JP2010080825A - Electromagnetic wave shield sheet, and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）などのディスプレイから発生する電磁波を遮蔽（シールド）する電磁波遮蔽シート、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an electromagnetic wave shielding sheet that shields (shields) electromagnetic waves generated from a display such as a plasma display panel (PDP), and a method for manufacturing the same.
近年、電気電子機器の機能高度化と増加利用に伴い、電磁気的なノイズ妨害（Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｉｎｔｅｒｆｅｒｅｎｃｅ；ＥＭＩ）が増え、陰極線管（ＣＲＴという）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰという）などのディスプレイでも電磁波が発生する。この電磁波をシールドするために、ディスプレイ前面に配置する電磁波遮蔽シートが知られている。このような用途に用いる電磁波遮蔽シートでは、電磁波シールド性能と共に光透過性も要求される。そこで、基材に樹脂フィルムやガラス板等の透明基材を用い、この透明基材上に、銅などの金属から成る導電性パターン層を形成することにより、光透過性を付与した電磁波遮蔽シートが知られている（特許文献１）。尚、当該パターンとしては、通常、メッシュ（導電性メッシュ層）が用いられる。 In recent years, with the advancement of functions and increasing use of electrical and electronic equipment, electromagnetic noise interference (EMI) has increased, and electromagnetic waves are also generated in displays such as cathode ray tubes (referred to as CRT) and plasma display panels (referred to as PDP). appear. In order to shield this electromagnetic wave, an electromagnetic wave shielding sheet disposed on the front surface of the display is known. In the electromagnetic wave shielding sheet used for such applications, light transmittance is also required in addition to the electromagnetic wave shielding performance. Therefore, an electromagnetic wave shielding sheet provided with light transmittance by forming a conductive pattern layer made of a metal such as copper on the transparent substrate using a transparent substrate such as a resin film or a glass plate as the substrate. Is known (Patent Document 1). Note that a mesh (conductive mesh layer) is usually used as the pattern.
上記導電性パターン層は、透明基材上に積層した金属箔をエッチング加工することにより、メッシュ状に形成される。このようにエッチング加工で得られるメッシュ状の金属箔は、単独で取り扱うことが困難であるため、通常、透明基材上に未加工の金属箔を接着剤層を介して積層した積層体をつくり、当該積層体上の金属箔に対して、パターン状のエッチングが行われている。また、当該透明基材と当該金属箔との密着性を高めるために、当該接着剤層には、ポリエステル樹脂（代表的にはポリエステルポリオール）とイソシアネート系化合物を配合した接着剤が用いられる。加えて、金属箔の接着剤層側の面を粗面化して、接着剤との投錨効果による接着力強化を図ることも常用されている（特許文献２）。 The conductive pattern layer is formed in a mesh shape by etching a metal foil laminated on a transparent substrate. Since the mesh-like metal foil obtained by etching as described above is difficult to handle by itself, usually a laminated body in which an unprocessed metal foil is laminated on a transparent substrate via an adhesive layer is produced. The pattern-like etching is performed on the metal foil on the laminate. Moreover, in order to improve the adhesiveness of the said transparent base material and the said metal foil, the adhesive agent which mix | blended polyester resin (typically polyester polyol) and an isocyanate type compound is used for the said adhesive bond layer. In addition, it is also common to roughen the surface of the metal foil on the side of the adhesive layer to enhance the adhesive strength by the anchoring effect with the adhesive (Patent Document 2).
上記の用途に用いる金属箔表面には、投錨効果により接着力を強化する為の微小な凹凸があるため、上記接着剤を用いて、透明基材上に金属箔をドライラミネートする際、両者間の空気が抜け切らず、当該金属箔表面と当該接着剤表面との間に微小気泡が発生する。
また、上記金属箔表面に吸着した水分量が多いと、上記接着剤層を介して、透明基材上に金属箔をドライラミネートした後、当該接着剤を４０〜５０℃で３日間加熱（養生）させる際に、当該金属箔表面に吸着した水分が加熱されることによって気化して微小気泡が発生する。
上記のように発生した微小気泡は、硬化後の接着剤層中に混入する。そのため、このようにして得られた電磁波遮蔽シートをディスプレイ前面に配置すると、接着剤層中に混入した微小気泡によって画像光が散乱し、ヘイズ（曇価）が上がるという問題があった。
Since the metal foil surface used for the above applications has minute irregularities to strengthen the adhesive force by the anchoring effect, when the metal foil is dry laminated on the transparent substrate using the above adhesive, The air does not completely escape, and microbubbles are generated between the surface of the metal foil and the surface of the adhesive.
If the amount of water adsorbed on the surface of the metal foil is large, the adhesive is heated at 40 to 50 ° C. for 3 days (curing) after the metal foil is dry-laminated on the transparent substrate via the adhesive layer. ), The moisture adsorbed on the surface of the metal foil is heated and vaporized to generate microbubbles.
The microbubbles generated as described above are mixed in the cured adhesive layer. Therefore, when the electromagnetic wave shielding sheet obtained in this way is arranged on the front surface of the display, there is a problem that image light is scattered by the microbubbles mixed in the adhesive layer and haze (cloudiness value) is increased.
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、接着剤層中に微小気泡が混入し難く、ヘイズの上昇を抑制することができる電磁波遮蔽シート、及び当該電磁波遮蔽シートの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and it is difficult for microbubbles to be mixed in the adhesive layer, and an electromagnetic wave shielding sheet capable of suppressing an increase in haze, and a method for producing the electromagnetic wave shielding sheet. The purpose is to provide.
上記課題を解決すべく、今般、本願発明者らが原因究明の為、各種金属箔を比較検討した。その結果、金属箔の中でも、従来当該用途に専ら多用されていた銅箔は、上記２種類の気泡のうちドライラミネート後に発生する気泡発生が、他の金属箔に比べて多発することを発見した。又、高導電率で且つ腐蝕加工し易い金属の中で、アルミニウム箔は銅箔に比べて、同雰囲気中に於ける吸着水分量が少ないことが判明した。しかもアルミニウム箔は銅箔に比べ、接着面側を平滑面化しても接着強度を確保し易いことも見出した。本発明は、かかる知見に基づく、すなわち、本発明に係る電磁波遮蔽シートは、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層が設けられ、且つ、当該アルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下であることを特徴とする。 In order to solve the above problems, the inventors of the present application have recently compared various metal foils to investigate the cause. As a result, among metal foils, copper foil that has been used extensively for the above-mentioned conventional use has been found to generate more air bubbles after dry laminating than the other metal foils. . Further, among metals having high conductivity and easy to be corroded, it has been found that aluminum foil has a smaller amount of adsorbed moisture in the same atmosphere than copper foil. Moreover, it has also been found that the aluminum foil is easy to ensure the adhesive strength even if the adhesive surface side is smoothed compared to the copper foil. The present invention is based on such knowledge, that is, the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention is provided with an aluminum pattern layer on one surface of a transparent substrate via a transparent adhesive layer, and the aluminum pattern layer total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 of a surface of the transparent base material side of the ratio of diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is 0.4 or less It is characterized by.
本発明の電磁波遮蔽シートは、金属表面の吸着水分量の少ないアルミニウムの薄膜を用い、且つ当該アルミニウムの薄膜からなるアルミニウムパターン層の透明基材側の面を、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が上記特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）とすることにより、上記透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することができる。 The electromagnetic wave shielding sheet of the present invention uses an aluminum thin film with a small amount of adsorbed moisture on the metal surface, and the surface of the aluminum pattern layer made of the aluminum thin film on the transparent substrate side with respect to the total light reflectance ( RSCI ). By setting the diffused light reflectivity ( RSCE ) ratio ( RSCE / RSCI ) to the above specific range, a light scattering property low surface (mirror surface), microbubbles are mixed in the transparent adhesive layer. It becomes difficult to suppress an increase in haze.
本発明に係る電磁波遮蔽シートにおいては、前記透明接着剤層が、ポリオール及びイソシアネート系化合物から成る２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤から形成されるため、金属表面の吸着水分量の少ないアルミニウムの薄膜からなるアルミニウムパターン層が適している。 In the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention, the transparent adhesive layer is formed from a two-component curable urethane resin adhesive composed of a polyol and an isocyanate compound. An aluminum pattern layer made of is suitable.
本発明に係る電磁波遮蔽シートにおいては、前記アルミニウムパターン層の少なくとも前記透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みを０〜１３Åとすることにより、アルミニウムパターンをケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能でエッチング品質が改善する為に、ライン輪郭部のギザ（ｚｉｇｚａｇ状のこと。ラインの輪郭に凹凸があって直線性が悪くギザギザしている形態をこのように呼称する。）や断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、電磁波遮蔽性（表面抵抗値）のバラツキやヘイズの上昇を抑制することができる。 In the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention, the aluminum pattern is formed by chemical etching by setting the thickness of the aluminum oxide film on at least the surface opposite to the transparent substrate side of the aluminum pattern layer to 0 to 13 mm. In order to enable stable etching and improve the etching quality, the contour of the line contour (zigzag shape) is called the form in which the contour of the line is uneven and the linearity is not good and is notched. And the defect that becomes a disconnection is eliminated, the pattern accuracy is improved, and as a result, variations in electromagnetic shielding properties (surface resistance value) and an increase in haze can be suppressed.
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法は、透明基材の一方の面に、アルミニウムパターン層を備えた電磁波遮蔽シートの製造方法であって、
（ｉ）吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下の面を有するアルミニウムの薄膜を用意する工程、（ｉｉ）透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウムの薄膜を、その吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び（ｉｉｉ）前記アルミニウムの薄膜を所定のパターン形状にエッチングする工程を含むことを特徴とする。
The method for producing an electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention is a method for producing an electromagnetic wave shielding sheet comprising an aluminum pattern layer on one surface of a transparent substrate,
(I) the amount of adsorbed water is 5.0 g / m 2 or less, and the total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 diffuse light reflectance for (R SCI) ratio (R SCE) (R SCE / R SCI) A step of preparing an aluminum thin film having a surface of 0.4 or less, (ii) the aluminum thin film is adsorbed on one surface of the transparent base material via a transparent adhesive layer. A step of laminating a surface of 0 g / m 2 or less and an R SCE / R SCI of 0.4 or less facing the transparent substrate, and (iii) a step of etching the aluminum thin film into a predetermined pattern shape It is characterized by including.
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、吸着水分量が特定の範囲のアルミニウムの薄膜を用い、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、当該アルミニウムの薄膜の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）を、当該透明基材と向き合わせて積層することにより、上記透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することが可能な電磁波遮蔽シートを提供することができる。 According to the method for producing an electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention, an aluminum thin film having an adsorbed moisture amount in a specific range is used, and the aluminum thin film is formed on one surface of the transparent substrate via a transparent adhesive layer. total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) ratio (R SCE / R SCI) low of light scattering as a specific range surface (mirror surface), opposed with the transparent substrate By laminating the layers, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding sheet that makes it difficult for microbubbles to be mixed into the transparent adhesive layer and can suppress an increase in haze.
