JP2010072070A - Electrochemical display element and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電気化学反応を利用して画像の精細度を確保しながら、安定的な表示の書換えを行なうことが可能な電気化学表示素子およびその製造方法に関する。 The present invention relates to an electrochemical display element capable of stably rewriting display while ensuring the definition of an image using an electrochemical reaction, and a method for manufacturing the same.
ドキュメント情報や画像情報を紙媒体に印刷して閲覧する従来の方法に代わり、近年、ブラウン管(Cathode Ray Tube、以下CRTと称す)、プラズマディスプレイ(Plasma Display Panel、以下PDPと称す)、液晶ディスプレイ(Liquid Crystal Display、以下LCDと称す)等の表示装置にドキュメント情報や画像情報を表示して閲覧する機会が増加している。このとき、ドキュメント情報は長時間の表示を要することが多いため、これら表示装置は、視認性に優れ、低消費電力であることが求められる。 Instead of the conventional method of printing and browsing document information and image information on a paper medium, in recent years, a cathode ray tube (hereinafter referred to as CRT), a plasma display (plasma display panel, hereinafter referred to as PDP), a liquid crystal display ( Opportunities for displaying and browsing document information and image information on a display device such as a Liquid Crystal Display (hereinafter referred to as LCD) are increasing. At this time, since the document information often needs to be displayed for a long time, these display devices are required to have excellent visibility and low power consumption.
しかし、現在一般に用いられているCRT、PDP、LCDは、自然光もしくは自然光体から発せられる光を変調するような表示装置であり、このような表示装置は明るく見やすいが、視覚への負担が大きいとともに消費電力が大きいという問題を抱えている。具体的には、LCDは画面を見る角度や、反射光により視認性が低下し、CRTはちらつきの発生により視認性が低下する。このため、これら表示装置にドキュメント情報を表示して画面上の文字を長時間読む場合、紙媒体に印刷された文字を読む場合と比較して、人間の視覚への負担が大きく目が疲労するという問題があった。また、低消費電力という観点からは、一旦、表示した画像を無電力状態でも保持し続けるメモリー特性を有することが望ましく、さらには駆動電圧が低いことが望まれる。しかし、これらCRT等の表示装置はこのメモリー特性を有しておらず、駆動電圧も低いとはいえない。 However, CRTs, PDPs, and LCDs that are generally used at present are display devices that modulate natural light or light emitted from natural light bodies, and such display devices are bright and easy to see, but have a large visual burden. I have the problem of high power consumption. Specifically, the visibility of the LCD decreases due to the angle at which the screen is viewed and the reflected light, and the visibility of the CRT decreases due to the occurrence of flickering. For this reason, when document information is displayed on these display devices and characters on the screen are read for a long time, compared to reading characters printed on a paper medium, the burden on human vision is greater and the eyes become tired. There was a problem. Further, from the viewpoint of low power consumption, it is desirable to have a memory characteristic that once retains a displayed image even in a non-powered state, and further, a low driving voltage is desirable. However, these display devices such as CRTs do not have this memory characteristic and cannot be said to have a low driving voltage.
そこで、視認性に優れ、低消費電力である特性を備える表示装置として、電気化学的な作用に基づき着消色を行なう電気化学表示素子の開発が近年盛んに行なわれている。具体的には、エレクトロクロミックディスプレイ(Electrochromic Display、以下ECDと称す)やエレクトロデポジションディスプレイ(Electrodoposition Display、以下、EDD)等の電気化学ディスプレイが挙げられる。ECDは電気化学的な酸化還元反応により、着色状態と無色状態が可逆的に変化するエレクトロクロミック化合物に駆動電圧を印加して着消色を繰り返して表示を行なう。また、EDDは電気化学的な酸化還元反応により発色をおこなう材料として銀又は銀を化学構造中に有する化合物を溶解させた電解質を用い、電極上への銀の析出と電解液への溶解により着消色を繰り返して表示を行なう。 Accordingly, in recent years, development of an electrochemical display element that performs erasing / discoloring based on an electrochemical action has been actively performed as a display device having excellent visibility and low power consumption. Specific examples include electrochemical displays such as an electrochromic display (hereinafter referred to as ECD) and an electrodeposition display (hereinafter referred to as EDD). ECD applies a driving voltage to an electrochromic compound in which a colored state and a colorless state are reversibly changed by an electrochemical oxidation-reduction reaction, and repeatedly displays the color. EDD uses an electrolyte in which silver or a compound containing silver in the chemical structure is dissolved as a material that develops color by an electrochemical redox reaction, and is deposited by deposition of silver on the electrode and dissolution in the electrolyte. Display is repeated by decoloring.
このとき、ECDおよびEDDの表示原理はともに低電圧での駆動が可能であり、一旦、表示した画像を無電力状態でも保持し続けるメモリー特性を有する。また、電極上での酸化還元反応を利用し、反応物質単独での光吸収の変化を利用したものであるためLCDに比べ偏光板やバックライトといった追加部材も不良であり、低コスト化及び省プロセス化に非常に有利である。 At this time, both the display principles of ECD and EDD can be driven at a low voltage, and have a memory characteristic that keeps a once displayed image even in a non-powered state. In addition, since the redox reaction on the electrode is used and the change in light absorption by the reactant alone is used, additional components such as a polarizing plate and a backlight are also poorer than LCD, which reduces costs and saves costs. It is very advantageous to process.
しかし、ECDおよびEDDは光吸収状態の変化にイオンの移動を必要とするため、特定の画素領域を発色させてドット表示するドットマトリクス型表示を行なった場合、隣接画素の電位状態に影響されることがあった。このとき、本来移動すべきでない方向にイオンが移動することにより、書き換え画素部以外の場所も表示が変化するという現象(以下、滲み現象と称す)が生じ、画像の精細度が低下する原因の一つとなっていた。また、より高精細な表示を行なうためには、一画素あたりの大きさを小さくするとともに隣接する画素間を狭く形成する必要があり、このとき滲み現象はよりいっそう発生し易くなると考えられる。このような現象を回避するため、特許文献1および特許文献2に示すように、隣接画素間に電解質層を仕切る隔壁を設け、各画素領域間を隔離することによりイオンの移動を制限する試みが為されている。
However, since ECD and EDD require movement of ions to change the light absorption state, when dot matrix type display is performed in which a specific pixel region is colored to display dots, it is affected by the potential state of adjacent pixels. There was a thing. At this time, when ions move in a direction that should not be moved, a phenomenon that the display is changed in a place other than the rewritten pixel portion (hereinafter referred to as a bleeding phenomenon) occurs, and the resolution of the image is reduced. It was one. In addition, in order to perform display with higher definition, it is necessary to reduce the size per pixel and to form a narrow space between adjacent pixels. At this time, it is considered that the bleeding phenomenon is more likely to occur. In order to avoid such a phenomenon, as shown in
特許文献1に記載のECDは、対向する1対の基板間の一方の基板には列状の溝が形成されている。そして、溝が形成されていないもう一方の基板表面には、透明電極と共通電極が形成されている。この構成により、両基板を貼り合わせたとき、基板に形成された溝の側面が隔壁を形成し、溝内が電気的に絶縁される。また、溝内にはエレクトロクロミック溶液が充填され、溝内の透明電極および共通電極に電圧を印加することにより、所定の透明電極に着消色表示を行なうことができる。
In the ECD described in
また、特許文献2に記載のECDは、対向する基板間に設けられた隔壁により隣接画素間を仕切るセル構造が形成されている。また、両基板表面には電極層が形成され、セル内には電圧の印加により発色、消色または変色するエレクトロクロミック化合物が充填されている。この隔壁により形成されたセル構造により、エレクトロクロミック化合物の流動による画像の不鮮明化が防がれている。
このとき、溝内またはセル内に充填された電解質は、電極もしくは電極上に形成された変色材料と完全に接している必要がある。もし、電解液と電極もしくは変色材料とが完全に接しておらず、電解液と電極等の間に空隙が存在する場合、その部分において、酸化もしくは還元反応が起きず、着消色表示を行なうことができない。したがって、結果として表示の書き換えが不可能な状態となる。 At this time, the electrolyte filled in the groove or the cell needs to be completely in contact with the electrode or the color changing material formed on the electrode. If the electrolyte is not completely in contact with the electrode or the color-changing material and there is a gap between the electrolyte and the electrode, no oxidation or reduction reaction takes place in that area, and a discoloration display is performed. I can't. As a result, the display cannot be rewritten.
