JP2009302631A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、半導体集積回路装置に関し、終端抵抗を内蔵する半導体集積回路装置に利用して有効な技術に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and relates to a technique effective when used in a semiconductor integrated circuit device having a built-in termination resistor.
伝送線路の特性インピーダンスに整合された受端抵抗をMOSFETで構成し、その抵抗値をNビットの信号(Nは整数)によりデジタル制御し、プロセスばらつき等に依存することなく受端抵抗の抵抗値を実現することができる。本願発明を成した後の公知例調査において、特開平11−145814号公報によりプログラマブルインピーダンス出力回路が存在することが報告された。この公報においては、並列形態にされてデジタル制御信号により選択的に駆動される第1出力バッファを構成する複数の出力MOSFETと、第2出力バッファを構成する複数の出力MOSFETのゲート電圧を変化させて出力インピーダンスを無段階に微調整するアナログ制御部とを有する。
受端抵抗を内蔵した半導体集積回路装置では、受端抵抗の抵抗値を伝送線路の特性インピーダンスに整合させるべく規格範囲内に保つ必要がある。しかしMOSFETを使用して受端抵抗を構成した場合、プロセスばらつきや実使用時の外部変化(温度、電圧)により抵抗値が変化して規格を満たせない場合が生じる。受端抵抗の抵抗値が規格を外れた場合、受信信号の品質が悪化して誤動作等の障害が生じてしまう。あるいは、上記受端抵抗の抵抗値の変動を考慮した遅い伝送速度での信号伝達を行うことが必要になる。そこでMOSFETプロセスばらつきや外部環境(温度、電圧)の変化に影響されず、抵抗値を規格範囲内に保つことが出来る回路が必要になった。上記報告された公報の技術は、出力回路の出力インピーダンスを制御するものであり、上記受端抵抗とは回路機能そのものが異なる。 In a semiconductor integrated circuit device incorporating a receiving end resistor, it is necessary to keep the resistance value of the receiving end resistor within a standard range in order to match the characteristic impedance of the transmission line. However, when the receiving end resistor is configured using a MOSFET, the resistance value may change due to process variations or external changes (temperature, voltage) during actual use, and the standard may not be satisfied. When the resistance value of the receiving end resistor is out of the standard, the quality of the received signal is deteriorated and a failure such as malfunction occurs. Alternatively, it is necessary to perform signal transmission at a low transmission rate in consideration of fluctuations in the resistance value of the receiving end resistor. Therefore, it is necessary to provide a circuit that can keep the resistance value within the standard range without being affected by variations in the MOSFET process and changes in the external environment (temperature, voltage). The technology of the reported publication controls the output impedance of the output circuit, and the circuit function itself is different from the receiving end resistor.
この発明の1つの目的は、高精度に設定された受端抵抗を備えた半導体集積回路装置を提供することにある。この発明の他の目的は、簡単な構成でプロセスばらつきや実使用時の外部変化に影響され無い受端抵抗を内蔵した半導体集積回路装置を提供することにある。この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。 One object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device having a receiving end resistor set with high accuracy. Another object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit device with a built-in receiving resistor that is not affected by process variations and external changes during actual use with a simple configuration. The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
本願において開示される1つの実施例は、以下の通りである。半導体集積回路装置は、第1回路、第2回路及び第3回路を有する。上記第1回路は、第1端子、第1抵抗回路、第2抵抗回路、電圧比較部、スイッチ部及び制御論理部を有する。上記第1端子は、外部の第1電圧との間に所望の抵抗値を有する抵抗素子が接続される。上記第1抵抗回路は、上記第1端子と第2電圧との間に複数の第1MOSFETが並列形態に設けられる。上記第2抵抗回路は、上記第1端子と上記第2電圧との間に第2MOSFETが設けられる。上記電圧比較部は、上記第1端子の電圧と、第1中間電圧との比較出力信号を形成する。上記制御論理部は、上記スイッチ部を制御して第2中間電圧を上記第2MOSFETのゲートに供給し、上記複数の第1MOSFETのオン/オフ制御により合成抵抗値を最大値から最小値に又は最小値から最大値に向けて変化させ、上記電圧比較部の比較出力信号が一方から他方に反転した時点の上記複数の第1MOSFETのオン状態の組み合わせを検知して記憶する第1動作と、上記記憶情報により上記第1MOSFETのオン/オフ状態にし、上記スイッチ部を制御して上記電圧比較部の比較出力信号を上記第2MOSFETのゲートに供給する第2動作を行う。上記第2回路は、第2端子、第1抵抗回路と同様の回路構成にされた複数の第3MOSFETからなる第3抵抗回路、第2抵抗回路と同様な回路構成にされた第4MOSFETからなる第4抵抗回路を有する。上記複数の第3MOSFETは、上記複数の第1MOSFETのオン/オフを制御する上記記憶情報により同様にオン/オフ制御され、上記第4MOSFETのゲートは、上記第2MOSFETのゲートに供給される上記電圧比較部の比較出力信号が供給される。上記第3回路は、上記第2端子から供給される入力信号を受信する入力回路を有する。 One embodiment disclosed in the present application is as follows. The semiconductor integrated circuit device has a first circuit, a second circuit, and a third circuit. The first circuit includes a first terminal, a first resistance circuit, a second resistance circuit, a voltage comparison unit, a switch unit, and a control logic unit. A resistance element having a desired resistance value is connected between the first terminal and an external first voltage. In the first resistance circuit, a plurality of first MOSFETs are provided in parallel between the first terminal and the second voltage. In the second resistance circuit, a second MOSFET is provided between the first terminal and the second voltage. The voltage comparison unit forms a comparison output signal between the voltage at the first terminal and the first intermediate voltage. The control logic unit controls the switch unit to supply a second intermediate voltage to the gate of the second MOSFET, and the combined resistance value is changed from the maximum value to the minimum value by the on / off control of the plurality of first MOSFETs. A first operation for detecting and storing a combination of the ON states of the plurality of first MOSFETs when the comparison output signal of the voltage comparison unit is inverted from one to the other, and changing from the value toward the maximum value; Based on the information, the first MOSFET is turned on / off, and the switch section is controlled to perform the second operation of supplying the comparison output signal of the voltage comparison section to the gate of the second MOSFET. The second circuit includes a second terminal, a third resistor circuit including a plurality of third MOSFETs having a circuit configuration similar to that of the first resistor circuit, and a fourth MOSFET having a circuit configuration similar to that of the second resistor circuit. It has a 4 resistance circuit. The plurality of third MOSFETs are similarly turned on / off by the stored information for controlling on / off of the plurality of first MOSFETs, and the gate of the fourth MOSFET is compared with the voltage supplied to the gate of the second MOSFET. The comparison output signal of the unit is supplied. The third circuit includes an input circuit that receives an input signal supplied from the second terminal.
受端抵抗の抵抗値を高精度に調整することが可能となる。LSIの実使用時に受端抵抗の調整を行う必要がなく再調整も不要な為システムの安定稼動が可能となる。 The resistance value of the receiving end resistor can be adjusted with high accuracy. Since it is not necessary to adjust the receiving resistance during actual use of the LSI and no readjustment is required, the system can be operated stably.
図1には、この発明に係る半導体集積回路装置に搭載される受端抵抗回路の一実施例の回路図が示されている。同図の半導体集積回路装置は、公知のCMOS集積回路の製造技術により、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上において形成される。同図においては、半導体集積回路装置に形成される複数の受信端子に対応して設けられる受端抵抗のうち、1つの端子に対応した回路が代表として例示的に示されている。 FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a receiving resistor circuit mounted on a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. The semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 1 is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon by a known CMOS integrated circuit manufacturing technique. In the drawing, a circuit corresponding to one terminal is exemplarily shown as a representative among receiving end resistors provided corresponding to a plurality of receiving terminals formed in the semiconductor integrated circuit device.
この実施例の受端抵抗回路は、調整セルと通常セルから構成される。通常セルは、端子PD2と回路の接地電位との間に接続されるプルダウン受端抵抗を構成する。調整セルは、上記通常セルの受端抵抗値の制御を行う回路である。受信信号が入力される端子PD2が複数個ある場合、上記通常セルは、同図に例示的に示された回路が各端子に対応してそれぞれ設けられる。これに対して、上記調整セルは、上記複数個の通常セルに対して共通に設けられる。 The receiving end resistance circuit of this embodiment is composed of an adjustment cell and a normal cell. The normal cell constitutes a pull-down receiving resistor connected between the terminal PD2 and the circuit ground potential. The adjustment cell is a circuit that controls the receiving end resistance value of the normal cell. When there are a plurality of terminals PD2 to which a received signal is input, the normal cell is provided with a circuit exemplarily shown in the figure corresponding to each terminal. On the other hand, the adjustment cell is provided in common for the plurality of normal cells.
調整セルは、第1抵抗回路DC1と、第2抵抗回路AC1を有する。上記第1抵抗回路DC1は、いわばデジタル抵抗回路であり、端子PD1と回路の接地電位VSSとの間に、複数個のNチャネルMOSFETQ11〜Q15が並列形態に設けられる。上記第2抵抗回路AC1は、いわばアナログ抵抗回路であり、上記端子PD1と回路の接地電位VSSとの間に設けられた1つのNチャネルMOSFETQ16で構成される。第1抵抗回路DC1は、特に制限されないが、5つのMOSFETで構成され、そのうち同図には2つのMOSFETQ11とQ15が代表として示されている。残りのMOSFETQ12〜Q14は、括弧で示したように省略されている。 The adjustment cell includes a first resistance circuit DC1 and a second resistance circuit AC1. The first resistor circuit DC1 is a digital resistor circuit, and a plurality of N-channel MOSFETs Q11 to Q15 are provided in parallel between the terminal PD1 and the circuit ground potential VSS. The second resistor circuit AC1 is a so-called analog resistor circuit, and is composed of one N-channel MOSFET Q16 provided between the terminal PD1 and the ground potential VSS of the circuit. Although the first resistance circuit DC1 is not particularly limited, it is composed of five MOSFETs, of which two MOSFETs Q11 and Q15 are representatively shown. The remaining MOSFETs Q12 to Q14 are omitted as shown in parentheses.
上記第1抵抗回路DC1の各MOSFETQ11〜Q15は、それぞれが同じチャネル長で、チャネル幅が1:2:4:8:16のように2の巾乗に対応して設定される。これにより、チャネル幅が16のMOSFETQ15のオン抵抗値を1単位抵抗値とすると、上記5つのMOSFETQ15〜Q11のオン状態の組み合わせにより、1〜32単位抵抗値のような32段階に変化する可変抵抗素子、つまりはデジタル抵抗素子として動作させることができる。上記第2抵抗回路AC1のMOSFETQ16は、それ自身でゲートに供給せされる制御電圧によりオン抵抗値がアナログ制御される可変抵抗素子として動作する。 The MOSFETs Q11 to Q15 of the first resistor circuit DC1 have the same channel length, and the channel width is set corresponding to the power of 2 such as 1: 2: 4: 8: 16. As a result, when the on-resistance value of the MOSFET Q15 having a channel width of 16 is defined as one unit resistance value, a variable resistance that varies in 32 steps such as 1-32 unit resistance values depending on the combination of the on-states of the five MOSFETs Q15 to Q11. It can be operated as an element, ie a digital resistance element. The MOSFET Q16 of the second resistance circuit AC1 operates as a variable resistance element whose on-resistance value is analog-controlled by a control voltage supplied to the gate itself.
上記プルダウン受端抵抗の抵抗値制御を行う場合、調整セルの端子PD1と外部の電源電圧VDDとの間に抵抗Rが接続される。この抵抗Rの抵抗値は、上記基準電圧VREFの電圧値に対応して決められる。例えば、基準電圧VREFが電源電圧VDDの1/2の中点電圧であるときには、端子PD2に接続される受端抵抗の抵抗値と等しく設定される。つまり、端子PD2に接続される伝送線路の特性インピーダンスが50Ωのときには、受端抵抗の抵抗値を50Ωに設定すべく、上記抵抗Rは50Ωのものが接続される。 When resistance value control of the pull-down receiving resistor is performed, a resistor R is connected between the terminal PD1 of the adjustment cell and the external power supply voltage VDD. The resistance value of the resistor R is determined corresponding to the voltage value of the reference voltage VREF. For example, when the reference voltage VREF is a midpoint voltage that is ½ of the power supply voltage VDD, it is set equal to the resistance value of the receiving end resistor connected to the terminal PD2. That is, when the characteristic impedance of the transmission line connected to the terminal PD2 is 50Ω, the resistor R having a resistance of 50Ω is connected to set the resistance value of the receiving end resistor to 50Ω.
電圧比較回路AMPは、端子PD1の電圧と、基準電圧VREFを比較し、比較出力信号VCを形成する。スイッチSWは、接点aとbを有しており、接点a側に接続されたときにはMOSFETQ16のゲートに基準電圧VREFを供給し、接点bに接続されたときには上記比較出力信号VCを上記MOSFETQ16のゲートに供給する。安定的なMOSFETQ16の抵抗制御動作を行うために、出力端子にはキャパシタCが設けられる。このキャパシタCの容量値は、例えば1fないし100f程度にされる。 The voltage comparison circuit AMP compares the voltage at the terminal PD1 with the reference voltage VREF to form a comparison output signal VC. The switch SW has contacts a and b. When the switch SW is connected to the contact a side, the switch SW supplies the reference voltage VREF to the gate of the MOSFET Q16. When the switch SW is connected to the contact b, the comparison output signal VC is supplied to the gate of the MOSFET Q16. To supply. In order to perform stable resistance control operation of the MOSFET Q16, a capacitor C is provided at the output terminal. The capacitance value of the capacitor C is set to about 1 f to 100 f, for example.
論理制御回路LOGCは、シーケンス制御回路であり、電源投入直後に以下の第1動作を行い、その後に第2動作を実施する。レジスタREGは、記憶回路であり、上記論理制御回路LOGCからの入力信号により制御信号d1〜d5及びD1〜D5を保持して出力する。CLKは、クロック信号であり、レジスタREGの動作に使用される。 The logic control circuit LOGC is a sequence control circuit, and performs the following first operation immediately after power-on, and then performs the second operation. The register REG is a memory circuit, and holds and outputs control signals d1 to d5 and D1 to D5 by an input signal from the logic control circuit LOGC. CLK is a clock signal and is used for the operation of the register REG.
上記論理制御回路LOGCは、上記第1動作において、スイッチSWを接点a側に接続させて、第2抵抗回路AC1のMOSFETQ16のゲートに基準電圧VREFを供給する。特に制限されないが、最もオン抵抗値の大きなMOSFETQ11をオン状態にすべくレジスタREGを介して信号d1をハイレベル(論理1)に、他の信号d2〜d5をロウレベル(論理0)にする。これにより、MOSFETQ11をオン状態にして第1抵抗回路DC1を最も大きな抵抗値にする。なお、第1抵抗回路DC1は、全MOSFETQ11〜Q15の全てがオフ状態のときが理論的には最も抵抗値は大きいが、上記終端抵抗としての抵抗値ではないので除かれる。 In the first operation, the logic control circuit LOGC connects the switch SW to the contact a side and supplies the reference voltage VREF to the gate of the MOSFET Q16 of the second resistance circuit AC1. Although not particularly limited, the signal d1 is set to high level (logic 1) and the other signals d2 to d5 are set to low level (logic 0) via the register REG so as to turn on the MOSFET Q11 having the largest on-resistance value. As a result, the MOSFET Q11 is turned on so that the first resistance circuit DC1 has the largest resistance value. The first resistance circuit DC1 has the largest resistance value theoretically when all the MOSFETs Q11 to Q15 are in the OFF state, but is excluded because it is not the resistance value as the termination resistor.
端子PD1の電圧VPD1は、上記抵抗Rと上記第1抵抗回路DC1のMOSFETQ11と第2抵抗回路AC1のMOSFETQ16の合成抵抗との抵抗比に対応された分圧電圧となる。電圧比較回路AMPは、上記電圧VPD1と基準電圧VREFを比較して比較出力信号VCを形成する。例えば、上記基準電圧VREFが電源電圧VDDの中点電圧(VDD/2)であり、VPD1>VREFのときには比較出力信号VCはハイレベルになる。 The voltage VPD1 at the terminal PD1 is a divided voltage corresponding to the resistance ratio of the resistor R, the combined resistance of the MOSFET Q11 of the first resistor circuit DC1 and the MOSFET Q16 of the second resistor circuit AC1. The voltage comparison circuit AMP compares the voltage VPD1 with the reference voltage VREF to form a comparison output signal VC. For example, when the reference voltage VREF is the midpoint voltage (VDD / 2) of the power supply voltage VDD and VPD1> VREF, the comparison output signal VC is at a high level.
上記論理制御回路LOGCは、上記1回目の比較出力信号VCを受けて、レジスタREGを通してMOSFETQ11に代えてMOSFETQ12をオン状態にするよう信号d1,d2,d3,d4,d5を01000のように変化させる。ここで、0はロウレベル、1はハイレベルを表す。これにより、上記第1抵抗回路DC1の抵抗値が前記1単位抵抗値分だけ小さくなり、端子PD1の電圧VPD1が低下する。電圧比較回路AMPは、上記低下した電圧VPD1と基準電圧VREFを比較して比較出力信号VCを形成する。まだ、VPD1>VREFのときには比較出力信号VCはハイレベルのままとなる。 The logic control circuit LOGC receives the first comparison output signal VC and changes the signals d1, d2, d3, d4, and d5 to 01000 so that the MOSFET Q12 is turned on instead of the MOSFET Q11 through the register REG. . Here, 0 represents a low level and 1 represents a high level. As a result, the resistance value of the first resistance circuit DC1 is reduced by the one unit resistance value, and the voltage VPD1 at the terminal PD1 is lowered. The voltage comparison circuit AMP compares the lowered voltage VPD1 with the reference voltage VREF to form a comparison output signal VC. If VPD1> VREF, the comparison output signal VC remains at the high level.
上記論理制御回路LOGCは、上記2回目の比較出力信号VCを受けて、レジスタREGを通してMOSFETQ11とMOSFETQ12をオン状態にするよう信号d1,d2,d3,d4,d5を11000のように変化させる。特に制限されないが、制御論理回路LOGCは、加算回路を有しており、上記比較出力信号VCのハイレベルにより1つ前の信号d1,d2,d3,d4,d5に+1の加算動作を行う。レジスタREGは、クロックCLKに同期して上記加算結果を取り込込むので、信号d1,d2,d3,d4,d5は、前記クロックCLKに同期して10000,01000、11000…のような2進計数動作を行う。ここで、d1が最下位ビットで、d5が最上位ビットである。 The logic control circuit LOGC receives the second comparison output signal VC and changes the signals d1, d2, d3, d4, and d5 to 11000 so as to turn on the MOSFET Q11 and the MOSFET Q12 through the register REG. Although not particularly limited, the control logic circuit LOGC has an adder circuit, and performs an operation of adding +1 to the previous signals d1, d2, d3, d4, and d5 according to the high level of the comparison output signal VC. Since the register REG captures the addition result in synchronization with the clock CLK, the signals d1, d2, d3, d4, and d5 are binary counts such as 10,000, 01000, 11000,... In synchronization with the clock CLK. Perform the action. Here, d1 is the least significant bit and d5 is the most significant bit.
上記2進計数動作は、前記クロックCLKに対応してVPD1<VREFになるまで順次に行われ、上記第1抵抗回路DC1の抵抗値がクロックCLKに同期して前記1単位抵抗値分ずつ小さくされる。上記比較出力信号VCがハイレベル/ロウレベルに変化したとき、つまりは最初に上記VPD1<VREFにとされたときに上記第1動作から第2動作に入り、上記信号d1,d2,d3,d4,d5のレベルが固定され、同じレベルの信号が信号D1〜D5として通常セルに供給される。制御論理回路LOGCは、上記第2動作においてスイッチSWを接点bに切り替える。これにより、第2抵抗回路AC1のMOSFETQ16のゲートには、上記電圧VPD1が供給される。 The binary counting operation is sequentially performed until VPD1 <VREF corresponding to the clock CLK, and the resistance value of the first resistance circuit DC1 is decreased by one unit resistance value in synchronization with the clock CLK. The When the comparison output signal VC changes to the high level / low level, that is, when the VPD1 <VREF is first satisfied, the first operation is entered into the second operation, and the signals d1, d2, d3, d4, The level of d5 is fixed, and signals of the same level are supplied to the normal cell as signals D1 to D5. The control logic circuit LOGC switches the switch SW to the contact b in the second operation. As a result, the voltage VPD1 is supplied to the gate of the MOSFET Q16 of the second resistor circuit AC1.
通常セルは、第3抵抗回路DC2と、第4抵抗回路AC2を有する。第3抵抗回路DC2は、上記調整セルの第1抵抗回路DC1と同じ構成のMOSFETQ21〜Q25から構成され、それぞれのゲートには上記信号D1〜D5が供給される。第4抵抗回路AC2は、上記調整セルの第2抵抗回路AC1と同じ構成のMOSFETQ26から構成され、ゲートは上記MOSFETQ16と共通に接続される。 The normal cell has a third resistance circuit DC2 and a fourth resistance circuit AC2. The third resistor circuit DC2 includes MOSFETs Q21 to Q25 having the same configuration as the first resistor circuit DC1 of the adjustment cell, and the signals D1 to D5 are supplied to the respective gates. The fourth resistance circuit AC2 is configured by a MOSFET Q26 having the same configuration as that of the second resistance circuit AC1 of the adjustment cell, and the gate is commonly connected to the MOSFET Q16.
図2には、この発明に係る受端抵抗回路の動作を説明するための特性図が示されている。同図は、上記第1抵抗回路DC1と第2抵抗回路AC1による合成抵抗値(Ω)と、2進信号d1,d2,d3,d4,d5を10進で表した制御値の関係を示した抵抗特性図である。制御値が10進値で0、つまり2進信号d1,d2,d3,d4,d5が00000で、第1抵抗回路DC1(第3抵抗回路DC2)のMOSFETQ11〜Q15(Q21〜Q25)がオフ状態で、第2抵抗回路AC1(第4抵抗回路AC2)のMOSFETQ16(Q26)による合成抵抗値が約73Ω程度になっている。 FIG. 2 is a characteristic diagram for explaining the operation of the receiving resistor circuit according to the present invention. The figure shows the relationship between the combined resistance value (Ω) of the first resistor circuit DC1 and the second resistor circuit AC1 and the control value in which the binary signals d1, d2, d3, d4, and d5 are expressed in decimal. It is a resistance characteristic diagram. The control value is a decimal value of 0, that is, the binary signals d1, d2, d3, d4, and d5 are 00000, and the MOSFETs Q11 to Q15 (Q21 to Q25) of the first resistor circuit DC1 (third resistor circuit DC2) are off. Thus, the combined resistance value of the MOSFET Q16 (Q26) of the second resistor circuit AC1 (fourth resistor circuit AC2) is about 73Ω.
制御値が10進値で1、つまり2進信号d1,d2,d3,d4,d5が10000になり、第1抵抗回路DC1(第3抵抗回路DC2)のMOSFETQ11(Q21)のみがオン状態となり、抵抗値が約70Ω程度に低下する。以下、前記MOSFETQ11〜Q15(Q21〜Q25)のオン/オフ状態の組み合わせにより順次に抵抗値が低下し、第1抵抗回路DC1(第3抵抗回路DC2)のMOSFETQ11〜Q15(Q21〜Q25)の全てがオン状態となる最低抵抗値の39Ω程度になる。 The control value is a decimal value of 1, that is, the binary signals d1, d2, d3, d4, and d5 are 10,000, and only the MOSFET Q11 (Q21) of the first resistor circuit DC1 (third resistor circuit DC2) is turned on. The resistance value drops to about 70Ω. Thereafter, the resistance value is sequentially decreased by the combination of the on / off states of the MOSFETs Q11 to Q15 (Q21 to Q25), and all of the MOSFETs Q11 to Q15 (Q21 to Q25) of the first resistor circuit DC1 (third resistor circuit DC2). Is about 39Ω, which is the lowest resistance value for turning on.
前記のように伝送線路の特性インピーダンスが50Ωのときには、抵抗Rが50Ωにされる。このときには、例えば10進で表した制御値が12(2進信号d1,d2,d3,d4,d5が00110)のときに、VPD1<VREFになり、第1抵抗回路DC1(第3抵抗回路DC2)のMOSFETQ13とQ14(Q23とQ24)がオン状態になり、他はオフ状態で固定維持される。この状態では、拡大図で示したように、抵抗目標値50Ωに対して誤差分が生じている。上記受端抵抗の抵抗値の誤差分は、上記第2動作により解消される。つまり、第2動作によりスイッチSWが接点b側に切り替えられるので、電圧比較回路AMPは、VPD1=VREFになるようにMOSFETQ16(Q26)のゲート電圧VCを生成することにより上記誤差分が解消される。 As described above, when the characteristic impedance of the transmission line is 50Ω, the resistance R is set to 50Ω. At this time, for example, when the control value expressed in decimal is 12 (the binary signals d1, d2, d3, d4, and d5 are 00110), VPD1 <VREF, and the first resistor circuit DC1 (third resistor circuit DC2). ) MOSFETs Q13 and Q14 (Q23 and Q24) are turned on, and the others are kept fixed in the off state. In this state, as shown in the enlarged view, an error occurs with respect to the resistance target value of 50Ω. The error in the resistance value of the receiving end resistor is eliminated by the second operation. That is, since the switch SW is switched to the contact b side by the second operation, the voltage comparison circuit AMP eliminates the error by generating the gate voltage VC of the MOSFET Q16 (Q26) so that VPD1 = VREF. .
上記状態は、MOSFETQ11〜Q16(Q21〜Q26)のプロセスばらつきによる誤差分を解消するよう動作すること他、温度変化や電圧変化による上記第1抵抗回路DC1(第3抵抗回路DC2)と第2抵抗回路AC1(第4抵抗回路AC2)との合成抵抗値の変動分も補償するよう機能する。 In the above state, the first resistance circuit DC1 (third resistance circuit DC2) and the second resistance due to temperature change and voltage change are operated in addition to operating to eliminate errors due to process variations of the MOSFETs Q11 to Q16 (Q21 to Q26). It also functions to compensate for the variation in the combined resistance value with the circuit AC1 (fourth resistor circuit AC2).