本発明の電磁波遮蔽シートによれば、金属表面の吸着水分量の少ないアルミニウムの薄膜を用い、且つ当該アルミニウムの薄膜からなるアルミニウムパターン層の透明基材側の面を、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）とすることにより、透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することができる。
また、本発明の電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、吸着水分量が特定の範囲のアルミニウムの薄膜を用い、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、当該アルミニウムの薄膜の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）を、当該透明基材と向き合わせて積層することにより、上記透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することが可能な電磁波遮蔽シートを提供することができる。
According to the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, the surface on the transparent substrate side of the aluminum pattern layer made of an aluminum thin film having a small amount of adsorbed moisture on the metal surface is used as the total light reflectance ( RSCI). ) The ratio (R SCE / R SCI ) of the diffused light reflectance (R SCE ) to the specific range is a low light scattering surface (mirror surface), so that microbubbles are mixed in the transparent adhesive layer. It becomes difficult to suppress an increase in haze.
Further, according to the method for producing an electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, an aluminum thin film having an adsorbed moisture amount in a specific range is used, and the aluminum thin film is interposed on one surface of the transparent substrate via a transparent adhesive layer. total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) ratio (R SCE / R SCI) low of light scattering as a specific range surface (mirror surface), the transparent substrate and the orientation of the By laminating them together, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding sheet that makes it difficult for microbubbles to be mixed in the transparent adhesive layer and can suppress an increase in haze.
本発明は、電磁波遮蔽シート、及びその製造方法を含むものである。以下、それぞれについて詳述する。
尚、本発明において、「上面」とは、アルミニウムパターン層の透明基材側とは反対側の面を言い、「下面」とは「上面」とは逆向きとなる面を言う。また、「鏡面」とは、金属薄膜（アルミニウム薄膜）において、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下となる光散乱性の低い面のことを言い、「粗面」とは、当該ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４超過、特に、０．６以上となる光散乱性の高い面のことを言う。
The present invention includes an electromagnetic wave shielding sheet and a manufacturing method thereof. Each will be described in detail below.
In the present invention, the “upper surface” refers to the surface opposite to the transparent substrate side of the aluminum pattern layer, and the “lower surface” refers to the surface opposite to the “upper surface”. Further, the "mirror", in the metal thin film (aluminum film), the light ratio of total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is 0.4 or less A surface having a low scattering property is referred to, and the “rough surface” means a surface having a high light scattering property in which the R SCE / R SCI exceeds 0.4, particularly 0.6 or more.
Ｉ．電磁波遮蔽シート
本発明に係る電磁波遮蔽シートは、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウムパターン層が設けられ、且つ、当該アルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下、好ましくは０．３以下であることを特徴とする。
I. Electromagnetic wave shielding sheet The electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention is provided with an aluminum pattern layer on one surface of a transparent substrate via a transparent adhesive layer, and the surface of the aluminum pattern layer on the transparent substrate side. total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) ratio (R SCE / R SCI) is 0.4 or less, that is preferably less than 0.3 Features.
一般に、透明基材と金属薄膜の密着性を高めるために、接着剤として、ポリエステル樹脂（代表的にはポリエステルポリオール）とイソシアネート系化合物を配合した接着剤が用いられる。そのため、上記金属薄膜表面に吸着した水分量が多いと、上記接着剤を介して、透明基材上に金属箔をドライラミネートした後、当該接着剤を４０〜５０℃で３日間加熱（養生）させる際に、当該金属薄膜表面に吸着した水分が加熱されることによって微小気泡が発生し、接着剤層中に当該微小気泡が混入するという問題があった。
本発明者らの分析結果から、金属薄膜として一般に用いられている銅箔表面の吸着水分量は１０．０ｍｇ／ｍ２であるのに対して、アルミニウム箔表面の吸着水分量は３．０ｍｇ／ｍ２であり、アルミニウム箔表面の吸着水分量は銅箔表面の吸収水分量の１／３程度と少ないことが明らかとなった。
従って、本発明においては、金属表面の吸着水分量の少ないアルミニウムの薄膜を用いてアルミニウムパターン層を形成することにより、透明接着剤層中への微小気泡の混入を抑制することができる。
尚、金属薄膜表面の吸着水分量の測定は、カールフィッシャー法により測定した値である。
In general, in order to improve the adhesion between the transparent substrate and the metal thin film, an adhesive containing a polyester resin (typically a polyester polyol) and an isocyanate compound is used as an adhesive. Therefore, if the amount of moisture adsorbed on the surface of the metal thin film is large, after the metal foil is dry laminated on the transparent substrate via the adhesive, the adhesive is heated at 40 to 50 ° C. for 3 days (curing). In this case, the moisture adsorbed on the surface of the metal thin film is heated, so that micro bubbles are generated and the micro bubbles are mixed in the adhesive layer.
From the analysis results of the present inventors, the amount of adsorbed moisture on the surface of a copper foil generally used as a metal thin film is 10.0 mg / m 2 , whereas the amount of adsorbed moisture on the surface of an aluminum foil is 3.0 mg / m 2. m 2, and adsorbed water content of the aluminum foil surface was found to be less and 1/3 extent of absorption water content of the copper foil surface.
Therefore, in the present invention, the formation of the aluminum pattern layer using an aluminum thin film with a small amount of moisture adsorbed on the metal surface can suppress the entry of microbubbles into the transparent adhesive layer.
The amount of adsorbed moisture on the surface of the metal thin film is a value measured by the Karl Fischer method.
全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）は、金属薄膜（アルミニウムの薄膜）の表面形状が光を散乱しやすいかどうかを表す指標である。従って、（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）の値が小さいほど、金属薄膜（アルミニウムの薄膜）の表面は、凹凸が少なく平滑となる。
本発明においては、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、アルミニウムの薄膜の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が上記特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）、即ち、平滑な面を、当該透明基材と向き合わせて積層するため、当該アルミニウム薄膜と当該透明接着剤層との間の気泡の噛み込みが抑制され、当該透明接着剤層中に微小気泡を混入し難くすることができる。
従って、本発明の電磁波遮蔽シートによれば、上記透明接着剤層中への微小気泡の混入を抑えることができるため、ヘイズの上昇を抑制することができる。
尚、本発明においては、上記接着剤層中に存在する微小気泡は、３個／ｃｍ２以下であることが好ましい。
The ratio of the total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is an index indicating whether the surface shape of the metal thin film (a thin film of aluminum) is likely to scatter light is there. Therefore, the smaller the value of (R SCE / R SCI ), the smoother the surface of the metal thin film (aluminum thin film) is.
In the present invention, on one surface of a transparent substrate, through a transparent adhesive layer, the ratio (R SCE / R of total light reflectance of aluminum thin-film (R SCI) diffuse light reflectance for (R SCE) In order to laminate a low light scattering surface (mirror surface) in which the SCI ) is in the specific range, that is, a smooth surface, facing the transparent substrate, the aluminum thin film and the transparent adhesive layer are laminated. The air bubbles are prevented from being bitten, and it is possible to make it difficult for microbubbles to be mixed in the transparent adhesive layer.
Therefore, according to the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, since mixing of microbubbles into the transparent adhesive layer can be suppressed, an increase in haze can be suppressed.
In the present invention, the number of microbubbles present in the adhesive layer is preferably 3 / cm 2 or less.
本発明におけるアルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）は、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して、分光測色計（例えば、コニカミノルタセンシング株式会社製、ＣＭ−３６００ｄ）を反射モードに設定し、光源は標準の光Ｄ６５、視野２°を用いて、検出器を、反射光のうち拡散反射光と鏡面反射光の両方を総合した全反射光の（積分）強度を測定するようなＳＣＩ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｉｎｃｌｕｄｅ）モードに設定して、Ｙ値（３刺激値ＸＹＺのＹ）を測定したものである。また、アルミニウムパターン層の透明基材側の面のＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）は、同様に分光測色計を用いて、光源及び視野は上記と同じにして、検出器を、反射光のうち拡散反射光のみの（積分）強度を測定するようなＳＣＥ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ Ｅｘｃｌｕｄｅ）モードに設定して、Ｙ値（３刺激値ＸＹＺのＹ）を測定したものである。ここで、３刺激値ＸＹＺとは、ＪＩＳ Ｚ８７２２で規定され、理想的な環境に置かれた試料を標準光源で照明し、当該試料での反射光の分光分析結果を演算することにより決定される値のことである。 Total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 of a surface of the transparent substrate side of the aluminum pattern layer in the present invention (R SCI) is in conformity with JIS Z8722, spectrophotometer (e.g., Konica Minolta Sensing stock The company made CM-3600d) is set to the reflection mode, the light source is standard light D65, and the field of view is 2 °, and the detector is the total reflection that combines both diffuse reflection and specular reflection of the reflected light. The Y value (Y of tristimulus values XYZ) is measured by setting to an SCI (Special Component Include) mode in which the (integral) intensity of light is measured. Also, in compliance with JIS Z8722 surface of the transparent substrate side diffusion light reflectance measured aluminum pattern layer (R SCE), using a spectrophotometer in the same manner, the light source and the field of view is the same as the The detector is set to an SCE (Special Component Exclude) mode that measures the (integral) intensity of only the diffuse reflected light of the reflected light, and the Y value (Y of tristimulus values XYZ) is measured. is there. Here, the tristimulus value XYZ is defined by JIS Z8722, and is determined by illuminating a sample placed in an ideal environment with a standard light source and calculating the spectral analysis result of the reflected light from the sample. It is a value.
〔層構成〕
図１は本発明による電磁波遮蔽シートについて、基本的な形態を例示する断面図である。なお、図１及び図２に示す断面図において、説明の容易化のために、厚み方向（図の上下方向）の縮尺を面方向（図の左右方向）の縮尺よりも大幅に拡大誇張し、尚且つ当該電磁波遮蔽シートの厚み方向の縮尺をプラズマディスプレイパネルの厚み方向の縮尺よりも大幅に拡大して図示してある図１に示す電磁波遮蔽シート１は、本発明に係る電磁波遮蔽シートの好適な実施形態のうちの第一の実施形態であり、透明基材１０の一方の面に、透明接着剤層１１を介して、アルミニウムパターン層１２が設けられている。当該アルミニウムパターン層１２は、透明基材１０側の面が光散乱性の低い鏡面１２ａ、当該透明基材１０側とは反対側の面が粗面１２ｂとなっている。
図２は、本発明に係る電磁波遮蔽シート１の好適な実施形態のうちの第二の実施形態であり、透明基材１０の一方の面に、透明接着剤層１１を介して、アルミニウムパターン層１２が設けられている。当該アルミニウムパターン層１２は、透明基材１０側の面が光散乱性の低い鏡面１２ａ、当該基材１０側とは反対側の面が粗面１２ｂとなっており、当該鏡面１２ａ及び当該粗面１２ｂの表面にはアルミニウムの酸化被膜１３が形成されている。
本発明に係る電磁波遮蔽シート１は、プラズマディスプレイパネル２０の前面に配置されれば、図１及び図２において図示していないが、粘着剤層を利用してプラズマディスプレイパネルに直接貼り付けられるものであっても、別途光学機能等を有していても良い他の板状透明基材に貼り付けた上で、プラズマディスプレイの前面に配置されても良い。
以下、本発明の電磁波遮蔽シートについて、透明基材から順に説明する。
〔Layer structure〕
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating a basic form of an electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention. In the cross-sectional views shown in FIG. 1 and FIG. 2, for ease of explanation, the scale in the thickness direction (vertical direction in the figure) is greatly enlarged and exaggerated than the scale in the plane direction (left and right direction in the figure). In addition, the electromagnetic wave shielding sheet 1 shown in FIG. 1 which is illustrated by enlarging the scale in the thickness direction of the electromagnetic wave shielding sheet significantly larger than the scale in the thickness direction of the plasma display panel is suitable for the electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention. In this embodiment, the
FIG. 2 is a second embodiment among the preferred embodiments of the electromagnetic wave shielding sheet 1 according to the present invention, and an aluminum pattern layer is formed on one surface of the
The electromagnetic wave shielding sheet 1 according to the present invention is not shown in FIGS. 1 and 2 as long as it is arranged on the front surface of the
Hereinafter, the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention will be described in order from a transparent substrate.