しかし、隣接画素を隔壁により隔離する特許文献1および特許文献2に記載のECDでは、隔壁と基板間を接着剤または熱接着により接着して各セルの開口部を封止するため、その製造工程において、溝内または隔壁により仕切られた各セル内に流動性を有する電解質を充填した後、隔壁と基板間を接着剤または熱接着により接着して各セルの開口部を封止する必要があった。このため、一旦、基板を貼り合わせた後、電解液と電極等の間に空隙が存在するセルがみつかった場合、セル内に電解質を補充することができなかった。
However, in the ECD described in
また、隔壁と基板間を接着剤または熱接着により接着され、隣接する各セルは隔壁により、完全に隔離されている。このため、対向する基板を貼り合わせた後、真空注入法等により、各空セル内に流動性を有する電解液を注入することができなかった。 Further, the partition wall and the substrate are bonded by an adhesive or thermal bonding, and adjacent cells are completely isolated by the partition wall. For this reason, after bonding the opposing substrates, it was not possible to inject an electrolyte having fluidity into each empty cell by a vacuum injection method or the like.
そこで、上記課題に鑑み、本発明は、電気化学反応を利用して、視認性に優れ、低消費電力で駆動可能であるとともに、表示領域における滲み現象の発生を抑えながら、電解液と電極等の間に生じる空隙を原因とする画素領域の欠けの発生を防ぐ電気化学表示素子およびその製造方法を提供することを目的とする。 Accordingly, in view of the above problems, the present invention utilizes an electrochemical reaction, has excellent visibility, can be driven with low power consumption, and suppresses occurrence of a bleeding phenomenon in a display region, while preventing an electrolyte solution, an electrode, and the like. It is an object of the present invention to provide an electrochemical display element and a method for manufacturing the same that prevent the occurrence of chipping in a pixel region caused by a gap generated between the two.
本発明は上記課題を解決するため、本発明の電気化学表示素子は、表面に電極層が形成された一対の基板と、前記基板間に充填された電解質層と、前記基板間に設けられ前記電解質層を仕切る隔壁とを有し、前記電解質層は、電気化学的な酸化もしくは還元により変色する物質を有し、前記隔壁と前記基板との間に所定の間隙を形成するギャップ制御部材が配されていることを特徴とする。 In order to solve the above problems, the electrochemical display element of the present invention includes a pair of substrates having an electrode layer formed on a surface thereof, an electrolyte layer filled between the substrates, and the electrode provided between the substrates. Partition walls that partition the electrolyte layer, the electrolyte layer having a substance that changes color by electrochemical oxidation or reduction, and a gap control member that forms a predetermined gap between the partition walls and the substrate. It is characterized by being.
また本発明は、上記構成の電気化学表示素子において、対向する前記基板間において、前記ギャップ制御部材の高さが前記隔壁の高さよりも低いことを特徴とする。 In the electrochemical display device having the above-described configuration, the gap control member is lower than the partition wall between the opposing substrates.
また本発明は、上記構成の電気化学表示素子において、前記ギャップ制御部材の幅は前記隔壁の幅よりも小さいことを特徴とする。 According to the present invention, in the electrochemical display element configured as described above, the width of the gap control member is smaller than the width of the partition wall.
また本発明は、上記構成の電気化学表示素子において、前記ギャップ制御部材が球状であることを特徴とする。 According to the present invention, in the electrochemical display element configured as described above, the gap control member is spherical.
また本発明は、上記構成の電気化学表示素子の製造方法であって、前記ギャップ制御部材を分散させた溶媒を用いて、インクジェット法により前記隔壁上に前記ギャップ制御部材を選択的に配置する工程を含むことを特徴とする。 The present invention also provides a method for manufacturing an electrochemical display element having the above-described configuration, wherein the gap control member is selectively disposed on the partition wall by an inkjet method using a solvent in which the gap control member is dispersed. It is characterized by including.
本発明の第1の構成によると、電気化学的な酸化もしくは還元により変色する物質を含有する電解質層に駆動電圧を印加することにより、電気化学的な作用に基づき着消色を行なうことができる。これにより、視認性に優れ、低消費電力で駆動可能な特性を備える表示素子を提供することが可能である。また、基板間に充填された電解質層を仕切る隔壁が設けられているため、隣接画素の電位的影響を隔壁により遮断し、書き換え画素部以外の表示が変化する滲み現象を防止することができる。また、隔壁と基板との間にギャップ制御部材を配することにより、隔壁と基板との間に間隙が形成される。この間隙により、対向する基板を張り合わせた後、流動性を有する電解液を注入したとき、電解液は間隙を通り抜けて、隔壁により仕切られた各セル内に均一に充填される。したがって、各セル内において、基板と電解質との間に空隙が発生することなく電解液を安定的に注入することができる。このため、電解液と電極の間の空隙により酸化還元反応が起きず、表示の書き換えが不可能な画素領域が発生することもない。なお、隔壁と基板との間隙を隣接画素の電位的影響を受けない程度の大きさに制御することにより、表示部分の滲み現象を防止することができる。 According to the first configuration of the present invention, by applying a driving voltage to an electrolyte layer containing a substance that changes color by electrochemical oxidation or reduction, it is possible to perform decolorization based on an electrochemical action. . Accordingly, it is possible to provide a display element that has excellent visibility and can be driven with low power consumption. In addition, since the partition wall that partitions the electrolyte layer filled between the substrates is provided, the potential effect of adjacent pixels is blocked by the partition wall, and the bleeding phenomenon in which the display other than the rewritten pixel portion is changed can be prevented. Further, by providing a gap control member between the partition wall and the substrate, a gap is formed between the partition wall and the substrate. When the electrolytic solution having fluidity is injected after the opposing substrates are bonded together by the gap, the electrolytic solution passes through the gap and is uniformly filled into each cell partitioned by the partition walls. Therefore, in each cell, the electrolyte solution can be stably injected without generating a gap between the substrate and the electrolyte. For this reason, the oxidation-reduction reaction does not occur due to the gap between the electrolytic solution and the electrode, and a pixel region in which display cannot be rewritten does not occur. Note that the bleeding phenomenon of the display portion can be prevented by controlling the gap between the partition wall and the substrate so as not to be influenced by the potential of the adjacent pixels.
