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JP2009245515A - 磁気記録媒体、磁性粉末用表面改質剤およびこれを含む磁性塗料 - Google Patents

磁気記録媒体、磁性粉末用表面改質剤およびこれを含む磁性塗料 Download PDF

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JP2009245515A JP2008090720A JP2008090720A JP2009245515A JP 2009245515 A JP2009245515 A JP 2009245515A JP 2008090720 A JP2008090720 A JP 2008090720A JP 2008090720 A JP2008090720 A JP 2008090720A JP 2009245515 A JP2009245515 A JP 2009245515A
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和史 小村
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仁彦 森
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Abstract

【課題】優れた電磁変換特性を有する高密度磁気記録媒体を提供すること。
【解決手段】非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体。前記磁性層は、下記一般式(1)で表される化合物を含有する。
Figure 2009245515

[一般式(1)中、Xは二価の連結基を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数7〜20のアリーロキシアルキル基を表し、Mは水素原子または陽イオンを表す。]
【選択図】なし

Description

本発明は、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体に関するものであり、より詳しくは、スルホン酸(塩)基を有する化合物を磁性層に含み、優れた電磁変換特性を発揮し得る磁気記録媒体に関する。
更に本発明は、上記スルホン酸(塩)基を有する化合物を含む磁性粉末用表面改質剤およびこれを含む磁性塗料に関する。
近年の高密度磁気記録媒体に使用される微粒子磁性体としては、金属粉末、金属酸化物等が使用されている。しかし、金属粉末および金属酸化物の表面は親水性であるため、磁性液の溶剤として使用されるシクロヘキサノンやメチルエチルケトン等に対する親和性が低い。そこで、溶媒親和性の高い骨格と吸着性極性基を有する各種有機素材を分散剤として添加し、磁性体粒子表面に吸着させることで磁性体表面の溶媒への親和性を高めることにより、溶媒への濡れ性を向上し分散促進を図ることが提案されている(例えば特許文献1〜3参照)。
特開平5−621162号公報 特開平7−21546号公報 特開2001−134922号公報
しかし、従来分散剤として使用されていた素材は分散剤自身の溶剤溶解性が不十分であり、磁性体表面への十分な吸着性を確保できていなかった。更に従来の分散剤は磁性体粒子表面に吸着、溶媒親和性を向上させる機能に加えて、結合剤として添加するポリウレタン等の有機ポリマーと親和性を向上し、磁性体表面へのポリマーの吸着を促進させる機能も不十分であるため、近年の高密度磁気記録媒体に要求される電磁変換特性を確保することは困難である。
そこで本発明の目的は、優れた電磁変換特性を有する高密度磁気記録媒体を提供することにある。
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、下記一般式(1)で表される有機イオウ化合物を磁性層成分として使用することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。
即ち、上記目的は、下記手段により達成された。
[1]非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、
前記磁性層は、下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
Figure 2009245515
[一般式(1)中、Xは二価の連結基を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数7〜20のアリーロキシアルキル基を表し、Mは水素原子または陽イオンを表す。]
[2]前記磁性層に、一般式(1)で表される化合物とイソシアネート化合物との反応生成物を更に含む[1]に記載の磁気記録媒体。
[3]磁性層に含まれる結合剤は、一般式(1)で表される化合物をジオール成分として得られたポリウレタン樹脂を含む[1]または[2]に記載の磁気記録媒体。
[4]前記磁性層は、一般式(1)で表される化合物を、強磁性粉末100質量部に対し0.1〜30質量部含有する[1]〜[3]のいずれかに記載の磁気記録媒体。
[5]下記一般式(1)で表される化合物を含む磁性粉末用表面改質剤。
Figure 2009245515
[一般式(1)中、Xは二価の連結基を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数7〜20のアリーロキシアルキル基を表し、Mは水素原子または陽イオンを表す。]
[6][5]に記載の表面改質剤、磁性粉末、および結合剤を含む磁性塗料。
[7]前記結合剤は、一般式(1)で表される化合物をジオール成分として得られたポリウレタン樹脂を含む[6]に記載の磁性塗料。
[8]イソシアネート化合物を更に含む[6]または[7]に記載の磁性塗料。
[9]磁気記録媒体の磁性層形成用塗布液として使用される[6]〜[8]のいずれかに記載の磁性塗料。
本発明によれば、微粒子磁性体を含む磁性層の分散性および表面平滑性を高めることにより、優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提供することができる。
更に、一般式(1)で表される化合物はイソシアネート化合物との間に強固な架橋構造を形成することができるため、イソシアネート化合物を併用することにより走行耐久性を改善することができる。
本発明は、非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体に関する。本発明の磁気記録媒体は、下記一般式(1)で表される化合物を磁性層に含有する。
Figure 2009245515
[一般式(1)中、Xは二価の連結基を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数7〜20のアリーロキシアルキル基を表し、Mは水素原子または陽イオンを表す。]
一般式(1)で表される化合物は、比較的強い極性基であるスルホン酸(塩)基を有するため、磁性体粒子表面に強固に吸着すると共に、分岐OH基を有する骨格を付与することで十分な溶剤親和性を確保できる。更に、一般式(1)で表される化合物は、結合剤として使用されるポリウレタン等の有機ポリマーとの親和性が高いため、磁性体表面へのポリマーの吸着を促進させる機能も有する。これによっても磁性層の分散性を高めることができる。
また、一般式(1)で表される化合物はジオール化合物であるため、ポリウレタン樹脂の原料として使用することができる。一般式(1)で表される化合物は、一般式(1)で表される化合物を合成原料として使用したポリウレタン樹脂と併用した場合、ポリウレタン樹脂に同様の骨格が含まれるため、同様の骨格のユニット間の良好な親和性により、ポリウレタンウレタンの吸着を促進し、一層の分散性効果を発現できる。また、一般式(1)で表される化合物中の2個の水酸基はイソシアネート化合物との間に強固な架橋構造を形成できるため、イソシアネート化合物と併用することにより耐久性を改善することができる。
以下、一般式(1)で表される化合物について、更に詳細に説明する。
一般式(1)で表される化合物
一般式(1)中、Xは二価の連結基を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数7〜20のアリーロキシアルキル基を表し、Mは水素原子または陽イオンを表す。
Xで表される二価の連結基は、二価の炭化水素基であることが好ましく、アルキレン基、アリーレン基、または、これらを2以上組み合わせた基であることがより好ましく、アルキレン基またはアリーレン基であることがさらに好ましく、エチレン基またはフェニレン基であることが特に好ましく、フェニレン基であることが最も好ましい。フェニレン基としては、o−フェニレン基、m−フェニレン基、および、p−フェニレン基を例示することができ、m−フェニレン基であることが好ましい。
前記アルキレン基の炭素数は、2以上20以下であることが好ましく、2以上4以下であることがより好ましく、2であることがさらに好ましい。また、前記アルキレン基は、直鎖状のアルキレン基であっても、分岐を有するアルキレン基であってもよいが、直鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
前記アリーレン基の炭素数は、6以上20以下であることが好ましく、6以上10以下であることがより好ましく、6であることがさらに好ましい。
前記アルキレン基および前記アリーレン基は、置換されていてもよく無置換であってもよい。置換基としては、以下の置換基を例示できるが、前記アルキレン基および前記アリーレン基は、炭素原子および水素原子のみからなる基であることが好ましい。なお、本発明において、ある基が置換基を有する場合、該基について「炭素数」とは置換基を含まない部分の炭素数をいうものとする。
前記アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アリール基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキル基が例示できる。
前記アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、アルコキシ基、アリーロキシ基、アリール基が例示できる。
一般式(1)におけるMは、水素原子または陽イオンを表す。
前記陽イオンは、無機陽イオンであっても、有機陽イオンであってもよい。
無機陽イオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオンまたはアルカリ土類金属イオンが好ましく、アルカリ金属イオンがより好ましく、Li+、Na+またはK+がさらに好ましい。これらの中でも、特にLi+イオンが好ましい。
有機陽イオンとしては、アンモニウムイオン、第四級アンモニウムイオン、ピリジニウムイオン等を例示できる。
前記Mは、水素原子またはアルカリ金属イオンであることが好ましく、水素原子、Li+、Na+またはK+であることがより好ましく、特に分散性向上の点からはLi+であることが好ましい。
一般式(1)におけるR1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、または、炭素数7〜20のアリーロキシアルキル基を表す。
前記アルキル基の炭素数は、2〜20であり、2〜8であることが好ましく、2〜4であることがより好ましい。
前記アリール基の炭素数は、6〜20であり、6〜10であることが好ましく、6であることがより好ましい。
前記アラルキル基の炭素数は、7〜20であり、7〜11であることが好ましい。
前記アルコキシアルキル基の炭素数は、2〜20であり、2〜12であることが好ましく、2〜5であることがより好ましい。
前記アリーロキシアルキル基の炭素数は、7〜20であり、7〜12であることが好ましく、7であることがより好ましい。
前記アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシアルキル基およびアリーロキシアルキル基は、置換基を有していてもよく無置換であってもよい。置換基としては、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、ヒドロキシ基、スルホニル基、シリル基が例示できる。
また、前記アルキル基およびアラルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐を有していてもよい。
一般式(1)で表される化合物は、有機溶媒への溶解性をさらに向上させるため、分子内に1以上の芳香環を有していることが好ましい。また、一般式(1)におけるR1とR2とは、同じであっても異なっていてもよいが、合成上の容易性から、同じであることが好ましい。
一般式(1)におけるR1およびR2は、それぞれ、炭素数2以上の基であることが好ましい。また、一般式(1)におけるR1およびR2は、それぞれ、芳香環および/またはエーテル結合を有する基であることが好ましい。
1およびR2としては、エチル基、メトキシメチル基、ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、および、フェニル基が好ましく、メトキシメチル基、ブトキシメチル基、フェノキシメチル基、および、フェニル基がより好ましい。
一般式(1)で表される化合物の具体例としては、下記例示化合物(S−1)〜(S−37)が好ましく例示できる。但し、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、下記具体例中、Phはフェニル基を表す。

