JP2009252858A - Package for storing semiconductor element - Google Patents
Package for storing semiconductor element Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009252858A JP2009252858A JP2008096793A JP2008096793A JP2009252858A JP 2009252858 A JP2009252858 A JP 2009252858A JP 2008096793 A JP2008096793 A JP 2008096793A JP 2008096793 A JP2008096793 A JP 2008096793A JP 2009252858 A JP2009252858 A JP 2009252858A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramic frame
- semiconductor element
- base
- package
- brazing material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 65
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 97
- 238000005219 brazing Methods 0.000 claims abstract description 43
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 41
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 34
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 8
- 239000000945 filler Substances 0.000 abstract description 6
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 6
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 5
- SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N copper tungsten Chemical compound [Cu].[W] SBYXRAKIOMOBFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910016525 CuMo Inorganic materials 0.000 description 2
- WUUZKBJEUBFVMV-UHFFFAOYSA-N copper molybdenum Chemical compound [Cu].[Mo] WUUZKBJEUBFVMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
Description
本発明は、半導体素子を収納する半導体素子収納用パッケージに関する。特に、金属製の基体とセラミック枠体とをろう材で接合してなる半導体素子収納用パッケージに関する。 The present invention relates to a semiconductor element storage package for storing semiconductor elements. In particular, the present invention relates to a package for housing a semiconductor element formed by joining a metal base and a ceramic frame with a brazing material.
半導体素子を気密に封止して収容する半導体素子収納用パッケージとして、図5に示すような、熱伝導性の良い銅−モリブデン(CuMo)合金、銅−タングステン(CuW)合金等の金属からなり、上面に半導体素子(図示なし)を載置するための凸部1aが設けられた基体1上に、底面2a、内側面2bおよび上面2cが金属層(図示なし)で被覆されているセラミック枠体2を、半導体素子載置用凸部1aを囲繞するように搭載し,両者をろう材3によりろう付けしたものが知られている。セラミック枠体2の底面2aの金属層はろう付けのために設けられたものであり、内側面2bおよび上面2cの金属層は電気特性を向上させるために設けられたものである。
As a semiconductor element housing package for hermetically sealing and housing a semiconductor element, it is made of a metal such as a copper-molybdenum (CuMo) alloy or a copper-tungsten (CuW) alloy having good thermal conductivity as shown in FIG. A ceramic frame in which a
このような半導体素子収納用パッケージにおいては、セラミック枠体2の底面2aのみならず、内側面2bにも金属層が設けられているため、基体1上面にセラミック枠体2をろう付けした際に、過多となったろう材3がセラミック枠体2の内側面2bと基体1との間の間隙部Gに溜まり、そのろう材3が冷却固化して収縮する際に、セラミック枠体2に応力が加わり、クラックが発生する場合があることが明らかとなってきた。
In such a package for housing a semiconductor element, since the metal layer is provided not only on the
この問題を解決する方法として、例えば、使用するろう材の量を減らしたり、間隙部Gの幅や高さを大きくすることが考えられるが、ろう材の量を減らした場合には、セラミック枠体2の底面2aと基体1との間のろう材3にボイドが発生し、接合性が損なわれるおそれがある。一方、間隙部Gの幅や高さを変えると、設計の変更が必要になるという問題がある。
As a method for solving this problem, for example, it is conceivable to reduce the amount of brazing material to be used or increase the width or height of the gap portion G. There is a possibility that voids are generated in the brazing
なお、半導体素子収納用パッケージのこの種の問題の解決を図ったものとして、過剰なろう材を溜める溝あるいは窪みを設けたものが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。 In order to solve this type of problem in the package for housing a semiconductor element, there has been proposed a package provided with a groove or a recess for storing excessive brazing material (see, for example, Patent Document 1).
