JP2010030954A - 処理粉体および乳化組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、水に対する分散性が良好であり、かつ油分の乳化性を有する処理粉体および当該処理粉体の製造方法および当該処理粉体を配合してなる乳化組成物、および安定性に優れ使用感触が良好な化粧料を得ることを課題とする。
【解決手段】分子中に少なくとも一つのSi−H基と少なくとも一つのポリオキシアルキレン基および/またはポリグリセリル基を有するポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンで粉体の表面を処理した表面処理粉体を用いることによって課題を解決した。
【選択図】なし
【解決手段】分子中に少なくとも一つのSi−H基と少なくとも一つのポリオキシアルキレン基および/またはポリグリセリル基を有するポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンで粉体の表面を処理した表面処理粉体を用いることによって課題を解決した。
【選択図】なし
Description
本発明は、粉体表面を特定のシリコーンで被覆した処理粉体および当該粉体の製造方法および当該処理粉体を配合してなる化粧料に関し、さらに詳しくは、分子中に少なくとも一つのSi−H基と少なくとも一つのポリオキシアルキレン基および/またはポリグリセリル基を有するポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンで粉体の表面を処理することにより得られる、水に対する分散性が良好であり、かつ油分の乳化性を有する処理粉体および当該処理粉体の製造方法および当該処理粉体を配合してなる乳化組成物、および安定性に優れ使用感触が良好な化粧料に関する。
化粧料には粉体を配合した乳化製品としては乳化ファンデーション、乳化口紅や日焼け止め化粧品などがあり、これらは皮膚を保湿することを目的としたり、使用感触を水分によりさっぱり感やしっとり感を付与する目的で用いられる。これらの乳化ファンデーションは顔料粉体の他に各種の乳化剤が配合されて製造される(特許文献1および2参照)。また、乳化口紅も各種乳化剤を用いて製造される(特許文献3および4参照)。これらの製品は乳化剤を使用することによる安全性の問題や使用感触の問題を有している。
このような問題を解決する目的で処理粉体を用いて乳化する乳化組成物の特許が開示されている(特許文献5参照)。この特許はSi−H基を有するシリコーンポリマーで粉体を被覆した後、溶媒を用いてSi−H基にアルコール性水酸基またはポリオキシアルキレン基を有する不飽和化合物を付加反応して粉体の表面処理を行っている。しかし、この方法では付加反応に溶媒を使用する湿式工程を採用しているために設備および工程が複雑であり、溶媒を用いた湿式反応をしているために、反応後に粉体が凝集してしまうおそれがあるために粉砕する工程が必要になるという問題点を有している。
本発明は、水に対する分散性が良好であり、かつ油分の乳化性を有する処理粉体および当該処理粉体の製造方法および当該処理粉体を配合してなる安定性に優れる乳化組成物、および安定性に優れ使用感触が良好な化粧料に関するものである。
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、分子中に少なくとも一つのSi−H基と少なくとも一つのポリオキシアルキレン基および/またはポリグリセリル基を有するポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンで粉体の表面を処理することによって、水に対する分散性が良好であり、かつ油分の乳化性を有する処理粉体を得ることが出来ることを見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、無機粉体および有機粉体より選ばれる粉体の1種または2種以上を、分子中に少なくとも一つのSi−H基と少なくとも一つのポリオキシアルキレン基および/またはポリグリセリル基を有するポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンで表面処理することを特徴とする処理粉体であって、ポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンまたはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンが、一般式(A)で表される化合物であることを特徴とする処理粉体である。
(式中、R1はメチル基またはフェニル基を示し、互いに同一でも異なっていても良い、R2はメチル基、フェニル基、水素、水酸基、一般式(B)または一般式(C)で示されるポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基であり、少なくとも一つは一般式(C)で示されるポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基であり、s,t,uは平均数を表し、sは1〜100、tは0〜100、uは0〜50の数である。)
(式中、R3は水素、メチル、エチル、プロピルまたはブチル基を示し、R4は直鎖または分岐を有するアルキレン基を示し、aは2〜4の整数を表し、mおよびnは平均数でありm=1〜200、n=1〜50の数である。)
および、無機粉体および有機粉体より選ばれる粉体の1種または2種以上の100重量部に対して、一般式(A)で示すポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンの1〜20重量部を撹拌混合し、50〜200℃で加熱焼付けをする処理粉体の製造方法、および当該処理粉体を配合してなることを特徴とする乳化組成物および化粧料に関する。
および、無機粉体および有機粉体より選ばれる粉体の1種または2種以上の100重量部に対して、一般式(A)で示すポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンの1〜20重量部を撹拌混合し、50〜200℃で加熱焼付けをする処理粉体の製造方法、および当該処理粉体を配合してなることを特徴とする乳化組成物および化粧料に関する。
本発明により、粉体表面にポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンが結合した水に対する分散性が良好であり、かつ油分の乳化性を有する処理粉体を得ることができる。そして、その処理粉体を配合することによって安定性に優れる乳化組成物、および安定性に優れ使用感触が良好な化粧料を得ることができる。
以下本発明について詳述する。
本発明に用いられる粉体は、特に制限されるものではないが、化粧料に一般的に使用される粉体であり、有機顔料、無機顔料、金属酸化物および金属水酸化物、雲母、パール光沢粉体、金属、カーボン、磁性粉体、ケイ酸塩鉱物、多孔質材料等が例示的に挙げられる。これらの粉体は1種類でも複数を組み合わせて用いてもよい。
