JP2009215261A

JP2009215261A - 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound

Info

Publication number: JP2009215261A
Application number: JP2008063032A
Authority: JP
Inventors: Takemare Nakamura; 剛希中村
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2008-03-12
Filing date: 2008-03-12
Publication date: 2009-09-24

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound having a 1,3-dioxane skeleton which has a new structure and is useful in a liquid crystal display field. <P>SOLUTION: The compound is a 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound represented by following general formula (I), wherein R<SP>1</SP>and R<SP>2</SP>each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkoxy group or an aryloxy group, A represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group or an alkynyl group, and X represents a halogen atom, an acyloxy group, a sulfonyloxy group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group or an aryloxy group. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、新規な構造を有し、液晶ディスプレイ分野で有用な１，３−ジオキサン骨格を有する２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物に関する。 The present invention relates to a 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound having a novel structure and having a 1,3-dioxane skeleton useful in the field of liquid crystal displays.

１，３−ジオキサン骨格を有する化合物は、一般的にジオールとアルデヒドから容易に合成され、有機合成化学上ではカルボニル基の保護基としての有用性が広く知られている。一方、材料としては、液晶化合物、医薬中間体としても重要な位置を占めている。
近年、特に、薄型のディスプレイに用いられる液晶化合物としての有用性が認められるようになり、例えば特許文献１及び特許文献２では、ネマチック相の広い温度範囲、低粘度、適切な光学異方性、低いしきい値電圧、大きな比抵抗などの特性を有する液晶組成物が開示されている。また、特許文献３では、Δｎが小さく、液晶相温度範囲が広く、低電圧駆動が可能なΔεが大きく、かつ信頼性に優れたアクティブマトリクス型液晶表示素子が開示されている。
このような用途に用いる上において、前記１，３−ジオキサン骨格を有する化合物は液晶性化合物を合成する際のビルディングブロックとして有用である。このようなビルディングブロックとしては１，３−ジオキサン骨格上の２位にシクロヘキシル基を有し、かつ、５位に置換基を有するものは液晶性化合物を開発する上で重要であり、２位のシクロヘキシル基の４位がオキシメチル基で置換されていることは液晶性化合物を開発する上で更に重要であるが、このような置換基を有する化合物は、これまでほとんど知られていなかったのが現状である。 A compound having a 1,3-dioxane skeleton is generally easily synthesized from a diol and an aldehyde, and its usefulness as a protecting group for a carbonyl group is widely known in organic synthetic chemistry. On the other hand, the material occupies an important position as a liquid crystal compound and a pharmaceutical intermediate.
In recent years, in particular, usefulness as a liquid crystal compound used in a thin display has been recognized. For example, in Patent Document 1 and Patent Document 2, a wide temperature range of a nematic phase, a low viscosity, an appropriate optical anisotropy, A liquid crystal composition having characteristics such as a low threshold voltage and a large specific resistance is disclosed. Patent Document 3 discloses an active matrix liquid crystal display element having a small Δn, a wide liquid crystal phase temperature range, a large Δε that can be driven at a low voltage, and excellent reliability.
When used in such applications, the compound having the 1,3-dioxane skeleton is useful as a building block for the synthesis of a liquid crystalline compound. As such a building block, one having a cyclohexyl group at the 2-position on the 1,3-dioxane skeleton and a substituent at the 5-position is important in developing a liquid crystalline compound. The fact that the 4-position of the cyclohexyl group is substituted with an oxymethyl group is more important in developing a liquid crystal compound, but compounds having such a substituent have been hardly known so far. Currently.

特開２００６−１９９９４１号公報JP 2006-199941 A 特開２００６−１６９４７２号公報JP 2006-169472 A 特開２００６−７００８０号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-70080

本発明は、従来における前記課題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、１，３−ジオキサン骨格を有する液晶性化合物を合成する上で、ビルディングブロックとして有用な、２位に１位及び４位が置換基で置換されたシクロヘキシル基を有し、かつ５位に置換基を有する新規な２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to solve the above-described conventional problems and achieve the following objects. That is, the present invention has a cyclohexyl group which is useful as a building block in synthesizing a liquid crystalline compound having a 1,3-dioxane skeleton, and in which the 1-position and the 4-position are substituted with substituents at the 2-position, An object of the present invention is to provide a novel 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound having a substituent at the 5-position.

前記課題を解決するための手段としては以下の通りである。即ち、
＜１＞下記一般式（Ｉ）で表されることを特徴とする２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物である。
ただし、前記一般式(Ｉ)中、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに同一であってもよいし、異なっていいてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシ基、及びアリールオキシ基のいずれかを表し、該アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、及びアリールオキシ基は更に置換基により置換されていてもよい。
Ａは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基のいずれかを表し、該アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基は更に置換基により置換されていてもよい。
Ｘは、ハロゲン原子、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、及びアリールオキシ基のいずれかを表し、該アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、及びアリールオキシ基は更に置換基により置換されていてもよい。
＜２＞Ｒ^１が、置換又は無置換のアルキル基である前記＜１＞に記載の２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物である。
＜３＞Ｒ^２が、水素原子及びハロゲン原子のいずれかである前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物である。
＜４＞Ａが、水素原子及びハロゲン原子のいずれかである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物である。
＜５＞液晶化合物として用いられる前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物である。 Means for solving the above problems are as follows. That is,
<1> A 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound represented by the following general formula (I).
However, in the general formula (I), R ¹ and R ² may be the same as or different from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, an alkyl group, an alkenyl group, Represents any one of an alkynyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group, and the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxycarbonyl group, alkoxy group, and aryloxy group May be further substituted with a substituent.
A represents any one of a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group, and the alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group may be further substituted with a substituent.
X represents any of a halogen atom, an acyloxy group, a sulfonyloxy group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, and an aryloxy group, and the acyloxy group, sulfonyloxy group, alkoxy group, alkylthio group, arylthio group, and The aryloxy group may be further substituted with a substituent.
<2> The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound according to <1>, wherein R ¹ is a substituted or unsubstituted alkyl group.
<3> The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound according to any one of <1> to <2>, wherein R ² is any one of a hydrogen atom and a halogen atom.
<4> The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound according to any one of <1> to <3>, wherein A is any one of a hydrogen atom and a halogen atom.
<5> The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound according to any one of <1> to <4>, which is used as a liquid crystal compound.

本発明によると、基本的な有機化学反応を用いて液晶性化合物として有用な２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物を提供することができる。 According to the present invention, a 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound useful as a liquid crystal compound can be provided using a basic organic chemical reaction.

本発明の２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物は、下記一般式（Ｉ）で表される。
The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound of the present invention is represented by the following general formula (I).

前記一般式(Ｉ)において、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに同一であってもよいし、異なっていいてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシル基、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、及びアリールオキシ基のいずれかを表し、該アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシ基、及びアリールオキシ基は更に置換基により置換されていてもよい。 In the general formula (I), R ¹ and R ² may be the same as or different from each other, and are a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, an alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group. , An aryl group, an alkoxycarbonyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group, and the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxycarbonyl group, carbamoyl group, alkoxy group, and aryloxy group are further represented by It may be substituted with a substituent.