しかしながら、特許文献1に開示の半導体素子収納用パッケージは、いずれも上記半導体素子収納用パッケージとは、基体と枠体との接合部分の形状が異なるものであり、その従来技術を上記問題の解決に適用することはできない。
本発明は、上記従来技術の課題に対処してなされたものであり、上面に半導体素子を載置するための凸部が設けられた基体上に、底面および内側面が金属層で被覆されているセラミック枠体を、半導体素子載置用凸部を囲繞するように搭載し、ろう付けしてなるような半導体素子収納用パッケージにおいて、基体とセラミック枠体との良好な接合性を確保することができ、かつセラミック枠体におけるクラックの発生を防止することができる半導体素子収納用パッケージを提供することを目的とする。 The present invention has been made in response to the above-described problems of the prior art, and a bottom surface and an inner surface are coated with a metal layer on a base provided with a convex portion for placing a semiconductor element on the upper surface. A ceramic frame body is mounted so as to surround the semiconductor element mounting convex portion, and in a semiconductor element storage package formed by brazing, a good bonding property between the substrate and the ceramic frame body is ensured. An object of the present invention is to provide a package for housing a semiconductor element that can prevent cracks from occurring in a ceramic frame.
(1)請求項1の発明(半導体素子収納用パッケージ)は、上面に半導体素子を載置するための凸部が設けられた、少なくとも表面が金属からなる基体と、底面および内側面が金属層で被覆されているセラミック枠体と、前記セラミック枠体が前記基体上面に前記半導体素子載置用凸部を囲繞するように前記基体上面と前記金属層とを接合するろう材と、を備える半導体素子収納用パッケージであって、前記セラミック枠体の内側面の金属層と前記基体との間隙部のろう材表面が、前記基体の前記半導体素子載置用凸部の上面より下方で、かつ、前記基体のセラミック枠体の搭載部分の上面より上方に位置するように構成したことを特徴とする。 (1) The invention of claim 1 (semiconductor element storage package) is provided with a base having at least a surface made of metal provided with a convex part for placing a semiconductor element on the upper surface, and a bottom surface and an inner surface being a metal layer. And a brazing material that joins the upper surface of the base body and the metal layer so that the ceramic frame body surrounds the semiconductor element mounting convex portion on the upper surface of the base body. A package for element storage, wherein the brazing material surface of the gap between the metal layer on the inner surface of the ceramic frame and the base is below the upper surface of the convex part for mounting the semiconductor element on the base; and It is configured to be positioned above the upper surface of the ceramic frame mounting portion of the base.
本発明では、セラミック枠体の内側面の金属層と基体との間隙部のろう材表面が、基体の半導体素子載置用凸部の上面より下方で、かつ、基体のセラミック枠体の搭載部分の上面より上方に位置するように構成されているので、間隙部のろう材が固化し収縮する際にセラミック枠体に加わる応力を低減でき、かかる応力に起因するセラミック枠体のクラックの発生を防止することができる。また、基体とセラミック枠体との良好な接合性も確保することができる。 In the present invention, the surface of the brazing material in the gap between the metal layer on the inner side surface of the ceramic frame and the substrate is below the upper surface of the semiconductor element mounting convex portion of the substrate, and the ceramic frame mounting portion of the substrate Therefore, the stress applied to the ceramic frame when the brazing filler metal in the gap is solidified and contracted can be reduced, and cracks in the ceramic frame due to the stress can be reduced. Can be prevented. Also, good bondability between the substrate and the ceramic frame can be ensured.
(2)請求項2の発明は、対向する前記セラミック枠体の底面と前記基体のセラミック枠体の搭載部分の上面との間に、それらの離間距離を10〜30μmに規定するスペーサ部材を介在させたことを特徴とする。
(2) In the invention of
本発明では、対向するセラミック枠体の底面と記基体のセラミック枠体の搭載部分の上面との間に、それらの離間距離を10〜30μmに規定するスペーサ部材を介在させているので、間隙部に侵入するろう材の量を容易にコントロールすることができ、これにより、間隙部のろう材表面の位置を上述したような適正な位置に容易に調節することができる。 In the present invention, a spacer member is provided between the bottom surface of the opposing ceramic frame body and the top surface of the mounting portion of the ceramic frame body of the substrate, so that the gap between them is 10-30 μm. It is possible to easily control the amount of the brazing material penetrating into the gap, thereby easily adjusting the position of the brazing filler metal surface in the gap to the appropriate position as described above.
なお、対向するセラミック枠体の底面と記基体のセラミック枠体の搭載部分の上面との間の離間距離が10μm未満では、間隙部のろう材表面が、基体の半導体素子載置用凸部の上面より下方にすることが困難になる。また、逆に同離間距離が30μmを超えると、ろう材部分が厚くなり過ぎて、冷却収縮による応力がセラミック枠体に加わる恐れがある。 If the distance between the bottom surface of the opposing ceramic frame body and the top surface of the mounting portion of the ceramic frame body of the base is less than 10 μm, the brazing filler metal surface of the gap portion is the semiconductor element mounting convex portion of the base body. It becomes difficult to make it below the upper surface. On the other hand, if the separation distance exceeds 30 μm, the brazing material portion becomes too thick, and stress due to cooling shrinkage may be applied to the ceramic frame.
(3)請求項3の発明は、前記スペーサ部材が、前記セラミック枠体の底面および/または前記基体のセラミック枠体の搭載部分の上面に設けられた突起部からなることを特徴とする。
(3) The invention of
本発明は、好ましいスペーサ部材を例示したものであり、形成が容易である上に、対向するセラミック枠体の底面と記基体のセラミック枠体の搭載部分の上面との間の離間距離を安定に制御することができる。 The present invention exemplifies a preferable spacer member, which is easy to form and can stably form a separation distance between the bottom surface of the opposing ceramic frame body and the upper surface of the mounting portion of the ceramic frame body of the substrate. Can be controlled.
(4)請求項4の発明は、前記セラミック枠体の内側面と前記基体との間隙の下方の基体に、溶融したろう材を溜める凹部を設けたことを特徴とする。 (4) The invention of claim 4 is characterized in that a recess is provided in the base below the gap between the inner surface of the ceramic frame and the base to store the molten brazing material.
本発明では、セラミック枠体の内側面と基体との間隙の下方の基体に、溶融したろう材を溜める凹部が設けられているので、間隙部のろう材表面の位置を上述したような適正な位置に容易に調節することができる。 In the present invention, the base below the gap between the inner surface of the ceramic frame and the base is provided with a recess for storing the melted brazing filler metal. Can be easily adjusted to position.
(5)請求項5の発明は、前記セラミック枠体の内側面と前記基体との間隙の幅dが、50〜200μmであることを特徴とする。 (5) The invention of claim 5 is characterized in that the width d of the gap between the inner surface of the ceramic frame and the substrate is 50 to 200 μm.
本発明では、セラミック枠体の内側面と基体との間隙の幅dが、50〜200μmであるので、半導体素子収納用パッケージの設計上の変更を不要とすることができる。 In the present invention, since the width d of the gap between the inner surface of the ceramic frame and the substrate is 50 to 200 μm, it is not necessary to change the design of the package for housing semiconductor elements.
(6)請求項6の発明は、前記半導体素子載置用凸部の高さhが、100〜350μmであることを特徴とする。 (6) The invention of claim 6 is characterized in that a height h of the semiconductor element mounting convex portion is 100 to 350 μm.
本発明では、半導体素子載置用凸部の高さhが、100〜350μmであるので、半導体素子収納用パッケージの設計上の変更を不要とすることができる。 In the present invention, since the height h of the semiconductor element mounting convex portion is 100 to 350 μm, it is not necessary to change the design of the semiconductor element storage package.
本発明によれば、上面に半導体素子を載置するための凸部が設けられた基体上に、底面および内側面が金属層で被覆されているセラミック枠体を、半導体素子載置用凸部を囲繞するように搭載しろう付けしてなるような半導体素子収納用パッケージにおいて、基体とセラミック枠体との良好な接合性を確保することができ、かつセラミック枠体におけるクラックの発生を防止することができ、ひいては、半導体素子を気密に封止して収容する半導体素子収納用パッケージを提供できる。 According to the present invention, a ceramic frame having a bottom surface and an inner surface coated with a metal layer on a base provided with a convex portion for placing a semiconductor element on an upper surface is provided with a convex portion for placing a semiconductor element. In a package for housing a semiconductor element, which is mounted and brazed so as to surround the substrate, it is possible to ensure good bondability between the base and the ceramic frame and to prevent cracks in the ceramic frame. As a result, it is possible to provide a package for housing a semiconductor element in which the semiconductor element is hermetically sealed.
以下、本発明に係る実施の形態について説明する。なお、説明は図面に基づいて行うが、それらの図面は単に図解のために提供されるものであって、本発明はそれらの図面により何ら限定されるものではない。また、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係、各層の厚みの比率等は実際のものとは異なることに留意すべきである。さらに、以下の説明において、同一もしくは略同一の機能及び構成を有する構成要素については、同一符号を付し、重複する説明は省略する。 Embodiments according to the present invention will be described below. Although the description will be made based on the drawings, the drawings are provided for illustration only, and the present invention is not limited to the drawings. It should be noted that the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimensions, the ratio of the thickness of each layer, and the like are different from the actual ones. Furthermore, in the following description, components having the same or substantially the same function and configuration are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.
(第1の実施形態)
図1は本発明の第1の実施形態に係る半導体素子収納用パッケージを示す斜視図であり、また、図2は、その要部を拡大して示す断面図である。
(First embodiment)
FIG. 1 is a perspective view showing a package for housing a semiconductor element according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing an enlarged main part thereof.
これらの図1および図2に示すように、本実施形態の半導体素子収納用パッケージは、基体101と、この基体101上にろう材112を介して接合されたセラミック枠体102とを備えている。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the package for housing a semiconductor element of this embodiment includes a
基体101は、熱伝導性の良い銅−モリブデン(CuMo)合金からなり、その上面に半導体素子(図示なし)を載置するための凸部103を有している。なお、基体101は、銅−タングステン(CuW)合金、コバール(Kovar)と称する鉄−ニッケル−コバルト(FeNiCo)合金等の金属や、セラミックス等で形成されていてもよい。セラミックスの場合は、少なくとも表面が金属で覆われている。
The
本実施形態では、基体101は、平面形状が矩形であり、凸部103の高さhは、例えば100〜350μm程度である。また、基体101には、外部の実装基板にネジ止めするためのネジ止め孔が設けられた固定部104を備えている。
In the present embodiment, the
基体101は、半導体素子(図示なし)を支持する支持部材としての機能と、半導体素子の作動時の熱を放熱する放熱部材としての機能を併せ有する。
The
基体101の表面には、必要に応じて、ろう材との濡れ性に優れる金属、例えば厚さ1.0〜2.5μm程度のニッケル(Ni)層がめっき法により形成される。ニッケル(Ni)層上にさらに厚さ2〜3μm程度の金(Au)層をめっき法により形成してもよい。
A metal having excellent wettability with the brazing material, for example, a nickel (Ni) layer having a thickness of about 1.0 to 2.5 μm is formed on the surface of the
セラミック枠体102は、所定形状のアルミナ(Al2O3)等からなるセラミックグリーンシートを複数枚積層し焼成して形成される。セラミック枠体102の内側および外側には、段部105,106が形成されており、これらの段部105,106の上面には、セラミック枠体102の内部で接続される、タングステン(W)等のメタライズからなる複数本の線路導体107やグランドとなる金属層109が設けられている。これらの各線路導体107には、さらに外部電気回路と電気的に接続するためのリード端子108が接合されている。
The
また、セラミック枠体102の底面102aと下部内側面102bには、タングステン(W)等のメタライズからならなる金属層109が設けられ、底面102aには、さらに、タングステン(W)等の再度のメタライズにより高さが5〜25μmのスペーサ部材としてのバンプ110が複数個、形成されている。セラミック枠体102の下部内側面102bの金属層109と、底面102aのバンプ110が形成された金属層109の表面には、必要に応じて、ろう材との濡れ性に優れる金属、例えば厚さ1.0〜2.5μm程度のニッケル(Ni)層がめっき法により形成される。ニッケル(Ni)層上にさらに厚さ2〜3μm程度の金(Au)層をめっき法により形成してもよい。なお、タングステン(W)等のメタライズからならなる金属層109や、ニッケル(Ni)層、金(Au)層は、線路導体107の形成部分を除くセラミック枠体102の外表面全体に設けられていてもよい。
Further, a
セラミック枠体102は、基体101の上面に半導体素子載置用凸部103を囲繞するとともに、セラミック枠体102の下部内側面102bの金属層109の表面と基体101との間に、幅dが50〜200μm程度の間隙(間隙部111)を備え、銀ろう等のろう材112により接合されている。
The
このような半導体素子収納用パッケージにおいては、セラミック枠体102の底面102aに高さ5〜25μm程度のバンプ110が形成されているため、セラミック枠体102の底面102aと基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面との間に10〜30μmの離間距離aが確保される。
In such a package for housing semiconductor elements, the
その結果、セラミック枠体102の底面102aと基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面との間のろう材112におけるボイドの発生が防止されるとともに、セラミック枠体102の内側面108の金属層109と基体102との間隙部111のろう材112表面が、基体101の半導体素子載置用凸部103の上面より下方で、かつ、基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面より上方に位置するように構成することができ、セラミック枠体102におけるクラックの発生を防止することができる。
As a result, generation of voids in the
一方、バンプ110が形成されていない場合は、セラミック枠体102の底面102aと基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面との間の離間距離aは5μm程度となる。上記実施形態と同量のろう材にて、セラミック枠体102と基体101とを接合した場合、間隙部111に多量のろう材溜まりが発生し、図3に示すようにろう材112表面は、基体101の半導体素子載置用凸部103の上面より上方に位置することになる。また、ろう材量を減らすと、間隙部111のろう材112表面が、基体101の半導体素子載置用凸部103の上面より下方で、かつ、基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面より上方に位置するようになるが、セラミック枠体102の底面102aと基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面との間のろう材112にボイドが発生し、セラミック枠体102と基体101との接合が十分とならない場合があった。
On the other hand, when the
このように、セラミック枠体102の底面102aと基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面との間に10〜30μmの離間距離aを確保しない場合は、ろう材112内のボイドの防止とセラミック枠体102のクラックの防止を両立させることができないのに対し、本実施形態では、これらを両立させることができ、基体101とセラミック枠体102との接合性に優れ、かつセラミック枠体102におけるクラックの発生のない高品質、高信頼性の半導体素子収納用パッケージが得られる。
As described above, in the case where the separation distance a of 10 to 30 μm is not ensured between the
なお、本実施形態においては、セラミック枠体102の底面102aと基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面との間の離間距離aを確保するためのスペーサ部材として、セラミック枠体102の底面102aにメタライズにより設けたバンプ110を用いているが、バンプ110は、基体101側に設けてもよく、あるいは、セラミック枠体102の底面102aと基体101の上面の両方にも設けてもよい。また、基体101を成形加工する際に、上面に突起を設けるようにしてもよく、さらに、セラミック枠体102の底面102aと基体101の上面との間にセラミックボールや金属ボールを介在させるようにしてもよい。
In the present embodiment, the bottom surface of the
(第2の実施の形態)
図4は本発明の第2の実施形態に係る半導体素子収納用パッケージの要部を拡大して示す断面図である。なお、重複する説明を避けるため、第1の実施の形態と共通する点については説明を省略し、相違点のみ説明する。
(Second Embodiment)
FIG. 4 is an enlarged sectional view showing a main part of a package for housing a semiconductor element according to the second embodiment of the present invention. In addition, in order to avoid overlapping description, description is abbreviate | omitted about the point which is common in 1st Embodiment, and only a different point is demonstrated.
図4に示すように、第2の実施形態に係る半導体素子収納用パッケージにおいては、バンプを形成せず、セラミック枠体102の内側面102bと基体101との間隙部111の下方の基体101に、溶融したろう材107を溜める凹部113を設けている。図4の例では、断面矩形状の凹部113が形成されているが、特にこのような形状に限定されるものではない。また。深さについても特に限定されるものではないが、通常、50〜200μmである。
As shown in FIG. 4, in the package for housing a semiconductor device according to the second embodiment, bumps are not formed, and the
本実施形態においては、溶融したろう材112の少なくとも一部は凹部113に流入するため、第1の実施形態と同様、セラミック枠体102の内側面108の金属層109と基体102との間隙部111のろう材112表面が、基体101の半導体素子載置用凸部103の上面より下方で、かつ、基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面より上方に位置するように構成することができ、セラミック枠体102におけるクラックの発生を防止することができる。また、セラミック枠体102の底面102aと基体101のセラミック枠体102の搭載部分の上面との間のろう材112におけるボイドの発生も防止することができる。
In the present embodiment, since at least a part of the
なお、本発明は以上説明した実施の形態に記載内容に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の態様で実施し得ることはいうまでもない。 The present invention is not limited to the contents described in the embodiment described above, and it goes without saying that the present invention can be implemented in various modes without departing from the gist of the present invention.
101…基体、102…セラミック枠体、102a…底面、102b…内側面、103…半導体素子載置凸部、109…金属層、110…バンプ、111…間隙部、112…ろう材、113…凹部。
DESCRIPTION OF
Claims (6)
底面および内側面が金属層で被覆されているセラミック枠体と、
前記セラミック枠体が前記基体上面に前記半導体素子載置用凸部を囲繞するように前記基体上面と前記金属層とを接合するろう材と、
を備える半導体素子収納用パッケージであって、
前記セラミック枠体の内側面の金属層と前記基体との間隙部のろう材表面が、前記基体の前記半導体素子載置用凸部の上面より下方で、かつ、前記基体のセラミック枠体の搭載部分の上面より上方に位置するように構成したことを特徴とする半導体素子収納用パッケージ。 A base having at least a surface made of metal provided with a convex portion for placing a semiconductor element on the upper surface;
A ceramic frame whose bottom and inner surfaces are coated with a metal layer;
A brazing material that joins the upper surface of the base body and the metal layer so that the ceramic frame body surrounds the semiconductor element mounting convex portion on the upper surface of the base body;
A package for housing a semiconductor element comprising:
The brazing material surface in the gap between the metal layer on the inner surface of the ceramic frame and the base is below the upper surface of the semiconductor element mounting convex portion of the base, and the ceramic frame is mounted on the base A package for housing a semiconductor element, wherein the package is located above the upper surface of the portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008096793A JP5101375B2 (en) | 2008-04-03 | 2008-04-03 | Package for storing semiconductor elements |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008096793A JP5101375B2 (en) | 2008-04-03 | 2008-04-03 | Package for storing semiconductor elements |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009252858A true JP2009252858A (en) | 2009-10-29 |
JP5101375B2 JP5101375B2 (en) | 2012-12-19 |
Family
ID=41313305
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008096793A Active JP5101375B2 (en) | 2008-04-03 | 2008-04-03 | Package for storing semiconductor elements |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5101375B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9018755B2 (en) | 2013-04-09 | 2015-04-28 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Joint structure and semiconductor device storage package |
JP2015159243A (en) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 京セラ株式会社 | Wiring board |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09148468A (en) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Nec Corp | Semiconductor container |
-
2008
- 2008-04-03 JP JP2008096793A patent/JP5101375B2/en active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09148468A (en) * | 1995-11-24 | 1997-06-06 | Nec Corp | Semiconductor container |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9018755B2 (en) | 2013-04-09 | 2015-04-28 | Ngk Spark Plug Co., Ltd. | Joint structure and semiconductor device storage package |
JP2015159243A (en) * | 2014-02-25 | 2015-09-03 | 京セラ株式会社 | Wiring board |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5101375B2 (en) | 2012-12-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4322844B2 (en) | Semiconductor device and stacked semiconductor device | |
JP6627988B2 (en) | Semiconductor package | |
WO2017217369A1 (en) | Power semiconductor device | |
CN110544871B (en) | Packaging structure and stacked array structure of semiconductor laser | |
JP2008124176A (en) | Power semiconductor device | |
CN105518857B (en) | The manufacturing method of semiconductor device and semiconductor device | |
JP5732880B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP4899406B2 (en) | Flip chip type semiconductor device | |
JP5837187B2 (en) | Semiconductor element storage package, semiconductor device, and mounting structure | |
JP5973461B2 (en) | Expandable semiconductor chip and semiconductor device | |
JP2008124161A (en) | Electronic apparatus housing package and method of manufacturing electronic apparatus housing package | |
JP5101375B2 (en) | Package for storing semiconductor elements | |
CN106898586A (en) | Semiconductor devices | |
JP4435187B2 (en) | Multilayer semiconductor device | |
JP5127617B2 (en) | Semiconductor device | |
JP2018182131A (en) | Semiconductor device and method of manufacturing semiconductor device | |
JP2010199191A (en) | Semiconductor package and method of manufacturing semiconductor package | |
JP5800716B2 (en) | Power semiconductor device | |
JP4876523B2 (en) | Semiconductor chip mounting structure | |
JP4458028B2 (en) | Semiconductor device | |
CN112335025A (en) | Semiconductor device with a plurality of semiconductor chips | |
JP2005311214A (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JP2012114455A (en) | Semiconductor device for electric power | |
JP5004837B2 (en) | Structure and electronic device | |
JP2010067678A (en) | Junction structure and package for storing semiconductor element |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20110214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120613 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120619 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120801 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120904 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120926 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151005 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5101375 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |