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JP2009248456A - Laminate for tube and laminated tube - Google Patents

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JP2009248456A
JP2009248456A JP2008099375A JP2008099375A JP2009248456A JP 2009248456 A JP2009248456 A JP 2009248456A JP 2008099375 A JP2008099375 A JP 2008099375A JP 2008099375 A JP2008099375 A JP 2008099375A JP 2009248456 A JP2009248456 A JP 2009248456A
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Japan
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film
gas barrier
resin
vapor deposition
layer
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JP2008099375A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukimichi Kanemura
行倫 金村
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate for a tube which is excellent in gas-barrier properties and transparency. <P>SOLUTION: In the laminate, a surface olefin resin layer, a gas-barrier laminated film, and a heat sealing layer are laminated in turn. In the gas-barrier laminated film, a vapor deposition film (I) formed by supplying an organosilicon compound to a base film by a chemical vapor deposition method, a gas-barrier coated film (I), the vapor deposition film (II), and the gas-barrier coated film (II) are formed. It is suitable for cylindrical molding and can keep gas-barrier properties high since deterioration by hand-kneading is reduced. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、チューブ用積層体に関し、より詳細には表面オレフィン系樹脂層とガスバリア性積層フィルムとヒートシール層とをこの順に積層してなるチューブ用積層体であって、前記ガスバリア性積層フィルムは、基材フィルムに、有機珪素化合物の蒸着層、ガスバリア性塗布膜、有機珪素化合物の蒸着層、およびガスバリア性塗布膜とをこの順に積層してなり、ガスバリア性、柔軟性、可撓性に優れるチューブ用積層体および該積層体からなるラミネートチューブに関する。   The present invention relates to a laminate for a tube, and more specifically, a laminate for a tube in which a surface olefin-based resin layer, a gas barrier laminate film, and a heat seal layer are laminated in this order, and the gas barrier laminate film includes: An organic silicon compound vapor deposition layer, a gas barrier coating film, an organic silicon compound vapor deposition layer, and a gas barrier coating film are laminated in this order on the base film, and are excellent in gas barrier properties, flexibility, and flexibility. The present invention relates to a laminate for a tube and a laminate tube made of the laminate.

従来からラミネートチューブは種々の方法で製造されており、その一つに、少なくとも、表面樹脂層、中間層、および、内面樹脂層を順次積層して積層材を製造し、その両端部の表面樹脂層と内面樹脂層とをヒートシールして筒状胴部を製造し、その後に、該筒状胴部の一方の開口部に口部、肩部等からなる頭部を形成し、その口部にキャップを螺合させてなるラミネートチューブがある。上記で製造されたラミネートチューブは、その筒状胴部の開放端部から、例えば、練り歯磨き、マヨネーズ、練りワサビ、練りからし、ケチャップ、その他の調味料、あるいは、ホイップクリーム、その他等のクリーム類等の飲食品、化粧品、医薬品、その他等の内容物を充填し、その開放端部を密閉シールして底部シール部としてチューブ状の包装製品とすることができる。   Conventionally, a laminate tube has been manufactured by various methods, and at least one surface resin layer, an intermediate layer, and an inner surface resin layer are sequentially stacked to manufacture a laminated material, and surface resins at both ends thereof are manufactured. The cylindrical body is manufactured by heat-sealing the layer and the inner surface resin layer, and then a head composed of a mouth, a shoulder, etc. is formed in one opening of the cylindrical body, and the mouth There is a laminate tube in which a cap is screwed. The laminated tube manufactured above is, for example, toothpaste, mayonnaise, kneaded wasabi, knead, ketchup, other seasonings, whipped cream, other creams, etc. It can be filled with contents such as foods and beverages such as foods, cosmetics, pharmaceuticals, etc., and the open end can be hermetically sealed to form a tubular packaged product as a bottom seal.

このようなラミネートチューブを製造する積層材は、内容物を保護するために内容物に応じた機能を確保すべく、種々のプラスチックフィルム等を積層した層構成が提案され、それらの中でも、特に、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性に優れる積層材は、品質保持能を高く確保しうる点で多用されている。   The laminated material for producing such a laminated tube has been proposed a layer structure in which various plastic films and the like are laminated in order to ensure the function according to the contents in order to protect the contents. Laminates having excellent gas barrier properties that prevent permeation of oxygen gas, water vapor, and the like are frequently used in terms of ensuring high quality retention.

このようなガスバリア性素材としては、通常、アルミニウム箔ないしアルミニウム蒸着フィルム、あるいは、ポリ塩化ビニリデン系樹脂の単層フィルム、ポリ塩化ビニリデン系樹脂を使用した共押出フィルム、あるいは、ポリ塩化ビニリデン系樹脂組成物によるコートフィルム等が使用されている。その他、バリア性素材として、ポリビニルアルコール系樹脂フィルム、エチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム等が使用されている(例えば、特許文献1参照。)。   As such a gas barrier material, usually, an aluminum foil or an aluminum vapor-deposited film, a single-layer film of a polyvinylidene chloride resin, a coextruded film using a polyvinylidene chloride resin, or a polyvinylidene chloride resin composition The coated film etc. by the thing are used. In addition, polyvinyl alcohol resin films, ethylene-vinyl alcohol copolymer films, and the like are used as barrier materials (see, for example, Patent Document 1).

また、基材層の内面に、延伸プラスチックフィルムおよびアンカーコート層を介して熱接着性樹脂層を押出し塗布形成した材料において、アンカーコート層が2液硬化型ウレタン系接着剤を0.1〜0.5g/m2 の範囲の塗布量としたことを特徴とする、包装材料もある(特許文献2)。2液硬化型ウレタン系接着剤で積層すると、香料成分を多量含む内容物を保存した場合に、接着剤の接着強度が経時的に低下し、最終的に層間の接着強度が低下する点に鑑みてなされたものであり、上記構成によれば、香料成分の多い内容物を充填しても、延伸プラスチックフィルムとシーラント層間の接着強度の低下がなく安定して保存することができ、また、ポリエチレン系樹脂からなるシーラント層を溶融塗布することで形成することができるため、安価で安定した包装材料を製造しうる、という。特許文献2の図3には、上記包装材料からなる包装容器の実施例としてチューブ状容器が記載されている。 Further, in the material in which the heat-adhesive resin layer is formed by extrusion coating on the inner surface of the base material layer through the stretched plastic film and the anchor coat layer, the anchor coat layer contains 0.1 to 0 of the two-component curable urethane adhesive. There is also a packaging material characterized in that the coating amount is in a range of 0.5 g / m 2 (Patent Document 2). In view of the point that when laminated with a two-component curable urethane-based adhesive, the adhesive strength of the adhesive decreases with time when the content containing a large amount of the fragrance component is stored, and finally the adhesive strength between the layers decreases. According to the above configuration, even when filled with a content containing a large amount of a fragrance component, the adhesive strength between the stretched plastic film and the sealant layer can be stably stored without being lost. Since it can be formed by melt-coating a sealant layer made of a resin, it is possible to produce an inexpensive and stable packaging material. In FIG. 3 of Patent Document 2, a tubular container is described as an example of a packaging container made of the packaging material.

また、表面ポリオレフィン系樹脂層と、基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を設け、更に、該無機酸化物の蒸着膜の面上に、ガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けたバリア性フィルムからなる中間層と、裏面ポリオレフィン系樹脂層とを順次に積層したチュ−ブ容器用包材も開示されている(特許文献3)。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムやエチレン−ビニルアルコール共重合体フィルム等をバリア性素材として使用したチューブ容器は、絶乾状態ではガスバリア性に優れるが、湿潤状態では、酸素ガス、水蒸気等の透過を阻止するガスバリア性が著しく低下する場合があることに鑑みてなされたものであり、上記構成によって強度を有し、ガスバリア性に優れると共に、耐熱性、ヒートシール性、耐ピンホール性、耐突き刺し性、透明性等に優れ、その内容物の充填包装適性、保存適性等を有する、という。
特開平5−8352号公報(特許請求の範囲、実施例等) 特開平11−254595号公報 特開2005−144812号公報
Further, an inorganic oxide vapor-deposited film is provided on one surface of the surface polyolefin-based resin layer and the base film, and a gas barrier coating film made of a gas barrier composition is further formed on the surface of the inorganic oxide vapor-deposited film. Also disclosed is a tube container packaging material in which an intermediate layer made of a barrier film provided with a film and a backside polyolefin-based resin layer are sequentially laminated (Patent Document 3). A tube container using a polyvinyl alcohol-based resin film, an ethylene-vinyl alcohol copolymer film or the like as a barrier material is excellent in gas barrier properties in an absolutely dry state, but prevents permeation of oxygen gas, water vapor, etc. in a wet state. It was made in view of the fact that the gas barrier property may be remarkably lowered, and has the strength by the above configuration, and has excellent gas barrier property, heat resistance, heat seal property, pinhole resistance, puncture resistance, transparent It is said to have excellent properties, etc., and its contents are packed and packaged, stored, etc.
Japanese Patent Laid-Open No. 5-8352 (Claims, Examples, etc.) JP-A-11-254595 JP 2005-144812 A

しかしながら、特許文献1記載などに記載するように、バリア性素材としてアルミニウム箔を使用するとガスバリア性に優れるが、使用後、廃棄ゴミとして焼却処理する場合、その焼却適性に欠ける場合があり、また、透明性にも欠ける。   However, as described in Patent Document 1 and the like, it is excellent in gas barrier properties when aluminum foil is used as a barrier material, but after use, incineration treatment as waste waste may lack its incineration suitability, Also lacks transparency.

また、特許文献2に記載する積層材は、層間剥離の防止を目的とするものであり、記載の積層材ではガスバリア性が十分でない場合がある。
更に、特許文献3に記載するチュ−ブ容器用包材は、ガスバリア性、透明性に優れるが、より高いガスバリア性を有するものであればより好ましい。
Moreover, the laminated material described in Patent Document 2 is intended to prevent delamination, and the described laminated material may not have sufficient gas barrier properties.
Furthermore, the tube container packaging material described in Patent Document 3 is excellent in gas barrier properties and transparency, but is more preferable if it has higher gas barrier properties.

また、チューブ用積層体は、練からしや練り歯磨きなどを収納するために直径2〜4cm程度に成形され、湾曲した状態を維持する必要があるが、このような湾曲形状は積層体にとって大きな負荷である。また、ラミネートチューブは、使用の際に揉みだされるなど他の容器と比較して物理的な取り扱い負荷が多く、これにより積層体を構成するフィルムが劣化されやすく、フィルム劣化によりガスバリア性が低下する場合がある。   Moreover, the laminated body for tubes is formed to have a diameter of about 2 to 4 cm in order to accommodate kneading, toothpaste, and the like, and it is necessary to maintain a curved state. However, such a curved shape is large for the laminated body. It is a load. In addition, the laminate tube has a large physical handling load compared to other containers, such as squeezed out during use, so that the film constituting the laminate is easily deteriorated, and the gas barrier property is lowered due to film deterioration. There is a case.

そこで本発明は、湾曲などの機械的強度や透明性に優れ、実際の使用においてガスバリア性に優れるチューブ用積層体およびそれを使用したラミネートチューブを提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a laminated body for a tube which is excellent in mechanical strength such as curvature and transparency and excellent in gas barrier properties in actual use, and a laminated tube using the same.

本発明等は、チューブ用積層体について詳細に検討した結果、ガスバリア性積層体として基材フィルムの一方の面に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給および蒸着してなる蒸着膜は耐衝撃性、延展性、柔軟性等に優れるため擦り傷やクラック等の発生を回避することができ、高いバリア性を安定して維持しうること、この蒸着膜にガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設け、さらにこのガスバリア性塗布膜上に前記蒸着膜およびガスバリア性塗布膜を順次積層すると、より高いガスバリア性が確保できること、このガスバリア性積層体にヒートシール層と表面オレフィン系樹脂層とを積層するという簡単な層構成であれば、層間剥離などを回避してガスバリア性を高く維持しうることを見出し、本発明を完成させた。   As a result of examining the laminated body for a tube in detail, the present invention and the like show that a vapor-deposited film obtained by supplying and vapor-depositing an organic silicon compound by chemical vapor deposition on one surface of a base film as a gas barrier laminate is shock resistant. Since it is excellent in properties, spreadability, flexibility, etc., it is possible to avoid the occurrence of scratches and cracks, etc., and it is possible to stably maintain high barrier properties, and to this deposited film, a gas barrier coating film made of a gas barrier composition is applied. And further stacking the vapor deposition film and the gas barrier coating film on the gas barrier coating film in order to ensure higher gas barrier properties, and laminating a heat seal layer and a surface olefin resin layer on the gas barrier laminate. With this simple layer configuration, it was found that gas barrier properties can be kept high by avoiding delamination, and the present invention has been completed.

即ち、本発明は、表面オレフィン系樹脂層とガスバリア性積層フィルムとヒートシール層とをこの順に積層してなるチューブ用積層体であって、前記ガスバリア性積層フィルムは、基材フィルムの一方の面に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(I)を設け、該蒸着膜上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(I)を設け、前記ガスバリア性塗布膜(I)に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(II)を設け、該蒸着膜(II)上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(II)を設けたガスバリア性積層フィルムであることを特徴とする、チューブ用積層体を提供するものである。 That is, the present invention is a laminate for a tube in which a surface olefin-based resin layer, a gas barrier laminate film, and a heat seal layer are laminated in this order, and the gas barrier laminate film is formed on one surface of a base film. A vapor-deposited film (I) obtained by supplying an organic silicon compound by chemical vapor deposition is provided on the vapor-deposited film, and a general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 , R 2) Represents an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M. A gas barrier composition obtained by polycondensation by a sol-gel method, containing at least one alkoxide represented by the formula (1)), a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer. Gas barrier coating film by (I) is provided, and a vapor deposition film (II) obtained by supplying an organic silicon compound by chemical vapor deposition is provided on the gas barrier coating film (I), and the general formula R 1 n is provided on the vapor deposition film (II). M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, and m represents 1 or an integer greater than or equal to 1 and n + m represents the valence of M.) and contains at least one alkoxide represented by: a polyvinyl alcohol-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer; Furthermore, the present invention provides a laminate for a tube, which is a gas barrier laminate film provided with a gas barrier coating film (II) made of a gas barrier composition obtained by polycondensation by a sol-gel method. .

また、本発明は、上記チューブ用積層体からなるラミネートチューブを提供するものである。   Moreover, this invention provides the laminated tube which consists of the said laminated body for tubes.

本発明のチューブ用積層体は、耐衝撃性、延展性、柔軟性等に優れるため、当該チューブ用積層体を湾曲してラミネートチューブを調製する際の成形加工性に優れる。
また、本発明のチューブ用積層体は、湾曲加工や手揉みによってもガスバリア性が低下せず、品質保持能が高い。
Since the laminated body for tubes of the present invention is excellent in impact resistance, spreadability, flexibility and the like, it is excellent in molding processability when a laminated tube is prepared by bending the laminated body for tubes.
Moreover, the laminated body for tubes of the present invention does not deteriorate in gas barrier properties even when it is bent or manually kneaded, and has high quality retention ability.

本発明のチューブ用積層体は、透明であるため、内容物の視認性が要求される分野に好適に使用することができる。   Since the laminated body for tubes of the present invention is transparent, it can be suitably used in the field where the visibility of the contents is required.

本発明の第一は、表面オレフィン系樹脂層とガスバリア性積層フィルムとヒートシール層とをこの順に積層してなるチューブ用積層体であって、前記ガスバリア性積層フィルムは、基材フィルムの一方の面に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(I)を設け、該蒸着膜上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(I)を設け、前記ガスバリア性塗布膜(I)に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(II)を設け、該蒸着膜(II)上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(II)を設けたガスバリア性積層フィルムであることを特徴とする、チューブ用積層体である。また、本発明の第二は、上記チューブ用積層体からなるラミネートチューブである。以下、本発明のチューブ用積層体およびラミネートチューブを詳細に説明する。 1st of this invention is a laminated body for tubes formed by laminating | stacking a surface olefin resin layer, a gas barrier property laminated film, and a heat seal layer in this order, Comprising: The said gas barrier property laminated film is one side of a base film. A vapor-deposited film (I) formed by supplying an organic silicon compound by chemical vapor deposition is provided on the surface, and a general formula R 1 n M (OR 2 ) m (where R 1 , R 2 represents an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents the valence of M. Gas barrier composition obtained by polycondensation by a sol-gel method, containing at least one or more alkoxides represented by formula (1)), a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer. Gas barrier coating film (I) is provided, and a vapor deposition film (II) obtained by supplying an organic silicon compound by chemical vapor deposition is provided on the gas barrier coating film (I), and the general formula R 1 n is provided on the vapor deposition film (II). M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, and m represents 1 or an integer greater than or equal to 1 and n + m represents the valence of M.) and contains at least one alkoxide represented by: a polyvinyl alcohol-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer; Furthermore, the laminate for tubes is a gas barrier laminate film provided with a gas barrier coating film (II) made of a gas barrier composition obtained by polycondensation by a sol-gel method. The second of the present invention is a laminated tube made of the above laminated body for tubes. Hereinafter, the laminated body for tubes and the laminated tube of the present invention will be described in detail.

(1) チューブ用積層体の構成
本発明のチューブ用積層体は、表面オレフィン系樹脂層とガスバリア性積層フィルムとヒートシール層とをこの順に積層してなるチューブ用積層体であり、前記ガスバリア性積層フィルムは、基材フィルムの一方の面に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(I)を設け、該蒸着膜上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(I)を設け、前記ガスバリア性塗布膜(I)に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(II)を設け、該蒸着膜(II)上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(II)を設けた積層体である。図1に本発明で使用するガスバリア性積層フィルムの層構成の好適な態様の一例を示す。
(1) Configuration of Tube Laminate The tube laminate of the present invention is a tube laminate formed by laminating a surface olefin resin layer, a gas barrier laminate film, and a heat seal layer in this order, and the gas barrier property. The laminated film is provided with a vapor deposition film (I) formed by supplying an organosilicon compound by chemical vapor deposition on one surface of a base film, and the general formula R 1 n M (OR 2 ) m is formed on the vapor deposition film. (In the formula, R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, and m represents an integer of 1 or more. N + m represents the valence of M.) and contains a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and further includes a sol-gel method. Obtained by polycondensation with A gas barrier coating film (I) made of a barrier composition is provided, and a vapor deposition film (II) obtained by supplying an organosilicon compound to the gas barrier coating film (I) by chemical vapor deposition is provided. II) on the general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, and n represents An integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M.), a polyvinyl alcohol-based resin and / or ethylene vinyl. A laminate comprising an alcohol copolymer and further provided with a gas barrier coating film (II) made of a gas barrier composition obtained by polycondensation by a sol-gel method. FIG. 1 shows an example of a preferred embodiment of the layer structure of the gas barrier laminate film used in the present invention.