（１）透明基材
本発明で用いる透明基材は、電磁波遮蔽シートを構成する一部の層であり、透明接着剤層を介してアルミニウムパターン層を積層するための基材となる層である。また、必要に応じて紫外線吸収機能を付加させてもよい。従って、透明基材としては、機械的強度、光透過性と共に、適宜紫外線吸収能を有すれば、その他、耐熱性等の性能を適宜勘案したものを用途に応じて選択すればよい。このような、透明基材の具体例としては、樹脂等の有機材料或は硝子等の無機材料からなるシート（乃至フィルム。以下同様。）又は板が挙げられる。透明基材の透明性は高いほどよいが、好ましくは可視光域３８０〜７８０ｎｍにおける光線透過率が７０％以上、より好ましくは８０％以上となる光透過性が良い。なお、光透過率の測定は、分光光度計（例えば、（株）島津製作所製 ＵＶ−３１００ＰＣ）を用い、室温、大気中で測定した値を用いることができる。
また、上記透明基材のＪＩＳ Ｋ７１０５−１９８１に準拠したヘイズ値は、通常は１０％以下とするが、２．０％以下の範囲内であることが好ましく、更に１．０％以下の範囲内であることが好ましい。当該透明基材のヘイズ値を上記範囲内とすることで、本発明による効果と合わせて、本電磁波遮蔽シートのヘイズを低く抑えることができる。
(1) Transparent base material The transparent base material used by this invention is a part layer which comprises an electromagnetic wave shielding sheet, and is a layer used as a base material for laminating | stacking an aluminum pattern layer through a transparent adhesive layer. . Moreover, you may add an ultraviolet-ray absorption function as needed. Therefore, as the transparent base material, if it has an ultraviolet absorbing ability as well as mechanical strength and light transmission property, a material that appropriately considers performance such as heat resistance may be selected according to the application. Specific examples of such a transparent substrate include a sheet (or film; the same applies hereinafter) or a plate made of an organic material such as resin or an inorganic material such as glass. The higher the transparency of the transparent substrate, the better. However, the light transmittance in the visible light region of 380 to 780 nm is preferably 70% or more, more preferably 80% or more. The light transmittance can be measured using a spectrophotometer (for example, UV-3100PC manufactured by Shimadzu Corporation) and a value measured in the air at room temperature.
In addition, the haze value of the transparent substrate according to JIS K7105-1981 is usually 10% or less, preferably 2.0% or less, and more preferably 1.0% or less. It is preferable that By making the haze value of the said transparent base material in the said range, the haze of this electromagnetic wave shielding sheet can be restrained low together with the effect by this invention.
透明基材の材料として用いる樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸−シクロヘキサンジメタノール−エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、シクロオレフィン重合体などのポリオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などのスチレン系樹脂、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂、イミド系樹脂、ポリカーボネート樹脂等が挙げられる。 Examples of the resin used as the material for the transparent substrate include polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, terephthalic acid-isophthalic acid-ethylene glycol copolymer, and terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer. Polyester resins such as polyester resins, polyamide resins such as nylon 6, polyolefin resins such as polypropylene, polymethylpentene and cycloolefin polymers, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, styrene resins such as polystyrene and styrene-acrylonitrile copolymers, Examples thereof include cellulose resins such as triacetyl cellulose, imide resins, and polycarbonate resins.
なお、これらの樹脂は、単独、又は複数種類の混合樹脂（ポリマーアロイを含む）として用いられ、透明樹脂基材の層構成は、単層、又は２層以上の積層体として用いられる。また、樹脂フィルムの場合、１軸延伸や２軸延伸した延伸フィルムが機械的強度の点でより好ましい。また、これら樹脂中には、必要に応じて適宜、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。又、硝子としては、ソーダ硝子、カリ硝子、硼珪酸硝子、石英硝子等が挙げられる。通常、硝子の場合は、厚みの有る板状で用いられる。 These resins are used alone or as a plurality of types of mixed resins (including polymer alloys), and the layer structure of the transparent resin substrate is used as a single layer or a laminate of two or more layers. In the case of a resin film, a uniaxially stretched or biaxially stretched film is more preferable in terms of mechanical strength. Moreover, you may add additives, such as a filler, a plasticizer, and an antistatic agent, in these resins suitably as needed. Examples of the glass include soda glass, potash glass, borosilicate glass, and quartz glass. Usually, glass is used in the form of a thick plate.
透明基材の厚さは、基本的には用途に応じ選定すればよく、特に制限はないが、通常は１２〜５０００μｍ、好ましくはフィルムの場合は５０〜５００μｍ、より好ましくは５０〜２００μｍ、板の場合は５００〜３０００μｍである。このような厚み範囲ならば、機械的強度が十分で、反り、弛み、破断などを防ぎ、連続帯状で供給して加工する事も容易である。
なお、本発明では、透明基材としては、特に、可撓性の有る樹脂フィルム或は板から成るものが、製造加工適性が良好で、重量、価格も低減できる点で好ましい。特に、これら樹脂から成る基材を透明樹脂基材と称呼する。
The thickness of the transparent substrate may be basically selected according to the use and is not particularly limited, but is usually 12 to 5000 μm, preferably 50 to 500 μm in the case of a film, more preferably 50 to 200 μm, plate In this case, the thickness is 500 to 3000 μm. Within such a thickness range, the mechanical strength is sufficient, warping, loosening, breakage, etc. are prevented, and it is easy to supply and process in a continuous belt shape.
In the present invention, as the transparent substrate, a material made of a flexible resin film or plate is particularly preferable in terms of good manufacturing processability and reduced weight and cost. In particular, a substrate made of these resins is referred to as a transparent resin substrate.
透明樹脂基材の形態としては樹脂板よりは透明樹脂フィルムが好ましい。当該樹脂フィルムのなかでも特に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルムが、透明性、耐熱性、コスト等の点で好ましく、より好ましくは２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが最適である。 As a form of the transparent resin substrate, a transparent resin film is preferable to a resin plate. Among the resin films, polyester resin films such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are preferable in terms of transparency, heat resistance, cost, and the like, and more preferably a biaxially stretched polyethylene terephthalate film.
また、樹脂フィルム等の透明基材は、適宜その表面に、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの公知の易接着処理を行ってもよい。 In addition, a transparent substrate such as a resin film has a known surface such as a corona discharge treatment, a plasma treatment, an ozone treatment, a flame treatment, a primer treatment, a pre-heat treatment, a dust removal treatment, a vapor deposition treatment, and an alkali treatment. An adhesion treatment may be performed.
（２）アルミニウムパターン層
アルミニウムパターン層はアルミニウムの薄膜で形成したパターン層であり、当該層自体は不透明だが、開口部など当該層の非形成部を設けたパターンとすることによって、電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた層である。
本発明においては、アルミニウムパターン層の透明基材側の面が、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下、好ましくは０．３以下の光散乱性の低い鏡面となる。全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）を上記特定の反射特性を有するように最適化することで、当該透明接着剤層中への微小気泡の混入を抑えることができるため、ヘイズの上昇を抑制することができる。
なお、アルミニウムパターン層を形成する金属薄膜の圧延ロール表面の研磨度を上げることにより、当該アルミニウムパターン層の鏡面を上記特定の反射特性とすることができる。
(2) Aluminum pattern layer The aluminum pattern layer is a pattern layer formed of an aluminum thin film, and the layer itself is opaque, but by providing a pattern in which an unformed portion of the layer such as an opening is provided, It is a layer that achieves both light transmittance.
In the present invention, the surface of the transparent substrate side of the aluminum pattern layer, diffuse light reflectance to the total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 (R SCI) (R SCE) ratio (R SCE / R SCI ) Is 0.4 or less, preferably 0.3 or less, and has a low light scattering mirror surface. Total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) the ratio of (R SCE) (R SCE / R SCI) by optimizing to have the specific reflection characteristics, to the transparent adhesive layer Since mixing of microbubbles can be suppressed, an increase in haze can be suppressed.
In addition, the mirror surface of the said aluminum pattern layer can be made into the said specific reflective characteristic by raising the polish degree of the rolling roll surface of the metal thin film which forms an aluminum pattern layer.
アルミニウムパターン層のアルミニウムは、アルミニウムを主成分とし、アルミニウム純金属の他にアルミニウム合金でもよくこれらを纏めて本発明ではアルミニウムというが、アルミニウムの純度が低いと導電性が低下するので、純度は電磁波遮蔽性能の点では高い方が好ましく、純度が９９．０％以上のアルミニウムが好ましい。このような純度が９９．０％以上のアルミニウムを利用したアルミニウムパターン層は、ＪＩＳ Ｈ４１６０（アルミニウム及びアルミニウム合金はく）、ＪＩＳ Ｈ４１７０（高純度アルミニウムはく）で規定されるアルミニウム箔に準じた箔を利用することで形成できる。 Aluminum in the aluminum pattern layer is mainly composed of aluminum, and may be aluminum alloy in addition to aluminum pure metal, and these are collectively referred to as aluminum in the present invention. Higher is preferable in terms of shielding performance, and aluminum having a purity of 99.0% or more is preferable. Such an aluminum pattern layer using aluminum having a purity of 99.0% or more is a foil conforming to the aluminum foil defined by JIS H4160 (aluminum and aluminum alloy foil) and JIS H4170 (high purity aluminum foil). It can be formed by using
なお、アルミニウムパターン層はアルミニウムの薄膜から形成するのではなく、透明基材上にアルミニウムを気相成長法、例えば真空蒸着法で形成したアルミニウム蒸着膜から形成したものを利用しても良い。 The aluminum pattern layer is not formed from an aluminum thin film, but may be formed from an aluminum deposited film formed on a transparent substrate by vapor deposition, for example, vacuum deposition.