本発明に用いられる粉体は、特に制限されるものではないが、化粧料に一般的に使用される粉体であり、有機顔料、無機顔料、金属酸化物および金属水酸化物、雲母、パール光沢粉体、金属、カーボン、磁性粉体、ケイ酸塩鉱物、多孔質材料等が例示的に挙げられる。これらの粉体は1種類でも複数を組み合わせて用いてもよい。
例示すると、ケイ素、無水ケイ酸、ケイ酸マグネシウム、タルク、カオリン、白雲母、金雲母、黒雲母、絹雲母、鉄雲母、リチア雲母、チンワルド雲母、ソーダ雲母、人工雲母、ベントナイト、雲母チタン、オキシ塩化ビスマス、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、微粒子酸化チタン、酸化アルミニウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、赤色酸化鉄、黄色酸化鉄、黒色酸化鉄、群青、紺青、酸化クロム、水酸化クロム、カーミン、カーボンブラック、およびこれらの複合体等の無機粉体、ナイロン粉末等のポリアミド粉末、ポリエチレン粉末等のポリオレフィン粉末、ポリエステル粉末、ポリスチレン粉末、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリレート粉末、シリコーン樹脂粉末、シリコーンゴム粉末、テフロン(登録商標)粉末等のフッ素樹脂粉末、ジビニルベンゼン、スチレン共重合体粉末、ポリウレタン粉末、ポリエポキシ粉末、セルロイド、アセチルセルロース、セルロース、キチン、キトサン、多糖類粉末、たんぱく質粉末、CIピグメントイエロー、CIピグメントオレンジ、CIピグメントレッド、CIピグメントバイオレッド、CIピグメントブルー、CIピグメントグリーン、CIピグメントブラウン等の有機粉体、および無機粉体と有機粉体の複合粉体などである。また、これらの粉体の形状は特に限定されず、板状、塊状、鱗片状、球状などどんな物でも良い。また孔のあいているもの、あいていないものどちらも用いることが出来る。
本発明のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよびポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンは分子中に少なくとも一つのSi−H基と少なくとも一つのポリオキシアルキレン基またはポリグリセリル基を有するものであり、一般式(A)で表される化合物である。
(式中、R1はメチル基またはフェニル基を示し、互いに同一でも異なっていても良い、R2はメチル基、フェニル基、水素、水酸基、一般式(B)または一般式(C)で示されるポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基であり、少なくとも一つは一般式(C)で示されるポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基であり、s,t,uは平均数を表し、sは1〜100、tは0〜100、uは0〜50の数である。)
(式中、R3は水素、メチル、エチル、プロピルまたはブチル基を示し、R4は直鎖または分岐を有するアルキレン基を示し、aは2〜4の整数を表し、mおよびnは平均数でありm=1〜200、n=1〜50の数である。)
R2で示される一般式(B)または一般式(C)で示されるポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基を例示すると、ポリオキシエチレン基、ポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレン共重合基、ポリオキシエチレン−ポリオキシブチレン共重合基、モノグリセリル基、ジグリセリル基、テトラグリセリル基、デカグリセリル基などをあげることができる。また、sおよびtおよびuは平均数を表し、s=1〜100、t=0〜100、u=0〜50の数である。sは分子中のSi−H基の数と関係があり粉体処理を行った場合のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよびポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンの架橋重合度に関係する。sが小さくSi−H基が少ないと架橋度は低く逆にsが大きくSi−H基が多いと架橋度は高くなり、処理粉体の処理状態として求められる物性によって1〜100の範囲で選択される。また、tは分子中のポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基の数と関係があり、tが大きくポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基の重合度が高いと水に対する分散性は高くなり、界面特性としては親水性が高くなる。逆にtが小さくポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基の重合度が低いと水に対する分散性は低くなり、界面特性としては親油性が高くなる。ポリオキシアルキレン基またはポリグリセリン基の重合度とtの数の組み合わせによって処理粉体の界面特性が異なることとなり、親水性が高いとこの処理粉体で乳化した乳化組成物はO/W乳化となりやすく、親油性が高いとW/O乳化となりやすい。求める物性との関係でtは0〜100の範囲で選択される。uはジメチルポリシロキサン鎖またはジフェニルポリシロキサン鎖の長さと関係し、シリコーンとしての性質を高くするためにはuを大きくするなど、求める物性との関係でuは0〜50の範囲で選択される。
これらのポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよびポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンは、通常のシリコーンを作る方法で得ることができるが、一例を挙げると、市販のメチルハイドロジェンポリシロキサンである信越化学工業株式会社のKF99PまたはKF9901や東レダウコーニング株式会社のSH1107Cなどを用い、それとPOE(3)アリルエーテルや末端ブチルエーテル化POE(10)アリルエーテル、POE(5)POP(5)アリルエーテル、モノグリセリルアリルエーテル、ジグリセリルアリルエーテル、テトラグリセリルアリルエーテル、デカグリセリルアリルエーテルとをヒドロシリル化反応によって、メチルハイドロジェンポリシロキサンのSi−H基の一部を残す当量比で反応することによって合成することができる。反応は無溶媒でもトルエンやイソプロピルアルコールなど通常ヒドロシリル化反応に用いられる溶媒を用いても良い。触媒としては塩化白金酸など一般にヒドロシリル化反応に用いられるものを用いることが出来る。
これらのポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンまたはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンの粉体への処理量は、使用する粉体の粒子径や所望する被覆面積等により決定されるが、通常、粉体に対して0.1質量%〜20質量%である。0.1質量%より処理量が低いと十分な乳化性を得ることが難しく、また処理量が20質量%を超えると粉体表面にシリコーンによるゲル体が発生しやすくなり化粧料に配合したときに使用感が悪くなってしまう。