前記Ｒ^１及びＲ^２におけるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。 Examples of the halogen atom in R ¹ and R ² include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

前記Ｒ^１及びＲ^２におけるアルキル基としては、総炭素数１〜１２の直鎖、分枝、もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルキル基が好ましく、無置換のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、などが挙げられる。また、アルキル基の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、置換アルキル基としては、例えば４−プロピルシクロヘキシル基、４−ブチルシクロヘキシル基、４−エチルシクロヘキシル基、４−ペンチルシクロヘキシル基、４−ヘキシルシクロヘキシル基、２−メトキシエチル基、トリフルオロメチル基などが挙げられる。 The alkyl group in R ¹ and R ² is preferably a linear, branched, or cyclic, substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and the unsubstituted alkyl group is, for example, a methyl group , Ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, and the like. Moreover, as a substituent of an alkyl group, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, and an alkoxycarbonyl group are preferable, for example, and as a substituted alkyl group, for example, 4-propylcyclohexyl group, 4-butylcyclohexyl group, 4- Examples thereof include an ethylcyclohexyl group, a 4-pentylcyclohexyl group, a 4-hexylcyclohexyl group, a 2-methoxyethyl group, and a trifluoromethyl group.

前記Ｒ^１及びＲ^２におけるアルケニル基としては、総炭素数２〜７の直鎖、分枝、もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルケニル基が好ましく、無置換のアルケニル基としては、例えばエテニル基、２−プロペン−１−イル基、２−ブテン−１−イル基、４−ペンテン−１−イル基、などが挙げられる。また、アルケニル基の置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、置換アルケニル基としては、例えば２，３，３−トリフルオロ−２−プロペン−１−イル基、２−メトキシエテン−１−イル基などが挙げられる。 The alkenyl group in R ¹ and R ² is preferably a linear, branched, or cyclic, substituted or unsubstituted alkenyl group having 2 to 7 carbon atoms. Examples of the unsubstituted alkenyl group include an ethenyl group. , 2-propen-1-yl group, 2-buten-1-yl group, 4-penten-1-yl group, and the like. Moreover, as a substituent of an alkenyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a cyano group, and an alkoxycarbonyl group are preferable, and as a substituted alkenyl group, for example, 2,3,3-trifluoro-2-propen-1-yl group, 2 -Methoxyethen-1-yl group etc. are mentioned.

前記Ｒ^１及びＲ^２におけるアルキニル基としては、総炭素数２〜７の直鎖、分枝、もしくは環状の、置換もしくは無置換のアルキニル基が好ましく、アルキニル基の置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、無置換のアルキニル基としては、例えばエチニル基、１−プロピン−１−イル基、２−ブチン−１−イル基などが挙げられる。 The alkynyl group in R ¹ and R ² is preferably a linear, branched, or cyclic, substituted or unsubstituted alkynyl group having 2 to 7 carbon atoms, and the substituent of the alkynyl group is a halogen atom, alkoxy Group, cyano group, and alkoxycarbonyl group are preferable. Examples of the unsubstituted alkynyl group include ethynyl group, 1-propyn-1-yl group, and 2-butyn-1-yl group.

前記Ｒ^１及びＲ^２におけるアリール基としては、総炭素数６〜１１の置換もしくは無置換のアリール基が好ましく、アリール基の置換基としては、例えばアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、置換アリール基としては、例えば４−メトキシフェニル基、２，３−ジフルオロフェニル基、４−シアノフェニル基、４−プロピルフェニル基、４−ブトキシフェニル基などが挙げられる。 The aryl group in R ¹ and R ² is preferably a substituted or unsubstituted aryl group having a total carbon number of 6 to 11, and examples of the substituent of the aryl group include an alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, a cyano group, An alkoxycarbonyl group is preferable, and examples of the substituted aryl group include a 4-methoxyphenyl group, a 2,3-difluorophenyl group, a 4-cyanophenyl group, a 4-propylphenyl group, and a 4-butoxyphenyl group.

前記Ｒ^１及びＲ^２におけるアルコキシカルボニル基としては、総炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基が好ましく、アルコキシカルボニル基の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、無置換のアルコキシカルボニル基としては、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基などが挙げられる。置換アルコキシカルボニル基としては、例えば２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル基などが挙げられる。 The alkoxycarbonyl group in R ¹ and R ² is preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 7 carbon atoms, and the substituent for the alkoxycarbonyl group is preferably, for example, a halogen atom, an alkoxy group, a cyano group, or an alkoxycarbonyl group. Examples of the unsubstituted alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a butoxycarbonyl group. Examples of the substituted alkoxycarbonyl group include a 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group.

前記Ｒ^１及びＲ^２におけるアルコキシ基としては、総炭素数１〜７のアルコキシ基が好ましく、無置換のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などが挙げられる。また、アルコキシ基の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、アルキル基が好ましく、置換のアルコキシ基としては、例えばトリフルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、２，２，２−トリフルオロエトキシ基などが挙げられる。 The alkoxy group in R ¹ and R ² is preferably an alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms in total, and examples of the unsubstituted alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group. Moreover, as a substituent of an alkoxy group, a halogen atom, an alkoxy group, a cyano group, and an alkyl group are preferable, for example, and as a substituted alkoxy group, for example, a trifluoromethoxy group, a difluoromethoxy group, 2,2,2-trifluoro An ethoxy group etc. are mentioned.

前記Ｒ^１及びＲ^２におけるアリールオキシ基としては、総炭素数６〜１１の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましく、アリールオキシ基の置換基としては、例えばアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基が好ましく、無置換のアリールオキシ基としては、フェノキシ基などが挙げられる。また、置換のアリールオキシ基としては、例えば４−メトキシフェノキシ基、２，３−ジフルオロフェノキシ基、４−シアノフェノキシ基、４−プロピルフェノキシ基などが挙げられる。 The aryloxy group in R ¹ and R ² is preferably a substituted or unsubstituted aryloxy group having a total carbon number of 6 to 11, and examples of the substituent for the aryloxy group include an alkyl group, a halogen atom, an alkoxy group, A cyano group and an alkoxycarbonyl group are preferred, and examples of the unsubstituted aryloxy group include a phenoxy group. Examples of the substituted aryloxy group include 4-methoxyphenoxy group, 2,3-difluorophenoxy group, 4-cyanophenoxy group, 4-propylphenoxy group, and the like.

これらの中でも、Ｒ^１としては、置換又は無置換のアルキル基が好ましい。Ｒ^２としては、水素原子、ハロゲン原子が好ましく、該ハロゲン原子としてはフッ素原子がより好ましい。 Of these, R ¹ is preferably a substituted or unsubstituted alkyl group. R ² is preferably a hydrogen atom or a halogen atom, and more preferably a fluorine atom as the halogen atom.

前記一般式（Ｉ）において、Ａは、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基のいずれかを表し、該アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基は更に置換基により置換されていてもよい。
前記ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、及びアルキニル基としては、前記Ｒ^１及びＲ^２で挙げたものと同じであるが、Ａとしては、水素原子又はハロゲン原子がより好ましく、水素原子が特に好ましい。 In the general formula (I), A represents any one of a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group, and the alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group are further substituted. May be substituted.
The halogen atom, alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group are the same as those described for R ¹ and R ² , but A is more preferably a hydrogen atom or a halogen atom, and particularly preferably a hydrogen atom. .

前記一般式（Ｉ）において、Ｘは、ハロゲン原子、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、及びアリールオキシ基のいずれかを表し、該アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、及びアリールオキシ基は更に置換基により置換されていてもよい。 In the general formula (I), X represents any one of a halogen atom, an acyloxy group, a sulfonyloxy group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, and an aryloxy group, and the acyloxy group, sulfonyloxy group, alkoxy group , Alkylthio group, arylthio group, and aryloxy group may be further substituted with a substituent.