アルミニウムパターン層の厚みは、電磁波遮蔽性能、加工適性、機械的強度などの点から適宜選択すればよく、具体的には１〜１００μｍ、好ましくは５〜２０μｍ、より好ましくは８〜１５μｍである。厚みが薄いと電磁波遮蔽性能、機械的強度などが低下し、厚みが厚いと加工適性が低下する。 The thickness of the aluminum pattern layer may be appropriately selected from the viewpoints of electromagnetic wave shielding performance, workability, mechanical strength, and the like, specifically 1 to 100 μm, preferably 5 to 20 μm, and more preferably 8 to 15 μm. If the thickness is thin, electromagnetic wave shielding performance, mechanical strength and the like are lowered, and if the thickness is thick, workability is lowered.
アルミニウムパターン層の平面視のパターンの形状は、例えばメッシュ形状、ストライプ形状などの電磁波遮蔽性能と光透過性とを両立させた公知のパターンである。なかでもメッシュ形状、それも正方格子形状が代表的であり、この他、格子形状で言えば例えば長方形格子、菱形格子、六角格子、三角格子などがある。メッシュはこれら形状からなる複数の開口部を有し、開口部間は開口部を区画するライン部（線部又は線条部）となる。ライン部は通常幅均一でライン状のものであり、また通常は開口部及び開口部間は、全て各々同一形状で同一サイズとなる。 The shape of the aluminum pattern layer in a plan view is a known pattern that achieves both electromagnetic wave shielding performance and light transmittance such as a mesh shape and a stripe shape. Among them, a mesh shape and a square lattice shape are typical, and in addition, examples of the lattice shape include a rectangular lattice, a rhombus lattice, a hexagonal lattice, and a triangular lattice. The mesh has a plurality of openings having these shapes, and the openings are line portions (line portions or line portions) that define the openings. The line portions are usually line-shaped with a uniform width, and usually the openings and the spaces between the openings are all the same shape and the same size.
なお、上記パターンは、ディスプレイ用途では、電磁波遮蔽シートの画像表示に影響しない四辺周辺部には、接地用導通の為に開口部を設けないメッシュ非形成の接地領域、或いは、在っても占有面積比率が小さい接地領域を、開口部を有する内部の画像表示領域の周囲に有することがある。 In addition, in the display application, the above-mentioned pattern is occupied by a non-meshing ground area where no opening is provided for grounding continuity around the four sides that do not affect the image display of the electromagnetic wave shielding sheet, or even if present. A grounding region having a small area ratio may be provided around an internal image display region having an opening.
パターンのライン部のライン幅は例えば５〜５０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、ラインの繰り返し周期であるライン間隔（ピッチ）は例えば１００〜５００μｍである。 The line width of the line portion of the pattern is, for example, 5 to 50 μm, preferably 5 to 30 μm, and the line interval (pitch) that is a line repetition period is, for example, 100 to 500 μm.
（パターン形成）
アルミニウムパターン層のパターンを形成するには、透明基材上にアルミニウム箔などパターン形成前のアルミニウム層を積層した後、ケミカルエッチングによって形成できる。ケミカルエッチング時のレジストパターンのパターン形成はフォトリソグラフィー法（パターン露光法）、印刷法などの公知のパターン形成法を適宜選択すればよい。なかでも、フォトリソグラフィー法は印刷法に比べて、電磁波遮蔽シートに要求されるライン幅やその均一性など高精度のパターンを安定的に形成できる点で好ましい方法である。
尚、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングする際のエッチング液としては、公知のエッチング液を適宜選択使用すれば良い。例えば、塩化第二鉄を含む酸性のエッチング液である。
(Pattern formation)
In order to form the pattern of the aluminum pattern layer, it is possible to form the pattern by chemical etching after laminating an aluminum layer before pattern formation, such as an aluminum foil, on a transparent substrate. For pattern formation of the resist pattern during chemical etching, a known pattern formation method such as a photolithography method (pattern exposure method) or a printing method may be appropriately selected. Among these, the photolithography method is a preferable method compared to the printing method in that a highly accurate pattern such as a line width required for the electromagnetic wave shielding sheet and its uniformity can be stably formed.
A known etching solution may be appropriately selected and used as an etching solution for chemically etching the aluminum pattern layer. For example, an acidic etching solution containing ferric chloride.
［アルミニウムの酸化皮膜］
金属パターン層の材料としてアルミニウムの薄膜を用いた場合、アルミニウム自体が活性が高く、表面にアルミニウムの酸化皮膜が存在し、これが耐腐食膜となってケミカルエッチングを阻害する。また、エッチング液に接触した領域の酸化皮膜が一部除去されると、除去された部分がまだ除去されていない部分に対して急速にエッチングが進んでしまい、均一な安定したエッチングが困難となる。その結果、金属パターンのライン部の輪郭に、ギザや断線が発生し、ラインのパターン精度が低下する。
これに対して、本発明のアルミニウムパターン層は、少なくとも前記透明基材側とは反対側の面に形成されたアルミニウムの酸化皮膜の厚みが０〜１３Åの範囲内であることが好ましい。上記特定の範囲内のアルミニウムの酸化皮膜が形成されていることにより、アルミニウムパターン層をケミカルエッチングで形成する際に安定したエッチングが可能でエッチング品質が改善する為、ライン輪郭部のギザや断線となる不良が解消してパターン精度が向上し、ひいては、電磁波遮蔽性（表面抵抗値）のバラツキやヘイズの上昇を抑制することができる。尚、１Å＝０．１ｎｍである。
アルミニウムの酸化皮膜はアルミニウム酸化物を含む層であり、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔を利用して形成する場合、アルミニウムの酸化皮膜は箔の上面及び下面の表裏両面に存在するが、本発明ではケミカルエッチングでパターン形成する際に、エッチングされる側、つまり上面側について、その厚みを規定する。アルミニウムパターン層の少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を１３Å、好ましく１２Å、より好ましくは１０Å、更に好ましくは８Åとする。
少なくとも上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについて、その上限を上記のようにすることで、当該酸化皮膜がたとえ存在したままでも、安定したケミカルエッチングが可能となり、パターン精度不良を回避できる。
[Aluminum oxide film]
When an aluminum thin film is used as the material of the metal pattern layer, the aluminum itself is highly active, and an aluminum oxide film is present on the surface, which becomes a corrosion-resistant film and inhibits chemical etching. In addition, if a portion of the oxide film in the region in contact with the etching solution is removed, the removed portion is rapidly etched with respect to the portion that has not yet been removed, and uniform and stable etching becomes difficult. . As a result, jaggedness or disconnection occurs in the outline of the line portion of the metal pattern, and the line pattern accuracy decreases.
On the other hand, in the aluminum pattern layer of the present invention, it is preferable that the thickness of the aluminum oxide film formed on at least the surface opposite to the transparent substrate side is in the range of 0 to 13 mm. The formation of an aluminum oxide film within the above specific range enables stable etching when the aluminum pattern layer is formed by chemical etching and improves the etching quality. Therefore, the pattern accuracy is improved, and as a result, variations in electromagnetic shielding properties (surface resistance value) and haze increase can be suppressed. Note that 1Å = 0.1 nm.
The aluminum oxide film is a layer containing aluminum oxide. When the aluminum pattern layer is formed using an aluminum foil, the aluminum oxide film exists on both the top and bottom surfaces of the foil. When the pattern is formed by etching, the thickness of the etched side, that is, the upper surface side is defined. The upper limit of the thickness of the aluminum oxide film on at least the upper surface of the aluminum pattern layer is 13 mm, preferably 12 mm, more preferably 10 mm, and still more preferably 8 mm.
By setting the upper limit of the thickness of the aluminum oxide film on at least the upper surface as described above, stable chemical etching is possible even if the oxide film is still present, and poor pattern accuracy can be avoided.
ところで、普通に製造されるアルミニウム箔は圧延法で製造され、アルミニウム塊の圧延工程、焼鈍工程を経る箔製造工程、その後の空気中保管など、常温（２０℃、５０％ＲＨ前後）で製造保管することによって、活性なアルミニウムは表面に不可逆的にアルミニウムの酸化皮膜が形成されるが、本発明の様に薄い酸化皮膜とはならずに、より厚みの厚い１５Å以上、通常２０〜１００Å程度の酸化皮膜となる。 By the way, normally manufactured aluminum foil is manufactured by a rolling method, and manufactured and stored at normal temperature (20 ° C., around 50% RH), such as aluminum ingot rolling process, foil manufacturing process through annealing process, and subsequent storage in air. By doing so, an active aluminum irreversibly forms an oxide film of aluminum on the surface. However, it does not become a thin oxide film as in the present invention, but is thicker than 15 mm, usually about 20 to 100 mm. It becomes an oxide film.
また、アルミニウムパターン層上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みの下限は、ケミカルエッチングを阻害しない観点からは、０（零）Å、つまり酸化皮膜が存在しなくても良い。
ただ、アルミニウムの酸化皮膜は、不動態膜と言われており、アルミニウム箔を加工、搬送、保管する過程中に於いて、アルミニウム箔の内部に（不用意な、望まれない）酸化乃至は腐食が進行することを防止する機能を有するので、この点では２〜３Å程度の緻密なアルミニウム不動態膜としての酸化皮膜を形成しておいてもよい。
The lower limit of the thickness of the aluminum oxide film on the upper surface of the aluminum pattern layer is 0 (zero), that is, no oxide film may be present from the viewpoint of not inhibiting chemical etching.
However, the oxide film of aluminum is said to be a passive film, and during the process of processing, transporting and storing the aluminum foil, oxidation or corrosion (inadvertently or undesired) inside the aluminum foil. In this respect, an oxide film as a dense aluminum passivation film of about 2 to 3 mm may be formed.
なお、上面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターン層は、真空中、不活性気体中でパターン形成前のアルミニウム層を透明基材上に形成し、酸化皮膜生成前にアルミニウム層の上面を樹脂被覆し酸化反応を遮断するなどすれば可能である。その後、ケミカルエッチングで所定のパターンを形成すれば、上面にアルミニウムの酸化皮膜が存在しないアルミニウムパターン層となる。 In addition, the aluminum pattern layer where the aluminum oxide film does not exist on the upper surface is formed by forming the aluminum layer before pattern formation on the transparent substrate in vacuum and in an inert gas, and resin the upper surface of the aluminum layer before forming the oxide film. This can be achieved by coating and blocking the oxidation reaction. Then, if a predetermined pattern is formed by chemical etching, an aluminum pattern layer having no aluminum oxide film on the upper surface is obtained.
アルミニウムの酸化皮膜の厚みを上記のような薄い所定の厚みにするには、各種あるが、アルミニウムパターン層にアルミニウム箔を利用する場合、アルミニウム箔は圧延法によって作られ、その後、焼鈍して製造されているが、圧延条件や焼鈍条件を調整することで、目的とする厚みに調整できる。 There are various ways to reduce the thickness of the aluminum oxide film as described above, but when using aluminum foil for the aluminum pattern layer, the aluminum foil is made by rolling, and then annealed and manufactured. However, it can be adjusted to the target thickness by adjusting the rolling conditions and annealing conditions.
