Interface Science Co., Ltd. product CA-X type contact angle measuring apparatus, for example.

本発明の光学部品は、上記光学部品用組成物を用いて得られるものである。例えば、光学レンズ、光学フィルター、光スイッチ、光導波路、光ファイバー、集光レンズ等が挙げられる。   The optical component of the present invention is obtained using the composition for optical components. Examples thereof include an optical lens, an optical filter, an optical switch, an optical waveguide, an optical fiber, and a condensing lens.

本発明の光学部品の1つである光導波路の構造例として、特に限定はされないが、特開平08−139300号公報に記載されている。
例えば、図1に示すように、半導体基板(1)上に、クラッド層としてプラズマCVD法によりSiOx膜に代表される無機膜(2)を形成し、フォトレジスト法により、コア部として凹状に加工する。その後、上記で凹状を形成した無機膜の面に、本発明の光学部品用組成物を用いて、これを塗布して塗膜を形成する。塗布の方法としては、スピンナーによる回転塗布、スプレーコーターによる噴霧塗布、浸漬、印刷、ロールコーティング等が挙げられる。その後、上記で得た塗膜を、所定温度でプリベーク後、加熱及び/又は活性エネルギー線を照射して、光導波路部(3)を形成する。
次に、必要によりエッチング等をして、不必要な部分を除去する。この際に、レジスト等を用いてパターニングをしても構わない。その後、上部に、プラズマCVD法によりSiOx膜に代表される無機膜(4)を形成して、光導波路を作製できる。
An example of the structure of an optical waveguide that is one of the optical components of the present invention is not particularly limited, but is described in JP-A-08-139300.
For example, as shown in FIG. 1, an inorganic film (2) typified by a SiOx film is formed as a cladding layer on a semiconductor substrate (1) by a plasma CVD method, and processed into a concave shape as a core by a photoresist method. To do. Then, using the composition for optical components of the present invention, a coating film is formed on the surface of the inorganic film having the concave shape as described above. Examples of the coating method include spin coating with a spinner, spray coating with a spray coater, dipping, printing, roll coating, and the like. Thereafter, the coating film obtained above is pre-baked at a predetermined temperature, and then irradiated with heating and / or active energy rays to form the optical waveguide portion (3).
Next, unnecessary portions are removed by etching or the like as necessary. At this time, patterning may be performed using a resist or the like. Thereafter, an inorganic waveguide (4) typified by a SiOx film is formed on the upper portion by plasma CVD to produce an optical waveguide.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって何ら限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited at all by these examples.

製造例1
5−エチニルイソフタル酸ジクロライドの製造
(1)5−トリフルオロメタンスルホニロキシイソフタル酸ジメチルの合成
温度計、ジムロー卜冷却管、塩化カルシウム管、撹拌機を備えた4つ口の5Lフラスコに、5−ヒドロキシイソフタル酸ジメチル190.0g(0.904mol)、脱水トルエン3L、脱水ピリジン214.7g(2.718mol)を仕込み、撹拌しながら、−30℃まで冷却した。ここに、無水トリフルオロメタンスルホン酸510.2g(1.808mol)を、温度が−25℃以上に上がらないように注意しながら、ゆっくりと滴下した。この場合、滴下が終了するまでに1時間を要した。滴下終了後、反応温度を0℃に昇温し1時間、さらに室温に昇温し5時間反応させた。得られた反応混合物を4Lの氷水に注ぎ、水層と有機層を分離した。更に水層を500mLのトルエンで2回抽出し、これを先の有機層とあわせた。この有機層を水3Lで2回洗浄し、無水硫酸マグネシウム100gで乾燥、ろ過により無水硫酸マグネシウムを除去し、ロータリーエバポレーターでトルエンを留去、減圧乾燥することによって、淡黄色固体の5−トリフルオロメタンスルホニロキシイソフタル酸ジメチルを294.0g得た(収率95%)。この粗生成物をヘキサンで、再結晶することによって、白色針状晶を得、これを次の反応に用いた。
Production Example 1
Production of 5-ethynylisophthalic acid dichloride (1) Synthesis of dimethyl 5-trifluoromethanesulfonyloxyisophthalate To a four-necked 5 L flask equipped with a thermometer, a Dimro condenser, a calcium chloride tube, and a stirrer, 190.0 g (0.904 mol) of dimethyl hydroxyisophthalate, 3 L of dehydrated toluene and 214.7 g (2.718 mol) of dehydrated pyridine were charged and cooled to −30 ° C. with stirring. Here, 50.2 g (1.808 mol) of trifluoromethanesulfonic anhydride was slowly added dropwise while taking care not to increase the temperature to -25 ° C or higher. In this case, it took 1 hour to complete the dropping. After completion of the dropwise addition, the reaction temperature was raised to 0 ° C. for 1 hour, and further raised to room temperature and reacted for 5 hours. The obtained reaction mixture was poured into 4 L of ice water, and the aqueous layer and the organic layer were separated. Further, the aqueous layer was extracted twice with 500 mL of toluene, and this was combined with the previous organic layer. This organic layer was washed twice with 3 L of water, dried over 100 g of anhydrous magnesium sulfate, filtered to remove anhydrous magnesium sulfate, distilled off toluene with a rotary evaporator, and dried under reduced pressure to give a pale yellow solid of 5-trifluoromethane. 294.0 g of dimethyl sulfonoxyisophthalate was obtained (yield 95%). The crude product was recrystallized from hexane to obtain white needle crystals, which were used for the next reaction.

(2)4−[3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニル]−2−メチル−3−ブチン−1−オールの合成
温度計、ジムロート冷却管、窒素導入管、撹拌機を備えた4つ口の1Lフラスコに、上記(1)で得られた5−トリフルオロメタンスルホニロキシイソフタル酸ジメチル125g(0.365mol)、トリフェニルホスフィン1.1g(0.00419mol)、ヨウ化銅0.275g(0.00144mol)、3−メチル−1−ブチン−3−オール33.73g(0.401mol)を仕込み、窒素を流した。脱水トリエチルアミン375mL及び脱水ピリジン200mLを加え、撹拌溶解した。1時間窒素を流し続けた後、ジクロロビス(トリフェニルホスフィン)パラジウム0.3g(0.000427mol)を素早く添加し、オイルバスで1時間加熱還流した。その後、トリエチルアミン及びピリジンを減圧留去し、粘稠な褐色溶液を得た。これを水500mLに注ぎ析出した固形物をろ取し、さらに水500mL、5モル/リットル濃度塩酸500mL、水500mLで各2回洗浄した。この固形物を、50℃で減圧乾燥することにより、98.8gの4−[3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニル]−2−メチル−3−ブチン−1−オールを得た(収率98%)。
(2) Synthesis of 4- [3,5-bis (methoxycarbonyl) phenyl] -2-methyl-3-butyn-1-ol Four-neck equipped with thermometer, Dimroth condenser, nitrogen inlet, and stirrer Into a 1 L flask, 125 g (0.365 mol) of dimethyl 5-trifluoromethanesulfonyloxyisophthalate obtained in the above (1), 1.1 g (0.000041 mol) of triphenylphosphine, 0.275 g of copper iodide (0 .00144 mol) and 33.73 g (0.401 mol) of 3-methyl-1-butyn-3-ol were charged and nitrogen was allowed to flow. 375 mL of dehydrated triethylamine and 200 mL of dehydrated pyridine were added and dissolved by stirring. After continuing to flow nitrogen for 1 hour, 0.3 g (0.00427 mol) of dichlorobis (triphenylphosphine) palladium was quickly added, and the mixture was heated to reflux for 1 hour in an oil bath. Thereafter, triethylamine and pyridine were distilled off under reduced pressure to obtain a viscous brown solution. This was poured into 500 mL of water, and the precipitated solid was collected by filtration, and further washed twice with 500 mL of water, 500 mL of 5 mol / L hydrochloric acid, and 500 mL of water. The solid was dried under reduced pressure at 50 ° C. to obtain 98.8 g of 4- [3,5-bis (methoxycarbonyl) phenyl] -2-methyl-3-butyn-1-ol (yield) 98%).

