[go: up one dir, main page]

JP2009215619A - ケトンとの親和性に優れた銀微粉および銀インク - Google Patents

ケトンとの親和性に優れた銀微粉および銀インク Download PDF

Info

Publication number
JP2009215619A
JP2009215619A JP2008061429A JP2008061429A JP2009215619A JP 2009215619 A JP2009215619 A JP 2009215619A JP 2008061429 A JP2008061429 A JP 2008061429A JP 2008061429 A JP2008061429 A JP 2008061429A JP 2009215619 A JP2009215619 A JP 2009215619A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silver
ink
particle diameter
adsorbing
gallic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008061429A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5139846B2 (ja
Inventor
Kimitaka Sato
王高 佐藤
Shinya Sasaki
信也 佐々木
Taro Nakanoya
太郎 中野谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dowa Electronics Materials Co Ltd
Original Assignee
Dowa Electronics Materials Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dowa Electronics Materials Co Ltd filed Critical Dowa Electronics Materials Co Ltd
Priority to JP2008061429A priority Critical patent/JP5139846B2/ja
Publication of JP2009215619A publication Critical patent/JP2009215619A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5139846B2 publication Critical patent/JP5139846B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)

Abstract

【課題】銀ナノ粒子が、イソホロン、アセトフェノン、2−メチルシクロヘキサノンといったケトンの液状媒体中に比較的高濃度で分散している新規な銀インクを提供する。
【解決手段】1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸(C1184)、あるいは没食子酸(C765)を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nm好ましくは1〜15nmの銀粒子が、20〜60質量%の銀濃度でケトンの液状媒体中に分散しており、液を撹拌後に静置したとき分散状態が少なくとも168時間維持される銀インク。特に、1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸/アセトフェノン、没食子酸/ソホロン、没食子酸/アセトフェノン、没食子酸/2−メチルシクロヘキサノンの組み合わせが好適である。
【選択図】図3

