[go: up one dir, main page]

JP2010014973A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device Download PDF

Info

Publication number
JP2010014973A
JP2010014973A JP2008174853A JP2008174853A JP2010014973A JP 2010014973 A JP2010014973 A JP 2010014973A JP 2008174853 A JP2008174853 A JP 2008174853A JP 2008174853 A JP2008174853 A JP 2008174853A JP 2010014973 A JP2010014973 A JP 2010014973A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
substrate
bus line
tft
display device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008174853A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hidehiko Yamaguchi
英彦 山口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP2008174853A priority Critical patent/JP2010014973A/en
Publication of JP2010014973A publication Critical patent/JP2010014973A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a TFT liquid crystal display device having an auxiliary wiring line and a narrow frame region. <P>SOLUTION: The TFT liquid crystal display device 100 has: a TFT substrate 10 including a first substrate 11, and a gate bus line 12 and a source bus line 14 formed on the first substrate, a TFT 16 connected to these lines, and a pixel electrode 17 connected to the source bus line through the TFT; a counter substrate 20 including a second substrate 21, and a black matrix 26 and a counter electrode 22 fabricated on the second substrate; and a liquid crystal layer 30 disposed between the TFT substrate and the counter substrate. The TFT substrate further has an auxiliary wiring line 18 disposed as intersecting the gate bus line and the source bas line via an insulating layer and having a portion opposing to the counter electrode and the black matrix via the liquid crystal layer. The portion of the black matrix 26, opposite the auxiliary wiring line 18, includes a portion 26a having a smaller thickness than in other portion. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶表示装置に関し、特にTFTをスイッチング素子として備えるアクティブマトリクス型液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a liquid crystal display device, and more particularly to an active matrix liquid crystal display device including a TFT as a switching element.

TFTをスイッチング素子として備えるアクティブマトリスク型液晶表示装置(以下、TFT型液晶表示装置という。)は、TFT基板と、対向基板と、これらの間に設けられた液晶層とを有している。TFT基板は、ガラス基板と、ガラス基板上に形成された、ソースバスラインと、ゲートバスラインと、これらに接続されたTFTと、TFTを介してソースバスラインに接続された画素電極とを有している。対向基板は、ガラス基板と、ガラス基板上に形成された、カラーフィルタ層と、ブラックマトリクスと、対向電極とを有している。さらに、液晶表示装置には、必要に応じて、配向膜、偏光板、位相差板などがさらに設けられる。   An active matrix type liquid crystal display device (hereinafter referred to as a TFT type liquid crystal display device) including a TFT as a switching element includes a TFT substrate, a counter substrate, and a liquid crystal layer provided therebetween. The TFT substrate has a glass substrate, a source bus line formed on the glass substrate, a gate bus line, a TFT connected to these, and a pixel electrode connected to the source bus line via the TFT. is doing. The counter substrate has a glass substrate, a color filter layer formed on the glass substrate, a black matrix, and a counter electrode. Furthermore, the liquid crystal display device is further provided with an alignment film, a polarizing plate, a retardation plate, and the like as necessary.

TFT基板のゲートバスラインおよびソースバラインに断線が生じることがある。断線が生じる原因としては、ストレスマイグレーション、下地の段差、および製造不良などがある。   Disconnection may occur in the gate bus line and source bar line of the TFT substrate. Causes of the disconnection include stress migration, base level difference, and manufacturing defects.

ゲートバスラインまたはソースバスラインに断線が発生すると、そのバスラインにTFTを介して関連付けられている画素は欠陥となるので、線状の表示欠陥となる。   When a disconnection occurs in a gate bus line or a source bus line, a pixel associated with the bus line via a TFT becomes a defect, so that a linear display defect occurs.

線状の表示欠陥の発生を防止するために、補助配線を設けて断線を修復する方法が従来から提案されている。例えば、特許文献1には、表示領域外かつ対向基板の枠外に、ゲートバスラインおよびソースバスラインと絶縁膜を介して交差するように補助配線を設け、断線が発生したバスラインと補助配線とが交差する部分を電気的に短絡させる方法が開示されている。
特開平5-203986号公報
In order to prevent the occurrence of a linear display defect, a method for repairing the disconnection by providing an auxiliary wiring has been conventionally proposed. For example, in Patent Document 1, auxiliary wiring is provided outside the display area and outside the frame of the counter substrate so as to intersect the gate bus line and the source bus line via an insulating film, A method of electrically shorting a portion where the crossing points is disclosed.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-203986

しかしながら、特許文献1の構成を採用するためには、対向基板の枠外に補助配線を形成する領域を設ける必要があるので、液晶表示装置の額縁領域(表示領域の外側の領域)が大きくなるという問題がある。   However, in order to adopt the configuration of Patent Document 1, it is necessary to provide an area for forming the auxiliary wiring outside the frame of the counter substrate, so that the frame area (area outside the display area) of the liquid crystal display device is increased. There's a problem.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、補助配線を有し且つ額縁領域の狭いTFT型液晶表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a TFT liquid crystal display device having auxiliary wiring and a narrow frame area.

本発明の液晶表示装置は、第1基板と、前記第1基板上に形成された、ゲートバスラインと、ソースバスラインと、前記ゲートバスラインおよび前記ソースバスラインに接続されたTFTと、前記TFTを介して前記ソースバスラインに接続された画素電極とを有するTFT基板と、第2基板と、前記第2基板上に形成された、ブラックマトリクスと、対向電極とを有する対向基板と、前記TFT基板と前記対向基板との間に設けられた液晶層とを有するTFT型液晶表示装置であって、前記TFT基板は、前記ゲートバスラインおよび前記ソースバスラインと絶縁層を介して交差するように設けられ、且つ、前記液晶層を介して前記対向電極および前記ブラックマトリクスと対向する部分を含む補助配線をさらに有し、前記ブラックマトリクスの前記補助配線と対向する部分は他の部分よりも厚さが小さい部分を含むことを特徴とする。   The liquid crystal display device of the present invention includes a first substrate, a gate bus line formed on the first substrate, a source bus line, a TFT connected to the gate bus line and the source bus line, A TFT substrate having a pixel electrode connected to the source bus line through the TFT, a second substrate, a black matrix formed on the second substrate, and a counter substrate having a counter electrode; A TFT type liquid crystal display device having a liquid crystal layer provided between a TFT substrate and the counter substrate, wherein the TFT substrate intersects the gate bus line and the source bus line via an insulating layer. And an auxiliary wiring including a portion facing the counter electrode and the black matrix via the liquid crystal layer, and the black matrix The auxiliary line and facing portions of the scan is characterized in that it comprises a portion which is thinner than the other portions.

ある実施形態において、前記ブラックマトリクスの前記補助配線と対向する部分は、貫通孔を含む。   In one embodiment, a portion of the black matrix facing the auxiliary wiring includes a through hole.

ある実施形態において、前記ブラックマトリクスは、黒色樹脂層で形成されている。   In one embodiment, the black matrix is formed of a black resin layer.

本発明によると、補助配線を有し且つ額縁領域の狭いTFT型液晶表示装置が提供される。   According to the present invention, a TFT type liquid crystal display device having auxiliary wiring and having a narrow frame area is provided.

以下、図面を参照して本発明による実施形態のTFT型液晶表示装置を説明する。   Hereinafter, a TFT liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1および図2に、本発明による実施形態のTFT型液晶表示装置100の構造を模式的に示す。図1は液晶表示装置100の模式的な平面図であり、図2は図1中のA−B線に沿った液晶表示装置100の模式的な部分断面図である。   1 and 2 schematically show the structure of a TFT liquid crystal display device 100 according to an embodiment of the present invention. FIG. 1 is a schematic plan view of the liquid crystal display device 100, and FIG. 2 is a schematic partial cross-sectional view of the liquid crystal display device 100 along the line AB in FIG.

液晶表示装置100は、TFT基板10と、対向基板(カラーフィルタ基板)20と、TFT基板10と対向基板20との間に設けられた液晶層30とを有する。   The liquid crystal display device 100 includes a TFT substrate 10, a counter substrate (color filter substrate) 20, and a liquid crystal layer 30 provided between the TFT substrate 10 and the counter substrate 20.

TFT基板10は、ガラス基板11と、ガラス基板11上に形成された、ゲートバスライン12と、ソースバスライン14と、ゲートバスライン12およびソースバスライン14に接続されたTFT16と、TFT16を介してソースバスライン14に接続された画素電極17とを有する。   The TFT substrate 10 includes a glass substrate 11, a gate bus line 12 formed on the glass substrate 11, a source bus line 14, a TFT 16 connected to the gate bus line 12 and the source bus line 14, and the TFT 16. And a pixel electrode 17 connected to the source bus line 14.

対向基板20は、ガラス基板21と、ガラス基板21上に形成された、カラーフィルタ層24と、ブラックマトリクス26と、対向電極22とを有する。なお、カラーフィルタ層24は省略され得る。液晶表示装置100は表示領域(「アクティブ領域」といわれることもある。)10Dと、表示領域10Dの外側に額縁領域10Fとを有しており、カラーフィルタ層24は表示領域10Dに形成されており、ブラックマトリクス26は額縁領域10Fに形成されている。なお、額縁領域10Fは、表示領域10Dの外側の非表示領域の全体を指し、対向基板20の外側のTFT基板10の領域も含む。   The counter substrate 20 includes a glass substrate 21, a color filter layer 24, a black matrix 26, and a counter electrode 22 formed on the glass substrate 21. Note that the color filter layer 24 may be omitted. The liquid crystal display device 100 has a display area (sometimes referred to as an “active area”) 10D and a frame area 10F outside the display area 10D, and the color filter layer 24 is formed in the display area 10D. The black matrix 26 is formed in the frame area 10F. The frame area 10F indicates the entire non-display area outside the display area 10D, and includes the area of the TFT substrate 10 outside the counter substrate 20.

TFT基板10は、ゲートバスライン12およびソースバスライン14と絶縁層(不図示)を介して交差するように設けられ、且つ、液晶層30を介して対向電極22およびブラックマトリクス26と対向する部分を含む補助配線18をさらに有している。補助配線18はその全体が対向電極22およびブラックマトリクス26と対向する領域に形成されている。   The TFT substrate 10 is provided so as to intersect the gate bus line 12 and the source bus line 14 via an insulating layer (not shown), and a portion facing the counter electrode 22 and the black matrix 26 via the liquid crystal layer 30. A further auxiliary wiring 18 is included. The auxiliary wiring 18 is entirely formed in a region facing the counter electrode 22 and the black matrix 26.

ここでは、補助配線18は、額縁領域10Fにおいて、ゲートバスライン12に平行な2本の直線部分と、ソースバスライン14に平行な1本の直線部分とを有するコの字状に形成されているが、これに限られず、表示領域10Dを包囲するロの字状に形成してもよい。なお、補助配線18の本数は、断線の発生率を考慮して適宜設定され得る。   Here, the auxiliary wiring 18 is formed in a U-shape having two straight portions parallel to the gate bus line 12 and one straight portion parallel to the source bus line 14 in the frame region 10F. However, the present invention is not limited to this, and it may be formed in a square shape surrounding the display area 10D. Note that the number of auxiliary wirings 18 can be appropriately set in consideration of the occurrence rate of disconnection.

ソースバスライン14の内の1本に断線14oが発生した場合、図1中、断線部分14oより下(□で示したソース入力端子と分断される側)のソースバスライン14にTFT16を介して接続されている画素電極17にはソース信号(表示信号)が供給されないので、線状の表示欠陥となる。このとき、断線が発生したソースバスライン14と補助配線18とが交差する2つの部分14aと14bとにおいて、当該ソースバスライン14と補助配線18とを短絡させる。このように断線が発生したソースバスライン14を補助配線18と2箇所で接続すると、当該ソースバスライン14には両側からソース信号(表示信号)が供給されるので、当該ソースバスライン14に接続されている全ての画素電極17にソース信号が供給され、線状の表示欠陥は修復される。   When the disconnection 14o occurs in one of the source bus lines 14, the source bus line 14 below the disconnection portion 14o (the side separated from the source input terminal indicated by □) in FIG. Since the source signal (display signal) is not supplied to the connected pixel electrode 17, a linear display defect occurs. At this time, the source bus line 14 and the auxiliary wiring 18 are short-circuited at the two portions 14a and 14b where the source bus line 14 where the disconnection has occurred and the auxiliary wiring 18 intersect. When the source bus line 14 thus disconnected is connected to the auxiliary wiring 18 at two locations, source signals (display signals) are supplied to the source bus line 14 from both sides, and therefore connected to the source bus line 14. A source signal is supplied to all the pixel electrodes 17 that have been formed, and the linear display defects are repaired.

このとき、補助配線18に接続されたソースバスライン14を介してソース信号が供給される画素電極17に至る配線経路は、正常なソースバスライン14に接続された画素電極17に至る配線経路よりも長い。従って、補助配線18の電気抵抗は低いことが好ましく、補助配線18は短いことが好ましい。   At this time, the wiring path to the pixel electrode 17 to which the source signal is supplied via the source bus line 14 connected to the auxiliary wiring 18 is more than the wiring path to the pixel electrode 17 connected to the normal source bus line 14. Also long. Therefore, the electrical resistance of the auxiliary wiring 18 is preferably low, and the auxiliary wiring 18 is preferably short.

特許文献1に記載の構成では、補助配線が表示領域外かつ対向基板の枠外に設けられていたのに対し、液晶表示装置100では、対向電極22と対向する領域に補助配線18を設けているので、補助配線18を短くでき、また、額縁領域10Fを狭くすることができるという利点が得られる。   In the configuration described in Patent Document 1, the auxiliary wiring is provided outside the display area and outside the frame of the counter substrate, whereas in the liquid crystal display device 100, the auxiliary wiring 18 is provided in the area facing the counter electrode 22. Therefore, there is an advantage that the auxiliary wiring 18 can be shortened and the frame region 10F can be narrowed.

しかしながら、単純に、補助配線18を対向電極22と対向する領域に形成すると、補助配線18と対向電極22との間の寄生容量によって、ソース信号が遅延することなる。本実施形態の液晶表示装置100は、この問題を以下のように解決している。   However, if the auxiliary wiring 18 is simply formed in a region facing the counter electrode 22, the source signal is delayed due to the parasitic capacitance between the auxiliary wiring 18 and the counter electrode 22. The liquid crystal display device 100 of this embodiment solves this problem as follows.

図2に示すように、本実施形態の液晶表示装置100において、ブラックマトリクス26の補助配線18と対向する部分は、貫通孔26aを含んでいる。すなわち、補助配線18と対向電極22との間に存在する液晶層30は、他の部分よりもブラックマトリクス26の厚さ分だけ厚さが大きい部分を含んでいる。このような構成を有することによって、補助配線18と対向電極22との間に形成される寄生容量を小さくすることができる。なお、ブラックマトリクス26の貫通孔26aに代えて凹部を形成してもよく、ブラックマトリクス26の補助配線18と対向する部分に、他の部分よりも厚さが小さい部分を設ければよい。もちろん、寄生容量を減少させるという観点からは、補助配線18と対向する、ブラックマトリクス26の部分の全体を貫通孔26aとすることが好ましい。   As shown in FIG. 2, in the liquid crystal display device 100 of the present embodiment, the portion of the black matrix 26 that faces the auxiliary wiring 18 includes a through hole 26a. That is, the liquid crystal layer 30 existing between the auxiliary wiring 18 and the counter electrode 22 includes a portion that is thicker than the other portions by the thickness of the black matrix 26. By having such a configuration, the parasitic capacitance formed between the auxiliary wiring 18 and the counter electrode 22 can be reduced. A recess may be formed instead of the through hole 26a of the black matrix 26, and a portion having a smaller thickness than other portions may be provided in a portion facing the auxiliary wiring 18 of the black matrix 26. Of course, from the viewpoint of reducing the parasitic capacitance, it is preferable that the entire portion of the black matrix 26 facing the auxiliary wiring 18 is the through hole 26a.

ブラクックマトリクス26は黒色樹脂層を用いて形成することが好ましく、厚さは1μmから3μm程度あることが好ましい。また、感光性を有する黒色樹脂を用いると、フォトリソグラフィプロセスを用いて容易に貫通孔26aまたは凹部を形成することができる。   The black matrix 26 is preferably formed using a black resin layer, and the thickness is preferably about 1 μm to 3 μm. In addition, when a black resin having photosensitivity is used, the through holes 26a or the recesses can be easily formed using a photolithography process.

図3に比較例のTFT型液晶表示装置200の模式的な断面図を示す。液晶表示装置100と同じ構成要素は共通の参照符号で示し、その説明を省略する。   FIG. 3 shows a schematic sectional view of a TFT type liquid crystal display device 200 of a comparative example. The same components as those of the liquid crystal display device 100 are denoted by common reference numerals, and description thereof is omitted.

液晶表示装置200において、ブラックマトリクス26’は一定の厚さで形成されており、補助配線18と対向する部分も他の部分と同じ厚さを有している。額縁領域10Fを狭くするために、液晶表示装置200のように、特許文献1に記載されている補助配線18を単純に対向電極22と対向する位置に設けると、補助配線18と対向電極22との間で寄生容量が形成され、ソース信号の遅延の原因となる。   In the liquid crystal display device 200, the black matrix 26 'is formed with a constant thickness, and the portion facing the auxiliary wiring 18 has the same thickness as the other portions. If the auxiliary wiring 18 described in Patent Document 1 is simply provided at a position facing the counter electrode 22 as in the liquid crystal display device 200 in order to narrow the frame region 10F, the auxiliary wiring 18 and the counter electrode 22 A parasitic capacitance is formed between the two and causes a delay of the source signal.

図2と図3とを比較すれば明らかなように、本実施形態の液晶表示装置100は、ブラックマトリクス26の補助配線18と対向する部分が他の部分よりも厚さが小さい部分26aを含むので、補助配線18と対向電極22との間に形成される寄生容量は液晶表示装置200よりも小さく、ソース信号の遅延が抑制されている。   As is clear from a comparison between FIG. 2 and FIG. 3, the liquid crystal display device 100 of the present embodiment includes a portion 26a where the portion of the black matrix 26 facing the auxiliary wiring 18 has a smaller thickness than the other portions. Therefore, the parasitic capacitance formed between the auxiliary wiring 18 and the counter electrode 22 is smaller than that of the liquid crystal display device 200, and the delay of the source signal is suppressed.

ここでは、ソースバスライン14に断線14oが発生した場合について説明したが、ゲートバスライン12に断線が発生した場合も同様である。   Although the case where the disconnection 14o occurs in the source bus line 14 has been described here, the same applies to the case where the disconnection occurs in the gate bus line 12.

なお、補助配線18とソースバスライン14またはゲートバスライン12とを短絡させる方法としては、レーザ照射法など公知の種々の方法を用いることができる。   As a method of short-circuiting the auxiliary wiring 18 and the source bus line 14 or the gate bus line 12, various known methods such as a laser irradiation method can be used.

本発明は、TFT型液晶表示装置に広く用いることができる。   The present invention can be widely used for TFT liquid crystal display devices.

本発明による実施形態のTFT型液晶表示装置100の模式的な平面図である。It is a typical top view of TFT type liquid crystal display device 100 of an embodiment by the present invention. 図1のA−B線に沿った液晶表示装置100の模式的な部分断面図である。It is a typical fragmentary sectional view of the liquid crystal display device 100 along the AB line | wire of FIG. 比較例のTFT型液晶表示装置200の模式的な断面図である。It is typical sectional drawing of the TFT type liquid crystal display device 200 of a comparative example.

符号の説明Explanation of symbols

10 TFT基板
11、21 ガラス基板
12 ゲートバスライン
14 ソースバスライン
14o 断線部
14a、14b 接続部
16 TFT
17 画素電極
18 補助配線
20 対向基板
22 対向電極
24 カラーフィルタ層
26 ブラックマトリクス
26a 貫通孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 TFT substrate 11, 21 Glass substrate 12 Gate bus line 14 Source bus line 14o Disconnection part 14a, 14b Connection part 16 TFT
17 Pixel electrode 18 Auxiliary wiring 20 Counter substrate 22 Counter electrode 24 Color filter layer 26 Black matrix 26a Through hole

Claims (3)

第1基板と、前記第1基板上に形成された、ゲートバスラインと、ソースバスラインと、前記ゲートバスラインおよび前記ソースバスラインに接続されたTFTと、前記TFTを介して前記ソースバスラインに接続された画素電極とを有するTFT基板と、
第2基板と、前記第2基板上に形成された、ブラックマトリクスと、対向電極とを有する対向基板と、
前記TFT基板と前記対向基板との間に設けられた液晶層と
を有するTFT型液晶表示装置であって、
前記TFT基板は、前記ゲートバスラインおよび前記ソースバスラインと絶縁層を介して交差するように設けられ、且つ、前記液晶層を介して前記対向電極および前記ブラックマトリクスと対向する部分を含む補助配線をさらに有し、
前記ブラックマトリクスの前記補助配線と対向する部分は他の部分よりも厚さが小さい部分を含む、液晶表示装置。
A first bus; a gate bus line; a source bus line; a TFT connected to the gate bus line and the source bus line; and the source bus line via the TFT. A TFT substrate having a pixel electrode connected to
A counter substrate having a second substrate, a black matrix formed on the second substrate, and a counter electrode;
A TFT type liquid crystal display device having a liquid crystal layer provided between the TFT substrate and the counter substrate,
The TFT substrate is provided so as to intersect the gate bus line and the source bus line via an insulating layer, and includes an auxiliary wiring including a portion facing the counter electrode and the black matrix via the liquid crystal layer Further comprising
The liquid crystal display device, wherein a portion of the black matrix facing the auxiliary wiring includes a portion having a smaller thickness than other portions.
前記ブラックマトリクスの前記補助配線と対向する部分は、貫通孔を含む、請求項1に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein a portion of the black matrix facing the auxiliary wiring includes a through hole. 前記ブラックマトリクスは、黒色樹脂層で形成されている、請求項1または2に記載の液晶表示装置。   The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the black matrix is formed of a black resin layer.
JP2008174853A 2008-07-03 2008-07-03 Liquid crystal display device Pending JP2010014973A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008174853A JP2010014973A (en) 2008-07-03 2008-07-03 Liquid crystal display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008174853A JP2010014973A (en) 2008-07-03 2008-07-03 Liquid crystal display device

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010014973A true JP2010014973A (en) 2010-01-21

Family

ID=41701140

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008174853A Pending JP2010014973A (en) 2008-07-03 2008-07-03 Liquid crystal display device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010014973A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103487976A (en) * 2012-06-13 2014-01-01 三星显示有限公司 Liquid crystal display devices and methods of manufacturing liquid crystal display devices

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103487976A (en) * 2012-06-13 2014-01-01 三星显示有限公司 Liquid crystal display devices and methods of manufacturing liquid crystal display devices

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101820032B1 (en) Thin film transistor panel, liquid crystal display device, and method to repair thereof
KR100289538B1 (en) Wiring layout of thin film transistor liquid crystal display device
US7750985B2 (en) Liquid crystal display panel and repairing method thereof
JP2007292879A (en) Liquid crystal display
JP2009036871A (en) Display device
KR100823386B1 (en) Substrate for liquid crystal display and liquid crystal display
WO2007020784A1 (en) Display device, liquid crystal display device, and method for manufacturing display device
CN101082706B (en) Liquid crystal display device
KR0139319B1 (en) Liquid crystal display device having double line and multi-transistor in one pixel
CN101655627B (en) Pixel array substrate with touch function, its repair method, and flat-panel display
KR101069632B1 (en) Testing wiring structure and method for forming the same
JP2011164329A (en) Electro-optical display panel
JP5302101B2 (en) Display device
JP6473692B2 (en) Display panel
JP2001330850A (en) Liquid crystal display device and its defect rectifying method
JP2010032859A (en) Liquid crystal display device
KR100318537B1 (en) thin film transistor substrates for liquid crystal displays and repairing methods thereof
JP2010014973A (en) Liquid crystal display device
WO2019013152A1 (en) Liquid crystal panel and liquid crystal display device
KR20210054638A (en) Liquid crystal display
JP4441507B2 (en) Liquid crystal display
JP2007219047A (en) Liquid crystal display panel
JP5519054B2 (en) Display device
JP3778407B2 (en) Method for correcting defects in active matrix substrate and method for manufacturing liquid crystal panel
JPH01303415A (en) Liquid crystal display device