例えば、圧延後のアルミニウム箔の表面に付着している圧延油を焼鈍時に除去する際に、表面が酸化しないように、焼鈍雰囲気のガス組成を制御したり（酸素濃度を低めにする）、アルミニウム箔表面のアルミニウムの酸化皮膜を薬品で除去したりする、といった方法などがある。焼鈍しないという方法もあるが、圧延油は、フォトリソグラフィー法に悪影響を及ぼすため好ましくない。 For example, when removing the rolling oil adhering to the surface of the aluminum foil after rolling during annealing, the gas composition of the annealing atmosphere is controlled so that the surface is not oxidized (the oxygen concentration is lowered), aluminum There are methods such as removing the aluminum oxide film on the foil surface with chemicals. Although there is a method of not annealing, rolling oil is not preferable because it adversely affects the photolithography method.
なお、アルミニウムの酸化皮膜の厚みは、ハンターホール法、蛍光Ｘ線分析法の一種であるＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）で測定する。 The thickness of the aluminum oxide film is measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), which is a kind of Hunter Hall method and X-ray fluorescence analysis.
アルミニウムの酸化皮膜は、その箔製造工程からして、箔の表裏両面、つまり上面及び下面の両面に通常形成されている。このうち、アルミニウムパターン層のパターン形成のためのケミカルエッチングに影響するのは上面の酸化皮膜であるので、本発明では少なくともこの上面のアルミニウムの酸化皮膜について特定の厚み（薄さ）を規定する。尚、下面のアルミニウムの酸化皮膜については、通常は、上面のアルミニウム酸化皮膜に比べてケミカルエッチング時のメッシュ形状ギザ発生への寄与は無視出来る為、パターン精度の点からは特に規定する必要はない。但し、当該膜厚が厚すぎると、開口部に残留したアルミニウム酸化皮膜によるメッシュ形状への悪影響も起こり得るし、また、開口部の透明性を低下させることも有り得る。この為、下面のアルミニウム酸化皮膜は、好ましくは、可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満、更に好ましくは２００ｎｍ以下とすることが推奨される。例えば、下面のアルミニウム酸化皮膜の膜厚も上面と同様に０〜１３Åとする。尚、本発明の１形態として、ケミカルエッチング前の下面のアルミニウム酸化皮膜の膜厚、及びケミカルエッチングの加工条件を調整することにより、パターン開口部に可視光線の最小波長３８０ｎｍ未満（例えば３〜１３Å）の膜厚の透明なアルミニウム酸化皮膜を残留させ、ケミカルエッチング時に開口部に露出する透明接着剤層又は透明基材を腐食液による着色から保護することも出来る。
ただ、下面のアルミニウムの酸化皮膜も上面の酸化皮膜と同程度の厚みで存在するとすれば、下面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みについても、上記した上面のアルミニウムの酸化皮膜の厚みと同じ規定をすることができる。
The aluminum oxide film is usually formed on both the front and back surfaces of the foil, that is, both the upper surface and the lower surface from the foil manufacturing process. Among these, since it is the oxide film on the upper surface that affects the chemical etching for pattern formation of the aluminum pattern layer, in the present invention, a specific thickness (thinness) is defined for at least the aluminum oxide film on the upper surface. It should be noted that the aluminum oxide film on the lower surface does not need to be specified in terms of pattern accuracy because the contribution to the generation of mesh shape burrs during chemical etching is usually negligible compared to the aluminum oxide film on the upper surface. . However, if the film thickness is too thick, the aluminum oxide film remaining in the opening may adversely affect the mesh shape, and the transparency of the opening may be reduced. For this reason, it is recommended that the aluminum oxide film on the lower surface is preferably less than the minimum visible light wavelength of 380 nm, more preferably 200 nm or less. For example, the film thickness of the aluminum oxide film on the lower surface is set to 0 to 13 mm similarly to the upper surface. As one form of the present invention, by adjusting the film thickness of the aluminum oxide film on the lower surface before chemical etching and the processing conditions of chemical etching, the minimum wavelength of visible light in the pattern opening is less than 380 nm (for example, 3 to 13 mm). The transparent aluminum oxide film having a thickness of 2) remains, and the transparent adhesive layer or transparent substrate exposed to the opening during chemical etching can be protected from coloring by the corrosive liquid.
However, if the lower surface aluminum oxide film has the same thickness as that of the upper surface oxide film, the thickness of the lower surface aluminum oxide film is defined to be the same as the thickness of the upper surface aluminum oxide film. be able to.
［黒化処理層］
なお、アルミニウムパターン層はその表面に黒化処理層を形成してもよい。
黒化処理層は、アルミニウムパターン層やその表面の酸化皮膜による光反射を抑制することで、外光吸収、画像のコントラスト向上を図る層である。黒化処理層は外光吸収、画像のコントラスト向上が必要な場合に設ける。黒化処理層はアルミニウムパターン層の表面、表面に酸化皮膜がある場合はその皮膜表面に設けて、その光反射率を低下させる層である。
[Blackening layer]
In addition, you may form a blackening process layer in the surface of an aluminum pattern layer.
The blackening treatment layer is a layer for improving external light absorption and image contrast by suppressing light reflection by the aluminum pattern layer and the oxide film on the surface thereof. The blackening treatment layer is provided when external light absorption and image contrast improvement are required. The blackening treatment layer is a layer that reduces the light reflectivity of the aluminum pattern layer by providing it on the surface of the aluminum pattern layer, if there is an oxide film on the surface.
ここで表面は上面、下面、側面などの面をいう。黒化処理して黒化処理層を形成する表面としては、上面のみ、上面と両側側面、下面のみ、上面と両側側面と下面の全ての表面など、要求に応じた面とすれば良いのは公知の黒化処理と同じである。このうち、透明接着剤層存在下で透明接着剤に接する面が下面である。また、電磁波遮蔽シートをその上面側を観察者側にして使用するには、少なくとも上面については黒化処理層を形成するのが好ましく、更に好ましくは両側側面、後述画像表示素子側となる下面についても黒化処理層を形成するのがよい。 Here, the surface refers to a surface such as an upper surface, a lower surface, or a side surface. The surface on which the blackening treatment is performed to form the blackening treatment layer may be surfaces according to demand, such as the upper surface only, the upper surface and both side surfaces, the lower surface only, the upper surface, both side surfaces, and the entire lower surface. This is the same as a known blackening process. Among these, the surface in contact with the transparent adhesive in the presence of the transparent adhesive layer is the lower surface. In order to use the electromagnetic wave shielding sheet with the upper surface side of the observer side, it is preferable to form a blackening treatment layer on at least the upper surface, more preferably on both side surfaces, and on the lower surface on the image display element side described later. Also, a blackening treatment layer is preferably formed.
黒化処理層としては、電磁波遮蔽シートにおいて、公知のものを適宜採用すれば良い。例えば、黒化処理層としては、金属などの無機材料、黒色樹脂などの有機材料などを使用できる。無機材料としては、例えば金属乃至は合金、金属酸化物、金属硫化物などの金属化合物であり、めっき法など公知の黒化処理にて形成することができる。また、黒色樹脂としては例えば黒色の着色剤を樹脂中に含有させた層として形成できる。 As the blackening treatment layer, any known electromagnetic shielding sheet may be adopted as appropriate. For example, as the blackening treatment layer, an inorganic material such as a metal, an organic material such as a black resin, or the like can be used. The inorganic material is, for example, a metal compound such as a metal or an alloy, a metal oxide, or a metal sulfide, and can be formed by a known blackening process such as a plating method. Moreover, as black resin, it can form as a layer which contained the black coloring agent in resin, for example.
尚、一般に、外光反射防止に寄与する程度に黒化処理された表面は粗面となるため、本発明においては、アルミニウムパターン層表面に黒化処理を施さないことが好ましい。 In general, since the surface that has been blackened to the extent that it contributes to preventing reflection of external light is rough, in the present invention, it is preferable that the surface of the aluminum pattern layer is not blackened.
（３）透明接着剤層
透明接着剤層は、アルミニウムパターン層を透明基材に固定するための層であり、例えば、アルミニウムパターン層をアルミニウム箔から形成する場合に、アルミニウム箔を透明基材に接着固定するために使用される。なお、透明接着剤層は、アルミニウムパターン層をアルミニウム蒸着で透明基材上に直接積層したアルミニウム層から形成する場合では省略できる。
(3) Transparent adhesive layer The transparent adhesive layer is a layer for fixing the aluminum pattern layer to the transparent substrate. For example, when forming the aluminum pattern layer from an aluminum foil, the aluminum foil is used as the transparent substrate. Used for adhesive fixing. The transparent adhesive layer can be omitted when the aluminum pattern layer is formed from an aluminum layer directly laminated on a transparent substrate by aluminum vapor deposition.
透明接着剤層としては、アルミニウムパターン層の開口部による光透過性を阻害しないように、透明な接着剤であればよく、公知の透明な接着剤を適宜使用すればよい。例えば、ウレタン樹脂系接着剤、アクリル樹脂系接着剤、エポキシ樹脂系接着剤、ゴム系接着剤などである。なかでも、ウレタン樹脂系接着剤、例えば２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤は、接着力などの点で好ましい。２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤としては、ポリオールを主剤とし、これに硬化剤としてポリイソシアネート化合物を用いた接着剤を使用できる。ポリオールは、例えば、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリウレタンポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリウレタンポリオールなどである。また、ポリイソシアネート化合物は、例えば、トリレンジイソシアネート系、キシリレンジイソシアネート系、ヘキサメチレンジイソシアネート系などである。ポリオール、ポリイソシアネートは、各々複数種使用してもよい。 As the transparent adhesive layer, a transparent adhesive may be used as long as it does not impair the light transmission through the opening of the aluminum pattern layer, and a known transparent adhesive may be used as appropriate. For example, urethane resin adhesive, acrylic resin adhesive, epoxy resin adhesive, rubber adhesive, and the like. Among these, a urethane resin adhesive, for example, a two-component curable urethane resin adhesive is preferable in terms of adhesive strength. As the two-component curable urethane resin-based adhesive, an adhesive using a polyol as a main agent and a polyisocyanate compound as a curing agent can be used. Examples of the polyol include acrylic polyol, polyester polyol, polyurethane polyol, polyether polyol, and polyester polyurethane polyol. Examples of the polyisocyanate compound include tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate. A plurality of polyols and polyisocyanates may be used.
透明接着剤層は、透明な接着剤をアルミニウム箔、透明基材のいずれか又は両方に公知の形成法によって施した後、これらを接着剤を介する様に積層することで形成できる。当該形成法は、塗工法、印刷法などである。 The transparent adhesive layer can be formed by applying a transparent adhesive to one or both of an aluminum foil and a transparent substrate by a known forming method, and then laminating these with an adhesive interposed therebetween. Examples of the forming method include a coating method and a printing method.