Description

本発明は、有機物質に被覆された銀ナノ粒子からなる銀微粉であって、特にケトンのうち沸点が比較的高い物質との親和性に優れた銀微粉に関する。また、その銀微粉が沸点が比較的高いケトン溶媒に分散した銀インクに関する。なお、本明細書においては、粒子径が40nm以下の粒子を「ナノ粒子」と呼び、ナノ粒子で構成される粉体を「微粉」と呼んでいる。
銀ナノ粒子は活性が高く、低温でも焼結が進むため、耐熱性の低い素材に対するパターニング材料として着目されて久しい。特に昨今ではナノテクノロジーの進歩により、シングルナノクラスの粒子の製造も比較的簡便に実施できるようになってきた。
特許文献1には酸化銀を出発材料として、アミン化合物を用いて銀ナノ粒子を大量に合成する方法が開示されている。また、特許文献2にはアミンと銀化合物原料を混合し、溶融させることにより銀ナノ粒子を合成する方法が開示されている。非特許文献1には銀ナノ粒子を用いたペーストを作成することが記載されている。特許文献4には液中での分散性が極めて良好な銀ナノ粒子を製造する技術が開示されている。一方、特許文献3には有機保護材Aで保護した金属ナノ粒子が存在する非極性溶媒に、金属粒子との親和性の良いメルカプト基等の官能基を持つ有機保護材Bが溶解した極性溶媒を加えて、撹拌混合することにより、金属ナノ粒子の保護材をAからBに交換する手法が開示されている。
特開2006−219693号公報 国際公開第04/012884号パンフレット 特開2006−89786号公報 特開2007−39718号公報 中許昌美ほか、「銀ナノ粒子の導電ペーストへの応用」、化学工業、化学工業社、2005年10月号、p.749−754
銀ナノ粒子の表面は有機保護材により被覆されているのが通常である。この保護材は銀粒子合成反応時に粒子同士を隔離する役割を有する。したがって、ある程度分子量の大きいものを選択することが有利である。分子量が小さいと粒子間距離が狭くなり、湿式の合成反応では反応中に焼結が進んでしまう場合がある。そうなると粒子が粗大化し銀微粉の製造が困難になる。
一方、銀粒子をインクとして利用する場合には、用途に応じて適切な有機媒体を選択することが望ましい。例えばケトン系の有機物質は銀ペーストの溶剤として使用されており、銀の導電塗膜に用いる溶剤として既に実績がある。このため、導電ペースト用の添加剤として、ケトン溶剤に溶解や分散がしやすいなど、適合性の高い多くのペースト粘度調整材やチキソ性調整用添加剤やそれらを利用した粘度やチキソ性の調整手法がすでに開発されて、知見が蓄積されている。ペーストを望みの特性に調整しようとする場合、これらの添加剤や調整手法が利用できるという、利点がある。
しかしながら、ケトン系の有機物質と親和性が良好な銀微粉はこれまでに知られていない。銀微粉は、粒子表面を覆う保護材(界面活性剤)の種類によって適用可能な分散媒体の種類が大きく制限される。従来、製造上の制約などから、保護材の種類に対する選択の自由度は非常に小さく、用途に応じて適切な保護材を選択することは極めて困難な状況にある。
本発明はこのような現状に鑑み、特に、ケトン系の有機化合物のなかでも、比較的沸点が高く、銀ナノ粒子を用いた導電膜形成のために有利であると考えられる、イソホロン(C914O)、アセトフェノン(C88O)、2−メチルシクロヘキサノン(C712O)などに対して親和性(すなわち分散性)が良好な銀ナノ粒子を提供しようというものである。
上記目的を達成するために、本発明では、1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸(C1184)を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子で構成される、少なくともアセトフェノンとの親和性に優れた銀微粉が提供される。
また、没食子酸(C765)を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子で構成される、少なくともイソホロン、アセトフェノンおよび2−メチルシクロヘキサノンとの親和性に優れた銀微粉が提供される。
1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸、没食子酸はいずれもカルボキシル基(親水性)を有しており、カルボキシル基の部分でAg粒子表面に吸着すると考えられる。
また本発明では、下記(1)〜(3)の銀インクが提供される。
(1)1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nm好ましくは1〜15nm(TEM観察により測定される平均粒子径DTEMで見ると、DTEM:3〜40nm好ましくは4〜15nm)の銀粒子、および没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nm好ましくは1〜15nm(平均粒子径DTEMで見ると、DTEM:3〜40nm好ましくは4〜15nm)の銀粒子の1種または2種が、アセトフェノン中に分散している銀インク。
(2)没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nm好ましくは1〜15nm(平均粒子径DTEMで見ると、DTEM:3〜40nm好ましくは4〜15nm)の銀粒子が、イソホロン中に分散している銀インク。
(3)没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nm好ましくは1〜15nm(平均粒子径DTEMで見ると、DTEM:3〜40nm好ましくは4〜15nm)の銀粒子が、2−メチルシクロヘキサノン中に分散している銀インク。