また、これらのポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンまたはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンによる粉体の処理工程については、特に制限は無いが、例えば原料粉体にポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンまたはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンをそのまま、あるいは適当な溶媒(例えばメタノール、エタノール、クロロホルム、ジクロロメタン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、揮発性シリコーン等)に希釈して噴霧あるいは滴下によって添加し均一に混合分散した後に、室温または加熱乾燥をして、その後加熱によって焼付け処理をしてもいいしボールミル等を用いる混合撹拌によって反応を行うメカノケミカル法によってもよい。また、このときポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンまたはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンの反応促進剤としてアルカリ性物質や各種の金属の有機酸塩や酸性物質を用いてもよい。
特に、処理粉末の製造方法としては、 無機粉体および有機粉体より選ばれる粉体の1種または2種以上の100重量部に対して、一般式(A)で示すポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンまたはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンの1〜20重量部をそのまま無溶媒で、あるいは適当な溶媒(例えばメタノール、エタノール、クロロホルム、ジクロロメタン、ヘキサン、ヘプタン、石油エーテル、揮発性シリコーン等)に希釈して噴霧あるいは滴下によって添加し均一に撹拌混合し、50〜200℃で加熱焼付けをする製造方法が好ましく、特に100〜180℃で焼付けすることがより好ましい。
本発明の処理粉体は、その表面にシリコーンが高い密度で安定に付加されているので、化粧料の水や油分に分散させたときに粉体同士の接近が阻害されることにより、分散安定性が高く、化粧料中に電解質が添加されてもその分散は安定である。
本発明における、処理粉体の化粧料への配合量は、その製品の用途や剤型によって異なるが0.1〜99.9質量%が好ましく、より好ましくは1〜90質量%である。
本発明における、処理粉体の化粧料への配合量は、その製品の用途や剤型によって異なるが0.1〜99.9質量%が好ましく、より好ましくは1〜90質量%である。
本発明の化粧料には、本発明の効果を損なわない範囲で、前記処理粉体の他、通常化粧品に配合される水性成分、粉体、界面活性剤、油分、保湿剤、アルコール類、増粘剤、皮膜剤、pH調整剤、防腐剤、色材、酸化防止剤、紫外線吸収剤、香料、薬剤等を必要に応じて適宜配合することができる。
本発明の化粧料としては、例えば乳液、クリーム、美容液、クレンジング、パック、洗浄料、日焼け止め化粧料、ファンデーション、ほほ紅、アイシャドウ、マスカラ、アイライナー、口紅、ネイルエナメル、頭髪化粧品などが挙げられる。これらの化粧料は常法に従って製造することができる。
また、本発明の処理粉体は化粧料以外に、電子写真複写機用乾式トナー、プラスチック用添加物(補強剤、着色剤等)、ゴム用添加剤(接着剤等)、磁気テープ用磁性材料、塗料やインク用顔料、滑剤、消化剤粉末等として用いることもできる。
以下に、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明の範囲はこれらの実施例によってなんら限定されるものではないことはいうまでもない。
製造例1(ポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン1)
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF99P(信越化学工業株式会社製)を256.2g(約0.1モル)および塩化白金酸の1%エタノール溶液を0.2g入れ50℃に加熱した、ついでPOE(9)アリルエーテルとしてユニオックスA−450R(日油株式会社製)の929.0g(2.0モル)を滴下漏斗より滴下して添加し、50℃に加熱しながら撹拌して約4時間反応させることによって一般式(A)において、R1がメチル基、R2がPOE(9)プロピルエーテル基、sが約20、tが約20、uが約0のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン1を合成した。
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF99P(信越化学工業株式会社製)を256.2g(約0.1モル)および塩化白金酸の1%エタノール溶液を0.2g入れ50℃に加熱した、ついでPOE(9)アリルエーテルとしてユニオックスA−450R(日油株式会社製)の929.0g(2.0モル)を滴下漏斗より滴下して添加し、50℃に加熱しながら撹拌して約4時間反応させることによって一般式(A)において、R1がメチル基、R2がPOE(9)プロピルエーテル基、sが約20、tが約20、uが約0のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン1を合成した。
製造例2(ポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン2)
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF99P(信越化学工業株式会社製)を256.2g(約0.1モル)および塩化白金酸の1%エタノール溶液を0.2g入れ50℃に加温した、ついでPOE(3)アリルエーテルとしてユニオックスPKA5001(日油株式会社製)の126.6g(約0.3モル)を滴下漏斗より滴下して添加し、50℃に加温しながら撹拌して約4時間反応させることによって一般式(A)において、R1がメチル基、R2がPOE(3)プロピルエーテル基、sが約37、tが約3、uが約0のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン2を合成した。
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF99P(信越化学工業株式会社製)を256.2g(約0.1モル)および塩化白金酸の1%エタノール溶液を0.2g入れ50℃に加温した、ついでPOE(3)アリルエーテルとしてユニオックスPKA5001(日油株式会社製)の126.6g(約0.3モル)を滴下漏斗より滴下して添加し、50℃に加温しながら撹拌して約4時間反応させることによって一般式(A)において、R1がメチル基、R2がPOE(3)プロピルエーテル基、sが約37、tが約3、uが約0のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン2を合成した。