(3)5−エチニルイソフタル酸二カリウム塩の合成
温度計、ジムロート冷却管、撹拌機を備えた5Lの4つ口フラスコに、n−ブタノール3L、水酸化カリウム(85%)182g(2.763mol)を仕込み、加熱還流して溶解した。これに、上記(2)で合成した4−[3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニル]−2−メチル−3−ブチン−1−オール95g(0.344mol)を加えて、30分間加熱還流した。これを氷浴にて冷却し、析出した結晶をろ取した。この結晶をエタノール1Lで2回洗浄し、60℃で減圧乾燥することによって、88.87gの5−エチニルイソフタル酸二カリウム塩を得た(収率97%)。
(3) Synthesis of 5-Ethynylisophthalic Acid Dipotassium Salt Into a 5 L four-necked flask equipped with a thermometer, a Dimroth condenser, and a stirrer, 3 L of n-butanol and 182 g of potassium hydroxide (85%) (2.763 mol) ) And heated to reflux to dissolve. To this, 95 g (0.344 mol) of 4- [3,5-bis (methoxycarbonyl) phenyl] -2-methyl-3-butyn-1-ol synthesized in the above (2) was added and heated under reflux for 30 minutes. did. This was cooled in an ice bath, and the precipitated crystals were collected by filtration. The crystals were washed twice with 1 L of ethanol and dried under reduced pressure at 60 ° C. to obtain 88.87 g of dipotassium 5-ethynylisophthalate (yield 97%).

(4)5−エチニルイソフタル酸ジクロライドの合成
温度計、ジムロート冷却管、撹拌機を備えた2Lの4つ口フラスコに、上記(3)で得られた5−エチニルイソフタル酸二カリウム塩80g(0.3mol)、クロロホルム400Lを仕込み、0℃に冷却した。これに塩化チオニル391g(4.5mol)を、5℃以下で1時間かけて滴下した。その後、ジメチルホルムアミド4mL、ヒドロキノン4gを加え、45〜50℃で3時間撹拌した。冷却後ろ過して結晶を除き、結晶をクロロホルム150mLで洗浄した。ろ液と洗浄液をあわせて、40℃以下で減圧濃縮し、得られた残渣を、ジエチルエーテル200mLで2回抽出した後に、ろ過した。抽出液からジエチルエーテルを減圧留去することで、半固体の粗生成物を得た。これを、乾燥したn−へキサンで洗浄し、続いてジエチルエーテルで再結晶することで、13gの5−エチニルイソフタル酸ジクロライドを得た(収率19%)。
(4) Synthesis of 5-ethynylisophthalic acid dichloride Into a 2 L 4-necked flask equipped with a thermometer, a Dimroth condenser, and a stirrer, 80 g of dipotassium 5-ethynylisophthalic acid obtained in (3) above (0 .3 mol) and 400 L of chloroform were charged and cooled to 0 ° C. To this, 391 g (4.5 mol) of thionyl chloride was added dropwise at 5 ° C. or less over 1 hour. Thereafter, 4 mL of dimethylformamide and 4 g of hydroquinone were added, and the mixture was stirred at 45 to 50 ° C. for 3 hours. After cooling, the crystals were removed by filtration, and the crystals were washed with 150 mL of chloroform. The filtrate and the washing solution were combined and concentrated under reduced pressure at 40 ° C. or lower, and the resulting residue was extracted twice with 200 mL of diethyl ether and then filtered. Diethyl ether was distilled off from the extract under reduced pressure to obtain a semisolid crude product. This was washed with dry n-hexane and subsequently recrystallized with diethyl ether to obtain 13 g of 5-ethynylisophthalic acid dichloride (yield 19%).

製造例2
5−フェニルエチニルイソフタル酸ジクロライドの製造
(1)5−ブロモイソフタル酸の合成
温度計、撹拌機、滴下ロートを備えた4つ口の1Lフラスコに、5−アミノイソフタル酸99.18g(0.55mol)と48重量%臭化水素酸165mL、蒸留水150mLを入れ、撹拌した。フラスコを5℃以下まで冷却し、ここへ、亜硝酸ナトリウム39.4g(0.57mol)を蒸留水525mLに溶解したものを、1時間かけて滴下し、ジアゾニウム塩水溶液を得た。温度計、ジムロート冷却管、滴下ロート、撹拌機を備えた4つ口の3Lフラスコに、臭化第一銅94.25g(0.66mol)と48重量%臭化水素酸45mLを入れ、撹拌した。フラスコを0℃以下に冷却し、上記のジアゾニウム塩水溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後に室温で30分間撹拌し、続けて30分間還流させた。放冷後、析出物をろ別し、蒸留水2Lで2回洗浄し、得られた白色固体を50℃で2日間減圧乾燥し、5−ブロモイソフタル酸の粗生成物117gを得た。精製せずに次の反応へ用いた。
Production Example 2
Preparation of 5-phenylethynylisophthalic acid dichloride (1) Synthesis of 5-bromoisophthalic acid 99.18 g (0.55 mol) of 5-aminoisophthalic acid was added to a 4-neck 1 L flask equipped with a thermometer, stirrer and dropping funnel. ) And 165 mL of 48 wt% hydrobromic acid and 150 mL of distilled water were added and stirred. The flask was cooled to 5 ° C. or less, and 39.4 g (0.57 mol) of sodium nitrite dissolved in 525 mL of distilled water was added dropwise over 1 hour to obtain a diazonium salt aqueous solution. 94.25 g (0.66 mol) of cuprous bromide and 45 mL of 48 wt% hydrobromic acid were placed in a 4 L 3 L flask equipped with a thermometer, a Dimroth condenser, a dropping funnel and a stirrer and stirred. . The flask was cooled to 0 ° C. or lower, and the diazonium salt aqueous solution was added dropwise over 2 hours. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes and then refluxed for 30 minutes. After allowing to cool, the precipitate was collected by filtration, washed twice with 2 L of distilled water, and the obtained white solid was dried under reduced pressure at 50 ° C. for 2 days to obtain 117 g of a crude product of 5-bromoisophthalic acid. Used in the next reaction without purification.