前記Ｘにおけるハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。 Examples of the halogen atom in X include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

Ｘにおけるアシルオキシ基としては、総炭素数２〜１１の置換もしくは無置換のアシルオキシ基が好ましく、この場合の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、シアノ基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。無置換のアシルオキシ基としては、例えばアセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ブチロイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、などが挙げられる。また、置換のアシルオキシ基としては、例えば２，３−ジフルオロベンゾイルオキシ基、３，４，５−トリフルオロベンゾイルオキシ基、４−エトキシベンゾイルオキシ基、４−エチルシクロヘキサンカルボニルオキシ基、４−ブトキシシクロヘキサンカルボニルオキシ基、４−シアノベンゾイルオキシ基、などが挙げられる。 The acyloxy group in X is preferably a substituted or unsubstituted acyloxy group having 2 to 11 carbon atoms. In this case, for example, a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, a cyano group, or an alkoxycarbonyl group is preferable. . Examples of the unsubstituted acyloxy group include an acetoxy group, a pivaloyloxy group, a butyroyloxy group, a hexanoyloxy group, and a benzoyloxy group. Examples of the substituted acyloxy group include 2,3-difluorobenzoyloxy group, 3,4,5-trifluorobenzoyloxy group, 4-ethoxybenzoyloxy group, 4-ethylcyclohexanecarbonyloxy group, and 4-butoxycyclohexane. A carbonyloxy group, 4-cyanobenzoyloxy group, etc. are mentioned.

Ｘにおけるスルホニルオキシ基としては、総炭素数１〜１１の置換もしくは無置換のスルホニルオキシ基が好ましく、この場合の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、シアノ基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。無置換のスルホニルオキシ基としては、例えばメタンスルホニルオキシ基、エタンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基、などが挙げられる。また、置換のスルホニルオキシ基としては、例えば４−クロロベンゼンスルホニルオキシ基などが挙げられる。 The sulfonyloxy group in X is preferably a substituted or unsubstituted sulfonyloxy group having 1 to 11 carbon atoms. In this case, examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, a cyano group, or an alkoxycarbonyl group. Is preferred. Examples of the unsubstituted sulfonyloxy group include a methanesulfonyloxy group, an ethanesulfonyloxy group, a benzenesulfonyloxy group, and a p-toluenesulfonyloxy group. Examples of the substituted sulfonyloxy group include a 4-chlorobenzenesulfonyloxy group.

Ｘにおけるアルコキシ基としては、総炭素数１〜７の置換もしくは無置換のアルコキシ基が好ましく、この場合の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、シアノ基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。無置換のアルコキシ基としては例えばメトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。また、置換のアルコキシ基としては、例えば２，２，２−トリフルオロエトキシ基などが挙げられる。 The alkoxy group in X is preferably a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 7 carbon atoms. In this case, for example, a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, a cyano group or an alkoxycarbonyl group is preferable. . Examples of the unsubstituted alkoxy group include a methoxy group and a butoxy group. Examples of the substituted alkoxy group include a 2,2,2-trifluoroethoxy group.

Ｘにおけるアルキルチオ基としては、総炭素数１〜７の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましく、この場合の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、シアノ基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。無置換のアルキルチオ基のとしては、例えばエチルチオ基、ブチルチオ基、シクロヘキシルチオ基などが挙げられる。 The alkylthio group in X is preferably a substituted or unsubstituted alkylthio group having 1 to 7 carbon atoms. In this case, for example, a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, a cyano group, or an alkoxycarbonyl group is preferable. . Examples of the unsubstituted alkylthio group include an ethylthio group, a butylthio group, and a cyclohexylthio group.

Ｘにおけるアリールチオ基としては、総炭素数６〜１１の置換もしくは無置換のアリールチオ基が好ましく、この場合の置換基としてはハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、シアノ基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。無置換のアリールチオ基としては、例えばフェニルチオ基、などが挙げられる。置換アリールチオ基としては、例えば４−メトキシフェニルチオ基、４−ブチルフェニルチオ基、などが挙げられる。 The arylthio group in X is preferably a substituted or unsubstituted arylthio group having 6 to 11 carbon atoms. In this case, the substituent is preferably a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, a cyano group or an alkoxycarbonyl group. Examples of the unsubstituted arylthio group include a phenylthio group. Examples of the substituted arylthio group include a 4-methoxyphenylthio group and a 4-butylphenylthio group.

Ｘにおけるアリールオキシ基としては、総炭素数６〜１１の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましく、この場合の置換基としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、シアノ基又はアルコキシカルボニル基が好ましい。無置換のアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基などが挙げられる。また、置換のアリールオキシ基としては、例えば４−エトキシフェノキシ基、３，４−ジフルオロフェノキシ基、２，３−ジフルオロフェノキシ基、４−ペンチルフェノキシ基、などが挙げられる。 The aryloxy group in X is preferably a substituted or unsubstituted aryloxy group having 6 to 11 carbon atoms. In this case, examples of the substituent include a halogen atom, an alkoxy group, an alkyl group, a cyano group, or an alkoxycarbonyl group. Is preferred. Examples of the unsubstituted aryloxy group include a phenoxy group. Examples of the substituted aryloxy group include 4-ethoxyphenoxy group, 3,4-difluorophenoxy group, 2,3-difluorophenoxy group, 4-pentylphenoxy group, and the like.

前記Ｘとしては、ハロゲン原子、アシルオキシ基、スルホニルオキシ基、及びアリールオキシ基が特に好ましい。 X is particularly preferably a halogen atom, an acyloxy group, a sulfonyloxy group, or an aryloxy group.

以下、本発明の下記一般式（Ｉ）で表される２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物についての具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
Hereinafter, although the specific example about the 2-cyclohexyl-1, 3- dioxane compound represented by the following general formula (I) of this invention is given, it is not limited to these.

＜合成方法＞
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物に至る合成経路は、いくつか考えられるが、入手容易な１，４−シクロヘキサンジメタノール又はそのモノビニルエーテルを原料として容易に合成可能であり、この方法を応用することで本発明のいずれの２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物の原料とすることが可能である。 <Synthesis method>
There are several possible synthetic routes to the 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound represented by the general formula (I) of the present invention, but 1,4-cyclohexanedimethanol or its monovinyl ether can be easily obtained. It can be easily synthesized as a raw material, and can be used as a raw material for any 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound of the present invention by applying this method.

本発明の一般式（Ｉ）で表される２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物の合成経路の概略を以下に示す。下記のスキームから分かるように、いずれの反応も基本的な有機化学反応を用いて合成できる。 An outline of a synthesis route of the 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound represented by the general formula (I) of the present invention is shown below. As can be seen from the scheme below, any reaction can be synthesized using basic organic chemical reactions.

＜用途＞
本発明の前記一般式（Ｉ）で表される２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物は、液晶化合物、並びに液晶化合物及び種々の誘導体を合成する上でのビルディングブロックとして有用であり、更には、ＰＣ、ＴＮ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＯＣＢ、ＩＰＳ、ＶＡなどのモードを有する液晶表示素子への適用も可能である。 <Application>
The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound represented by the general formula (I) of the present invention is useful as a building block for synthesizing liquid crystal compounds and liquid crystal compounds and various derivatives. , PC, TN, STN, ECB, OCB, IPS, VA, and the like can be applied to liquid crystal display elements.

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
なお、下記の合成例及び実施例におけるｎｍｒは、ＡＶ−４００ＮＭＲ（Ｂｒｕｋｅｒ社製）を用いて、測定した。 Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
In addition, nmr in the following synthesis examples and examples was measured using AV-400 NMR (manufactured by Bruker).