製造例3(ポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン3)
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF9901(信越化学工業株式会社製)を285.3g(約0.1モル)と溶媒としてトルエンを400g、そして塩化白金酸の1%エタノール溶液0.5gを入れ70℃に加温した、ついでPOE(5)POP(5)アリルエーテルの284.0g(約0.5モル)を滴下漏斗から滴下して添加し、70℃に加温しながら撹拌して約2時間反応させた。その後活性炭を50g添加して撹拌を30分続け、室温に冷却後ろ過によって活性炭を除去した後、減圧加熱して溶媒のトルエンを除去して一般式(A)において、R1がメチル基、R2がPOE(5)POP(5)プロピルエーテル基、sが約15、tが約5、uが約20のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン3を得た。
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF9901(信越化学工業株式会社製)を285.3g(約0.1モル)と溶媒としてトルエンを400g、そして塩化白金酸の1%エタノール溶液0.5gを入れ70℃に加温した、ついでPOE(5)POP(5)アリルエーテルの284.0g(約0.5モル)を滴下漏斗から滴下して添加し、70℃に加温しながら撹拌して約2時間反応させた。その後活性炭を50g添加して撹拌を30分続け、室温に冷却後ろ過によって活性炭を除去した後、減圧加熱して溶媒のトルエンを除去して一般式(A)において、R1がメチル基、R2がPOE(5)POP(5)プロピルエーテル基、sが約15、tが約5、uが約20のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン3を得た。
製造例4(ポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン4)
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF99P(信越化学工業株式会社製)を512.4g(約0.2モル)および塩化白金酸の1%エタノール溶液を0.2g入れ50℃に加熱した、ついでモノグリセリンアリルエーテルの79.2g(0.6モル)を滴下漏斗より滴下して添加し、50℃に加熱しながら撹拌して約4時間反応させることによって一般式(A)において、R1がメチル基、R2が直鎖のグリセリルプロピルエーテル基、sが約37、tが約3、uが約0のポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン4を合成した。
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF99P(信越化学工業株式会社製)を512.4g(約0.2モル)および塩化白金酸の1%エタノール溶液を0.2g入れ50℃に加熱した、ついでモノグリセリンアリルエーテルの79.2g(0.6モル)を滴下漏斗より滴下して添加し、50℃に加熱しながら撹拌して約4時間反応させることによって一般式(A)において、R1がメチル基、R2が直鎖のグリセリルプロピルエーテル基、sが約37、tが約3、uが約0のポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン4を合成した。
製造例5(ポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン5)
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF99P(信越化学工業株式会社製)を256.2g(約0.1モル)および塩化白金酸の1%エタノール溶液を0.2g入れ50℃に加熱した、ついでデカグリセリンモノアリルエーテルの798.0g(1.0モル)を滴下漏斗より滴下して添加し、50℃に加熱しながら撹拌して約10時間反応させることによって一般式(A)において、R1がメチル基、R2がデカグリセリルモノプロピルエーテル基、sが約30、tが約10、uが約0のポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン5を合成した。
2Lの反応容器にメチルハイドロジェンポリシロキサンとしてKF99P(信越化学工業株式会社製)を256.2g(約0.1モル)および塩化白金酸の1%エタノール溶液を0.2g入れ50℃に加熱した、ついでデカグリセリンモノアリルエーテルの798.0g(1.0モル)を滴下漏斗より滴下して添加し、50℃に加熱しながら撹拌して約10時間反応させることによって一般式(A)において、R1がメチル基、R2がデカグリセリルモノプロピルエーテル基、sが約30、tが約10、uが約0のポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン5を合成した。
実施例1(処理粉体1)
10Lのスーパーミキサーに、超微粒子酸化チタンST−455(チタン工業株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に製造例1のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン50gとヘキサン50gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。さらに100℃に昇温し5時間保持し焼き付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理微粒子酸化チタンを得た。
10Lのスーパーミキサーに、超微粒子酸化チタンST−455(チタン工業株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に製造例1のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン50gとヘキサン50gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。さらに100℃に昇温し5時間保持し焼き付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理微粒子酸化チタンを得た。
実施例2(処理粉体2)
10Lのスーパーミキサーに、タルクJA46R(浅田製粉株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gと99.5%エチルアルコール20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに150℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理タルクを得た。