本発明の第2の構成によると、対向する基板間において、隔壁と基板との間に配されるギャップ制御部材の高さが隔壁の高さより大きい場合、隔壁と基板との間に形成される間隙が大きくなり、この間隙から隣接画素が電位的影響を受け、表示部分の滲み現象が起こり易くなる。したがって、少なくともギャップ制御部材の高さを隔壁の高さより低く形成し、隔壁と基板間の間隙を狭くすることにより滲み現象の発生を防ぎ、電気化学表示素子の表示品位低下を抑える必要がある。 According to the second configuration of the present invention, between the opposing substrates, when the height of the gap control member disposed between the partition walls and the substrate is larger than the height of the partition walls, the gap control member is formed between the partition walls and the substrate. The gap becomes large, and adjacent pixels are affected by the potential from this gap, and the bleeding phenomenon of the display portion is likely to occur. Therefore, it is necessary to prevent the occurrence of bleeding phenomenon by suppressing at least the height of the gap control member to be lower than the height of the partition wall and narrowing the gap between the partition wall and the substrate, and to suppress the display quality deterioration of the electrochemical display element.
本発明の第3の構成によると、ギャップ制御部材を対向する基板のうち観察側の基板に配する場合、ギャップ制御部材の幅を隔壁の幅よりも小さく形成することにより、ギャップ制御部材による視認性の妨げを防ぎ、電気化学表示素子の表示品位の低下を防ぐことができる。なお、滲み現象回避の目的から、ギャップ制御部材の高さを制限して隔壁を所定の高さに確保する必要ある。このため、隔壁の幅を小さくし過ぎると隔壁の強度が低下して対向する基板間を支えきれないという問題が生じる。よって、所定の高さが必要とされる隔壁を所定幅で形成して十分な強度を確保した上で、ギャップ制御部材を隔壁の幅よりも小さく形成する必要がある。 According to the third configuration of the present invention, when the gap control member is disposed on the observation-side substrate among the opposing substrates, the gap control member is visually recognized by the gap control member by forming the gap control member to be smaller than the partition wall. It is possible to prevent the hindrance of the property and to prevent the display quality of the electrochemical display element from deteriorating. For the purpose of avoiding the bleeding phenomenon, it is necessary to limit the height of the gap control member to ensure the partition wall at a predetermined height. For this reason, if the width of the partition wall is made too small, the strength of the partition wall is lowered, and there is a problem that the opposing substrates cannot be supported. Therefore, it is necessary to form the gap control member smaller than the width of the partition wall after forming a partition wall having a predetermined height with a predetermined width to ensure sufficient strength.
本発明の第4の構成によると、ギャップ制御部材を球形とすることで配置することで、ギャップ制御部材を散布して配置する際、球状の場合、基板上に均一に散布することが可能になる。したがって、電気化学表示素子の作製工程が簡略化される。また、視認性の妨げを最小化することができる。 According to the fourth configuration of the present invention, when the gap control member is arranged in a spherical shape, when the gap control member is dispersed and arranged, in the case of a spherical shape, it can be uniformly dispersed on the substrate. Become. Therefore, the manufacturing process of the electrochemical display element is simplified. Moreover, the hindrance to visibility can be minimized.
本発明の第5の構成によると、ギャップ制御部材を分散させた溶媒を用いて、インクジェット法によりギャップ制御部材を配することにより、隔壁上の所望の位置にギャップ制御部材を配することが可能となり、部材の無駄を削減することが可能となる。また、画素のコーナー部等、できる限り視認性を妨げない位置にギャップ制御部材を、選択的に配置することができる。 According to the fifth configuration of the present invention, it is possible to arrange the gap control member at a desired position on the partition wall by arranging the gap control member by the ink jet method using the solvent in which the gap control member is dispersed. Thus, waste of members can be reduced. In addition, the gap control member can be selectively disposed at a position where visibility is not hindered as much as possible, such as a corner portion of a pixel.
以下、本発明の電気化学表示素子の一例である電気化学表示装置について図面を参照しつつ詳細に説明する。 Hereinafter, an electrochemical display device which is an example of the electrochemical display element of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(第1実施形態)
図1は本発明の電気化学表示素子の一例であるの電気化学表示装置1の一部を示す斜視図であり、図2は図1の電気化学表示装置1を分解して示す分解斜視図であり、図3は図1のA−A’における断面図である。なお、図2では観察側の基板2aを説明上、透過させ、破線で示している。また、図1、図2において、基板2a、2b表面に形成された電極5a、5bは図示していない。
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a part of an
図1〜図3に示すように、電気化学表示装置1は対向する2枚の基板2a、2b間に電解質層3が充填され、対向する基板2a、2b間に形成された隔壁4により電解質層3が仕切られ、複数のセルが形成されている。ここで、本実施形態において、「セル」とは、各隔壁4により仕切られて形成された単一の空間を意味する。この隔壁4で各画素領域間を隔離することにより、イオンの移動が制限される。
As shown in FIGS. 1 to 3, the
また、図3に示すように、対向する基板2a、2bのうち、電気化学表示装置1の観察側に配置される観察側基板2aはガラス基板、またはプラスチック基板などの透明基板で構成され、観察側基板2aの電解質層3と接する表面にはITO電極に代表される透明導電膜により電極5aが形成されている。また、観察側基板2aと対向する非観察側の基板2bは特に透明基板である必要は無く、非観察側基板2bの電解質層3と接する表面には金属電極等の電極5bが形成されている。
Moreover, as shown in FIG. 3, among the opposing
このとき、電極5aと電極5b間に形成された隔壁4により仕切られた各セル内には電解質層3が充填されている。例えば、表示装置1がECDの場合、電解質層3はエレクトロクロミック化合物を含有する電解液により構成され、表示装置1がEDDの場合、電解質層3には銀もしくは銀を化学構造中に有する化合物を含有する電解液により構成される。なお、白色度を向上させる目的でTiO2等の微粒子を水溶性高分子等のバインダーを用いて多孔質化した層をこれら電解質層3中に配しても良い。
At this time, the