本明細書においてインクとは、液状インクの他、ペースト状のものも含む。これら(1)〜(3)の銀インクにおいて、銀濃度は例えば10〜90質量%に調整されていることが好ましい。特に本発明では、極めて分散性の良好な液状の銀インクとして、銀濃度が20〜60質量%の範囲にあり、液を撹拌後に静置したとき分散状態が少なくとも168時間維持される銀インクが提供される。「分散状態」とは、液面近くに透明な上澄み部分が形成されず、液全体が銀粒子の存在により濁っている状態をいう。
本発明によれば、銀ペースト等の溶剤として実績のあるケトンのなかでも比較的沸点が高い有機化合物に対して非常に親和性の高い銀微粉が具体的に明らかにされた。また、そのようなケトン溶媒に高濃度で銀ナノ粒子が分散しており、その分散性も非常に良好である銀インクが提供された。このような銀インクはこれまで存在しなかったことから研究対象になっていなかったが、今後、その有用性が明らかにされていくものと考えられ、種々の用途への適用が期待される。
従来、銀ナノ粒子の製造においては、製造上の制約から、保護材(界面活性剤)の種類を自由に選択することはできなかった。ところが、後述する方法に従えば、保護材の種類に対する選択の自由度をかなり拡大させることが可能になり、これまで存在しなかった種々の銀ナノ粒子を得ることができた。そして、カルボキシル基を有する有機化合物を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nm好ましくは1〜15nm(TEM観察により測定される平均粒子径DTEMで見ると、DTEM:3〜40nm好ましくは4〜15nm)の銀粒子が、イソホロン、アセトフェノン、2−メチルシクロヘキサノンといったケトンの液状媒体中に分散している新規な銀インクが実現された。
アセトフェノンに対する銀ナノ粒子の分散性を顕著に向上させる保護材物質(界面活性剤)として、1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸や没食子酸が適しており、また、イソホロン、2−メチルシクロヘキサノンに対しては没食子酸が適していることが明らかになった。これらの有機化合物はカルボキシル基を有しており、銀粒子の表面に吸着されやすい性質を持っている。
このような銀ナノ粒子は、例えば「銀粒子合成工程」および「保護材置換工程」を経て得ることができる。以下、その代表的な方法を例示する。
《銀粒子合成工程》
特許文献4に開示されるような湿式工程により、粒径の揃った銀ナノ粒子を合成することができる。この合成法は、アルコール中またはポリオール中で、アルコールまたはポリオールを還元剤として、銀化合物を還元処理することにより銀粒子を析出させるものである。ところが、発明者らのその後の研究によれば、より大量生産に適した合成法が見出され、本出願人は特願2007−264598に開示した。これは、銀化合物を1級アミンと2−オクタノールの混合液中に溶解させ、これを120〜180℃に保持することにより2−オクタノールの還元力を利用して銀粒子を析出させるものである。ここでは、この新たな合成法を簡単に例示する。
銀イオン供給源として銀化合物(例えば硝酸銀)、析出した銀粒子の保護材として1級アミンA(不飽和結合を持つ分子量200〜400のもの、例えばオレイルアミン)、および溶媒成分であるともに還元剤でもある2−オクタノールを用意する。
所定量の1級アミンA、2−オクタノールおよび銀化合物を混合して、アミンAと2−オクタノールとの混合溶媒中に銀化合物が溶解している溶液を作成する。還元反応開始時の液組成は、通常、下記(i)〜(iii)を満たす範囲で好適な条件を見出すことができる。
(i)アミンA/銀のモル比:1〜10、
(ii)2−オクタノール/銀のモル比:0.5〜15、
(iii)2−オクタノール/アミンAのモル比:0.3〜2
液の昇温を開始して120〜180℃の温度範囲で保持する。120℃を下回る温度では還元反応の進行が進みにくいので高い還元率を安定して得ることが難しくなる。ただし、沸点を大きく超えないようにすることが肝要である。2−オクタノールの沸点は約178℃であり、180℃程度までは許容できる。125〜178℃の範囲とすることがより好ましい。大気圧下で実施することができ、反応容器の気相部を窒素ガス等の不活性ガスでパージしながら還流状態とすることが好ましい。撹拌は、あまり強く行わなくても銀ナノ粒子を析出させることができるが、反応容器のサイズが大きくなると、ある程度の撹拌は必要となる。2−オクタノールの場合、他のアルコール(例えばイソブタノール)を使用する場合に比べ、粒径の揃った銀粒子を合成する上で、撹拌強度の自由度が拡がる。なお、2−オクタノールは初めから必要な全量を混合しておいてもよいし、昇温途中または昇温後に混合してもよい。還元反応開始後に2−オクタノールを適宜添加(追加投入)しても構わない。上記温度範囲での保持時間を0.5時間以上確保することが望ましいが、上記(i)〜(iii)を満たす液組成の場合だと1時間程度で反応はほとんど終了に近づくものと考えられ、それ以上保持時間を長くしても還元率に大きな変化は見られない。通常、3時間以下の保持時間を設定すれば十分である。還元反応が進行して銀粒子が析出すると、アミンAで被覆された銀ナノ粒子が存在するスラリーが得られる。
次いで、上記のスラリーから、デカンテーションや遠心分離によって固形分を回収する。回収された固形分は、1級アミンAを成分とする保護材に被覆された銀ナノ粒子を主体とするものである。
上記の固形分には不純物が付着しているので、メタノールやイソプロパノールを用いた洗浄に供することが好ましい。
以上のようにして、1級アミンAに被覆されたX線結晶粒子径Dx:1〜40nm好ましくは1〜15nmの銀粒子を構成することができる。透過型電子顕微鏡(TEM)を用いた粒子の観察により求まる平均粒子径DTEMは3〜40nm好ましくは4〜15nm程度の範囲である。
《保護材置換工程》
次に銀粒子に付着している保護材をアミンAから目的物質である有機化合物B(ここでは、1,4−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸、没食子酸の1種以上)に付け替える操作を行う。本発明の銀粒子の製造方法はこの工程を採用するところに特徴がある。