（合成例１）
＜４−（ベンゼンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒド、４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒド、及び４−（メチルスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドの合成＞
（１−１）ベンゼンスルホン酸４−（ビニルオキシメチル）シクロヘキシルメチルエステルの合成
１７０．３ｇの４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメチル（ビニル）エーテル（和光純薬工業株式会社製：３２０−２２６９５）を１Ｌのトルエンに溶解し、１３４ｍＬの塩化ベンゼンスルホニルを加え撹拌した。この混合物にピリジン８８ｍＬをゆっくり滴下し、１晩放置した。この後、水５００ｍＬを加え、分液して有機相を濃縮して、粗ベンゼンスルホン酸４−（ビニルオキシメチル）シクロヘキシルメチルエステルを得た。 (Synthesis Example 1)
<Synthesis of 4- (benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde, 4- (p-toluenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde, and 4- (methylsulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde>
(1-1) Synthesis of benzenesulfonic acid 4- (vinyloxymethyl) cyclohexylmethyl ester 170.3 g of 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl (vinyl) ether (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: 320-22695) It melt | dissolved in 1 L toluene, and 134 mL benzenesulfonyl chloride was added and stirred. 88 mL of pyridine was slowly added dropwise to this mixture and left overnight. Thereafter, 500 mL of water was added, liquid separation was performed, and the organic phase was concentrated to obtain crude benzenesulfonic acid 4- (vinyloxymethyl) cyclohexylmethyl ester.

（１−２）ベンゼンスルホン酸４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメチルエステルの合成
前記（１−１）で合成した化合物全量をテトラヒドロフラン１Ｌ、水１００ｍＬ、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物２０ｇを加えて２晩放置した。テトラヒドロフランを減圧留去したのち、酢酸エチルを加えて分液抽出を行った。有機相は濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ベンゼンスルホン酸４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメチルエステル２０２ｇを得た（収率７０．３％）。 (1-2) Synthesis of benzenesulfonic acid 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl ester 1 L of tetrahydrofuran, 100 mL of water and 20 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate were added to the total amount of the compound synthesized in (1-1). Left for 2 nights. Tetrahydrofuran was distilled off under reduced pressure, and then ethyl acetate was added for liquid separation extraction. The organic phase was concentrated and purified by silica gel column chromatography to obtain 202 g of benzenesulfonic acid 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl ester (yield 70.3%).

（１−３）４−（ベンゼンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドの合成
前記（１−２）のベンゼンスルホン酸４−（ヒドロキシメチル）シクロヘキシルメチルエステル１９９ｇを塩化メチレン８００ｍＬに溶解し、ＴＥＭＰＯ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシドラジカル）２ｇと３％臭化ナトリウム水溶液２００ｍＬを加えて室温で撹拌した。これに２％の炭酸水素ナトリウムを含む次亜塩素酸ナトリウム（有効塩素５％）を２５〜３０℃に保って滴下した。原料の消失を確認後、有機相を分液し、水洗、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄したのち、５０％程度濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行った。目的物は粘稠な油状物として得られた（収量１５１．５ｇ、収率７６．７％）。 (1-3) Synthesis of 4- (benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde 199 g of benzenesulfonic acid 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl ester of (1-2) above was dissolved in 800 mL of methylene chloride, and TEMPO (2, 2 g of 2,6,6-tetramethylpiperidine-N-oxide radical) and 200 mL of 3% aqueous sodium bromide solution were added and stirred at room temperature. To this, sodium hypochlorite (effective chlorine 5%) containing 2% sodium hydrogen carbonate was added dropwise at 25-30 ° C. After confirming the disappearance of the raw materials, the organic phase was separated, washed with water and washed with an aqueous sodium thiosulfate solution, concentrated to about 50%, and purified by silica gel column chromatography. The target product was obtained as a viscous oil (yield 151.5 g, yield 76.7%).

〔ｎｍｒの結果〕
（ベンゼンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒド（シス、トランス混合物）のｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：９．６５（０．２５Ｈ，ｓ）、９．６０（０．７５Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．９４−７．８７（２Ｈ，ｍ）、７．７０−７．６３（１Ｈ，ｍ）、７．６０−７．５２（２Ｈ，ｍ）、３．８８（１．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３．８１（０．５Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、２．４３（０．２５Ｈ，ｍ）、２．１６（０．７５Ｈ，ｍ）、２．０７−１．５０（５Ｈ，ｍ）、１．３２−１．１７（２Ｈ，ｍ）、１．１０−０．９５（２Ｈ，ｍ） [Results of nmr]
Nmr spectrum data (CDCl ₃ ) of (benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde (cis, trans mixture): 9.65 (0.25H, s), 9.60 (0.75H, d, J = 1.5 Hz) ), 7.94-7.87 (2H, m), 7.70-7.63 (1H, m), 7.60-7.52 (2H, m), 3.88 (1.5H, d) , J = 6.3 Hz), 3.81 (0.5 H, d, J = 6.8 Hz), 2.43 (0.25 H, m), 2.16 (0.75 H, m), 2.07 -1.50 (5H, m), 1.32-1.17 (2H, m), 1.10-0.95 (2H, m)

〔ｎｍｒの結果〕
（４−ベンゼンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドと同様にして（即ち、塩化ベンゼンスルホニルの代わりに塩化ｐ−トルエンスルホニル、及び塩化メチルスルホニルをそれぞれ用いて）、４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒド、及び４−（メチルスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを合成した。
〔ｎｍｒの結果〕
４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドのｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：９．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ）、７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、３．８４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、２．４５（３Ｈ，ｓ）、２．１５（１Ｈ，ｍ）、２．０９−１．５２（５Ｈ，ｍ）、１．３０−１．１８（２Ｈ，ｍ）、１．０９−０．９５（２Ｈ，ｍ） [Results of nmr]
In the same manner as (4-benzenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde (that is, using p-toluenesulfonyl chloride and methylsulfonyl chloride in place of benzenesulfonyl chloride, respectively), 4- (p-toluenesulfonyloxymethyl) Cyclohexanecarbaldehyde and 4- (methylsulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde were synthesized.
[Results of nmr]
Nmr spectral data (CDCl ₃ ) of 4- (p-toluenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde: 9.60 (1H, d, J = 1.5 Hz), 7.78 (2H, d, J = 8.0 Hz) ), 7.34 (2H, d, J = 8.0 Hz), 3.84 (2H, d, J = 6.3 Hz), 2.45 (3H, s), 2.15 (1H, m), 2.09-1.52 (5H, m), 1.30-1.18 (2H, m), 1.09-0.95 (2H, m)

〔ｎｍｒの結果〕
４−（メチルスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドのｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：９．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ）、４．０７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３．０２（３Ｈ，ｓ）、２．２２（１Ｈ，ｍ）、２．０８（２Ｈ，ｍ）、１．９５（２Ｈ，ｍ）、１．９５（２Ｈ，ｍ）、１．７２（２Ｈ，ｍ）、１．３０（２Ｈ，ｍ）、１．１２（２Ｈ，ｍ） [Results of nmr]
Nmr spectrum data (CDCl ₃ ) of 4- (methylsulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde: 9.64 (1H, d, J = 1.2 Hz), 4.07 (2H, d, J = 6.3 Hz), 3.02 (3H, s), 2.22 (1H, m), 2.08 (2H, m), 1.95 (2H, m), 1.95 (2H, m), 1.72 (2H) , M), 1.30 (2H, m), 1.12 (2H, m)

（合成例２）
＜４−（クロロメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドの合成＞
（２−１）４−（クロロメチル）シクロヘキサンメタノールの合成
５００ｇの１，４−シクロヘキサンジメタノール（和光純薬工業株式会社製：０３３−１５４０５）と、５００ｇの濃塩酸を混合し、１００℃で１０時間反応を行った。冷却後、１Ｌの水を加え、炭酸水素ナトリウムで中和を行ったのち、酢酸エチルを加えて抽出を行った。有機相を水洗後、濃縮したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、４−（クロロメチル）シクロヘキサンメタノール２２０ｇを油状物として得た（収率３９．０％）。 (Synthesis Example 2)
<Synthesis of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde>
(2-1) Synthesis of 4- (chloromethyl) cyclohexanemethanol 500 g of 1,4-cyclohexanedimethanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: 03-315405) and 500 g of concentrated hydrochloric acid were mixed at 100 ° C. The reaction was carried out for 10 hours. After cooling, 1 L of water was added, neutralized with sodium bicarbonate, and then extracted with ethyl acetate. The organic phase was washed with water and concentrated, and then purified by silica gel column chromatography to obtain 220 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanemethanol as an oil (yield 39.0%).