ＩＩ．電磁波遮蔽シートの製造方法
本発明に係る電磁波遮蔽シートの製造方法は、透明基材の一方の面に、アルミニウムパターン層を備えた電磁波遮蔽シートの製造方法であって、
（ｉ）吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下の面を有するアルミニウムの薄膜を用意する工程、
（ｉｉ）透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウムの薄膜を、その吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び
（ｉｉｉ）前記アルミニウムの薄膜を所定のパターン形状にエッチングする工程を含むことを特徴とする。
II. A method for producing an electromagnetic wave shielding sheet according to the present invention is a method for producing an electromagnetic wave shielding sheet comprising an aluminum pattern layer on one surface of a transparent substrate,
(I) the amount of adsorbed water is 5.0 g / m 2 or less, and the total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 diffuse light reflectance for (R SCI) ratio (R SCE) (R SCE / R SCI) Preparing an aluminum thin film having a surface of 0.4 or less,
(Ii) The aluminum thin film is disposed on one surface of the transparent substrate with a transparent adhesive layer interposed therebetween, the adsorbed moisture amount is 5.0 g / m 2 or less, and R SCE / RS SCI is 0.4 or less. And (iii) etching the aluminum thin film into a predetermined pattern shape.
本発明の電磁波遮蔽シートの製造方法によれば、吸着水分量が特定の範囲のアルミニウムの薄膜を用い、透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、当該アルミニウムの薄膜の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が特定の範囲となる光散乱性の低い面（鏡面）を、当該透明基材と向き合わせて積層することにより、上記透明接着剤層中に微小気泡が混入し難くなり、ヘイズの上昇を抑制することが可能な電磁波遮蔽シートを提供することができる。 According to the method for producing an electromagnetic wave shielding sheet of the present invention, an aluminum thin film having an adsorbed moisture amount in a specific range is used, and the entire surface of the aluminum thin film is disposed on one surface of the transparent substrate via a transparent adhesive layer. A low light scattering surface (mirror surface) in which the ratio of the diffused light reflectance ( RSCE ) to the light reflectance ( RSCI ) ( RSCE / RSCI ) is in a specific range faces the transparent substrate. By laminating, it is possible to provide an electromagnetic wave shielding sheet that makes it difficult for microbubbles to be mixed into the transparent adhesive layer and can suppress an increase in haze.
以下、各工程についてそれぞれ説明する。
（ｉ）吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下の面を有するアルミニウムの薄膜を用意する工程
本工程においては、アルミニウムの薄膜を用意する。
本発明で用いるアルミニウムの薄膜は、表面吸着水分量が、５．０ｇ／ｍ２以下、好ましくは３．０ｇ／ｍ２以下であり、且つ、ＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下、好ましくは０．３以下の光散乱性の低い鏡面を有する。全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）を上記特定の反射特性を有するように最適化することにより、後述する透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、当該アルミニウムの薄膜の鏡面を透明基材に向き合わせて積層する工程において、当該透明基材上に当該アルミニウムの薄膜をドライラミネートする際、当該アルミニウムの薄膜と当該透明接着剤層との間の気泡の噛み込みが抑制される。また、表面吸着水分量が、上記特定の範囲のアルミニウムの薄膜を用いることにより、上記ドライラミネート後の養生工程において、当該アルミニウムの薄膜表面に吸着した水分が加熱されることにより、発生する微小気泡の数を抑制することができる。従って、上記のアルミニウムの薄膜を用いることにより、硬化後の透明接着剤層中に微小気泡を混入し難くすることができ、ヘイズの上昇を抑制することができる。
尚、アルミニウムの薄膜は、上記「（２）アルミニウムパターン層」の項で説明したものを用いることができる。
Hereinafter, each step will be described.
(I) the amount of adsorbed water is 5.0 g / m 2 or less, and the total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 diffuse light reflectance for (R SCI) ratio (R SCE) (R SCE / R SCI) Step of preparing an aluminum thin film having a surface of 0.4 or less In this step, an aluminum thin film is prepared.
The aluminum thin film used in the present invention has a surface adsorbed water amount of 5.0 g / m 2 or less, preferably 3.0 g / m 2 or less, and a total light reflectance measured in accordance with JIS Z8722 ( R SCI diffuse light reflectance against) (ratio of R SCE) (R SCE / R SCI) is 0.4 or less, preferably has a low 0.3 or less of the light-scattering mirror. By optimized to have the specific reflectance characteristic diffuse light reflectance ratio (R SCE) (R SCE / R SCI) to the total light reflectance (R SCI), one of the transparent substrate to be described later In the step of laminating the aluminum thin film with the mirror surface facing the transparent base material through the transparent adhesive layer on the surface, when the aluminum thin film is dry laminated on the transparent base material, the aluminum thin film And the entrapment of bubbles between the transparent adhesive layer and the transparent adhesive layer. In addition, by using the aluminum thin film with the surface adsorbed moisture amount in the above specific range, in the curing process after the dry lamination, the moisture adsorbed on the surface of the aluminum thin film is heated, thereby generating micro bubbles. Can be suppressed. Therefore, by using the above-described aluminum thin film, it is possible to make it difficult for microbubbles to be mixed into the cured transparent adhesive layer, and to suppress an increase in haze.
As the aluminum thin film, the one described in the section “(2) Aluminum pattern layer” can be used.
（ｉｉ）透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウムの薄膜を、その吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程
本工程においては、先ず透明基材を用意し、この透明基材の一方の面に、透明接着剤をコーティングして、透明接着剤層を形成する。
上記透明基材は、上記「（１）透明基材」の項で説明したものを用いることができる。
また、層形成法としては、公知の層形成法、例えば、ロールコート、コンマコート、グラビアコート、ダイコート等の塗工法、或いは、任意形状での部分形成が容易なスクリーン印刷、グラビア印刷等の印刷法を適宜採用することが出来る。
尚、アルミニウムの薄膜側に透明接着剤層を形成したり、或は透明基材側とアルミニウムの薄膜側の両方の面に透明接着剤層を形成することも出来る。
次に、上記透明基材の透明接着剤層の表面に、アルミニウムの薄膜を光散乱性の低い鏡面側を向けて積層する。
(Ii) The aluminum thin film is disposed on one surface of the transparent substrate with a transparent adhesive layer interposed therebetween, the adsorbed moisture amount is 5.0 g / m 2 or less, and R SCE / RS SCI is 0.4 or less. In this step, first, a transparent substrate is prepared, and a transparent adhesive layer is coated on one surface of the transparent substrate to form a transparent adhesive layer. Form.
As the transparent substrate, those described in the section “(1) Transparent substrate” can be used.
In addition, as a layer forming method, a known layer forming method, for example, a coating method such as roll coating, comma coating, gravure coating, or die coating, or printing such as screen printing or gravure printing that allows easy partial formation in an arbitrary shape. Laws can be adopted as appropriate.
A transparent adhesive layer can be formed on the aluminum thin film side, or a transparent adhesive layer can be formed on both the transparent substrate side and the aluminum thin film side.
Next, an aluminum thin film is laminated on the surface of the transparent adhesive layer of the transparent substrate with the mirror surface side having a low light scattering property facing.
（ｉｉｉ）前記アルミニウムの薄膜を所定のパターン形状にエッチングする工程
本工程においては、透明基材上に積層されたアルミニウムの薄膜面へ、レジスト層を所定のパターン状に設け、レジスト層で覆われていない部分のアルミニウムの薄膜をエッチング（腐蝕）により除去した後に、レジスト層を除去するエッチング加工法で、アルミニウムパターン層とする。エッチング加工法の中でも、所謂フォトリソグラフィー法を採用する事が、微細加工精度の点から好ましい。
(Iii) Step of etching the aluminum thin film into a predetermined pattern shape In this step, a resist layer is provided in a predetermined pattern on the aluminum thin film surface laminated on the transparent substrate, and is covered with the resist layer. An aluminum pattern layer is formed by an etching method in which the resist layer is removed after removing the unexposed aluminum thin film by etching (corrosion). Among the etching processing methods, it is preferable to adopt a so-called photolithography method from the viewpoint of fine processing accuracy.
以下、フォトリソグラフィー法について説明する。
まず、マスキングを行う。例えば、アルミニウムの薄膜側の最表面へ感光性レジストを塗布し、乾燥した後に、所定のパターンを有するフォトマスクにて密着露光し、温水現像し、硬膜処理などを施し、ベーキングすることにより、所望のパターンのレジスト層を形成する。尚、感光性レジストのネガ型、ポジ型の何れも使用可能である。感光性レジストがネガ型の場合は、フォトマスクのパターンはライン部が透明なものを用いる。また、感光性レジストがポジ型の場合は、フォトマスクのパターンは開口部が透明なものを用いる。また、露光パターンとしては、電磁波遮蔽シートとして所望のパターンであり、当該パターンとしてメッシュ形状を採用する場合は、最低限メッシュ状領域のパターンから構成される。一般的にはメッシュパターン周辺（周縁）部に額縁状の接地用領域を設けることが多い。
Hereinafter, the photolithography method will be described.
First, masking is performed. For example, after applying a photosensitive resist to the outermost surface on the thin film side of aluminum and drying it, it is closely exposed with a photomask having a predetermined pattern, developed with warm water, subjected to a hardening process, and baked. A resist layer having a desired pattern is formed. Note that either a negative type or a positive type of photosensitive resist can be used. When the photosensitive resist is a negative type, a photomask pattern having a transparent line portion is used. When the photosensitive resist is a positive type, a photomask pattern having a transparent opening is used. Further, the exposure pattern is a desired pattern as an electromagnetic wave shielding sheet, and when a mesh shape is adopted as the pattern, it is composed of a pattern of a mesh-like region at a minimum. In general, a frame-shaped grounding region is often provided around the periphery (periphery) of the mesh pattern.
上記感光性レジストの塗布は、巻取り加工では、帯状の積層体を連続又は間歇で搬送させながら、アルミニウムの薄膜面へ、カゼイン、ＰＶＡ、ゼラチンなどから成るレジストをディッピング（浸漬）、カーテンコート、掛け流しなどの方法で行う。また、レジストは塗布ではなく、ドライフィルムレジストを用いてもよく、作業性が向上できる。 In the winding process, the photosensitive resist is applied by dipping (dipping) a resist made of casein, PVA, gelatin, or the like onto the aluminum thin film surface while continuously or intermittently transporting the belt-shaped laminate. Use a method such as pouring. Moreover, a dry film resist may be used instead of application | coating, and workability | operativity can be improved.
マスキング後にエッチングを行う。当該エッチングに用いるエッチング液としては、エッチングを連続して行う本発明には循環使用が容易にできる塩化第二鉄、又は塩化第二銅の水溶液が好ましい。また、当該エッチングは、帯状で連続する鋼材、特に厚さ２０〜８０μｍの薄板をエッチングするカラーＴＶのブラウン管用のシャドウマスクを製造する設備、工程と基本的に同様である。透明基材としてガラスを用いる場合の枚葉加工もより古くから行われている。エッチング後は、水洗、アルカリ液によるレジスト剥離、洗浄を行ってから乾燥すればよい。 Etching is performed after masking. As the etching solution used for the etching, an aqueous solution of ferric chloride or cupric chloride that can be easily circulated is preferable in the present invention in which etching is continuously performed. The etching is basically the same as the equipment and process for manufacturing a shadow mask for a color TV CRT that etches a strip-like continuous steel material, particularly a thin plate having a thickness of 20 to 80 μm. Single-wafer processing in the case of using glass as a transparent substrate has been performed for a long time. After etching, the substrate may be dried after washing with water, stripping the resist with an alkaline solution, and washing.
このようにして得られた電磁波遮蔽シートのＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１に準拠して測定したヘイズ値は、１０％以下とすることができ、更に５％以下とすることができる。 The haze value measured in accordance with JIS K 7105: 1981 of the electromagnetic wave shielding sheet thus obtained can be 10% or less, and can be further 5% or less.
（ｉｖ）その他の工程
本発明は、上述した各工程以外に、必要な工程を適宜有していてもよい。例えば、透明基材が積層されていないアルミニウムパターン層の外面に、黒化処理を行ってもよい。黒化処理としては、アルミニウムの薄膜の表面を粗化するか、全可視光スペクトルに亘って光吸収性を付与するか、或いは両者を併用するか、何れかの公知の各種黒化処理法により行う。黒化処理は、アルミニウムの薄膜と透明基材とを透明接着剤層で積層する前のアルミニウムの薄膜に対し実施しても良いが、一般に、外光反射防止に寄与する程度に黒化処理された表面は粗面となるため、本発明においては、接着剤側を向く面には事前に黒化処理を施さない方が好ましい。もちろん、黒化面の表面が本発明の反射率比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）の規定範囲に入る場合は使用可能である。
(Iv) Other steps The present invention may appropriately include necessary steps in addition to the steps described above. For example, you may perform a blackening process to the outer surface of the aluminum pattern layer in which the transparent base material is not laminated | stacked. As the blackening treatment, it is possible to roughen the surface of the aluminum thin film, to provide light absorption over the entire visible light spectrum, or to use both in combination, by any known various blackening treatment methods. Do. The blackening treatment may be performed on the aluminum thin film before laminating the aluminum thin film and the transparent substrate with the transparent adhesive layer, but in general, the blackening treatment is performed to the extent that it contributes to the prevention of external light reflection. In the present invention, it is preferable that the surface facing the adhesive side is not subjected to blackening treatment in advance. Of course, it can be used when the surface of the blackened surface falls within the specified range of the reflectance ratio (R SCE / R SCI ) of the present invention.
また、透明樹脂をアルミニウムパターン層が構成する凹凸面に塗工して、当該凹凸面を平坦化する平坦化処理を行ってもよい。当該アルミニウムパターン層が構成する表面凹凸（線状部が凸、開口部が凹）は光の散乱性を有し、又当該アルミニウムパターン層上に、接着剤層を介して、被着体を積層する場合に、開口部の凹部内に噛み込まれた気泡により光散乱性が発現する。アルミニウムパターン層上に流動性の有る透明樹脂を塗工して、アルミニウムパターン層の表面凹凸を埋めてアルミニウムパターン層側の表面を平坦化することにより、アルミニウムパターン層自身による光の散乱を低下させることが出来る。又、当該アルミニウムパターン層側で、接着剤層を介して、被着体と積層する場合に開口部内に気泡が残留して光散乱性が発現することを防止することも出来る。斯かる目的で形成する透明樹脂層を平坦化層、当該平坦化層を形成する処理を平坦化処理と呼称する。この様な平坦化処理は、透明基材上に積層したアルミニウムパターン層による凹凸表面に対して、透明樹脂を含む透明液状組成物を塗布し、開口部（凹部）を充填し塗膜の当該表面を実質上平坦面とすることにより行う。当該液状組成物としては、透明な樹脂を含むものであれば特に限定は無く、公知の樹脂を適宜採用すれば良い。例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等である。例えば、熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性ウレタン樹脂、酢酸ビニル系樹脂等であり、熱硬化性樹脂としては、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、硬化性アクリル樹脂等であり、電離放射線硬化性樹脂としては紫外線や電子線で硬化するアクリレート系樹脂のプレポリマー、単量体等である。なかでも、アルミニウムパターン層による凹凸を埋め易い点では、無溶剤或いは無溶剤に近い状態で、且つ低粘度流体の状態で塗工形成できる、電離放射線硬化性樹脂は好ましい樹脂である。 Also, a transparent resin may be applied to the uneven surface formed by the aluminum pattern layer, and a flattening process may be performed to flatten the uneven surface. The surface unevenness (the linear portion is convex and the opening is concave) formed by the aluminum pattern layer has light scattering properties, and an adherend is laminated on the aluminum pattern layer via an adhesive layer. In this case, the light scattering property is expressed by the air bubbles caught in the recess of the opening. By coating a flowable transparent resin on the aluminum pattern layer and filling the surface irregularities of the aluminum pattern layer to flatten the surface on the aluminum pattern layer side, light scattering by the aluminum pattern layer itself is reduced. I can do it. Further, when the aluminum pattern layer is laminated with the adherend via the adhesive layer, it is possible to prevent bubbles from remaining in the opening and exhibiting light scattering properties. The transparent resin layer formed for this purpose is called a flattening layer, and the process for forming the flattening layer is called a flattening process. Such flattening treatment is performed by applying a transparent liquid composition containing a transparent resin to an uneven surface formed by an aluminum pattern layer laminated on a transparent substrate, filling an opening (concave portion), and the surface of the coating film. Is made to be a substantially flat surface. The liquid composition is not particularly limited as long as it contains a transparent resin, and a known resin may be appropriately employed. For example, a thermoplastic resin, a thermosetting resin, an ionizing radiation curable resin, or the like. For example, thermoplastic resins are acrylic resins, polyester resins, thermoplastic urethane resins, vinyl acetate resins, etc., and thermosetting resins are urethane resins, epoxy resins, curable acrylic resins, etc. Examples of radiation curable resins include prepolymers and monomers of acrylate resins that are cured by ultraviolet rays or electron beams. Among these, an ionizing radiation curable resin that can be coated and formed in a solvent-free or solvent-free state and in a state of a low-viscosity fluid is a preferable resin in that it easily fills the unevenness of the aluminum pattern layer.
また、当該被着体としては、フィルタ用の基板、画像表示装置、下記の如き各種の機能性層が、適宜選択出来る。
本発明の電磁波遮蔽シートは、単品で画像表示装置全面に設置することも可能ではあるが、通常は、フィルタ基板と積層して電磁波遮蔽フィルタ板として構成したり、或は各種の機能性層と積層して複合（多機能）フィルタとした上で、画像表示装置全面に設置することも出来る。
フィルタ基板としては、前記に於いて、電磁波遮蔽シートの透明基材として列挙した板形態の基材と同様のものの中から適宜選択すれば良い。
機能性層としては、光学フィルタ層、硬質塗膜（ハードコート）層、帯電防止層、防汚層、耐衝撃層等を適宜１以上選択して積層する。光学フィルタ層としては、紫外線吸収、近赤外線吸収、ネオン光吸収、反射防止、防眩、着色等の機能を有するフィルタ層が挙げられる。これら、機能性層は、必要に応じ、適宜、透明基材と積層したり、２種以上の機能を１層に付与したりしても良い。これら機能層は、公知の各種構成のものから適宜選択する。
In addition, as the adherend, a filter substrate, an image display device, and various functional layers as described below can be appropriately selected.
Although the electromagnetic wave shielding sheet of the present invention can be installed as a single product on the entire surface of the image display device, it is usually laminated with a filter substrate to constitute an electromagnetic wave shielding filter plate, or various functional layers and After stacking to form a composite (multifunctional) filter, it can be installed on the entire surface of the image display device.
The filter substrate may be appropriately selected from the same substrates as those described above as the transparent substrate of the electromagnetic wave shielding sheet.
As the functional layer, one or more of an optical filter layer, a hard coating layer (hard coat) layer, an antistatic layer, an antifouling layer, an impact resistant layer and the like are appropriately selected and laminated. Examples of the optical filter layer include filter layers having functions such as ultraviolet absorption, near infrared absorption, neon light absorption, antireflection, antiglare, and coloring. These functional layers may be appropriately laminated with a transparent substrate, or two or more functions may be imparted to one layer as necessary. These functional layers are appropriately selected from known various structures.
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.
以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する。これらの記載により本発明を制限するものではない。尚、実施例中、部は特に特定しない限り重量部を表す。 Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. These descriptions do not limit the present invention. In the examples, parts represent parts by weight unless otherwise specified.
（実施例１）
先ず、アルミニウムの薄膜として、厚さ１２μｍの連続帯状の圧延アルミニウム箔を用意した。当該アルミニウム箔の表面吸着水分量は２．５ｍｇ／ｍ２、酸化皮膜の厚さは両面とも８Åであった。また、当該アルミニウム箔は、鏡面と粗面を有し、当該鏡面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）は、０．３であった。
尚、当該アルミニウム箔の表面吸着水分量は、カールフィッシャー法によって測定した。当該アルミニウム箔の酸化皮膜の厚さは、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって測定した。また、当該アルミニウム箔の鏡面のＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（％）は、分光測色計（例えば、コニカミノルタセンシング株式会社製、ＣＭ−３６００ｄ）を反射モードに設定し、光源は標準の光Ｄ６５、視野２°を用いて、検出器を、反射光のうち、拡散反射光と鏡面反射光の両方を総合した全反射光の（積分）強度を測定するようなＳＣＩモードに設定して、Ｙ値（３刺激値ＸＹＺのＹ）を測定した。また、当該鏡面のＪＩＳ Ｚ８７２２による拡散光線反射率（％）は、同様に分光測色計を用いて、光源及び視野は同じくして、鏡面反射光を光トラップで吸収遮断することによって、検出器が反射光のうち拡散反射光のみの（積分）強度を測定するようなＳＣＥモードに設定して、Ｙ値（３刺激値ＸＹＺのＹ）を測定した。
Example 1
First, a continuous strip-shaped rolled aluminum foil having a thickness of 12 μm was prepared as an aluminum thin film. The aluminum foil had a surface adsorbed water content of 2.5 mg / m 2 and an oxide film thickness of 8 mm on both sides. Moreover, the aluminum foil has a specular and rough surface, the ratio of the total light reflectance of the specular diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is a 0.3 there were.
In addition, the surface adsorption | suction moisture content of the said aluminum foil was measured by the Karl Fischer method. The thickness of the oxide film of the aluminum foil was measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). In addition, the total light reflectance (%) measured according to JIS Z8722 on the mirror surface of the aluminum foil is set to a reflection mode for a spectrocolorimeter (for example, CM-3600d manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd.) The light source is the standard light D65 and the field of view of 2 °, and the detector measures the (integrated) intensity of the total reflection light, which is the sum of both diffuse reflection light and specular reflection light. The Y value (Y of tristimulus values XYZ) was measured. Further, the diffused light reflectance (%) according to JIS Z8722 of the mirror surface is similarly detected by using a spectrocolorimeter, the same light source and field of view, and absorbing and blocking the specular reflected light with an optical trap. Was set to the SCE mode for measuring the (integral) intensity of only the diffuse reflected light of the reflected light, and the Y value (Y of tristimulus values XYZ) was measured.