有機化合物Bとしてカルボキシル基を有するものを適用する。カルボキシル基は銀に吸着しやすい性質を有する。上記のアミンAは不飽和結合を有する分子量200〜400のアミンであり、銀に対する吸着力はカルボキシル基を持つ物質に比べ弱いと考えられる。したがって、アミンAに被覆された銀粒子の表面近傍に十分な量の有機化合物Bの分子が存在していると、銀表面からアミンAが脱着するとともに有機化合物Bが吸着しやすい状況となり、比較的容易に置換が進行する。
ただし、この置換は溶媒中で進行する。この置換工程で使用する溶媒を、ここでは溶媒Cと呼ぶ。溶媒Cとしては有機化合物Bが完全に溶解するものを採用する必要がある。具体的にはイソプロパノール、メタノール、エタノール、デカリン等の溶媒のうち、溶解性のよいものを選択すればよい。イソプロパノールに良く溶解する有機化合物Bの場合は、安全性やコスト面でイソプロパノールを選択することが有利となる場合が多い。有機化合物Bが溶解している上記のような溶媒Cの中に、アミンAに被覆された銀ナノ粒子を存在させ、30℃以上かつ溶媒Cの沸点以下の温度域で撹拌する。30℃より低温では置換が進行しにくい。溶媒Cにイソプロパノールを使用する場合だと、35〜80℃の範囲で行うことが好ましい。アミンAに被覆された粒子は一般に溶媒Cに対する分散性が悪く、液中で沈降しやすいので撹拌しなければならないが、あまり強く撹拌する必要はなく、粒子が液中に浮遊した状態を維持できる程度でよい。
アミンAとカルボキシル基をもつ有機化合物Bの置き換え反応は、数分程度の比較的短時間で起きていると考えられるが、工業的に安定した品質のものを供給するという観点から、1時間以上の置き換え反応時間を確保することが望ましい。ただし、24時間を超えても更なる置き換え反応はあまり進行しないので、24時間以内で置き換え反応を終了させるのが実用的である。置換に要する反応時間は1〜7時間の範囲で設定することが好ましい。
具体的には、予め有機化合物Bを溶媒Cに完全に溶解させた液を作成し、この液と、固形分として回収されたアミンAが付着している銀ナノ粒子とを1つの容器に収容し、撹拌混合すればよい。有機化合物Bが常温で液体である場合、本明細書でいう「有機化合物Bが溶解している溶媒C」とは、有機化合物Bが溶媒Cの中で分離することなく両者が均一に混ざり合っている状態を意味する。粒子中の金属Agに対する有機化合物Bの当量B/Agは、0.1〜10当量とすることが好ましい。ここで、銀1モルに対して、有機化合物B1モルが1当量に相当する。溶媒Cの液量は銀ナノ粒子が液中を浮遊するに足る量が確保される範囲で設定すればよい。
このようにして有機化合物Bを表面に吸着させてなる銀粒子を形成させたのち、固液分離を行い、例えば「分離回収された固形分に洗浄液(例えばメタノールやイソプロパノール)を添加して超音波分散を加えた後、液を遠心分離して固形分を回収する」という操作を数回繰り返すことにより、付着している不純物を洗浄除去することが好ましい。洗浄後の粒子は、X線結晶粒子径Dxが1〜40nm好ましくは1〜15nm、TEM観察により測定される平均粒子径DTEMは3〜40nm好ましくは4〜15nmといった銀ナノ粒子であり、表面には有機化合物Bを吸着させてなる界面活性剤を有している。洗浄後の固形分を、イソホロン、アセトフェノン、2−メチルシクロヘキサノンといった目的とする溶媒中に分散させることにより銀インクを得ることができる。
有機化合物B(保護材)が異なる2種以上の銀粒子を、それらがともに親和性に優れる溶媒中に混合して銀インクを作成することもできる。インク中の銀濃度は10質量%以上であることが望ましく、20質量%以上であることがより好ましく、30質量%以上が一層好ましい。銀濃度の上限については、良好な分散性が維持できる限り特に制限する必要はないが、概ね70質量%以下の範囲とすればよい。特に、分散性が極めて良好な銀インクとしては、例えば50質量%以下の範囲にて高歩留りの生産が可能であることがわかった。
《実施例1》
界面活性剤(金属Ag粒子表面の保護材)として、置換前の1級アミンAにはオレイルアミン、置換後の有機化合物Bには1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を使用し、下記工程により1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を吸着させてなる銀粒子を作成した。そして、この銀粒子をアセトフェノンに分散させた極めて分散性の良い銀インクの作成を試みた。
〔銀粒子合成工程〕
オレイルアミン(和光純薬株式会社製試薬)6009.2g、2−オクタノール(東京化成工業株式会社製試薬)2270.3g、硝酸銀結晶(関東化学株式会社製特級試薬)1495.6gを用意した。
2−オクタノールと、オレイルアミンと、硝酸銀結晶を混合して、硝酸銀が完全に溶解した液を作成した。配合は以下のとおりである。
・オレイルアミン/銀のモル比=2.5
・アルコール/銀のモル比=2.0
・アルコール/オレイルアミンのモル比=2.0/2.5=0.8
上記配合の液10Lを準備し、還流器の付いた容器に移してオイルバスに載せ、プロペラにより100rpmで撹拌しながら120℃まで昇温速度1.0℃/min、次いで140℃まで昇温速度0.5℃/minで昇温した。その後、上記撹拌状態を維持しながら、140℃に1時間保持した。その際、容器の気相部に窒素ガスを500mL/minの流量で供給してパージしている。その後、加熱を止め、冷却した。
反応後のスラリーを3日間静置した後、上澄みを除去した。その際、還元された銀が全スラリーに対して20質量%となるように上澄みの除去量を調整した。上澄み除去後のスラリー500gにイソプロパノール1700gを混合しプロペラにより400rpmで1時間撹拌し、その後、遠心分離により銀粒子を含む固形分を回収した。このようにして洗浄された固形分中にはアミンA(オレイルアミン)に被覆された銀粒子が存在している。
