JP2009193006A - Spacer particle dispersion liquid, and liquid crystal display device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、インクジェット装置による基板上へのスペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示装置を得ることができるスペーサ粒子分散液、及び、液晶表示装置に関する。 The present invention relates to a spacer particle dispersion that can continuously and stably dispose spacer particles on a substrate by an ink jet device, and to obtain a liquid crystal display device having excellent display quality, and a liquid crystal display device. .
液晶表示装置は、現在、パソコン、携帯電子機器等に広く用いられている。この液晶表示装置は、一般に、カラーフィルタ、ブラックマトリクス、線状透明電極、及び、配向膜等が形成された2枚の基板に液晶を挟持させてなる構造を有する。ここで、2枚の基板の間隔を規制し、適正な液晶層の厚みを維持しているのがスペーサ粒子である。 Liquid crystal display devices are currently widely used in personal computers, portable electronic devices, and the like. The liquid crystal display device generally has a structure in which liquid crystal is sandwiched between two substrates on which a color filter, a black matrix, a linear transparent electrode, an alignment film, and the like are formed. Here, it is the spacer particles that regulate the distance between the two substrates and maintain the proper thickness of the liquid crystal layer.
従来の液晶表示装置の製造方法においては、スペーサ粒子を配置する方法としては、イソプロパノール等の溶媒を用いてスペーサ粒子を基板上に散布する湿式散布法や、溶媒を使用せずに空気の圧力を利用してスペーサ粒子を基板上に散布する乾式散布法等が用いられていた。
しかしながら、このような方法では、画素電極が形成された基板上にスペーサ粒子がランダムかつ均一に散布するため、画素電極上、すなわち、液晶表示装置の表示部(画素領域)にスペーサ粒子が配置されやすかった。
一般的なスペーサ粒子は、合成樹脂やガラス等からなるため、スペーサ粒子が画素電極上に配置されると、偏光が乱されて偏光性を失うという現象、いわゆる消偏現象が生じて、スペーサ粒子部分が光漏れを起こすという問題が発生することがあった。また、スペーサ粒子表面において液晶の配向が乱れることにより、光抜けが起こりコントラストや色調が低下して表示品質が悪化するという問題が発生することがあった。
更に、TFT液晶表示装置においては、基板上にTFT素子が配置されているが、このTFT素子上にスペーサ粒子が配置されたときに、基板に圧力が加わると、素子が破損することがあった。
In the conventional method of manufacturing a liquid crystal display device, spacer particles can be arranged by a wet spraying method in which spacer particles are sprayed on a substrate using a solvent such as isopropanol, or by applying air pressure without using a solvent. A dry spraying method or the like in which spacer particles are sprayed on a substrate by use has been used.
However, in such a method, spacer particles are randomly and uniformly distributed on the substrate on which the pixel electrode is formed. Therefore, the spacer particles are arranged on the pixel electrode, that is, on the display unit (pixel region) of the liquid crystal display device. It was easy.
Since general spacer particles are made of synthetic resin, glass, or the like, when the spacer particles are arranged on the pixel electrode, a phenomenon in which the polarization is disturbed and the polarization property is lost, so-called depolarization phenomenon occurs. There was a problem that the part leaked light. Further, the alignment of the liquid crystal on the surface of the spacer particles may cause a problem that light is lost and the contrast and color tone are lowered to deteriorate the display quality.
Furthermore, in the TFT liquid crystal display device, the TFT element is disposed on the substrate. However, when spacer particles are disposed on the TFT element, the element may be damaged if pressure is applied to the substrate. .
スペーサ粒子のランダム散布に伴う問題点を解決するために、スペーサ粒子を非画素領域に配置する種々の試みがなされている。
スペーサ粒子を非画素領域、すなわち特定の位置のみに配置する方法として、例えば、特許文献1には、スペーサ粒子を配置させる部分にマスクの開口部を合致させた後、マスクを通してスペーサ粒子を散布する方法が示されている。また、例えば、特許文献2には、感光体に静電的にスペーサ粒子を吸着させた後、透明基板にスペーサ粒子を転写する方法が示されている。更に、特許文献3には、基板上の画素電極に電圧を印加し、帯電させたスペーサ粒子を散布することで、静電的斥力によってスペーサ粒子を特定の位置に配置する液晶表示装置の製造方法が示されている。
In order to solve the problems associated with random dispersion of spacer particles, various attempts have been made to arrange the spacer particles in the non-pixel region.
As a method of arranging spacer particles only in a non-pixel region, that is, a specific position, for example, in
しかしながら、特許文献1、2に記載の方法では、基板表面にマスクや感光体を直接接触させるために、基板表面に形成されている配向膜が損傷することがあり、液晶表示装置の画質が低下することがあった。一方、特許文献3に記載の方法では、スペーサ粒子の配置パターンに従って電極を構成する必要があるため、任意の位置にスペーサ粒子を配置することが困難であった。
However, in the methods described in
他方、特許文献4には、インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上に配置する方法が示されている。この方法では、基板上にマスクや感光体を直接接触させることがないため、基板表面に形成されている配向膜が損傷することなく、特定の位置に特定のパターンでスペーサ粒子を配置できるので有効な方法であるといえる。 On the other hand, Patent Document 4 discloses a method of arranging spacer particles on a substrate using an ink jet apparatus. This method is effective because spacer particles can be arranged in a specific pattern at a specific position without damaging the alignment film formed on the surface of the substrate because the mask or photoconductor is not directly contacted on the substrate. It can be said that it is a simple method.
インクジェット装置を用いてスペーサ粒子を基板上に配置する方法では、スペーサ粒子と該スペーサ粒子を分散させる分散溶媒とを含有するスペーサ粒子分散液をインクジェット装置内に充填し、ノズルからスペーサ粒子分散液の液滴を基板に向けて吐出している。しかしながら、実際にインクジェット装置を用いてスペーサ粒子分散液の吐出を行うと、スペーサ粒子の吐出不良等を起こすという問題があった。 In the method of disposing spacer particles on a substrate using an ink jet device, a spacer particle dispersion liquid containing spacer particles and a dispersion solvent for dispersing the spacer particles is filled into the ink jet device, and the spacer particle dispersion liquid is discharged from a nozzle. Droplets are discharged toward the substrate. However, when the spacer particle dispersion liquid is actually discharged using an ink jet apparatus, there is a problem that a discharge failure of the spacer particles occurs.
スペーサ粒子の吐出不良等を解決する手段として、例えば、スペーサ粒子に表面処理を施すことで(自己分散処理)、分散溶媒に対する分散性を付与し、吐出性等の向上を図る方法が知られている。
しかしながら、このような自己分散処理が施されたスペーサ粒子を含むスペーサ粒子分散液をインクジェット装置により吐出しようとすると、しばしば吐出中に吐出安定性が低下してしまったり、吐出した液滴中にスペーサ粒子が含まれない場合があったりするという問題があった。
However, when a spacer particle dispersion liquid containing spacer particles subjected to such a self-dispersion treatment is to be ejected by an ink jet apparatus, the ejection stability often decreases during ejection, or spacers are contained in the ejected droplets. There was a problem that particles may not be included.
本発明は、上記現状に鑑み、インクジェット装置による基板上へのスペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示装置を得ることができるスペーサ粒子分散液、及び、液晶表示装置を提供することを目的とする。 In view of the above-described situation, the present invention provides a spacer particle dispersion that can continuously and stably dispose spacer particles on a substrate by an ink jet device, and that can provide a liquid crystal display device excellent in display quality. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device.
本発明は、インクジェット装置を用いて、スペーサ粒子を基板上の任意の位置に配置するためのスペーサ粒子分散液であって、スペーサ粒子と溶媒とを含有し、上記スペーサ粒子は、基材微粒子の表面にプラス帯電ブロックとマイナス帯電ブロックとを含有するAB型又はABA型のブロック共重合体を有するスペーサ粒子分散液である。
以下に本発明を詳述する。
The present invention is a spacer particle dispersion for disposing spacer particles at an arbitrary position on a substrate using an ink jet apparatus, and contains spacer particles and a solvent. A spacer particle dispersion having an AB type or ABA type block copolymer containing a positively charged block and a negatively charged block on the surface.
The present invention is described in detail below.
本発明者らは、自己分散処理を施したスペーサ粒子を含むスペーサ粒子分散液が、吐出中に吐出安定性が低下してしまったり、吐出した液滴中にスペーサ粒子が含まれない原因が、インクジェット装置の流路内に設置されるSUS製のフィルターの目詰まりにあることを見出した。自己分散処理としては、スペーサ粒子の表面にカルボキシル基等の親水基を導入することによりマイナスに帯電させ、その静電反発力により分散性を付与することが一般的である。一方、SUS製のフィルターは、通常プラスに帯電している。従って、プラスに帯電したSUS製のフィルターにマイナスに帯電したスペーサ粒子が付着して取れないことにより、フィルターの目詰まりが生じやすくなるものと考えられる。
ところで、例えば、イソプロパノール、水、エチレングリコールの3元系のような複数の溶剤の混合溶剤を媒体としたスペーサ粒子分散液においては、例えば図1に示すようにスペーサ粒子分散液を吐出してからスペーサ粒子が基板に配置されるまでに溶媒組成が変化する。この溶媒組成の変化により、疎水性が高まったり親水性が高まったりするが、従来のような自己分散処理を施したスペーサ粒子は、溶媒組成の変化に対応できず、分散性が低下してしまい、配置させたい箇所以外の場所にもスペーサ粒子が配置されてしまうことがあることも明らかになってきた。
そこで、本発明者らは、鋭意検討の結果、プラス帯電ブロックとマイナス帯電ブロックとを含有するブロック共重合体を表面に有するスペーサ粒子を用いることにより、図2に示すように溶媒組成の変化によってスペーサ粒子表面のグラフト鎖のコンフォメーションが変化するため、インクジェット装置から吐出されてからスペーサ粒子が基板に配置されるまでスペーサ粒子の分散性に優れたスペーサ粒子分散液を得ることができるということを見出し、本発明を完成させるに至った。
The inventors of the present invention have a spacer particle dispersion liquid containing spacer particles subjected to self-dispersion treatment, the discharge stability is reduced during discharge, or the reason why the spacer particles are not included in the discharged droplets. It was found that the SUS filter installed in the flow path of the ink jet apparatus is clogged. As a self-dispersing treatment, it is common to introduce a hydrophilic group such as a carboxyl group on the surface of the spacer particles so as to be negatively charged and to impart dispersibility by the electrostatic repulsive force. On the other hand, SUS filters are usually positively charged. Therefore, it is considered that clogging of the filter is likely to occur because the negatively charged spacer particles adhere to the positively charged SUS filter and cannot be removed.
By the way, for example, in a spacer particle dispersion using a mixed solvent of a plurality of solvents such as a ternary system of isopropanol, water and ethylene glycol as a medium, for example, as shown in FIG. The solvent composition changes before the spacer particles are placed on the substrate. This change in solvent composition increases hydrophobicity or hydrophilicity, but spacer particles that have been subjected to conventional self-dispersion treatment cannot cope with changes in the solvent composition, resulting in a decrease in dispersibility. It has also been clarified that spacer particles may be arranged in places other than the place to be arranged.
Therefore, as a result of intensive studies, the present inventors have used spacer particles having a block copolymer containing a positively charged block and a negatively charged block on the surface, thereby changing the solvent composition as shown in FIG. Since the conformation of the graft chains on the surface of the spacer particles changes, it is possible to obtain a spacer particle dispersion excellent in the dispersibility of the spacer particles until the spacer particles are arranged on the substrate after being ejected from the ink jet apparatus. The headline and the present invention have been completed.
本発明のスペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子と溶媒とを含有し、上記スペーサ粒子は、基材微粒子の表面にプラス帯電ブロックとマイナス帯電ブロックとを含有するAB型又はABA型のブロック共重合体を有する。 The spacer particle dispersion of the present invention contains spacer particles and a solvent, and the spacer particles contain AB-type or ABA-type block copolymers containing a positively charged block and a negatively charged block on the surface of the substrate fine particles. Have
上記基材微粒子は、表面にブロック共重合体が存在すればシリカ粒子等の無機系粒子であっても、有機高分子等からなる有機系粒子であってもよい。なかでも、液晶表示装置の基板上に形成された配向膜を傷つけない適度の硬度を有し、熱膨張や熱収縮による厚みの変化に追随しやすく、かつ、セル内部でのスペーサ粒子の移動が比較的少ないことから、有機系粒子が好適である。 The substrate fine particles may be inorganic particles such as silica particles or organic particles made of an organic polymer as long as the block copolymer is present on the surface. In particular, it has an appropriate hardness that does not damage the alignment film formed on the substrate of the liquid crystal display device, can easily follow a change in thickness due to thermal expansion and contraction, and the movement of the spacer particles inside the cell. Organic particles are preferred because they are relatively few.
上記有機系粒子としては特に限定されないが、強度等を適切な範囲に調整することができることから、単官能単量体と多官能単量体との共重合体が好適である。
上記単官能単量体としては特に限定されず、例えば、スチレン、αーメチルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン誘導体;塩化ビニル;酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類;アクリロニトリル等の不飽和ニトリル類;(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ステアリル、エチレングリコール(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸エステル誘導体等が挙げられる。これら単官能単量体は単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。
Although it does not specifically limit as said organic type particle | grains, Since the intensity | strength etc. can be adjusted to a suitable range, the copolymer of a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer is suitable.
The monofunctional monomer is not particularly limited. For example, styrene derivatives such as styrene, α-methylstyrene, p-methylstyrene, p-chlorostyrene, and chloromethylstyrene; vinyl chloride; vinyl such as vinyl acetate and vinyl propionate. Esters; unsaturated nitriles such as acrylonitrile; methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, ethylene glycol Examples include (meth) acrylate derivatives such as (meth) acrylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, pentafluoropropyl (meth) acrylate, and cyclohexyl (meth) acrylate. These monofunctional monomers may be used independently and 2 or more types may be used together.
上記多官能単量体としては、例えば、ジビニルベンゼン、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ジアリルフタレート及びその異性体、トリアリルイソシアヌレート及びその誘導体、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート及びその誘導体、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(メタクリロキシエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート等の2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、2,2−水添ビス[4−(アクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシポリプロポキシ)フェニル]プロパンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これら多官能単量体は単独で用いられてもよいし、2種以上が併用されてもよい。 Examples of the polyfunctional monomer include divinylbenzene, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethanetri (meth) acrylate, tetramethylolpropanetetra (meta ) Acrylate, diallyl phthalate and its isomer, triallyl isocyanurate and its derivative, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and its derivative, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (Meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate such as ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, etc. Ripropylene glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (methacrylic) 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane di (meth) acrylate such as loxyethoxy) phenyl] propanedi (meth) acrylate, 2,2-hydrogenated bis [4- (acryloxypolyethoxy) Phenyl] propane di (meth) acrylate, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxypolypropoxy) phenyl] propane di (meth) acrylate, and the like. These polyfunctional monomers may be used independently and 2 or more types may be used together.
また、上記単官能単量体又は多官能単量体は、親水基を有するものであってもよい。上記親水基としては特に限定されず、例えば、水酸基、カルボキシル基、スルホニル基、ホスホフォニル基、アミノ基、アミド基、エーテル基、チオール基、チオエーテル基が挙げられる。
上記親水基を有する単量体としては特に限定されず、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、(ポリ)カプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、アリルアルコール、グリセリンモノアリルエーテル等の水酸基を有する単量体;(メタ)アクリル酸、α−エチルアクリル酸、クロトン酸等のアクリル酸、及び、それらのα−又はβ−アルキル誘導体;フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸;これら不飽和ジカルボン酸のモノ2−(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル誘導体等のカルボキシル基を有する単量体;t−ブチルアクリルアミドスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホニル基を有する単量体;ビニルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のホスフォニル基を有する単量体;ジメチルアミノエチルメタクリレートやジエチルアミノエチルメタクリレート等のアクリロイル基を有するアミン類等のアミノ基を有する化合物;(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレート等の水酸基とエーテル基とをともに有する単量体;(ポリ)エチレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、(ポリ)プロピレングリコール(メタ)アクリレートの末端アルキルエーテル、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート等のエーテル基を有する単量体;(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、ビニルピロリドン等のアミド基を有する単量体等が挙げられる。
The monofunctional monomer or polyfunctional monomer may have a hydrophilic group. The hydrophilic group is not particularly limited, and examples thereof include a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonyl group, a phosphonyl group, an amino group, an amide group, an ether group, a thiol group, and a thioether group.
The monomer having a hydrophilic group is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1,4-hydroxybutyl (meth) acrylate, (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate, allyl Monomers having a hydroxyl group such as alcohol and glyceryl monoallyl ether; acrylic acids such as (meth) acrylic acid, α-ethylacrylic acid and crotonic acid, and α- or β-alkyl derivatives thereof; fumaric acid and maleic acid Unsaturated dicarboxylic acids such as acid, citraconic acid and itaconic acid; monomers having a carboxyl group such as mono 2- (meth) acryloyloxyethyl ester derivatives of these unsaturated dicarboxylic acids; t-butylacrylamide sulfonic acid, styrene sulfone Acid, 2-acrylamido-2-methylpropane Monomers having a sulfonyl group such as sulfonic acid; Monomers having a phosphonyl group such as vinyl phosphate and 2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate; Amines having an acryloyl group such as dimethylaminoethyl methacrylate and diethylaminoethyl methacrylate A compound having an amino group such as; a monomer having both a hydroxyl group and an ether group such as (poly) ethylene glycol (meth) acrylate and (poly) propylene glycol (meth) acrylate; (poly) ethylene glycol (meth) acrylate Monomers having ether groups such as terminal alkyl ethers of (poly) propylene glycol (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, etc .; (meth) acrylamide, methylol Meth) acrylamide, monomers having a amide group such as vinyl pyrrolidone.
上記有機系粒子を製造する方法としては特に限定されず、例えば、懸濁重合法、シード重合法、分散重合法等の各種重合法が挙げられる。
上記懸濁重合法は、得られる粒子の粒子径分布が比較的広く多分散の粒子が得られるため、スペーサ粒子として利用する場合には分級操作を行って、所望の粒子径や粒子径分布を有する多品種の粒子を得る際に好適に用いられる。一方、シード重合、分散重合は、分級工程を経ることなく単分散粒子が得られるので、特定の粒子径の粒子を大量に製造する際に好適である。
The method for producing the organic particles is not particularly limited, and examples thereof include various polymerization methods such as a suspension polymerization method, a seed polymerization method, and a dispersion polymerization method.
In the suspension polymerization method, since the particle size distribution of the obtained particles is relatively wide and polydisperse particles are obtained, when used as spacer particles, classification operation is performed to obtain a desired particle size or particle size distribution. It is suitably used when obtaining various types of particles. On the other hand, seed polymerization and dispersion polymerization are suitable for producing a large amount of particles having a specific particle diameter because monodispersed particles can be obtained without going through a classification step.
上記懸濁重合法、シード重合法、分散重合法等において用いられる重合開始剤としては特に限定されず、例えば、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、オルソクロロ過酸化ベンゾイル、オルソメトキシ過酸化ベンゾイル、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、ジ−t−ブチルパーオキサイド等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサカルボニトリル、アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系化合物等が挙げられる。 The polymerization initiator used in the suspension polymerization method, seed polymerization method, dispersion polymerization method and the like is not particularly limited. For example, benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, orthochlorobenzoyl peroxide, orthomethoxybenzoyl peroxide, 3, Organic peroxides such as 5,5-trimethylhexanoyl peroxide, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, di-t-butyl peroxide, azobisisobutyronitrile, azobiscyclohexacarbonitrile And azo compounds such as azobis (2,4-dimethylvaleronitrile).
また、上記基材微粒子としては、ミクロパール(積水化学工業社製)等も好適に用いられる。 Further, as the substrate fine particles, micropearl (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) or the like is also preferably used.
上記ブロック共重合体は、プラス帯電ブロックとマイナス帯電ブロックとを含有するAB型又はABA型である。
ここで、AB型のブロック共重合体とは、下記(1)のようにAで示される重合性単量体の重合鎖とBで示される重合鎖とがそれぞれブロックとして連鎖されている共重合体であり、ABA型のブロック共重合体とは、下記(2)のような共重合体である。なお、本発明においては、プラス帯電ブロック、マイナス帯電ブロックのいずれがA、Bに対応してもよい。
AAA・・・・AAABBB・・・・BBB (1)
AA・・・・AABB・・・・BBAA・・・・AA (2)
また、上記ブロック共重合体は、AnBm型(n、m=50〜2000)、AnBmAo型(n,m,o=100〜2000)のようにABブロックで重合度が異なっていてもよいし、前後のAブロックで重合度が異なっていてもよい。
The block copolymer is an AB type or an ABA type containing a positively charged block and a negatively charged block.
Here, the AB type block copolymer is a copolymer in which a polymer chain of a polymerizable monomer represented by A and a polymer chain represented by B are chained as a block as shown in (1) below. The ABA block copolymer is a copolymer as shown in (2) below. In the present invention, either the positive charging block or the negative charging block may correspond to A and B.
AAA ... AAABBBB ... BBB (1)
AA ... AAABB ... BBAA ... AA (2)
Further, the block copolymer, A n B m-type (n, m = 50~2000), A n B m A o type (n, m, o = 100~2000 ) polymerization degree of AB block as May be different, or the degree of polymerization may be different between the front and back A blocks.
図1に示すように、例えば、本発明のスペーサ粒子分散液の溶媒がイソプロパノール、水及びエチレングリコールの混合溶媒からなる場合には、まず、スペーサ粒子分散液をインクジェット装置から吐出させたときには、イソプロパノール、水及びエチレングリコールが存在し、疎水性の状態である(図1(1))。時間の経過とともに、まずイソプロパノールが揮発し、親水性の状態になる(図1(2))。さらに時間が経過すると水が揮発し、弱親水性の状態になる(図1(3))。
例えば、スペーサ粒子について、図2のようにブロック共重合体がAB型であり、基材微粒子に対してプラス帯電ブロックが結合している場合、溶媒組成が図1(1)の場合には、上記スペーサ粒子はプラス帯電ブロックが表面に存在した塩を形成する(図2(1))。溶媒組成が図1(2)の場合には、溶媒の誘電率が上昇するため、上記スペーサ粒子は塩が乖離し、マイナス帯電ブロックが表面に存在する(図2(2))。溶媒組成が図1(3)の場合には、溶媒の誘電率が低下し、上記スペーサ粒子は再びプラス帯電ブロックが表面に存在した塩を形成する(図2(3))。
ここで、インクジェット装置の接液部は、通常SUSからなりプラスに帯電しており、基板は通常ポリイミドからなりマイナスに帯電している。従って、スペーサ粒子が図2(1)の状態では、スペーサ粒子がSUSからなる接液部に付着することがない(スペーサ粒子表面のプラス帯電ブロックと、プラス電荷の接液部とが反発するため)。スペーサ粒子が図2(2)の状態では、スペーサ粒子分散液中のイソプロパノールが揮発することにより液滴が縮小しても、スペーサ粒子が基板に固着することなく液滴の縮小に合わせてスペーサ粒子が寄り集まり、スペーサ粒子分散液中に分散している(スペーサ粒子表面のマイナス帯電ブロックと、マイナス電荷の基板とが反発するため)。スペーサ粒子が図2(3)の状態では、スペーサ粒子が基板に配置される(スペーサ粒子表面のプラス帯電粒子と、マイナス電荷の基板とが引き合うため)。
As shown in FIG. 1, for example, when the solvent of the spacer particle dispersion of the present invention is a mixed solvent of isopropanol, water and ethylene glycol, first, when the spacer particle dispersion is discharged from the ink jet apparatus, the isopropanol Water and ethylene glycol are present and are in a hydrophobic state (FIG. 1 (1)). As time elapses, isopropanol volatilizes first and becomes hydrophilic (FIG. 1 (2)). Furthermore, when time passes, water will volatilize and it will be in a weak hydrophilic state (FIG. 1 (3)).
For example, for the spacer particles, when the block copolymer is AB type as shown in FIG. 2 and the positively charged block is bonded to the base particles, the solvent composition is as shown in FIG. The spacer particles form a salt having a positively charged block on the surface (FIG. 2 (1)). When the solvent composition is as shown in FIG. 1 (2), the dielectric constant of the solvent increases, so that the spacer particles are separated from the salt, and a negatively charged block is present on the surface (FIG. 2 (2)). When the solvent composition is as shown in FIG. 1 (3), the dielectric constant of the solvent decreases, and the spacer particles again form a salt with a positively charged block on the surface (FIG. 2 (3)).