また、透明基材として、片面にポリエステル樹脂系プライマー層が形成された、厚さ１００μｍで連続帯状の無着色透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（Ａ４３００：商品名、東洋紡績株式会社製）を用意した。
次に、上記ＰＥＴフィルムのプライマー層が形成された面に、乾燥時の厚さが７μｍとなるように透明接着剤（主剤が平均分子量３万のポリエステルポリウレタンポリオール１２質量部、及び硬化剤がキシリレンジイソシアネート系プレポリマー１質量部から成る２液硬化型ウレタン樹脂系接着剤）をコーティングして、透明接着剤層を形成した。
Moreover, as a transparent base material, a polyester resin-based primer layer is formed on one side, and a continuous belt-like non-colored transparent biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (A4300: trade name, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) ) Was prepared.
Next, on the surface of the PET film on which the primer layer is formed, a transparent adhesive (12 parts by mass of a polyester polyurethane polyol having an average molecular weight of 30,000 as a main ingredient and a curable agent is used to make the dry thickness 7 μm. A two-component curable urethane resin adhesive composed of 1 part by mass of a diisocyanate prepolymer was coated to form a transparent adhesive layer.
次に、上記ＰＥＴフィルムの片面のプライマー層上に、上記透明接着剤層を介して、上記アルミニウム箔の鏡面側がＰＥＴフィルム側を向く様にドライラミネートして積層し、連続帯状の積層体を得た。ドライラミネートした後、５０℃、３日間養生して、当該接着剤を硬化せしめた。 Next, on the primer layer on one side of the PET film, the laminate is dry laminated with the transparent adhesive layer so that the mirror surface side of the aluminum foil faces the PET film side, thereby obtaining a continuous belt-like laminate. It was. After dry laminating, the adhesive was cured by curing at 50 ° C. for 3 days.
次に、上記連続帯状の積層体に対して、そのアルミニウムの薄膜をフォトリソグラフィー法を利用したエッチングにより開口部及びライン部とから成るアルミニウムパターン（メッシュ）層、当該アルミニウムパターン（メッシュ）層の４周を囲繞する外縁部に額縁状のメッシュ非形成の幅１５ｍｍの接地用領域を形成した。
エッチングは、具体的には、カラーＴＶシャドウマスク用の製造ラインを利用して、上記積層体に対して、レジスト形成、マスキングからエッチングまでを一貫して行った。すなわち、上記積層体のアルミニウム箔面全面に感光性のネガ型エッチングレジストを塗布後、所望のメッシュパターンのマスクを密着露光し、現像、硬膜処理、ベーキングして、メッシュのライン部に相当する領域上にはレジスト層が残留し、開口部に相当する領域上にはレジスト層が無い様なパターンにレジスト層を加工した後、塩化第二鉄水溶液で、レジスト層非形成領域のアルミニウム箔を、エッチング除去してメッシュ状の開口部を形成し、次いで、水洗、レジスト剥離、洗浄、乾燥を順次行った。
Next, an aluminum pattern (mesh) layer composed of an opening and a line portion is etched by etching the aluminum thin film using the photolithography method with respect to the continuous band-shaped laminate, and the aluminum pattern (mesh) layer 4 An area for grounding having a width of 15 mm without a frame-like mesh was formed on the outer edge surrounding the periphery.
Specifically, the etching was performed consistently from resist formation, masking to etching on the laminate using a production line for a color TV shadow mask. That is, after applying a photosensitive negative etching resist to the entire surface of the aluminum foil of the laminate, a mask with a desired mesh pattern is closely exposed, developed, hardened, and baked to correspond to a mesh line portion. After processing the resist layer into a pattern in which the resist layer remains on the region and there is no resist layer on the region corresponding to the opening, the aluminum foil in the resist layer non-formation region is coated with an aqueous ferric chloride solution. Etching was performed to form a mesh-shaped opening, followed by sequential washing with water, stripping of the resist, washing and drying.
メッシュ状領域のメッシュ形状は、その開口部が正方形で、非開口部となる線状部分のライン幅は２０μｍ、そのライン間隔は３００μｍ、ライン部の高さは１２μｍ、長方形の枚葉シートに切断した場合に、当該ライン部と当該長方形の長辺とが構成する劣角として定義されるバイアス角度は４９度であった。このようにして、幅寸法６０５ｍｍの電磁波遮蔽シートを得て、ロール状に巻き取った。 The mesh shape of the mesh area has a square opening, the line width of the non-opening line portion is 20 μm, the line spacing is 300 μm, the line height is 12 μm, and it is cut into a rectangular sheet. In this case, the bias angle defined as the minor angle formed by the line portion and the long side of the rectangle was 49 degrees. In this way, an electromagnetic wave shielding sheet having a width of 605 mm was obtained and wound into a roll.
上記ロール状の電磁波遮蔽シートを巻き出し、連続的に黒化処理装置に供給し、当該電磁波遮蔽シートのアルミニウムパターン層の上面に対して黒化処理層を形成し、ロール状に巻き取った。 The roll-shaped electromagnetic wave shielding sheet was unwound and continuously supplied to the blackening treatment apparatus, a blackening treatment layer was formed on the upper surface of the aluminum pattern layer of the electromagnetic wave shielding sheet, and the film was wound into a roll shape.
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキが４．５μｍであり、面ムラは外観上問題がなかった。 Regarding the pattern accuracy of the obtained aluminum pattern layer, the variation in the line width of the mesh was 4.5 μm, and the surface unevenness had no problem in appearance.
（実施例２）
前記実施例１において、アルミニウムの薄膜として、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．２である鏡面を有するアルミニウム箔を用い、当該面を透明基材と向き合わせて積層した以外は、前記実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを得た。
(Example 2)
In Example 1, as a thin film of aluminum, the ratio of total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) is an aluminum foil having a specular 0.2 An electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface was laminated to face the transparent substrate.
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキが４．５μｍであり、面ムラは外観上問題がなかった。 Regarding the pattern accuracy of the obtained aluminum pattern layer, the variation in the line width of the mesh was 4.5 μm, and the surface unevenness had no problem in appearance.
（実施例３）
前記実施例１において、アルミニウム箔の酸化皮膜の厚さを１５Åとした以外は、前記実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを得た。
(Example 3)
In Example 1, an electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the aluminum foil oxide film was 15 mm.
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのラインに一部断線が発生し（ライン幅のバラツキ２０μｍ以上）、外観も目視で面ムラが目立ったが、画像表示装置全面フィルタとしての実用上は許容可能な範囲と判断した。 As for the pattern accuracy of the obtained aluminum pattern layer, a part of the mesh line was broken (line width variation of 20 μm or more), and the appearance was also visually noticeable, but it was practically used as a filter for the entire surface of the image display device. Was judged to be acceptable.
（比較例１）
前記実施例１において、アルミニウムの薄膜として、全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．８である面を有するアルミニウム箔を用い、当該面を透明基材と向き合わせて積層した以外は、前記実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを得た。
(Comparative Example 1)
In Example 1, as a thin film of aluminum, the aluminum foil used with a ratio (R SCE / R SCI) is 0.8 the surface of the total light reflectance diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) An electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface was laminated to face the transparent substrate.
得られたアルミニウムパターン層のパターン精度は、メッシュのライン幅のバラツキが５．０μｍであり、面ムラは外観上問題がなかった。 Regarding the pattern accuracy of the obtained aluminum pattern layer, the variation in the line width of the mesh was 5.0 μm, and the surface unevenness had no problem in appearance.
（比較例２）
前記実施例１において、アルミニウム箔を銅箔に変更し、当該銅箔の鏡面を、透明基材と向き合わせて積層した以外は、前記実施例１と同様にして電磁波遮蔽シートを得た。
尚、当該銅箔の表面吸着水分量は、１０．０ｍｇ／ｍ２であった。また、当該銅箔の鏡面の全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）は、１．０であった。
(Comparative Example 2)
In Example 1, an electromagnetic wave shielding sheet was obtained in the same manner as in Example 1 except that the aluminum foil was changed to a copper foil and the mirror surface of the copper foil was laminated facing the transparent substrate.
In addition, the surface adsorption | suction moisture content of the said copper foil was 10.0 mg / m < 2 >. The ratio of total light reflectance of the mirror surface of the copper foil diffuse light reflectance for (R SCI) (R SCE) (R SCE / R SCI) it was 1.0.
（評価結果）
上記の実施例及び比較例に対して、エッチング処理後の電磁波遮蔽シートのヘイズ値をＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１「プラスチックの光学的特性試験方法」に準じて測定した。また、３００μｍ角を単位面積として、大きさ１０μｍ以上の微小気泡の数を光学顕微鏡によって観察した。その結果を表１に記載する。
(Evaluation results)
For the above Examples and Comparative Examples, the haze value of the electromagnetic wave shielding sheet after the etching treatment was measured according to JIS K 7105: 1981 “Plastic Optical Properties Test Method”. Further, the number of microbubbles having a size of 10 μm or more was observed with an optical microscope with a 300 μm square as a unit area. The results are listed in Table 1.
１ 電磁波遮蔽シート
１０ 透明基材
１１ 透明接着剤層
１２ アルミニウムパターン（メッシュ）層
１２ａ 鏡面
１２ｂ 粗面
１３ 酸化被膜
２０ プラズマディスプレイパネル
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electromagnetic
Claims (4)
（ｉ）吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＪＩＳ Ｚ８７２２に準拠して測定した全光線反射率（ＲＳＣＩ）に対する拡散光線反射率（ＲＳＣＥ）の比（ＲＳＣＥ／ＲＳＣＩ）が０．４以下の面を有するアルミニウムの薄膜を用意する工程、
（ｉｉ）透明基材の一方の面に、透明接着剤層を介して、前記アルミニウムの薄膜を、その吸着水分量が５．０ｇ／ｍ２以下、及びＲＳＣＥ／ＲＳＣＩが０．４以下の面を前記透明基材と向き合わせて積層する工程、及び
（ｉｉｉ）前記アルミニウムの薄膜を所定のパターン形状にエッチングする工程を含むことを特徴とする電磁波遮蔽シートの製造方法。 A method for producing an electromagnetic wave shielding sheet comprising an aluminum pattern layer on one surface of a transparent substrate,
(I) the amount of adsorbed water is 5.0 g / m 2 or less, and the total light reflectance was measured in accordance with JIS Z8722 diffuse light reflectance for (R SCI) ratio (R SCE) (R SCE / R SCI) Preparing an aluminum thin film having a surface of 0.4 or less,
(Ii) The aluminum thin film is placed on one surface of the transparent substrate with a transparent adhesive layer interposed therebetween, the adsorbed moisture amount is 5.0 g / m 2 or less, and R SCE / RS SCI is 0.4 or less. And (iii) etching the aluminum thin film into a predetermined pattern shape. A method for producing an electromagnetic wave shielding sheet, comprising:
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