なお、洗浄前の上記スラリー500g中には金属Ag:約1モルが存在することが別途測定により判っている。
別途、これと同一の条件で作成した洗浄後の固形分について、少量の固形分サンプルを採取して、下記の要領でX線結晶粒子径Dxを求めた。その結果、置換前の銀微粉のDxは約7nmであることが確認された。また、下記の要領で平均粒子径DTEMを求めた。その結果、置換前の銀微粉のDTEMは約8nmであることが確認された。
また、上記と同一の条件で作成した洗浄後の固形分から、オレイルアミンに被覆された置換前の銀微粉を回収し、昇温速度は10℃/minでTG−DTA測定を行った。そのDTA曲線の測定例を図1に示す。図1において、200〜300℃の間にある大きな山および300〜330℃の間にあるピークはアミンAであるオレイルアミンに起因するものであると考えられる。
<X線結晶粒子径Dxの測定>
銀粒子の固形分サンプルをガラス製セルに塗り、X線回折装置にセットし、Ag(111)面の回折ピークを用いて、下記(1)式に示すScherrerの式によりX線結晶粒径DXを求めた。X線にはCu−Kαを用いた。
Dx=K・λ/(β・cosθ) ……(1)
ただし、KはScherrer定数で、0.94を採用した。λはCu−Kα線のX線波長、βは上記回折ピークの半価幅、θは回折線のブラッグ角である。
<平均粒子径DTEMの測定>
銀粒子分散液を透過型電子顕微鏡(TEM)により観察し、重なっていない独立した300個の銀粒子の粒子径を計測して、平均粒子径を算出した。
〔保護材置換工程〕
有機化合物Bとして1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸(東京化成工業株式会社製試薬、分子量204.18)、極性溶媒Cとしてイソプロパノール(和光純薬株式会社製特級試薬、分子量60.1)を用意した。
1,4−ヒドロキシ−2−ナフトエ酸56.8gと、イソプロパノール400gを混合して、液温を40℃に保ち、イソプロパノール中に1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を完全に溶解させた。この液456.8g中へ、アミンA(オレイルアミン)に被覆された銀粒子が存在している前記洗浄後の固形分(Agを約1モル(約100g)含有)を添加し、プロペラにて400rpmで撹拌した。この撹拌状態を維持しながら40℃で5時間保持した。この場合、Agに対する有機化合物Bの量は0.3当量となるように有機化合物Bの仕込量を調整してある。
得られたスラリーを3000rpm×5minの遠心分離により固液分離した。その後、「固形分にメタノールを889.7g(銀に対して約30当量)添加して400rpmにて30分間洗浄し、遠心分離にて固形分を回収する」という操作を2回行い、保護材を1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸に置換した銀微粉サンプルを得た。
このサンプルについて、前記の方法にてTG−DTA測定を行った。そのDTA曲線の測定例を図2に示す。図1(置換前)と図2(置換後)の対比から、保護材は、アミンA(オレイルアミン)のほぼ全量が脱着し、有機化合物B(1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸)に置き換わったものと考えられる。図4に1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を吸着させてなる銀粒子のTEM写真の一例を示す。
このサンプルについて上記の方法でX線結晶粒子径Dxおよび平均粒子径DTEMを測定したところ、Dxは7.56nm、DTEMは8.43nmであった。
TEMの算出に使用した個々の粒子の粒子径は、最小値Dminが6.59nm、最大値Dmaxが13.41nmであった。粒子径の標準偏差をσDとするとき、「σD/DTEM×100」の値をCV値と呼ぶ。この銀微粉のCV値は14.1%であった。CV値が小さいほど銀粒子の粒径は均一化されていると言える。銀インクの用途ではCV値が40%以下であることが望ましく、15%以下のものは非常に粒子径が揃っており、種々の微細配線用途に極めて好適である。
〔銀インク作成工程〕
上記のようにして得られた銀微粉サンプル(メタノール洗浄後、未乾燥のもの)には、金属銀、保護材、および洗浄に使用したメタノールが含まれている。この銀微粉中の正味の銀含有量を以下の方法で求めた。
<銀微粉中の銀含有量>
[1]銀微粉サンプルから分取した試料の質量W0(g)を測定する。
[2]メタノールを除去するために、試料を真空乾燥機を用いて室温で30分処理する。
[3]その後、試料をマッフル炉(ヤマト科学株式会社製;FO100型)により10℃/分の昇温速度で700℃まで加熱することにより保護材を揮発させ、揮発後の試料の質量W1(g)を測定する。
[4]銀微粉サンプル中の銀含有量(質量%)=W1/W0×100により算出される。
上記の銀微粉サンプル中の金属銀含有量(質量%)に基づいて、金属銀の質量が10.0gとなる量の銀微粉サンプルを秤量し、これをアセトフェノン(和光純薬工業製特級試薬)と混合して、金属銀+保護材+アセトフェノンの合計量に占める金属銀の含有量が50質量%となる銀粒子+アセトフェノン混合物を作成した。この混合物を超音波洗浄機(シャープ株式会社製;UT606)を用いて40℃以下で60分間処理し、銀粒子をアセトフェノン中に分散させた。次いで真空混練脱泡機(EME製;Vmini300型)により、真空引き1分、混練2分の工程を重量減少が認められなくなるまで繰り返し、液中の残存メタノールを除去した。これにより銀濃度50質量%の銀分散液(銀インク元液)が得られた。