（２−２）４−（クロロメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドの合成
１６２．７ｇの４−（クロロメチル）シクロヘキサンメタノールを８００ｍＬの塩化メチレンに溶解し、ＴＥＭＰＯ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシドラジカル）２ｇと３％臭化ナトリウム水溶液２００ｍＬを加えて室温で撹拌した。これに２％の炭酸水素ナトリウムを含む次亜塩素酸ナトリウム（有効塩素５％）を２５〜３０℃に保って滴下した。原料の消失を確認後、有機相を分液し、水洗、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄したのち、５０％程度濃縮してシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行った。目的物は油状物１４０．１ｇとして得た（収率８７．２％）。
得られた化合物を更にシリカゲルクロマトグラフィーで慎重に精製を行った。溶出液はヘキサン／酢酸エチル＝１９／１を用い、シス体がより早く溶出した。 (2-2) Synthesis of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde 162.7 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanemethanol was dissolved in 800 mL of methylene chloride, and TEMPO (2,2,6,6-tetramethylpiperidine was dissolved. -N-oxide radical) 2 g and 3% aqueous sodium bromide solution 200 mL were added and stirred at room temperature. To this, sodium hypochlorite (effective chlorine 5%) containing 2% sodium hydrogen carbonate was added dropwise at 25-30 ° C. After confirming the disappearance of the raw materials, the organic phase was separated, washed with water and washed with an aqueous sodium thiosulfate solution, concentrated to about 50%, and purified by silica gel column chromatography. The target product was obtained as 140.1 g of an oil (yield 87.2%).
The resulting compound was further carefully purified by silica gel chromatography. The eluate was hexane / ethyl acetate = 19/1, and the cis isomer eluted earlier.

〔ｎｍｒの結果〕
トランス体のｎｍｒ（ＣＤＣｌ_３）：９．６３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．３２Ｈｚ）、３．４２３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．１８）、２．２０３（１Ｈ，ｍ）、２．０２９（４Ｈ，ｍ）、１．６４２（１Ｈ，ｍ）、１．３１９（２Ｈ，ｍ）、１．１２４（２Ｈ，ｍ）
シス体のｎｍｒ（ＣＤＣｌ_３）：９．７００（１Ｈ，ｓ）、３．３６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．９２）、２．４５２（１Ｈ，ｍ）、２．１５７（２Ｈ，ｍ）、２．０４１（１Ｈ，ｍ）、１．７６４（２Ｈ，ｍ）、１．６１５（２Ｈ，ｍ）、１．１３０（２Ｈ，ｍ） [Results of nmr]
Nmr (CDCl ₃ ) of the trans isomer: 9.632 (1H, d, J = 1.32 Hz), 3.423 (2H, d, J = 1.18), 2.203 (1H, m), 2. 029 (4H, m), 1.642 (1H, m), 1.319 (2H, m), 1.124 (2H, m)
Cis isomer nmr (CDCl ₃ ): 9.700 (1H, s), 3.360 (2H, d, J = 4.92), 2.452 (1H, m), 2.157 (2H, m) 2.041 (1H, m), 1.764 (2H, m), 1.615 (2H, m), 1.130 (2H, m)

（合成例３）
−４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）−１−フルオロ−１−シクロヘキサンカルボアルデヒドの合成−
２０ｇの４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを３００ｍＬのテトラヒドロフランに溶解し、７．８ｇのＬ−プロリンを加えた。この混合液に氷水で冷却しながら、２５ｇのＮ−フルオロベンゼンスルホンイミド／テトラヒドロフラン溶液を滴下した。反応終了後、反応液を氷水に注ぎ、テトラヒドロフランを減圧下で留去したのち、酢酸エチルで抽出を行った。有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮したのち、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製した。各フラクションをｎｍｒで確認し、ホルミル基と４位置換基がトランスのものを分取した。収量３．３ｇ、収率１１．０％であった。 (Synthesis Example 3)
-4-Synthesis of (p-toluenesulfonyloxymethyl) -1-fluoro-1-cyclohexanecarbaldehyde-
20 g of 4- (p-toluenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde was dissolved in 300 mL of tetrahydrofuran, and 7.8 g of L-proline was added. While cooling with ice water, 25 g of an N-fluorobenzenesulfonimide / tetrahydrofuran solution was added dropwise to the mixture. After completion of the reaction, the reaction solution was poured into ice water, and tetrahydrofuran was distilled off under reduced pressure, followed by extraction with ethyl acetate. The organic phase was dried over anhydrous magnesium sulfate, concentrated and purified by silica gel column chromatography. Each fraction was confirmed by nmr, and a formyl group and a 4-position substituent in trans were fractionated. The yield was 3.3 g and the yield was 11.0%.

（実施例１）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号０１）の合成−
５ｇの合成例２の４−（クロロメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを２００ｍＬのトルエンに溶解し、４．２ｇの２−メチル−１，３−プロパンジオール、０．３ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、脱水条件下で反応を行った。ｎｍｒで反応の進行を確認した。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号０１）を４．３ｇ得た（収率５９．４％）。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ）、４．０２（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、３．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、３．２５（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、２．０４（１Ｈ，ｍ）、１．９０（４Ｈ，ｍ）、１．５８（１Ｈ，ｍ）、１．１１（２Ｈ，ｍ）、０．９８（２Ｈ，ｍ）、０．６９（３Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ） Example 1
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 01)-
5 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde of Synthesis Example 2 was dissolved in 200 mL of toluene, 4.2 g of 2-methyl-1,3-propanediol, 0.3 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate The product was added and reacted under dehydrating conditions. Progress of the reaction was confirmed by nmr. After completion of the reaction, purification was performed by silica gel column chromatography to obtain 4.3 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 01) (yield 59.4%).
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.17 (1H, d, J = 3.9 Hz), 4.02 (2H, dd, J = 3.3 Hz, 8.7 Hz), 3.37 (2H, d, J = 4.8 Hz), 3.25 (2H, dd, J = 8.4 Hz), 2.04 (1 H, m), 1.90 (4 H, m), 1.58 (1 H, m), 1 .11 (2H, m), 0.98 (2H, m), 0.69 (3H, d, J = 5.1 Hz)

（実施例２）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号０５）の合成−
７．２ｇの合成例２に準じて合成した４−（ブロモメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、５．０ｇの２−プロピル−１，３−プロパンジオール、０．３４ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、脱水条件下で反応を行った。ｎｍｒで反応の進行を確認した。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号０５）の油状物７．４ｇを得た（収率６８．７％）。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ）、４．０６（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、３．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ）、３．２７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、１．９０（５Ｈ，ｍ）、１．６８−１．４（３Ｈ，ｍ）、１．４−１．２（２Ｈ，ｍ）、１．１２（２Ｈ，ｍ）、０．９８（２Ｈ，ｍ）、０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ） (Example 2)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 05)-
7.2 g of 4- (bromomethyl) cyclohexanecarbaldehyde synthesized according to Synthesis Example 2 was dissolved in 150 mL of toluene, 5.0 g of 2-propyl-1,3-propanediol, 0.34 g of p-toluene. Sulfonic acid monohydrate was added and the reaction was carried out under dehydrating conditions. Progress of the reaction was confirmed by nmr. After completion of the reaction, purification was performed by silica gel column chromatography to obtain 7.4 g of an oily product of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 05) (yield 68.7%).
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.17 (1H, d, J = 3.9 Hz), 4.06 (2H, dd, J = 3.3 Hz, 8.7 Hz), 3.37 (2H, d, J = 4.8 Hz), 3.27 (2H, dd, J = 8.4 Hz), 1.90 (5H, m), 1.68-1.4 (3H, m), 1.4-1. 2 (2H, m), 1.12 (2H, m), 0.98 (2H, m), 0.88 (3H, t, J = 5.1 Hz)

（実施例３）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号０８）の合成−
３．８４ｇの合成例２に準じて合成した４−（ブロモメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、４．５ｇの２−（４−プロピルシクロヘキシル）−１，３−プロパンジオール、０．１８ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、断水条件下で反応を行った。ｎｍｒで反応進行を確認し、反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行った。更にアセトニトリルより再結晶を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号０８）の結晶３．１ｇを得た（収率４２．７％）。得られた化合物の融点は１８４℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１５（２Ｈ）、４．１４（１Ｈ，ｄ，５．６Ｈｚ）、３．３８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ）、３．２７（２Ｈ，ｄ，６．４Ｈｚ）、１．９３（２Ｈ，ｍ）、１．８７（２Ｈ，ｍ）、１．７４（３Ｈ，ｍ）、１．６５（２Ｈ，ｍ）、１．５９（１Ｈ，ｍ）、１．４６（１Ｈ，ｍ）、１．２−０．９（１２Ｈ）、０．８６（３Ｈ，ｔ）、０．８３（２Ｈ，ｍ） (Example 3)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 08)-
3.84 g of 4- (bromomethyl) cyclohexanecarbaldehyde synthesized according to Synthesis Example 2 was dissolved in 150 mL of toluene, and 4.5 g of 2- (4-propylcyclohexyl) -1,3-propanediol; 18 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added, and the reaction was performed under water-stopping conditions. The progress of the reaction was confirmed by nmr. After completion of the reaction, purification was performed by silica gel column chromatography. Furthermore, recrystallization was performed from acetonitrile to obtain 3.1 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 08) (yield 42.7%). The melting point of the obtained compound was 184 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectral data (CDCl ₃ ): 4.15 (2H), 4.14 (1H, d, 5.6 Hz), 3.38 (2H, dd, J = 11.2 Hz), 3.27 (2H, d , 6.4 Hz), 1.93 (2H, m), 1.87 (2H, m), 1.74 (3H, m), 1.65 (2H, m), 1.59 (1H, m) 1.46 (1H, m), 1.2-0.9 (12H), 0.86 (3H, t), 0.83 (2H, m)

(実施例４)
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号０９）の合成−
３．６７ｇの合成例２に準じて合成した４−（ブロモメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、４．６ｇの２−（４−ブチルシクロヘキシル）−１，３−プロパンジオール、０．１７ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、断水条件下で反応を行った。ｎｍｒで反応進行を確認し、反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行った。更にアセトニトリルより再結晶を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号０９）の結晶２．９３ｇを得た（収率４０．８％）。得られた化合物の融点は１８０℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１５（２Ｈ）、４．１４（１Ｈ，ｄ，５．４Ｈｚ）、３．３８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ）、３．３１（２Ｈ，ｄ，６．６Ｈｚ）、１．９０（４Ｈ，ｍ）、１．８−１．４（８Ｈ）、１．２−０．７５（１８Ｈ） Example 4
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 09)-
3.67 g of 4- (bromomethyl) cyclohexanecarbaldehyde synthesized according to Synthesis Example 2 was dissolved in 150 mL of toluene, and 4.6 g of 2- (4-butylcyclohexyl) -1,3-propanediol; 17 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate was added, and the reaction was performed under water-stopping conditions. The progress of the reaction was confirmed by nmr. After completion of the reaction, purification was performed by silica gel column chromatography. Furthermore, recrystallization was performed from acetonitrile to obtain 2.93 g of a crystal of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 09) (yield: 40.8%). The melting point of the obtained compound was 180 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectral data (CDCl ₃ ): 4.15 (2H), 4.14 (1H, d, 5.4 Hz), 3.38 (2H, dd, J = 11.4 Hz), 3.31 (2H, d , 6.6 Hz), 1.90 (4H, m), 1.8-1.4 (8H), 1.2-0.75 (18H).

（実施例５）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１０）−
４．４９ｇの特開平９−２７８６９８号公報記載の方法に従って合成した４−（ブロモメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、４．９ｇの２−（４−エチルシクロヘキシル）−１，３−プロパンジオール、０．２１ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、断水条件下で反応を行った。ｎｍｒで反応進行を確認し、反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行った。更にヘキサンより再結晶を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１０）を２．９ｇ結晶として得た（収率３５．５％）。得られた化合物の融点は１６８℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１６（２Ｈ）、４．１４（１Ｈ，ｄ，５．６Ｈｚ）、３．３８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ）、３．２７（２Ｈ，ｄ，６．４Ｈｚ）、１．９３（２Ｈ，ｍ）、１．８７（２Ｈ，ｍ）、１．７８−１．７（３Ｈ）、１．６５（２Ｈ，ｍ）、１．５９（１Ｈ，ｍ）、１．４６（１Ｈ，ｍ）、１．２−０．９（１０Ｈ）、０．８５（３Ｈ，ｔ）、０．８３（２Ｈ，ｍ） (Example 5)
-Cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 10)-
4.49 g of 4- (bromomethyl) cyclohexanecarbaldehyde synthesized according to the method described in JP-A-9-278698 was dissolved in 150 mL of toluene, and 4.9 g of 2- (4-ethylcyclohexyl) -1,3- Propanediol and 0.21 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate were added, and the reaction was carried out under water-stopping conditions. The progress of the reaction was confirmed by nmr. After completion of the reaction, purification was performed by silica gel column chromatography. Furthermore, recrystallization was performed from hexane to obtain a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 10) as 2.9 g crystals (yield 35.5%). The melting point of the obtained compound was 168 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.16 (2H), 4.14 (1H, d, 5.6 Hz), 3.38 (2H, dd, J = 11.2 Hz), 3.27 (2H, d , 6.4 Hz), 1.93 (2H, m), 1.87 (2H, m), 1.78-1.7 (3H), 1.65 (2H, m), 1.59 (1H, m), 1.46 (1H, m), 1.2-0.9 (10H), 0.85 (3H, t), 0.83 (2H, m)

（実施例６）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１３）の合成−
５．０ｇの合成例２の４−（クロロメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、５．５ｇの２−ペンチル−１，３−プロパンジオール、０．３ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、脱水条件下で反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１３）の油状物５．５ｇ得た（収率６１．１％）。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、４．０７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，８．１Ｈｚ）、３．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３．２７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ）、１．９０（５Ｈ，ｍ）、１．７−１．０（１４Ｈ）、０．８９（３Ｈ） (Example 6)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 13)-
5.0 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde of Synthesis Example 2 was dissolved in 150 mL of toluene, 5.5 g of 2-pentyl-1,3-propanediol, 0.3 g of p-toluenesulfonic acid Hydrate was added and the reaction was carried out under dehydrating conditions. After completion of the reaction, purification was performed by silica gel column chromatography to obtain 5.5 g of an oily product of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 13) (yield 61.1%).
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.17 (1H, d, J = 5.4 Hz), 4.07 (2H, dd, J = 3.6 Hz, 8.1 Hz), 3.37 (2H, d, J = 6.3 Hz), 3.27 (2H, dd, J = 11.1 Hz), 1.90 (5H, m), 1.7-1.0 (14H), 0.89 (3H)

（実施例７）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１４）の合成−
５．０ｇの合成例２の４−（クロロメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、５．０ｇの２−ブチル−１，３−プロパンジオール、０．３ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、脱水条件下で反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１４）の油状物５．６ｇ得た（収率は６５．４％）。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、４．０７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，８．１Ｈｚ）、３．３７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）、３．２７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．１Ｈｚ）、１．９０（５Ｈ，ｍ）、１．７−１．０（１４Ｈ）、０．８９（３Ｈ） (Example 7)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 14)-
5.0 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde of Synthesis Example 2 was dissolved in 150 mL of toluene, 5.0 g of 2-butyl-1,3-propanediol, 0.3 g of p-toluenesulfonic acid Hydrate was added and the reaction was carried out under dehydrating conditions. After completion of the reaction, purification was performed by silica gel column chromatography to obtain 5.6 g of an oily product of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 14) (yield: 65.4%).
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.17 (1H, d, J = 5.4 Hz), 4.07 (2H, dd, J = 3.6 Hz, 8.1 Hz), 3.37 (2H, d, J = 6.3 Hz), 3.27 (2H, dd, J = 11.1 Hz), 1.90 (5H, m), 1.7-1.0 (14H), 0.89 (3H)

（実施例８）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１７）の合成−
３．３ｇの合成例２の４−（クロロメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、４．９ｇの２−（４−プロピルシクロヘキシル）−１，３−プロパンジオール、０．１９ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、脱水条件下で反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行ったのち、アセトニトリルより再結晶し、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１７）を２．６ｇ得た（収率３７．２％）。得られた化合物の融点は１７５℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１５（２Ｈ）、４．１４（１Ｈ，ｄ，５．４Ｈｚ）、３．３８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ）、３．３７（２Ｈ，ｄ，６．３Ｈｚ）、１．８８（４Ｈ，ｍ）、１．８−１．４（８Ｈ）、１．２７（２Ｈ，ｍ）、１．２−０．９（９Ｈ）、０．８７（３Ｈ，ｔ）、０．８（２Ｈ） (Example 8)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 17)-
3.3 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde of Synthesis Example 2 was dissolved in 150 mL of toluene, and 4.9 g of 2- (4-propylcyclohexyl) -1,3-propanediol, 0.19 g of p. -Toluenesulfonic acid monohydrate was added and the reaction was carried out under dehydrating conditions. After completion of the reaction, the residue was purified by silica gel column chromatography and then recrystallized from acetonitrile to obtain 2.6 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 17) (yield 37.2%). The melting point of the obtained compound was 175 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.15 (2H), 4.14 (1H, d, 5.4 Hz), 3.38 (2H, dd, J = 11.3 Hz), 3.37 (2H, d , 6.3 Hz), 1.88 (4H, m), 1.8-1.4 (8H), 1.27 (2H, m), 1.2-0.9 (9H), 0.87 ( 3H, t), 0.8 (2H)

（実施例９）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１８）の合成−
３．０ｇの合成例２の４−（クロロメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、４．８ｇの２−（４−ブチルシクロヘキシル）−１，３−プロパンジオール、０．１８ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、脱水条件下で反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行ったのち、ヘキサンより再結晶し、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１８）を２．０ｇ得た（収率３０．０％）。得られた化合物の融点は１８０℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１５（２Ｈ）、４．１４（１Ｈ，ｄ，５．１Ｈｚ）、３．３８（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．３Ｈｚ）、３．３７（２Ｈ，ｄ，６．３Ｈｚ）、１．９０（４Ｈ，ｍ）、１．８−１．４（７Ｈ）、１．４−０．７（１９Ｈ） Example 9
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 18)-
3.0 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde of Synthesis Example 2 was dissolved in 150 mL of toluene, and 4.8 g of 2- (4-butylcyclohexyl) -1,3-propanediol, 0.18 g of p. -Toluenesulfonic acid monohydrate was added and the reaction was carried out under dehydrating conditions. After completion of the reaction, the residue was purified by silica gel column chromatography and then recrystallized from hexane to obtain 2.0 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 18) (yield 30.0%). The melting point of the obtained compound was 180 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectral data (CDCl ₃ ): 4.15 (2H), 4.14 (1H, d, 5.1 Hz), 3.38 (2H, dd, J = 11.3 Hz), 3.37 (2H, d , 6.3 Hz), 1.90 (4H, m), 1.8-1.4 (7H), 1.4-0.7 (19H)

（実施例１０）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１９）の合成−
３．５ｇの合成例２の４−（クロロメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを１５０ｍＬのトルエンに溶解し、４．９ｇの２−（４−エチルシクロヘキシル）−１，３−プロパンジオール、０．２１ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、脱水条件下で反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行ったのち、ヘキサンより再結晶し、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号１９）を２．６ｇ得た（収率３６．１％）。得られた化合物の融点は１６４℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１３（３Ｈ）、３．３７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ）、３．３６（２Ｈ，ｄ，６．２Ｈｚ）、１．９０（４Ｈ，ｍ）、１．８−１．４（７Ｈ）、１．２−０．９（１０Ｈ）、０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝Ｈｚ）、０．８７（２Ｈ，ｍ） (Example 10)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 19)-
3.5 g of 4- (chloromethyl) cyclohexanecarbaldehyde of Synthesis Example 2 was dissolved in 150 mL of toluene, and 4.9 g of 2- (4-ethylcyclohexyl) -1,3-propanediol, 0.21 g of p. -Toluenesulfonic acid monohydrate was added and the reaction was carried out under dehydrating conditions. After completion of the reaction, the residue was purified by silica gel column chromatography and then recrystallized from hexane to obtain 2.6 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 19) (yield 36.1%). The melting point of the obtained compound was 164 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.13 (3H), 3.37 (2H, dd, J = 10.6 Hz), 3.36 (2H, d, 6.2 Hz), 1.90 (4H, m ), 1.8-1.4 (7H), 1.2-0.9 (10H), 0.88 (3H, t, J = Hz), 0.87 (2H, m)

（実施例１１）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号２５）の合成−
２１．５ｇの合成例１の４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを２００ｍＬ、１５．０ｇの２−（４−エチルシクロヘキシル）−１，３−プロパンジオール、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物、５００ｍＬのトルエンを混合し、ｎｍｒで反応を追跡しながら共沸脱水反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒から再結晶を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号２５）を１０．４ｇ得た（収率３１．８％）。得られた化合物の融点は１５３〜１５５℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：７．７７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、４．１４（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１１．２Ｈｚ）、３．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）、３．３６（２Ｈ，ｄｄ，１１．２Ｈｚ）、２．４５（３Ｈ，ｓ）、１．８２−０．７６（２６Ｈ） (Example 11)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 25)-
200 mL, 25.0 g of 4- (p-toluenesulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde from Synthesis Example 1, 15.0 g of 2- (4-ethylcyclohexyl) -1,3-propanediol, 0.5 g of p- Toluenesulfonic acid monohydrate and 500 mL of toluene were mixed, and an azeotropic dehydration reaction was performed while monitoring the reaction with nmr. After completion of the reaction, the residue was purified by silica gel column chromatography and recrystallized from a mixed solvent of hexane and ethyl acetate to obtain 10.4 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 25) (yield 31. 8%). The melting point of the obtained compound was 153 to 155 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 7.77 (2H, d, J = 8.0 Hz), 7.33 (2H, d, J = 8.0 Hz), 4.14 (2H, dd, J = 4. 4 Hz, 11.2 Hz), 3.80 (2 H, d, J = 6.8 Hz), 3.36 (2 H, dd, 11.2 Hz), 2.45 (3 H, s), 1.82-0. 76 (26H)

（実施例１２）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号２６）の合成−
１１．７ｇの合成例１の４−（メチルスルホニルオキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒドを３００ｍＬのトルエンに溶解し、８．４ｇの２−ブチル−１，３−プロパンジオール、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を加え、ｎｍｒで反応進行を追跡しながら共沸脱水反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒から再結晶を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号２６）を２．７ｇ得た（収率１５．２％）。得られた化合物の融点は９２〜９３℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、４．０７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，１１．７Ｈｚ）、４．０２（２Ｈ，ｄ，６．６Ｈｚ）、３．２７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ）、２．９９（３Ｈ，ｓ）、２．０−０．９３（１７Ｈ）、０．８８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ） Example 12
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 26)-
11.7 g of 4- (methylsulfonyloxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde of Synthesis Example 1 was dissolved in 300 mL of toluene, and 8.4 g of 2-butyl-1,3-propanediol and 0.5 g of p-toluenesulfone were dissolved. Acid monohydrate was added, and azeotropic dehydration reaction was performed while monitoring the reaction progress with nmr. After completion of the reaction, the residue was purified by silica gel column chromatography and recrystallized from a mixed solvent of hexane and ethyl acetate to obtain 2.7 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 26) (yield 15.2). %). The melting point of the obtained compound was 92 to 93 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.17 (1H, d, J = 5.1 Hz), 4.07 (2H, dd, J = 4.5 Hz, 11.7 Hz), 4.02 (2H, d, 6.6 Hz), 3.27 (2 H, dd, J = 11.4 Hz), 2.99 (3 H, s), 2.0-0.93 (17 H), 0.88 (3 H, t, J = 4.8Hz)

（実施例１３）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号２７）の合成−
１４．６ｇの“Macromolecules 1992,25, 3362-3364”に記載の方法で合成した４−（アセトキシメチル）シクロヘキサンカルボアルデヒド１１．６ｇの２−ブチル−１，３−プロパンジオール、５００ｍＬのトルエン、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸一水和物を混合し、共沸脱水反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、更にヘキサンから２度再結晶を行って、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号２７）を１．８ｇ得た（収率７．６％）。得られた化合物の融点は５０．５〜５２℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：４．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）、４．０７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１１．６Ｈｚ）、３．８７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ）、３．２７（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ）、２．０５（３Ｈ，ｓ）、１．２６（１Ｈ，ｍ）、１．８７（２Ｈ）、１．８０（２Ｈ）、１．５８（２Ｈ，ｍ）、１．４８（２Ｈ，ｍ）、１．２５（４Ｈ，ｍ）、１．１０（２Ｈ，ｍ）、１．０５−０．９（２Ｈ）、０．８７９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ） (Example 13)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 27)-
11.6 g of 4- (acetoxymethyl) cyclohexanecarbaldehyde synthesized by the method described in “Macromolecules 1992, 25, 3362-3364” 11.6 g of 2-butyl-1,3-propanediol, 500 mL of toluene, 0 0.5 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate was mixed and subjected to azeotropic dehydration reaction. After completion of the reaction, the product was purified by silica gel column chromatography and further recrystallized twice from hexane to obtain 1.8 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 27) (yield 7.6%). ). The melting point of the obtained compound was 50.5 to 52 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 4.16 (1H, d, J = 5.2 Hz), 4.07 (2H, dd, J = 4.8 Hz, 11.6 Hz), 3.87 (2H, d, J = 6.4 Hz), 3.27 (2H, dd, J = 11.6 Hz), 2.05 (3H, s), 1.26 (1H, m), 1.87 (2H), 1.80 (2H), 1.58 (2H, m), 1.48 (2H, m), 1.25 (4H, m), 1.10 (2H, m), 1.05-0.9 (2H) , 0.879 (3H, t, J = 7.2 Hz)

（実施例１４）
−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号３０）の合成−
合成例３の４−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）−１−フルオロ−１−シクロヘキサンカルボアルデヒド２．８ｇ、３０ｍＬのトルエン、２．０ｇの２−ペンチル−１，３−プロパンジオール、触媒量のｐ−トルエンスルホン酸一水和物を混合し、共沸脱水反応を行った。反応終了後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製を行い、ヘキサンと酢酸エチルの混合溶媒から再結晶を行い、シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物（化合物番号３０）を１．２ｇ得た（収率３０．４％）。得られた化合物の融点は１２５〜１２８℃であった。
〔ｎｍｒの結果〕
ｎｍｒスペクトルデータ（ＣＤＣｌ_３）：７．７８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、７．３３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ）、４．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ）、４．０９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ，８．７Ｈｚ）、３．８２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、３．３０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、２．４５（３Ｈ，ｓ）、１．９３（３Ｈ，ｍ）、１．８−１．２（１３Ｈ）、１．０２（２Ｈ，ｍ）、０．８７（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．１Ｈｚ） (Example 14)
-Synthesis of cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 30)-
2.8 g of Synthesis Example 3 4- (p-toluenesulfonyloxymethyl) -1-fluoro-1-cyclohexanecarbaldehyde, 30 mL toluene, 2.0 g 2-pentyl-1,3-propanediol, catalytic amount p-Toluenesulfonic acid monohydrate was mixed and subjected to azeotropic dehydration reaction. After completion of the reaction, the product was purified by silica gel column chromatography and recrystallized from a mixed solvent of hexane and ethyl acetate to obtain 1.2 g of a cyclohexyl-1,3-dioxane compound (Compound No. 30) (yield 30. 4%). The melting point of the obtained compound was 125 to 128 ° C.
[Results of nmr]
nmr spectrum data (CDCl ₃ ): 7.78 (2H, d, J = 6.0 Hz), 7.33 (2H, d, J = 6.0 Hz), 4.32 (1H, d, J = 5. 4 Hz), 4.09 (2H, dd, J = 3.3 Hz, 8.7 Hz), 3.82 (2H, d, J = 5.1 Hz), 3.30 (2H, dd, J = 8.4 Hz) ), 2.45 (3H, s), 1.93 (3H, m), 1.8-1.2 (13H), 1.02 (2H, m), 0.87 (3H, t, J = 5.1Hz)

本発明の新規な２−シクロヘキシル−１，３−ジオキサン化合物は、種々の誘導体合成のビルディングブロックに用いられ、特に液晶性化合物として有用であり、また、液晶性化合物の中間体として利用される。 The novel 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound of the present invention is used as a building block for synthesizing various derivatives, is particularly useful as a liquid crystal compound, and is used as an intermediate of the liquid crystal compound.

Claims

A 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound represented by the following general formula (I):
However, in the general formula (I), R ¹ and R ² may be the same as or different from each other, and may be a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a carboxyl group, an alkyl group, an alkenyl group, Represents any one of an alkynyl group, an aryl group, an alkoxycarbonyl group, a carbamoyl group, an alkoxy group, and an aryloxy group, and the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxycarbonyl group, alkoxy group, and aryloxy group May be further substituted with a substituent.
A represents any one of a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an alkenyl group, and an alkynyl group, and the alkyl group, alkenyl group, and alkynyl group may be further substituted with a substituent.
X represents any of a halogen atom, an acyloxy group, a sulfonyloxy group, an alkoxy group, an alkylthio group, an arylthio group, and an aryloxy group, and the acyloxy group, sulfonyloxy group, alkoxy group, alkylthio group, arylthio group, and The aryloxy group may be further substituted with a substituent.

The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound according to claim 1, wherein R ¹ is a substituted or unsubstituted alkyl group.

The ² -cyclohexyl-1,3-dioxane compound according to claim 1, wherein R ² is any one of a hydrogen atom and a halogen atom.

The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound according to any one of claims 1 to 3, wherein A is any one of a hydrogen atom and a halogen atom.

The 2-cyclohexyl-1,3-dioxane compound according to any one of claims 1 to 4, which is used as a liquid crystal compound.