また、本発明の電気化学表示装置1は単純マトリクス型およびアクティブマトリクス型のどちらのタイプにも適用することができる。単純マトリクス型の表示装置の場合、基板2a、2bを張り合わせたとき、線状に形成された電極5a、5bが互いに直交するよう、各基板2a、2b上に電極5a、5bを形成する。また、アクティブマトリクス型の表示装置の場合、観察側基板2aに透明な共通電極を形成し、非観察側基板2bに画素電極とそれに対応するトランジスタアレイ等のスイッチング素子を形成する。
In addition, the
また、図1〜図3は本発明の電気化学表示装置1の一部分を図示するものであり、対向する基板2a、2bの外縁にはシール(不図示)が形成され、このシールは両基板2a、2b間に充填した電解液等の流動性を有する電解質層3を封止する役割を担う。また、例えば、真空注入法により、基板2a、2bを張り合わせた後に、電解液を注入する場合、対向する基板2a、2bの周縁に形成されたシールの一部に注入口が設けられ、電解液を注入した後、この注入口を封止する。
1 to 3 show a part of the
ここで、本発明に係る電気化学表示装置1は、隔壁4上の所定箇所に複数のギャップ制御部材6が形成され、基板2aと基板2bとを張り合わせたとき、隔壁4と基板2aの間に、ギャップ制御部材6の厚み分、間隙が形成されている。このとき、間隙は隣接画素領域からの電位的影響を抑えるため所定の高さに限定される。また、ギャップ制御部材6は基板2aと隔壁4の間に形成される間隙を維持するのに十分な強度を必要とし、具体的には、球状のビーズや突起状の樹脂により構成することができる。また、図2では、ギャップ制御部材6を配置した隔壁4の上方から観察側基板2aを貼り合わせるが、観察側基板2aの所定箇所に予めギャップ制御部材6を配して、基板2aと基板2bを貼り合わせてもよい。なお、隔壁4およびギャップ制御部材6の形成方法および材質等については後で詳細に説明する。
Here, in the
上記構成の電気化学表示素子1によると、隔壁4に仕切られた各セル内において、対向する電極5a、5b間に駆動電圧を印加することにより、電解質層3に含まれる電気化学的な酸化もしくは還元により変色する物質が、電気化学的な作用に基づき着消色を行なう。このとき、電気化学的な酸化もしくは還元により変色するエレクトロクロミック(EC)化合物またはエレクトロデポジション(ED)化合物は優れたメモリー効果を有し、偏光材等の光学部材を必要としないため、視認性に優れ、低消費電力で駆動可能な特性を備える電気化学表示素子1を提供することができる。
According to the
また、基板2a、2b間に充填された電解質層3を仕切る隔壁4により、各画素領域ごとにセルが形成されている。これにより、隣接画素領域からの電位的影響を隔壁4が遮断し、書き換え画素部以外の表示が変化する現象(滲み現象)の発生を防止している。また、隔壁4と基板2a間に配されたギャップ制御部材6により間隙が形成されている。これにより、隣接する各セル内の空間は隔壁4により完全に隔離されているのではなく、ギャップ制御部材6により形成された間隙を介して隣接するセル同士がわずかに導通している。これにより、例えば、対向する基板2a、2bを貼り合わせた後、基板2a、2bの周縁に形成された注入口から電解液を注入した場合、電解液は間隙を通って表示部全体に広がり、各セルに電解液が均等に充填される。したがって、全てのセル内において、流動性を有する電解液が各セル内に形成された電極5a、5bと完全に接するよう、電解液を各セル内に充填することができる。
In addition, cells are formed for each pixel region by the
なお、この間隙は隣接画素領域の電位的影響を受けない程度の高さに制御して形成されている。これにより、全てのセル内において、基板2a、2bの表面に形成された電極5a、5bと電解質層3との間に空隙を発生させることなく電気化学表示素子1を容易に作製することができる。そして、電極5a、5bと電解質層3との間の空隙により酸化還元反応が起きず、表示の書き換えが不可能な画素領域が発生することもない。
Note that this gap is formed so as to be controlled to a height that is not affected by the potential of the adjacent pixel region. Thereby, in all the cells, the
また、図3に示すように、対向する基板2a、2b間において、ギャップ制御部材6の高さが隔壁4の高さと比較して十分低い場合は、ギャップ制御部材6により形成される間隙を介して隣接電極5a同士が電位的影響を受け、滲み現象が起こることは無い。しかし、ギャップ制御部材6の高さが隔壁4の高さより大きくなる場合、基板2a、2b間に対する隔壁4と基板2aとの間隙の割合が大きくなり過ぎる。このように間隙を大きく設けた場合、間隙を介して隣接電極5a同士が電位的影響を受け、滲み現象が起こり易くなる。したがって、ギャップ制御部材6の高さを隔壁4の高さより低く形成し、隔壁4と基板2a間の間隙を制限することにより電気化学表示素子1の滲み現象による表示品位低下を抑える必要がある。
Further, as shown in FIG. 3, when the height of the
また、図2に示すように、ギャップ制御部材6を観察側の基板2aに配する場合、ギャップ制御部材6の幅を隔壁4の幅よりも小さく形成することにより、観察側からの視認性の妨げを抑えることができる。なお、隔壁4の幅も観察側からの視認性の妨げを防ぐため、可能な限り狭めて形成することが望ましい。しかし、隔壁4の幅を小さくすると隔壁4の強度が低下するため、所定の高さが必要とされる隔壁4の幅を十分確保した上で、ギャップ制御部材6を隔壁4の幅よりも小さく形成する必要がある。これにより、電気化学表示装置1の視認性の低下を抑制することができる。また、ギャップ制御部材6を球形とすることで電気化学表示装置1の作製工程が簡略化されるとともにさらに視認性の妨げを最小化することができる。
In addition, as shown in FIG. 2, when the
また、ギャップ制御部材6を分散させた溶媒を用いてインクジェット法により、ギャップ制御部材6を配する場合、隔壁4上の所望の位置にギャップ制御部材6を配することが可能となる。これにより、ギャップ制御部材6の無駄を削減することできる。また、できる限り視認性を妨げない位置、画素のコーナー部等にギャップ制御部材6を選択的に配置することも可能となる。
Further, when the
[隔壁]
以下、本発明の電気化学表示素子1の各構成要素について詳細に説明する。本発明の電気化学表示素子1において隔壁4は、対向する基板間においてある特定の電極領域を取り囲む構造を有するものである。このとき、図1〜図3に示すように、基板2a、2b間で電解質層3が仕切られ、隔壁4により囲まれた空間によりセルが形成される。また、電極5a、5bは、隔壁4で仕切られた各セルごとに、個別に電極を形成してもよいし、電気化学表示素子1全面で1個の電極を形成してもよい。隔壁4を構成する材料として熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂等の材料を用いることができる。このとき、熱可塑性樹脂または熱硬化物の前駆体は、多官能性のアクリレートまたはメタクリレート、ビニルエーテル、エポキシド、それらのオリゴマーまたはポリマー等からなる群から選択することができる。なかでも、多官能性アクリレートおよびそのオリゴマーが最も好ましく、多官能性エポキシドおよび多官能性アクリレートの組み合わせは望ましい物理的機械的性質を達成することができ、非常に有用である。光硬化性樹脂の前駆体は、エポキシアクリレート、ウレタンアクリオレート等のオリゴマー、反応性希釈剤、及び光重合開始剤(ベンゾイン系、アセトフェノン系等)を混合したものからなる。また、隔壁4の上方からの断面形状は、具体的には図4(a)〜(f)に示す構造が考えられるが、これらの形状に限定されるものではない。
[Partition wall]
Hereinafter, each component of the
[隔壁の形成方法]
また、隔壁構造の形成方法としては、例えば、隔壁となる感光性樹脂組成物をスピンコート法、スリットコート法等の方法にて基板上に塗布し、露光、現像工程を経て所望の隔壁パターンを得る方法や、非感光性樹脂組成物を基板上に形成後、レジストパターンをフォトプロセスもしくは印刷プロセスを用いて形成し、その後サンドブラストエッチング法にて樹脂組成物を除去していく方法、直接スクリーン印刷法にてダイレクトに隔壁パターンを印刷する方法、または、あらかじめ形成された隔壁構造を有する樹脂シートを位置合わせして接着する方法等が挙げられる。また、このとき材料は形成方法に合わせて適宜選択することができる。
[Method of forming partition wall]
In addition, as a method for forming the barrier rib structure, for example, a photosensitive resin composition to be a barrier rib is applied on a substrate by a method such as spin coating or slit coating, and a desired barrier rib pattern is formed through an exposure and development process. A method of obtaining a non-photosensitive resin composition on a substrate, forming a resist pattern using a photo process or a printing process, and then removing the resin composition by a sandblast etching method, direct screen printing Examples thereof include a method of directly printing a partition pattern by a method, and a method of aligning and bonding a resin sheet having a partition structure formed in advance. At this time, the material can be appropriately selected according to the forming method.