図1では、ヒートシール層(10)は、ラミネート用接着剤(20)によってガスバリア性積層フィルム(30)に接着され、ガスバリア性積層フィルム(30)はラミネート用接着剤(20)によって表面オレフィン系樹脂層(40)に接着されている。ガスバリア性積層フィルム(30)は、基材フィルム(31)と有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(33)、ガスバリア性塗布膜(35)、有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(37)、およびガスバリア性塗布膜(39)とがこの順に積層して構成される。なお、ガスバリア性積層フィルム(30)は、いずれを最内層側に向けるものであってもよい。したがって、図1では、前記ガスバリア性積層フィルム(30)を構成するガスバリア性塗布膜(39)が、ラミネート用接着剤層(20)を介してヒートシール層(10)と対抗して積層されているが、基材フィルム(31)がヒートシール層(10)と対向するものであってもよい。更に、図1では、表面オレフィン系樹脂層(40)にUV硬化性樹脂からなる印刷層(50)が形成される態様を示す。印刷層(50)は、チューブ用積層体の両端部に形成されておらず、このため前記表面オレフィン系樹脂層(40)が熱融着性を有する場合には、チューブ用積層材の両端部の表面オレフィン系樹脂層(40)とヒートシール層(10)とを重ね合わせた後に熱融着することで、筒状に成形することができる。   In FIG. 1, the heat seal layer (10) is bonded to the gas barrier laminate film (30) with a laminating adhesive (20), and the gas barrier laminate film (30) is surface olefin-based with a laminating adhesive (20). It is adhered to the resin layer (40). The gas barrier laminate film (30) includes a base film (31) and a vapor deposition film (33) supplied with an organic silicon compound, a gas barrier coating film (35), and a vapor deposition film (37) supplied with an organic silicon compound. ) And a gas barrier coating film (39) are laminated in this order. In addition, any of the gas barrier laminate films (30) may be directed to the innermost layer side. Therefore, in FIG. 1, the gas barrier coating film (39) constituting the gas barrier laminate film (30) is laminated against the heat seal layer (10) through the laminating adhesive layer (20). However, the base film (31) may be opposed to the heat seal layer (10). Furthermore, in FIG. 1, the aspect by which the printing layer (50) which consists of UV curable resin is formed in a surface olefin resin layer (40) is shown. The printed layer (50) is not formed at both end portions of the tube laminate. Therefore, when the surface olefin-based resin layer (40) has heat-fusibility, both end portions of the tube laminate material. The surface olefin-based resin layer (40) and the heat seal layer (10) are superposed and then heat-sealed to form a cylinder.

本発明のチューブ用積層体は、ヒートシール層や表面オレフィン系樹脂層がラミネート用接着剤によってガスバリア性積層体と接着される態様に限定されず、押出し溶融樹脂を介して接着されるものであってもよい。図2に、ガスバリア性積層フィルム(30)の前記基材フィルム(31)側および前記ガスバリア性塗布膜(39)にそれぞれアンカーコート層(60)が形成され、このアンカーコート層(60)が押出し溶融樹層(25)を介してそれぞれヒートシール層(10)および表面オレフィン系樹脂層(40)と積層される態様を示す。なお上記したように、本発明のチューブ用積層体は、ガスバリア性積層フィルム(30)の基材フィルム(10)と前記ガスバリア性塗布膜(39)のいずれの面を最内層側に配向するものであってもよい。   The tube laminate of the present invention is not limited to an embodiment in which the heat seal layer or the surface olefin-based resin layer is bonded to the gas barrier laminate with a laminating adhesive, and is bonded through an extruded molten resin. May be. In FIG. 2, an anchor coat layer (60) is formed on the base film (31) side of the gas barrier laminate film (30) and the gas barrier coating film (39), respectively, and the anchor coat layer (60) is extruded. The aspect laminated | stacked with a heat seal layer (10) and a surface olefin resin layer (40) through a molten tree layer (25), respectively is shown. In addition, as described above, the laminate for a tube of the present invention is such that any surface of the base film (10) of the gas barrier laminate film (30) and the gas barrier coating film (39) is oriented to the innermost layer side. It may be.

(2) ガスバリア性積層フィルム
本発明で使用するガスバリア性積層フィルムは、基材フィルムの一方の面に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(I)を設け、該蒸着膜上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(I)を設け、前記ガスバリア性塗布膜(I)に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(II)を設け、該蒸着膜(II)上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(II)を設けたガスバリア性積層フィルムである。ガスバリア性塗布膜が、ポリビニルアルコール系樹脂またはエチレン・ビニルアルコール共重合体と1種以上のアルコキシドとが相互に化学的に反応して強固な三次元網目状複合ポリマー層を形成されるため、前記蒸着膜と相乗的に作用し、酸素、水蒸気などの透過を阻止するガスバリア性に優れ、耐熱水性にも優れる。本発明のガスバリア性積層フィルムは、前記蒸着膜とガスバリア性塗布膜とをそれぞれ2層ずつ積層することでより高いガスバリア性を確保することができる。
(2) Gas barrier laminated film The gas barrier laminated film used in the present invention is provided with a deposited film (I) formed by supplying an organic silicon compound by a chemical vapor deposition method on one surface of a base film. R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, and n represents 0 on the film) And m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M.), at least one alkoxide represented by the following formula: polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol A gas barrier coating film (I) comprising a gas barrier composition obtained by polycondensation by a sol-gel method, and a chemical vapor deposition method on the gas barrier coating film (I). To supply organosilicon compounds The becomes deposited film (II) is provided, the vapor deposition film (II) general formula R 1 n M (OR 2) on m (proviso that in formula, R 1, R 2 is an organic group having 1 to 8 carbon atoms M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M). A gas barrier coating film (II) comprising a gas barrier composition containing an alkoxide, a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and obtained by polycondensation by a sol-gel method was provided. It is a gas barrier laminate film. In the gas barrier coating film, a polyvinyl alcohol-based resin or ethylene / vinyl alcohol copolymer and one or more alkoxides chemically react with each other to form a strong three-dimensional network composite polymer layer. It acts synergistically with the deposited film, has excellent gas barrier properties that prevent the transmission of oxygen, water vapor, etc., and also has excellent hot water resistance. The gas barrier laminate film of the present invention can ensure higher gas barrier properties by laminating two layers each of the vapor deposition film and the gas barrier coating film.

(i) 基材フィルム
本発明で使用しうる基材フィルムとしては、化学的ないし物理的強度に優れ、有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を製膜化する条件等に耐え、また、その蒸着膜等の膜特性を損なうことなく良好に保持し得ることができる樹脂のフィルムを使用することができる。具体的には、例えば、ポリエチレン系樹脂あるいはポリプロピレン系樹脂等のポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS樹脂)、アクリロニトリルル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS樹脂)、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコ−ル系樹脂、エチレン−ビニルエステル共重合体ケン化物、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、各種のナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アセタール系樹脂、セルロース系樹脂、その他等の各種の樹脂のフィルムを使用することができる。本発明においては、上記の樹脂のフィルムの中でも、特に、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、または、ポリアミド系樹脂のフィルムを使用することが好ましいものである。なお、基材フィルムは、上記樹脂の未延伸フィルムや一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムなどのいずれのものでも使用することができる。
(I) Base film The base film that can be used in the present invention is excellent in chemical or physical strength, withstands the conditions for forming a deposited film formed by supplying an organosilicon compound, and the like. A resin film that can be satisfactorily maintained without deteriorating film properties such as a deposited film can be used. Specifically, for example, polyolefin resin such as polyethylene resin or polypropylene resin, cyclic polyolefin resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer ( ABS resins), poly (meth) acrylic resins, polycarbonate resins, polyvinyl alcohol resins, saponified ethylene-vinyl ester copolymers, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, various nylons, etc. Various resin films such as polyamide resin, polyurethane resin, acetal resin, cellulose resin, and the like can be used. In the present invention, among the above resin films, it is particularly preferable to use a polyester resin, polyolefin resin, or polyamide resin film. As the base film, any of an unstretched film of the above resin and a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used.

本発明において、上記の各種の樹脂のフィルムとしては、例えば、上記の各種の樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、押出法、キャスト成形法、Tダイ法、切削法、インフレーション法、その他等の製膜化法を用いて、上記の各種の樹脂を単独で製膜化する方法、あるいは、2種以上の各種の樹脂を使用して多層共押し出し製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等により、各種の樹脂のフィルムを製造し、更に、要すれば、例えば、テンター方式、あるいは、チューブラー方式等を利用して1軸ないし2軸方向に延伸してなる各種の樹脂のフィルムを使用することができる。   In the present invention, as the above-mentioned various resin films, for example, one or more of the above-mentioned various resins are used, and an extrusion method, a cast molding method, a T-die method, a cutting method, an inflation method, etc. The above-mentioned film forming method is used to form a film of each of the above-mentioned various resins alone, or to form a multilayer co-extrusion film using two or more kinds of resins, Using the above resins, various resin films are manufactured by a method of forming a film by mixing before forming a film, and if necessary, for example, a tenter method or a tubular method, etc. Various resin films that are stretched in a uniaxial or biaxial direction using the above can be used.

本発明において、樹脂のフィルムの膜厚としては、6〜2000μm位、より好ましくは、9〜100μm位が望ましい。
なお、上記の各種の樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、その製膜化に際して、例えば、フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電気的特性、強度、その他等を改良、改質する目的で、種々のプラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、その添加量としては、極く微量から数十%まで、その目的に応じて、任意に添加することができる。
In the present invention, the film thickness of the resin film is preferably about 6 to 2000 μm, more preferably about 9 to 100 μm.
It should be noted that one or more of the above-mentioned various resins are used, and in forming the film, for example, film processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slipperiness Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying mold release properties, flame retardancy, antifungal properties, electrical properties, strength, etc. Can be optionally added from a very small amount to several tens of percent depending on the purpose.

上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用樹脂等も使用することができる。   In the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a filler, a reinforcing agent, an antistatic agent, a pigment, and the like can be used. Furthermore, a modifying resin or the like can also be used.

(ii)表面処理
本発明では、上記の基材フィルムの一方の面に有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を形成するが、予め基材フィルムに表面処理をおこなってもよい。これによって得られる蒸着膜やガスバリア性塗布膜との密着性を向上させることができる。
(Ii) Surface treatment In this invention, although the vapor deposition film formed by supplying an organosilicon compound to one surface of said base film is formed, you may surface-treat a base film previously. Adhesiveness with the vapor deposition film and gas barrier coating film obtained by this can be improved.

このような表面処理としては、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化処理、その他等の前処理などがある。   Such surface treatments include corona discharge treatment, ozone treatment, low temperature plasma treatment using oxygen gas or nitrogen gas, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, etc., and other pretreatments, etc. is there.

また、本発明で使用する各種フィルムの表面に、予め、プライマーコート剤、アンダーコート剤、アンカーコート剤、あるいは、蒸着アンカーコート剤等を任意に塗布し、表面処理とすることもできる。なお、前記コート剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエチレンあるいはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂あるいはその共重合体ないし変性樹脂、セルロース系樹脂、その他等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することができる。   In addition, a primer coating agent, an undercoat agent, an anchor coating agent, a vapor deposition anchor coating agent, or the like can be arbitrarily applied in advance to the surface of various films used in the present invention for surface treatment. Examples of the coating agent include polyester resins, polyamide resins, polyurethane resins, epoxy resins, phenol resins, (meth) acrylic resins, polyvinyl acetate resins, polyolefins such as polyethylene or polypropylene. A resin composition containing a resin or a copolymer or modified resin thereof, a cellulose resin, or the like as a main component of the vehicle can be used.

このような表面処理の中でも、特に、コロナ処理やプラズマ処理を行うことが好適である。例えばプラズマ処理としては、気体をアーク放電により電離させることにより生じるプラズマガスを利用して表面改質を行なうプラズマ処理がある。プラズマガスとしては、上記のほかに、酸素ガス、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の無機ガスを使用することができる。例えば、後記する化学気相成長法による有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を形成する直前に、インラインでプラズマ処理を行うことにより、基材フィルムの表面の水分、塵などを除去すると共にその表面の平滑化、活性化、その他等の表面処理を可能とすることができる。また、蒸着後にプラズマ処理を行い、密着性を向上させることもできる。本発明では、プラズマ処理としては、プラズマ出力、プラズマガスの種類、プラズマガスの供給量、処理時間、その他の条件を考慮してプラズマ放電処理を行うことが好ましい。また、プラズマを発生する方法としては、直流グロー放電、高周波放電、マイクロ波放電、その他の装置を使用することができる。また、大気圧プラズマ処理法によりプラズマ処理を行なうこともできる。   Among such surface treatments, it is particularly preferable to perform corona treatment or plasma treatment. For example, as plasma processing, there is plasma processing in which surface modification is performed using a plasma gas generated by ionizing a gas by arc discharge. In addition to the above, an inorganic gas such as oxygen gas, nitrogen gas, argon gas, helium gas can be used as the plasma gas. For example, immediately before forming a vapor deposition film formed by supplying an organic silicon compound by chemical vapor deposition, which will be described later, by performing plasma treatment in-line, moisture and dust on the surface of the substrate film are removed and Surface treatments such as surface smoothing, activation, etc. can be made possible. In addition, plasma treatment can be performed after vapor deposition to improve adhesion. In the present invention, as the plasma processing, it is preferable to perform the plasma discharge processing in consideration of the plasma output, the type of plasma gas, the supply amount of the plasma gas, the processing time, and other conditions. Moreover, as a method for generating plasma, DC glow discharge, high frequency discharge, microwave discharge, and other devices can be used. In addition, plasma treatment can be performed by an atmospheric pressure plasma treatment method.

(iii)有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜
有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜は、化学気相成長法により有機珪素化合物を蒸着用モノマーとして使用して行う。化学気相成長法としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法等を用いることができる。それらの中でも、特に、低温プラズマ化学気相成長法を用いて製膜化して製造することが望ましい。
(Iii) Deposition film formed by supplying an organosilicon compound The deposited film formed by supplying an organosilicon compound is formed by using an organosilicon compound as a deposition monomer by chemical vapor deposition. As the chemical vapor deposition method, for example, a plasma chemical vapor deposition method, a thermal chemical vapor deposition method, a photochemical vapor deposition method, or the like can be used. Among these, it is particularly desirable to produce a film by using a low temperature plasma chemical vapor deposition method.

本発明においては、具体的には、基材フィルムの一方の面に、有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマーガスを原料とし、キャリヤーガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、酸素ガス等を使用し、かつ、低温プラズマ発生装置等を利用する低温プラズマ化学気相成長法を用いて珪素酸化物等からなる有機珪素化合物の1層からなる単層蒸着膜あるいは2層以上からなる多層蒸着膜または複合膜を形成して製造することができる。   In the present invention, specifically, on one surface of the substrate film, a film-forming monomer gas composed of one or more organic silicon compounds is used as a raw material, and an inert gas such as argon gas or helium gas is used as a carrier gas. 1 of an organic silicon compound composed of silicon oxide or the like using a low-temperature plasma chemical vapor deposition method using a gas, further using an oxygen gas as an oxygen supply gas and utilizing a low-temperature plasma generator or the like. It can be produced by forming a single-layer vapor-deposited film composed of layers, a multilayer vapor-deposited film composed of two or more layers, or a composite film.

上記において、低温プラズマ発生装置としては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プラズマ等の発生装置を使用することができ、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得るためには、高周波プラズマ方式による発生装置を使用することが望ましい。   In the above, as a low-temperature plasma generator, for example, a generator such as high-frequency plasma, pulse wave plasma, microwave plasma can be used, and in the present invention, in order to obtain a highly active stable plasma, It is desirable to use a high frequency plasma generator.

上記の低温プラズマ化学気相成長法による有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜の形成法の一例を低温プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図である図3を用いて説明する。
図3のプラズマ化学気相成長装置(100)は、基材フィルム供給室(110)、真空チャンバーからなる第一製膜室(120)および基材フィルムの上に有機珪素化合物の蒸着層を製膜化したフィルムを巻き取る巻取り室(150)から構成される。前記基材フィルム供給室(110)内に配置された巻き出しロール(111)から基材フィルム(101)を繰り出し、該基材フィルム(101)を、第一製膜室(120)内の補助ロール(121)を介して所定の速度で冷却・電極ドラム(122)周面上に搬送する。一方、ガス供給装置(125)および、原料揮発供給装置(124)等から酸素ガス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマーガスその他等を供給して蒸着用混合ガス組成物を調製し、これを原料供給ノズル(127)を通して第一製膜室(120)内に導入する。該蒸着用混合ガス組成物を上記冷却・電極ドラム(122)周面上に搬送された基材フィルム(101)の上に供給し、グロー放電プラズマ(128)によってプラズマを発生させ照射し、酸化珪素等からなる有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を製膜化する。次いで、上記で酸化珪素等からなる有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を形成した基材フィルム(101)を補助ロール(123)を介して巻取り室(150)に移送し、ここで巻き取りロール(151)に巻き取れば、プラズマ化学気相成長法による蒸着膜を有するフィルムを製造することができる。なお、冷却・電極ドラム(122)は、第一製膜室(120)の外に配置されている電源(160)から所定の電力が印加され、冷却・電極ドラム(122)の近傍には、マグネット(129)を配置してプラズマの発生が促進されている。このように冷却・電極ドラムに電源から所定の電圧が印加されているため、真空チャンバー内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロー放電プラズマが生成される。このグロー放電プラズマは、混合ガス中の1つ以上のガス成分から導出されるものであり、この状態で基材フィルムを搬送させると、グロー放電プラブマによって、冷却・電極ドラム周面上の基材フィルムの上に、酸化珪素等からなる有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を形成することができる。なお、図3中、符号(153)は真空ポンプを表す。
An example of a method for forming a deposited film formed by supplying an organosilicon compound by the low temperature plasma chemical vapor deposition method will be described with reference to FIG. 3 which is a schematic configuration diagram of a low temperature plasma chemical vapor deposition apparatus.
The plasma chemical vapor deposition apparatus (100) of FIG. 3 produces a deposition layer of an organosilicon compound on a substrate film supply chamber (110), a first film formation chamber (120) consisting of a vacuum chamber, and a substrate film. It is comprised from the winding chamber (150) which winds up the film-formed film. The base film (101) is unwound from an unwinding roll (111) disposed in the base film supply chamber (110), and the base film (101) is assisted in the first film forming chamber (120). It is conveyed on the circumferential surface of the cooling / electrode drum (122) at a predetermined speed via the roll (121). On the other hand, an oxygen gas, an inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organosilicon compound, etc. are supplied from a gas supply device (125) and a raw material volatilization supply device (124) to prepare a mixed gas composition for vapor deposition. This is introduced into the first film forming chamber (120) through the raw material supply nozzle (127). The mixed gas composition for vapor deposition is supplied onto the substrate film (101) conveyed on the peripheral surface of the cooling / electrode drum (122), and plasma is generated and irradiated by glow discharge plasma (128) for oxidation. A deposited film formed by supplying an organosilicon compound made of silicon or the like is formed. Next, the base film (101) on which the vapor deposition film formed by supplying the organosilicon compound made of silicon oxide or the like as described above is transferred to the winding chamber (150) through the auxiliary roll (123). If it winds up to a take-off roll (151), the film which has a vapor deposition film by a plasma chemical vapor deposition method can be manufactured. The cooling / electrode drum (122) is applied with a predetermined power from a power source (160) disposed outside the first film forming chamber (120), and in the vicinity of the cooling / electrode drum (122), The generation of plasma is promoted by disposing a magnet (129). Since a predetermined voltage is applied from the power source to the cooling / electrode drum in this way, glow discharge plasma is generated in the vicinity of the opening of the raw material supply nozzle in the vacuum chamber and the cooling / electrode drum. This glow discharge plasma is derived from one or more gas components in the mixed gas. When the substrate film is conveyed in this state, the glow discharge plasma causes the substrate on the peripheral surface of the cooling / electrode drum to be conveyed. A vapor deposition film formed by supplying an organosilicon compound made of silicon oxide or the like can be formed on the film. In FIG. 3, reference numeral (153) represents a vacuum pump.

本発明において、有機珪素化合物等の蒸着モノマーガスを使用して形成される蒸着膜は、有機珪素化合物等の蒸着モノマーガスと酸素ガス等とが化学反応し、その反応生成物が、基材フィルムの一方の面に密接着し、緻密な、柔軟性等に富む薄膜を形成するものであり、通常、一般式SiOX(ただし、Xは、0〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とする連続状の薄膜である。上記有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式SiOX(ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表す。)で表される有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を主体とする薄膜であることが好ましい。なお、Xの値は、蒸着モノマーガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギー等により変化するが、一般的に、Xの値が小さくなればガス透過度は小さくなり、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪くなる。 In the present invention, a vapor deposition film formed using a vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound chemically reacts with a vapor deposition monomer gas such as an organosilicon compound and oxygen gas, and the reaction product is a base film. Is formed into a dense and flexible thin film, and is usually an oxidation represented by the general formula SiO x (where X represents a number from 0 to 2). It is a continuous thin film mainly composed of silicon. The vapor-deposited film formed by supplying the organosilicon compound is represented by the general formula SiO x (where X represents a number from 1.3 to 1.9) from the viewpoint of transparency and barrier properties. A thin film mainly composed of a vapor-deposited film obtained by supplying an organosilicon compound is preferable. The value of X varies depending on the molar ratio of vapor deposition monomer gas and oxygen gas, plasma energy, etc. Generally, the gas permeability decreases as the value of X decreases, and the film itself becomes yellowish. It becomes tinged and becomes less transparent.