10Lのスーパーミキサーに、タルクJA46R(浅田製粉株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gと99.5%エチルアルコール20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに150℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理タルクを得た。
実施例3(処理粉体3)
10Lのスーパーミキサーに、セリサイトFSE(三信鉱工株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に製造例3のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン25gとイソプロピルアルコール20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに150℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理セリサイトを得た。
10Lのスーパーミキサーに、セリサイトFSE(三信鉱工株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に製造例3のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン25gとイソプロピルアルコール20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに150℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理セリサイトを得た。
実施例4(処理粉体4)
10Lのスーパーミキサーに、二酸化チタンCR50(石原産業株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に製造例4のポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン25gと99.5%エチルアルコール20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに200℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン処理酸化チタンを得た。
10Lのスーパーミキサーに、二酸化チタンCR50(石原産業株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に製造例4のポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン25gと99.5%エチルアルコール20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに200℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン処理酸化チタンを得た。
実施例5(処理粉体5)
10Lのスーパーミキサーに、雲母チタン500gを入れ、撹拌下に製造例5のポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン50gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに80℃に加温し10時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン処理雲母チタンを得た。
10Lのスーパーミキサーに、雲母チタン500gを入れ、撹拌下に製造例5のポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン50gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに80℃に加温し10時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサン処理雲母チタンを得た。
実施例6(処理粉体6)
10Lのスーパーミキサーに、ベンガラ500gを入れ、撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理ベンガラを得た。
10Lのスーパーミキサーに、ベンガラ500gを入れ、撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理ベンガラを得た。
実施例7(処理粉体7)
10Lのスーパーミキサーに、黄酸化鉄500gを入れ、撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理黄酸化鉄を得た。
10Lのスーパーミキサーに、黄酸化鉄500gを入れ、撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理黄酸化鉄を得た。
実施例8(処理粉体8)
10Lのスーパーミキサーに、黒酸化鉄500gを入れ、撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理黒酸化鉄を得た。
10Lのスーパーミキサーに、黒酸化鉄500gを入れ、撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理黒酸化鉄を得た。
実施例9(処理粉体9)
10Lのスーパーミキサーに、微粒子酸化亜鉛FINEX−30(堺化学株式会社製)500gを入れ、撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン50gとヘキサン50gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理微粒子酸化亜鉛を得た。
10Lのスーパーミキサーに、微粒子酸化亜鉛FINEX−30(堺化学株式会社製)500gを入れ、撹拌下に製造例2のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン50gとヘキサン50gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理微粒子酸化亜鉛を得た。
実施例10(処理粉体10)
10Lのスーパーミキサーに、硫酸バリウム500gを入れ、撹拌下に製造例3のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理硫酸バリウムを得た。
10Lのスーパーミキサーに、硫酸バリウム500gを入れ、撹拌下に製造例3のポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン15gとヘキサン20gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに120℃に加温し5時間焼付け処理をした。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサン処理硫酸バリウムを得た。