銀インク元液中には沈降しやすい銀粒子も存在しているので、優れた分散性を呈する銀インクを得るためには、そのような粒子を除去する必要がある。そこで、銀インク元液を遠心分離機(日立工機株式会社製;himacCF7D2型)により25℃の条件下で3000rpmにて30分間の遠心分離に供した。その後、上澄みを回収することにより、分散性に優れた粒子のみが分散した銀インクを得た。この銀インク中の銀濃度およびインク化効率を以下のようにして求めた。
<銀インク中の銀濃度>
[1]銀インクから分取した分散液試料の質量W2(g)を測定する。
[2]その分散液試料をマッフル炉(ヤマト科学株式会社製;FO100型)により10℃/分の昇温速度で700℃まで加熱することにより保護材を揮発させ、揮発後の試料の質量W3(g)を測定する。
[3]銀インク中の銀濃度(質量%)=W3/W2×100により算出される。
本例では、銀インク中の銀濃度は36.62質量%であった。これは銀ナノ粒子を用いた導電塗膜の形成に十分適用可能な高濃度の銀インクである。
<インク化効率>
以下の式により求める。
インク化効率(%)=[銀インク中の銀濃度(質量%)]/[銀インク元液中の銀濃度(質量%)]×100=[銀インク中の銀濃度(質量%)]/50(質量%)×100
インク化効率は、極めて分散性に優れた銀粒子のみを回収する際の銀の歩留りに相当するものであり、高いほど望ましい。
本例では、インク化効率は73.2%と高く、これは工業化が十分可能な水準である。
〔静置試験〕
次に、得られた銀インクの分散維持性を確認するため、上記銀インクを入れたガラス容器を軽く撹拌した後、前記の超音波洗浄機にて10分間の超音波分散処理を施して均一に分散させた状態とし、常温で168時間静置させた後に、液の濁りや沈降凝集の発生の有無を目視確認した。その結果、液面近くに透明な上澄み部分が形成されず、液全体が銀粒子の存在により濁っており、分散状態が維持されていることが確認された。また、容器の底には堆積している銀粒子は確認されなかった。
《実施例2》
有機化合物Bを没食子酸(東京化成工業株式会社製試薬、分子量170.1)に変えたことを除き、実施例1と同様の実験を行った。すなわち本例では、没食子酸を吸着させてなる銀粒子を作成して、この銀粒子をアセトフェノンに分散させた極めて分散性の良い銀インクの作成を試みた。
具体的には、保護材置換工程において、没食子酸78.83gと、イソプロパノール400gを混合して、液温を40℃に保ち、イソプロパノール中に没食子酸を完全に溶解させた。この液478.83g中へ、アミンA(オレイルアミン)に被覆された銀粒子が存在している前記洗浄後の固形分(Agを約1モル(約100g)含有)を添加し、プロペラにて400rpmで撹拌した。この撹拌状態を維持しながら40℃で5時間保持した。この場合、Agに対する有機化合物Bの量は0.5当量となるように有機化合物Bの仕込量を調整してある。
得られたサンプルについてのDTA曲線の測定例を図3に示す。図1(置換前)と図3(置換後)の対比から、保護材は、アミンA(オレイルアミン)のほぼ全量が脱着し、有機化合物B(没食子酸)に置き換わったものと考えられる。図5に没食子酸を吸着させてなる銀粒子のTEM写真の一例を示す。
このサンプルについてのDxは6.56nm、DTEMは8.53nmであった。DTEMの算出に使用した個々の粒子の粒子径は、最小値Dminが3.97nm、最大値Dmaxが13.71nmであり、この銀微粉のCV値は19.7%であった。
アセトフェノンを溶媒とする銀インクを実施例1と同様の方法で作成した結果、銀インク中の銀濃度は37.30質量%であった。これは銀ナノ粒子を用いた導電塗膜の形成に十分適用可能な高濃度の銀インクである。インク化効率は74.6%と高く、これは工業化が十分可能な水準である。168時間の静置試験の結果、実施例1と同様、分散状態が維持されていることが確認された。
《実施例3》
銀インクの溶媒をイソホロンに変えたことを除き、実施例2と同様の実験を行った。すなわち本例では、没食子酸を吸着させてなる銀粒子を作成して、この銀粒子をイソホロンに分散させた極めて分散性の良い銀インクの作成を試みた。
没食子酸を吸着させてなる銀粒子を実施例2と同様の手法で作成し、これを用いてイソホロンを溶媒とする銀インクを実施例1と同様の方法で作成した結果、銀インク中の銀濃度は36.56質量%であった。これは銀ナノ粒子を用いた導電塗膜の形成に十分適用可能な高濃度の銀インクである。インク化効率は73.1%と高く、これは工業化が十分可能な水準である。168時間の静置試験の結果、実施例1と同様、分散状態が維持されていることが確認された。
《実施例4》
銀インクの溶媒を2−メチルシクロヘキサノンに変えたことを除き、実施例2と同様の実験を行った。すなわち本例では、没食子酸を吸着させてなる銀粒子を作成して、この銀粒子を2−メチルシクロヘキサノンに分散させた極めて分散性の良い銀インクの作成を試みた。
没食子酸を吸着させてなる銀粒子を実施例2と同様の手法で作成し、これを用いて2−メチルシクロヘキサノンを溶媒とする銀インクを実施例1と同様の方法で作成した結果、銀インク中の銀濃度は44.36質量%であった。これは銀ナノ粒子を用いた導電塗膜の形成に十分適用可能な高濃度の銀インクである。インク化効率は88.7%と高く、これは工業化が十分可能な水準である。168時間の静置試験の結果、実施例1と同様、分散状態が維持されていることが確認された。
オレイルアミンに被覆された保護材置換前の銀粒子についてのDTA曲線。 1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を吸着させてなる銀粒子についてのDTA曲線。 没食子酸を吸着させてなる銀粒子についてのDTA曲線。 1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を吸着させてなる銀粒子のTEM写真。 没食子酸を吸着させてなる銀粒子のTEM写真。