Here, the liquid contact portion of the ink jet apparatus is usually made of SUS and is positively charged, and the substrate is usually made of polyimide and is negatively charged. Therefore, when the spacer particles are in the state shown in FIG. 2 (1), the spacer particles do not adhere to the wetted part made of SUS (because the positively charged block on the surface of the spacer particles and the wetted part of the positive charge are repelled). ). When the spacer particles are in the state shown in FIG. 2 (2), even if the droplets shrink due to volatilization of the isopropanol in the spacer particle dispersion, the spacer particles do not adhere to the substrate, and the spacer particles match the shrinkage of the droplets. Are gathered and dispersed in the spacer particle dispersion (because the negatively charged block on the surface of the spacer particles and the negatively charged substrate are repelled). In the state shown in FIG. 2C, the spacer particles are arranged on the substrate (because the positively charged particles on the surface of the spacer particles and the negatively charged substrate attract each other).
上記プラス帯電ブロックを形成するモノマーとしては、例えば、アミノ基を有する(メタ)アクリル酸が挙げられ、具体的には、以下のものが挙げられる。
一級アミノ基を有する(メタ)アクリル酸としては、例えば、2−アミノけい皮酸、4−アミノベンゼンアクリル酸エチル、α−アミノベンゼンアクリル酸エチル、2−アミノ−2−メチル−1−プロパノール・3−フェニルアクリル酸、2−アミノエタノール・アクリル酸等が挙げられる。
二級アミノ基を有する(メタ)アクリル酸としては、例えば、メタクリル酸3−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロピル、N−t−ブチルアミノエチルアクリレート、α−(アセチルアミノ)けい皮酸、アクリル酸1−(tert−ブチルアミノ)エチル、メタクリル酸2−アニリノエチル、3−[(5−メチル−2−ピリジニル)アミノ]アクリル酸、アクリル酸2−(メチルアミノ)エチル、3−(メチルアミノカルボニル)アクリル酸、2−(エトキシカルボニルアミノメチル)アクリル酸エチル、アクリル酸2−[[(イソプロピルオキシ)カルボニル]アミノ]エチル、アクリル酸2−(シクロヘキシルアミノ)エチル、2−[(tert−ブチルアミノ)メチル]アクリル酸エチル等が挙げられる。
三級アミノ基を有する(メタ)アクリル酸としては、例えば、(メタ)アクリル酸2−(ジエチルアミノ)エチル、(メタ)アクリル酸2−(ジメチルアミノ)エチル、2−シアノ−3−[4−(ジエチルアミノ)フェニル]アクリル酸エチル、E)−2−シアノ−3−[N−エチル−N−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)アミノ]アクリル酸エチル、1−(ジメチルアミノメチル)−2−(ジメチルアミノ)エチルメタクリル酸、3,3−ジフェニルアクリル酸2−ジエチルアミノエチル、アクリル酸3−(ジメチルアミノ)プロピル、メタクリル酸2−(ジイソプロピルアミノ)エチル、2−シアノ−3−[5−(ジメチルアミノ)−2−フリル]アクリル酸メチル、2−(ジエチルアミノメチル)アクリル酸、−[2−シアノ−2−(ジメチルアミノ)エチル]アクリル酸エチル、4−(フェニルアリルアミノ)メタクリル酸メチル、4−[アリル(tert−ブチル)アミノ]メタクリル酸メチル、2−(ジメチルアミノメチル)アクリル酸、アクリル酸2−[N−エチル(2−ヒドロキシエチル)アミノ]エチル、アクリル酸3−(ジエチルアミノ)−2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸3−(ジエチルアミノ)プロピル、アクリル酸2−(ジエチルアミノ)−1−メチルエチル、アクリル酸2−(ジブチルアミノ)エチル、アクリル酸3−(ジブチルアミノ)プロピル、アクリル酸2−(ジブチルアミノ)プロピル、アクリル酸3−(ジメチルアミノ)フェニル、アクリル酸2−(ジメチルアミノ)−2−メチルプロピル、アクリル酸2−(ブチルエチルアミノ)エチル、2−[(ジエチルアミノ)メチル]アクリル酸エチル、アクリル酸4−(ジメチルアミノ)フェニル、2−[(ジメチルアミノ)メチル]アクリル酸エチル等が挙げられる。
なかでも、上記プラス帯電ブロックを形成するモノマーとしては、3級アミンが好ましい。1級及び2級アミンでは、反応性が高いため長期安定性に乏しい。さらに3級アミンのうち、下記一般式(1)で示される置換基R1、R2が炭素数1〜10であることが好ましい。炭素数が10を超えると、立体障害が大きくコンフォメーション変化を起こすことができないことがある。より好ましくは炭素数5以下である。
Examples of the monomer that forms the positively charged block include (meth) acrylic acid having an amino group, and specific examples include the following.
Examples of (meth) acrylic acid having a primary amino group include, for example, 2-aminocinnamic acid, ethyl 4-aminobenzene acrylate, ethyl α-aminobenzene acrylate, 2-amino-2-methyl-1-propanol, Examples include 3-phenylacrylic acid, 2-aminoethanol / acrylic acid, and the like.
Examples of (meth) acrylic acid having a secondary amino group include, for example, 3-diethylamino-2-hydroxypropyl methacrylate, 3-dimethylamino-2-hydroxypropyl methacrylate, Nt-butylaminoethyl acrylate, α- (Acetylamino) cinnamic acid, 1- (tert-butylamino) ethyl acrylate, 2-anilinoethyl methacrylate, 3-[(5-methyl-2-pyridinyl) amino] acrylic acid, 2- (methylamino) acrylate ) Ethyl, 3- (methylaminocarbonyl) acrylic acid, 2- (ethoxycarbonylaminomethyl) ethyl acrylate, 2-[[(isopropyloxy) carbonyl] amino] ethyl acrylate, 2- (cyclohexylamino) ethyl acrylate , 2-[(tert-butylamino) methyl] Ethyl acrylic acid, and the like.
Examples of the (meth) acrylic acid having a tertiary amino group include 2- (diethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2- (dimethylamino) ethyl (meth) acrylate, 2-cyano-3- [4- (Diethylamino) phenyl] ethyl acrylate, E) -2-cyano-3- [N-ethyl-N- (1,3-benzodioxol-5-yl) amino] ethyl acrylate, 1- (dimethylamino Methyl) -2- (dimethylamino) ethyl methacrylic acid, 2-diethylaminoethyl 3,3-diphenylacrylate, 3- (dimethylamino) propyl acrylate, 2- (diisopropylamino) ethyl methacrylate, 2-cyano-3 -[5- (dimethylamino) -2-furyl] methyl acrylate, 2- (diethylaminomethyl) acrylic acid,-[2-sia 2- (dimethylamino) ethyl] ethyl acrylate, 4- (phenylallylamino) methyl methacrylate, 4- [allyl (tert-butyl) amino] methyl methacrylate, 2- (dimethylaminomethyl) acrylic acid, acrylic 2- [N-ethyl (2-hydroxyethyl) amino] ethyl acid, 3- (diethylamino) -2-hydroxypropyl acrylate, 3- (diethylamino) propyl acrylate, 2- (diethylamino) -1-methyl acrylate Ethyl, 2- (dibutylamino) ethyl acrylate, 3- (dibutylamino) propyl acrylate, 2- (dibutylamino) propyl acrylate, 3- (dimethylamino) phenyl acrylate, 2- (dimethylamino) acrylate 2-methylpropyl, 2- (butylethyl acrylate) ) Ethyl, 2 - [(diethylamino) methyl] ethyl acrylate, 4- (dimethylamino) phenyl, 2 - [(dimethylamino) methyl] ethyl acrylate, and the like.
Of these, a tertiary amine is preferred as the monomer forming the positively charged block. Primary and secondary amines are poor in long-term stability due to their high reactivity. Furthermore, among tertiary amines, the substituents R 1 and R 2 represented by the following general formula (1) preferably have 1 to 10 carbon atoms. When the number of carbon atoms exceeds 10, steric hindrance is so great that it may not be possible to cause a conformational change. More preferably, it has 5 or less carbon atoms.
上記マイナス帯電ブロックを形成するモノマーとしては、例えば、カルボキシル基、スルホニル基、ホスホフォニル基を有するものが挙げられ、具体的には、例えば、(メタ)アクリル酸、α−エチルアクリル酸、クロトン酸等のアクリル酸及びこれらのα−アルキル誘導体又はβ−アルキル誘導体;フマル酸、マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸等の不飽和ジカルボン酸;上記不飽和ジカルボン酸のモノ2−(メタ)アクリロイルオキシエチルエステル誘導体等のカルボキシル基を有するビニル系単量体;t−ブチルアクリルアミドスルホン酸、スチレンスルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸等のスルホニル基を有する単量体;ビニルホスフェート、2−(メタ)アクリロイルオキシエチルホスフェート等のホスフォニル基を有する単量体ビニル系単量体等が挙げられる。
上記マイナス帯電ブロックを形成するモノマーとして、好ましくはカルボキシル基が良い。スルホニル基、ホスフォニル基では表示性能に劣る。
Examples of the monomer that forms the negatively charged block include those having a carboxyl group, a sulfonyl group, and a phosphonyl group. Specific examples include (meth) acrylic acid, α-ethylacrylic acid, crotonic acid, and the like. Acrylic acids and their α-alkyl derivatives or β-alkyl derivatives; unsaturated dicarboxylic acids such as fumaric acid, maleic acid, citraconic acid, itaconic acid; mono 2- (meth) acryloyloxyethyl esters of the above unsaturated dicarboxylic acids Vinyl monomers having a carboxyl group such as derivatives; monomers having a sulfonyl group such as t-butylacrylamidesulfonic acid, styrenesulfonic acid, 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid; vinylphosphate, 2- ( Such as (meth) acryloyloxyethyl phosphate Monomeric vinyl monomer having a Sufoniru group.
The monomer for forming the negatively charged block is preferably a carboxyl group. The sulfonyl group and phosphonyl group are inferior in display performance.
上記ブロック共重合体において、各ブロックの重合度としては特に限定されないが、好ましい下限は50、好ましい上限は2000である。この範囲を外れると、溶媒組成の変化に対してスペーサ粒子がコンフォメーション変化を起こすことができないことがある。好ましい下限は100、好ましい上限は1000である。 In the above block copolymer, the degree of polymerization of each block is not particularly limited, but a preferred lower limit is 50 and a preferred upper limit is 2000. Outside this range, the spacer particles may not be able to undergo a conformational change with respect to a change in solvent composition. The preferred lower limit is 100 and the preferred upper limit is 1000.
また、上記ブロック共重合体においては、上述したコンフォメーション変化を起こしやすいことから、全体としてプラス帯電ブロックの鎖のほうがマイナス帯電ブロックの鎖よりも長いことが好ましい。すなわち、プラス帯電ブロックの重合度のほうがマイナス帯電ブロックの重合度よりも大きいことが好ましい。 In the block copolymer, the above-described conformational change is likely to occur, and therefore, the chain of the positively charged block is preferably longer than the chain of the negatively charged block as a whole. That is, it is preferable that the polymerization degree of the positively charged block is larger than that of the negatively charged block.
また、上記ブロック共重合体においては、上記プラス帯電ブロックと上記マイナス帯電ブロックとの間に重合度が10〜1000のノニオンブロックを有することが好ましい。上述したように、インクジェット装置により基板に吐出されたスペーサ粒子分散液の溶媒組成は、時間とともに揮発等により変化することとなるが、上記ノニオンブロックを有することにより、スペーサ粒子の表面のグラフト鎖のコンフォメーション変化が行われやすくなる。 The block copolymer preferably has a nonionic block having a degree of polymerization of 10 to 1000 between the positively charged block and the negatively charged block. As described above, the solvent composition of the spacer particle dispersion discharged onto the substrate by the ink jet apparatus changes due to volatilization or the like with time, but by having the nonionic block, the graft chain on the surface of the spacer particles Conformational changes are likely to occur.
上記ノニオンブロックを形成するためのモノマーとしては特に限定されず、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、1,4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、(ポリ)カプロラクトン変性ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、アリルアルコール、グリセリンモノアリルエーテル等の水酸基を有するビニル系単量体;ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート、ポリプロピレングリコールメチルエーテルメタクリレート等のエーテル基を有するビニル系単量体等が挙げられる。 The monomer for forming the nonionic block is not particularly limited. For example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 1,4-hydroxybutyl (meth) acrylate, (poly) caprolactone-modified hydroxyethyl (meth) acrylate, Vinyl monomers having a hydroxyl group such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, allyl alcohol, glycerin monoallyl ether; ether groups such as polyethylene glycol methyl ether methacrylate and polypropylene glycol methyl ether methacrylate Examples thereof include vinyl monomers.
上記基材微粒子の表面に上記ブロック共重合体を形成させる方法としては特に限定されないが、例えば、基材微粒子の表面をクロロメチル化させ、N,N−ジエチルジチオカルバミド酸で処理することで得られたN,N−ジエチルジチオカルバメート系光iniferter固定化基材微粒子に上記ビニル系単量体を光反応させる方法が挙げられる。
また、上記ブロック共重合体がAB型又はABA型であれば、基材微粒子の表面に対してプラス帯電ブロック、マイナス帯電ブロック、又は、ノニオンブロックのいずれのブロックを直接結合させてもよいが、上述したようなコンフォメーション変化をとりやすいことから、基材微粒子の表面にマイナス帯電ブロックが結合されていることが好ましい。
The method for forming the block copolymer on the surface of the substrate fine particles is not particularly limited. For example, the surface of the substrate fine particles is chloromethylated and treated with N, N-diethyldithiocarbamic acid. Examples thereof include a method in which the vinyl monomer is photoreacted with the obtained N, N-diethyldithiocarbamate photoiniferter-immobilized substrate fine particles.
Further, if the block copolymer is AB type or ABA type, any block of a positively charged block, a negatively charged block, or a nonionic block may be directly bonded to the surface of the base material fine particle. Since it is easy to take the conformation change as described above, it is preferable that a negatively charged block is bonded to the surface of the base particle.
上記スペーサ粒子は、0.1MNaCl溶液におけるゼータ電位がプラス帯電となるように調整することが好ましい。ゼータ電位がプラス帯電となることにより、SUSからなるインクジェット装置に対してスペーサ粒子が付着することがない。 The spacer particles are preferably adjusted so that the zeta potential in a 0.1 M NaCl solution is positively charged. When the zeta potential is positively charged, the spacer particles are not attached to the ink jet apparatus made of SUS.
本発明のスペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子の固形分濃度としては特に限定されないが、好ましい下限は0.01重量%、好ましい上限は10重量%である。0.01重量%未満であると、吐出された液滴中にスペーサ粒子を含まない確率が高くなり、10重量%を超えると、インクジェット装置のノズルが閉塞しやすくなることがあり、また、着弾した分散液滴中に含まれるスペーサ粒子の数が多くなりすぎて、乾燥過程でスペーサ粒子の移動が起こりにくくなる。より好ましい下限は0.1重量%、より好ましい上限は3重量%である。 Although it does not specifically limit as solid content concentration of the spacer particle | grains in the spacer particle | grain dispersion liquid of this invention, A preferable minimum is 0.01 weight% and a preferable upper limit is 10 weight%. If it is less than 0.01% by weight, there is a high probability that the ejected droplets do not contain spacer particles. If it exceeds 10% by weight, the nozzles of the ink jet apparatus may be easily blocked, and landing The number of spacer particles contained in the dispersed droplets becomes too large, and the spacer particles are less likely to move during the drying process. A more preferred lower limit is 0.1% by weight, and a more preferred upper limit is 3% by weight.
また、本発明のスペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子が単粒子状に分散されていることが好ましい。本発明のスペーサ粒子分散液中にスペーサ粒子の凝集物が存在すると、吐出精度が低下するばかりでなく、著しい場合はインクジェット装置のノズルに閉塞を起こす場合がある。 Moreover, it is preferable that the spacer particle | grain dispersion liquid of this invention is disperse | distributing the spacer particle | grains to single particle form. If aggregates of spacer particles are present in the spacer particle dispersion of the present invention, not only the discharge accuracy is lowered, but in some cases, the nozzles of the ink jet apparatus may be clogged.
本発明のスペーサ粒子分散液は、本発明の効果を阻害しない範囲で、接着性を付与するための接着成分、スペーサ粒子の分散を改良したり、表面張力や粘度等の物理特性を制御して吐出精度を改良したり、スペーサ粒子の移動性を改良する目的で各種の界面活性剤、粘性調整剤等が添加されていてもよい。 The spacer particle dispersion liquid of the present invention is an adhesive component for imparting adhesiveness, improves the dispersion of spacer particles, and controls physical properties such as surface tension and viscosity within the range that does not impair the effects of the present invention. Various surfactants, viscosity modifiers and the like may be added for the purpose of improving the discharge accuracy and improving the mobility of the spacer particles.
本発明のスペーサ粒子分散液は溶媒を含有する。
上記溶剤としては特に限定されないが、インクジェット装置のノズルから吐出される温度において液体である各種溶剤であることが好ましい。なかでも、水溶性又は親水性の溶剤が好ましい。本発明のスペーサ粒子分散液の溶剤として疎水性の強い溶剤を用いると、ノズルを構成する部材を溶剤が侵したり、部材を接着している接着剤の一部が溶剤に溶解したりすることがある。
The spacer particle dispersion of the present invention contains a solvent.
Although it does not specifically limit as said solvent, It is preferable that they are various solvents which are liquid at the temperature discharged from the nozzle of an inkjet apparatus. Of these, a water-soluble or hydrophilic solvent is preferable. When a highly hydrophobic solvent is used as the solvent of the spacer particle dispersion liquid of the present invention, the solvent may invade the member constituting the nozzle, or a part of the adhesive bonding the member may be dissolved in the solvent. is there.
本発明のスペーサ粒子分散液は、沸点が150℃以上である溶剤を含むことが好ましく、更に、沸点が150℃以上、かつ、表面張力が30mN/m以上である溶剤を含むことがより好ましい。沸点が150℃以上、かつ、表面張力が30mN/m以上である溶剤を含むと、後述する後退接触角(θr)を大きくすることができる。
また、沸点が150℃以上、かつ、表面張力が30mN/m以上である溶剤を含むと、基板にスペーサ粒子分散液を吐出し着弾させたときの液滴径が小さくなるため、液滴の拡がりが生じ難い。更に、液滴の着弾中心に向かってスペーサ粒子が移動し易くなる。よって、基板にスペーサ粒子を高精度に配置することができる。
The spacer particle dispersion of the present invention preferably contains a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher, and more preferably contains a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and a surface tension of 30 mN / m or higher. When a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and a surface tension of 30 mN / m or higher is included, the receding contact angle (θr) described later can be increased.
In addition, when a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and a surface tension of 30 mN / m or higher is included, the droplet diameter when the spacer particle dispersion is discharged and landed on the substrate is reduced, so that the droplet spreads. Is unlikely to occur. Furthermore, the spacer particles can easily move toward the landing center of the droplet. Therefore, the spacer particles can be arranged on the substrate with high accuracy.
上記沸点が150℃以上の溶剤としては特に限定されないが、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、3−ヘキセン−2,5−ジオール、1,5−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,5−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、及び、ネオペンチルグリコールからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。なかでも、エチレングリコール、プロピレングリコールが好ましく、そのなかでもエチレングリコールが最も好ましい。 The solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher is not particularly limited, but ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 3 -Methyl-1,5-pentanediol, 3-hexene-2,5-diol, 1,5-pentanediol, 2,4-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,5-hexane It is preferably at least one selected from the group consisting of diol, 1,6-hexanediol, and neopentyl glycol. Of these, ethylene glycol and propylene glycol are preferable, and ethylene glycol is most preferable.
本発明のスペーサ粒子分散液を乾燥させる際には、沸点が低い溶剤が先に揮発する。沸点が低い溶剤が先に揮発することにより、残存しているスペーサ粒子分散液における沸点150度以上で表面張力が30mN/m以上の溶剤の比率が高くなる。沸点150度以上で表面張力が30mN/m以上の溶剤の比率が高くなると、残存しているスペーサ粒子分散液の表面張力がより一層高くなり、スペーサ粒子が着弾地点中心に向かって移動し易くなる。 When the spacer particle dispersion of the present invention is dried, the solvent having a low boiling point volatilizes first. When the solvent having a low boiling point volatilizes first, the ratio of the solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher and a surface tension of 30 mN / m or higher in the remaining spacer particle dispersion increases. When the ratio of the solvent having a boiling point of 150 ° C. or more and a surface tension of 30 mN / m or more increases, the surface tension of the remaining spacer particle dispersion becomes higher and the spacer particles easily move toward the landing point center. .
本発明のスペーサ粒子分散液の表面張力を調整するため、具体的には高くしすぎないために(例えば50mN/m以下とするために)、スペーサ粒子分散液の溶剤は、沸点が150℃未満の溶剤を更に含むことがより好ましい。沸点が70℃以上、100℃未満の溶剤を含むことが更に好ましい。
具体的には、上記溶剤は、水と、沸点が150℃未満の溶剤と、沸点が150℃以上の溶剤とを含有し、上記水の含有量が0〜60重量%、上記沸点が150℃未満の溶剤の含有量が2〜50重量%、上記沸点が150℃以上の溶剤の含有量が30〜96重量%であることが好ましい。
In order to adjust the surface tension of the spacer particle dispersion of the present invention, specifically, not to make it too high (for example, 50 mN / m or less), the solvent of the spacer particle dispersion has a boiling point of less than 150 ° C. It is more preferable that the solvent further be included. More preferably, it contains a solvent having a boiling point of 70 ° C. or higher and lower than 100 ° C.
Specifically, the solvent contains water, a solvent having a boiling point of less than 150 ° C., and a solvent having a boiling point of 150 ° C. or more, the water content is 0 to 60% by weight, and the boiling point is 150 ° C. It is preferable that the content of the solvent having less than 2 to 50% by weight and the content of the solvent having the boiling point of 150 ° C. or higher is 30 to 96% by weight.
上記沸点が150℃未満の溶剤としては特に限定されないが、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、及び、tert−ブタノールからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。なかでも、2−プロパノールが最も好ましい。 Although it does not specifically limit as said solvent whose boiling point is less than 150 degreeC, It is at least 1 sort (s) selected from the group which consists of ethanol, n-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, and tert-butanol. It is preferable. Of these, 2-propanol is most preferable.
上記沸点が150℃未満の溶剤は、本発明のスペーサ粒子分散液を基板上に吐出した後、乾燥させる際に比較的低い温度で揮発する。特に、本発明のスペーサ粒子分散液においては、配向膜に溶剤が高温で接触すると配向膜を汚染して液晶表示装置の表示品質を損なうため、乾燥温度をあまり高くすることができない。従って、上記沸点が150℃未満の溶剤を用いることが好ましい。但し、上記沸点が150℃未満の溶剤が室温で揮散しやすいと、本発明のスペーサ粒子分散液の製造時や貯蔵時に凝集粒子が発生しやすくなったり、インクジェット装置のノズル付近のスペーサ粒子分散液が乾燥しやすくなって、インクジェット吐出性が損なわれたりするので、室温で揮散しやすい溶剤は好ましくない。 The solvent having a boiling point of less than 150 ° C. volatilizes at a relatively low temperature when the spacer particle dispersion of the present invention is discharged onto the substrate and then dried. In particular, in the spacer particle dispersion of the present invention, when the solvent contacts the alignment film at a high temperature, the alignment film is contaminated and the display quality of the liquid crystal display device is impaired, so that the drying temperature cannot be increased too much. Therefore, it is preferable to use a solvent having a boiling point of less than 150 ° C. However, if the solvent having a boiling point of less than 150 ° C. is likely to be volatilized at room temperature, aggregated particles are likely to be generated during the production or storage of the spacer particle dispersion of the present invention, or the spacer particle dispersion near the nozzles of the inkjet device. Since it becomes easy to dry and ink jet discharge property is impaired, the solvent which volatilizes easily at room temperature is not preferable.
基板に吐出された本発明のスペーサ粒子分散液を乾燥させる温度が高温であると、配向膜が損傷し、液晶表示装置の表示画質が劣化することがあるが、上記沸点が150℃未満である溶剤を使用することにより、乾燥温度を低くでき、配向膜の損傷を防ぐことができる。 If the temperature at which the spacer particle dispersion liquid of the present invention discharged onto the substrate is dried is high, the alignment film may be damaged and the display image quality of the liquid crystal display device may deteriorate, but the boiling point is less than 150 ° C. By using a solvent, the drying temperature can be lowered and damage to the alignment film can be prevented.
上記沸点が150℃未満である溶剤は、20℃における表面張力が28mN/m未満であることが好ましく、25mN/m以下であることがより好ましい。溶剤の表面張力が28mN/m以上であると、本発明のスペーサ粒子分散液の表面張力が高くなり、インクジェット装置のノズルの接液部分の表面張力によっては、吐出性が悪くなることがある。 The solvent having a boiling point of less than 150 ° C. preferably has a surface tension at 20 ° C. of less than 28 mN / m, more preferably 25 mN / m or less. When the surface tension of the solvent is 28 mN / m or more, the surface tension of the spacer particle dispersion of the present invention is increased, and the discharge performance may be deteriorated depending on the surface tension of the liquid contact portion of the nozzle of the ink jet apparatus.
本発明のスペーサ粒子分散液が、沸点150℃未満、表面張力が28mN/m未満である溶剤を含むと、後述するインクジェット装置にスペーサ粒子分散液を導入し易くなり、吐出する際には吐出性が向上する。 When the spacer particle dispersion liquid of the present invention contains a solvent having a boiling point of less than 150 ° C. and a surface tension of less than 28 mN / m, it becomes easy to introduce the spacer particle dispersion liquid into an ink jet apparatus described later. Will improve.
本発明のスペーサ粒子分散液には、媒体として沸点が200℃以上、かつ、20℃における表面張力が42mN/m以上である溶剤Xを含有させることもできる。なお、本明細書において、「沸点」とは、1気圧下における沸点を言うものとする。上記溶剤Xを含有させると、更に、種々の基板で、後退接触角(θr)を大きくすることができる。 The spacer particle dispersion of the present invention may contain a solvent X having a boiling point of 200 ° C. or higher and a surface tension at 20 ° C. of 42 mN / m or higher as a medium. In the present specification, “boiling point” refers to the boiling point under 1 atm. When the solvent X is contained, the receding contact angle (θr) can be further increased with various substrates.
上記溶剤Xとしては、上述した沸点及び表面張力を有するものであれば特に限定されず、例えば、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、グリセリン、2−ピロリドン、ニトロベンゼン等が挙げられる。なかでも、乾燥時に短時間で効果的にスペーサ粒子を寄せ集めることができるため、1,3−プロパンジオール、1,4−ブタンジオール及びグリセリンが好ましく用いられる。乾燥時に短時間でより一層効果的にスペーサ粒子を寄せ集めることができるため、グリセリンがより好ましく用いられる。溶剤Xとして、上述した溶剤が単独で用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。 The solvent X is not particularly limited as long as it has the boiling point and surface tension described above. For example, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 1,6- Examples include hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, glycerin, 2-pyrrolidone, nitrobenzene and the like. Among them, 1,3-propanediol, 1,4-butanediol and glycerin are preferably used because the spacer particles can be effectively gathered in a short time during drying. Since the spacer particles can be collected more effectively in a short time during drying, glycerin is more preferably used. As the solvent X, the above-described solvents may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
溶剤Xの含有量の含有量としては特に限定されないが、好ましい範囲は上記溶剤中0.1〜50重量%、より好ましい範囲は1〜30重量%、更に好ましい範囲は1〜10重量%である。 The content of the solvent X is not particularly limited, but a preferable range is 0.1 to 50% by weight in the solvent, a more preferable range is 1 to 30% by weight, and a further preferable range is 1 to 10% by weight. .
上記スペーサ粒子分散液を乾燥させる際には、沸点が低い溶剤が先に揮発する。沸点が低い溶剤が先に揮発することにより、残存しているスペーサ粒子分散液における溶剤Xの比率が高くなる。溶剤Xの比率が高くなると、残存しているスペーサ粒子分散液の表面張力がより一層高くなり、スペーサ粒子が着弾地点中心に向かって移動し易くなる。 When the spacer particle dispersion is dried, the solvent having a low boiling point volatilizes first. Since the solvent having a low boiling point volatilizes first, the ratio of the solvent X in the remaining spacer particle dispersion increases. When the ratio of the solvent X is increased, the surface tension of the remaining spacer particle dispersion is further increased, and the spacer particles are easily moved toward the landing point center.
上記した溶剤以外で使用可能な溶剤としては以下のものが挙げられる。水溶性又は親水性の溶剤としては、水の他、エタノール、n−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、t−ブタノール、1−ヘキサノール、1−メトキシ−2−プロパノール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等のモノアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエチレングリコールの多量体;プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール等のプロピレングリコールの多量体;グリコール(上記エチレングリコールやプロピレングリコールを指す)類のモノメチルエーテル、モノエチルエーテル、モノイソプロピルエーテル、モノプロピルエーテル、モノブチルエーテル等の低級モノアルキルエーテル類;グリコール類のジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジプロピルエーテル等の低級ジアルキルエーテル類;グリコール類のモノアセテート、ジアセテート等のアルキルエステル類、1,3−プロパンジオール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、3−ヘキセン−2,5−ジオール、1,5−ペンタンジオール、2,4−ペンタンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,5−ヘキサンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオール類、ジオール類のエーテル誘導体、ジオール類のアセテート誘導体、グリセリン、1,2,4−ブタントリオール、1,2,6−ヘキサントリオール、1,2,5−ペンタントリオール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール等の多価アルコール類又はそのエーテル誘導体、アセテート誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、ジメチルスルホキシド、チオジグリコール、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジン、スルフォラン、ホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、α−テルピネオール、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ビス−β−ヒドロキシエチルスルフォン、ビス−β−ヒドロキシエチルウレア、N,N−ジエチルエタノールアミン、アビエチノール、ジアセトンアルコール、尿素等が挙げられる。 Examples of solvents that can be used other than the solvents described above include the following. Examples of water-soluble or hydrophilic solvents include water, ethanol, n-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, t-butanol, 1-hexanol, 1-methoxy-2-propanol, and furfuryl. Monoalcohols such as alcohol and tetrahydrofurfuryl alcohol, multimers of ethylene glycol such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol and tetraethylene glycol; propylene glycol such as propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol and tetrapropylene glycol Multimers of glycols (monoethylene ether, monoethyl ether, monoisopropyl ether, monopropyl ether of glycols (referring to the above-mentioned ethylene glycol and propylene glycol)) Lower monoalkyl ethers such as butyl and monobutyl ether; lower dialkyl ethers such as dimethyl ether, diethyl ether, diisopropyl ether and dipropyl ether of glycols; alkyl esters such as monoacetate and diacetate of glycols, 1,3 -Propanediol, 1,2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 3-hexene-2,5-diol, 1,5- Diols such as pentanediol, 2,4-pentanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,5-hexanediol, 1,6-hexanediol, neopentylglycol, ether derivatives of diols, diols Class of acetate derivatives, glycerin, 1, , 4-butanetriol, 1,2,6-hexanetriol, 1,2,5-pentanetriol, trimethylolpropane, trimethylolethane, pentaerythritol, and other polyhydric alcohols or ether derivatives thereof, acetate derivatives, methyl acetate Esters such as ethyl acetate, dimethyl sulfoxide, thiodiglycol, N-methyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidine, sulfolane, formamide, N, N-dimethylformamide, N, N-diethylformamide, N-methylformamide, acetamide, N-methylacetamide, α-terpineol, ethylene carbonate, propylene carbonate, bis-β-hydroxyethylsulfone, bis- β-hydroxyethylurea, N, N-diethylethanolamine, abietinol, diacetone alcohol, urea and the like can be mentioned.
本発明のスペーサ粒子分散液は、本発明の目的を阻害しない範囲において、スペーサ粒子の分散を改良したり、表面張力や粘度等の物理特性を制御して吐出精度を改良したり、スペーサ粒子の移動性を改良する目的で各種の界面活性剤、粘性調整剤等を含有してもよい。 The spacer particle dispersion of the present invention improves the dispersion of spacer particles within the range that does not impair the object of the present invention, improves the discharge accuracy by controlling physical properties such as surface tension and viscosity, Various surfactants, viscosity modifiers and the like may be contained for the purpose of improving mobility.
本発明のスペーサ粒子分散液は、pHの下限が7であることが好ましい。7未満であると、SUS性フィルターへのスペーサ粒子付着を阻害する効果が不充分となり、フィルターに目詰まりを生じることがある。より好ましい下限は8である。 The spacer particle dispersion of the present invention preferably has a lower pH limit of 7. If it is less than 7, the effect of inhibiting spacer particle adhesion to the SUS filter becomes insufficient, and the filter may be clogged. A more preferred lower limit is 8.
本発明のスペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子を除く不揮発成分の含有量が少ないこと、具体的には1μmよりも小さい粒径を有する不揮発成分の含有割合が本発明のスペーサ粒子分散液全体に対して、0.001重量%未満であることが好ましい。0.001重量%を超えると、液晶や配向膜が汚染されて、液晶表示装置のコントラスト等の表示品質が劣ることがある。
上記不揮発成分には、例えば、大気中のゴミ、スペーサ粒子を分散させるのに用いた溶媒中に含まれていた不純物、スペーサ粒子の粉砕物、金属イオン等のイオン性化合物等が含まれ、スペーサ粒子分散液中における保形性を有さない固形分や非球形の微粒子を含むものとする。
The spacer particle dispersion of the present invention has a small content of non-volatile components excluding spacer particles, specifically, the content ratio of non-volatile components having a particle size smaller than 1 μm is based on the entire spacer particle dispersion of the present invention. And less than 0.001% by weight. If it exceeds 0.001% by weight, the liquid crystal and the alignment film are contaminated, and the display quality such as contrast of the liquid crystal display device may be inferior.
The non-volatile components include, for example, dust in the atmosphere, impurities contained in the solvent used to disperse the spacer particles, pulverized spacer particles, ionic compounds such as metal ions, and the like. It shall contain solids and non-spherical fine particles that do not have shape retention in the particle dispersion.
本発明のスペーサ粒子分散液中の不揮発成分を少なくする方法としては、例えば、まずスペーサ粒子の粒子径よりも大きい濾過径を有するフィルターで本発明のスペーサ粒子分散液を濾過して大きなゴミを除いた後、本発明のスペーサ粒子分散液を遠心してスペーサ粒子を沈殿させた後、上澄み液を捨てて、更に濾取したスペーサ粒子を1μmの濾過径を有するフィルターで濾過した溶媒を加えてスペーサ粒子を分散させる方法;スペーサ粒子の粒子径よりも小さい濾過径を有するフィルターでスペーサ粒子を濾取し、濾取したスペーサ粒子を1μmの濾過径を有するフィルターで濾過した溶媒に分散させる方法;層状珪酸塩等のイオン吸着性固体を用いる方法等が挙げられる。これらの方法は、繰り返して行われてもよい。 As a method for reducing the non-volatile components in the spacer particle dispersion of the present invention, for example, first, the spacer particle dispersion of the present invention is filtered with a filter having a filtration diameter larger than the particle diameter of the spacer particles to remove large dust. Then, after the spacer particle dispersion of the present invention is centrifuged to precipitate the spacer particles, the supernatant is discarded, and the filtered spacer particles are filtered through a filter having a filtration diameter of 1 μm to add spacer particles. A method in which the spacer particles are filtered with a filter having a filtration diameter smaller than the particle diameter of the spacer particles, and the filtered spacer particles are dispersed in a solvent filtered with a filter having a filtration diameter of 1 μm; Examples thereof include a method using an ion-adsorbing solid such as a salt. These methods may be repeated.
本発明のスペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子の比重と、スペーサ粒子を除く液状部分の比重との差が0.5以下であることが好ましい。0.5を超えると、本発明のスペーサ粒子分散液を保存中にスペーサ粒子が沈降してしまい、吐出した本発明のスペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子の数が不均一になることがある。 In the spacer particle dispersion of the present invention, the difference between the specific gravity of the spacer particles and the specific gravity of the liquid portion excluding the spacer particles is preferably 0.5 or less. If it exceeds 0.5, the spacer particles may settle during storage of the spacer particle dispersion of the present invention, and the number of spacer particles in the discharged spacer particle dispersion of the present invention may become uneven.
本発明のスペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子の表面の溶解度パラメータ値と、スペーサ粒子を除く液状部分の溶解度パラメータ値との差が5.0以下であることが好ましい。5.0を超えると、本発明のスペーサ粒子分散液中におけるスペーサ粒子の分散性が劣り、吐出した本発明のスペーサ粒子分散液中のスペーサ粒子の数が不均一になることがある。 In the spacer particle dispersion of the present invention, the difference between the solubility parameter value of the surface of the spacer particle and the solubility parameter value of the liquid part excluding the spacer particle is preferably 5.0 or less. If it exceeds 5.0, the dispersibility of the spacer particles in the spacer particle dispersion of the present invention may be inferior, and the number of spacer particles in the discharged spacer particle dispersion of the present invention may be uneven.
本発明のスペーサ粒子分散液は、表面張力が25〜50mN/mであることが好ましい。表面張力がこの範囲外であるとインクジェット装置で安定的に吐出することが難しいことがある。
また上記スペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子分散液の表面張力の値から基板の表面張力の値を減じた値が−2〜40mN/mであることが好ましい。−2mN/m未満であると、本発明のスペーサ粒子分散液が基板上に着弾した際の着弾径が非常に大きくなってしまうことがあり、40mN/mを超えると、着弾したスペーサ粒子分散液が容易に移動してしまい、正確にスペーサ粒子を配置できないことがある。
なお、本明細書において、上記表面張力は、白金板を使用するウイルヘルミー法にて測定された値である。
The spacer particle dispersion of the present invention preferably has a surface tension of 25 to 50 mN / m. If the surface tension is outside this range, it may be difficult to stably discharge with an inkjet apparatus.
The spacer particle dispersion preferably has a value obtained by subtracting the value of the surface tension of the substrate from the value of the surface tension of the spacer particle dispersion from −2 to 40 mN / m. If it is less than −2 mN / m, the landing diameter of the spacer particle dispersion of the present invention may be very large when it is landed on the substrate. If it exceeds 40 mN / m, the landed spacer particle dispersion May move easily, and the spacer particles may not be arranged accurately.
In the present specification, the surface tension is a value measured by a Wilhelmy method using a platinum plate.
本発明のスペーサ粒子分散液においては、例えば、表面張力について上記要件を満たすように上述の低沸点低表面張力の溶媒と高沸点高表面張力の溶媒とを混合することが好ましい。このような組み合わせを選択することにより、着弾した本発明のスペーサ粒子分散液の液滴が乾燥するにつれ表面張力が高くなるので、液滴が乾燥するに従って液滴の径が小さくなるような力が働き、最終的なスペーサ粒子が配置される範囲を限定することができる。 In the spacer particle dispersion of the present invention, for example, it is preferable to mix the above-described low boiling point low surface tension solvent and high boiling point high surface tension solvent so as to satisfy the above-mentioned requirements for surface tension. By selecting such a combination, the surface tension increases as the landed droplets of the spacer particle dispersion liquid of the present invention dry, so that the force that reduces the diameter of the droplets as the droplets dry is obtained. It can limit the range in which the final spacer particles are placed.
本発明のスペーサ粒子分散液は、基板に対する後退接触角(θr)が5度以上であることが好ましい。後退接触角が5度以上あれば、基板に着弾した本発明のスペーサ粒子分散液の液滴が乾燥するときに、その中心に向かって縮小していくとともに、その液滴中に1個以上含まれるスペーサ粒子がその液滴中心に寄り集まることが可能となる。5度未満であると、基板上で液滴の着弾した箇所の中心(着弾中心)を中心として液滴が乾燥し、その液滴径が縮小するとともに、スペーサ粒子がその中心に集まり難くなる。
本明細書において後退接触角とは、基板上に置かれた本発明のスペーサ粒子分散液の液滴が、基板上に置かれてから乾燥するまでの過程で、基板上に最初に置かれた際の着弾径より小さくなりだした時(液滴が縮みだした時)に示す接触角、又は、液滴の揮発成分の内80〜95重量%が揮発した際に示す接触角をいう。
The spacer particle dispersion of the present invention preferably has a receding contact angle (θr) with respect to the substrate of 5 ° or more. If the receding contact angle is 5 degrees or more, when the droplet of the spacer particle dispersion liquid of the present invention that has landed on the substrate is dried, it shrinks toward the center and at least one droplet is contained in the droplet. It is possible for the spacer particles to gather near the center of the droplet. If it is less than 5 degrees, the droplet dries around the center (landing center) where the droplet landed on the substrate, the droplet diameter decreases, and the spacer particles hardly gather at the center.
In this specification, the receding contact angle means that a droplet of the spacer particle dispersion liquid of the present invention placed on the substrate is first placed on the substrate in the process from being placed on the substrate until drying. This is the contact angle indicated when starting to become smaller than the actual landing diameter (when the droplet starts to shrink), or the contact angle indicated when 80 to 95% by weight of the volatile components of the droplet are volatilized.
なお、上記後退接触角は、いわゆる接触角(液滴を基板に置いた際の初期接触角で通常はこれを接触角と呼ぶことがほとんどである)に比べ小さくなる傾向がある。これは、初期の接触角は、本発明のスペーサ粒子分散液を構成する溶媒に接触していない基板表面上での液滴の基板に対する接触角であるのに対し、後退接触角は本発明のスペーサ粒子分散液を構成する溶媒に接触した後の基板表面上での液滴の基板に対する接触角であるためと考えられる。すなわち、後退接触角が初期接触角に対して著しく低い場合は、それらの溶媒によって配向膜が損傷を受けていることを示しており、これらの溶媒を使用することが配向膜汚染に対して好ましくないことを示すと考えられる。 The receding contact angle tends to be smaller than the so-called contact angle (the initial contact angle when a droplet is placed on a substrate, which is usually called the contact angle in most cases). This is because the initial contact angle is the contact angle of the droplet on the substrate surface not in contact with the solvent constituting the spacer particle dispersion of the present invention, while the receding contact angle is that of the present invention. This is considered to be due to the contact angle of the droplet with respect to the substrate on the substrate surface after contacting the solvent constituting the spacer particle dispersion. That is, when the receding contact angle is significantly lower than the initial contact angle, it indicates that the alignment film is damaged by those solvents, and it is preferable to use these solvents against alignment film contamination. It is thought that it shows that there is not.
本発明のスペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子分散液と基板面との初期接触角θの好ましい下限が10度、好ましい上限が110度である。10度未満であると、基板上に吐出された本発明のスペーサ粒子分散液液滴が、基板上に濡れ拡がった状態となりスペーサ粒子の配置間隔を狭くできないことがあり、110度を超えると、少しの振動で液滴が基板上を動き回り易く、結果として配置精度が悪化したり、スペーサ粒子と基板との密着性が悪くなったりすることがある。 In the spacer particle dispersion of the present invention, the preferable lower limit of the initial contact angle θ between the spacer particle dispersion and the substrate surface is 10 degrees, and the preferable upper limit is 110 degrees. When the angle is less than 10 degrees, the spacer particle dispersion liquid droplets of the present invention discharged onto the substrate may be in a state of being wet spread on the substrate, and the arrangement interval of the spacer particles may not be narrowed. The liquid droplets easily move around on the substrate with a slight vibration, and as a result, the placement accuracy may deteriorate, or the adhesion between the spacer particles and the substrate may deteriorate.
本発明のスペーサ粒子分散液は、少なくともインクジェット装置からの吐出時において、E型粘度計又はB型粘度計により測定した吐出時のヘッド温度における粘度の好ましい下限が0.5mPa・s、好ましい上限が15mPa・sである。0.5mPa・s未満であると、インクジェット装置から吐出するときの吐出量をコントロールすることが困難になることがあり、15mPa・sを超えると、インクジェット装置で吐出できないことがある。より好ましい下限は5mPa・s、より好ましい上限は10mPa・sである。
なお、本発明のスペーサ粒子分散液を吐出する際に、インクジェット装置のヘッド温度をペルチェ素子や冷媒等により冷却したり、ヒーター等で加温したりして、スペーサ粒子分散液の吐出時の液温を−5℃から50℃の間に調整してもよい。
The spacer particle dispersion according to the present invention has a preferable lower limit of 0.5 mPa · s and a preferable upper limit of the viscosity at the head temperature at the time of discharging measured with an E-type viscometer or a B-type viscometer at least when discharging from an inkjet apparatus. 15 mPa · s. If the pressure is less than 0.5 mPa · s, it may be difficult to control the discharge amount when discharging from the ink jet apparatus, and if it exceeds 15 mPa · s, the ink jet apparatus may not be able to discharge. A more preferred lower limit is 5 mPa · s, and a more preferred upper limit is 10 mPa · s.
When discharging the spacer particle dispersion liquid of the present invention, the head temperature of the ink jet apparatus is cooled by a Peltier element, a refrigerant, or the like, or heated by a heater, etc. The temperature may be adjusted between -5 ° C and 50 ° C.
本発明のスペーサ粒子分散液は、スペーサ粒子の配向膜溶媒溶解度が5%未満であることが好ましい。5%を超えると、配向膜を損傷したり、液晶汚染の原因となったりすることがある。
上記配向膜溶媒溶解度は、例えば、以下の方法により測定することができる。すなわち、固形分で100mg相当の本発明のスペーサ粒子分散液を90℃で5時間、150℃で5時間真空で乾燥させることで、乾固させたあと、220℃で1時間ベークする。硬化物の重量(Wa)を測定した後、10gのN−メチル2−ピロリドンに入れ振とうさせながら5時間放置し、固形分を濾別し、150℃で5時間真空で乾燥させ乾固させた重量(Wb)を測定する。配向膜溶媒溶解度は、下記式により求めることができる。
配向膜溶媒溶解度=(Wa−Wb)/Wa
The spacer particle dispersion of the present invention preferably has an alignment film solvent solubility of the spacer particles of less than 5%. If it exceeds 5%, the alignment film may be damaged or liquid crystal contamination may occur.
The alignment film solvent solubility can be measured, for example, by the following method. That is, the spacer particle dispersion of the present invention corresponding to 100 mg in solid content is dried at 90 ° C. for 5 hours and 150 ° C. for 5 hours in a vacuum, and then baked at 220 ° C. for 1 hour. After measuring the weight (Wa) of the cured product, it was placed in 10 g of N-methyl 2-pyrrolidone and allowed to stand for 5 hours while shaking, the solid content was filtered off, dried at 150 ° C. for 5 hours in vacuo and dried to dryness. Measure the weight (Wb). The alignment film solvent solubility can be determined by the following formula.
Alignment film solvent solubility = (Wa−Wb) / Wa
本発明のスペーサ粒子分散液は、該スペーサ粒子分散液の液滴をインクジェット装置を用いて吐出して基板上の所定の位置に着弾させた後、乾燥させることによりスペーサ粒子を基板上に所定の位置に配置することができる。
すなわち、画素領域と非画素領域とを有する液晶表示装置の製造方法であって、本発明のスペーサ粒子分散液を、インクジェット装置を用いて第1の基板又は第2の基板の非画素領域に対応する特定の位置に配置する工程、前記スペーサ粒子分散液を乾燥させる工程、及び、前記第1の基板と第2の基板とを、液晶及びスペーサ粒子を介して対向するように重ね合わせる工程を有する液晶表示装置の製造方法もまた、本発明の1つである。
The spacer particle dispersion liquid of the present invention is a method in which droplets of the spacer particle dispersion liquid are ejected using an ink jet device to land on a predetermined position on the substrate, and then dried to dry the spacer particles on the substrate. Can be placed in position.
That is, a method of manufacturing a liquid crystal display device having a pixel region and a non-pixel region, wherein the spacer particle dispersion of the present invention is applied to the non-pixel region of the first substrate or the second substrate using an inkjet device. Arranging at a specific position, drying the spacer particle dispersion, and superimposing the first substrate and the second substrate so as to face each other with the liquid crystal and the spacer particles interposed therebetween. A method for manufacturing a liquid crystal display device is also one aspect of the present invention.
本発明の液晶表示装置の製造方法に供される基板としては特に限定されず、ガラスや樹脂等、通常液晶表示装置のパネル基板として使用されるものを用いることができる。また、一対の基板のうち、一方の基板には画素領域にカラーフィルタが設けられた基板を用いることができる。この場合、画素領域は、実質的にほとんど光を通さないクロム等の金属やカーボンブラック等が分散された樹脂等のブラックマトリックスで画されている。このブラックマトリックスが非画素領域を構成することになる。 It does not specifically limit as a board | substrate provided with the manufacturing method of the liquid crystal display device of this invention, What is normally used as a panel substrate of a liquid crystal display device, such as glass and resin, can be used. Of the pair of substrates, a substrate in which a color filter is provided in a pixel region can be used as one substrate. In this case, the pixel region is defined by a black matrix such as a resin in which a metal such as chrome or carbon black that hardly transmits light is dispersed. This black matrix constitutes a non-pixel region.
本発明の液晶表示装置の製造方法では、上述した本発明のスペーサ粒子分散液を用いるため、インクジェット装置のSUS性フィルターに目詰まりが生じることがなく、連続的かつ安定的にスペーサ粒子の配置ができ、表示品質に優れる液晶表示措置を製造することができる。
本発明の液晶表示装置の製造方法により製造されてなる液晶表示装置もまた、本発明の1つである。
In the manufacturing method of the liquid crystal display device of the present invention, since the spacer particle dispersion of the present invention described above is used, the SUS filter of the ink jet device is not clogged, and the spacer particles are arranged continuously and stably. And a liquid crystal display measure with excellent display quality can be manufactured.
A liquid crystal display device produced by the method for producing a liquid crystal display device of the present invention is also one aspect of the present invention.
本発明によれば、インクジェット装置による基板上へのスペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示装置を得ることができるスペーサ粒子分散液、及び、液晶表示装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the spacer particle dispersion liquid which can arrange | position the spacer particle | grain on the board | substrate by an inkjet apparatus stably continuously, and can obtain the liquid crystal display device excellent in display quality, and liquid crystal display An apparatus can be provided.
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.
(実施例1)
(スペーサ粒子の作製)
基材微粒子(商品名「ミクロパール」、積水化学工業社製)10重量部を無水ジメチルホルムアミド(DMF)100重量部に分散させ、無水クロロ酢酸2重量部を加え、窒素雰囲気下12時間撹拌した。DMFにて洗浄した後、クロロメチル化された基材微粒子DMF分散液を得た。
これに、N,N−ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム(SDC)2重量部を加え、遮光下にて12時間撹拌した。得られたN,N−ジエチルジチオカルバメート系光iniferter固定化基材微粒子DMF分散液にメタクリル酸2−ヒドロキシエチル5重量部を加え、60分紫外線を照射しながら撹拌した。ついで、メタクリル酸5重量部を加え、さらに30分紫外線を照射した。
ついで、メタクリル酸2−ヒドロキシエチル5重量部を加え、30分紫外線を照射し、メタクリル酸ジメチルアミノエチル5重量部を加え30分紫外線を照射した。
これをDMFにて超音波洗浄を行うことにより、基材微粒子の表面にプラス帯電ブロックとマイナス帯電ブロックとを含有するブロック共重合体を有するスペーサ粒子を得た。
なお、得られたスペーサ粒子は、マイナス帯電ブロックの重合度が1000、プラス帯電ブロックの重合度が1000のAB型ブロック共重合体であった。
なお、各重合度は、測定された分子量をもとに換算した。基材微粒子の表面にプラス帯電ブロックとマイナス帯電ブロックとを有するブロック共重合体の分子量は銀蒸着/飛行時間型二次イオン質量(TOF−SIMS)法を用いて行った。
上記反応中において、10分ごとに抜き取り行った。前記スペーサ粒子をDMFにて洗浄した。ついで、アセトンで洗浄し、真空乾燥した乾燥スペーサ粒子を得た。
上記乾燥スペーサ粒子を金属プレートに付着させ、表面に銀を蒸着し蒸着面をTOF−SIMS分析した。得られた分子量の積算により上記ブロック共重合体の分子量を得た。
(Example 1)
(Production of spacer particles)
10 parts by weight of substrate fine particles (trade name “Micropearl”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) are dispersed in 100 parts by weight of anhydrous dimethylformamide (DMF), 2 parts by weight of anhydrous chloroacetic acid are added, and the mixture is stirred for 12 hours in a nitrogen atmosphere. . After washing with DMF, a chloromethylated substrate fine particle DMF dispersion was obtained.
To this, 2 parts by weight of sodium N, N-diethyldithiocarbamate (SDC) was added and stirred for 12 hours under light shielding. 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate was added to the obtained N, N-diethyldithiocarbamate-based photoiniferter-immobilized substrate fine particle DMF dispersion and stirred for 60 minutes while irradiating with ultraviolet rays. Subsequently, 5 parts by weight of methacrylic acid was added, and further irradiated with ultraviolet rays for 30 minutes.
Then, 5 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate was added and irradiated with ultraviolet rays for 30 minutes, and 5 parts by weight of dimethylaminoethyl methacrylate was added and irradiated with ultraviolet rays for 30 minutes.
By subjecting this to ultrasonic cleaning with DMF, spacer particles having a block copolymer containing a positively charged block and a negatively charged block on the surface of the substrate fine particles were obtained.
The obtained spacer particles were AB block copolymers having a negatively charged block with a degree of polymerization of 1000 and a positively charged block with a degree of polymerization of 1000.
Each degree of polymerization was converted based on the measured molecular weight. The molecular weight of the block copolymer having a positively charged block and a negatively charged block on the surface of the substrate fine particles was determined using a silver deposition / time-of-flight secondary ion mass (TOF-SIMS) method.
During the reaction, sampling was performed every 10 minutes. The spacer particles were washed with DMF. Subsequently, it was washed with acetone, and dried spacer particles obtained by vacuum drying were obtained.
The dry spacer particles were attached to a metal plate, silver was deposited on the surface, and the deposited surface was subjected to TOF-SIMS analysis. The molecular weight of the block copolymer was obtained by integrating the obtained molecular weights.
(スペーサ粒子分散液の調製)
得られたスペーサ粒子から所定の粒子濃度(1.5重量%)となる必要量を、エチレングリコールが75重量%、イソプロパノールが15重量%、水が10重量%の混合溶媒にゆっくり添加し、ソニケータを使用しながら充分撹拌することによって分散させた。その後、20μmの目開きのステンレスメッシュで濾過して凝集物を除去することにより、スペーサ粒子分散液を得た。
(Preparation of spacer particle dispersion)
From the obtained spacer particles, a required amount to obtain a predetermined particle concentration (1.5% by weight) is slowly added to a mixed solvent of 75% by weight of ethylene glycol, 15% by weight of isopropanol, and 10% by weight of water, and a sonicator Was dispersed by thorough stirring while being used. Thereafter, the mixture was filtered through a stainless steel mesh having an opening of 20 μm to remove aggregates, thereby obtaining a spacer particle dispersion.
(比較例1)
基材微粒子(商品名「ミクロパール」、積水化学工業社製)10重量部を無水ジメチルホルムアミド(DMF)100重量部に分散させ、無水クロロ酢酸2重量部を加え、窒素雰囲気下12時間撹拌した。DMFにて洗浄した後、クロロメチル化された基材微粒子DMF分散液を得た。
これに、N,N−ジエチルジチオカルバミド酸ナトリウム(SDC)2重量部を加え、遮光下にて12時間撹拌した。得られたN,N−ジエチルジチオカルバメート系光iniferter固定化基材微粒子DMF分散液にメタクリル酸ジメチルアミノエチル5重量部を加え、60分紫外線を照射しながら撹拌した。
これをDMFにて超音波洗浄を行うことにより、基材微粒子の表面にプラス帯電ブロックを含有するブロック共重合体を有するスペーサ粒子を得た。
その後、実施例1と同様にしてスペーサ粒子分散液を調製した。
(Comparative Example 1)
10 parts by weight of substrate fine particles (trade name “Micropearl”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.) are dispersed in 100 parts by weight of anhydrous dimethylformamide (DMF), 2 parts by weight of anhydrous chloroacetic acid are added, and the mixture is stirred for 12 hours in a nitrogen atmosphere. . After washing with DMF, a chloromethylated substrate fine particle DMF dispersion was obtained.
To this, 2 parts by weight of sodium N, N-diethyldithiocarbamate (SDC) was added and stirred for 12 hours under light shielding. 5 parts by weight of dimethylaminoethyl methacrylate was added to the obtained N, N-diethyldithiocarbamate photoiniferter-immobilized substrate fine particle DMF dispersion and stirred for 60 minutes while irradiating with ultraviolet rays.
By subjecting this to ultrasonic cleaning with DMF, spacer particles having a block copolymer containing a positively charged block on the surface of the substrate fine particles were obtained.
Thereafter, a spacer particle dispersion was prepared in the same manner as in Example 1.
(液晶表示装置の作製)
(1)カラーフィルタモデル基板の準備
ガラス基板上に通常の方法により、金属クロムからなるブラックマトリックス(幅25μm、縦間隔150μm、横間隔75μm、厚み0.2μm)を設けた。ブラックマトリックス上及びその間に赤、緑、青の3色からなるカラーフィルタ画素(厚み1.5μm)を表面が平坦となるように形成した。その上にほぼ一定の厚みのオーバーコート層及びITO透明電極を設けた。更に、積水化学社製の「常圧プラズマ表面処理装置」により、CF4/N2混合ガスで撥水処理を行い、カラーフィルタモデル基板を準備した。
なお、得られたカラーフィルタモデル基板の表面張力は27.4mN/mであった。
(Production of liquid crystal display device)
(1) Preparation of color filter model substrate A black matrix (width 25 μm, vertical interval 150 μm, horizontal interval 75 μm, thickness 0.2 μm) made of metallic chromium was provided on a glass substrate by a conventional method. Color filter pixels (thickness 1.5 μm) composed of three colors of red, green, and blue were formed on and between the black matrix so that the surface was flat. An overcoat layer having a substantially constant thickness and an ITO transparent electrode were provided thereon. Furthermore, water repellent treatment was performed with a CF 4 / N 2 mixed gas using a “normal pressure plasma surface treatment apparatus” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. to prepare a color filter model substrate.
The surface tension of the obtained color filter model substrate was 27.4 mN / m.
(2)対向TFTアレイモデル基板の準備
ガラス基板上に通常の方法により、金属クロムからなるブラックマトリックス(幅25μm、縦間隔600μm、横間隔200μm、厚み0.2μm)を設けた。ブラックマトリックス上及びその間に赤、緑、青の3色からなるカラーフィルタ画素(厚み1.5μm)を表面が平坦となるように形成した。次いで、ブラックマトリックスに相対する位置において、ガラス基板上に、従来公知の方法により銅からなるよる段差(幅8μm、高低差5nm)を設けた。その上に、ほぼ一定の厚みのITO透明電極を設けた。
次いで、更にその上に、スピンコート法によってポリイミド樹脂溶液(日産化学社製、サンエバーSE1211)を均一に塗布した。塗布後、80℃で乾燥した後、210℃で1時間焼成して硬化させ、ほぼ一定の厚さを有する配向膜を形成して、TFTアレイモデル基板を準備した。
なお、形成された配向膜の表面張力は30.2mN/mであった。
(2) Preparation of counter TFT array model substrate A black matrix (width 25 μm, vertical interval 600 μm, horizontal interval 200 μm, thickness 0.2 μm) made of metallic chromium was provided on a glass substrate by a conventional method. Color filter pixels (thickness 1.5 μm) composed of three colors of red, green, and blue were formed on and between the black matrix so that the surface was flat. Next, a step made of copper (width 8 μm, height difference 5 nm) was provided on the glass substrate at a position opposite to the black matrix by a conventionally known method. An ITO transparent electrode having a substantially constant thickness was provided thereon.
Next, a polyimide resin solution (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., Sun Ever SE1211) was uniformly applied thereon by a spin coating method. After application, the film was dried at 80 ° C. and then baked and cured at 210 ° C. for 1 hour to form an alignment film having a substantially constant thickness to prepare a TFT array model substrate.
The surface tension of the formed alignment film was 30.2 mN / m.
(3)インクジェット装置の準備
ピエゾ方式の口径50μmのヘッドを搭載したインクジェット装置を用意した。このヘッドのインク室の接液部は、ガラスセラミック材料により構成した。ノズル面には、フッ素系撥水加工を施した。
(3) Preparation of inkjet apparatus An inkjet apparatus equipped with a piezo-type head having a diameter of 50 μm was prepared. The liquid contact part of the ink chamber of this head was made of a glass ceramic material. The nozzle surface was subjected to fluorine-based water repellent finish.
(4)スペーサ粒子の配置
得られた液晶スペーサ粒子分散液を用いて、インクジエット装置によりカラーフィルタモデル基板上に、以下の方法でスペーサ粒子を配置した。なお、スペーサ粒子を配置する際には、インクジェット装置のノズルから吐出される初期の液晶スペーサ粒子分散液0.5mLを捨てた後に、配置を開始した。
まず、ヒーターで45℃に加熱されたステージ上に、基板を載せた。この基板上に、上述したインクジェット装置を用いて、ブラックマトリックスに対応する位置を狙って、縦のライン1列おきに、縦のラインの上に、110μm間隔で、液晶スペーサ粒子分散液の液滴を縦110μm×横150μmピッチで吐出し、配置し、乾燥させた。吐出の際のノズル先端と基板の間隔は0.5mmとし、ダブルパルス方式で吐出した。
吐出後、90℃で液滴を乾燥し溶剤を蒸発させ、その後、220℃で1時間ベークし接着成分を硬化させた。
(4) Arrangement of spacer particles Using the obtained liquid crystal spacer particle dispersion, spacer particles were arranged on a color filter model substrate by an ink jet apparatus by the following method. In addition, when arrange | positioning spacer particle | grains, arrangement | positioning was started, after throwing away 0.5 mL of initial liquid crystal spacer particle dispersion liquid discharged from the nozzle of an inkjet apparatus.
First, the substrate was placed on a stage heated to 45 ° C. with a heater. On this substrate, using the above-described ink jet device, aiming at a position corresponding to the black matrix, droplets of liquid crystal spacer particle dispersion liquid at every 110 μm interval on every other vertical line. Were discharged at a pitch of 110 μm × 150 μm in width, arranged, and dried. The distance between the nozzle tip and the substrate during ejection was 0.5 mm, and ejection was performed by the double pulse method.
After discharging, the droplets were dried at 90 ° C. to evaporate the solvent, and then baked at 220 ° C. for 1 hour to cure the adhesive component.
その後、スペーサ粒子が配置されたカラーフィルタモデル基板上に、スピンコート法によってポリイミド樹脂溶液(日産化学社製、サンエバーSE1211)を均一に塗布した。塗布後、80℃で乾燥した後、210℃で1時間焼成して硬化させ、ほぼ一定の厚さを有する配向膜を形成した。 Thereafter, a polyimide resin solution (Nissan Chemical Co., Ltd., Sun Ever SE1211) was uniformly applied by spin coating on the color filter model substrate on which the spacer particles were arranged. After coating, the film was dried at 80 ° C. and then baked and cured at 210 ° C. for 1 hour to form an alignment film having a substantially constant thickness.
(5)液晶表示装置の完成
スペーサ粒子が配置されたカラーフィルタモデル基板と対向基板となるTFTアレイモデル基板とを、周辺シール剤を用いて貼り合わせた。貼り合わせた後、シール剤を150℃で1時間加熱して硬化させてセルギャップがスペーサ粒子の粒子径と等しくされている空セルを作製し、次いで真空法で液晶を充填し、封口剤で注入口封止して液晶表示装置を作製した。
(5) Completed liquid crystal display device A color filter model substrate on which spacer particles are arranged and a TFT array model substrate as a counter substrate were bonded together using a peripheral sealant. After bonding, the sealing agent is heated at 150 ° C. for 1 hour to be cured to produce an empty cell in which the cell gap is equal to the particle diameter of the spacer particles, and then filled with liquid crystal by a vacuum method. A liquid crystal display device was manufactured by sealing the inlet.
<評価>
実施例1、及び、比較例1で得られたスペーサ粒子分散液について以下の評価を行った。結果を下記表1に示した。
<Evaluation>
The spacer particle dispersions obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were evaluated as follows. The results are shown in Table 1 below.
(液晶スペーサ粒子分散液の分散性の評価)
液晶スペーサ粒子分散液を、それを構成する同じ組成の混合溶剤にて0.1wt%になるように希釈する。これをスライドガラス上に滴下し直ちにカバーグラスをかけ、透過型顕微鏡にて400倍の倍率でスペーサ粒子の分散状態を5視野に付き観察し、分散性の度合いを下記の基準で判定した。
また、同様にして0.05wt%に希釈した液晶スペーサ粒子分散液1g程度を、45℃にて真空乾燥機を利用し減圧乾燥することで約50%の重量にまで濃縮する。濃縮した液晶スペーサ粒子分散液に超音波を1分程度照射し、照射後1分程度放置した後の、スペーサ粒子の分散状態を同様にして観察し、分散性の度合いを下記の基準で判定した。なお、この濃縮したスペーサ粒子分散液の分散性にて、乾燥過程で最後まで残存する溶剤に対する分散性とした。
○:1視野内に2個以上が凝集したスペーサ凝集塊が平均で1個以内、かつ、4個以上の凝集塊がない
△:1視野内に2個以上が凝集したスペーサ凝集塊が平均で1個〜10個、かつ、4個以上の凝集塊がない
×:1視野内に2個以上が凝集したスペーサ凝集塊が平均で10個を超える、あるいは4個以上の凝集塊がある
(Evaluation of dispersibility of liquid crystal spacer particle dispersion)
The liquid crystal spacer particle dispersion is diluted to 0.1 wt% with a mixed solvent having the same composition constituting it. This was dropped on a slide glass, immediately covered with a cover glass, and the dispersion state of the spacer particles was observed over 5 visual fields with a transmission microscope at a magnification of 400 times, and the degree of dispersibility was determined according to the following criteria.
Similarly, about 1 g of the liquid crystal spacer particle dispersion diluted to 0.05 wt% is concentrated to about 50% by drying under reduced pressure at 45 ° C. using a vacuum dryer. The concentrated liquid crystal spacer particle dispersion is irradiated with ultrasonic waves for about 1 minute, and after standing for about 1 minute, the dispersion state of the spacer particles is observed in the same manner, and the degree of dispersibility is determined according to the following criteria. . In addition, it was set as the dispersibility with respect to the solvent which remains to the last in the drying process by the dispersibility of this concentrated spacer particle dispersion.
○: Spacer agglomerates with two or more agglomerates within one field of view on average and no more than four agglomerates △: Spacer agglomerates with two or more agglomerates within the field of view on average 1 to 10 and no more than 4 agglomerates × 1 Spacer agglomerates with 2 or more agglomerates in the field of view more than 10 on average, or more than 4 agglomerates
(フィルターの詰まりの有無)
スペーサ粒子分散液1kgを密閉できる容器に取り、直径10mmのSUSフィルター(270/2000メッシュ、目開き10μm)を途中に設置したチューブによりポンプを用いて毎時150mLの流速により循環させた。そのまま3時間循環を行いフィルターの詰まり度合いを確認した。フィルターの詰まりの程度は下記の基準で判定した。
◎:3時間後フィルター上に固形物が全く無く、スペーサ粒子分散液の循環も停止しない。
○:3時間後フィルター上に目視で分かる程度の固形物が存在するが、スペーサ粒子分散液の循環は停止しない。
△:1時間以上、3時間未満の間でスペーサ粒子分散液の循環が停止する。
×:1時間未満でスペーサ粒子分散液の循環が停止する。
(Check for clogged filter)
1 kg of the spacer particle dispersion was taken in a container that can be sealed, and SUS filter (270/2000 mesh, 10 μm openings) having a diameter of 10 mm was circulated at a flow rate of 150 mL / hour using a pump through a tube installed in the middle. Circulation was continued for 3 hours, and the degree of clogging of the filter was confirmed. The degree of filter clogging was determined according to the following criteria.
A: After 3 hours, there is no solid matter on the filter, and the circulation of the spacer particle dispersion does not stop.
◯: Solid matter that can be visually recognized is present on the filter after 3 hours, but the circulation of the spacer particle dispersion does not stop.
Δ: Circulation of the spacer particle dispersion is stopped between 1 hour and less than 3 hours.
X: The circulation of the spacer particle dispersion stops in less than 1 hour.
(液滴乾燥時のスペーサ粒子の状態)
上述したカラーフィルタモデル基板表面にスペーサ粒子分散液を吐出し形成した液滴を乾燥させ、その重量減少に伴うスペーサ粒子の状態を観測し、下記の基準で判定した。
○:殆どすべてのスペーサ粒子が寄り集まっていた。
△:一部のスペーサ粒子が寄り集まっていた。
×:多くのスペーサ粒子が分散されていた。
(State of spacer particles when drying droplets)
The droplets formed by discharging the spacer particle dispersion onto the surface of the color filter model substrate described above were dried, the state of the spacer particles accompanying the weight reduction was observed, and the determination was made according to the following criteria.
○: Almost all spacer particles gathered together.
Δ: Some spacer particles gathered together.
X: Many spacer particles were dispersed.
(スペーサ粒子配置精度)
液滴が乾燥した後のスペーサ粒子の配置状態を下記の基準で判定した。
○:スペーサ粒子の大部分が非画素領域に対応する領域にあった。
△:スペーサ粒子の一部が非画素領域に対応する領域からはみだしていた。
×:スペーサ粒子の多くが非画素領域に対応する領域からはみだしていた。
(Spacer particle placement accuracy)
The arrangement state of the spacer particles after the droplets were dried was determined according to the following criteria.
A: Most of the spacer particles were in the region corresponding to the non-pixel region.
(Triangle | delta): Some spacer particles protruded from the area | region corresponding to a non-pixel area | region.
X: Many spacer particles protruded from the region corresponding to the non-pixel region.
(表示画質の評価)
液晶表示装置の表示画質を観察し、下記の基準で判定した。
○:表示領域中にスペーサ粒子が殆ど認められず、スペーサ粒子に起因する光抜けがなかった。また、スペーサが配置されていない列があることによる帯状のギャップ不良によるムラ(スジムラ)がなかった。
△:スペーサが配置されていない列があることによる帯状のギャップ不良によるムラ(スジムラ)はないものの、表示領域中にスペーサ粒子がわずかに認められ、スペーサ粒子に起因する光抜けがわずかにあった。
×:スペーサが配置されていない列があることによる帯状のギャップ不良によるムラ(スジムラ)があり、また表示領域中にスペーサ粒子が認められ、スペーサ粒子に起因する光抜けがあった。
(Evaluation of display quality)
The display image quality of the liquid crystal display device was observed and judged according to the following criteria.
A: Almost no spacer particles were observed in the display area, and no light omission was caused by the spacer particles. Moreover, there was no unevenness (straight unevenness) due to a band-like gap defect due to the presence of a row in which no spacers were arranged.
Δ: Although there is no unevenness (straight irregularity) due to a band-like gap defect due to a row in which spacers are not arranged, slight spacer particles are observed in the display region, and light leakage due to the spacer particles is slight. .
X: There was unevenness (straight irregularity) due to a band-like gap defect due to the presence of a row where no spacers were arranged, and spacer particles were observed in the display area, and light leakage due to the spacer particles was observed.
本発明によれば、インクジェット装置による基板上へのスペーサ粒子の配置を連続的に安定して行うことができ、表示品質に優れる液晶表示装置を得ることができるスペーサ粒子分散液、及び、液晶表示装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the spacer particle dispersion liquid which can arrange | position the spacer particle | grain on the board | substrate by an inkjet apparatus stably continuously, and can obtain the liquid crystal display device excellent in display quality, and liquid crystal display An apparatus can be provided.
1 スペーサ粒子分散液
2 基板
3 スペーサ粒子
4 プラス帯電ブロック
5 マイナス帯電ブロック
1
Claims (7)
スペーサ粒子と溶媒とを含有し、前記スペーサ粒子は、基材微粒子の表面にプラス帯電ブロックとマイナス帯電ブロックとを含有するAB型又はABA型のブロック共重合体を有する
ことを特徴とするスペーサ粒子分散液。 A spacer particle dispersion for disposing spacer particles at an arbitrary position on a substrate using an inkjet device,
Spacer particles containing a solvent and a spacer particle, wherein the spacer particles have an AB-type or ABA-type block copolymer containing a positively charged block and a negatively charged block on the surface of the substrate fine particles. Dispersion.
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