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JP2010083812A - Method for producing 5-aminopyrazole derivative - Google Patents

Method for producing 5-aminopyrazole derivative Download PDF

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JP2010083812A JP2008255372A JP2008255372A JP2010083812A JP 2010083812 A JP2010083812 A JP 2010083812A JP 2008255372 A JP2008255372 A JP 2008255372A JP 2008255372 A JP2008255372 A JP 2008255372A JP 2010083812 A JP2010083812 A JP 2010083812A
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Abstract

【課題】簡便で高収率かつ高純度に一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体の製造方法を提供すること。
【解決手段】一般式(2)で表わされる化合物と一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体とのモル比が1:1.10〜1:5.00の範囲で用いられることを特徴とする下記一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体の製造方法。

Figure 2010083812

(式中、R1は、脂肪族基を表し、R2は、電子求引性基を表し、R3は、水素原子または置換基を表し、Xは、ハロゲン原子、−ORまたはアミノ基を表す。Rは水素原子又は置換基を表す。)
【選択図】なしTo provide a method for producing a 5-aminopyrazole derivative represented by the general formula (3) in a simple, high yield and high purity.
The molar ratio of the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine derivative represented by the general formula (1) is in a range of 1: 1.10 to 1: 5.00. A method for producing a 5-aminopyrazole derivative represented by the following general formula (3).
Figure 2010083812

(Wherein R 1 represents an aliphatic group, R 2 represents an electron withdrawing group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, and X represents a halogen atom, —OR or an amino group. R represents a hydrogen atom or a substituent.
[Selection figure] None

Description

本発明は、5−アミノピラゾール誘導体の製造方法に関するものである。より詳細には、本発明は、5−アミノピラゾール誘導体を簡便で高収率かつ高純度に製造する方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a 5-aminopyrazole derivative. More specifically, the present invention relates to a method for producing a 5-aminopyrazole derivative in a simple, high yield and high purity.

5−アミノピラゾール誘導体は、写真用添加剤,増感色素,染料,顔料,電子材料,医農薬品などの機能性化合物の中間体として有用な化合物であり、合成法は古くから知られている。例えば、特許文献1、2では、5−ヒドラジノ−1,3−イソフタル酸とエトキシメチルデンマロノニトリルから定量的に5−アミノピラゾール誘導体を製造する方法が開示されている。特許文献1の条件では、メチルヒドラジン及びエトキシメチルデンシアノ酢酸エチルから得られる5−アミノピラゾール誘導体には異性体が含まれ収率が悪化することが分かった。ヒドラジン化合物の立体因子によって、ヒドラジンに置換する分子構造が小さい場合に、特異的に異性体が副生するものと推測される。
特許文献3では、メチルヒドラジンとエトキシメチリデンマロノニトリルとから、5−アミノピラゾール誘導体する合成例が記載されている。特許文献3では、反応が20時間弱及ぶばかりでなく、異性体の副生に関する記述はないが、反応混合物の再結晶による精製が必要で定量的に目的物を得るに至っていない。安価製造を目指すには反応が定量的であって、精製の負荷がないことが望まれるが、現在までに異性体の副生を抑制し反応を定量的に進める技術は見出されていない。
一方、エトキシメチリデンマロノニトリルやエトキシメチルデン酢酸エチル等のメチリデン化合物類の合成は、非特許文献1に開示されている。記載されている方法は何れの場合も目的のメチリデン化合物の単離には減圧蒸留などの精製を伴い、安価製造には適していない。また反応率向上をねらい触媒の検討がなされているが、顕著な効果が得られていない。
5−アミノピラゾール誘導体の製造において、更に安価合成を目指すには、原料となるメチリデン化合物を定量的に誘導し、続けて5−アミノピラゾールを製造することが望まれるが、このような一貫合成の技術は見出されていない。
5-Aminopyrazole derivatives are useful compounds as intermediates for functional compounds such as photographic additives, sensitizing dyes, dyes, pigments, electronic materials, medical and agrochemicals, and their synthesis methods have been known for a long time. . For example, Patent Documents 1 and 2 disclose a method for quantitatively producing a 5-aminopyrazole derivative from 5-hydrazino-1,3-isophthalic acid and ethoxymethyldenmalononitrile. Under the conditions of Patent Document 1, it was found that the 5-aminopyrazole derivative obtained from methyl hydrazine and ethyl ethoxymethyldencyanoacetate contained isomers and the yield deteriorated. Depending on the steric factor of the hydrazine compound, it is presumed that the isomer is specifically produced as a by-product when the molecular structure substituted with hydrazine is small.
Patent Document 3 describes a synthesis example in which a 5-aminopyrazole derivative is derived from methylhydrazine and ethoxymethylidenemalononitrile. In Patent Document 3, the reaction not only lasts for less than 20 hours, but there is no description about the by-product of the isomer, but purification by recrystallization of the reaction mixture is necessary and the target product has not been quantitatively obtained. In order to aim at low-cost production, it is desired that the reaction is quantitative and there is no purification load. However, no technology has been found so far to suppress the by-product formation of the isomer and to advance the reaction quantitatively.
On the other hand, the synthesis of methylidene compounds such as ethoxymethylidenemalononitrile and ethoxymethyldene ethyl acetate is disclosed in Non-Patent Document 1. In any of the methods described, isolation of the target methylidene compound involves purification such as vacuum distillation and is not suitable for low-cost production. Moreover, although the catalyst aiming at the reaction rate improvement is made | formed, the remarkable effect is not acquired.
In the production of 5-aminopyrazole derivatives, in order to aim at further inexpensive synthesis, it is desired to quantitatively derive the methylidene compound as a raw material and subsequently produce 5-aminopyrazole. No technology has been found.

特開2006−057076号公報JP 2006-057076 A 国際公開第06/082669号パンフレットWO 06/082669 Pamphlet 米国特許第3336285号明細書US Pat. No. 3,336,285 Reuben G. Jones, J. Am.Chem. Soc.,74 4889 (1952).Reuben G. Jones, J.M. Am. Chem. Soc. , 74 4889 (1952).

本発明の目的は、簡便で高収率かつ高純度に一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体の製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method for producing a 5-aminopyrazole derivative represented by the general formula (3) in a simple, high yield and high purity.

従来のこうした課題を克服すべく検討した結果、特定の反応条件を用いることで、副成分の生成を抑制し、目的の5−アミノピラゾール誘導体を高収率で単離できることを見出した。すなわち、一般式(3)で表される化合物を製造する際に、一般式(2)で表される化合物に対して、過剰の一般式(1)で表される化合物を低温で混合することで、副成分の生成が抑制された。
本発明の上記目的は下記方法によって達成された。
As a result of studying to overcome these conventional problems, it has been found that by using specific reaction conditions, the formation of secondary components can be suppressed and the target 5-aminopyrazole derivative can be isolated in high yield. That is, when producing the compound represented by the general formula (3), an excess of the compound represented by the general formula (1) is mixed with the compound represented by the general formula (2) at a low temperature. Thus, the generation of subcomponents was suppressed.
The above object of the present invention has been achieved by the following method.

〔1〕
一般式(2)で表わされる化合物と一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体とのモル比が1:1.10〜1:5.00の範囲で用いられることを特徴とする下記一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体の製造方法。
[1]
The following general formula (1), wherein the molar ratio of the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine derivative represented by the general formula (1) is 1: 1.10 to 1: 5.00. A method for producing a 5-aminopyrazole derivative represented by 3).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

(式中、R1は、脂肪族基を表し、R2は、電子求引性基を表し、R3は、水素原子または置換基を表し、Xは、ハロゲン原子、−ORまたはアミノ基を表す。Rは水素原子又は置換基を表す。)
〔2〕
前記製造方法において、水若しくはアルコール性溶媒又は、その混合溶媒を反応溶媒として用いることを特徴とする〔1〕に記載の製造方法。
〔3〕
〔1〕の製造方法であって、少なくとも製造の仕込における温度が20℃以下であることを特徴とする〔1〕又は〔2〕に記載の製造方法。
〔4〕
前記製造方法において、下記(A)、(B)の工程を含むことを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の製造方法。
(A)下記一般式(4)で表される化合物と下記一般式(5)で表される化合物とを反応させ下記一般式(2)で表される化合物を含有する混合物を得る工程
(B)一般式(2)で表される化合物を含有する混合物と一般式(1)で表される化合物とを反応させて、一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体を生成する工程
(Wherein R 1 represents an aliphatic group, R 2 represents an electron withdrawing group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, and X represents a halogen atom, —OR or an amino group. R represents a hydrogen atom or a substituent.
[2]
In the said manufacturing method, water or alcoholic solvent or its mixed solvent is used as a reaction solvent, The manufacturing method as described in [1] characterized by the above-mentioned.
[3]
[1] The production method according to [1] or [2], wherein the production temperature is at least 20 ° C. or less in the production charge.
[4]
In the said manufacturing method, the process of following (A) and (B) is included, The manufacturing method in any one of [1]-[3] characterized by the above-mentioned.
(A) A step of reacting a compound represented by the following general formula (4) with a compound represented by the following general formula (5) to obtain a mixture containing the compound represented by the following general formula (2) (B) ) A step of producing a 5-aminopyrazole derivative represented by the general formula (3) by reacting a mixture containing the compound represented by the general formula (2) with the compound represented by the general formula (1).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

(式中、R1は、脂肪族基を表し、R2は、電子求引性基を表し、R3は、水素原子または置換基を表し、Xは、ハロゲン原子、−ORまたはアミノ基を表す。Rは水素原子又は置換基を表し、R4及びR5はそれぞれ独立に脱離基を表す。)
〔5〕
前記製造方法において、前記(A)、(B)の工程を連続して行うことを特徴とする〔4〕に記載の製造方法。
〔6〕
前記(A)の工程において、反応促進剤として、酸無水物又はpKaが−3〜6の酸、から選ばれる少なくとも一つを用いることを特徴とする〔4〕又は〔5〕に記載の製造方法。
〔7〕
前記(A)の工程において、一般式(5)で表される化合物と反応促進剤のモル比を1:0.01〜1:5.00の範囲で用いることを特徴とする〔4〕〜〔6〕のいずれかに記載の製造方法。
(Wherein R 1 represents an aliphatic group, R 2 represents an electron withdrawing group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, and X represents a halogen atom, —OR or an amino group. R represents a hydrogen atom or a substituent, and R 4 and R 5 each independently represents a leaving group.)
[5]
In the manufacturing method, the steps (A) and (B) are continuously performed. The manufacturing method according to [4], wherein
[6]
In the step (A), at least one selected from an acid anhydride or an acid having a pKa of -3 to 6 is used as a reaction accelerator in the process according to [4] or [5] Method.
[7]
In the step (A), the molar ratio of the compound represented by the general formula (5) to the reaction accelerator is used in the range of 1: 0.01 to 1: 5.00 [4] to [6] The production method according to any one of [6].

本発明の製造方法によれば、一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体が、簡便で高収率かつ高純度に得られる。また、(B)の工程を水単独溶媒で行うことも可能なため、環境への負荷が小さい製造方法である。   According to the production method of the present invention, the 5-aminopyrazole derivative represented by the general formula (3) can be obtained simply and with high yield and high purity. Moreover, since it is also possible to perform the process of (B) with a water single solvent, it is a manufacturing method with a small load to an environment.

以下に本発明の実施について詳細に説明する。
まず、本明細書において用いられる置換基について若干説明する。本明細書において用いられる置換基としては、以下の基(これらの基を「置換基A」と称する)が挙げられる。
例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、複素環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル又はアリールスルホニルアミノ基、ヒドラジノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、アルキル又はアリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリール又は複素環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基が例として挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよく、更なる置換基としては、以上に説明した置換基群Aから選択される基を挙げることができる。
Hereinafter, implementation of the present invention will be described in detail.
First, some of the substituents used in this specification will be described. Examples of the substituent used in the present specification include the following groups (these groups are referred to as “substituent A”).
For example, halogen atom, alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, heterocyclic group, cyano group, hydroxyl group, nitro group, carboxyl group, alkoxy group, aryloxy group, silyloxy group, heterocyclic oxy group, acyloxy group , Carbamoyloxy group, alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group, amino group, acylamino group, aminocarbonylamino group, alkoxycarbonylamino group, aryloxycarbonylamino group, sulfamoylamino group, alkyl or arylsulfonylamino group Hydrazino group, mercapto group, alkylthio group, arylthio group, heterocyclic thio group, sulfamoyl group, sulfo group, alkyl or arylsulfinyl group, alkyl or arylsulfonyl group, acyl group, Lumpur oxycarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an aryl or heterocyclic azo group, an imido group, a phosphino group, phosphinyl group, phosphinyloxy group, phosphinylamino group, a silyl group. These substituents may be further substituted, and examples of the further substituent include a group selected from the substituent group A described above.

本明細書において用いられる脂肪族基とは、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基を意味する。また、本明細書で用いられる芳香族基とは、アリール基及び置換アリール基を意味する。   The aliphatic group used in this specification means an alkyl group, a substituted alkyl group, an alkenyl group, a substituted alkenyl group, an alkynyl group, or a substituted alkynyl group. Moreover, the aromatic group used in this specification means an aryl group and a substituted aryl group.

更に詳しくは、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。   More specifically, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

アルキル基としては、直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基が挙げられ、シクロアルキル基、ビシクロアルキル基、更に環構造が多いトリシクロ構造なども包含するものである。以下に説明する置換基の中のアルキル基(例えば、アルコキシ基、アルキルチオ基のアルキル基)もこのような概念のアルキル基を表す。詳細には、アルキル基としては、好ましくは、炭素数1から30のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−オクチル基、エイコシル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、2―エチルヘキシル基等が挙げられ、シクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数3から30の置換または無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、4−n−ドデシルシクロヘキシル基等が挙げられ、ビシクロアルキル基としては、好ましくは、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基、つまり、炭素数5から30のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ[1,2,2]ヘプタン−2−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクタン−3−イル基等が挙げられる。   Examples of the alkyl group include linear, branched, and cyclic substituted or unsubstituted alkyl groups, and also include cycloalkyl groups, bicycloalkyl groups, and tricyclo structures having many ring structures. An alkyl group (for example, an alkyl group of an alkoxy group or an alkylthio group) in a substituent described below also represents such an alkyl group. Specifically, the alkyl group is preferably an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, such as a methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, t-butyl group, n-octyl group, eicosyl group, A 2-chloroethyl group, a 2-cyanoethyl group, a 2-ethylhexyl group, and the like. The cycloalkyl group is preferably a substituted or unsubstituted cycloalkyl group having 3 to 30 carbon atoms, such as a cyclohexyl group or a cyclopentyl group. 4-n-dodecylcyclohexyl group and the like, and the bicycloalkyl group is preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkyl group having 5 to 30 carbon atoms, that is, a bicyclic alkane having 5 to 30 carbon atoms to a hydrogen atom. A monovalent group such as a bicyclo [1,2,2] heptan-2-yl group, B [2,2,2] octan-3-yl group.

アルケニル基としては、直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基が挙げられ、シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を包含する。詳細には、アルケニル基としては、好ましくは、炭素数2から30の置換または無置換のアルケニル基、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基等が挙げられ、シクロアルケニル基としては、好ましくは、炭素数3から30の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基、つまり、炭素数3から30のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、2−シクロペンテン−1−イル基、2−シクロヘキセン−1−イル基等が挙げられ、ビシクロアルケニル基としては、置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、好ましくは、炭素数5から30の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基、つまり二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基、例えば、ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン−1−イル基、ビシクロ[2,2,2]オクト−2−エン−4−イル基等が挙げられる。
アルキニル基としては、好ましくは、炭素数2から30の置換または無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
Examples of the alkenyl group include linear, branched, and cyclic substituted or unsubstituted alkenyl groups, and include cycloalkenyl groups and bicycloalkenyl groups. Specifically, the alkenyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as a vinyl group, an allyl group, a prenyl group, a geranyl group, an oleyl group, and the like. Is preferably a substituted or unsubstituted cycloalkenyl group having 3 to 30 carbon atoms, that is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a cycloalkene having 3 to 30 carbon atoms, such as 2-cyclopentene-1 -Yl group, 2-cyclohexen-1-yl group and the like. As the bicycloalkenyl group, a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group, preferably a substituted or unsubstituted bicycloalkenyl group having 5 to 30 carbon atoms, That is, a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom of a bicycloalkene having one double bond, for example, bicyclo [ , 2,1] hept-2-en-1-yl group, a bicyclo [2,2,2] oct-2-en-4-yl group and the like.
The alkynyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 30 carbon atoms, such as an ethynyl group, a propargyl group, or a trimethylsilylethynyl group.