Figure 2009245515
Figure 2009245515

Figure 2009245515
Figure 2009245515
一般式(1)で表される化合物の合成方法としては、特に制限はないが、下記に示す方法を特に好ましく例示できる。
アミノアルカンスルホン酸若しくはその塩、または、アミノアレーンスルホン酸若しくはその塩に対し、水中で塩基を作用させる。続いて、前記水中にエポキシ化合物を添加して反応を行い、一般式(1)で表される化合物を得ることができる。また、単離方法としては、前記使用した塩基等にも依存するが、例えば、反応液にトルエンを適量添加することにより、スルホン酸塩化合物として沈殿させ、濾過やデカンテーション等により分取し、乾燥して純度の高いスルホン酸塩化合物(一般式(1)で表される化合物)を得ることができる。また、得られたスルホン酸塩化合物は、公知の方法により塩交換を行い、他のスルホン酸塩化合物としてもよく、また、公知の方法により塩を除去し、スルホン酸化合物を得てもよい。
前記塩基としては、特に制限はなく、所望の塩化合物に応じて選択すればよいが、アルカリ金属の水酸化物であることが好ましい。
前記エポキシ化合物としては、特に制限はなく、所望の化合物に応じて選択すればよいが、反応性の点から、エポキシ環における2つの炭素原子の一方はメチレン基(−CH2−)であることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体は、一般式(1)で表される化合物を含む磁性層を非磁性支持体上に有する。
以下に、本発明の磁気記録媒体について更に詳細に説明する。
1.磁性層
強磁性粉末
強磁性粉末としては、針状強磁性体、平板状磁性体、または球状もしくは楕円状磁性体を使用することができる。以下、それぞれについて説明する。
(1)針状強磁性体
本発明の磁気記録媒体に使用される強磁性粉末として使用可能な針状強磁性体としては、針状であるコバルト含有強磁性酸化鉄または強磁性合金粉末等の強磁性金属粉末が例示できる、そのBET比表面積(SBET)は、好ましくは40m2/g以上80m2/g以下、より好ましくは50m2/g以上70m2/g以下である。結晶子サイズは好ましくは8nm以上25nm以下、より好ましくは9nm以上22nm以下であり、特に好ましくは10nm以上20nm以下である。長軸長は20nm以上50nm以下であることが好ましく、より好ましくは20nm以上45nm以下である。
強磁性粉末としては、イットリウムを含むFe、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni−Fe等の強磁性金属粉末が挙げられる。強磁性粉末中のイットリウム含有量は、鉄原子に対してイットリウム原子の比、Y/Feが0.5原子%以上20原子%以下であることが好ましく、さらに好ましくは、5原子%以上10原子%以下である。0.5原子%以上であれば、強磁性粉末を高σS化することができ、良好な磁気特性が得られ、良好な電磁変換特性が得られるため好ましい。20原子%以下であれば、鉄の含有量が適切であり、良好な磁気特性が得られ、良好な電磁変換特性が得られるため好ましい。さらに、鉄100原子%に対して20原子%以下の範囲内で、アルミニウム、ケイ素、硫黄、スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、銅、亜鉛、モリブデン、ロジウム、パラジウム、錫、アンチモン、ホウ素、バリウム、タンタル、タングステン、レニウム、金、鉛、リン、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、テルル、ビスマス等を含むことができる。また、強磁性金属粉末が少量の水、水酸化物または酸化物を含むものなどであってもよい。
強磁性粉末として使用可能な、コバルト、イットリウムを導入した強磁性粉末の製造方法の一例を示す。
第一鉄塩とアルカリを混合した水性懸濁液に、酸化性気体を吹き込むことによって得られるオキシ水酸化鉄を出発原料とする例を挙げることができる。
このオキシ水酸化鉄の種類としては、α−FeOOHが好ましい。その製法としては、第一鉄塩を水酸化アルカリで中和してFe(OH)2の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性ガスを吹き込んで針状のα−FeOOHとする第一の製法がある。一方、第一鉄塩を炭酸アルカリで中和してFeCO3の水性懸濁液とし、この懸濁液に酸化性気体を吹き込んで紡錘状のα−FeOOHとする第二の製法がある。このようなオキシ水酸化鉄は第一鉄塩水溶液とアルカリ水溶液とを反応させて水酸化第一鉄を含有する水溶液を得て、これを空気酸化等により酸化して得られたものであることが好ましい。この際、第一鉄塩水溶液にNi塩や、Ca塩、Ba塩、Sr塩等のアルカリ土類元素の塩、Cr塩、Zn塩などを共存させてもよく、このような塩を適宜選択して用いることによって粒子形状(軸比)などを調製することができる。
第一鉄塩としては、塩化第一鉄、硫酸第一鉄等が好ましい。またアルカリとしては水酸化ナトリウム、アンモニア水、炭酸アンモニウム、炭酸ナトリウム等が好ましい。また、共存させることができる塩としては、塩化ニッケル、塩化カルシウム、塩化バリウム、塩化ストロンチウム、塩化クロム、塩化亜鉛等の塩化物が好ましい。
次いで、鉄にコバルトを導入する場合は、イットリウムを導入する前に、硫酸コバルト、塩化コバルト等のコバルト化合物の水溶液を前記のオキシ水酸化鉄のスラリーに撹拌混合する。コバルトを含有するオキシ水酸化鉄のスラリーを調製した後、このスラリーにイットリウムの化合物を含有する水溶液を添加し、撹拌混合することによって導入することができる。
強磁性粉末には、イットリウム以外にもネオジム、サマリウム、プラセオジウム、ランタン、ガドリニウム等を導入することができる。これらは、塩化イットリウム、塩化ネオジム、塩化サマリウム、塩化プラセオジウム、塩化ランタン等の塩化物、硝酸ネオジム、硝酸ガドリニウム等の硝酸塩などを用いて導入することができ、これらは、二種以上を併用してもよい。
強磁性金属粉末の抗磁力(Hc)は、好ましくは159.2kA/m以上238.8kA/m以下(2,000Oe以上3,000Oe以下)であり、さらに好ましくは167.2kA/m以上230.8kA/m以下(2,100Oe以上2,900Oe以下)である。
また、飽和磁束密度は、好ましくは150mT以上300mT以下(1,500G以上3,000G以下)であり、さらに好ましくは160mT以上290mT以下(1,600G以上2,900G以下)である。また飽和磁化(σs)は、好ましくは100A・m2/kg以上170A・m2/kg以下(100emu/g以上170emu/g以下)であり、さらに好ましくは110A・m2/kg以上160A・m2/kg以下(110emu/g以上160emu/g以下)である。
磁性体自体のSFD(switching field distribution)は小さい方が好ましく、0.8以下であることが好ましい。SFDが0.8以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また磁化反転がシャープでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Hc分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲータイトの粒度分布をよくする、単分散α−Fe23を使用する、粒子間の焼結を防止するなどの方法がある。
(2)平板状磁性体
強磁性粉末として使用される平板状磁性体としては六方晶フェライト粉末が好ましい。
六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Co置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライトおよびストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、さらに一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライトおよびストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にAl、Si、S、Sc、Ti、V、Cr、Cu、Y、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、Ta、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、B、Ge、Nb、Zr、Znなどの原子を含んでもかまわない。一般にはCo−Zn、Co−Ti、Co−Ti−Zr、Co−Ti−Zn、Ni−Ti−Zn、Nb−Zn−Co、Sb−Zn−Co、Nb−Zn等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
粒子サイズは六角板径で10nm以上50nm以下であることが好ましい。磁気抵抗ヘッドで再生する場合は、低ノイズにする必要があり、板径は40nm以下であることが好ましい。板径が上記範囲であれば、熱揺らぎがなく安定な磁化が望める。また、ノイズも低くなるため高密度磁気記録に適する。
板状比(板径/板厚)は1以上15以下が好ましく、2以上7以下がより好ましい。上記範囲であると配向性が十分であり、粒子間のスタッキングが起こりにくくノイズが小さくなる。この粒子サイズ範囲のBET法による比表面積は10m2/g以上200m2/g以下を示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。結晶子サイズは50Å以上450Å以下であることが好ましく、より好ましくは100Å以上350Å以下である。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子TEM写真より500粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ/平均サイズ=0.1以上2.0以下であることが好ましい。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
抗磁力Hcは39.8kA/m以上398kA/m以下(500Oe以上5,000Oe以下)程度の磁性体は作製可能である。Hcは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。通常63.7kA/m以上318.4kA/m以下(800Oe以上4,000Oe以下)程度であるが、好ましくは119.4kA/m(1,500Oe)以上278.6kA/m(3,500Oe)以下である。ヘッドの飽和磁化が1.4テスラを越える場合は、159.2kA/m(2,000Oe)以上にすることが好ましい。
Hcは粒子サイズ(板径・板厚)、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σsは、好ましくは40A・m2/kg以上80A・m2/kg以下(40emu/g以上80emu/g以下)である。σsは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σs改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等がよく知られている。またW型六方晶フェライトを用いることも可能である。
磁性体(磁性粉末)を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはSi、Al、P、等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して0.1%以上10%以下である。磁性体のpHも分散に重要である。通常4以上12以下程度であり、分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性か、一般に6以上10以下程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常0.01%以上2.0%以下が選ばれる。
六方晶フェライトの製法としては、(1)酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法。(2)バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後100℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法。(3)バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し1,100℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。
(3)球状または楕円状磁性体
球状または楕円状磁性体としては、Fe162を主相とする窒化鉄系の強磁性粉末が好ましい。窒化鉄系強磁性粉末は、Fe、N原子以外にAl、Si、S、Sc、Ti、V、Cr、Cu、Y、Mo、Rh、Pd、Ag、Sn、Sb、Te、Ba、Ta、W、Re、Au、Hg、Pb、Bi、La、Ce、Pr、Nd、P、Co、Mn、Zn、Ni、Sr、B、Ge、Nbなどの原子を含んでもかまわない。Feに対するNの含有量は1.0原子%以上20.0原子%以下が好ましい。
窒化鉄は球状または楕円状が好ましく、長軸径/短軸径の軸比は1以上2以下が好ましい。BET比表面積(SBET)が30m2/g以上100m2/g以下であることが好ましく、より好ましくは50m2/g以上70m2/g以下である。結晶子サイズは12nm以上25nm以下であることが好ましく、より好ましくは13nm以上22nm以下である。
飽和磁化σsは50A・m2/kg(50emu/g)以上200A・m2/kg(200emu/g)以下が好ましい。さらに好ましくは70A・m2/kg(70emu/g)以上150A・m2/kg(150emu/g)以下である。
磁性層中の一般式(1)で表される化合物の含有量は、強磁性粉末、中でも前述の好ましい粒子サイズを有する微粒子磁性体の分散性向上の観点から、強磁性粉末100質量部に対し、0.1質量部以上であることが好ましく、磁気特性維持の観点からは、30質量部以下であることが好ましい。より好ましくは、強磁性粉末100質量部あたり0.1〜20質量部、更に好ましくは0.1〜10質量部である。
結合剤
磁性層に含まれる結合剤としては、ポリウレタン樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、スチレン、アクリロニトリル、メチルメタクリレートなどを共重合したアクリル系樹脂、ニトロセルロースなどのセルロース系樹脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアセタール、ポリビニルブチラールなどのポリビニルアルキラール樹脂などから単独または複数の樹脂を混合して用いることができる。これらの中で好ましいものはポリウレタン樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル系樹脂である。これらの樹脂は、後述する非磁性層において結合剤として使用することもできる。
上記結合剤は強磁性粉末、非磁性粉体の分散性を向上させるため、これらの粉体表面に吸着する官能基(極性基)を持つことが好ましい。好ましい官能基としては−SO3M、−SO4M、−PO(OM)2、−OPO(OM)2、−COOM、=NSO3M、=NRSO3M、−NR12、−N+123-などがある。ここでMは水素またはNa、K等のアルカリ金属、Rはアルキレン基、R1、R2、R3はアルキル基またはヒドロキシアルキル基または水素、XはCl、Br等のハロゲンである。結合剤中の官能基の量は10μeq/g以上200μeq/g以下が好ましく、30μeq/g以上120μeq/g以下がさらに好ましい。この範囲内であれば、良好な分散性が得られるので好ましい。
上記結合剤には吸着官能基のほかにイソシアネート硬化剤と反応して架橋構造を形成し塗膜強度を向上させるために−OH基などの活性水素を持つ官能基を付与することが好ましい。上記官能基の好ましい含有量は、1×10-5eq/g〜2×10-3eq/gであり、より好ましくは1×10-5eq/g〜1×10-3eq/gであり、さらに好ましくは1×10-5eq/g〜5×10-4eq/gである。上記官能基の含有量が1×10-5以上であれば、磁性体への十分な吸着力を得ることができ、分散性が良好であるので好ましい。また、2×10-3eq/g以下であれば、良好な溶剤への溶解性が得られるので好ましい。
結合剤の分子量は質量平均分子量で10,000以上200,000以下であることが好ましく、20,000以上100,000以下であることがさらに好ましい。この範囲内にあれば、塗膜強度が十分であり、耐久性が良好であり、また分散性が向上するので好ましい。
結合剤として好ましいポリウレタン樹脂は例えば「ポリウレタン樹脂ハンドブック」(岩田敬治 編、1986年 日刊工業新聞社)に詳しく記載されているが、通常、長鎖ジオール、短鎖ジオール(鎖延長剤と呼ばれることもある)とジイソシアネート化合物の付加重合によって得られる。長鎖ジオールは分子量500以上5,000以下のポリエステルジオール、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、ポリカーボネートジオール、ポリオレフィンジオールなどが好適に用いられる。この長鎖ポリオールの種類によりポリエステルウレタン、ポリエーテルウレタン、ポリエーテルエステルウレタン、ポリカーボネートウレタンなどと呼ばれる。
ポリエステルジオールとしてはアジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、などの脂肪族二塩基酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、テレフタル酸、ナフタレンジカルボン酸などの芳香族二塩基酸とグリコールとの縮重合によって得られる。グリコール成分としてはエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、水素化ビスフェノールAなどがある。また、ポリエステルジオールにはこのほかに、ε−カプロラクトン、γ−バレロラクトンなどのラクトンを開環重合したポリカプロラクトンジオール、ポリバレロラクトンジオールなども用いることができる。
ポリエステルジオールは耐加水分解性の観点で分岐側鎖をもつもの、芳香族、脂環族の原料から得られるものが好ましい。
ポリエーテルジオールとしてはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、やビスフェノールA、ビスフェノールS、ビスフェノールP、水素化ビスフェノールAなどの芳香族グリコールや脂環族ジオールにエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドを付加重合したものなどがある。
これらの長鎖ジオールは複数の種類のものを併用、混合して用いることもできる。
短鎖ジオールとしては上記ポリエステルジオールのグリコール成分に例示したものと同じ化合物群の中から選ぶことができる。また3官能以上の多価アルコール例えばトリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールなどを少量併用すると分岐構造のポリウレタン樹脂が得られ溶液粘度を低下させたり、ポリウレタンの末端のOH基を増やすことでイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めることができる。
ジイソシアネート化合物としてはMDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)、2,4−TDI(トリレンジイソシアネート)、2,6−TDI、1,5−NDI(ナフタレンジイソシアネート)、TODI(トリジンジイソシアネート)、p−フェニレンジイソシアネート、XDI(キシリレンジイソシアネート)などの芳香族ジイソシアネート、トランスシクロヘキサン1,4−ジイソシアネート、HDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)、IPDI(イソホロンジイソシアネート)、H6XDI(水素添加キシリレンジイソシアネート)、H12MDI(水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート)などの脂肪族、脂環族ジイソシアネートなどを用いることができる。
上記ポリウレタン樹脂中の長鎖ジオール/短鎖ジオール/ジイソシアネートの好ましい組成は(80〜15質量%)/(5〜40質量%)/(15〜50質量%)である。
上記ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は1meq/g以上5meq/g以下が好ましく、1.5meq/g以上4.5meq/g以下がさらに好ましい。ウレタン基濃度が上記範囲内であれば、高い力学的強度が得られると共に、溶液粘度が良好であり、良好な分散性が得られるので好ましい。
上記ポリウレタン樹脂のガラス転移温度は0℃以上200℃以下が好ましく、より好ましくは40℃以上160℃以下である。ガラス転移温度が上記範囲内であれば、高い耐久性が得られると共に、良好なカレンダー成形性が得られ、良好な電磁変換特性が得られるので好ましい。
上記ポリウレタン樹脂に前述した吸着官能基(極性基)を導入する方法としては官能基を長鎖ジオールのモノマーの一部に用いる方法、短鎖ジオールの一部に用いる方法やポリウレタンを重合した後、高分子反応で極性基を導入する方法などがある。
結合剤として使用可能な塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニルモノマーに種々のモノマーを共重合したものが挙げられる。
共重合モノマーとしては酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどの脂肪酸ビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレートなどのアクリレート、メタクリレート類、アリルメチルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテルなどのアルキルアリルエーテル類、その他スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、エチレン、ブタジエン、アクリルアミド、さらに官能基をもつ共重合モノマーとしてビニルアルコール、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチルアリルエーテル、2−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、3−ヒドロキシプロピルアリルエーテル、p−ビニルフェノール、マレイン酸、無水マレイン酸、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジル(メタ)アクリレート、アリルグリシジルエーテル、ホスホエチル(メタ)アクリレート、スルホエチル(メタ)アクリレート、p−スチレンスルホン酸、およびこれらのNa塩、K塩などを用いることができる。
塩化ビニル系樹脂中の塩化ビニルモノマーの組成は60質量%以上95質量%以下であることが好ましい。上記範囲内にあれば、良好な力学強度が得られると共に、溶剤溶解性が良好で、好適な溶液粘度のために良好な分散性が得られるので好ましい。
吸着官能基(極性基)、ポリイソシアネート系硬化剤との硬化性を高めるための官能基の好ましい量は前述したとおりである。これらの官能基の導入方法は上記の官能基含有モノマーを共重合してもよいし、塩化ビニル系樹脂を共重合した後、高分子反応で官能基を導入してもよい。
好ましい重合度は200以上600以下、より好ましくは240以上450以下である。この範囲内にあれば、良好な力学強度が得られると共に、好適な溶液粘度のために良好な分散性が得られるので好ましい。
結合剤を架橋、硬化させ塗膜の力学強度や耐熱性高めるために硬化剤を用いることができる。好ましい硬化剤としてイソシアネート化合物がある。一般式(1)で表される化合物は、2個の水酸基を有しイソシアネート化合物との間に強固な架橋構造を形成できる。一般式(1)で表される化合物とイソシアネート化合物を含む磁性層塗布液を非磁性支持体上に直接または非磁性層等の他の層を介して塗布した後、熱処理を施すと一般式(1)で表される化合物とイソシアネートとの架橋反応が進行するため、形成される磁性層には一般式(1)で表される化合物とイソシアネート化合物との反応生成物が含まれることとなる。このような磁性層は層内に架橋構造を含むため耐久性に優れる。従って、一般式(1)で表される化合物とイソシアネート化合物を併用することにより耐久性を改善することができる。上記熱処理は、例えば50〜90℃の温度で12〜48時間程度行うことができる。
イソシアネート化合物としては、3官能以上のポリイソシアネート化合物が好ましい。具体的にはトリメチロールプロパン(TMP)にTDI(トリレンジイソシアネート)を3モル付加した化合物、TMPにHDI(ヘキサメチレンジイソシアネート)を3モル付加した化合物、TMPにIPDI(イソホロンジイソシアネート)を3モル付加した化合物、TMPにXDI(キシリレンジイソシアネート)を3モル付加した化合物、などアダクト型ポリイソシアネート化合物。TDIの縮合イソシアヌレート型3量体、TDIの縮合イソシアヌレート5量体、TDIの縮合イソシアヌレート7量体、およびこれらの混合物、HDIのイソシアヌレート型縮合物、IPDIのイソシアヌレート型縮合物、さらに、クルードMDIなどがある。
これらの中で好ましいものはTMPにTDIを3モル付加した化合物、TDIのイソシアヌレート型3量体などである。
磁性層中のイソシアネート化合物の含有量は、良好な分散性と耐久性を得る観点から、一般式(1)で表される化合物100質量部に対して10〜200質量部であることが好ましい。
イソシアネート系硬化剤以外に電子線あるいは紫外線などの放射線硬化性の硬化剤を用いてもよい。この場合放射線硬化性官能基としてアクリロイル基またはメタクリロイル基を分子内に2個以上、好ましくは3個以上有する硬化剤を用いることができる。例えばTMP(トリメチロールプロパン)のトリアクリレート、ペンタエリスリトールのテトラアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマーなどがある。この場合、硬化剤のほかに結合剤にも(メタ)アクリロイル基を導入するのが好ましい。紫外線硬化の場合はこのほかに光増感剤が併用される。
硬化剤は結合剤100質量部に対して0質量部以上80質量部以下添加することが好ましい。上記範囲内にあれば分散性が良好であるので好ましい。
一般式(1)で表される化合物はジオール化合物であるため、ポリウレタン樹脂の合成原料として使用することができる。本発明の磁気記録媒体は、一般式(1)で表される化合物を含む磁性層の結合剤として、一般式(1)で表される化合物をジオール成分として得られたポリウレタン樹脂を含むことが好ましい。上記ポリウレタン樹脂は、一般式(1)で表される化合物と同様の骨格を有するため、同様の骨格を有するユニット間の良好な親和性により、ポリウレタン樹脂と一般式(1)で表される化合物が吸着性が高いため、分散性を更に向上することができる。
前記ポリウレタン樹脂は、ポリオールとして、一般式(1)で表される化合物とともに他のポリオールを併用して得られたものであることが好ましい。併用するポリオールは特に限定されず、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリエーテルエステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリオレフィンポリオール、ダイマージオール等、公知のものを必要に応じて用いることができる。
これらの中でも、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオールが好ましい。
ポリエステルポリオールは、ポリカルボン酸(多塩基酸)と、ポリオールとを重縮合して得られ、二塩基酸(ジカルボン酸)とジオールとの反応により得られるものであることが好ましい。ポリエステルポリオールに用いることができる二塩基酸成分としては特に限定されないが、アジピン酸、アゼライン酸、フタル酸、Naスルホイソフタル酸等が好ましい。ジオールとしては2,2−ジメチル−1,3プロパンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−1,5−ペンタジオール等の分岐側鎖を有するものが好ましい。
ポリエーテルポリオールはビスフェノールAのポリプロピレンオキサイド付加物やビスフェノールAのポリエチレンオキサイド付加物等の環状構造を有するものが好ましい。
前記のポリオールのほかに必要に応じて分子量200〜500程度の公知の短鎖ジオールを鎖延長剤として用いてもよい。中でも炭素数2以上の分岐側鎖をもつ脂肪族ジオールや環構造を有するエーテル化合物、有橋炭化水素構造を有する短鎖ジオール、スピロ構造を有する単鎖ジオールが好ましい。
炭素数2以上の分岐側鎖をもつ脂肪族ジオールとしては以下のものがある。
2−メチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−3−エチル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、2−メチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−メチル−3−ブチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3,3−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−エチル−3−ブチル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、3−エチル−3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジブチル−1,3−プロパンジオール、3,3−ジブチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジプロピル−1,3−プロパンジオール、3,3−ジプロピル−1,5−ペンタンジオール、2−ブチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、3−ブチル−3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−プロパンジオール、2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−ブチル−1,3−プロパンジオール、3−エチル−1,5−ペンタンジオール、3−プロピル−1,5−ペンタンジオール、3−ブチル−1,5−ペンタンジオール、3−オクチル−1,5−ペンタンジオール、3−ミリスチル−1,5−ペンタンジオール、3−ステアリル−1,5−ペンタンジオール、2−エチル−1,6−ヘキサンジオール、2−プロピル−1,6−ヘキサンジオール、2−ブチル−1,6−ヘキサンジオール、5−エチル−1,9−ノナンジオール、5−プロピル−1,9−ノナンジオール、5−ブチル−1,9−ノナンジオール等。
これらの中でも好ましいものは、2−エチル−2−ブチル−1,3−プロパンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオールである。
環構造を有するエ−テル化合物としてはビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物、水素化ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物、水素化ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物が挙げられる。
有橋炭化水素構造またはスピロ構造としては、式(1)〜(3)よりなる群から選ばれた少なくとも1種の構造であることが好ましい。
Figure 2009245515
有橋炭化水素構造を有する短鎖ジオールの具体例としては、ビシクロ[1.1.0]ブタンジオール、ビシクロ[1.1.1]ペンタンジオール、ビシクロ[2.1.0]ペンタンジオール、ビシクロ[2.1.1]ヘキサンジオール、ビシクロ[3.1.0]ヘキサンジオール、ビシクロ[2.2.1]ヘプタンジオール、ビシクロ[3.2.0]ヘプタンジオール、ビシクロ[3.1.1]ヘプタンジオール、ビシクロ[2.2.2]オクタンジオール、ビシクロ[3.2.1]オクタンジオール、ビシクロ[4.2.0]オクタンジオール、ビシクロ[5.2.0]ノナンジオール、ビシクロ[3.3.1]ノナンジオール、ビシクロ[3.3.2]デカンジオール、ビシクロ[4.2.2]デカンジオール、ビシクロ[4.3.3]ドデカンジオール、ビシクロ[3.3.3]ウンデカンジオール、ビシクロ[1.1.0]ブタンジメタノール、ビシクロ[1.1.1]ペンタンジメタノール、ビシクロ[2.1.0]ペンタンジメタノール、ビシクロ[2.1.1]ヘキサンジメタノール、ビシクロ[3.1.0]ヘキサンジメタノール、ビシクロ[2.2.1]ヘプタンジメタノール、ビシクロ[3.2.0]ヘプタンジメタノール、ビシクロ[3.1.1]ヘプタンジメタノール、ビシクロ[2.2.2]オクタンジメタノール、ビシクロ[3.2.1]オクタンジメタノール、ビシクロ[4.2.0]オクタンジメタノール、ビシクロ[5.2.0]ノナンジメタノール、ビシクロ[3.3.1]ノナンジメタノール、ビシクロ[3.3.2]デカンジメタノール、ビシクロ[4.2.2]デカンジメタノール、ビシクロ[4.3.3]ドデカンジメタノール、ビシクロ[3.3.3]ウンデカンジメタノール、トリシクロ[2.2.1.0]ヘプタンジオール、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジオール、トリシクロ[4.2.1.27,9]ウンデカンジオール、トリシクロ[5.4.0.02,9]ウンデカンジオール、トリシクロ[5.
3.1.1]ドデカンジオール、トリシクロ[4.4.1.1]ドデカンジオール、トリシクロ[7.3.2.05,13]テトラデカンジオール、トリシクロ[5.5.1.03,11]トリデカンジオール、トリシクロ[2.2.1.0]ヘプタンジメタノール、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノール、トリシクロ[4.2.1.27,9]ウンデカンジメタノール、トリシクロ[5.4.0.02,9]ウンデカンジメタノール、トリシクロ[5.3.1.1]ドデカンジメタノール、トリシクロ[4.4.1.1]ドデカンジメタノール、トリシクロ[7.3.2.05,13]テトラデカンジメタノール、トリシクロ[5.5.1.03,11]トリデカンジメタノールが例示できる。
これらの中でも、好ましいものとしては、トリシクロ[5.2.1.02,6]デカンジメタノールが挙げられる。
スピロ構造を有する短鎖ジオールの具体例としては、スピロ[3,4]オクタンジメタノール、スピロ[3,4]ヘプタンジメタノール、スピロ[3,4]デカンジメタノール、ジスピロ[5,1,7,2]ヘプタデカンジメタノール、シクロペンタンスピロシクロブタンジメタノール、シクロヘキサンスピロシクロペンタンジメタノール、スピロビシクロヘキサンジメタノール、ビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンなどがある。
好ましくはビス(1,1−ジメチル−2−ヒドロキシエチル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカンが好ましい。
ポリウレタン樹脂の合成原料としてのポリイソシアネートとしては、ジイソシアネートが好適に使用できる。
ジイソシアネートとしては特に限定されず、公知のものを用いることができる。具体的には、TDI(トリレンジイソシアネート)、MDI(ジフェニルメタンジイソシアネート)、p−フェニレンジイソシアネート、o−フェニレンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどが好ましい。
前記ポリウレタン樹脂は、触媒の存在下、一般式(1)で表される化合物、その他のポリオール、ポリイソシアネート、および必要に応じて鎖延長剤を重合(重付加)させることにより製造することができる。一般式(1)で表される化合物はスルホン酸(塩)基含有量が1×10-5eq/g以上2×10-3eq/g以下となる量で添加することが好ましく、他のポリオールは20質量%〜45質量%の範囲で添加することが好ましく、ポリイソシアネートはポリウレタン樹脂のウレタン基濃度が2.5mmol/g〜4.5mmol/gの範囲となる量で添加することが好ましい。
触媒としては公知のポリウレタン樹脂の重合触媒を使用することができ、第三級アミン触媒や有機スズ触媒が例示できる。第三級アミン触媒としては、ジエチレントリアミン、N−メチルモルホリン、および、テトラメチルヘキサメチレンジアミンが例示でき、有機スズ触媒としては、ジブチルスズジラウレート、スズオクトエートが例示できる。触媒としては有機スズ触媒を使用することが好ましい。
触媒の添加量は、重合に使用する一般式(1)で表される化合物、その他のポリオール、ポリイソシアネート、および必要に応じてその他の鎖延長剤を含む重合成分の全質量に対して、好ましくは0.01〜5質量部、より好ましくは0.01〜1質量部、さらに好ましくは0.01〜0.1質量部である。
また、一般式(1)で表される化合物、ポリオールおよびポリイソシアネートを溶剤(重合溶媒)に溶解し、必要に応じて加熱、加圧、窒素置換等を行いながら重合することが好ましい。使用する溶剤としては、ポリウレタン樹脂の合成に使用されている公知の溶剤から選択することができ、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル等のエステル系溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の網時計溶媒、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、シクロヘキサンが挙げられる。これらの中でも、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンが好適に使用される。
前記ポリウレタン樹脂の質量平均分子量は1万以上20万以下(本発明において、「1万以上20万以下」を、「1万〜20万」とも記載することとする。以下、同様。)であることが好ましく、4万〜10万であることがより好ましく、5万〜9万であることがさらに好ましい。前記ポリウレタン樹脂の質量平均分子量が1万以上であれば、良好な保存性が得られるので好ましい。また、20万以下であれば、良好な分散性が得られるので好ましい。
質量平均分子量を上記範囲にコントロールする方法としては以下のものが挙げられる。
例えば、グリコール由来のOH基とジイソシアネート由来のNCO基のモル比の微調整や反応触媒を用いることで質量平均分子量を調整することができる。
反応触媒としてはジブチルスズジラウレート等の有機金属化合物、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の3級アミン類、酢酸カリウム、ステアリン酸亜鉛等の金属塩が挙げられる。好ましくはジブチルスズジラウレートが挙げられる。
その他の方法としては反応時の固形分濃度、反応温度、反応溶媒、反応時間等を調整することで質量平均分子量を調整することができる。
前記ポリウレタン樹脂の分子量分布(Mw/Mn)は1.0〜2.5であることが好ましい。より好ましくは1.5〜2.0である。分子量分布が2.5以下であれば、組成分布が少なく、良好な分散性が得られるので好ましい。
前記ポリウレタン樹脂のウレタン基濃度は2.5mmol/g〜4.5mmol/gであることが好ましく、3.0mmol/g〜4.0mmol/gであることがさらに好ましい。ウレタン基濃度が2.5mmol/g以上であれば、塗膜のTgが低下することなく、良好な耐久性を得ることができるので好ましい。また、4.5mmol/g以下であれば、良好な溶剤溶解性が得られ、分散性が良好であるので、ポリオール含有量の調整が可能であり、分子量のコントロールが容易であるので好ましい。
前記ポリウレタン樹脂のガラス転移温度(Tg)は80℃〜200℃が好ましく、90℃〜160℃がより好ましい。ガラス転移温度が80℃以上であれば、良好な塗膜強度が得られ、耐久性、保存性が向上するので好ましい。また、200℃以下であれば、カレンダー成形性が良好であり、電磁変換特性が良好であるので好ましい。
極性基の含有量は、1×10-5eq/g〜2×10-3eq/gであることが好ましく、1×10-5eq/g〜1×10-3eq/gであることがより好ましく、1×10-5eq/g〜5×10-4eq/gであることがさらに好ましい。極性基の含有量が1×10-5以上であれば、磁性体への十分な吸着力を得ることができ、分散性が良好であるので好ましい。また、2×10-3eq/g以下であれば、良好な溶剤への溶解性が得られるので好ましい。
前記ポリウレタン樹脂は、ポリオールとして一般式(1)で表される化合物を使用して得られるので、極性基として−SO3Mを有する。ここで、Mは、前述と同義である。
前記ポリウレタン樹脂は、他の極性基を有していてもよい。
他の極性基としては、−OSO3M、−PO32、−COOMが好ましい。この中でも、−OSO3Mがさらに好ましい。Mは、水素原子または1価のカチオンを表す。1価のカチオンとしては、アルカリ金属またはアンモニウムが例示できる。
前記ポリウレタン樹脂には、水酸基(OH基)が含まれていてもよい。OH基は1分子あたり2〜20個が好ましく、3〜15個がより好ましい。OH基の個数が上記範囲であると、イソシアネート硬化剤との反応性が向上するために塗膜強度、および耐久性が向上し、また、溶剤への溶解性が向上するので分散性が良好となる。
結合剤の添加量は磁性層の場合は強磁性粉末100質量部に対して、5質量部以上30質量部以下が好ましく、10質量部以上20質量部以下がより好ましい。 前記一般式(1)で表される化合物をジオール成分として得られたポリウレタン樹脂を、結合剤全体の50質量%以上含有することが好ましく、60〜100質量%含有することが好ましく、70〜100質量%含有することが特に好ましい。前記ポリウレタン樹脂の結合剤中の含有量が上記範囲内であれば、分散性をより一層向上することができる。
その他の成分
磁性層には、必要に応じて添加剤を加えることができる。添加剤としては、研磨剤、潤滑剤、分散剤・分散助剤、防黴剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤、カーボンブラックなどを挙げることができる。
これら添加剤としては、例えば、二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基を持つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、ベンジルホスホン酸基、フェネチルホスホン酸、α−メチルベンジルホスホン酸、1−メチル−1−フェネチルホスホン酸、ジフェニルメチルホスホン酸、ビフェニルホスホン酸、ベンジルフェニルホスホン酸、α−クミルホスホン酸、トルイルホスホン酸、キシリルホスホン酸、エチルフェニルホスホン酸、クメニルホスホン酸、プロピルフェニルホスホン酸、ブチルフェニルホスホン酸、ヘプチルフェニルホスホン酸、オクチルフェニルホスホン酸、ノニルフェニルホスホン酸等の芳香族環含有有機ホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、オクチルホスホン酸、2−エチルヘキシルホスホン酸、イソオクチルホスホン酸、イソノニルホスホン酸、イソデシルホスホン酸、イソウンデシルホスホン酸、イソドデシルホスホン酸、イソヘキサデシルホスホン酸、イソオクタデシルホスホン酸、イソエイコシルホスホン酸等のアルキルホスホン酸およびそのアルカリ金属塩、リン酸フェニル、リン酸ベンジル、リン酸フェネチル、リン酸α−メチルベンジル、リン酸1−メチル−1−フェネチル、リン酸ジフェニルメチル、リン酸ビフェニル、リン酸ベンジルフェニル、リン酸α−クミル、リン酸トルイル、リン酸キシリル、リン酸エチルフェニル、リン酸クメニル、リン酸プロピルフェニル、リン酸ブチルフェニル、リン酸ヘプチルフェニル、リン酸オクチルフェニル、リン酸ノニルフェニル等の芳香族リン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、リン酸オクチル、リン酸2−エチルヘキシル、リン酸イソオクチル、リン酸イソノニル、リン酸イソデシル、リン酸イソウンデシル、リン酸イソドデシル、リン酸イソヘキサデシル、リン酸イソオクタデシル、リン酸イソエイコシル等のリン酸アルキルエステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキルスルホン酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、エルカ酸等の炭素数10〜24の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸およびこれらの金属塩、またはステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ラウリル酸ブチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレート等の炭素数10〜24の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい一塩基性脂肪酸と炭素数2〜22の不飽和結合を含んでも分岐していてもよい1〜6価アルコール、炭素数12〜22の不飽和結合を含んでも分岐していてもよいアルコキシアルコールまたはアルキレンオキサイド重合物のモノアルキルエーテルのいずれか一つとからなるモノ脂肪酸エステル、ジ脂肪酸エステルまたは多価脂肪酸エステル、炭素数2〜22の脂肪酸アミド、炭素数8〜22の脂肪族アミンなどが使用できる。また、上記炭化水素基以外にもニトロ基およびF、Cl、Br、CF3、CCl3、CBr3等の含ハロゲン炭化水素等炭化水素基以外の基が置換したアルキル基、アリール基、アラルキル基を持つものでもよい。
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオキサイド付加体等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルホン酸、硫酸エステル基等の酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸またはリン酸エステル類、アルキルベタイン型等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」(産業図書株式会社発行)に詳細に記載されている。
上記分散剤、潤滑剤等は必ずしも純粋ではなく主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれても構わない。これらの不純分は30質量%以下が好ましく、さらに好ましくは10質量%以下である。
これらの添加物の具体例としては、例えば、日本油脂社製:NAA−102、ヒマシ油硬化脂肪酸、NAA−42、カチオンSA、ナイミーンL−201、ノニオンE−208、アノンBF、アノンLG、竹本油脂社製:FAL−205、FAL−123、新日本理化社製:エヌジエルブOL、信越化学社製:TA−3、ライオンアーマー社製:アーマイドP、ライオン社製:デュオミンTDO、日清製油社製:BA−41G、三洋化成社製:プロフアン2012E、ニューポールPE61、イオネットMS−400等が挙げられる。
磁性層で用いられる有機溶剤は、公知のものが使用できる。有機溶剤は、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノールなどのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサンなどのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の塩素化炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等を使用することができる。一般式(1)で表される化合物は、磁気記録媒体に使用される上記の各種有機溶媒への溶解性に優れることによっても分散性を向上することができる。特にケトン系溶媒に対する溶解性に優れるため、有機溶媒としてがケトン系溶媒を使用することが好ましく、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノンを使用することが更に好ましい。
これら有機溶媒は必ずしも100%純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は30質量%以下が好ましく、さらに好ましくは10質量%以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒(シクロヘキサノン、ジオキサンなど)を用い塗布の安定性を上げる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が非磁性層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が15以上の溶剤が50%以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメータは8〜11であることが好ましい。
磁性層で用いられるこれらの分散剤、潤滑剤、界面活性剤は磁性層および後述する非磁性層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、無論ここに示した例のみに限られるものではないが、一般式(1)で表される化合物や前述の分散剤は極性基で吸着もしくは結合する性質を有しており、磁性層においては主に強磁性微粉末の表面に、また後述する非磁性層においては主に非磁性粉末の表面に前記の極性基で吸着もしくは結合し、一度吸着した化合物は金属あるいは金属化合物等の表面から脱着しがたいと推察される。したがって、強磁性粉末表面あるいは後述する非磁性粉末表面は、アルキル基、芳香族基等で被覆されたような状態になるので、強磁性粉末あるいは非磁性粉末の結合剤樹脂成分に対する親和性が向上し、さらに強磁性粉末あるいは非磁性粉末の分散安定性も改善される。また、潤滑剤としては遊離の状態で存在するため非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなどが考えられる。また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性層あるいは非磁性層用塗布液の製造時のいずれの工程で添加してもよい。例えば、混練工程前に強磁性微粉末と混合する場合、強磁性微粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。
また、磁性層には、必要に応じてカーボンブラックを添加することができる。
カーボンブラックとしては、ゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。磁性層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
カーボンブラックの比表面積は、例えば100〜500m2/g、好ましくは150〜400m2/g、DBP吸油量は、例えば20〜400ml/100g、好ましくは30〜200ml/100gである。カーボンブラックの粒子径は、例えば5〜80nm(mμ)、好ましくは10〜50nm(mμ)、さらに好ましくは10〜40nm(mμ)である。カーボンブラックのpHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.1〜1g/mlがそれぞれ好ましい。
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製 BLACKPEARLS 2000、1300、1000、900、800、880、700、VULCAN XC−72、三菱化成工業社製 #3050B、#3150B、#3250B、#3750B、#3950B、#950、#650B、#970B、#850B、MA−600、MA−230、#4000、#4010、コロンビアカーボン社製 CONDUCTEX SC、RAVEN 8800、8000、7000、5750、5250、3500、2100、2000、1800、1500、1255、1250、アクゾー社製ケッチェンブラックECなどが挙げられる。
カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」(カーボンブラック協会編)を参考にすることができる。
これらのカーボンブラックは単独または組み合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合、磁性体の質量に対して0.1〜30質量%で用いることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。したがって本発明で使用されるこれらのカーボンブラックは、磁性層でその種類、量、組み合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、PHなどの先に示した諸特性を基に目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。
2.非磁性層
本発明の磁気記録媒体は、非磁性支持体と磁性層との間に、非磁性粉末および結合剤を含有する非磁性層を有していてもよい。非磁性層を有する場合、磁性層に使用する結合剤と同じ結合剤を非磁性層にも使用することができるが、これに限定されるものではない。また、非磁性層成分として一般式(1)で表される化合物を添加してもよい。
非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。また、非磁性層には非磁性粉末と共に、必要に応じてカーボンブラックを混合してもよい。また、非磁性層には、非磁性層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末を使用してもよい。
非磁性粉末
非磁性層に使用される非磁性粉末は、無機物質でも有機物質でもよい。無機物質としては、例えば金属、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物などが挙げられる。
具体的には二酸化チタン等のチタン酸化物、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タングステン、ZnO、ZrO2、SiO2、Cr23、α化率90〜100%のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、2硫化モリブデン、酸化銅、MgCO3、CaCO3、BaCO3、SrCO3、BaSO4、炭化珪素、炭化チタンなどを単独または2種類以上を組み合わせて使用することができる。好ましいものは、α−酸化鉄、酸化チタンである。
非磁性粉末の形状は、針状、球状、多面体状、板状のいずれでもあってもよい。
非磁性粉末の結晶子サイズは、4nm〜1μmが好ましく、40〜100nmがさらに好ましい。結晶子サイズが4nm〜1μmの範囲であれば、分散が困難になることもなく、また好適な表面粗さを有するため好ましい。
これら非磁性粉末の平均粒径は、5nm〜2μmが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くしたりして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましい非磁性粉末の平均粒径は、10〜200nmである。5nm〜2μmの範囲であれば、分散も良好で、かつ好適な表面粗さを有するため好ましい。
非磁性粉末の比表面積は、好ましくは1〜100m2/gであり、より好ましくは5〜70m2/gであり、さらに好ましくは10〜65m2/gである。比表面積が1〜100m2/gの範囲内にあれば、好適な表面粗さを有し、かつ、所望の結合剤量で分散できるため好ましい。
ジブチルフタレート(DBP)を用いた吸油量は、好ましくは5〜100ml/100g、より好ましくは10〜80ml/100g、さらに好ましくは20〜60ml/100gである。
比重は好ましくは1〜12、より好ましくは3〜6である。タップ密度は好ましくは0.05〜2g/ml、より好ましくは0.2〜1.5g/mlである。タップ密度が0.05〜2g/mlの範囲であれば、飛散する粒子が少なく操作が容易であり、また装置にも固着しにくくなる傾向がある。
非磁性粉末のpHは2〜11であることが好ましく、6〜9の間が特に好ましい。pHが2〜11の範囲にあれば、高温、高湿下または脂肪酸の遊離により摩擦係数が大きくなることはない。
非磁性粉末の含水率は、好ましくは0.1〜5質量%、より好ましくは0.2〜3質量%、さらに好ましくは0.3〜1.5質量%である。含水量が0.1〜5質量%の範囲であれば、分散も良好で、分散後の塗料粘度も安定するため好ましい。強熱減量は、20質量%以下であることが好ましく、強熱減量が小さいものが好ましい。
また、非磁性粉末が無機粉末である場合には、モース硬度は4〜10のものが好ましい。モース硬度が4〜10の範囲であれば耐久性を確保することができる。非磁性粉末のステアリン酸吸着量は、好ましくは1〜20μmol/m2であり、さらに好ましくは2〜15μmol/m2である。非磁性粉末の25℃での水への湿潤熱は、20〜60μJ/cm2(200〜600erg/cm2)の範囲にあることが好ましい。また、この湿潤熱の範囲にある溶媒を使用することができる。 100〜400℃での表面の水分子の量は1〜10個/100Åが適当である。水中での等電点のpHは、3〜9の間にあることが好ましい。
これらの非磁性粉末の表面にはAl23、SiO2、TiO2、ZrO2、SnO2、Sb23、ZnOで表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはAl23、SiO2、TiO2、ZrO2であるが、さらに好ましいのはAl23、SiO2、ZrO2である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
非磁性層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、例えば、昭和電工製ナノタイト、住友化学製HIT−100、ZA−G1、戸田工業社製DPN−250、DPN−250BX、DPN−245、DPN−270BX、DPB−550BX、DPN−550RX 石原産業製酸化チタンTTO−51B、TTO−55A、TTO−55B、TTO−55C、TTO−55S、TTO−55D、SN−100、MJ−7、α−酸化鉄E270、E271、E300、チタン工業製STT−4D、STT−30D、STT−30、STT−65C、テイカ製MT−100S、MT−100T、MT−150W、MT−500B、T−600B、T−100F、T−500HD、堺化学製FINEX−25、BF−1、BF−10、BF−20、ST−M、同和鉱業製DEFIC−Y、DEFIC−R、日本アエロジル製AS2BM、TiO2P25、宇部興産製100A、500A、チタン工業製Y−LOPおよびそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
非磁性層には非磁性粉末と共に、カーボンブラックを混合し表面電気抵抗を下げ、光透過率を小さくすると共に、所望のμビッカース硬度を得ることができる。非磁性層のμビッカース硬度は、通常25〜60kg/mm2、好ましくはヘッド当りを調整するために、30〜50kg/mm2であり、薄膜硬度計(日本電気製 HMA−400)を用いて、稜角80度、先端半径0.1μmのダイヤモンド製三角錐針を圧子先端に用いて測定することができる。光透過率は一般に波長900nm程度の赤外線の吸収が3%以下、たとえばVHS用磁気テープでは0.8%以下であることが規格化されている。このためにはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。
非磁性層に用いられるカーボンブラックの比表面積は、好ましくは100〜500m2/g、より好ましくは150〜400m2/g、DBP吸油量は、好ましくは20〜400ml/100g、より好ましくは30〜200ml/100gである。カーボンブラックの粒子径は、好ましくは5〜80nm、より好ましく10〜50nm、さらに好ましくは10〜40nmである。カーボンブラックのpHは2〜10、含水率は0.1〜10%、タップ密度は0.1〜1g/mlがそれぞれ好ましい。
非磁性層に用いることができるカーボンブラックの具体的な例としては、キャボット社製BLACKPEARLS 2000、1300、1000、900、800、880、700、VULCAN XC−72、三菱化成工業社製#3050B、#3150B、#3250B、#3750B、#3950B、#950、#650B、#970B、#850B、MA−600、コロンビアカーボン社製CONDUCTEX SC、RAVEN8800、8000、7000、5750、5250、3500、2100、2000、1800、1500、1255、1250、アクゾー社製ケッチェンブラックECなどが挙げられる。
また、カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して50質量%を越えない範囲、非磁性層総質量の40質量%を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み合せで使用することができる。非磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編、を参考にすることができる。
また非磁性層には目的に応じて有機質粉末を添加することもできる。このような有機質粉末としては、例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は、特開昭62−18564号公報、特開昭60−255827号公報に記されているようなものが使用できる。
非磁性層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
3.非磁性支持体
非磁性支持体としては、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド等の公知のものが挙げられる。これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましい。
これらの支持体はあらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ってもよい。また、本発明に用いることのできる非磁性支持体の表面粗さはカットオフ値0.25mmにおいて中心平均粗さRa3〜10nmが好ましい。
4.平滑化層
本発明の磁気記録媒体には、平滑化層を設けてもよい。平滑化層とは、非磁性支持体表面の突起を埋めるための層であり、非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体の場合は非磁性支持体と磁性層の間、非磁性支持体上に非磁性層および磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体の場合には非磁性支持体と非磁性層の間に設けられる。
平滑化層は、放射線硬化型化合物を放射線照射により硬化させて形成することができる。放射線硬化型化合物とは、紫外線または電子線などの放射線を照射すると重合または架橋を開始し、高分子化して硬化する性質を有する化合物をいう。
5.バックコート層
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して繰り返し走行性が強く要求される。このような高い保存安定性を維持させるために、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が設けられた面とは反対の面にバックコート層を設けることもできる。バックコート層用塗料は、研磨剤、帯電防止剤などの粒子成分と結合剤とを有機溶媒に分散させることにより調製することができる。粒状成分として各種の無機顔料やカーボンブラックを使用することができる。また、結合剤としては、例えば、ニトロセルロース、フェノキシ樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン等の樹脂を単独またはこれらを混合して使用することができる。
6.層構成
本発明の磁気記録媒体において、放射線硬化物層の厚さは0.3〜1.0μmの範囲が好ましい。また非磁性支持体の好ましい厚さは、3〜80μmである。また、非磁性支持体と非磁性層または磁性層の間に下塗層を設けた場合、下塗層の厚さは、好ましくは0.01〜0.8μm、より好ましくは0.02〜0.6μmである。また、非磁性支持体の非磁性層および磁性層が設けられた面とは反対側の面に設けられたバックコート層の厚さは、好ましくは0.1〜1.0μm、より好ましくは0.2〜0.8μmである。
磁性層の厚さは、用いる磁気ヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、一般には0.01〜0.10μm以下であり、好ましくは0.02〜0.08μmであり、さらに好ましくは0.03〜0.08μmである。また、磁性層の厚さ変動率は±50%以内が好ましく、さらに好ましくは±40%以内である。磁性層は少なくとも一層あればよく、磁性層を異なる磁気特性を有する2層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
非磁性層の厚さは、好ましくは0.2〜3.0μmであり、0.3〜2.5μmであることがより好ましく、0.4〜2.0μmであることがさらに好ましい。なお、本発明の磁気記録媒体の非磁性層は、実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、例えば不純物として、あるいは意図的に少量の磁性体を含んでいても、本発明の効果を示すものであり、本発明の磁気記録媒体と実質的に同一の構成とみなすことができる。なお、実質的に同一とは、非磁性層の残留磁束密度が10mT(100G)以下または抗磁力が7.96kA/m(100 Oe)以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力を持たないことを意味する。
7.製造方法
磁性層塗布液を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ2段階以上に分かれていてもかまわない。本発明で用いられる強磁性粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨材、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を2つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末または非磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部(但し、全結合剤の30質量%以上が好ましい)および磁性体100質量部に対し15〜500質量部の範囲で混練処理することができる。これらの混練処理の詳細については特開平1−106338号公報、特開平1−79274号公報に記載されている。また、磁性層用液および非磁性層用塗布液を分散させるには、ガラスビーズを用いることができる。このようなガラスビーズは、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、例えば、走行下にある非磁性支持体の表面に磁性層用塗布液を所定の膜厚となるように塗布する。ここで複数の磁性層用塗布液を逐次あるいは同時に重層塗布してもよく、下層の磁性層用塗布液と上層の磁性層用塗布液とを逐次あるいは同時に重層塗布してもよい。上記磁性層用塗布液もしくは下層の磁性層用塗布液を塗布する塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。これらについては例えば(株)総合技術センター発行の「最新コーティング技術」(昭和58年5月31日)を参考にできる。
磁性層塗布液の塗布層は、磁気テープの場合、通常、磁性層塗布液の塗布層中に含まれる強磁性粉末にコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に磁場配向処理を施す。ディスクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用いることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の場合、一般的には面内2次元ランダムが好ましいが、垂直成分をもたせて3次元ランダムとすることもできる。六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直方向の3次元ランダムになりやすいが、面内2次元ランダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを用いて円周配向としてもよい。
乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は20〜1,000m/分、乾燥風の温度は60℃以上が好ましい。また磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行うこともできる。
乾燥された後、通常、塗布層に表面平滑化処理を施す。表面平滑化処理には、例えばスーパーカレンダーロールなどが利用される。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性微粉末の充填率が向上するので、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。
カレンダ処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで処理することもできる。本発明の磁気記録媒体は、表面の中心面平均粗さが、カットオフ値0.25mmにおいて0.1〜4.0nm、好ましくは0.5〜3.0nmの範囲という極めて優れた平滑性を有する表面であることが好ましい。表面平滑化の方法としては、カレンダ処理が挙げられる。カレンダ処理は、カレンダーロールの温度を、例えば60〜100℃の範囲、好ましくは70〜100℃の範囲、特に好ましくは80〜100℃の範囲、圧力を、例えば100〜500kg/cmの範囲、好ましくは200〜450kg/cmの範囲、特に好ましくは300〜400kg/cmの範囲の条件で作動させることによって行われることが好ましい。
熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウエッブ状で熱処理する方法と、バルクまたはカセットに組み込んだ状態などテープが積層した形態で熱処理する方法(サーモ処理)があり、両者が利用できる。前者は、バックコート層表面の突起写りの影響が少ないが、熱収縮率を大きく下げることは困難である。一方、後者のサーモ処理は、熱収縮率を大幅に改善できるが、バックコート層表面の突起写りの影響を強く受けるため、磁性層が面荒れし、出力低下およびノイズ増加を引き起こす場合がある。特に、サーモ処理を伴う磁気記録媒体で、高出力、低ノイズの磁気記録媒体を供給することができる。得られた磁気記録媒体は、裁断機、打抜機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。
8.物理特性
本発明の磁気記録媒体の磁性層の飽和磁束密度は、100〜300T・m(1,000〜3,000G)であることが好ましい。また磁性層の抗磁力(Hr)は、好ましくは143.3〜318.4kA/m(1,800〜4,000Oe)であり、より好ましくは159.2〜278.6kA/m(2,000〜3,500Oe)である。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、SFDおよびSFDrは、好ましくは0.6以下、さらに好ましくは0.2以下である。
本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は、温度−10〜40℃、湿度0〜95%の範囲において、好ましくは0.5以下であり、より好ましくは0.3以下である。また、帯電位は−500〜+500V以内が好ましい。磁性層の0.5%伸びでの弾性率は、面内各方向で好ましくは0.98〜19.6GPa(100〜2,000kg/mm2)、破断強度は、好ましくは98〜686MPa(10〜70kg/mm2)、磁気記録媒体の弾性率は、面内各方向で好ましくは0.98〜14.7GPa(100〜1,500kg/mm2)、残留のびは、好ましくは0.5%以下、100℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は、好ましくは1%以下、さらに好ましくは0.5%以下、最も好ましくは0.1%以下である。
磁性層のガラス転移温度(110Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は50〜180℃が好ましく、非磁性層のそれは0〜180℃が好ましい。損失弾性率は1×107〜8×108Pa(1×108〜8×109dyne/cm2)の範囲にあることが好ましく、損失正接は0.2以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向において10%以内でほぼ等しいことが好ましい。
磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは100mg/m2以下、さらに好ましくは10mg/m2以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは30容量%以下、さらに好ましくは20容量%以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方がよい場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が保存安定性は好ましいことが多い。
デジタルオプチカルプロフィメーター(WYKO製TOPO−3D)を用いて測定した磁性層の中心面表面粗さRaは、4.0nm以下であることが好ましく、より好ましくは3.0nm以下であり、さらに好ましくは2.0nm以下である。磁性層の最大高さSRmaxは、0.5μm以下、十点平均粗さSRzは0.3μm以下、中心面山高さSRpは0.3μm以下、中心面谷深さSRvは0.3μm以下、中心面面積率SSrは20〜80%、平均波長Sλaは5〜300μmがそれぞれ好ましい。磁性層の表面突起は0.01〜1μmの大きさのものを0〜2,000個の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによる表面性のコントロールや磁性層に添加する粉末の粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±3mm以内とすることが好ましい。
本発明の磁気記録媒体における非磁性層と磁性層と間では、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし保存安定性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りをよくするなどである。
本発明の磁気記録媒体は、磁気記録媒体に磁気記録された信号を再生するヘッドについては特に制限はないが、MRヘッドのために用いることが好ましい。本発明の磁気記録媒体の再生にMRヘッドを用いる場合、MRヘッドには特に制限はなく、例えばGMRヘッドやTMRヘッドを用いることもできる。また、磁気記録に用いるヘッドは特に制限されないが、飽和磁化量が好ましくは1.0T以上、より好ましくは1.5T以上である。
更に本発明は、前記一般式(1)で表される化合物を含む磁性粉末用表面改質剤、ならびに、上記表面改質剤、磁性粉末、および結合剤を含む磁性塗料に関する。
一般式(1)で表される化合物は、磁性粉末表面に付着することにより磁性粉末の溶剤や結合剤成分との親和性を高めることができるものと推察される。一般に磁性粉末表面は親水性が比較的高いため、磁性塗料の溶剤として使用されるシクロヘキサノンやメチルエチルケトン等のケトン系溶媒等の有機溶媒や疎水性の結合剤成分との親和性が低い。この親和性の低さが磁性粉末の分散性低下の原因となっていた。これに対し、一般式(1)で表される化合物は、比較的強い極性基であるスルホン酸(塩)基を有するため、磁性体粒子表面に強固に吸着するとともに、分岐OH基を含む骨格を有することで磁性体表面に十分な溶剤親和性を付与することができ、これにより磁性粉末の分散性を高めることができると考えられる。更に、前述のように結合剤として一般式(1)で表される化合物をジオール成分として得られたポリウレタン樹脂を含む磁性塗料中では、一般式(1)で表される化合物とポリウレタン樹脂との良好な親和性により、分散性を更に向上することができる。例えば、後述する実施例で示すように本発明の表面改質剤の有無により磁性塗料中の磁性粉末への結合剤吸着量が変化することによって、本発明の表面改質剤が磁性粉末表面を改質していることが確認できる。なお、前記化合物が磁性粉末表面に付着していることは、磁性粉末と前記化合物を混合した際に、上澄み液中から観測される前記化合物の濃度が添加濃度より小さくなることにより確認できる。
本発明の磁性粉末用表面改質剤(以下、単に「表面改質剤」ともいう)は、一般式(1)で表される化合物とともに他の表面改質効果を有する化合物を含むこともできるが、1種または2種以上の一般式(1)で表される化合物からなることが好ましい。
本発明の表面改質剤は、磁性粉末表面を改質することにより磁性塗料中の磁性粉末の分散性を高めることができる。従って、本発明の表面改質剤は、磁性塗料用分散剤として使用することが好ましい。
本発明の磁性塗料は、磁性粉末が高度に分散し得るため、高い分散性が求められる磁気記録媒体の磁性層形成用塗布液として好適である。
本発明の磁性粉末用表面改質剤および磁性塗料の詳細は、先に本発明の磁気記録媒体について説明した通りである。
以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。なお、ここに示す成分、割合、操作、順序等は本発明の精神から逸脱しない範囲で変更し得るものであり、下記の実施例に制限されるべきものではない。また、実施例中の「部」は、特に示さない限り質量部を示す。
[合成例1]
スルホン酸(塩)基含有ジオール(例示化合物S−1)の合成
2−アミノエタンスルホン酸100質量部、水酸化リチウム1水和物33.5質量部を水250質量部に添加し、45℃、30分撹拌した。1,2−ブチレンオキシド156質量部を添加し、45℃でさらに2時間撹拌した。この反応によりタウリンのリチウム塩が得られる。次いで、トルエン400質量部を添加し10分撹拌した後、静置し下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥し、ビス(2−ヒドロキシブチル)アミノエタンスルホン酸のリチウム塩(例示化合物S−1)を得た。生成物の1H−NMRデータおよびその帰属を以下に示す。実施例における1H NMRの測定には、400MHzのNMR(BRUKER社製AVANCEII−400)を使用した。
(S−1):1H NMR (D2O = 4.75 ppm) δ(ppm) = 3.68 (2H, m), 3.10 (2H, m), 2.59(2H, m), 2.40 (4H, m), 1.45 (4H, m), 0.89 (6H, t).
Figure 2009245515
[合成例2]
スルホン酸(塩)基含有ジオール(例示化合物S−2)の合成
使用するエポキシ化合物をブチルグリシジルエーテルに変えた以外は合成例1と同様の操作によりビス(2−ヒドロキシ−3−ブトキシプロピル)アミノエタンスルホン酸のリチウム塩を得た。生成物の1H NMRデータ及びその帰属を以下に示す。
(S−2):1H NMR (D2O = 4.75 ppm) δ(ppm) = 3.84 (2H, m), 3.55-3.30 (8H, m),3.38 (2H, m), 2.95 (4H, m), 2.51 (2H, m), 1.49 (4H, m), 1.27 (4H, m), 0.83 (6H,t).
Figure 2009245515
[合成例3]
スルホン酸(塩)基含有ジオール(例示化合物S−7)の合成
m−アミノベンゼンスルホン酸100質量部、水酸化リチウム1水和物24質量部を水250質量部に添加し、45℃、30分撹拌した。1,2−ブチレンオキシド112質量部を添加し、45℃でさらに2時間撹拌した。トルエン400質量部を添加し10分撹拌した後、静置し下層を分取した。得られた下層を固化・乾燥し、目的物を得た。
[合成例4]
スルホン酸(塩)基含有ジオール(化合物S−9)の合成
使用するアルカリを水酸化カリウムに変えた以外は合成例3と同様の操作により目的物を得た。
[合成例5]
スルホン酸(塩)基含有ジオール(化合物S−8)の合成
使用するアルカリを水酸化ナトリウムに変えた以外は合成例3と同様の操作により目的物を得た。
合成例1、2で合成した化合物について、NMRの同定結果から判明した構造式から分子量を算出した。合成例3〜5で合成した化合物についても同様に分子量を算出した。合成例1〜5の分子量を、合成時の仕込み比とともに表1に示す。タウリンを、比較化合物として表1に示す。
Figure 2009245515
表面吸着の確認
後述する実施例で使用した針状強磁性粉末8.0質量部および合成例1〜5で合成した各化合物0.13質量部を、シクロヘキサノン3.3質量部に懸濁させた。懸濁液にジルコニアビーズ(ニッカトー製)27質量部を添加し、6時間分散させた。分散させた液中の合成例1〜5で合成した各化合物を中和滴定で測定したところ、検出限界以下であった。この結果から、合成例1〜5で合成した化合物が、いずれも強磁性粉末表面に吸着していることが確認できる。
[合成例6]
ポリウレタン樹脂合成
表2に示した組成のジオール成分および反応触媒であるジ−n−ブチルチンラウレートを、還流式冷却器、撹拌機を具備し、予め窒素置換した容器に、シクロヘキサノン50質量%溶液となるように入れ、窒素気流下60℃で1時間撹拌した。さらに表2に示したジイソシアネ−ト成分を加え90℃にて6時間加熱反応し、ポリウレタン樹脂PU−Aを得た。
なお、反応触媒であるジ−n−ブチルチンラウレートは、重合成分(ポリオールおよびポリイソシアネートの総量)に対して0.01質量部添加した。
表2中には得られたポリウレタンの質量平均分子量および質量平均分子量/数平均分子量比(Mw/Mn)を示す。なお、ポリウレタンの質量平均分子量はDMF溶媒を用いて標準ポリスチレン換算で求めた。
また、スルホン酸(塩)濃度(eq/g)を示した。スルホン酸(塩)濃度は、蛍光X線分析により硫黄(S)元素のピーク面積から硫黄元素量を定量し、ポリウレタン樹脂1gあたりの硫黄元素量に換算した。
Figure 2009245515
[実施例1〜10]
(磁性層塗布液の調製)
強磁性粉末(表3参照) 100部
ポリウレタン樹脂 12部
東洋紡績製UR8200(スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂)またはPU−A;表3参照
塩化ビニル系樹脂 6部
日本ゼオン製MR110(スルホン酸基含有塩化ビニル系樹脂)
スルホン酸(塩)基含有ジオール(表3参照) 3部
α−Al23(粒子サイズ0.15μm) 2部
カーボンブラック(粒子サイズ40nm) 2部
シクロヘキサノン 110部
メチルエチルケトン 100部
トルエン 100部
ブチルステアレート 2部
ステアリン酸 1部
(強磁性粉末)
(1)針状強磁性粉末
組成:Fe89原子%、Co5原子%、Y6原子%、Hc:175kA/m(2200Oe)、比表面積70m2/g、針状比3.5、σs:120Am2/kg(120emu/g)、長軸長:表3参照
(2)六角平板状フェライト粉末
組成:Ba91原子%、Fe8原子%、Co0.5原子%、Zn0.5原子%、Hc:175kA/m(2200Oe)、比表面積:55m2/g、板比:3.5、σs:51Am2/kg(51emu/g)、板径:表3参照
(3)球状窒化鉄粉末
組成:Fe88原子%、N8原子%、Y4原子%、Hc:175kA/m(2200Oe)、比表面積:56m2/g、σs:100Am2/kg(100emu/g)、粒径:表3参照
(非磁性層塗布液の調製)
非磁性無機質粉体 85部
(α−酸化鉄 表面処理剤:Al23、SiO2、長軸径:0.15μm、タップ密度:0.8、針状比:7、BET比表面積:52m2/g、pH8、DBP吸油量:33g/100g)
カーボンブラック 20部
(DBP吸油量:120ml/100g、pH:8、BET比表面積:250m2/g、揮発分:1.5%)
ポリウレタン樹脂 12部
東洋紡績製UR8200(スルホン酸基含有ポリウレタン樹脂)
塩化ビニル系樹脂 6部
日本ゼオン製MR110(スルホン酸基含有塩化ビニル系樹脂)
α−Al23(平均粒径0.2μm) 1部
リン酸モノビフェニル 3部
シクロヘキサノン 140部
メチルエチルケトン 170部
ブチルステアレート 2部
ステアリン酸 1部
上記磁性層塗布液および非磁性層塗布液のそれぞれについて、各成分をオープンニーダーで60分間混練した後、サンドミルで120分間分散した。得られた分散液に3官能性低分子量ポリイソシアネート化合物(日本ポリウレタン製コロネート3041)を6部加え、さらに20分間撹拌混合したあと、1μmの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層塗布液および非磁性層塗布液を調製した。
(磁気記録媒体の作製)
接着層としてスルホン酸含有ポリエステル樹脂を乾燥後の厚さが0.1μmになるようにコイルバーを用いて厚さ7μのポリエチレンテレフタレート支持体の表面に塗布した。
次いで、得られた非磁性層塗布液を1.5μmに、さらにその直後に磁性層塗布液を乾燥後の厚さが0.1μmになるように、リバースロールを用いて同時重層塗布した。磁性層塗布液が塗布された非磁性支持体を、磁性層塗布液が未乾燥の状態で0.5T(5,000ガウス)のCo磁石と0.4T(4,000ガウス)のソレノイド磁石で磁場配向を行い、塗布したものに金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロール−金属ロールの組み合せによるカレンダー処理を、速度100m/min、線圧300kg/cm、温度90゜C)で行い、次いで80℃で48hのサーモ処理を行った後、1/2インチ幅にスリットし、磁気テープを得た。
[比較例1]
磁性層において一般式(1)で表される化合物に代えて特開平5−62162号公報の実施例で使用されているタウリン(比較化合物)を使用した以外は実施例1と同様の方法で磁気テープを得た。
[比較例2]
磁性層において一般式(1)で表される化合物に代えて特開平2001−134922号公報の実施例で使用されているリン酸モノビフェニルを使用した以外は実施例1と同様の方法で磁気テープを得た。
測定方法
(1)平滑性
Digital Instrument社製NanoscopeIIを用い、トンネル電流10nA、バイアス電流400mVで30μm×30μmの範囲を走査して10nm〜20nmの突起数を求め、比較例1を100としたときの相対値で示した。
(2)電磁変換特性
ヘッドを固定した1/2インチ リニアシステムで測定した。ヘード/テープの相対速度は10m/secとした。記録は飽和磁化1.4TのMIGヘッド(トラック幅18μm)を使い、記録電流は各テープの最適電流に設定した。再生ヘッドには素子厚み25nm、シールド間隔0.2μmの異方性型MRヘッド(A−MR)を用いた。記録波長0.2μmの信号を記録し、再生信号をシバソク製スペクトラムアナライザーで周波数分析し、キャリア信号(波長0.2μm)の出力とスペクトル全域の積分ノイズとの比をS/N比とし、比較例1を0dBとした相対値で示した。
(3)繰り返し摺動耐久性
テ−プを40℃10%環境下で磁性層面をAlTiC製の円柱棒に接触させて荷重100g(T1)をかけ、2m/secの摺動速度で繰り返し10000パスまで摺動を行ったあとのテープダメージを以下のランクで評価した。
優秀:ややキズが見られるが、キズのない部分の方が多い。
良好:キズがない部分よりもキズがある部分の方が多い。
不良:磁性層が完全に剥離している。
(4)保存性
LTO−G3カートリッジ用のリールにテープを600m巻いた状態で60℃90%2週間保存した。保存後のテ−プの摺動耐久性を(3)と同じ方法で測定した。
以上の結果を表3に示す。
Figure 2009245515
表3に示すように、実施例1〜10の磁気テープは、比較例1、2の磁気テープと比べて平滑性が高く電磁変換特性が良好であった。この結果から、化合物S1〜S6を磁性層成分として添加することにより表3に示すサイズの微粒子磁性体を良好に分散できたことがわかる。
更に、実施例1〜10の磁気テープは、繰り返し摺動耐久性が高く、優れた走行耐久性を有していた。更に、実施例1〜10の磁気テープは、保存後の摺動耐久性も高かった。これは、添加化合物は保存性に優れ長期にわたり磁性層で磁性粉末表面に吸着し続けることに起因すると考えられる。特に、磁性層の結合剤として添加化合物と同様の骨格を有するポリウレタン樹脂(PU−A)を使用した実施例6〜10において摺動耐久性および保存性が優秀であったことは、添加化合物とポリウレタン樹脂との親和性が高いため、結果としてポリウレタン樹脂と磁性体の結合力が向上したことに起因すると考えられる。
以上の結果から、一般式(1)で表される化合物を磁性層に添加することにより、磁性層の表面平滑性を高め電磁変換特性を向上することができ、更には繰り返し耐久性および保存後の耐久性も向上することができることがわかる。
本発明の磁気記録媒体は、長期にわたり高い耐久性と信頼性が求められるバックアップテープ等の高密度記録用磁気記録媒体として好適である。

Claims (9)

  1. 非磁性支持体上に強磁性粉末および結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体であって、
    前記磁性層は、下記一般式(1)で表される化合物を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
    Figure 2009245515
    [一般式(1)中、Xは二価の連結基を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数7〜20のアリーロキシアルキル基を表し、Mは水素原子または陽イオンを表す。]
  2. 前記磁性層に、一般式(1)で表される化合物とイソシアネート化合物との反応生成物を更に含む請求項1に記載の磁気記録媒体。
  3. 磁性層に含まれる結合剤は、一般式(1)で表される化合物をジオール成分として得られたポリウレタン樹脂を含む請求項1または2に記載の磁気記録媒体。
  4. 前記磁性層は、一般式(1)で表される化合物を、強磁性粉末100質量部に対し0.1〜30質量部含有する請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気記録媒体。
  5. 下記一般式(1)で表される化合物を含む磁性粉末用表面改質剤。
    Figure 2009245515
    [一般式(1)中、Xは二価の連結基を表し、R1およびR2は、それぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキル基、炭素数6〜20のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数2〜20のアルコキシアルキル基、または炭素数7〜20のアリーロキシアルキル基を表し、Mは水素原子または陽イオンを表す。]
  6. 請求項5に記載の表面改質剤、磁性粉末、および結合剤を含む磁性塗料。
  7. 前記結合剤は、一般式(1)で表される化合物をジオール成分として得られたポリウレタン樹脂を含む請求項6に記載の磁性塗料。
  8. イソシアネート化合物を更に含む請求項6または7に記載の磁性塗料。
  9. 磁気記録媒体の磁性層形成用塗布液として使用される請求項6〜8のいずれか1項に記載の磁性塗料。
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