JP2010031318A - Plated article - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基材との密着性に優れる金属めっき膜を有し、該膜の表面には露出部(ムラ)がなく均一である、無電解めっき法により製造されるめっき物に関するものである。 The present invention relates to a plated product produced by an electroless plating method, which has a metal plating film excellent in adhesion to a substrate, and is uniform without an exposed portion (unevenness) on the surface of the film. .
基材上に導電性高分子層を形成し該導電性高分子層上にめっきを施すことにより電気回路を作製する無電解めっき法が提案されている。 There has been proposed an electroless plating method in which an electric circuit is produced by forming a conductive polymer layer on a substrate and plating the conductive polymer layer.
特許文献1は、基板フィルム上に光照射によりモノマーの酸化重合性が消失または減少する性質を持つ酸化剤を含む触媒層を形成し、該触媒層上で導電性高分子を重合した後に、該導電性高分子上に無電解めっき液から金属膜を化学めっきする方法を開示している。
しかし特許文献1に開示されている方法では、導電性高分子を重合するのに使用した酸化剤を取り除くことができないため、導電性高分子を酸化重合し、さらに無電解めっきを施してからもこの酸化剤は導電性高分子層の下に残留していることになる。そしてこの残留した酸化剤は、無電解めっき法により形成された金属めっき膜(銅、ニッケル等)を酸化するため、その結果、該金属めっき膜は激しく腐食することになり、これにより金属めっき膜と基材フィルムとの密着性は非常に弱くなり、中〜長期の実用には耐え難いものであった。 However, in the method disclosed in Patent Document 1, since the oxidizing agent used for polymerizing the conductive polymer cannot be removed, the conductive polymer is subjected to oxidative polymerization and further subjected to electroless plating. This oxidizing agent remains under the conductive polymer layer. The remaining oxidizing agent oxidizes the metal plating film (copper, nickel, etc.) formed by the electroless plating method. As a result, the metal plating film corrodes violently. The adhesion between the film and the substrate film was very weak, and it was difficult to withstand medium to long-term practical use.
特許文献1に記載の方法により得られた金属めっき膜は、金属めっき膜の重要な評価項目の一つである基材フィルムとの密着性において、非常に弱いものであった。密着性の低下の主な原因としては、上記の通り、金属めっき膜が酸化剤により腐食したためと考えられるが、それ以外にも、基材フィルム−酸化剤層−導電性高分子層−金属めっき膜といった多層構造となることから、各層間での剥離が生じ易くなることが考えられる。 The metal plating film obtained by the method described in Patent Document 1 is very weak in adhesion to the base film, which is one of important evaluation items of the metal plating film. As described above, the main cause of the decrease in adhesion is considered to be that the metal plating film was corroded by the oxidizing agent, but in addition, the base film-oxidant layer-conductive polymer layer-metal plating. Since a multilayer structure such as a film is formed, it is considered that peeling between the layers is likely to occur.
本発明は、上記の無電解めっき法における、金属めっき膜の密着性が低下するという問題がない、即ち、金属めっき膜と基材との密着性に優れ、加えて、金属めっき膜の表面には露出部(ムラ)がなく均一である、無電解めっき法により製造されるめっき物及びその製造方法の提供を課題とする。 The present invention has no problem that the adhesion of the metal plating film in the electroless plating method is reduced, that is, the adhesion between the metal plating film and the substrate is excellent, and in addition, on the surface of the metal plating film. An object of the present invention is to provide a plated product manufactured by an electroless plating method that is uniform without an exposed portion (unevenness) and a manufacturing method thereof.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、金属めっき膜を形成するための塗膜層に還元性高分子微粒子とバインダーを用いると、無電解めっきにより形成させた金属めっき膜の密着性を高くできること、及び該塗膜層と基材との間にプライマー層を設けると、該塗膜層と該基材との密着性を高くできること、及び該塗膜層を形成する際に、塗膜層の上側半分の中に前記還元性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在するようにすると、金属めっき膜の密着性を更に高くでき、加えて、該塗膜表面上における触媒金属の吸着量が増加し、これにより、薄い塗膜層においても塗膜上に形成される金属めっき膜を露出部(ムラ)がない均一な膜表面とすることができることを見い出し、本発明を完成させた。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that metal plating formed by electroless plating can be achieved by using reducing polymer fine particles and a binder in a coating layer for forming a metal plating film. When the adhesion of the film can be increased and a primer layer is provided between the coating layer and the substrate, the adhesion between the coating layer and the substrate can be increased, and the coating layer is formed. In this case, if more than 60% of the reducing polymer fine particles are present in the upper half of the coating layer, the adhesion of the metal plating film can be further increased, and in addition, the coating surface The amount of catalyst metal adsorbed on the surface is increased, thereby finding that the metal plating film formed on the coating film can be a uniform film surface with no exposed portion (unevenness) even in a thin coating layer, The present invention has been completed.
即ち、本発明は、
1.基材上にプライマー層を形成し、この上に還元性高分子微粒子及びバインダーを含む下地塗料を塗布して塗膜層を形成するか、又は、該プライマー層上に導電性高分子微粒子及びバインダーを含む下地塗料を塗布し、該導電性高分子微粒子を脱ドープ処理して塗膜層を形成し、そして該塗膜層に無電解めっき液から金属膜を化学めっきすることにより製造されるめっき物であって、該塗膜層の上側半分の中に前記還元性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する、めっき物、
2.前記基材の形状がフィルムの場合、前記バインダーは、前記還元性高分子微粒子1質量部に対して0.1ないし10質量部で存在し、前記塗膜層の厚さは20nmないし500nmである、めっき物。
3.前記基材の形状が成形品からなる場合、前記バインダーは、前記還元性高分子微粒子1質量部に対して0.1ないし10質量部で存在し、前記塗膜層の厚さは100nmないし50μmである、めっき物に関するものである。
That is, the present invention
1. A primer layer is formed on a substrate, and a coating layer is formed thereon by applying a base coating containing reducing polymer fine particles and a binder, or conductive polymer fine particles and a binder on the primer layer. The coating is produced by applying a base coating material containing, forming a coating layer by dedoping the conductive polymer fine particles, and chemically plating a metal film on the coating layer from an electroless plating solution A plated article in which 60% or more of the reducing polymer fine particles are present in the upper half of the coating layer,
2. When the shape of the substrate is a film, the binder is present in an amount of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 1 part by mass of the reducing polymer fine particles, and the thickness of the coating layer is 20 nm to 500 nm. , Plated products.
3. When the shape of the base material is a molded product, the binder is present in an amount of 0.1 to 10 parts by weight with respect to 1 part by weight of the reducing polymer fine particles, and the thickness of the coating layer is 100 nm to 50 μm. It is related to the plated product.
本発明のめっき物は、基材の表面上にプライマー層が形成され、そのプライマー層の表面上に還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層が形成され、該塗膜層上に金属めっき膜が無電解めっき法により形成されるものであるが、前記塗膜層には、既に重合した微粒子を用いるため、重合触媒である酸化剤等を用いないため、特許文献1で示された腐食の問題がない。 In the plated product of the present invention, a primer layer is formed on the surface of a substrate, a coating layer containing reducing fine polymer particles and a binder is formed on the surface of the primer layer, and metal plating is formed on the coating layer. Although the film is formed by an electroless plating method, since the coating layer uses fine particles that have already been polymerized, an oxidizing agent that is a polymerization catalyst is not used. There is no problem.
また、バインダーを使用することにより金属めっき膜と基材との密着性を向上させる事ができる。 Moreover, the adhesiveness of a metal plating film and a base material can be improved by using a binder.
本発明のめっき物における塗膜層は、その上側半分の中に還元性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在するものであるが、それにより塗膜層の下側半分にはバインダーの存在比が高くなってプライマー層と塗膜層の密着性が向上するため、結果として、金属めっき膜と基材との密着性が向上することになる。 The coating layer in the plated product according to the present invention is such that 60% or more of the reducing polymer fine particles are present in the upper half of the coating layer. Since the abundance ratio is increased and the adhesion between the primer layer and the coating film layer is improved, as a result, the adhesion between the metal plating film and the substrate is improved.
また、塗膜層の表面近くにおいては還元性高分子微粒子の存在比が高くなるため、表面上における触媒金属の吸着量が増加することになるが、これにより、形成する金属めっき膜は、薄い塗膜層においても露出部(ムラ)がない均一なものとすることができる。 In addition, since the abundance ratio of the reducing polymer fine particles is high near the surface of the coating layer, the amount of the catalytic metal adsorbed on the surface increases. As a result, the metal plating film to be formed is thin. Even in the coating layer, it can be made uniform with no exposed portion (unevenness).
本発明のめっき物は、還元性高分子微粒子だけでなく、導電性高分子微粒子を用いても同様に製造することができる。この場合、無電解めっきを行う前に、導電性高分子微粒子を脱ドープして還元性にしておく必要があるが、本発明のめっき物においては、上記と同様に、薄い層(導電性高分子微粒子層)においても優れた密着性及び均一性を維持できる。
また、本発明のめっき物は、例えば、基材上に形成された還元性高分子微粒子を含む塗膜層上に、パラジウム等の触媒金属を還元・吸着させ、該パラジウム等の触媒金属が吸着された塗膜層上に金属めっき膜を形成することにより製造されるが、この際の、パラジウム等の触媒金属の還元及び高分子微粒子への吸着は、例えば、ポリピロールの場合、下図で示される状態になると考えられる。
In addition, the plated product of the present invention, for example, reduces and adsorbs a catalytic metal such as palladium on a coating layer containing reducible polymer fine particles formed on a substrate, and adsorbs the catalytic metal such as palladium. In this case, the reduction of the catalytic metal such as palladium and the adsorption to the fine polymer particles are shown in the figure below in the case of polypyrrole, for example. It is considered to be in a state.