以下、隔壁4の形成方法の一例として、感光性材料を用いた隔壁4の形成方法について詳細に説明する。まず、ネガ型感光性フォトレジスト材料であるSU−83050(化薬マイクロケム社製)を、金属電極を形成した非観察側のガラス基板上に回転数4000rpmでスピンコート法により塗布し、100℃のホットプレート上にて30分間プリベーク処理を行なう。プリベーク処理を行なった後、平行光露光機により、隔壁形状パターンが形成されたフォトマスクを介して400mJ/cm2の紫外線を照射し、続いて100℃のホットプレート上で10分間熱処理を行なった。次に熱処理後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)液を用いて現像処理を行ない、紫外線が照射されていないフォトレジスト材料を除去し、イソプロピルアルコール(IPA)液にてリンス処理を行なった後、液を乾燥させることにより隔壁を非観察側基板上に形成することができる。なお、この形成工程により、隔壁は40μmの高さに形成することができ、隔壁の形状は用いるフォトマスクパターンの変更により容易に制御することができる。
Hereinafter, as an example of a method for forming the
[ギャップ制御部材]
本発明の電気化学表示素子1においてギャップ制御部材6は、隔壁4と基板2a間に配され、隔壁4と基板2a間に所定の間隙を形成するものである。このとき、ギャップ制御部材6により形成される隔壁4と基板2a間の間隙が大きすぎると、滲み現象が発生するため、ギャップ制御部材6の高さは隔壁4の高さより低く形成する必要がある。また、観察側からの視覚不良を防ぐため、ギャップ制御部材6は隔壁4の幅より小さく形成する必要がある。
[Gap control member]
In the
[ギャップ制御部材の形成方法]
また、ギャップ制御部材6の形成方法としては、樹脂組成物を用いてパターンニングすることにより、所望の位置にギャップ制御部材6を形成したり、ポリスチレン系もしくはアクリル系のビーズを所望の位置に配すことによりギャップ制御部材6を形成することもできる。このとき、SiO2、Al2O3、TiO2等の無機微粒子のファイバー及びビーズを用いてもよい。
[Gap Control Member Forming Method]
The
以下、ギャップ制御部材の形成方法の一例として、フォトリソ法による形成方法について詳細に説明する。まず、ネガ型感光性樹脂組成物であるオプトマーNN700(JSR社製)を、透明電極を形成した観察側のガラス基板上に回転数3000rpmでスピンコート法により塗布し、減圧乾燥後、100℃にて3分間プリベーク処理を行なう。その後、100mJ/cm2で露光処理を行ない、次いで水酸化カリウムを用いて現像し、その後、230℃、30分間の過熱処理を施し、ギャップ制御部材を形成することができる。なお、この形成工程により、ギャップ制御部材は3.0μmの高さに形成することができ、ギャップ制御部材の形状はフォトマスクパターンの変更により容易に所望の形状を得ることができる。 Hereinafter, as an example of the formation method of the gap control member, a formation method by a photolithography method will be described in detail. First, Optmer NN700 (manufactured by JSR), which is a negative photosensitive resin composition, was applied on a glass substrate on the observation side on which a transparent electrode was formed by a spin coating method at a rotational speed of 3000 rpm, dried at 100 ° C. after drying under reduced pressure. Pre-bake for 3 minutes. Thereafter, exposure treatment is performed at 100 mJ / cm 2 , development is then performed using potassium hydroxide, and then a heat treatment is performed at 230 ° C. for 30 minutes to form a gap control member. By this forming step, the gap control member can be formed to a height of 3.0 μm, and the shape of the gap control member can be easily obtained by changing the photomask pattern.
なお、上記ビーズを所望の位置に配す場合、LCD製造工程で一般に用いられるドライ散布法により、隔壁4が形成された観察側のガラス基板上に上記ビーズを均一に分散・散布して、隔壁4上にギャップ制御部材6を配すこともできる。
When the beads are arranged at desired positions, the beads are uniformly dispersed and dispersed on the observation side glass substrate on which the
また、インクジェット装置として、例えばピエゾヘッドKM512M(コニカミノルタIJ社製)を用いることにより、インクジェット法により、上記ビーズを分散させたインクを隔壁4上の所望の位置に数滴、液射して隔壁4上にビーズを的確に配置することができる。このとき、できる限り視認性を妨げない位置にギャップ制御部材6を正確に形成することができる。したがって、この方法により、ギャップ制御部材6として使用するビーズの無駄を削減することができる。
Further, for example, by using a piezo head KM512M (manufactured by Konica Minolta IJ Co., Ltd.) as an ink jet device, a few drops of the ink in which the beads are dispersed are sprayed at a desired position on the
[電解質層]
本発明の電気化学表示素子1において電解質層3は流体性を有する電解質により構成される。通常、電解質は液体電解質とポリマー電解質とに分類される。また、ポリマー電解質は、さらに、実質的に固体化合物からなる固体電解質と高分子化合物と液体電解質からなるゲル状電解質に分類される。また、流動性の観点からは、固体電解質は実質的に流動性がなく、一方、ゲル電解質は液体電解質と固体電解質の中間の流動性を有している。したがって、本発明でいう電解質層3とは、室温環境下で高粘性を備え、かつ流動性を有する液状電解質をいい、例えば、25℃における粘度が、100mPa・s以上1000mPa・s以下のゲル状若しくは高粘度電解液をいう。なお、本発明でいうゲル状電解質は、温度によるゾルゲル変化を生じる特性を必ずしも備えている必要はない。本発明の低粘度電解質の粘度は、25℃における粘度が、0.1mPa・s以上100mPa・s未満である電解質液をいい、電解質の溶媒に対する高分子バインダーの量が重量比で10%未満であることが好ましい。
[Electrolyte layer]
In the
[EC材料]
本発明に用いられるエレクトロクロミック化合物(EC化合物)は、電子の供受により光吸収状態を変化させる化合物であり、有機化合物や金属錯体が使用可能であり、有機化合物はピリジン化合物や導電性高分子、スチリル化合物が使用可能であり、特許文献3に記載の各種ビオロゲン化合物、特許文献4に記載の色素、その他知られている色素を用いることができる。また、ロイコ型色素を用いる場合には、必要に応じて顕色材あるいは消色剤を併用してもかまわない。
[EC material]
The electrochromic compound (EC compound) used in the present invention is a compound that changes the light absorption state by accepting electrons, and an organic compound or a metal complex can be used. The organic compound is a pyridine compound or a conductive polymer. A styryl compound can be used, and various viologen compounds described in
これら材料を電極上に直接塗布しても良いし、電子の供受をより効率的に行なう目的でTiO2に代表される酸化物半導体ナノ構造を電極上に形成、その上にエレクトロクロミック化合物をインクジェット法などの方法により塗布・含浸させた構造としてもよい。 These materials may be applied directly on the electrode, or an oxide semiconductor nanostructure typified by TiO 2 is formed on the electrode for the purpose of more efficiently accepting and receiving electrons, and an electrochromic compound is formed thereon. A structure in which coating and impregnation are performed by a method such as an inkjet method may also be used.
[ED材料]
本発明に用いられるエレクトロデポジション化合物(ED化合物)は、電解質の溶媒中に溶解させることによって使用される。具体的には、銀または銀を化学構造中に含む化合物が挙げられ、例えば、酸化銀、硫化銀、金属銀、銀コロイド粒子、ハロゲン化銀、銀錯体化合物、銀イオン等の化合物の総称であり、固体状態や液体への可溶化状態や気体状態等の層の状態種、中性、アニオン性、カチオン性等の荷電状態種は特に問わない。
[ED material]
The electrodeposition compound (ED compound) used in the present invention is used by dissolving in an electrolyte solvent. Specific examples include silver or a compound containing silver in the chemical structure. For example, silver is a generic term for compounds such as silver oxide, silver sulfide, metallic silver, silver colloidal particles, silver halide, silver complex compounds, and silver ions. There is no particular limitation on the state species of the layer such as the solid state, the solubilized state in the liquid, and the gas state, and the charged state species such as neutral, anionic, and cationic.
また、本発明に係る電解質に含まれる銀イオン濃度は、0.2mol/kg≦[Ag]≦2.0mol/kgが好ましい。銀イオン濃度が0.2mol/kgより少ないと希薄な銀溶液となり駆動速度が遅延し、2.0mol/kgよりも大きいと溶解性が劣化し、低温保存時に析出が起きやすくなる傾向にあり不利である。 The silver ion concentration contained in the electrolyte according to the present invention is preferably 0.2 mol / kg ≦ [Ag] ≦ 2.0 mol / kg. If the silver ion concentration is less than 0.2 mol / kg, it becomes a dilute silver solution, and the driving speed is delayed. If it is more than 2.0 mol / kg, the solubility is deteriorated and precipitation tends to occur during low-temperature storage, which is disadvantageous. It is.
[電気化学光学素子の製造方法]
次に本発明に用いられる電気化学光学装置1の製造方法について一例を示す。本発明に係る電気化学表示装置1は観察側基板2aと隔壁4が形成された非観察側基板2bとを貼り合わせた後、電解液を注入して製造することができる。このとき、隔壁4と観察側基板2aとの間に間隙を形成するため、図2に示すように、隔壁4上の所定の位置にギャップ制御部材6を配した後、対向する基板2aを基板2bに貼り合わせて形成することができる。このとき、基板2aの所定の位置にギャップ制御部材6を形成した後、ギャップ制御部材6が隔壁4と当接するよう位置あわせをして、基板2aと基板2bを貼り合わせてもよい。また、基板2a、2b間のセルギャップは隔壁4の高さとギャップ制御部材6の高さとを合計したものになる。
[Method for producing electrochemical optical element]
Next, an example is shown about the manufacturing method of the electrochemical
次に、どちらか一方の基板2a又は2bの周縁部に電解液を封止するためのシール部を形成し、基板2a,2bを貼り合わせる。このとき、シール部の一部に電解液を注入するための注入口を形成する。なお、シール部には熱硬化型又は紫外線硬化型のシール材を用いるのが一般的である。その後、電解質の注入口から、両基板間に電解液を充填し、最後に、基板2a、2b間のセルギャップを最適なギャップに調整し、電解質注入口を樹脂などで封止する。
Next, a seal portion for sealing the electrolytic solution is formed on the peripheral edge of one of the
上記の工程では、充填する電解質は流動性を有し、注入口から注入された電解質は基板2aと隔壁4の間に形成された間隙を通って全体に均一に拡散する。したがって、全てのセル内において、流動性を有する電解質が両基板と完全に接触するように、電解質を充填することができる。これにより、電解液と電極等の間に生じる空隙を原因とする画素領域の欠けの発生を防ぐ電気化学表示装置1を提供することができる。
In the above process, the electrolyte to be filled has fluidity, and the electrolyte injected from the injection port diffuses uniformly throughout the gap formed between the
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。本実施例では本発明1〜3に係るEDDおよび比較例1〜4に係るEDDを作成し、単純マトリクス駆動により各EDDの表示品位を比較評価した。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. In this example, EDDs according to the
[本発明1に係るEDDの作製]
(電解液の作製)
まず、ジメチルスルホキシド2.5g中に、ヨウ化ナトリウム90mg、ヨウ化銀75mgを加えて完全に溶解させた。その後、ポリビニルピロリドン(平均分子量15000)を150mg加えて120℃に加熱しながら1時間攪拌し、電解液を作製した。
[Production of EDD according to Invention 1]
(Preparation of electrolyte)
First, in 2.5 g of dimethyl sulfoxide, 90 mg of sodium iodide and 75 mg of silver iodide were added and completely dissolved. Thereafter, 150 mg of polyvinyl pyrrolidone (average molecular weight 15000) was added and stirred for 1 hour while heating at 120 ° C. to prepare an electrolytic solution.
(観察側基板の作製)
まず、ガラス基板上に、透明導電膜であるITOをスパッタ法にて150nmの膜厚となるように成膜し、公知のフォトリソグラフィー法によりパターニング処理を行ない電極幅180μm、電極ピッチ200μmのストライプ状の電極を基板上に形成した。次いで、ネガ型感光性樹脂組成物であるオプトマーNN700(JSR社製)を、電極を形成した側のガラス基板表面に回転数3000rpmでスピンコート法により塗布し、減圧乾燥後、100℃にて3分間プリベーク処理を行なった。その後、100mJ/cm2で露光処理を行ない、次いで水酸化カリウムを用いて現像し、最後に、230℃、30分間の過熱処理を施し、上記ストライプ状の電極間に幅10μm、高さ3μmのストライプ状ギャップ制御部材をストライプ状の電極間に平行に形成して、観察側基板を作製した。
(Preparation of observation side substrate)
First, ITO, which is a transparent conductive film, is formed on a glass substrate by a sputtering method so as to have a thickness of 150 nm, and is patterned by a known photolithography method to form a stripe shape having an electrode width of 180 μm and an electrode pitch of 200 μm. Were formed on the substrate. Next, Optomer NN700 (manufactured by JSR), which is a negative photosensitive resin composition, was applied to the surface of the glass substrate on which the electrode was formed by a spin coating method at a rotational speed of 3000 rpm, dried under reduced pressure, and then subjected to 3 at 100 ° C. A pre-bake treatment was performed for a minute. Thereafter, exposure is performed at 100 mJ / cm 2 , development is then performed using potassium hydroxide, and finally, a heat treatment is performed at 230 ° C. for 30 minutes, and a width of 10 μm and a height of 3 μm are provided between the stripe electrodes. A stripe-shaped gap control member was formed in parallel between the stripe-shaped electrodes to produce an observation side substrate.