アリール基としては、好ましくは、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリール基、例えば、フェニル基、p−トリル基、ナフチル基、m−クロロフェニル基、o−ヘキサデカノイルアミノフェニル基等が挙げられる。
複素環基としては、好ましくは、5または6員の置換もしくは無置換の芳香族もしくは非芳香族の複素環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、更に好ましくは、炭素数3から30の5または6員の芳香族の複素環基であり、単環構造であっても、2つ以上の環が縮合した多環構造であってもよい。また、上記複素環基としては、N、O、S原子のいずれかを少なくとも含む複素環基が好ましい。例えば、チエニル基、フリル基、ピロリル基、インドリル基、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ピラゾリル基、インダゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、イソチアゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、オキサゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、イソオキサゾリル基、1,2,4−チアジアゾリル基、1,3,4−チアジアゾリル基、1,2,4−オキサジアゾリル基、1,3,4−オキサジアゾリル基、トリアゾリル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、1,3,5−トリアジル基、キノリル基、イソキノリル基、フタラジニル基等が挙げられる。
アルコキシ基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアルコキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、t−ブトキシ基、n−オクチルオキシ基、2−メトキシエトキシ基等が挙げられる。
The aryl group is preferably a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenyl group, a p-tolyl group, a naphthyl group, an m-chlorophenyl group, an o-hexadecanoylaminophenyl group, and the like. Can be mentioned.
The heterocyclic group is preferably a monovalent group obtained by removing one hydrogen atom from a 5- or 6-membered substituted or unsubstituted aromatic or non-aromatic heterocyclic compound, and more preferably a carbon number. It is a 3 to 30 5- or 6-membered aromatic heterocyclic group, and may be a monocyclic structure or a polycyclic structure in which two or more rings are condensed. Further, the heterocyclic group is preferably a heterocyclic group containing at least one of N, O, and S atoms. For example, thienyl, furyl, pyrrolyl, indolyl, imidazolyl, benzimidazolyl, pyrazolyl, indazolyl, thiazolyl, benzothiazolyl, isothiazolyl, benzoisothiazolyl, oxazolyl, benzoxazolyl , Isoxazolyl group, 1,2,4-thiadiazolyl group, 1,3,4-thiadiazolyl group, 1,2,4-oxadiazolyl group, 1,3,4-oxadiazolyl group, triazolyl group, pyridyl group, pyrazyl group, pyrimidyl Group, pyridazyl group, 1,3,5-triazyl group, quinolyl group, isoquinolyl group, phthalazinyl group and the like.
The alkoxy group is preferably a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, a t-butoxy group, an n-octyloxy group, or a 2-methoxyethoxy group. Etc.

アリールオキシ基としては、好ましくは、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリールオキシ基、例えば、フェノキシ基、2−メチルフェノキシ基、4−t−ブチルフェノキシ基、3−ニトロフェノキシ基、2−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等が挙げられる。
シリルオキシ基としては、好ましくは、炭素数0から20の置換もしくは無置換のシリルオキシ基、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ジフェニルメチルシリルオキシ基等が挙げられる。
複素環オキシ基としては、好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換の複素環オキシ基、例えば、1−フェニルテトラゾール−5−オキシ基、2−テトラヒドロピラニルオキシ基等が挙げられる。
アシルオキシ基としては、好ましくは、ホルミルオキシ基、炭素数2から30の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基、例えば、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、p−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
カルバモイルオキシ基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基、例えば、N,N−ジメチルカルバモイルオキシ基、N,N−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、N,N−ジ−n−オクチルアミノカルボニルオキシ基、N−n−オクチルカルバモイルオキシ基等が挙げられる。
The aryloxy group is preferably a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as a phenoxy group, 2-methylphenoxy group, 4-t-butylphenoxy group, 3-nitrophenoxy group, 2 -Tetradecanoylaminophenoxy group etc. are mentioned.
The silyloxy group is preferably a substituted or unsubstituted silyloxy group having 0 to 20 carbon atoms, such as a trimethylsilyloxy group or a diphenylmethylsilyloxy group.
Preferred examples of the heterocyclic oxy group include substituted or unsubstituted heterocyclic oxy groups having 2 to 30 carbon atoms, such as a 1-phenyltetrazole-5-oxy group and a 2-tetrahydropyranyloxy group.
The acyloxy group is preferably a formyloxy group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyloxy group having 6 to 30 carbon atoms, such as an acetyloxy group, Examples include a pivaloyloxy group, a stearoyloxy group, a benzoyloxy group, and a p-methoxyphenylcarbonyloxy group.
The carbamoyloxy group is preferably a substituted or unsubstituted carbamoyloxy group having 1 to 30 carbon atoms, such as N, N-dimethylcarbamoyloxy group, N, N-diethylcarbamoyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, N , N-di-n-octylaminocarbonyloxy group, Nn-octylcarbamoyloxy group and the like.

アルコキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、t−ブトキシカルボニルオキシ基、n−オクチルカルボニルオキシ基等が挙げられる。
アリールオキシカルボニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、p−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、p−n−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
アミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基を含み、好ましくは、アミノ基、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアニリノ基、例えば、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、N−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられる。
アシルアミノ基としては、好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基、例えば、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、3,4,5−トリ−n−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基等が挙げられる。
The alkoxycarbonyloxy group is preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonyloxy group having 2 to 30 carbon atoms, such as a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, a t-butoxycarbonyloxy group, or an n-octylcarbonyloxy group. Etc.
The aryloxycarbonyloxy group is preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyloxy group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonyloxy group, p-methoxyphenoxycarbonyloxy group, pn-hexadecyloxy. Examples include phenoxycarbonyloxy group.
The amino group includes an alkylamino group, an arylamino group, and a heterocyclic amino group, preferably an amino group, a substituted or unsubstituted alkylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group having 6 to 30 carbon atoms. Examples of the substituted anilino group include a methylamino group, a dimethylamino group, an anilino group, an N-methyl-anilino group, and a diphenylamino group.
The acylamino group is preferably a formylamino group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, such as an acetylamino group, Examples include pivaloylamino group, lauroylamino group, benzoylamino group, 3,4,5-tri-n-octyloxyphenylcarbonylamino group, and the like.

アミノカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、N,N−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基等が挙げられる。
アルコキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、t−ブトキシカルボニルアミノ基、n−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、N−メチルーメトキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
アリールオキシカルボニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、p−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、m−n−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。
スルファモイルアミノ基としては、好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基、例えば、スルファモイルアミノ基、N,N−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、N−n−オクチルアミノスルホニルアミノ基等が挙げられる。
The aminocarbonylamino group is preferably a substituted or unsubstituted aminocarbonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, such as a carbamoylamino group, an N, N-dimethylaminocarbonylamino group, or an N, N-diethylaminocarbonylamino group. And a morpholinocarbonylamino group.
The alkoxycarbonylamino group is preferably a substituted or unsubstituted alkoxycarbonylamino group having 2 to 30 carbon atoms, such as a methoxycarbonylamino group, an ethoxycarbonylamino group, a t-butoxycarbonylamino group, or an n-octadecyloxycarbonylamino group. Group, N-methyl-methoxycarbonylamino group and the like.
The aryloxycarbonylamino group is preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonylamino group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonylamino group, p-chlorophenoxycarbonylamino group, mn-octyloxyphenoxy. Examples thereof include a carbonylamino group.
The sulfamoylamino group is preferably a substituted or unsubstituted sulfamoylamino group having 0 to 30 carbon atoms, such as a sulfamoylamino group, N, N-dimethylaminosulfonylamino group, Nn- Examples include octylaminosulfonylamino group.

アルキルまたはアリールスルホニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、2,3,5−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、p−メチルフェニルスルホニルアミノ基等が挙げられる。
アルキルチオ基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のアルキルチオ基、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、n−ヘキサデシルチオ基等が挙げられる。
アリールチオ基としては、好ましくは、炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリールチオ基、例えば、フェニルチオ基、p−クロロフェニルチオ基、m−メトキシフェニルチオ基等が挙げられる。
複素環チオ基としては、好ましくは、炭素数2から30の置換または無置換の複素環チオ基、例えば、2−ベンゾチアゾリルチオ基、1−フェニルテトラゾール−5−イルチオ基等が挙げられる。
スルファモイル基としては、好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換のスルファモイル基、例えば、N−エチルスルファモイル基、N−(3−ドデシルオキシプロピル)スルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N−アセチルスルファモイル基、N−ベンゾイルスルファモイル基、N−(N‘−フェニルカルバモイル)スルファモイル基等が挙げられる。
The alkyl or arylsulfonylamino group is preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonylamino group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfonylamino group having 6 to 30 carbon atoms, such as a methylsulfonylamino group. Butylsulfonylamino group, phenylsulfonylamino group, 2,3,5-trichlorophenylsulfonylamino group, p-methylphenylsulfonylamino group, and the like.
The alkylthio group is preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 30 carbon atoms, such as a methylthio group, an ethylthio group, and an n-hexadecylthio group.
Preferred examples of the arylthio group include substituted or unsubstituted arylthio groups having 6 to 30 carbon atoms such as a phenylthio group, a p-chlorophenylthio group, and an m-methoxyphenylthio group.
Preferred examples of the heterocyclic thio group include substituted or unsubstituted heterocyclic thio groups having 2 to 30 carbon atoms such as a 2-benzothiazolylthio group and a 1-phenyltetrazol-5-ylthio group.
The sulfamoyl group is preferably a substituted or unsubstituted sulfamoyl group having 0 to 30 carbon atoms, such as N-ethylsulfamoyl group, N- (3-dodecyloxypropyl) sulfamoyl group, N, N-dimethylsulfuryl group. Examples include a famoyl group, an N-acetylsulfamoyl group, an N-benzoylsulfamoyl group, and an N- (N′-phenylcarbamoyl) sulfamoyl group.

アルキルまたはアリールスルフィニル基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換または無置換のアルキルスルフィニル基、6から30の置換または無置換のアリールスルフィニル基、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、p−メチルフェニルスルフィニル基等が挙げられる。
アルキルまたはアリールスルホニル基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換または無置換のアルキルスルホニル基、6から30の置換または無置換のアリールスルホニル基、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、p−メチルフェニルスルホニル基等が挙げられる。
アシル基としては、好ましくは、ホルミル基、炭素数2から30の置換または無置換のアルキルカルボニル基、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数2から30の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合している複素環カルボニル基、例えば、アセチル基、ピバロイル基、2−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、p−n−オクチルオキシフェニルカルボニル基、2−ピリジルカルボニル基、2−フリルカルボニル基等が挙げられる。
アリールオキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数7から30の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基、例えば、フェノキシカルボニル基、o−クロロフェノキシカルボニル基、m−ニトロフェノキシカルボニル基、p−t−ブチルフェノキシカルボニル基等が挙げられる。
The alkyl or arylsulfinyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfinyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfinyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, phenyl. Examples thereof include a sulfinyl group and a p-methylphenylsulfinyl group.
The alkyl or arylsulfonyl group is preferably a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group having 1 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group having 6 to 30 carbon atoms, such as a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group, a phenyl group. A sulfonyl group, p-methylphenylsulfonyl group, etc. are mentioned.
The acyl group is preferably a formyl group, a substituted or unsubstituted alkylcarbonyl group having 2 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted arylcarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted group having 2 to 30 carbon atoms. Heterocyclic carbonyl groups bonded to carbonyl groups at substituted carbon atoms, for example, acetyl, pivaloyl, 2-chloroacetyl, stearoyl, benzoyl, pn-octyloxyphenylcarbonyl, 2-pyridyl Examples thereof include a carbonyl group and a 2-furylcarbonyl group.
The aryloxycarbonyl group is preferably a substituted or unsubstituted aryloxycarbonyl group having 7 to 30 carbon atoms, such as phenoxycarbonyl group, o-chlorophenoxycarbonyl group, m-nitrophenoxycarbonyl group, pt- A butylphenoxycarbonyl group etc. are mentioned.

アルコキシカルボニル基としては、好ましくは、炭素数2から30の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、t−ブトキシカルボニル基、n−オクタデシルオキシカルボニル基等が挙げられる。
カルバモイル基としては、好ましくは、炭素数1から30の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N,N−ジ−n−オクチルカルバモイル基、N−(メチルスルホニル)カルバモイル基等が挙げられる。
アリールまたは複素環アゾ基としては、好ましくは炭素数6から30の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数3から30の置換もしくは無置換の複素環アゾ基、例えば、フェニルアゾ、p−クロロフェニルアゾ、5−エチルチオ−1,3,4−チアジアゾール−2−イルアゾ等が挙げられる。
Preferred examples of the alkoxycarbonyl group include substituted or unsubstituted alkoxycarbonyl groups having 2 to 30 carbon atoms such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a t-butoxycarbonyl group, and an n-octadecyloxycarbonyl group.
The carbamoyl group is preferably a substituted or unsubstituted carbamoyl group having 1 to 30 carbon atoms, such as a carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N, N-dimethylcarbamoyl group, or an N, N-di-n-octyl group. Examples thereof include a carbamoyl group and an N- (methylsulfonyl) carbamoyl group.
The aryl or heterocyclic azo group is preferably a substituted or unsubstituted arylazo group having 6 to 30 carbon atoms, a substituted or unsubstituted heterocyclic azo group having 3 to 30 carbon atoms, such as phenylazo, p-chlorophenylazo, 5-ethylthio-1,3,4-thiadiazol-2-ylazo and the like.

イミド基としては、好ましくは、N−スクシンイミド基、N−フタルイミド基等が挙げられる。
ホスフィノ基としては、好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基等が挙げられる。
ホスフィニル基としては、好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換のホスフィニル基、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基等が挙げられる。
ホスフィニルオキシ基としては、好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基等が挙げられる。
ホスフィニルアミノ基としては、好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基が挙げられる。
シリル基としては、好ましくは、炭素数0から30の置換もしくは無置換のシリル基、例えば、トリメチルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基等が挙げられる。
Preferred examples of the imide group include an N-succinimide group and an N-phthalimide group.
Preferred examples of the phosphino group include substituted or unsubstituted phosphino groups having 0 to 30 carbon atoms, such as a dimethylphosphino group, a diphenylphosphino group, and a methylphenoxyphosphino group.
The phosphinyl group is preferably a substituted or unsubstituted phosphinyl group having 0 to 30 carbon atoms, such as a phosphinyl group, a dioctyloxyphosphinyl group, a diethoxyphosphinyl group, and the like.
Preferred examples of the phosphinyloxy group include substituted or unsubstituted phosphinyloxy groups having 0 to 30 carbon atoms such as a diphenoxyphosphinyloxy group and a dioctyloxyphosphinyloxy group.
The phosphinylamino group is preferably a substituted or unsubstituted phosphinylamino group having 0 to 30 carbon atoms, such as a dimethoxyphosphinylamino group or a dimethylaminophosphinylamino group.
The silyl group is preferably a substituted or unsubstituted silyl group having 0 to 30 carbon atoms, such as a trimethylsilyl group, a t-butyldimethylsilyl group, and a phenyldimethylsilyl group.

上記の置換基の中で、水素原子を有するものは、該水素原子が上記の置換基で置換されていても良い。そのような置換基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられる。その例としては、メチルスルホニルアミノカルボニル基、p−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。   Among the above substituents, those having a hydrogen atom may be substituted with the above substituent. Examples of such a substituent include an alkylcarbonylaminosulfonyl group, an arylcarbonylaminosulfonyl group, an alkylsulfonylaminocarbonyl group, and an arylsulfonylaminocarbonyl group. Examples thereof include a methylsulfonylaminocarbonyl group, a p-methylphenylsulfonylaminocarbonyl group, an acetylaminosulfonyl group, and a benzoylaminosulfonyl group.

本発明における電子求引性基とは、電子効果で電子求引的な性質を有する置換基であり、置換基の電子求引性や電子供与性の尺度であるハメットの置換基定数σp値を用いれば、σp値が大きい置換基である。例えば、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、スルホ基、トリフルオロメチル基、アルコキシカルボニル基、アシル基などが挙げられる。
ハメットの置換基定数σp値について若干説明する。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるため、1935年にL.P.Hammettより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσp値とσm値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができるが、例えば、J.A.Dean編“Lange’s Handbook of Chemistry”第12版、1979年(Mc Graw-Hill)や「化学の領域」増刊、122号、96〜103頁、1979年(南光堂)に詳しく記載されている。
The electron-withdrawing group in the present invention is a substituent having an electron-withdrawing property due to an electronic effect, and Hammett's substituent constant σp value, which is a measure of the electron-withdrawing property and electron-donating property of the substituent, is If used, it is a substituent having a large σp value. Examples thereof include a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a sulfo group, a trifluoromethyl group, an alkoxycarbonyl group, and an acyl group.
Hammett's substituent constant σp value will be described briefly. Hammett's rule is an empirical rule proposed by LP Hammett in 1935 to quantitatively discuss the influence of substituents on the reaction or equilibrium of benzene derivatives, but this is widely accepted today. Substituent constants determined by Hammett's rule include σp value and σm value, and these values can be found in many general books. For example, JADean edition “Lange's Handbook of Chemistry” 12th edition 1979 (Mc Graw-Hill), “Chemical Fields”, Extra 122, 96-103, 1979 (Nankodo).

本発明の製造方法について説明する。
本発明の製造方法は、一般式(2)で表わされる化合物と一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体のモル比が1:1.10〜1:5.00の範囲で用いられることを特徴とする下記一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体の製造方法である。
The production method of the present invention will be described.
The production method of the present invention is characterized in that the molar ratio of the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine derivative represented by the general formula (1) is in the range of 1: 1.10 to 1: 5.00. And a method for producing a 5-aminopyrazole derivative represented by the following general formula (3).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

(式中、R1は、脂肪族基を表し、R2は、電子求引性基を表し、R3は、水素原子または置換基を表し、Xは、ハロゲン原子、−ORまたはNHを表す。Rは水素原子又は置換基を表す。) (Wherein R 1 represents an aliphatic group, R 2 represents an electron withdrawing group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, and X represents a halogen atom, —OR or NH. R represents a hydrogen atom or a substituent.

以下、一般式(1)、一般式(2)および一般式(3)で表される化合物について説明する。   Hereinafter, the compounds represented by the general formula (1), the general formula (2), and the general formula (3) will be described.

以下、一般式(1)について説明する。
1は脂肪族基を表し、更に置換基を有していてもよい。
1における脂肪族基としては前記置換基Aで記載した脂肪族基を挙げることができ、R1として好ましくは、置換基を有していてもよい炭素数1から30の脂肪族基であり、R1として特に好ましい構造は、置換基を有していてもよい炭素数1から15の脂肪族基である。中でも好ましくは無置換の脂肪族基であり、より好ましくは、炭素数5以下のアルキル基であり、更に好ましくは、メチル基、イソプロピル基又はtert−ブチル基であり、特に好ましくは、メチル基又はtert−ブチル基である。これらの好ましい基の場合、原料が安価であり入手性に優れ、5−アミノピラゾールの製造においてろ過性が良好である。
1が置換基を有する場合は、該置換基として前記置換基Aが挙げられる。置換基Aの中でも入手性に優れ製造におけるろ過性、生産性の観点で炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、炭素数0〜15のアミノ基、炭素数1〜15のアミノカルボニルアミノ基、炭素数1〜15の複素環基、炭素数1〜15のアシルアミノ基、炭素数1〜15のカルバモイル基、炭素数0〜15のスルファモイルアミノ基、炭素数0〜15のスルファモイル基、スルホ基及びカルボキシル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基、ヒドロキシル基、炭素数0〜10のアミノ基、炭素数1〜10のアミノカルボニルアミノ基、炭素数1〜10の複素環基、炭素数1〜10のアシルアミノ基、炭素数1〜10のカルバモイル基、炭素数0〜10のスルファモイルアミノ基、炭素数0〜10のスルファモイル基、スルホ基及びカルボキシル基が更に好ましく、ヒドロキシル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数0〜5のアミノ基、炭素数0〜5のカルバモイル基、炭素数1〜5の複素環基、炭素数1〜5のアシルアミノ基、炭素数1〜5のカルバモイル基、スルホ基及びカルボキシル基が最も好ましい。
以上をまとめると本発明の製造方法で使用される一般式(1)は、下記(イ)と(ロ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)R1は脂肪族基を表し、より好ましくは、メチル基、イソプロピル基又はtert−ブチル基であり、特に好ましくは、メチル基又はtert−ブチル基である。
(ロ)R1が置換基を有する場合は、置換基としてヒドロキシル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数0〜5のアミノ基、炭素数0〜5のカルバモイル基、炭素数1〜5の複素環基、炭素数1〜5のアシルアミノ基、炭素数1〜5のカルバモイル基、スルホ基及びカルボキシル基が最も好ましい。
なお、一般式(1)で表される化合物のR1と、R1が更に有することのできる置換基の組み合わせについては、種々の置換基の少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、全ての置換基が前記の好ましい基である化合物が最も好ましく、特に好ましくは、R1が無置換の場合である。
Hereinafter, the general formula (1) will be described.
R 1 represents an aliphatic group and may further have a substituent.
Examples of the aliphatic group for R 1 include the aliphatic groups described for the substituent A, and R 1 is preferably an aliphatic group having 1 to 30 carbon atoms which may have a substituent. , R 1 is particularly preferably an aliphatic group having 1 to 15 carbon atoms which may have a substituent. Among them, an unsubstituted aliphatic group is preferable, an alkyl group having 5 or less carbon atoms is more preferable, a methyl group, an isopropyl group, or a tert-butyl group is more preferable, and a methyl group or tert-Butyl group. In the case of these preferable groups, the raw material is inexpensive and excellent in availability, and the filterability is good in the production of 5-aminopyrazole.
When R 1 has a substituent, examples of the substituent include the substituent A. Among the substituents A, excellent availability and filterability in production, from the viewpoint of productivity, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group having 1 to 15 carbon atoms, a halogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, and 0 to carbon atoms. 15 amino groups, C1-C15 aminocarbonylamino groups, C1-C15 heterocyclic groups, C1-C15 acylamino groups, C1-C15 carbamoyl groups, C1-C15 A sulfamoylamino group, a sulfamoyl group having 0 to 15 carbon atoms, a sulfo group and a carboxyl group are preferable, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, an amino group having 0 to 10 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Aminocarbonylamino group, C1-C10 heterocyclic group, C1-C10 acylamino group, C1-C10 carbamoyl group, C0-C10 sulfamoylamino , A sulfamoyl group having 0 to 10 carbon atoms, a sulfo group and a carboxyl group are more preferable, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an amino group having 0 to 5 carbon atoms, a carbamoyl group having 0 to 5 carbon atoms, carbon Most preferred are a heterocyclic group having 1 to 5 carbon atoms, an acylamino group having 1 to 5 carbon atoms, a carbamoyl group having 1 to 5 carbon atoms, a sulfo group and a carboxyl group.
In summary, the general formula (1) used in the production method of the present invention is preferably a combination of the following (A) and (B).
(I) R 1 represents an aliphatic group, more preferably a methyl group, an isopropyl group, or a tert-butyl group, and particularly preferably a methyl group or a tert-butyl group.
(B) When R 1 has a substituent, the substituent is a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, an amino group having 0 to 5 carbon atoms, a carbamoyl group having 0 to 5 carbon atoms, or 1 to 1 carbon atoms. Most preferred are 5 heterocyclic groups, acylamino groups having 1 to 5 carbon atoms, carbamoyl groups having 1 to 5 carbon atoms, sulfo groups and carboxyl groups.
As for the combination of R 1 of the compound represented by the general formula (1) and the substituent that R 1 can further have, a compound in which at least one of various substituents is the above-mentioned preferred group is preferable. Most preferred are compounds in which all substituents are the above preferred groups, and particularly preferred is when R 1 is unsubstituted.

続いて一般式(2)について説明する。
2は、電子求引性基を表し更に置換基を有していてもよい。
2における電子求引性基としては前記した電子求引性基を挙げることができ、好ましくは、σp値が0.2以上の電子求引性基であり、例えば、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキルまたはアリールスルホニル基、アシル基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルファモイル基、スルホ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基であり、より好ましくは、シアノ基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルファモイル基、スルホ基、アルコキシスルホニル基、アリールオキシスルホニル基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基であり、特に好ましくは、シアノ基、アルコキシスルホニル基またはアルコキシカルボニル基である。R2がこれらの電子求引性基の場合、原料の入手性及び反応の生産性、5−アミノピラゾール誘導体の単離の際のろ過性に優れる。
これらの基は更に置換基を有していても良い。更なる置換基としては、炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアリール基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のアリール基が好ましく、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数1〜5のアリール基が更に好ましい。
3は、水素原子または置換基を表し、更に置換基を有していても良い。より好ましくは、R3は水素原子、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、複素環チオ基、アルキル又はアリールスルフィニル基、及びアルキル又はアリールスルホニル基であり、更に好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アミノ基、及びアルキルチオ基であり、特に好ましくは、水素原子、アルキル基およびアルキルチオ基である。R3がこれらより選択されることにより、5−アミノピラゾール誘導体を製造する上で、生産性及びろ過性が良いため安価に製造することができる。
3が有することのできる置換基としては、置換基Aが挙げられる。置換基Aの中でも原料の入手性に優れる点及び5−アミノピラゾール誘導体の製造におけるろ過性、生産性の観点で炭素数1〜15のアルキル基、炭素数1〜15のアリール基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、シアノ基、炭素数0〜15のアミノ基、炭素数1〜15のアミノカルボニルアミノ基、炭素数1〜15の複素環基、炭素数1〜15のアシルアミノ基、炭素数1〜15のカルバモイル基、炭素数0〜15のスルファモイルアミノ基、炭素数0〜15のスルファモイル基、スルホ基及びカルボキシル基が好ましく、炭素数1〜10のアルキル基、ヒドロキシル基、炭素数0〜10のアミノ基、炭素数1〜10のアミノカルボニルアミノ基、炭素数1〜10の複素環基、炭素数1〜10のアシルアミノ基、炭素数1〜10のカルバモイル基、炭素数0〜10のスルファモイルアミノ基、炭素数0〜10のスルファモイル基、スルホ基及びカルボキシル基が更に好ましく、ヒドロキシル基、炭素数1〜5のアルキル基、炭素数0〜5のアミノ基、炭素数0〜5のカルバモイル基、炭素数1〜5の複素環基、炭素数1〜5のアシルアミノ基、炭素数1〜5のカルバモイル基、スルホ基及びカルボキシル基が最も好ましい。
Next, general formula (2) will be described.
R 2 represents an electron withdrawing group and may further have a substituent.
Examples of the electron withdrawing group in R 2 include the electron withdrawing group described above, and preferably an electron withdrawing group having a σp value of 0.2 or more, such as a halogen atom, a nitro group, A cyano group, an alkyl or arylsulfonyl group, an acyl group, a carbamoyl group, a carboxyl group, a sulfamoyl group, a sulfo group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group, more preferably a cyano group, a carbamoyl group, a carboxyl group, a sulfamoyl group , A sulfo group, an alkoxysulfonyl group, an aryloxysulfonyl group, an alkoxycarbonyl group and an aryloxycarbonyl group, particularly preferably a cyano group, an alkoxysulfonyl group or an alkoxycarbonyl group. When R 2 is an electron-withdrawing group, the raw material availability and reaction productivity are excellent, and the filterability during isolation of the 5-aminopyrazole derivative is excellent.
These groups may further have a substituent. As the further substituent, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms and an aryl group having 1 to 15 carbon atoms are preferable, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and an aryl group having 1 to 10 carbon atoms are preferable, and the number of carbon atoms is 1 More preferred are an alkyl group of ˜5 and an aryl group of 1 to 5 carbon atoms.
R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, and may further have a substituent. More preferably, R 3 is a hydrogen atom, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an alkyl or arylsulfinyl group, and an alkyl or arylsulfonyl group. More preferred are a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an amino group, and an alkylthio group, and particularly preferred are a hydrogen atom, an alkyl group, and an alkylthio group. By selecting R 3 from these, it is possible to produce the 5-aminopyrazole derivative at low cost because of good productivity and filterability.
Examples of the substituent that R 3 can have include the substituent A. Among the substituents A, from the viewpoint of excellent availability of raw materials and filterability in the production of 5-aminopyrazole derivatives, from the viewpoint of productivity, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, an aryl group having 1 to 15 carbon atoms, a halogen atom, Hydroxyl group, cyano group, amino group having 0 to 15 carbon atoms, aminocarbonylamino group having 1 to 15 carbon atoms, heterocyclic group having 1 to 15 carbon atoms, acylamino group having 1 to 15 carbon atoms, 1 to 15 carbon atoms Carbamoyl group, a sulfamoylamino group having 0 to 15 carbon atoms, a sulfamoyl group having 0 to 15 carbon atoms, a sulfo group and a carboxyl group are preferable, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a hydroxyl group, and 0 to 10 carbon atoms. An aminocarbonylamino group having 1 to 10 carbon atoms, a heterocyclic group having 1 to 10 carbon atoms, an acylamino group having 1 to 10 carbon atoms, and a carbamoyl having 1 to 10 carbon atoms. Group, a sulfamoylamino group having 0 to 10 carbon atoms, a sulfamoyl group having 0 to 10 carbon atoms, a sulfo group and a carboxyl group are more preferable, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and a 0 to 5 carbon atom. Most preferred are an amino group, a carbamoyl group having 0 to 5 carbon atoms, a heterocyclic group having 1 to 5 carbon atoms, an acylamino group having 1 to 5 carbon atoms, a carbamoyl group having 1 to 5 carbon atoms, a sulfo group, and a carboxyl group.

Xは、ハロゲン原子、−OR及びアミノ基を表し、Rは脂肪族基、アリール基及び複素環基を表す。これらの基は更なる置換基を有していても良い。
Xは、より好ましくは、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルコキシ基またはアリールオキシ基を表し、これらの基は更なる置換基を有していてもよい。Xとして更に好ましくは、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルコキシ基であり、特に好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。Xがこれらの置換基を表す場合、一般式(2)で表される化合物を誘導する上で、その原料の入手性、一般式(2)で表される化合物を製造の際の生産性、非結晶性に優れており、一般式(3)で表される化合物を製造する上で、生産性が良好でかつろ過性に優れ、製造の適性がある。
以上をまとめると、本発明の製造方法で使用される一般式(2)のR2、R3、Xは、下記(イ)〜(ハ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)R2が表す電子求引性基として、特に好ましくは、シアノ基、アルコキシスルホニル基またはアルコキシカルボニル基である。
(ロ)R3が表す水素原子または置換基として、特に好ましくは、水素原子、アルキル基およびアルキルチオ基である。
(ハ)Xが表すハロゲン原子、−OR及びアミノ基として、特に好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。
なお、一般式(2)で表される化合物のR2、R3、Xの組み合わせについては、種々のR2、R3、Xの少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々のR2、R3、Xが前記の好ましい基である化合物がより好ましく、全てのR2、R3、Xが前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
X represents a halogen atom, —OR and an amino group, and R represents an aliphatic group, an aryl group and a heterocyclic group. These groups may have further substituents.
X more preferably represents a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an alkoxy group or an aryloxy group, and these groups optionally further have a substituent. X is more preferably a halogen atom or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group. When X represents these substituents, in order to derive the compound represented by the general formula (2), the availability of the raw material, the productivity in producing the compound represented by the general formula (2), It is excellent in non-crystallinity, and in producing the compound represented by the general formula (3), it has good productivity, excellent filterability, and suitability for production.
In summary, R 2 , R 3 and X in the general formula (2) used in the production method of the present invention are preferably those composed of the following combinations (a) to (c).
(A) The electron withdrawing group represented by R 2 is particularly preferably a cyano group, an alkoxysulfonyl group or an alkoxycarbonyl group.
(B) The hydrogen atom or substituent represented by R 3 is particularly preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an alkylthio group.
(C) The halogen atom, —OR and amino group represented by X is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
As for the combination of R 2 , R 3 and X of the compound represented by the general formula (2), a compound in which at least one of various R 2 , R 3 and X is the above-mentioned preferred group is preferable, and more The compounds in which the various R 2 , R 3 and X are the preferred groups are more preferred, and the compounds in which all R 2 , R 3 and X are the preferred groups are most preferred.

一般式(2)で表される化合物は一般式(2’)で表される化合物であることがより好ましい。   The compound represented by the general formula (2) is more preferably a compound represented by the general formula (2 ').

Figure 2010083812
Figure 2010083812

X及びR2は一般式(2)におけるX及びR2と同義であり、好ましい例も同義である。
以上をまとめると、本発明の製造方法で使用される一般式(2’)のR2、Xは、下記(イ)と(ロ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)R2が表す電子求引性基として、特に好ましくは、シアノ基、アルコキシスルホニル基またはアルコキシカルボニル基である。
(ロ)Xが表すハロゲン原子、−OR及びアミノ基として、特に好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。
なお、一般式(2’)で表される化合物のR2、Xの組み合わせについては、種々のR2、Xの少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、全てのR2、Xが前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
更に、一般式(2’)で表される化合物は一般式(2’’)で表される化合物であることが更に好ましい。
X and R 2 have the general formula (2) have the same meanings as X and R 2 in a preferred embodiment is also the same.
In summary, R 2 and X in the general formula (2 ′) used in the production method of the present invention are preferably composed of the following combinations (a) and (b).
(A) The electron withdrawing group represented by R 2 is particularly preferably a cyano group, an alkoxysulfonyl group or an alkoxycarbonyl group.
(B) The halogen atom, -OR and amino group represented by X is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
Note that the combination of R 2, X in formula (2 ') and a compound represented by at least one of various R 2, X is the above preferred group compounds are preferred, all R 2, X Most preferred are compounds that are the preferred groups.
Furthermore, the compound represented by the general formula (2 ′) is more preferably a compound represented by the general formula (2 ″).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

Xは一般式(2)におけるXと同義であり、好ましい例も同義である。
Lは、−C(O)−及びS(O)2−を表す。R6は脂肪族基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基及びアミノ基を表す。
X is synonymous with X in the general formula (2), and preferred examples are also synonymous.
L represents -C (O)-and S (O) 2- . R 6 represents an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, or an amino group.

Lは、−C(O)−及びS(O)2−を表す。好ましくは、−C(O)−である。
6は脂肪族基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基及びアミノ基を表す。これらの基は更なる置換基を有していても良い。R6として好ましくはアルコキシ基、アリールオキシ基及びアミノ基であり、更に好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基である。
上記を選択することにより、安価な原料を調達でき、このため安価に製造することが可能となり、製造における生産性やろ過性が良好となる。
以上をまとめると、本発明の製造方法で使用される一般式(2’’)のX、LおよびR6は、下記(イ)〜(ハ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)Xが表すハロゲン原子、−OR及びアミノ基として、特に好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。
(ロ)Lが表す−C(O)−及びS(O)2−において、より好ましくは、−C(O)−である。
(ハ)R6が表す脂肪族基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基及びアミノ基において、特に好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基である。
なお、一般式(2’’)で表される化合物のX、LおよびR6の組み合わせについては、種々のX、LおよびR6の少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々のX、LおよびR6が前記の好ましい基である化合物がより好ましく、全てのX、LおよびR6が前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
L represents -C (O)-and S (O) 2- . Preferably, -C (O)-.
R 6 represents an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, a heterocyclic oxy group, or an amino group. These groups may have further substituents. R 6 is preferably an alkoxy group, an aryloxy group and an amino group, more preferably an alkoxy group, and particularly preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms.
By selecting the above, it is possible to procure an inexpensive raw material, and thus it is possible to manufacture at a low cost, and the productivity and filterability in manufacturing are improved.
In summary, X, L, and R 6 in the general formula (2 ″) used in the production method of the present invention are preferably composed of the following combinations (a) to (c).
(A) The halogen atom, -OR and amino group represented by X is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
(B) In —C (O) — and S (O) 2 — represented by L, —C (O) — is more preferable.
(C) In the aliphatic group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group and amino group represented by R 6 , an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms is particularly preferred.
As for the combination of X, L and R 6 of the compound represented by the general formula (2 ″), a compound in which at least one of various X, L and R 6 is the above preferred group is preferable, and more More preferred are compounds in which the various X, L and R 6 are the above preferred groups, and most preferred are compounds in which all of X, L and R 6 are the above preferred groups.

一般式(2)で表される化合物としては下記の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Although the following specific examples are given as a compound represented by General formula (2), this invention is not limited to these.

Figure 2010083812
Figure 2010083812

Figure 2010083812
Figure 2010083812

Figure 2010083812
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Figure 2010083812
Figure 2010083812

Figure 2010083812
Figure 2010083812

Figure 2010083812
Figure 2010083812

以下、一般式(3)について説明する。
一般式(3)のR1、R2およびR3は、一般式(1)および一般式(2)におけるR1、R2およびR3と同義であり、また、好ましい例も同義である。
一般式(3)で表される化合物は、R1、R2及びR3を介して複数連結してもよい。この場合、R1、R2及びR3は2価の有機基を表すことが好ましい。R1、R2及びR3が表す2価の有機基は、オキシ基−O−、チオ基−S−、カルボニル基−CO−、スルホニル基−SO2−、イミノ基−NH−、メチレン基−CH2−、及びこれらを組み合わせて形成される基であることが好ましい。より好ましくは、オキシ基−O−、カルボニル基−CO−、スルホニル基−SO2−、イミノ基−NH−、メチレン基−CH2−から選ばれる単独もしくは組合わせであり、更に好ましくはオキシ基−O−カルボニル基−CO−、イミノ基−NH−、メチレン基−CH2−から選ばれる単独もしくは組合わせである。これらの2価の有機基を選択すれば、安価な5−アミノピラゾールを製造することが可能となる。
以上をまとめると、本発明の製造方法で得られる一般式(3)のR1、R2およびR3は、下記(イ)〜(ハ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)R1は脂肪族基を表し、より好ましくは、メチル基、イソプロピル基又はtert−ブチル基であり、特に好ましくは、メチル基又はtert−ブチル基である。
(ロ)R2が表す電子求引性基として、特に好ましくは、シアノ基、アルコキシスルホニル基またはアルコキシカルボニル基である。
(ハ)R3が表す水素原子または置換基として、特に好ましくは、水素原子、アルキル基およびアルキルチオ基である。
なお、一般式(3)で表される化合物のR1、R2およびR3の組み合わせについては、種々のR1、R2およびR3の少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々のR1、R2およびR3が前記の好ましい基である化合物がより好ましく、全てのR1、R2およびR3が前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
一般式(3)で表される化合物は一般式(3’)で表される化合物であることがより好ましい。
Hereinafter, the general formula (3) will be described.
R 1, R 2 and R 3 in the general formula (3) has the same meaning as R 1, R 2 and R 3 in the general formula (1) and general formula (2), also a preferred embodiment is also the same.
A plurality of compounds represented by the general formula (3) may be linked via R 1 , R 2 and R 3 . In this case, R 1 , R 2 and R 3 preferably represent a divalent organic group. The divalent organic groups represented by R 1 , R 2 and R 3 are oxy group —O—, thio group —S—, carbonyl group —CO—, sulfonyl group —SO 2 —, imino group —NH—, and methylene group. It is preferably a group formed by —CH 2 — and a combination thereof. More preferably, it is an oxy group —O—, a carbonyl group —CO—, a sulfonyl group —SO 2 —, an imino group —NH—, or a methylene group —CH 2 —, and more preferably an oxy group. It is a single or combination selected from —O—carbonyl group —CO—, imino group —NH—, and methylene group —CH 2 —. If these divalent organic groups are selected, it is possible to produce inexpensive 5-aminopyrazole.
In summary, R 1 , R 2 and R 3 in the general formula (3) obtained by the production method of the present invention are preferably those composed of the following combinations (a) to (c).
(I) R 1 represents an aliphatic group, more preferably a methyl group, an isopropyl group, or a tert-butyl group, and particularly preferably a methyl group or a tert-butyl group.
(B) The electron withdrawing group represented by R 2 is particularly preferably a cyano group, an alkoxysulfonyl group or an alkoxycarbonyl group.
(C) The hydrogen atom or substituent represented by R 3 is particularly preferably a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkylthio group.
As for the combination of R 1 , R 2 and R 3 of the compound represented by the general formula (3), a compound in which at least one of various R 1 , R 2 and R 3 is the above preferred group is preferable, More preferred are compounds in which a greater variety of R 1 , R 2 and R 3 are the above preferred groups, and most preferred are compounds in which all R 1 , R 2 and R 3 are the preferred groups.
The compound represented by the general formula (3) is more preferably a compound represented by the general formula (3 ′).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

1及びR2については、上述のR1、R2と同義であり、好ましい例も同義である。
以上をまとめると、本発明の製造方法で得られる一般式(3’)のR1およびR2は、下記(イ)と(ロ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)R1は脂肪族基を表し、より好ましくは、メチル基、イソプロピル基又はtert−ブチル基であり、特に好ましくは、メチル基又はtert−ブチル基である。
(ロ)R2が表す電子求引性基として、特に好ましくは、シアノ基、アルコキシスルホニル基またはアルコキシカルボニル基である。
なお、一般式(3’)で表される化合物のR1およびR2の組み合わせについては、種々のR1およびR2の少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、全てのR1およびR2が前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
更に一般式(3’)で表される化合物は一般式(3'')で表される化合物が好ましい。
For R 1 and R 2 has the same meaning as R 1, R 2 described above, and preferred examples are also the same meanings.
In summary, R 1 and R 2 in the general formula (3 ′) obtained by the production method of the present invention are preferably composed of the following combinations (a) and (b).
(I) R 1 represents an aliphatic group, more preferably a methyl group, an isopropyl group, or a tert-butyl group, and particularly preferably a methyl group or a tert-butyl group.
(B) The electron withdrawing group represented by R 2 is particularly preferably a cyano group, an alkoxysulfonyl group or an alkoxycarbonyl group.
Note that the combination of R 1 and R 2 in the general formula (3 '), compounds represented by preferably various at least one preferred group is compounds of the R 1 and R 2, all the R 1 and Most preferred are compounds wherein R 2 is the preferred group.
Further, the compound represented by the general formula (3 ′) is preferably a compound represented by the general formula (3 ″).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

1、R6及びLについては、上述のR1、R6及びLと同義であり、好ましい例も同義である。
以上をまとめると、本発明の製造方法で得られる一般式(3’’)のR1、R6およびLは、下記(イ)〜(ハ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)R1は脂肪族基を表し、より好ましくは、メチル基、イソプロピル基又はtert−ブチル基であり、特に好ましくは、メチル基又はtert−ブチル基である。
(ロ)Lが表す−C(O)−及びS(O)2−において、より好ましくは、−C(O)−である。
(ハ)R6が表す脂肪族基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基及びアミノ基において、特に好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基である。
なお、一般式(3’’)で表される化合物のR1、R6およびLの組み合わせについては、種々のR1、R6およびLの少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々のR1、R6およびLが前記の好ましい基である化合物がより好ましく、全てのR1、R6およびLが前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
For R 1, R 6 and L, have the same meaning as above R 1, R 6 and L, and preferred examples also have the same meanings.
In summary, R 1 , R 6 and L in the general formula (3 ″) obtained by the production method of the present invention are preferably those composed of the following combinations (a) to (c).
(I) R 1 represents an aliphatic group, more preferably a methyl group, an isopropyl group, or a tert-butyl group, and particularly preferably a methyl group or a tert-butyl group.
(B) In —C (O) — and S (O) 2 — represented by L, —C (O) — is more preferable.
(C) In the aliphatic group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group and amino group represented by R 6 , an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms is particularly preferred.
As for the combination of R 1 , R 6 and L of the compound represented by the general formula (3 ″), a compound in which at least one of various R 1 , R 6 and L is the above preferred group is preferable, More preferred are compounds in which a greater variety of R 1 , R 6 and L are the preferred groups, and most preferred are compounds in which all R 1 , R 6 and L are the preferred groups.

上記の一般式(3)、より好ましくは一般式(3’)、更に好ましくは一般式(3’’)を選択することによって、一層の安価製造及び製造における生産性、ろ過性が良好となり、5−アミノピラゾールが簡便に製造できる。   By selecting the general formula (3), more preferably the general formula (3 ′), and more preferably the general formula (3 ″), productivity at low cost and production, and filterability are improved. 5-aminopyrazole can be easily produced.

次に具体例として一般式(3)の好ましい例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。   Next, preferred examples of the general formula (3) are given as specific examples, but the present invention is not limited thereto.

Figure 2010083812
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Figure 2010083812
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Figure 2010083812
Figure 2010083812

Figure 2010083812
Figure 2010083812

本発明の化合物は、置換基の種類によっては、互変異性体として存在することがある。純粋な形態の任意の互変異性体、互変異性体の任意の混合物は、いずれも本発明の化合物に包含される。   The compound of the present invention may exist as a tautomer depending on the type of substituent. Any tautomer in pure form, any mixture of tautomers is encompassed by the compounds of the present invention.

また、本発明では、一般式(1)から一般式(5)で表される化合物は、構造中に同位元素(例えば、2H、3H、13C、15N)を含有していてもよい。 In the present invention, the compounds represented by the general formulas (1) to (5) may contain isotopes (eg, 2 H, 3 H, 13 C, 15 N) in the structure. Good.

本発明に用いられる化合物には、その合成過程や単離法などによって対塩を伴っているものも含まれる。対塩はいずれのものでもよいが、例えば、ハロゲン化物イオン、硫酸イオン、硝酸イオン、炭酸イオン、スルホン酸イオン、リン酸イオン、酢酸イオン、金属イオン、アンモニウムイオンなどが挙げられる。構造によっては分子内塩を形成しても良い。   The compounds used in the present invention include those accompanied with a counter salt by the synthesis process or isolation method. Any salt may be used, and examples thereof include halide ions, sulfate ions, nitrate ions, carbonate ions, sulfonate ions, phosphate ions, acetate ions, metal ions, and ammonium ions. Depending on the structure, an inner salt may be formed.

以下、一般式(3)で示される化合物の製造方法について説明する。
本発明において、一般式(2)で表わされる化合物と一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体のモル比が1:1.10〜1:5.00の範囲で用いられる。好ましくは1:1.15〜1:4.00の範囲であり、より好ましくは1:1.20〜1:3.00の範囲である。
一般式(2)で表わされる化合物と一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体のモル比を上記の範囲とすることで、異性体の生成を抑制でき、高収率で一般式(3)で表される化合物を得ることができ好ましい。
本発明の製造方法において、反応溶媒を用い、該反応溶媒が水若しくはアルコール性溶媒又は、水若しくはアルコール性溶媒の混合溶媒であることが好ましい。
アルコール性溶媒としては例えば、炭素数1〜10のアルキルアルコール、炭素数2〜10のアルキレングリコール及びグリセリンが好ましく、より好ましくはメタノール、エタノール、i−プロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール及びトリエチレングリコールが挙げられる。更に好ましくは、メタノール、エタノール及びi−プロピルアルコールである。水及びこれらのアルコール性溶媒を適宜組み合わせて混合溶媒として用いてもよい。これらの溶媒を選択することで安価製造が可能となるばかりでなく、5−アミノピラゾールを結晶として取り出す際のろ過性が良好となり、5−アミノピラゾールの化学的純度が高くなる。
水またはアルコール性溶媒の混合溶媒を用いる場合、混合する溶媒は、炭化水素系溶媒、エーテル系溶媒、エステル系溶媒、アミド系溶媒、ケトン系溶媒、ニトリル系溶媒及びスルホキシド系溶媒が挙げられる。より好ましくは、炭素数1〜10の炭化水素、炭素数1〜10のエーテル、炭素数1〜10のエステル、炭素数1〜10のアミド、炭素数1〜10のケトン、炭素数1〜10のニトリル及び炭素数1〜10のスルホキシド系溶媒であり、更に好ましくは炭素数1〜10の炭化水素、炭素数1〜10のエーテルである。例えば、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン、トルエン、及び2−エチルヘキサンが挙げられ、より好ましくはn−ペンタン、n−ヘキサン、及びトルエンである。これらの混合溶媒を選択することで、5−アミノピラゾールを高純度かつ高収率で得ることが可能となる。
水またはアルコール性溶媒の混合溶媒を用いる場合、その混合比は特に制限はないが、重量比で1:99〜99:1の範囲であることが好ましく、1:4〜4:1の範囲であることがより好ましい。この条件を選択することで、5−アミノピラゾールをロスなく結晶として単離が可能となる。
また混合溶媒の場合、均一状態であっても層分離するような不均一状態であっても、どちらも選択できる。
Hereinafter, the manufacturing method of the compound shown by General formula (3) is demonstrated.
In the present invention, the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine derivative represented by the general formula (1) are used in a molar ratio of 1: 1.10 to 1: 5.00. Preferably it is the range of 1: 1.15 to 1: 4.00, More preferably, it is the range of 1: 1.20 to 1: 3.00.
By making the molar ratio of the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine derivative represented by the general formula (1) within the above range, the formation of isomers can be suppressed, and the general formula (3) can be obtained in a high yield. The compound represented can be obtained and is preferable.
In the production method of the present invention, a reaction solvent is used, and the reaction solvent is preferably water or an alcoholic solvent or a mixed solvent of water or an alcoholic solvent.
As the alcoholic solvent, for example, an alkyl alcohol having 1 to 10 carbon atoms, an alkylene glycol having 2 to 10 carbon atoms and glycerin are preferable, and methanol, ethanol, i-propyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol and triethylene are more preferable. Ethylene glycol is mentioned. More preferred are methanol, ethanol and i-propyl alcohol. You may use water and these alcoholic solvents suitably as a mixed solvent in combination. By selecting these solvents, not only low-cost production is possible, but also the filterability when taking out 5-aminopyrazole as crystals is improved, and the chemical purity of 5-aminopyrazole is increased.
When using a mixed solvent of water or an alcoholic solvent, examples of the solvent to be mixed include hydrocarbon solvents, ether solvents, ester solvents, amide solvents, ketone solvents, nitrile solvents, and sulfoxide solvents. More preferably, it is C1-C10 hydrocarbon, C1-C10 ether, C1-C10 ester, C1-C10 amide, C1-C10 ketone, C1-C10. Nitriles and sulfoxide solvents having 1 to 10 carbon atoms, more preferably hydrocarbons having 1 to 10 carbon atoms and ethers having 1 to 10 carbon atoms. For example, n-pentane, n-hexane, n-heptane, toluene, and 2-ethylhexane are mentioned, More preferably, it is n-pentane, n-hexane, and toluene. By selecting these mixed solvents, 5-aminopyrazole can be obtained with high purity and high yield.
When a mixed solvent of water or an alcoholic solvent is used, the mixing ratio is not particularly limited, but is preferably in the range of 1:99 to 99: 1 by weight, and in the range of 1: 4 to 4: 1. More preferably. By selecting this condition, 5-aminopyrazole can be isolated as a crystal without loss.
In the case of a mixed solvent, either a uniform state or a non-uniform state in which layers are separated can be selected.

また、反応に用いる混合溶媒の使用量は特に限定されず、反応系の種類などに応じて適宜選択することができるが、通常は一般式(1)のヒドラジン誘導体に対して溶媒を質量比でそれぞれ0.5〜100倍程度が適当であり、1〜50倍が好ましく、特に好ましくは、1〜20倍である。この条件を選択することで、生産性が増すため安価製造が可能となる。また廃溶剤が少なくなるため環境にもやさしい。
本発明の製造方法において、反応温度は、0℃〜100℃が好ましい。より好ましくは0℃〜90℃であり、更に好ましくは4℃〜80℃である。この条件を選択することで、5−アミノピラゾールの分解や異性体の副生が抑制され、かつ、加熱による時間を短縮できるため安価製造が可能となる。
反応時間は、20分〜7時間が好ましい。より好ましくは30分〜6時間であり、更に好ましくは1時間〜5時間である。この条件を選択すると、定量的に5−アミノピラゾールを得ることができ、かつ経済的な反応時間となるため安価製造が可能となる。
本工程において、一般式(2)で表される化合物と一般式(1)で表されるヒドラジン化合物の仕込における添加順序は任意であり、特に限定されないが、好ましくは、一般式(2)で表される化合物と、水若しくはアルコール性溶媒又はそれからなる混合溶媒を添加し、その中に、一般式(1)で表される化合物を滴下することである。
所望の5−アミノピラゾールを単離する方法は特に限定されない。例えば、反応で析出する5−アミノピラゾールをろ過後、反応溶媒の例で記載した溶媒で洗浄後乾燥する方法や、反応終了後、反応溶媒の例で記載した溶媒を添加し5−アミノピラゾールを晶析させ、単離・洗浄後乾燥する方法や、反応液から反応溶媒、過剰な原料を留去後に残渣を得る方法、更に反応溶媒の例で記載した溶媒で生成した5−アミノピラゾールを抽出後、水で洗浄し、有機層を乾燥する方法が挙げられる。より好ましくは、析出固体をろ別する方法であるが、反応が定量的に進行する場合には、濃縮法や溶媒抽出法が有効となる。
以上をまとめると、一般式(1)で表される化合物の製造条件としては(イ)〜(ヘ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)一般式(2)で表わされる化合物と一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体のモル比として1:1.10〜1:5.00の範囲で使用でき、特に好ましくは1:1.20〜1:3.00の範囲である。
(ロ)反応溶媒としては、水若しくはアルコール性溶媒又は、水若しくはアルコール性溶媒の混合溶媒であり、より好ましくは水もしくはメタノール、エタノール、i−プロピルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール及びトリエチレングリコールの単独か、もしくは、これらとn−ペンタン、n−ヘキサン、及びトルエン混合溶媒である。
(ハ)上記(ロ)の混合溶媒の混合比は重量で1:4〜4:1の範囲である。
(ニ)溶媒量として一般式(1)のヒドラジン誘導体に対して、質量比で1〜20倍が好ましい。
(ホ)反応温度として特に好ましくは4℃〜80℃である。
(ヘ)反応時間として特に好ましくは1時間〜5時間である。
なお、一般式(1)で表される化合物を製造における条件の組み合わせについては、種々の条件の少なくとも1つが前記の好ましい条件である製造が好ましく、より多くの種々の条件が前記の好ましい条件である製造がより好ましく、全てが前記の条件である製造が最も好ましい。
The amount of the mixed solvent used for the reaction is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the type of the reaction system. Usually, the solvent is used in a mass ratio with respect to the hydrazine derivative of the general formula (1). About 0.5-100 times is appropriate respectively, 1-50 times are preferable, Most preferably, it is 1-20 times. By selecting this condition, productivity can be increased and inexpensive manufacturing becomes possible. It is also environmentally friendly because less waste solvent is used.
In the production method of the present invention, the reaction temperature is preferably 0 ° C to 100 ° C. More preferably, it is 0 degreeC-90 degreeC, More preferably, it is 4 degreeC-80 degreeC. By selecting this condition, decomposition of 5-aminopyrazole and by-product formation of isomers are suppressed, and the time required for heating can be shortened, so that low-cost production is possible.
The reaction time is preferably 20 minutes to 7 hours. More preferably, it is 30 minutes-6 hours, More preferably, it is 1 hour-5 hours. When this condition is selected, 5-aminopyrazole can be quantitatively obtained and an economical reaction time can be obtained, so that inexpensive production is possible.
In this step, the order of addition in the preparation of the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine compound represented by the general formula (1) is arbitrary and is not particularly limited, but is preferably represented by the general formula (2) It is adding the compound represented and water or an alcoholic solvent, or the mixed solvent consisting thereof, and dripping the compound represented by General formula (1) in it.
The method for isolating the desired 5-aminopyrazole is not particularly limited. For example, the 5-aminopyrazole precipitated in the reaction is filtered, washed with the solvent described in the example of the reaction solvent and dried, or after the reaction is completed, the solvent described in the example of the reaction solvent is added and 5-aminopyrazole is added. Method of crystallizing, drying after isolation / washing, method of obtaining a residue after distilling off reaction solvent and excess raw material from reaction solution, and further extracting 5-aminopyrazole produced with solvent described in reaction solvent example Thereafter, a method of washing with water and drying the organic layer can be mentioned. More preferably, the method is a method in which the precipitated solid is filtered, but when the reaction proceeds quantitatively, a concentration method or a solvent extraction method is effective.
In summary, the production conditions for the compound represented by the general formula (1) are preferably those comprising a combination of (i) to (f).
(I) The molar ratio of the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine derivative represented by the general formula (1) can be used in the range of 1: 1.10 to 1: 5.00, and particularly preferably 1: 1. .20 to 1: 3.00.
(B) The reaction solvent is water or an alcoholic solvent or a mixed solvent of water or an alcoholic solvent, and more preferably water or methanol, ethanol, i-propyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol and triethylene. A glycol alone or a mixed solvent of these with n-pentane, n-hexane and toluene.
(C) The mixing ratio of the mixed solvent (b) is in the range of 1: 4 to 4: 1 by weight.
(D) The solvent amount is preferably 1 to 20 times by mass ratio with respect to the hydrazine derivative of the general formula (1).
(E) The reaction temperature is particularly preferably 4 ° C to 80 ° C.
(F) The reaction time is particularly preferably 1 to 5 hours.
In addition, about the combination of the conditions in manufacture of the compound represented by General formula (1), manufacture in which at least 1 of various conditions is the said preferable conditions is preferable, and many more various conditions are the said preferable conditions. Some production is more preferred, and production with all of the above conditions being most preferred.

前記製造方法においては、下記(A)、(B)の工程を含むことが好ましい。
(A)下記一般式(4)で表される化合物と下記一般式(5)で表される化合物とを反応させ下記一般式(2)で表される化合物を含有する混合物を得る工程
(B)一般式(2)で表される化合物を含有する混合物と一般式(1)で表される化合物とを反応させて、一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体を生成する工程
The manufacturing method preferably includes the following steps (A) and (B).
(A) A step of reacting a compound represented by the following general formula (4) with a compound represented by the following general formula (5) to obtain a mixture containing the compound represented by the following general formula (2) (B) ) A step of producing a 5-aminopyrazole derivative represented by the general formula (3) by reacting a mixture containing the compound represented by the general formula (2) with the compound represented by the general formula (1).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

(式中、R1は、脂肪族基を表し、R2は、電子求引性基を表し、Xは、ハロゲン原子、−ORまたはアミノ基を表す。Rは水素原子又は置換基を表し、R4及びR5はそれぞれ独立に脱離基を表す。) (In the formula, R 1 represents an aliphatic group, R 2 represents an electron withdrawing group, X represents a halogen atom, —OR or an amino group. R represents a hydrogen atom or a substituent, R 4 and R 5 each independently represent a leaving group.)

続いて、一般式(4)について説明する。   Next, general formula (4) will be described.

一般式(4)中のXは前述の一般式(2)中のXの説明及び好ましい例と同義である。   X in the general formula (4) has the same meaning as the description and preferred examples of X in the general formula (2).

一般式(4)中のR4及びR5はそれぞれ独立に脱離基を表す。すなわち、一般式(4)と一般式(5)の反応によって容易に脱離する基を表す。 R 4 and R 5 in the general formula (4) each independently represent a leaving group. That is, it represents a group that is easily eliminated by the reaction of general formula (4) and general formula (5).

脱離基とは、一般式(5)の一般式(4)への求核反応によって新たに共有単結合が形成することによって、一般式(4)の置換基がR4、R5及びXの置換する炭素原子からR4あるいはR5が離脱する置換基であることを意味する。一般的にはこれらの基を脱離基という。このR4あるいはR5はプロトンを受け取って安定なノニオンを形成する。更に反応が進行すると、先の共有単結合が二重結合へ誘導され、これに伴い先の離脱で残存するR4あるいはR5のどちらかが分子中のプロトンを伴って分子から排除される。上記2種の反応は、脱離基の離脱性によって反応が進行しなかったり、進行に時間を要したりする。すなわち、一般式(4)と一般式(5)の反応は、脱離基R4及びR5の離脱性でコントロールされ、離脱が容易なほど反応は進行しやすい。 The leaving group means that a new single covalent bond is formed by the nucleophilic reaction of the general formula (5) to the general formula (4), whereby the substituent of the general formula (4) is R 4 , R 5 and X It means that R 4 or R 5 is a substituent leaving from the carbon atom to be substituted. In general, these groups are called leaving groups. This R 4 or R 5 receives a proton and forms a stable nonion. As the reaction proceeds further, the previous covalent single bond is induced to a double bond, and either R 4 or R 5 remaining after the previous withdrawal is excluded from the molecule with protons in the molecule. In the above two types of reactions, the reaction does not proceed due to leaving group leaving ability, or it takes time to proceed. That is, the reactions of the general formula (4) and the general formula (5) are controlled by the leaving ability of the leaving groups R 4 and R 5 , and the reaction is more likely to proceed as the leaving is easier.

4及びR5の好ましい例としてはそれぞれ独立に、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基を表し、より好ましくは炭素数1〜6のアルコキシ基、炭素数1〜6のアルキルスルホニルオキシ基または炭素数6〜12のアリールスルホニルオキシ基であり、特に好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。上記ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、及びアルキルスルホニルオキシ基またはアリールスルホニルオキシ基中のアルキルスルホニルまたはアリールスルホニルについては前記置換基Aに例示された好ましいもの等が挙げられる。
以上をまとめると、本発明の製造方法で使用される一般式(4)のR4およびR5は、下記(イ)と(ロ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)R4が表す脱離基として、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
(ロ)R5が表す脱離基として、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
なお、一般式(4)で表される化合物のR4およびR5の組み合わせについては、種々のR4およびR5の少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、全てのR4およびR5が前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
一般式(4)で表される化合物は一般式(4’)で表される化合物であることがより好ましい。
Preferable examples of R 4 and R 5 each independently represent a halogen atom, a hydroxyl group, an amino group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkylsulfonyloxy group or an arylsulfonyloxy group, more preferably 1 to 6 carbon atoms. An alkoxysulfonyl group, an alkylsulfonyloxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an arylsulfonyloxy group having 6 to 12 carbon atoms, particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group. Examples of the alkylsulfonyl or arylsulfonyl in the halogen atom, hydroxyl group, amino group, alkoxy group, aryloxy group, and alkylsulfonyloxy group or arylsulfonyloxy group include the preferred ones exemplified for the substituent A. .
In summary, R 4 and R 5 in the general formula (4) used in the production method of the present invention are preferably composed of the following combinations (a) and (b).
(A) The leaving group represented by R 4 is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
(B) The leaving group represented by R 5 is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
The combination of R 4 and R 5 of the compound represented by the general formula (4) is preferably a compound in which at least one of various R 4 and R 5 is the above-mentioned preferred group, and all R 4 and R 5 Most preferred are compounds wherein 5 is the preferred group.
The compound represented by the general formula (4) is more preferably a compound represented by the general formula (4 ′).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

5及びXは前述のR5、Xと同義であり、好ましい例も同義である。
7は脂肪族基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基を表し、より好ましくは脂肪族基であり、更に好ましくはアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、最も好ましくは炭素数2〜5のアルキル基である。これらの基を選択することにより、一般式(2)で表される化合物を誘導する上で、高収率化が達成でき、安価製造が可能となる。
以上をまとめると、本発明の製造方法で使用される一般式(4’)のX、R5およびR7は、下記(イ)〜(ハ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)Xが表すハロゲン原子、−OR及びアミノ基として、特に好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。
(ロ)R5が表す脱離基として、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
(ハ)R7が表す脂肪族基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基において、特に好ましくは最も好ましくは炭素数2〜5のアルキル基である。
なお、一般式(4’)で表される化合物のX、R5およびR7の組み合わせについては、種々のX、R5およびR7の少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々のX、R5およびR7が前記の好ましい基である化合物がより好ましく、全てのX、R5およびR7が前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
一般式(4’)で表される化合物は、一般式(4’’)で表される化合物が更に好ましい。
R 5 and X are as defined above for R 5, X, and preferred examples are also the same meanings.
R 7 represents an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group, more preferably an aliphatic group, still more preferably an alkyl group, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. An alkyl group, most preferably an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms. By selecting these groups, a high yield can be achieved and a low-cost production is possible when the compound represented by the general formula (2) is derived.
In summary, X, R 5 and R 7 in the general formula (4 ′) used in the production method of the present invention are preferably those composed of the following combinations (a) to (c).
(A) The halogen atom, -OR and amino group represented by X is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
(B) The leaving group represented by R 5 is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
(C) In the aliphatic group, aryl group, heterocyclic group, alkylsulfonyl group or arylsulfonyl group represented by R 7 , an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable.
The combination of X, R 5 and R 7 in the compound represented by the general formula (4 ′) is preferably a compound in which at least one of various X, R 5 and R 7 is the above preferred group. More preferred are compounds in which many different X, R 5 and R 7 are the preferred groups, and most preferred are compounds in which all X, R 5 and R 7 are the preferred groups.
The compound represented by the general formula (4 ′) is more preferably a compound represented by the general formula (4 ″).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

Xは前述のXと同義であり、好ましい例も同義である。
7及びR8はそれぞれ独立に脂肪族基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基を表わす。より好ましくは脂肪族基であり、更に好ましくはアルキル基であり、特に好ましくは炭素数1〜10のアルキル基であり、最も好ましくは炭素数2〜5のアルキル基である。これらの基を選択することにより、一般式(2)で表される化合物を誘導する上で、高収率化が達成でき、安価製造が可能となる。
以上をまとめると、本発明の製造方法で使用される一般式(4’’)のX、R7およびR8は、下記(イ)〜(ハ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)Xが表すハロゲン原子、−OR及びアミノ基として、特に好ましくは、メトキシ基またはエトキシ基である。
(ロ)R7が表す脂肪族基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基において、特に好ましくは最も好ましくは炭素数2〜5のアルキル基である。
(ハ)R8が表す脂肪族基、アリール基、複素環基、アルキルスルホニル基またはアリールスルホニル基において、特に好ましくは最も好ましくは炭素数2〜5のアルキル基である。
なお、一般式(4’’)で表される化合物のX、R7およびR8の組み合わせについては、種々のX、R7およびR8の少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、より多くの種々のX、R7およびR8が前記の好ましい基である化合物がより好ましく、全てのX、R7およびR8が前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
X is synonymous with X described above, and preferred examples are also synonymous.
R 7 and R 8 each independently represents an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkylsulfonyl group or an arylsulfonyl group. An aliphatic group is more preferable, an alkyl group is more preferable, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is particularly preferable, and an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms is most preferable. By selecting these groups, a high yield can be achieved and a low-cost production is possible when the compound represented by the general formula (2) is derived.
In summary, X, R 7 and R 8 in the general formula (4 ″) used in the production method of the present invention are preferably those composed of the following combinations (a) to (c).
(A) The halogen atom, -OR and amino group represented by X is particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
(B) In the aliphatic group, aryl group, heterocyclic group, alkylsulfonyl group or arylsulfonyl group represented by R 7 , an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable.
(C) In the aliphatic group, aryl group, heterocyclic group, alkylsulfonyl group or arylsulfonyl group represented by R 8 , an alkyl group having 2 to 5 carbon atoms is particularly preferable.
As for the combination of X, R 7 and R 8 of the compound represented by the general formula (4 ″), a compound in which at least one of various X, R 7 and R 8 is the above preferred group is preferable, More preferred are compounds in which a greater variety of X, R 7 and R 8 are the preferred groups, and most preferred are compounds in which all X, R 7 and R 8 are the preferred groups.

以下に、一般式(4)で表される化合物としては下記の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。

Figure 2010083812
Although the following specific examples are given as a compound represented by General formula (4) below, this invention is not limited to these.
Figure 2010083812

Figure 2010083812
Figure 2010083812

次に、一般式(5)について説明する。   Next, general formula (5) will be described.

一般式(5)中のR2は前述の一般式(2)及び一般式(3)のR2の説明と好ましい例と同義である。 R 2 in the general formula (5) has the same meaning as the preferred examples and description of the R 2 of the above general formulas (2) and (3).

一般式(5)で表される化合物は一般式(5’)で表される化合物であることがより好ましい。   The compound represented by the general formula (5) is more preferably a compound represented by the general formula (5 ').

Figure 2010083812
Figure 2010083812

L及びR6は前述の一般式(2)で説明した際のL及びR6と同義であり、好ましい例も同義である。
すなわち、本発明の製造方法で使用される一般式(5’)のLおよびR6は、下記(イ)と(ロ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)Lが表す−C(O)−及びS(O)2−において、より好ましくは、−C(O)−である。
(ロ)R6が表す脂肪族基、アリール基、複素環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基及びアミノ基において、特に好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基である。
なお、一般式(5’)で表される化合物のX、LおよびR6の組み合わせについては、種々のX、LおよびR6の少なくとも1つが前記の好ましい基である化合物が好ましく、全てのX、LおよびR6が前記の好ましい基である化合物が最も好ましい。
一般式(5’)で表される化合物は一般式(5’’)で表される化合物であることがより好ましい。
L and R 6 are synonymous with L and R 6 in the description of the general formula (2), and preferred examples are also synonymous.
That is, L and R 6 in the general formula (5 ′) used in the production method of the present invention are preferably those composed of the following combinations (a) and (b).
(I) In —C (O) — and S (O) 2 — represented by L, —C (O) — is more preferable.
(B) In the aliphatic group, aryl group, heterocyclic group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group and amino group represented by R 6 , an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms is particularly preferred.
The combination of X, L and R 6 of the compound represented by the general formula (5 ′) is preferably a compound in which at least one of various X, L and R 6 is the above preferred group. Most preferred are compounds wherein L and R 6 are the preferred groups described above.
The compound represented by the general formula (5 ′) is more preferably a compound represented by the general formula (5 ″).

Figure 2010083812
Figure 2010083812

6は前述の一般式(2)で説明した際のR6と同義であり、好ましい例も同義である。
一般式(5)で表される化合物としては下記の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
R 6 has the same meaning as R 6 described in the general formula (2), and preferred examples are also the same.
Although the following specific examples are given as a compound represented by General formula (5), this invention is not limited to these.

Figure 2010083812
Figure 2010083812

続いて(A)の反応工程について説明する。
(A)の反応工程は、下記一般式(4)で表される化合物と下記一般式(5)で表される化合物とを反応させ下記一般式(2)で表される化合物を含有する混合物を製造する工程である。
Next, the reaction step (A) will be described.
The reaction step (A) is a mixture containing a compound represented by the following general formula (2) by reacting a compound represented by the following general formula (4) with a compound represented by the following general formula (5). Is a process of manufacturing.

一般式(4)及び一般式(5)の反応における一般式(4)で表される化合物の一般式(5)で表される化合物に対する使用比率(モル比)は好ましくは1〜3であり、より好ましくは1〜2.5であり、更に好ましくは1〜2.0である。この条件を選択することで反応を定量的に進行することが可能となる。
一般式(4)及び一般式(5)の反応における溶媒は、特に必要ではないが、製造において攪拌性が必要となる等の場合、反応に不活性であれば使用が可能である。その場合、例えば、炭素数1〜10の有機酸、水、炭素数1〜10のケトン、炭素数1〜10のニトリル、炭素数1〜10のアルキルアルコール、炭素数1〜10のアルキレングリコール、炭素数1〜10のエーテル、炭素数1〜10のアミド、炭素数1〜10のスルホキシド、炭素数1〜10のエステルが挙げられる。より好ましくは、炭素数1〜5の有機酸、水、炭素数1〜5のケトン、炭素数1〜5のニトリル、炭素数1〜5のアルキルアルコール、炭素数1〜5のアルキレングリコール、炭素数1〜5のエーテル、炭素数1〜5のアミド、炭素数1〜5のスルホキシド、炭素数1〜5のエステルが挙げられる。具体的には、ギ酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸や、水、アセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等)、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステルや、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N−ジメチルイミダゾリジノン(DMI)、スルホラン、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチルピロリドン(NMP)等の親水性有機溶媒が挙げられる。また、これらの溶媒を混合して用いることも可能である。溶媒として好ましくは、アルコール、有機酸、アセトニトリルまたはアセトンであり、特に好ましくは、メタノール、イソプロパノール、アセトン、アセトニトリル、酢酸、DMFまたはDMAcである。一般式(5)に対する溶媒量は質量比で100倍以下であり、より好ましくは50倍以下であり、更に好ましくは10倍以下である。100倍以上であると生産性が悪く不経済となる。これらの溶媒及び溶媒量を選択することで、5−アミノピラゾールを生産性よくかつろ過性よく安価に製造することが可能となる。
The use ratio (molar ratio) of the compound represented by general formula (4) to the compound represented by general formula (5) in the reaction of general formula (4) and general formula (5) is preferably 1 to 3. More preferably, it is 1-2.5, More preferably, it is 1-2.0. By selecting this condition, the reaction can proceed quantitatively.
The solvent in the reaction of the general formula (4) and the general formula (5) is not particularly necessary, but can be used if it is inert to the reaction, for example, when stirring is required in the production. In that case, for example, an organic acid having 1 to 10 carbon atoms, water, a ketone having 1 to 10 carbon atoms, a nitrile having 1 to 10 carbon atoms, an alkyl alcohol having 1 to 10 carbon atoms, an alkylene glycol having 1 to 10 carbon atoms, C1-C10 ether, C1-C10 amide, C1-C10 sulfoxide, C1-C10 ester is mentioned. More preferably, an organic acid having 1 to 5 carbon atoms, water, a ketone having 1 to 5 carbon atoms, a nitrile having 1 to 5 carbon atoms, an alkyl alcohol having 1 to 5 carbon atoms, an alkylene glycol having 1 to 5 carbon atoms, carbon Examples thereof include ethers having 1 to 5 carbon atoms, amides having 1 to 5 carbon atoms, sulfoxides having 1 to 5 carbon atoms, and esters having 1 to 5 carbon atoms. Specifically, organic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, water, acetone, methyl ethyl ketone, acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, alcohol (for example, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, etc.), ethyl acetate, butyl acetate, etc. Acetate, tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, N, N-dimethylformamide (DMF), N, N-dimethylacetamide (DMAc), N, N-dimethylimidazolidinone (DMI), sulfolane, dimethyl sulfoxide ( DMSO) and hydrophilic organic solvents such as N-methylpyrrolidone (NMP). Moreover, it is also possible to mix and use these solvents. The solvent is preferably alcohol, organic acid, acetonitrile or acetone, and particularly preferably methanol, isopropanol, acetone, acetonitrile, acetic acid, DMF or DMAc. The amount of the solvent with respect to the general formula (5) is 100 times or less in mass ratio, more preferably 50 times or less, and further preferably 10 times or less. If it is 100 times or more, productivity is poor and uneconomical. By selecting these solvents and solvent amounts, 5-aminopyrazole can be produced with good productivity and good filterability at low cost.

一般式(4)及び一般式(5)の反応は、無溶媒(ニート)でも達成される。その際、塩基を伴っても良い。例えば、炭素数1〜10のアルキルアミン、炭素数1〜10の複素環アミン、炭素数1〜10の芳香族アミン等の有機塩基や無機塩基が好ましい。より好ましくは、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、DBU(1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン)などの有機塩基や炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基が挙げられる。他に有機酸と強塩基の塩として、酢酸リチウム、酢酸カリウム、シュウ酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩等も挙げられる。好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、酢酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、トリエチルアミンまたはピリジンであり、更に好ましくは、トリエチルアミン、ピリジン、水酸化リチウム、水酸化カリウム、酢酸リチウム、酢酸カリウムである。
これらの塩基を用いることで、反応を加速することが可能となり、製造への負荷を軽減することが可能となる。
The reactions of general formula (4) and general formula (5) can also be achieved without solvent (neat). In that case, a base may be accompanied. For example, organic bases and inorganic bases such as alkylamines having 1 to 10 carbon atoms, heterocyclic amines having 1 to 10 carbon atoms, and aromatic amines having 1 to 10 carbon atoms are preferable. More preferably, organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, dimethylaminopyridine, DBU (1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene), lithium carbonate, sodium carbonate, potassium carbonate And inorganic bases such as sodium hydrogen carbonate, lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide. Other examples of salts of organic acids and strong bases include lithium acetate, potassium acetate, sodium oxalate, and disodium ethylenediaminetetraacetate. Preferred is lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium acetate, sodium acetate, potassium acetate, triethylamine or pyridine, and more preferred is triethylamine, pyridine, lithium hydroxide, potassium hydroxide, lithium acetate, potassium acetate. It is.
By using these bases, the reaction can be accelerated, and the load on production can be reduced.

一般式(5)に対する塩基の量は、一般式(5)に対するモル(mol)比で0〜5倍であり、より好ましくは、0〜2倍であり、更に好ましくは0〜1倍である。   The amount of the base relative to the general formula (5) is 0 to 5 times, more preferably 0 to 2 times, and still more preferably 0 to 1 time, in a molar ratio with respect to the general formula (5). .

反応温度においては、70℃〜140℃が好ましく、80℃〜130℃がより好ましく、85℃〜120℃が更に好ましい。この温度条件を選択することで、反応が定量的で時間短縮が可能となり製造の負荷が小さく、かつ原料の分解を抑制することが可能となる。一般式(4)で表される化合物と一般式(5)で表される化合物から一般式(2)で表される化合物の混合物を製造する際には、副成分を常圧で留去することが好ましい。また、ガスをフローあるいはバブリングしたり、減圧で副成分の留去をすることが好ましい。フローあるいはバブリングに使用するガスには不活性ガスなどの窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガスや空気を用いるのが好ましく、窒素ガスや乾燥空気が好ましく、窒素ガスを用いることが好ましい。
また、副成分を留去する時期は特に限定されず、反応中に実施したり反応後に実施することが可能である。より好ましくは反応中に実施することである。
上記の副成分を留去する際のフローあるいはバブリングについて、ガスの流量は0.01〜30mL/minが好ましい。より好ましくは0.1〜30mL/minであり、更に好ましくは0.1〜20mL/minである。これらの条件を選択することで経済的、かつ高速で副成分の留去が可能となる。
In reaction temperature, 70 to 140 degreeC is preferable, 80 to 130 degreeC is more preferable, 85 to 120 degreeC is still more preferable. By selecting this temperature condition, the reaction is quantitative, the time can be shortened, the production load is small, and the decomposition of the raw material can be suppressed. When producing a mixture of the compound represented by the general formula (2) from the compound represented by the general formula (4) and the compound represented by the general formula (5), the subcomponents are distilled off at normal pressure. It is preferable. Further, it is preferable to flow or bubble the gas or distill off the auxiliary components under reduced pressure. As a gas used for flow or bubbling, nitrogen gas such as inert gas, argon gas, helium gas or air is preferably used, nitrogen gas or dry air is preferable, and nitrogen gas is preferably used.
Further, the timing for distilling off the subcomponent is not particularly limited, and it can be carried out during the reaction or after the reaction. More preferably, it is carried out during the reaction.
About the flow or bubbling at the time of distilling off said subcomponent, the gas flow rate is preferably 0.01 to 30 mL / min. More preferably, it is 0.1-30 mL / min, More preferably, it is 0.1-20 mL / min. By selecting these conditions, subcomponents can be distilled off economically and at high speed.

反応時間においては、30分〜12時間が好ましく、1時間〜11時間がより好ましく、2時間〜10時間が更に好ましい。反応時間が30分以上であれば反応が十分に進行し、10時間以下であれば目的の一般式(2)で表される化合物の分解を防ぐことができ好ましい。
以上をまとめると、一般式(2)で表される化合物の製造条件としては(イ)〜(チ)の組み合わせからなるものが好ましい。
(イ)一般式(4)及び一般式(5)の反応における一般式(4)で表される化合物の一般式(5)で表される化合物に対する使用比率(モル比)は好ましくは1〜3であり、より好ましくは1〜2.5であり、更に好ましくは1〜2.0である。
(ロ)一般式(4)及び一般式(5)の反応において、溶媒が必要な場合は、メタノール、イソプロパノール、アセトン、アセトニトリル、酢酸、DMFまたはDMAcが特に好ましい。
(ハ)溶媒を必要とする場合には、溶媒量は一般式(5)に対し、質量比で10倍以下である。
(ニ)伴っていても良い塩基として、特に好ましくはトリエチルアミン、ピリジン、水酸化リチウム、水酸化カリウム、酢酸リチウム、酢酸カリウムである。
(ホ)塩基の量は、一般式(5)に対するモル(mol)比で0〜1倍である。
(ヘ)反応温度として特に好ましくは85℃〜120℃である。
(ト)反応時間は2時間〜10時間が好ましい。
(チ)反応に使用できるガスとしては、窒素ガスが好ましく、その流量は0.1〜20mL/minが好ましい。
なお、一般式(1)で表される化合物を製造における条件の組み合わせについては、種々の条件の少なくとも1つが前記の好ましい条件である製造が好ましく、より多くの種々の条件が前記の好ましい条件である製造がより好ましく、全てが前記の条件である製造が最も好ましい。
The reaction time is preferably 30 minutes to 12 hours, more preferably 1 hour to 11 hours, and further preferably 2 hours to 10 hours. If the reaction time is 30 minutes or longer, the reaction proceeds sufficiently, and if it is 10 hours or shorter, the target compound represented by the general formula (2) can be prevented from being decomposed.
In summary, the production conditions for the compound represented by the general formula (2) are preferably those comprising a combination of (i) to (h).
(A) The use ratio (molar ratio) of the compound represented by the general formula (4) to the compound represented by the general formula (5) in the reaction of the general formula (4) and the general formula (5) is preferably 1 to 1. 3, more preferably 1 to 2.5, and still more preferably 1 to 2.0.
(B) In the reactions of the general formulas (4) and (5), when a solvent is required, methanol, isopropanol, acetone, acetonitrile, acetic acid, DMF or DMAc is particularly preferable.
(C) When a solvent is required, the amount of solvent is 10 times or less with respect to General formula (5) by mass ratio.
(D) As the base which may be accompanied, triethylamine, pyridine, lithium hydroxide, potassium hydroxide, lithium acetate and potassium acetate are particularly preferable.
(E) The amount of the base is 0 to 1 times in terms of a molar ratio to the general formula (5).
(F) The reaction temperature is particularly preferably 85 ° C to 120 ° C.
(G) The reaction time is preferably 2 hours to 10 hours.
(H) The gas that can be used for the reaction is preferably nitrogen gas, and the flow rate is preferably 0.1 to 20 mL / min.
In addition, about the combination of the conditions in manufacture of the compound represented by General formula (1), the manufacture in which at least 1 of various conditions is the said preferable conditions is preferable, and more various conditions are the said preferable conditions. Some production is more preferred, and production with all of the above conditions being most preferred.

(B)の反応工程については、前述した一般式(3)の製造方法における製造条件と同義であり、好ましい条件も同義である。
(B)の反応工程において、一般式(2)で表される化合物を(A)の反応工程で得られた一般式(2)で表される化合物を含む混合物に変更して一般式(3)で表される化合物を製造することが出来る。
前記製造方法において、更に前記(A)、(B)の工程を連続して行うことが好ましい。
すなわち、(A)の反応工程で得られる一般式(2)で表される化合物の混合物をそのまま連続で一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体の製造に使用することが好ましい。その場合について詳しく説明する。
(A)、(B)の工程を連続して行うことで、(A)の工程において、化合物(2)で表される化合物の析出を抑制でき、不要な溶媒の使用を回避することが可能で、そのまま(b)の工程に供することができる。更に、反応釜からの取り出しが不要となるため、(A)の工程の一般式(2)で表される化合物のロスがなく一般式(3)で表される化合物の安価製造が可能となる。
About the reaction process of (B), it is synonymous with the manufacturing conditions in the manufacturing method of General formula (3) mentioned above, and preferable conditions are also synonymous.
In the reaction step (B), the compound represented by the general formula (2) is changed to a mixture containing the compound represented by the general formula (2) obtained in the reaction step (A). ) Can be produced.
In the manufacturing method, it is preferable to further perform the steps (A) and (B).
That is, it is preferable to use the mixture of the compound represented by the general formula (2) obtained in the reaction step (A) as it is for the production of the 5-aminopyrazole derivative represented by the general formula (3). This case will be described in detail.
By continuously performing the steps (A) and (B), the precipitation of the compound represented by the compound (2) can be suppressed in the step (A), and the use of an unnecessary solvent can be avoided. Thus, it can be used as it is in the step (b). Furthermore, since it is not necessary to remove from the reaction kettle, there is no loss of the compound represented by the general formula (2) in the step (A), and the low cost production of the compound represented by the general formula (3) becomes possible. .

本発明の製造方法における(B)の反応工程において、一般式(2)で表される化合物の反応混合物と一般式(1)で表される化合物の添加量については、反応混合物中に含まれる一般式(2)で表される化合物の量と一般式(1)で表される化合物はモル比が1:1.10から1:5.00の範囲で用いられることが好ましく、より好ましくは1:1.15〜1:4.00の範囲であり、特に好ましくは1:1.20〜1:3.00の範囲である。一般式(2)で表わされる化合物の反応混合物と一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体のモル比を上記の範囲とすることで、異性体の生成を抑制でき、高収率で一般式(3)で表される化合物を得ることができ好ましい。
反応温度は、特に限定されず、反応系の種類や反応種の化合物の濃度などに応じて適宜選択できるが、(A)工程の場合0℃〜100℃が好ましい。より好ましくは0℃〜90℃であり、更に好ましくは4℃〜80℃である。この条件を選択することで、5−アミノピラゾールの分解や異性体の副生が抑制され、かつ、加熱による時間を短縮できるため安価製造が可能となる。(B)工程の場合70℃〜140℃が好ましく、80℃〜130℃がより好ましく、85℃〜120℃が更に好ましい。この温度条件を選択することで、反応が定量的で時間短縮が可能となり製造の負荷が小さく、かつ原料の分解を抑制することが可能となる。
In the reaction step (B) in the production method of the present invention, the reaction mixture of the compound represented by the general formula (2) and the addition amount of the compound represented by the general formula (1) are included in the reaction mixture. The amount of the compound represented by the general formula (2) and the compound represented by the general formula (1) are preferably used in a molar ratio of 1: 1.10 to 1: 5.00, more preferably The range is from 1: 1.15 to 1: 4.00, particularly preferably from 1: 1.20 to 1: 3.00. By making the molar ratio of the reaction mixture of the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine derivative represented by the general formula (1) within the above range, the formation of isomers can be suppressed and the general formula ( The compound represented by 3) can be obtained and is preferable.
The reaction temperature is not particularly limited and can be appropriately selected according to the type of reaction system and the concentration of the compound of the reaction species, but in the case of step (A), 0 ° C. to 100 ° C. is preferable. More preferably, it is 0 degreeC-90 degreeC, More preferably, it is 4 degreeC-80 degreeC. By selecting this condition, decomposition of 5-aminopyrazole and by-product formation of isomers are suppressed, and the time required for heating can be shortened, so that low-cost production is possible. In the case of (B) process, 70 to 140 degreeC is preferable, 80 to 130 degreeC is more preferable, and 85 to 120 degreeC is still more preferable. By selecting this temperature condition, the reaction is quantitative, the time can be shortened, the production load is small, and the decomposition of the raw material can be suppressed.

反応時間は、(A)工程の場合、反応時間においては、30分〜12時間が好ましく、1時間〜11時間がより好ましく、2時間〜10時間が更に好ましい。反応時間が30分以上であれば反応が十分に進行し、12時間以下であれば目的の一般式(2)で表される化合物の分解を防ぐことができ好ましい。(B)工程の場合、反応時間は、20分〜7時間が好ましい。より好ましくは30分〜6時間であり、更に好ましくは1時間〜5時間である。この条件を選択すると、定量的に5−アミノピラゾールを得ることができ、かつ経済的な反応時間となるため安価製造が可能となる。   In the case of the step (A), the reaction time is preferably 30 minutes to 12 hours, more preferably 1 hour to 11 hours, and further preferably 2 hours to 10 hours. If the reaction time is 30 minutes or longer, the reaction proceeds sufficiently, and if it is 12 hours or shorter, the target compound represented by the general formula (2) can be prevented from being decomposed. In the case of step (B), the reaction time is preferably 20 minutes to 7 hours. More preferably, it is 30 minutes-6 hours, More preferably, it is 1 hour-5 hours. When this condition is selected, 5-aminopyrazole can be quantitatively obtained and an economical reaction time can be obtained, so that inexpensive production is possible.

本工程において、一般式(4)で表される化合物と一般式(5)で表される化合物の反応による一般式(2)で表される化合物を含む反応混合物と一般式(1)で表されるヒドラジン化合物の仕込みにおける添加順序は任意であり、特に限定されないが、好ましくは、(A)工程終了後に水若しくはアルコール性溶媒又は、その混合溶媒を添加し、その中に、一般式(1)で表される化合物を滴下することである。   In this step, the reaction mixture containing the compound represented by the general formula (2) by the reaction of the compound represented by the general formula (4) and the compound represented by the general formula (5) and the general formula (1) The order of addition in the preparation of the hydrazine compound to be prepared is arbitrary and is not particularly limited. Preferably, water or an alcoholic solvent or a mixed solvent thereof is added after completion of the step (A), and the general formula (1) ) Is added dropwise.

所望の5−アミノピラゾールを単離する方法は特に限定されない。例えば、反応で析出する5−アミノピラゾールをろ過後、反応溶媒の例で記載した溶媒で洗浄後乾燥する方法や、反応終了後、反応溶媒の例で記載した溶媒を添加し5−アミノピラゾールを晶析させ、単離・洗浄後乾燥する方法や、反応液から反応溶媒、過剰な原料を留去後に残渣を得る方法、更に反応溶媒の例で記載した溶媒で生成した5−アミノピラゾールを抽出後、水で洗浄し、有機相を乾燥する方法が挙げられる。より好ましくは、析出固体をろ別する方法であるが、反応が定量的に進行する場合には、濃縮法や溶媒抽出法が有効となる。   The method for isolating the desired 5-aminopyrazole is not particularly limited. For example, the 5-aminopyrazole precipitated in the reaction is filtered, washed with the solvent described in the example of the reaction solvent and dried, or after the reaction is completed, the solvent described in the example of the reaction solvent is added and 5-aminopyrazole is added. Method of crystallizing, drying after isolation / washing, method of obtaining a residue after distilling off reaction solvent and excess raw material from reaction solution, and further extracting 5-aminopyrazole produced with solvent described in reaction solvent example Thereafter, a method of washing with water and drying the organic phase can be mentioned. More preferably, the method is a method in which the precipitated solid is filtered, but when the reaction proceeds quantitatively, a concentration method or a solvent extraction method is effective.

(A)の工程において、反応促進剤として、酸無水物又はpKaが−3〜6の酸、から選ばれる少なくとも一つを用いることが好ましい。この反応促進剤を添加することで、反応を促進することが可能となり、製造時間が短縮でき5−アミノピラゾールを安価に製造することが可能となる。
酸無水物としては、炭素数2〜10の酸無水物が好ましい。より好ましくは炭素数4〜8の酸無水物が好ましい。例えば、無水酢酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水プロピオン酸、無水フタル酸、ピロ硫酸、五酸化二窒素、ピロリン酸(二リン酸)、五酸化二リン(十酸化四リン)及び三酸化二リンが挙げられ、好ましくは、無水酢酸、無水コハク酸、無水プロピオン酸及びピロ硫酸であり、更に好ましくは、無水酢酸、無水コハク酸及び無水プロピオン酸である。
pKaがー3〜6の酸としては、この範囲のものなら特に限定はされないが、無機酸(鉱酸とも呼ばれる)及び有機酸が使用できる。無機酸としては塩酸、リン酸、硫酸が挙げられ、有機酸には蟻酸、酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸、シュウ酸、クエン酸、クロロ酢酸及びトリフルオロ酢酸が挙げられ、好ましくは酢酸、プロピオン酸、メタンスルホン酸であり、更に好ましくは酢酸、メタンスルホン酸である。また、これらの酸は単独で用いても良いし、混合して用いても良い。
本発明における反応促進剤としては、無水酢酸もしくは酢酸、あるいは無水酢酸と酢酸の併用が特に好ましい。
In the step (A), it is preferable to use at least one selected from an acid anhydride or an acid having a pKa of −3 to 6 as a reaction accelerator. By adding this reaction accelerator, it becomes possible to accelerate the reaction, shorten the production time, and produce 5-aminopyrazole at low cost.
As the acid anhydride, an acid anhydride having 2 to 10 carbon atoms is preferable. More preferably, an acid anhydride having 4 to 8 carbon atoms is preferred. For example, acetic anhydride, succinic anhydride, maleic anhydride, propionic anhydride, phthalic anhydride, pyrosulfuric acid, dinitrogen pentoxide, pyrophosphoric acid (diphosphoric acid), diphosphorus pentoxide (phosphorus tetraoxide) and trioxide Examples include acetic anhydride, succinic anhydride, propionic anhydride and pyrosulfuric acid, and more preferred are acetic anhydride, succinic anhydride and propionic anhydride.
The acid having a pKa of -3 to 6 is not particularly limited as long as it is in this range, but inorganic acids (also called mineral acids) and organic acids can be used. Examples of inorganic acids include hydrochloric acid, phosphoric acid, and sulfuric acid. Examples of organic acids include formic acid, acetic acid, propionic acid, methanesulfonic acid, oxalic acid, citric acid, chloroacetic acid, and trifluoroacetic acid, preferably acetic acid, propion. Acid and methanesulfonic acid are preferable, and acetic acid and methanesulfonic acid are more preferable. These acids may be used alone or in combination.
As the reaction accelerator in the present invention, acetic anhydride or acetic acid, or a combination of acetic anhydride and acetic acid is particularly preferable.

前記(A)の工程において、一般式(5)で表される化合物と全反応促進剤のモル比を1:0.50〜1:5.00の範囲で用いることが好ましい。
好ましくは1:1.00〜1:4.00であり、更に好ましくは1:1.20〜1:3.00である。この範囲の量の反応促進剤により、5−アミノピラゾールをより経済的に製造することが可能となる。
In the step (A), the molar ratio of the compound represented by the general formula (5) to the total reaction accelerator is preferably used in the range of 1: 0.50 to 1: 5.00.
Preferably it is 1: 1.00-1: 4.00, More preferably, it is 1: 1.20-1: 3.00. An amount of reaction accelerator in this range makes it possible to produce 5-aminopyrazole more economically.

反応機構として以下が考えられる。本発明者らは反応の詳細は以下のとおりであると推定している。
スキーム1は一般式(3)で表される化合物が誘導される反応機構を表す。一般式(1)で表される化合物のR1の結合する窒素原子がニトリルの炭素原子を求核攻撃し、続いて一方の窒素原子がXが結合する炭素原子へ求核攻撃することで一般式(1)で表される化合物に誘導される。
スキーム2は副成分である一般式(1)で表される化合物の異性体が生成する反応機構を表す。一般式(1)で表される化合物のR1の結合する窒素原子が、Xが結合する炭素原子へ求核攻撃し、一方の窒素原子末端がニトリルの炭素原子を求核攻撃することで一般式(3)で表される化合物の異性体が生成する。
一般式(1)で表される化合物が過剰の条件では、スキーム3で反応が進行する。すなわち、一個目の一般式(1)で表される化合物が付加し中間体1が生成した後、過剰分の2個目のヒドラジンの攻撃が起こり、一個目に付加した一般式(1)で表される化合物が脱離しながら一般式(3)で表される化合物へ誘導される。
以上のことから一般式(1)で表される化合物が一般式(2)で表される化合物よりもモルで過剰の条件では、一般式(3)で表される化合物の異性体の生成が抑制され、所望の一般式(3)で表される化合物が定量的に生成することが可能となったと考えられる。
なお、以下のスキームは本発明の内容をなんら限定するものではなく、他の反応ルートによる一般式(3)で表される化合物の製造方法も本発明に含まれる。
The following may be considered as the reaction mechanism. The present inventors presume that the details of the reaction are as follows.
Scheme 1 represents a reaction mechanism by which the compound represented by the general formula (3) is derived. In the compound represented by the general formula (1), the nitrogen atom to which R 1 is bonded nucleophilicly attacks the nitrile carbon atom, and then one nitrous atom attacks the carbon atom to which X is bonded. It is derived to a compound represented by the formula (1).
Scheme 2 represents a reaction mechanism in which an isomer of the compound represented by the general formula (1) as a subcomponent is generated. In the compound represented by the general formula (1), the nitrogen atom to which R 1 is bonded is nucleophilic attacked to the carbon atom to which X is bonded, and one nitrogen atom terminal is nucleophilicly attacked to the nitrile carbon atom. An isomer of the compound represented by the formula (3) is formed.
The reaction proceeds in Scheme 3 under the condition where the compound represented by the general formula (1) is excessive. That is, after the addition of the first compound represented by the general formula (1) to form the intermediate 1, an excess of the second hydrazine attacked, and the first general formula (1) added The compound represented is derived into the compound represented by the general formula (3) while being eliminated.
From the above, when the compound represented by the general formula (1) is in a molar excess with respect to the compound represented by the general formula (2), an isomer of the compound represented by the general formula (3) is formed. It is considered that the desired compound represented by the general formula (3) can be quantitatively generated.
In addition, the following scheme does not limit the content of this invention at all, The manufacturing method of the compound represented by General formula (3) by another reaction route is also contained in this invention.

Figure 2010083812
Figure 2010083812

次に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。   Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

以下に一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体(例示化合物D−13)の合成スキームを以下に示す。   The synthesis scheme of the 5-aminopyrazole derivative (Exemplary Compound D-13) represented by the general formula (3) is shown below.

Figure 2010083812
Figure 2010083812

<実施例1:例示化合物(D−13)の製造方法>
(1)化合物Aの合成
ディーンスタークを装着した2L三口フラスコに、オルトギ酸トリメチル 770.0g(7.11mol)とシアノ酢酸メチル 355.8 g (3.56 mol)と塩化亜鉛 48.52 g (0.36 mol)を混合し、内温 90℃で攪拌した。30分後、留分を6時間掛けて留去した。液状の残渣をカラムクロマトグラフィー(展開溶媒:ヘキサン/酢酸エチル 1/1 v/v)で生成し、256 gの化合物Aを単離した。収率 51.1%。
1H−NMR(400MHz、d6−DMSO) 8.3 ppm(s,1H)、4.1 ppm(s,3H)、3.7 ppm(s,3H)
<Example 1: Production method of exemplary compound (D-13)>
(1) Synthesis of Compound A In a 2 L three-necked flask equipped with Dean Stark, trimethyl orthoformate 770.0 g (7.11 mol), methyl cyanoacetate 355.8 g (3.56 mol), and zinc chloride 48.52 g ( 0.36 mol) was mixed and stirred at an internal temperature of 90 ° C. After 30 minutes, the fraction was distilled off over 6 hours. A liquid residue was produced by column chromatography (developing solvent: hexane / ethyl acetate 1/1 v / v), and 256 g of Compound A was isolated. Yield 51.1%.
1 H-NMR (400 MHz, d6-DMSO) 8.3 ppm (s, 1H), 4.1 ppm (s, 3H), 3.7 ppm (s, 3H)

(2)例示化合物(D−13)の合成
イオン交換水 30 mLを約5℃まで冷却し、そこへメチルヒドラジン 4.47 g (0.10 mol)を滴下した。続いて、内温 65 ℃で攪拌し、そこへ、化合物A 10.0 g (0.07 mol)を30分かけて添加した。この反応混合物をHPLCで分析したところ、例示化合物D−13の異性体と思われる副成分が0.2%含有することが分かった。添加後、30分間攪拌し、室温まで冷却した。この反応混合物に塩化ナトリウム 5 gを添加した。酢酸エチル 150 mLを加えて浸透し、抽出操作を3回実施した。酢酸エチル相を芒硝で乾燥後、エバポレータで濃縮した。残渣を酢酸エチルを用いて再結晶し、白色の例示化合物D−13 6.6gを得た。収率60.0%。
(2) Synthesis of Exemplary Compound (D-13) 30 mL of ion-exchanged water was cooled to about 5 ° C., and 4.47 g (0.10 mol) of methyl hydrazine was added dropwise thereto. Subsequently, the mixture was stirred at an internal temperature of 65 ° C., and 10.0 g (0.07 mol) of Compound A was added thereto over 30 minutes. When this reaction mixture was analyzed by HPLC, it was found that it contained 0.2% of an auxiliary component that is considered to be an isomer of Exemplary Compound D-13. After the addition, the mixture was stirred for 30 minutes and cooled to room temperature. To this reaction mixture was added 5 g of sodium chloride. 150 mL of ethyl acetate was added and infiltrated, and the extraction operation was performed three times. The ethyl acetate phase was dried with mirabilite and then concentrated with an evaporator. The residue was recrystallized using ethyl acetate to obtain 6.6 g of white exemplified compound D-13. Yield 60.0%.

<実施例2〜4及び比較例1〜3:例示化合物(D−13)の製造方法>
続いて、化合物Aに対するメチルヒドラジンのモル比を表1で示される値に変更した以外は、上記の例示化合物D−13の反応条件にならって合成した。
<Examples 2 to 4 and Comparative Examples 1 to 3: Production Method of Exemplary Compound (D-13)>
Subsequently, the compound was synthesized according to the reaction conditions of the exemplified compound D-13 except that the molar ratio of methylhydrazine to compound A was changed to the value shown in Table 1.

Figure 2010083812
Figure 2010083812

<合成例1:例示化合物(M−18)の製造方法>   <Synthesis Example 1: Production method of exemplary compound (M-18)>

Figure 2010083812
Figure 2010083812

オルトギ酸トリエチル50.0g(0.34mol)とシアノ酢酸メチル 16.72 g (0.17 mol)と無水酢酸 34.44 g (0.34 mol)を混合し、内温 105℃で攪拌した。6時間攪拌後、室温まで冷却し例示化合物M−18を合成した。M−18の生成率を1H−NMRで追跡したところ、92%だった。このとき、原料のシアノ酢酸メチル(N−2)の残量は8%であった。 50.0 g (0.34 mol) of triethyl orthoformate, 16.72 g (0.17 mol) of methyl cyanoacetate and 34.44 g (0.34 mol) of acetic anhydride were mixed and stirred at an internal temperature of 105 ° C. After stirring for 6 hours, the mixture was cooled to room temperature to synthesize Exemplified Compound M-18. When the production rate of M-18 was monitored by 1 H-NMR, it was 92%. At this time, the remaining amount of the raw material methyl cyanoacetate (N-2) was 8%.

<合成例1〜17:例示化合物(M−18)の製造方法>
続いて、シアノ酢酸メチル(N−2)に対するオルトギ酸トリエチル(O−3)、無水酢酸及び酢酸のモル比を表2に示される値になるように混合し、上記合成例1の条件で反応を実施した。
<Synthesis Examples 1 to 17: Production Method of Exemplary Compound (M-18)>
Subsequently, the molar ratio of triethyl orthoformate (O-3), acetic anhydride and acetic acid to methyl cyanoacetate (N-2) was mixed so as to have the values shown in Table 2, and the reaction was conducted under the conditions of Synthesis Example 1 above. Carried out.

Figure 2010083812
Figure 2010083812

<実施例5:例示化合物(D−13)の2工程一貫製造方法>
表2の合成例3で合成のM−18を用い、そのまま例示化合物D−13の合成を実施した。
M−18反応混合物 2.77g(17.9mmol相当)にメタノール7.7mLを加え、4℃まで氷浴で冷却した。続いて、メチルヒドラジンを1.0mL(25.0mmol)滴下した。4℃で1時間攪拌後、50℃まで昇温し、その温度で2時間攪拌した。このとき、反応液のHPLC(島津製作所製 LC−10A)で例示化合物(D−13)の生成率(HPLC面積%)を測定したところ、93.9%だった。また異性体は0.2%だった。その後、室温まで冷却し、ロータリーエバポレータ−で濃縮乾固した。単離収率101%、純度94.0%だった。
<Example 5: Two-step integrated production method of exemplary compound (D-13)>
Example Compound D-13 was synthesized as it was using M-18 synthesized in Synthesis Example 3 in Table 2.
7.7 mL of methanol was added to 2.77 g (corresponding to 17.9 mmol) of the M-18 reaction mixture, and the mixture was cooled to 4 ° C. in an ice bath. Subsequently, 1.0 mL (25.0 mmol) of methyl hydrazine was added dropwise. After stirring at 4 ° C. for 1 hour, the temperature was raised to 50 ° C., and the mixture was stirred at that temperature for 2 hours. At this time, when the production rate (HPLC area%) of exemplary compound (D-13) was measured with HPLC (LC-10A made by Shimadzu Corporation) of the reaction solution, it was 93.9%. The isomer was 0.2%. Then, it cooled to room temperature and concentrated and dried by the rotary evaporator. The isolation yield was 101% and the purity was 94.0%.

<実施例6〜12、比較例4、5:例示化合物D−13の一貫製造方法>
実施例5の反応条件を表3に示すように変更した以外は、実施例5と同様に実施した。なお表中の単離方法が抽出の場合は、酢酸エチル30mL及び水5mLを添加し、十分振盪した上で、酢酸エチル層を分離し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、結晶を単離した。晶析の操作は、ヘキサン30mLを添加後、析出した結晶をろ別し、IPA/ヘキサン 1/4の混合溶媒20mLで洗浄後乾燥した。ろ過の操作は、反応終了後に析出した固体をろ別し、IPA/ヘキサン 1/4の混合溶媒20mLで洗浄後乾燥した。
<Examples 6 to 12, Comparative Examples 4 and 5: Integrated Production Method of Illustrative Compound D-13>
The reaction was performed in the same manner as in Example 5 except that the reaction conditions in Example 5 were changed as shown in Table 3. If the isolation method in the table is extraction, add 30 mL of ethyl acetate and 5 mL of water, shake well, separate the ethyl acetate layer, dry over anhydrous sodium sulfate, and concentrate under reduced pressure. Released. Crystallization was performed by adding 30 mL of hexane, filtering the precipitated crystals, washing with 20 mL of a mixed solvent of IPA / hexane 1/4, and drying. For the filtration operation, the solid deposited after the reaction was filtered off, washed with 20 mL of a mixed solvent of IPA / hexane 1/4 and dried.

Figure 2010083812
Figure 2010083812

以上のように、本発明の例示化合物(D−13)を得る上で、一般式(1)で表されるヒドラジン化合物の量を一般式(2)で表される化合物に対してモル比で1.10以上用いると、例示化合物D−13の異性体の副生を抑制でき、収率が良化することが分かった。更に、一般式(2)で表される化合物を、一般式(4)と一般式(5)の反応により生成させ、一般式(2)で表される化合物を単離することなく、そのまま用いると収率が向上することが分かった。   As mentioned above, when obtaining exemplary compound (D-13) of this invention, the quantity of the hydrazine compound represented by General formula (1) is molar ratio with respect to the compound represented by General formula (2). It has been found that when 1.10 or more is used, the by-product of the isomer of Exemplary Compound D-13 can be suppressed, and the yield is improved. Furthermore, the compound represented by the general formula (2) is produced by the reaction of the general formula (4) and the general formula (5), and the compound represented by the general formula (2) is used as it is without being isolated. It was found that the yield was improved.

Claims (7)

一般式(2)で表わされる化合物と一般式(1)で表わされるヒドラジン誘導体とのモル比が1:1.10〜1:5.00の範囲で用いられることを特徴とする下記一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体の製造方法。
Figure 2010083812
(式中、R1は、脂肪族基を表し、R2は、電子求引性基を表し、R3は、水素原子または置換基を表し、Xは、ハロゲン原子、−ORまたはアミノ基を表す。Rは水素原子又は置換基を表す。)
The molar ratio of the compound represented by the general formula (2) and the hydrazine derivative represented by the general formula (1) is used in the range of 1: 1.10 to 1: 5.00. A method for producing a 5-aminopyrazole derivative represented by 3).
Figure 2010083812
(Wherein R 1 represents an aliphatic group, R 2 represents an electron withdrawing group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, and X represents a halogen atom, —OR or an amino group. R represents a hydrogen atom or a substituent.
前記製造方法において、水若しくはアルコール性溶媒又は、その混合溶媒を反応溶媒として用いることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。   In the said manufacturing method, water or alcoholic solvent or its mixed solvent is used as a reaction solvent, The manufacturing method of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 請求項1の製造方法であって、少なくとも製造の仕込における温度が20℃以下であることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein at least a temperature in preparation for manufacturing is 20 ° C. or less. 前記製造方法において、下記(A)、(B)の工程を含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
(A) 下記一般式(4)で表される化合物と下記一般式(5)で表される化合物とを反応させ下記一般式(2)で表される化合物を含有する混合物を得る工程
(B) 一般式(2)で表される化合物を含有する混合物と一般式(1)で表される化合物とを反応させて、一般式(3)で表される5−アミノピラゾール誘導体を生成する工程
Figure 2010083812
(式中、R1は、脂肪族基を表し、R2は、電子求引性基を表し、R3は、水素原子または置換基を表し、Xは、ハロゲン原子、−ORまたはアミノ基を表す。Rは水素原子又は置換基を表し、R4及びR5はそれぞれ独立に脱離基を表す。)
The manufacturing method according to claim 1, wherein the manufacturing method includes the following steps (A) and (B).
(A) A step of obtaining a mixture containing a compound represented by the following general formula (2) by reacting a compound represented by the following general formula (4) with a compound represented by the following general formula (5) (B ) A step of producing a 5-aminopyrazole derivative represented by the general formula (3) by reacting a mixture containing the compound represented by the general formula (2) with the compound represented by the general formula (1).
Figure 2010083812
(Wherein R 1 represents an aliphatic group, R 2 represents an electron withdrawing group, R 3 represents a hydrogen atom or a substituent, and X represents a halogen atom, —OR or an amino group. R represents a hydrogen atom or a substituent, and R 4 and R 5 each independently represents a leaving group.)
前記製造方法において、前記(A)、(B)の工程を連続して行うことを特徴とする請求項4に記載の製造方法。   5. The manufacturing method according to claim 4, wherein the steps (A) and (B) are continuously performed in the manufacturing method. 前記(A)の工程において、反応促進剤として、酸無水物又はpKaが−3〜6の酸、から選ばれる少なくとも一つを用いることを特徴とする請求項4又は5に記載の製造方法。   6. The process according to claim 4 or 5, wherein in the step (A), at least one selected from an acid anhydride or an acid having a pKa of -3 to 6 is used as a reaction accelerator. 前記(A)の工程において、一般式(5)で表される化合物と反応促進剤のモル比を1:0.01〜1:5.00の範囲で用いることを特徴とする請求項4〜6のいずれかに記載の製造方法。   In the step (A), the molar ratio of the compound represented by the general formula (5) to the reaction accelerator is used in the range of 1: 0.01 to 1: 5.00. 6. The production method according to any one of 6 above.
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