更に詳細に本発明を説明する。 The present invention will be described in more detail.
本発明のめっき物は、
A)基材上にプライマー層を形成し、
B)このプライマー層上に還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗料を塗布し、且つ該塗膜層の上側半分の中に前記還元性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する塗膜層を形成し、
C)前記塗膜層に無電解めっき液から金属膜を化学めっきすることにより製造される。
The plated product of the present invention is
A) forming a primer layer on the substrate,
B) A coating film in which a coating containing reducing polymer fine particles and a binder is applied on the primer layer, and 60% or more of the reducing polymer fine particles are present in the upper half of the coating film layer. Forming a layer,
C) Manufactured by chemically plating a metal film on the coating layer from an electroless plating solution.
本発明の基材としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレートやポリ乳酸等のポリエステル樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリフェニレンスルファイド樹脂、液晶ポリマー、変性ポリフェニルエーテル樹脂、ポリスルホン樹脂、PC/ABS(ポリカエービーエス)樹脂、ASA/PC(アクリロニトリルスチレンアクリレート/ポリカ)樹脂、ABS(アクリロニトリルブタジエンスチレン)樹脂、フェノール樹脂、ガラス、アルミナ等が挙げられる。特に、従来化学的無電解めっきが困難であったポリエーテルエーテルケトン樹脂や液晶ポリマー等のエンジニアプラスチック、ガラス、アルミナからなる基材に対してもエッチングを行わず密着性に優れためっき物を得ることができる。 The substrate of the present invention is not particularly limited. For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate and polylactic acid, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polypropylene resins, polycarbonate resins, polystyrene resins and polyvinyl chloride resins. , Polyamide resin, polyimide resin, polyetherimide resin, polyacetal resin, polyether ether ketone resin, cyclic polyolefin resin, polyethylene resin, polyphenylene sulfide resin, liquid crystal polymer, modified polyphenyl ether resin, polysulfone resin, PC / ABS (polycarbonate ABC) resin, ASA / PC (acrylonitrile styrene acrylate / polycarbonate) resin, ABS (acrylonitrile butadiene styrene) resin, phenol Resin, glass, alumina and the like. Especially, it is difficult to carry out chemical electroless plating, such as polyether ether ketone resin and liquid crystal polymer, etc. Engineered plastics, glass, and a substrate with excellent adhesion without etching. be able to.
また、基材として、自己粘着性を有する軟質の合成樹脂、例えば、ポリオレフィンエラストマー、ポリエチレンエラストマー、ポリウレタンエラストマー、シリコン樹脂、ブチルゴム、軟質ポリ塩化ビニル、フッ素系樹脂等が挙げられる。 Examples of the base material include self-adhesive soft synthetic resins such as polyolefin elastomers, polyethylene elastomers, polyurethane elastomers, silicon resins, butyl rubber, soft polyvinyl chloride, and fluorine resins.
また、基材の形状は特に限定されないが、例えば、板状(シート状も含む)、フィルム状が挙げられる。他にも、基材として、例えば、射出成形などにより樹脂を成形した成形品が挙げられる。そして、この成形品に本発明のめっき物を設けることにより、例えば、自動車向けの装飾めっき品を作成することができたり、或いは、ポリイミド樹脂やポリエテールエーテルケトン樹脂や液晶ポリマーなどからなるフィルム上に本発明のめっき物を全体的或いはパターン状で設けることにより、例えば、電気回路品を作成することができる。 The shape of the substrate is not particularly limited, and examples thereof include a plate shape (including a sheet shape) and a film shape. In addition, examples of the base material include a molded product obtained by molding a resin by injection molding or the like. And by providing the plated product of the present invention on this molded product, for example, a decorative plated product for automobiles can be created, or on a film made of a polyimide resin, a polyether ether ketone resin, a liquid crystal polymer, or the like. For example, an electric circuit product can be produced by providing the plated product of the present invention as a whole or in a pattern.
本発明のプライマー層としては、特に限定されないが、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が挙げられるが挙げられる。 The primer layer of the present invention is not particularly limited. For example, polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, poly (N-vinylcarbazole), hydrocarbon resin, ketone resin. Phenoxy resin, polyamide, ethyl cellulose, vinyl acetate, ABS resin, polyurethane resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, epoxy resin, silicon resin, and the like.
基材へプライマー層を塗布する方法も特に限定されず、例えばグラビア印刷機、インクジェット印刷機、ディッピング、スプレー、スピンコーター、ロールコーター、スクリーン印刷機等を用いて、印刷またはコーティングすることができる。 The method for applying the primer layer to the substrate is not particularly limited, and printing or coating can be performed using, for example, a gravure printing machine, an inkjet printing machine, dipping, spraying, a spin coater, a roll coater, a screen printing machine or the like.
プライマー層の厚みは、0.1〜50μmの範囲がよい。プライマー層の厚みが50μmを超えると、充分な乾燥ができずに粘性が残り、基材と塗膜層に対する密着性が劣る場合がある。逆に、0.1未満であると塗膜層との高い密着性が保てない場合がある。 The thickness of the primer layer is preferably in the range of 0.1 to 50 μm. When the thickness of the primer layer exceeds 50 μm, sufficient drying may not be achieved, and viscosity may remain, and adhesion to the substrate and the coating layer may be inferior. Conversely, if it is less than 0.1, high adhesion to the coating layer may not be maintained.
また、本発明に使用するプライマー層用の塗料は有機溶媒を含有する。使用する有機溶媒は、微粒子に損傷を与えず、微粒子を分散させうるものであれば特に限定はしないが、好ましくは、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。 The primer layer coating used in the present invention contains an organic solvent. The organic solvent to be used is not particularly limited as long as it does not damage the fine particles and can disperse the fine particles. Preferred examples include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene.
本発明に使用する還元性高分子微粒子は、有機溶媒と水とアニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤とを混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、π−共役二重結合を有するモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより製造される。 The reducing polymer fine particle used in the present invention is a π-conjugated double in an O / W type emulsion obtained by mixing and stirring an organic solvent, water, an anionic surfactant and a nonionic surfactant. It is produced by adding a monomer having a bond and subjecting the monomer to oxidative polymerization.
π−共役二重結合を有するモノマーとしては、導電性高分子を製造するために使用されるモノマーであれば特に限定されないが、例えば、ピロール、N−メチルピロール、N−エチルピロール、N−フェニルピロール、N−ナフチルピロール、N−メチル−3−メチルピロール、N−メチル−3−エチルピロール、N−フェニル−3−メチルピロール、N−フェニル−3−エチルピロール、3−メチルピロール、3−エチルピロール、3−n−ブチルピロール、3−メトキシピロール、3−エトキシピロール、3−n−プロポキシピロール、3−n−ブトキシピロール、3−フェニルピロール、3−トルイルピロール、3−ナフチルピロール、3−フェノキシピロール、3−メチルフェノキシピロール、3−アミノピロール、3−ジメチルアミノピロール、3−ジエチルアミノピロール、3−ジフェニルアミノピロール、3−メチルフェニルアミノピロール及び3−フェニルナフチルアミノピロール等のピロール誘導体、アニリン、o−クロロアニリン、m−クロロアニリン、p−クロロアニリン、o−メトキシアニリン、m−メトキシアニリン、p−メトキシアニリン、o−エトキシアニリン、m−エトキシアニリン、p−エトキシアニリン、o−メチルアニリン、m−メチルアニリン及びp−メチルアニリン等のアニリン誘導体、チオフェン、3−メチルチオフェン、3−n−ブチルチオフェン、3−n−ペンチルチオフェン、3−n−ヘキシルチオフェン、3−n−ヘプチルチオフェン、3−n−オクチルチオフェン、3−n−ノニルチオフェン、3−n−デシルチオフェン、3−n−ウンデシルチオフェン、3−n−ドデシルチオフェン、3−メトキシチオフェン、3−ナフトキシチオフェン及び3,4−エチレンジオキシチオフェン等のチオフェン誘導体が挙げられ、好ましくは、ピロール、アニリン、チオフェン及び3,4−エチレンジオキシチオフェン等が挙げられ、より好ましくはピロールが挙げられる。 The monomer having a π-conjugated double bond is not particularly limited as long as it is a monomer used for producing a conductive polymer, and examples thereof include pyrrole, N-methylpyrrole, N-ethylpyrrole, and N-phenyl. Pyrrole, N-naphthylpyrrole, N-methyl-3-methylpyrrole, N-methyl-3-ethylpyrrole, N-phenyl-3-methylpyrrole, N-phenyl-3-ethylpyrrole, 3-methylpyrrole, 3- Ethyl pyrrole, 3-n-butyl pyrrole, 3-methoxy pyrrole, 3-ethoxy pyrrole, 3-n-propoxy pyrrole, 3-n-butoxy pyrrole, 3-phenyl pyrrole, 3-toluyl pyrrole, 3-naphthyl pyrrole, 3 -Phenoxypyrrole, 3-methylphenoxypyrrole, 3-aminopyrrole, 3-dimethyla Pyrrole derivatives such as nopyrrole, 3-diethylaminopyrrole, 3-diphenylaminopyrrole, 3-methylphenylaminopyrrole and 3-phenylnaphthylaminopyrrole, aniline, o-chloroaniline, m-chloroaniline, p-chloroaniline, o- Aniline derivatives such as methoxyaniline, m-methoxyaniline, p-methoxyaniline, o-ethoxyaniline, m-ethoxyaniline, p-ethoxyaniline, o-methylaniline, m-methylaniline and p-methylaniline, thiophene, 3 -Methylthiophene, 3-n-butylthiophene, 3-n-pentylthiophene, 3-n-hexylthiophene, 3-n-heptylthiophene, 3-n-octylthiophene, 3-n-nonylthiophene, 3-n- Decylthiophene, Examples include thiophene derivatives such as 3-n-undecylthiophene, 3-n-dodecylthiophene, 3-methoxythiophene, 3-naphthoxythiophene and 3,4-ethylenedioxythiophene, preferably pyrrole, aniline, thiophene And 3,4-ethylenedioxythiophene and the like, more preferably pyrrole.
また前記製造に用いるアニオン系界面活性剤としては、種々のものが使用できるが、疎水性末端を複数有するもの(例えば、疎水基に分岐構造を有するものや、疎水基を複数有するもの)が好ましい。このような疎水性末端を複数有するアニオン系界面活性剤を使用することにより、安定したミセルを形成させることができ、重合後において水相と有機溶媒相との分離がスムーズであり、有機溶媒相に分散した還元性高分子微粒子が入手し易い。 Various anionic surfactants used in the production can be used, but those having a plurality of hydrophobic ends (for example, those having a branched structure in a hydrophobic group or those having a plurality of hydrophobic groups) are preferred. . By using such an anionic surfactant having a plurality of hydrophobic ends, stable micelles can be formed, and separation between the aqueous phase and the organic solvent phase is smooth after the polymerization. Reducible polymer fine particles dispersed in are easily available.
疎水性末端を複数有するアニオン系界面活性剤の中でも、スルホコハク酸ジ−2−エチルヘキシルナトリウム(疎水性末端4つ)、スルホコハク酸ジ−2−エチルオクチルナトリウム(疎水性末端4つ)および分岐鎖型アルキルベンゼンスルホン酸塩(疎水性末端2つ)が好適に使用できる。 Among anionic surfactants having multiple hydrophobic ends, di-2-ethylhexyl sodium sulfosuccinate (4 hydrophobic ends), di-2-ethyloctyl sodium sulfosuccinate (4 hydrophobic ends) and branched type Alkyl benzene sulfonate (two hydrophobic ends) can be preferably used.
反応系中でのアニオン系界面活性剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対し0.05mol未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.005mol〜0.03molである。0.05mol以上では添加したアニオン性界面活性剤がドーパントとして作用し、得られる微粒子は導電性を発現するため、これを用いて無電解めっきを行うためには脱ドープの工程が必要となる。 The amount of the anionic surfactant in the reaction system is preferably less than 0.05 mol, more preferably 0.005 mol to 0.03 mol, with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond. When the amount is 0.05 mol or more, the added anionic surfactant acts as a dopant, and the resulting fine particles exhibit conductivity. Therefore, in order to perform electroless plating using this, a dedoping step is required.
ノニオン系界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、アルキルグルコシド類、グリセリン脂肪酸エステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、ポリオキシエチレンソルビダン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、脂肪酸アルカノールアミド、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類が挙げられる。これらを一種類または複数混ぜて使用してもよい。特に安定的にO/W型エマルションを形成するものが好ましい。 Nonionic surfactants include, for example, polyoxyethylene alkyl ethers, alkyl glucosides, glycerin fatty acid esters, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbidic fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, fatty acid alkanolamides, poly Examples include oxyethylene alkylphenyl ethers. These may be used alone or in combination. In particular, those that stably form an O / W emulsion are preferred.
反応系中でのノニオン系界面活性剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対し、アニオン系界面活性剤と足して0.2mol以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.05〜0.15molである。0.05mol未満では収率や分散安定性が低下し、一方、0.2mol以上では重合後において、水相と有機溶媒相との分離が困難になり、有機溶媒相にある還元性高分子微粒子を得る事ができなくなる事から好ましくない。 The amount of the nonionic surfactant in the reaction system is preferably 0.2 mol or less, more preferably 0.2 mol or less with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond, in addition to the anionic surfactant. It is 05-0.15 mol. If the amount is less than 0.05 mol, the yield and dispersion stability are reduced. On the other hand, if the amount is 0.2 mol or more, it is difficult to separate the aqueous phase from the organic solvent phase after polymerization, and the reducing polymer fine particles in the organic solvent phase are present. It is not preferable because it becomes impossible to obtain.
前記製造において乳化液の有機相を形成する有機溶媒は疎水性であることが好ましい。なかでも、芳香族系の有機溶媒であるトルエンやキシレンは、O/W型エマルションの安定性およびπ−共役二重結合を有するモノマーとの親和性の観点から好ましい。両性溶媒でもπ−共役二重結合を有するモノマーの重合を行うことはできるが、生成した還元性高分子微粒子を回収する際の有機相と水相との分離が困難になる。 In the production, the organic solvent forming the organic phase of the emulsion is preferably hydrophobic. Among these, toluene and xylene, which are aromatic organic solvents, are preferable from the viewpoint of the stability of the O / W emulsion and the affinity with the monomer having a π-conjugated double bond. Although the amphoteric solvent can polymerize a monomer having a π-conjugated double bond, it is difficult to separate the organic phase and the aqueous phase when the produced reducing polymer fine particles are recovered.
乳化液における有機相と水相との割合は、水相が75体積%以上であることが好ましい。水相が20体積%以下ではπ−共役二重結合を有するモノマーの溶解量が少なくなり、生産効率が悪くなる。 The ratio of the organic phase to the aqueous phase in the emulsion is preferably 75% by volume or more in the aqueous phase. When the water phase is 20% by volume or less, the amount of the monomer having a π-conjugated double bond is reduced, and the production efficiency is deteriorated.
前記製造で使用する酸化剤としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸およびクロロスルホン酸のような無機酸、アルキルベンゼンスルホン酸およびアルキルナフタレンスルホン酸のような有機酸、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウムおよび過酸化水素のような過酸化物が使用できる。これらは単独で使用しても、二種類以上を併用してもよい。塩化第二鉄等のルイス酸でもπ−共役二重結合を有するモノマーを重合できるが、生成した粒子が凝集し、微分散できない場合がある。特に好ましい酸化剤は、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩である。 Examples of the oxidizing agent used in the production include inorganic acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid and chlorosulfonic acid, organic acids such as alkylbenzenesulfonic acid and alkylnaphthalenesulfonic acid, potassium persulfate, ammonium persulfate and peroxidation. Peroxides such as hydrogen can be used. These may be used alone or in combination of two or more. Even a Lewis acid such as ferric chloride can polymerize a monomer having a π-conjugated double bond, but the produced particles may aggregate and be unable to be finely dispersed. Particularly preferred oxidizing agents are persulfates such as ammonium persulfate.
反応系中での酸化剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対して0.1mol以上、0.8mol以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.2〜0.6molである。0.1mol未満ではモノマーの重合度が低下し、ポリマー微粒子を分液回収することが困難になり、一方、0.8mol以上では凝集してポリマー微粒子の粒径が大きくなり、分散安定性が悪化する。 The amount of the oxidizing agent in the reaction system is preferably 0.1 mol or more and 0.8 mol or less, more preferably 0.2 to 0.6 mol with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond. is there. If the amount is less than 0.1 mol, the degree of polymerization of the monomer decreases, making it difficult to separate and collect the polymer fine particles. On the other hand, if the amount is 0.8 mol or more, the particles are aggregated to increase the particle size of the polymer fine particles, resulting in poor dispersion stability To do.
前記ポリマー微粒子の製造方法は、例えば以下のような工程で行われる:
(a)アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、有機溶媒および水を混合攪拌し乳
化液を調製する工程、
(b)π−共役二重結合を有するモノマーを乳化液中に分散させる工程、
(c)モノマーを酸化重合させる工程、
(d)有機相を分液しポリマー微粒子を回収する工程。
The polymer fine particle production method is performed, for example, in the following steps:
(A) a step of preparing an emulsion by mixing and stirring an anionic surfactant, a nonionic surfactant, an organic solvent and water;
(B) a step of dispersing a monomer having a π-conjugated double bond in an emulsion,
(C) oxidative polymerization of the monomer,
(D) A step of separating the organic phase and collecting the polymer fine particles.
前記各工程は、当業者に既知である手段を利用して行うことができる。例えば、乳化液の調製時に行う混合攪拌は、特に限定されないが、例えばマグネットスターラー、攪拌機、ホモジナイザー等を適宜選択して行うことができる。また重合温度は0〜25℃で、好ましくは20℃以下である。重合温度が25℃を越えると副反応が起こるので好ましくない。 Each of the above steps can be performed using means known to those skilled in the art. For example, the mixing and stirring performed at the time of preparing the emulsion is not particularly limited. For example, a magnetic stirrer, a stirrer, a homogenizer, or the like can be selected as appropriate. The polymerization temperature is 0 to 25 ° C, preferably 20 ° C or less. If the polymerization temperature exceeds 25 ° C., side reactions occur, which is not preferable.
酸化重合反応が停止されると、反応系は有機相と水相の二相に分かれるが、この際に未反応のモノマー、酸化剤および塩は水相中に溶解して残存する。ここで有機相を分液回収し、イオン交換水で数回洗浄すると、有機溶媒に分散した還元性高分子微粒子を入手することができる。 When the oxidative polymerization reaction is stopped, the reaction system is divided into an organic phase and an aqueous phase. At this time, unreacted monomers, oxidizing agents and salts remain dissolved in the aqueous phase. When the organic phase is separated and recovered and washed several times with ion-exchanged water, reducing polymer fine particles dispersed in an organic solvent can be obtained.
上記の製造法により得られるポリマー微粒子は、主としてπ−共役二重結合を有するモノマー誘導体のポリマーよりなり、そしてアニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤を含む微粒子である。そしてその特徴は、微細な粒径を有し、有機溶媒中で分散可能であることである。 The polymer fine particles obtained by the above production method are fine particles mainly composed of a polymer of a monomer derivative having a π-conjugated double bond and containing an anionic surfactant and a nonionic surfactant. And the characteristic is that it has a fine particle size and is dispersible in an organic solvent.
ポリマー微粒子は球形の微粒子となるが、その平均粒径は、10〜100nmとするのが好ましい。 The polymer fine particles are spherical fine particles, and the average particle size is preferably 10 to 100 nm.
上記のように平均粒径の小さな微粒子にすることで、微粒子の表面積が極めて大きくなり、同一質量の微粒子でも、より多くの触媒金属を吸着できるようになり、それにより塗膜層の薄膜化が可能となる。 By making fine particles with a small average particle diameter as described above, the surface area of the fine particles becomes extremely large, and even with fine particles of the same mass, more catalytic metals can be adsorbed, thereby reducing the thickness of the coating layer. It becomes possible.
得られたポリマー微粒子の導電率は0.01S/cm未満であり、好ましくは、0.005S/cm以下である。 The conductivity of the obtained polymer fine particles is less than 0.01 S / cm, and preferably 0.005 S / cm or less.
こうして得られた有機溶媒に分散した還元性高分子微粒子は、そのままで、濃縮して、又は乾燥させて塗料の還元性高分子微粒子成分として使用することができる。 The reductive polymer fine particles dispersed in the organic solvent thus obtained can be used as the reductive polymer fine particle component of the coating as it is, after being concentrated or dried.
また、上記のようにして製造された還元性高分子微粒子でなくとも、例えば、市販で入手できる還元性高分子微粒子を塗料の成分として使用することもできる。 Further, for example, commercially available reducing polymer fine particles may be used as a component of the coating material, instead of the reducing polymer fine particles produced as described above.
本発明に使用する塗料は、還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗料である。 The coating material used in the present invention is a coating material containing reducing fine polymer particles and a binder.
バインダーとしては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ(N−ビニルカルバゾール)、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ABS樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂等が挙げられる。 Examples of the binder include polyvinyl chloride, polycarbonate, polystyrene, polymethyl methacrylate, polyester, polysulfone, polyphenylene oxide, polybutadiene, poly (N-vinylcarbazole), hydrocarbon resin, ketone resin, phenoxy resin, polyamide, ethyl cellulose, acetic acid. Examples thereof include vinyl, ABS resin, polyurethane resin, melamine resin, unsaturated polyester resin, alkyd resin, epoxy resin, and silicon resin.
使用するバインダー量は、還元性高分子微粒子1質量部に対して0.1質量部ないし10質量部である。バインダーが10質量部を超えると金属めっきが析出せず、バインダーが0.1質量部未満であると、基材への密着性が弱くなる。 The amount of the binder used is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 1 part by mass of the reducing polymer fine particles. When the binder exceeds 10 parts by mass, metal plating does not precipitate, and when the binder is less than 0.1 parts by mass, the adhesion to the substrate is weakened.
また、本発明に使用する塗料は有機溶媒を含有する。使用する有機溶媒は、微粒子に損傷を与えず、微粒子を分散させうるものであれば特に限定はしないが、好ましくは、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。 The paint used in the present invention contains an organic solvent. The organic solvent to be used is not particularly limited as long as it does not damage the fine particles and can disperse the fine particles. Preferred examples include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene.
更に、本発明に使用する塗料は用途や塗布対象物等の必要に応じて、分散安定剤、増粘剤、インキバインダ等の樹脂を加えることも可能である。 Furthermore, the coating material used in the present invention can be added with a resin such as a dispersion stabilizer, a thickening agent, and an ink binder, depending on the application, application object, and the like.
上記で調製した塗料をプライマー層上に塗布し、層の上側半分の中に還元性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する塗膜層を形成する。 The coating material prepared above is applied onto the primer layer, and a coating layer in which 60% or more of the reducing polymer fine particles are present in the upper half of the layer is formed.
プライマー層上へ還元性高分子微粒子及びバインダーを含む下地塗料の塗布方法も特に限定されず、例えばグラビア印刷機、インクジェット印刷機、ディッピング、スプレー、スピンコーター、ロールコーター、スクリーン印刷機等を用いて、印刷またはコーティングすることができる。 The coating method of the base coating material containing the reducing polymer fine particles and the binder on the primer layer is not particularly limited. For example, using a gravure printing machine, an ink jet printing machine, dipping, spraying, a spin coater, a roll coater, a screen printing machine, etc. Can be printed or coated.
塗膜層の上側半分の中に還元性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する構成は、塗料の塗布後、緩和な条件で時間をかけて乾燥することにより達成される。 The constitution in which 60% or more of the reducing polymer fine particles are present in the upper half of the coating layer is achieved by drying over time under mild conditions after the coating is applied.
具体的な方法としては、例えば、30ないし60℃の低い温度で長時間かけて乾燥したり、30ないし60℃の低い温度から徐々に温度を上げて乾燥したり、30ないし60℃の低い温度とこれより高い温度(例えば、100ないし130℃)の2段階、又はそれ以上の異なった温度(例えば、30ないし60℃→65ないし90℃→100ないし130℃)で乾燥することにより達成することができる。 Specific methods include, for example, drying at a low temperature of 30 to 60 ° C. for a long time, drying by gradually increasing the temperature from a low temperature of 30 to 60 ° C., or a low temperature of 30 to 60 ° C. And higher temperatures (for example, 100 to 130 ° C.) or two or more different temperatures (for example, 30 to 60 ° C. → 65 to 90 ° C. → 100 to 130 ° C.). Can do.
2段階以上の異なった温度で乾燥する場合は、例えば、有機溶媒としてトルエンを使用した場合、40℃で10分間乾燥後、80℃で10分間乾燥し、その後120℃で10分間乾燥することにより塗膜層の上側半分の中に微粒子のうち60%以上の粒子が存在する構成とすることができる。 When drying at two or more different temperatures, for example, when toluene is used as the organic solvent, it is dried at 40 ° C. for 10 minutes, then dried at 80 ° C. for 10 minutes, and then dried at 120 ° C. for 10 minutes. A configuration in which 60% or more of the fine particles are present in the upper half of the coating layer can be employed.
また、別の方法としては、基材上にプライマーを塗布後、そのプライマーが50〜90%硬化したタイミングで還元性高分子とバインダーとからなる塗料を塗布し、乾燥させることにより塗膜層の上側半分の中に微粒子のうち60%以上の粒子が存在する構成とすることができる。なお、この方法を採用すると、未硬化状態のプライマーと還元性高分子とバインダーとからなる塗料とが混合されるため、硬化時にプライマーと該塗料とが混ざった中間層が存在するが、本発明ではこの中間層を還元性高分子とバインダーとからなる塗膜層として定義し、プライマー層とは100%バインダーからなる層として定義する。 As another method, after a primer is applied on the substrate, a coating composed of a reducing polymer and a binder is applied at a timing when the primer is cured by 50 to 90%, and dried to form a coating layer. A configuration in which 60% or more of the fine particles are present in the upper half can be employed. When this method is employed, an uncured primer, a reducing polymer, and a paint composed of a binder are mixed, so that there is an intermediate layer in which the primer and the paint are mixed during curing. Then, this intermediate layer is defined as a coating layer composed of a reducing polymer and a binder, and the primer layer is defined as a layer composed of 100% binder.
塗膜層の厚さは、基材の形状がフィルムの場合、20ないし500nmとなるようにするのが好ましい。厚さが20nm未満であると金属が析出せずめっき膜が形成されない場合がり、厚さが500nmを超えると塗膜強度が低下する場合がある。 The thickness of the coating layer is preferably 20 to 500 nm when the shape of the substrate is a film. If the thickness is less than 20 nm, the metal may not precipitate and a plating film may not be formed. If the thickness exceeds 500 nm, the coating strength may decrease.
塗膜層の厚さは、基材の形状が成形品の場合、100nmないし50μmとなるようにするのが好ましい。厚さが100nm未満であると金属が析出せずめっき膜が形成されない場合があり、厚さが50μmを超えると塗膜強度が低下する場合がある。 The thickness of the coating layer is preferably 100 nm to 50 μm when the shape of the substrate is a molded product. If the thickness is less than 100 nm, the metal may not precipitate and a plating film may not be formed. If the thickness exceeds 50 μm, the coating strength may decrease.
塗膜層の表面上に吸着できる触媒金属の量は0.1μg/cm2以上となるようにするのが好ましい。 The amount of catalytic metal that can be adsorbed on the surface of the coating layer is preferably 0.1 μg / cm 2 or more.
上記吸着量が0.1μg/cm2未満であると、均一な金属めっき膜を得ることができないか又は金属が析出せずめっき膜が形成されない場合がある。 If the adsorption amount is less than 0.1 μg / cm 2 , a uniform metal plating film may not be obtained, or metal may not precipitate and a plating film may not be formed.
本発明のめっき物は、前記還元性高分子微粒子として導電性高分子微粒子を脱ドープ処理して還元性とした微粒子を用いることによっても同様に製造することができる。 The plated product of the present invention can also be produced in the same manner by using fine particles that have been reduced by conducting conductive polymer fine particles as the reducing polymer fine particles.
使用する導電性高分子微粒子は、例えば、有機溶媒と水とアニオン系界面活性剤とを混合撹拌してなるO/W型の乳化液中に、π−共役二重結合を有するモノマーを添加し、該モノマーを酸化重合することにより製造することができる。 For example, the conductive polymer fine particles used are prepared by adding a monomer having a π-conjugated double bond to an O / W type emulsion obtained by mixing and stirring an organic solvent, water, and an anionic surfactant. The monomer can be produced by oxidative polymerization.
π−共役二重結合を有するモノマー及びアニオン系界面活性剤としては還元性微粒子の製造の際に例示したものと同様のものが挙げられるが、好ましくは、ピロール、アニリン、チオフェン及び3,4−エチレンジオキシチオフェン等が挙げられ、より好ましくはピロールが挙げられる。 Examples of the monomer having an π-conjugated double bond and the anionic surfactant are the same as those exemplified in the production of the reducing fine particles, and preferably pyrrole, aniline, thiophene and 3,4- Ethylenedioxythiophene etc. are mentioned, More preferably, pyrrole is mentioned.
反応系中でのアニオン系界面活性剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対し0.2mol未満であることが好ましく、さらに好ましくは0.05mol〜0.15molである。0.05mol未満では収率や分散安定性が低下し、一方、0.2mol以上では得られた導電性高分子微粒子に導電性の湿度依存性が生じてしまう場合がある。 The amount of the anionic surfactant in the reaction system is preferably less than 0.2 mol, more preferably 0.05 mol to 0.15 mol, with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond. If the amount is less than 0.05 mol, the yield and dispersion stability decrease, while if the amount is 0.2 mol or more, the conductive polymer fine particles obtained may have a conductivity humidity dependency.
前記製造において乳化液の有機相を形成する有機溶媒は疎水性であることが好ましい。なかでも、芳香族系の有機溶媒であるトルエンやキシレンは、O/W型エマルションの安定性およびモノマーとの親和性の観点から好ましい。両性溶媒でもπ−共役二重結合を有するモノマーの重合を行うことはできるが、生成した導電性高分子微粒子を回収する際の有機相と水相との分離が困難になる。 In the production, the organic solvent forming the organic phase of the emulsion is preferably hydrophobic. Among these, toluene and xylene, which are aromatic organic solvents, are preferable from the viewpoint of the stability of the O / W emulsion and the affinity with the monomer. Although the amphoteric solvent can polymerize a monomer having a π-conjugated double bond, it becomes difficult to separate the organic phase and the aqueous phase when the produced conductive polymer fine particles are recovered.
乳化液における有機相と水相との割合は、水相が75体積%以上であることが好ましい。水相が20体積%以下ではπ−共役二重結合を有するモノマーの溶解量が少なくなり、生産効率が悪くなる。 The ratio of the organic phase to the aqueous phase in the emulsion is preferably 75% by volume or more in the aqueous phase. When the water phase is 20% by volume or less, the amount of the monomer having a π-conjugated double bond is reduced, and the production efficiency is deteriorated.
前記製造で使用する酸化剤としては、還元性微粒子の製造の際に例示したものと同様のものが挙げられるが、特に好ましい酸化剤は、過硫酸アンモニウム等の過硫酸塩である。 Examples of the oxidizing agent used in the production include the same as those exemplified in the production of the reducing fine particles, but a particularly preferred oxidizing agent is a persulfate such as ammonium persulfate.
反応系中での酸化剤の量は、π−共役二重結合を有するモノマー1molに対して0.1mol以上、0.8mol以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.2〜0.6molである。0.1mol未満ではモノマーの重合度が低下し、導電性高分子微粒子を分液回収することが困難になり、一方、0.8mol以上では凝集して導電性高分子微粒子の粒径が大きくなり、分散安定性が悪化する。 The amount of the oxidizing agent in the reaction system is preferably 0.1 mol or more and 0.8 mol or less, more preferably 0.2 to 0.6 mol with respect to 1 mol of the monomer having a π-conjugated double bond. is there. If the amount is less than 0.1 mol, the degree of polymerization of the monomer decreases, making it difficult to separate and collect the conductive polymer fine particles. On the other hand, if the amount is 0.8 mol or more, the particles are aggregated to increase the particle size of the conductive polymer fine particles. , Dispersion stability deteriorates.
前記導電性高分子微粒子の製造方法は、例えば以下のような工程で行われる:
(a)アニオン系界面活性剤、有機溶媒および水を混合攪拌し乳化液を調製する工程、
(b)π−共役二重結合を有するモノマーを乳化液中に分散させる工程、
(c)モノマーを酸化重合しアニオン系界面活性剤にポリマー微粒子を接触吸着させる工程、
(d)有機相を分液し導電性高分子微粒子を回収する工程。
The method for producing the conductive polymer fine particles is performed, for example, in the following steps:
(A) a step of preparing an emulsion by mixing and stirring an anionic surfactant, an organic solvent and water;
(B) a step of dispersing a monomer having a π-conjugated double bond in an emulsion,
(C) a step of oxidatively polymerizing the monomer and causing the anionic surfactant to contact and adsorb the polymer fine particles;
(D) A step of separating the organic phase and collecting the conductive polymer fine particles.
前記各工程は、当業者に既知である手段を利用して行うことができる。例えば、乳化液の調製時に行う混合攪拌は、特に限定されないが、例えばマグネットスターラー、攪拌機、ホモジナイザー等を適宜選択して行うことができる。また重合温度は0〜25℃で、好ましくは20℃以下である。重合温度が25℃を越えると副反応が起こるので好ましくない。 Each of the above steps can be performed using means known to those skilled in the art. For example, the mixing and stirring performed at the time of preparing the emulsion is not particularly limited. For example, a magnetic stirrer, a stirrer, a homogenizer, or the like can be selected as appropriate. The polymerization temperature is 0 to 25 ° C, preferably 20 ° C or less. If the polymerization temperature exceeds 25 ° C., side reactions occur, which is not preferable.
酸化重合反応が停止されると、反応系は有機相と水相の二相に分かれるが、この際に未反応のモノマー、酸化剤および塩は水相中に溶解して残存する。ここで有機相を分液回収し、イオン交換水で数回洗浄すると、有機溶媒に分散した導電性高分子微粒子を入手することができる。 When the oxidative polymerization reaction is stopped, the reaction system is divided into an organic phase and an aqueous phase. At this time, unreacted monomers, oxidizing agents and salts remain dissolved in the aqueous phase. When the organic phase is separated and recovered and washed several times with ion-exchanged water, conductive polymer fine particles dispersed in an organic solvent can be obtained.
上記の製造法により得られる導電性高分子微粒子は、主としてπ−共役二重結合を有するモノマー誘導体よりなり、そしてアニオン系界面活性剤を含む微粒子である。そしてその特徴は、微細な粒径と、有機溶媒中で分散可能であることである。 The conductive polymer fine particles obtained by the above production method are fine particles mainly composed of a monomer derivative having a π-conjugated double bond and containing an anionic surfactant. And the characteristic is that it can disperse | distribute in a fine particle size and an organic solvent.
ポリマー微粒子は球形の微粒子となるが、その平均粒径は、10〜100nmとするのが好ましい。 The polymer fine particles are spherical fine particles, and the average particle size is preferably 10 to 100 nm.
上記のように平均粒径の小さな微粒子にすることで、微粒子の表面積が極めて大きくなり、同一質量の微粒子でも、脱ドープ処理して還元性とした際に、より多くの触媒金属を吸着できるようになり、それにより塗膜層の薄膜化が可能となる。 By using fine particles with a small average particle size as described above, the surface area of the fine particles becomes extremely large, and even with fine particles of the same mass, more catalyst metal can be adsorbed when dedoped and reduced. Thus, the coating layer can be made thin.
こうして得られた有機溶媒に分散した導電性高分子微粒子は、そのままで、濃縮して、又は乾燥させて塗料の導電性高分子微粒子成分として使用することができる。 The conductive polymer fine particles dispersed in the organic solvent thus obtained can be used as the conductive polymer fine particle component of the coating as it is, after being concentrated or dried.
また、上記のようにして製造された導電性高分子微粒子でなくとも、例えば、市販で入手できる導電性高分子微粒子を塗料の成分として使用することもできる。 Further, for example, commercially available conductive polymer fine particles can be used as a component of the paint, instead of the conductive polymer fine particles produced as described above.
上記の導電性高分子微粒子とバインダーを含む塗料を基材上に塗布し、層の上側半分の中に導電性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する層を形成した後に、微粒子を還元性とするための脱ドープ処理を行うことにより、層の上側半分の中に60%以上の還元性高分子微粒子が存在する塗膜層を形成する。 After coating the above-mentioned coating material containing conductive polymer fine particles and a binder on a substrate and forming a layer in which 60% or more of the conductive polymer fine particles are present in the upper half of the layer, the fine particles are By performing a de-doping treatment for reducing, a coating layer in which 60% or more of the reducing polymer fine particles are present in the upper half of the layer is formed.
バインダーとしては、前記で例示したものと同様のものが挙げられ、その使用量は、導電性高分子微粒子1質量部に対して0.1質量部ないし10質量部である。バインダーが10質量部を超えると金属めっきが析出せず、バインダーが0.1質量部未満であると、基材への密着性が弱くなる。 Examples of the binder include the same ones as exemplified above, and the amount used is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 1 part by mass of the conductive polymer fine particles. When the binder exceeds 10 parts by mass, metal plating does not precipitate, and when the binder is less than 0.1 parts by mass, the adhesion to the substrate is weakened.
また、上記塗料は有機溶媒を含有する。使用する有機溶媒は、微粒子に損傷を与えず、微粒子を分散させうるものであれば特に限定はしないが、好ましくは、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。 Moreover, the said coating material contains an organic solvent. The organic solvent to be used is not particularly limited as long as it does not damage the fine particles and can disperse the fine particles. Preferred examples include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene.
更に、上記塗料は用途や塗布対象物等の必要に応じて、分散安定剤、増粘剤、インキバインダ等の樹脂を加えることも可能である。 Further, the coating material can be added with a resin such as a dispersion stabilizer, a thickening agent, an ink binder, or the like according to the application, application object, or the like.
上記で調製した塗料を基材上に塗布し、層の上側半分の中に導電性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する層を形成する。 The coating material prepared as described above is applied onto the base material to form a layer in which 60% or more of the conductive polymer fine particles are present in the upper half of the layer.
基材としては、前記で例示したものと同様のものが挙げられる。 Examples of the substrate include those similar to those exemplified above.
基材への塗布方法も前記で例示したものと同様のものが挙げられる。。 Examples of the application method to the substrate include the same ones as exemplified above. .
塗膜層の上側半分の中に還元性高分子微粒子のうち60%以上の粒子が存在する構成は、塗料の塗布後、緩和な条件で時間をかけて乾燥することにより達成される。 The constitution in which 60% or more of the reducing polymer fine particles are present in the upper half of the coating layer is achieved by drying over time under mild conditions after the coating is applied.
具体的な方法としては、例えば、30ないし60℃の低い温度で長時間かけて乾燥したり、30ないし60℃の低い温度から徐々に温度を上げて乾燥したり、30ないし60℃の低い温度とこれより高い温度(例えば、100ないし130℃)の2段階、又はそれ以上の異なった温度(例えば、30ないし60℃→65ないし90℃→100ないし130℃)で乾燥することにより達成することができる。 Specific methods include, for example, drying at a low temperature of 30 to 60 ° C. for a long time, drying by gradually increasing the temperature from a low temperature of 30 to 60 ° C., or a low temperature of 30 to 60 ° C. And higher temperatures (for example, 100 to 130 ° C.) or two or more different temperatures (for example, 30 to 60 ° C. → 65 to 90 ° C. → 100 to 130 ° C.). Can do.
2段階以上の異なった温度で乾燥する場合は、例えば、有機溶媒としてトルエンを使用した場合、40℃で10分間乾燥後、80℃で10分間乾燥し、その後120℃で10分間乾燥することにより塗膜層の上側半分の中に微粒子のうち60%以上の粒子が存在する構成とすることができる。 When drying at two or more different temperatures, for example, when toluene is used as the organic solvent, it is dried at 40 ° C. for 10 minutes, then dried at 80 ° C. for 10 minutes, and then dried at 120 ° C. for 10 minutes. A configuration in which 60% or more of the fine particles are present in the upper half of the coating layer can be employed.
また、別の方法としては、基材上にプライマーを塗布後、そのプライマーが50〜90%硬化したタイミングで還元性高分子とバインダーとからなる塗料を塗布し、乾燥させることにより塗膜層の上側半分の中に微粒子のうち60%以上の粒子が存在する構成とすることができる。なお、この方法を採用すると、未硬化状態のプライマーと還元性高分子とバインダーとからなる塗料とが混合されるため、硬化時にプライマーと該塗料とが混ざった中間層が存在するが、本発明ではこの中間層を還元性高分子とバインダーとからなる塗膜層として定義し、プライマー層とは100%バインダーからなる層として定義する。 As another method, after a primer is applied on the substrate, a coating composed of a reducing polymer and a binder is applied at a timing when the primer is cured by 50 to 90%, and dried to form a coating layer. A configuration in which 60% or more of the fine particles are present in the upper half can be employed. When this method is employed, an uncured primer, a reducing polymer, and a paint composed of a binder are mixed, so that there is an intermediate layer in which the primer and the paint are mixed during curing. Then, this intermediate layer is defined as a coating layer composed of a reducing polymer and a binder, and the primer layer is defined as a layer composed of 100% binder.
塗膜層の厚さは、基材の形状がフィルムの場合、20ないし500nmとなるようにするのが好ましい。厚さが20nm未満であると金属が析出せずめっき膜が形成されない場合がり、厚さが500nmを超えると塗膜強度が低下する場合がある。 The thickness of the coating layer is preferably 20 to 500 nm when the shape of the substrate is a film. If the thickness is less than 20 nm, the metal may not precipitate and a plating film may not be formed. If the thickness exceeds 500 nm, the coating strength may decrease.
塗膜層の厚さは、基材の形状が樹脂成形品の場合、100nmないし50μmとなるようにするのが好ましい。厚さが100nm未満であると金属が析出せずめっき膜が形成されない場合がり、厚さが50μmを超えると塗膜強度が低下する場合がある。 The thickness of the coating layer is preferably 100 nm to 50 μm when the shape of the substrate is a resin molded product. If the thickness is less than 100 nm, the metal may not precipitate and a plating film may not be formed. If the thickness exceeds 50 μm, the coating strength may decrease.
前記の導電性高分子微粒子を用いて形成された層は、微粒子を還元性とするために脱ドープ処理が行われる。 The layer formed using the conductive polymer fine particles is subjected to dedoping treatment in order to make the fine particles reducible.
脱ドープ処理としては、還元剤、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム等の水素化ホウ素化合物、ジメチルアミンボラン、ジエチルアミンボラン、トリメチルアミンボラン、トリエチルアミンボラン等のアルキルアミンボラン、及び、ヒドラジン等を含む溶液で処理して還元する方法、又は、アルカリ性溶液で処理する方法が挙げられる。 As the dedoping treatment, a reducing agent, for example, a borohydride compound such as sodium borohydride or potassium borohydride, an alkylamine borane such as dimethylamine borane, diethylamine borane, trimethylamine borane, triethylamine borane, hydrazine, etc. The method of processing and reducing with the solution to contain, or the method of processing with an alkaline solution is mentioned.
操作性及び経済性の観点からアルカリ性溶液で処理するのが好ましい。 It is preferable to treat with an alkaline solution from the viewpoint of operability and economy.
例えば、1M 水酸化ナトリウム水溶液中で、20ないし50℃、好ましくは30ないし40℃の温度で、1ないし30分間、好ましくは3ないし10分間処理される。 For example, it is treated in a 1M aqueous sodium hydroxide solution at a temperature of 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C., for 1 to 30 minutes, preferably 3 to 10 minutes.
上記の脱ドープ処理により微粒子が還元性とされた塗膜層の表面上に吸着できる触媒金属の量は0.1μg/cm2以上となるようにする。 The amount of the catalytic metal that can be adsorbed on the surface of the coating layer in which the fine particles are made reducible by the dedoping treatment is set to 0.1 μg / cm 2 or more.
上記吸着量が0.1μg/cm2未満であると、均一な金属めっき膜を得ることができないか又は金属が析出せずめっき膜が形成されない。 If the adsorption amount is less than 0.1 μg / cm 2 , a uniform metal plating film cannot be obtained, or no metal is deposited and a plating film is not formed.
上記のようにして製造された、塗膜層が形成された基材を無電解めっき法によりめっき物とするが、該無電解めっき法は、通常知られた方法に従って行うことができる。 Although the base material with the coating film layer formed as described above is made into a plated product by an electroless plating method, the electroless plating method can be performed according to a generally known method.
即ち、前記基材を塩化パラジウム等の触媒金属を付着させるための触媒液に浸漬した後、水洗等を行い、無電解めっき浴に浸漬することによりめっき物を得ることができる。 That is, after the substrate is immersed in a catalyst solution for attaching a catalytic metal such as palladium chloride, the substrate is washed with water and immersed in an electroless plating bath to obtain a plated product.
触媒液は、無電解めっきに対する触媒活性を有する貴金属(触媒金属)を含む溶液であり、触媒金属としては、パラジウム、金、白金、ロジウム等が挙げられ、これら金属は単体でも化合物でもよく、触媒金属を含む安定性の点からパラジウム化合物が好ましく、その中でも塩化パラジウムが特に好ましい。 The catalyst solution is a solution containing a noble metal (catalyst metal) having catalytic activity for electroless plating. Examples of the catalyst metal include palladium, gold, platinum, rhodium, etc. These metals may be simple substances or compounds. A palladium compound is preferable from the viewpoint of stability including a metal, and palladium chloride is particularly preferable among them.
好ましい、具体的な触媒液としては、0.02%塩化パラジウム−0.01%塩酸水溶液(pH3)が挙げられる。 A preferred specific catalyst solution includes 0.02% palladium chloride-0.01% hydrochloric acid aqueous solution (pH 3).
処理温度は、20ないし50℃、好ましくは30ないし40℃であり、処理時間は、0.1ないし20分、好ましくは、1ないし10分である。 The treatment temperature is 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C., and the treatment time is 0.1 to 20 minutes, preferably 1 to 10 minutes.
上記で処理された基材は、金属を析出させるためのめっき液に浸され、これにより無電解めっき膜が形成される。 The base material treated as described above is immersed in a plating solution for depositing metal, thereby forming an electroless plating film.