本発明において、有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜は、酸化珪素を主体とし、更に、炭素、水素、珪素または酸素の1種類、または2種類以上の元素からなる化合物の少なくとも1種類を化学結合等により含有する蒸着膜からなることを特徴とする。例えば、C−H結合を有する化合物、Si−H結合を有する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイヤモンド状、フラーレン状等になっている場合、更に、原料の有機珪素化合物やそれらの誘導体を化学結合等によって含有する場合があるものである。例えば、CH3部位を持つハイドロカーボン、SiH3シリル、SiH2シリレン等のハイドロシリカ、SiH2OHシラノール等の水酸基誘導体等を挙げることができる。なお、上記以外でも、蒸着過程の条件等を変化させることにより、蒸着膜中に含有される化合物の種類、量等を変化させてもよい。この際、上記の化合物が有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜中に含有する含有量としては、0.1〜50質量%、好ましくは5〜20質量%である。含有率が0.1質量%未満であると、蒸着膜の耐衝撃性、延展性、柔軟性等が不十分となり、曲げなどにより、擦り傷、クラック等が発生し易く、高いバリア性を安定して維持することが困難になる場合があり、一方、50質量%を越えるとバリア性が低下する場合がある。 In the present invention, the vapor deposition film formed by supplying an organosilicon compound is mainly composed of silicon oxide, and further chemistry of at least one compound of one kind of carbon, hydrogen, silicon or oxygen, or two or more kinds of elements. It consists of a vapor deposition film contained by bonding or the like. For example, when a compound having a C—H bond, a compound having a Si—H bond, or a carbon unit is in the form of graphite, diamond, fullerene, or the like, the raw material organosilicon compound or a derivative thereof is further added. It may be contained by a chemical bond or the like. Examples thereof include hydrocarbons having a CH 3 site, hydrosilica such as SiH 3 silyl and SiH 2 silylene, and hydroxyl derivatives such as SiH 2 OH silanol. In addition to the above, the type and amount of the compound contained in the deposited film may be changed by changing the conditions of the deposition process. Under the present circumstances, as content contained in said vapor deposition film | membrane which said compound supplies an organosilicon compound, it is 0.1-50 mass%, Preferably it is 5-20 mass%. If the content is less than 0.1% by mass, the impact resistance, spreadability, flexibility, etc. of the deposited film will be insufficient, and scratches, cracks, etc. will easily occur due to bending, and high barrier properties will be stabilized. On the other hand, if it exceeds 50% by mass, the barrier property may be lowered.

本発明においては、SiOxプラズマにより、基材フィルムの表面が清浄化され、その表面に、極性基やフリーラジカル等が発生するので、製膜化される有機珪素化合物等からなる蒸着膜と基材フィルムとの密接着性が高いものとなる。   In the present invention, the surface of the base film is cleaned by SiOx plasma, and polar groups, free radicals, and the like are generated on the surface. The tight adhesion with the film is high.

更に、本発明では、有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜において、上記の化合物の含有量が蒸着膜の表面から深さ方向に向かって増減していてもよい。例えば、表面から深さ方向に減少している場合には、これにより、蒸着膜の表面では上記化合物等により耐衝撃性等が高められ、他方、基材フィルムとの界面では、上記化合物の含有量が少ないために基材フィルムと蒸着膜との密接着性が強固なものとなる。このような有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜は、1層で構成される場合に限定されず、例えば2層あるいはそれ以上を積層した多層膜の状態でもよい。   Furthermore, in this invention, in the vapor deposition film formed by supplying the organosilicon compound, the content of the above compound may increase or decrease from the surface of the vapor deposition film in the depth direction. For example, when it decreases from the surface in the depth direction, this improves the impact resistance and the like by the above compound on the surface of the deposited film, while the inclusion of the above compound at the interface with the base film. Since the amount is small, the tight adhesion between the base film and the deposited film becomes strong. The vapor deposition film formed by supplying such an organosilicon compound is not limited to a single layer, but may be a multilayer film in which two or more layers are laminated, for example.

上記多層からなる蒸着層を製膜するには、複数の真空チャンバーを製膜室として有する化学気相成長装置(100)を使用することで、異なる組成の有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を形成することができる。図4を使用して、3層の蒸着膜を有する場合を例示する。図4のプラズマ化学気相成長装置(100)は、基材フィルム供給室(110)、第1製膜室(120)、第二製膜室(130)、第三製膜室(140)、および、基材フィルムの上に有機珪素化合物を供給してなる蒸着層を製膜化し重層したフィルムを巻き取る巻取り室(150)から構成される。基材フィルム供給室(110)において、巻き出しロール(111)から基材フィルム(101)を第一製膜室(120)に繰り出し、更に、該基材フィルム(101)を、補助ロール(121)を介して所定の速度で冷却・電極ドラム(122)周面上に搬送する。第一製膜室(120)では、原料揮発供給装置(124)、および、ガス供給装置(125)等から有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマーガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル(127)を通して第1製膜室(120)内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム(122)周面上に搬送された基材フィルム(101)の上に、グロー放電プラズマ(128)によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第1層の有機珪素化合物からなる蒸着層を製膜化する。   In order to form the above-mentioned multi-layered vapor deposition layer, a chemical vapor deposition apparatus (100) having a plurality of vacuum chambers as film formation chambers is used to supply an organic silicon compound having a different composition. Can be formed. FIG. 4 is used to illustrate the case of having a three-layer deposited film. The plasma chemical vapor deposition apparatus (100) of FIG. 4 includes a base film supply chamber (110), a first film forming chamber (120), a second film forming chamber (130), a third film forming chamber (140), And it is comprised from the winding chamber (150) which rolls up the film which formed the vapor deposition layer formed by supplying an organosilicon compound on a base film, and laminated | stacked the multilayer. In the base film supply chamber (110), the base film (101) is fed from the unwinding roll (111) to the first film forming chamber (120), and the base film (101) is further transferred to the auxiliary roll (121). ) On the circumferential surface of the cooling / electrode drum (122) at a predetermined speed. In the first film forming chamber (120), a raw material volatilization supply device (124), a gas supply device (125), etc. are used to form a film forming monomer gas, oxygen gas, inert gas, and the like. The above-mentioned mixed gas composition for film formation is introduced into the first film forming chamber (120) through the raw material supply nozzle (127) while supplying the others and adjusting the mixed gas composition for film formation comprising them. Then, a plasma is generated by glow discharge plasma (128) on the substrate film (101) conveyed on the peripheral surface of the cooling / electrode drum (122), and this is irradiated with silicon oxide. A vapor-deposited layer made of an organosilicon compound of the first layer made of or the like is formed into a film.

上記の第1製膜室(120)で第1層の蒸着膜を製膜化した基材フィルム(101)を補助ロール(123)、(131)等を介して第二製膜室(130)に繰り出し、次いで、上記と同様に、第1層の蒸着膜を製膜化した基材フィルム(101)を所定の速度で冷却・電極ドラム(132)周面上に搬送する。その後、上記と同様に、原料揮発供給装置(134)、および、ガス供給装置(135)等から有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマーガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル(137)を通して第二製膜室(130)内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム(132)周面上に搬送された第1層の蒸着膜を製膜化した基材フィルム(101)の第1層の蒸着膜の上に、グロー放電プラズマ(138)によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第2層の有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を製膜化する。   The base film (101) obtained by forming the first deposited film in the first film forming chamber (120) is transferred to the second film forming chamber (130) through the auxiliary rolls (123) and (131). Then, in the same manner as described above, the base film (101) obtained by forming the first-layer deposited film is transported onto the cooling / electrode drum (132) peripheral surface at a predetermined speed. Thereafter, in the same manner as described above, from the raw material volatilization supply device (134), the gas supply device (135), etc., the monomer gas for film formation, oxygen gas, inert gas, etc. composed of one or more organic silicon compounds are Supplying the above-mentioned mixed gas composition for film formation into the second film forming chamber (130) through the raw material supply nozzle (137) while adjusting the mixed gas composition for film formation comprising them, and A glow discharge plasma (138) is formed on the first layer deposited film of the base film (101) obtained by forming the first layer deposited film transported on the cooling / electrode drum (132) peripheral surface. A plasma is generated by irradiating and irradiating the plasma to form a vapor deposition film formed by supplying a second-layer organosilicon compound made of silicon oxide or the like.

更に、上記の第二製膜室(130)で第1層と第2層の蒸着膜を製膜化し、重層した基材フィルム(101)を補助ロール(133)、(141)等を介して第三製膜室(140)に繰り出し、次いで、上記と同様に、第1層と第2層の蒸着膜を製膜化した基材フィルム(101)を所定の速度で冷却・電極ドラム(142)周面上に搬送する。次いで、原料揮発供給装置(144)、および、ガス供給装置(145)等から有機珪素化合物の1種以上からなる製膜用モノマーガス、酸素ガス、不活性ガス、その他等を供給し、それらからなる製膜用混合ガス組成物を調整しながら、原料供給ノズル(147)を通して、第三製膜室(140)内に上記の製膜用混合ガス組成物を導入し、そして、上記の冷却・電極ドラム(142)周面上に搬送された第1層と第2層の蒸着膜を製膜化し、重層した基材フィルム1の第2層の蒸着膜の上に、グロー放電プラズマ(148)によってプラズマを発生させ、これを照射して、珪素酸化物等からなる第3層の有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を製膜化する。   Further, in the second film forming chamber (130), the first layer and the second layer are formed as a deposited film, and the laminated base film (101) is passed through the auxiliary rolls (133), (141) and the like. Next, the substrate film (101) formed by depositing the first layer and the second layer of the deposited film is cooled to the third film forming chamber (140) at a predetermined speed and the electrode drum (142) as described above. ) Carry on the circumferential surface. Next, a monomer gas for film formation consisting of one or more organic silicon compounds, oxygen gas, inert gas, and the like are supplied from the raw material volatilization supply device (144), the gas supply device (145), and the like. The film-forming mixed gas composition is introduced into the third film-forming chamber (140) through the raw material supply nozzle (147) while adjusting the film-forming mixed gas composition. Glow discharge plasma (148) is formed on the deposited film of the second layer of the base film 1 formed by stacking the deposited films of the first layer and the second layer conveyed on the peripheral surface of the electrode drum (142). A plasma is generated by irradiating and irradiating the plasma to form a vapor deposition film formed by supplying a third layer organosilicon compound made of silicon oxide or the like.

次いで、上記で第1層、第2層、および、第3層の蒸着膜を製膜化し、それらを重層した基材フィルム(101)を、補助ロール(143)を介して、巻取り室(150)に繰り出し、次いで、巻取りロール(151)に巻き取る。   Next, the first layer, the second layer, and the third layer of the deposited film are formed into a film, and the base film (101) on which these layers are stacked is wound through the auxiliary roll (143) into the winding chamber ( 150) and then wound on a winding roll (151).

なお、各第1、第2、および、第3の製膜室(120)、(130)、(140)に配設されている各冷却・電極ドラム(122)、(132)、(142)は、各第1、第2、および、第3の製膜室(120)、(130)、(140)の外に配置されている電源(160)から所定の電力が印加され、また、各冷却・電極ドラム(122)、(132)、(142)の近傍には、マグネット(129)、(139)、(149)を配置してプラズマの発生が促進されるものである。なお、図示しないが、上記のプラズマ化学気相成長装置には、真空ポンプ等が設けられ、各製膜室等は真空に保持されるように調製し得ることは勿論である。また、上記は、3層で例示したが、製膜室を任意に調製し、4層以上の多層構造とすることができる。   Each cooling / electrode drum (122), (132), (142) disposed in each of the first, second, and third film forming chambers (120), (130), (140). A predetermined power is applied from a power source (160) disposed outside each of the first, second, and third film forming chambers (120), (130), (140), and Magnets (129), (139), and (149) are arranged in the vicinity of the cooling / electrode drums (122), (132), and (142) to promote the generation of plasma. Although not shown, the plasma chemical vapor deposition apparatus is provided with a vacuum pump or the like, and it is needless to say that each film forming chamber can be prepared to be kept in vacuum. In addition, although the above is exemplified by three layers, a film forming chamber can be arbitrarily prepared to have a multilayer structure of four or more layers.

上記において、真空チャンバー内を真空ポンプにより減圧し、真空度1×10-1〜1×10-8Torr位、好ましくは、真空度1×10-3〜1×10-7Torr位に調製することが望ましい。また、本発明では、有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜が単層で構成されるか多層で構成されるかに係わらず、酸化珪素等からなる有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜の形成時の真空度は、各真空チャンバー内を真空ポンプにより減圧し、1×10-1〜1×10-4Torr、好ましくは、1×10-1〜1×10-2Torrに調整することが好ましい。従来の真空蒸着法により酸化珪素等からなる有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を形成する時の真空度、1×10-4〜1×10-5Torrに比較して低真空度であるから、基材フィルムの原反交換時の真空状態設定時間を短くすることができ、真空度が安定しやすく製膜プロセスも安定化する。なお、製膜室が複数ある場合には、真空度は、各室において同じであってもよく、異なっていてもよい。 In the above, the inside of the vacuum chamber is depressurized by a vacuum pump and adjusted to a degree of vacuum of 1 × 10 −1 to 1 × 10 −8 Torr, preferably a degree of vacuum of 1 × 10 −3 to 1 × 10 −7 Torr. It is desirable. Further, in the present invention, a vapor deposition film formed by supplying an organic silicon compound made of silicon oxide or the like regardless of whether the vapor deposited film formed by supplying an organosilicon compound is constituted by a single layer or a multilayer. The degree of vacuum at the time of formation is adjusted to 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably 1 × 10 −1 to 1 × 10 −2 Torr by reducing the pressure in each vacuum chamber with a vacuum pump. Is preferred. The degree of vacuum when forming a deposited film by supplying an organic silicon compound made of silicon oxide or the like by a conventional vacuum deposition method is lower than that of 1 × 10 −4 to 1 × 10 −5 Torr. Therefore, it is possible to shorten the time for setting the vacuum state at the time of exchanging the raw material of the base film, and it is easy to stabilize the degree of vacuum, and the film forming process is also stabilized. When there are a plurality of film forming chambers, the degree of vacuum may be the same or different in each chamber.

また、基材フィルムの搬送速度は、10〜300m/分位、好ましくは、50〜200m/分位に調製することが望ましいものである。プラズマ化学気相成長では、上記冷却・電極ドラムには、電源から所定の電圧が印加されているため、製膜室内の原料供給ノズルの開口部と冷却・電極ドラムとの近傍でグロー放電プラズマが生成される。このグロー放電プラズマは、製膜用混合ガス組成物に含まれる1以上のガス成分から導出されるものであり、基材フィルムを上記範囲で一定速度で搬送させると、グロー放電プラブマによって、前記冷却・電極ドラム周面上の基材フィルムの上に、珪素酸化物等からなる有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を均一に製膜化することができる。   Moreover, it is desirable that the conveyance speed of the base film is adjusted to about 10 to 300 m / min, preferably about 50 to 200 m / min. In plasma chemical vapor deposition, since a predetermined voltage is applied to the cooling / electrode drum from the power source, glow discharge plasma is generated in the vicinity of the opening of the material supply nozzle in the film forming chamber and the cooling / electrode drum. Generated. The glow discharge plasma is derived from one or more gas components contained in the film-forming mixed gas composition. When the base film is transported at a constant speed within the above range, the glow discharge plasma causes the cooling to occur. A vapor deposition film formed by supplying an organosilicon compound made of silicon oxide or the like can be uniformly formed on a base film on the electrode drum peripheral surface.

また、原料である有機珪素化合物、酸素ガス、不活性ガスからなる製膜用混合ガス組成物において、各ガス成分のガス混合比としては、有機珪素化合物の1種からなる製膜用モノマーガスの含有量は、1〜40質量%位、酸素ガスの含有量は、0.1〜70質量%位、不活性ガスの含有量は、1〜60質量%位の範囲として調製することが好ましい。前記蒸着層が多層からなる場合には、各蒸着層において、原料である製膜用モノマーガスと酸素ガス(O2)との比をそれぞれ変化させてもよい。これによって製膜化した有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜中の炭素量を増減させることができ、該炭素量が増加すると、C−C結合、Si−CH3結合が増加し、柔軟性の高い、かつ、水蒸気に対して高いバリア性を持つ撥水性の蒸着膜を製膜化可能とすることができる。また、製膜化した蒸着層中に炭素量の含有が減少すると、Si−CH3結合が少なくなるため柔軟性は劣るが、酸素等に対して高いガスバリア性を保持することができる。 In addition, in the mixed gas composition for film formation composed of the raw material organosilicon compound, oxygen gas, and inert gas, the gas mixing ratio of each gas component is the film formation monomer gas composed of one kind of organosilicon compound. The content is preferably adjusted in the range of 1 to 40% by mass, the oxygen gas content in the range of 0.1 to 70% by mass, and the inert gas content in the range of 1 to 60% by mass. When said deposited layer is a multilayer, in each deposited layer, the ratio of the film for monomer gas and oxygen gas as the raw material (O 2) may be changed respectively. As a result, the amount of carbon in the deposited film formed by supplying the organic silicon compound formed into a film can be increased or decreased. As the amount of carbon increases, the number of C—C bonds and Si—CH 3 bonds increases, and flexibility is increased. A water-repellent vapor-deposited film having a high barrier property against water vapor can be formed. Further, when the carbon content in the deposited layer formed into a film is reduced, Si—CH 3 bonds are reduced and flexibility is inferior, but high gas barrier properties against oxygen and the like can be maintained.

本発明において、上記の有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜は、例えばX線光電子分光装置(Xray Photoelectron Spectroscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置(Secondary Ion Mass Spectroscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、深さ方向にイオンエッチングする等して分析し、有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜の元素分析を行うことで、上記の物性を確認することができる。   In the present invention, the vapor deposition film formed by supplying the organosilicon compound is, for example, a surface analysis such as an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photoelectron Spectroscopy, XPS) or a secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion Mass Spectroscopy, SIMS). The above-mentioned physical properties can be confirmed by performing an elemental analysis of a deposited film obtained by performing an ion etching or the like in the depth direction using an apparatus and supplying an organosilicon compound.

本発明において、上記蒸着膜の総膜厚は、60Å〜4000Å位であることが好ましく、より好ましくは100Å〜1000Åである。4000Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生する場合があり、一方、60Å未満であると、バリア性の効果を奏することが困難になる場合がある。なお、膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分析装置(機種名、RIX2000型)を用いて、ファンダメンタルパラメーター法で測定することができる。また、蒸着膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を大きくする方法、すなわち、モノマーガスと酸素ガス量を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によって行うことができる。   In the present invention, the total film thickness of the deposited film is preferably about 60 to 4000 mm, more preferably 100 to 1000 mm. If it is thicker than 4000 mm, cracks or the like may occur in the film. On the other hand, if it is less than 60 mm, it may be difficult to achieve a barrier effect. The film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name, RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation. As a means for changing the film thickness of the vapor deposition film, it can be performed by a method of increasing the volume velocity of the vapor deposition film, that is, a method of increasing the amount of monomer gas and oxygen gas or a method of slowing the vapor deposition rate. .