Claims (8)

  1. 1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子で構成される、少なくともアセトフェノンとの親和性に優れた銀微粉。
  2. 没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子で構成される、少なくともイソホロン、アセトフェノンおよび2−メチルシクロヘキサノンとの親和性に優れた銀微粉。
  3. 1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子、および没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子の1種または2種が、アセトフェノン中に分散している銀インク。
  4. 没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子が、イソホロン中に分散している銀インク。
  5. 没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子が、2−メチルシクロヘキサノン中に分散している銀インク。
  6. 1,4−ジヒドロキシ−2−ナフトエ酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子、および没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子の1種または2種が、20〜60質量%の銀濃度でアセトフェノン中に分散している液状インクであって、液を撹拌後に静置したとき分散状態が少なくとも168時間維持される銀インク。
  7. 没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子が、20〜60質量%の銀濃度でイソホロン中に分散している液状インクであって、液を撹拌後に静置したとき分散状態が少なくとも168時間維持される銀インク。
  8. 没食子酸を表面に吸着させてなるX線結晶粒子径Dx:1〜40nmの銀粒子が、20〜60質量%の銀濃度で2−メチルシクロヘキサノン中に分散している液状インクであって、液を撹拌後に静置したとき分散状態が少なくとも168時間維持される銀インク。
JP2008061429A 2008-03-11 2008-03-11 ケトンとの親和性に優れた銀微粉および銀インク Expired - Fee Related JP5139846B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008061429A JP5139846B2 (ja) 2008-03-11 2008-03-11 ケトンとの親和性に優れた銀微粉および銀インク

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008061429A JP5139846B2 (ja) 2008-03-11 2008-03-11 ケトンとの親和性に優れた銀微粉および銀インク

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009215619A true JP2009215619A (ja) 2009-09-24
JP5139846B2 JP5139846B2 (ja) 2013-02-06

Family

ID=41187760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008061429A Expired - Fee Related JP5139846B2 (ja) 2008-03-11 2008-03-11 ケトンとの親和性に優れた銀微粉および銀インク

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5139846B2 (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006196278A (ja) * 2005-01-12 2006-07-27 Bando Chem Ind Ltd 複合粒子分散体および複合粒子分散体の製造方法
JP2006332051A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 導電性インク、その製造方法および導電性基板
JP2007200775A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Bando Chem Ind Ltd 金属微粒子分散体および金属微粒子分散体を利用した導電材料
WO2007126012A1 (ja) * 2006-04-28 2007-11-08 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. 導電性被膜の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006196278A (ja) * 2005-01-12 2006-07-27 Bando Chem Ind Ltd 複合粒子分散体および複合粒子分散体の製造方法
JP2006332051A (ja) * 2005-05-23 2006-12-07 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 導電性インク、その製造方法および導電性基板
JP2007200775A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Bando Chem Ind Ltd 金属微粒子分散体および金属微粒子分散体を利用した導電材料
WO2007126012A1 (ja) * 2006-04-28 2007-11-08 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. 導電性被膜の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5139846B2 (ja) 2013-02-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5371247B2 (ja) 銀塗料およびその製造法
JP5252843B2 (ja) 銀インクおよびその製法
JP5139848B2 (ja) 没食子酸の誘導体に被覆された銀ナノ粒子
JP5898400B2 (ja) 銅微粒子とその製造方法及び銅微粒子分散液
JP5377483B2 (ja) 微小金属粒子含有組成物及びその製造方法
US20100243967A1 (en) Composition containing fine silver particles, production method thereof, method for producing fine silver particles, and paste having fine silver particles
JP2013151753A (ja) 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク
JP2009138243A (ja) 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク並びに銀粒子の製造方法
JP2007217794A (ja) 金属ナノ粒子及びその製造方法
JP5486886B2 (ja) 銅−ニッケルナノ粒子とその製造方法
WO2009087919A1 (ja) 極性媒体との親和性に優れた銀微粉および銀インク
JP5306966B2 (ja) 銅微粒子分散水溶液の製造方法、及び銅微粒子分散水溶液の保管方法
JP5162383B2 (ja) 銀被覆銅微粉の製造方法
JP5213592B2 (ja) 銅微粉およびその分散液並びに銅微粉製造法
JP5274000B2 (ja) 低温焼結性銀微粉および銀塗料ならびにそれらの製造法
JP2016011448A (ja) 微粒子、微粒子の製造方法、及び微粒子分散溶液
JP4897624B2 (ja) 低温焼結性銀微粉および銀塗料ならびにそれらの製造法
JP2009215502A (ja) 脂環式・芳香族炭化水素を溶媒とする銀インク
JP2009007593A (ja) 微粒子分散液、及び微粒子分散液の製造方法
JP2009102716A (ja) 銀ナノ粒子の製造方法
JP2009215503A (ja) 非極性炭化水素を溶媒とする分散性に優れた銀インク
CN108025358B (zh) 导电材料用粉末、导电材料用油墨、导电糊剂以及导电材料用粉末的制造方法
JP5139846B2 (ja) ケトンとの親和性に優れた銀微粉および銀インク
JP2009068053A (ja) 銀粒子の製造方法および銀粒子分散液
JP2009091634A (ja) 銀微粉の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20101018

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120727

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120731

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121001

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20121106

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121116

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5139846

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151122

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees