[go: up one dir, main page]

JP2009244757A - Transparent substrate - Google Patents

Transparent substrate Download PDF

Info

Publication number
JP2009244757A
JP2009244757A JP2008093593A JP2008093593A JP2009244757A JP 2009244757 A JP2009244757 A JP 2009244757A JP 2008093593 A JP2008093593 A JP 2008093593A JP 2008093593 A JP2008093593 A JP 2008093593A JP 2009244757 A JP2009244757 A JP 2009244757A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
transparent
resin
smoothing layer
glass fiber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008093593A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koji Kishimoto
広次 岸本
Masaya Tsujimoto
雅哉 辻本
Naemi Minami
名栄美 南
Shinji Hashimoto
眞治 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Electric Works Co Ltd filed Critical Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority to JP2008093593A priority Critical patent/JP2009244757A/en
Publication of JP2009244757A publication Critical patent/JP2009244757A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

【課題】表面の平滑性が高く、また耐候性が良好で変色の発生を低減することができる透明基板を提供する。
【解決手段】ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板1を備える。そして、表面を平滑に形成するための透明な平滑化層2が透明積層板1に形成されていると共に、平滑化層2には紫外光を吸収する機能を有する材料が含有されている。平滑化層2で透明積層板1の凹凸を埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができる。また平滑化層2に含有される紫外光を吸収する機能を有する材料によって、紫外光が平滑化層2や透明積層板1に作用することを抑制することができ、変色の発生を低減することができる。
【選択図】図1
Disclosed is a transparent substrate having high surface smoothness, good weather resistance, and capable of reducing the occurrence of discoloration.
SOLUTION: A high refractive index resin having a higher refractive index than glass fiber and a low refractive index resin having a lower refractive index than glass fiber are mixed, and the refractive index is adjusted to approximate the refractive index of glass fiber. The transparent laminated board 1 produced by impregnating and hardening | curing a resin composition to a glass fiber base material is provided. A transparent smoothing layer 2 for forming a smooth surface is formed on the transparent laminate 1, and the smoothing layer 2 contains a material having a function of absorbing ultraviolet light. The smoothing layer 2 can fill the unevenness of the transparent laminated plate 1 and make it flat, and the surface smoothness can be improved. Moreover, it can suppress that ultraviolet light acts on the smoothing layer 2 and the transparent laminated board 1 with the material which has the function which absorbs the ultraviolet light contained in the smoothing layer 2, and reduces generation | occurrence | production of discoloration. Can do.
[Selection] Figure 1

Description

本発明は、液晶ディスプレイなどに用いられる透明基板に関するものである。   The present invention relates to a transparent substrate used for a liquid crystal display or the like.

透明積層板によって形成される透明基板は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等のフラットパネルディスプレイなどにおいて、ガラス板に代わる材料として検討されている(例えば特許文献1等)。   A transparent substrate formed of a transparent laminated plate has been studied as a material to replace a glass plate in flat panel displays such as a liquid crystal display, a plasma display, and an EL display (for example, Patent Document 1).

透明基板として用いられるこのような透明積層板の一例として、ガラスクロスなどガラス繊維からなる基材に、ガラス繊維と屈折率が近似する透明熱硬化性樹脂を含浸してプリプレグを調製し、このプリプレグを加熱加圧成形することによって作製したものを挙げることができる。透明熱硬化性樹脂としては一般にエポキシ樹脂が使用されているが、樹脂の屈折率をガラス繊維の屈折率に近似させるために、ガラス繊維より屈折率の大きいエポキシ樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さいエポキシ樹脂とを混合し、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように混合比率を調整した樹脂組成物を用いるようにしている。このように基材のガラス繊維とマトリクス樹脂の屈折率を合わせることによって、透明積層板内での光の屈折を抑え、視認性に優れたディスプレイの透明基板として使用することができるものである。   As an example of such a transparent laminate used as a transparent substrate, a prepreg is prepared by impregnating a substrate made of glass fiber such as glass cloth with a transparent thermosetting resin having a refractive index similar to that of glass fiber. What was produced by heat-press-molding can be mentioned. An epoxy resin is generally used as the transparent thermosetting resin. In order to approximate the refractive index of the resin to the refractive index of the glass fiber, an epoxy resin having a higher refractive index than the glass fiber and a refractive index higher than that of the glass fiber are used. A resin composition is used in which a small epoxy resin is mixed and the mixing ratio is adjusted so that the refractive index approximates the refractive index of the glass fiber. Thus, by combining the refractive index of the glass fiber of the base material and the matrix resin, the refraction of light in the transparent laminate can be suppressed and used as a transparent substrate of a display excellent in visibility.

図2はこのような透明積層板によって形成される透明基板Aを用いて作製した液晶ディスプレイの概略構成の一例を示すものであり、一対の透明基板Aを平行に配置し、この透明基板A間に駆動素子10が搭載されるようになっている。この駆動素子10は、一方の透明基板Aに設けられた画素電極11とTFT12、他方の透明基板Aに設けられた共通電極13、透明基板A間に充填される液晶分子14などを備えて形成されるものである。
特開2004−307851号公報
FIG. 2 shows an example of a schematic configuration of a liquid crystal display manufactured using a transparent substrate A formed of such a transparent laminated plate. A pair of transparent substrates A are arranged in parallel, and the space between the transparent substrates A is shown. The drive element 10 is mounted on the board. The drive element 10 includes a pixel electrode 11 and TFT 12 provided on one transparent substrate A, a common electrode 13 provided on the other transparent substrate A, and liquid crystal molecules 14 filled between the transparent substrates A. It is what is done.
JP 2004-307851 A

上記のような液晶ディスプレイにあって、対向して配置される透明基板Aの間隔が不均一であると、充填されている液晶分子14の厚みが不均一になって、液晶分子14の配向性が部分的に乱れ、光の散乱が生じるおそれがある。   In the liquid crystal display as described above, if the distance between the transparent substrates A arranged opposite to each other is non-uniform, the thickness of the liquid crystal molecules 14 filled becomes non-uniform, and the orientation of the liquid crystal molecules 14 May be partially disturbed and light scattering may occur.

しかし透明基板Aは、ガラス基材に樹脂を含浸・硬化して作製した透明積層板によって形成されているため、表面の平滑性をガラス基板のように高く形成することは困難であり、特にガラスクロスなどで形成されるガラス基材の凹凸が表面に表れて、平滑性が低くなる傾向にある。従ってこのような透明基板Aを液晶ディスプレイの基板として用いると、対向して配置される透明基板Aの間隔が不均一になって、充填されている液晶分子14に配向の乱れが生じて光の散乱が起こり、鮮明な画像を得ることができなくなるおそれがあるという問題があった。   However, since the transparent substrate A is formed by a transparent laminated plate prepared by impregnating and curing a resin on a glass base material, it is difficult to form a surface with high smoothness like a glass substrate. The unevenness of the glass substrate formed by cloth or the like appears on the surface, and the smoothness tends to be lowered. Accordingly, when such a transparent substrate A is used as a substrate for a liquid crystal display, the interval between the transparent substrates A arranged opposite to each other becomes non-uniform, and the alignment of the liquid crystal molecules 14 that are filled is disturbed. There is a problem that scattering may occur and a clear image may not be obtained.

また、液晶ディスプレイの場合、バックライトの光が透明基板Aに照射されることになるが、バックライトの光に含まれる紫外光が透明基板Aに作用することになる。そして透明基板Aはガラス基材に樹脂を含浸・硬化して作製した透明積層板によって形成されているため、樹脂が紫外光によって劣化して変色し、透明基板Aに変色が発生して透明性が低下するおそれがあるという問題があった。   In the case of a liquid crystal display, the light from the backlight is applied to the transparent substrate A, but the ultraviolet light contained in the light from the backlight acts on the transparent substrate A. And since the transparent substrate A is formed by a transparent laminated plate prepared by impregnating and curing a resin on a glass substrate, the resin is deteriorated by ultraviolet light and discolored, and the transparent substrate A is discolored and is transparent. There was a problem that there was a risk of lowering.

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、表面の平滑性が高く、また耐候性が良好で変色の発生を低減することができる透明基板を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a transparent substrate having high surface smoothness, good weather resistance, and capable of reducing the occurrence of discoloration. .

本発明に係る透明基板は、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板1を備え、表面を平滑に形成するための透明な平滑化層2が透明積層板1に形成されていると共に、平滑化層2には紫外光を吸収する機能を有する材料が含有されていることを特徴とするものである。   The transparent substrate according to the present invention is a mixture of a high refractive index resin having a refractive index larger than that of glass fiber and a low refractive index resin having a refractive index smaller than that of glass fiber so that the refractive index approximates that of glass fiber. A transparent smoothing layer 2 is formed on the transparent laminate 1 for smooth formation of the surface. The transparent laminate 1 is prepared by impregnating and curing a glass fiber base material with a resin composition adjusted to In addition, the smoothing layer 2 contains a material having a function of absorbing ultraviolet light.

この発明によれば、平滑化層2で透明積層板1の凹凸を埋めて平坦にならすことができ、表面の平滑性を高めることができるものであり、しかも平滑化層2に含有される紫外光を吸収する機能を有する材料によって、紫外光が平滑化層2や透明積層板1に作用することを抑制することができ、表面を平滑化するための平滑化層2を利用して耐候性を高め、変色の発生を低減することができるものである。   According to this invention, the unevenness of the transparent laminate 1 can be filled with the smoothing layer 2 to make it flat, the surface smoothness can be improved, and the ultraviolet contained in the smoothing layer 2. The material having the function of absorbing light can suppress the ultraviolet light from acting on the smoothing layer 2 and the transparent laminated plate 1, and weather resistance using the smoothing layer 2 for smoothing the surface. And the occurrence of discoloration can be reduced.

また本発明において、上記の紫外光を吸収する機能を有する材料は、平均粒子径100nm以下の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムから選ばれる少なくとも1種の微粒子であることを特徴とするものであり、平滑化層2による紫外光の吸収性能が高くなって、変色の発生を低減する効果を高く得ることができるものである。   In the present invention, the material having the function of absorbing ultraviolet light is characterized by being at least one fine particle selected from titanium oxide, zinc oxide, and cerium oxide having an average particle diameter of 100 nm or less. The ultraviolet light absorption performance of the smoothing layer 2 is enhanced, and the effect of reducing the occurrence of discoloration can be obtained.

また本発明において、上記の紫外光を吸収する機能を有する材料は、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、サリシレート系、ベンゼンチオール金属錯体から選ばれる少なくとも1種の有機化合物であることを特徴とするものであり、平滑化層2による紫外光の吸収性能が高くなって、変色の発生を低減する効果を高く得ることができるものである。   In the present invention, the material having the function of absorbing ultraviolet light is at least one organic compound selected from benzophenone, benzotriazole, triazine, hindered amine, salicylate, and benzenethiol metal complexes. The ultraviolet light absorption performance of the smoothing layer 2 is enhanced, and a high effect of reducing the occurrence of discoloration can be obtained.

また本発明において、上記の平滑化層2は、405nm以下の波長の光の透過を85%以上カットするものであることを特徴とするものであり、紫外光の作用を抑制して、変色の発生を低減する効果を高く得ることができるものである。   Further, in the present invention, the smoothing layer 2 is characterized in that the transmission of light having a wavelength of 405 nm or less is cut by 85% or more. A high effect of reducing the occurrence can be obtained.

また本発明において、上記の平滑化層2は、透明積層板1に樹脂コーティング剤をコーティングすることによって形成されている樹脂層であることを特徴とするものであり、樹脂コーティング剤のコーティングで、平滑化層2を容易に形成することができるものである。   In the present invention, the smoothing layer 2 is a resin layer formed by coating the transparent laminate 1 with a resin coating agent, and is coated with a resin coating agent. The smoothing layer 2 can be easily formed.

また本発明において、上記の平滑化層2は、透明積層板1にフィルムを貼り付けることによって形成されていることを特徴とするものであり、フィルムの貼り付けで、平滑化層2を容易に形成することができるものである。   In the present invention, the smoothing layer 2 is formed by sticking a film to the transparent laminate 1, and the smoothing layer 2 can be easily formed by attaching the film. It can be formed.

また本発明において、透明積層板1と平滑化層2との屈折率の差が0.01以下であることを特徴とするものである。   In the present invention, the difference in refractive index between the transparent laminate 1 and the smoothing layer 2 is 0.01 or less.

本発明によれば、透明積層板1と平滑化層2との間での光の屈折や全反射を抑制して、透明性の高い透明基板を得ることができるものである。   According to the present invention, it is possible to obtain a transparent substrate having high transparency by suppressing light refraction and total reflection between the transparent laminate 1 and the smoothing layer 2.

また本発明において、透明積層板1を作製する樹脂組成物の高屈折率樹脂として、シアネートエステル樹脂を用いることを特徴とするものである。   Moreover, in this invention, cyanate ester resin is used as high refractive index resin of the resin composition which produces the transparent laminated board 1. It is characterized by the above-mentioned.

本発明によれば、シアネートエステル樹脂によって透明積層板1の樹脂のガラス転移温度を高めることができ、耐熱性に優れた透明基板を得ることができるものである。   According to this invention, the glass transition temperature of resin of the transparent laminated board 1 can be raised with cyanate ester resin, and the transparent substrate excellent in heat resistance can be obtained.

本発明によれば、平滑化層2で透明積層板1の凹凸を埋めて平坦にならすことができ、透明積層板の表面の平滑性を高めることができるものである。しかも平滑化層2に含有される紫外光を吸収する機能を有する材料によって、紫外光が平滑化層2や透明積層板1に作用することを抑制することができ、表面を平滑化するための平滑化層2を利用して耐候性を高め、透明基板に変色が発生することを低減することができるものである。   According to the present invention, the smoothing layer 2 can fill the unevenness of the transparent laminate 1 and level it, and the surface smoothness of the transparent laminate can be improved. Moreover, the material having a function of absorbing the ultraviolet light contained in the smoothing layer 2 can suppress the ultraviolet light from acting on the smoothing layer 2 and the transparent laminated plate 1, and smoothes the surface. The smoothing layer 2 can be used to improve weather resistance and reduce the occurrence of discoloration on the transparent substrate.

以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described.

まず、本発明において使用する透明積層板について説明する。この透明積層板は、ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製されるものである。   First, the transparent laminated board used in this invention is demonstrated. This transparent laminate is adjusted so that the refractive index approximates the refractive index of the glass fiber by mixing a high refractive index resin having a higher refractive index than that of the glass fiber and a low refractive index resin having a lower refractive index than that of the glass fiber. The resin composition prepared is impregnated into a glass fiber substrate and cured.

上記のガラス繊維より高屈折率の樹脂として、シアネートエステル樹脂を用いるのが好ましい。シアネートエステル樹脂は、1分子中に2個以上のシアネート基を有するシアネートエステル化合物が3量化でトリアジン環を生成して重合したものであり、シアネートエステル化合物としては、例えば、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパン、ビス(3,5−ジメチル−4−シアナートフェニル)メタン、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)エタン等、あるいはこれらの誘導体など、芳香族シアネートエステル化合物を用いることができる。これらは単独で用いる他、複数種を組み合わせて用いるようにしてもよい。このシアネートエステル樹脂は剛直な分子骨格を有するものであり、このため、硬化物に高いガラス転移温度を与えるものである。またシアネートエステル樹脂は常温で固形であるので、後述のように樹脂組成物をガラス繊維の基材に含浸して乾燥することによってプリプレグを調製する際に、指触乾燥することが容易になるので、プリプレグの取り扱い性が良好になるものである。   It is preferable to use a cyanate ester resin as a resin having a higher refractive index than the glass fiber. The cyanate ester resin is obtained by polymerization of a cyanate ester compound having two or more cyanate groups in one molecule by generating a triazine ring by trimerization. Examples of the cyanate ester compound include 2,2-bis ( Aromatic cyanate ester compounds such as 4-cyanatophenyl) propane, bis (3,5-dimethyl-4-cyanatophenyl) methane, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) ethane, and derivatives thereof Can be used. These may be used alone or in combination of a plurality of types. This cyanate ester resin has a rigid molecular skeleton, and therefore imparts a high glass transition temperature to the cured product. Further, since cyanate ester resin is solid at normal temperature, it becomes easy to dry by touch when preparing a prepreg by impregnating a resin composition into a glass fiber substrate and drying it as described later. The prepreg is easy to handle.

ここで、ガラス繊維の屈折率が例えば1.562である場合、高屈折率樹脂として用いるシアネートエステル樹脂は屈折率が1.6前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をnとすると、n+0.03〜n+0.06の範囲のものであることが望ましい。尚、本発明において、樹脂の屈折率は、いずれも硬化した樹脂の状態での屈折率をいうものであり、ASTM D542で試験した値である。   Here, when the refractive index of the glass fiber is, for example, 1.562, the cyanate ester resin used as the high refractive index resin preferably has a refractive index of around 1.6. When the refractive index of the glass fiber is n, n + 0 It is desirable that it is in the range of 0.03 to n + 0.06. In the present invention, the refractive index of the resin refers to the refractive index in the state of the cured resin, and is a value tested by ASTM D542.

一方、上記のガラス繊維より低屈折率の樹脂としては、低屈折率であれば任意のエポキシ樹脂を用いることができるが、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。ガラス繊維の屈折率が例えば1.562である場合、この低屈折率のエポキシ樹脂としては屈折率が1.5前後のものが好ましく、ガラス繊維の屈折率をnとすると、n−0.04〜n−0.08の範囲のものであることが望ましい。   On the other hand, as the resin having a lower refractive index than the glass fiber, any epoxy resin can be used as long as it has a low refractive index, but it is preferable to use a hydrogenated bisphenol type epoxy resin. When the refractive index of the glass fiber is 1.562, for example, the low refractive index epoxy resin preferably has a refractive index of around 1.5, where n−0.04, where n is the refractive index of the glass fiber. It is desirable to be in the range of ˜n−0.08.

低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂において、ビスフェノール型としては、ビスフェノールA型の他に、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型などを用いることもできる。   In the low refractive index hydrogenated bisphenol type epoxy resin, as the bisphenol type, bisphenol F type, bisphenol S type and the like can be used in addition to the bisphenol A type.

また、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂としては、常温で固形の固形型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。常温で液状の液状型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を使用することもできるが、プリプレグを調製する際に、指触で粘着性のある状態にまでしか乾燥することができず、プリプレグの取り扱い性が悪くなるので、固形型水添ビスフェノール型エポキシ樹脂を使用するのが好ましいのである。さらに、低屈折率のエポキシ樹脂として、水添ビスフェノール型エポキシ樹脂以外のものを併用することも可能であり、例えば1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂を併用することができる。このエポキシ樹脂は屈折率を微調整するために併用するものであり、また常温で固体であるために透明積層板の製造を容易にするためにも最適な樹脂である。   Further, as the hydrogenated bisphenol type epoxy resin having a low refractive index, it is preferable to use a solid type hydrogenated bisphenol type epoxy resin that is solid at room temperature. Liquid type hydrogenated bisphenol type epoxy resin that is liquid at room temperature can be used, but when preparing the prepreg, it can only be dried to a sticky state with the touch, and the prepreg is easy to handle. Since it becomes worse, it is preferable to use a solid-type hydrogenated bisphenol-type epoxy resin. Furthermore, it is possible to use other than the hydrogenated bisphenol type epoxy resin as the low refractive index epoxy resin. For example, an epoxy resin containing 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane is used in combination. be able to. This epoxy resin is used in combination to finely adjust the refractive index, and is an optimal resin for facilitating the production of a transparent laminate because it is solid at room temperature.

そして、上記の高屈折率のシアネートエステル樹脂と、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などエポキシ樹脂とを混合して、ガラス繊維の屈折率に近似した樹脂組成物を調製して用いるものである。高屈折率のシアネートエステル樹脂と低屈折率のエポキシ樹脂の混合比率は、ガラス繊維の屈折率に近似させるように、任意に調整されるものである。ここで、樹脂組成物の屈折率はガラス繊維の屈折率にできるだけ近いことが望ましいが、ガラス繊維の屈折率をnとすると、n−0.02〜n+0.02の範囲で近似するように調整するのが好ましい。   Then, the above-described high refractive index cyanate ester resin is mixed with an epoxy resin such as a low refractive index hydrogenated bisphenol type epoxy resin to prepare and use a resin composition that approximates the refractive index of glass fiber. is there. The mixing ratio of the high refractive index cyanate ester resin and the low refractive index epoxy resin is arbitrarily adjusted so as to approximate the refractive index of the glass fiber. Here, it is desirable that the refractive index of the resin composition be as close as possible to the refractive index of the glass fiber. It is preferable to do this.

またこの樹脂組成物は、その硬化樹脂のガラス転移温度(Tg)が170℃以上になるように調製されるのが好ましい。ガラス転移温度が170℃以上であることによって、透明積層板の耐熱性を高めることができるものである。ガラス転移温度の上限は特に設定されるものではないが、実用的には280℃程度がガラス転移温度の上限である。ガラス転移温度の調整は、樹脂組成物中の上記のシアネートエステル樹脂の配合比率を変えることによって行なうことができるものであり、併用する低屈折率樹脂の種類に左右されるが、樹脂組成物の樹脂分中、シアネートエステル樹脂が約30質量%以上であれば、樹脂組成物のガラス転移温度を170℃以上に調整することができる。ここで、本発明において、ガラス転移温度は、JIS C6481 TMA法に準拠して測定した値である。   The resin composition is preferably prepared such that the cured resin has a glass transition temperature (Tg) of 170 ° C. or higher. When the glass transition temperature is 170 ° C. or higher, the heat resistance of the transparent laminate can be increased. The upper limit of the glass transition temperature is not particularly set, but practically about 280 ° C. is the upper limit of the glass transition temperature. The glass transition temperature can be adjusted by changing the blending ratio of the cyanate ester resin in the resin composition, and depends on the type of low refractive index resin used together. If the cyanate ester resin is about 30% by mass or more in the resin component, the glass transition temperature of the resin composition can be adjusted to 170 ° C. or more. Here, in this invention, a glass transition temperature is the value measured based on JISC6481 TMA method.

さらに樹脂組成物には、硬化開始剤(硬化剤)を配合することができる。この硬化開始剤としては、有機金属塩を用いることができる。この有機金属塩としては、例えば、オクタン酸、ステアリン酸、アセチルアセトネート、ナフテン酸、サリチル酸等の有機酸と、Zn、Cu、Fe等の金属との塩を挙げることができる。これらは一種を単独で用いる他に、二種以上を併用することもできるが、中でも、オクタン酸亜鉛が好ましい。硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を用いることによって、硬化樹脂のガラス転移温度を高めることができるものである。樹脂組成物中のオクタン酸亜鉛など有機金属塩の含有量は、特に限定されるものではないが、0.01〜0.1PHRの範囲が好ましい。   Furthermore, a curing initiator (curing agent) can be blended in the resin composition. An organic metal salt can be used as the curing initiator. Examples of the organic metal salt include salts of an organic acid such as octanoic acid, stearic acid, acetylacetonate, naphthenic acid, and salicylic acid with a metal such as Zn, Cu, and Fe. These may be used alone or in combination of two or more. Among them, zinc octoate is preferable. By using zinc octoate as the curing initiator, the glass transition temperature of the cured resin can be increased. The content of the organic metal salt such as zinc octoate in the resin composition is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 0.1 PHR.

また硬化開始剤として、カチオン系硬化剤を用いることもできる。このようにカチオン系硬化剤を用いることによって樹脂の透明性を高めることができるものである。カチオン系硬化剤としては、特に限定されるものではないが、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、アンモニウム塩、アルミニウムキレート、三フッ化ホウ素アミン錯体などを用いることができる。樹脂組成物中のカチオン系硬化剤の含有量は、特に限定されるものではないが、0.2〜3.0PHRの範囲が好ましい。   A cationic curing agent can also be used as the curing initiator. Thus, by using a cationic curing agent, the transparency of the resin can be enhanced. The cationic curing agent is not particularly limited, and aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, ammonium salts, aluminum chelates, boron trifluoride amine complexes, and the like can be used. The content of the cationic curing agent in the resin composition is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.2 to 3.0 PHR.

さらに硬化開始剤として、トリエチルアミン、トリエタノールアミン等の3級アミン、2−エチル−4−イミダゾール、4−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル−イミダゾール(2E4MZ)などの硬化触媒を用いることもできる。樹脂組成物中の硬化触媒の含有量は、特に限定されるものではないが、0.5〜5PHRの範囲が好ましい。   Further, a curing catalyst such as a tertiary amine such as triethylamine or triethanolamine, 2-ethyl-4-imidazole, 4-methylimidazole, 2-ethyl-4-methyl-imidazole (2E4MZ) may be used as a curing initiator. it can. The content of the curing catalyst in the resin composition is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.5 to 5 PHR.

上記のように高屈折率のシアネートエステル樹脂、低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などエポキシ樹脂、硬化開始剤を配合することによって樹脂組成物を調製することができるものである。この樹脂組成物は、必要に応じて溶剤に溶解乃至分散して樹脂ワニスとして使用するものである。この溶剤としては、特に限定されるものではないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、2−ブタノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジアセトンアルコール、N,N’−ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。   As described above, a resin composition can be prepared by blending an epoxy resin such as a high refractive index cyanate ester resin, a low refractive index hydrogenated bisphenol type epoxy resin, and a curing initiator. This resin composition is used as a resin varnish after being dissolved or dispersed in a solvent as required. The solvent is not particularly limited, but benzene, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, 2-butanol, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monomethyl ether acetate, diacetone alcohol, N, N′-dimethylacetamide and the like can be used.

一方、ガラス繊維としては、透明積層板の耐衝撃性を高める効果の点からEガラスやNEガラスであることが好ましい。Eガラスは無アルカリガラスとも称され、樹脂強化用ガラス繊維として汎用されるガラスであり、NEガラスはNewEガラスのことである。またガラス繊維には、耐衝撃性を向上させる目的で、ガラス繊維処理剤として通常使用されているシランカップリング剤によって表面処理しておくことが好ましい。ガラス繊維の屈折率は1.55〜1.57の範囲であることが好ましく、1.555〜1.565の範囲であることがさらに好ましい。ガラス繊維の屈折率がこの範囲であれば、視認性に優れた透明積層板を得ることができるものである。ガラス繊維の基材としては、ガラス繊維の織布あるいは不織布を使用することができる。   On the other hand, the glass fiber is preferably E glass or NE glass in view of the effect of increasing the impact resistance of the transparent laminate. E glass is also called non-alkali glass and is a glass that is widely used as a glass fiber for resin reinforcement, and NE glass is NewE glass. Moreover, it is preferable to surface-treat glass fiber with the silane coupling agent normally used as a glass fiber processing agent in order to improve impact resistance. The refractive index of the glass fiber is preferably in the range of 1.55 to 1.57, and more preferably in the range of 1.555 to 1.565. If the refractive index of glass fiber is this range, the transparent laminated board excellent in visibility can be obtained. As the glass fiber base material, a glass fiber woven fabric or non-woven fabric can be used.

そしてガラス繊維の基材に樹脂組成物のワニスを含浸し、加熱して乾燥することによって、プリプレグを調製することができる。乾燥条件は特に限定されるものではないが、乾燥温度100〜160℃、乾燥時間1〜10分間の範囲が好ましい。   A prepreg can be prepared by impregnating a glass fiber base material with a varnish of a resin composition, heating and drying. The drying conditions are not particularly limited, but a drying temperature of 100 to 160 ° C. and a drying time of 1 to 10 minutes are preferable.

次にこのプリプレグを1枚、あるいは複数枚重ね、加熱加圧成形することによって、樹脂組成物を硬化させて、透明積層板を得ることができるものである。加熱加圧成形の条件は、特に限定されるものではないが、温度150〜200℃、圧力1〜4MPa、時間10〜120分間の範囲が好ましい。   Next, one or a plurality of the prepregs are stacked and heated and pressed to cure the resin composition, thereby obtaining a transparent laminate. The conditions for the heat and pressure molding are not particularly limited, but a temperature range of 150 to 200 ° C., a pressure of 1 to 4 MPa, and a time of 10 to 120 minutes are preferable.

上記のようにして得られる透明積層板にあって、高屈折率のシアネートエステル樹脂と低屈折率の水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂が重合して形成される樹脂マトリクスは、シアネートエステル樹脂を含有することによってガラス転移温度が高いものであり、耐熱性に優れた透明積層板を得ることができるものである。またシアネートエステル樹脂や水添ビスフェノール型エポキシ樹脂などのエポキシ樹脂はいずれも透明性に優れるものであり、高い透明性を確保した透明積層板を得ることができるものである。この透明積層板において、ガラス繊維の基材の含有率は25〜65質量%の範囲であることが好ましく、この範囲であれば、ガラス繊維による補強効果で高い耐衝撃性を得ることができると共に、十分な透明性を得ることができるものである。   In the transparent laminate obtained as described above, a resin matrix formed by polymerizing an epoxy resin such as a high refractive index cyanate ester resin and a low refractive index hydrogenated bisphenol type epoxy resin is a cyanate ester resin. By containing the glass, a glass transition temperature is high, and a transparent laminate having excellent heat resistance can be obtained. In addition, epoxy resins such as cyanate ester resin and hydrogenated bisphenol type epoxy resin are all excellent in transparency, and a transparent laminate having high transparency can be obtained. In this transparent laminated plate, the glass fiber base material content is preferably in the range of 25 to 65% by mass, and within this range, high impact resistance can be obtained due to the reinforcing effect of the glass fiber. Sufficient transparency can be obtained.

ここで、ガラス繊維の基材としては、透明性を高く得るために、厚みの薄いものを複数枚重ねて用いるのが好ましい。具体的には、ガラス繊維基材として厚み50μm以下のものを用い、この50μm以下の厚みのガラス繊維基材を2枚以上重ねて使用するのが好ましい。ガラス繊維基材の厚みの下限は特に限定されるものではないが、10μm程度が実用上の下限である。またガラス繊維基材の枚数も特に限定されるものではないが、20枚程度が実用上の上限である。このように複数枚のガラス繊維基材を用いて透明積層板を製造する場合、各ガラス繊維基材に樹脂組成物を含浸・乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを複数枚重ねて加熱加圧成形することによって透明積層板を得ることができるが、複数枚のガラス繊維基材を重ねた状態で樹脂組成物を含浸・乾燥してプリプレグを作製し、このプリプレグを加熱加圧成形して透明積層板を得るようにしてもよい。   Here, as a glass fiber base material, in order to obtain high transparency, it is preferable to use a plurality of thinly laminated ones. Specifically, it is preferable to use a glass fiber substrate having a thickness of 50 μm or less and to use two or more glass fiber substrates having a thickness of 50 μm or less. Although the minimum of the thickness of a glass fiber base material is not specifically limited, About 10 micrometers is a practical minimum. The number of glass fiber substrates is not particularly limited, but about 20 is the practical upper limit. When producing a transparent laminate using a plurality of glass fiber base materials in this way, each glass fiber base material is impregnated with a resin composition and dried to produce a prepreg, and a plurality of the prepregs are stacked and heated. A transparent laminate can be obtained by pressure molding, but a prepreg is produced by impregnating and drying a resin composition in a state where a plurality of glass fiber base materials are stacked, and this prepreg is heated and pressure-molded. A transparent laminate may be obtained.

そして、上記のように作製した透明積層板1の表面に透明な平滑化層2を形成することによって、図1に示すような本発明に係る透明基板Aを得ることができるものである。   And the transparent substrate A which concerns on this invention as shown in FIG. 1 can be obtained by forming the transparent smoothing layer 2 on the surface of the transparent laminated board 1 produced as mentioned above.

平滑化層2を形成する材料としては、特に限定されるものではないが、例えば、樹脂コーティング剤を透明積層板1の表面に塗布して乾燥・硬化させることによって、樹脂層として平滑化層2を形成することができる。この樹脂コーティング剤の樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリアミド、セルロースなど、任意のものを用いることができる。   Although it does not specifically limit as a material which forms the smoothing layer 2, For example, by apply | coating a resin coating agent to the surface of the transparent laminated board 1, and making it dry and harden | cure, the smoothing layer 2 is used as a resin layer. Can be formed. As the resin of this resin coating agent, for example, any resin such as acrylic resin, urethane resin, epoxy resin, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol copolymer, polyamide, and cellulose can be used.

コーティング剤の塗布は、スプレー、グラビア等の印刷、ロールコート、スピンコーティング、バーコートなど適宜の手法を用いて行なうことができる。このように樹脂コーティング剤の塗装で平滑化層2を形成する場合、平滑化層2の膜厚は特に限定されるものではないが、1〜10μmの範囲が好ましい。   The coating agent can be applied using an appropriate method such as spraying, gravure printing, roll coating, spin coating, or bar coating. Thus, when forming the smoothing layer 2 by application | coating of a resin coating agent, the film thickness of the smoothing layer 2 is although it does not specifically limit, The range of 1-10 micrometers is preferable.

また、押出成形などで作製される樹脂フィルムで平滑化層2を形成することもできる。この場合、樹脂フィルムを透明積層板1の表面にラミネートして貼り付けることによって、平滑化層2を形成することができるものである。透明積層板1への樹脂フィルムの貼り付けは、接着剤や粘着剤を用いて行なうことができる。また、上記のように樹脂組成物をガラス繊維基材に含浸・乾燥して半硬化状態のプリプレグを作製した後に、このプリプレグに樹脂フィルムを重ね、加熱加圧成形することによって、プリプレグの樹脂を硬化させて透明積層板1を作製すると同時に、透明積層板1に樹脂フィルムを積層一体化するようにしてもよい。   Moreover, the smoothing layer 2 can also be formed with the resin film produced by extrusion molding etc. In this case, the smoothing layer 2 can be formed by laminating a resin film on the surface of the transparent laminate 1 and attaching it. The resin film can be attached to the transparent laminate 1 using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive. Further, after impregnating and drying the glass fiber base material with the resin composition as described above to produce a semi-cured prepreg, a resin film is layered on the prepreg, and the resin of the prepreg is formed by heating and pressing. At the same time as making the transparent laminate 1 by curing, a resin film may be laminated and integrated on the transparent laminate 1.

この樹脂フィルムの樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、ポリエステル、フッ素系樹脂など、任意のものを用いることができる。このように樹脂フィルムで平滑化層2を形成する場合、平滑化層2の膜厚は特に限定されるものではないが、25〜200μmの範囲が好ましい。   As the resin of the resin film, for example, an arbitrary resin such as an acrylic resin, polyester, or fluorine resin can be used. Thus, when forming the smoothing layer 2 with a resin film, the film thickness of the smoothing layer 2 is not specifically limited, However, The range of 25-200 micrometers is preferable.

そして本発明は、平滑化層2に紫外光を吸収する機能を有する材料を含有させるようにしてある。樹脂コーティング剤のコーティングで平滑化層2を形成する場合には、樹脂コーティング剤に紫外光を吸収する機能を有する材料を配合しておくことによって、紫外光を吸収する機能を有する材料を含有する平滑化層2を形成することができるものであり、また樹脂フィルムの貼り付けで平滑化層2を形成する場合には、紫外光を吸収する機能を有する材料を練り込んで作製した樹脂フィルムを用いるものである。   In the present invention, the smoothing layer 2 contains a material having a function of absorbing ultraviolet light. When the smoothing layer 2 is formed by coating with a resin coating agent, a material having a function of absorbing ultraviolet light is contained by adding a material having a function of absorbing ultraviolet light to the resin coating agent. The smoothing layer 2 can be formed, and when the smoothing layer 2 is formed by attaching a resin film, a resin film prepared by kneading a material having a function of absorbing ultraviolet light is used. It is what is used.

紫外光を吸収する機能を有する材料としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムから選ばれる粒子を用いることができる。これらは1種を単独で用いる他、複数種を併用することもできる。これらの粒子は紫外光の吸収性能が高いものであり、平均粒子径が100nm以下の微粒子を用いるものである。平均粒子径が100nmを超えると、平滑化層2の透明性が低くなり、透明基板Aの光の透過率が低下するおそれがある。平均粒子径の下限は特に設定されるものではないが、実用上、5nm程度が平均粒子径の下限である。尚、本発明において平均粒子径はレーザー回折・散乱法で測定された値である。   As a material having a function of absorbing ultraviolet light, for example, particles selected from titanium oxide, zinc oxide, and cerium oxide can be used. These may be used alone or in combination of two or more. These particles have high ultraviolet light absorption performance, and fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less are used. When the average particle diameter exceeds 100 nm, the transparency of the smoothing layer 2 is lowered, and the light transmittance of the transparent substrate A may be lowered. The lower limit of the average particle diameter is not particularly set, but about 5 nm is practically the lower limit of the average particle diameter. In the present invention, the average particle diameter is a value measured by a laser diffraction / scattering method.

紫外光を吸収する機能を有する材料として、これら酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムから選ばれる微粒子を用いる場合、平滑化層2中の含有量は、特に限定されるものではないが、平滑化層2の樹脂固形分100質量部に対して5〜50質量部の範囲であることが望ましい。   When fine particles selected from these titanium oxide, zinc oxide, and cerium oxide are used as a material having a function of absorbing ultraviolet light, the content in the smoothing layer 2 is not particularly limited, but the smoothing layer It is desirable that the amount be in the range of 5 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin solid content of 2.

また紫外光を吸収する機能を有する材料としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、サリシレート系、ベンゼンチオール金属錯体から選ばれる有機化合物を用いることもできる。これらの有機化合物は、1種を単独で用いる他、複数種を併用することもできる。   As a material having a function of absorbing ultraviolet light, an organic compound selected from benzophenone-based, benzotriazole-based, triazine-based, hindered amine-based, salicylate-based, and benzenethiol metal complexes can also be used. These organic compounds can be used alone or in combination of two or more.

これらの有機化合物は、紫外線吸収剤として一般に使用されているものであり、紫外光の吸収性能が高いものである。これらの有機化合物を例示すると、ベンゾフェノン系としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、4−ドデシルオキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2´−ジヒドロキシ−4,4´−ジメトキシベンゾフェノン、2,2´,4,4´−テトラヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2´−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オキシベンジルベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−クロロベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−5−クロロベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−4´−メチルベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−ヘプトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−3,6−ジクロル−4−エトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−メチルアクリルオキシ)プロポキシベンゾフェノンなどが挙げられる。   These organic compounds are generally used as ultraviolet absorbers and have high ultraviolet light absorption performance. Examples of these organic compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone. 2,2'-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy- 2'-carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4-oxybenzylbenzophenone, 2-hydroxy-4-chlorobenzophenone, 2-hydroxy-5-chlorobenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-4'-methylbenzophenone, 2- Hydroxy 4-n-F script carboxymethyl benzophenone, 2-hydroxy-3,6-dichloro-4-ethoxy-benzophenone, 2-hydroxy-4- (2-hydroxy-3-methyl-acryloxy) propoxy benzophenone.

ベンゾトリアゾール系としては、2−(2´−ヒドロキシ−5´−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−5´−t−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジ−t−ブチル−5´−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´−t−ブチル−5´−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2´−ヒドロキシ−3´,5´−ジフェニルフェニル)ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。   Examples of the benzotriazole type include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3′-t-butyl-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- ( 2'-hydroxy-5'-t-octylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butyl-5'-amylphenyl) benzotriazole, 2- (2' -Hydroxy-3 ', 5-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-diphenylphenyl) benzotria Such Lumpur, and the like.

トリアジン系としては、2−(4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン−2−イル)−5−[(ヘキシル)オキシ]−フェノール、2−[4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン−2−イル]−5−(オクチロキシ)フェノール、例えばUV1164(サイテック製)、TINUVIN1577 FF(チバ・スペシャルティーケミカルズ製)などのトリアリールトリアジン等のトリアジン類等があげられる。   Examples of triazines include 2- (4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl) -5-[(hexyl) oxy] -phenol, 2- [4,6-bis (2,4 -Dimethylphenyl) -1,3,5-triazin-2-yl] -5- (octyloxy) phenol, for example, triazines such as triaryltriazines such as UV1164 (manufactured by Cytec), TINUVIN1577 FF (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) And the like.

サリシレート系としては、フェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレート、p−t−ブチルフェニルサリシレート、カルボキシフェニルサリシレート、メチルフェニルサリシレート、ドデシルフェニルサリシレートなどが挙げられる。   Examples of salicylates include phenyl salicylate, p-octylphenyl salicylate, pt-butylphenyl salicylate, carboxyphenyl salicylate, methylphenyl salicylate, dodecylphenyl salicylate and the like.

紫外光を吸収する機能を有する材料として、これらの有機化合物を用いる場合、平滑化層2中の含有量は、特に限定されるものではないが、平滑化層2の樹脂固形分100質量部に対して0.01〜10質量部の範囲であることが望ましく、0.1〜3質量部の範囲がより好ましい。   When these organic compounds are used as materials having a function of absorbing ultraviolet light, the content in the smoothing layer 2 is not particularly limited, but the resin solid content of the smoothing layer 2 is 100 parts by mass. The range of 0.01 to 10 parts by mass is desirable, and the range of 0.1 to 3 parts by mass is more preferable.

上記のように透明積層板1の表面に平滑化層2を積層することによって形成される透明基板Aにあって、平滑化層2は透明積層板1の凹凸を埋めて平坦にならした状態で形成されるものであり、平滑化層2によって高い平滑性を有する透明基板Aを得ることができるものである。このように透明基板Aの表面の平滑性を高めることによって、既述の図2のように一対の透明基板Aを平行に配置して駆動素子10の液晶分子14を充填するにあたって、透明基板A間の間隔を均一な寸法に設定することができ、液晶分子14に配向の乱れが生じることを防いで、光の散乱が発生することを防止することができるものであり、鮮明な画像のディスプレイを作製することができるものである。   In the transparent substrate A formed by laminating the smoothing layer 2 on the surface of the transparent laminate 1 as described above, the smoothing layer 2 is in a state where the unevenness of the transparent laminate 1 is filled and flattened. The transparent substrate A which is formed and has high smoothness can be obtained by the smoothing layer 2. In this way, by increasing the smoothness of the surface of the transparent substrate A, the transparent substrate A can be filled with the liquid crystal molecules 14 of the driving element 10 by arranging the pair of transparent substrates A in parallel as shown in FIG. The interval between the electrodes can be set to a uniform size, the liquid crystal molecules 14 can be prevented from being disturbed in alignment, and light scattering can be prevented from occurring. Can be produced.

平滑化層2によって形成される透明基板Aの表面の平滑性は、表面粗さRaが30μm以下であることが望ましい。表面粗さRaが30μm以下であることによって、透明基板A間の間隔をより均一に設定することができ、液晶分子14に配向の乱れが生じることをより確実に防いで、光の散乱が発生することを防止することができるものである。表面粗さRaは小さいほど好ましいものであり、下限は設定されない。ここで、表面粗さRaはJIS B0601(1994)で規定される算術平均粗さである。   The smoothness of the surface of the transparent substrate A formed by the smoothing layer 2 is preferably such that the surface roughness Ra is 30 μm or less. When the surface roughness Ra is 30 μm or less, the distance between the transparent substrates A can be set more uniformly, and the liquid crystal molecules 14 can be more reliably prevented from being disturbed in alignment, and light scattering occurs. It is possible to prevent this. The smaller the surface roughness Ra, the better. The lower limit is not set. Here, the surface roughness Ra is an arithmetic average roughness defined by JIS B0601 (1994).

そして平滑化層2には上記のように紫外光を吸収する機能を有する材料が含有されている。従って、平滑化層2を通して透明基板Aに入射される光のうち、紫外光は平滑化層2中で吸収されてカットされる。このため、平滑化層2を形成する樹脂や、透明積層板1を形成する樹脂が、紫外光の作用で劣化して変色することを防ぐことができるものである。このように、透明基板Aの表面の平滑性を高めるための平滑化層2を利用して、透明基板Aの耐候性を高めることができるものであり、透明基板Aに変色が発生することを防止して、透明基板Aの透明性が低下することを防ぐことができるものである。   The smoothing layer 2 contains a material having a function of absorbing ultraviolet light as described above. Therefore, of the light incident on the transparent substrate A through the smoothing layer 2, the ultraviolet light is absorbed in the smoothing layer 2 and cut. For this reason, it is possible to prevent the resin forming the smoothing layer 2 and the resin forming the transparent laminate 1 from being deteriorated and discolored by the action of ultraviolet light. Thus, the weather resistance of the transparent substrate A can be improved by using the smoothing layer 2 for increasing the smoothness of the surface of the transparent substrate A, and discoloration occurs in the transparent substrate A. It is possible to prevent the transparency of the transparent substrate A from being lowered.

このとき、平滑化層2は、405nm以下の波長の光の85%以上を吸収して、この波長の光の透過を85%以上カットする性能を有することが望ましい。紫外線領域である405nm以下の波長の光の85%以上を平滑化層2でカットすることによって、透明基板Aの変色を有効に防止して透明性を保持することができるものである。平滑化層2に含有さされる紫外光を吸収する機能を有する材料の種類と含有量、平滑化層2の膜厚などを調整することによって、405nm以下の波長の光の85%以上をカットする性能を有する平滑化層2を形成することができるものである。405nm以下の波長の光のカット率は高いほど好ましいものであり、上限は設定されない。   At this time, the smoothing layer 2 desirably has a performance of absorbing 85% or more of light having a wavelength of 405 nm or less and cutting the transmission of light having this wavelength by 85% or more. By cutting 85% or more of light having a wavelength of 405 nm or less in the ultraviolet region with the smoothing layer 2, the color change of the transparent substrate A can be effectively prevented and the transparency can be maintained. By adjusting the type and content of the material having the function of absorbing the ultraviolet light contained in the smoothing layer 2, the film thickness of the smoothing layer 2, etc., 85% or more of light having a wavelength of 405 nm or less is cut. The smoothing layer 2 having performance can be formed. The higher the cut rate of light having a wavelength of 405 nm or less, the more preferable, and no upper limit is set.

また、透明積層板1と透明な平滑化層2との屈折率の差は0.01以下であることが望ましい。透明積層板1と平滑化層2の屈折率差が0.01以下と小さいことによって、透明積層板1と平滑化層2との間で光が屈折したり全反射したりすることを抑制することができ、光の透過率が高く透明性の高い透明基板Aを得ることができるものである。この屈折率差は小さいほど好ましく、屈折率差が0であることが理想的である。   The difference in refractive index between the transparent laminate 1 and the transparent smoothing layer 2 is preferably 0.01 or less. The refractive index difference between the transparent laminated plate 1 and the smoothing layer 2 is as small as 0.01 or less, thereby suppressing the light from being refracted or totally reflected between the transparent laminated plate 1 and the smoothing layer 2. And a transparent substrate A having high light transmittance and high transparency can be obtained. This refractive index difference is preferably as small as possible, and ideally the refractive index difference is zero.

次に、本発明を実施例によって具体的に説明する。   Next, the present invention will be specifically described with reference to examples.

(実施例1)
高屈折率樹脂として、固形型のシアネートエステル樹脂(Lonza社製「BADCy」、2,2−ビス(4−シアナートフェニル)プロパン:屈折率1.59)を52質量部、低屈折率樹脂として、固形型の1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサンを含むエポキシ樹脂(ダイセル化学工業(株)製「EHPE3150」:屈折率1.51)を48質量部配合し、さらに硬化開始剤としてオクタン酸亜鉛を0.02質量部配合し、これにトルエン50質量部、メチルエチルケトン50質量部を添加して、温度70℃で攪拌溶解することによって、樹脂組成物のワニスを調製した。この樹脂組成物の硬化物の屈折率は1.56であった。
Example 1
As a high refractive index resin, solid cyanate ester resin (“BADCy” manufactured by Lonza, 2,2-bis (4-cyanatophenyl) propane: refractive index 1.59) is 52 parts by mass, as a low refractive index resin. 48 parts by mass of an epoxy resin containing solid 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane (“EHPE3150” manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd .: refractive index 1.51) was added, and further curing started 0.02 parts by mass of zinc octoate was blended as an agent, 50 parts by mass of toluene and 50 parts by mass of methyl ethyl ketone were added thereto, and the mixture was stirred and dissolved at a temperature of 70 ° C. to prepare a varnish of the resin composition. The refractive index of the cured product of this resin composition was 1.56.

次に、厚み25μmのガラス繊維クロス(旭化成エレクトロニクス(株)製品番「1037」、Eガラス、屈折率1.562)に、上記の樹脂組成物のワニスを含浸し、150℃で5分間加熱することによって、溶剤を除去すると共に樹脂を半硬化させてプリプレグを調製した。   Next, a glass fiber cloth having a thickness of 25 μm (Asahi Kasei Electronics Co., Ltd., product number “1037”, E glass, refractive index 1.562) is impregnated with the varnish of the above resin composition and heated at 150 ° C. for 5 minutes. Thus, the solvent was removed and the resin was semi-cured to prepare a prepreg.

そしてこのプリプレグを2枚重ね、離型処理をしたガラス板に挟んでプレス機にセットし、170℃、2MPa、15分の条件で加熱加圧成形することによって、樹脂の含有率が63質量%、厚みが80μmの透明積層板1を得た。   Then, two sheets of this prepreg are stacked, sandwiched between release-molded glass plates, set in a press machine, and heated and pressed under conditions of 170 ° C., 2 MPa, 15 minutes, whereby the resin content is 63% by mass. A transparent laminate 1 having a thickness of 80 μm was obtained.

一方、紫外線硬化型アクリル樹脂(アデカ(株)製「HC202」、屈折率:1.49)100質量部に、平均粒子径0.02μmの酸化亜鉛微粒子(屈折率1.95)20質量部を配合し、直径0.1mmのジルコニアビーズを使用した循環式ビーズミルにより30分間の分散処理を行なった。得られた分散液からジルコニアビーズを除去し、更に近紫外線硬化剤(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ(株)製「ダロキュアTPO」)を1質量部添加することによって、コーティング剤を得た。   Meanwhile, 20 parts by mass of zinc oxide fine particles (refractive index 1.95) having an average particle diameter of 0.02 μm are added to 100 parts by mass of an ultraviolet curable acrylic resin (“HC202” manufactured by Adeka Corporation, refractive index: 1.49). The mixture was mixed and dispersed for 30 minutes by a circulating bead mill using zirconia beads having a diameter of 0.1 mm. The coating agent was obtained by removing zirconia beads from the obtained dispersion and further adding 1 part by mass of a near ultraviolet curing agent (“Darocur TPO” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.).

そして、上記の透明積層板1をリードフィルムに貼り付けて供給し、この透明積層板1の表面に、コーティング剤をグラビアコート法により、線数60本/インチのグラビアを用いて、搬送速度5m/分の条件で塗布し、35℃で12秒、60℃で12秒、120℃で12秒、130℃で12秒乾燥した後、紫外線を照射して硬化させることによって、厚さ6μmの平滑化層2を形成した透明基板Aを得た。   Then, the transparent laminated plate 1 is attached to a lead film and supplied, and a coating agent is applied to the surface of the transparent laminated plate 1 by a gravure coating method using a gravure with a line number of 60 / inch. The film is coated under the conditions of 35 ° C for 12 seconds, 60 ° C for 12 seconds, 120 ° C for 12 seconds, 130 ° C for 12 seconds, and then cured by irradiating with ultraviolet rays to obtain a 6 μm thick smooth A transparent substrate A on which the chemical layer 2 was formed was obtained.

(実施例2)
紫外線硬化型アクリル樹脂(アデカ(株)製「HC202」、屈折率:1.49)100質量部に、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ(株)製「チヌビン900」)1質量部を配合し、さらに近紫外線硬化剤(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ(株)製「ダロキュアTPO」)を1質量部添加することによって、コーティング剤を得た。
(Example 2)
UV curable acrylic resin (“HC202” manufactured by Adeka Co., Ltd., refractive index: 1.49) and 100 parts by mass of a benzotriazole ultraviolet absorber (“Tinuvin 900” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 1 A coating agent was obtained by adding 1 part by mass of a near ultraviolet curing agent (“Darocur TPO” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.).

そして、実施例1で作製した透明積層板1をリードフィルムに貼り付けて供給し、この透明積層板1の表面に、コーティング剤をグラビアコート法により、線数60本/インチのグラビアを用いて、搬送速度5m/分の条件で塗布し、35℃で12秒、60℃で12秒、120℃で12秒、130℃で12秒乾燥した後、紫外線を照射して硬化させることによって、厚さ6μmの平滑化層2を形成した透明基板Aを得た。   And the transparent laminated board 1 produced in Example 1 is affixed on a lead film, and is supplied, A coating agent is applied to the surface of this transparent laminated board 1 by the gravure coating method using a gravure with 60 lines / inch. The film was coated at a transfer speed of 5 m / min, dried at 35 ° C. for 12 seconds, 60 ° C. for 12 seconds, 120 ° C. for 12 seconds, and 130 ° C. for 12 seconds, and then cured by irradiating with ultraviolet rays to obtain a thickness. A transparent substrate A on which a smoothing layer 2 having a thickness of 6 μm was formed was obtained.

(実施例3)
固形分が20質量%になるように溶剤希釈したアクリル系粘着剤(綜研化学社製「SKダイン 1850G」、ガラス転位温度:−40℃、粘度:4Pa・S)を、実施例1で作製した透明積層板1の表面に、乾燥膜厚25μmとなるようにバーコータを用いて塗布し、80℃のオーブン中で5分間乾燥することによって、厚さ25μmの透明粘着剤層を形成した。そして、平均粒径3μmの酸化チタン微粒子を配合した厚さ100μmの光触媒含有アクリル樹脂フィルム((株)きもと製「ラクリーンDUO」)を、透明粘着剤層の上に貼り合わせることによって、透明積層板1に平滑化層2を形成し、透明基板Aを得た。
(Example 3)
An acrylic pressure-sensitive adhesive (“SK Dyne 1850G”, glass transition temperature: −40 ° C., viscosity: 4 Pa · S, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) diluted with a solvent so that the solid content was 20% by mass was produced in Example 1. A transparent pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 25 μm was formed on the surface of the transparent laminate 1 by applying a bar coater to a dry film thickness of 25 μm and drying in an oven at 80 ° C. for 5 minutes. A transparent laminate is obtained by laminating a photocatalyst-containing acrylic resin film ("Lclean DUO" manufactured by Kimoto Co., Ltd.) having a thickness of 100 µm and containing titanium oxide fine particles having an average particle diameter of 3 µm on the transparent adhesive layer. A smoothing layer 2 was formed on 1 to obtain a transparent substrate A.

(実施例4)
実施例1で作製した透明積層板1の表面に、実施例3と同様にして厚さ25μmの透明粘着剤層を形成した。そして、厚さ100μmの紫外線吸収剤含有PETフィルム(東洋紡績(株)製「A1459」)を、透明粘着剤層の上に貼り合わせることによって、透明積層板1に平滑化層2を形成し、透明基板Aを得た。
Example 4
A transparent adhesive layer with a thickness of 25 μm was formed on the surface of the transparent laminate 1 produced in Example 1 in the same manner as in Example 3. Then, a smoothing layer 2 is formed on the transparent laminate 1 by laminating a 100 μm-thick UV absorber-containing PET film (“A1459” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) on the transparent adhesive layer, A transparent substrate A was obtained.

(実施例5)
実施例1で調製したプリプレグを2枚重ね、このプリプレグに、ポリフッ化ビニリデンをベースとする耐候性フッ素系アロイフィルム(電気化学工業(株)製「デンカDXフィルム14S0250」)を接着処理面が接するようにして重ねた。そしてこれを、離型処理を施した鏡面加工済みステンレス板に挟み、170℃、2MPa、15分の条件で加熱加圧成形することによって、樹脂含有率63質量%、厚み80μmに成形される透明積層板1の片面に平滑化層2を形成し、透明基板Aを得た。
(Example 5)
Two prepregs prepared in Example 1 are stacked, and a weather-resistant fluorine-based alloy film based on polyvinylidene fluoride (“DENKA DX film 14S0250” manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.) is brought into contact with this prepreg. I piled up like this. Then, this is sandwiched between mirror-finished stainless steel plates that have been subjected to mold release treatment, and is heated and pressed under conditions of 170 ° C., 2 MPa, 15 minutes, thereby forming a resin content of 63% by mass and a thickness of 80 μm. A smoothing layer 2 was formed on one side of the laminate 1 to obtain a transparent substrate A.

(実施例6)
実施例1で調製した樹脂組成物のワニスに、樹脂分100質量部に対してベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ(株)製「チヌビン900」)1質量部を配合することによって、コーティング剤を得た。
(Example 6)
Into the varnish of the resin composition prepared in Example 1, 1 part by mass of a benzotriazole-based ultraviolet absorber (“Tinubin 900” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) is added to 100 parts by mass of the resin content. A coating agent was obtained.

このコーティング剤を、実施例1と同様にして透明積層板1に塗装することによって、厚さ6μmの平滑化層2を形成した透明基板Aを得た。   By coating this coating agent on the transparent laminate 1 in the same manner as in Example 1, a transparent substrate A on which the smoothing layer 2 having a thickness of 6 μm was formed was obtained.

(比較例1)
実施例1において、酸化亜鉛微粒子を配合しないものをコーティング剤として用い、このコーティング剤を、実施例1と同様にして透明積層板1に塗装することによって、厚さ6μmの平滑化層2を形成した透明基板Aを得た。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a smoothing layer 2 having a thickness of 6 μm was formed by using a coating agent containing no zinc oxide fine particles as a coating agent and applying this coating agent to the transparent laminate 1 in the same manner as in Example 1. A transparent substrate A was obtained.

上記の実施例1〜6及び比較例1において、平滑化層2の紫外線透過率(405nm以下の波長の光の透過率)、平滑化層2を形成した面の表面粗さRa、透明基板Aの透明性、透明基板Aの耐候性、透明積層板1と平滑化層2の屈折率及び両者の屈折率差を求めた。結果を表1に示す。   In the above Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, the ultraviolet transmittance of the smoothing layer 2 (the transmittance of light having a wavelength of 405 nm or less), the surface roughness Ra of the surface on which the smoothing layer 2 is formed, the transparent substrate A The transparency of the transparent substrate A, the weather resistance of the transparent substrate A, the refractive index of the transparent laminate 1 and the smoothing layer 2, and the refractive index difference between the two were determined. The results are shown in Table 1.

紫外線透過率の測定は、日立分光光度計U−4100を用い、波長405nmにおける透過率を計測することによって行なった。   The measurement of the ultraviolet transmittance was performed by measuring the transmittance at a wavelength of 405 nm using a Hitachi spectrophotometer U-4100.

表面粗さRaの測定は、株式会社東京精密製の蝕針式表面粗さ計「SURFCOM 130A」を用いて、表面凹凸を縦、横、45°バイアス方向についてそれぞれ3点測定することによって行ない、合計9点の測定値の平均値をRa値とした。   The surface roughness Ra is measured by measuring three points on the surface irregularities in the vertical, horizontal and 45 ° bias directions using a stylus type surface roughness meter “SURFCOM 130A” manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd. The average value of the measured values in total of 9 points was taken as the Ra value.

透明性の評価は、JIS−K7136に準拠して、日本電色工業(株)製のヘイズメーター「NDH2000」を用いて、曇価(ヘイズ)を測定することによって行なった。   The evaluation of transparency was performed by measuring the haze value using a haze meter “NDH2000” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. in accordance with JIS-K7136.

耐候性の評価は、JIS K 5400 9−8に準拠して、カーボンアーク式サンシャインウェザーメータ(スガ試験機(株)「WEL−SUN−HCT」)を用いて1000hrの照射を行い、試験前後の色差ΔE(JIS Z 8730)を測定して行なった。   Evaluation of the weather resistance was performed in accordance with JIS K 5400 9-8 using a carbon arc sunshine weather meter (Suga Test Instruments Co., Ltd. “WEL-SUN-HCT”) for 1000 hrs. The color difference ΔE (JIS Z 8730) was measured.

Figure 2009244757
Figure 2009244757

表1にみられるように、紫外光を吸収する機能を有する材料を含有する平滑化層を設けた各実施例のものは、表面の平滑性が高く、また耐候性が良好であった。   As can be seen from Table 1, each example provided with a smoothing layer containing a material having a function of absorbing ultraviolet light had high surface smoothness and good weather resistance.

本発明の実施の形態の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of embodiment of this invention. 液晶ディスプレイの概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of a liquid crystal display.

符号の説明Explanation of symbols

1 透明積層板
2 平滑化層
1 Transparent laminate 2 Smoothing layer

Claims (8)

ガラス繊維より屈折率の大きい高屈折率樹脂と、ガラス繊維より屈折率の小さい低屈折率樹脂とを混合して、屈折率がガラス繊維の屈折率に近似するように調整された樹脂組成物を、ガラス繊維基材に含浸・硬化して作製される透明積層板を備え、表面を平滑に形成するための透明な平滑化層が透明積層板に形成されていると共に、平滑化層には紫外光を吸収する機能を有する材料が含有されていることを特徴とする透明基板。   A resin composition prepared by mixing a high refractive index resin having a refractive index higher than that of glass fiber and a low refractive index resin having a refractive index lower than that of glass fiber so that the refractive index approximates the refractive index of glass fiber. A transparent laminated plate produced by impregnating and curing a glass fiber substrate is formed, and a transparent smoothing layer for forming a smooth surface is formed on the transparent laminated plate. A transparent substrate containing a material having a function of absorbing light. 紫外光を吸収する機能を有する材料が、平均粒子径100nm以下の酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウムから選ばれる少なくとも1種の微粒子であることを特徴とする請求項1に記載の透明基板。   2. The transparent substrate according to claim 1, wherein the material having a function of absorbing ultraviolet light is at least one kind of fine particles selected from titanium oxide, zinc oxide and cerium oxide having an average particle diameter of 100 nm or less. 紫外光を吸収する機能を有する材料が、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、ヒンダードアミン系、サリシレート系、ベンゼンチオール金属錯体から選ばれる少なくとも1種の有機化合物であることを特徴とする請求項1に記載の透明基板。   2. The material having a function of absorbing ultraviolet light is at least one organic compound selected from benzophenone, benzotriazole, triazine, hindered amine, salicylate, and benzenethiol metal complexes. The transparent substrate as described in 1. 平滑化層は、405nm以下の波長の光の透過を85%以上カットするものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の透明基板。   The transparent substrate according to any one of claims 1 to 3, wherein the smoothing layer cuts the transmission of light having a wavelength of 405 nm or less by 85% or more. 平滑化層は、透明積層板に樹脂コーティング剤をコーティングすることによって形成されている樹脂層であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の透明基板。   The transparent substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein the smoothing layer is a resin layer formed by coating a transparent laminate with a resin coating agent. 平滑化層は、透明積層板にフィルムを貼り付けることによって形成されていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の透明基板。   6. The transparent substrate according to claim 1, wherein the smoothing layer is formed by attaching a film to the transparent laminate. 透明積層板と平滑化層との屈折率の差が0.01以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の透明基板。   The transparent substrate according to any one of claims 1 to 6, wherein a difference in refractive index between the transparent laminate and the smoothing layer is 0.01 or less. 透明積層板を作製する樹脂組成物の高屈折率樹脂として、シアネートエステル樹脂が用いられることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の透明基板。   The transparent substrate according to any one of claims 1 to 7, wherein a cyanate ester resin is used as a high refractive index resin of a resin composition for producing a transparent laminate.
JP2008093593A 2008-03-31 2008-03-31 Transparent substrate Pending JP2009244757A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008093593A JP2009244757A (en) 2008-03-31 2008-03-31 Transparent substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008093593A JP2009244757A (en) 2008-03-31 2008-03-31 Transparent substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009244757A true JP2009244757A (en) 2009-10-22

Family

ID=41306681

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008093593A Pending JP2009244757A (en) 2008-03-31 2008-03-31 Transparent substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009244757A (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015072244A1 (en) * 2013-11-18 2015-05-21 リケンテクノス株式会社 Blue light-blocking resin composition
WO2015122485A1 (en) * 2014-02-17 2015-08-20 三菱瓦斯化学株式会社 Transparent resin laminate and front surface plate
US10112369B2 (en) 2013-09-20 2018-10-30 Riken Technos Corporation Transparent multilayer film containing poly(meth)acrylimide-based resin layer, and method for producing said transparent multilayer film
JP2019008292A (en) * 2017-06-27 2019-01-17 住友化学株式会社 Optical film
US10450431B2 (en) 2013-07-10 2019-10-22 Riken Technos Corporation Poly(meth)acrylimide film, easy-adhesion film using same, and method for manufacturing such films
CN114899539A (en) * 2022-04-29 2022-08-12 华为技术有限公司 Shell assembly, preparation method of shell assembly and electronic equipment

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10206905A (en) * 1997-01-23 1998-08-07 Nippon Oil Co Ltd UV absorbing transparent conductive substrate
JP2001166307A (en) * 1999-12-08 2001-06-22 Sharp Corp Material for liquid crystal alignment layer and liquid crystal display device using the same and method of producing the same
JP2001353833A (en) * 2000-06-16 2001-12-25 Teijin Chem Ltd Polycarbonate resin laminate
WO2003064530A1 (en) * 2002-01-25 2003-08-07 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Transparent composite composition
JP2004306586A (en) * 2003-03-11 2004-11-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd Manufacturing process of plastic sheet for display panel
JP2005153273A (en) * 2003-11-25 2005-06-16 Nitto Denko Corp Resin sheet, liquid crystal cell substrate, liquid crystal display device, substrate for electroluminescence display device, electroluminnescence display device and substrate for solar cell
JP2007119630A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Sumitomo Bakelite Co Ltd Composite sheet, substrate, and electronic device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10206905A (en) * 1997-01-23 1998-08-07 Nippon Oil Co Ltd UV absorbing transparent conductive substrate
JP2001166307A (en) * 1999-12-08 2001-06-22 Sharp Corp Material for liquid crystal alignment layer and liquid crystal display device using the same and method of producing the same
JP2001353833A (en) * 2000-06-16 2001-12-25 Teijin Chem Ltd Polycarbonate resin laminate
WO2003064530A1 (en) * 2002-01-25 2003-08-07 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. Transparent composite composition
JP2004306586A (en) * 2003-03-11 2004-11-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd Manufacturing process of plastic sheet for display panel
JP2005153273A (en) * 2003-11-25 2005-06-16 Nitto Denko Corp Resin sheet, liquid crystal cell substrate, liquid crystal display device, substrate for electroluminescence display device, electroluminnescence display device and substrate for solar cell
JP2007119630A (en) * 2005-10-28 2007-05-17 Sumitomo Bakelite Co Ltd Composite sheet, substrate, and electronic device

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10450431B2 (en) 2013-07-10 2019-10-22 Riken Technos Corporation Poly(meth)acrylimide film, easy-adhesion film using same, and method for manufacturing such films
US10112369B2 (en) 2013-09-20 2018-10-30 Riken Technos Corporation Transparent multilayer film containing poly(meth)acrylimide-based resin layer, and method for producing said transparent multilayer film
KR102216490B1 (en) * 2013-11-18 2021-02-16 리껭테크노스 가부시키가이샤 Blue light-blocking resin composition
JPWO2015072244A1 (en) * 2013-11-18 2017-03-16 リケンテクノス株式会社 Blue light shielding resin composition
KR20160088302A (en) * 2013-11-18 2016-07-25 리껭테크노스 가부시키가이샤 Blue light-blocking resin composition
TWI682850B (en) * 2013-11-18 2020-01-21 日商理研科技股份有限公司 Blue-light shielding resin composition
WO2015072244A1 (en) * 2013-11-18 2015-05-21 リケンテクノス株式会社 Blue light-blocking resin composition
JPWO2015122485A1 (en) * 2014-02-17 2017-03-30 三菱瓦斯化学株式会社 Transparent resin laminate and front plate
WO2015122485A1 (en) * 2014-02-17 2015-08-20 三菱瓦斯化学株式会社 Transparent resin laminate and front surface plate
JP2019008292A (en) * 2017-06-27 2019-01-17 住友化学株式会社 Optical film
JP7320926B2 (en) 2017-06-27 2023-08-04 住友化学株式会社 optical film
TWI844515B (en) * 2017-06-27 2024-06-11 日商住友化學股份有限公司 Optical film
CN114899539A (en) * 2022-04-29 2022-08-12 华为技术有限公司 Shell assembly, preparation method of shell assembly and electronic equipment
CN114899539B (en) * 2022-04-29 2024-03-01 华为技术有限公司 Shell assembly, preparation method of shell assembly and electronic equipment
EP4491390A4 (en) * 2022-04-29 2025-06-25 Huawei Technologies Co., Ltd. HOUSING ASSEMBLY, METHOD FOR MANUFACTURING HOUSING ASSEMBLY, AND ELECTRONIC DEVICE

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI550001B (en) Optical continuum
JP4661946B2 (en) Optically easy-adhesive polyester film and optical laminated polyester film
KR100715602B1 (en) Readily bondable polyester film for optical use and laminated polyester film for optical use
JP3632044B1 (en) Optically easy-adhesive polyester film and optical laminated polyester film
JP6146008B2 (en) Liquid crystal display device, polarizing plate and polarizer protective film
KR102248947B1 (en) Optical laminate
JP2008214596A (en) Polycarbonate resin composition and heat ray shielding molded article using the same
JP2009244757A (en) Transparent substrate
JP4957002B2 (en) Transparent resin laminated sheet
TWI650365B (en) Thermoplastic resin film, stretch film, polarizer protective film and polarizing plate
JP6054019B2 (en) Optical laminate
WO2015198762A1 (en) Optical reflective film, method for producing optical reflective film, and optical reflector using same
JP6232702B2 (en) Liquid crystal display device, polarizing plate and polarizer protective film
TWI394977B (en) Antireflection film, polarizing plate and image display utilizing the same
TWI769147B (en) Polyester film and method of producing the same, hard coat film and method of producing the same, image display device and touch panel
JP2011105888A (en) Transparent film
JP2009244756A (en) Transparent substrate
JP2009241521A (en) Transparent substrate
JP6142481B2 (en) Polyester film for polarizer protection
JP2011001457A (en) Easily adhesive polyester film for optical use and laminated polyester film for optical use
JP2010012754A (en) Transparent substrate
JP4957003B2 (en) Transparent resin laminated sheet
JP2009244758A (en) Transparent substrate
KR20100081568A (en) Biaxially-oriented polyester adhesive film for improvingsurface hardness
KR102429401B1 (en) Resin composition dispersed in water, highly adhesive film and manufacturing method of resin composition

Legal Events

Date Code Title Description
RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100811

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101222

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20120112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120529

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120531

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20121002