なお、上記した3層からなる多層構造の場合には、第1層を構成する蒸着膜の膜厚としては、20Å〜200Å位、好ましくは、30Å〜100Å位が望ましく、また、第2層を構成する蒸着膜の膜厚としては、20Å〜200Å位、好ましくは、30Å〜100Å位が望ましく、更に、第3層を構成する蒸着膜の膜厚としては、20Å〜200Å位、好ましくは、30Å〜100Å位が望ましいものである。上記において、20Å以下であると、それ自身のバリア性が発現しないことから好ましくなく、また、200Åを越えると、膜にクラック等が入りやすく、特に、製膜中に、基材フィルムが巻き取られる間にクラックが入りやすい傾向にあることから好ましくないものである。また、上記において、上記の有機珪素化合物層の膜厚を変更する手段としては、その層の体積速度を大きくすること、すなわち、製膜用モノマーガスと酸素ガスの量を多くする方法や製膜する速度を遅くする方法等によって行うことができる。   In the case of the multilayer structure consisting of the three layers described above, the thickness of the vapor deposition film constituting the first layer is preferably about 20 mm to 200 mm, preferably about 30 mm to 100 mm, and the second layer is The film thickness of the deposited film is about 20 mm to 200 mm, preferably 30 mm to 100 mm, and the film thickness of the vapor deposited film constituting the third layer is about 20 mm to 200 mm, preferably 30 mm. ˜100〜 is desirable. In the above, if it is 20 mm or less, its own barrier properties are not expressed, and if it exceeds 200 mm, cracks and the like are likely to occur in the film. In particular, the base film is wound during film formation. This is not preferable because cracks tend to be easily formed. Moreover, in the above, as a means for changing the film thickness of the organosilicon compound layer, a method of increasing the volume velocity of the layer, that is, a method of increasing the amount of monomer gas for forming a film and oxygen gas, or film formation It can be performed by a method of slowing down the speed of performing.

本発明において、酸化珪素等からなる有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマーガスとしては、例えば、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他等を使用することができる。これらの中でも、1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成された連続膜の特性等から、特に好ましい。なお、上記において、不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することができる。   In the present invention, as a monomer gas for vapor deposition of an organic silicon compound or the like for forming a vapor deposition film formed by supplying an organic silicon compound composed of silicon oxide or the like, for example, 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane, hexa Methyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane , Phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, etc. can be used. Among these, it is particularly preferable to use 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material because of its handleability and the characteristics of the formed continuous film. In the above, as the inert gas, for example, argon gas, helium gas, or the like can be used.

(iv)ガスバリア性塗布膜
本発明で使用するガスバリア性塗布膜としては、一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法触媒、酸、水、および、有機溶剤の存在下に、ゾル−ゲル法によって重縮合してなるガスバリア性組成物からなる塗布膜であり、該組成物を上記基材フィルム上の上記蒸着膜の上に塗工して塗布膜を設け、20℃〜180℃、かつ上記の基材フィルムの融点以下の温度で30秒〜10分間加熱処理して形成することができる。
(Iv) Gas barrier coating film The gas barrier coating film used in the present invention has a general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 are organic having 1 to 8 carbon atoms). Represents a group, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M. It contains the above alkoxide, a polyvinyl alcohol-based resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and further, in the presence of a sol-gel method catalyst, an acid, water, and an organic solvent, by a sol-gel method. It is a coating film comprising a gas barrier composition formed by polycondensation, and the coating film is provided by coating the composition on the vapor deposition film on the base film, and the coating film is formed at 20 ° C. to 180 ° C. Heat for 30 seconds to 10 minutes at a temperature below the melting point of the substrate film It can be formed by management.

また、前記ガスバリア性組成物を上記基材フィルム上の上記蒸着膜の上に塗工して塗布膜を2層以上重層し、20℃〜180℃、かつ、上記基材フィルムの融点以下の温度で30秒〜10分間加熱処理し、ガスバリア性塗布膜を2層以上重層した複合ポリマー層を形成してもよい。   Further, the gas barrier composition is applied onto the vapor deposition film on the base film, and two or more coating films are stacked, and the temperature is 20 ° C. to 180 ° C. and the melting point of the base film or less. May be heat-treated for 30 seconds to 10 minutes to form a composite polymer layer in which two or more gas barrier coating films are stacked.

上記一般式R1 nM(OR2mで表されるアルコキシドとしては、アルコキシドの部分加水分解物、アルコキシドの加水分解縮合物の少なくとも1種以上を使用することができ、また、上記アルコキシドの部分加水分解物としては、アルコキシ基のすべてが加水分解されるものに限定されず、1個以上が加水分解されているもの、および、その混合物であってもよく、更に、加水分解の縮合物としては、部分加水分解アルコキシドの2量体以上のもの、具体的には、2〜6量体のものを使用してもよい。 As the alkoxide represented by the above general formula R 1 n M (OR 2 ) m , at least one of alkoxide partial hydrolyzate and alkoxide hydrolysis condensate can be used. The partial hydrolyzate is not limited to the one in which all of the alkoxy groups are hydrolyzed, and may be one in which one or more are hydrolyzed, or a mixture thereof, and further a hydrolysis condensate. As a dimer or more of a partially hydrolyzed alkoxide, specifically, a dimer or hexamer may be used.

上記一般式R1 nM(OR2m中、R1としては、分岐を有していてもよい炭素数1〜8、好ましくは1〜5、より好ましくは1〜4のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基などを挙げることができる。 In the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , R 1 is an alkyl group having 1 to 8, preferably 1 to 5, more preferably 1 to 4 carbon atoms which may have a branch. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, n-octyl group, etc. Can be mentioned.

上記一般式R1 nM(OR2m中、R2としては、分岐を有していてもよい炭素数1〜8、より好ましくは1〜5、特に好ましくは1〜4のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、その他等を挙げることができる。なお、同一分子中に複数の(OR2)が存在する場合には、(OR2)は同一であっても、異なってもよい。 In the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , R 2 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 5, and particularly preferably 1 to 4 which may have a branch. Yes, for example, a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and the like. When a plurality of (OR 2 ) are present in the same molecule, (OR 2 ) may be the same or different.

上記一般式R1 nM(OR2m中、Mで表される金属原子としては、ケイ素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、その他等を例示することができる。
本発明においてケイ素であることが好ましい。この場合、本発明で好ましく使用できるアルコキシドとしては、上記一般式R1 nM(OR2mにおいてn=0の場合には、一般式Si(ORa)4(ただし、式中、Raは、炭素数1〜5のアルキル基を表す。)で表されるものである。上記において、Raとしては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、その他等が用いられる。このようなアルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシランSi(OCH34、テトラエトキシシランSi(OC254、テトラプロポキシシランSi(OC374、テトラブトキシシランSi(OC494等を例示することができる。
Examples of the metal atom represented by M in the general formula R 1 n M (OR 2 ) m include silicon, zirconium, titanium, aluminum, and the like.
In the present invention, silicon is preferable. In this case, as an alkoxide that can be preferably used in the present invention, when n = 0 in the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , the general formula Si (ORa) 4 (wherein Ra is Represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms). In the above, Ra includes a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an n-butyl group, and the like. Specific examples of such an alkoxysilane include tetramethoxysilane Si (OCH 3 ) 4 , tetraethoxysilane Si (OC 2 H 5 ) 4 , tetrapropoxysilane Si (OC 3 H 7 ) 4 , tetrabutoxysilane Si ( OC 4 H 9) can be exemplified 4 like.

また、nが1以上の場合には、一般式RbnSi(ORc)4-m(ただし、式中、mは、1、2、3の整数を表し、Rb、Rcは、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、その他を表わす。)で表されるアルキルアルコキシシランを使用することができる。このようなアルキルアルコキシシランとしては、例えば、メチルトリメトキシシランCH3Si(OCH33、メチルトリエトキシシランCH3Si(OC253、ジメチルジメトキシシラン(CH32Si(OCH32、ジメチルジエトキシシラン(CH32Si(OC252、その他等を使用することができる。本発明では、上記のアルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン等は、単独で又は2種以上を併用してもよい。 In the case where n is 1 or more, the general formula RbnSi (ORc) 4-m (wherein m represents an integer of 1, 2, 3 and Rb and Rc are a methyl group, an ethyl group, An alkylalkoxysilane represented by n-propyl group, n-butyl group, etc.) can be used. Examples of such an alkylalkoxysilane include methyltrimethoxysilane CH 3 Si (OCH 3 ) 3 , methyltriethoxysilane CH 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , dimethyldimethoxysilane (CH 3 ) 2 Si (OCH). 3) 2, dimethyl diethoxy silane (CH 3) 2 Si (OC 2 H 5) 2, may use other like. In the present invention, the above alkoxysilane, alkylalkoxysilane and the like may be used alone or in combination of two or more.

また、本発明において、上記のアルコキシシランの縮重合物も使用することができ、具体的には、例えば、ポリテトラメトキシシラン、ポリテトラエメトキシシラン、その他等を使用することができる。   In the present invention, a polycondensation product of the above alkoxysilane can also be used, and specifically, for example, polytetramethoxysilane, polytetraemethoxysilane, and the like can be used.

本発明では、上記一般式R1 nM(OR2mで表されるアルコキシドとして、MがZrであるジルコニウムアルコキシドも好適に使用することができる。例えば、テトラメトキシジルコニウムZr(OCH34、テトラエトキシジルコニウムZr(OC254、テトラiプロポキシジルコニウムZr(iso−OC374、テトラnブトキシジルコニウムZr(OC494、その他等を例示することができる。 In the present invention, a zirconium alkoxide in which M is Zr can also be suitably used as the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m . For example, tetramethoxyzirconium Zr (OCH 3 ) 4 , tetraethoxyzirconium Zr (OC 2 H 5 ) 4 , tetra ipropoxyzirconium Zr (iso-OC 3 H 7 ) 4 , tetra n butoxyzirconium Zr (OC 4 H 9 ) 4 , etc. can be exemplified.

また、上記一般式R1 nM(OR2mで表されるアルコキシドとして、MがTiであるチタニウムアルコキシドを好適に使用することができ、例えば、テトラメトキシチタニウムTi(OCH34、テトラエトキシチタニウムTi(OC254、テトライソプロポキシチタニウムTi(iso−OC374、テトラnブトキシチタニウムTi(OC494、その他等を例示することができる。 Further, as the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , a titanium alkoxide in which M is Ti can be preferably used. For example, tetramethoxytitanium Ti (OCH 3 ) 4 , tetra Examples include ethoxytitanium Ti (OC 2 H 5 ) 4 , tetraisopropoxytitanium Ti (iso-OC 3 H 7 ) 4 , tetra-n-butoxytitanium Ti (OC 4 H 9 ) 4 , and others.

また、上記一般式R1 nM(OR2mで表されるアルコキシドとして、MがAlであるアルミニウムアルコキシドを使用することができ、例えば、テトラメトキシアルミニウムAl(OCH34、テトラエトキシアルミニウムAl(OC254、テトライソプロポキシアルミニウムAl(is0−OC374、テトラnブトキシアルミニウムAl(OC494、その他等を使用することができる。 As the alkoxide represented by the general formula R 1 n M (OR 2 ) m , an aluminum alkoxide in which M is Al can be used. For example, tetramethoxyaluminum Al (OCH 3 ) 4 , tetraethoxyaluminum Al (OC 2 H 5) 4 , tetraisopropoxy aluminum Al (is0-OC 3 H 7 ) 4, tetra-n-butoxy aluminum Al (OC 4 H 9) 4 , may use other like.

本発明では、上記アルコキシドは、2種以上を併用してもよい。例えばアルコキシシランとジルコニウムアルコキシドを混合して用いると、得られるガスバリア性積層フィルムの靭性、耐熱性等を向上させることができ、また、延伸時のフィルムの耐レトルト性などの低下が回避される。この際、ジルコニウムアルコキシドの使用量は、上記アルコキシシラン100質量部に対して10質量部以下の範囲である。10質量部を越えると、形成されるガスバリア性塗布膜が、ゲル化し易くなり、また、その膜の脆性が大きくなり、基材フィルムを被覆した際にガスバリア性塗布膜が剥離し易くなる傾向にあることから好ましくないものである。   In the present invention, two or more of the alkoxides may be used in combination. For example, when alkoxysilane and zirconium alkoxide are mixed and used, the toughness, heat resistance and the like of the resulting gas barrier laminate film can be improved, and a decrease in the retort resistance of the film during stretching can be avoided. Under the present circumstances, the usage-amount of a zirconium alkoxide is the range of 10 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said alkoxysilanes. When the amount exceeds 10 parts by mass, the formed gas barrier coating film tends to gel, and the brittleness of the film increases, and the gas barrier coating film tends to peel off when the base film is coated. This is not desirable.

また、アルコキシシランとチタニウムアルコキシドを混合して用いると、得られるガスバリア性塗布膜の熱伝導率が低くなり、耐熱性が著しく向上する。この際、チタニウムアルコキシドの使用量は、上記のアルコキシシラン100質量部に対して5質量部以下の範囲である。5質量部を越えると、形成されるガスバリア性塗布膜の脆性が大きくなり、基材フィルムを被覆した際に、ガスバリア性塗布膜が剥離し易くなる場合がある。   In addition, when alkoxysilane and titanium alkoxide are mixed and used, the thermal conductivity of the resulting gas barrier coating film is lowered, and the heat resistance is remarkably improved. Under the present circumstances, the usage-amount of a titanium alkoxide is the range of 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of said alkoxysilane. When the amount exceeds 5 parts by mass, the brittleness of the formed gas barrier coating film increases, and the gas barrier coating film may be easily peeled off when the base film is coated.

本発明で使用するポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体としては、ポリビニルアルコール系樹脂、またはエチレン・ビニルアルコ一ル共重合体を単独で各々使用することができ、あるいは、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体とを組み合わせて使用することができる。本発明では、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体を使用することにより、ガスバリア性、耐水性、耐候性、その他等の物性を著しく向上させることができる。   As the polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer used in the present invention, a polyvinyl alcohol resin or an ethylene / vinyl alcohol copolymer can be used alone, or polyvinyl alcohol. It is possible to use a combination of a resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer. In the present invention, physical properties such as gas barrier properties, water resistance, weather resistance, and the like can be remarkably improved by using a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer.

ポリビニルアルコール系樹脂とエチレン・ビニルアルコール共重合体とを組み合わせて使用する場合、それぞれの配合割合としては、質量比で、ポリビニルアルコ一ル系樹脂:エチレン・ビニルアルコール共重合体=10:0.05〜10:6位であることが好ましい。   When the polyvinyl alcohol resin and the ethylene / vinyl alcohol copolymer are used in combination, the blending ratio of each is polyvinyl alcohol resin: ethylene / vinyl alcohol copolymer = 10: 0. It is preferable that the position is from 05 to 10: 6.

また、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体の含有量は、上記のアルコキシドの合計量100質量部に対して5〜500質量部の範囲であり、好ましくは20〜200質量部の配合割合である。500質量部を越えると、ガスバリア性塗布膜の脆性が大きくなり、得られるバリア性フィルムの耐水性および耐候性等が低下する場合がある。一方、5質量部を下回るとガスバリア性が低下する場合がある。   The content of the polyvinyl alcohol resin and / or the ethylene / vinyl alcohol copolymer is in the range of 5 to 500 parts by mass, preferably 20 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the alkoxide. The blending ratio of When it exceeds 500 parts by mass, the brittleness of the gas barrier coating film becomes large, and the water resistance and weather resistance of the resulting barrier film may be lowered. On the other hand, if it is less than 5 parts by mass, the gas barrier property may be lowered.

前記ポリビニルアルコ一ル系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体において、ポリビニルアルコ一ル系樹脂としては、一般に、ポリ酢酸ビニルをケン化して得られるものを使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂としては、酢酸基が数十%残存している部分ケン化ポリビニルアルコール系樹脂でも、酢酸基が残存しない完全ケン化ポリビニルアルコールでも、OH基が変性された変性ポリビニルアルコール系樹脂でもよく、特に限定されるものではない。このようなポリビニルアルコール系樹脂としては、株式会社クラレ製のRSポリマーである「RS−110(ケン化度=99%、重合度=1,000)」、同社製の「クラレポバールLM−20SO(ケン化度=40%、重合度=2,000)」、日本合成化学工業株式会社製の「ゴーセノールNM−14(ケン化度=99%、重合度=1,400)」等を例示することができる。   In the polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer, as the polyvinyl alcohol resin, one obtained by saponifying polyvinyl acetate can be generally used. Polyvinyl alcohol resins include partially saponified polyvinyl alcohol resins in which several tens of percent of acetate groups remain, completely saponified polyvinyl alcohols in which no acetate groups remain, and modified polyvinyl alcohol resins in which OH groups have been modified. Well, not particularly limited. Examples of such a polyvinyl alcohol resin include “RS-110 (degree of saponification = 99%, degree of polymerization = 1,000)” manufactured by Kuraray Co., Ltd., and “Kuraray Poval LM-20SO ( “Saponification degree = 40%, polymerization degree = 2,000)”, “GOHSENOL NM-14 (degree of saponification = 99%, polymerization degree = 1,400)” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. Can do.

また、エチレン・ビニルアルコール共重合体としては、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体のケン化物、すなわち、エチレン−酢酸ビニルランダム共重合体をケン化して得られるものを使用することができる。例えば、酢酸基が数十モル%残存している部分ケン化物から、酢酸基が数モル%しか残存していないかまたは酢酸基が残存しない完全ケン化物まで含み、特に限定されるものではない。ただし、ガスバリア性の観点から好ましいケン化度は、80モル%以上、より好ましくは、90モル%以上、さらに好ましくは、95モル%以上であるものを使用することが好ましい。なお、上記エチレン・ビニルアルコール共重合体中のエチレンに由来する繰り返し単位の含量(以下「エチレン含量」ともいう)は、通常、0〜50モル%、好ましくは、20〜45モル%であるものことが好ましい。このようなエチレン・ビニルアルコール共重合体としては、株式会社クラレ製、「エバールEP−F101(エチレン含量;32モル%)」、日本合成化学工業株式会社製、「ソアノールD2908(エチレン含量;29モル%)」等を例示することができる。   As the ethylene / vinyl alcohol copolymer, a saponified product of a copolymer of ethylene and vinyl acetate, that is, a product obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate random copolymer can be used. For example, it is not particularly limited, and includes a partially saponified product in which several tens mol% of acetic acid groups remain to a complete saponified product in which only several mol% of acetic acid groups remain or no acetic acid groups remain. However, it is preferable to use a saponification degree that is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, and still more preferably 95 mol% or more from the viewpoint of gas barrier properties. In addition, the content of the repeating unit derived from ethylene in the ethylene / vinyl alcohol copolymer (hereinafter also referred to as “ethylene content”) is usually 0 to 50 mol%, preferably 20 to 45 mol%. It is preferable. Examples of such an ethylene / vinyl alcohol copolymer include “Eval EP-F101 (ethylene content; 32 mol%)” manufactured by Kuraray Co., Ltd., “Soarnol D2908 (ethylene content; 29 mol) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.” %) "And the like.

本発明で使用するガスバリア性組成物は、前記一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、上記のようなポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法触媒、酸、水、および、有機溶剤の存在下に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得たガスバリア性組成物である。上記ガスバリア性組成物を調製するに際し、シランカップリング剤等を添加してもよい。 The gas barrier composition used in the present invention has the general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M is Represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M.) A polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and further polycondensed by a sol-gel method in the presence of a catalyst, acid, water, and an organic solvent. The gas barrier composition obtained above. In preparing the gas barrier composition, a silane coupling agent or the like may be added.

本発明で好適に使用できるシランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを広く使用することができる。例えば、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好適であり、それには、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、あるいは、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン等を使用することができる。このようなシランカップリング剤は、1種ないし2種以上を混合して用いてもよい。なお、シランカップリング剤の使用量は、上記アルコキシシラン100質量部に対して1〜20質量部の範囲内である。20質量部以上を使用すると、形成されるガスバリア性塗布膜の剛性と脆性とが大きくなり、また、ガスバリア性塗布膜の絶縁性および加工性が低下する場合がある。   As the silane coupling agent that can be suitably used in the present invention, known organic reactive group-containing organoalkoxysilanes can be widely used. For example, an organoalkoxysilane having an epoxy group is suitable. For example, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, or β- (3,4-epoxy). (Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane or the like can be used. Such silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more. In addition, the usage-amount of a silane coupling agent exists in the range of 1-20 mass parts with respect to 100 mass parts of said alkoxysilanes. If 20 parts by mass or more is used, the gas barrier coating film to be formed has increased rigidity and brittleness, and the insulation and workability of the gas barrier coating film may be lowered.

また、ゾル−ゲル法触媒とは、主として、重縮合触媒として使用される触媒であり、水に実質的に不溶であり、かつ有機溶媒に可溶な第三アミンなどの塩基性物質が用いられる。例えば、N、N−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、その他等を使用することができる。本発明においては、特に、N、N−ジメチルベンジルアミンが好適である。その使用量は、アルコキシド、および、シランカップリング剤の合計量100質量部当り、0.01〜1.0質量部である。   The sol-gel catalyst is a catalyst mainly used as a polycondensation catalyst, and a basic substance such as a tertiary amine that is substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent is used. . For example, N, N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine, etc. can be used. In the present invention, N, N-dimethylbenzylamine is particularly preferred. The usage-amount is 0.01-1.0 mass part per 100 mass parts of total amounts of an alkoxide and a silane coupling agent.

また、上記ガスバリア性組成物において用いられる「酸」としては、上記ゾル−ゲル法において、主として、アルコキシドやシランカップリング剤などの加水分解のための触媒として用いられる。例えば、硫酸、塩酸、硝酸などの鉱酸、ならびに、酢酸、酒石酸な等の有機酸、その他等を使用することができる。上記酸の使用量は、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対し0.001〜0.05モルを使用することが好ましい。   The “acid” used in the gas barrier composition is mainly used as a catalyst for hydrolysis of an alkoxide, a silane coupling agent or the like in the sol-gel method. For example, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid, and nitric acid, organic acids such as acetic acid and tartaric acid, and the like can be used. The amount of the acid used is preferably 0.001 to 0.05 mol based on the total molar amount of the alkoxide and the alkoxide content of the silane coupling agent (for example, silicate moiety).

更に、上記のガスバリア性組成物においては、上記のアルコキシドの合計モル量1モルに対して0.1〜100モル、好ましくは、0.8から2モルの割合の水をもちいることができる。水の量が2モルを越えると、上記アルコキシシランと金属アルコキシドとから得られるポリマーが球状粒子となり、更に、この球状粒子同士が3次元的に架橋し、密度の低い、多孔性のポリマーとなり、そのような多孔性のポリマーは、ガスバリア性積層フィルムのガスバリア性を改善することができなくなる。また、上記の水の量が0.8モルを下回ると、加水分解反応が進行しにくくなる場合がある。   Furthermore, in the gas barrier composition, water can be used in a proportion of 0.1 to 100 mol, preferably 0.8 to 2 mol, relative to 1 mol of the total molar amount of the alkoxide. When the amount of water exceeds 2 mol, the polymer obtained from the alkoxysilane and the metal alkoxide becomes spherical particles, and the spherical particles are three-dimensionally crosslinked to form a porous polymer having a low density, Such a porous polymer cannot improve the gas barrier property of the gas barrier laminate film. Moreover, when the amount of the water is less than 0.8 mol, the hydrolysis reaction may hardly proceed.

更に、上記のガスバリア性組成物において用いられる有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、その他等を用いることができる。なお、上記ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体は、上記アルコキシドやシランカップリング剤などを含む塗工液中で溶解した状態で取り扱われることが好ましく、上記有機溶媒の中から適宜選択することができる。例えば、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体とを組み合わせて使用する場合には、n−ブタノールを使用することが好ましい。なお、溶媒中に可溶化されたエチレン・ビニルアルコール共重合体を使用することもでき、例えば、日本合成化学工業株式会社製、商品名「ソアノール」などを好適に使用することができる。上記の有機溶媒の使用量は、通常、上記アルコキシド、シランカップリング剤、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体、酸およびゾル−ゲル法触媒の合計量100質量に対して30〜500質量部である。   Furthermore, as an organic solvent used in said gas-barrier composition, methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, etc. can be used, for example. The polyvinyl alcohol-based resin and / or the ethylene / vinyl alcohol copolymer is preferably handled in a state of being dissolved in a coating solution containing the alkoxide, silane coupling agent, or the like. It can be selected appropriately. For example, when a polyvinyl alcohol resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer are used in combination, it is preferable to use n-butanol. An ethylene / vinyl alcohol copolymer solubilized in a solvent can also be used. For example, trade name “Soarnol” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. can be preferably used. The amount of the organic solvent used is usually 30 with respect to 100 mass of the total amount of the alkoxide, silane coupling agent, polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer, acid and sol-gel method catalyst. It is -500 mass parts.

本発明において、ガスバリア性積層フィルムは、以下の方法で製造することができる。
まず、上記のアルコキシシラン等のアルコキシド、シランカップリング剤、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体、ゾル−ゲル法触媒、酸、水、有機溶媒、および、必要に応じて、金属アルコキシド等を混合し、ガスバリア性組成物を調製する。混合により、ガスバリア性組成物(塗工液)は、重縮合反応が開始および進行する。
In the present invention, the gas barrier laminate film can be produced by the following method.
First, an alkoxide such as alkoxysilane, a silane coupling agent, a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, a sol-gel method catalyst, an acid, water, an organic solvent, and, if necessary, A metal alkoxide or the like is mixed to prepare a gas barrier composition. By mixing, the gas barrier composition (coating liquid) starts and proceeds with a polycondensation reaction.

次いで、基材フィルム上の前記した有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜の上に、常法により、上記のガスバリア性組成物を塗布し、および乾燥する。この乾燥工程によって、上記のアルコキシシラン等のアルコキシド、金属アルコキシド、シランカップリング剤およびポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体等の重縮合が更に進行し、塗布膜が形成される。第一の塗布膜の上に、更に上記塗布操作を繰り返して、2層以上からなる複数の塗布膜を形成してもよい。   Next, the gas barrier composition described above is applied and dried by a conventional method on the vapor deposition film formed by supplying the above-described organosilicon compound on the base film. By this drying step, polycondensation of the alkoxide such as alkoxysilane, metal alkoxide, silane coupling agent, polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer further proceeds, and a coating film is formed. . On the first coating film, the above coating operation may be further repeated to form a plurality of coating films composed of two or more layers.

次いで、上記ガスバリア性組成物を塗布した基材フィルムを20℃〜180℃、かつ基材フィルムの融点以下の温度、好ましくは、50℃〜160℃の範囲の温度で、10秒〜10分間加熱処理する。これによって、前記蒸着膜の上に、上記ガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を1層ないし2層以上形成したガスバリア性積層フィルムを製造することができる。   Next, the base film coated with the gas barrier composition is heated at 20 ° C. to 180 ° C. and below the melting point of the base film, preferably at a temperature in the range of 50 ° C. to 160 ° C. for 10 seconds to 10 minutes. To process. Thereby, a gas barrier laminated film in which one or two or more gas barrier coating films of the gas barrier composition are formed on the vapor deposition film can be produced.

なお、エチレン・ビニルアルコール共重合体単独、またはポリビニルアルコール系樹脂とエチレン・ビニルアルコール共重合体との両者を用いて得られたガスバリア性積層フィルムは、熱水処理後のガスバリア性に優れる。一方、ポリビニルアルコール系樹脂のみを使用してガスバリア性積層フィルムを製造した場合には、予め、ポリビニルアルコール系樹脂を使用したガスバリア性組成物を塗工して第1の塗布膜を形成し、次いで、その塗布膜の上に、エチレン・ビニルアルコール共重合体を含有するガスバリア性組成物を塗工して第2の塗布膜を形成し、それらの複合層を形成すると、熱水処理後のガスバリア性が向上したガスバリア性積層フィルムを製造することができる。   A gas barrier laminate film obtained using an ethylene / vinyl alcohol copolymer alone or both a polyvinyl alcohol resin and an ethylene / vinyl alcohol copolymer is excellent in gas barrier properties after hydrothermal treatment. On the other hand, when a gas barrier laminate film is produced using only a polyvinyl alcohol-based resin, a first coating film is formed by previously applying a gas barrier composition using a polyvinyl alcohol-based resin, A gas barrier composition containing an ethylene / vinyl alcohol copolymer is applied onto the coating film to form a second coating film, and a composite layer thereof is formed. A gas barrier laminate film with improved properties can be produced.

更に、上記エチレン・ビニルアルコール共重合体を含有するガスバリア性組成物により塗布膜を形成し、または、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体とを組み合わせて含有するガスバリア性組成物により塗布膜を形成し、これらを複数積層しても、本発明に係るガスバリア性積層フィルムのガスバリア性の向上に有効な手段となる。   Further, a coating film is formed by the gas barrier composition containing the ethylene / vinyl alcohol copolymer, or the gas barrier composition containing a combination of the polyvinyl alcohol resin and the ethylene / vinyl alcohol copolymer is applied. Even if a film is formed and a plurality of these films are laminated, it becomes an effective means for improving the gas barrier property of the gas barrier laminated film according to the present invention.

本発明で使用するガスバリア性積層フィルムの製造法について、アルコキシドとしてアルコキシシランを使用し、より詳細に説明する。
ガスバリア性組成物として配合されたアルコキシシランや金属アルコキシドは、添加された水によって加水分解される。加水分解の際には、酸が加水分解の触媒として作用する。次いで、ゾル−ゲル法触媒の働きによって、加水分解によって生じた水酸基からプロトンが奪取され、加水分解生成物同士が脱水重縮合する。このとき、酸触媒により同時にシランカップリング剤も加水分解されて、アルコキシ基が水酸基となる。
The production method of the gas barrier laminate film used in the present invention will be described in more detail using alkoxysilane as the alkoxide.
The alkoxysilane and metal alkoxide blended as the gas barrier composition are hydrolyzed by the added water. During the hydrolysis, the acid acts as a hydrolysis catalyst. Next, protons are taken from the hydroxyl groups generated by hydrolysis by the action of the sol-gel method catalyst, and the hydrolysis products undergo dehydration polycondensation. At this time, the silane coupling agent is simultaneously hydrolyzed by the acid catalyst, and the alkoxy group becomes a hydroxyl group.

また、塩基触媒の働きによりエポキシ基の開環も起こり、水酸基が生じる。また、加水分解されたシランカップリング剤と加水分解されたアルコキシドとの重縮合反応も進行する。反応系にはポリビニルアルコール系樹脂、または、エチレン・ビニルアルコール共重合体、または、ポリビニルアルコール系樹脂および/またはエチレン・ビニルアルコール共重合体が存在するため、ポリビニルアルコール系樹脂およびエチレン・ビニルアルコール共重合体が有する水酸基との反応も生じる。なお、生成する重縮合物は、例えば、Si−O−Si、Si−O−Zr、Si−O−Ti、その他等の結合からなる無機質部分と、シランカップリング剤に起因する有機部分とを含有する複合ポリマーである。   In addition, the opening of the epoxy group also occurs due to the action of the base catalyst, generating a hydroxyl group. In addition, a polycondensation reaction between the hydrolyzed silane coupling agent and the hydrolyzed alkoxide also proceeds. In the reaction system, polyvinyl alcohol resin, ethylene / vinyl alcohol copolymer, or polyvinyl alcohol resin and / or ethylene / vinyl alcohol copolymer are present, so polyvinyl alcohol resin and ethylene / vinyl alcohol copolymer are present. Reaction with the hydroxyl group of the polymer also occurs. In addition, the polycondensate to be generated includes, for example, an inorganic part composed of a bond such as Si—O—Si, Si—O—Zr, Si—O—Ti, and the like, and an organic part resulting from the silane coupling agent. It is a composite polymer containing.

上記反応において、例えば、下記の式(III)に示される部分構造式を有し、更に、シランカップリング剤に起因する部分を有する直鎖状のポリマーがまず生成する。   In the above reaction, for example, a linear polymer having a partial structural formula represented by the following formula (III) and further having a portion derived from a silane coupling agent is first formed.

Figure 2009248456
このポリマーは、OR基(エトキシ基などのアルコキシ基)を、直鎖状のポリマーから分岐した形で有する。このOR基は、存在する酸が触媒となって加水分解されてOH基となり、ゾル−ゲル法触媒(塩基触媒)の働きにより、まず、OH基が、脱プロトン化し、次いで、重縮合が進行する。すなわち、このOH基が、下記の式(I)に示されるポリビニルアルコール系樹脂、または、下記の式(II)に示されるエチレン・ビニルアルコール共重合体と重縮合反応し、Si−O−Si結合を有する、例えば、下記の式(IV)に示される複合ポリマー、あるいは、下記の式(V)及び(VI)に示される共重合した複合ポリマーを生じると考えられる。
Figure 2009248456
This polymer has an OR group (an alkoxy group such as an ethoxy group) branched from a linear polymer. This OR group is hydrolyzed to become an OH group using the existing acid as a catalyst. The OH group is first deprotonated by the action of a sol-gel method catalyst (base catalyst), and then polycondensation proceeds. To do. That is, this OH group undergoes a polycondensation reaction with a polyvinyl alcohol-based resin represented by the following formula (I) or an ethylene / vinyl alcohol copolymer represented by the following formula (II) to form Si—O—Si. For example, it is considered that a composite polymer represented by the following formula (IV) or a copolymerized composite polymer represented by the following formulas (V) and (VI) is formed.

Figure 2009248456
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上記の反応は常温で進行し、ガスバリア性組成物は、調製中に粘度が増加する。このガスバリア性組成物を、基材フィルム上の前記蒸着膜の上に塗布し、加熱して溶媒および重縮合反応により生成したアルコールを除去すると重縮合反応が完結し、基材フィルム上の蒸着膜の上に透明な塗布膜が形成される。なお、上記の塗布膜を複数層積層する場合には、層間の塗布膜中の複合ポリマー同士も縮合し、層と層との間が強固に結合する。
Figure 2009248456
The above reaction proceeds at room temperature, and the viscosity of the gas barrier composition increases during preparation. When this gas barrier composition is applied onto the vapor deposition film on the base film and heated to remove the solvent and the alcohol produced by the polycondensation reaction, the polycondensation reaction is completed, and the vapor deposition film on the base film. A transparent coating film is formed on the substrate. In addition, when laminating | stacking two or more said coating films, the composite polymer in the coating film of an interlayer is also condensed, and a layer couple | bonds firmly between layers.

更に、シランカップリング剤の有機反応性基や、加水分解によって生じた水酸基が、基材フィルム、または、基材フィルム上の蒸着膜の表面の水酸基等と結合するため、基材フィルム、または前記蒸着膜表面と、塗布膜との接着性も良好なものとなる。このように、本発明においては、有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜とガスバリア性塗布膜とが、例えば、加水分解・共縮合反応による化学結合、水素結合、あるいは、配位結合などを形成するため、有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜とガスバリア性塗布膜との密着性が向上し、その2層の相乗効果により、より良好なガスバリア性の効果を発揮し得る。   Furthermore, since the organic reactive group of the silane coupling agent and the hydroxyl group generated by hydrolysis are bonded to the base film or the hydroxyl group on the surface of the deposited film on the base film, the base film, or the above-mentioned Adhesiveness between the surface of the deposited film and the coating film is also good. As described above, in the present invention, a vapor deposition film formed by supplying an organosilicon compound and a gas barrier coating film form, for example, a chemical bond, a hydrogen bond, or a coordination bond by a hydrolysis / co-condensation reaction. Therefore, the adhesion between the vapor deposition film formed by supplying the organosilicon compound and the gas barrier coating film is improved, and a better gas barrier effect can be exhibited by the synergistic effect of the two layers.

なお、本発明では、添加される水の量をアルコキシド類1モルに対して0.8〜2モル、好ましくは1.0〜1.7モルに調節した場合には、上記直鎖状のポリマーが形成される。このような直鎖状ポリマーは結晶性を有し、非晶質部分の中に多数の微小の結晶が埋包された構造をとる。このような結晶構造は、結晶性有機ポリマー(例えば、塩化ビニリデンやポリビニルアルコール)と同様であり、さらに極性基(OH基)が部分的に分子内に存在し、分子の凝集エネルギーが高く分子鎖剛性も高いため、特にガスバリア性(O2、N2、H2O、CO2、その他等の透過を遮断、阻止する)に優れる。特に、N2、CO2ガス等を充填した、いわゆる、ガス充填包装に用いた場合には、その優れたガスバリア性が、充填ガスの保持に極めて有効となる。更に、本発明にかかるガスバリア性積層フィルムは、熱水処理、特に、高圧熱水処理(レトルト処理)に優れ、極めて優れたガスバリア性特性を示す。 In the present invention, when the amount of water added is adjusted to 0.8 to 2 mol, preferably 1.0 to 1.7 mol, relative to 1 mol of alkoxides, the above linear polymer is used. Is formed. Such a linear polymer has crystallinity and has a structure in which a large number of minute crystals are embedded in an amorphous part. Such a crystal structure is the same as that of a crystalline organic polymer (for example, vinylidene chloride or polyvinyl alcohol), and a polar group (OH group) is partially present in the molecule, and the molecular aggregation energy is high. Since the rigidity is also high, it is particularly excellent in gas barrier properties (blocking and blocking permeation of O 2 , N 2 , H 2 O, CO 2 , etc.). In particular, when used for so-called gas-filled packaging filled with N 2 , CO 2 gas, etc., the excellent gas barrier property is extremely effective for holding the filled gas. Furthermore, the gas barrier laminate film according to the present invention is excellent in hot water treatment, particularly high-pressure hot water treatment (retort treatment), and exhibits extremely excellent gas barrier properties.

上記の本発明のガスバリア性組成物を塗布する方法としては、例えば、グラビアロールコーターなどのロールコート、スプレーコート、スピンコート、デイツピング、刷毛、バーコード、アプリケータ等の塗布手段により、1回あるいは複数回の塗布で、乾燥膜厚が、0.01〜30μm、好ましくは、0.1〜10μm位の塗布膜を形成することができ、更に、通常の環境下、50〜300℃、好ましくは、70〜200℃の温度で、0.005〜60分間、好ましくは、0.01〜10分間、加熱・乾操することにより、縮合が行われ、本発明のガスバリア性塗布膜を形成することができる。   Examples of the method for applying the gas barrier composition of the present invention include, for example, once by a roll coater such as a gravure roll coater, spray coat, spin coat, dipping, brush, bar code, applicator or the like. A coating film having a dry film thickness of 0.01 to 30 μm, preferably about 0.1 to 10 μm, can be formed by applying a plurality of times. Further, under a normal environment, 50 to 300 ° C., preferably The gas barrier coating film of the present invention is formed by performing condensation at a temperature of 70 to 200 ° C. by heating and drying for 0.005 to 60 minutes, preferably 0.01 to 10 minutes. Can do.

本発明で使用するガスバリア性積層フィルムは、上記により基材フィルムに蒸着膜(I)を形成し、ついでガスバリア性塗布膜(I)を形成し、更に上記方法で蒸着膜(II)を形成し、および上記方法でガスバリア性塗布膜(II)と形成してこれらを積層させたものである。ただし、蒸着膜(I)と(II)とは、同一であっても異なっていてもよい。同様に、ガスバリア性塗布膜(I)と(II)も、同一であっても異なっていてもよい。蒸着膜とガスバリア性塗布膜とを2層ずつ交互に積層することで、よりガスバリア性を向上させることができる。しかも、得られたガスバリア性積層フィルムの最外層がガスバリア性塗布膜(II)となるため、他のフィルムなどに積層する際にも蒸着膜(I)、(II)を破損する恐れが少なく、ガスバリア性の低下を防止することができる。   The gas barrier laminate film used in the present invention forms the vapor deposition film (I) on the base film as described above, then forms the gas barrier coating film (I), and further forms the vapor deposition film (II) by the above method. And a gas barrier coating film (II) formed by the above method and laminated. However, the vapor deposition films (I) and (II) may be the same or different. Similarly, the gas barrier coating films (I) and (II) may be the same or different. The gas barrier property can be further improved by alternately laminating the deposited film and the gas barrier coating film by two layers. In addition, since the outermost layer of the obtained gas barrier laminate film is a gas barrier coating film (II), there is little risk of damaging the deposited films (I) and (II) when laminating to other films, A decrease in gas barrier properties can be prevented.

(4)ヒートシール層
本発明のチューブ用積層体は、最内層にヒートシール層を有する。最内層がヒートシール層であるため、板状のチューブ用積層体の両端部の最内層を対向して積層し、熱融着することでチューブ形状に成形することができる。
(4) Heat seal layer The laminate for a tube of the present invention has a heat seal layer as the innermost layer. Since the innermost layer is a heat seal layer, the innermost layers at both ends of the plate-like tube laminate can be laminated facing each other and thermally fused to form a tube shape.

本発明で使用するヒートシール層を構成する材料は、熱によって溶融し相互に融着し得るものであればよく、例えば、低密度ポリエチレン(LDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリプロピレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリエチレン若しくはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、その他等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、その他等の樹脂の1種ないしそれ以上からなる樹脂を使用することができる。   The material constituting the heat seal layer used in the present invention may be any material that can be melted by heat and fused to each other. For example, low density polyethylene (LDPE), medium density polyethylene (MDPE), high density polyethylene ( HDPE), linear (linear) low density polyethylene (LLDPE), polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic Polyolefin resins such as acid copolymers, ethylene-propylene copolymers, methylpentene polymers, polyethylene or polypropylene are used for unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, itaconic acid, etc. Acid-modified polyolefin resin modified with acid Polyvinyl acetate resin, polyester resin, polystyrene resin, one or resin comprising more resins other like can be used.

更に、本発明においてヒートシール層を構成する材料として、メタロセン触媒(シングルサイト触媒)を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体を使用することができる。   Furthermore, an ethylene-α / olefin copolymer polymerized using a metallocene catalyst (single site catalyst) can be used as a material constituting the heat seal layer in the present invention.

メタロセン触媒を用いて重合したエチレン−α・オレフィン共重合体としては、例えば、二塩化ジルコノセンとメチルアルモキサンの組み合わせによる触媒等のメタロセン錯体とアルモキサンとの組み合わせによる触媒、すなわち、メタロセン触媒を使用して重合してなるエチレン−α・オレフィン共重合体を使用することができる。記のメタロセン触媒は、現行の触媒が、活性点が不均一でマルチサイト触媒と呼ばれているのに対し、活性点が均一であることからシングルサイト触媒とも呼ばれているものである。具体的には、三菱化学株式会社製の商品名「カーネル」、三井石油化学工業株式会社製の商品名「エポリユー」、米国、エクソン・ケミカル(EXXON CHEMICAL)社製の商品名「エクザクト(EXACT)」、米国、ダウ・ケミカル(DOW CHEMICAL)社製の商品名「アフイニティー(AFFINITY)、商品名「エンゲージ(ENGAGE)」等のメタロセン触媒を用いて重合したエチレン−α・オレフィン共重合体を使用することができる。   As the ethylene-α / olefin copolymer polymerized using a metallocene catalyst, for example, a catalyst using a combination of a metallocene complex and an alumoxane such as a catalyst using a combination of zirconocene dichloride and methylalumoxane, that is, a metallocene catalyst is used. Thus, an ethylene-α / olefin copolymer obtained by polymerization can be used. The metallocene catalyst described above is also called a single-site catalyst because the current catalyst is called a multi-site catalyst with non-uniform active sites, while the active sites are uniform. Specifically, the product name “Kernel” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, the product name “Epolyu” manufactured by Mitsui Petrochemical Industry Co., Ltd., and the product name “EXACT” manufactured by Exxon Chemical Company, USA ”, An ethylene-α / olefin copolymer polymerized using a metallocene catalyst such as“ AFFINITY ”or a product name“ ENGAGE ”manufactured by Dow Chemical Co., USA be able to.

本発明において、上記のヒートシール層としては、例えば、上記の樹脂の1種ないし2種以上を主成分とし、これに、所望の添加剤を任意に添加して樹脂組成物を調製し、次いで、上記で調製した樹脂組成物を使用し、例えば、Tダイ法、インフレーション法、その他等の成形法を用いてフィルムないしシートを成形し、上記の裏面ポリオレフィン系樹脂層を構成することができる。   In the present invention, as the heat seal layer, for example, one or two or more of the above-mentioned resins are used as a main component, and a desired additive is arbitrarily added thereto, thereby preparing a resin composition, Using the resin composition prepared above, for example, a film or sheet can be formed using a molding method such as a T-die method, an inflation method, or the like, and the above-mentioned backside polyolefin resin layer can be formed.

上記において、ヒートシール層は、内容物に対する低臭性、保香性等に優れ、また、強度等に優れ、腰等の向上を図ることができるものであることが好ましいものである。
なお、本発明においてヒートシール層の膜厚としては、25〜300μm、好ましくは、30〜200μmが望ましい。
In the above, it is preferable that the heat seal layer is excellent in low odor and scent retention, etc. in the contents, excellent in strength and the like, and capable of improving waist and the like.
In the present invention, the film thickness of the heat seal layer is 25 to 300 μm, preferably 30 to 200 μm.

なお、本発明においては、上記したヒートシール層には、例えば、アンチブロッキング剤、滑剤(脂肪酸アミド等)、難燃化剤、無機ないし有機充填剤、染料、顔料等を任意に添加して使用することができる。   In the present invention, for example, an anti-blocking agent, a lubricant (fatty acid amide, etc.), a flame retardant, an inorganic or organic filler, a dye, a pigment, and the like are optionally added to the heat seal layer. can do.

(4)表面オレフィン系樹脂層
本発明では、前記ガスバリア性積層フィルムの外側に、表面オレフィン系樹脂層が積層される。本発明にかかるチューブ用積層体の両端部の表面オレフィン系樹脂層とヒートシール層とを重ね合わせて熱融着することで、筒状胴部を製造することができる。よって、表面オレフィン系樹脂層も加熱により溶融して相互に融着することができるものが好ましい。ただし、チューブ用積層体の両端部の最内層を対抗させて重ね合わせ、端部を熱融着すれば筒状に形成することができるため、熱融着性を有するものに限定されない。なお、表面オレフィン系樹脂層は、グラビア印刷方式、フレキソ印刷方式、オフセット印刷方式、その他等により、印刷模様を形成し得るヒートシール性を有する樹脂を使用することが望ましい。
(4) Surface Olefin Resin Layer In the present invention, a surface olefin resin layer is laminated on the outside of the gas barrier laminate film. A cylindrical trunk | drum can be manufactured by superimposing the surface olefin resin layer and heat seal layer of the both ends of the laminated body for tubes concerning this invention, and heat-seal | fusing. Therefore, it is preferable that the surface olefin-based resin layer can be melted by heating and fused to each other. However, if the innermost layers at both ends of the laminated body for a tube are opposed to each other and overlapped, and the ends are heat-sealed, it can be formed into a cylindrical shape, and is not limited to those having heat-fusibility. The surface olefin-based resin layer is desirably made of a resin having heat sealability that can form a printed pattern by a gravure printing method, a flexographic printing method, an offset printing method, or the like.

このような表面オレフィン系樹脂層としては、例えば、低密度ポリエチレン(LDPE)、中密度ポリエチレン(MDPE)、高密度ポリエチレン(HDPE)、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン(LLDPE)、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレンー酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン−アクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸メチル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリブテンポリマー、ポリエチレンまたはポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂を不飽和カルボン酸を使用して酸変性した酸変性ポリオレフィン系樹脂、その他等の樹脂を使用することができる。   Examples of such surface olefin-based resin layers include low density polyethylene (LDPE), medium density polyethylene (MDPE), high density polyethylene (HDPE), linear (linear) low density polyethylene (LLDPE), polypropylene, Ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-methyl methacrylate copolymer , An ethylene-propylene copolymer, a methylpentene polymer, a polybutene polymer, an acid-modified polyolefin resin obtained by acid-modifying a polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene using an unsaturated carboxylic acid, and other resins may be used. it can.

更に、本発明においては、メタロセン触媒(シングルサイト触媒)を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体を使用することができる。メタロセン触媒を用いて重合したエチレン−α・オレフィン共重合体としては、例えば、二塩化ジルコノセンとメチルアルモキサンの組み合わせによる触媒等のメタロセン錯体とアルモキサンとの組み合わせによる触媒、すなわち、メタロセン触媒を使用して重合してなるエチレン−α・オレフィン共重合体を使用することができる。上記のメタロセン触媒は、現行の触媒が、活性点が不均一でマルチサイト触媒と呼ばれているのに対し、活性点が均一であることからシングルサイト触媒とも呼ばれているものである。   Further, in the present invention, an ethylene-α / olefin copolymer polymerized using a metallocene catalyst (single site catalyst) can be used. As the ethylene-α / olefin copolymer polymerized using a metallocene catalyst, for example, a catalyst using a combination of a metallocene complex and an alumoxane such as a catalyst using a combination of zirconocene dichloride and methylalumoxane, that is, a metallocene catalyst is used. Thus, an ethylene-α / olefin copolymer obtained by polymerization can be used. The above metallocene catalyst is also called a single site catalyst because the current catalyst is called a multi-site catalyst with heterogeneous active sites, while the active sites are uniform.

具体的には、三菱化学株式会社製の商品名「カーネル」、三井石油化学工業株式会社製の商品名「エポリユー」、米国、エクソン・ケミカル(EXXON CHEMICAL)社製の商品名「エクザクト(EXACT)」、米国、ダウ・ケミカル(DOW CHEMICAL)社製の商品名「アフイニティー(AFFINITY)、商品名「エンゲージ(ENGAGE)」等のメタロセン触媒を用いて重合したエチレン−α・オレフィン共重合体を使用することができる。   Specifically, the product name “Kernel” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, the product name “Epolyu” manufactured by Mitsui Petrochemical Industry Co., Ltd., and the product name “EXACT” manufactured by Exxon Chemical Company, USA ”, An ethylene-α / olefin copolymer polymerized using a metallocene catalyst such as“ AFFINITY ”or a product name“ ENGAGE ”manufactured by Dow Chemical Co., USA be able to.

本発明において、上記の表面オレフィン系樹脂層としては、例えば、上記のヒートシール性を有する樹脂の1種ないし2種以上を主成分とし、これに、所望の添加剤等を任意に添加して樹脂組成物を調製し、次いで、上記で調製した樹脂組成物を使用し、これを、例えば、Tダイ法、インフレーション法、その他等の成形法を用いてフィルムないしシートを成形して、上記の表面オレフィン系樹脂層を構成することができる。本発明において、表面オレフィン系樹脂層としては、例えば、フィッシュアイと称される凹凸面を平滑化して平らにし、これにより、グラビア印刷方式、あるいは、フレキソ印刷方式等による印刷適性を大幅に向上させ、印刷絵柄層を構成するインキの抜け等の発生を防止し、極めて美麗な印刷絵柄層等を形成することができ、印刷品質面による不良品の発生を改善することができるようにすることが望ましいものである。   In the present invention, as the surface olefin resin layer, for example, one or more of the above heat-sealable resins are the main components, and desired additives and the like are arbitrarily added thereto. A resin composition is prepared, and then the above-prepared resin composition is used. This is formed into a film or sheet using a molding method such as a T-die method, an inflation method, or the like. A surface olefin resin layer can be constituted. In the present invention, as the surface olefin-based resin layer, for example, the uneven surface called fish eye is smoothed and flattened, thereby greatly improving the printability by a gravure printing method or a flexographic printing method. It is possible to prevent the occurrence of ink loss or the like constituting the printed pattern layer, to form a very beautiful printed pattern layer, etc., and to improve the occurrence of defective products due to the printing quality. Is desirable.

なお、本発明において、表面オレフィン系樹脂層の膜厚としては、25〜300μm、好ましくは、30〜200μmが望ましいものである。
(5)印刷層
本発明では、チューブ用積層体を構成するいずれかの層に印刷層を形成してもよい。
In the present invention, the film thickness of the surface olefin-based resin layer is 25 to 300 μm, preferably 30 to 200 μm.
(5) Print layer In this invention, you may form a print layer in any layer which comprises the laminated body for tubes.

印刷層としては、通常のインキビヒクルの1種ないし2種以上を主成分とし、これに、必要ならば、可塑剤、安定剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、硬化剤、架橋剤、滑剤、帯電防止剤、充填剤、その他等の添加剤の1種ないし2種以上を任意に添加し、更に、染料・顔料等の着色剤を添加し、溶媒、希釈剤等で充分に混練してインキ組成物を調整して得たインキ組成物を使用することができる。このようなインキビヒクルとしては、公知のもの、例えば、あまに油、きり油、大豆油、炭化水素油、ロジン、ロジンエステル、ロジン変性樹脂、シェラック、アルキッド樹脂、フェノール系樹脂、マレイン酸樹脂、天然樹脂、炭化水素樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリルまたはメタクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アミノアルキッド系樹脂、ニトロセルロース、エチルセルロース、塩化ゴム、環化ゴム、その他などの1種または2種以上を併用することができる。   The printing layer is composed of one or more ordinary ink vehicles as the main component, and if necessary, a plasticizer, a stabilizer, an antioxidant, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a curing agent, and a crosslinking agent. Add one or more additives such as additives, lubricants, antistatic agents, fillers, etc., add colorants such as dyes and pigments, and use solvents, diluents, etc. An ink composition obtained by kneading to prepare an ink composition can be used. As such an ink vehicle, known ones such as sesame oil, drill oil, soybean oil, hydrocarbon oil, rosin, rosin ester, rosin modified resin, shellac, alkyd resin, phenolic resin, maleic resin, Natural resin, hydrocarbon resin, polyvinyl chloride resin, polyacetic acid resin, polystyrene resin, polyvinyl butyral resin, acrylic or methacrylic resin, polyamide resin, polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, urea resin , Melamine resin, amino alkyd resin, nitrocellulose, ethyl cellulose, chlorinated rubber, cyclized rubber, etc. can be used alone or in combination.

印刷方法は、グラビア印刷のほか、凸版印刷、スクリーン印刷、転写印刷、フレキソ印刷、その他等の印刷方式であってもよい。
(6)ラミネート用接着剤
ラミネート用接着剤層を構成するラミネート用接着剤としては、例えば、ポリ酢酸ビニル系接着剤、アクリル酸のエチル、ブチル、2−エチルヘキシルエステル等のホモポリマー、あるいは、これらとメタクリル酸メチル、アクリロニトリル、スチレン等との共重合体等からなるポリアクリル酸エステル系接着剤、シアノアクリレート系接着剤、エチレンと酢酸ビニル、アクリル酸エチル、アクリル酸、メタクリル酸等のモノマーとの共重合体等からなるエチレン共重合体系接着剤、セルロース系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリイミド系接着剤、尿素樹脂またはメラミン樹脂等からなるアミノ樹脂系接着剤、フェノール樹脂系接着剤、エポキシ系接着剤、ポリウレタン系接着剤、反応型(メタ)アクリル系接着剤、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、スチレンーブタジェンゴム等からなるゴム系接着剤、シリコーン系接着剤、アルカリ金属シリケート、低融点ガラス等からなる無機系接着剤、その他等の接着剤を使用することができる。
The printing method may be a printing method such as relief printing, screen printing, transfer printing, flexographic printing, or the like in addition to gravure printing.
(6) Laminating adhesive As laminating adhesive constituting the laminating adhesive layer, for example, polyvinyl acetate adhesive, homopolymer such as ethyl acrylate, butyl, 2-ethylhexyl ester, or the like And polyacrylic acid ester adhesives composed of copolymers of methyl methacrylate, acrylonitrile, styrene, etc., cyanoacrylate adhesives, ethylene and vinyl acetate, ethyl acrylate, acrylic acid, methacrylic acid and other monomers Ethylene copolymer adhesive made of copolymer, cellulose adhesive, polyester adhesive, polyamide adhesive, polyimide adhesive, amino resin adhesive made of urea resin or melamine resin, phenol resin Adhesive, epoxy adhesive, polyurethane adhesive, reactive type (Meth) acrylic adhesives, chloroprene rubber, nitrile rubber, rubber adhesives made of styrene-butadiene rubber, silicone adhesives, alkali metal silicates, inorganic adhesives made of low melting glass, etc. An adhesive can be used.

上記の接着剤の組成系は、水性型、溶液型、エマルジョン型、分散型等のいずれの組成物形態でもよく、また、その性状は、フィルム・シート状、粉末状、固形状等のいずれの形態でもよく、更に、接着機構については、化学反応型、溶剤揮発型、熱溶融型、熱圧型等のいずれの形態でもよいものである。   The composition system of the above-mentioned adhesive may be any composition form such as an aqueous type, a solution type, an emulsion type, and a dispersion type, and the property is any of film / sheet form, powder form, solid form, etc. Further, the bonding mechanism may be any of a chemical reaction type, a solvent volatilization type, a heat melting type, and a hot pressure type.

本発明においては、積層する両者の一方の面に、上記のラミネート用接着剤を、例えば、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスコート法、その他等のコート法、あるいは、印刷法等によって施し、次いで、溶剤等を乾燥させてラミネート用接着剤層を形成すことができ、そのコーティングないし印刷量としては、0.1〜10g/m2(乾燥状態)位が望ましい。 In the present invention, the laminating adhesive is applied to one side of both of the layers by, for example, a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, a coating method such as others, or a printing method, Next, the solvent or the like can be dried to form an adhesive layer for laminating, and the coating or printing amount is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).

(7)アンカーコート剤
本発明では、例えばヒートシール層を押出し形成してもよく、その際に、アンカーコート剤を介してヒートシール層を形成することができる。使用するアンカーコート剤としては、イソシアネート系(ウレタン系)、ポリエチレンイミン系、ポリブタジエン系、有機チタン系、その他のアンカーコーティング剤が例示できる。より好ましくは、例えば、トリレンジイソシアナート、ジフェニルメタンジイソシアナート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアナートなどの芳香族ポリイソシアナート、またはヘキサメチレンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナートなどの脂肪族ポリイソシアナート等の多官能イソシアナートと、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオール、ポリアクリレートポリオール、その他のヒドロキシル基含有化合物との反応によって得られるポリエーテルポリウレタン系樹脂、ポリエステル系ポリウレタン系樹脂、ポリアクリレートポリウレタン系樹脂を主成分とするものである。これらによれば、柔軟性と屈曲性に富む薄膜を形成することができ、その引っ張り伸長度を向上させ、上記した薄膜膜に対し、柔軟性、屈曲性などを有する被膜として作用し、ラミネート加工、印刷加工などの加工適性を向上させ、薄膜層へのクラックなどの発生を回避することができ、ガスバリア性積層フィルムとヒートシール層との密接着性を向上させ、上記した薄膜膜のクラックの発生を防止し、ラミネート強度を向上させることができる。
(7) Anchor coat agent In the present invention, for example, a heat seal layer may be formed by extrusion, and in that case, the heat seal layer can be formed via the anchor coat agent. Examples of the anchor coating agent to be used include isocyanate (urethane), polyethyleneimine, polybutadiene, organic titanium, and other anchor coating agents. More preferably, for example, aromatic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, polymethylene polyphenylene polyisocyanate, or aliphatic polyisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, xylylene diisocyanate, etc. Mainly used are polyether polyurethane resins, polyester polyurethane resins, and polyacrylate polyurethane resins obtained by reacting polyfunctional isocyanates with polyether polyols, polyester polyols, polyacrylate polyols, and other hydroxyl group-containing compounds. Ingredients. According to these, a thin film rich in flexibility and flexibility can be formed, its tensile elongation is improved, and it acts as a film having flexibility, flexibility, etc. on the above-mentioned thin film, and laminating , Improving processability such as printing, avoiding the occurrence of cracks in the thin film layer, improving the tight adhesion between the gas barrier laminate film and the heat seal layer, Generation | occurrence | production can be prevented and laminate strength can be improved.

上記アンカーコート剤は、ロールコート法、グラビアロールコート法、キスコート法、その他等のコート法、あるいは、印刷法等によって施すことができる。なお、アンカーコート剤の使用量には特に限定はないが、一般には、0.1〜5g/m2(乾燥状態)である。 The anchor coating agent can be applied by a coating method such as a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, or the like, or a printing method. The amount of the anchor coating agent used is not particularly limited, but is generally 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).

(8)押出し樹脂層
溶融押出ラミネート法における溶融押出樹脂としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、メタロセン系触媒を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体、ポリプロピレン、エチレンー酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレンーアクリル酸エチル共重合体、エチレンーアクリル酸共重合体、エチレンーメタクリル酸共重合体、エチレンープロピレン共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマール酸、その他等の不飽和カルポン酸で変性した酸変性ポリオレフィン系樹脂、その他等を使用することができる。
(8) Extruded resin layer For example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, linear (linear) low-density polyethylene, or metallocene catalyst is used as the melt-extruded resin in the melt-extrusion laminating method. Ethylene-α / olefin copolymer, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene Uses acid-modified polyolefin resins such as copolymers, methylpentene polymers, polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, etc., modified with unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride, fumaric acid, etc. can do.

また、本発明においては、溶融押出ラミネートする場合、イソシアネート系、ポリエチレンイミン系、その他等のアンカーコート剤等を任意に使用することができる。更に、上記の積層を行う際に、必要ならば、例えば、積層する基材等の表面に、例えば、コロナ処理、オゾン処理、フレーム処理等の前処理を任意に施すことができる。   In the present invention, when melt extrusion lamination is used, an anchor coating agent such as an isocyanate type, a polyethyleneimine type, or the like can be arbitrarily used. Furthermore, when performing the above lamination, if necessary, for example, pretreatment such as corona treatment, ozone treatment, frame treatment, etc. can be optionally applied to the surface of the substrate to be laminated.

押出し樹脂層の厚さは、5〜50μm、好ましくは15〜30μmである。
(9)他の基材
本発明のチューブ用積層体は、物理的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホール性、耐熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求され、このために上記の諸条件を充足するその他の基材を任意に使用することができる。具体的には、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレンーアクリル酸エチル共重合体、エチレン−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペンテンポリマー、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン化物、フッ素系樹脂、ジェン系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロース、その他等の公知の樹脂のフィルムないしシートを任意に選択して使用することができる。本発明において、上記のフィルムないしシートは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用することができる。その厚さは、任意であるが、数μmから300μm位の範囲から選択して使用することができる。
The thickness of the extruded resin layer is 5 to 50 μm, preferably 15 to 30 μm.
(9) Other base materials Since the laminated body for tubes of the present invention is subjected to severe physical and chemical conditions, deformation prevention strength, drop impact strength, pinhole resistance, heat resistance, sealing Various conditions such as property, quality maintainability, workability, hygiene, and others are required, and for this purpose, other base materials that satisfy the above conditions can be used arbitrarily. Specifically, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate Copolymer, ethylene-acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (Meth) acrylic resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin , Polycarbo Films or sheets of known resins such as silicate resins, polyvinyl alcohol resins, saponified ethylene-vinyl acetate copolymers, fluorine resins, gen resins, polyacetal resins, polyurethane resins, nitrocellulose, etc. Can be arbitrarily selected and used. In the present invention, the film or sheet may be any of unstretched and uniaxially or biaxially stretched. The thickness is arbitrary, but can be selected from a range of several μm to 300 μm.

これらは、押し出し成膜、インフレーション成膜、コーティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
更に、その他の基材としては、例えば、ラミネートチューブを構成する基本素材としての、機械的、物理的、化学的、その他等において優れた性質を有し、特に、強度を有して強靭であり、かつ耐熱性を有する樹脂層を使用することができる。例えば、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリアラミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の強靭な樹脂のフィルムないしシート、その他等を使用することができる。上記の樹脂のフィルムとしては、未延伸フィルム、あるいは、一軸方向または二軸方向に延伸した延伸フィルム等のいずれのものでも使用することができる。そのフィルムの厚さとしては、5〜100μm、好ましくは、10〜50μmが望ましい。
These may be films having any properties such as extrusion film formation, inflation film formation, and coating film.
Furthermore, as other base materials, for example, as a basic material constituting a laminated tube, it has excellent properties in mechanical, physical, chemical, etc., and particularly has strength and toughness. In addition, a resin layer having heat resistance can be used. For example, a strong resin film or sheet such as a polyester resin, a polyamide resin, a polyaramid resin, a polyolefin resin, a polycarbonate resin, a polyacetal resin, a fluorine resin, or the like can be used. As the resin film, any of an unstretched film or a stretched film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction can be used. The thickness of the film is 5 to 100 μm, preferably 10 to 50 μm.

また、本発明においては、その他の材料としては、例えば、太陽光等の光を遮光する性質を有する遮光性素材、あるいは、水蒸気、水等を透過しない性質等を有する耐水性素材を使用することができ、これは、単体の基材でもよく、あるいは二種以上の基材を組み合わせてなる複合基材等であってもよい。具体的には、例えば、水蒸気、水等のバリアー性を有する耐水性素材としては、例えば、低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレンープロピレン共重合体等の樹脂のフィルムないしシート等を使用することができ、また、遮光性素材としては、例えば、樹脂に顔料等の着色剤、更に、その他等の所望の添加剤を加えて混練してフィルム化してなる遮光性を有する各種の着色樹脂のフィルムないしシート等を使用することができる。これらの材料は、一種ないしそれ以上を組み合わせて使用することができる。上記のフィルムないしシートの厚さとしては、任意であるが、通常、5〜300μm位、更には、10〜100μmが望ましい。   In the present invention, as other materials, for example, a light-shielding material having a property of shielding light such as sunlight, or a water-resistant material having a property of not transmitting water vapor, water, or the like is used. This may be a single substrate, or a composite substrate formed by combining two or more substrates. Specifically, for example, water resistant materials having barrier properties such as water vapor and water include, for example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer. A film or sheet of a resin such as a coalescence can be used, and as a light-shielding material, for example, a colorant such as a pigment, and other desired additives such as a pigment are added to the resin and kneaded. Various colored resin films or sheets having light-shielding properties can be used. These materials can be used alone or in combination. The thickness of the film or sheet is arbitrary, but is usually about 5 to 300 μm, more preferably 10 to 100 μm.

(10)チューブ用積層体の製造方法
本発明のチューブ用積層体は、通常の積層材を製造するときに使用するラミネート法、例えば、ウェットラミネーション法、ドライラミネーション法、無溶剤型ドライラミネーション法、押出しラミネーション法、Tダイ共押出し成形法、共押出しラミネーション法、インフレーション法、その他等の任意の方法で行うことができる。
(10) Method for producing tube laminate The tube laminate of the present invention is a laminate method used when producing an ordinary laminate material, for example, a wet lamination method, a dry lamination method, a solventless dry lamination method, Any method such as an extrusion lamination method, a T-die coextrusion molding method, a coextrusion lamination method, an inflation method, or the like can be used.

例えば、予め基材フィルムに前記蒸着膜(I)、ガスバリア性塗布膜(I)、蒸着膜(II)、およびガスバリア性塗布膜(II)を設けたガスバリア性積層フィルムを調製し、このガスバリア性積層フィルムのガスバリア性塗布膜(II)または基材フィルム側とヒートシール層または表面オレフィン系樹脂層とを対向するように積層し、ラミネート用接着剤を介して接着して製造することができる。前記ガスバリア性積層フィルムが市販されている場合には、市販品を使用することもできる。表面オレフィン系樹脂層とヒートシール層とは、いずれが先にガスバリア性積層フィルムに積層されてもよい。また、本発明においては、いずれかのフィルムや層の積層を行う際に、必要ならば、前記したように、コロナ処理、オゾン処理等の前処理をフィルムに施すことができる。   For example, a gas barrier laminated film in which the above-described vapor deposition film (I), gas barrier coating film (I), vapor deposition film (II), and gas barrier coating film (II) are provided on a base film in advance is prepared. The laminated film can be produced by laminating the gas barrier coating film (II) or the base film side of the laminated film and the heat seal layer or the surface olefin resin layer so as to face each other and bonding them through a laminating adhesive. When the gas barrier laminate film is commercially available, a commercially available product can also be used. Either the surface olefin-based resin layer or the heat seal layer may be laminated on the gas barrier laminate film first. In the present invention, when any film or layer is laminated, if necessary, pretreatment such as corona treatment or ozone treatment can be applied to the film as described above.

また、ラミネート接着剤による接着に代えて、前記ガスバリア性積層フィルムのガスバリア性塗布膜(II)や基材フィルムにアンカーコート層を積層し、このアンカーコート層に押出し溶融樹脂層を介してヒートシール層や表面オレフィン系樹脂層を積層して製造することもできる。押出し溶融樹脂層によって接着することでチューブ用積層体の柔軟性を向上させ、かつチューブ形態への成形加工性を向上させることができる。   Also, instead of bonding with a laminating adhesive, an anchor coat layer is laminated on the gas barrier coating film (II) of the gas barrier laminated film or the base film, and heat sealing is performed via an extruded molten resin layer on the anchor coat layer. It can also be produced by laminating a layer or a surface olefin resin layer. By adhering with an extruded molten resin layer, the flexibility of the tube laminate can be improved, and the moldability into a tube form can be improved.

本発明においては、チューブ用積層体を構成するいずれかの基材に、そのラミネート前等において、例えば、グラビア印刷方式、オフセット印刷方式、凸版印刷方式、シルクスクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式等を使用して所望の印刷模様を形成することができるものである。具体的には、表面オレフィン系樹脂層を構成する基材、あるいは、有機珪酸化合物の蒸着膜を有する基材フィルム等に所望の印刷模様等を形成することができる。   In the present invention, for example, a gravure printing method, an offset printing method, a relief printing method, a silk screen printing method, a flexographic printing method, etc. are used for any of the substrates constituting the laminate for a tube before the lamination. Thus, a desired printed pattern can be formed. Specifically, a desired printed pattern or the like can be formed on a substrate constituting the surface olefin-based resin layer or a substrate film having a vapor-deposited film of an organic silicate compound.

例えば、表面オレフィン系樹脂層の表裏のいずれかの片面及び/又は両面に、所望の印刷模様を設け、次いで、バリア性積層フィルムとヒートシール層とを積層して、本発明にかかるチューブ用積層体を製造し、しかる後、これを使用して、以下、上記と同様にして、本発明にかかるラミネートチューブ、それを使用した包装製品等を製造することもできる。   For example, a desired printed pattern is provided on either one and / or both sides of the front and back surfaces of the surface olefin-based resin layer, and then a barrier laminate film and a heat seal layer are laminated to laminate the tube according to the present invention. A body is manufactured, and thereafter, the laminate tube according to the present invention, a packaged product using the same, and the like can be manufactured in the same manner as described above.

(11)ラミネートチューブの製造方法
本発明のチューブ用積層体を使用して、本発明にかかるラミネートチューブを製造する一例を挙げれば、まず、前記チューブ用積層体を所定サイズに切断し、そのチューブ用積層体の両端部の表面オレフィン系樹脂層の面とヒートシール層の面とを重ねあわせ、次いで熱融着して筒状胴部を製造し、その筒状胴部の一方の開口部に、例えば、押出成形法等の通常の方法によって、肩部および開口部を有する頭部を形成し、頭部の開口部にキャップを螺合させて、ラミネートチューブを製造することができる。このラミネートチューブの筒状胴部の他方の開放端から、練り歯磨き、その他等の内容物を充填した後に、前記開放端を熱溶着して底シール部を形成すれば、内容物を充填包装したラミネートチューブからなる包装製品を製造することができる。
(11) Method for Producing Laminate Tube To give an example of producing a laminate tube according to the present invention using the tube laminate of the present invention, first, the tube laminate is cut into a predetermined size, and the tube The surface olefin-based resin layer surface and the heat seal layer surface at both ends of the laminate for the laminate are laminated, and then heat-sealed to produce a cylindrical body, and one cylindrical opening of the tubular body is For example, a laminated tube can be manufactured by forming a head having a shoulder and an opening by a normal method such as an extrusion molding method, and screwing a cap into the opening of the head. After filling the contents such as toothpaste and others from the other open end of the cylindrical body of this laminate tube, the open end is heat welded to form a bottom seal portion, and the contents are filled and packaged. A packaged product made of a laminated tube can be manufactured.

なお、本発明にかかるラミネートチューブの肩部、開口部等からなる頭部を構成する材料として、上記のような高密度ポリエチレンの他に、更に、前述のメタロセン触媒を使用して重合したエチレン−α・オレフィン共重合体等を使用することもできる。   In addition to the high-density polyethylene as described above, the ethylene-polymerized by using the metallocene catalyst described above as a material constituting the head portion composed of the shoulder portion, opening portion and the like of the laminated tube according to the present invention An α-olefin copolymer or the like can also be used.

上記筒状胴部を製造する際にヒートシールする方法としては、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シール、火炎シール等の既知の方法で行うことができる。   As a method of heat-sealing when manufacturing the cylindrical body part, known methods such as a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high-frequency seal, an ultrasonic seal, and a flame seal can be used.

一方、ラミネートチューブの製造方法は、上記に限定されるものではない。例えば、上記チューブ用積層体を使用し、そのチューブ積層体の表面に、グラビア印刷方式、フレキソ印刷方式等を用いて、グラビアインキ、フレキソインキ等を使用し、文字、図形、記号、絵柄、その他等からなる印刷絵柄層を印刷、形成し、次いで、印刷模様層を形成したチューブ用積層体を丸めてその重合端部を溶着してラミネートチューブを構成する筒状胴部を製造し、次に、その筒状胴部の上方に、例えば、高密度ポリエチレン等を用いて、例えば、射出成形法、圧縮成形法、その他の成形法で成形溶着して肩部および開口部等からなる頭部を形成し、次いで、頭部を構成する開口部に、別途、例えば、ポリプロピレン系樹脂等を使用して射出成形法等で成形して製造したキャップを取り付けて、本発明にかかるラミネートチューブを製造することができる。次いで、ラミネートチューブの下端部の開放端から充填包装する内容物を充填し、次いでその開放端をヒートシールして底溶着部を形成してもよい。   On the other hand, the manufacturing method of a laminate tube is not limited to the above. For example, using the above laminate for tubes, using the gravure printing method, flexographic printing method, etc. on the surface of the tube laminate, using gravure ink, flexographic ink, etc., letters, figures, symbols, designs, etc. A printed picture layer composed of, etc. is printed and formed, and then the tube laminate on which the printed pattern layer is formed is rolled and its polymer end is welded to produce a cylindrical body part constituting the laminated tube, The upper part of the cylindrical body is formed of, for example, a high-density polyethylene, and the head made of a shoulder and an opening is formed and welded by, for example, an injection molding method, a compression molding method, or other molding methods. Then, a cap manufactured by separately molding, for example, an injection molding method using polypropylene resin or the like is attached to the opening constituting the head, and the laminate tube according to the present invention is attached. It can be produced. Next, the contents to be filled and packaged may be filled from the open end of the lower end portion of the laminate tube, and then the open end may be heat sealed to form the bottom welded portion.

フレキソ印刷は凸版印刷の一種であり、フレキシブルな樹脂またはゴム凸版を用い、溶剤乾燥型のフレキソインキを用いて、文字、図形、記号、絵柄、その他等からなる所望の印刷絵柄層を印刷して形成するものである。フレキソインキとしては、ゴム凸版等を比較的侵さない、アルコール系または水性のビヒクルを主体とした蒸発乾燥型インキ、あるいは、紫外線硬化型インキ等を使用することができるものである。   Flexographic printing is a type of letterpress printing, using a flexible resin or rubber letterpress, and using a solvent-dried flexographic ink to print a desired printed pattern layer consisting of letters, figures, symbols, patterns, etc. To form. As the flexographic ink, it is possible to use an evaporation-drying ink mainly composed of an alcohol-based or aqueous vehicle, an ultraviolet curable ink, or the like that does not relatively invade rubber letterpress.

本発明では、フレキソ印刷方式等を用いることにより、無地の状態でチューブ用積層体を製造し、その無地のチューブ用積層体あるいは無地の筒状同部の表面に直接印刷して、所望の印刷絵柄層を形成することができるので、原反のまとめ生産が可能となり、その生産効率を高め、製造ロスの削減等を行うことができ、また、受注に応じて、必要数量だけ印刷するために、製造ロスを削減し、短納期化が可能となる。すなわち、通常、プラスチックフィルム等の原反フィルムに印刷して所望の印刷絵柄層を形成し、しかる後、これに他のプラスチックフィルム等を積層して、印刷絵柄付きの積層材を製造しているため、受注からのリードタイムが長くなり、各絵柄ごとに原反ロットがわかれるなど、製造プロセス、製造コスト等を著しく不利にするものであるが、本発明は、そのような問題点を解消し得るという利点を有するものである。   In the present invention, a tube laminate is produced in a plain state by using a flexographic printing method or the like, and directly printed on the surface of the plain tube laminate or the plain cylindrical same part to obtain a desired print. Since a pattern layer can be formed, it is possible to produce a batch of raw fabric, increase its production efficiency, reduce manufacturing loss, etc., and to print only the required quantity according to orders. Manufacturing loss can be reduced and delivery time can be shortened. That is, usually, a desired printed picture layer is formed by printing on a raw film such as a plastic film, and then another plastic film or the like is laminated thereon to produce a laminated material with a printed picture. For this reason, the lead time from receiving an order becomes longer, and the raw fabric lot is known for each pattern, which makes the manufacturing process and manufacturing cost extremely disadvantageous. However, the present invention eliminates such problems. It has the advantage of obtaining.

本発明のラミネートチューブに充填包装する内容物としては、例えば、練り歯磨き、化粧品、糊、練りがらし、練りわさび、クリーム類、絵の具、軟膏、医薬品、その他等を挙げることができる。   Examples of the contents filled and packaged in the laminate tube of the present invention include toothpaste, cosmetics, glue, paste, kneaded wasabi, creams, paints, ointments, pharmaceuticals, and the like.

次に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、これらの実施例は何ら本発明を制限するものではない。
製造例1
片面をコロナ処理した厚さ12μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送り出しロールに装着し、次いで、上記の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面に、有機珪素化合物であるヘキサメチルジシロキサン(以下、HMDSOという。)を供給して、厚さ200Åの蒸着膜を形成し、この蒸着膜面にプラズマ処理を行った。次いで、下記の表1に示す組成に従って、組成a.EVOH(エチレン共重合比率29%)をイソプロピルアルコールおよびイオン交換水の混合溶媒にて溶解したEVOH溶液に、予め調製した組成b.のエチルシリケート40、イソプロピルアルコール、アセチルアセトンアルミニウム、イオン交換水からなる加水分解液を加えて攪拌、更に予め調製した組成c.のポリビニルアルコール水溶液、シランカップリング剤(エポキシシリカSH6040)、酢酸、イソプロピルアルコール及びイオン交換水からなる混合液を加えて攪拌し、無色透明のバリアー塗工液を得た。
EXAMPLES Next, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, these Examples do not restrict | limit this invention at all.
Production Example 1
Using a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm and corona-treated on one side, this was mounted on a feeding roll of a plasma chemical vapor deposition apparatus, and then on the corona-treated surface of the above biaxially stretched polyethylene terephthalate film, Hexamethyldisiloxane (hereinafter referred to as HMDSO), which is an organosilicon compound, was supplied to form a vapor-deposited film having a thickness of 200 mm, and plasma treatment was performed on the surface of the vapor-deposited film. Then, according to the composition shown in Table 1 below, the composition a. Composition prepared in advance in EVOH solution in which EVOH (ethylene copolymerization ratio 29%) was dissolved in a mixed solvent of isopropyl alcohol and ion-exchanged water b. A hydrolyzed solution composed of ethyl silicate 40, isopropyl alcohol, acetylacetone aluminum, and ion-exchanged water, and stirred, and further prepared in advance c. A mixture of polyvinyl alcohol aqueous solution, silane coupling agent (epoxysilica SH6040), acetic acid, isopropyl alcohol and ion-exchanged water was added and stirred to obtain a colorless and transparent barrier coating solution.

Figure 2009248456
前記プラズマ処理面に、上記で製造したガスバリア性組成物をコーティングして厚さ0.4g/m2(乾操状態)のガスバリア性塗布膜を形成し、ガスバリア性積層フィルム(I)を製造した。
Figure 2009248456
The plasma-treated surface was coated with the gas barrier composition produced above to form a gas barrier coating film having a thickness of 0.4 g / m 2 (in the dry operation state) to produce a gas barrier laminated film (I). .

製造例2
製造例1で製造したガスバリア性積層体(I)のガスバリア性塗布膜の面に、前記プラズマ化学気相成長装置を用いて有機珪素化合物であるヘキサメチルジシロキサン(以下、HMDSOという。)を供給して、厚さ200Åの蒸着膜を形成し、更に、この蒸着膜の上に上記と同様にしてガスバリア性塗布膜を形成してガスバリア性積層フィルム(II)を製造した。
Production Example 2
On the surface of the gas barrier coating film of the gas barrier laminate (I) produced in Production Example 1, hexamethyldisiloxane (hereinafter referred to as HMDSO), which is an organosilicon compound, is supplied using the plasma chemical vapor deposition apparatus. Then, a vapor-deposited film having a thickness of 200 mm was formed, and a gas-barrier coating film was formed on the vapor-deposited film in the same manner as described above to produce a gas-barrier laminated film (II).

製造例3
(1) 片面をコロナ処理を行った厚さ12μmの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを巻き取り式の真空蒸着装置の送り出しロールに装着して繰り出し、次いで、上記の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面に、酸化アルミニウムを供給し、膜厚200Åの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し、酸化アルミニウムの蒸着膜面にプラズマ処理を行い、ガスバリア性積層フィルム(III)を製造した。
Production Example 3
(1) A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm, which has been corona-treated on one side, is mounted on a feed roll of a take-up vacuum deposition apparatus, and then fed, and then corona treatment of the above biaxially stretched polyethylene terephthalate film Aluminum oxide was supplied to the surface to form an aluminum oxide vapor-deposited film having a thickness of 200 mm, and plasma treatment was performed on the aluminum oxide vapor-deposited film surface to produce a gas barrier laminate film (III).

実施例1
製造例2で製造したガスバリア性積層フィルムのPET側にラミネート用接着剤(大日本インキ化学工業(株)製、商品名「LX703VL/KR90」)を厚さ3μmに塗布し、厚さ150μmのLLDPE(タマポリ(株)製、商品名「UB−IT」)と接着した。次いで、初めに積層したLLDPE面にUV硬化フレキソインキを塗布し、乾燥させた。次いで、このガスバリア性積層フィルム(II)のゲルゾル系バリアコートにラミネート用接着剤(大日本インキ化学工業(株)製、商品名「LX703VL/KR90」)を厚さ3μmに塗布し、厚さ150μmのLLDPE(タマポリ(株)製、商品名「UB−IT」)を積層し、本発明のチューブ用積層体(I)を製造した。このチューブ用積層体の層構成は、UV硬化フレキソインキ/LLDPE150/DL/PET12/CVD−SiOx/ゾルゲル系バリアコート/CVD−SiOx/ゾルゲル系バリアコート/DL/LLDPE150である。
Example 1
A laminating adhesive (trade name “LX703VL / KR90” manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) is applied to the PET side of the gas barrier laminate film produced in Production Example 2 to a thickness of 3 μm, and LLDPE having a thickness of 150 μm. (Tamapoly Co., Ltd., trade name “UB-IT”) and bonded. Next, a UV-curing flexographic ink was applied to the LLDPE surface laminated first, and dried. Next, a laminating adhesive (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., trade name “LX703VL / KR90”) is applied to the gel sol barrier coat of the gas barrier laminate film (II) to a thickness of 3 μm, and the thickness is 150 μm. LLDPE (manufactured by Tamapoly Co., Ltd., trade name “UB-IT”) was laminated to produce a laminate (I) for a tube of the present invention. The layer structure of this laminated body for tubes is UV-cured flexographic ink / LLDPE 150 / DL / PET 12 / CVD-SiOx / sol-gel barrier coat / CVD-SiOx / sol-gel barrier coat / DL / LLDPE 150 .

このチューブ用積層体(I)の酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。結果を表2に示す。
次いで、チューブ用積層体(I)を使用して、直径35mm、高さ160mmのチューブを形成し、開口部にHDPEからなる頭部を圧縮成型で取り付けた。このチューブに練りわさび150gを充填し、酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。
The oxygen permeability and water vapor permeability of the laminate for tube (I) were measured. The results are shown in Table 2.
Next, a tube having a diameter of 35 mm and a height of 160 mm was formed using the tube laminate (I), and a head made of HDPE was attached to the opening by compression molding. This tube was filled with 150 g of kneaded wasabi and the oxygen permeability and water vapor permeability were measured.

次いで、上記チューブに手揉み試験を実施し、手揉み後の酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。結果を表3に示す。
実施例2
製造例2で製造したガスバリア性積層フィルムのガスバリア塗布膜面に、グラビアインキを塗布した。次いで、前記ガスバリア性積層フィルムの二軸延伸テレフタートフィルム面にアンカーコート剤(三井化学ポリウレタン(株)製、商品名「A3210/A3075」)を厚さ0.2μmに塗布した後、このアンカーコート剤塗布面にポリエチレンを厚さ15μmに溶融押出しして厚さ80μmの無延伸ポリプロピレンフィルム(フタムラ化学(株)製、商品名「FCMN」)を積層した。次いで、前記ガスバリア性積層フィルム(II)のガスバリア塗布膜面にアンカーコート剤(三井化学ポリウレタン(株)製、商品名「A32101/A3075」)を厚さ0.2μmに塗布した後、このアンカーコート剤塗布面にポリエチレンを厚さ15μmに溶融押出しして厚さ80μmの無延伸ポリプロピレンフィルム(フタムラ化学(株)製、商品名「FCMN」)を積層して、本発明のチューブ用積層体(II)を製造した。このチューブ用積層体の層構成は、CPP80/PE15/AC/PET12/CVD−SiOx/ゾルゲル系バリアコート/CVD−SiOx/ゾルゲル系バリアコート/グラビアインキ/AC/PE15 /CPP80である。
Next, a hand biting test was performed on the tube, and the oxygen permeability and water vapor permeability after the hand biting were measured. The results are shown in Table 3.
Example 2
The gravure ink was applied to the gas barrier coating film surface of the gas barrier laminate film produced in Production Example 2. Next, an anchor coating agent (trade name “A3210 / A3075” manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethane Co., Ltd.) is applied to the biaxially stretched terephthalate film surface of the gas barrier laminate film to a thickness of 0.2 μm, and then the anchor coat is applied. Polyethylene was melt-extruded to a thickness of 15 μm on the agent-coated surface, and an unstretched polypropylene film (trade name “FCMN”, manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm was laminated. Next, an anchor coating agent (trade name “A32101 / A3075” manufactured by Mitsui Chemicals Polyurethanes Co., Ltd.) is applied to the gas barrier coating film surface of the gas barrier laminate film (II) to a thickness of 0.2 μm, and then this anchor coating is applied. Polyethylene is melt-extruded to a thickness of 15 μm on the surface to which the agent is applied, and an unstretched polypropylene film having a thickness of 80 μm (trade name “FCMN”, manufactured by Futamura Chemical Co., Ltd.) is laminated to obtain the laminate for tubes of the present invention (II ) Was manufactured. The layer structure of this laminate for tubes is CPP 80 / PE 15 / AC / PET 12 / CVD-SiOx / sol-gel barrier coat / CVD-SiOx / sol-gel barrier coat / gravure ink / AC / PE 15 / CPP 80 is there.

このチューブ用積層体(II)について、実施例1と同様にして酸素透過度および水蒸気透過度を行った。結果を表2に示す。
次いで、チューブ用積層体(II)を使用して、直径35mm、高さ160mmのチューブを形成し、開口部にPPからなる頭部を圧縮成型で取り付けた。このチューブについて実施例1と同様に操作して、手揉み後の酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。結果を表3に示す。
About this laminated body (II) for tubes, it carried out similarly to Example 1, and performed oxygen permeability and water vapor permeability. The results are shown in Table 2.
Next, a tube having a diameter of 35 mm and a height of 160 mm was formed using the tube laminate (II), and a head made of PP was attached to the opening by compression molding. This tube was operated in the same manner as in Example 1, and the oxygen permeability and water vapor permeability after hand-kneading were measured. The results are shown in Table 3.

比較例1
実施例1のガスバリア性積層フィルム(II)に代えて、製造例3で製造したガスバリア性積層フィルム(III)を使用した以外は、実施例1と同様に操作して、比較チューブ用積層体(I)を製造した。このチューブ用積層体の層構成は、UV硬化フレキソインキ/乳白LLDPE150/DL/PET12/AlOx/DL/LLDPE150である。
Comparative Example 1
In place of the gas barrier laminate film (II) of Example 1, the gas barrier laminate film (III) produced in Production Example 3 was used, except that the gas barrier laminate film (III) was used. I) was produced. The layer structure of this laminated body for tubes is UV curable flexographic ink / milk white LLDPE 150 / DL / PET 12 / AlOx / DL / LLDPE 150 .

次いで、この比較チューブ用積層体(I)について、実施例1と同様にして酸素透過度および水蒸気透過度を行った。結果を表2に示す。
また、実施例1と同様にしてチューブを製造し、このチューブについて実施例1と同様に操作して、手揉み後の酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。結果を表3に示す。
Subsequently, oxygen permeability and water vapor permeability were performed on the comparative tube laminate (I) in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
Further, a tube was produced in the same manner as in Example 1, and this tube was operated in the same manner as in Example 1 to measure the oxygen permeability and water vapor permeability after manual handling. The results are shown in Table 3.

比較例2
実施例2のガスバリア性積層フィルム(II)に代えて、製造例1で製造したガスバリア性積層フィルム(I)を使用した以外は、実施例1と同様に操作して、比較チューブ用積層体(II)を製造した。このチューブ用積層体の層構成は、CPP80/PE15/AC/PET12/CVD−SiOx/ゾルゲル系バリアコート/グラビアインキ/AC/PE15/CPP80である。
Comparative Example 2
In place of the gas barrier laminate film (II) of Example 2, the gas barrier laminate film (I) produced in Production Example 1 was used except that the gas barrier laminate film (I) was used. II) was prepared. The layer structure of this laminated body for tubes is CPP 80 / PE 15 / AC / PET 12 / CVD-SiOx / sol-gel barrier coat / gravure ink / AC / PE 15 / CPP 80 .

次いで、この比較チューブ用積層体(II)について、実施例1と同様にして酸素透過度および水蒸気透過度を行った。結果を表2に示す。
また、実施例1と同様にしてチューブを製造し、このチューブについて実施例1と同様に操作して、手揉み後の酸素透過度および水蒸気透過度を測定した。結果を表3に示す。
Subsequently, oxygen permeability and water vapor permeability were performed on the comparative tube laminate (II) in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.
Further, a tube was produced in the same manner as in Example 1, and this tube was operated in the same manner as in Example 1 to measure the oxygen permeability and water vapor permeability after manual handling. The results are shown in Table 3.

(測定方法)
(1) 酸素透過度の測定
温度23℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、オクストラン(OXTRAN)〕にて測定した。
(Measuring method)
(1) Measurement of oxygen permeability Measurement was carried out with a measuring instrument (model name, OXTRAN) manufactured by MOCON, USA under the conditions of a temperature of 23 ° C. and a humidity of 90% RH.

(2) 水蒸気透過度の測定
温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パーマトラン(PERMATRAN3/31)〕にて測定した。
(2) Measurement of water vapor permeability Measurement was performed with a measuring instrument (model name, Permatran 3/31) manufactured by MOCON, USA, under conditions of a temperature of 40 ° C. and a humidity of 90% RH.

Figure 2009248456
Figure 2009248456

Figure 2009248456
Figure 2009248456

本発明のチューブ用積層体は、ガスバリア性、透明性に優れ、かつ手揉み耐性に優れ、実際の使用における高いガスバリア性を維持することができる。   The laminated body for tubes of the present invention is excellent in gas barrier properties and transparency, excellent in resistance to handling, and can maintain high gas barrier properties in actual use.

図1は、本発明のチューブ用積層体の層構造を説明する図であり、ガスバリア性積層フィルム(30)にヒートシール層(10)がラミネート用接着剤層(20)によって接着される態様であって、前記ガスバリア性積層フィルム(30)は、基材フィルム(31)、有機珪素化合物を蒸着してなる蒸着層(33)、ガスバリア性塗布膜(35)、有機珪素化合物を蒸着してなる蒸着層(37)およびガスバリア性塗布膜(39)をこの順に積層したガスバリア性に優れる積層フィルムである態様を示す。FIG. 1 is a diagram for explaining the layer structure of a laminate for a tube according to the present invention, in which a heat seal layer (10) is bonded to a gas barrier laminate film (30) by an adhesive layer (20) for lamination. The gas barrier laminated film (30) is formed by depositing a base film (31), a vapor deposition layer (33) obtained by vapor-depositing an organic silicon compound, a gas barrier coating film (35), and an organic silicon compound. The embodiment is a laminated film having excellent gas barrier properties in which a vapor deposition layer (37) and a gas barrier coating film (39) are laminated in this order. 図2は、本発明のチューブ用積層体の層構造を説明する図であり、ガスバリア性積層フィルム(30)にアンカーコート層(60)が形成された後に、押出し樹脂層(25)を介してヒートシール層(15)が積層される態様であって、前記ガスバリア性積層フィルム(30)は、基材フィルム(31)、有機珪素化合物を蒸着してなる蒸着層(33)、ガスバリア性塗布膜(35)、有機珪素化合物を蒸着してなる蒸着層(37)およびガスバリア性塗布膜(39)をこの順に積層したガスバリア性に優れる積層フィルムである態様を示す。FIG. 2 is a diagram for explaining the layer structure of the laminate for a tube of the present invention, and after the anchor coat layer (60) is formed on the gas barrier laminate film (30), the extruded resin layer (25) is interposed therebetween. A heat seal layer (15) is laminated, wherein the gas barrier laminate film (30) comprises a base film (31), a vapor deposition layer (33) formed by vapor-depositing an organic silicon compound, and a gas barrier coating film. (35) An embodiment in which a vapor deposition layer (37) obtained by vapor-depositing an organosilicon compound and a gas barrier coating film (39) are laminated films in this order are laminated films having excellent gas barrier properties. 低温プラズマ化学蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of a low temperature plasma chemical vapor deposition apparatus. 複数の製膜室を有する低温プラズマ化学蒸着装置の一例を示す概略的構成図である。It is a schematic block diagram which shows an example of the low temperature plasma chemical vapor deposition apparatus which has a some film forming chamber.

符号の説明Explanation of symbols

10・・・ヒートシール層、
20・・・接着剤樹脂層、
25・・・溶融押出し樹脂層、
30・・・ガスバリア性積層フィルム、
31・・・基材フィルム、
33・・・有機珪素化合物を蒸着してなる蒸着層、
35・・・ガスバリア性塗布膜、
37・・・有機珪素化合物を蒸着してなる蒸着層、
39・・・ガスバリア性塗布膜、
40・・・表面オレフィン系樹脂層、
50・・・印刷層、
60・・・アンカーコート層、
100・・・プラズマ化学気相成長装置、
101・・・基材フィルム、
110・・・基材フィルム供給室、
111・・・巻き出しロール、
120・・・第一製膜室、
121、123、131、133、141、143・・・補助ロール、
122、132、142・・・冷却・電極ドラム、
124、134、144・・・原料揮発供給装置、
125、135、145・・・ガス供給装置、
127、137、147・・・原料供給ノズル
128、138、148・・・グロー放電プラズマ、
129、139、149・・・マグネット、
130・・・第二製膜室、
140・・・第三製膜室、
150・・・巻取り室、
153・・・真空ポンプ、
160・・・電源。
10 ... heat seal layer,
20: Adhesive resin layer,
25 ... melt-extruded resin layer,
30 ... Gas barrier laminate film,
31 ... Base film,
33 ... Vapor deposition layer formed by vapor-depositing an organosilicon compound,
35 ... gas barrier coating film,
37 ... Vapor deposition layer formed by vapor-depositing an organosilicon compound,
39: Gas barrier coating film,
40 ... surface olefin resin layer,
50 ... printing layer,
60: Anchor coat layer,
100: Plasma chemical vapor deposition apparatus,
101 ... substrate film,
110 ... Base film supply chamber,
111 ... unwinding roll,
120 ... first film forming chamber,
121, 123, 131, 133, 141, 143 ... auxiliary rolls,
122, 132, 142 ... cooling / electrode drum,
124, 134, 144 ... Raw material volatilization supply device,
125, 135, 145 ... gas supply device,
127, 137, 147 ... raw material supply nozzles 128, 138, 148 ... glow discharge plasma,
129, 139, 149 ... magnets,
130: second film forming chamber,
140: Third film forming chamber,
150 ... take-up chamber,
153 ... Vacuum pump,
160: Power supply.

Claims (2)

表面オレフィン系樹脂層とガスバリア性積層フィルムとヒートシール層とをこの順に積層してなるチューブ用積層体であって、
前記ガスバリア性積層フィルムは、基材フィルムの一方の面に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(I)を設け、該蒸着膜上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(I)を設け、前記ガスバリア性塗布膜(I)に化学気相成長法により有機珪素化合物を供給してなる蒸着膜(II)を設け、該蒸着膜(II)上に一般式R1 nM(OR2m(ただし、式中、R1、R2は、炭素数1〜8の有機基を表し、Mは、金属原子を表し、nは、0以上の整数を表し、mは、1以上の整数を表し、n+mは、Mの原子価を表す。)で表される少なくとも1種以上のアルコキシドと、ポリビニルアルコール系樹脂及び/又はエチレン・ビニルアルコール共重合体とを含有し、更に、ゾル−ゲル法によって重縮合して得られるガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜(II)を設けたガスバリア性積層フィルムであることを特徴とする、チューブ用積層体。
A laminated body for a tube formed by laminating a surface olefin-based resin layer, a gas barrier laminate film, and a heat seal layer in this order,
The gas barrier laminate film is provided with a vapor deposition film (I) formed by supplying an organic silicon compound by chemical vapor deposition on one surface of a base film, and the general formula R 1 n M (OR 2 ) m (wherein, R 1 and R 2 represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, and m represents 1 or more) N + m represents the valence of M.) and contains a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer, and a sol A vapor deposition film in which a gas barrier coating film (I) made of a gas barrier composition obtained by polycondensation by a gel method is provided, and an organosilicon compound is supplied to the gas barrier coating film (I) by chemical vapor deposition (II) is provided on the deposited film (II). General formula R 1 n M (OR 2) m ( where in the formula, R 1, R 2 represents an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n is an integer of 0 or more M represents an integer of 1 or more, and n + m represents a valence of M.), and a polyvinyl alcohol resin and / or an ethylene / vinyl alcohol copolymer. And a gas barrier laminate film provided with a gas barrier coating film (II) made of a gas barrier composition obtained by polycondensation by a sol-gel method.
請求項1記載のチューブ用積層体からなるラミネートチューブ。   A laminate tube comprising the laminate for a tube according to claim 1.
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