比較例1(比較粉体1)
10Lのスーパーミキサーに、超微粒子酸化チタンST−455(チタン工業株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に、メチルハイドロジェンポリシロキサンであるKF99P(信越化学工業株式会社製)50gとヘキサン50gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。さらに100℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きメチルハイドロジェンポリシロキサン被覆微粒子酸化チタンを得た。
10Lのスーパーミキサーに、超微粒子酸化チタンST−455(チタン工業株式会社製)500gを入れ、強撹拌下に、メチルハイドロジェンポリシロキサンであるKF99P(信越化学工業株式会社製)50gとヘキサン50gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。さらに100℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きメチルハイドロジェンポリシロキサン被覆微粒子酸化チタンを得た。
比較例2(比較粉体2)
10Lのスーパーミキサーに、微粒子酸化亜鉛FINEX−30(堺化学株式会社製)500gを入れ、強撹拌下にメチルハイドロジェンポリシロキサンであるKF99P(信越化学工業株式会社製)50gと99.5%エチルアルコール50gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに150℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きメチルハイドロジェンポリシロキサン処理微粒子酸化亜鉛を得た。
10Lのスーパーミキサーに、微粒子酸化亜鉛FINEX−30(堺化学株式会社製)500gを入れ、強撹拌下にメチルハイドロジェンポリシロキサンであるKF99P(信越化学工業株式会社製)50gと99.5%エチルアルコール50gの混合物を添加し30分間室温で撹拌した。それをさらに150℃に昇温し5時間保持した。冷却後、分級装置MDS−2(日本ニューマチック工業社製)により粗粒を取り除きメチルハイドロジェンポリシロキサン処理微粒子酸化亜鉛を得た。
水分散安定性および乳化性比較
(水分散性試験)
粉体10gを水50gにディスパーで良く分散したものを黒板に薄く塗布し、透明度を目視で調べることにより水に対する分散性を調べた。その結果を表1に示す。
◎:透明であった
○:少し白いが、ほとんど透明
△:白いが、ある程度透明性がある
×:かなり白い
(水分散性試験)
粉体10gを水50gにディスパーで良く分散したものを黒板に薄く塗布し、透明度を目視で調べることにより水に対する分散性を調べた。その結果を表1に示す。
◎:透明であった
○:少し白いが、ほとんど透明
△:白いが、ある程度透明性がある
×:かなり白い
※1:微粒子酸化チタンST−455(チタン工業株式会社製)
※2:微粒子酸化亜鉛FINEX−30(堺化学株式会社製)
実施例1および2の処理粉体は比較例1、2及び未処理の粉体に比べて水分散性が高い。
※2:微粒子酸化亜鉛FINEX−30(堺化学株式会社製)
実施例1および2の処理粉体は比較例1、2及び未処理の粉体に比べて水分散性が高い。
(乳化性試験)
栓付試験管に水30gとジメチルポリシロキサン(6cSt)30gと試験粉体3gを加え、手で20回ほど良く振とうした後1時間後の乳化状態を目視で調べた。その結果を表2に示した。
◎:分離はまったく無い
○:少し分離が見られる
△:かなり分離が見られる
×:完全に分離した
栓付試験管に水30gとジメチルポリシロキサン(6cSt)30gと試験粉体3gを加え、手で20回ほど良く振とうした後1時間後の乳化状態を目視で調べた。その結果を表2に示した。
◎:分離はまったく無い
○:少し分離が見られる
△:かなり分離が見られる
×:完全に分離した
※1:微粒子酸化チタンST−455(チタン工業株式会社製)
※2:微粒子酸化亜鉛FINEX−30(堺化学株式会社製)
実施例1および2の処理粉体は比較例1、2及び未処理の粉体に比べて乳化性が高い。
※2:微粒子酸化亜鉛FINEX−30(堺化学株式会社製)
実施例1および2の処理粉体は比較例1、2及び未処理の粉体に比べて乳化性が高い。
実施例11 クリームファンデーション
1) ジメチルポリシロキサン(6cSt) 3.0 質量%
2) デカメチルシクロペンタシロキサン 10.0
3) ドデカメチルシクロヘキサシロキサン 5.0
4) パルミチン酸 0.5
5) 塩化ジステアリルジメチルアンモニウム0.2
6) 実施例2で処理したタルク 10.0
7) 実施例10で処理した硫酸バリウム 5.0
8) 実施例3で処理したセリサイト 5.0
9) 実施例6で処理したベンガラ 0.2
10)実施例7で処理した黄酸化鉄 0.8
11)球状ナイロン末 1.0
12)球状シリコーンゴム末 0.1
13)酢酸トコフェロール 0.1
14)パラオキシ安息香酸ブチル 0.1
15)香料 0.1
16)グリセリン 4.0
17)1,3−ブチレングリコール 5.0
18)L−グルタミン酸ナトリウム 2.0
19)パラオキシ安息香酸メチル 0.1
20)精製水 残余
1) ジメチルポリシロキサン(6cSt) 3.0 質量%
2) デカメチルシクロペンタシロキサン 10.0
3) ドデカメチルシクロヘキサシロキサン 5.0
4) パルミチン酸 0.5
5) 塩化ジステアリルジメチルアンモニウム0.2
6) 実施例2で処理したタルク 10.0
7) 実施例10で処理した硫酸バリウム 5.0
8) 実施例3で処理したセリサイト 5.0
9) 実施例6で処理したベンガラ 0.2
10)実施例7で処理した黄酸化鉄 0.8
11)球状ナイロン末 1.0
12)球状シリコーンゴム末 0.1
13)酢酸トコフェロール 0.1
14)パラオキシ安息香酸ブチル 0.1
15)香料 0.1
16)グリセリン 4.0
17)1,3−ブチレングリコール 5.0
18)L−グルタミン酸ナトリウム 2.0
19)パラオキシ安息香酸メチル 0.1
20)精製水 残余
(製法)
1)〜8)および13)〜14)を80℃で加熱混合し、16)〜20)を加えて乳化する。その後、9)〜12)を添加し分散混合する、15)を加えて撹拌を続けながら冷却してW/Oクリームファンデーションを得た。
実施例11のクリームファンデーションは安定性が良好で、化粧くずれしにくく化粧もちが良好で使用感触が良好なものであった。
1)〜8)および13)〜14)を80℃で加熱混合し、16)〜20)を加えて乳化する。その後、9)〜12)を添加し分散混合する、15)を加えて撹拌を続けながら冷却してW/Oクリームファンデーションを得た。
実施例11のクリームファンデーションは安定性が良好で、化粧くずれしにくく化粧もちが良好で使用感触が良好なものであった。
実施例12 W/O乳化ファンデーション
1) ジメチルポリシロキサン(6cSt)10.0 質量%
2) デカメチルシクロペンタシロキサン 20.0
3) 高分子量アミノ変性シリコーン 0.1
4) パルミチン酸 0.5
5) マカデミアナッツ油脂肪酸コレステリル0.1
6) 塩化ジステアリルジメチルアンモニウム0.2
7) 酢酸トコフェロール 0.1
8) パラオキシ安息香酸ブチル 0.1
9) パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル2.0
10)ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト5.0
11)香料 0.1
12)実施例2で処理したタルク 2.0
13)実施例3で処理したセリサイト 10.0
14)実施例4で処理した二酸化チタン 3.0
15)実施例5で処理した雲母チタン 3.5
16)実施例6で処理したベンガラ 1.5
17)実施例7で処理した黄酸化鉄 2.5
18)実施例8で処理した黒酸化鉄 0.3
19)実施例10で処理した硫酸バリウム 5.0
20)球状シリコーン粉体 1.0
21)L−グルタミン酸ナトリウム 0.5
22)グリセリン 5.0
23)1,3−ブチレングリコール 10.0
24)精製水 残余
1) ジメチルポリシロキサン(6cSt)10.0 質量%
2) デカメチルシクロペンタシロキサン 20.0
3) 高分子量アミノ変性シリコーン 0.1
4) パルミチン酸 0.5
5) マカデミアナッツ油脂肪酸コレステリル0.1
6) 塩化ジステアリルジメチルアンモニウム0.2
7) 酢酸トコフェロール 0.1
8) パラオキシ安息香酸ブチル 0.1
9) パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル2.0
10)ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト5.0
11)香料 0.1
12)実施例2で処理したタルク 2.0
13)実施例3で処理したセリサイト 10.0
14)実施例4で処理した二酸化チタン 3.0
15)実施例5で処理した雲母チタン 3.5
16)実施例6で処理したベンガラ 1.5
17)実施例7で処理した黄酸化鉄 2.5
18)実施例8で処理した黒酸化鉄 0.3
19)実施例10で処理した硫酸バリウム 5.0
20)球状シリコーン粉体 1.0
21)L−グルタミン酸ナトリウム 0.5
22)グリセリン 5.0
23)1,3−ブチレングリコール 10.0
24)精製水 残余
(製法)
1)〜10)および12)〜13)を80℃で加熱混合し、21)〜24)を加えて乳化する。その後14)〜20)を添加し撹拌混合する。その後11)を加えて撹拌を続けながら冷却してW/O乳化ファンデーションを得た。
実施例12のW/O乳化ファンデーションは安定性が高く、化粧もちが良好で使用感触に優れるものであった。
1)〜10)および12)〜13)を80℃で加熱混合し、21)〜24)を加えて乳化する。その後14)〜20)を添加し撹拌混合する。その後11)を加えて撹拌を続けながら冷却してW/O乳化ファンデーションを得た。
実施例12のW/O乳化ファンデーションは安定性が高く、化粧もちが良好で使用感触に優れるものであった。
実施例13 日焼け止め化粧料
1) ジメチルポリシロキサン(6cSt) 5.0 質量%
2) デカメチルシクロペンタシロキサン 20.0
3) トリメチルシロキシケイ酸 3.0
4) 2−エチルヘキサン酸セチル 5.0
5) パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル7.0
6) 4−tブチル−4´−メトキシジベンゾイルメタン1.0
7) 実施例1で処理した微粒子酸化チタン10.0
8) 実施例9で処理した微粒子酸化亜鉛 7.0
9)ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 3.0
10)香料 適量
11)1,3−ブチレングリコール 5.0
12)フェノキシエタノール 適量
13)エデト酸3ナトリウム 0.2
14)精製水 残余
1) ジメチルポリシロキサン(6cSt) 5.0 質量%
2) デカメチルシクロペンタシロキサン 20.0
3) トリメチルシロキシケイ酸 3.0
4) 2−エチルヘキサン酸セチル 5.0
5) パラメトキシ桂皮酸2−エチルヘキシル7.0
6) 4−tブチル−4´−メトキシジベンゾイルメタン1.0
7) 実施例1で処理した微粒子酸化チタン10.0
8) 実施例9で処理した微粒子酸化亜鉛 7.0
9)ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 3.0
10)香料 適量
11)1,3−ブチレングリコール 5.0
12)フェノキシエタノール 適量
13)エデト酸3ナトリウム 0.2
14)精製水 残余
(製法)
1)〜9)を80℃で加熱混合し、11)〜14)を添加して乳化した後、10)を加えて撹拌しながら冷却して日焼け止め化粧料を得た。
実施例13の日焼け止め化粧料は安定性が良好であり、使用感に優れ肌に塗布時の白浮きが無く、耐水性が高く日焼け止め効果に優れるものであった。
1)〜9)を80℃で加熱混合し、11)〜14)を添加して乳化した後、10)を加えて撹拌しながら冷却して日焼け止め化粧料を得た。
実施例13の日焼け止め化粧料は安定性が良好であり、使用感に優れ肌に塗布時の白浮きが無く、耐水性が高く日焼け止め効果に優れるものであった。
実施例14 乳化口紅
1) マイクロクリスタリンワックス 1.0 質量%
2) セレシン 7.0
3) キャンデリラロウ 3.0
4) トリイソステアリン酸グリセリル 15.0
5) リンゴ酸ジイソステアリル 2.0
6) ジイソステアリン酸グリセリル 1.0
7) トリオクタン酸トリメチロールプロパン0.5
8) トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 残余
9) 実施例5で処理した雲母チタン 2.0
10)実施例6で処理したベンガラ 2.0
11)実施例7で処理した黄酸化鉄 1.0
12)実施例10で処理した硫酸バリウム 2.0
13)染料 適量
14)重質流動イソパラフィン 10.0
15)香料 適量
16)グリセリン 0.2
17)リン酸水素カルシウム 1.0
18)精製水 2.0
1) マイクロクリスタリンワックス 1.0 質量%
2) セレシン 7.0
3) キャンデリラロウ 3.0
4) トリイソステアリン酸グリセリル 15.0
5) リンゴ酸ジイソステアリル 2.0
6) ジイソステアリン酸グリセリル 1.0
7) トリオクタン酸トリメチロールプロパン0.5
8) トリ2−エチルヘキサン酸グリセリル 残余
9) 実施例5で処理した雲母チタン 2.0
10)実施例6で処理したベンガラ 2.0
11)実施例7で処理した黄酸化鉄 1.0
12)実施例10で処理した硫酸バリウム 2.0
13)染料 適量
14)重質流動イソパラフィン 10.0
15)香料 適量
16)グリセリン 0.2
17)リン酸水素カルシウム 1.0
18)精製水 2.0
(製法)
1)〜14)を80℃で加熱混合して、16)〜18)を添加して乳化する。15)を加えて撹拌を続けながら成型容器に充填して冷却して乳化口紅を得た。
実施例14の乳化口紅は使用感に優れ、安定性が高いものであった。
1)〜14)を80℃で加熱混合して、16)〜18)を添加して乳化する。15)を加えて撹拌を続けながら成型容器に充填して冷却して乳化口紅を得た。
実施例14の乳化口紅は使用感に優れ、安定性が高いものであった。
実施例15 マスカラ
1) 軽質イソパラフィン 8.0 質量%
2) ジメチルポリシロキサン(6cSt) 3.0
3) デカメチルシクロペンタシロキサン 10.0
4) トリメチルシロキシケイ酸 10.0
5) ジオレイン酸ポリエチレングリコール 2.0
6) ジイソステアリン酸ジグリセリル 2.0
7) 酢酸トコフェロール 0.1
8) 重質流動イソパラフィン 4.0
9) ナイロンファイバー 3.0
10)実施例6で処理したベンガラ 0.5
11)実施例8で処理した黒酸化鉄 5.0
12)ベントナイト 1.0
13)ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 5.0
14)ポリ酢酸ビニルエマルジョン 20.0
15)1,3−ブチレングリコール 4.0
16)炭酸水素ナトリウム 0.1
17)メタリン酸ナトリウム 適量
18)パラオキシ安息香酸エステル 適量
19)デヒドロ酢酸ナトリウム 適量
20)精製水 残余
1) 軽質イソパラフィン 8.0 質量%
2) ジメチルポリシロキサン(6cSt) 3.0
3) デカメチルシクロペンタシロキサン 10.0
4) トリメチルシロキシケイ酸 10.0
5) ジオレイン酸ポリエチレングリコール 2.0
6) ジイソステアリン酸ジグリセリル 2.0
7) 酢酸トコフェロール 0.1
8) 重質流動イソパラフィン 4.0
9) ナイロンファイバー 3.0
10)実施例6で処理したベンガラ 0.5
11)実施例8で処理した黒酸化鉄 5.0
12)ベントナイト 1.0
13)ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト 5.0
14)ポリ酢酸ビニルエマルジョン 20.0
15)1,3−ブチレングリコール 4.0
16)炭酸水素ナトリウム 0.1
17)メタリン酸ナトリウム 適量
18)パラオキシ安息香酸エステル 適量
19)デヒドロ酢酸ナトリウム 適量
20)精製水 残余
(製法)
1)〜13)を80℃で加熱混合して、15)〜20)を添加して乳化した後14)を加えて十分に撹拌混合しながら冷却してマスカラを得た。
実施例15のマスカラは安定性が良好で、耐水性に優れ化粧もちが良好で使用感触に優れるものであった。
1)〜13)を80℃で加熱混合して、15)〜20)を添加して乳化した後14)を加えて十分に撹拌混合しながら冷却してマスカラを得た。
実施例15のマスカラは安定性が良好で、耐水性に優れ化粧もちが良好で使用感触に優れるものであった。
実施例16 ナイトクリーム
1) スクワラン 15.0質量%
2) オリーブ油 12.0
3) ミツロウ 2.0
4) セレシン 3.0
5) 実施例1で処理した二酸化チタン 10.0
6) パラメトキシ安息香酸ブチル 0.1
7) 香料 適量
8) ヒアルロン酸ナトリウム 0.1
9) グリセリン 10.0
10)ジプロピレングリコール 5.0
11)コンドロイチン硫酸ナトリウム 0.1
12)精製水 残余
1) スクワラン 15.0質量%
2) オリーブ油 12.0
3) ミツロウ 2.0
4) セレシン 3.0
5) 実施例1で処理した二酸化チタン 10.0
6) パラメトキシ安息香酸ブチル 0.1
7) 香料 適量
8) ヒアルロン酸ナトリウム 0.1
9) グリセリン 10.0
10)ジプロピレングリコール 5.0
11)コンドロイチン硫酸ナトリウム 0.1
12)精製水 残余
(製法)
1)〜6)を80℃で加熱混合して、8)〜12)を溶解したものを添加してホモミキサーで乳化した後、7)を添加して撹拌冷却してナイトクリームを得た。
実施例16のナイトクリームは安定性に優れ、使用感触も良好なものであった。
1)〜6)を80℃で加熱混合して、8)〜12)を溶解したものを添加してホモミキサーで乳化した後、7)を添加して撹拌冷却してナイトクリームを得た。
実施例16のナイトクリームは安定性に優れ、使用感触も良好なものであった。
本発明の、分子中に少なくとも一つのSi−H基と少なくとも一つのポリオキシアルキレン基またはポリグリセリル基を有するポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンまたはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンで表面処理をした粉体は、水に対する分散性が良好であり、かつ油分に対する乳化性能を有しているために、乳化剤を添加しなくても安定性が良い乳化物を得ることができ、安定性および安全性に優れ使用感触が良好な化粧料や、高い紫外線防御効果が要求される日焼け止め化粧料などに利用できる。
また、本発明の処理粉体は化粧料以外の乳化組成物にも用いることが出来る。
また、本発明の処理粉体は化粧料以外の乳化組成物にも用いることが出来る。
Claims (4)
- 無機粉体および有機粉体より選ばれる粉体の1種または2種以上を、分子中に少なくとも一つのSi−H基と少なくとも一つのポリオキシアルキレン基および/またはポリグリセリル基を有するポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンで表面処理することを特徴とする処理粉体であって、ポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンまたはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンが、一般式(A)で表される化合物であることを特徴とする処理粉体。
- 無機粉体および有機粉体より選ばれる粉体の1種または2種以上の100重量部に対して、一般式(A)で示されるポリエーテル変性オルガノ水素ポリシロキサンおよび/またはポリグリセリン変性オルガノ水素ポリシロキサンの1〜20重量部を撹拌混合した後、50〜200℃で加熱焼付けをすることを特徴とする処理粉体の製造方法
- 請求項1ないし2に記載の処理粉体を配合してなることを特徴とする乳化組成物。
- 請求項1ないし2に記載の処理粉体を配合してなることを特徴とする化粧料。
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- 2008-07-29 JP JP2008194765A patent/JP2010030954A/ja active Pending
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