第3図には、温度変化による受端抵抗変化量を説明するための特性図が示されている。温度t1のときに前記第1動作と第2動作が行われて、受端抵抗の抵抗値は50Ωに設定される。もしも、上記第1動作と第2動作による設定値のままであると、温度の上昇とともにMOSFETQ11〜Q16(Q21〜Q26)による受端抵抗の抵抗値は増大するという正の温度特性を持つ。例えば、温度がt2のように高くなった場合には、抵抗値は55Ωのように増大するので前記電圧VPD1を増大させる。このように受端抵抗値が大きくなるうとすると、VPD1>VREFとなり、電圧比較出力VCがハイレベル側に増大する。これにより、MOSFETQ16(Q26)のゲート電圧が前記VREFのときよりも高くなり、MOSFETQ16(Q26)のオン抵抗値を低下させて、上記合成抵抗値が50Ωになるように自動調整することになる。 FIG. 3 shows a characteristic diagram for explaining the amount of change in the receiving end resistance due to temperature change. The first operation and the second operation are performed at the temperature t1, and the resistance value of the receiving end resistor is set to 50Ω. If the set values of the first operation and the second operation remain as they are, the resistance value of the receiving resistances of the MOSFETs Q11 to Q16 (Q21 to Q26) increases as the temperature rises. For example, when the temperature becomes high as t2, the resistance value increases as 55Ω, so that the voltage VPD1 is increased. When the receiving end resistance value is increased in this way, VPD1> VREF, and the voltage comparison output VC increases to the high level side. As a result, the gate voltage of the MOSFET Q16 (Q26) becomes higher than that at the time of VREF, and the on-resistance value of the MOSFET Q16 (Q26) is lowered to automatically adjust the combined resistance value to 50Ω.
第4図には、電圧変化による受端抵抗変化量を説明するための特性図が示されている。電源電圧VDDが電圧v1のときに前記第1動作と第2動作が行われて、受端抵抗の抵抗値は50Ωに設定される。もしも、上記第1動作と第2動作による設定値のままであると、電圧の上昇とともにMOSFETQ11〜Q16(Q21〜Q26)による受端抵抗の抵抗値は減少する。例えば、電圧がv2のように高くなった場合には、抵抗値は48Ωのように減少するので前記電圧VPD1を減少させる。このように受端抵抗値が小さくなるうとすると、VPD1<VREFとなり、電圧比較出力VCがロウレベル側に減少する。これにより、MOSFETQ16(Q26)のゲート電圧が前記VREFのときよりも低くなり、MOSFETQ16(Q26)のオン抵抗値を増大させて、上記合成抵抗値が50Ωになるように自動調整することになる。 FIG. 4 shows a characteristic diagram for explaining the amount of change in the receiving end resistance due to voltage change. When the power supply voltage VDD is the voltage v1, the first operation and the second operation are performed, and the resistance value of the receiving end resistor is set to 50Ω. If the set values of the first operation and the second operation remain as they are, the resistance value of the receiving end resistors by the MOSFETs Q11 to Q16 (Q21 to Q26) decreases as the voltage increases. For example, when the voltage increases as v2, the resistance value decreases as 48Ω, so that the voltage VPD1 is decreased. When the receiving end resistance value is reduced in this way, VPD1 <VREF, and the voltage comparison output VC decreases to the low level side. As a result, the gate voltage of the MOSFET Q16 (Q26) becomes lower than that at the time of VREF, and the on-resistance value of the MOSFET Q16 (Q26) is increased to automatically adjust the combined resistance value to 50Ω.
図5には、この発明に係る受端抵抗回路の動作説明図が示されている。図5(A)は、温度、電圧の組み合わせ例が示されている。温度は、最小値(MIN)t1、代表値t2、最大値(MAX)t3であり、電圧は最小値(MIN)v1、代表値v2、最大値(MAX)v3である。図5(B)は、前記図3の各温度t1〜t3に対応した抵抗値の例が示されている。もしも、温度t1のときに前記第1動作のみで受端抵抗の抵抗値を設定すると最大変化量が10Ωとなり、目標値に対して20%もの大幅な変化となる。温度t2のときに前記第1動作のみで受端抵抗の抵抗値を設定すると最大変化量が5Ωとなり、目標値に対して10%もの大幅な変化となる。図5(C)は、前記図4の各電圧v1〜v3に対応した抵抗値の例が示されている。もしも、電圧v1のときに前記第1動作のみで受端抵抗の抵抗値を設定すると最大変化量が5Ωとなり、目標値に対して10%もの大幅な変化となる。電圧v2のときに前記第1動作のみで受端抵抗の抵抗値を設定すると最大変化量が3Ωとなり、目標値に対して6%もの変化となる。 FIG. 5 is an operation explanatory diagram of the receiving end resistor circuit according to the present invention. FIG. 5A shows an example of a combination of temperature and voltage. The temperature is the minimum value (MIN) t1, the representative value t2, and the maximum value (MAX) t3, and the voltage is the minimum value (MIN) v1, the representative value v2, and the maximum value (MAX) v3. FIG. 5B shows examples of resistance values corresponding to the temperatures t1 to t3 in FIG. If the resistance value of the receiving end resistor is set only by the first operation at the temperature t1, the maximum change amount is 10Ω, which is a significant change of 20% with respect to the target value. When the resistance value of the receiving end resistor is set only at the first operation at the temperature t2, the maximum change amount is 5Ω, which is a significant change of 10% with respect to the target value. FIG. 5C shows examples of resistance values corresponding to the voltages v1 to v3 in FIG. If the resistance value of the receiving end resistor is set only by the first operation when the voltage is v1, the maximum change amount is 5Ω, which is a significant change of 10% with respect to the target value. When the resistance value of the receiving end resistor is set only by the first operation when the voltage is v2, the maximum change amount is 3Ω, which is a change of 6% with respect to the target value.
本願発明においては、前記第1動作及び第2動作により、前記MOSFETのプログラばらつきの他に、温度や電圧の変動に対する前記図5に示したような大幅な受端抵抗の抵抗値の変動も抑制することができるので、上記のような受端抵抗値の変動を考慮したマージンを設定することなく、信号伝達動作を安定的にしかも高速に行うようにすることができる。 In the present invention, by the first operation and the second operation, in addition to the variation in the programming of the MOSFET, the variation in the resistance value of the receiving resistor as shown in FIG. Therefore, the signal transmission operation can be performed stably and at high speed without setting a margin in consideration of the variation in the receiving end resistance value as described above.
図6には、この発明に係る調整セルの等価回路図が示されている。同図は、前記第2動作に対応した等価回路である。前記第2動作では、電圧比較回路AMPの比較出力信号VCが第2抵抗回路AC1のMOSFETQ16のゲートに供給された状態である。 FIG. 6 shows an equivalent circuit diagram of the adjustment cell according to the present invention. This figure is an equivalent circuit corresponding to the second operation. In the second operation, the comparison output signal VC of the voltage comparison circuit AMP is supplied to the gate of the MOSFET Q16 of the second resistance circuit AC1.
図7には、上記図6の電圧比較回路AMPの入出力特性図が示されている。入力信号(PD1側)がVREFのときには、出力側(VC)もVREFと等しくされる。 FIG. 7 shows an input / output characteristic diagram of the voltage comparison circuit AMP of FIG. When the input signal (PD1 side) is VREF, the output side (VC) is also made equal to VREF.
図8には、NチャネルMOSFETQ16のゲート,ソース間電圧Vgsとドレイン−ソース間電流Idsの特性図が示されている。VgsがVREFの前後で電流Idsがリニアに変化する可変抵抗領域が利用される。 FIG. 8 shows a characteristic diagram of the gate-source voltage Vgs and the drain-source current Ids of the N-channel MOSFET Q16. A variable resistance region in which the current Ids changes linearly before and after Vgs is VREF is used.
図9には、前記第2動作での受端抵抗回路(第1抵抗回路と第2抵抗回路の合成抵抗)の抵抗特性図が示されている。電圧比較回路AMPの比較出力信号VCの増大に対応して、端子PD1側からみた抵抗値がリニアに低下する。これにより、例えば、受端抵抗回路(第1抵抗回路と第2抵抗回路の合成抵抗)の抵抗値を50Ωに制御することができる。つまり、VPD1>VREFのときは、受端抵抗回路の抵抗値が大きくなり、電圧比較回路AMPがこれを検知して比較出力信号VCを上昇させるので、MOSFETQ16のオン抵抗値が小さくなり、上記受端抵抗回路の抵抗値を小さくするよう制御する。逆に、VPD1<VREFのときは、受端抵抗回路の抵抗値が小さくなり、電圧比較回路AMPがこれを検知して比較出力信号VCを低下させるので、MOSFETQ16のオン抵抗値が大きくなり、上記受端抵抗回路の抵抗値を大きくするよう制御する。 FIG. 9 shows a resistance characteristic diagram of the receiving end resistance circuit (the combined resistance of the first resistance circuit and the second resistance circuit) in the second operation. Corresponding to the increase of the comparison output signal VC of the voltage comparison circuit AMP, the resistance value viewed from the terminal PD1 side linearly decreases. Thereby, for example, the resistance value of the receiving resistor circuit (the combined resistor of the first resistor circuit and the second resistor circuit) can be controlled to 50Ω. That is, when VPD1> VREF, the resistance value of the receiving end resistance circuit increases, and the voltage comparison circuit AMP detects this and raises the comparison output signal VC. Control to reduce the resistance value of the end resistor circuit. On the contrary, when VPD1 <VREF, the resistance value of the receiving end resistance circuit becomes small, and the voltage comparison circuit AMP detects this and lowers the comparison output signal VC. Therefore, the on-resistance value of the MOSFET Q16 becomes large, and Control to increase the resistance value of the receiving resistor circuit.
図10には、この発明に係る半導体集積回路装置に搭載される受端抵抗回路の他の一実施例の回路図が示されている。この実施例の通常セルは、端子PD2と電源電圧VDDとの間に接続されるプルアップ受端抵抗を構成する。これに対応して調整セルも、上記プルアップ受端抵抗を制御する構成とされる。前記図1と異なる点は、前記MOSFETQ11〜Q16及びQ21〜Q26がPチャネルMOSFETとされ、電源電圧VDD側に接続される。また、端子PD1には、回路の接地電位VSSとの間に抵抗Rが設けられる。他の構成は、前記図1と同様である。この実施例では、特に制限されないが、制御論理部LOGCに電圧比較回路が設けられる。回路の簡素化のためには、前記図1の実施例のように前記受端抵抗の抵抗値をアナログ制御を行う電圧比較回路AMPを利用することが有利である。クロックCLKは、図1のように外部から入力されるのではなく、LSI内部の適当なクロックが利用される。 FIG. 10 is a circuit diagram showing another embodiment of the receiving end resistor circuit mounted on the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. The normal cell of this embodiment constitutes a pull-up receiving resistor connected between the terminal PD2 and the power supply voltage VDD. Correspondingly, the adjustment cell is also configured to control the pull-up receiving end resistance. The difference from FIG. 1 is that the MOSFETs Q11 to Q16 and Q21 to Q26 are P-channel MOSFETs connected to the power supply voltage VDD side. Further, a resistor R is provided between the terminal PD1 and the circuit ground potential VSS. Other configurations are the same as those in FIG. In this embodiment, although not particularly limited, a voltage comparison circuit is provided in the control logic unit LOGC. In order to simplify the circuit, it is advantageous to use a voltage comparison circuit AMP that performs analog control of the resistance value of the receiving end resistor as in the embodiment of FIG. The clock CLK is not input from the outside as shown in FIG. 1, but an appropriate clock inside the LSI is used.
図11には、この発明に係る半導体集積回路装置に搭載される受端抵抗回路の更に他の一実施例の回路図が示されている。この実施例は、前記図1の実施例の変形例であり、レジスタREGが不揮発性メモリEPROMに置き換えられる。この実施例においては、LSI出荷前試験時に調整セルにて第1抵抗回路DC1を用いてデジタル制御する受端抵抗の調整を行う。調整はPAD1に目標値と同じ抵抗Rを接続し行う。デジタル制御する受端抵抗のビット(d1〜d5=D1〜D5)を変化させPAD1の電位がVREFになつた時、第1抵抗回路DC1(第3抵抗回路DC2)の受端抵抗は目標値となる。調整時の電圧、温度は、前記図5に示したような規格の代表値とする。代表値で設定を行うことで、設定時と実使用時における外部環境の差を小さくすることができる。 FIG. 11 is a circuit diagram showing still another embodiment of a receiving end resistor circuit mounted on a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. This embodiment is a modification of the embodiment of FIG. 1, and the register REG is replaced with a nonvolatile memory EPROM. In this embodiment, adjustment of the receiving end resistance that is digitally controlled using the first resistance circuit DC1 is performed in the adjustment cell during the LSI pre-shipment test. The adjustment is performed by connecting the same resistance R as the target value to PAD1. When the bit of the receiving end resistance (d1 to d5 = D1 to D5) to be digitally controlled is changed and the potential of PAD1 becomes VREF, the receiving end resistance of the first resistance circuit DC1 (third resistance circuit DC2) becomes the target value. Become. The voltage and temperature at the time of adjustment are set to typical values as shown in FIG. By setting with the representative value, the difference in the external environment between setting and actual use can be reduced.
不揮発性メモリEPROMに上記調整を行ったビットを記憶させる。デジタル制御する受端抵抗のビットは不揮発性メモリEPROMに記憶させた値となる。LSIの実使用時には、スイッチSWは接点b側に固定的に接続されており、上記誤差分や外部環境(温度、電圧)の変化が起きた場合の受端抵抗の制御がアナログ制御部(AC1,AC2)により自動調整で行われる。つまり、電源投入されると、上記不揮発性メモリEPROMの内容により第1抵抗回路DC1(第3抵抗回路DC2)によるデジタル抵抗調整動作が実施されるとともに、上記第2抵抗回路AC1(第4抵抗回路AC2)によるアナログ制御が実施されて、受端抵抗の抵抗値が設定される。 The adjusted bit is stored in the nonvolatile memory EPROM. The bit of the receiving resistor to be digitally controlled is a value stored in the nonvolatile memory EPROM. During actual use of the LSI, the switch SW is fixedly connected to the contact b side, and the control of the receiving end resistance when the error or the external environment (temperature, voltage) changes occurs is controlled by the analog control unit (AC1). , AC2). That is, when the power is turned on, a digital resistance adjustment operation is performed by the first resistance circuit DC1 (third resistance circuit DC2) according to the contents of the nonvolatile memory EPROM, and the second resistance circuit AC1 (fourth resistance circuit). Analog control by AC2) is performed, and the resistance value of the receiving end resistor is set.
調整セルの電圧VPD1と基準電圧VREFを電圧比較回路AMPで比較し、比較出力信号VCを出力する。電圧比較回路の出力端子には、安定化容量としてのキャパシタCが接続されている。電圧比較回路AMPは、(1)VPD1>VREF(受端抵抗が大きい)ならば、VREFより大きい比較出力信号VCを出力する。アナログ制御のNチャネルMOSFETQ16(Q26)のゲート電位は、デジタル制御の受端抵抗調整時に固定したVREFより大きくなる為、受端抵抗の抵抗値は小さくなる。また、(2)VPD1<VREF(受端抵抗が小さい)ならば、VREFより小さい比較出力信号VCを出力する。アナログ制御のNチャネルMOSFETQ16(Q26)のゲート電位はVREFより小さくなる為、受端抵抗の抵抗値は大きくなる。 The voltage VPD1 of the adjustment cell and the reference voltage VREF are compared by the voltage comparison circuit AMP, and a comparison output signal VC is output. A capacitor C as a stabilization capacitor is connected to the output terminal of the voltage comparison circuit. The voltage comparison circuit AMP outputs a comparison output signal VC larger than VREF if (1) VPD1> VREF (the receiving end resistance is large). Since the gate potential of the analog-controlled N-channel MOSFET Q16 (Q26) becomes larger than VREF fixed at the time of adjusting the receiving end resistance of digital control, the resistance value of the receiving end resistor becomes small. If (2) VPD1 <VREF (the receiving end resistance is small), a comparison output signal VC smaller than VREF is output. Since the gate potential of the analog-controlled N-channel MOSFET Q16 (Q26) is smaller than VREF, the resistance value of the receiving end resistor is increased.
前記図1や図10の実施例では、記憶回路にレジスタREGやフリップフロップ回路FFを用いるので、LSIの実使用時においても電源投入の都度第1動作を行って、前記第1抵抗回路DC1(第2抵抗回路DC2)を用いたデジタル制御による受端抵抗の設定を行った後に、第2動作による第2抵抗回路AC1(第4抵抗回路AC2)を用いたアナログ制御を行う。 In the embodiment shown in FIGS. 1 and 10, since the register REG and the flip-flop circuit FF are used for the memory circuit, the first resistor circuit DC1 (the first resistor circuit DC1 ( After setting the receiving resistance by digital control using the second resistor circuit DC2), analog control using the second resistor circuit AC1 (fourth resistor circuit AC2) by the second operation is performed.
図12には、この発明に係る半導体集積回路装置に搭載される受端抵抗回路の更に他の一実施例の回路図が示されている。この実施例は、前記図1の実施例の変形例であり、第1抵抗回路DC1(第4抵抗回路DC2)にもアナログ制御機能が付加される。つまり、第1抵抗回路DC1の抵抗素子として動作するMOSFETQ11〜Q15のゲートは、スイッチMOSFETQ110〜Q150を介して第2抵抗回路AC1のMOSFETQ16のゲートと接続される。そして、これらスイッチMOSFETQ110〜Q150のゲートに、前記デジタル信号d1〜d5が供給される。 FIG. 12 is a circuit diagram showing still another embodiment of a receiving end resistor circuit mounted on a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. This embodiment is a modification of the embodiment of FIG. 1, and an analog control function is also added to the first resistor circuit DC1 (fourth resistor circuit DC2). That is, the gates of the MOSFETs Q11 to Q15 that operate as the resistance elements of the first resistance circuit DC1 are connected to the gate of the MOSFET Q16 of the second resistance circuit AC1 via the switch MOSFETs Q110 to Q150. The digital signals d1 to d5 are supplied to the gates of the switch MOSFETs Q110 to Q150.
第3抵抗回路DC2も前記第1抵抗回路DC1と同様に、抵抗素子として動作するMOSFETQ21〜Q25のゲートは、スイッチMOSFETQ210〜Q250を介して第4抵抗回路AC2のMOSFETQ26のゲートと接続される。そして、これらスイッチMOSFETQ110〜Q150のゲートに、前記デジタル信号D1〜D5が供給される。 Similarly to the first resistor circuit DC1, in the third resistor circuit DC2, the gates of the MOSFETs Q21 to Q25 operating as resistor elements are connected to the gate of the MOSFET Q26 of the fourth resistor circuit AC2 via the switch MOSFETs Q210 to Q250. The digital signals D1 to D5 are supplied to the gates of the switch MOSFETs Q110 to Q150.
この構成では、前記第1抵抗回路DC1のMOSFETQ11〜Q15は、前記図1のような電源電圧VDDに対応した固定的な抵抗値を持つのではなく、第1動作時には基準電圧VREFに対応した抵抗値で動作する。そして、第2動作時には、スイッチSWが接点b側に切り替えられるので、上記電圧比較回路AMPの比較出力信号VCにより抵抗値が変化する可変抵抗素子として動作する。これにより、第1抵抗回路DC1(第4抵抗回路DC2)は、第1動作ではデジタル制御が行われ、第2動作ではアナログ制御が行われることになる。この構成では、受端抵抗の制御可能な抵抗値範囲を広くすることができる。 In this configuration, the MOSFETs Q11 to Q15 of the first resistance circuit DC1 do not have a fixed resistance value corresponding to the power supply voltage VDD as shown in FIG. 1, but a resistance corresponding to the reference voltage VREF in the first operation. Works with values. In the second operation, since the switch SW is switched to the contact b side, the switch SW operates as a variable resistance element whose resistance value changes according to the comparison output signal VC of the voltage comparison circuit AMP. As a result, the first resistance circuit DC1 (fourth resistance circuit DC2) is digitally controlled in the first operation and analog control is performed in the second operation. With this configuration, the controllable resistance value range of the receiving end resistor can be widened.
図13には、この発明に係る半導体集積回路装置に搭載される受端抵抗回路の更に他の一実施例の回路図が示されている。この実施例は、前記図12の実施例の変形例であり、第2抵抗回路AC1(第3抵抗回路AC2)が省略される。つまり、MOSFETQ11〜Q15(Q21〜Q25)がデジタル制御とアナログ制御の両方が行われるために、抵抗回路DAC1,DAC2のように表すことができ、アナログ制御専用回路である前記図12の第2抵抗回路AC1及び第4抵抗回路AC2を省略するものである。 FIG. 13 is a circuit diagram showing still another embodiment of a receiving end resistor circuit mounted on a semiconductor integrated circuit device according to the present invention. This embodiment is a modification of the embodiment of FIG. 12, and the second resistor circuit AC1 (third resistor circuit AC2) is omitted. That is, since the MOSFETs Q11 to Q15 (Q21 to Q25) perform both digital control and analog control, they can be represented as resistor circuits DAC1 and DAC2, and the second resistor of FIG. The circuit AC1 and the fourth resistance circuit AC2 are omitted.
前記図11ないし図13の実施例において、前記第1抵抗回路DC1のデジタル制御に用いられるクロックは、前記図10と同様に内部の適当なクロックが利用される。また、前記論理制御回路LOGCとレジスタREGは、2進のカウンタ回路に置き換えることが可能である。例えば、前記電圧比較回路AMPの比較出力信号VCのハイレベル(VPD1>VREF)のときに、クロックCLKに同期して+1の計数動作を行って前記信号d1〜d5(D1〜D5)を形成することができる。 11 to 13, the clock used for digital control of the first resistor circuit DC1 is an appropriate internal clock as in FIG. The logic control circuit LOGC and the register REG can be replaced with a binary counter circuit. For example, when the comparison output signal VC of the voltage comparison circuit AMP is at a high level (VPD1> VREF), the signals d1 to d5 (D1 to D5) are formed by performing a +1 counting operation in synchronization with the clock CLK. be able to.
図14には、この発明に係る半導体集積回路装置の入出力部の一実施例のブロック図が示されている。第1半導体集積回路装置LSI1の端子PD13と、第2半導体集積回路装置LSI2の端子PD22とは伝送線路L1により接続される。上記端子PD13は、出力回路(ドライバ)TX1の出力端子に接続され、上記端子PD22は、入力回路(レシーバ)RX2の入力端子に接続される。これにより、第1半導体集積回路装置LSI1から第2半導体集積回路装置LSI2に向けて信号伝達が行われる。逆に、第2半導体集積回路装置LSI2から第1半導体集積回路装置LSI1に向けて信号伝達を行うために、端子PD23と端子PD12が伝送線路L2により接続され、上記端子PD23に第2半導体集積回路装置LSI2の出力回路(ドライバ)TX2の出力端子に接続され、第1半導体集積回路装置LSI1の上記端子PD12に入力回路(レシーバ)RX1の入力端子に接続される。 FIG. 14 is a block diagram showing one embodiment of the input / output unit of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. The terminal PD13 of the first semiconductor integrated circuit device LSI1 and the terminal PD22 of the second semiconductor integrated circuit device LSI2 are connected by a transmission line L1. The terminal PD13 is connected to the output terminal of the output circuit (driver) TX1, and the terminal PD22 is connected to the input terminal of the input circuit (receiver) RX2. Thereby, signal transmission is performed from the first semiconductor integrated circuit device LSI1 to the second semiconductor integrated circuit device LSI2. Conversely, in order to transmit a signal from the second semiconductor integrated circuit device LSI2 to the first semiconductor integrated circuit device LSI1, the terminal PD23 and the terminal PD12 are connected by a transmission line L2, and the second semiconductor integrated circuit is connected to the terminal PD23. It is connected to the output terminal of the output circuit (driver) TX2 of the device LSI2, and is connected to the input terminal of the input circuit (receiver) RX1 to the terminal PD12 of the first semiconductor integrated circuit device LSI1.
上記第1半導体集積回路装置LSI1において、上記出力回路TX1には、内部回路で形成された伝送すべき信号が伝えられる。上記入力回路RX1の受信信号は、上記内部回路に伝えられる。同様に上記第1半導体集積回路装置LSI2においても、上記出力回路TX2には、内部回路で形成された伝送すべき信号が伝えられる。上記入力回路RX2の受信信号は、上記内部回路に伝えられる。 In the first semiconductor integrated circuit device LSI1, a signal to be transmitted, which is formed by an internal circuit, is transmitted to the output circuit TX1. The received signal of the input circuit RX1 is transmitted to the internal circuit. Similarly, in the first semiconductor integrated circuit device LSI2, a signal to be transmitted, which is formed by an internal circuit, is transmitted to the output circuit TX2. The received signal of the input circuit RX2 is transmitted to the internal circuit.
この実施例では、上記2つの第1,第2半導体集積回路装置LSI1,LSI2との間で高速に安定的な信号伝達を行うために、上記第2半導体集積回路装置LSI2においては、入力端子PD22に対応して通常セルが設けられる。この通常セルは、プルダウン可変抵抗素子として示されており、前記図1、図11〜図13に示したような構成とされる。この通常セルの抵抗値は、前記実施例のような調整セルにより制御される。調整セルに接続される端子PD21には、伝送線路L1の特性インピーダンスに対応した抵抗Rが設けられる。これにより、通常セルの抵抗値(受端抵抗値)は、上記抵抗Rに等しく制御され、結果として伝送線路L1の特性インピーダンスと整合されて、インピーダンス不整合等による反射等の問題が解消されて高速信号伝達が可能になる。 In this embodiment, in order to perform stable signal transmission at high speed between the two first and second semiconductor integrated circuit devices LSI1 and LSI2, the second semiconductor integrated circuit device LSI2 has an input terminal PD22. A normal cell is provided correspondingly. This normal cell is shown as a pull-down variable resistance element, and is configured as shown in FIG. 1 and FIGS. The resistance value of the normal cell is controlled by the adjustment cell as in the above embodiment. The terminal PD21 connected to the adjustment cell is provided with a resistor R corresponding to the characteristic impedance of the transmission line L1. Thereby, the resistance value (receiving end resistance value) of the normal cell is controlled to be equal to the resistance R, and as a result, it is matched with the characteristic impedance of the transmission line L1, and the problem of reflection due to impedance mismatching is solved. High-speed signal transmission becomes possible.
上記第2半導体集積回路装置LSI1においても、入力端子PD12に対応して通常セルが設けられる。この通常セルも、前記同様にプルダウン可変抵抗素子として示されており、前記図1、図11〜図13に示したような構成とされる。この通常セルの抵抗値は、前記実施例のような調整セルにより制御される。調整セルに接続される端子PD11には、伝送線路L2の特性インピーダンスに対応した抵抗Rが設けられる。これにより、通常セルの抵抗値(受端抵抗値)は、上記抵抗Rに等しく制御され、結果として伝送線路L2の特性インピーダンスと整合されて、インピーダンス不整合等による反射等の問題が解消されて高速信号伝達が可能になる。 The second semiconductor integrated circuit device LSI1 is also provided with a normal cell corresponding to the input terminal PD12. This normal cell is also shown as a pull-down variable resistance element in the same manner as described above, and is configured as shown in FIGS. 1 and 11 to 13. The resistance value of the normal cell is controlled by the adjustment cell as in the above embodiment. The terminal PD11 connected to the adjustment cell is provided with a resistor R corresponding to the characteristic impedance of the transmission line L2. Thereby, the resistance value (receiving end resistance value) of the normal cell is controlled to be equal to the resistance R, and as a result, it is matched with the characteristic impedance of the transmission line L2, and problems such as reflection due to impedance mismatching are solved. High-speed signal transmission becomes possible.
図15には、この発明に係る半導体集積回路装置の入出力部の他の一実施例のブロック図が示されている。この実施例の通常セルは、前記図14とは異なりプルアップ可変抵抗素子として示されており、前記図10に示したような構成とされる。他の構成は、前記図14と同様であるので説明を省略する。 FIG. 15 is a block diagram showing another embodiment of the input / output unit of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. Unlike the FIG. 14, the normal cell of this embodiment is shown as a pull-up variable resistance element, and is configured as shown in FIG. Other configurations are the same as those in FIG.
図16には、この発明に係る半導体集積回路装置の入出力部の更に他の一実施例のブロック図が示されている。この実施例の通常セルは、プルダウン可変抵抗素子及びプルアップ可変抵抗素子の両方が設けられる。つまり、通常セルは、第1,第2半導体集積回路装置LSI1,LSI2の端子PD12,PD22のそれぞれに対して例えば前記図1に示した受端抵抗回路と、図10に示した受端抵抗回路の両方が設けられる。これらの2つの受端抵抗回路に対応した調整セルは、上記プルダウン受端抵抗回路に対応したものと、プルアップ受端抵抗回路に対応したものの2つが設けられる。これにより、受端抵抗回路の抵抗値設定に用いられる抵抗Rもプルアップ用とプルダンウ用の2つの端子PD11N,PD11P及びPD21N,PD21Pにそれぞれ設けられる。 FIG. 16 is a block diagram showing still another embodiment of the input / output unit of the semiconductor integrated circuit device according to the present invention. The normal cell of this embodiment is provided with both a pull-down variable resistance element and a pull-up variable resistance element. That is, the normal cell includes, for example, the receiving resistor circuit shown in FIG. 1 and the receiving resistor circuit shown in FIG. 10 for each of the terminals PD12 and PD22 of the first and second semiconductor integrated circuit devices LSI1 and LSI2. Both are provided. There are provided two adjustment cells corresponding to these two receiving resistance circuits, one corresponding to the pull-down receiving resistance circuit and one corresponding to the pull-up receiving resistance circuit. Accordingly, the resistors R used for setting the resistance value of the receiving end resistor circuit are also provided at the two terminals PD11N and PD11P and PD21N and PD21P for pull-up and pull-down, respectively.
以上説明した本願発明においては、MOSFETのプロセスばらつきに関係なく受端抵抗の抵抗値を所望の抵抗値に高精度に設定できる。そして、LSIの実使用時に外部環境(温度、電圧)の変化が起きた場合、アナログ制御での受端抵抗で動的に調整を行う為、再調整が不要である。LSIの実使用時に受端抵抗の調整を行う必要がなく再調整も不要な為、システムの安定稼動が可能である。 In the present invention described above, the resistance value of the receiving end resistor can be set to a desired resistance value with high accuracy regardless of the process variation of the MOSFET. If the external environment (temperature, voltage) changes during actual use of the LSI, the adjustment is dynamically performed using the receiving resistance in analog control, so that readjustment is unnecessary. Since it is not necessary to adjust the receiving resistance during actual use of the LSI and readjustment is unnecessary, the system can be operated stably.
以上本発明者によってなされた発明を、前記実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は、前記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変更可能である。例えば、半導体集積回路装置LSIの信号端子が方形のチップの周辺部に分割されて配置され、それぞれの温度等が異なる可能性を持つ場合には、それぞれの予測される温度分布に対応して、あるいは電圧変動に対応して信号端子を複数に分割し、それぞれに対応して上記調整セルを設けて上記温度分布あるいは電圧変動部分に対応して通常セルの抵抗値を制御するものとしてもよい。前記デジタル制御を行う抵抗回路DC1,DC2等を構成するMOSFETは、前記のように2の巾乗に対応してチャネル幅を異なることの他、可変抵抗特性が前記図2よりもより直線的になるようにそれぞれのチャネル幅を設定するものや使用するMOSFETの数を増加又は減少させるもの等種々の実施形態を採ることができる。 Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the above embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. For example, when the signal terminals of the semiconductor integrated circuit device LSI are divided and arranged in the peripheral part of the square chip, and the respective temperatures may be different, corresponding to the respective predicted temperature distributions, Alternatively, the signal terminal may be divided into a plurality corresponding to the voltage fluctuation, and the adjustment cell may be provided for each to control the resistance value of the normal cell corresponding to the temperature distribution or the voltage fluctuation portion. The MOSFETs constituting the resistance circuits DC1, DC2, etc. that perform the digital control have a variable resistance characteristic that is more linear than that of FIG. Various embodiments such as those for setting the respective channel widths and those for increasing or decreasing the number of MOSFETs to be used can be adopted.
前記スイッチSWの接点aを通して供給せされる基準電圧は、前記電圧比較回路AMPに供給される基準電圧と等しくする必要はなく、MOSFETQ16の可変抵抗特性に合わせて適当に設定するものであってもよい。電圧比較回路AMPに供給される基準電圧VREFは、前記電源電圧VDDの中点電圧(VDD/2)である必要はない。例えば、基準電圧VREFをVDD/3の電圧に設定すると、抵抗Rと受端抵抗の抵抗値比が2:1になるようにされる。つまり、受端抵抗回路の抵抗値は、抵抗Rの1/2の抵抗値に設定される。前記図11の実施例の不揮発性メモリは、電気的に切断されるヒューズ手段やレーザー光線で切断されるヒューズ手段を用いるものであってもよい。 The reference voltage supplied through the contact a of the switch SW does not need to be equal to the reference voltage supplied to the voltage comparison circuit AMP, and may be appropriately set according to the variable resistance characteristic of the MOSFET Q16. Good. The reference voltage VREF supplied to the voltage comparison circuit AMP need not be the midpoint voltage (VDD / 2) of the power supply voltage VDD. For example, when the reference voltage VREF is set to VDD / 3, the resistance value ratio between the resistor R and the receiving end resistor is set to 2: 1. That is, the resistance value of the receiving resistor circuit is set to a resistance value that is ½ of the resistance R. The nonvolatile memory of the embodiment of FIG. 11 may use a fuse means that is electrically cut or a fuse means that is cut by a laser beam.
この発明は、受端抵抗を内蔵し、抵抗値を一定に保つ必要があるインターフエイス回路を備えた半導体集積回路装置に広く利用することができる。 The present invention can be widely used for a semiconductor integrated circuit device including an interface circuit that incorporates a receiving end resistor and needs to keep the resistance value constant.
AMP…電圧比較回路、DC1…第1抵抗回路、AC1…第2抵抗回路、DC2…第3抵抗回路、AC2…第4抵抗回路、LOGC…論理制御回路、REG…レジスタ、R…抵抗、C…キャパシタ、SW…スイッチ、EPROM…不揮発性メモリ、
Q11〜Q26…MOSFET、Q110〜Q250…スイッチMOSFET、
TX1,2…出力回路(ドライバ)、RX1,2…入力回路(レシーバ)
LS11…第1半導体集積回路装置、LSI2…第2半導体集積回路装置。
AMP ... Voltage comparison circuit, DC1 ... first resistance circuit, AC1 ... second resistance circuit, DC2 ... third resistance circuit, AC2 ... fourth resistance circuit, LOGC ... logic control circuit, REG ... register, R ... resistance, C ... Capacitor, SW ... switch, EPROM ... nonvolatile memory,
Q11 to Q26 ... MOSFET, Q110 to Q250 ... switch MOSFET,
TX1,2 ... Output circuit (driver), RX1,2 ... Input circuit (receiver)
LS11: first semiconductor integrated circuit device, LSI2: second semiconductor integrated circuit device.
Claims (9)
上記第1回路は、
第1端子と、
第1抵抗回路と、
第2抵抗回路と、
電圧比較部と、
スイッチ部と、
制御論理部とを有し、
上記第1端子は、動作電圧に対応した外部の第1電圧との間に所望の抵抗値を有する抵抗素子を接続するものであり、
上記第1抵抗回路は、上記第1端子と動作電圧に対応した第2電圧との間に並列形態に設けられた複数の第1MOSFETを有し、
上記第2抵抗回路は、上記第1端子と上記第2電圧との間に設けられた第2MOSFETを有し、
上記電圧比較部は、上記第1端子の電圧と、上記第1電圧と上記第2電圧との間の第1中間電圧との比較出力信号を形成し、
上記制御論理部は、
上記スイッチ部を制御して上記第1電圧と第2電圧との間の第2中間電圧を上記第2MOSFETのゲートに供給し、上記複数の第1MOSFETのオン/オフ制御により合成抵抗値を最大値から最小値に又は最小値から最大値に向けて変化させ、上記電圧比較部の比較出力信号が一方から他方に反転した時点の上記複数の第1MOSFETのオン状態の組み合わせを検知して記憶する第1動作と、
上記記憶情報により上記第1MOSFETのオン/オフ状態にし、上記スイッチ部を制御して上記電圧比較部の比較出力信号を上記第2MOSFETのゲートに供給する第2動作とを行い、
上記第2回路は、
第2端子と、
第1抵抗回路と同様の回路構成にされた複数の第3MOSFETからなる第3抵抗回路と、
第2抵抗回路と同様な回路構成にされた第4MOSFETからなる第4抵抗回路を有し、
上記複数の第3MOSFETは、上記複数の第1MOSFETのオン/オフを制御する上記記憶情報により同様にオン/オフ制御され、
上記第4MOSFETのゲートは、上記第2MOSFETのゲートに供給される上記電圧比較部の比較出力信号が供給され、
上記第3回路は、上記第2端子から供給される入力信号を受信する入力回路を有する半導体集積回路装置。 A first circuit, a second circuit, and a third circuit;
The first circuit includes
A first terminal;
A first resistance circuit;
A second resistance circuit;
A voltage comparison unit;
A switch part;
A control logic unit,
The first terminal is for connecting a resistance element having a desired resistance value to an external first voltage corresponding to the operating voltage,
The first resistance circuit has a plurality of first MOSFETs provided in parallel between the first terminal and a second voltage corresponding to the operating voltage,
The second resistance circuit includes a second MOSFET provided between the first terminal and the second voltage,
The voltage comparison unit forms a comparison output signal of the voltage of the first terminal and a first intermediate voltage between the first voltage and the second voltage;
The control logic part is
The switch section is controlled to supply a second intermediate voltage between the first voltage and the second voltage to the gate of the second MOSFET, and the combined resistance value is maximized by on / off control of the plurality of first MOSFETs. The first change is made from the minimum value to the minimum value or from the minimum value to the maximum value, and the combination of the ON states of the plurality of first MOSFETs at the time when the comparison output signal of the voltage comparison unit is inverted from one to the other is detected and stored. One action,
A second operation of turning on / off the first MOSFET according to the stored information and controlling the switch unit to supply a comparison output signal of the voltage comparison unit to the gate of the second MOSFET;
The second circuit is
A second terminal;
A third resistance circuit comprising a plurality of third MOSFETs having a circuit configuration similar to that of the first resistance circuit;
A fourth resistance circuit comprising a fourth MOSFET having a circuit configuration similar to that of the second resistance circuit;
The plurality of third MOSFETs are similarly on / off controlled by the stored information for controlling on / off of the plurality of first MOSFETs,
The gate of the fourth MOSFET is supplied with the comparison output signal of the voltage comparator supplied to the gate of the second MOSFET,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the third circuit has an input circuit that receives an input signal supplied from the second terminal.
上記制御論理部は、電源投入直後に上記第1動作を行い、その後に第2動作を行う半導体集積回路装置。 In claim 1,
The control logic unit is a semiconductor integrated circuit device that performs the first operation immediately after power-on and then performs the second operation.
上記第1中間電圧と第2中間電圧は、上記第1電圧と第2電圧との中点電圧にそれぞれ設定される半導体集積回路装置。 In claim 1,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the first intermediate voltage and the second intermediate voltage are respectively set to a midpoint voltage between the first voltage and the second voltage.
上記制御論理部は、出荷前に上記第1動作を行い、上記記憶情報を不揮発性記憶手段に記憶させ、出荷後は上記第2動作のみを行う半導体集積回路装置。 In claim 1,
The control logic unit is a semiconductor integrated circuit device that performs the first operation before shipment, stores the stored information in a nonvolatile storage means, and performs only the second operation after shipment.
上記第1電圧は正の電源電圧であり、上記第2電圧は回路の接地電位であり、
上記第1ないし第4抵抗回路は、NチャネルMOSFETで構成される半導体集積回路装置。 In claim 1,
The first voltage is a positive power supply voltage, the second voltage is a ground potential of the circuit,
The first to fourth resistance circuits are semiconductor integrated circuit devices configured by N-channel MOSFETs.
上記第1電圧は回路の接地電位であり、上記第2電圧は電源電圧であり、
上記第1ないし第4抵抗回路は、PチャネルMOSFETで構成される半導体集積回路装置。 In claim 1,
The first voltage is a ground potential of the circuit, the second voltage is a power supply voltage,
The first to fourth resistance circuits are semiconductor integrated circuit devices configured by P-channel MOSFETs.
上記第1回路は、
第1端子と、
第1抵抗回路と、
電圧比較部と、
スイッチ部と、
制御論理部とを有し、
上記第1端子は、動作電圧に対応した外部の第1電圧との間に所望の抵抗値を有する抵抗素子を接続するものであり、
上記第1抵抗回路は、上記第1端子と動作電圧に対応した第2電圧との間に並列形態に設けられた複数の第1MOSFETと、上記複数の第1MOSFETのそれぞれゲートと回路ノードとの間に設けられた複数の第2スイッチMOSFETとを有し、
上記電圧比較部は、上記第1端子の電圧と、上記第1電圧と上記第2電圧との中点電圧との比較出力信号を形成し、
上記制御論理部は、
上記スイッチ部を制御して上記中点電圧を上記回路ノードに供給し、上記複数の第2MOSFETのオン/オフ制御により上記複数の第1MOSFETの合成抵抗値を最大値から最小値に又は最小値から最大値に向けて変化させ、上記電圧比較部の比較出力信号が一方から他方に反転した時点の上記複数の第2MOSFETのオン状態の組み合わせを検知して記憶する第1動作と、
上記記憶情報により上記第2MOSFETのオン/オフ状態にし、上記スイッチ部を制御して上記電圧比較部の比較出力信号を回路ノードに供給する第2動作とを行い、
上記第2回路は、
第2端子と、
第1抵抗回路と同様の回路構成にされた複数の第3MOSFET及び複数の第4スイッチMOSFETからなる第2抵抗回路を有し、
上記複数の第4スイッチMOSFETは、上記複数の第2スイッチMOSFETのオン/オフを制御する上記記憶情報により同様にオン/オフ制御され、
上記第3回路は、上記第2端子から供給される入力信号を受信する入力回路を有する半導体集積回路装置。 A first circuit, a second circuit, and a third circuit;
The first circuit includes:
A first terminal;
A first resistance circuit;
A voltage comparison unit;
A switch part;
A control logic unit,
The first terminal is for connecting a resistance element having a desired resistance value to an external first voltage corresponding to the operating voltage,
The first resistor circuit includes a plurality of first MOSFETs provided in parallel between the first terminal and a second voltage corresponding to an operating voltage, and a gate and a circuit node of each of the plurality of first MOSFETs. A plurality of second switch MOSFETs provided in
The voltage comparison unit forms a comparison output signal of a voltage at the first terminal and a midpoint voltage between the first voltage and the second voltage,
The control logic part is
The midpoint voltage is supplied to the circuit node by controlling the switch unit, and the combined resistance value of the plurality of first MOSFETs is changed from the maximum value to the minimum value or from the minimum value by the on / off control of the plurality of second MOSFETs. A first operation for detecting and storing a combination of the ON states of the plurality of second MOSFETs at the time when the comparison output signal of the voltage comparison unit is inverted from one to the other;
A second operation of turning on / off the second MOSFET according to the stored information and controlling the switch unit to supply a comparison output signal of the voltage comparison unit to a circuit node;
The second circuit is
A second terminal;
A second resistance circuit including a plurality of third MOSFETs and a plurality of fourth switch MOSFETs having a circuit configuration similar to that of the first resistance circuit;
The plurality of fourth switch MOSFETs are similarly turned on / off by the stored information for controlling on / off of the plurality of second switch MOSFETs,
The semiconductor integrated circuit device, wherein the third circuit has an input circuit that receives an input signal supplied from the second terminal.
上記電圧比較部の出力端子には、容量手段を有する半導体集積回路装置。 The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the output terminal of the voltage comparison unit has a capacitance means.
上記第1回路を共通にして上記第2回路と第3回路とが一対とされて複数個設けられる半導体集積回路装置。 9. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein a plurality of the second circuits and the third circuits are provided as a pair by sharing the first circuit. 10.
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