(2)5−ブロモイソフタル酸ジメチルの合成
温度計、撹拌機、ジムロート冷却管を備えた500mLフラスコに、上記(1)で得られた5−ブロモイソフタル酸110g、メタノール500mL、濃硫酸10gを入れ、6時間還流させた。放冷後、蒸留水1Lに滴下し、これを、5重量%炭酸水素ナトリウム水溶液で中和した。析出物をろ別し、蒸留水2Lで2回洗浄した後、得られた白色固体を50℃で2日間減圧乾燥し、5−ブロモイソフタル酸ジメチル109g(0.4mol)を得た(収率89%)。
(2) Synthesis of dimethyl 5-bromoisophthalate Into a 500 mL flask equipped with a thermometer, a stirrer, and a Dimroth condenser, 110 g of 5-bromoisophthalic acid obtained in (1) above, 500 mL of methanol, and 10 g of concentrated sulfuric acid were placed. And refluxed for 6 hours. After standing to cool, it was added dropwise to 1 L of distilled water and neutralized with a 5 wt% aqueous sodium hydrogen carbonate solution. The precipitate was separated by filtration and washed twice with 2 L of distilled water, and then the resulting white solid was dried under reduced pressure at 50 ° C. for 2 days to obtain 109 g (0.4 mol) of dimethyl 5-bromoisophthalate (yield). 89%).

(3)5−フェニルエチニルイソフタル酸ジクロライドの合成
製造例1(2)において、5−トリフルオロメタンスルホニロキシイソフタル酸ジメチル125g(0.365mol)を、上記(2)で得られた5−ブロモイソフタル酸ジメチル99.7g(0.365mol)とする以外は製造例1(2)と同様にして、80.8gの1−[3,5−ビス(メトキシカルボニル)フェニル]−2−フェニルエチンを得た(収率75%)。
以下、製造例1(3)及び(4)と同様にして、5−(2−フェニルエチニル)イソフタル酸二カリウム塩を得たのち、5−(2−フェニルエチニル)イソフタル酸ジクロライドを得た。
(3) Synthesis of 5-phenylethynylisophthalic acid dichloride In Production Example 1 (2), 125 g (0.365 mol) of dimethyl 5-trifluoromethanesulfonyloxyisophthalate was converted to 5-bromoisophthalic acid obtained in (2) above. 80.8 g of 1- [3,5-bis (methoxycarbonyl) phenyl] -2-phenylethyne was obtained in the same manner as in Production Example 1 (2) except that 99.7 g (0.365 mol) of dimethyl acid was used. (Yield 75%).
Thereafter, in the same manner as in Production Examples 1 (3) and (4), 5- (2-phenylethynyl) isophthalic acid dipotassium salt was obtained, and then 5- (2-phenylethynyl) isophthalic acid dichloride was obtained.

製造例3
3,3’−チオビス安息香酸ジクロライドの合成
(1)3,3’−チオビス安息香酸の合成
温度計、ジムロート冷却管、撹拌機を備えた2Lの4つ口フラスコに、3−ヨード安息香酸49.6g(0.200mol)、炭酸カリウム13.8g(0.100mol)及びN,N−ジメチルホルムアミド200mLを入れ、窒素ガスフロー下で、100℃で溶解させた後、硫化ナトリウム8.6g(0.110mol)及びヨウ化銅3.8g(0.020mol)を加え、12時間還流した。反応液に水1L及び活性炭20gを加え、100℃で1時間加熱した。ろ過により活性炭を除き、反応液を6mol/Lの塩酸100mLを滴下して中和し、沈殿物を集め、蒸留水1Lで2回洗浄した。得られた沈殿物を60℃で12時間真空乾燥し、11.52gの3,3’−チオビス安息香酸を得た。(収率42%)
Production Example 3
Synthesis of 3,3′-thiobisbenzoic acid dichloride (1) Synthesis of 3,3′-thiobisbenzoic acid Into a 2 L four-necked flask equipped with a thermometer, a Dimroth condenser, and a stirrer, 3-iodobenzoic acid 49 .6 g (0.200 mol), potassium carbonate 13.8 g (0.100 mol) and N, N-dimethylformamide 200 mL were added and dissolved at 100 ° C. under a nitrogen gas flow, and then sodium sulfide 8.6 g (0 .110 mol) and 3.8 g (0.020 mol) of copper iodide were added and refluxed for 12 hours. 1 L of water and 20 g of activated carbon were added to the reaction solution and heated at 100 ° C. for 1 hour. The activated carbon was removed by filtration, and the reaction solution was neutralized by adding dropwise 100 mL of 6 mol / L hydrochloric acid, and the precipitate was collected and washed twice with 1 L of distilled water. The obtained precipitate was vacuum-dried at 60 ° C. for 12 hours to obtain 11.52 g of 3,3′-thiobisbenzoic acid. (Yield 42%)

(2)3,3’−チオビス安息香酸ジクロライドの合成
温度計、ジムロート冷却管、撹拌機を備えた300mLの4つ口フラスコに、上記(1)で得られた3,3’−チオビス安息香酸10.97g(0.04mol)、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド0.08g(0.0004mol)及び塩化チオニル50g(0.42mol)を加え、3時間還流した。100℃で塩化チオニルを留去し、残留物を60℃で12時間真空乾燥し、11.8gの3,3’−チオビス安息香酸ジクロライドを得た。(収率95%)
(2) Synthesis of 3,3′-thiobisbenzoic acid dichloride 3,3′-thiobisbenzoic acid obtained in (1) above was added to a 300 mL four-necked flask equipped with a thermometer, a Dimroth condenser, and a stirrer. 10.97 g (0.04 mol), 0.08 g (0.0004 mol) of benzyltriethylammonium chloride and 50 g (0.42 mol) of thionyl chloride were added and refluxed for 3 hours. Thionyl chloride was distilled off at 100 ° C., and the residue was vacuum-dried at 60 ° C. for 12 hours to obtain 11.8 g of 3,3′-thiobisbenzoic acid dichloride. (Yield 95%)

製造例4
酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液の調製
酸化チタン粒子(堺化学工業(株)製SSP−20、比表面積170m2/g)20質量部、メチルエチルケトン78質量部及びポリプロピレングリコール2質量部を混合し、微粉砕・分散機(寿工業(株)製ウルトラアペックスミルUAM−015)を用いて、ビーズミル分散処理を行い、酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液を得た。
Production Example 4
Preparation of titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion Titanium oxide particles (SSP-20, Sakai Chemical Industry Co., Ltd., specific surface area 170 m 2 / g) 20 parts by mass, methyl ethyl ketone 78 parts by mass and polypropylene glycol 2 parts by mass are mixed and pulverized. -Bead mill dispersion treatment was performed using a disperser (Ultra Apex Mill UAM-015 manufactured by Kotobuki Industries Co., Ltd.) to obtain a titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion.

製造例5
酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液の調製
酸化チタン粒子(石原産業(株)製TTO−55(B)、比表面積35m2/g)20質量部、メチルエチルケトン78質量部及びポリプロピレングリコール2質量部を混合し、微粉砕・分散機(寿工業(株)製ウルトラアペックスミルUAM−015)を用いて、ビーズミル分散処理を行い、酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液を得た。
Production Example 5
Preparation of titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion Titanium oxide particles (TTO-55 (B) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., specific surface area 35 m 2 / g) 20 parts by mass, methyl ethyl ketone 78 parts by mass and polypropylene glycol 2 parts by mass were mixed, Using a fine pulverizer / disperser (Ultra Apex Mill UAM-015 manufactured by Kotobuki Industries Co., Ltd.), bead mill dispersion treatment was performed to obtain a titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion.

製造例6
酸化ジルコニウム粒子メチルエチルケトン分散液の調製
酸化ジルコニウム粒子(日本稀元素化学工業(株)製UEP−100、比表面積90m2/g)20質量部、メチルエチルケトン78質量部及びポリプロピレングリコール2質量部を混合し、微粉砕・分散機(寿工業(株)製ウルトラアペックスミルUAM−015)を用いて、ビーズミル分散処理を行い、酸化ジルコニウム粒子メチルエチルケトン分散液を得た。
Production Example 6
Preparation of Zirconium Oxide Particles Methyl Ethyl Ketone Dispersion Solution Zirconium oxide particles (UEP-100 manufactured by Nippon Rare Element Chemical Industry Co., Ltd., specific surface area 90 m 2 / g) 20 parts by mass, methyl ethyl ketone 78 parts by mass and polypropylene glycol 2 parts by mass Using a fine grinding / dispersing machine (Ultra Apex Mill UAM-015 manufactured by Kotobuki Industries Co., Ltd.), bead mill dispersion treatment was performed to obtain a zirconium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion.

製造例7
製造例3に用いた酸化チタン粒子のかわりに、酸化チタン粒子(昭和電工(株)製スーパータイタニアF−10、比表面積9m2/g)を用いた以外は、製造例3と同様にして、酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液を得た。
Production Example 7
Instead of the titanium oxide particles used in Production Example 3, titanium oxide particles (Super Titania F-10 manufactured by Showa Denko KK, specific surface area 9 m 2 / g) were used in the same manner as in Production Example 3, A titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion was obtained.

製造例8
製造例3に用いた酸化チタン粒子のかわりに、酸化チタン粒子(堺化学工業(株)製SSP−25、比表面積270m2/g)を用いた以外は、製造例3と同様にして、酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液を得た。
Production Example 8
In the same manner as in Production Example 3, except that titanium oxide particles (SSP-25 manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd., specific surface area 270 m 2 / g) were used instead of the titanium oxide particles used in Production Example 3, oxidation was performed. A titanium particle methyl ethyl ketone dispersion was obtained.

実施例1
[ヒドロキシアミド重合体の合成]
窒素ガスフロー下で、9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン32.3g(0.08mol)を、乾燥したN−メチル−2−ピロリドン400gに溶解し、0〜10℃において4,4’−オキシビス安息香酸クロライド29.5g(0.1mol)を少量ずつ添加した。0〜10℃で3時間攪拌後、室温まで戻し、室温で5時間撹拌した。その後、反応液を50%メタノール水溶液4リットルに小さな液滴で滴下し、沈殿物を集め、さらに、50%メタノール水溶液4リットル中で3回繰り返した。その後、沈殿物を乾燥することにより、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、下記の方法により、重量平均分子量(Mw)及び溶液粘度を評価した。
Example 1
[Synthesis of hydroxyamide polymer]
Under a nitrogen gas flow, 32.3 g (0.08 mol) of 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene was dissolved in 400 g of dried N-methyl-2-pyrrolidone, and the temperature was changed to 0 to 10 ° C. 4,4'-oxybisbenzoic acid chloride 29.5 g (0.1 mol) was added in small portions. After stirring at 0 to 10 ° C. for 3 hours, the mixture was returned to room temperature and stirred at room temperature for 5 hours. Thereafter, the reaction solution was dropped in 4 liters of 50% aqueous methanol solution in small droplets, the precipitate was collected, and further repeated 3 times in 4 liters of 50% aqueous methanol solution. Thereafter, the precipitate was dried to obtain a hydroxyamide polymer. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated by the following methods.

(1)標準ポリスチレン換算重量平均分子量
装置として、東ソー株式会社製高速液体クロマトグラフSC−8020システムに、TSKgelGMH−HRH高速SEC用カラム、LiBr0.5%入りN−メチル−2−ピロリドン移動相、UV(λ=270nm)検出器を用いて測定し、標準ポリスチレン(東ソー製PS−オリゴマーキット)を用いて換算して重量平均分子量を求めた。
(1) Weight average molecular weight in terms of standard polystyrene As a high-performance liquid chromatograph SC-8020 system manufactured by Tosoh Corporation, a TSKgelGMH-HRH high-speed SEC column, LiBr 0.5% N-methyl-2-pyrrolidone mobile phase, UV (Λ = 270 nm) Measurement was performed using a detector, and the weight average molecular weight was determined by conversion using standard polystyrene (PS-oligomer kit manufactured by Tosoh Corporation).

(2)溶液粘度
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例3で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gをガラス製サンプル瓶中で溶解して混合した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。これを、23℃/湿度45%の雰囲気中で、スピンコータ(回転数1400rpm)により、支持体上に塗膜を形成し、さらに該塗膜を380℃/250秒加熱した後の塗膜の厚みが500nmであることを確認した。次いで、本測定に用いた前記組成物を、ふた付きのガラス製サンプル容器に精秤し、溶解後に1.1mlを測り取りサンプルとした。粘度計は、E型粘度計TVE−20L:東機産業(株)製を用い、25.0℃において、コーンロータ1°34’×R24を用い、コーンロータ回転数:50rpmで測定した。測定はそれぞれ3回行い、平均値を算出した。
(2) Solution viscosity After dissolving 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 3, and 9.0 g of cyclohexanone in a glass sample bottle, the pore size was 0. The mixture was filtered through a 5 μm Teflon (registered trademark) filter to obtain a composition. The coating film was formed on a support with a spin coater (rotation speed 1400 rpm) in an atmosphere of 23 ° C./humidity 45%, and the coating film was further heated at 380 ° C./250 seconds. Was confirmed to be 500 nm. Next, the composition used in this measurement was precisely weighed in a glass sample container with a lid, and 1.1 ml was measured after dissolution to prepare a sample. The viscometer was an E-type viscometer TVE-20L: manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., measured at 25.0 ° C. using a cone rotor 1 ° 34 ′ × R24, and a cone rotor rotation speed: 50 rpm. Each measurement was performed three times, and the average value was calculated.

[組成物及びフィルムの作製]
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。該組成物を用いて、シリコン基板上に、スピンコートにより、塗膜を形成し、該塗膜をN2ガス雰囲気下で、200℃/90秒間加熱して乾燥し、さらに380℃/250秒間熱処理をし、フィルムを得た。
上記で得た組成物及びフィルムのそれぞれを用いて、下記に示した測定法により、接触角、ガラス転移温度、密着性、膜質均一性について、評価を行った。各特性を第1表に示す。
[Production of composition and film]
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Using the composition, a coating film is formed on a silicon substrate by spin coating, and the coating film is dried by heating at 200 ° C./90 seconds in an N 2 gas atmosphere, and further, 380 ° C./250 seconds. Heat treatment was performed to obtain a film.
Using each of the composition and film obtained above, the contact angle, glass transition temperature, adhesion, and film quality uniformity were evaluated by the measurement methods shown below. Each characteristic is shown in Table 1.

(3)接触角
上記で得た組成物を、ふた付きのガラス製サンプル容器に投入し、溶解後、協和界面科学(株)製CA−X型の接触角測定装置を用いて、マイクロシリンジにより1μlを測り取り、SiOx膜付き基盤へ滴下後5秒後の接触角を、θ/2法により測定した。測定は、それぞれ3回行い平均値を算出した。
(3) Contact angle The composition obtained above is put into a glass sample container with a lid, and after dissolution, using a CA-X contact angle measuring device manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. 1 μl was measured, and the contact angle 5 seconds after dropping onto the substrate with the SiOx film was measured by the θ / 2 method. Each measurement was performed three times, and the average value was calculated.

(4)ガラス転移温度
上記で得たフィルムを削り落とした粉末について、MDSC(温度サイクルモード示差操作熱量計:ティー・エイ・インスツルメント社製2910MDSC)により、N2ガスを30mL/分の流量で流しながら、昇温速度2℃/分、温度振幅±2℃/分の条件で昇温しながら、40℃から420℃までの温度範囲で測定を行い、リバース曲線の変移点から算出を行った。
(4) Glass transition temperature About the powder obtained by scraping off the film obtained above, the flow rate of N 2 gas was 30 mL / min by MDSC (temperature cycle mode differential operation calorimeter: 2910 MDSC manufactured by TA Instruments). Measured in the temperature range from 40 ° C to 420 ° C while raising the temperature at a rate of temperature rise of 2 ° C / min and a temperature amplitude of ± 2 ° C / min, and calculating from the transition point of the reverse curve It was.

(5)密着性
上記フィルム作製工程において、シリコン基板として、SiOx膜付きシリコン基板を用いた以外は同様にして、フィルムを作製し、さらに上層にSiOxを100nm製膜し、N2ガス雰囲気下で400℃/3時間アニールしたフィルムについて、JIS K−5400に従い、テープ接着テストを行い、100マス(分母)中の剥れ個数(分子)により評価を行った。
(5) Adhesion The film manufacturing process, as the silicon substrate, except for using SiOx film-coated silicon substrate in the same manner, to produce a film, further SiOx was 100nm film forming the upper layer, N 2 gas atmosphere at The film annealed at 400 ° C. for 3 hours was subjected to a tape adhesion test according to JIS K-5400, and evaluated by the number of peeled off (numerator) in 100 squares (denominator).

(6)膜質均一性
上記フィルム作製工程において、シリコン基板として、200mm直径のシリコンウエハに、上記で得た組成物を1400rpmでスピンコートして作製した塗膜を、N2ガス雰囲気下で380℃/250秒熱処理し、ウエハー面内をXY軸それぞれ10mm間隔に19ポイント(合計37ポイント)をn&k Technology Inc.社製n&kアナライザー1500を用いて測定し、屈折率は平均値、膜厚は3シグマからバラツキ度を計算した。
(6) Uniformity of film quality In the film preparation step, a coating film prepared by spin-coating the composition obtained above on a silicon wafer having a diameter of 200 mm at 1400 rpm as a silicon substrate at 380 ° C. in an N 2 gas atmosphere. Heat treatment for 250 seconds, and 19 points (total 37 points) at 10 mm intervals on the XY axis in the wafer surface are both n & k Technology Inc. It measured using the company made n & k analyzer 1500, the refractive index calculated the average value, and the film thickness calculated the variation degree from 3 sigma.

[光学部品の評価]
光学部品は、図1に示すような、シリコン基板(半導体基板(1))上に凹部を有するSiOx膜(無機膜(2))を形成した基板を用意し、前記凹部に塗布膜を形成して得られるが、このような光学部品としての評価としては、上記で得られた塗布膜を評価することで、簡素化して行った。
上記で得た組成物を用いて、上記シリコン基板上に、凹部を埋設するように、スピンコートにより、塗膜を形成し、該塗膜をN2ガス雰囲気下で、200℃/90秒間加熱して乾燥し、さらに380℃/250秒間熱処理をし、フィルムを得た。
上記で得たフィルムを用いて、下記に示した測定法により、屈折率、減衰係数について、評価を行った。各特性を第二表に示す。
[Evaluation of optical components]
As the optical component, a substrate having a SiOx film (inorganic film (2)) having a recess formed on a silicon substrate (semiconductor substrate (1)) as shown in FIG. 1 is prepared, and a coating film is formed in the recess. However, the evaluation as the optical component was simplified by evaluating the coating film obtained above.
Using the composition obtained above, a coating film is formed by spin coating so as to embed a recess on the silicon substrate, and the coating film is heated at 200 ° C. for 90 seconds in an N 2 gas atmosphere. The film was dried and further heat-treated at 380 ° C./250 seconds to obtain a film.
Using the film obtained above, the refractive index and the attenuation coefficient were evaluated by the measurement methods shown below. Each characteristic is shown in Table 2.

(9)屈折率及び減衰係数
上記で得たフィルムを用いて、n&k Technology Inc.社製n&kアナライザー1500を用いて反射率測定を行い、190nm〜1000nmの波長域での反射率をカーブフィッティングして、算出した633nmの屈折率と380nmの減衰係数を用いた。
(9) Refractive index and attenuation coefficient Using the film obtained above, n & k Technology Inc. The reflectance was measured using an n & k analyzer 1500 manufactured by the company, the reflectance in the wavelength range of 190 nm to 1000 nm was curve fitted, and the calculated refractive index of 633 nm and attenuation coefficient of 380 nm were used.

実施例2
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、4,4’−オキシビス安息香酸クロライド29.5g(0.1mol)の代わりに、製造例3で得た3,3’−チオビス安息香酸ジクロライド31.1g(0.1mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Example 2
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, 3,3′-thiobisbenzoic acid dichloride obtained in Production Example 3 instead of 29.5 g (0.1 mol) of 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride 31. A hydroxyamide polymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 1 g (0.1 mol) was used. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

実施例3
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、4,4’−オキシビス安息香酸クロライド29.5g(0.1mol)の代わりに、1,3−アダマンタンジカルボン酸ジクロライド26.1g(0.1mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Example 3
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, 26.1 g (0.1 mol) of 1,3-adamantane dicarboxylic acid dichloride was used instead of 29.5 g (0.1 mol) of 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride. A hydroxyamide polymer was obtained in the same manner as Example 1 except that it was used. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

実施例4
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、4,4’−オキシビス安息香酸クロライド29.5g(0.1mol)の代わりに、9,9−ビス(4−カルボキシフェニル)フルオレンジクロライド44.3g(0.1mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Example 4
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, instead of 29.5 g (0.1 mol) of 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride, 44.3 g of 9,9-bis (4-carboxyphenyl) fluorine chloride ( A hydroxyamide polymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.1 mol) was used. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

実施例5
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、4,4’−オキシビス安息香酸クロライド29.5g(0.1mol)の代わりに、製造例1で得た5−エチニルイソフタル酸ジクロライド11.4g(0.05mol)と4,4’−オキシビス安息香酸クロライド14.8g(0.05mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Example 5
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, 11.4 g (0 of 5-ethynylisophthalic acid dichloride obtained in Production Example 1 was used instead of 29.5 g (0.1 mol) of 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride. 0.05 mol) and 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride 14.8 g (0.05 mol) were used in the same manner as in Example 1 to obtain a hydroxyamide polymer. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

実施例6
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、4,4’−オキシビス安息香酸クロライド29.5g(0.1mol)の代わりに、製造例2で得た5−フェニルエチニルイソフタル酸ジクロライド15.2g(0.05mol)と4,4’−オキシビス安息香酸クロライド14.8g(0.05mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Example 6
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, in place of 29.5 g (0.1 mol) of 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride, 15.2 g of 5-phenylethynylisophthalic acid dichloride obtained in Production Example 2 ( A hydroxyamide polymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.05 mol) and 14.8 g (0.05 mol) of 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride were used. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

実施例7
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン32.3g(0.08mol)の代わりに、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル18.6g(0.08mol)を用い、4,4’−オキシビス安息香酸クロライド29.5g(0.1mol)の代わりに、製造例1で得た5−エチニルイソフタル酸ジクロライド11.4g(0.05mol)と4,4’−オキシビス安息香酸クロライド14.8g(0.05mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Example 7
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, 3,3′-diamino-4,4 instead of 32.3 g (0.08 mol) of 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene Using 18.6 g (0.08 mol) of '-dihydroxydiphenyl ether, 5-ethynylisophthalic acid dichloride obtained in Preparation Example 1 was used instead of 29.5 g (0.1 mol) of 4,4'-oxybisbenzoic acid chloride. A hydroxyamide polymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 4 g (0.05 mol) and 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride 14.8 g (0.05 mol) were used. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

実施例8
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン32.3g(0.08mol)の代わりに、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン22.4g(0.08mol)を用い、4,4’−オキシビス安息香酸クロライド29.5g(0.1mol)の代わりに、製造例2で得た5−フェニルエチニルイソフタル酸ジクロライド15.2g(0.05mol)と4,4’−オキシビス安息香酸クロライド14.8g(0.05mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Example 8
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, 3,3′-diamino-4,4 instead of 32.3 g (0.08 mol) of 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene Using 22.4 g (0.08 mol) of '-dihydroxydiphenylsulfone, 5-phenylethynylisophthalic acid dichloride obtained in Preparation Example 2 was used instead of 29.5 g (0.1 mol) of 4,4'-oxybisbenzoic acid chloride. A hydroxyamide polymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 15.2 g (0.05 mol) and 4,4′-oxybisbenzoic acid chloride 14.8 g (0.05 mol) were used. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

実施例9〜16
実施例1〜8の組成物の作製において、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gの代わりに、製造例5で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液5.0gを用いた以外は、それぞれ、全て実施例1〜8と同様にして、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Examples 9-16
In preparing the compositions of Examples 1 to 8, in place of 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4, 5.0 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 5 was used. Were obtained in the same manner as in Examples 1 to 8, respectively. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

実施例17〜24
実施例1〜8の組成物の作製において、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gの代わりに、製造例6で得た酸化ジルコニウム粒子メチルエチルケトン分散液5.0gを用いた以外は、それぞれ、全て実施例1〜8と同様にして、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Examples 17-24
In the preparation of the compositions of Examples 1 to 8, except that 2.5 g of the zirconium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 6 was used instead of 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4. Were obtained in the same manner as in Examples 1 to 8, respectively. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

比較例1
実施例1の組成物の作製において、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gを用いなかった以外は、全て実施例1と同様にして、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Comparative Example 1
In preparing the composition of Example 1, a composition was obtained in the same manner as in Example 1 except that 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 was not used. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

比較例2
実施例1の組成物の作製において、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gの代わりに、製造例7で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gを用いた以外は、全て実施例1と同様にして、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Comparative Example 2
In the preparation of the composition of Example 1, instead of 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 7 was used. A composition was obtained in the same manner as in Example 1. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

比較例3
実施例1の組成物の作製において、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gの代わりに、製造例8で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gを用いた以外は、全て実施例1と同様にして、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Comparative Example 3
In preparing the composition of Example 1, in place of 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 8 was used. A composition was obtained in the same manner as in Example 1. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

比較例4
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン32.3g(0.08mol)の代わりに、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン29.3g(0.08mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例4で得た酸化チタン粒子メチルエチルケトン分散液2.5gと、シクロヘキサノン9.0gをガラス製サンプル瓶中で溶解して混合した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Comparative Example 4
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, 2,2-bis (3-amino-) instead of 32.3 g (0.08 mol) of 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene. A hydroxyamide polymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 29.3 g (0.08 mol) of 4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane was used. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 2.5 g of the titanium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 4 and 9.0 g of cyclohexanone were dissolved and mixed in a glass sample bottle, a 0.5 μm pore size Teflon (registered) (Trademark) filter, and the composition was obtained. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

比較例5
実施例1のヒドロキシアミド重合体の合成において、9,9−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン32.3g(0.08mol)の代わりに、2,2−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン29.3g(0.08mol)を用いた以外は、全て実施例1と同様にして、ヒドロキシアミド重合体を得た。得られたヒドロキシアミド重合体を用いて、実施例1と同様にして、重量平均分子量(Mw)、溶液粘度を評価した。
このヒドロキシアミド重合体1gと、製造例6で得た酸化ジルコニウム粒子メチルエチルケトン分散液5.0gと、シクロヘキサノン9.0gを、ガラス製サンプル瓶中で混合して、ヒドロキシアミド重合体を溶解した後、孔径0.5μmテフロン(登録商標)フィルターでろ過して、組成物を得た。以下、実施例1と同様にして、フィルムを作製すると共に、評価を行った。各特性を第1表及び第2表に示す。
Comparative Example 5
In the synthesis of the hydroxyamide polymer of Example 1, 2,2-bis (3-amino-) instead of 32.3 g (0.08 mol) of 9,9-bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) fluorene. A hydroxyamide polymer was obtained in the same manner as in Example 1 except that 29.3 g (0.08 mol) of 4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane was used. Using the obtained hydroxyamide polymer, the weight average molecular weight (Mw) and the solution viscosity were evaluated in the same manner as in Example 1.
After 1 g of this hydroxyamide polymer, 5.0 g of the zirconium oxide particle methyl ethyl ketone dispersion obtained in Production Example 6 and 9.0 g of cyclohexanone were mixed in a glass sample bottle to dissolve the hydroxyamide polymer, It filtered with the 0.5 micrometer pore diameter Teflon (trademark) filter, and obtained the composition. Thereafter, a film was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The characteristics are shown in Tables 1 and 2.

Figure 2010085607
Figure 2010085607

Figure 2010085607
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第1表及び第2表にまとめた結果から明らかなように、実施例では、1.7以上の高い屈折率を示し、減衰係数も低く、良好な光学特性を示した。また、低い接触角で良好な濡れ性を示し、密着性、耐熱性等の特性も優れたものとなった。一方、比較例1では、無機粒子を添加していないため、十分な屈折率が得られていない。比較例2は、比表面積の小さな無機粒子により、減衰係数の上昇がみられ、また、膜厚均一性も低く、の満足な光学特性が得られていない。比較例3は、比表面積の大きな無機粒子は、組成物中で凝集しているため、減衰係数の上昇がみられ、また、膜厚均一性も低く、満足な光学特性が得られていない。また、比較例4及び比較例5は、ヒドロキシアミド重合体にフッ素を含むことにより、濡れ性が悪く、密着性の低下が認められ、また、十分な屈折率が得られていないため、各種特性を全て満足できないことが明らかである。   As is clear from the results summarized in Tables 1 and 2, the Examples showed a high refractive index of 1.7 or more, a low attenuation coefficient, and good optical characteristics. Moreover, good wettability was exhibited at a low contact angle, and properties such as adhesion and heat resistance were also excellent. On the other hand, in Comparative Example 1, since no inorganic particles were added, a sufficient refractive index was not obtained. In Comparative Example 2, the attenuation coefficient is increased due to the inorganic particles having a small specific surface area, and the film thickness uniformity is low, and satisfactory optical characteristics are not obtained. In Comparative Example 3, since the inorganic particles having a large specific surface area are aggregated in the composition, the attenuation coefficient is increased, the film thickness uniformity is low, and satisfactory optical characteristics are not obtained. In Comparative Examples 4 and 5, since the hydroxyamide polymer contains fluorine, the wettability is poor, the adhesion is deteriorated, and a sufficient refractive index is not obtained. It is clear that all of the above cannot be satisfied.

本発明の光学部品の1つである光導波路の構造例を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the structural example of the optical waveguide which is one of the optical components of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体基板
2 半導体基板上の無機膜
3 光導波路部
4 上部無機膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor substrate 2 Inorganic film 3 on a semiconductor substrate Optical waveguide part 4 Upper inorganic film

Claims (9)

一般式(A)で表されるヒドロキシアミド重合体(a)と、比表面積が30〜200m2/gの無機粒子(b)及び溶剤(c)を含む光学部品用組成物。
Figure 2010085607
[式(A)中、Xは下記式(B)で表される基の中から選ばれる基を示し、2つの繰り返し単位中のXは同一でも異なっていてもよい。Y1は下記式(C)及び式(D)で表される基の中から選ばれる基を示す。Y2は下記式(E)及び式(F)で表される基の中から選ばれる基を示す。l及びmは、lが4以上の整数、mが0以上の整数かつ、l+mが4以上の整数を示す。また、式(A)における繰り返し単位の配列はブロック的、ランダム的のいずれであってもよい。]
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
[式(B)及び式(C)中のX1は、下記式(G)
Figure 2010085607
で表される基の中から選ばれる基を示し、式(E)の中のRは、アリール基又は炭素数1〜10のアルキル基で表される基の中から選ばれる基を示す。式(D)中のpは1以上、4以下の整数を示す。
また、式(B)、式(C)、式(D)、式(E)、式(F)及び式(G)で表される基における環構造上の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基の中から選ばれる少なくとも1個の基で置換されていてもよい。]
A composition for optical parts comprising a hydroxyamide polymer (a) represented by the general formula (A), inorganic particles (b) having a specific surface area of 30 to 200 m 2 / g, and a solvent (c).
Figure 2010085607
[In the formula (A), X represents a group selected from the groups represented by the following formula (B), and the X in the two repeating units may be the same or different. Y 1 represents a group selected from the groups represented by the following formulas (C) and (D). Y 2 represents a group selected from the groups represented by the following formula (E) and formula (F). l and m represent an integer of 1 or more, m is an integer of 0 or more, and 1 + m is an integer of 4 or more. In addition, the arrangement of the repeating units in the formula (A) may be either block or random. ]
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
[X 1 in Formula (B) and Formula (C) represents the following formula (G)
Figure 2010085607
In the formula (E), R represents a group selected from an aryl group or a group represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. P in the formula (D) represents an integer of 1 or more and 4 or less.
Moreover, the hydrogen atom on the ring structure in the group represented by Formula (B), Formula (C), Formula (D), Formula (E), Formula (F), and Formula (G) has 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may be substituted with at least one group selected from alkyl groups. ]
前記ヒドロキシアミド重合体(a)は、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が5000以上、15000以下である、請求項1に記載の光学部品用組成物。   The composition for optical parts according to claim 1, wherein the hydroxyamide polymer (a) has a weight average molecular weight in terms of standard polystyrene of from 5,000 to 15,000. 前記無機粒子(b)が、表面が被覆されていてもよい、酸化チタンまたは酸化ジルコニウムである、請求項1または2に記載の光学部品用組成物。   The composition for optical components according to claim 1 or 2, wherein the inorganic particles (b) are titanium oxide or zirconium oxide, the surface of which may be coated. 前記ヒドロキシアミド重合体(a)は、一般式(H)で表される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の光学部品用組成物。
Figure 2010085607
[式(H)中、X’は下記式(I)で表される基の中から選ばれる基を示し、式中の2つの繰り返し単位中のX’は同一でも異なっていてもよい。Y3は下記式(J)及び式(K)で表される基の中から選ばれる基を示す。Y4は下記式(L)で表される基の中から選ばれる基を示す。l’及びm’は、l’が4以上の整数、m’が0以上の整数かつ、l’+m’が4以上の整数を示す。また、式(H)における繰り返し単位の配列はブロック的、ランダム的のいずれであってもよい。]
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
[式(I)及び式(J)中のX2は、下記式(M)
Figure 2010085607
で表される基の中から選ばれる基を示し、式(L)の中のRは、アリール基又は炭素数1〜10のアルキル基で表される基の中から選ばれる基を示す。式(K)中のp’は1以上、4以下の整数を示す。
また、式(I)、式(J)、式(K)、式(L)及び式(M)で表される基における環構造上の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基の中から選ばれる少なくとも1個の基で置換されていてもよい。]
The said hydroxyamide polymer (a) is a composition for optical components of any one of Claims 1-3 represented by general formula (H).
Figure 2010085607
[In the formula (H), X ′ represents a group selected from the groups represented by the following formula (I), and X ′ in two repeating units in the formula may be the same or different. Y 3 represents a group selected from the groups represented by the following formulas (J) and (K). Y 4 represents a group selected from the groups represented by the following formula (L). l ′ and m ′ are integers where l ′ is an integer of 4 or more, m ′ is an integer of 0 or more and l ′ + m ′ is an integer of 4 or more. In addition, the arrangement of the repeating units in the formula (H) may be either block or random. ]
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
[X 2 in Formula (I) and Formula (J) represents the following formula (M)
Figure 2010085607
In the formula (L), R represents a group selected from an aryl group or a group represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. P ′ in the formula (K) represents an integer of 1 or more and 4 or less.
Moreover, the hydrogen atom on the ring structure in the group represented by the formula (I), the formula (J), the formula (K), the formula (L), and the formula (M) is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. It may be substituted with at least one group selected from ]
前記ヒドロキシアミド重合体は、一般式(N)で表される、請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学部品用組成物。
Figure 2010085607
[式(N)中、X’’は下記式(O)で表される基の中から選ばれる基を示し、式中の2つのX’’は同一でも異なっていてもよい。Y5は下記式(P)で表される基の中から選ばれる基を示す。Y6は下記(Q)で表される基の中から選ばれる基を示す。l’’及びm’’は、l’’が4以上の整数、m’’が0以上の整数かつ、l’’+m’’が4以上の整数を示す。また、式(N)における繰り返し単位の配列はブロック的、ランダム的のいずれであってもよい。]
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
[式(O)及び式(P)中のX3は、下記式(R)
Figure 2010085607
で表される基の中から選ばれる基を示し、式(Q)の中のRは、アリール基又は炭素数1〜10のアルキル基で表される基の中から選ばれる基を示す。また、式(O)、式(P)、式(Q)及び式(R)で表される基における環構造上の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基の中から選ばれる少なくとも1個の基で置換されていてもよい。]
The said hydroxyamide polymer is a composition for optical components of any one of Claims 1-4 represented by general formula (N).
Figure 2010085607
[In formula (N), X ″ represents a group selected from the groups represented by the following formula (O), and two X ″ in the formula may be the same or different. Y 5 represents a group selected from the groups represented by the following formula (P). Y 6 represents a group selected from the groups represented by the following (Q). l ″ and m ″ indicate l ″ is an integer of 4 or more, m ″ is an integer of 0 or more, and l ″ + m ″ is an integer of 4 or more. In addition, the arrangement of the repeating units in the formula (N) may be either block or random. ]
Figure 2010085607
Figure 2010085607
Figure 2010085607
[X 3 in Formula (O) and Formula (P) represents the following formula (R)
Figure 2010085607
In the formula (Q), R represents a group selected from an aryl group or a group represented by an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Moreover, the hydrogen atom on the ring structure in the group represented by Formula (O), Formula (P), Formula (Q), and Formula (R) is at least one selected from alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. It may be substituted with groups. ]
前記光学部品用組成物を用いて、プラズマCVD法により製膜されたSiOx膜表面へ製膜する際に、該組成物と該SiOx膜との接触角が0°以上、10°以下である請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学部品用組成物。   A contact angle between the composition and the SiOx film when the film is formed on the surface of the SiOx film formed by the plasma CVD method using the composition for optical parts is 0 ° or more and 10 ° or less. Item 6. The composition for optical components according to any one of Items 1 to 5. 前記光学部品用組成物は、23℃/湿度45%での雰囲気下で、スピンコータの回転数を1400rpmで塗膜を形成し、これを380℃/250秒加熱したフィルムの平均厚みが500nmになるように、前記ヒドロキシアミド重合体の含有量を調整した時の25℃での溶液粘度が、3mPa・s以上、11mPa・s以下である請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学部品用組成物。   In the composition for optical parts, a coating film is formed in an atmosphere at 23 ° C./humidity of 45% at a rotation speed of a spin coater of 1400 rpm, and the film is heated at 380 ° C./250 seconds to have an average thickness of 500 nm. The solution viscosity at 25 ° C. when the content of the hydroxyamide polymer is adjusted is 3 mPa · s or more and 11 mPa · s or less, The optical component according to claim 1. Composition. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学部品用組成物を用いて製膜し、前記光学部品用組成物中のヒドロキシアミド重合体を縮合反応させて得られる光学部品。   An optical component obtained by forming a film using the composition for optical components according to claim 1 and subjecting the hydroxyamide polymer in the composition for optical components to a condensation reaction. 前記光学部品は、380nmの波長における光の減衰係数が、0以上、0.01以下である、請求項8に記載の光学部品。   The optical component according to claim 8, wherein the optical component has a light attenuation coefficient of 0 or more and 0.01 or less at a wavelength of 380 nm.
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Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06234917A (en) * 1992-12-14 1994-08-23 Mitsubishi Electric Corp Highly dielectric resin composition, and multichip module, pressure sensor, moisture sensor, capacitor, optical filter, optical waveguide, and plasma display using the same
JPH0718156A (en) * 1993-07-02 1995-01-20 Kuraray Co Ltd Emulsion composition
JPH11286636A (en) * 1998-04-02 1999-10-19 Zebra Pen Corp Oil-based ink composition
JP2001220443A (en) * 2000-02-08 2001-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Polybenzoxazole precursor resin and photosensitive resin composition using the same
JP2002012665A (en) * 2000-04-28 2002-01-15 Asahi Kasei Corp Photosensitive resin and composition thereof
JP2002220564A (en) * 2001-01-24 2002-08-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Coating varnish for insulation film and insulation film by using the same
JP2002357898A (en) * 2001-03-26 2002-12-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd Positive type photosensitive resin composition and semiconductor device
JP2004128055A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd Insulating film and semiconductor device
JP2004250494A (en) * 2003-02-18 2004-09-09 Hitachi Chem Co Ltd Method for producing optical resin and optical part
JP2007063502A (en) * 2005-09-02 2007-03-15 Toray Ind Inc Non-photosensitive resin composition and optical device using the same
JP2007211204A (en) * 2006-02-13 2007-08-23 Hitachi Chem Co Ltd Heat-resistant resin varnish, heat-resistant coating agent containing heat-resistant resin varnish, insulating film or semiconductor apparatus using heat-resistant coating agent
JP2007225942A (en) * 2006-02-24 2007-09-06 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Positive photosensitive resin composition
JP2008091744A (en) * 2006-10-04 2008-04-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Solid-state imaging device and imaging apparatus
JP2008135536A (en) * 2006-11-28 2008-06-12 Toyota Central R&D Labs Inc Semiconductor module and manufacturing method thereof

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06234917A (en) * 1992-12-14 1994-08-23 Mitsubishi Electric Corp Highly dielectric resin composition, and multichip module, pressure sensor, moisture sensor, capacitor, optical filter, optical waveguide, and plasma display using the same
JPH0718156A (en) * 1993-07-02 1995-01-20 Kuraray Co Ltd Emulsion composition
JPH11286636A (en) * 1998-04-02 1999-10-19 Zebra Pen Corp Oil-based ink composition
JP2001220443A (en) * 2000-02-08 2001-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Polybenzoxazole precursor resin and photosensitive resin composition using the same
JP2002012665A (en) * 2000-04-28 2002-01-15 Asahi Kasei Corp Photosensitive resin and composition thereof
JP2002220564A (en) * 2001-01-24 2002-08-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Coating varnish for insulation film and insulation film by using the same
JP2002357898A (en) * 2001-03-26 2002-12-13 Sumitomo Bakelite Co Ltd Positive type photosensitive resin composition and semiconductor device
JP2004128055A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd Insulating film and semiconductor device
JP2004250494A (en) * 2003-02-18 2004-09-09 Hitachi Chem Co Ltd Method for producing optical resin and optical part
JP2007063502A (en) * 2005-09-02 2007-03-15 Toray Ind Inc Non-photosensitive resin composition and optical device using the same
JP2007211204A (en) * 2006-02-13 2007-08-23 Hitachi Chem Co Ltd Heat-resistant resin varnish, heat-resistant coating agent containing heat-resistant resin varnish, insulating film or semiconductor apparatus using heat-resistant coating agent
JP2007225942A (en) * 2006-02-24 2007-09-06 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Positive photosensitive resin composition
JP2008091744A (en) * 2006-10-04 2008-04-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd Solid-state imaging device and imaging apparatus
JP2008135536A (en) * 2006-11-28 2008-06-12 Toyota Central R&D Labs Inc Semiconductor module and manufacturing method thereof

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