(非観察側基板の作製)
まず、ガラス基板上に、金属電極である銀パラジウム電極(Pd:2wt%)をスパッタ法にて200nmの膜厚となるように成膜し、公知のフォトリソグラフィー法によりパターニング処理を行ない電極幅180μm、電極ピッチ200μmのストライプ状の電極を得た。次いで、ネガ型感光性フォトレジストであるSU-83050(化薬マイクロケム社製)を、金属電極を形成した側のガラス基板上に回転数4000rpmでスピンコート法により塗布し、100℃のホットプレート上にて30分間プリベーク処理を行なった。次にプリベーク処理を行なった後、平行光露光機により、隔壁形状パターンが形成されたフォトマスクを介して400mJ/cm2の紫外線を照射し、続いて100℃のホットプレート上で10分間熱処理を行なった。次に熱処理後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)液を用いて現像処理を行ない、紫外線の照射されていないフォトレジスト材料を除去した。最後に、イソプロピルアルコール(IPA)液にてリンス処理を行なった後、液を乾燥させることにより障壁を基板上に形成した。このとき、隔壁の断面形状は図4(a)に示す形状とし、隔壁幅20μmとなるように作成した。
(Preparation of non-observation side substrate)
First, a silver-palladium electrode (Pd: 2 wt%), which is a metal electrode, is formed on a glass substrate so as to have a film thickness of 200 nm by a sputtering method, and is patterned by a known photolithography method, and an electrode width of 180 μm. A striped electrode having an electrode pitch of 200 μm was obtained. Next, SU-83050 (manufactured by Kayaku Microchem Co., Ltd.), a negative photosensitive photoresist, was applied on the glass substrate on the side where the metal electrode was formed by a spin coating method at a rotational speed of 4000 rpm, and a hot plate at 100 ° C. A pre-bake treatment was performed for 30 minutes above. Next, after pre-baking treatment, a parallel light exposure machine is used to irradiate 400 mJ / cm 2 of ultraviolet rays through a photomask having a partition wall pattern formed thereon, followed by heat treatment on a hot plate at 100 ° C. for 10 minutes. I did it. Next, after the heat treatment, development processing was performed using a propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) solution to remove the photoresist material not irradiated with ultraviolet rays. Finally, after rinsing with isopropyl alcohol (IPA) liquid, the liquid was dried to form a barrier on the substrate. At this time, the cross-sectional shape of the partition wall was as shown in FIG. 4A, and the partition wall width was 20 μm.
(散乱層の形成)
次に、得られた隔壁に、ディスペンサ法によりポリビニルアルコール(平均重合度3500、けん化度87%)2質量%を含むイソプロパノール溶液中に、酸化チタン20質量%を超音波分散機で分散させた混合液を塗布し、加熱乾燥させることにより各セル内に散乱層を形成した。このとき、散乱層の厚みは約10μmとなるように形成した。さらに、電解液をシーリングするため、基板の周縁部を注入口を除いてエポキシ系の紫外線硬化樹脂にて封止した。
(Formation of scattering layer)
Next, 20% by mass of titanium oxide was mixed with an ultrasonic disperser in an isopropanol solution containing 2% by mass of polyvinyl alcohol (average polymerization degree 3500, saponification degree 87%) by the dispenser method. A scattering layer was formed in each cell by applying the liquid and drying by heating. At this time, the scattering layer was formed to have a thickness of about 10 μm. Furthermore, in order to seal the electrolytic solution, the peripheral edge of the substrate was sealed with an epoxy-based ultraviolet curable resin except for the injection port.
(電解液の注入)
次に、作成した上記観察側基板と非観察側基板を、それぞれストライプ状の電極が直交するようにして位置合わせして両基板を貼り合わせた後、加熱押圧して両基板間のセルギャップを均一に調節して空セルを作製した。次に空セルに上記作成した電解液を真空注入し、注入口をエポキシ系の紫外線硬化樹脂にて封止し、本発明1に係るEDDを作製した。
(Injection of electrolyte)
Next, after aligning the prepared observation side substrate and the non-observation side substrate so that the striped electrodes are orthogonal to each other and bonding the both substrates, the cell gap between the two substrates is increased by heating and pressing. An empty cell was prepared with uniform adjustment. Next, the prepared electrolytic solution was vacuum-injected into an empty cell, and the injection port was sealed with an epoxy-based ultraviolet curable resin, thereby producing an EDD according to the
[本発明2に係るEDDの作製]
上記本発明1に係るEDDの作製工程において、観察側基板には樹脂構造物によるギャップ制御部材は設けず、ドライ散布法式によりミクロパールSP−203(積水化学社製)を50個/mmとなるように配置し、本発明2に係るEDDを作製した。
[Production of EDD according to Invention 2]
In the EDD manufacturing process according to the first aspect of the present invention, the observation side substrate is not provided with a gap control member made of a resin structure, and the number of micropearls SP-203 (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) is 50 / mm by the dry spray method. The EDD according to the second aspect of the present invention was manufactured.
[本発明3に係るEDDの作製]
上記本発明1に係るEDDと同様の作製工程において、ピエゾ型インクジェットヘッドとしてKM512M(コニカミノルタIJ社製)を用いるとともに、インクとしてミクロパールSP−203(3μm)をエチレングリコール50、水50に0.5wt%添加した分散液を用い、非観察側基板の隔壁コーナー部に射出してギャップ制御部材を形成して、本発明3に係るEDDを作製した。
[Production of EDD according to Invention 3]
In the same manufacturing process as the EDD according to the first aspect of the invention, KM512M (manufactured by Konica Minolta IJ) is used as a piezo-type inkjet head, and Micropearl SP-203 (3 μm) is used as an ink in ethylene glycol 50 and water 50. An EDD according to the third aspect of the present invention was manufactured by using a dispersion liquid added by 5 wt% and injecting it to the corner of the partition wall of the non-observation side substrate to form a gap control member.
[比較例1に係るEDDの作製]
上記本発明1に係るEDDと同様の作製工程において、観察側基板にギャップ制御部材を作製せずに非観察側基板と貼り合わせ空セル作成を作製した後、電解液の充填を行い、比較例1に係るEDDを作製した。
[Production of EDD according to Comparative Example 1]
In the same manufacturing process as the EDD according to the
[比較例2に係るEDDの作製]
上記本発明1に係るEDDと同様の作製工程において、観察側基板にネガ型感光性フォトレジストであるSU−83050(化薬マイクロケム社製)を金属電極を形成した側のガラス基板上に回転数3000rpmでスピンコート法により塗布し、100℃のホットプレート上にて30分間プリベーク処理を行なった。次にプリベーク処理を行なった後、平行光露光機により、隔壁形状パターンが形成されたフォトマスクを介して400mJ/cm2の紫外線を照射し、続いて100℃のホットプレート上で10分間熱処理を行なった。次に熱処理後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)液を用いて現像処理を行ない、紫外線の照射されていないフォトレジスト材料を除去した。最後に、イソプロピルアルコール(IPA)液にてリンス処理を行なった後、液を乾燥させることによりギャップ制御部材を観察側基板上に形成した。このとき、ギャップ制御部材の形状はストライプ状かつ高さ45μm、幅15μmとなるように作製した。また、この他に非観察側において、シール部材を100μmに変更した以外は本発明1に係るEDDと同じ作成工程により、比較例2に係るEDDを作製した。
[Production of EDD according to Comparative Example 2]
In the same manufacturing process as the EDD according to the first aspect of the present invention, SU-83050 (manufactured by Kayaku Microchem Co., Ltd.), which is a negative photosensitive photoresist, is rotated on the glass substrate on the side on which the metal electrode is formed. It apply | coated by several 3000 rpm by the spin coat method, and prebaked for 30 minutes on the 100 degreeC hotplate. Next, after pre-baking treatment, a parallel light exposure machine is used to irradiate 400 mJ / cm 2 of ultraviolet rays through a photomask having a partition wall pattern formed thereon, followed by heat treatment on a hot plate at 100 ° C. for 10 minutes. I did it. Next, after the heat treatment, development processing was performed using a propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) solution to remove the photoresist material not irradiated with ultraviolet rays. Finally, after rinsing with isopropyl alcohol (IPA) liquid, the liquid was dried to form a gap control member on the observation side substrate. At this time, the gap control member was formed in a stripe shape having a height of 45 μm and a width of 15 μm. In addition, on the non-observation side, an EDD according to Comparative Example 2 was manufactured by the same manufacturing process as the EDD according to the
[比較例3に係るEDDの作製]
上記本発明1に係るEDDと同様の作製工程において、非観察側基板に形成する隔壁の高さが10μmとなるように、比較例3に係るEDDを作製した。
[Production of EDD according to Comparative Example 3]
In the same manufacturing process as the EDD according to the first invention, the EDD according to Comparative Example 3 was manufactured so that the height of the partition wall formed on the non-observation side substrate was 10 μm.
[比較例4に係るEDDの作製]
上記本発明1に係るEDDと同様の作製工程において、観察側基板に形成するギャップ制御部材の幅が30μmとなるように、比較例4に係るEDDを作製した。
[Production of EDD according to Comparative Example 4]
In the same manufacturing process as the EDD according to the first invention, the EDD according to Comparative Example 4 was manufactured so that the width of the gap control member formed on the observation side substrate was 30 μm.
[評価1]
上記本発明1に係るEDDと比較例1に係るEDDにおいて、観察側基板に形成されたITO電極に−1.5Vの直流電圧を印加するとともに、非観察側基板に形成された金属電極の電圧を0Vとし、1秒間全画素に電圧印加を行い、全表示領域を黒表示とした。このとき、全表示領域において黒表示となったEDDの表示領域を分光測色計(CM−3700d:コニカミノルタセンシング社製)にてD65光源、正反射除去モードで測定した。その結果、
本発明1に係るEDD Y値=4.5
比較例1に係るEDD Y値=5.8
という値が得られた。また、比較例1に係るEDDの表示領域表面を顕微鏡観察したところ多数の画素にて泡がみられ、表示が書き換えられない、即ち黒にできない状態となっていた。
[Evaluation 1]
In the EDD according to the first aspect of the present invention and the EDD according to Comparative Example 1, a voltage of -1.5 V is applied to the ITO electrode formed on the observation side substrate, and the voltage of the metal electrode formed on the non-observation side substrate Was set to 0 V, and voltage was applied to all the pixels for 1 second, and the entire display area was set to black display. At this time, the display area of the EDD that became black display in the entire display area was measured with a spectrocolorimeter (CM-3700d: manufactured by Konica Minolta Sensing Co., Ltd.) in the D65 light source and regular reflection removal mode. as a result,
EDD Y value according to the
EDD Y value according to Comparative Example 1 = 5.8
The value was obtained. Further, when the surface of the display area of the EDD according to Comparative Example 1 was observed with a microscope, bubbles were observed in a large number of pixels, and the display could not be rewritten, that is, could not be made black.
[評価2]
上記本発明1に係るEDDと比較例2に係るEDDにおいて、観察側基板に形成された隣接するストライプ状のITO電極に対して一本ごとに0Vおよび−1.5Vの直流電圧を交互に印加するとともに、非観察側基板に形成されたストライプ状の金属電極の電圧を全て0Vとし、表示領域にストライプ状の画像を表示した。このとき、本発明1および比較例2にかかるEDDの表示領域を分光測色計(CM−3700d:コニカミノルタセンシング社製)にてD65光源、正反射除去モードで測定した。その結果、
本発明1に係るEDD Y値=28.5
比較例2に係るEDD Y値=16.2
という値が得られた。また、比較例2に係るEDDの表示領域表面を顕微鏡観察したところ滲み現象により、0V印加のITO電極上にも黒化銀が析出していた。
[Evaluation 2]
In the EDD according to the
EDD Y value according to the present invention = 18.5
EDD Y value according to Comparative Example 2 = 16.2
The value was obtained. Further, when the surface of the display region of the EDD according to Comparative Example 2 was observed with a microscope, blackened silver was deposited on the ITO electrode to which 0 V was applied due to the bleeding phenomenon.
[評価3]
上記比較例3に係るEDDの表示領域表面を顕微鏡観察したところパネルの一部分に隔壁の強度不足による傾倒が原因と考えられる隔壁が形成されていない箇所が生じ、表示不良が発生しているのが観察された。
[Evaluation 3]
When the surface of the display area of the EDD according to Comparative Example 3 was observed with a microscope, a part of the panel was not formed with a partition which was thought to be caused by tilting due to insufficient strength of the partition, and a display defect occurred. Observed.
[評価4]
上記本発明1に係るEDDと比較例4に係るEDDのコントラスト比を測定した結果、本発明1に係るEDDのコントラスト比が12であったのに対して比較例4に係るEDDのコントラスト比は8であった。
[Evaluation 4]
As a result of measuring the contrast ratio of the EDD according to the
[評価5]
上記本発明2に係るEDDのコントラスト比を測定した結果、本発明2に係るEDDのコントラスト比が15であった。
[Evaluation 5]
As a result of measuring the contrast ratio of the EDD according to the present invention 2, the contrast ratio of the EDD according to the present invention 2 was 15.
[評価6]
上記本発明3に係るEDDのコントラスト比を測定した結果、本発明2に係るEDDと同等のコントラスト比が得られた。また、本発明3に係るEDDの作製時に使用したミクロパールの消費量は、本発明2に係るEDDの作製時に使用したミクロパールの消費量と比較して約1/5の消費量であった。
[Evaluation 6]
As a result of measuring the contrast ratio of the EDD according to the
1 電気化学表示素子
2 基板
2a 観察側基板
2b 非観察側基板
3 電解質
4 隔壁
5 電極
5a 電極(観察側)
5b 電極(非観察側)
6 ギャップ制御部材
DESCRIPTION OF
5b Electrode (non-observation side)
6 Gap control member
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