めっき液としては、通常、無電解めっきに使用されるめっき液であれば、特に限定されない。 The plating solution is not particularly limited as long as it is a plating solution usually used for electroless plating.
即ち、無電解めっきに使用できる金属、銅、金、銀、ニッケル、クロム等、全て適用することができるが、銅が好ましい。 That is, metal, copper, gold, silver, nickel, chromium, etc. that can be used for electroless plating can all be applied, but copper is preferred.
無電解銅めっき浴の具体例としては、例えば、ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)等が挙げられる。 Specific examples of the electroless copper plating bath include, for example, an ATS add copper IW bath (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.).
処理温度は、20ないし50℃、好ましくは30ないし40℃であり、処理時間は、1ないし30分、好ましくは、5ないし15分である。 The treatment temperature is 20 to 50 ° C., preferably 30 to 40 ° C., and the treatment time is 1 to 30 minutes, preferably 5 to 15 minutes.
次に、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to an Example.
製造例1:還元性ポリピロール微粒子を含む塗料(塗料1〜7)の調製
アニオン性界面活性剤ペレックスOT−P(花王株式会社製)0.42mmol、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系ノニオン界面活性剤エマルゲン409P(花王株式会社製)2.1mmol、トルエン50mL、イオン交換水100mLを加えて20℃に保持しつつ乳化するまで撹拌した。得られた乳化液にピロールモノマー21.2mmolを加え、1時間撹拌し、次いで過硫酸アンモニウム6mmolを加えて2時間重合反応を行った。反応終了後、有機相を回収し、イオン交換水で数回洗浄して、トルエンに分散した還元性能を有する還元性ポリピロール微粒子を得た。
Production Example 1: Preparation of Paint (Paints 1-7) Containing Reducing Polypyrrole Fine Particles 0.42 mmol Anionic Surfactant Perex OT-P (Kao Corporation), Polyoxyethylene Alkyl Ether Nonionic Surfactant Emulgen 409P (Kao Co., Ltd.) 2.1mmol, toluene 50mL, and ion-exchange water 100mL were added, and it stirred until it emulsified, hold | maintaining at 20 degreeC. To the obtained emulsion, 21.2 mmol of pyrrole monomer was added and stirred for 1 hour, and then 6 mmol of ammonium persulfate was added to conduct a polymerization reaction for 2 hours. After completion of the reaction, the organic phase was recovered and washed several times with ion-exchanged water to obtain reducing polypyrrole fine particles having reducing performance dispersed in toluene.
上記で得られたトルエン分散液中の還元性ポリピロール微粒子の固形分は、約1.3%であったが、ここに、バインダーA、Bを種々の質量部で加えて表1に示す還元性ポリピロール微粒子を含む塗料を調製した。 The solid content of the reducing polypyrrole fine particles in the toluene dispersion obtained above was about 1.3%, but the reducing properties shown in Table 1 were obtained by adding binders A and B in various parts by mass. A paint containing polypyrrole fine particles was prepared.
ここで、表1中のバインダーA、Bは以下のものを意味し、また、バインダーの使用量は、還元性ポリピロール微粒子1質量部に対する使用したバインダーの質量部数を示す。
A:スーパーベッカミンJ-820:メラミン系樹脂(大日本インキ化学工業(株)社製)
B:バイロン240:ポリエステル系樹脂(東洋紡績(株)社製)
C:テクノダインAH7052:エポキシ系樹脂(田岡化学工業(株)社製)
Here, the binders A and B in Table 1 mean the following, and the amount of the binder used indicates the number of parts of the binder used with respect to 1 part by mass of the reducing polypyrrole fine particles.
A: Super Becamine J-820: Melamine resin (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
B: Byron 240: Polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd.)
C: Technodyne AH7052: Epoxy resin (manufactured by Taoka Chemical Co., Ltd.)
製造例2:導電性ポリピロール微粒子を含む塗料(塗料8)の調製
アニオン性界面活性剤ペレックスOT−P(花王株式会社製)1.5mmol、トルエン50mL、イオン交換水100mLを加えて20℃に保持しつつ乳化するまで撹拌した。得られた乳化液にピロールモノマー21.2mmolを加え、1時間撹拌し、次いで過硫酸アンモニウム6mmolを加えて2時間重合反応を行った。反応終了後、有機相を回収し、イオン交換水で数回洗浄して、トルエンに分散した還元性能を有する還元性高分子微粒子を得た。ここで得られたトルエン分散液中の導電性ポリピロール微粒子の固形分は、約1.2%であったが、ここに、バインダーとしてスーパーベッカミンJ-820(大日本インキ化学工業(株)社製)を導電性ポリピロール微粒子1質量部に対して1質量部加えて塗料8とした。
Production Example 2: Preparation of paint containing conductive polypyrrole fine particles (paint 8) 1.5 mmol of anionic surfactant Perex OT-P (manufactured by Kao Corporation), 50 mL of toluene, and 100 mL of ion-exchanged water are added and kept at 20 ° C. And stirred until emulsified. To the obtained emulsion, 21.2 mmol of pyrrole monomer was added and stirred for 1 hour, and then 6 mmol of ammonium persulfate was added to conduct a polymerization reaction for 2 hours. After completion of the reaction, the organic phase was recovered and washed several times with ion-exchanged water to obtain reducing polymer fine particles having a reducing performance dispersed in toluene. The solid content of the conductive polypyrrole fine particles in the toluene dispersion obtained here was about 1.2%. Superbeccamin J-820 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) was used as a binder here. 1 part by mass with respect to 1 part by mass of the conductive polypyrrole fine particles to obtain paint 8.
製造例3:還元性ポリアニリン微粒子を含む塗料(塗料9)の調製
アニオン性界面活性剤ペレックスOT−P(花王株式会社製)0.42mmol、ソルビタン脂肪酸エステル系ノニオン界面活性剤レオドールSP−O30V(花王株式会社製)0.424mmolとポリオキシエチレンソルビダン脂肪酸エステル2.12mmol(花王株式会社製)、トルエン50mL、イオン交換水100mLを加えて20℃に保持しつつ乳化するまで撹拌した。得られた乳化液にアニリンモノマー21.2mmolを加え、1時間撹拌し、次いで過硫酸アンモニウム4mmolを加えて2時間重合反応を行った。反応終了後、有機相を回収し、イオン交換水で数回洗浄して、トルエンに分散した還元性能を有する還元性ポリアニリン微粒子を得た。ここで得られたトルエン分散液中の還元性ポリアニリン微粒子の固形分は、約1.4%であったが、ここに、バインダーとしてスーパーベッカミンJ-820(大日本インキ化学工業(株)社製)を還元性ポリアニリン微粒子1質量部に対して1質量部加えて塗料9とした。
Production Example 3: Preparation of Paint (Paint 9) Containing Reducing Polyaniline Fine Particles Anionic Surfactant Perex OT-P (manufactured by Kao Corporation) 0.42 mmol, Sorbitan Fatty Acid Ester Nonionic Surfactant Rheodor SP-O30V (Kao) 0.424mmol, polyoxyethylene sorbidan fatty acid ester 2.12mmol (manufactured by Kao Corporation), toluene 50mL, and ion-exchanged water 100mL were added and stirred until emulsified while maintaining at 20 ° C. To the obtained emulsion, 21.2 mmol of aniline monomer was added and stirred for 1 hour, and then 4 mmol of ammonium persulfate was added to conduct a polymerization reaction for 2 hours. After completion of the reaction, the organic phase was recovered and washed several times with ion-exchanged water to obtain reducing polyaniline fine particles having reducing performance dispersed in toluene. The solid content of the reducing polyaniline fine particles in the toluene dispersion obtained here was about 1.4%. Superbeccamin J-820 (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) was used as a binder here. 1 part by mass with respect to 1 part by mass of the reducing polyaniline fine particles to obtain paint 9.
製造例4:基材として軟質フィルムCを用い、該基材上にプライマー層を形成
該基材上にプライマーとしてスーパーベッカミンJ-820(大日本インキ化学工業(株)社製)をコーティングし、120℃で10分間乾燥させて厚みが100nmのプライマー層が形成された軟質フィルムを製造した。
Production Example 4: Using a soft film C as a base material, a primer layer is formed on the base material. Super Becamine J-820 (manufactured by Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) is coated as a primer on the base material. The film was dried at 120 ° C. for 10 minutes to produce a flexible film having a 100 nm thick primer layer.
製造例5:基材として軟質フィルムDを用い、該基材上にプライマー層を形成
該基材上にプライマーとしてバイロン240:ポリエステル系樹脂(東洋紡績(株)社製)をコーティングし、120℃で10分間乾燥させて厚みが100nmのプライマー層が形成された軟質フィルムを製造した。
Production Example 5: Using soft film D as a base material and forming a primer layer on the base material Byron 240: Polyester resin (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) as a primer is coated on the base material, and 120 ° C. Was dried for 10 minutes to produce a flexible film having a 100 nm thick primer layer.
製造例6:基材として軟質フィルムEを用い、該基材上にプライマー層を形成
該基材上にプライマーとしてエポキシ系樹脂(東亞合成(株)製、アロンマイティAS−60)をコーティングし、120℃で10分間乾燥させて厚みが100nmのプライマー層が形成された軟質フィルムを製造した。
Production Example 6: Using a flexible film E as a base material, forming a primer layer on the base material, coating an epoxy resin (Aronmite AS-60, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) as a primer on the base material, A soft film in which a primer layer having a thickness of 100 nm was formed by drying at 120 ° C. for 10 minutes was produced.
製造例7:基材として樹脂成形品Fを用い、該基材上にプライマー層を形成
該基材上にプライマーとしてエポキシ系樹脂(田岡化学工業(株)製、テクノダインAH7052)を含有する液相にディッピングし、150℃で30分間乾燥させて厚みが5μmのプライマー層が形成された樹脂成形品を製造した。
Production Example 7: Using resin molded product F as a base material, forming a primer layer on the base material A liquid containing an epoxy resin (manufactured by Taoka Chemical Industries, Ltd., Technodyne AH7052) as a primer on the base material A resin molded article having a primer layer having a thickness of 5 μm was produced by dipping into a phase and drying at 150 ° C. for 30 minutes.
製造例8:プライマー層が形成された軟質フィルムC,D,E上に塗膜層を形成
該プライマー層上に上記で調製した塗料1ないし9をコーティングして表2に示すように、種々の膜厚を有する塗膜層が形成された軟質フィルムを製造した。
Production Example 8: Coating layer is formed on soft films C, D, E on which primer layer is formed. Coating material 1 to 9 prepared above is coated on the primer layer, and as shown in Table 2, various coating layers are formed. A soft film having a coating layer having a film thickness was produced.
製造例9:プライマー層が形成された樹脂成形品F上に塗膜層を形成
該プライマー層上に上記で調製した塗料5を含有する液相にディッピングして表2に示すように、膜厚5μmの塗膜層が形成された樹脂成形品を製造した。
Production Example 9: Coating layer is formed on resin molded product F on which a primer layer is formed. As shown in Table 2, the primer layer is dipped into a liquid phase containing the coating material 5 prepared as described above. A resin molded product having a 5 μm coating layer was produced.
尚、表2中の塗膜1ないし7及び10ないし14においては、塗料のコーティング後、40℃で10分間乾燥した後に80℃で10分間乾燥し、その後120℃で10分間乾燥して、塗膜層の上側半分の中に存在する微粒子を60%以上とし、塗膜9においても同様の操作を行い、導電性高分子微粒子層の上側半分の中に存在する微粒子を60%以上とした。また、塗膜8においては、ディッピング後、40℃で10分間乾燥した後に80℃で10分間乾燥し、その後120℃で10分間乾燥して、塗膜層の上側半分の中に存在する微粒子を60%以上とした。 For coating films 1 to 7 and 10 to 14 in Table 2, after coating the paint, it was dried at 40 ° C. for 10 minutes, then dried at 80 ° C. for 10 minutes, and then dried at 120 ° C. for 10 minutes. The fine particles present in the upper half of the film layer were 60% or more, and the same operation was performed on the coating film 9 so that the fine particles present in the upper half of the conductive polymer fine particle layer were 60% or more. Further, in the coating film 8, after dipping, drying at 40 ° C. for 10 minutes, then drying at 80 ° C. for 10 minutes, and then drying at 120 ° C. for 10 minutes to remove fine particles present in the upper half of the coating film layer. 60% or more.
また、表2中の塗膜15及び16においては、塗料のコーティング後、120℃で5分間乾燥して、微粒子が均一に分散した塗膜層とした。 Moreover, in the coating films 15 and 16 in Table 2, after coating with a paint, the coating film layer was dried at 120 ° C. for 5 minutes to form a coating film layer in which fine particles were uniformly dispersed.
表中の基材C,D,Eは以下のものを意味する。
C:軟質フィルム PET、 商品名 コスモシャインA4100、東洋紡績(株)社製
D:軟質フィルム PP、 商品名 OP U−0、東セロ(株)社製
E:軟質フィルム LCP、 商品名 VecstarFA、クラレ(株)社製
F:樹脂成形品 PEEK、商品名 VESTAKEEP4000CF30、EVONIK(株)社製
The base materials C, D, and E in the table mean the following.
C: Soft film PET, trade name Cosmo Shine A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd. D: Soft film PP, trade name OP U-0, manufactured by Tosero Co., Ltd. E: Soft film LCP, trade name VecstarFA, Kuraray ( Co., Ltd. F: resin molded product PEEK, trade name VESTAKEEP4000CF30, EVONIK Co., Ltd.
製造例9:化学的無電解めっき法によるめっき物の製造
上記で製造した塗膜層が形成されたフィルム(塗膜1ないし7及び9ないし16)及び成形品(塗膜8)を、0.02%塩化パラジウム−0.01%塩酸水溶液中に35℃で5分間浸漬後、水道水で水洗した。次に、該フィルムを無電解銅めっき浴 ATSアドカッパーIW浴(奥野製薬工業(株)社製)に浸漬して、35℃で10分間浸漬し銅めっきを施した。尚、塗膜9は、1M 水酸化ナトリウム水溶液中に35℃で5分間浸漬して、表面処理を行って塗膜層とした後に同様の操作を行った。塗膜1ないし14から製造しためっき物をそれぞれ実施例1ないし14とし、塗膜15ないし16から製造しためっき物をそれぞれ比較例1ないし2とした。
Production Example 9: Production of plated product by chemical electroless plating method A film (coating films 1 to 7 and 9 to 16) and a molded article (coating film 8) on which the coating layer produced above was formed were prepared in the following manner. After being immersed in a 02% palladium chloride-0.01% hydrochloric acid aqueous solution at 35 ° C. for 5 minutes, it was washed with tap water. Next, the film was dipped in an electroless copper plating bath ATS Adcopper IW bath (Okuno Pharmaceutical Co., Ltd.), and dipped at 35 ° C. for 10 minutes for copper plating. The coating film 9 was immersed in a 1M aqueous sodium hydroxide solution at 35 ° C. for 5 minutes, surface-treated to form a coating film layer, and then the same operation was performed. The plated products produced from the coating films 1 to 14 were designated as Examples 1 to 14, respectively, and the plated products produced from the coating films 15 to 16 were designated as Comparative Examples 1 and 2, respectively.
尚、実施例1ないし14のめっき物の断面図を透過型電子顕微鏡(日本電子(株)社製:JEM−1200 EXM)で撮影した写真を模式化したものを図1に示し、比較例5,6のめっき物の断面図を透過型電子顕微鏡(日本電子(株)社製:JEM−1200 EXM)で撮影した写真を模式化したものを図2に示した。 A schematic photograph of a cross-sectional view of the plated products of Examples 1 to 14 taken with a transmission electron microscope (manufactured by JEOL Ltd .: JEM-1200 EXM) is shown in FIG. FIG. 2 shows a schematic photograph of a cross-sectional view of the plated product of No. 1 and 6 taken with a transmission electron microscope (manufactured by JEOL Ltd .: JEM-1200 EXM).
試験例1
上記で製造した実施例1ないし14及び比較例1ないし2のめっき物において、各種の評価試験を行いその結果を表3に纏めた。尚、評価試験項目及びその評価方法・評価基準は以下の通りである。
Test example 1
Various evaluation tests were performed on the plated products of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 and 2 manufactured above, and the results are summarized in Table 3. The evaluation test items, evaluation methods and evaluation criteria are as follows.
・めっき外観
めっき皮膜の状態を目視で観察し、基材露出面積を測定した。評価基準は以下の通りとした。
○:完全に被覆され、基材露出なし
△:50%程度基材の露出あり
×:100%基材露出
-Plating appearance The state of the plating film was observed visually, and the substrate exposed area was measured. The evaluation criteria were as follows.
○: Completely coated, no substrate exposure Δ: About 50% substrate exposure ×: 100% substrate exposure
・めっき膜厚
めっき面の3点を、電解式膜厚計CT−1((株)電測社製)で測定し、平均値を膜厚とした。
-Plating film thickness Three points on the plating surface were measured with an electrolytic film thickness meter CT-1 (manufactured by Denso Co., Ltd.), and the average value was defined as the film thickness.
・テープ試験
JIS H8504テープ試験方法に準じて、カッターで2mm角の条こんを100個した後にテープによる引き剥がし試験を実施した。評価基準は以下の通りとした。
○:剥離なし
△:50%程度剥離有り
×:90%以上剥離
-Tape test According to the JIS H8504 tape test method, 100 pieces of 2 mm square strips were made with a cutter, and then a peeling test with a tape was performed. The evaluation criteria were as follows.
○: No peeling Δ: About 50% peeling ×: 90% or more peeling
・ピール強度
JIS C6471に準じて測定を実施した。
-Peel strength Measurement was performed according to JIS C6471.
・還元性微粒子存在比
塗膜をウルトラミクロトーム(ライカ(株)社製:ウルトラカットS)を用いて60nmの幅に切断し、透過型電子顕微鏡(日本電子(株)社製:JEM−1200 EXM)で断面部を撮影した画像から粒子部とバインダー部の面積比率から求めた。なお、10個のサンプルを作成し、同様に測定した後に平均値を算出した値を用いた。
-Reducing fine particle abundance ratio The coating film was cut into a width of 60 nm using an ultramicrotome (manufactured by Leica Co., Ltd .: Ultracut S), and a transmission electron microscope (manufactured by JEOL Ltd .: JEM-1200 EXM). ) From the area ratio of the particle part and the binder part. In addition, the value which calculated the average value after creating 10 samples and measuring it similarly was used.
1:基材フィルム
2:プライマー層
3:塗膜層
4:金属めっき膜
5:還元性高分子微粒子
1: Base film 2: Primer layer 3: Coating layer 4: Metal plating film 5: Reducing polymeric fine particles
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